JPH03205699A - Semiconductor memory - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、読出し専用メモリ(Read OnlyMe
mory ;以下、ROMと略称する)などの半導体記
憶装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention is applicable to read-only memories (Read Only Memories).
The present invention relates to semiconductor memory devices such as ROM (hereinafter abbreviated as ROM).
従来の技術
半導体記憶装置の良品・不良品を判定するテスト方法と
して、半導体記憶装置に入力されるアドレス信号に対し
て所望のデータ出力が得られるが否かの判定を行う方法
が一般的である。Conventional Technology A common test method for determining whether a semiconductor memory device is good or defective is to determine whether a desired data output can be obtained in response to an address signal input to the semiconductor memory device. .
その具体例を、M造段階でデータの書き込みの行われる
第2図に示すマスクROMをテスト対象の半導体記憶装
置とする場合について以下に説明する。A specific example will be described below in which the semiconductor memory device to be tested is a mask ROM shown in FIG. 2 in which data is written in the manufacturing stage.
第212において、マトリクス状に配列されたメモリセ
ルを構成するトランジスタQNI,QN2(ここでは、
説明の便宜上2ビット分のみを示す)はNチャンネル型
MOSトランジスタ(以下、NMoSトランジスタと呼
ぶ)からなり、これらのメモリセル用トランジスタのゲ
ートは対応するワード!i W L iに接続されてい
る。In the 212th transistor, transistors QNI and QN2 (here,
For convenience of explanation, only 2 bits are shown) are composed of N-channel MOS transistors (hereinafter referred to as NMoS transistors), and the gates of these memory cell transistors are connected to the corresponding word! i W Li connected to i.
上記各メモリ用トランジスタQNI,QN2の出力端子
であるドレインには、ビット線BLが接続され、そのビ
ット線BLはNMOSトランジスタQN4を介してセン
スアンブ1に接続されている。このセンスアンブ1は、
メモリセル用トランジスタQN1.QN2がら読み出さ
れる出力データを増幅するアンプであり、増幅された出
力データは出力バッファ2を介して出力される。A bit line BL is connected to the drain, which is an output terminal, of each of the memory transistors QNI and QN2, and the bit line BL is connected to the sense amplifier 1 via an NMOS transistor QN4. This Sense Ambu 1 is
Memory cell transistor QN1. This is an amplifier that amplifies output data read out from QN2, and the amplified output data is output via output buffer 2.
また、各メモリセル用トランジスタQN1.QN2のソ
ースには、それぞれ仮想グランド線VGLl,VGL2
が接続され、一方の仮惣グランド線VGLIはNMOS
トランシスタQN3を介して1つの充電回路3に接続さ
れ、他方の仮惣グランド!VGL2はNMOS }ラン
ジスタQN5を介して別の充電回路4に接続されている
。これらの充電回路3.4は、それぞれ対応する仮想グ
ランド線VGLI,VGL2の電位をビット線BLと同
じハイレベルの電位に充電するための回路である。Furthermore, each memory cell transistor QN1. The sources of QN2 are connected to virtual ground lines VGLl and VGL2, respectively.
is connected, and one virtual ground line VGLI is NMOS
Connected to one charging circuit 3 via transistor QN3 and connected to the other ground! VGL2 is connected to another charging circuit 4 via an NMOS transistor QN5. These charging circuits 3.4 are circuits for charging the potentials of the corresponding virtual ground lines VGLI and VGL2 to the same high level potential as the bit line BL.
上記ビット線BL、仮想グランド線VGLIVGL2の
途中に介挿された各NMOSトランジスタQN3,QN
4,QN5のゲートには、コラム線CSELjが接続さ
れている。また、上記各充電回路3.4の出力端子とグ
ランンドとの間には、対応する仮想グランド!IVGL
I,VGL2の電位をグランド電位(OV)に切換え設
定するためのNMOS}ランジスタQN6,QN7が接
続されている。Each NMOS transistor QN3, QN inserted in the middle of the bit line BL and virtual ground line VGLIVGL2
A column line CSELj is connected to the gate of 4 and QN5. Moreover, between the output terminal of each charging circuit 3.4 and the ground, there is a corresponding virtual ground! IVGL
NMOS} transistors QN6 and QN7 are connected to switch and set the potentials of I and VGL2 to the ground potential (OV).
上記構成のマスクROMにおいて、メモリセル用トラン
ジスタQNIに書き込まれているデータの読み出し動作
は次のように行われる。In the mask ROM having the above configuration, the reading operation of data written in the memory cell transistor QNI is performed as follows.
行アドレス信号としてワード線WLiにハイレベルの電
位が、列アドレス信号としてコラム線CSELjにハイ
レベルの電位のコラム選択信号が、仮想グランド選択信
号VGSELIとしてNMOSトランジスタQN6のゲ
ートおよび充電回路3にハイレベルの電位が、また仮想
グランド選択信号VGSEL2としてNMOS}ランジ
スタQN7のゲートおよび充電回路4にローレベルの電
位が与えられると、ビット線BL、仮想グランド線VG
LI VGL2の途中に介挿されている各NMOS}
−ランジスタQN3,QN4,QN5がオンとなるとと
もに、充電回路3側のNMOS}ランジスタQN6がオ
ン、充電回路4側のNMOSトランジスタQN7がオフ
となる。A high-level potential is applied to the word line WLi as a row address signal, a high-level column selection signal is applied to the column line CSELj as a column address signal, and a high-level potential is applied to the gate of the NMOS transistor QN6 and the charging circuit 3 as a virtual ground selection signal VGSELI. When a low-level potential is applied to the gate of the NMOS transistor QN7 and the charging circuit 4 as the virtual ground selection signal VGSEL2, the bit line BL and the virtual ground line VG
Each NMOS inserted in the middle of LI VGL2}
- The transistors QN3, QN4, and QN5 are turned on, the NMOS transistor QN6 on the side of the charging circuit 3 is turned on, and the NMOS transistor QN7 on the side of the charging circuit 4 is turned off.
その結果、仮想グランドfiVGL1の電位はローレベ
ルとなり、また仮想グランド線VGL2には充電回路4
で設定される充電レベル(ハイレベル)の電位が与えら
れ、メモリセル用トランジスタQNIが選択される。す
なわち、メモリセル用トランジスタQNIのドレインは
ハイレベル、ソースはローレベルの電位となる(これに
対し、メモリセル用トランジスタQN2のドレイン、ソ
ースはともにハイレベルとなる)。As a result, the potential of the virtual ground fiVGL1 becomes low level, and the charging circuit 4 is connected to the virtual ground line VGL2.
A charging level (high level) potential set by is applied, and memory cell transistor QNI is selected. That is, the drain of the memory cell transistor QNI is at a high level, and the source thereof is at a low level (in contrast, the drain and source of the memory cell transistor QN2 are both at a high level).
メモリセル用トランジスタQNIに論理r1jのデータ
が書き込まれている場合(低しきい値が設定され、通常
のエンハンスメントトランジスタと同様にゲートに電圧
が印加されてオンとなる)には、メモリセル用トランジ
スタQNIを通してビット線BLの電荷(ビットiiB
Lの浮遊容量Cに蓄積された電荷〉が放電され、その結
果、ビット線BLの電位が低下し,センスアンブ1によ
って論理「1」のデータが読み出される。When logic r1j data is written in the memory cell transistor QNI (a low threshold is set and a voltage is applied to the gate to turn it on like a normal enhancement transistor), the memory cell transistor QNI The charge on the bit line BL (bit iiB
The charge accumulated in the stray capacitance C of L is discharged, and as a result, the potential of the bit line BL is lowered, and the sense amplifier 1 reads out logic "1" data.
一方、メモリセル用トランジスタQNIに論埋「O」の
データが書き込まれている場合(高しきい値が設定され
、ゲートに電圧が印加されてもオンにならない)には、
メモリセル用トランジスタQNIがオフのため放電経路
が形成されずビット線BLの電位は低下しない。その結
果、センスアンプ1によって論理「0」のデータが読み
出される。On the other hand, when logical "O" data is written in the memory cell transistor QNI (a high threshold value is set and it does not turn on even if a voltage is applied to the gate),
Since the memory cell transistor QNI is off, a discharge path is not formed and the potential of the bit line BL does not decrease. As a result, the sense amplifier 1 reads logic "0" data.
従来のテスト方法においては、入力されたアドレスに対
し上述したようにして読み出されたデータが、書き込ま
れていた所定のデータと一致しているか否かを評価する
ことによって行われる。In the conventional test method, the test is performed by evaluating whether the data read from the input address as described above matches the predetermined data that has been written.
発明が解決しようとする課題
しかし、上述したようなテスト方法では、以下のような
欠陥を見落としてしまうという問題点がある。Problems to be Solved by the Invention However, the above-described testing method has the problem of overlooking the following defects.
すなわち、例えばビット線BLに接続されているメモリ
セル用トランジスタQNIのソースやドレインの接合部
での欠陥などの上記マスクROMにおいて製造上の原因
でビット線BLからグランドへのリーク電流が発生する
ような場合には、メモリセル用トランジスタQNIの書
き込みデータが論理「O」でも、このメモリセル用トラ
ンジスタQNIが選択されたときのビットliBLの電
位は低下し、最悪の場合には論理「1」に相当するレベ
ルまで低下して不良品となる。しかし、この場きでも、
リーク電流が比較的微小の場合にはビット線BL電位の
低下速度が遅いので、通常のテスト時間ではこれを良品
と誤判定する可能性がある。In other words, leakage current from the bit line BL to the ground may occur due to manufacturing reasons in the mask ROM, such as a defect at the source or drain junction of the memory cell transistor QNI connected to the bit line BL. In this case, even if the write data of the memory cell transistor QNI is logic "O", the potential of the bit liBL when this memory cell transistor QNI is selected decreases, and in the worst case, it becomes logic "1". When the temperature drops to a corresponding level, the product becomes defective. However, even in this case,
When the leakage current is relatively small, the bit line BL potential decreases slowly, so there is a possibility that this product may be erroneously determined as a non-defective product during a normal test time.
このような理由で、上述したような不良品を確実に検出
するためには、1アドレス当たりのテスト時間を通常の
テスト時間よりも長くとる必要があり、メモリ容量の大
容量化にともなってそのテスト所要時間は一層長くなり
、結果としてテストコストが大幅に増大することになる
。For this reason, in order to reliably detect defective products as described above, it is necessary to take a longer test time per address than the normal test time, and as memory capacity increases, Testing times will be longer, resulting in significantly higher testing costs.
したがって本発明の目的は、短時間で正確に良品・不良
品の判定テストを行うことができるようにした半導体記
憶装置を提供することである.課題を解決するための手
段
本発明は、複数のメモリセル用トランジスタをマトリク
ス状に配列したメモリセルアレイと、メモリセル用トラ
ンジスタの任意の1行分をオン動作に対応する状態に選
択的に設定する行アドレスデコーダと、
メモリセル用トランジスタの任意の一列分に対応する出
力線を出力可能な選択状態に設定する列アドレスデコー
ダとを含む半導体記憶装置において、
各メモリセル用トランジスタの少なくとも出力端子側に
接続されたテスト用スイッチ回路と、テスト用スイッチ
回路をオンの状態にして各メモリセル用トランジスタの
少なくとも出力端子側の電位をハイレベルに設定し、か
つ行アドレスデコーダおよび列アドレスデコーダを選択
設定動作解除の状態にするテスト用信号を入力するため
のテスト用信号入力手段とを設けたことを特徴とする半
導体記憶装置である。Therefore, it is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device that allows a test to accurately determine whether a product is good or defective in a short period of time. Means for Solving the Problems The present invention provides a memory cell array in which a plurality of memory cell transistors are arranged in a matrix, and selectively sets any one row of memory cell transistors to a state corresponding to an on operation. In a semiconductor memory device including a row address decoder and a column address decoder that sets an output line corresponding to an arbitrary column of memory cell transistors to a selected state in which output is possible, at least on the output terminal side of each memory cell transistor, Turn on the connected test switch circuit and test switch circuit, set the potential of at least the output terminal side of each memory cell transistor to high level, and select and set the row address decoder and column address decoder. A semiconductor memory device characterized in that it is provided with a test signal input means for inputting a test signal for setting the semiconductor memory device to a release state.
作 用
本発明に従えば、メモリセル用トランジスタの出力端子
部などにおいてリーク電流が発生するような不良がある
場合、テスト時にテスト用信号入力手段から入力される
テスト用信号によってオンとなるテスト用スイッチ回路
を通してメモリセル用トランジスタに電流が流れ込む。According to the present invention, if there is a defect that causes a leakage current in the output terminal of a memory cell transistor, the test signal is turned on by the test signal input from the test signal input means during the test. Current flows into the memory cell transistor through the switch circuit.
この電流を検出することによって半導体記憶装置の不良
を短いテスト時間の間に確認できる。By detecting this current, defects in the semiconductor memory device can be confirmed within a short test time.
実施例
第1図は、本発明の一実施例である半導体記憶装置の概
略的な楕成を示す回路図である.第1図に示す半導体記
憶装置はマスクROMであって、センスアンプ11、出
力バツア12、充電回路13.14などの構成は、上述
した従来の半導体記憶装置の場合と同じである。Embodiment FIG. 1 is a circuit diagram schematically showing a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. The semiconductor memory device shown in FIG. 1 is a mask ROM, and the configurations of the sense amplifier 11, output buffer 12, charging circuits 13, 14, etc. are the same as those of the conventional semiconductor memory device described above.
すなわち、第1図においてマトリクス状に配列されたメ
モリセルを構成するトランジスタQOO〜Q i kは
NMOS}ランジスタからなり、これらの各行のメモリ
セル用トランジスタのゲートは行アドレスデコーダであ
るXデコーダ15の対応するワード線WLO〜WLiに
それぞれ接続されている。That is, in FIG. 1, the transistors QOO to Q i k constituting the memory cells arranged in a matrix are composed of NMOS transistors, and the gates of the memory cell transistors in each row are connected to the X decoder 15, which is a row address decoder. They are connected to corresponding word lines WLO to WLi, respectively.
上記各メモリ用トランジスタQO○〜Qikの出力端子
であるドレインにはビット線BLがそれぞれ接続され、
そのビット線BLはNMOS}ランジスタQNI〜QN
kを介してセンスアンプ11に接続されている。このセ
ンスアンプ11はメモリセル用トランジスタQOO〜Q
ikから読み出される出力データを増幅するアンプであ
り、増幅された出力データは出力バツファ12を介して
出力される.
また、各メモリセル用トランジスタQOO〜Qikのソ
ースには、それぞれ仮惣グランド線VGLO,VGL2
〜VGL(k+1)が接続され、一方の仮惣グランド線
VGLO〜はNMOS}ランシスタQVO〜QV(k−
1>を介して1つの充電回路13に接続され、他方の仮
想グランド線VGL2 〜VGL (k+1 )はNM
osトランジスタQV2〜QV(k+1)を介して別の
充電回路14に接続されている。これらの充電回路13
,14は、それぞれ対応する仮想グランド線VGLO〜
VGL (k+1 >の電位をビット線BLと同じハイ
レベルの電位に充電するための回路である。A bit line BL is connected to the drain, which is an output terminal, of each of the memory transistors QO○ to Qik, and
The bit line BL is NMOS} transistor QNI~QN
It is connected to the sense amplifier 11 via k. This sense amplifier 11 is a memory cell transistor QOO~Q
This is an amplifier that amplifies the output data read from the ik, and the amplified output data is outputted via the output buffer 12. In addition, virtual ground lines VGLO and VGL2 are connected to the sources of each memory cell transistor QOO to Qik, respectively.
~VGL(k+1) is connected, and one virtual ground line VGLO~ is connected to NMOS} run transistor QVO~QV(k-
1> to one charging circuit 13, and the other virtual ground line VGL2 to VGL (k+1) is NM
It is connected to another charging circuit 14 via os transistors QV2 to QV(k+1). These charging circuits 13
, 14 are the corresponding virtual ground lines VGLO~
This is a circuit for charging the potential of VGL (k+1>) to the same high level potential as the bit line BL.
上記ビット線BL、仮想グランド線VGLO〜VGL(
k+1〉の途中に介挿された各NMOSトランジスタQ
VO,QNI〜QV(k+1>のゲートには、列アドレ
スデコーダである)?デコーダ16の対応するコラム線
CSELO〜CSELjがそれぞれ接続されている。ま
た、上記各充電回路13.14の出力端子とグランンド
との間には、対応する仮想グランド線VGLO〜VGL
(k+1〉の電位をグランド電位(OV)に切換え設定
するためのNMOSトランジスタQMI,QM2が接続
されている.
この実施例のマスクROMでは、以上の楕戒のばかに各
メモリセル用トランジスタQOO〜Qikのソースおよ
びドレインに対してそれぞれソースが接続された複数の
NMOS}−ランシズタQO〜Q(k+1>からなるテ
スト用スイッチ回路17が設けられており、これらのN
MOS}ランジスタQO一〇(k+1)のゲートおよび
ドレインはテスト用信号入力端子18に接続されている
。The above bit line BL, virtual ground lines VGLO to VGL (
Each NMOS transistor Q inserted in the middle of
VO, QNI~QV (The gate of k+1> is a column address decoder)? Corresponding column lines CSELO to CSELj of the decoder 16 are connected to each other. Further, between the output terminals of each of the charging circuits 13 and 14 and the ground, corresponding virtual ground lines VGLO to VGL are connected.
NMOS transistors QMI and QM2 are connected to switch and set the potential of (k+1) to the ground potential (OV).In the mask ROM of this embodiment, each memory cell transistor QOO~ A test switch circuit 17 consisting of a plurality of NMOS}-run transistors QO to Q(k+1> whose sources are respectively connected to the source and drain of Qik is provided.
The gate and drain of the transistor QO10 (k+1) are connected to the test signal input terminal 18.
また、テスト用信号入力端子18は、Xデコーダ15お
よびYデコーダ16にも接続されている。Further, the test signal input terminal 18 is also connected to the X decoder 15 and the Y decoder 16.
このテスト用信号入力端子18は、マスクROMのテス
ト時にテスト用信号TESTを入力するのに用いられる
端子であって、そのテスト用信号TESTを受けてXデ
コーダ15およびYデコーダ16の動作は停止状態にな
るとともに、テスト用スイッチ回路17の各NMOS}
ランジスタQO〜Q(k+1)はオン状態となる。This test signal input terminal 18 is a terminal used to input a test signal TEST when testing the mask ROM, and upon receiving the test signal TEST, the operations of the X decoder 15 and Y decoder 16 are stopped. and each NMOS of the test switch circuit 17}
Transistors QO to Q(k+1) are turned on.
次に、上記マスクROMのテスト時の動作について説明
する。Next, the operation of the mask ROM during testing will be explained.
テスト時にテスト用信号TESTとしてハイレベルの電
位がテスト用信号入力端子18に与えられると、Xデコ
ーダ15およびYデコーダ16は動作停止の状態となり
、ビット線BLおよび仮想グランド線VGLO〜VGL
(k+1)の途中のNMOSトランジスタQVo.QN
1〜QK(k+1)がオフになるとともに、テスト用ス
イッチ回路17の各NMOS}ランジスタQO〜Q(k
+1)はオンとなる.その結果、メモリセル用トランジ
スタQOO〜Qikのソース側およびドレイン側の電位
つまりビット線BLおよび仮想グランド線VGLO〜V
GL(k+1)の電位はハイレベルとなる.
このとき、ビット線BLの接合部やメモリセル用トラン
ジスタQOO〜Qikのゲート酸化膜などに欠陥があっ
て、その欠陥部からグランドへリークt流が流れる場合
には、そのリークt流が微小でもテスト用信号入力端子
18からテスト用スイッチ回路17のNMOS}ランジ
スタQO〜Q(k+1)を通してメモリセル用トランジ
スタQO〜Qikfllへと$流■が流れ込む。そこで
、この電流の有無を確認することによってマスクROM
の良品・不良品の判定が行われる。When a high-level potential is applied to the test signal input terminal 18 as the test signal TEST during a test, the X decoder 15 and Y decoder 16 stop operating, and the bit lines BL and virtual ground lines VGLO to VGL
(k+1) NMOS transistor QVo. QN
1 to QK(k+1) are turned off, and each NMOS} transistor QO to Q(k+1) of the test switch circuit 17 is turned off.
+1) is turned on. As a result, the potentials on the source side and drain side of the memory cell transistors QOO~Qik, that is, the bit line BL and the virtual ground line VGLO~V
The potential of GL(k+1) becomes high level. At this time, if there is a defect in the junction of the bit line BL or the gate oxide film of the memory cell transistors QOO to Qik, and a leak t current flows from the defect to the ground, even if the leak t current is small, A $ current (2) flows from the test signal input terminal 18 to the memory cell transistors QO to Qikfll through the NMOS} transistors QO to Q(k+1) of the test switch circuit 17. Therefore, by checking the presence or absence of this current, the mask ROM
A judgment is made as to whether the products are good or defective.
なお、上記マスクROMにおける実使用時のデータの読
み出し動作については、先の従来例の場合と同様にして
行われる(このとき、テスト用信号入力端子18の電位
は、ローレベルに設定される).
すなわち、例えば行アドレス信号としてワード線WLO
の電位をハイレベルに設定する信号が、列アドレス信号
としてコラム線CSELOの電位をハイレベルに設定す
る信号が、仮想グランド選択信号VGSELIとしてN
MOS}ランジスタQMIのゲートおよび充電回路13
にハイレベルの電位が、また仮想グランド選択信号VG
SEL2としてNMOS}ランジスタQM2のゲートお
よび充電回路14にローレベルの電位が与えられると、
ビット線BL、仮想グランド線VGLO,VGL2の途
中に介挿されている各NMOS}ラ冫・ジスタQVO,
QNI,QV2がオ冫′となるとともに、充電回路13
側のNMOSトランジスタQMIがオン、充電回路14
側のNMOS}ランジスタQM2がオフとなる。Note that the data read operation in the mask ROM during actual use is performed in the same manner as in the prior art example (at this time, the potential of the test signal input terminal 18 is set to a low level). .. That is, for example, the word line WLO is used as a row address signal.
The signal that sets the potential of column line CSELO to high level is the column address signal, and the signal that sets the potential of column line CSELO to high level is the virtual ground selection signal VGSELI.
MOS} transistor QMI gate and charging circuit 13
A high level potential is also applied to the virtual ground selection signal VG.
When a low level potential is applied to the gate of NMOS} transistor QM2 as SEL2 and the charging circuit 14,
Each NMOS transistor QVO, which is inserted in the middle of the bit line BL and the virtual ground lines VGLO and VGL2,
When QNI and QV2 are turned off, the charging circuit 13
Side NMOS transistor QMI is on, charging circuit 14
NMOS} transistor QM2 on the side is turned off.
その結果、仮想グランド線VGLOの電位はローレベル
となり、また仮想グランド線VGL2には充電回路14
で設定される充電レベル(ハイレベル)の電位が与えら
れ、メモリセル用トランジスタQOOが選択される。す
なわち、メモリセル用トランジスタQOOのドレインは
ハイレベル、ソースはローレベルの電位となる。As a result, the potential of the virtual ground line VGLO becomes low level, and the charging circuit 14 is connected to the virtual ground line VGL2.
A charge level (high level) potential set by is applied, and memory cell transistor QOO is selected. That is, the drain of the memory cell transistor QOO is at high level, and the source is at low level.
メモリセル用トランジスタQOOに論理「1」のデータ
が書き込まれている場合(低しきい値が設定されている
場合〉には、メモリセル用トランジスタQ○0を通して
ビット線BLの電荷が放電され、その結果、ビット線B
Lの電位が低下しセンスア〉゛プ11によって論理「1
」のデータが読み出される。When logic "1" data is written in the memory cell transistor QOO (when a low threshold value is set), the charge on the bit line BL is discharged through the memory cell transistor QOO, As a result, bit line B
The potential of L decreases and the sense amplifier 11 changes the logic to
” data is read out.
一方、メモリセル用トランジスタQOOに論理「O」の
データが書き込まれている場合〈高しきい値が設定され
ている場合)には、メモリセル用トランジスタQOOが
オフのため放電経路が形威されずビット線BLの電位は
低下しない。その結果、センスアンブ11によって論理
rQJのデータが読み出される。On the other hand, when logic "O" data is written to the memory cell transistor QOO (when a high threshold is set), the discharge path is not formed because the memory cell transistor QOO is off. First, the potential of the bit line BL does not drop. As a result, the sense amplifier 11 reads the data of logic rQJ.
発明の効果
以上のように、本発明の半導体記憶装置によれば、テス
ト時にテスト用信号入力手段によってテスト用スイッチ
回路を通してメモリセル用トランジスタの出力端子側な
どにハイレベルの電位を与え、このときメモリセル用ト
ランジスタ側へ流れ込む電流があるとき半導体記憶装置
を不良品と判定するように構成しているので、短いテス
ト時間で半導体記憶装置の良品・不良品の判定を正確に
行うことができる。Effects of the Invention As described above, according to the semiconductor memory device of the present invention, a high-level potential is applied to the output terminal side of the memory cell transistor through the test switch circuit by the test signal input means during testing, and at this time, Since the semiconductor memory device is determined to be defective when there is a current flowing into the memory cell transistor side, it is possible to accurately determine whether the semiconductor memory device is good or defective in a short test time.
第1図は本発明の一実施例である半導体記憶装置の概略
的な構戒を示す回路図、第2図は従来の半導体記憶装置
の概略的な構成を示す回路図である。
11・・・センスアンプ、12・・・出力バッファ、1
3 14・・・充電回路、15・・・Xデコーダ、16
・・・Yデコーダ、17・・・テスト用スイッチ回路、
18テスト用信号入力端子FIG. 1 is a circuit diagram showing the general structure of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram showing the general structure of a conventional semiconductor memory device. 11...Sense amplifier, 12...Output buffer, 1
3 14...Charging circuit, 15...X decoder, 16
... Y decoder, 17... Test switch circuit,
18 Test signal input terminal
Claims (1)
列したメモリセルアレイと、 メモリセル用トランジスタの任意の1行分をオン動作に
対応する状態に選択的に設定する行アドレスデコーダと
、 メモリセル用トランジスタの任意の一列分に対応する出
力線を出力可能な選択状態に設定する列アドレスデコー
ダとを含む半導体記憶装置において、 各メモリセル用トランジスタの少なくとも出力端子側に
接続されたテスト用スイッチ回路と、テスト用スイッチ
回路をオンの状態にして各メモリセル用トランジスタの
少なくとも出力端子側の電位をハイレベルに設定し、か
つ行アドレスデコーダおよび列アドレスデコーダを選択
設定動作解除の状態にするテスト用信号を入力するため
のテスト用信号入力手段とを設けたことを特徴とする半
導体記憶装置。[Scope of Claims] A memory cell array in which a plurality of memory cell transistors are arranged in a matrix; a row address decoder that selectively sets any one row of memory cell transistors to a state corresponding to an on operation; In a semiconductor memory device including a column address decoder that sets an output line corresponding to an arbitrary column of memory cell transistors to a selected state in which output is possible, a test device connected to at least the output terminal side of each memory cell transistor. Turn on the switch circuit and the test switch circuit, set the potential of at least the output terminal side of each memory cell transistor to a high level, and set the row address decoder and column address decoder to a state where selection setting operation is canceled. 1. A semiconductor memory device comprising test signal input means for inputting a test signal.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000753A JPH03205699A (en) | 1990-01-05 | 1990-01-05 | Semiconductor memory |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000753A JPH03205699A (en) | 1990-01-05 | 1990-01-05 | Semiconductor memory |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03205699A true JPH03205699A (en) | 1991-09-09 |
Family
ID=11482459
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000753A Pending JPH03205699A (en) | 1990-01-05 | 1990-01-05 | Semiconductor memory |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03205699A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05182500A (en) * | 1991-12-27 | 1993-07-23 | Nec Corp | Semiconductor memory |
JPH10302498A (en) * | 1997-04-21 | 1998-11-13 | Ricoh Co Ltd | Semiconductor memory testing method and device therefor |
US7382640B2 (en) | 2001-04-18 | 2008-06-03 | Samsung Electronics Co., Ltd. | High-speed programmable ROM, memory cell structure therefor, and method for writing data on/reading data from the programmable ROM |
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-
1990
- 1990-01-05 JP JP2000753A patent/JPH03205699A/en active Pending
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