JPH02263391A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

Info

Publication number
JPH02263391A
JPH02263391A JP2017126A JP1712690A JPH02263391A JP H02263391 A JPH02263391 A JP H02263391A JP 2017126 A JP2017126 A JP 2017126A JP 1712690 A JP1712690 A JP 1712690A JP H02263391 A JPH02263391 A JP H02263391A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory cell
cell group
line
word line
memory device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2017126A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Anami
穴見 健治
Masahiko Yoshimoto
雅彦 吉本
Hiroshi Shinohara
尋史 篠原
Osamu Tomizawa
富沢 治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2017126A priority Critical patent/JPH02263391A/en
Publication of JPH02263391A publication Critical patent/JPH02263391A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

PURPOSE:To facilitate the layout of a semiconductor memory device by allowing a pre-word line connected to an output terminal of a line decoder and disposed extending over plural memory cell groups to intersect with a memory cell group selection line. CONSTITUTION:This memory device is provided with memory cell group selection lines 14a - 14c for selecting memory cell groups 1a - 1c, a pre-word line 15 placed in parallel in the same direction as word lines 3a - 3c being divided word lines, and AND gates 16a - 16c in which an input terminal is connected to the pre-word line 15 and the memory cell group selection lines 14a - 14c, and an output terminal is connected to the word lines 3a - 3c. A line decoder 4 is disposed in the end in the array direction of a chip formed by arraying plural memory cell groups 1a - 1c. Also, the pre-word line 15 connected to an output terminal of the line decoder 4, and disposed extending over plural memory cell groups 1a - 1c is allowed to intersect with the memory cell group selection lines 14a - 14c. In such a way, the layout of the semiconductor memory device is facilitated.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、アクセスタイムの向上および消費電力の低減
が可能な半導体メモリ装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory device that can improve access time and reduce power consumption.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第2図は従来の半導体メモリ装置を示すブロック図であ
る。同図において、1はマトリクス状に配列し、その詳
細な回路を第3図に示すメモリセル、2aおよび2bは
相補的な関係にある一対のビット線、3は選択時に同一
行上にあるメモリセルlを活性化するワード線、4は行
アドレス情報を解読する行デコーダ、5は行アドレス信
号線、6aおよび6bは前記ビット線2aおよび2bに
それぞれ接続するビット線負荷、7は電源端子である。
FIG. 2 is a block diagram showing a conventional semiconductor memory device. In the figure, 1 is a memory cell arranged in a matrix, the detailed circuit of which is shown in FIG. 3, 2a and 2b are a pair of complementary bit lines, and 3 is a memory cell on the same row when selected 4 is a row decoder for decoding row address information; 5 is a row address signal line; 6a and 6b are bit line loads connected to the bit lines 2a and 2b, respectively; 7 is a power supply terminal; be.

なお、第3図に示すメモリセル1において、8aおよび
8bはMO3I−ランジスタ、抵抗などで構成する負荷
素子、9aおよび9bはインバータトランジスタ、10
aおよび10bはアクセストランジスタ、llaおよび
llbはメモリセル1のストアノードである。
In the memory cell 1 shown in FIG. 3, 8a and 8b are load elements constituted by MO3I transistors, resistors, etc., 9a and 9b are inverter transistors, and 10
a and 10b are access transistors; lla and llb are store nodes of memory cell 1;

次に、上記構成による半導体メモリ装置の動作について
、−例として、ストアノードllaおよびllbがそれ
ぞれ“H”レベルおよび“L″レベル書き込まれている
場合について説明する。
Next, the operation of the semiconductor memory device having the above configuration will be described, for example, when store nodes lla and llb are written at "H" level and "L" level, respectively.

まず、読み出しの場合には読み出そうとするセルのアド
レス情報をアドレス信号線5に入力すると、行デコーダ
4を通し、所望のワードvA3を活性化する。そして、
このワード線3が活性化されると、1L″レベルをスト
アしているアクセストランジスタ10bが導通する。こ
のため、電源端子7からビット線負荷6b、ビット線2
b、アクセストランジスタ10b、インバータトランジ
スタ9bの経路を電流が流れ、読み出すことができる。
First, in the case of reading, when the address information of the cell to be read is input to the address signal line 5, the desired word vA3 is activated through the row decoder 4. and,
When this word line 3 is activated, the access transistor 10b storing the 1L'' level becomes conductive. Therefore, the bit line load 6b is connected from the power supply terminal 7 to the bit line 2.
A current flows through the path of access transistor 10b, access transistor 10b, and inverter transistor 9b, and reading can be performed.

この構成による半導体メモリ装置は同−打上のすべての
メモリセルが活性化されるので、全列に電源からメモリ
セルに電流が流れ込み、コラム数の多い大容量スタティ
ックRAMを構成する場合、消費電流が大きくなる。そ
こで、消費電流を少なくするため、従来、第4図に示す
半導体メモリ装置が提案されている。この場合、行デコ
ーダ4をメモリセルプレーンの中央に配し、ワード線を
左側ワード線3aおよび右側ワード線3bに分割し、左
右のメモリセル群の選択された方のメモリセル群のワー
ド線のみ活性化することにより、全列の内、半数の列に
だけ電流パスを生じさせるものである。なお、12aお
よび12bはそれぞれ左側ワード線3aおよび右側ワー
ド線3bを選択するアンドゲート、13aおよび13b
はそれぞれこのアンドゲート12aおよび12bを開状
態にするゲート信号線である。
In a semiconductor memory device with this configuration, all memory cells on the same device are activated, so current flows from the power supply to the memory cells in all columns, and when configuring a large-capacity static RAM with many columns, current consumption is reduced. growing. Therefore, in order to reduce current consumption, a semiconductor memory device shown in FIG. 4 has been proposed. In this case, the row decoder 4 is arranged in the center of the memory cell plane, the word line is divided into the left word line 3a and the right word line 3b, and only the word line of the selected memory cell group of the left and right memory cell groups is used. By activating it, a current path is generated in only half of all the columns. Note that 12a and 12b are AND gates that select the left word line 3a and the right word line 3b, respectively, and 13a and 13b.
are gate signal lines that open the AND gates 12a and 12b, respectively.

次に、第5図は第4図の思想に基づいて構成した従来の
半導体メモリ装置を示す配置図である。
Next, FIG. 5 is a layout diagram showing a conventional semiconductor memory device constructed based on the idea of FIG. 4.

この場合、行デコーダ4aおよび4bを複数列配置し、
ワード線3a〜3dをその倍数だけ分割し、直流電流路
のできる数を減少させるものである。
In this case, row decoders 4a and 4b are arranged in multiple columns,
The word lines 3a to 3d are divided into multiples thereof to reduce the number of DC current paths.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかしながら、従来の半導体メモリ装置は数多(の行デ
コーダを設ける必要がある。このため、チップ面積の増
大を招き、速度性能や歩留まりを損なうなどの欠点があ
った。
However, conventional semiconductor memory devices require the provision of a large number of row decoders. This increases the chip area, resulting in disadvantages such as deterioration of speed performance and yield.

従って、本発明の目的は、高速で、しかも低消費電力の
大容量の半導体メモリ装置を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a high-speed, low-power, large-capacity semiconductor memory device.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

このような目的を達成するために本発明は、メモリセル
をマトリクス状に配置したメモリセルアレイを列方向に
複数ブロックに分割して配列した複数のメモリセル群と
、この複数のメモリセル群の各々に対応して設けられ各
メモリセル群のうちの特定のものを選択するメモリセル
群選択線と、アクセスすべきメモリセル群の行アドレス
情報を解読する行デコーダと、この行デコーダの出力端
子に接続され複数のメモリセル群に亘って配置され、メ
モリセル群選択線と交叉する前置ワード線と、複数のメ
モリセル群の各々に対応して設けられメモリセル群選択
線の選択信号と前置ワード線の出力信号とに基づいて活
性化される分割ワード線とを設けるようにしたものであ
る。
In order to achieve such an object, the present invention provides a plurality of memory cell groups in which a memory cell array in which memory cells are arranged in a matrix is divided into a plurality of blocks in the column direction, and each of the plurality of memory cell groups is arranged in a plurality of blocks. a memory cell group selection line for selecting a specific one of each memory cell group, a row decoder for decoding the row address information of the memory cell group to be accessed, and an output terminal of this row decoder. A front word line that is connected and arranged across a plurality of memory cell groups and intersects with a memory cell group selection line; In this embodiment, a divided word line is provided which is activated based on the output signal of the divided word line.

〔作用〕[Effect]

本発明に係る半導体メモリ装置は高速で、しかも低消費
電力である。
The semiconductor memory device according to the present invention has high speed and low power consumption.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は、本発明に係わる半導体メモリ装置の一実施例
を示すブロック図であり、−例として、列方向に3個に
分割したメモリセル群1a、lbおよびICを配置した
場合を示す。同図において、14a、1.4.bおよび
14cはこのメモリセル群1a〜1cを選択するメモリ
セル群選択線、15は分割ワード線としてのワードに1
3a〜3Cと同一方向に並行して配置した前置ワード線
、16a16bおよび16cは入力端子がそれぞれ前置
ワード線15とメモリセル群選択線14a−14Cに接
続し、出力端子がそれぞれワード線3a〜3Cに接続す
るアンドゲートである。行デコーダ4は複数のメモリセ
ル群が配列して形成されたチップのその配列方向の端に
配置されている。
FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention. As an example, it shows a case where memory cell groups 1a, lb and an IC divided into three in the column direction are arranged. In the figure, 14a, 1.4. b and 14c are memory cell group selection lines for selecting the memory cell groups 1a to 1c, and 15 is a divided word line for each word.
The input terminals of preword lines 16a, 16b and 16c arranged in parallel in the same direction as 3a to 3C are connected to the prefix word line 15 and memory cell group selection lines 14a to 14C, respectively, and the output terminals are connected to word line 3a, respectively. This is an AND gate connected to ~3C. The row decoder 4 is arranged at an end in the arrangement direction of a chip formed by arranging a plurality of memory cell groups.

次に、上記構成による半導体メモリ装置の動作について
説明する。まず、例えばメモリセル群りa内のメモリセ
ルを選択する場合、アクセスすべきメモリセル群1aの
行アドレス情報を°行デコーダ4で解読し、前置ワード
線15の1本を活性化する。そして、メモリセル群選択
線14aに選択信号を加えると、アンドゲート16aが
開き、ワード線3aを活性化する。したがって、図示せ
ね電源から図示せぬビット線を経て、メモリセル群1a
へ流れ込むコラム電流が流れるのは選択されたメモリセ
ル群la内にあるコラムのみである。
Next, the operation of the semiconductor memory device with the above configuration will be explained. First, when selecting a memory cell in memory cell group a, for example, the row address information of memory cell group 1a to be accessed is decoded by row decoder 4, and one of the front word lines 15 is activated. Then, when a selection signal is applied to the memory cell group selection line 14a, the AND gate 16a opens and the word line 3a is activated. Therefore, the memory cell group 1a is connected from a power supply (not shown) to a bit line (not shown).
The column current flowing into the memory cell group la flows only through the columns within the selected memory cell group la.

なお、以上はメモリセル群la内のメモリセルの選択に
ついて説明したが、他のメモリセル群1bおよびICに
ついても同様にできることはもちろんである。さらに、
メモリセル群を3個に分割した場合について説明したが
N個(N≧2)に分割しても同様にできることはもちろ
んである。また、前置ワード線15のみを低抵抗材料で
構成しておけば、ワード線の抵抗は多少大きくても長さ
が短いため、容量が小さく、高速にメモリセルをアクセ
スすることができる。また、アンドゲート16a〜16
cは入力端子が2個、出力端子が1個のため、回路構成
が簡単になるので、チップ面積の増大を無視することが
できる。さらに、ゲート手段としてのアンドゲート16
a−16cを各メモリセル群の一端に設けるようにすれ
ば、半導体メモリセル装置のレイアウトが容易となる。
Note that although the selection of memory cells in the memory cell group la has been described above, it goes without saying that the selection can be made in the same manner for other memory cell groups 1b and ICs. moreover,
Although the case where the memory cell group is divided into three cells has been described, it goes without saying that the same effect can be achieved even if the memory cell group is divided into N cells (N≧2). Further, if only the front word line 15 is made of a low-resistance material, the word line has a short length even if the resistance is somewhat high, so the capacitance is small and the memory cells can be accessed at high speed. In addition, and gates 16a to 16
Since c has two input terminals and one output terminal, the circuit configuration is simple and the increase in chip area can be ignored. Furthermore, AND gate 16 as a gate means
By providing a-16c at one end of each memory cell group, the layout of the semiconductor memory cell device becomes easy.

さらに、行デコーダ4の出力端子に接続され、複数のメ
モリセル群1a〜ICに亘って配置された前置ワード線
15をメモリセル群選択線14a〜14cと交叉するよ
うにすれば、半導体メモリ装置のレイアウトが容易にな
る。
Furthermore, if the preword line 15 connected to the output terminal of the row decoder 4 and arranged across the plurality of memory cell groups 1a to IC is made to intersect with the memory cell group selection lines 14a to 14c, the semiconductor memory Equipment layout becomes easier.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明は、メモリセルの選択を前置
ワード線と分割ワード線の2段階に分けて行なうように
したことにより、直流電流路のある列数を減少すること
ができるので、高速で且つ低消費電力の大容量の半導体
メモリ装置を得ることができる効果がある。
As explained above, in the present invention, the number of columns with DC current paths can be reduced by performing memory cell selection in two stages: pre-word lines and divided word lines. This has the effect of making it possible to obtain a high-speed, low-power consumption, large-capacity semiconductor memory device.

また、行デコーダの出力端子に接続され、複数のメモリ
セル群に亘って配置された前置ワード線をメモリセル群
選択線と交叉するようにしたことにより、半導体メモリ
装置のレイアウトが容易になる効果がある。
Furthermore, the layout of the semiconductor memory device is facilitated by making the preword line connected to the output terminal of the row decoder and arranged across multiple memory cell groups intersect with the memory cell group selection line. effective.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明に係わる半導体メモリ装置の一実施例を
示すブロック図、第2図は従来の半導体メモリ装置を示
すブロック図、第3図は第2図のメモリセルの詳細な回
路図、第4図は従来の他の半導体メモリ装置を示すブロ
ック図、第5図は従来の他の半導体メモリ装置を示す配
置図である。 la〜IC・・・メモリセル群、3a〜3C・・・ワー
ド線、4・・・行デコーダ、14a〜14c・・・メモ
リセル選択線、15・・・前置ワード線、16a−16
C・・・アンドゲート。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention, FIG. 2 is a block diagram showing a conventional semiconductor memory device, and FIG. 3 is a detailed circuit diagram of the memory cell shown in FIG. FIG. 4 is a block diagram showing another conventional semiconductor memory device, and FIG. 5 is a layout diagram showing another conventional semiconductor memory device. la-IC...Memory cell group, 3a-3C...Word line, 4... Row decoder, 14a-14c...Memory cell selection line, 15... Front word line, 16a-16
C...and gate.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] メモリセルをマトリクス状に配置したメモリセルアレイ
を列方向に複数ブロックに分割して配列した複数のメモ
リセル群と、この複数のメモリセル群の各々に対応して
設けられ各メモリセル群のうちの特定のものを選択する
メモリセル群選択線と、アクセスすべきメモリセル群の
行アドレス情報を解読する行デコーダと、この行デコー
ダの出力端子に接続され前記複数のメモリセル群に亘っ
て配置され、前記メモリセル群選択線と交叉する前置ワ
ード線と、前記複数のメモリセル群の各々に対応して設
けられ前記メモリセル群選択線の選択信号と前記前置ワ
ード線の出力信号とに基づいて活性化される分割ワード
線とを備えたことを特徴とする半導体メモリ装置。
A memory cell array in which memory cells are arranged in a matrix is divided into a plurality of blocks in the column direction. A memory cell group selection line for selecting a specific memory cell group, a row decoder for decoding row address information of the memory cell group to be accessed, and a memory cell group selection line connected to the output terminal of the row decoder and arranged across the plurality of memory cell groups , a prefix word line that intersects the memory cell group selection line, and a selection signal of the memory cell group select line provided corresponding to each of the plurality of memory cell groups and an output signal of the prefix word line. What is claimed is: 1. A semiconductor memory device comprising a divided word line that is activated based on the selected word line.
JP2017126A 1990-01-26 1990-01-26 Semiconductor memory device Pending JPH02263391A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017126A JPH02263391A (en) 1990-01-26 1990-01-26 Semiconductor memory device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017126A JPH02263391A (en) 1990-01-26 1990-01-26 Semiconductor memory device

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61297064A Division JPS62149096A (en) 1986-12-12 1986-12-12 Semiconductor memory device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02263391A true JPH02263391A (en) 1990-10-26

Family

ID=11935342

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017126A Pending JPH02263391A (en) 1990-01-26 1990-01-26 Semiconductor memory device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02263391A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04344390A (en) * 1991-05-21 1992-11-30 Nec Corp Semiconductor storage device

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3533089A (en) * 1969-05-16 1970-10-06 Shell Oil Co Single-rail mosfet memory with capacitive storage

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3533089A (en) * 1969-05-16 1970-10-06 Shell Oil Co Single-rail mosfet memory with capacitive storage

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04344390A (en) * 1991-05-21 1992-11-30 Nec Corp Semiconductor storage device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
USRE32993E (en) Semiconductor memory device
KR930000962B1 (en) Semiconductor memory device
JPS63200391A (en) Static type semiconductor memory
KR950030151A (en) Semiconductor memory
US4554646A (en) Semiconductor memory device
KR950009238B1 (en) Semiconductor memory device
JPH0421956B2 (en)
US10121520B2 (en) Memory array and method of forming the same
JPS5949706B2 (en) semiconductor memory device
JPH02263391A (en) Semiconductor memory device
JPS58212696A (en) Semiconductor memory device
JPS62149097A (en) Semiconductor memory device
USRE33280E (en) Semiconductor memory device
JPH041957B2 (en)
JPH0347747B2 (en)
JPH0421957B2 (en)
JPH0429157B2 (en)
JPS62149096A (en) Semiconductor memory device
JPS58210638A (en) Semiconductor integrated circuit
JPH036598B2 (en)
US4654823A (en) Read/write memory and cell constituting same
JPH02263390A (en) Semiconductor memory device
JPH0347746B2 (en)
JPS638556B2 (en)
JPH0421959B2 (en)