JPH02222072A - Multi-layer simultaneous wiring system - Google Patents

Multi-layer simultaneous wiring system

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JPH02222072A
JPH02222072A JP1041864A JP4186489A JPH02222072A JP H02222072 A JPH02222072 A JP H02222072A JP 1041864 A JP1041864 A JP 1041864A JP 4186489 A JP4186489 A JP 4186489A JP H02222072 A JPH02222072 A JP H02222072A
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wiring pattern
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奥村 頼子
Jiro Kusuhara
楠原 治郎
Kazuhiko Iijima
飯島 一彦
Yasuyuki Fujiwara
康行 藤原
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Abstract

PURPOSE:To improve the wiring accuracy by preparing a wiring layer including >=3 layers having different pattern running directions and performing the calculation of the congestion degree of each layer, the calculation of the using score of each layer, and the production of a wiring pattern respectively for each wiring subject section. CONSTITUTION:A wiring pattern is automatically decided based on the limit information on the wiring as well as a wiring subject section including of the start and target points of a circuit consisting of a multi-layer wiring layer containing plural wiring layers of different pattern running directions. In this case, the coordinates of the start and target points of a wiring pattern forming a wiring subject section and the wiring limit conditions are read out of a design information file 22 and inputted to a computer 21 in a wiring subject section extracting step S1. The congestion degree of each layer is calculated in a congestion degree calculating step S2, and the using score is calculated for each layer in a score calculating step S3. Then a wiring pattern is produced in a wiring pattern producing step S4 and then a wiring pattern is decided S5.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、多層プリント基板、多層集積回路等の配線パ
ターンの配線情報を自動決定する方゛法に係り、特に、
最短配線が必要なパターン、配線長制約の厳しいパター
ン等を決定するために用いて好適な多層同時配線方式に
関する。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for automatically determining wiring information of wiring patterns of multilayer printed circuit boards, multilayer integrated circuits, etc.
The present invention relates to a multilayer simultaneous wiring method suitable for use in determining patterns requiring the shortest wiring, patterns with severe wiring length restrictions, etc.

〔従来の技術] 従来一般に、多層プリント基板、多層集積回路等は、y
軸、Y軸の2方向にパターンの走る配線層を1組のペア
層とし、このペアによる配線パターンを形成後、複数の
ペア層相互間に絶縁層をはさんで積層するという方法に
よって製造されていた。
[Prior Art] Conventionally, multilayer printed circuit boards, multilayer integrated circuits, etc.
It is manufactured by a method in which wiring layers with patterns running in two directions, the axis and the Y-axis, are made into a pair of layers, and after forming a wiring pattern using this pair, the multiple pair layers are laminated with an insulating layer sandwiched between them. was.

以下、この種従来゛技術を図面により説明する。This type of conventional technology will be explained below with reference to the drawings.

第18図は従来技術によるプリント基板の配線層の構成
の一例を示す図、第19図はその配線パターン例を示す
図である。第18図、第19図において、lはX軸方向
層、2はy軸方向層、3は絶縁層、4は基板上の障害物
、5はパターン始点、6はパターン目的点である。
FIG. 18 is a diagram showing an example of the configuration of a wiring layer of a printed circuit board according to the prior art, and FIG. 19 is a diagram showing an example of the wiring pattern. In FIGS. 18 and 19, 1 is a layer in the X-axis direction, 2 is a layer in the y-axis direction, 3 is an insulating layer, 4 is an obstacle on the substrate, 5 is a pattern starting point, and 6 is a pattern destination point.

従来技術によるプリント基板は、第18図に示すように
、X軸方向層1.y軸方向層2の2枚の配線層をペアと
し、このペアの層に所要の配線を行った後、複数のペア
層を絶縁層3を介して積層するものである。
As shown in FIG. 18, the printed circuit board according to the prior art has an X-axis direction layer 1. The two wiring layers of the y-axis direction layer 2 are made into a pair, and after the required wiring is performed on this pair of layers, a plurality of paired layers are laminated with the insulating layer 3 interposed therebetween.

このように構成される基板に対して自動配線を行う場合
に、−C的に用いられているアルゴリズムの基本的な考
え方は、y軸、Y軸の2方向を用い、平面上で配線パタ
ーンを探査していくというものである。第19図に示す
パターン例は、基板上に配線を通すことができない障害
物4がある場合の例で、パターン始点5及びパターン目
的点6より、発生させた配線パターンが接触するまで、
配線パターンを伸ばしていくという方法により作成され
る。この場合、第19図のように基板上に障害物4があ
れば、配線パターンの配線層を変更しパターンの走行方
向を変化させて、パターンの生成が相続的に行われる。
When performing automatic wiring on a board configured in this way, the basic idea of the algorithm used in -C is to draw a wiring pattern on a plane using two directions: the y-axis and the Y-axis. It's about exploring. The pattern example shown in FIG. 19 is an example where there is an obstacle 4 on the board that cannot pass the wiring, and from the pattern starting point 5 and the pattern destination point 6, the generated wiring pattern is
It is created by stretching the wiring pattern. In this case, if there is an obstacle 4 on the board as shown in FIG. 19, patterns are successively generated by changing the wiring layer of the wiring pattern and changing the running direction of the pattern.

一方、年々、プリント基板、集積回路等が大規模化、高
密度実装化されてきており、多層化による対応が進んで
きている。また、大規模化に伴い、配線デイレイに対す
る考慮も重要な問題となり、斜め方向の配線パターンを
用いた最短配線による対処が不可欠となっている。
On the other hand, printed circuit boards, integrated circuits, etc. are becoming larger and more densely packaged year by year, and multi-layering is becoming more and more effective. Furthermore, as the scale increases, consideration of wiring delay has become an important issue, and it is essential to deal with this problem by using the shortest wiring using diagonal wiring patterns.

このような斜め配線パターン層を用いたペア層による配
線パターン生成の従来技術として、例えば、特開昭58
−56500号公報等に記載された技術が知られている
As a conventional technique for generating wiring patterns using pair layers using such diagonal wiring pattern layers, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 58
A technique described in Japanese Patent No.-56500 and the like is known.

第20図はこの従来技術による層選択を説明する図、第
21図は中継点の選定を説明する図、第22図、第23
図はその配線パターン例を示す図である。第21図〜第
23図において、7は中継点候補、8は配線パターンで
あり、他の符号は、第19図の場合と同一である。
FIG. 20 is a diagram explaining layer selection according to this prior art, FIG. 21 is a diagram explaining relay point selection, and FIGS. 22 and 23.
The figure shows an example of the wiring pattern. In FIGS. 21 to 23, 7 is a relay point candidate, 8 is a wiring pattern, and other symbols are the same as in FIG. 19.

この従来技術は、まず、配線対象区間を結ぶ線分がy軸
となす角度により、1層または組み合わせによる2層を
決定する。例えば、配線方向として、X軸方向、y軸方
向、y軸、y軸からそれぞれ45°時計回りに傾いたΔ
χX軸方向ΔγX軸方向使用可能であるとすれば、これ
らの方向の配線層の2つがペアとして選択される。第2
0〜22図の例では、ΔγX軸方向X軸方向とを選択し
ている。
In this conventional technique, first, one layer or a combination of two layers is determined based on the angle formed by the line segment connecting the wiring target sections with the y-axis. For example, the wiring direction is Δ that is tilted clockwise by 45 degrees from the
If the χX-axis direction and the ΔγX-axis direction can be used, two wiring layers in these directions are selected as a pair. Second
In the examples shown in FIGS. 0 to 22, the ΔγX-axis direction and the X-axis direction are selected.

次に、配線対象区間の形状により、複数の中継点候補7
を選定する。
Next, depending on the shape of the wiring target section, multiple relay point candidates 7 are selected.
Select.

最後に、選定された中継点候補7を用いて設定した複数
種の配線パターンのうち実現可能な最短パターンを決定
する。
Finally, the shortest possible pattern among the plurality of wiring patterns set using the selected relay point candidates 7 is determined.

前述の従来技術による配線方法は、配線パターン探査前
に、予め配線層の配線方向を限定してしまうので、例え
ば、第22図に示すように、開始点5と目的点6との間
の配線区間付近に障害物4がある場合、決められた配線
方向のパターンを用いなければならず、かえって、配線
パターン8の迂回を生じ、配線長が長くなってしまう場
合を生じてしまう。この例の場合、例えば、y軸方向の
パターンも使用可能であれば、第23図に示すように、
配線パターン8を決定でき、配線パターンの迂回を回避
することが可能であるが、前記従来技術では、このよう
な配線パターンの迂回の回避を行うことが不可能である
In the wiring method according to the prior art described above, the wiring direction of the wiring layer is limited in advance before wiring pattern exploration, so, for example, as shown in FIG. If there is an obstacle 4 near the section, it is necessary to use a pattern with a determined wiring direction, which may cause the wiring pattern 8 to take a detour, resulting in an increase in the wiring length. In this example, if a pattern in the y-axis direction can also be used, as shown in FIG.
Although it is possible to determine the wiring pattern 8 and avoid a detour of the wiring pattern, it is impossible to avoid such a detour of the wiring pattern in the conventional technique.

〔発明が解決しようとする課題〕 前述した、X軸方向及びy軸方向のみの配線層を用いる
従来技術は、回路の大規模化に伴う配線デイレイに対す
る配慮がなされておらず、最短配線による配線デイレイ
の減少が困難であるという問題点を有している。
[Problems to be Solved by the Invention] The above-mentioned conventional technology that uses wiring layers only in the The problem is that it is difficult to reduce the delay.

また、前記公報に記載された従来技術は、斜め配線方向
層を用いることができ、配線デイレイの減少を図ること
が可能であるが、予め配線層の方向を決定しているので
、障害物等がある場合に、パターンの迂回を生じさせて
しまい、かえって、配線デイレイを増加させてしまうこ
とがあるという問題点を有している。さらに、この従来
技術は、配線層決定時に、配線対象区間に最適なペア層
を選択するために、パターンの走行方向による全種類の
組み合わせの中から選択する必要があり、パターン走行
方向の種類が多様化するに伴い、必要な配りJt層の総
数が膨大になり、選択が困難になるという問題点がある
。その上、配線対象区間のパターン方向の傾きにばらつ
きがあるので、各ベア層の配線パターンの混雑度に不均
一が生じ、非効率的であり、結線率をある程度以上に大
きくすることができないという問題点を有している。
In addition, the conventional technology described in the above publication can use diagonal wiring direction layers and can reduce wiring delay, but since the direction of the wiring layers is determined in advance, obstacles such as In some cases, there is a problem in that the pattern may be detoured and the wiring delay may be increased. Furthermore, in this conventional technology, when determining the wiring layer, in order to select the optimal pair layer for the wiring target section, it is necessary to select from all types of combinations depending on the pattern running direction. With diversification, the total number of required distribution JT layers becomes enormous, and there is a problem that selection becomes difficult. Furthermore, since there are variations in the slope of the pattern direction in the wiring target section, the degree of congestion of the wiring pattern on each bare layer is uneven, which is inefficient and makes it impossible to increase the connection rate beyond a certain level. There are problems.

本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決し、複数
層を配線層とした配線処理により、作成可能な配線パタ
ーン形状を多様化することにより、高結線率と最短配線
を可能とし、配線長の決められた配線区間の配線長精度
を向上することができ、かつ、配線パターン決定時に、
各配線層の混雑度を考慮することにより、各層の混雑度
の平均化を図ることを可能とした多層同時配線方式を提
供することにある。
The purpose of the present invention is to solve the problems of the prior art described above, and to diversify the shapes of wiring patterns that can be created through wiring processing using multiple wiring layers, thereby enabling high connection efficiency and shortest wiring, It is possible to improve the wiring length accuracy of the wiring section with a fixed wiring length, and when determining the wiring pattern,
An object of the present invention is to provide a multilayer simultaneous wiring system that makes it possible to average the congestion degree of each layer by considering the congestion degree of each wiring layer.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明によれば、前記目的は、配線層を異なるパターン
走行方向を有する3層以上の配線層とし、配線対象区間
毎に、次の〔))〜(4)の処理をこの順序で実行して
配線パターンを決定することにより達成される。
According to the present invention, the above object is to form the wiring layer into three or more wiring layers having different pattern running directions, and to perform the following processes [)) to (4) in this order for each wiring target section. This is achieved by determining the wiring pattern using

(1)各層毎の混雑度算出 各層毎に、(a)既に決定された配線情報ファイルより
、既配線パターンを取り出し、そのパターン長を算出す
る。(b)基板情報ファイルより使用可能な配線領域の
大きさ、使用可能最大チャネル数(配線格子間に作成可
能なパターン本数)及びパターンの走行方向を取り出し
、作成可能パターン長を算出する。(C)前述の既配線
パターン長及び作成可能パターン長より、層別混雑度を
算出する。
(1) Congestion degree calculation for each layer For each layer, (a) Extract the existing wiring pattern from the already determined wiring information file and calculate its pattern length. (b) The size of the usable wiring area, the maximum number of usable channels (the number of patterns that can be created between wiring grids), and the running direction of the pattern are extracted from the board information file, and the length of the pattern that can be created is calculated. (C) Calculate the degree of congestion by layer from the above-mentioned wiring pattern length and createable pattern length.

(2)各層毎の得点算出 設計情報ファイルより、配線対象区間の始点と目的点と
を結ぶ線分の角度を算出し、配線対象区間の配線長に関
する制約条件を取り出し、これらを基に、使用可能であ
るパターン走行方向のそれぞれの優先順位を決定し、こ
の優先順位と前記層別混雑度及び各配線層のパターン方
向により7、使用可能配線層のそれぞれに対して使用得
点を算出する。
(2) Calculate score for each layer From the design information file, calculate the angle of the line segment connecting the starting point and destination point of the wiring target section, extract the constraint conditions regarding the wiring length of the wiring target section, and use them based on these. A priority order is determined for each of the possible pattern running directions, and a usage score is calculated for each usable wiring layer based on this priority order, the layer-based congestion degree, and the pattern direction of each wiring layer.

(3)配線パターン生成 当該配線対象区間の始点より、全方向に対する配線パタ
ーン作成可能な格子点(パターン作成可能点)上に配線
パターンを作成し、その先端を試行端点とする。次に、
この試行端点より次の試行端点までの配線パターンの作
成を前述と同様に実行し、試行端点が目的点に達するま
で繰り返す。
(3) Wiring pattern generation A wiring pattern is created on a lattice point (pattern creation possible point) from the starting point of the relevant wiring target section, where wiring patterns can be created in all directions (pattern creation possible points), and the tip thereof is set as a trial end point. next,
The wiring pattern from this trial end point to the next trial end point is created in the same manner as described above, and is repeated until the trial end point reaches the target point.

この結果、候補となる複数の配線パターン候補が生成さ
れる。なお、生成される配線パターン候補の走行方向は
、第16図に示すようなX軸方向、y軸方向、ΔχX軸
方向ΔyX軸方向らなる平面方向9及びこれら平面方向
パターン用の配線層相互間を接続する垂直方向10を用
いる。これにより、複数層を配線層とした配線パターン
候補を生成することができる。
As a result, a plurality of wiring pattern candidates are generated. Note that the running direction of the generated wiring pattern candidates is the plane direction 9 consisting of the X-axis direction, y-axis direction, ΔχX-axis direction, ΔyX-axis direction, and the distance between the wiring layers for these plane-direction patterns. A vertical direction 10 is used to connect the . As a result, it is possible to generate a wiring pattern candidate having multiple wiring layers.

(4)配線パターン決定 前述した配線パターン候補生成時に、各配線パターン候
補の配線長さ、配線対象区間に対する各配線パターン候
補の走行方向、V、  H,(ViaIIo I e 
:配線パターンが層を変更する場合に、それらの眉間を
接続するために作成される経由穴)の要否、及び前述で
求めた層別使用得点により、各試行端点における試行得
点を算出する。次に、各配線パターン候補のそれぞれに
ついて、全ての試行端点における試行得点を合計するこ
とにより、各配線パターン候補の得点を求め、その得点
の大小により最適な配線パターンを決定する。但し、配
線パターン長の指定のある配線対象区間については、措
定長に最も近い長さを持つ配線パターン候補を最適な配
線パターンとして決定する。
(4) Wiring pattern determination When generating wiring pattern candidates as described above, the wiring length of each wiring pattern candidate, the running direction of each wiring pattern candidate with respect to the wiring target section, V, H, (ViaIIo Ie
: When the wiring pattern changes layers, the trial score at each trial end point is calculated based on the necessity of a via hole (created to connect between the eyebrows) and the usage score for each layer determined above. Next, for each wiring pattern candidate, the trial scores at all the trial end points are totaled to obtain the score of each wiring pattern candidate, and the optimum wiring pattern is determined based on the magnitude of the score. However, for a wiring target section for which a wiring pattern length is specified, the wiring pattern candidate with the length closest to the specified length is determined as the optimal wiring pattern.

第17図はこのようにして決定された配線パターン候補
の一例を示す図であり、11ばV、 H。
FIG. 17 is a diagram showing an example of the wiring pattern candidates determined in this way.

である。It is.

第17図において、a1〜a6は各試行端点における試
行得点であり、この例の配線パターン候〔作用〕 本発明による配線パターンの決定は、配線対象区間毎に
、既配線パターン長に基づいて層別混雑度を算出し、こ
れを考慮して配線パターンを決定しているので、各層の
使用率を詳細に制御することができる。また、配線パタ
ーン作成時に、同時に複数層を対象とした配線パターン
を作成するため、始点及び各試行端点て使用可能な走行
方向全てのパターンを考慮することにより、多様な配線
パターン候補を生成することができ、結線率の向上を図
ることが可能である。さらに、配線パターン決定時に、
当該配線対象区間の既配線パターンの長さや迂回に応じ
て、多様な配線パターン候補の中から最適なものを選択
することができ、最短配線や、指定された配線長による
配線において、高精度な結果を得ることができる。
In FIG. 17, a1 to a6 are the trial scores at each trial end point, and the wiring pattern candidates in this example [effect] The determination of the wiring pattern according to the present invention is based on the length of the existing wiring pattern for each wiring target section. Since the degree of congestion for each layer is calculated and the wiring pattern is determined in consideration of this, the usage rate of each layer can be controlled in detail. In addition, when creating a wiring pattern, in order to simultaneously create a wiring pattern for multiple layers, it is possible to generate a variety of wiring pattern candidates by considering all available patterns in the running direction for the starting point and each trial end point. This makes it possible to improve the wire connection efficiency. Furthermore, when determining the wiring pattern,
The optimal one can be selected from a variety of wiring pattern candidates according to the length and detour of the existing wiring pattern in the target wiring section, and high-precision wiring can be achieved with the shortest wiring or with the specified wiring length. You can get results.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明による多層同時配線方式の一実施例を図面
により詳細に説明する。
Hereinafter, one embodiment of the multilayer simultaneous wiring system according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例における処理を説明するフロ
ーチャート、第2図は本発明の一実施例のハードウェア
構成図、第3図は本発明の一実施例の配!1IANの構
成を示す図、第4図は既配線パターン長を説明する図、
第5図は混雑度に応じた各層の得点算出を説明する図、
第6図は得点算出を説明するための配線パターン例を示
す図、第7図(a)、 (b)は配線パターン候補例を
示す斜視図、第8図は配線パターン候補例を示す平面図
、第9図〜第11図は配線長指定による配線パターン例
を示す図、第12図、第13図は配線パターン得点算出
法を説明するための配線パターン例を示す図、第14図
は得点算出に使用するパラメータと得点の関係を説明す
る図、第15図は配線パターン候補の得点例を示す図で
ある。第2図〜第4図、第6図〜第13図において、2
1はコンピュータ、22は設計情報ファイル、23は基
本情報ファイル、24は配線情報ファイル、25〜28
は方向別の各配線層であり、他の符号は第18図〜第2
3図の場合と同一である。
FIG. 1 is a flowchart explaining processing in an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a hardware configuration diagram of an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is an arrangement diagram of an embodiment of the present invention. A diagram showing the configuration of 1IAN, FIG. 4 is a diagram explaining the length of the existing wiring pattern,
Figure 5 is a diagram explaining the calculation of scores for each layer according to the degree of congestion,
FIG. 6 is a diagram showing an example of a wiring pattern for explaining score calculation, FIGS. 7(a) and (b) are perspective views showing examples of wiring pattern candidates, and FIG. 8 is a plan view showing an example of wiring pattern candidates. , Figures 9 to 11 are diagrams showing examples of wiring patterns by specifying wiring lengths, Figures 12 and 13 are diagrams showing examples of wiring patterns to explain the wiring pattern score calculation method, and Figure 14 is a diagram showing examples of wiring patterns by specifying the wiring length. FIG. 15 is a diagram illustrating the relationship between parameters used for calculation and scores, and is a diagram showing an example of scores for wiring pattern candidates. In Figures 2 to 4 and 6 to 13, 2
1 is a computer, 22 is a design information file, 23 is a basic information file, 24 is a wiring information file, 25 to 28
are each wiring layer by direction, and other symbols are shown in FIGS. 18 to 2.
This is the same as in Figure 3.

本発明の一実施例は、第2図に示すよ、うに、自動配線
処理を行うコンピュータ21、配線対象区間の座標及び
当該配線区間の配線時の制約条件等を持つ設計情報ファ
イル22、配線パターンが印刷される基板についての情
報を持つ基板情報ファイル23、自動配線処理により決
定された配線パターン情報を保持する配線情報ファイル
24を備えて構成されている。
As shown in FIG. 2, one embodiment of the present invention includes a computer 21 that performs automatic wiring processing, a design information file 22 containing the coordinates of a wiring target section, constraints on wiring of the wiring section, etc., and a wiring pattern. The wiring information file 23 includes a board information file 23 that holds information about the board on which the board is printed, and a wiring information file 24 that holds wiring pattern information determined by automatic wiring processing.

このように構成される本発明の一実施例は、第1図に示
すような、配線対象区間抽出S1、各層毎の混雑度算出
S2、各層毎の得・点算出S3、配線パターン候補生成
S4、配線パターン決定S5、配線パターンかくのうう
S6の6つの処理段階を順次実行することにより、配線
パターンを決定する。
An embodiment of the present invention configured as described above includes wiring target section extraction S1, congestion degree calculation for each layer S2, score/point calculation for each layer, and wiring pattern candidate generation S4, as shown in FIG. The wiring pattern is determined by sequentially executing six processing steps: , wiring pattern determination S5, and wiring pattern writing S6.

以下、各段階毎の処理について、通常の配線区間と最短
配線区間との配線処理を説明する。なお、以下に説明す
る本発明の実施例では、最適配線パターンは、得点が最
小となるパターンであるとする。また、本発明の一実施
例の層構成は、第3図に示すように、X軸方向層(A層
)、y軸方向層(B層)、X軸に対して45°方向層(
0層)、135°方向層(DJi)の4Nの配線層によ
り構成されるものとし、これらの配線層を貫通するり。
The wiring processing for the normal wiring section and the shortest wiring section will be explained below regarding the processing for each stage. In the embodiment of the present invention described below, it is assumed that the optimal wiring pattern is a pattern with the minimum score. Furthermore, as shown in FIG. 3, the layer structure of an embodiment of the present invention includes a layer in the X-axis direction (layer A), a layer in the y-axis direction (layer B), and a layer in the 45° direction with respect to the X-axis (layer A).
0 layer), 135° direction layer (DJi), and 4N wiring layers.

Hlllを自由に設け、各配線層上の配線パターン相互
間を接続できるものとする。
It is assumed that the wiring patterns on each wiring layer can be connected to each other by freely providing the wiring patterns.

段階■:配線対象区間抽出(ステップSl)設計情報フ
ァイル22から、配線対象区間を構成する配線パターン
の始点及び目的点の各座標と、当該区間を配線する際の
制約条件(配線パターン長、配線パターン形状等)を読
み出し、コンピュータ21に入力する。
Step ■: Extracting the wiring target section (Step Sl) From the design information file 22, the coordinates of the starting point and destination point of the wiring pattern that constitutes the wiring target section, and the constraint conditions (wiring pattern length, wiring pattern shape, etc.) and input it to the computer 21.

段階■:各層毎の混雑度算出(ステップS2)コンピュ
ータ21は、次の計算式により、層別混雑度を算出する
Step 2: Calculating the degree of congestion for each layer (step S2) The computer 21 calculates the degree of congestion for each layer using the following formula.

配線パターン長=、r7−了r1−r71−但し、 lイ=既配線パターンのX方向格子数 !y=既配線パターンのy方向格子数である。Wiring pattern length =, r7 - completed r1 - r71 - However, l = number of grids in the X direction of the existing wiring pattern ! y=the number of grids in the y direction of the existing wiring pattern.

すなわち、既配線パターン長は、第4図に示すように、
パターンの始点5の位置と目的点6の位置とにより、格
子点距離を単位として、再位置の直線距離として求めら
れる。
In other words, the length of the existing wiring pattern is as shown in FIG.
Based on the position of the starting point 5 and the position of the destination point 6 of the pattern, the linear distance of repositioning is determined in units of lattice point distance.

作成可能パターン長しく例) (1)X軸方向層、y軸方向層の場合 L−(基板のX軸方向格子数) ×(基板のy軸方向の格子数) ×(格子間に作成可能なパターン数の最大値)−(基板
上の配線不可領域の格子数) (2)45°方向層、135°方向層の場合L=(基板
のX軸方向格子数) ×(基板のy軸方向格子数) ×(格子間に作成可能なパターン数の最大値)XI/、
I’T −(基板上の配線不可領域の格子数) 段階m:各層毎の得点算出(ステップ33)(a)前述
で求めた層別混雑度に基づいて、各層の使いやすさの指
標となる得点を決定する。例えば、各層における配線の
混雑度が、第5図に示されたような値をもっている場合
、各混雑度に応じた得点を与える。この得点は、各層の
得点の合計が100点となるように、前述の混雑度の値
と層間の比率が変わらないように決定するものである。
Examples of patterns that can be created in length (maximum number of patterns) - (number of lattices in the non-wiring area on the board) (2) For 45° layer and 135° layer L = (number of lattices in the X-axis direction of the board) × (y-axis of the board) (number of directional grids) × (maximum number of patterns that can be created between grids) XI/,
I'T - (Number of grids in the non-routable area on the board) Step m: Calculate the score for each layer (Step 33) (a) Based on the congestion degree for each layer obtained above, calculate the usability index for each layer. Determine the score. For example, if the degree of congestion of wiring in each layer has a value as shown in FIG. 5, points are given according to each degree of congestion. This score is determined so that the total score for each layer is 100 points, and the above-mentioned congestion degree value and the ratio between layers do not change.

(b)配線対象区間の形状及び配線時の制約条件に基づ
いて、前述した各層の得点に修正を加え、層別使用得点
を算出する。この層別使用得点につい−で、第6図に示
す配線パターンの例により説明する。第6図に示す配線
パターン8の配線対象区間は、始点5と目的点6との間
であり、この場合にX軸方向層(A層)と45°方向層
(B層)の2つの配線層を用いた配線パターン8が最短
となる。
(b) Based on the shape of the wiring target section and the constraint conditions at the time of wiring, the scores for each layer described above are corrected, and usage scores for each layer are calculated. The usage scores for each layer will be explained using an example of the wiring pattern shown in FIG. The wiring target section of the wiring pattern 8 shown in FIG. 6 is between the starting point 5 and the destination point 6, and in this case, the two wirings of the X-axis direction layer (A layer) and the 45° direction layer (B layer) The wiring pattern 8 using layers is the shortest.

そこで、通常配線区間に対しては、X軸方向層(A層)
と45°方向層(CIりとを使いやすくするため、例え
ば、第5図におけるこれらの対応層であるA層と0層の
混雑度による得点から5を引き、これを通常配線の場合
の層別使用得点とする。また、135°方向層(D層)
は、第6図における配線対象区間と反対方向となるので
、この層よりY軸方向層(B層)を使いやすくするため
、例えば、第5図におけるY軸方向Jl(B層)の混雑
度による得点から3を引き、これを通常配線の場合のB
層すなわちY軸方向層の層別使用得点とする。この結果
、各層の混雑度及び配線対象区間の始点5と目的点6と
の間の角度による最短配線を考慮した通常配線区間用層
別使用得点は、第5図に示すように決定される。また、
最短配線指定区間に対しては、層の混雑度より最短経路
を重視する必要があるので、層の混雑度を無視し、X軸
方向層25.45°方向層が使いやすくなるように、例
えば、第5図に示すように使用得点を定める。
Therefore, for the normal wiring section, the X-axis direction layer (A layer)
To make it easier to use the 45° direction layer (CI), for example, subtract 5 from the score based on the congestion degree of the A layer and 0 layer, which are the corresponding layers in Figure 5, and use this as the layer for normal wiring. Separate usage score.Also, 135° direction layer (D layer)
is in the opposite direction to the wiring target section in FIG. 6, so in order to make it easier to use the Y-axis direction layer (B layer) than this layer, for example, the congestion degree of the Y-axis direction Jl (B layer) in FIG. Subtract 3 from the score and calculate this as B for normal wiring.
This is the usage score for each layer, that is, the layer in the Y-axis direction. As a result, the stratified usage score for the normal wiring section is determined as shown in FIG. 5, taking into account the congestion degree of each layer and the shortest wiring according to the angle between the starting point 5 and the destination point 6 of the wiring target section. Also,
For the shortest wiring specified section, it is necessary to emphasize the shortest route rather than the degree of layer congestion, so ignore the degree of layer congestion and make the X-axis direction layer 25.45° direction layer easier to use, for example. , determine the usage score as shown in Figure 5.

段階■;配線パターン候補生成(ステップS4)いま、
第8図に示すような位置にある始点5及び目的点6の間
にパターンを生成するものとする。
Stage ■: Wiring pattern candidate generation (step S4) Now,
It is assumed that a pattern is generated between a starting point 5 and a destination point 6 located at positions as shown in FIG.

この場合、始点5より目的点6まで、障害物4を避け、
全方向に配線パターン候補を生成する。第7図、第8図
において、RX r R4S+ R12S+ Ryは、
配線パターン候補の例であり、第7図(a)には、配線
パターン候補R,,R,,の層間配線された斜視の、ま
た、第7図(b)には、配線パターン候補R13SIR
Yの層間配線された斜視の様子が示されている。
In this case, from the starting point 5 to the destination point 6, avoiding the obstacle 4,
Generate wiring pattern candidates in all directions. In FIGS. 7 and 8, RX r R4S+ R12S+ Ry is
Examples of wiring pattern candidates are shown in FIG. 7(a), a perspective view of wiring pattern candidates R,,R,, with interlayer wiring, and FIG.
A perspective view of Y interlayer wiring is shown.

配線パターン候補RXは、始点5よりX軸方向にパター
ンを生成した場合であり、障害物4を避ける位置までX
軸方向パターンを伸ばし、V、 H。
The wiring pattern candidate RX is a pattern generated in the X-axis direction from the starting point 5.
Stretch axial pattern, V, H.

11を作成してB層に移行してy軸方向にパターンを生
成し、さらに、目的点へ最短結線を行うために、V、)
(,11を介してD層に移り、135゜方向パターンに
より目的点6に直接結線したものである。
11 and move it to the B layer to generate a pattern in the y-axis direction, and further, in order to make the shortest connection to the destination point, V,)
, 11 to the D layer and directly connected to the target point 6 using a 135° direction pattern.

配線パターン候補RASは、最短パターンであり、障害
物4により、始点5から直接45°方向にはパターンの
生成を行うことができないので、−旦y軸方向パターン
を生成して障害物4を避けて最短としたものである。
The wiring pattern candidate RAS is the shortest pattern, and since it is not possible to generate a pattern directly in the 45° direction from the starting point 5 due to the obstacle 4, a pattern in the y-axis direction is generated to avoid the obstacle 4. This is the shortest possible time.

配線パターン候補RI3.は、始点5より135゜方向
にパターンを生成した場合の最短パターンである。
Wiring pattern candidate RI3. is the shortest pattern when a pattern is generated in a direction of 135° from the starting point 5.

また、配線パターン候補R,は、通常配線区間での層別
使用得点の低いX軸方向層及びy軸方向層のみを使用し
た場合の最短パターンである。
Further, the wiring pattern candidate R is the shortest pattern when only the X-axis direction layer and the Y-axis direction layer having low layer-wise usage scores in the normal wiring section are used.

次に、設計情報ファイル2により決められたパターン長
で配線を行う。配線長指定配線の例について、第9図〜
第11図により説明する。
Next, wiring is performed with the pattern length determined by the design information file 2. Examples of wiring with specified wiring length are shown in Figure 9~
This will be explained with reference to FIG.

第9図は、始点5と目的点6との間を、X軸方向、y軸
方向層上で11格子の指定長で配線した例である。とこ
ろが、目的点6の近傍に障害物4が存在すると、X軸方
向層及びy軸方向層のみを用いた配線パターンは、第1
0図に示すように、配線パターン!、のように、2格子
の迂回が生じてしまう。−この場合、斜め方向パターン
を利用すれば、第11図の配線パターン2□のように、
配線長を短縮して、指定されたパターン長に対する精度
を向上させることができる。
FIG. 9 is an example of wiring between the starting point 5 and the destination point 6 with a specified length of 11 grids on layers in the X-axis direction and the y-axis direction. However, if an obstacle 4 exists near the destination point 6, the wiring pattern using only the X-axis direction layer and the y-axis direction layer is
0 Wiring pattern as shown in figure! , a two-lattice detour occurs. - In this case, if you use a diagonal pattern, like wiring pattern 2□ in Figure 11,
By shortening the wiring length, it is possible to improve accuracy with respect to a specified pattern length.

段階V:配線パターン決定(ステップ55)(1)配線
パターン得点の算出 第7図、第8図により説明した最短配線パターンR4S
の通常配線時の配線パターン得点の算出方法を第12図
を参照して説明する。
Stage V: Wiring pattern determination (Step 55) (1) Calculation of wiring pattern score Shortest wiring pattern R4S explained with FIGS. 7 and 8
A method of calculating wiring pattern scores during normal wiring will be explained with reference to FIG.

始点5から目的点6との間の第1の試行端点αにおいて
、始点5から試行端点αまでは、目的点に近づくベクト
ルで格子数が1であり、V、  H。
At the first trial end point α between the starting point 5 and the destination point 6, from the starting point 5 to the trial end point α, the number of grids is 1 in the vector approaching the destination point, and V, H.

11を使用していないので、第14図により、ベクトル
得点f=5、V、  )(、得点V=Oとなる。
11 is not used, the vector score f=5, V, )(, score V=O according to FIG. 14).

また、使用配線層がy軸方向層であるB層であるので、
第5図より層得点し=10となる。同様に、試行端点β
において、試行端点αから試行端点βまでは、目的点に
近づくベクトルで格子数が2で、試行端点αにおいてB
−C層間にV、H,11を使用し、使用配線層として4
5°方向層である0層を使用するので、第14図、第5
図より、ベクトル得点f=10..V、H,得点V=2
、L=32を得ることができる。また同様に、目的点6
に到達した試行端点γにおいては、V、H,11を試行
端点βでC−A層間に使用し、使用配線層としてX軸方
向層であるA層を使用しているので、第14図、第5図
より、ベクトル得点!=10、■。
Also, since the wiring layer used is layer B, which is the layer in the y-axis direction,
From Figure 5, the layer score is 10. Similarly, the trial endpoint β
From the trial end point α to the trial end point β, the number of grids is 2 in the vector approaching the target point, and at the trial end point α
- V, H, 11 are used between the C layers, and 4 is used as the wiring layer.
Since we use the 0 layer, which is the 5° direction layer, Fig. 14, 5
From the figure, the vector score f=10. .. V, H, score V = 2
, L=32 can be obtained. Similarly, objective point 6
At the trial end point γ, which has reached the trial end point β, V, H, and 11 are used between the C and A layers at the trial end point β, and the A layer, which is the layer in the X-axis direction, is used as the wiring layer, so as shown in FIG. From Figure 5, vector scores! =10, ■.

■へ■、得点V=2X2=4、L=14を得ることがで
きる。これらの得点の全てを合計したものが、配線パタ
ーンR45の運営配線での配線パターン得点となり、そ
の値は、87となる。
Go to ■■, score V=2X2=4, L=14 can be obtained. The sum of all these scores is the wiring pattern score for the operating wiring of wiring pattern R45, and the value is 87.

同様に、第14図及び第5図を用いることにより、配線
パターンRJSの最短指定配線時の配線パターン得点を
求めることができる。この場合の、各試行端点における
各得点が第13図に示されている。
Similarly, by using FIG. 14 and FIG. 5, the wiring pattern score at the time of the shortest designated wiring of the wiring pattern RJS can be determined. In this case, each score at each trial end point is shown in FIG.

前述のようにして、各配線パターン候補についての配線
パターン得点を求めることができ、第7図及び第8図に
より説明した各配線パターン候補についての配線パター
ン得点は、第15図に示すようになる。
As described above, the wiring pattern score for each wiring pattern candidate can be obtained, and the wiring pattern score for each wiring pattern candidate explained using FIGS. 7 and 8 is as shown in FIG. .

(2)配線パターン決定 本発明の一実施例では、配線パターン得点の最小のもの
を最適解としているので、通常配線時には、第15図に
示す得点に基づいて配線パターン候補Ryが、また、最
短指定配線時には、同様に配線パターン候補R4Sが選
択されて、配線パターンとして決定される。
(2) Wiring pattern determination In one embodiment of the present invention, the one with the minimum wiring pattern score is taken as the optimal solution. Therefore, during normal wiring, the wiring pattern candidate Ry is determined based on the scores shown in FIG. At the time of designated wiring, the wiring pattern candidate R4S is similarly selected and determined as the wiring pattern.

前述により、同一配線区間に対しても、第5図及び第1
4図に基づいて、−膜配線時には配線層の混雑度の小さ
なX軸方向層、y軸方向層を使用した配線パ・ターンが
選択され、混雑度の平均化を図ることができ、また、最
短指定配線時には、配線層の混雑度に関係なく、最短配
線パターンが選択されることになる。
As mentioned above, even for the same wiring section, the
Based on FIG. 4, during film wiring, a wiring pattern using layers in the X-axis direction and Y-axis direction, which have a small degree of congestion, is selected, and the degree of congestion can be averaged. When specifying the shortest wiring, the shortest wiring pattern is selected regardless of the degree of congestion of the wiring layer.

段階■:配線パターン格納(ステップ36)段階Vで選
択された配線パターンについての情報(座標、配線眉毛
等)を、配線情報ファイル24へ格納する。以上により
、−配線対象区間についての処理を終了する。
Step (2): Storing the wiring pattern (step 36) Information about the wiring pattern selected in step V (coordinates, wiring eyebrows, etc.) is stored in the wiring information file 24. With the above, the processing for the - wiring target section is completed.

前述した本発明の一実施例によれば、通常の配線区間に
おいては、既決定配線パターンによる各各配線層の混雑
度を考慮し、全層を対象とした多様な配線パターン候補
を自動生成し、その中から配線対象区間に最適な配線パ
ターンを自動決定することが可能となる。また、最短配
線指定区間においては、配線パターン生成時に、全配線
層を考慮することにより、生成し得る最短配線バクーン
を自動決定することが可能となる。さらに、本発明の一
実施例によれば、配線長が事前に指定されている区間に
おいでは、配線パターン生成時に、全配線層を考慮する
ことにより、配線パターンの迂回等にも柔軟に対応した
、配線長精度の高い配線パターンを自動決定することが
可能となる。
According to the embodiment of the present invention described above, in a normal wiring section, various wiring pattern candidates for all layers are automatically generated in consideration of the degree of congestion in each wiring layer due to the determined wiring pattern. , it becomes possible to automatically determine the optimal wiring pattern for the wiring target section from among them. In addition, in the shortest wiring specified section, by considering all wiring layers when generating a wiring pattern, it becomes possible to automatically determine the shortest wiring backcoup that can be generated. Furthermore, according to an embodiment of the present invention, in a section where the wiring length is specified in advance, all wiring layers are taken into consideration when generating the wiring pattern, thereby flexibly responding to wiring pattern detours, etc. , it becomes possible to automatically determine a wiring pattern with high wiring length accuracy.

前述した本発明の一実施例は、4層の配線層を有する基
板上における配線パターンの作成についてであるが、本
発明は、複数層の配rA層を備えるものであれば、配線
層の数は任意であり、プリント基板、LSI等における
配線パターンの作成に適用することができる。
One embodiment of the present invention described above relates to the creation of a wiring pattern on a board having four wiring layers, but the present invention is applicable to the creation of a wiring pattern on a board having four wiring layers. is arbitrary and can be applied to creating wiring patterns for printed circuit boards, LSIs, etc.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明によれば、配線パターン作
成時に、プリント基板、LSI等を構成する全ての配線
層を考慮することができるため、幅広い配線パターン候
補の中から、配線対象区間に最適な配線パターンを選択
することが可能となるとともに、配線パターン決定時に
、既配線バクーンによる各配線層の混雑度を考慮するこ
とにより、各配線層の使用率をより詳細に制御すること
ができる。これにより、本発明は、高結線率、最短長配
線、指定された配線長による配線時の精度向上を図るこ
とができる。
As explained above, according to the present invention, when creating a wiring pattern, it is possible to take into account all the wiring layers that constitute a printed circuit board, LSI, etc. It becomes possible to select a suitable wiring pattern, and by considering the degree of congestion of each wiring layer due to the existing wiring back-up when determining the wiring pattern, it is possible to control the usage rate of each wiring layer in more detail. As a result, the present invention can improve accuracy during wiring with a high connection rate, shortest wiring length, and specified wiring length.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例における処理を説明するフロ
ーチャート、第2図は本発明の一実施例のハードウェア
構成図、第3図は本発明の一実施例の配線層の構成を示
す図、第4図は既配線パターン長を説明する図、第5図
は混雑度に応じた各層の得点算出を説明する図、第6図
は得点算出を説明するための配線パターン例を示す図、
第7図(a)、 (b)は配線パターン候補例を示す斜
視図、第8図は配線パターン候補例を示す平面図、第9
図。 第10図、第11図は配線長指定による配線パターン例
を示す図、第12図、第13図は配線パターン得点算出
法を説明するための配線パターン例を示す図、第14図
は得点算出に使用するパラメータと得点の関係を説明す
る図、第15図は配線パターン候補の得点例を示す図、
第16図はパターン走行方向を説明する図、第17図は
配線パターン候補例を示す図、第18図は従来技術によ
るプリント基板の層構成の一例を示す図、第19図はそ
の配線パターン例を示す図、第20図は従来技術による
層選択を説明する図、第21図は中継点の選定を説明す
る図、第22図、第23図はその配線パターン例を示す
図である。 1−−−−−−− x軸方向層、2−・・−・y軸方向
層、3−・絶縁層、4−・−−−−一障害物、5・・−
・・・始点、6・−−一−−−−−目的点、7・−・−
中継点候補、8−−−−−−−一配線パターン、9・−
・・・−平面方向、10・−−−一−−垂直方向、11
・・−・・・・−・・V、H,21・・−・−コンピュ
ータ、22・・−・・・−設計情報フアイル、23−−
−−−一・基板情報ファイル、24・−・−・・配線情
報ファイル。 第1図 第 図 第 図 56μ 6°自¥JL 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図 第 1゜ 図 第 図 第 図 第 図 棚=87 哨’!+=44 第 図 第 図 第 2o図 4t 県 22図 8崎釦マターン 第 図 第 図 第18 図 第19 図 第 21図 第 23図
Fig. 1 is a flowchart explaining processing in an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a hardware configuration diagram of an embodiment of the invention, and Fig. 3 shows the configuration of a wiring layer in an embodiment of the invention. Figure 4 is a diagram for explaining the length of existing wiring patterns, Figure 5 is a diagram for explaining score calculation for each layer according to the degree of congestion, and Figure 6 is a diagram for explaining wiring pattern examples to explain score calculation. ,
7(a) and 7(b) are perspective views showing examples of wiring pattern candidates, FIG. 8 is a plan view showing examples of wiring pattern candidates, and FIG.
figure. Figures 10 and 11 are diagrams showing examples of wiring patterns by specifying wiring lengths, Figures 12 and 13 are diagrams showing examples of wiring patterns to explain the wiring pattern score calculation method, and Figure 14 is a diagram showing examples of wiring patterns by specifying the wiring length. Figure 15 is a diagram illustrating the relationship between parameters used in the process and scores;
FIG. 16 is a diagram explaining the pattern running direction, FIG. 17 is a diagram showing an example of a wiring pattern candidate, FIG. 18 is a diagram showing an example of the layer structure of a printed circuit board according to the prior art, and FIG. 19 is an example of the wiring pattern. 20 is a diagram illustrating layer selection according to the prior art, FIG. 21 is a diagram illustrating selection of relay points, and FIGS. 22 and 23 are diagrams illustrating examples of wiring patterns. 1-------- layer in the x-axis direction, 2-- layer in the y-axis direction, 3-- insulating layer, 4--- one obstacle, 5--
...Starting point, 6・--1---- Destination point, 7・-・-
Relay point candidate, 8-------One wiring pattern, 9・-
--- Planar direction, 10 --- - Vertical direction, 11
・・・・・・・V, H, 21・・−・−Computer, 22・・・・・・・−Design information file, 23−−
---1. Board information file, 24. --- Wiring information file. Figure 1 Figure Figure Figure 56 μ 6° Auto\JL Figure Figure Figure Figure Figure Figure Figure Figure 1゜Figure Figure Figure Figure Shelf = 87 '! +=44 Figure Figure Figure 2o Figure 4t Prefecture 22 Figure 8 Sakibutton Pattern Figure Figure 18 Figure 19 Figure 21 Figure 23

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 1.パターン走行方向の異なる複数の配線層を備える多
層配線層による回路の、始点及び目的点から成る配線対
象区間と配線時の制約情報とに基づいて、配線パターン
を自動決定する配線方式において、前記配線対象区間の
始点と目的点とを結ぶ線分の角度及び前記配線対象区間
の配線長に関する制約条件により、前記多層配線層内の
使用可能なパターン走行方向を有する配線層のそれぞれ
の優先順位を決定し、該優先順位とパターン走行方向と
により、前記使用可能な配線層のそれぞれの使用得点を
決定する機能と、前記配線対象区間の始点と目的点間に
対し、平面上に進む配線パターンの経路探査及び複数の
配線層間を接続する平面と垂直な層間経由穴の層変更探
査を行い、3層以上の複数層を配線層とする複数の配線
パターン候補を生成する機能と、前記配線パターン候補
のそれぞれについて、使用する各配線層の使用得点,配
線パターンの長さ,層間経由穴の有無に基づいて、その
得点を決定し、この各パターン候補の得点に基づいて最
適な配線パターンを決定する機能とを備えることを特徴
とする多層同時配線方式。
1. In a wiring method that automatically determines a wiring pattern based on a wiring target section consisting of a starting point and a destination point and constraint information at the time of wiring of a circuit using a multilayer wiring layer having a plurality of wiring layers having different pattern running directions, the wiring Determining the priority of each wiring layer having a usable pattern running direction in the multilayer wiring layer based on the angle of the line segment connecting the starting point and the destination point of the target section and the constraint conditions regarding the wiring length of the wiring target section. and a function of determining the usage score of each of the usable wiring layers based on the priority order and the pattern running direction, and determining the route of the wiring pattern that advances on a plane between the starting point and the destination point of the wiring target section. A function of performing exploration and layer change exploration of interlayer via holes perpendicular to a plane connecting multiple wiring layers, and generating a plurality of wiring pattern candidates having three or more layers as wiring layers, and A function that determines the score for each wiring layer based on the usage score of each wiring layer used, the length of the wiring pattern, and the presence or absence of via holes between layers, and then determines the optimal wiring pattern based on the scores of each pattern candidate. A multilayer simultaneous wiring method characterized by comprising:
2.前記各配線層毎に、新規配線パターン許容長に対す
る既配線パターン長の割合を求め、配線層別混雑度を算
出する機能をさらに備え、前記配線層の使用得点を決定
する機能は、前記配線層の混雑度をも加えて配線層の使
用得点を決定することを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の多層同時配線方式。
2. For each of the wiring layers, the function further includes a function of determining the ratio of the length of the existing wiring pattern to the allowable length of the new wiring pattern and calculating a degree of congestion for each wiring layer, and a function of determining the usage score of the wiring layer. Claim 1, characterized in that the usage score of the wiring layer is determined by adding the congestion degree of
Multi-layer simultaneous wiring method described in section.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04142060A (en) * 1990-10-02 1992-05-15 Hitachi Ltd Wiring method for semiconductor integrated circuit device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH04142060A (en) * 1990-10-02 1992-05-15 Hitachi Ltd Wiring method for semiconductor integrated circuit device

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