JPH02292796A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPH02292796A
JPH02292796A JP1113935A JP11393589A JPH02292796A JP H02292796 A JPH02292796 A JP H02292796A JP 1113935 A JP1113935 A JP 1113935A JP 11393589 A JP11393589 A JP 11393589A JP H02292796 A JPH02292796 A JP H02292796A
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JP
Japan
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bit line
memory cell
memory
array
supplied
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JP1113935A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideyuki Aota
秀幸 青田
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH02292796A publication Critical patent/JPH02292796A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a semiconductor storage device whose access time is shortened by separating a storage element array to plural groups by providing a switching element at a bit line. CONSTITUTION:In a storage device comprised by connecting plural semiconductor storage elements to a common bit line in array shape and parallel relation, and also, connecting the bit line to a sense amplifier, the storage element array 1 can be separated to the plural groups by providing the switching element at the bit line. At such the case, when it is not required to make access to the storage element in the group on one side, the bit line length of a memory array can be shortened by setting the switching element separating the group at an off state with an appropriate signal, which reduces the capacity held by the bit line. Thereby, the access time can be shortened.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、半導体記憶装置に関し、特にビットラインを
分割するMOSトランジスタをビットラインに備えた半
導体記憶装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device in which a bit line is provided with a MOS transistor that divides the bit line.

[従来の技術] 半導体記憶素子を複数個アレイ状に接続してなる記憶装
置は、従来より第3図に示すように、半導体素子にて構
成され、データを記憶する複数のメモリセルが格子状に
配列されるメモリアレイ1、前記メモリセルヘ記憶する
データを送出したり、メモリセルより読み出した記憶デ
ータを増幅したりする人出力回路2、前記メモリセルを
選択するためのアドレス信号を送出するアドレス回路3
、及びアドレス信号を復号するアドレスデコーダ回路4
にて構成されている。
[Prior Art] A memory device in which a plurality of semiconductor memory elements are connected in an array has conventionally been constructed of semiconductor elements, and a plurality of memory cells for storing data are arranged in a lattice shape, as shown in FIG. a memory array 1 arranged in the memory cell, an output circuit 2 for sending data to be stored in the memory cell or amplifying the stored data read from the memory cell, and an address circuit for sending an address signal for selecting the memory cell. 3
, and an address decoder circuit 4 that decodes the address signal.
It is composed of.

例えば第3図では、メモリアレイ1には4行2列、計8
個のメモリセル50が配列されている。
For example, in FIG. 3, memory array 1 has 4 rows and 2 columns, totaling 8
memory cells 50 are arranged.

勿論これに限るものではなく、これ以上にメモリセルが
配列されてもよい。メモリアレイlのそれぞれの行方向
にはアドレスデコーダ回路4よりワードライン(図内で
はWLにて示す)60aないし60dが一本づつ延在す
る。例えばメモリセル51aにおいて、メモリセルへの
データの読み出し書き込みを行うMOS}ランジスタ5
及び6のゲートがワードライン60aに接続されている
Of course, the arrangement is not limited to this, and more memory cells may be arranged. One word line (indicated by WL in the figure) 60a to 60d extends from address decoder circuit 4 in the row direction of memory array l. For example, in the memory cell 51a, a MOS transistor 5 that reads and writes data to the memory cell
and 6 are connected to the word line 60a.

メモリセル52aないし54aについても同様である。The same applies to memory cells 52a to 54a.

又、メモリアレイlの同一の列に並べられたメモリセル
51a,52a,・・・54a(代表して50で示す)
は、入出力回路2に接続されている一対のビットライン
(図内ではBLと記す)及び反転ビットライン(図内で
はBLと記す)とに接続される。例えばメモリセル51
aにおいて、MOSトランジスタ5のソースがビットラ
イン65aに接続され、MOSトランジスタ6のドレイ
ンが反転ビットライン65bに接続されている。他の列
のメモリセル51ないし54bも同様に構成される。各
ビットラインBL,BLはそれぞれセンスアンプ(図示
せず)に接続される。
Also, memory cells 51a, 52a, ... 54a (representatively indicated by 50) arranged in the same column of the memory array l
is connected to a pair of bit lines (denoted as BL in the figure) and an inverted bit line (denoted as BL in the figure) connected to the input/output circuit 2. For example, memory cell 51
In a, the source of MOS transistor 5 is connected to bit line 65a, and the drain of MOS transistor 6 is connected to inverted bit line 65b. Memory cells 51 to 54b in other columns are similarly configured. Each bit line BL, BL is connected to a sense amplifier (not shown), respectively.

このように、従来のメモリアレイIにおいては、人出力
回路2より延在する共通のビットライン及び反転ビット
ラインに多数のメモリセルが並列関係に接続される。
Thus, in the conventional memory array I, a large number of memory cells are connected in parallel to a common bit line and an inverted bit line extending from the human output circuit 2.

この例ではメモリセルが4行に配列されていることより
、アドレス回路3には2ビットデータがパラレルに供給
される人力端子7及び8が設けられ、入力端子7及び8
は、それぞれ直列接続されたインバータ9及び10を介
してアドレス信号線11a及びIlbに接続され、又、
入力端子7及び8は、それぞれインバータ9を介してア
ドレス信号線12a及び+2bに接続される。
In this example, since the memory cells are arranged in four rows, the address circuit 3 is provided with input terminals 7 and 8 to which 2-bit data is supplied in parallel;
are connected to address signal lines 11a and Ilb via series-connected inverters 9 and 10, respectively, and
Input terminals 7 and 8 are connected to address signal lines 12a and +2b via inverter 9, respectively.

アドレスデコーダ回路4において、NAND回路13a
ないし+3dは並列に配列され、例えばNAND回路1
3aの入力側にはアドレス信号線12a及び+2bが接
続され、N A N D回路I3bの入力側にはアドレ
ス信号線11a及び12bが接続されている。このよう
なNAND回路13aないし13dのそれぞれの出力側
は、インバータ14aないし14dが一つずつ接続され
、インバータ14aないし14dの出力側は、それぞれ
ワードライン60aないし60dに対応して接続される
In the address decoder circuit 4, the NAND circuit 13a
or +3d are arranged in parallel, for example, NAND circuit 1
Address signal lines 12a and +2b are connected to the input side of NAND circuit I3b, and address signal lines 11a and 12b are connected to the input side of NAND circuit I3b. The output sides of each of the NAND circuits 13a to 13d are connected to one inverter 14a to 14d, and the output sides of the inverters 14a to 14d are connected to word lines 60a to 60d, respectively.

このように構成される半導体記憶装置において、入力端
子7及び8にデジタル信号が供給されることで、このデ
ジタル信号はアドレスデコーダ回路4にてデコードされ
、而記デジタル信号にて指示されるメモリセルヘワード
ラインを介してインバータ14aないし14dのいずれ
か一つより信号が送出される。一方、選択したいメモリ
セルが接続されているビットラインへ人出力回路2より
信号が供給される。このようにしてワードライン及びビ
ットラインが選択されることでメモリアレイl内のー・
つのメモリセルが選択され、データの書き込みや読み出
しが行われる。
In the semiconductor memory device configured as described above, when a digital signal is supplied to the input terminals 7 and 8, this digital signal is decoded by the address decoder circuit 4, and the memory cell specified by the digital signal is A signal is sent out from one of the inverters 14a to 14d via the forward line. On the other hand, a signal is supplied from the human output circuit 2 to the bit line to which the memory cell to be selected is connected. By selecting word lines and bit lines in this way, the...
One memory cell is selected, and data is written or read.

[発明が解決しようとする課題] 上述したように、メモリセル50のいずれかとアクセス
するためには、アドレスデコーダ回路4より復号された
アドレス信号を送出し、入出力回路2よりビットライン
65a,66a、並びに反転ビットライン65b,66
bに信号を供給する必要がある。
[Problems to be Solved by the Invention] As described above, in order to access any of the memory cells 50, the address decoder circuit 4 sends out the decoded address signal, and the input/output circuit 2 sends the decoded address signal to the bit lines 65a, 66a. , and inverted bit lines 65b, 66
It is necessary to supply a signal to b.

アドレスデコーダ回路4のアドレス信号線1la,ll
b1 12a及び12bとビットライン65a,65b
 ,66a及び66bの配線長は、ほぼ同じであるが、
アドレス信号線11a等には全メモリセル50の半分の
数のNAND回路13a等が付加されており、このNA
ND回路13a等の容量は、大きい容量のインバータ1
4a等を駆動するため容量の大きいらpが使用されてい
る。
Address signal lines 1la, ll of address decoder circuit 4
b1 12a and 12b and bit lines 65a, 65b
, 66a and 66b are almost the same,
Half the number of NAND circuits 13a and the like of all the memory cells 50 are added to the address signal line 11a, etc.
The capacity of the ND circuit 13a etc. is larger than that of the inverter 1.
In order to drive 4a and the like, a large capacitance RAp is used.

一方、ビットライン65a等には各メモリセルに備わる
MOSトランジスタ5等が付加されているが、これらの
MOSトランジスタ5等はメモリセル50のサイズを極
力小さくするため小さい容量のものが使用されている。
On the other hand, MOS transistors 5, etc. provided in each memory cell are added to the bit line 65a, etc., but these MOS transistors 5, etc. are of small capacity in order to minimize the size of the memory cell 50. .

よって、アドレス信号線11a等に付加される容量はビ
ットライン658等に付加されている容債より大きくな
る。
Therefore, the capacitance added to the address signal line 11a etc. is larger than the capacitance added to the bit line 658 etc.

このことは、例えばメモリセル51aと、データの書き
込みや読み出しを行ういわゆるアクセスする場合と、メ
モリセル54aをアクセスする場合とでは、上述した付
加容量が原因となりメモリセル50に送出される信号の
伝達時間が異なり、メモリセル54aをアクセスするの
に要する時間がメモリセル51aをアクセスするのに要
する時間より長くなるという現象を生じる。したがって
、半導体記憶装置全体としてのアクセス時間は、最も長
いアクセス時間を要するメモリセルにおけるアクセス時
間となる 本発明は、メモリセルへのアクセス時間を短縮すること
で半導体記憶装置全体としてのアクセス時間が短い半導
体記憶装置を提供することを目的とする。
This means that, for example, when accessing the memory cell 51a to write or read data, and when accessing the memory cell 54a, the above-mentioned additional capacitance causes the transmission of signals sent to the memory cell 50. The times are different, resulting in a phenomenon in which the time required to access memory cell 54a is longer than the time required to access memory cell 51a. Therefore, the access time of the semiconductor memory device as a whole is the access time of the memory cell that requires the longest access time.The present invention reduces the access time of the semiconductor memory device as a whole by shortening the access time to the memory cells. The purpose is to provide a semiconductor memory device.

[課題を解決するための手段] 本発明は、共通のビットラインに複数の半導体記憶素子
をアレイ状に並列関係に接続するとともに該ビットライ
ンをセンスアンプに接続してなる記憶装置において、 ビットラインにスイッチ素子を設けて記憶素子アレイを
複数のグループに分離可能としたことを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] The present invention provides a memory device in which a plurality of semiconductor memory elements are connected in parallel in an array to a common bit line, and the bit line is connected to a sense amplifier. The memory element array is characterized in that a switch element is provided in the memory element array to allow the storage element array to be separated into a plurality of groups.

[作用] 上記の構成において、一方のグループの記憶素子にアク
セスする必要がないときはそのグループを区分している
スイッチ素子を適宜な信号によってオフ状態とするとメ
モリアレイのビットライン長は短縮され、ビットライン
が有する容債が低減する。これによってアクセス時間を
短縮することができる。
[Function] In the above configuration, when there is no need to access the memory elements of one group, the switch elements dividing that group are turned off by an appropriate signal, and the bit line length of the memory array is shortened. Bitline's debt capacity will be reduced. This allows access time to be shortened.

[実施例] 本発明の半導体記憶装置の一実施例を示す第1図におい
て、第3図と同様の構成部分については同じ符号を付し
その説明を省略する。
[Embodiment] In FIG. 1 showing an embodiment of the semiconductor memory device of the present invention, the same components as in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, and the explanation thereof will be omitted.

本発明の半導体記憶装置も従来の半導体記憶装置と同様
にメモリアレイl1人出力回路2、アドレス回路3及び
アドレスデコーダ回路4より構成されている。
The semiconductor memory device of the present invention also includes a memory array output circuit 2, an address circuit 3, and an address decoder circuit 4, like the conventional semiconductor memory device.

本実施例のメモリアレイlには、例えば計8個のメモリ
セル50が8行1列に配列されている。
In the memory array l of this embodiment, for example, a total of eight memory cells 50 are arranged in eight rows and one column.

メモリセル54に備わるMOSMOSトランジスタ5の
ソースと、メモリセル55に備わるMOSMOSトラン
ジスタ5のソースとの間のビットライン30にはNチャ
ンネルMOS (以下NMOSと記す)MOSトランジ
スタ35のソース・トレインが直列状態にて接続され、
同様にメモリセル54に備わるMOSトランジスタ6の
ドレインと、メモリセル55に備わるMOSトランジス
タ6のドレインとの間のビットライン3■こはNMOS
MOSトランジスタ36のソース・ドレインが直列状態
にて接続される。
A source train of an N-channel MOS (hereinafter referred to as NMOS) MOS transistor 35 is connected in series to the bit line 30 between the source of the MOSMOS transistor 5 provided in the memory cell 54 and the source of the MOSMOS transistor 5 provided in the memory cell 55. connected at
Similarly, the bit line 3 between the drain of the MOS transistor 6 provided in the memory cell 54 and the drain of the MOS transistor 6 provided in the memory cell 55 is NMOS.
The source and drain of the MOS transistor 36 are connected in series.

アドレス回路3には、8個のメモリセル50を選択する
ため、3ビットにてなるデジタル信号がパラレルに供給
される3つの入力端子7、8、及び20が設けられる。
The address circuit 3 is provided with three input terminals 7, 8, and 20 to which a 3-bit digital signal is supplied in parallel in order to select eight memory cells 50.

従来例に示したアドレス回路3と同様に、入力端子7、
8、20はインバータ9及び10を介してアドレス信号
線に接続される。例えば、入力端子7は、インバータ9
を介してアドレス信号線12aに接続され゛、直列接続
されたインバータ9及びlOを介してアドレス信号線1
1aに接続される。又、入力端子8は、インバータ9を
介してアドレス信号線+2bに接続され、直列接続され
たインバータ9及び10を介してアドレス信号線zbに
接続される。又、入力端子20は、インバータ9を介し
てアドレス信号線21aに接続され、直列接続されたイ
ンバータ9及びIOを介してアドレス信号線22aに接
続される。
Similar to the address circuit 3 shown in the conventional example, the input terminals 7,
8 and 20 are connected to address signal lines via inverters 9 and 10. For example, input terminal 7 is connected to inverter 9
is connected to the address signal line 12a through the inverter 9 and the address signal line 12a connected in series.
1a. Input terminal 8 is also connected to address signal line +2b via inverter 9, and to address signal line zb via inverters 9 and 10 connected in series. Further, the input terminal 20 is connected to an address signal line 21a via an inverter 9, and is connected to an address signal line 22a via an inverter 9 and IO connected in series.

アドレスデコーダ回路4に備わるNAND回路13aな
いしtabの人力側にはそれぞれのNAND回路に応じ
て上述した6本のアドレス信号線より選択された所定の
3本のアドレス信号線が接続される。例えば、NAND
回路13aにはアドレス信号線12a,12b及び21
aが接続され、N A N D回路13dにはアドレス
信号線11a1zb及び21aが接をされる。これらの
NAND回路13aないしtahは、それぞれインバー
タ14aないし14hを介してメモリアレイlのそれぞ
れのワードライン60aないし60hに接続される。
Predetermined three address signal lines selected from the above-mentioned six address signal lines are connected to the human power side of NAND circuits 13a to tab provided in the address decoder circuit 4 according to each NAND circuit. For example, NAND
The circuit 13a includes address signal lines 12a, 12b and 21.
address signal lines 11a1zb and 21a are connected to the NAND circuit 13d. These NAND circuits 13a to tah are connected to respective word lines 60a to 60h of memory array l via inverters 14a to 14h, respectively.

又、アドレス信号線22aは、インバータ37を介して
ビットライン30及び3lに設けられているNMOSM
OS}ランジスタ35及び36のゲートに接続される。
Further, the address signal line 22a is connected to the NMOSM connected to the bit lines 30 and 3l via an inverter 37.
OS} is connected to the gates of transistors 35 and 36.

このように構成される本実施例の半導体記憶装置の動作
を以下に説明する。
The operation of the semiconductor memory device of this embodiment configured as described above will be described below.

アドレス回路3の入力端子7には最下位ビットが供給さ
れ、入力端子8には中位ビットが供給され、入力端子2
0には最上位ビットが供給されるものとする。例えば0
00の信号が供給されたとき、NAND回路13aには
アドレス信号線l2a −  1 2b % 2 1a
が接続されていることより、NAND回路13aのみが
ロー(L)レベルの信号を送出するのでワードライン6
0aのみにインバータ14aよりハイ(1−1)レベル
の信号が供給される。したがって、メモリセル51のみ
データの読み出しが可能な状態となる。
The input terminal 7 of the address circuit 3 is supplied with the least significant bit, the input terminal 8 is supplied with the middle bit, and the input terminal 2
It is assumed that 0 is supplied with the most significant bit. For example 0
When a signal of 00 is supplied, the address signal line l2a - 1 2b % 2 1a is supplied to the NAND circuit 13a.
Since the word line 6 is connected, only the NAND circuit 13a sends out a low (L) level signal.
A high (1-1) level signal is supplied from the inverter 14a only to 0a. Therefore, only the memory cell 51 is in a state where data can be read.

同様に、NAND回路13aないし13hに接続されて
いるアドレス信号線に供給される信号レベルによるNA
ND回路13aないし+3hの論理動作により、001
の信号が入力端子7、8、20に供給されたときにはメ
モリセル52(不図示)のみが、011の信号が供給さ
れたときにはメモリセル54のみが、100の信号が供
給されたときにはメモリセル55のみが、111の信号
が供給されたときにはメモリセル58のみが、それぞれ
記憶するデータの読み出しが可能な状態となる。
Similarly, the NA is determined by the signal level supplied to the address signal lines connected to the NAND circuits 13a to 13h.
001 due to the logic operation of the ND circuits 13a to +3h.
When a signal of 011 is supplied to the input terminals 7, 8, and 20, only the memory cell 52 (not shown) is supplied, when a signal of 011 is supplied, only the memory cell 54 is supplied, and when a signal of 100 is supplied, the memory cell 55 is supplied. When the signal 111 is supplied to only the memory cells 58, only the memory cells 58 are in a state where the data stored therein can be read.

一方、上述したように、入力端子20に供給される最上
位ビットのデータが0であるとき、即ちメモリセル51
ないし54のいずれかが選択されるとき、MOSトラン
ジスタ35及び36のゲートに接続されるインバータ3
7がHレベルの信号を送出するので、MOSトランノス
タ35及び36はオン状態となる。よって、ビットライ
ン30及び3lは分割されず、入出力回路2と、メモリ
セル51ないし54とは接続され、これらのメモリセル
よりデータの読み出しが可能である。
On the other hand, as described above, when the most significant bit data supplied to the input terminal 20 is 0, that is, when the memory cell 51
When any one of MOS transistors 35 and 54 is selected, the inverter 3 connected to the gates of MOS transistors 35 and 36
7 sends out an H level signal, the MOS transistors 35 and 36 are turned on. Therefore, the bit lines 30 and 3l are not divided, the input/output circuit 2 and the memory cells 51 to 54 are connected, and data can be read from these memory cells.

又、入力端子20に供給される最上位ビットのデータが
1であるとき、即ちメモリセル55ないし58のいずれ
かが選択されるときには、MOSトランジスタ35及び
36のゲートにはLレベルの信号が供給されることより
、MOSトランジスタ35及び36はオフ状態となる。
Further, when the data of the most significant bit supplied to the input terminal 20 is 1, that is, when one of the memory cells 55 to 58 is selected, an L level signal is supplied to the gates of the MOS transistors 35 and 36. As a result, MOS transistors 35 and 36 are turned off.

したがって、ビットライン30及び3lは、メモリセル
54と55との間で非接続の状態となり、メモリセル5
5ないし58のみが人出力回路2と接続されている状態
となる。
Therefore, bit lines 30 and 3l are disconnected between memory cells 54 and 55, and memory cell 5
Only the terminals 5 to 58 are connected to the human output circuit 2.

このように本実施例による半導体記憶装置によれば、メ
モリセル54ないし58よりデータの読み出しが行われ
るときには、MOSMOSトランジスタ35及び36を
オフ状態とすることでビットライン30及び3lの長さ
が半分に減少され、ビットライン30及び3lの付加容
量を減少さけることができる。例えば、第2図に示すよ
うに、メモリセルにアクセスするのに要する時間は、従
来のメモリのば場合では、ワードライン60aに接続さ
れるメモリセルをアクセスするのに要する時間TIより
順次増加し、ワードライン60hに接続されるメモリセ
ルをアクセスするのに要する時間においては時間T3と
なる。しかし本実施例の半導体記憶素子の場合には、ワ
ードライン60aよりワードライン60dに接続される
メモリセルをアクセスするのに要する時間は従来のメモ
リと同じであるが、ワードライン60eに接続されるメ
モリセルをアクセスするときにはビットラインが切断さ
れることより、ワードライン60eに接続されるメモリ
セルをアクセスするのに要する時間はワードライン60
aの場合と同じ時間TIとなり、ワードライン60hに
接続されるメモリセルをアクセスするのに要する時間は
ワードライン60dの場合と同じ時間T2となる。この
ように、ビットラインの分離が行われない場合に比べデ
ータの読み出しに要する時間を短縮することができ、半
導体記憶装置全体としてのアクセス時間を短縮すること
ができる。又、MOS}−ランジスタ35及び36のオ
ン、オフ動作は、記憶データの読み出しを行うメモリセ
ルを指定するアドレス信号により自動的に制御すること
ができる。
According to the semiconductor memory device of this embodiment, when data is read from the memory cells 54 to 58, the lengths of the bit lines 30 and 3l are halved by turning off the MOSMOS transistors 35 and 36. The additional capacitance of the bit lines 30 and 3l can be avoided. For example, as shown in FIG. 2, in the case of a conventional memory, the time required to access a memory cell increases sequentially from the time TI required to access a memory cell connected to word line 60a. , the time required to access the memory cell connected to the word line 60h is time T3. However, in the case of the semiconductor memory device of this embodiment, the time required to access the memory cell connected to the word line 60d from the word line 60a is the same as that of a conventional memory; Since the bit line is disconnected when accessing a memory cell, the time required to access a memory cell connected to word line 60e is shorter than word line 60e.
The time TI is the same as in case a, and the time required to access the memory cell connected to the word line 60h is the same time T2 as in the case of the word line 60d. In this way, the time required to read data can be shortened compared to the case where bit lines are not separated, and the access time of the semiconductor memory device as a whole can be shortened. Further, the on/off operations of the MOS transistors 35 and 36 can be automatically controlled by an address signal specifying a memory cell from which stored data is to be read.

尚、上記実施例において、メモリアレイにはメモリセル
を一列のみ、8個設けたが、これに限るものではなく格
子状にメモリセルを配列することができる。
In the above embodiment, the memory array is provided with eight memory cells in only one column, but the present invention is not limited to this, and the memory cells may be arranged in a lattice pattern.

又、上記実施例ではビットラインの長さを等分する位置
にビットラインを分離するMOS}ランジスタを設けた
が、これに限るものではない。又、一対のビットライン
において分離する箇所を複数設けてもよい。
Further, in the above embodiment, MOS transistors for separating the bit lines are provided at positions that equally divide the length of the bit lines, but the present invention is not limited to this. Further, a plurality of separation points may be provided in a pair of bit lines.

[発明の効果] 以上詳述したように本発明によれば、記憶データの読み
出しが行われない半導体記憶素子が接続されるビットラ
インへの信号送出が遮断され、ビットラインの付加容量
が減少することより、半導体記憶装置のアクセス時間を
短縮することができる。
[Effects of the Invention] As detailed above, according to the present invention, signal transmission to the bit line to which the semiconductor memory element to which stored data is not read is connected is cut off, and the additional capacitance of the bit line is reduced. Therefore, the access time of the semiconductor memory device can be shortened.

【図面の簡単な説明】 第1図は本発明の半導体記憶装置の一構成例を示すブロ
ック図、第2図は本発明の半導体記憶装置のアクセス時
間を示すグラフ、第3図は従来の半導体記憶装置の構成
を示すブロック図である。 !・・・メモリアレイ、2・・・人出力回路、3・・・
アドレス回路、4・・・アドレスデコーダ回路、35及
び36・・・MOSI−ランジスタ、50・・・メモリ
セル。 第2図
[BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS] FIG. 1 is a block diagram showing a configuration example of the semiconductor memory device of the present invention, FIG. 2 is a graph showing the access time of the semiconductor memory device of the present invention, and FIG. 3 is a graph of a conventional semiconductor memory device. FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of a storage device. ! ...Memory array, 2...Human output circuit, 3...
Address circuit, 4...Address decoder circuit, 35 and 36...MOSI-transistor, 50...Memory cell. Figure 2

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)共通のビットラインに複数の半導体記憶素子をア
レイ状に並列関係に接続するとともに該ビットラインを
センスアンプに接続してなる記憶装置において、 ビットラインにスイッチ素子を設けて記憶素子アレイを
複数のグループに分離可能としたことを特徴とする半導
体記憶装置。
(1) In a memory device in which a plurality of semiconductor memory elements are connected in parallel in an array to a common bit line and the bit line is connected to a sense amplifier, a switch element is provided on the bit line to connect the memory element array. A semiconductor memory device characterized by being separable into a plurality of groups.
JP1113935A 1989-05-02 1989-05-02 Semiconductor storage device Pending JPH02292796A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7123519B2 (en) 1991-11-26 2006-10-17 Renesas Technology Corp. Storage device employing a flash memory

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7123519B2 (en) 1991-11-26 2006-10-17 Renesas Technology Corp. Storage device employing a flash memory

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