JPH0212693A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPH0212693A
JPH0212693A JP63162941A JP16294188A JPH0212693A JP H0212693 A JPH0212693 A JP H0212693A JP 63162941 A JP63162941 A JP 63162941A JP 16294188 A JP16294188 A JP 16294188A JP H0212693 A JPH0212693 A JP H0212693A
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JP
Japan
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precharge
bit line
level
line
mos
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JP63162941A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Tanaka
正博 田中
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Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
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Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To reduce power consumption, to decrease transient current and to reduce the number of precharge MOS transistors (TRs) for high circuit integration by precharging only a bit line selected alternatively from an output line used in common by each bit line via a selection MOS TR. CONSTITUTION:A precharge power supply Vcc for bit line precharge is connected to an output line 9 for data transfer used in common by bit lines B1-Bn selected alternatively by a selective MOS TR 8 via a precharge MOS TR 21. A precharge voltage applied via the precharge MOS TR 21 is applied only to a bit line selected via the selection MOS TR 8 selected alternatively to apply bit line precharge. Thus, the precharge power consumption is reduced and the transient current in the precharge and discharge is reduced and the number of precharge MOS TRs is saved to attain high circuit integration.

Description

【発明の詳細な説明】 [概要] MOSトランジスタ構成のダイナミック動作形式の半導
体記憶装置に係り、詳しくは同半導体記憶装置のビット
線プリチャージR桶に関し、プリチャージ用消費電力の
低減、プリチャージ及びディスチャージの際の過渡電流
の低減を可能にするとともに、プリチャージ用のMOS
トランジスタ数を削減し高集積化を可能にすることを目
的とし、 各ビット線に対して接続された各選択用MOSトランジ
スタを択一的に導通させて、各ビット線のうち1つを選
択してデータを各ビット線共用の出力線に出力する半導
体記憶装置において、前記出力線に対してビット線プリ
チャージ用のプリチャージ電源をプリチャージ用MOS
トランジスタを介して接続してビット線プリチャージを
行うように構成する。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] This invention relates to a semiconductor memory device of a dynamic operation type having a MOS transistor configuration, and more specifically, relates to a bit line precharge R bucket of the semiconductor memory device, and is capable of reducing power consumption for precharging, precharging and Enables reduction of transient current during discharge, as well as MOS for precharging
In order to reduce the number of transistors and enable high integration, the selection MOS transistors connected to each bit line are selectively made conductive to select one of the bit lines. In a semiconductor memory device that outputs data to an output line shared by each bit line, a precharge MOS is used to supply a precharge power supply for bit line precharging to the output line.
The configuration is such that the bit line is precharged by being connected through a transistor.

[産業上の利用分野] 本発明はMOSトランジスタ構成のダイナミック動作形
式の半導体記憶装置に係り、詳しくは同半導体記憶装置
のビット線プリチャージa梢に関するものである。
[Industrial Field of Application] The present invention relates to a dynamic operation type semiconductor memory device having a MOS transistor configuration, and more particularly to a bit line precharge a top of the semiconductor memory device.

ダイナミック動作形式の半導体記憶装置では各メモリセ
ルのデータを読み出す場合、ビット線をプリチャージさ
せた後にメモリセルデータに応じてディスチャージさせ
、その時の読み出すメモリセルに対応するビット線の状
態をそのメモリセルのデータとして読み出すようになっ
ている。従って、斯種半導体記憶装置にはそのためのビ
ット線プリチャージ機構が設けられている。
In a dynamic operation type semiconductor memory device, when reading data from each memory cell, the bit line is precharged and then discharged according to the memory cell data, and the state of the bit line corresponding to the memory cell to be read at that time is changed to that memory cell. It is read out as data. Therefore, this type of semiconductor memory device is provided with a bit line precharge mechanism for this purpose.

[従来の技術] 従来、MOSトランジスタ構成のダイナミック動作形式
の半導体記憶装置、例えば第2図に示すようなダイナミ
ックROM回路において、ビットラインデコーダ1から
のびるビット線群Bの各ビット線81〜Bnにはディス
チャージ用のエンハンスメント型MOSトランジスタ2
(以下、MOSトランジスタを単にMOSTrという)
とそれぞれ予め設定された数だけ直列に接続されたエン
ハンスメント型MO3Tr3とが直列に接続されてなる
メモリセルが繋がれている。そして、そのディスチャー
ジ用のMOSTr2を除く各MO3Tr3のゲートはそ
れぞれワードラインデコーダ4からのびるワード線群W
中の対応するワード線WO〜WV3に接続されている。
[Prior Art] Conventionally, in a dynamic operation type semiconductor memory device having a MOS transistor configuration, for example, a dynamic ROM circuit as shown in FIG. is enhancement type MOS transistor 2 for discharge.
(Hereinafter, MOS transistor is simply referred to as MOSTr)
A memory cell is connected in series with a predetermined number of enhancement type MO3Tr3s connected in series. The gates of each MO3Tr3 except for the discharge MOSTr2 are connected to the word line group W extending from the word line decoder 4.
It is connected to corresponding word lines WO to WV3 inside.

又、ディスチャージ用の各MO3Tr2のゲートはディ
スチャージ信号入力線5に接続されている。
Further, the gate of each MO3Tr2 for discharge is connected to the discharge signal input line 5.

前記各ビット線81〜Bnの一端にはプリチャージ用の
エンハンスメント型MO3Tr6のソスがそれぞれ接続
され、同M OS T r 6のドレインはプリチャー
ジ電源VCCにそれぞれ接続されている。プリチャージ
用の各MO3Tr6のゲートはプリチャージ信号入力線
7に接続され、その入力線7に入力されるプリチャージ
信号Φ1と前記ディスチャージ信号入力線5に入力され
るディスチャージ信号Φ2は第3図に示すようにその論
理レベルが互いに反対となるようになっている。
The SOS of an enhancement type MO3Tr6 for precharging is connected to one end of each of the bit lines 81 to Bn, and the drains of the MOSTr6 are respectively connected to a precharge power supply VCC. The gate of each MO3Tr 6 for precharging is connected to a precharge signal input line 7, and the precharge signal Φ1 input to the input line 7 and the discharge signal Φ2 input to the discharge signal input line 5 are shown in FIG. As shown, the logical levels are opposite to each other.

そして、プリチャージ信号Φ1の論理レベルがプラス電
位(Hレベルという)で、ディスチャージ信号Φ2がO
電位(Lレベルという)のとき、プリチャージ用の各M
O3Tr6は導通し、ディスチャージ用の各MO3Tr
2は非導通となる。
Then, the logic level of the precharge signal Φ1 is a positive potential (referred to as H level), and the discharge signal Φ2 is at an O level.
When the potential (referred to as L level), each M for precharging
O3Tr6 is conductive and each MO3Tr for discharge
2 becomes non-conductive.

その結果、全ビット線81〜Bnはプリチャージされト
Iレベルとなる。
As a result, all bit lines 81-Bn are precharged to I level.

前記ビットラインデコーダ1中には各ビット線81〜B
nに対応して選択用のエンハンスメント型M OS ’
T’ r 8が接続され、各ゲートは対応するセレクト
信号入力線81〜Snにそれぞれ接続されている。又、
選択用の各MO3Tr8は各ビット線1〜Bnが共用す
る1本の出力線9に接続されている。出力線9はインバ
ータ回路10、一方の入力端子にリード信号Φ3を入力
するナンド回路11及びインバータ回路12を介してデ
ータバス13に接続されたエンハンスメント型MO3T
r14に接続されている。尚、15はデータバス13の
ためのプリチャージ用のエンハンスメント型M OS 
7rrである。
In the bit line decoder 1, each bit line 81 to B
Enhancement type M OS for selection corresponding to n
T' r 8 is connected, and each gate is connected to a corresponding select signal input line 81 to Sn. or,
Each MO3Tr 8 for selection is connected to one output line 9 shared by each bit line 1 to Bn. The output line 9 is an enhancement type MO3T connected to a data bus 13 via an inverter circuit 10, a NAND circuit 11 which inputs a read signal Φ3 to one input terminal, and an inverter circuit 12.
Connected to r14. 15 is an enhancement type MOS for precharging the data bus 13.
It is 7rr.

そして、このように1成されたダイナミックROM回路
において、例えば第2図中の鎖線で示す各データD1〜
D6を順に読み出す場合には第3図に示すタイミングチ
ャートに従って行なわれるが、ここで、データD1を読
み出す場合について述べる。
In the dynamic ROM circuit constructed in this way, each data D1 to D1 shown by the chain line in FIG.
The sequential reading of data D6 is carried out according to the timing chart shown in FIG. 3, but the case of reading data D1 will now be described.

今、プリチャージ信号Φ1が1■レベルで、ディスチャ
ージ信号Φ2がLレベルのとき、プリチャージ用の各M
O8Tr6は導通し、ディスチャージ用の各MO3Tr
2は非導通となり、全ビット線81〜Bnはプリチャー
ジされる。続いて、ブリチ六・−ジ信号Φ1がLレベル
で、ディスチャージ信号Φ2がHレベルに反転すると、
プリチャジ用の各MO8Tr6は非導通となり、ディス
チャージ用の各MO3Tr2は導通しディスチャジか行
なわれる。
Now, when the precharge signal Φ1 is at the 1■ level and the discharge signal Φ2 is at the L level, each M for precharging
O8Tr6 is conductive, and each MO3Tr for discharge
2 becomes non-conductive, and all bit lines 81 to Bn are precharged. Subsequently, when the BRITISH signal Φ1 is at the L level and the discharge signal Φ2 is inverted to the H level,
Each MO8Tr6 for pre-charging becomes non-conductive, and each MO3Tr2 for discharging becomes conductive and discharge is performed.

このプリチャージとディスチャージが行なわれる間の各
ワード線WO〜WV3に入力されるアドレス信号AWO
−A wy3はワード線w1.wyoのLレベルのア1
くレス1乙号141. AW■0を除いて池はHレベル
となり、各ビットセレクト信号入力線81〜Snに入力
されるセレクト信号ΦS1〜Φsnはビットセレクト信
号入力線S1のHレベルのセレクト信号φS1を除いて
他はLレベルとなる。
Address signal AWO input to each word line WO to WV3 during this precharge and discharge
-A wy3 is word line w1. WYO L level A1
Kuresu 1 Otsu No. 141. Except for AW■0, the select signals ΦS1 to Φsn input to each bit select signal input line 81 to Sn are at the H level, except for the select signal φS1 at the H level of the bit select signal input line S1. level.

従って、ビット線B1が選択されとともに、データD1
のMOST r 3が非導通状態にあることから、ビッ
ト線B1はディスチャージされずhiレベルを保持し、
そのHレベルの状態がデータD1として出力線9に出力
される。
Therefore, bit line B1 is selected and data D1
Since MOST r 3 is in a non-conductive state, the bit line B1 is not discharged and maintains the high level.
The H level state is output to the output line 9 as data D1.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、このダイナミックROM回路においては
、プリチャージ信号Φ1がHレベルになる毎に全ビット
線81〜Bn、即ち選択された1つのビット線以外の不
必要なビット線までが同時にプリチャージされることか
ら、プリチャージのための消費電力が大きかった。又、
不必要にプリチャージされる各ビット線はプリチャージ
の際及びディスチャージの際に不要な過渡電流が発生す
る問題があった。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in this dynamic ROM circuit, every time the precharge signal Φ1 goes to H level, all bit lines 81 to Bn, that is, unnecessary bits other than the selected one bit line are Since all lines are precharged at the same time, the power consumption for precharging was large. or,
Each bit line that is unnecessarily precharged has a problem in that unnecessary transient currents are generated during precharging and discharging.

又、各ビット線81〜Bnを同時にプリチャージさせる
ことから、各ビット線の数だけプリチャージ用のMO3
Trを必要とするなめ、このようなダイナミック動作形
式の半導体記憶装置は高集積化を図る上で不利でもあっ
た。
Also, since each bit line 81 to Bn is precharged at the same time, MO3 for precharging is used for the number of bit lines.
Since such a dynamic operation type semiconductor memory device requires a transistor, it is also disadvantageous in achieving high integration.

そこで、ビット線を挟んでビットラインデコーダ1と対
向する側に選択回路を設け、その選択回路にて択一的に
ビット線を選択してプリチャージすることが考えられる
。しかし、この場合には選択回路を新たに設けなければ
ならず、高集積化を図る上で問題がある。
Therefore, it is conceivable to provide a selection circuit on the side facing the bit line decoder 1 across the bit line, and use the selection circuit to selectively select and precharge the bit line. However, in this case, a selection circuit must be newly provided, which poses a problem in achieving high integration.

本発明の目的は上記問題を解消するためになされたもの
であって、プリチャージ用消費電力の低減、プリチャー
ジ及びディスチャージの際の過渡電流の低減を可能にす
るとともに、プリチャージ用のMO3Trl&を削減し
高集積化を可能にする半導体記憶装置を提供することに
ある。
An object of the present invention has been made to solve the above problems, and it is possible to reduce power consumption for precharging, reduce transient current during precharging and discharging, and to reduce MO3Trl& for precharging. An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can be reduced in size and highly integrated.

[課題を解決するための手段1 上記目的を達成するために、本発明の半導体記憶装置は
選択用MOSトランジスタにて択一的に選択される各ビ
ット線が共用するデータ転送のための出力線に対してビ
ット線プリチャージ用のプリチャージ電源をブリチャー
 ジ用MOSトランジスタを介して接続する。このプリ
チャージ用MOSトランジスタを介して印加されるプリ
チャージ電圧は択一的に選択された1つの選択用MOS
トランジスタを介してその選択されたビット線のみに印
加されてビット線プリチャージが行われる。
[Means for Solving the Problems 1] In order to achieve the above object, the semiconductor memory device of the present invention includes an output line for data transfer that is shared by each bit line that is selectively selected by a selection MOS transistor. A precharge power supply for bit line precharging is connected to the bit line precharging through a precharging MOS transistor. The precharge voltage applied via this precharge MOS transistor is applied to one selective MOS transistor selected alternatively.
Bit line precharging is performed by applying the voltage only to the selected bit line through the transistor.

[作用コ 各ビット線に対して設けられた選択用MOSトランジス
タのうち択一的に選択された1つの選択用MOSトラン
ジスタを介してその選択されたビット線のみにプリチャ
ージ電圧が印加されることから、プリチャージ用MO3
)ランジスタは1つで済む。
[Operation: The precharge voltage is applied only to the selected bit line through one selection MOS transistor alternatively selected from among the selection MOS transistors provided for each bit line. From, MO3 for precharging
) Only one transistor is required.

また、データ読み出しのために選択されたビット線以外
はプリチャージされないことから、消費電力は少なくて
済むとともに、不必要なビット線ではプリチャージ及び
ディスチャージの際に生ずる過a電流の発生は無い。
Furthermore, since bit lines other than those selected for data reading are not precharged, power consumption is reduced, and unnecessary bit lines do not generate excessive a current that occurs during precharging and discharging.

[実施例] 以下、本発明をダイナミックROM回路に具体1ヒした
一実施例を第1図に従って説明する。
[Embodiment] An embodiment in which the present invention is applied to a dynamic ROM circuit will be described below with reference to FIG.

尚、本実施例はダイナミックROM回路のプリチャージ
機構に特徴を有するので、そのプリチャージ機構につい
て詳細に説明し、第2図に示す従来のダイナミックRO
M回路と同一のものは同一の記号を付して詳細な説明は
便宜上省略する。
Since this embodiment is characterized by the precharge mechanism of the dynamic ROM circuit, the precharge mechanism will be explained in detail and compared to the conventional dynamic ROM circuit shown in FIG.
Components that are the same as the M circuit are given the same symbols and detailed explanations are omitted for the sake of convenience.

第1図において、ビットラインデコーダ1は各ビット線
81〜Bnに対応してそれぞれ選択用のM OS ’[
’ r 8がそれぞれ設けられ、その各MO3’T’ 
r 8は各ビット線81〜Bnが共用する1本の出力線
9に接続されている。各MO3Tr8のゲートは対応す
るセレクト信号入力線S1〜Snにそれぞれ接続されて
いる。
In FIG. 1, the bit line decoder 1 has a selection MOS'[
' r 8 are provided respectively, and each MO3 'T'
r8 is connected to one output line 9 shared by each bit line 81 to Bn. The gate of each MO3Tr8 is connected to the corresponding select signal input line S1 to Sn.

そして、各セレクト信号人力線81〜S nに入力され
るセレクト信号Φs1〜Φsnによって、各MOS ’
r’ r 8のうち択一的に選択して1つを導通させそ
の選択されたM OS ’I” rに対応するビット線
を出力線9と電気的に接続させる。
Then, each MOS'
r' r 8 is alternatively selected and one is made conductive to electrically connect the bit line corresponding to the selected MOS 'I' r to the output line 9 .

又、曲記出力線9にはプリチャージ用のエンハンスメン
ト型MO3Tr21のソースが接続され、そのMO3T
r21のドレインはプリチャージ電源Vccに接続され
ている。そして、このグリチャジ用のMO3Tr21の
ゲートはプリチャージ1S号Φ1が入力される。
Further, the source of an enhancement type MO3Tr 21 for precharging is connected to the recording output line 9, and the MO3T
The drain of r21 is connected to the precharge power supply Vcc. The precharge 1S number Φ1 is input to the gate of this MO3Tr21 for gridage.

次に、上記のように構成されたダイナミックROMの作
用を第1図に鎖線で示す各データD1〜D6を)1r!
に読み出す動作に従って説明する。尚、各データD1〜
D6を読み出す際の各信号は第3図に示す従来のタイミ
ングチャートと同じなので説明の便宜上このタイミング
チャートに従って説明する。
Next, the operation of the dynamic ROM configured as described above is expressed by each data D1 to D6 shown by the chain lines in FIG.
The following describes the reading operation. In addition, each data D1~
Each signal when reading D6 is the same as the conventional timing chart shown in FIG. 3, so for convenience of explanation, the explanation will be made according to this timing chart.

データD1を読み出す場合、第1図においてワード線W
1 、 WyOにLレベルのアドレス信号A141゜A
朽0が、他のワード線WO、W2 、 W3 、 WV
1〜Vvy3にHレベルのアドレス信号AWO,A14
2. A113、 AJV1〜A W73が入力される
とともに、セレクト信号入力線S1のみにHレベルのセ
レクト信号ΦS1が入力されて、ビット線B1に対応す
る選択用MO3Tr8が導通して同ビット線B1のみが
出力線9と電気的に接続される。
When reading data D1, in FIG.
1. Address signal A141°A at L level on WyO
0 is connected to other word lines WO, W2, W3, WV
Address signal AWO, A14 at H level from 1 to Vvy3
2. A113, AJV1 to A W73 are input, and the H level select signal ΦS1 is input only to the select signal input line S1, the selection MO3Tr8 corresponding to the bit line B1 becomes conductive, and only the bit line B1 is output. It is electrically connected to line 9.

この状態とともに、プリチャージ信号Φ1がHレベルと
なり、プリチャージ用のMO3T’r21が導通すると
、プリチャージ電圧がビットラインデコーダ1を介して
印加される。即ち、出力線9及び導通状態にある選択用
のMO3Tr8を介してビット線B1のみがプリチャー
ジされる。
In this state, the precharge signal Φ1 becomes H level, and when the precharge MO3T'r21 becomes conductive, a precharge voltage is applied via the bit line decoder 1. That is, only the bit line B1 is precharged via the output line 9 and the selection MO3Tr 8 which is in a conductive state.

プリチャージ信号Φ1がHレベルからLレベルとなり、
ディスチャージ信号Φ2がLレベルからHレベルになる
と、ディスチャージ用のMO8Tr2が導通する。この
とき、データD1のMO3Tr3は非導通なので、ビッ
ト線B1はディスチャージされずI]レベルに保持され
出力線9の出力もHレベルとなる。このHレベルがデー
タD1としてインバータ回路10、ナンド回路11を介
して出力される。
Precharge signal Φ1 goes from H level to L level,
When the discharge signal Φ2 changes from the L level to the H level, the MO8Tr2 for discharge becomes conductive. At this time, since MO3Tr3 of data D1 is non-conductive, bit line B1 is not discharged and is held at I] level, and the output of output line 9 also becomes H level. This H level is output as data D1 via the inverter circuit 10 and the NAND circuit 11.

次に、データD2を読み出す場合、ワード線W2 、 
wyoにLレベルのアドレス信号AlA2. AWLl
oが、他のワード線WO、Wl 、 W3 、 Wy1
〜wy3にト[レベルのアドレス信号A140. AW
2. A143. AWV1〜A Wy3が入力される
とともに、同様にセレクト信号入力線S1のみに)−ル
ベルのセレクト信号ΦS1が入力され、ビットllB1
に対応する選択用のMO3’r’r8が導通して同ビッ
ト線B1のみが出力線9と電気的に接続される。
Next, when reading data D2, word line W2,
The address signal AlA2.wyo is at L level. AWLL
o is the other word line WO, Wl, W3, Wy1
to wy3, the address signal A140. A.W.
2. A143. AWV1 to AWy3 are input, and the select signal ΦS1 of ()-Level is input only to the select signal input line S1, and bit llB1 is input.
The selection MO3'r'r8 corresponding to the bit line B1 is electrically connected to the output line 9.

この状態とともに、プリチャージ信号Φ1がHレベルと
なると、前記と同様に出力線9及び導通状態にある選択
用のMOST r 8を介してビット線B1のみがプリ
チャージされる。
In this state, when the precharge signal Φ1 becomes H level, only the bit line B1 is precharged via the output line 9 and the selection MOST r 8 which is in the conductive state, as described above.

プリチャージ信号Φ1がHレベルからLレベルとなり、
ディスチャージ信号Φ2がLレベルからHレベルになる
と、ディスチャージ用のMOSTr2が導通する。この
とき、データD2の回路は常に導通なので、ビット線B
1はディスチャージ用のMO3Tr2を介してディスチ
ャージされLレベルとなり、出力線9の出力もLレベル
となる。
Precharge signal Φ1 goes from H level to L level,
When the discharge signal Φ2 changes from the L level to the H level, the discharge MOSTr2 becomes conductive. At this time, the circuit for data D2 is always conductive, so bit line B
1 is discharged to the L level through the MO3Tr2 for discharging, and the output of the output line 9 also becomes the L level.

このLレベルがデータD2として出力される。This L level is output as data D2.

次に、データD3を読み出す場合、ワード線W3 、 
WyoにLレベルのアドレス信号AW3. AWyOが
、他のワード線WQ 〜W2 、WVl 〜Wy3にH
レベルのアドレス信号AWO〜AW2゜Awyl 〜A
Wy3が入力されるとともに、同様にセレクト信号入力
′dAS2のみにト■レベルのセレクト信号Φs2が入
力され、ビット線B2に対応する選択用MO3Tr8が
導通して同ビット線B2のみが出力線9と電気的に接続
される。
Next, when reading data D3, word line W3,
Address signal AW3.Wyo at L level. AWyO is H to other word lines WQ~W2, WVl~Wy3.
Level address signal AWO~AW2゜Awyl~A
At the same time that Wy3 is input, the select signal Φs2 at the T level is also input only to the select signal input 'dAS2, the selection MO3Tr8 corresponding to the bit line B2 becomes conductive, and only the bit line B2 becomes the output line 9. electrically connected.

この状態とともに、プリチャージ信号Φ1が)ルベルと
なると、出力線9及び導通状態にある選択用MO3Tr
8を介してビット線B2のみがプリチャージされる。
Along with this state, when the precharge signal Φ1 becomes the level (), the output line 9 and the selection MO3Tr in the conductive state
Only the bit line B2 is precharged via the bit line B2.

プリチャージ信号Φ1がHレベルからLレベルとなり、
ディスチャージ信号Φ2がLレベルからHレベルになる
と、ディスチャージ用のMO3Tr2が導通する。この
とき、データD3の回路は常に導通なので、ビット線B
2はディスチャージ用のMO3Tr2を介してディスチ
ャージされLレベルとなり、出力線9の出力もLレベル
となる。
Precharge signal Φ1 goes from H level to L level,
When the discharge signal Φ2 changes from the L level to the H level, the MO3Tr2 for discharge becomes conductive. At this time, the circuit for data D3 is always conductive, so bit line B
2 is discharged to the L level through the MO3Tr2 for discharging, and the output of the output line 9 also becomes the L level.

そして、このLレベルがデータD3として出力される。Then, this L level is output as data D3.

以後、同様にデータD4を読み出す場合にはピッI−線
B2のみが、データD5を読み出す場合にはビット線B
3のみが、及び、データD6を読み出す場合にはビット
線Bnのみがそれぞれプリチャージされ、当該データD
4 、D5 、D6が順次読み出される。
Thereafter, in the same way, when reading data D4, only the bit line B2 is used, and when reading data D5, only the bit line B2 is used.
3, and when reading data D6, only bit line Bn is precharged, and the data D6 is read.
4, D5, and D6 are read out sequentially.

このように本実施例においてはビットラインデコーダ1
の出力線9から択一的に選択されて導通状態にある選択
用MO3Tr8を介してビット線をプリチャージするよ
うにしなので、選択されたビット線のみがプリチャージ
され、他の選択されない不必要なビット線はプリチャー
ジされることはない、従って、無駄なプリチャージ電力
の消費が行なわれず消費電力の低減を図ることができる
In this way, in this embodiment, the bit line decoder 1
Since the bit line is precharged via the selection MO3Tr 8 which is selectively selected from the output line 9 of The bit line is not precharged, so no wasteful precharge power is consumed, and power consumption can be reduced.

又、プリチャージ及びディスチャージの際に生じる過−
at流は選択されたビット線以外は発生しないので、全
体として過渡電流の低減を図ることができる。
Also, the overload that occurs during precharging and discharging
Since the at current is generated only in the selected bit line, it is possible to reduce the transient current as a whole.

しかも、プリチャージを既存のビットラインデコーダ1
中の選択用MOST r 8のうち択一的に選択された
MO3Trを介して行なうようにしたので、プリチャー
ジ用MO8Tr21は1つで済み、従来のように各ビッ
ト線毎に設けたり、選択されるビット線をプリチャージ
するための選択回路を別途新たに設けるのに比べて遥か
にプリチャージのための素子数を低減させることができ
、その分だけ高集積化を図ることができる。
Moreover, precharging can be done using existing bit line decoder 1.
Since this is done via the MO3Tr that is selectively selected from among the selection MOST r8 in the middle, only one MO8Tr21 is required for precharging, and it is not necessary to provide it for each bit line as in the conventional case, or to Compared to newly providing a selection circuit for precharging the bit line, the number of elements for precharging can be significantly reduced, and higher integration can be achieved accordingly.

尚、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、例
えば実施例で示すメモリセル構造と興なるメモリセル構
造よりなるダイナミック動作形式の半導体記憶装置に具
体化することも勿論可能である。
It should be noted that the present invention is not limited to this embodiment, and can of course be embodied in, for example, a dynamic operation type semiconductor memory device having a memory cell structure different from the memory cell structure shown in the embodiment.

[発明の効果] 以上詳述したように、本発明によれば各ビット線が共用
する出力線から選択用MOSトランジスタを介して択一
的に選択されたビット線のみをプリチャージするように
したので、プリチャージ用消費電力の低減及び過渡電流
の低減を図ることができるとともに、プリチャージ用M
OSトランジスタの数を低減させ高集積化を図ることが
できる潰れた効果を有する。
[Effects of the Invention] As detailed above, according to the present invention, only the bit line selectively selected from the output line shared by each bit line via the selection MOS transistor is precharged. Therefore, it is possible to reduce the power consumption for precharging and reduce the transient current, and the M for precharging can be reduced.
This has the advantage of reducing the number of OS transistors and achieving higher integration.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明を具体化した一実施例を示すダイナミッ
クROM回路図、第2図は従来のダイナミックROM回
路図、第3図はダイナミックROM回路中のデータD1
〜D6を読み出すためのタイミングチャート図である。
FIG. 1 is a dynamic ROM circuit diagram showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a conventional dynamic ROM circuit diagram, and FIG. 3 is data D1 in the dynamic ROM circuit.
It is a timing chart diagram for reading ~D6.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1、各ビット線(B1〜Bn)に対して接続された各選
択用MOSトランジスタ(8)を択一的に導通させて、
各ビット線(B1〜Bn)のうち1つを選択してデータ
を各ビット線共用の出力線(9)に出力する半導体記憶
装置において、前記出力線(9)に対してビット線プリ
チャージ用のプリチャージ電源(Vcc)をプリチャー
ジ用MOSトランジスタ(21)を介して接続してビッ
ト線プリチャージを行うようにしたことを特徴とする半
導体記憶装置。
1. Selectively conduct each selection MOS transistor (8) connected to each bit line (B1 to Bn),
In a semiconductor memory device that selects one of each bit line (B1 to Bn) and outputs data to an output line (9) shared by each bit line, the bit line precharge is used for the output line (9). 1. A semiconductor memory device characterized in that a bit line precharge is performed by connecting a precharge power supply (Vcc) of a precharge power source (Vcc) via a precharge MOS transistor (21).
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US5808950A (en) * 1996-06-24 1998-09-15 Nec Corporation Semiconductor storage device

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