JPH01235094A - I/o line load circuit - Google Patents

I/o line load circuit

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JPH01235094A
JPH01235094A JP63061425A JP6142588A JPH01235094A JP H01235094 A JPH01235094 A JP H01235094A JP 63061425 A JP63061425 A JP 63061425A JP 6142588 A JP6142588 A JP 6142588A JP H01235094 A JPH01235094 A JP H01235094A
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reference voltage
transistor
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勝己 堂阪
Masaki Kumanotani
正樹 熊野谷
Yasuhiro Konishi
康弘 小西
Hiroyuki Yamazaki
山崎 宏之
Takahiro Komatsu
隆宏 小松
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Abstract

PURPOSE:To speed up access by controlling the potentials of 1st and 2nd I/O lines via a potential control means based on 1st and 2nd reference voltage levels that vary in accordance with the action mode of a semiconductor memory. CONSTITUTION:A potential control means 13 contains 1st and 2nd N channel MOS transistors TR1001 and TR1003 which are connected between the I/O line pairs 1 and 2 and a 1st power supply 11 having a potential higher than the precharge potentials of the line pairs 1 and 2. At the same time, the control 13 also includes 3rd and 4th P channel MOS TR1002 and TR1004 which are connected between the line pairs 1 and 2 and a 2nd power supply 12 having a potential lower than the line pairs 1 and 2. The output voltage of the power supply 11 is applied to the gates of both TR1001 and TR1003; while the output voltage of the power supply 12 is given to the gates of both TR1002 and TR1004 respectively. As a result, the potential of each I/O line is always controlled in an optimum state and the access speed is increased.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、I/O線負荷回路に関し、特に半導体記憶
装置におけるI/O線対電位をその動作サイクルに応じ
て所定の電位に制御するための工/O線負荷回路に関す
る。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to an I/O line load circuit, and particularly to a circuit for controlling an I/O line pair potential in a semiconductor memory device to a predetermined potential according to its operation cycle. This article relates to an engineering/O line load circuit for

[従来の技術] 第9図は、従来のダイナミック型半導体記憶装置の一例
を示した回路図である。図において、この半導体記憶装
置は、1トランジスター1キヤパシタ型のメモリセルを
それぞれ2ビット分含むメモリセル対1.04,/O4
・・・と、ビット線BLとn間の電位差の増幅を行なう
センスアンプ/O5./O5・・・と、ビット線BLと
I/O線1.ビットIBLとl/O412を接続するた
めのI/Oスイッチ/O6,/O6・・・と、各I/O
スイッチ/O6を制御するための列デコーダ/O7./
O7・・・と、I/O線対1および2をプリチャージお
よびイコライズするためのプリチャージ・イコライズ回
路/O1と、I/O線対1および2の情報を増幅し、リ
ードデータバスRDに伝えるプリアンプ/O2と、ライ
トデータバスWDの情報をI/O線対1および2に伝え
I/Oスイッチ/O6゜ビット線BLおよびBL、セン
スアンプ/O5を経由してメモリセルに情報を書込むた
めの書込バッファ/O3とを備えている。
[Prior Art] FIG. 9 is a circuit diagram showing an example of a conventional dynamic semiconductor memory device. In the figure, this semiconductor memory device has a memory cell pair 1.04,/O4 each including one transistor, one capacitor type memory cell for 2 bits.
. . . and a sense amplifier/O5 . . . which amplifies the potential difference between bit lines BL and n. /O5..., bit line BL and I/O line 1. I/O switches /O6, /O6... for connecting bit IBL and l/O412, and each I/O
Column decoder /O7. for controlling switch /O6. /
O7..., a precharge/equalization circuit /O1 for precharging and equalizing I/O line pairs 1 and 2, and amplifying the information on I/O line pairs 1 and 2 and transmitting the information to the read data bus RD. Information is written to the memory cell via the preamplifier/O2 and write data bus WD to the I/O line pair 1 and 2 via the I/O switch/O6, bit lines BL and BL, and sense amplifier/O5. It is equipped with a write buffer /O3 for reading data.

次に、上記従来装置の動作について説明する。Next, the operation of the above conventional device will be explained.

まず、多数のワード線WLI、WL2・・・のうち1本
のワード線が活性状態になることで、各ビット線対BL
およびBLにつき各々1ビツトのメモリセルが選択され
、その情報がビット線BLまたはBLに読出される。こ
の状態でセンスアンプ活性化信号φSN、  φSPを
活性状態にすると、ビット線対BLおよびBL間の電位
差がセンスアンプ/O5で増幅およびラッチされ、選択
メモリセルの読出およびリフレッシュが行なわれる。一
方、このときにI/O線イコライズ信号l0EQが活性
状態になっており、プリチャージ回路/O1によってI
/O線対1および2は電源電圧Vccにプリチャージさ
れている。次に、センス動作が完了すると、ただ1つの
列デコーダ/O7が選択状態になり、これに接続された
I/Oゲート/O6が導通して選択ビット線BLとI/
O/O線1択ビット線BLとI/O線2がそれぞれ接続
される。
First, one word line among a large number of word lines WLI, WL2... becomes active, so that each bit line pair BL
A 1-bit memory cell is selected for each of the bit lines BL and BL, and the information thereof is read onto the bit line BL or BL. When sense amplifier activation signals φSN and φSP are activated in this state, the potential difference between bit line pair BL and BL is amplified and latched by sense amplifier /O5, and the selected memory cell is read and refreshed. On the other hand, at this time, the I/O line equalize signal l0EQ is in the active state, and the I/O line equalize signal l0EQ is activated by the precharge circuit /O1.
/O line pair 1 and 2 are precharged to power supply voltage Vcc. Next, when the sensing operation is completed, only one column decoder /O7 becomes selected, and the I/O gate /O6 connected to it becomes conductive to connect the selected bit line BL and I/O gate.
O/O line 1 selection bit line BL and I/O line 2 are respectively connected.

なお、このときI/O線イコライズ信号l0EQは非活
性状態にされている。したがって、I/O線対1および
2の電位は“H″レベル電源電位Vcc、  “L°レ
ベルが接地電位OVになる。このI/O線対1および2
の情報は、プリアンプ活性化信号PAEを活性状態にす
ることによって、カレントミラー増幅器と3ステートバ
ツフアで構成されたプリアンプ/O2を介してリードデ
ータバスRDに出力される。
Note that at this time, the I/O line equalize signal l0EQ is inactive. Therefore, the potential of the I/O line pair 1 and 2 becomes the “H” level power supply potential Vcc, and the “L° level becomes the ground potential OV.
By activating the preamplifier activation signal PAE, the information is output to the read data bus RD via the preamplifier/O2 composed of a current mirror amplifier and a 3-state buffer.

上記のごとく、第9図の従来装置では、情報の読出時に
I/O線1またはI/O線2のレベルがVccからOv
まで変化するが、この振幅はカレントミラー増幅器の利
得から考えると過大な振幅である。そのため、この過大
な振幅は、たとえばダイナミック型半導体記憶装置のベ
ージモードサイクルにおいてまずI/O線1が“Hoす
なわちVccであったものが次の続出時に“L”すなわ
ちOVに変化する必要があるときに、I/O線電位の変
化に要する時間を長くさせる。また、各サイクルごとに
I/O線イコライズ信号/OEQを活性化するように構
成すると、イコライズに要する時間が長くなり、いずれ
にしてもアクセス時間の遅延を招(。
As mentioned above, in the conventional device shown in FIG. 9, the level of I/O line 1 or I/O line 2 changes from Vcc to Ov when reading information.
However, this amplitude is excessive considering the gain of the current mirror amplifier. Therefore, this excessive amplitude requires that, for example, in the page mode cycle of a dynamic semiconductor memory device, I/O line 1 is initially at "Ho" or Vcc, but then changes to "L" or OV when the next signal is applied. In some cases, the time required for the I/O line potential to change becomes longer.Also, if the I/O line equalization signal /OEQ is activated in each cycle, the time required for equalization becomes longer, and in any case, However, this may cause delays in access time.

上記の欠点を改良した従来例として第/O図に示すもの
がある。この第/O図に示す従来装置は第9図に示した
従来装置にI/O線対1および2のクランプ用トランジ
スタ200を付加したものである。すなわち、リードサ
イクル時にはI/O線クランプ信号/OCLを活性状態
にしておくことにより、I/O線1またはI/O線2の
“L″レベルほぼVCCVTN−α(VTMはトランジ
スタ200のしきい値電圧)にクランプする。
A conventional example that improves the above-mentioned drawbacks is shown in FIG. The conventional device shown in FIG. 10 is obtained by adding clamping transistors 200 for I/O line pairs 1 and 2 to the conventional device shown in FIG. That is, by keeping the I/O line clamp signal /OCL active during the read cycle, the "L" level of I/O line 1 or I/O line 2 is approximately VCCVTN-α (VTM is the threshold of transistor 200). voltage).

これによって、第9図の装置で述べた原因によるアクセ
ス時間の遅延はなくなる。しかし、カレントミラー増幅
器は入力電圧がVCC近傍であると利得が小さくなると
いう特性かあるので、これによるアクセスの遅延を生じ
る。また、プリチャージ回路/O1のPチャネルMO3
FETを省略するとI/O線プリチャージ電位を下げる
ことができるが、電源電圧の負バンプすなわち動作中に
電源電圧が低下した際にI/O線対1および2に高電圧
が残り、このためにアクセス遅延を生じる。
This eliminates the access time delay due to the causes described in connection with the device of FIG. However, since the current mirror amplifier has a characteristic that its gain decreases when the input voltage is near VCC, this causes an access delay. Also, P channel MO3 of precharge circuit/O1
If the FET is omitted, the I/O line precharge potential can be lowered, but when there is a negative bump in the power supply voltage, that is, when the power supply voltage drops during operation, a high voltage remains on the I/O line pair 1 and 2. access delay occurs.

なお、書込時はI/O線クランプ信号I OCLを非活
性にすることで、クランプ回路200が書込バッファ/
O3の負荷にならないようにしている。
Note that during writing, by inactivating the I/O line clamp signal IOCL, the clamp circuit 200 can operate the write buffer/
I try not to put a load on O3.

[発明が解決しようとする課H 以上のごとく、従来の半導体記憶装置はI/O線対の振
幅が大きすぎたり、プリアンプをカレントミラー増幅器
の最も利得の低い領域で動作させているので、アクセス
時間が遅くなる。また、■/O線をVcc−V、)1に
クランプする従来例では、負バンプを受けた際にアクセ
スの遅延が起こる。
[Problem to be solved by the invention H As described above, in conventional semiconductor memory devices, the amplitude of the I/O line pair is too large, and the preamplifier is operated in the lowest gain region of the current mirror amplifier, so access Time slows down. Furthermore, in the conventional example in which the /O line is clamped to Vcc-V, )1, an access delay occurs when a negative bump is received.

この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、負バンプによるアクセスの遅延を生じること
なくアクセス時間の高速化が図れるようなI/O/O線
負荷を提供することを目的とする。
This invention was made to solve the above problems, and aims to provide an I/O/O line load that can speed up access time without causing access delays due to negative bumps. purpose.

[課題を解決するための手段] この発明に係るI/O/O線負荷は、半導体記憶装置の
動作モードに応じて複数種類の異なる基準電圧を発生す
る第1および第2の基準電圧発生手段と、これら第1お
よび第2の基準電圧発生手段の各出力電圧に基づいて第
1および第2のI/O線の電位を制御するための電位制
御手段とを備えており、上記電位制御手段は、I/O線
対のプリチャージ電位より電位の高い第1の電源と第1
のI/O線および第2のI/O線との間にそれぞれ接続
される第1および第2のNチャネル型MOSトランジス
タと、I/O線対のプリチャージ電位より電位の低い第
2の電源と第1のI/O線および第2のI/O線との間
にそれぞれ接続される第3および第4のPチャネル型M
OSトランジスタとを含んでおり、第1の基準電圧発生
手段の出力電圧は第1および第2のNチャネル型MOS
トランジスタの各ゲートに与えられ、第2の基準電圧発
生手段の出力電圧は第3および第4のPチャネル型MO
Sトランジスタの各ゲートに与えられる。
[Means for Solving the Problems] The I/O/O line load according to the present invention includes first and second reference voltage generation means that generate a plurality of different reference voltages depending on the operation mode of a semiconductor memory device. and potential control means for controlling the potentials of the first and second I/O lines based on the respective output voltages of the first and second reference voltage generation means, the potential control means is a first power supply whose potential is higher than the precharge potential of the I/O line pair;
and a second I/O line, respectively, and a second N-channel MOS transistor whose potential is lower than the precharge potential of the I/O line pair. third and fourth P-channel type M connected between the power supply and the first I/O line and the second I/O line, respectively;
The output voltage of the first reference voltage generating means is supplied to the first and second N-channel type MOS transistors.
The output voltage of the second reference voltage generating means is applied to each gate of the transistor, and the output voltage of the second reference voltage generating means is applied to the third and fourth P-channel type MO
Provided to each gate of the S transistor.

[作用] この発明においては、半導体記憶装置の動作モードに応
じてその値が変化する第1および第2の基準電圧に基づ
いて電位制御手段が第1および第2のI/O線の電位を
制御することにより、工/O線対の電位を常にアクセス
の高速化のために最適な値に保っている。
[Operation] In the present invention, the potential control means controls the potentials of the first and second I/O lines based on the first and second reference voltages whose values change depending on the operation mode of the semiconductor memory device. By controlling this, the potential of the I/O line pair is always kept at an optimal value for speeding up access.

[実施例] この発明は、本件出願人が先に提案した特開昭62−3
6848号公報および特開昭62−119613号公報
で示された半導体集積回路の内部電源電圧発生回路をI
/O/O線負荷として応用したものである。第11図は
特開昭62−36848号公報に第1図として示されて
いる回路である。その特徴は、上記特開昭62−368
48号公報に詳細に述べであるとおり、基準電圧発生回
路3からトランジスタQ5のゲートに加えられる電圧を
所望の出力電圧VoよりトランジスタQ5のしきい値電
圧骨だけ高くしておいて出力電圧VOより下がったとき
にのみトランジスタQ5を導通させるとともに、基準電
圧発生回路6からトランジスタQ6のゲートに加えられ
る電圧を上記出力電圧VoよりトランジスタQ6のしき
い値電圧骨だけ低くしておいて出力電圧Voより上がっ
たときにのみトランジスタQ6を導通させることによっ
て、ノードN7に導出される出力電圧Voを一定値に保
つようにしたものである。
[Example] This invention is based on Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-3, which was previously proposed by the applicant.
The internal power supply voltage generation circuit of a semiconductor integrated circuit disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 6848 and Japanese Patent Application Laid-open No. 119613/1982 is
/O/O line load. FIG. 11 is a circuit shown as FIG. 1 in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-36848. Its characteristics are the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-368.
As described in detail in Publication No. 48, the voltage applied from the reference voltage generation circuit 3 to the gate of the transistor Q5 is set higher than the desired output voltage Vo by the threshold voltage of the transistor Q5, and then the output voltage VO is set higher than the desired output voltage Vo. The transistor Q5 is made conductive only when the voltage drops, and the voltage applied from the reference voltage generation circuit 6 to the gate of the transistor Q6 is lowered by the threshold voltage of the transistor Q6 than the output voltage Vo. By making the transistor Q6 conductive only when the voltage rises, the output voltage Vo delivered to the node N7 is kept at a constant value.

第1図はこの発明によるI/O/O線負荷の一実施例を
示す回路図である。このような1/O線負荷回路/O0
は、従来のプリチャージ・イコライズ回路/O1および
クランプ用トランジスタ200に代えて、I/O線対1
および2に接続される(第2図参照)。第1図において
、i/O/O線負荷/O0は、概略的には、第1の基準
電圧発生回路11と、第2の基準電圧発生回路12と、
電圧制御回路13とを備えている。第1の基準電圧発生
回路11および第2の基準電圧発生回路12は、それぞ
れ、第2図に示される半導体記憶装置の各動作モードに
応じて複数種類の基準電圧を発生しノードNOIおよび
NO2に出力するものである。電圧制御回路13は第1
の基準電圧発生回路11および第2の基準電圧発生回路
12から与えられる基準電圧に基づいて、I/O線対1
および2の電位を所定の値に制御するためのものである
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the I/O/O line load according to the present invention. Such a 1/O line load circuit/O0
replaces the conventional precharge/equalize circuit /O1 and clamping transistor 200 with an I/O line pair 1
and 2 (see Figure 2). In FIG. 1, the i/O/O line load /O0 schematically includes a first reference voltage generation circuit 11, a second reference voltage generation circuit 12,
The voltage control circuit 13 is also provided. The first reference voltage generation circuit 11 and the second reference voltage generation circuit 12 each generate a plurality of types of reference voltages according to each operation mode of the semiconductor memory device shown in FIG. This is what is output. The voltage control circuit 13 is the first
Based on the reference voltages provided from the reference voltage generation circuit 11 and the second reference voltage generation circuit 12,
and 2 to control the potentials to predetermined values.

上記第1の基準電圧発生回路11は、電源と接地との間
に抵抗1113とMOSトランジスタ1111とMOS
トランジスタ1112と抵抗1114とがその順番で接
続された直列回路を含む。
The first reference voltage generation circuit 11 includes a resistor 1113, a MOS transistor 1111, and a MOS transistor connected between the power supply and the ground.
It includes a series circuit in which a transistor 1112 and a resistor 1114 are connected in that order.

なお、MOSトランジスタ1111はそのドレインおよ
びゲートが共にノードN11に接続されており、MOS
トランジスタ1112はそのドレインおよびゲートが共
にノードN12に接続されている。この直列回路は、第
11図における基準電圧発生回路3に対応している。ま
た、第1の基準電圧発生回路11は、ノードNllとN
OIとの間に介挿されたMOSトランジスタ/O11と
、ノードN12とNOIとの間に介挿されたMOSトラ
ンジスタ/O12とを含む。これらMO3I−ランジス
タ/O11および/O12のゲートにはそれぞれ制御信
号φAおよびφBが与えられる。
Note that the drain and gate of the MOS transistor 1111 are both connected to the node N11, and the MOS transistor 1111 has its drain and gate connected to the node N11.
Transistor 1112 has its drain and gate both connected to node N12. This series circuit corresponds to the reference voltage generation circuit 3 in FIG. Further, the first reference voltage generation circuit 11 has nodes Nll and N
It includes a MOS transistor /O11 inserted between the node N12 and the NOI, and a MOS transistor /O12 inserted between the node N12 and the NOI. Control signals φA and φB are applied to the gates of these MO3I-transistors /O11 and /O12, respectively.

これらMOSトランジスタ/O11および/O12は、
ノードNllおよびN12の電位のいずれかを選択して
ノードNOIに伝達する選択回路を形成している。さら
に、ノードNOIと接地との間には、MOSトランジス
タ/O13が介挿され、このMOSトランジスタ/O1
3のゲートには制御信号φCが与えられる。このMOS
トランジスタ/O13は、ノードNOIの電位を強制的
に接地電位に下げるためのプルダウン用のトランジスタ
である。なお、第1の基準電圧発生回路11で用いられ
る各MOSトランジスタには、エンハンスメント型のN
チャネルMOSトランジスタが用いられる。
These MOS transistors /O11 and /O12 are
A selection circuit is formed that selects one of the potentials of nodes Nll and N12 and transmits it to node NOI. Further, a MOS transistor /O13 is inserted between the node NOI and the ground, and this MOS transistor /O1
A control signal φC is applied to the gate of No. 3. This MOS
Transistor /O13 is a pull-down transistor for forcibly lowering the potential of node NOI to the ground potential. Note that each MOS transistor used in the first reference voltage generation circuit 11 includes an enhancement type N
A channel MOS transistor is used.

次に、第2の基準電圧発生回路12は、電源と接地との
間に抵抗1124とMOSトランジスタ1]22とMO
Sトランジスタ1121と抵抗1123とがその順番で
接続された直列回路を含む。
Next, the second reference voltage generation circuit 12 connects a resistor 1124 and a MOS transistor 1]22 and a MOSFET between the power supply and ground.
It includes a series circuit in which an S transistor 1121 and a resistor 1123 are connected in that order.

なおMOSトランジスタ1122はそのソースおよびゲ
ートが共にノードN14に接続されており、MOSトラ
ンジスタ1121はそのソースおよびゲートが共にノー
ドN1Bに接続されている。この直列回路は、第11図
における基準電圧発生回路6に対応している。また、第
2の基準電圧発生回路12は、ノードN14とノードN
O2との間に介挿されたMOSトランジスタ/O22と
、ノードN13とNO2との間に介挿されたMOSトラ
ンジスタ/O21とを含む。これらMOSトランジスタ
/O22および/O21のゲートにはそれぞれ制御信号
φBおよびφAが与えられる。そして、これらMOSト
ランジスタ/O22および/O21は、ノードN14お
よびN13の電位のいずれかを選択してノードNO2に
伝達する選択回路を形成している。さらに、ノードNO
2と電源との間には、MOSトランジスタ/O23が介
挿され、このMO3I−ランジスタ/O23のゲートに
は制御信号φCが与えられる。このMO8I−ランジス
タ/O23は、ノードNO2の電位を強制的に電源電圧
に上げるためのプルアンプ用のトランジスタである。な
お、第2の基準電圧発生回路12で用いられる各MO3
トランジスタは、エンハンスメント型のPチャネル型M
OSトランジスタが用いられる。
Note that the source and gate of MOS transistor 1122 are both connected to node N14, and the source and gate of MOS transistor 1121 are both connected to node N1B. This series circuit corresponds to the reference voltage generation circuit 6 in FIG. Further, the second reference voltage generation circuit 12 connects the node N14 and the node N
MOS transistor /O22 inserted between node N13 and NO2, and MOS transistor /O21 inserted between node N13 and NO2. Control signals φB and φA are applied to the gates of these MOS transistors /O22 and /O21, respectively. These MOS transistors /O22 and /O21 form a selection circuit that selects one of the potentials of nodes N14 and N13 and transmits it to node NO2. Furthermore, node NO.
A MOS transistor /O23 is inserted between MO3I-transistor /O23 and the power supply, and a control signal φC is applied to the gate of this MO3I-transistor /O23. This MO8I-transistor/O23 is a pull amplifier transistor for forcibly raising the potential of the node NO2 to the power supply voltage. Note that each MO3 used in the second reference voltage generation circuit 12
The transistor is an enhancement type P channel type M
OS transistors are used.

次に、電圧制御回路13は、電源と接地との間に直列に
接続されたNチャネル型MO8トランジスタ/O01お
よびPチャネル型MO8!−ランジスタ/O02と、同
じく電源と接地との間に直列に接続されたNチャネル型
MOSトランジスタ/O03およびPチャネル型MO3
トランジスタ/O04との2つの直列回路を含む。これ
ら2つの直列回路は、それぞれ第11図の内部電源電圧
出力段7に対応している。したがって、MOSトランジ
スタ/O01および/O03の各ゲートには第1の基準
電圧発生回路11の出力電圧すなわちノードNOIの電
位が与えられ、MO3I−ランジスタ/O02および/
O04の各ゲートには第2の基準電圧発生回路]2の出
力電圧すなわちノ−ドNO2の電位が与えられる。また
、I/O線1およびI/O線2の間には、Nチャネル型
MOSトランジスタ/O05が介挿され、このMOSト
ランジスタ/O05のゲートには第9図のプリチャージ
・イコライズ回路/O1に与えられるのと同様のI/O
線イコライズ信号I OEQが与えられる。このMOS
トランジスタ/O05は、半導体記憶装置からのデータ
の読出前にI/O線対1および2を短絡させるためのイ
コライズトランジスタである。
Next, the voltage control circuit 13 includes an N-channel MO8 transistor /O01 and a P-channel MO8! transistor connected in series between the power supply and ground. - N-channel type MOS transistor /O03 and P-channel type MO3, which are also connected in series between the transistor /O02 and the power supply and ground.
Contains two series circuits with transistor /O04. These two series circuits correspond to the internal power supply voltage output stage 7 in FIG. 11, respectively. Therefore, the output voltage of the first reference voltage generation circuit 11, that is, the potential of the node NOI is applied to each gate of the MOS transistors /O01 and /O03, and the MO3I-transistors /O02 and
The output voltage of the second reference voltage generation circuit]2, that is, the potential of the node NO2 is applied to each gate of O04. Further, an N-channel type MOS transistor /O05 is inserted between I/O line 1 and I/O line 2, and the gate of this MOS transistor /O05 is connected to the precharge/equalize circuit /O1 shown in FIG. I/O similar to that given to
A line equalization signal IOEQ is provided. This MOS
Transistor /O05 is an equalization transistor for shorting I/O line pair 1 and 2 before reading data from the semiconductor memory device.

次に、第/O図に示されるようなI/O線イコライズ信
号/OEQとI/O線クランプ信号l0CLとを用いて
第1図の回路で使用される各制御するだめの制御信号発
生回路の一例を第3図に示す。図示のごとく、この制御
信号発生回路は、5つのインバータ13〜17と、2つ
のANDゲート18および19とで構成される。
Next, a control signal generation circuit for each control used in the circuit of FIG. 1 using the I/O line equalize signal /OEQ and the I/O line clamp signal l0CL as shown in FIG. An example is shown in FIG. As shown in the figure, this control signal generation circuit is comprised of five inverters 13-17 and two AND gates 18 and 19.

次に、第1図に示す実施例の動作を説明する。Next, the operation of the embodiment shown in FIG. 1 will be explained.

まず、第1の基準電圧発生回路11および第2の基準電
圧発生回路12における基$電圧の発生メカニズムにつ
いて説明する。第1の基準電圧発生回路11において、
抵抗1113と1114のそれぞれの抵抗値を等しくシ
、かつMOSトランジスタ1111および1112に同
じ特性を持つトランジスタを使用すると、ノードNil
の電位は(Vc c/2)+VT N となり、ノード
N12の電位はVccとなる。なお、VTNはNチャネ
ル型MOSトランジスタのしきい値電圧である。
First, the generation mechanism of the base voltage in the first reference voltage generation circuit 11 and the second reference voltage generation circuit 12 will be explained. In the first reference voltage generation circuit 11,
If the resistance values of resistors 1113 and 1114 are made equal and transistors with the same characteristics are used as MOS transistors 1111 and 1112, the node Nil
The potential of the node N12 becomes (Vc c/2)+VT N and the potential of the node N12 becomes Vcc. Note that VTN is the threshold voltage of an N-channel type MOS transistor.

一方、第2の基準電圧発生回路12において、抵抗1ユ
24と1123との抵抗値を等しくし、かつMOSトラ
ンジスタ1122および1121に同じ特性を持つトラ
ンジスタを使用すると、ノードN14の電位はVcc/
2となり、ノードN13の電位は(Vc c/2)−1
VT p  lとなる。
On the other hand, in the second reference voltage generation circuit 12, if the resistance values of the resistors 124 and 1123 are made equal, and transistors having the same characteristics are used as the MOS transistors 1122 and 1121, the potential of the node N14 becomes Vcc/
2, and the potential of node N13 is (Vc c/2)-1
VT p l.

なお%V工PはPチャネル型MOSトランジスタのしき
い値電圧である。
Note that %Vp is the threshold voltage of the P-channel MOS transistor.

次に、第1図の実施例の動作を、第2図に示す半導体記
憶装置における各動作モード別に説明する。
Next, the operation of the embodiment shown in FIG. 1 will be explained for each operation mode in the semiconductor memory device shown in FIG. 2.

■I/O線対1および2の プリチャージ時における動作 この場合、第1図における各制御信号は、φA−“H”
、φB−φC−“L”、φA−“L”。
■Operation during precharging of I/O line pairs 1 and 2 In this case, each control signal in FIG.
, φB-φC-“L”, φA-“L”.

φB−φC−″H”とされる。そのため、ノードNOI
、NO2の電位は、それぞれ、(Vcc/2) +VT
N 、  (Vcc/2)   IVTP  lとなる
ので、I/O線1の電位がV c c / 2より上が
るとトランジスタ/O02によって電位が下げられ、I
/O線1の電位がV c c / 2より下がるとトラ
ンジスタ/O01によって電位が上げられる。
φB-φC-"H". Therefore, the node NOI
, NO2 potential is (Vcc/2) +VT
N , (Vcc/2) IVTP l, so when the potential of I/O line 1 rises above Vcc/2, the potential is lowered by transistor /O02, and I
When the potential of the /O line 1 falls below V c c /2, the potential is raised by the transistor /O01.

その結果、I/O線1の電位はV c c / 2に一
定化される。このときに、電源電圧がVccからVcc
’ に変動すると、ノードNOI、NO2の電位は、そ
れぞれ、(V c c’ / 2) +VT N 。
As a result, the potential of the I/O line 1 is kept constant at Vcc/2. At this time, the power supply voltage changes from Vcc to Vcc.
' , the potentials of nodes NOI and NO2 are respectively (V c c' / 2) +VT N .

(Vcc’/2)   IVTPIとなるので、■/O
線1の電位はVcc’/2となり、従来例で述べたよう
な負バンブによってI/O線1に高電位が残ることはな
くなる。I/O線2についても上記と同様にMOSトラ
ンジスタ/O03および/O04のスイッチング作用に
より、その電位はVc c / 2に一定化されるとと
もに、さらに電源電圧の変動に対してもその電位が追従
することとなる。さらに、このときMOSトランジスタ
/O05をオンさせることによって、I/O線1と■/
O線2を短絡させて同電位にする。
(Vcc'/2) IVTPI, so ■/O
The potential of the line 1 becomes Vcc'/2, and a high potential does not remain on the I/O line 1 due to the negative bump as described in the conventional example. Similarly to the above, the potential of I/O line 2 is kept constant at Vc c / 2 by the switching action of MOS transistors /O03 and /O04, and the potential also follows fluctuations in the power supply voltage. I will do it. Furthermore, by turning on MOS transistor /O05 at this time, I/O line 1 and
Short-circuit the O wires 2 to make them have the same potential.

■データの読出モード時における動作 この場合、第1図に示す各制御信号は、φB=“H″、
φA=φC−“L″、φB=“L″、φA−φC−“H
#とされる。そのため、ノードN01、NO2は共にV
 c c / 2になるので、■/O線1の電位が(V
cc/2)−VT N以下になるとMOSトランジスタ
/O01によってI/O線1の電位が上げられ、I/O
線1の電位が(Vcc/2) +1VTP  1以上に
なるとMOSトランジスタ/O02によってI/O線1
の電位が下げられるので、I/O線1の振幅はV c 
c / 2を中心としてVTN+1VTPl+αとなる
。ただし、αはMOSトランジスタ/O01,/O02
とセンスアンプ/O5.I/Oスイッチ/O6を構成す
るMOSトランジスタとのサイズで決まる値である。こ
のときに、電源電圧がVccからVcc’ に変動した
場合は、ノードNOI、NO2は共にVcc’/2にな
るので、I/O線1の振幅は■CC′/2を中心とLテ
Vy N + l VT PI+αとなる。したがって
、負バンプが発生してもI/O線1には高電位は残らな
い。同様に、I/O線2についてもMOSトランジスタ
/O03および/O04の作用によりその中心電位およ
び振幅が規制されるとともに、電源電圧の変動に追従し
てその電位が変動する。
■Operation in data read mode In this case, each control signal shown in FIG.
φA=φC-“L”, φB=“L”, φA-φC-“H
It is said to be #. Therefore, both nodes N01 and NO2 are at V
c c / 2, so the potential of ■/O line 1 is (V
cc/2)-VT When the voltage becomes lower than N, the potential of I/O line 1 is raised by MOS transistor /O01, and the I/O
When the potential of line 1 exceeds (Vcc/2) +1VTP 1, MOS transistor /O02 connects I/O line 1.
Since the potential of I/O line 1 is lowered, the amplitude of I/O line 1 is V c
Centered around c/2, it becomes VTN+1VTPl+α. However, α is the MOS transistor /O01, /O02
and sense amplifier/O5. This value is determined by the size of the MOS transistor that constitutes the I/O switch /O6. At this time, if the power supply voltage fluctuates from Vcc to Vcc', both nodes NOI and NO2 become Vcc'/2, so the amplitude of I/O line 1 is centered around CC'/2 and Lte Vy. N + l VT PI + α. Therefore, even if a negative bump occurs, no high potential remains on the I/O line 1. Similarly, the center potential and amplitude of I/O line 2 are regulated by the action of MOS transistors /O03 and /O04, and the potential fluctuates in accordance with fluctuations in the power supply voltage.

■データの書込モード時における動作 この場合、第1図に示される各制御信号は、φC−“H
”、φA−φB−”L”、φC−“L″。
■Operation in data write mode In this case, each control signal shown in FIG.
”, φA-φB-”L”, φC-“L”.

φA−φB−“H”とされる。そのため、ノードN01
はOv、ノードNO2はvCCになるので、I/O線1
の電位がVcc〜Ovの範囲ではMOSトランジスタ/
O01./O02は非導通状態を保つ。なお、I/O線
2に対してもMOSl−ランジスク/O03および/O
04の作用により上記と同様の電圧制御がなされる。
φA−φB− is set to “H”. Therefore, node N01
is Ov and node NO2 is vCC, so I/O line 1
When the potential of is in the range of Vcc to Ov, the MOS transistor/
O01. /O02 remains non-conductive. In addition, for I/O line 2, MOS l-ranjisk /O03 and /O
The same voltage control as above is performed by the action of 04.

以上説明した3つの動作モードにおいて、MOSトラン
ジスタ/O01と/O02との動作状態を第4図(a)
に示しておく。なお、第4図(a)において斜線部はM
OSトランジスタがオフしていることを示している。
Figure 4(a) shows the operating states of MOS transistors /O01 and /O02 in the three operating modes explained above.
It is shown below. In addition, in FIG. 4(a), the shaded area is M.
This indicates that the OS transistor is off.

上記のごとく、第1図の実施例では、プリアンプ/O2
におけるカレントミラー増幅器の利得の高い領域でI/
O線対1および2の振幅を一定に保っているので、高速
のアクセスが可能になる。
As mentioned above, in the embodiment shown in FIG.
In the high gain region of the current mirror amplifier in
Since the amplitude of the O line pair 1 and 2 is kept constant, high-speed access is possible.

このことを、従来装置との対比において第5図に示して
おく。なお、第5図(a)は第1図の実施例の場合を示
し、第5図(b)は第/O図に示す従来装置の場合を示
している。
This is shown in FIG. 5 in comparison with a conventional device. Note that FIG. 5(a) shows the case of the embodiment shown in FIG. 1, and FIG. 5(b) shows the case of the conventional device shown in FIG.

また、第1図の実施例では、電源電圧が変動したときも
、それに追従してI/O線対1および2の電位を変化さ
せているので、負バンプによるアクセスの遅延も排除す
ることができる。
Furthermore, in the embodiment shown in FIG. 1, even when the power supply voltage fluctuates, the potentials of the I/O line pair 1 and 2 are changed accordingly, making it possible to eliminate access delays caused by negative bumps. can.

第6図は、この発明の他の実施例を示す回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram showing another embodiment of the invention.

図において、この実施例は第1および第2の基準電圧発
生回路11および12が第1図に示す実施例と異なって
いる。すなわち、第1の基準電圧発生回路11は、基準
電圧発生のために、2つの直列回路を供えている。一方
の直列回路は、電源と接地との間に直列に介挿された抵
抗1213、Nチャネル型MOSトランジスタ1211
゜Nチャネル型MOSトランジスタ1212および抵抗
1214で構成されている。また、他方の直列回路は、
電源と接地との間に直列に介挿された抵抗1216.N
チャネル型MOSトランジスタ1215および抵抗12
17で構成されている。
In the figure, this embodiment differs from the embodiment shown in FIG. 1 in first and second reference voltage generating circuits 11 and 12. That is, the first reference voltage generation circuit 11 includes two series circuits for generating a reference voltage. One series circuit includes a resistor 1213 and an N-channel MOS transistor 1211 inserted in series between the power supply and ground.
It is composed of an N-channel type MOS transistor 1212 and a resistor 1214. Also, the other series circuit is
A resistor 1216 inserted in series between the power supply and ground. N
Channel type MOS transistor 1215 and resistor 12
It consists of 17.

一方、第2の基準電圧発生回路12においても同様に、
基準電圧発生のための2つの直列回路が設けられている
。一方の直列回路は、電源と接地との間に直列に介挿さ
れた抵抗1224.Pチャネル型MOSトランジスタ1
222.Pチャネル型MOSトランジスタ1221およ
び抵抗1223で構成されている。他方の直列回路は、
電源と接地との間に直列に介挿された抵抗1226.P
チャネル型MoSトランジスタ1225および抵抗12
27で構成されている。
On the other hand, similarly in the second reference voltage generation circuit 12,
Two series circuits are provided for reference voltage generation. One series circuit includes a resistor 1224. P channel type MOS transistor 1
222. It is composed of a P-channel type MOS transistor 1221 and a resistor 1223. The other series circuit is
A resistor 1226 inserted in series between the power supply and ground. P
Channel type MoS transistor 1225 and resistor 12
It consists of 27.

次に、第6図に示す実施例の動作を、第4図(b)を参
照して説明する。まず、I/O線対1および2のプリチ
ャージ時およびデータの書込モード時には、第1図に示
す回路と同様の動作を行なう。また、データの読出モー
ド時には、ノードNOI、NO2は、それぞれノードN
22.N24と同電位、すなわち(VCC+VTN )
/2゜(Vcc−IVTP  +)/2となるので、第
4図(b)に示すように、I/O線1の電位が(VcC
VTN)/2以下になるとトランジスタ/O01が、(
VCC+1VTP  l)/2以上になるとトランジス
タ/O02がオンするので、I/O線1の振幅は1(V
TN +1VTP  l)/21 +αになる。なお、
I/O線2についても同様である。
Next, the operation of the embodiment shown in FIG. 6 will be explained with reference to FIG. 4(b). First, when I/O line pairs 1 and 2 are precharged and in data write mode, the circuit operates in the same way as the circuit shown in FIG. Further, in the data read mode, the nodes NOI and NO2 are respectively connected to the nodes N
22. Same potential as N24, i.e. (VCC+VTN)
/2°(Vcc-IVTP +)/2, so the potential of I/O line 1 becomes (Vcc-IVTP +)/2, as shown in Figure 4(b).
VTN)/2 or less, transistor/O01 becomes (
When the voltage exceeds VCC+1VTP l)/2, transistor /O02 turns on, so the amplitude of I/O line 1 becomes 1(V
TN +1VTP l)/21 +α. In addition,
The same applies to I/O line 2.

第7図はこの発明の他の実施例を示す回路図である。図
において、第1の基準電圧発生回路11は、抵抗131
3および1314.Nチャネル型MO5I−ランジスタ
1311および1312を含む基準電圧発生のための直
列回路と、この直列回路の出力端ノードN31とノード
NOIとの間に介挿されるNチャネル型MO1ランジス
タ/O14と、ノードNOIと接地との間に介挿される
Nチャネル型MOSトランジスタ/O15と、トランジ
スタ/O14のゲートに与えられるI/O線クランプ信
号l0CLを反転してトランジスタ/O15のゲートに
与えるためのインバータ/O16とによって構成される
。また、第2の基準電圧発生回路12は、抵抗1323
および1324゜Pチャネル型MoSトランジスタ13
21および1322を含む基準電圧発生のための直列回
路と、この直列回路の出力端ノードN32とノードNO
2との間に介挿されるPチャネル型MOSトランジス/
O24と、ノードNO2と電源との間に介挿されるPチ
ャネル型MOShランジスタ/O25と、トランジスタ
/O25のゲートに与えられるI/O線クランプ信号/
OCLを反転してトランジスタ/O24のゲートに与え
るためのインバータ/O26とによって構成される。そ
の他の構成は、第1図に示す実施例と同様である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing another embodiment of the invention. In the figure, the first reference voltage generation circuit 11 includes a resistor 131
3 and 1314. A series circuit for generating a reference voltage including N-channel type MO5I transistors 1311 and 1312, an N-channel type MO1 transistor /O14 inserted between the output end node N31 of this series circuit and node NOI, and node NOI and an inverter /O16 for inverting the I/O line clamp signal l0CL applied to the gate of the transistor /O14 and applying it to the gate of the transistor /O15. Consisted of. Further, the second reference voltage generation circuit 12 includes a resistor 1323
and 1324°P channel type MoS transistor 13
A series circuit for generating a reference voltage including 21 and 1322, and an output terminal node N32 and a node NO of this series circuit.
P-channel MOS transistor inserted between 2 and
O24, a P-channel MOSh transistor /O25 inserted between the node NO2 and the power supply, and an I/O line clamp signal /O25 applied to the gate of the transistor /O25.
It is constituted by an inverter /O26 for inverting OCL and applying it to the gate of a transistor /O24. The other configurations are similar to the embodiment shown in FIG.

次に、第7図に示す実施例の動作を説明する。Next, the operation of the embodiment shown in FIG. 7 will be explained.

データの書込モード時すなわちI 0CL−“L”のと
きは、ノードNOI、NO2の電位はそれぞれQV、V
ccになるので、I/O線1の電位が0V−Vcc(7
)間ハトランジスタ/O01./O02がオンしない。
In the data write mode, that is, when I0CL is “L”, the potentials of nodes NOI and NO2 are QV and V, respectively.
cc, so the potential of I/O line 1 becomes 0V-Vcc (7
) between transistor/O01. /O02 does not turn on.

それ以外のときは、ノードN01、N02(7)電位が
、ツレツレ、(VCC/2)+VT N 、  (Vc
 c/2) −l Vv F  I ニなルノで、第1
図の実施例におけるI/O線プリチャージ時と同じ動作
を行なう。このとき、第2図に示す列デコーダ/O7が
活性化され、センスアンプ/O5がI/Oスイッチ/O
6を介してI/O線対1および2に接続されると、I 
/Ot!jl対1および2の電位差はセンスアンプ、I
/Oスイッチおよびトランジスタ/O01./O02の
サイズで決まる一定値になる。
In other cases, the potentials of nodes N01 and N02 (7) are unstable, (VCC/2)+VT N , (Vc
c/2) -l Vv F I Ni na Runo, 1st
The same operation as in the I/O line precharge in the illustrated embodiment is performed. At this time, the column decoder /O7 shown in FIG. 2 is activated, and the sense amplifier /O5 is activated as shown in FIG.
6 to I/O line pair 1 and 2, I
/Ot! The potential difference between jl vs. 1 and 2 is determined by the sense amplifier, I
/O switch and transistor /O01. It becomes a constant value determined by the size of /O02.

第8図はこの発明のさらに他の実施例を示す回路図であ
る。図において、この実施例は、第7図に示す実施例か
らトランジスタ1312および1322を除いたもであ
る。したがって、第1の基準電圧発生回路11における
基準電圧発生のための直列回路は、抵抗1412および
1413とNチャネル型MOSトランジスタ1411と
によって構成される。また、第2の基準電圧発生回路1
2における基準電圧発生のための直列回路は、抵抗14
22および1423と、Pチャネル型MOSトランジス
タ1421とによって構成される。
FIG. 8 is a circuit diagram showing still another embodiment of the present invention. In the figure, this embodiment has transistors 1312 and 1322 removed from the embodiment shown in FIG. Therefore, a series circuit for generating a reference voltage in the first reference voltage generating circuit 11 is constituted by resistors 1412 and 1413 and an N-channel MOS transistor 1411. Further, the second reference voltage generation circuit 1
The series circuit for generating the reference voltage in 2 includes a resistor 14
22 and 1423, and a P-channel type MOS transistor 1421.

次に、第8図に示す実施例の動作を説明する。Next, the operation of the embodiment shown in FIG. 8 will be explained.

データの書込モード時すなわちl0CL−“L″のとき
は、第7図に示す実施例と同じ動作をする。
In the data write mode, that is, when l0CL-“L”, the same operation as in the embodiment shown in FIG. 7 is performed.

すなわち、I/O線プリチャージ時およびデータの読出
モード時には、I/O線対1および2の電位が(Vc 
C−VT N ) /2以下になるとトランジスタ/O
01および/O03によって電位が上がり、(VCC+
1VTP  l)/2以上になるとトランジスタ/O0
2および/O04によって電位が下がる。したがって、
I/O線対1および2のプリチャージ電位は、(Vc 
c+ l VT F  I )/2〜(Vc C−VT
 y ) /2の範囲で変動し得る。しかし、プリアン
プ/O2の感度が高く、この範囲でのプリチャージ電位
の変動がデータ読出しに影響を与えない構成であれば、
前述の3つの実施例に比べてI/O線プリチャージ時の
消費電力を低減することができる。これは、前掲した特
開昭62−119613号公報でも述べであるとおり、
前記3つの実施例ではI/O線電位がVcc / 2で
も、V c c −+ )ランジメタ/O01−I/O
線1−トランジスタ/O02→接地の経路で微小な電流
が流れるためである。
That is, during I/O line precharging and data read mode, the potential of I/O line pair 1 and 2 is (Vc
When it becomes less than C-VT N ) /2, the transistor /O
01 and /O03, the potential increases and becomes (VCC+
When it becomes 1VTP l)/2 or more, the transistor/O0
2 and /O04 lower the potential. therefore,
The precharge potential of I/O line pair 1 and 2 is (Vc
c+ l VT F I )/2~(Vc C-VT
y )/2. However, if the sensitivity of the preamplifier/O2 is high and the fluctuation of the precharge potential within this range does not affect data reading,
The power consumption during I/O line precharging can be reduced compared to the three embodiments described above. As stated in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-open No. 119613/1983,
In the three embodiments mentioned above, even if the I/O line potential is Vcc/2, Vcc-+) Rangemetal/O01-I/O
This is because a small current flows through the path from line 1 to transistor/O02 to ground.

また、ダイナミック型ランダムアクセスメモリのRAS
プリチャージ期間のようにI/O線対を通してのデータ
の読み書きが行なわれない期間には、ノードNO1をO
Vに、ノードNO2をVcCにすることで、この期間に
I/O線負荷回路によって流れる電流゛は基準電圧発生
回路によるものだけになる。さらに、基L$電圧発生回
路に直列にトランジスタを設け、この期間はトランジス
タを非導通にすることで、I/O線負荷回路を流れる電
流をほぼ完全になくすことができる。
In addition, dynamic random access memory RAS
During a period such as a precharge period when data is not read or written through the I/O line pair, node NO1 is turned off.
By setting the node NO2 to VcC, the current flowing by the I/O line load circuit during this period is only that of the reference voltage generating circuit. Furthermore, by providing a transistor in series with the base L$ voltage generation circuit and making the transistor non-conductive during this period, the current flowing through the I/O line load circuit can be almost completely eliminated.

なお、前述した2件の出願公開公報にも開示されている
ように、第1および第2の基準電圧発生回路11および
12で用いられている抵抗の代わりにMOSダイオード
を使用してもよい。
Note that, as disclosed in the above-mentioned two published applications, MOS diodes may be used in place of the resistors used in the first and second reference voltage generation circuits 11 and 12.

また、以上説明した実施例は、I/O線対1および2の
プリチャージ電位をV c c / 2であるとしたが
、第1および第2の基準電圧発生回路の各抵抗比やMO
Sダイオードの段数を変えることにより、プリチャージ
電位を任意に変更することができる。
Further, in the embodiment described above, the precharge potential of the I/O line pair 1 and 2 is set to Vcc/2, but the resistance ratio of the first and second reference voltage generation circuits and the MO
By changing the number of stages of S diodes, the precharge potential can be changed arbitrarily.

さらに、以上の実施例はダイナミック型半導体記憶装置
に適用した例を説明したが、スタティック型半導体記憶
装置に適用する場合にも上記と同様な効果がある。
Furthermore, although the above embodiments have been described as examples applied to dynamic type semiconductor memory devices, the same effects as described above can be obtained when applied to static type semiconductor memory devices.

[発明の効果] 以上説明したように、この発明によれば、半導体記憶装
置の動作モードに応じて各1/O線の電位を常に最適な
状態に制御できるので、負バンブによるアクセス遅延を
生じることなくアクセス速゛ 度の高速化が図れる。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, the potential of each 1/O line can always be controlled to the optimum state according to the operation mode of the semiconductor memory device, so that access delay due to negative bumps is not caused. The access speed can be increased without any problems.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、この発明によるI/O線負荷回路の一実施例
を示す回路図である。 第2図は、この発明のI/O線負荷回路を用いたダイナ
ミック型半導体記憶装置の構成を示す図である。 第3図は、第1図に示す実施例で用いられる各制御信号
の発生回路の一構成例を示す論理回路図である。 第4図(a)および(b)は、それぞれ、第1図に示す
実施例および第6図に示す実施例のそれぞれの動作説明
に供する模式図である。 第5図は、第1図に示す実施例と第/O図に示す従来例
とのアクセス速度の差を説明するための波形図である。 第6図は、この発明の他の実施例の構成を示す回路図で
ある。 第7図は、この発明のさらに他の実施例の構成を示す回
路図である。 第8図は、この発明のさらに他の実施例の構成を示す回
路図である。 第9図は、従来のダイナミック型半導体記憶装置の一例
を示す回路図である。 第/O図は、従来のダイナミック型半導体記憶装置の他
の例を示す回路図である。 第11図は、この発明の前提となった本件出願人の出願
による明細書に開示された回路を示す図である。 図において、1はI/O線、2はI/O線、11は第1
の基準電圧発生回路、12は第2の基準電圧発生回路、
13は電圧制御回路、/O01゜/O03および/O0
5はNチャネル型MOSトランジスタ、/O02および
/O04はPチャネル型MOSトランジスタを示す。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of an I/O line load circuit according to the present invention. FIG. 2 is a diagram showing the configuration of a dynamic semiconductor memory device using the I/O line load circuit of the present invention. FIG. 3 is a logic circuit diagram showing an example of the configuration of each control signal generating circuit used in the embodiment shown in FIG. 1. FIGS. 4(a) and 4(b) are schematic diagrams for explaining the operations of the embodiment shown in FIG. 1 and the embodiment shown in FIG. 6, respectively. FIG. 5 is a waveform diagram for explaining the difference in access speed between the embodiment shown in FIG. 1 and the conventional example shown in FIG. FIG. 6 is a circuit diagram showing the configuration of another embodiment of the invention. FIG. 7 is a circuit diagram showing the configuration of still another embodiment of the invention. FIG. 8 is a circuit diagram showing the configuration of still another embodiment of the present invention. FIG. 9 is a circuit diagram showing an example of a conventional dynamic semiconductor memory device. FIG. 2 is a circuit diagram showing another example of a conventional dynamic semiconductor memory device. FIG. 11 is a diagram showing a circuit disclosed in the specification filed by the applicant of the present invention, which is the premise of this invention. In the figure, 1 is the I/O line, 2 is the I/O line, and 11 is the first
12 is a second reference voltage generation circuit,
13 is a voltage control circuit, /O01° /O03 and /O0
Reference numeral 5 indicates an N-channel type MOS transistor, and /O02 and /O04 indicate P-channel type MOS transistors.

Claims (1)

【特許請求の範囲】  複数のメモリセルを有する半導体記憶装置に設けられ
、当該メモリセルへの書込情報および当該メモリセルか
らの読出情報を外部回路との間で伝送するためのI/O
線対の電位を前記半導体記憶装置の動作サイクルに応じ
て所定の電位にするためのI/O線負荷回路であって、 前記I/O線対は、メモリセルへの情報の書込時および
当該メモリセルからの情報の読出時において互いに相補
的に駆動される第1のI/O線と第2のI/O線とを含
んでおり、 前記半導体記憶装置の動作モードに応じて複数種類の異
なる基準電圧を発生する第1の基準電圧発生手段、 前記半導体記憶装置の動作モードに応じて複数種類の異
なる基準電圧を発生する第2の基準電圧発生手段、およ
び 前記第1および第2の基準電圧発生手段の各出力電圧に
基づいて、前記第1および第2のI/O線の電位を制御
するための電位制御手段を備え、前記電位制御手段は、 前記I/O線対のプリチャージ電位より電位の高い第1
の電源と前記第1のI/O線および前記第2のI/O線
との間にそれぞれ接続される第1および第2のNチャネ
ル型MOSトランジスタと、 前記I/O線対のプリチャージ電位より電位の低い第2
の電源と前記第1のI/O線および前記第2のI/O線
との間にそれぞれ接続される第3および第4のPチャネ
ル型MOSトランジスタとを含み、 前記第1の基準電圧発生手段の出力電圧は前記第1およ
び第2のNチャネル型MOSトランジスタの各ゲートに
与えられ、 前記第2の基準電圧発生手段の出力電圧は前記第3およ
び第4のPチャネル型MOSトランジスタの各ゲートに
与えられる、I/O線負荷回路。
[Scope of Claims] I/O provided in a semiconductor memory device having a plurality of memory cells for transmitting write information to the memory cells and read information from the memory cells to/from an external circuit.
an I/O line load circuit for setting a potential of a line pair to a predetermined potential according to an operation cycle of the semiconductor memory device, the I/O line pair being set to a predetermined potential when writing information to a memory cell; It includes a first I/O line and a second I/O line that are driven complementary to each other when reading information from the memory cell, and there are a plurality of types depending on the operation mode of the semiconductor memory device. a first reference voltage generating means that generates different reference voltages; a second reference voltage generating means that generates a plurality of different reference voltages according to the operation mode of the semiconductor memory device; A potential control means is provided for controlling the potential of the first and second I/O lines based on each output voltage of the reference voltage generation means, and the potential control means is configured to control the potential of the I/O line pair. The first one has a higher potential than the charge potential.
first and second N-channel type MOS transistors connected between the power supply of the first I/O line and the second I/O line, respectively; and precharging of the I/O line pair. the second with a lower potential than the potential
third and fourth P-channel type MOS transistors connected between the power source of the power source and the first I/O line and the second I/O line, respectively, the first reference voltage generation The output voltage of the means is applied to each gate of the first and second N-channel MOS transistors, and the output voltage of the second reference voltage generating means is applied to each gate of the third and fourth P-channel MOS transistors. I/O line load circuit applied to the gate.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1991015852A1 (en) * 1990-03-30 1991-10-17 Fujitsu Limited Dynamic ram in which timing of end of data read out is earlier than conventional
JPH0581860A (en) * 1991-09-19 1993-04-02 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor storage device
US5553032A (en) * 1990-03-30 1996-09-03 Fujitsu Limited Dynamic random access memory wherein timing of completion of data reading is advanced
US5594681A (en) * 1990-03-30 1997-01-14 Fujitsu Limited Dynamic random access memory wherein timing of completion of data reading is advanced

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