JPH03140328A - Production of polyamic acid having high adhesivity and its cured product - Google Patents

Production of polyamic acid having high adhesivity and its cured product

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JPH03140328A
JPH03140328A JP27854989A JP27854989A JPH03140328A JP H03140328 A JPH03140328 A JP H03140328A JP 27854989 A JP27854989 A JP 27854989A JP 27854989 A JP27854989 A JP 27854989A JP H03140328 A JPH03140328 A JP H03140328A
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JP
Japan
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group
formulas
mol
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carbon atoms
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JP27854989A
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Japanese (ja)
Inventor
Koichi Kunimune
国宗 弘一
Yoshihiro Soeda
添田 義弘
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Chisso Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain the subject amic acid having high adhesivity to inorganic material, etc., and giving a resin having excellent storage stability by reacting a tetracarboxylic acid dianhydride, a trimellitic anhydride, a diamine and an aminosilane under specific condition. CONSTITUTION:The objective amic acid can be produced by reacting (a) A mol of a tetracarboxylic acid dianhydride of formula I (R<1> is tetravalent carbocyclic aromatic group, heterocyclic group, alicyclic group, etc.), (b) A' mol of trimellitic anhydride of formula II, (c) B mol of a diamine of formula III (R<2> is 2-12C aliphatic group, 4-30C alicyclic group or 6-30C aromatic aliphatic group) and (d) C mol of an aminosilane of formula N [R<3> is -(CH2)S- or group of formula V (S is 1-4); R<4> is 1-6C alkyl or phenyl; X is alkoxy, acetoxy, etc.; 1<=k<=3] in the presence of a solvent under a condition satisfying the relationships of formulas VI, VII and VIII.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は高接着性のシリコンポリアミド酸及びその硬化
物の各製造方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a highly adhesive silicone polyamic acid and a method for producing a cured product thereof.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、ポリイミド樹脂は電子機器分野における保護材料
、絶縁材料、接着材として或はフィルム、構造材として
主に耐熱性の面から広く用いられている。
Conventionally, polyimide resins have been widely used as protective materials, insulating materials, adhesive materials, films, and structural materials in the field of electronic equipment, mainly because of their heat resistance.

そして耐熱性フィルム、コーティング剤或は接着剤とし
て他の無機材料と複合させ使用する方法もしばしば用い
られている。この場合無機材料がガラス等の含けい素化
合物の場合にはその接着性を改良する手段としてシリコ
ン化合物との共重合体が多く提案されている。例えば、
特開昭57−143328号公報、特開昭58−747
3号公報及び特開昭58−13631号公報には原料で
あるジアミン成分の一部をジアミンで両末端を停止した
ポリシトキサンで置き換えて得られるポリイミド前駆体
を使用してポリイミド−シロキサン共重合体とする技術
が提案されている。
A method of using it in combination with other inorganic materials as a heat-resistant film, coating agent, or adhesive is also often used. In this case, when the inorganic material is a silicon-containing compound such as glass, many copolymers with silicon compounds have been proposed as a means to improve the adhesiveness of the inorganic material. for example,
JP-A-57-143328, JP-A-58-747
No. 3 and JP-A No. 58-13631 disclose a polyimide-siloxane copolymer using a polyimide precursor obtained by replacing a part of the diamine component as a raw material with polycytoxane terminated at both ends with diamine. A technique to do this has been proposed.

また特公昭58−18372号公報、特公昭58−32
162号公報及び特公昭58−32163号公報にはテ
トラカルボン酸二無水物等の適当なカルボン酸誘導体と
ジアミンとを反応させて酸無水物等の末端基をHするポ
リアミドカルボン酸を生成せしめた後、このポリアミド
カルボン酸1モルに対して少なくとも2モルのアミノシ
リコン化合物を一20℃ないし+50℃で反応させるこ
とによってけい素を自存するポリアミドカルボン酸プレ
ポリマーを得、このプレポリマーをイミド化しないまま
か、イミド化するにしても脱水剤の存在下の穏和な条件
下(低温好ましくは50℃以下、とりわけ−20℃ない
し+25℃)で化学的に環化(イミド化)して、aFa
けい素度性ポリイミド前駆体を得、この前駆体を溶液状
態シランジオールもしくはシロキサンジオールの存在下
または不存在下で加熱してイミド化の完成と共に架橋せ
しめてポリイミドシロキサンとする技術が開示されてい
る。
Also, Special Publication No. 58-18372, Special Publication No. 58-32
No. 162 and Japanese Patent Publication No. 58-32163 disclose a process in which a suitable carboxylic acid derivative such as a tetracarboxylic dianhydride is reacted with a diamine to produce a polyamide carboxylic acid in which the terminal groups of the acid anhydride and the like are H-condensed. Thereafter, by reacting at least 2 moles of an amino silicon compound per mole of this polyamide carboxylic acid at -20°C to +50°C, a polyamide carboxylic acid prepolymer containing silicon is obtained, and this prepolymer is not imidized. Either as is or imidized, it is chemically cyclized (imidized) in the presence of a dehydrating agent under mild conditions (at a low temperature, preferably below 50°C, especially -20°C to +25°C).
A technique is disclosed in which a silicic polyimide precursor is obtained, this precursor is heated in the presence or absence of a silane diol or siloxane diol in a solution state, and upon completion of imidization, crosslinking is performed to obtain a polyimide siloxane. .

さらに特開昭57−212230号公報ではポリアミド
酸又はポリアミド−アミド酸99.9〜70.0重量%
と特定の有機けい素化合物0.1〜30.0重量%とか
らなる重合体組成物を加熱せしめてなるポリイミド系樹
脂成形物について開示されている。
Further, in JP-A No. 57-212230, polyamic acid or polyamide-amic acid 99.9 to 70.0% by weight
The patent discloses a polyimide resin molded product obtained by heating a polymer composition comprising 0.1 to 30.0% by weight of a specific organosilicon compound.

特開昭56−157427号公報及び特開昭60−76
533号公報では特殊なアミノシランをテトラカルボン
酸成分と反応を行ないシラン変性多価カルボン酸成分と
なし、これとジアミンとの反応を行なうことによりポリ
イミド前駆体を製造する方法が開示されている。
JP-A-56-157427 and JP-A-60-76
No. 533 discloses a method for producing a polyimide precursor by reacting a special aminosilane with a tetracarboxylic acid component to obtain a silane-modified polycarboxylic acid component, and reacting this with a diamine.

また特開昭61−287926号公報には特定の二酸無
水物、ジアミン及びアミノシランを特定の比率で反応さ
せることにより得られる高接着性ポリアミド酸の製法が
提案されている。
Further, JP-A-61-287926 proposes a method for producing a highly adhesive polyamic acid obtained by reacting a specific diacid anhydride, diamine and aminosilane in a specific ratio.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

前記の特開昭57−143328号公報、特開昭58−
7473号公報及び特開昭581、3631号公報では
、成る程度の接着性の改善は見られるが不十分である。
The above-mentioned JP-A-57-143328, JP-A-58-
In JP-A No. 7473 and JP-A-581-3631, some improvement in adhesion can be seen, but it is not sufficient.

特公昭58−18372号公報、特公昭5832162
号公報及び特公昭58−321.63号公報の方法では
、けい素化合物に対する接着性はある程度改善されては
いるが、例えばアルミニウムに対する接着性は不十分で
ある。また接着対象に対してポリマー溶液を塗布し焼成
を行なうことにより皮膜を形成せしめ、さらに必要によ
りその皮膜の上に同一のポリマー溶液を塗布し焼成を行
なうことにより皮膜上にさらに皮膜を形成するという積
層皮膜を形成せしめるという場合が実用上しばしば行な
われる(このような接着性を以後本明細書において「皮
膜間の接着性」と称することがある。)が、このような
場合の接着性は不満足であった。
Special Publication No. 58-18372, Special Publication No. 5832162
Although the methods disclosed in Japanese Patent Publication No. 58-321.63 improve the adhesion to silicon compounds to some extent, the adhesion to aluminum, for example, is insufficient. In addition, a film is formed by applying a polymer solution to the object to be bonded and baking it, and if necessary, the same polymer solution is applied on top of the film and baking is performed to form an additional film on top of the film. In practice, laminated films are often formed (such adhesion may hereinafter be referred to as "adhesion between films" in this specification), but the adhesion in such cases is unsatisfactory. Met.

特開昭57−212230号公報の場合もけい素化合物
に対する接着性の改善はある程度認められるが、上記皮
膜間の接着性は満足すべきものではなかった。
In the case of JP-A-57-212230, although some improvement in adhesion to silicon compounds was observed, the adhesion between the films was not satisfactory.

特開昭56−157427号公報及び特開昭60−76
533号公報の方法ではけい素化合物に対する接着性は
ある程度改善されるが必ずしも満足すべきものではなく
、またアミノシランの添加量を増加させると電気特性が
低下するとのべられている。
JP-A-56-157427 and JP-A-60-76
Although the method disclosed in Japanese Patent Publication No. 533 improves adhesion to silicon compounds to some extent, it is not necessarily satisfactory, and it is also stated that increasing the amount of aminosilane added deteriorates the electrical properties.

特開昭61−287926号公報の方法で得られたポリ
アミド酸は多種類の基板に対して高接着性を示し、有用
な材料であるが、フェスの状態で保存した場合、粘度の
経時低下がやや大きいという欠点を有している。
The polyamic acid obtained by the method disclosed in JP-A No. 61-287926 exhibits high adhesion to many types of substrates and is a useful material, but when stored in the state of a festival, the viscosity decreases over time. It has the disadvantage of being somewhat large.

上記の如〈従来の技術には種々の問題点があり、従って
本発明の目的は、接着剤又は多層積層複合材料用の樹脂
としである程度の耐熱性を有し、無機物、金属及び皮膜
間の接着性が良くかつ保存安定性のすぐれたポリイミド
樹脂を与える前駆体及びそれからえられるポリイミド硬
化物の各製造方法を提供することにある。
As mentioned above, there are various problems in the conventional technology, and therefore, the object of the present invention is to provide adhesives or resins for multilayer laminated composite materials with a certain level of heat resistance, and to provide adhesives for bonding between inorganic substances, metals, and coatings. The object of the present invention is to provide a precursor that provides a polyimide resin with good adhesive properties and excellent storage stability, and methods for producing a cured polyimide product obtained from the precursor.

〔課題を解決するだめの手段〕[Failure to solve the problem]

本発明は、下記の式(1)で示されるテトラカルボン酸
二無水物Aモル、式(IT)で示されるトリメリット酸
無水物A′モル、式(III)で示されるジアミン8モ
ル、式(IV)で示されるアミノシランCモルを溶媒の
存在下、式(V)、(V[)及び(■)の関係を存在せ
しめて反応を行なうことによりポリアミド酸を製造する
方法である。
The present invention provides A mol of tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula (1), A' mol of trimellitic anhydride represented by the formula (IT), 8 mol of a diamine represented by the formula (III), This is a method for producing a polyamic acid by reacting C moles of aminosilane represented by (IV) in the presence of a solvent in the presence of the relationships of formulas (V), (V[) and (■).

〔式(I)〜(IV)に於いて、R1は4価の炭素環式
芳香族基、複素環式基、脂環式基又は脂肪族基を表わし
、R2は炭素数2〜12の脂肪族基、炭素数4〜30の
脂環式基、炭素数6〜30の芳香脂肪族基、炭素数6〜
30の炭素環式芳香族基、複素環式基又は下記式(■)
で表わされるボリン0キサン基であり、Rは−(CH2
)sNH2−R−NH2 (III) NH,、−R−5iR3,Xk (IV) であり(但し、ここにSは1〜4の整数を表わす。)、
R4は独立に炭素数1〜6のアルキル基、フェニル基又
は炭素数7〜12のアルキル置換フェニル基を表わし、
Xは独立にアルコキシ基、アセトキシ基、又はハロゲン
を表わし、kは1≦に≦3の値をとる。
[In formulas (I) to (IV), R1 represents a tetravalent carbocyclic aromatic group, heterocyclic group, alicyclic group, or aliphatic group, and R2 represents an aliphatic group having 2 to 12 carbon atoms. group group, alicyclic group having 4 to 30 carbon atoms, aromatic aliphatic group having 6 to 30 carbon atoms, 6 to 30 carbon atoms
30 carbocyclic aromatic group, heterocyclic group or the following formula (■)
is a borine 0 xane group represented by -(CH2
)sNH2-R-NH2 (III) NH,, -R-5iR3,Xk (IV) (where S represents an integer from 1 to 4),
R4 independently represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, or an alkyl-substituted phenyl group having 7 to 12 carbon atoms;
X independently represents an alkoxy group, an acetoxy group, or a halogen, and k takes a value of 1≦3.

(ここにRは独立に−(CH2)8 であり(但し、ここにSは1〜4の整数を表わす。)、
R6は独立に炭素数1〜6のアルキル基、フェニル基又
は炭素数7〜12のアルキル置換フェニル基を表わし、
gは1≦g≦100の値をとる。)〕 本発明の方法で使用される原料について説明する。
(Here, R is independently -(CH2)8 (here, S represents an integer from 1 to 4),
R6 independently represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, or an alkyl-substituted phenyl group having 7 to 12 carbon atoms;
g takes a value of 1≦g≦100. )] The raw materials used in the method of the present invention will be explained.

先ず前記式(1)及び(III)で表わされるテトラカ
ルボン酸二無水物及びジアミンについて記述する。
First, the tetracarboxylic dianhydride and diamine represented by the formulas (1) and (III) will be described.

R1が炭素環式芳香族基である場合、この基は好ましく
は、少なくとも一個の六員環を有する。
When R1 is a carbocyclic aromatic group, this group preferably has at least one six-membered ring.

R1は、特に、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、
または数個の縮合環もしくは非縮合環(これらの環は、
直接または橋かけ基を通して互いに結合する。)を有す
る多環式芳香族基である。
R1 is particularly a monocyclic aromatic group, a fused polycyclic aromatic group,
or several fused or unfused rings (these rings are
Bonded to each other directly or through bridging groups. ) is a polycyclic aromatic group having

上記の橋かけ基としては、例えば、次の基が適当である
As the above bridging group, for example, the following groups are suitable.

−o−−CH−CH2−−CH2 N Ql−と−N Ql 上記式中、Qlは、場合によってはハロゲン原子(好ま
しくはフッ素原子)−個もしくはそれ以上で置換された
、炭素原子数1ないし6、好ましくは1ないし4のアル
キル基もしくはアルキレン基を表わすか、あるいはシク
ロアルキル基、アリール基またはアリーレン基を表わし
、 Qlは、水素原子、シクロアルキル基またはアリール基
を表わすか、あるいは場合によってはハロゲン原子−個
もしくはそれ以上で置換された炭素原子数1ないし4の
アルキル基を表わす。
-o--CH-CH2--CH2N Ql- and -N Ql In the above formula, Ql has 1 to 1 carbon atoms, optionally substituted with one or more halogen atoms (preferably fluorine atoms). 6, preferably represents 1 to 4 alkyl or alkylene groups, or represents a cycloalkyl group, aryl group or arylene group, and Ql represents a hydrogen atom, a cycloalkyl group or an aryl group, or in some cases It represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms substituted with one or more halogen atoms.

また、Ql及びQlは、上記の基が互いに、二個の橋か
け基、例えば二個の一5O7−基を通して結合してなる
基でもよい。
Further, Ql and Ql may be a group in which the above groups are bonded to each other through two bridging groups, for example, two 15O7- groups.

R1が複素環式基を表わす場合、それらの例として特に
挙げられるのは、酸素、窒素及び(またはイオウを含む
)五員環もしくは六員環の複素環式芳香族基、またはそ
れらとベンゼン核との縮合環式基である。
If R1 represents a heterocyclic group, mention may be made in particular of five- or six-membered heteroaromatic groups containing oxygen, nitrogen and (or sulfur), or combinations thereof with a benzene nucleus. It is a fused cyclic group with

R1が表わす炭素環式芳香族基もしくは複素環式基は、
また、例えばニトロ基、炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基、トリフルオルメチル基、ハロゲン原子(特にフッ
素原子)、シリル基またはスルファモイル基などの一個
以上で置換されたものであってもよい。
The carbocyclic aromatic group or heterocyclic group represented by R1 is
Further, it may be substituted with one or more of, for example, a nitro group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a trifluoromethyl group, a halogen atom (particularly a fluorine atom), a silyl group, or a sulfamoyl group.

R1が表わす基は、非置換でも、あるいは例えばハロゲ
ン原子(例えば、フッ素、塩素または臭素)、または炭
素原子数1ないし4のアルキル基もしくはアルコキシ基
などの一個以上で置換されたものでもよい。
The group represented by R1 may be unsubstituted or substituted, for example with one or more halogen atoms (e.g. fluorine, chlorine or bromine), or C1-C4 alkyl or alkoxy groups.

R1が脂環式基である場合、この基は少なくとも一個の
炭素数4〜8個の脂環式基を有する。複数の脂環式を資
する場合、例えば−〇−−CH=−CH−又は−CH2
−等の橋かけ基を通して互いに結合することもできる。
When R1 is an alicyclic group, this group has at least one alicyclic group having 4 to 8 carbon atoms. When contributing multiple alicyclic groups, for example -〇--CH=-CH- or -CH2
They can also be bonded to each other through bridging groups such as -.

脂環式構造を形成する炭素原子にメチル基又はエチル基
等の低級炭化水素からなる側鎖が存在してもかまわない
し、側鎖同士が互いに接続してビシクロ環、あるいはト
リシクロ環を形成してもよい。
There may be a side chain consisting of a lower hydrocarbon such as a methyl group or an ethyl group on the carbon atom forming the alicyclic structure, or the side chains may be connected to each other to form a bicyclo or tricyclo ring. Good too.

R1が脂肪族基である場合、炭素数4〜12個の直鎖状
又は側鎖を有する脂肪族基である。
When R1 is an aliphatic group, it is a linear or side chain aliphatic group having 4 to 12 carbon atoms.

R2が炭素環式芳香族基である場合、好ましいそれらの
例としては、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、ま
たは非縮合二環式芳香族基が挙げられる。この非縮合二
環式基の場合は、芳香環が互いに橋かけ基を通して結合
している。この場合、可能な橋かけ基は、R1の説明の
ところで挙げた基と同じものを例示することができる。
When R2 is a carbocyclic aromatic group, preferred examples thereof include a monocyclic aromatic group, a fused polycyclic aromatic group, or a non-fused bicyclic aromatic group. In the case of this non-fused bicyclic group, the aromatic rings are bonded to each other through a bridging group. In this case, possible cross-linking groups can be exemplified by the same groups mentioned in the explanation of R1.

R2が複素環式基である場合、それは、特に、0、N及
び(または)Sを含む五員環もしくは六員環の複素環式
芳香族基である。
If R2 is a heterocyclic group, it is in particular a five- or six-membered heteroaromatic group containing 0, N and/or S.

また、R2が脂肪族基である場合には、特に、炭素原子
数2ないし12のアルキレン基、またはそれらのアルキ
レン鎖中にヘテロ原子、例えば0、SまたはN原子が介
在したアルキレン基がそれらの例として挙げられる。
In addition, when R2 is an aliphatic group, in particular an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms or a heteroatom such as 0, S or N atom interposed in the alkylene chain is used. Examples include:

R2が脂環式基である場合の例として挙げられるものは
、シクロヘキシル基またはジシクロヘキシルメタン基な
どであり、一方、芳香脂肪族基である場合の例として特
に挙げられるものは、1゜3−1.4−もしくは2,4
−ビス−アルキレンベンゼンの基、4.4’  −ビス
−アルキレンジフェニル基、及び4.4′ −ビス−ア
ルキレン−ジフェニルエーテル基である。
Examples of R2 being an alicyclic group include a cyclohexyl group or dicyclohexylmethane group, while examples of R2 being an araliphatic group include 1°3-1 .4- or 2,4
-bis-alkylenebenzene group, 4.4'-bis-alkylene diphenyl group, and 4.4'-bis-alkylene-diphenyl ether group.

R1については、それぞれのR1が互いに独立に、非置
換単環式芳香族基、非置換縮合多環式芳香族基、または
非置換非縮合二環式芳香族基を表わすのが好ましい。上
記最後の基は、芳香環が互いに、−0−または−CO−
の橋かけ基を通して結合してなる基が好ましい。
Regarding R1, it is preferred that each R1 independently represents an unsubstituted monocyclic aromatic group, an unsubstituted fused polycyclic aromatic group, or an unsubstituted unsubstituted fused bicyclic aromatic group. In the last group mentioned above, the aromatic rings are mutually -0- or -CO-
A group formed by bonding through a bridging group is preferred.

一方、R2については、それぞれのR2が互いに独立に
、場合によってはハロゲン原子または炭素原子数1ない
し4のアルキル基もしくはアルコキシ基の一個以上を置
換基として有する、単環式芳香族基もしくは非縮合二環
式芳香族基であるか、あるいは非置換単環式芳香脂肪族
基または炭素原子数2ないし10の非置換脂肪族基であ
るのが好ましい。
On the other hand, regarding R2, each R2 is a monocyclic aromatic group or a non-fused monocyclic group which independently has one or more halogen atoms, or one or more C1-C4 alkyl groups or alkoxy groups as a substituent. It is preferably a bicyclic aromatic group or an unsubstituted monocyclic araliphatic group or an unsubstituted C2-C10 aliphatic group.

R2がポリシロキサン基である場合は既に示した。The case where R2 is a polysiloxane group has already been shown.

前記式(1)で表わされるテトラカルボン酸二無水物の
例としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the tetracarboxylic dianhydride represented by the formula (1) include the following.

ピロメリット酸二無水物、 3.3’ 、4.4’  −ベンゾフェノン−テトラカ
ルボン酸二無水物、 2.3.3’  4’  −ベンゾフェノン−テトラカ
ルボン酸二無水物、 2.2’ 、3.3’  〜ベンゾフェノンーテトラカ
ルボン酸二無水物、 3.3’ 、4.4’  −ジフェニル−テトラカルボ
ン酸二無水物、 2.2’ 、3.3’  −ジフェニル−テトラカルボ
ン酸二無水物、 ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)−メタンニ無水
物、 ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−メタンニ無水
物、 2.2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)−ブロ
バンニ無水物、 ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−エーテルニ無
水物、 ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−スルホンニ無
水物、 N、N−(3,4−ジカルボキシフェニル)N−メチル
アミンニ無水物、 3.3’ 、4.4’  −テトラカルポキシベンゾイ
ルオキシベンゼンニ無水物、 2.3,6.7−ナフタリン−テトラカルボン酸二無水
物、 1.2.5.6−ナフタリン−テトラカルボン酸二無水
物、 チオフェン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水
物、 2.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−へキ
サフロロプロパンニ無水物、 シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、メチルシクロ
ブタンテトラカルボン酸二無水物、1.2−ジメチルシ
クロブタンテトラカルボン酸二無水物、 1.3−ジメチルシクロブタンテトラカルボン酸二無水
物、 エチルシクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ビシク
ロ[4,2,0]オクタン−1,,6,7゜8−テトラ
カルボン酸二無水物、 2.7 トリシクロ(6,4,0,0)  ドデカン1.8,2
.7−テトラカルボン酸二無水物、1.2,3.4−テ
トラカルボキシブタンニ無水物。
Pyromellitic dianhydride, 3.3', 4.4'-benzophenone-tetracarboxylic dianhydride, 2.3.3'4'-benzophenone-tetracarboxylic dianhydride, 2.2', 3 .3' ~benzophenone-tetracarboxylic dianhydride, 3.3', 4.4'-diphenyl-tetracarboxylic dianhydride, 2.2', 3.3'-diphenyl-tetracarboxylic dianhydride , bis(2,3-dicarboxyphenyl)-methannihydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)-methannihydride, 2.2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)-brovanhydride, Bis(3,4-dicarboxyphenyl)-ether dianhydride, Bis(3,4-dicarboxyphenyl)-sulfone dianhydride, N,N-(3,4-dicarboxyphenyl)N-methylamine dianhydride, 3 .3',4.4'-tetracarpoxybenzoyloxybenzene dianhydride, 2.3,6.7-naphthalene-tetracarboxylic dianhydride, 1.2.5.6-naphthalene-tetracarboxylic dianhydride Anhydride, thiophene-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-hexafluoropropane dianhydride, cyclobutanetetracarboxylic dianhydride , methylcyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2-dimethylcyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-dimethylcyclobutanetetracarboxylic dianhydride, ethylcyclobutanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo[4,2 ,0]octane-1,,6,7゜8-tetracarboxylic dianhydride, 2.7 tricyclo(6,4,0,0) dodecane 1.8,2
.. 7-tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-tetracarboxybutani dianhydride.

前記−殺伐(III)で表わされるジアミン類としては
公知の化合物を用いることができる。
Known compounds can be used as the diamines represented by -Sakuhatsu (III).

炭素環式芳香族ジアミン類の例としては特に次の化合物
が挙げられる。
Examples of carbocyclic aromatic diamines include, in particular, the following compounds:

o−、m−およびp−フェニレンジアミン、ジアミノト
ルエン類(例えば、2.4−ジアミノトルエン)、1.
4−ジアミノ−2−メトキシベンゼン、2,5.−ジア
ミノキシレン類、1.3−ジアミノ−4−クロルベンゼ
ン、14−ジアミノ−2,5−ジクロルベンゼン、1,
4−ジアミノ−2−ブロムベンゼン、1.3−ジアミノ
−4イソプロピルベンゼン、N、N’  −ジフェニル
1.4−フェニレンジアミン、4.4’  −ジアミノ
ジフェニル−2,2−プロパン、4.4’ジアミノジフ
エニルメタン、2.2’  −ジアミノスチルベン、4
.4’  −ジアミノスチルベン、4゜4′−ジアミノ
ジフェニル−エーテル、4.4’、ジアミノジフェニル
−チオエーテル、4,4′ジアミノジフエニルスルホン
、3.3’  −ジアミノジフェニルスルホン、4.4
’  −ジアミノ安息香酸フェニルエステル、2.2’
  −ジアミノベンゾフェノン、4.4’  −ジアミ
ノベンゾフェノン、4.4′−ジアミノベンジル、4−
(4’アミノフエニルカルバモイル)−アニリン、ビス
(4−アミノフェニル)−ホスフィンオキシト、ビス(
4−アミノフェニル)−メチル−ホスフィンオキシト、
ビス(3−アミノフェニル)−メチルスルフィンオキシ
ド、ビス(4−アミノフェニル)−フェニルホスフィン
オキシト、ビス(4−アミノフェニル)−シクロヘキシ
ルホスフィンオキシト、N、N−ビス(4−アミノフェ
ニル)N−フェニルアミン、N、N−ビス(4−アミノ
フェニル)−N−メチルアミン、4.4’  −ジアミ
ノジフェニル尿素、1,8−ジアミノナフタリン、■、
5−ジアミノナフタリン、1,5−ジアミノアントラキ
ノン、ジアミノフルオランテン、ビス(4−アミノフェ
ニル)−ジエチルシラン、ビス(4−アミノフェニル)
−ジメチルシラン、ビス(4−アミノフェニル)−テト
ラメチルジシロキサン、3.4’  −ジアミノジフェ
ニルエーテル、ベンジジン、2.2’  −ジメチルベ
ンジジン、2.2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ
)フェニル〕プロパン、ビス[4−(4−アミノフェノ
キシ)フェニル]スルホン、4.4’  −ビス(4−
アミノフェノキシ)ビフェニル、2.2−ビス(4−(
4−アミノフェノキシ)フェニル〕ヘキサフロロプロパ
ン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、
1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン。
o-, m- and p-phenylene diamines, diaminotoluenes (e.g. 2,4-diaminotoluene), 1.
4-diamino-2-methoxybenzene, 2,5. -diaminoxylenes, 1,3-diamino-4-chlorobenzene, 14-diamino-2,5-dichlorobenzene, 1,
4-diamino-2-bromobenzene, 1,3-diamino-4isopropylbenzene, N,N'-diphenyl 1,4-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenyl-2,2-propane, 4.4' Diaminodiphenylmethane, 2,2'-diaminostilbene, 4
.. 4'-diaminostilbene, 4゜4'-diaminodiphenyl-ether, 4.4', diaminodiphenyl-thioether, 4,4' diaminodiphenylsulfone, 3.3'-diaminodiphenylsulfone, 4.4
'-diaminobenzoic acid phenyl ester, 2.2'
-Diaminobenzophenone, 4.4'-Diaminobenzophenone, 4.4'-Diaminobenzyl, 4-
(4'aminophenylcarbamoyl)-aniline, bis(4-aminophenyl)-phosphine oxyto, bis(
4-aminophenyl)-methyl-phosphine oxyto,
Bis(3-aminophenyl)-methylsulfine oxide, bis(4-aminophenyl)-phenylphosphine oxide, bis(4-aminophenyl)-cyclohexylphosphine oxide, N,N-bis(4-aminophenyl)N -Phenylamine, N,N-bis(4-aminophenyl)-N-methylamine, 4,4'-diaminodiphenylurea, 1,8-diaminonaphthalene, ■,
5-diaminonaphthalene, 1,5-diaminoanthraquinone, diaminofluoranthene, bis(4-aminophenyl)-diethylsilane, bis(4-aminophenyl)
-dimethylsilane, bis(4-aminophenyl)-tetramethyldisiloxane, 3.4'-diaminodiphenyl ether, benzidine, 2.2'-dimethylbenzidine, 2.2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl ] Propane, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 4.4'-bis(4-
aminophenoxy)biphenyl, 2,2-bis(4-(
4-aminophenoxy)phenyl]hexafluoropropane, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene,
1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene.

複素環式ジアミン類は、例えば次の化合物である。Examples of the heterocyclic diamines include the following compounds.

2.6−ジアミノベンジル、2,4−ジアミノピリミジ
ン、2.4−ジアミノ−5−トリアジン、2.7−ジア
ミツージベンゾフラン、2,7−ジアミツカルバゾール
、3,7−ジアミツフエノチアジン、2,5−ジアミノ
−1,3,4−チアジアゾール、2.4−ジアミノ−6
−フェニル−5−トリアジン。
2,6-diaminobenzyl, 2,4-diaminopyrimidine, 2,4-diamino-5-triazine, 2,7-diamitudibenzofuran, 2,7-diamitsucarbazole, 3,7-diamitufenothiazine, 2,5-diamino-1,3,4-thiadiazole, 2,4-diamino-6
-Phenyl-5-triazine.

また、脂肪族ジアミンの例として挙げられるのは、次の
化合物である。
Further, examples of aliphatic diamines include the following compounds.

エチレンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチ
レンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレ
ンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジ
アミン、デカメチレンジアミン、2,2−ジメチルプロ
ピレンジアミン、2゜5−ジメチルへキサメチレンジア
ミン、2.5ジメチルへブタメチレンジアミン、4,4
−ジメチルヘプタメチレンジアミン、3−メチルへブタ
メチレンジアミン、3−メトキシへブタメチレンジアミ
ン、5−メチルノナメチレンジアミン、2゜11−ジア
ミノドデカン、1.12−ジアミノオクタデカン、1.
2−ビス(3−アミノプロポキシ)−エタン、N、N’
  −ジメチル−エチレンジアミン、N、N’−ジエチ
ル−1,3−ジアミノプロパン、N、N’−ジメチル−
1,6−ジアミツヘキサン、式: %式%) で表わされるジアミン。
Ethylenediamine, trimethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, decamethylenediamine, 2,2-dimethylpropylenediamine, 2゜5-dimethylhexamethylenediamine, 2. 5 dimethyl hebutamethylene diamine, 4,4
-dimethylheptamethylenediamine, 3-methylheptamethylenediamine, 3-methoxyheptamethylenediamine, 5-methylnonamethylenediamine, 2゜11-diaminododecane, 1.12-diaminooctadecane, 1.
2-bis(3-aminopropoxy)-ethane, N, N'
-dimethyl-ethylenediamine, N,N'-diethyl-1,3-diaminopropane, N,N'-dimethyl-
1,6-diamithexane, a diamine represented by the formula: % formula %).

さらに、脂環式ジアミンとして適当な化合物は、1.4
−ジアミノシクロヘキサンおよび4.4′−ジアミノー
ジシクロヘキンルメタンであり、芳香脂肪族ジアミンと
しては1,4−ビス(2−メチル−4−アミノペンチル
)−ベンゼン、1,4ビス(1,1−ジメチル−5−ア
ミノペンチル)=ベンゼン、1.3−ビス(アミノメチ
ル)−ベンゼンおよび1.4−ビス(アミノメチル)−
ベンゼンが適当である。
Furthermore, compounds suitable as alicyclic diamines include 1.4
-diaminocyclohexane and 4,4'-diaminodicyclohexylmethane, and the araliphatic diamines include 1,4-bis(2-methyl-4-aminopentyl)-benzene, 1,4bis(1,1 -dimethyl-5-aminopentyl)=benzene, 1,3-bis(aminomethyl)-benzene and 1,4-bis(aminomethyl)-
Benzene is suitable.

また、ジアミノポリシロキサンとして次の化合物を挙げ
ることができる。
Further, the following compounds can be mentioned as diaminopolysiloxanes.

次に式(IV)で表わされるアミノシランの例としては
次の化合物を挙げることができる。
Examples of the aminosilane represented by formula (IV) include the following compounds.

アミノメチル−ジ−n−プロポキシ−メチルシラン、(
β−アミノエチル)−ジ−n−プロポキン−メチルシラ
ン、(β−アミノエチル)ジェトキシ−フェニルシラン
、(β−アミノエチル)トリーn−プロポキシシラン、
(β−アミノエチル)−ジメトキシ−メチルシラン、(
γ−アミノプロピル)−ジ−n−プロポキシ−メチルシ
ラン、(γ−アミノプロピル)−ジ−n−ブトキシ−メ
チルシラン、(γ−アミノプロピル)−トリメトキシシ
ラン、(γ−アミノプロピル)−トリエトキシシラン、
(γ−アミノプロピル)−ジ−nペントキシ−フェニル
シラン、(γ−アミノプロピル)−メトキシ−ロープロ
ポキシ−メチルシラン、(δ〜ルアミノブチル−ジメト
キシ−メチルシラン、(3−アミノフェニル)−ジ−n
−プロポキシ−メチルシラン、(4−アミノフェニル)
−トリーロープロポキシシラン、〔β−(4−アミノフ
ェニル)〜エチル〕 −ジェトキシ−メチルシラン、〔
β−(3−アミノフェニル)−エチル〕−ジーロープロ
ポキシーフェニルシラン、〔γ−(4−アミノフェニル
)−プロピル〕 −ジ−n−プロポキシ−メチルシラン
、〔γ−(4−アミノフェノキシ)−プロピル〕 −ジ
ーn−ブロボキシ−メチルシラン、〔γ−(3−アミノ
フェノキシ)−プロビル〕 −ジ−n−ブトキシ−メチ
ルシラン、(γ−アミノプロピル)−メチル−ジメトキ
シシラン、(γ−アミノプロピル)−メチル−ジェトキ
シシラン、(γ−アミノプロピル)−エチル−ジ−ロー
プロポキシシラン、4−アミノフェニルトリメトキシシ
ラン、3−アミノフェニルトリメトキシシラン、4−ア
ミノフェニル−メチル−ジ−メトキシシラン、3−アミ
ノフェニル−ジメチル−メトキシシラン、4−アミノフ
ェニルトリエトキシシラン。
Aminomethyl-di-n-propoxy-methylsilane, (
β-aminoethyl)-di-n-propoquine-methylsilane, (β-aminoethyl)jetoxy-phenylsilane, (β-aminoethyl)tri-n-propoxysilane,
(β-aminoethyl)-dimethoxy-methylsilane, (
γ-aminopropyl)-di-n-propoxy-methylsilane, (γ-aminopropyl)-di-n-butoxy-methylsilane, (γ-aminopropyl)-trimethoxysilane, (γ-aminopropyl)-triethoxysilane ,
(γ-aminopropyl)-di-n pentoxy-phenylsilane, (γ-aminopropyl)-methoxy-rhopropoxy-methylsilane, (δ~ruaminobutyl-dimethoxy-methylsilane, (3-aminophenyl)-di-n
-propoxy-methylsilane, (4-aminophenyl)
- trilow propoxysilane, [β-(4-aminophenyl)~ethyl] -jethoxy-methylsilane, [
β-(3-aminophenyl)-ethyl]-zilowpropoxyphenylsilane, [γ-(4-aminophenyl)-propyl]-di-n-propoxy-methylsilane, [γ-(4-aminophenoxy)- propyl] -di-n-broboxy-methylsilane, [γ-(3-aminophenoxy)-propyl] -di-n-butoxy-methylsilane, (γ-aminopropyl)-methyl-dimethoxysilane, (γ-aminopropyl)- Methyl-jethoxysilane, (γ-aminopropyl)-ethyl-di-ropropoxysilane, 4-aminophenyltrimethoxysilane, 3-aminophenyltrimethoxysilane, 4-aminophenyl-methyl-di-methoxysilane, 3 -aminophenyl-dimethyl-methoxysilane, 4-aminophenyltriethoxysilane.

本発明の製造法に於いて使用される好ましい溶媒(以下
反応溶媒と言うことがある。)として、N−メチル−2
−ピロリドン、N、N−ジメチルアセトアミド、N、N
−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テト
ラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメ
チルホスホルアミド、メチルホルムアミド、N−アセチ
ル−2−ピロリドン、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチ
レングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコ
ール七ツメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエ
チルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル
、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、クレゾール、
γ−ブチロラクトン、N、N−ジエチルアセトアミド、
N、N−ジエチルホルムアミド、N、N−ジメチルメト
キシアセトアミド、テトラヒドロフラン、N−メチル−
ε−カプロラクタム、テトラヒドロチオフェンジオキシ
ド〔スルホラン(sulpholane) )を例示す
ることができる。
As a preferable solvent (hereinafter sometimes referred to as reaction solvent) used in the production method of the present invention, N-methyl-2
-pyrrolidone, N,N-dimethylacetamide, N,N
-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, tetramethylurea, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylphosphoramide, methylformamide, N-acetyl-2-pyrrolidone, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol Seven methyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, cyclopentanone, cyclohexanone, cresol,
γ-butyrolactone, N,N-diethylacetamide,
N,N-diethylformamide, N,N-dimethylmethoxyacetamide, tetrahydrofuran, N-methyl-
Examples include ε-caprolactam and tetrahydrothiophene dioxide (sulfolane).

また、この反応は、上記した如き有機溶媒を混合して得
られる混合溶媒中でも行うことができる。
Moreover, this reaction can also be carried out in a mixed solvent obtained by mixing the above-mentioned organic solvents.

さらに上記の如き好ましい有機溶媒を、他の非プロトン
性(中性)有機溶媒、例えば芳香族、脂環式もしくは脂
肪族炭化水素またはそれらの塩素化誘導体(例えば、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン類、シクロヘキサン、ペン
タン、ヘキサン、石油エーテル、塩化メチレンなど。)
、またはジオキサンで希釈したものを用いることもでき
る。
Furthermore, the preferred organic solvents as mentioned above may be combined with other aprotic (neutral) organic solvents such as aromatic, cycloaliphatic or aliphatic hydrocarbons or their chlorinated derivatives (e.g. benzene, toluene, xylenes, cyclohexane). , pentane, hexane, petroleum ether, methylene chloride, etc.)
Alternatively, one diluted with dioxane can also be used.

次に反応方法について説明する。前記式(1)で示され
るテトラカルボン酸二無水物Aモル、前記式(II)で
示されるトリメリット酸二無水物A′モル、前記式(m
)で示されるジアミン8モル及び前記式(IV)で示さ
れるアミノシランCモルを反応溶媒中で反応させる。こ
のときASA’B及びCはそれらの間に前記式(V)〜
(■)の関係が成立するように定める。
Next, the reaction method will be explained. A mole of tetracarboxylic dianhydride represented by the formula (1), A' mole of trimellitic dianhydride represented by the formula (II),
) and C moles of the aminosilane represented by the above formula (IV) are reacted in a reaction solvent. At this time, ASA'B and C are between them the above formula (V) ~
It is determined that the relationship (■) is established.

式(V)は全原料化合物中の酸無水物とアミンがほぼ当
量関係であることを表わしており、この範囲からはずれ
ることは高分子量のポリアミド酸を得難く、またこのポ
リアミド酸から得られる硬化物の電気特性を低下せしめ
ることがあるため好ましくない。式(Vl)はトリメリ
ット酸無水物の必要量を示しており、この範囲より小さ
いと金属化合物あるいは無機化合物に対する接着性の劣
る材料しか得られない。又、保存安定性のよいものを得
ることが難しい。一方この範囲より大きいと、得られた
ポリアミド酸の分子量が小さくなるため、このポリアミ
ド酸溶液を基板に塗布して成膜するのが困難になる。
Formula (V) shows that the acid anhydride and amine in all the raw material compounds are in a nearly equivalent relationship, and deviations from this range make it difficult to obtain a high molecular weight polyamic acid, and the curing obtained from this polyamic acid is difficult. This is not preferable because it may deteriorate the electrical properties of objects. Formula (Vl) indicates the required amount of trimellitic anhydride, and if it is smaller than this range, only a material with poor adhesion to metal compounds or inorganic compounds can be obtained. Moreover, it is difficult to obtain products with good storage stability. On the other hand, if it is larger than this range, the molecular weight of the obtained polyamic acid becomes small, making it difficult to apply this polyamic acid solution to a substrate to form a film.

また式(■)はアミノシランの必要量を示しており、こ
の範囲外ではガラス、シリコンウェハーあるいはその他
のけい素化合物に対して、十分な接着性が得られ難い。
Further, formula (■) indicates the necessary amount of aminosilane, and outside this range, it is difficult to obtain sufficient adhesion to glass, silicon wafers, or other silicon compounds.

反応溶媒はこれと添加した原料との合計量基準で40重
量%以上使用するのがよい。これ以下では攪拌操作が困
難である場合がある。反応は0℃以上80℃以下で行う
のがよい。反応時間は0.2〜20時間反応せしめるの
がよい。
The reaction solvent is preferably used in an amount of 40% by weight or more based on the total amount of the reaction solvent and the added raw materials. If it is less than this, the stirring operation may be difficult. The reaction is preferably carried out at a temperature of 0°C or higher and 80°C or lower. The reaction time is preferably 0.2 to 20 hours.

反応原料の反応系への添加順序に関してはテトラカルボ
ン酸二無水物、ジアミン、トリメリット酸無水物及びア
ミノシランの全部を同時に反応溶媒に加えて反応せしめ
てもよく、前二者をあらかじめ反応せしめた後、その反
応生成物にトリメリット酸無水物及びアミノシランを反
応せしめることもできる。後者の方法の場合が高分子量
のポリマーが得られやすい。反応は比較的速やかに進行
し、均一で透明な反応液が生成する。このようにしてポ
リアミド酸の末端にアミノシラン及びトリメリット酸の
付加したポリマー又はオリゴマーが得られる。これらは
特開昭61−287926号公報で提案された高接着性
のポリアミド酸の良好な接着性を維持したまま、さらに
この弱点である保存安定性を改良したものである。
Regarding the order of adding the reaction raw materials to the reaction system, all of the tetracarboxylic dianhydride, diamine, trimellitic anhydride, and aminosilane may be added to the reaction solvent at the same time and reacted, or the former two may be reacted in advance. Thereafter, the reaction product can be reacted with trimellitic anhydride and aminosilane. In the case of the latter method, a high molecular weight polymer is easily obtained. The reaction proceeds relatively quickly, producing a homogeneous and transparent reaction solution. In this way, a polymer or oligomer in which aminosilane and trimellitic acid are added to the terminals of polyamic acid is obtained. These products maintain the good adhesive properties of the highly adhesive polyamic acid proposed in JP-A No. 61-287926, and further improve the storage stability, which is a weak point.

本発明のポリアミド酸を含む塗布液を塗布対象に塗布し
、焼成することによりポリアミドカルボン酸は脱水環化
し、イミド結合を形成すると同時に分子末端の加水分解
性基であるXは加水分解後、縮合反応により高分子量化
し強靭な塗膜を形成する。一方ボリアミド酸末端にはト
リメリット酸無水物のカルボキシル基も存在することが
考えられ、これと上記アミノシランの量を前記式(V)
〜(■)で規制される範囲に存在するとき初めてけい素
化合物、金属、その他無機化合物及び皮膜間の接着等多
種類の基材との接着性に優れるポリアミド酸が得られる
とともに保存安定性の良好なワニスを得ることができる
By applying the coating solution containing the polyamic acid of the present invention to the coating object and baking it, the polyamide carboxylic acid is dehydrated and cyclized to form an imide bond, and at the same time, the hydrolyzable group at the end of the molecule, The reaction increases the molecular weight and forms a tough coating film. On the other hand, it is thought that there is also a carboxyl group of trimellitic anhydride at the polyamic acid terminal, and this and the amount of the aminosilane are expressed by the formula (V).
Only when it exists within the range regulated by (■) can polyamic acid be obtained that has excellent adhesion to many types of substrates, such as silicon compounds, metals, other inorganic compounds, and adhesion between films, and has excellent storage stability. A good varnish can be obtained.

次に本発明で得られるポリアミド酸を用いて、硬化膜を
製造する方法について説明する。
Next, a method for producing a cured film using the polyamic acid obtained in the present invention will be described.

本発明によって製造したポリアミド酸は殆んどの場合、
ワニス等の如く溶媒に溶解した溶液の状態で使用される
から、本発明方法で得られた溶液を濃縮または溶媒で希
釈して使用するのが良い。
In most cases, the polyamic acid produced according to the present invention is
Since it is used in the form of a solution dissolved in a solvent, such as a varnish, the solution obtained by the method of the present invention is preferably used after being concentrated or diluted with a solvent.

溶媒としては反応溶媒と同じものを使用することができ
る。本発明で得られたポリアミド酸の溶液から成形品を
形成させる方法としては既に公知のどの様な方法で行っ
てもよく、例えばガラス板、銅板、アルミニウム板など
にポリアミド酸溶液を流した後、加熱することにより溶
媒を除去すると共にアミド酸結合は脱水によりイミド結
合へ変換し、シロキサン結合による架橋が進行し硬くて
強靭な皮膜が形成される。積層された複合材料を形成さ
せるためにはこの様な操作を逐次行なうことにより可能
であるが、ワニスを接着剤として複数の異質素材間に塗
り焼成することにより積層された複合材料を得ることが
できる。
As the solvent, the same solvent as the reaction solvent can be used. Any known method may be used to form a molded article from the polyamic acid solution obtained in the present invention; for example, after pouring the polyamic acid solution onto a glass plate, copper plate, aluminum plate, etc. By heating, the solvent is removed and the amic acid bonds are converted to imide bonds by dehydration, and crosslinking by siloxane bonds progresses to form a hard and tough film. Although it is possible to form a laminated composite material by sequentially performing such operations, it is also possible to obtain a laminated composite material by applying varnish as an adhesive between multiple dissimilar materials and firing. can.

本発明によって製造したポリアミド酸を含むワニスは一
旦焼成硬化された皮膜上にさらに塗布し焼成することに
より皮膜上に皮膜を積層せしめることも可能である。フ
ィラーあるいはガラス繊維等にワニスを含浸させ焼成硬
化させることにより強化皮膜を用いた積層材料を形成せ
しめることもまた可能である。
The varnish containing polyamic acid produced according to the present invention can be further coated on a film that has been cured by firing and then baked to form a film on top of the film. It is also possible to form a laminated material using a reinforced film by impregnating filler or glass fiber with varnish and baking and hardening it.

焼成条件は使用する溶媒、塗膜の厚さ等により異なるが
、150〜500℃、好ましくは250〜400℃で0
,5〜1.5時間位で充分である。
The firing conditions vary depending on the solvent used, the thickness of the coating film, etc., but are 150 to 500°C, preferably 250 to 400°C.
, 5 to 1.5 hours is sufficient.

この様な本発明の方法によりシリコン系ポリイミド硬化
物を得ることができる。
A silicone-based polyimide cured product can be obtained by such a method of the present invention.

本発明の方法により得られるシリコン系ポリイミド硬化
物の応用分野としては電子機器、通信機器、重電機器あ
るいは輸送機器等の部品類が考えられるが液晶配向剤等
の電子材料用用途としても良い結果を示す。
The silicon-based polyimide cured product obtained by the method of the present invention can be applied to parts for electronic equipment, communication equipment, heavy electrical equipment, transportation equipment, etc., but it can also be used for electronic materials such as liquid crystal alignment agents. shows.

〔実施例〕〔Example〕

以下に、実施例及び比較例によって本発明を更に具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定さ
れるものではないことは勿論である。
The present invention will be explained in more detail below with reference to Examples and Comparative Examples, but it goes without saying that the present invention is not limited to these Examples.

実施例1 攪拌装置、滴下ロート、温度計、コンデンサー及び窒素
置換装置を付した1gのフラスコを冷水中に固定した。
Example 1 A 1 g flask equipped with a stirrer, dropping funnel, thermometer, condenser and nitrogen purging device was fixed in cold water.

フラスコ内を窒素ガスにより置換した後、脱水精製した
5 00 mlのN−メチル−2−ピロリドン(以下r
NMPJという。)及び24.114g (0,120
4モル)の4.4′−ジアミノジフエニルエーテルを投
入し、この溶液を20〜25℃に保ちつつ25.873
g(0,0803モル)の3.3’ 、4.4’  −
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を滴下ロート
から30分間で添加し、この温度で3時間反応した後2
6.224g (0,1365モル)のトリメリット酸
無水物(以下rTMAJという。)を添加し、さらに1
時間反応を行なった。その後11.990g (0,0
562モル)のアミノフェニルトリメトキシシラン(メ
タ/バラ−38/62、以下rAPMSJという。)を
添加し、この温度で2時間、さらに45〜50℃で2時
間反応を行ない淡黄色透明のポリアミド酸溶液が得られ
た。この溶液の25℃での回転粘度は320センチポア
ズであった。ここで回転粘度とはE型粘度計(株式会社
東京計器製VISCONICEMD)を使用して温度2
5℃で測定した粘度である(以下同じ。)。
After purging the inside of the flask with nitrogen gas, 500 ml of dehydrated and purified N-methyl-2-pyrrolidone (hereinafter referred to as r
It's called NMPJ. ) and 24.114g (0,120
4 mol) of 4.4'-diaminodiphenyl ether was added, and while keeping this solution at 20-25°C, 25.873
g (0,0803 mol) of 3.3', 4.4' -
Benzophenone tetracarboxylic dianhydride was added from the dropping funnel over 30 minutes, and after reacting at this temperature for 3 hours,
6.224 g (0,1365 mol) of trimellitic anhydride (hereinafter referred to as rTMAJ) was added, and 1
A time reaction was performed. After that 11.990g (0,0
562 mol) of aminophenyltrimethoxysilane (Meta/Bara-38/62, hereinafter referred to as rAPMSJ) was added, and the reaction was carried out at this temperature for 2 hours and then at 45 to 50°C for 2 hours to form a pale yellow transparent polyamic acid. A solution was obtained. The rotational viscosity of this solution at 25°C was 320 centipoise. Here, rotational viscosity refers to
This is the viscosity measured at 5°C (the same applies below).

実施例2 実施例1と同様の装置及び方法で26.037g (0
,0602モル)のビス[4−(4−アミノフェノキシ
)フェニル]スルホンを30〜35℃に保った5 00
 mlのN、N−ジメチルアセトアミド中に投入し溶解
させた後、これに 21.258g (0,0723モル)の3.3′4.
4′ −ビフェニルテトラカルボン酸二無水物及び6.
677g (0,0313モル)のAPMS (メタ/
バラ−38/62)を添加して、この温度で10時間反
応を行なった後、1.619g (0,00843モル
)のTMAを添加しさらに3時間反応を行なった。その
結果25℃での回転粘度が210センチポアズである淡
黄色透明のポリアミド酸溶液が得られた。
Example 2 26.037g (0
, 0602 mol) of bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone kept at 30-35°C.
ml of N,N-dimethylacetamide and dissolved therein, 21.258 g (0,0723 mol) of 3.3'4.
4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 6.
677 g (0,0313 mol) of APMS (meth/
After adding Bara-38/62) and reacting at this temperature for 10 hours, 1.619 g (0,00843 mol) of TMA was added and the reaction was further carried out for 3 hours. As a result, a pale yellow transparent polyamic acid solution having a rotational viscosity of 210 centipoise at 25° C. was obtained.

実施例3 実施例1と同様の装置及び方法で30〜35℃に保った
5 00 mlのNMP中に41.893g(0,16
87モル)の3.3′ −ジアミノジフェニルスルホン
、62.455.(0,1406モル)の、2,2−ビ
ス(3,4−ジカルボキシフェニル)へキサフロロブロ
バンニ無水物及び15.665g (0,0815モル
)のTMAを添加し、この温度で10時間反応を行なっ
た後、4.981g (0,0225モル)の3−アミ
ノプロピルトリエトキシシランを添加し、40〜50℃
で3時間反応を行なった。その結果、25℃での回転粘
度が340センチポアズである淡黄色透明のポリアミド
酸溶液が得られた。
Example 3 41.893 g (0,16
87 mol) of 3.3'-diaminodiphenylsulfone, 62.455. (0,1406 mol) of 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)hexafluorobrovanni anhydride and 15.665 g (0,0815 mol) of TMA were added and at this temperature for 10 hours. After carrying out the reaction, 4.981 g (0,0225 mol) of 3-aminopropyltriethoxysilane was added and heated at 40-50°C.
The reaction was carried out for 3 hours. As a result, a pale yellow transparent polyamic acid solution having a rotational viscosity of 340 centipoise at 25° C. was obtained.

実施例4 実施例1と同様の装置及び方法で47.633g (0
,1630モル)の1.4−ビス(4−アミノ・フェノ
キシ)ベンゼンを15〜20℃に保った5 00 ml
のNMP中に溶解させ、この溶液に65.687g (
0,1833モル)のビス(34−ジカルボキシフェニ
ル)−スルホンニ無水物を添加し、この温度で7時間反
応を行なった後、9.357g (0,0489モル)
のメチルジェトキシシラン及び2.348g (0,0
122モル)のTMAを添加し35〜40℃で3時間反
応を行なった。その結果25℃での回転粘度が2800
センチポアズである淡黄色透明のポリアミド酸溶液が得
られた。
Example 4 47.633g (0
, 1630 mol) of 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene was kept at 15-20°C in 500 ml.
of NMP, and in this solution 65.687 g (
After adding 0,1833 mol) of bis(34-dicarboxyphenyl)-sulfonic dianhydride and carrying out the reaction at this temperature for 7 hours, 9.357 g (0,0489 mol)
of methyljethoxysilane and 2.348 g (0,0
122 mol) of TMA was added and the reaction was carried out at 35-40°C for 3 hours. As a result, the rotational viscosity at 25℃ is 2800.
A pale yellow transparent polyamic acid solution of centipoise was obtained.

実施例5 実施例1と同様の装置及び方法で25〜30℃に保った
5 00 mlのNMPに33.029g(0,080
5モル)の2,2−ビス+4−(4−アミノフェノキシ
)フェニル)プロパン及び17.548g (0,08
05モル)のピロメリット酸二無水物を添加し、この温
度で5時間反応を行なった後、この溶液に33.029
g(0,0805モル)の2,2−ビス+4−(4アミ
ノフエノキシ)フェニル)プロパン、27.459.(
0゜1287モル)のAPMS(バラ100%)及び5
5.643g (0,2897モル)のTMAを添加し、さらに5時間
反応を行なうことにより、25℃での回転粘度が940
センチポアズである淡黄色透明のポリアミド酸溶液が得
られた。
Example 5 33.029 g (0,080
5 mol) of 2,2-bis+4-(4-aminophenoxy)phenyl)propane and 17.548 g (0,08
After adding 05 mol) of pyromellitic dianhydride and carrying out the reaction at this temperature for 5 hours, 33.029
g (0,0805 mol) of 2,2-bis+4-(4aminophenoxy)phenyl)propane, 27.459. (
0°1287 mol) of APMS (100% rose) and 5
By adding 5.643 g (0,2897 mol) of TMA and carrying out the reaction for an additional 5 hours, the rotational viscosity at 25°C became 940.
A pale yellow transparent polyamic acid solution of centipoise was obtained.

実施例6 実施例1と同様の装置及び方法で30〜35℃に保った
500m1のNN−ジメチルホルムアミド中に43.6
42K (0,1355モル)の3.3’ 、4.4’
  −ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、14
.656g (0,1355モル)のp−フ二二レンジ
アミン、8.090g(0,0379モル)のAPMS
 (バラ100%)及び8.326g (0,0433
モル)のTMAを添加し、15時間反応を行なった。そ
の結果、25℃での回転粘度が420センチポアズであ
る淡黄色透明のポリアミド酸溶液が得られた。
Example 6 In 500 ml of NN-dimethylformamide kept at 30-35°C using the same equipment and method as in Example 1, 43.6
3.3', 4.4' of 42K (0,1355 mol)
-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 14
.. 656 g (0,1355 mol) p-phenyl diamine, 8.090 g (0,0379 mol) APMS
(100% rose) and 8.326g (0,0433
mol) of TMA was added, and the reaction was carried out for 15 hours. As a result, a pale yellow transparent polyamic acid solution having a rotational viscosity of 420 centipoise at 25° C. was obtained.

実施例7 実施例1と同様の装置及び方法で50〜55℃に保った
エチルカルピトール中に209.689r (0,98
31モル)のAPMS (バラ100%)を溶解させ、
この溶液に81.631g(0,364モル)のジメチ
ルシクロブタンテトラカルボン酸二無水物を添加し1時
間反応を行なった後、41.966g (0,2185
モル)のTMAを添加し、さらに2時間反応を行なうこ
とにより、25℃での回転粘度が38センチポアズの淡
黄色透明のポリアミド酸溶液が得られた。
Example 7 209.689r (0,98
31 mol) of APMS (rose 100%) was dissolved,
81.631 g (0,364 mol) of dimethylcyclobutanetetracarboxylic dianhydride was added to this solution and reacted for 1 hour.
By adding mol) of TMA and further carrying out the reaction for 2 hours, a pale yellow transparent polyamic acid solution having a rotational viscosity of 38 centipoise at 25° C. was obtained.

実施例8 実施例1と同様の装置及び方法で35〜40℃に保った
5 00 mlのN FvI P中に42.092g(
0,0812モル)の2.2−ビス[4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル)ヘキサフロロプロパン及び1.
040g (0,00541モル)のTMAを添加し、
この温度で1時間反応を行なった後、40.067g 
(0,0902モル)の2.2−ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)へキサフロロブロバンニ無水物及び5
.002g(0,0235モル)のAPMS (バラ1
00%)を添加し、さらに6時間反応を行なった。その
結果25℃での回転粘度が1800センチポアズの淡黄
色透明のポリアミド酸溶液が得られた。
Example 8 42.092 g (
0,0812 mol) of 2.2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl)hexafluoropropane and 1.
040 g (0,00541 mol) of TMA was added,
After reacting at this temperature for 1 hour, 40.067g
(0,0902 mol) of 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)hexafluorobrovanni anhydride and 5
.. 002 g (0,0235 mol) of APMS (rose 1
00%) was added thereto, and the reaction was further carried out for 6 hours. As a result, a pale yellow transparent polyamic acid solution having a rotational viscosity of 1800 centipoise at 25° C. was obtained.

比較例1 実施IP41と同様の装置及び方法で20〜25℃に保
った500m1のNMP中に31.341g(0,15
65モル)の4,4′ −ジアミノジフェニルエーテル
を投入し、溶解させた。この溶液に40.972g (
0,1879モル)のピロメリット酸二無水物を30分
間で添加し、この温度で3時間反応した後、1.203
g (0,00626モル)のTMAを添加し、さらに1時
間反応を行なった。その後14.693g(0,068
9モル)のAPMS (メタ/バラ−38/62)を添
加し、この温度で2時間、さらに45〜50℃で2時間
反応を行ない淡黄色透明のポリアミド酸溶液が得られた
。この溶液の回転粘度は680センチポアズであった。
Comparative Example 1 31.341 g (0,15
65 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether was added and dissolved. Add 40.972g (
0.1879 mol) of pyromellitic dianhydride was added in 30 minutes and after reacting at this temperature for 3 hours, 1.203
g (0,00626 mol) of TMA was added, and the reaction was further carried out for 1 hour. After that, 14.693g (0,068
9 mol) of APMS (Meta/Bara-38/62) was added and the reaction was carried out at this temperature for 2 hours and then at 45-50°C for 2 hours to obtain a pale yellow transparent polyamic acid solution. The rotational viscosity of this solution was 680 centipoise.

比較例2 実施例1と同様の装置及び方法で30〜35℃に保った
5 00 mlのNMP中に29.357g(0,14
66モル)の4.4′ −ジアミノジフェニルエーテル
、35.951g (0,1222モル)の3.3’ 
4.4’  −ビフェニルテトラカルボン酸二無水物及
び9.390g (0,0489モル)の、T M Aを添加し、この温
度で10時間反応を行なうことにより25℃での回転粘
度が480センチポアズの淡黄色透明のポリアミド酸溶
液が得られた。
Comparative Example 2 29.357 g (0,14
66 mol) of 4.4'-diaminodiphenyl ether, 35.951 g (0,1222 mol) of 3.3'
By adding 4.4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 9.390 g (0,0489 mol) of TMA and carrying out the reaction at this temperature for 10 hours, the rotational viscosity at 25°C became 480 centipoise. A pale yellow transparent polyamic acid solution was obtained.

比較例3 実施例1と同様の装置及び方法で39.348g (0
,1965モル)の4,4′ −ジアミノジフェニルエ
ーテルを20〜25℃に保った500m1のNMP中に
投入し溶解させた後、これに75.988g (0,2
358モル)の3,3′4.4′ −ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物を30分間で添加しこの温度で
6時間反応を行なった後、13.413g(0,062
9モル)のAPMS (バラ100%)を添加しこの温
度で2時間、さらに45〜50℃で2時間反応を行なっ
た。その結果、25℃での回転粘度が2100センチポ
アズである淡黄色透明液が得られた。
Comparative Example 3 39.348g (0
.
After adding 358 mol) of 3,3'4.4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride over 30 minutes and carrying out the reaction at this temperature for 6 hours, 13.413 g (0,062
9 mol) of APMS (100% bulk) was added and the reaction was carried out at this temperature for 2 hours and then at 45-50°C for 2 hours. As a result, a pale yellow transparent liquid with a rotational viscosity of 2100 centipoise at 25°C was obtained.

比較例4 実施例1と同様の装置及び方法で29.212g (0
,2701モル)のp−フェニレンジアミン及び7.4
88+r (0,0300モル)の1゜3−ビス(3−
アミノプロピル)−1,1,3゜3−テトラメチルジシ
ロキサンを20〜25℃に保った5 00 mlのN−
メチル−2−ピロリドン中に投入、溶解した後、これに
88.300g(0,3001モル)の3.3’ 、4
.4’  −ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を3
0分間で添加しこの温度で5時間さらに45〜50℃で
4時間反応を行なった。その結果、25℃での回転粘度
が1300センチポアズである淡黄色透明液が得られた
Comparative Example 4 29.212g (0
, 2701 mol) of p-phenylenediamine and 7.4
88+r (0,0300 mol) of 1°3-bis(3-
500 ml of N-aminopropyl)-1,1,3°3-tetramethyldisiloxane kept at 20-25°C.
After dissolving in methyl-2-pyrrolidone, 88.300 g (0,3001 mol) of 3.3', 4
.. 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride 3
The reaction was continued for 5 hours at this temperature, and for 4 hours at 45-50°C. As a result, a pale yellow transparent liquid with a rotational viscosity of 1300 centipoise at 25°C was obtained.

比較例5 実施例1と同様の装置及び方法で25〜30℃に保った
500m1のN M P巾に62.530g(0,31
23モル)の4,4′ −ジアミノジフェニルエーテル
及び48.658g (0,2231モル)のピロメリット酸二無水物を添加
し、5時間反応を行なった後、9.517g (0,0
446モル)のAPMS (パラ100%)及び4.2
86g (0,0223モル)のTMAを添加し、さら
に5時間反応を行なうことにより、25℃での回転粘度
が870センチポアズである淡黄色透明液が得られた。
Comparative Example 5 62.530 g (0,31
23 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether and 48.658 g (0.2231 mol) of pyromellitic dianhydride were added and reacted for 5 hours.
446 mol) of APMS (Para 100%) and 4.2
By adding 86 g (0,0223 mol) of TMA and further carrying out the reaction for 5 hours, a pale yellow transparent liquid with a rotational viscosity of 870 centipoise at 25° C. was obtained.

参考のために実施例1〜8及び比較例1〜5で使用した
原料の量ASA’   B及びC(モル)並びに(2B
+C)/ (2A+A’ ) 、A’ / (A+A′
)及びC/ (B十G)を第1表に示す。
For reference, the amounts of raw materials used in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 5, ASA' B and C (mol) and (2B
+C)/(2A+A'), A'/(A+A'
) and C/ (B+G) are shown in Table 1.

実施例9 次のような接着性試験を行なった。Example 9 The following adhesion test was conducted.

スライドガラス、アルミ板及び銅板の表面に第1表に示
す3例で得られた各種塗布液をスピンナーにより塗布し
100℃で1時間予備乾燥後300℃で1時間焼成し、
1〜2μmの皮膜を形成せしめた。
The various coating solutions obtained in the three examples shown in Table 1 were applied to the surfaces of glass slides, aluminum plates, and copper plates using a spinner, pre-dried at 100°C for 1 hour, and then baked at 300°C for 1 hour.
A film of 1 to 2 μm was formed.

また皮膜間の接着性試験のために実施例1〜8並びに比
較例1及び3の塗布液については上記のように形成せし
めたスライドガラス上の皮膜の上に、また比較例2及び
4の塗布液については上記のように形成せしめたアルミ
板上の皮膜の上にそれぞれ同一塗布液を塗布し上記同一
条件で焼成し積層した塗膜を形成せしめた。このように
して得られた12種類の塗布液を用いた各々4種類の塗
膜に切目を入れて一辺2■mの正方形の小片に細分し、
その表面にセロハンテープをはり付けて直ちにはがした
。そのときセロハンテープとともにはがれた塗膜小片の
数をはがす前の100個当たりの数で表わした結果を第
2表に示す。これによると本発明の方法によるポリアミ
ド酸の多種類の基盤に対する良好な接着性が明らかであ
る。
In addition, for the adhesion test between films, the coating solutions of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 3 were applied to the films on the slide glass formed as described above, and the coating solutions of Comparative Examples 2 and 4 were used. Regarding the liquid, the same coating liquid was applied onto each of the films formed on the aluminum plate as described above and fired under the same conditions as described above to form a laminated coating film. Each of the 4 types of coating films obtained using the 12 types of coating liquids thus obtained was cut into small square pieces of 2 m on each side, and
Cellophane tape was attached to the surface and immediately removed. Table 2 shows the number of paint film pieces that were peeled off together with the cellophane tape, expressed as a number per 100 pieces before peeling off. This clearly shows the good adhesion of polyamic acid to a wide variety of substrates by the method of the present invention.

実施例10 次のような硬度測定試験を行なった。Example 10 The following hardness measurement test was conducted.

スライドガラスの表面に第1表に示す各種塗布液をスピ
ンナーにより塗布し、100℃で1時間T’ 41乾燥
後200℃で1時間あるいは300℃で1時間焼成し、
1〜2μmの皮膜を形成せしめた。
Various coating solutions shown in Table 1 were applied to the surface of a slide glass using a spinner, dried at 100°C for 1 hour at T'41, and then baked at 200°C for 1 hour or 300°C for 1 hour.
A film of 1 to 2 μm was formed.

この皮膜の表面の鉛筆硬度(JIS  K5400)を
7111定した結果を第3表に示す。
Table 3 shows the results of determining the pencil hardness (JIS K5400) of the surface of this film to 7111.

第2表及び第3表の結果から明らかなように、本発明の
方法によって得られたワニスから得られるポリイミド樹
脂は特開昭61−287926号公報にて開示されてい
るポリイミド樹脂の接着性、硬度に劣ることがない。
As is clear from the results in Tables 2 and 3, the polyimide resin obtained from the varnish obtained by the method of the present invention has the adhesive properties of the polyimide resin disclosed in JP-A No. 61-287926. It is not inferior in hardness.

膠考例1 さらに、ワニスの状態で保存した場合の粘度の経時低下
を第4表に示す。第4表から明らかなように本発明の方
法により得られるワニスは特開昭61−287926号
公報に開示されているポリアミド酸(比較例3)よりも
安定である。
Glue Example 1 Furthermore, Table 4 shows the decrease in viscosity over time when stored as a varnish. As is clear from Table 4, the varnish obtained by the method of the present invention is more stable than the polyamic acid disclosed in JP-A-61-287926 (Comparative Example 3).

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の方法により得られるシリコン系ポリイミド前駆
体は基板上にコーティングし、焼成によリイミド化する
ことによりガラス、シリコンウェハー等のけい素化合物
は勿論、アルミニウム、銅等の金属化合物等多種類の基
板に対して良好な接着性を示す。さらに基板上に形成せ
しめた皮膜上に同様にコーティングし、焼成することに
より、その界面は強固に接着する。従って多層、積層材
としても好ましい特性を有する。また、本発明の前駆体
は特開昭61−287926号公報に開示された前駆体
に比較して、保存安定性が高く、実用的価値の一層高い
ものである。
The silicon-based polyimide precursor obtained by the method of the present invention can be coated on a substrate and converted into a limide by baking, so that it can be used not only for silicon compounds such as glass and silicon wafers, but also for various types of metal compounds such as aluminum and copper. Shows good adhesion to substrates. Furthermore, by similarly coating the film formed on the substrate and baking it, the interface becomes firmly bonded. Therefore, it has favorable characteristics as a multilayer or laminated material. Furthermore, the precursor of the present invention has higher storage stability and higher practical value than the precursor disclosed in JP-A-61-287926.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、下記の式( I )で示されるテトラカルボン酸二無
水物Aモル、式(II)で示されるトリメリット酸無水物
A′モル、式(III)で示されるジアミンBモル、式(
IV)で示されるアミノシランCモルを溶媒の存在下、式
(V)、(VI)及び(VII)の関係を存在せしめ反応を
行なうことを特徴とするポリアミド酸の製造法。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) NH_2−R^2−NH_2(III) NH_2−R^3−SiR^4_3_−_kX_k(I
V)0.9≦2B+C/2A+A′≦1.1(V)0.
9≧A′/A+A′≧0.05(VI) C/B+C≧0.1(VII) 〔式( I )〜(IV)に於いてR^1は4価の炭素環式
芳香族基、複素環式基、脂環式基又は脂肪族基を表わし
、R^2は炭素数2〜12の脂肪族基、炭素数4〜30
の脂環式基、炭素数6〜30の芳香脂肪族基、炭素数6
〜30の炭素環式芳香族基、複素環式基又は下記式(V
III)で表わされるポリシロキサン基であり、R^3は
−(CH_2)_s−、▲数式、化学式、表等がありま
す▼、▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、
化学式、表等があります▼ であり(但し、ここにsは1〜4の整数を表わす。)、
R^4は独立に炭素数1〜6のアルキル基、フェニル基
又は炭素数7〜12のアルキル置換フェニル基を表わし
、Xは独立にアルコキシ基、アセトキシ基、又はハロゲ
ンを表わし、kは1≦k≦3の値をとる。 ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) {ここにR^5は独立に−(CH_2)_s−、▲数式
、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等が
あります▼又は▲数式、化学式、表等があります▼ であり(但し、ここにsは1〜4の整数を表わす。)、
R^6は独立に炭素数1〜6のアルキル基、フェニル基
又は炭素数7〜12のアルキル置換フェニル基を表わし
、lは1≦l≦100の値をとる。}〕 2、前記式(IV)で表わされるアミノシランが下記式(
IX)で表わされる化合物であることを特徴とする請求項
1に記載の方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼(IX) (ここにR^7は独立にメチル基又はエチル基を表わす
。) 3、請求項1に記載の方法により得られるポリアミド酸
溶液を基板に塗布し、150〜500℃に加熱すること
により溶媒を揮散させるとともに架橋させるポリイミド
硬化物の製造法。
[Claims] 1. A mole of tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula (I), A' mole of trimellitic acid anhydride represented by the formula (II), and a diamine represented by the formula (III). B mol, formula (
A method for producing a polyamic acid, which comprises reacting C moles of aminosilane represented by IV) in the presence of a solvent in the presence of the relationships of formulas (V), (VI) and (VII). ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(II) NH_2-R^2-NH_2(III) NH_2-R^3-SiR^4_3_-_kX_k(I
V) 0.9≦2B+C/2A+A'≦1.1 (V) 0.
9≧A'/A+A'≧0.05 (VI) C/B+C≧0.1 (VII) [In formulas (I) to (IV), R^1 is a tetravalent carbocyclic aromatic group, Represents a heterocyclic group, alicyclic group, or aliphatic group, R^2 is an aliphatic group having 2 to 12 carbon atoms, or 4 to 30 carbon atoms.
alicyclic group, aromatic aliphatic group having 6 to 30 carbon atoms, 6 carbon atoms
~30 carbocyclic aromatic groups, heterocyclic groups or the following formula (V
III), where R^3 is -(CH_2)_s-, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or ▲ Mathematical formulas,
There are chemical formulas, tables, etc.▼ (where s represents an integer from 1 to 4),
R^4 independently represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, or an alkyl-substituted phenyl group having 7 to 12 carbon atoms, X independently represents an alkoxy group, an acetoxy group, or a halogen, and k is 1≦ Takes a value of k≦3. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (VIII) {Here R^5 is independently −(CH_2)_s−, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ Or ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (where s represents an integer from 1 to 4),
R^6 independently represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, or an alkyl-substituted phenyl group having 7 to 12 carbon atoms, and l takes a value of 1≦l≦100. }] 2. The aminosilane represented by the above formula (IV) has the following formula (
The method according to claim 1, characterized in that it is a compound represented by IX). ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(IX) (Here, R^7 independently represents a methyl group or an ethyl group.) 3. Applying the polyamic acid solution obtained by the method described in claim 1 to the substrate. A method for producing a cured polyimide product in which the solvent is volatilized and crosslinked by heating to 150 to 500°C.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05194747A (en) * 1992-01-17 1993-08-03 Shin Etsu Chem Co Ltd Curable resin, production thereof, and protective film for electronic part
JP2008255297A (en) * 2007-04-09 2008-10-23 Chisso Corp Thermosetting resin composition and cured film
JP2012102296A (en) * 2010-11-12 2012-05-31 Arisawa Mfg Co Ltd Polyimide precursor resin solution
JP2014070111A (en) * 2012-09-28 2014-04-21 Nippon Zeon Co Ltd Insulator, insulating film, laminate, and method for manufacturing laminate

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05194747A (en) * 1992-01-17 1993-08-03 Shin Etsu Chem Co Ltd Curable resin, production thereof, and protective film for electronic part
JP2722915B2 (en) * 1992-01-17 1998-03-09 信越化学工業株式会社 Curable resin, method for producing the same, and protective film for electronic component
JP2008255297A (en) * 2007-04-09 2008-10-23 Chisso Corp Thermosetting resin composition and cured film
JP2012102296A (en) * 2010-11-12 2012-05-31 Arisawa Mfg Co Ltd Polyimide precursor resin solution
CN102532541A (en) * 2010-11-12 2012-07-04 株式会社有泽制作所 Polyimide precursor resin solution and film, laminated board and PCB
TWI448488B (en) * 2010-11-12 2014-08-11 Arisawa Seisakusho Kk A polyimide precursor resin solution
CN102532541B (en) * 2010-11-12 2014-12-10 株式会社有泽制作所 Polyimide precursor resin solution and film, laminated board and PCB
JP2014070111A (en) * 2012-09-28 2014-04-21 Nippon Zeon Co Ltd Insulator, insulating film, laminate, and method for manufacturing laminate

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