JP7309919B2 - LAMINATED PRODUCT AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, MOLDED PRODUCT AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, ELECTRONIC DEVICE CASE PANEL, AND ELECTRONIC DEVICE - Google Patents

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Description

本開示は、積層体及びその製造方法、成型物及びその製造方法、電子デバイスの筐体パネル、並びに電子デバイスに関する。 TECHNICAL FIELD The present disclosure relates to a laminate and its manufacturing method, a molded article and its manufacturing method, a housing panel of an electronic device, and an electronic device.

基材上に液晶層が設けられてなる積層体は、例えば、加飾成型フィルムとして用いることができる。加飾成型フィルムは、基材と、加飾フィルムである液晶層とを含み、成型加工を施すことにより、加飾成型物(以下、「成型物」と呼ぶことがある)を得ることができる。また、樹脂成型体の表面に加飾フィルムを配置して、表面を所望の色相に着色したり、表面に所望のパターンを設けたりした加飾成型物が知られている。
加飾成型物は、例えば、金型内に加飾成型フィルムを予め配置して、その金型内に基材樹脂を射出成型することにより得られ、樹脂成型体の表面に加飾フィルムが一体化された構造を有する。
ここで、金型内に加飾成型フィルムを予め配置した後、基材樹脂の射出成型を行うことを、一般に、フィルムインサート成型、或いは、単にインサート成型と称することがある。また、加飾成型体は、成型後の成型体に加飾フィルムを張り付けることにより製造してもよい。
A laminate in which a liquid crystal layer is provided on a substrate can be used, for example, as a decorative molded film. A decorative molded film includes a base material and a liquid crystal layer that is a decorative film, and can be subjected to a molding process to obtain a decorative molded product (hereinafter sometimes referred to as a "molded product"). . Also known is a decorative molding in which a decorative film is placed on the surface of a resin molding to color the surface in a desired hue or to provide a desired pattern on the surface.
The decorative molding is obtained, for example, by placing a decorative molding film in advance in a mold and injecting a base resin into the mold, and the decorative film is integrated with the surface of the resin molding. It has a complex structure.
Injection molding of a base resin after placing a decorative molding film in advance in a mold is generally referred to as film insert molding or simply insert molding. Also, the decorated molded body may be produced by attaching a decorative film to the molded body after molding.

また、従来の加飾成型フィルムとしては、例えば、特開2001-105795号公報に、可視光に選択反射波長域を有するコレステリック液晶性高分子層が転写層として積層されているホットスタンプ箔が記載されている。 Further, as a conventional decorative molded film, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-105795 describes a hot stamp foil in which a cholesteric liquid crystalline polymer layer having a selective reflection wavelength range in visible light is laminated as a transfer layer. It is

本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、異なる波長の光選択反射によってパターンが形成された、高い意匠性を有し、かつ、パターン間の境界のシャープネスに優れる積層体を提供することにある。
本開示の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記積層体の製造方法を提供することにある。
本開示の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記積層体を成型してなる成型物を提供することにある。
本開示の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記成型物の製造方法を提供することにある。
本開示の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記積層体を備えた電子デバイスの筐体パネルを提供することにある。
本開示の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記成型物を備えた電子デバイスを提供することにある。
The problem to be solved by one embodiment of the present disclosure is to provide a laminate having high designability in which patterns are formed by selective reflection of light of different wavelengths and excellent sharpness of boundaries between patterns. It is in.
A problem to be solved by another embodiment of the present disclosure is to provide a method for manufacturing the laminate.
A problem to be solved by another embodiment of the present disclosure is to provide a molded product obtained by molding the laminate.
A problem to be solved by another embodiment of the present disclosure is to provide a method for manufacturing the molded product.
A problem to be solved by another embodiment of the present disclosure is to provide a housing panel for an electronic device including the laminate.
A problem to be solved by another embodiment of the present disclosure is to provide an electronic device including the molding.

上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
<1> 基材と、基材上に設けられた液晶化合物と光異性化化合物とを含む液晶層と、を有する積層体であって、
液晶層は、選択反射波長が互いに異なる複数のパターンが面内方向に形成されており、
複数のパターンの境界部の滲みの幅が、1μm以上100μm未満である、積層体。
<2> 加飾成型フィルムである、<1>に記載の積層体。
<3> 基材と、基材上に設けられた液晶化合物と光異性化化合物とを含む液晶層と、基材及び液晶層の少なくとも一方に隣接し、かつ、光透過率が互いに異なる複数のパターンが面内方向に形成された光学マスク層と、を有する液晶材料を準備する工程と、
光学マスク層を介して液晶層に光を照射し、光異性化化合物を光異性化させる工程と
を含む積層体の製造方法。
<4> 光学マスク層が基材に隣接し、かつ、基材の光学マスク層が隣接する側とは反対側の面に、液晶層が設けられている<3>に記載の積層体の製造方法。
<5> 複数のパターンの少なくとも一部は、波長範囲250nm~400nmにおいて光透過率が互いに異なる、<3>又は<4>に記載の積層体の製造方法。
<6> 複数のパターンは、光透過率の極大値が30%以上異なる<3>~<5>のいずれか1つに記載の積層体の製造方法。
<7> 複数のパターンは、波長範囲400nm~780nmにおける面内の平均透過率が50%以上である<3>~<6>のいずれか1つに記載の積層体の製造方法。
<8> 光学マスク層が、印刷方式により形成されたものである<3>~<7>のいずれか1つに記載の積層体の製造方法。
<9> 積層体が、電子デバイスの筐体パネルの加飾に用いられる加飾成型フィルムである、<3>~<8>のいずれか1つに記載の積層体の製造方法。
<10> <1>又は<2>に記載の積層体を成型してなる成型物。
<11> <3>~<9>のいずれか1つに記載の積層体の製造方法により得られた積層体を成型する工程を含む成型物の製造方法。
<12> <1>又は<2>に記載の積層体を備えた電子デバイスの筐体パネル。
<13> <10>に記載の成型物を備えた電子デバイス。
Means for solving the above problems include the following aspects.
<1> A laminate having a base material and a liquid crystal layer containing a liquid crystal compound and a photoisomerizable compound provided on the base material,
In the liquid crystal layer, a plurality of patterns with different selective reflection wavelengths are formed in the in-plane direction,
A layered product in which the width of bleeding at the boundaries of the plurality of patterns is 1 μm or more and less than 100 μm.
<2> The laminate according to <1>, which is a decorative molded film.
<3> a substrate, a liquid crystal layer containing a liquid crystal compound and a photoisomerizable compound provided on the substrate, and a plurality of substrates adjacent to at least one of the substrate and the liquid crystal layer and having different light transmittances preparing a liquid crystal material having an optical mask layer patterned in an in-plane direction;
and a step of irradiating the liquid crystal layer with light through the optical mask layer to photoisomerize the photoisomerizable compound.
<4> Production of the laminate according to <3>, in which the optical mask layer is adjacent to the substrate, and the liquid crystal layer is provided on the surface of the substrate opposite to the side where the optical mask layer is adjacent. Method.
<5> The method for manufacturing a laminate according to <3> or <4>, wherein at least some of the plurality of patterns have different light transmittances in a wavelength range of 250 nm to 400 nm.
<6> The method for producing a laminate according to any one of <3> to <5>, wherein the plurality of patterns differ in maximum value of light transmittance by 30% or more.
<7> The method for producing a laminate according to any one of <3> to <6>, wherein the plurality of patterns has an in-plane average transmittance of 50% or more in a wavelength range of 400 nm to 780 nm.
<8> The method for producing a laminate according to any one of <3> to <7>, wherein the optical mask layer is formed by a printing method.
<9> The method for producing a laminate according to any one of <3> to <8>, wherein the laminate is a decorative molding film used for decorating a housing panel of an electronic device.
<10> A molded product obtained by molding the laminate according to <1> or <2>.
<11> A method for producing a molded article, comprising a step of molding the laminate obtained by the method for producing a laminate according to any one of <3> to <9>.
<12> An electronic device housing panel comprising the laminate according to <1> or <2>.
<13> An electronic device comprising the molded article according to <10>.

本開示の一実施形態によれば、異なる波長の光選択反射によってパターンが形成された、高い意匠性を有し、かつ、パターン間の境界のシャープネスに優れる積層体を提供することができる。
本開示の他の実施形態によれば、上記積層体の製造方法を提供することができる。
本開示の他の実施形態によれば、上記積層体を成型してなる成型物を提供することができる。
本開示の他の実施形態によれば、上記成型物の製造方法を提供することができる。
本開示の他の実施形態によれば、上記積層体を備えた電子デバイスの筐体パネルを提供することができる。
本開示の他の実施形態によれば、上記成型物を備えた電子デバイスを提供することができる。
According to an embodiment of the present disclosure, it is possible to provide a layered product in which patterns are formed by selective reflection of light of different wavelengths, which has high designability and excellent sharpness of boundaries between patterns.
According to another embodiment of the present disclosure, a method for manufacturing the laminate can be provided.
According to another embodiment of the present disclosure, it is possible to provide a molded product obtained by molding the laminate.
According to another embodiment of the present disclosure, it is possible to provide a method for manufacturing the molded product.
According to another embodiment of the present disclosure, it is possible to provide a housing panel for an electronic device including the laminate.
According to another embodiment of the present disclosure, it is possible to provide an electronic device including the molded product.

図1は、光学マスク層のパターンを模式的に示す概略的平面図である。FIG. 1 is a schematic plan view schematically showing the pattern of the optical mask layer. 図2Aは、ガラス部材の形状の一例を模式的に示す概略的平面図である。FIG. 2A is a schematic plan view schematically showing an example of the shape of the glass member. 図2Bは、図2Aのガラス部材の長手方向と平行方向に切断した断面を模式的に示す概略的断面図である。FIG. 2B is a schematic cross-sectional view schematically showing a cross section cut in a direction parallel to the longitudinal direction of the glass member of FIG. 2A.

以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本開示において、数値範囲を示す「~」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
更に、本開示において組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する該当する複数の物質の合計量を意味する。
本開示において「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
本開示において「全固形分」とは、組成物の全組成から溶媒を除いた成分の総質量をいう。また、「固形分」とは、上述のように、溶媒を除いた成分であり、例えば、25℃において固体であっても、液体であってもよい。
本開示における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
本開示において、「(メタ)アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「(メタ)アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの両方を包含する概念として用いられる語である。
本開示において、2以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本開示における重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、特に断りのない限り、TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(何れも東ソー(株)製の商品名)のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)分析装置により、溶媒THF(テトラヒドロフラン)、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
本開示において、「光」は、γ線、β線、電子線、紫外線、可視光線等の活性エネルギー線を包含する概念である。
以下の説明において参照する図面は、例示的、かつ、概略的に示されたものであり、本開示は、これらの図面に限定されない。また、図面の符号は省略することがある。
以下、本開示を詳細に説明する。
The content of the present disclosure will be described in detail below. The description of the constituent elements described below may be made based on representative embodiments of the present disclosure, but the present disclosure is not limited to such embodiments.
In addition, in the present disclosure, "to" indicating a numerical range is used to include the numerical values described before and after it as a lower limit and an upper limit.
In the numerical ranges described step by step in the present disclosure, the upper limit or lower limit of one numerical range may be replaced with the upper or lower limit of another numerical range described step by step. . Moreover, in the numerical ranges described in the present disclosure, the upper or lower limits of the numerical ranges may be replaced with the values shown in the examples.
Furthermore, in the present disclosure, when there are multiple substances corresponding to each component in the composition, the amount of each component in the composition is the total amount of the corresponding substances present in the composition unless otherwise specified. means
In the present disclosure, the term "process" includes not only an independent process, but also a process that cannot be clearly distinguished from other processes as long as the intended purpose of the process is achieved.
In the present disclosure, "total solid content" refers to the total mass of components excluding the solvent from the total composition of the composition. Moreover, as described above, the “solid content” is the component excluding the solvent, and may be solid or liquid at 25° C., for example.
In the notation of groups (atomic groups) in the present disclosure, notations that do not indicate substitution or unsubstituted include not only those not having substituents but also those having substituents. For example, the term “alkyl group” includes not only alkyl groups having no substituents (unsubstituted alkyl groups) but also alkyl groups having substituents (substituted alkyl groups).
In the present disclosure, "(meth)acrylic" is a term used as a concept that includes both acrylic and methacrylic, and "(meth)acrylate" is a term that is used as a concept that includes both acrylate and methacrylate. be.
In the present disclosure, a combination of two or more preferred aspects is a more preferred aspect.
Unless otherwise specified, the weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) in the present disclosure are gels using columns of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, and TSKgel G2000HxL (all trade names manufactured by Tosoh Corporation). It is a molecular weight converted using polystyrene as a standard substance detected by a permeation chromatography (GPC) analyzer using THF (tetrahydrofuran) as a solvent and a differential refractometer.
In the present disclosure, "light" is a concept that includes active energy rays such as γ-rays, β-rays, electron beams, ultraviolet rays, and visible rays.
The drawings referred to in the following description are exemplary and schematic, and the present disclosure is not limited to these drawings. Also, reference numerals in the drawings may be omitted.
The present disclosure will now be described in detail.

(積層体)
本開示に係る積層体は、基材と、基材上に設けられた液晶化合物と光異性化化合物とを含む液晶層と、を有する。液晶層は、選択反射波長が互いに異なる複数のパターンが面内方向に形成されており、複数のパターンの境界部の滲みの幅が、1μm以上100μm未満である。
本開示において、「液晶層」とは、積層体において、液晶組成物の硬化物を意味し、「硬化液晶層」又は「硬化された液晶層」と呼ぶことがあり、また、積層体の製造に用いる後述の液晶材料において、液晶組成物の未硬化物を意味する。
「液晶組成物」とは、液晶層に含まれる成分を含む組成物であり、「液晶組成物の硬化物」とは、液晶組成物の乾燥物及び重合硬化物を含む。
(Laminate)
A laminate according to the present disclosure includes a substrate and a liquid crystal layer containing a liquid crystal compound and a photoisomerizable compound provided on the substrate. In the liquid crystal layer, a plurality of patterns having different selective reflection wavelengths are formed in the in-plane direction, and the bleeding width at the boundary between the patterns is 1 μm or more and less than 100 μm.
In the present disclosure, the "liquid crystal layer" means a cured product of a liquid crystal composition in a laminate, and may be referred to as a "cured liquid crystal layer" or a "cured liquid crystal layer". means an uncured liquid crystal composition in the later-described liquid crystal material used in .
The “liquid crystal composition” is a composition containing components contained in the liquid crystal layer, and the “cured product of the liquid crystal composition” includes dried products and polymerized cured products of the liquid crystal composition.

本発明者らが鋭意検討した結果、上記構成をとることにより、異なる波長の選択反射によってパターンが形成された高い意匠性を有し、パターン間の境界のシャープネスに優れる積層体を提供できることを見出した。このような積層体は、例えば、加飾に用いる加飾成型フィルムとして好適に用いることができる。
上記構成による優れた効果の作用機構は明確ではないが、以下のように推定している。
液晶化合物及び光異性化化合物を含む液晶層を、光学マスク層を介して露光し、光異性化化合物の光異性化を行うことにより、液晶層における液晶化合物が形成する液晶相の螺旋ピッチの長さを、光学マスク層の光透過率に対応して変化させることができる。これにより、液晶層の反射光の極大波長を変化させることができ、液晶層に、異なる波長の選択反射によるパターンを形成することができる。この際、光学マスク層が液晶層又は基材に隣接している、例えば、基材に直接積層されていると、液晶層と光学マスク層との距離が近接し、パターン境界部の反射波長変化のシャープネスに優れる積層体が提供できると推定される。
As a result of intensive studies by the present inventors, it was found that by adopting the above configuration, it is possible to provide a laminate having high designability in which patterns are formed by selective reflection of different wavelengths and excellent sharpness of boundaries between patterns. rice field. Such a laminate can be suitably used, for example, as a decorative molded film used for decoration.
Although the action mechanism of the excellent effects of the above configuration is not clear, it is presumed as follows.
The length of the helical pitch of the liquid crystal phase formed by the liquid crystal compound in the liquid crystal layer is obtained by exposing the liquid crystal layer containing the liquid crystal compound and the photoisomerizable compound to light through an optical mask layer to photoisomerize the photoisomerizable compound. The thickness can be varied corresponding to the light transmittance of the optical mask layer. Thereby, the maximum wavelength of the reflected light of the liquid crystal layer can be changed, and a pattern by selective reflection of different wavelengths can be formed in the liquid crystal layer. At this time, if the optical mask layer is adjacent to the liquid crystal layer or the base material, for example, if it is laminated directly on the base material, the distance between the liquid crystal layer and the optical mask layer will be close, and the reflected wavelength at the pattern boundary will change. It is estimated that a laminate having excellent sharpness can be provided.

以下、基材、液晶層等の各層について、詳細に記載する。液晶層は、基材上にあればよく、基材に直接接していなくともよく、例えば、後述する着色層等の他の層を介して基材上にあってもよい。 Each layer such as the substrate and the liquid crystal layer will be described in detail below. The liquid crystal layer need only be on the substrate, and does not have to be in direct contact with the substrate. For example, it may be on the substrate via another layer such as a colored layer to be described later.

<液晶層>
液晶層は、選択反射波長が互いに異なる複数のパターンが面内方向に形成されている。これにより、面内方向で液晶層の色を変化させることができ、高い意匠性を有する積層体が得られる。
<Liquid crystal layer>
In the liquid crystal layer, a plurality of patterns having different selective reflection wavelengths are formed in the in-plane direction. Thereby, the color of the liquid crystal layer can be changed in the in-plane direction, and a laminated body having a high designability can be obtained.

-液晶層の選択反射性-
液晶層は、特定の波長域に選択反射性を有する。
本開示において、選択反射波長とは、対象となる物(部材)における透過率の最小値かつ極小値をTmin(%)とした場合、下記の式で表される半値透過率:T1/2(%)を示す2つの波長の平均値のことをいい、選択反射性を有するとは、選択反射波長を満たす特定の波長域を有することをいう。
透過率は、分光光度計(例えば、島津製作所社製の分光光度計「UV-2100」、日本分光社製の分光光度計「V-670」)を用いて測定する。
半値透過率を求める式:T1/2=100-(100-Tmin)÷2
液晶層における選択反射波長は、特に限定はされず、例えば、可視光(380nm~780nm)及び近赤外光(780nmを超え2,000nm以下)のいずれの範囲にも設定することが可能である。
中でも、液晶層は、波長380nm~1,200nmの少なくとも一部の波長域に選択反射性を有することが好ましい。
- Selective reflectivity of liquid crystal layer -
The liquid crystal layer has selective reflectivity in a specific wavelength range.
In the present disclosure, the selective reflection wavelength is the half-value transmittance expressed by the following formula, where T min (%) is the minimum value and the minimum value of the transmittance of the target object (member): T 1/ 2 (%) means the average value of two wavelengths, and having selective reflectivity means having a specific wavelength range that satisfies the selective reflection wavelength.
The transmittance is measured using a spectrophotometer (eg, a spectrophotometer “UV-2100” manufactured by Shimadzu Corporation, a spectrophotometer “V-670” manufactured by JASCO Corporation).
Formula for calculating half-value transmittance: T 1/2 = 100-(100-T min )/2
The selective reflection wavelength in the liquid crystal layer is not particularly limited, and can be set, for example, in any range of visible light (380 nm to 780 nm) and near-infrared light (more than 780 nm and 2,000 nm or less). .
Above all, the liquid crystal layer preferably has selective reflectivity in at least part of the wavelength range of 380 nm to 1,200 nm.

-積層体の反射率-
本開示に係る積層体の反射率の極大波長は、意匠性の観点から、380nm~780nmの範囲内に存在することが好ましい。また、380nm~780nmの範囲内の異なる波長の選択反射によって、パターンが形成されていることが好ましい。より好ましくは、反射率の極大波長の差が、100nm以上の領域を面内に含むことである。
- Reflectance of laminate -
The maximum wavelength of the reflectance of the laminate according to the present disclosure is preferably in the range of 380 nm to 780 nm from the viewpoint of designability. Moreover, it is preferable that the pattern is formed by selective reflection of different wavelengths within the range of 380 nm to 780 nm. More preferably, the difference in maximum wavelength of reflectance includes a region of 100 nm or more in the plane.

本開示に係る積層体の反射率は積層体における視認側と逆側の最外層に、黒色ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム((株)巴川製紙所製、商品名「くっきりミエール」)を貼り合わせ、液晶層が形成されている面を入射面として、分光光度計(例えば、日本分光(株)製の分光光度計「V-670」)を用いて測定した反射スペクトルから得られる。 The reflectance of the laminate according to the present disclosure is obtained by bonding a black polyethylene terephthalate (PET) film (manufactured by Tomoekawa Paper Co., Ltd., trade name "Kukkiri Mieru") to the outermost layer on the opposite side of the laminate, It is obtained from a reflection spectrum measured using a spectrophotometer (for example, a spectrophotometer "V-670" manufactured by JASCO Corporation) with the surface on which the liquid crystal layer is formed as an incident surface.

液晶層において、複数のパターンの境界部の滲みの幅は、1μm以上100μm未満である、これにより、パターン間の境界のシャープネスに優れた積層体が得られる。 In the liquid crystal layer, the width of bleeding at the boundaries between the patterns is 1 μm or more and less than 100 μm, whereby a laminate having excellent sharpness at the boundaries between patterns can be obtained.

パターンの境界部では、コレステリック液晶の螺旋ピッチが変化するため反射光の色が変わり、液晶層の面内方向で螺旋ピッチが10%以上変化する領域が滲みとして認識される。本開示において、パターンの境界部で、このような滲みとして認識される液晶層の面内方向の幅を「パターンの境界部の滲みの幅」とする。
パターンの境界部の滲みの幅は、以下のようにして測定される。
ミクロトーム(例えば、大和光機工業(株)製、RX-860)を用いて積層体の切片を作成し、その切片の液晶層の断面について、パターンの境界部を走査電子顕微鏡(例えば、(株)日立ハイテク製、SU3800)を用いて観察する。パターン境界部において、液晶層の面内方向で螺旋ピッチが10%以上変化する領域の幅を測定し、「パターンの境界部の滲みの幅」とする。
At the boundary of the pattern, the helical pitch of the cholesteric liquid crystal changes, so the color of the reflected light changes, and a region where the helical pitch changes by 10% or more in the in-plane direction of the liquid crystal layer is recognized as bleeding. In the present disclosure, the width in the in-plane direction of the liquid crystal layer recognized as such bleeding at the boundary of the pattern is referred to as "the width of the bleeding at the boundary of the pattern."
The bleeding width at the boundary of the pattern is measured as follows.
A section of the laminate is prepared using a microtome (for example, RX-860, manufactured by ) Observation using SU3800 manufactured by Hitachi High-Tech. In the pattern boundary, the width of the region where the helical pitch changes by 10% or more in the in-plane direction of the liquid crystal layer is measured and defined as the "bleeding width of the pattern boundary".

複数のパターンの境界部の滲みの幅は、1μm以上20μm未満であることが好ましく、2μm以上8μm未満であることがより好ましい。 The bleeding width at the boundary between the patterns is preferably 1 μm or more and less than 20 μm, and more preferably 2 μm or more and less than 8 μm.

-液晶層の層構成-
積層体において、液晶層は、1層のみ形成されていても、2層以上形成されていてもよい。
また、2層以上の各液晶層はそれぞれ、組成が同じ層であっても、異なる層であってもよく、少なくとも1層が液晶化合物及び光異性化化合物を含む液晶層であればよく、光異性化化合物を含まない液晶層を有していてもよい。
-Layer structure of the liquid crystal layer-
In the laminate, only one liquid crystal layer may be formed, or two or more layers may be formed.
Further, each of the two or more liquid crystal layers may have the same composition or may have different compositions, and at least one layer may be a liquid crystal layer containing a liquid crystal compound and a photoisomerizable compound. It may have a liquid crystal layer that does not contain an isomerizing compound.

-液晶層の厚さ-
液晶層の厚さは、積層体の成型後における反射率変化抑制の観点から、10μm未満であることが好ましく、5μm以下であることがより好ましく、0.05μm~5μmであることが更に好ましく、0.1μm~4μmであることが特に好ましい。
積層体が液晶層を2層以上有する場合は、各液晶層がそれぞれ独立に、上記厚さの範囲であることが好ましい。
-Thickness of liquid crystal layer-
The thickness of the liquid crystal layer is preferably less than 10 μm, more preferably 5 μm or less, even more preferably 0.05 μm to 5 μm, from the viewpoint of suppressing change in reflectance after molding the laminate. Particularly preferred is 0.1 μm to 4 μm.
When the laminate has two or more liquid crystal layers, it is preferable that each liquid crystal layer independently has a thickness within the above range.

<基材>
本開示に用いられる基材は、立体成型、インサート成型等の成型に用いられる基材として従来公知のものが特に制限なく使用でき、積層体(ある態様において、加飾成型フィルム)の用途、インサート成型への適性等に応じて、適宜、選択されればよい。
また、基材の形状及び材質は、特に制限はなく、所望に応じ適宜選択すればよい。基材は、成型容易性(特にインサート成型容易性)、及び、チッピング耐性の観点から、樹脂製の基材であることが好ましく、樹脂フィルム基材であることが好ましい。
<Base material>
As the base material used in the present disclosure, conventionally known base materials used for molding such as three-dimensional molding and insert molding can be used without particular limitation. It may be appropriately selected according to suitability for molding.
Moreover, the shape and material of the substrate are not particularly limited, and may be appropriately selected as desired. The substrate is preferably a resin substrate, more preferably a resin film substrate, from the viewpoint of ease of molding (especially ease of insert molding) and resistance to chipping.

基材として具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ウレタン-アクリル樹脂、ポリカーボネート(PC)、アクリル-ポリカーボネート樹脂、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリオレフィン、シクロオレフィンポリマー(COP)、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合樹脂(ABS樹脂)等の樹脂を含む樹脂フィルムが挙げられる。
中でも、成型加工性、及び、強度の観点から、PET、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ウレタン-アクリル樹脂、PC、アクリル-ポリカーボネート樹脂、及びポリプロピレンよりなる群から選ばれた少なくとも1種の樹脂フィルムであることが好ましく、PET、アクリル樹脂、PC、及び、アクリル-ポリカーボネート樹脂よりなる群から選ばれた少なくとも1種の樹脂フィルムであることがより好ましい。
また、基材としては、2層以上の積層樹脂基材であってもよい。例えば、アクリル樹脂/ポリカーボネート積層フィルムが好ましく挙げられる。
Specific examples of the base material include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), acrylic resin, urethane resin, urethane-acrylic resin, polycarbonate (PC), acrylic-polycarbonate resin, triacetyl cellulose (TAC). , polyolefin, cycloolefin polymer (COP), and acrylonitrile/butadiene/styrene copolymer resin (ABS resin).
Above all, from the viewpoint of moldability and strength, it is at least one resin film selected from the group consisting of PET, acrylic resin, urethane resin, urethane-acrylic resin, PC, acrylic-polycarbonate resin, and polypropylene. More preferably, it is at least one resin film selected from the group consisting of PET, acrylic resin, PC, and acrylic-polycarbonate resin.
Also, the substrate may be a laminated resin substrate having two or more layers. For example, an acrylic resin/polycarbonate laminated film is preferable.

基材は、必要に応じ、添加物を含有していてもよい。
添加物としては、例えば、鉱油、炭化水素、脂肪酸、アルコール、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、金属石けん、天然ワックス、シリコーンなどの潤滑剤、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム等の無機難燃剤、ハロゲン系、リン系等の有機難燃剤、金属粉、タルク、炭酸カルシウム、チタン酸カリウム、ガラス繊維、カーボン繊維、木粉等の有機又は無機の充填剤、酸化防止剤、紫外線防止剤、滑剤、分散剤、カップリング剤、発泡剤、着色剤等の添加剤、ポリエステル樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂等であって、上述した樹脂以外のエンジニアリングプラスチックなどが挙げられる。
The base material may contain additives, if necessary.
Additives include, for example, mineral oils, hydrocarbons, fatty acids, alcohols, fatty acid esters, fatty acid amides, metallic soaps, natural waxes, lubricants such as silicone, inorganic flame retardants such as magnesium hydroxide and aluminum hydroxide, halogen compounds, Organic flame retardants such as phosphorus, metal powder, talc, calcium carbonate, potassium titanate, glass fiber, carbon fiber, organic or inorganic fillers such as wood powder, antioxidants, UV inhibitors, lubricants, dispersants, Coupling agents, foaming agents, additives such as coloring agents, polyester resins, polyacetal resins, polyamide resins, polyphenylene ether resins, and engineering plastics other than the resins described above may be mentioned.

基材は、市販品を用いてもよい。
市販品としては、例えば、テクノロイ(登録商標)シリーズ(アクリル樹脂フィルム又はアクリル樹脂/ポリカーボネート樹脂積層フィルム、住友化学(株)製)ABSフィルム(オカモト(株)製)、ABSシート(積水成型工業(株)製)、テフレックス(登録商標)シリーズ(PETフィルム、帝人フィルムソリューション(株)製)、ルミラー(登録商標)易成型タイプ(PETフィルム、東レ(株)製)、コスモシャイン(登録商標)シリーズ(東洋紡社製)、ピュアサーモ(ポリプロピレンフィルム、出光ユニテック(株)製)等を挙げることができる。
A commercially available product may be used as the base material.
Commercially available products include, for example, Technolloy (registered trademark) series (acrylic resin film or acrylic resin/polycarbonate resin laminated film, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), ABS film (manufactured by Okamoto Co., Ltd.), ABS sheet (Sekisui Seizo Co., Ltd. ( Co., Ltd.), Teflex (registered trademark) series (PET film, manufactured by Teijin Film Solutions Co., Ltd.), Lumirror (registered trademark) easy-molding type (PET film, manufactured by Toray Industries, Inc.), Cosmo Shine (registered trademark) series (manufactured by Toyobo Co., Ltd.), Pure Thermo (polypropylene film, manufactured by Idemitsu Unitech Co., Ltd.), and the like.

基材の厚さは、作製する成型物の用途、及び、基材の取り扱い性等に応じて決定してよい。厚さとしては、特に制限はないが、ハンドリング性の観点で、1μm以上が好ましく、10μm以上がより好ましく、15μm以上が更に好ましく、30μm以上が特に好ましい。上限としては、パターン境界部の高いシャープネスを得る観点で、200μm以下が好ましく、125μm以下がより好ましく、75μm以下がさらに好ましく、50μm以下が特に好ましい。 The thickness of the base material may be determined according to the intended use of the molded product to be produced, the handleability of the base material, and the like. Although the thickness is not particularly limited, it is preferably 1 µm or more, more preferably 10 µm or more, still more preferably 15 µm or more, and particularly preferably 30 µm or more from the viewpoint of handling. The upper limit is preferably 200 μm or less, more preferably 125 μm or less, even more preferably 75 μm or less, and particularly preferably 50 μm or less, from the viewpoint of obtaining high sharpness at pattern boundaries.

<着色層>
本開示に係る積層体(ある態様において、加飾成型フィルム)は、意匠性の観点から、着色層を更に有することが好ましい。着色層は、着色剤を含む層である。
着色層の位置は、特に制限はなく、所望の位置に設けることができるが、下記の2つの態様が好ましく挙げられる。
1つの態様は、意匠性の観点から、積層体は、基材と液晶層との間に、着色層を更に有することが好ましい。
他の1つの態様は、意匠性、成型加工性及び耐久性の観点から、基材を有する側とは反対側の液晶層上に、着色層を更に有することが好ましい。
<Colored layer>
From the viewpoint of designability, it is preferable that the laminate according to the present disclosure (in a certain aspect, the decorative molded film) further have a colored layer. A colored layer is a layer containing a coloring agent.
The position of the colored layer is not particularly limited and can be provided at any desired position, but the following two aspects are preferred.
In one aspect, the laminate preferably further has a colored layer between the substrate and the liquid crystal layer from the viewpoint of design.
In another aspect, from the viewpoint of designability, molding processability and durability, it is preferable to further have a colored layer on the liquid crystal layer on the side opposite to the side having the substrate.

また、積層体は、着色層を、1層のみ有していても、2層以上有していてもよい。
積層体において、着色層の少なくとも1層が、液晶層を介して視認するための層であることが好ましい。
着色層の少なくとも1層を液晶層を介して視認することにより、液晶層における入射光の角度に応じた異方性に基づき、着色層が視認する角度に応じて色の変化が生じ、特殊な意匠性が示されると推察される。
また、積層体が着色層を2層以上有する場合、着色層の少なくとも1層が液晶層を介して視認するための層であり、かつ着色層の少なくとも他の1層が液晶層よりも視認方向に近い層(以下、「カラーフィルター層」ともいう。)である態様が好ましく挙げられる。
液晶層よりも視認方向に近い着色層(すなわち、カラーフィルター層)は、少なくとも特定の波長の光に対して透過性の高い層であり、その層構成に特に制限はなく、単色のカラーフィルター層であってもよいし、2色以上のカラーフィルター構造及び必要に応じブラックマトリックス等を有するカラーフィルター層であってもよい。
カラーフィルター層を有することにより、更なる意匠性を有し、また、特定の波長範囲のみを視認可能な積層体が得られる。
また、着色層の少なくとも1つの層、好ましくは液晶層を介して視認するための着色層の全光透過率は、視認性の観点から、10%以下であることが好ましい。全光透過率は、分光光度計(例えば、島津製作所社製の分光光度計「UV-2100」)により測定することができる。
Moreover, the laminate may have only one colored layer, or may have two or more colored layers.
In the laminate, at least one of the colored layers is preferably a layer for viewing through the liquid crystal layer.
When at least one of the colored layers is viewed through the liquid crystal layer, the color changes depending on the viewing angle of the colored layer based on the anisotropy of the liquid crystal layer depending on the angle of incident light. It is inferred that designability is shown.
Further, when the laminate has two or more colored layers, at least one of the colored layers is a layer for viewing through the liquid crystal layer, and at least one of the other colored layers is positioned in the viewing direction from the liquid crystal layer. A preferred embodiment is a layer close to (hereinafter also referred to as a "color filter layer").
The colored layer (i.e., color filter layer) closer to the viewing direction than the liquid crystal layer is a layer that is highly transmissive to at least light of a specific wavelength, and the layer structure is not particularly limited, and is a monochromatic color filter layer. or a color filter layer having a color filter structure of two or more colors and, if necessary, a black matrix or the like.
By having a color filter layer, it is possible to obtain a layered product that has further designability and allows visual recognition of only a specific wavelength range.
Further, the total light transmittance of at least one of the colored layers, preferably the colored layer for viewing through the liquid crystal layer, is preferably 10% or less from the viewpoint of visibility. The total light transmittance can be measured with a spectrophotometer (eg, spectrophotometer “UV-2100” manufactured by Shimadzu Corporation).

着色層の色としては、制限されず、積層体の用途等に応じて適宜選択することができる。着色層の色としては、例えば、黒、灰、白、赤、橙、黄、緑、青、紫等が挙げられる。また、着色層の色は、金属調の色であってもよい。 The color of the colored layer is not limited and can be appropriately selected according to the use of the laminate. Examples of colors of the colored layer include black, gray, white, red, orange, yellow, green, blue, and purple. Also, the color of the colored layer may be a metallic color.

着色層は、強度及び耐傷性の観点から、樹脂を含むことが好ましい。樹脂としては、後述するバインダー樹脂が挙げられる。また、着色層は、重合性化合物を硬化してなる層であってもよく、重合性化合物及び重合開始剤を含む層であってもよい。
重合性化合物及び重合開始剤としては、特に制限はなく、公知のものを用いることができる。
From the viewpoint of strength and scratch resistance, the colored layer preferably contains a resin. Examples of resins include binder resins described later. Further, the colored layer may be a layer obtained by curing a polymerizable compound, or a layer containing a polymerizable compound and a polymerization initiator.
The polymerizable compound and the polymerization initiator are not particularly limited, and known ones can be used.

-着色剤-
着色剤としては、例えば、顔料、染料等が挙げられ、耐久性の観点から、顔料が好ましい。着色層を金属調とするために、金属粒子、パール顔料等を適用することができ、蒸着、また、メッキ等の方法を適用することもできる。
-coloring agent-
Examples of coloring agents include pigments and dyes, and pigments are preferred from the viewpoint of durability. In order to give the colored layer a metallic tone, metal particles, pearl pigments and the like can be applied, and methods such as vapor deposition and plating can also be applied.

顔料としては、制限されず、公知の無機顔料、有機顔料等を適用することができる。
無機顔料としては、例えば、二酸化チタン、酸化亜鉛、リトポン、軽質炭酸カルシウム、ホワイトカーボン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム等の白色顔料、カーボンブラック、チタンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、黒鉛等の黒色顔料、酸化鉄、バリウムイエロー、カドミウムレッド、クロムイエローなどが挙げられる。
無機顔料としては、特開2005-7765号公報の段落0015及び段落0114に記載の無機顔料を適用することもできる。
The pigment is not limited, and known inorganic pigments, organic pigments, and the like can be applied.
Examples of inorganic pigments include white pigments such as titanium dioxide, zinc oxide, lithopone, light calcium carbonate, white carbon, aluminum oxide, aluminum hydroxide, and barium sulfate, carbon black, titanium black, titanium carbon, iron oxide, graphite, and the like. black pigment, iron oxide, barium yellow, cadmium red, chrome yellow and the like.
As the inorganic pigment, the inorganic pigments described in paragraphs 0015 and 0114 of JP-A-2005-7765 can also be applied.

有機顔料としては、例えば、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン等のフタロシアニン系顔料、アゾレッド、アゾイエロー、アゾオレンジ等のアゾ系顔料、キナクリドンレッド、シンカシャレッド、シンカシャマゼンタ等のキナクリドン系顔料、ペリレンレッド、ペリレンマルーン等のペリレン系顔料、カルバゾールバイオレット、アントラピリジン、フラバンスロンイエロー、イソインドリンイエロー、インダスロンブルー、ジブロムアンザスロンレッド、アントラキノンレッド、ジケトピロロピロールなどが挙げられる。
有機顔料の具体例としては、C.I.Pigment Red 177、179、224、242、254、255、264等の赤色顔料、C.I.Pigment Yellow 138、139、150、180、185等の黄色顔料、C.I.Pigment Orange 36、38、71等の橙色顔料、C.I.Pigment Green 7、36、58等の緑色顔料、C.I.Pigment Blue 15:6等の青色顔料、C.I.Pigment Violet 23等の紫色顔料が挙げられる。
有機顔料としては、特開2009-256572号公報の段落0093に記載の有機顔料を適用することもできる。
Examples of organic pigments include phthalocyanine pigments such as phthalocyanine blue and phthalocyanine green; azo pigments such as azo red, azo yellow and azo orange; quinacridone pigments such as quinacridone red, syncash red and syncash magenta; perylene pigments such as perylene maroon; carbazole violet; anthrapyridine; flavanthrone yellow; isoindoline yellow;
Specific examples of organic pigments include C.I. I. Pigment Red 177, 179, 224, 242, 254, 255, 264; I. Pigment Yellow 138, 139, 150, 180, 185 and other yellow pigments, C.I. I. Pigment Orange 36, 38, 71 and other orange pigments, C.I. I. Pigment Green 7, 36, 58 and other green pigments, C.I. I. Pigment Blue 15:6, a blue pigment such as C.I. I. Purple pigments such as Pigment Violet 23 may be mentioned.
As the organic pigment, the organic pigment described in paragraph 0093 of JP-A-2009-256572 can also be applied.

顔料としては、光透過性及び光反射性を有する顔料(いわゆる、光輝性顔料)を含んでいてもよい。光輝性顔料としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、鉄、ニッケル、スズ、酸化アルミニウム、及びこれらの合金等の金属製光輝性顔料、干渉マイカ顔料、ホワイトマイカ顔料、グラファイト顔料、ガラスフレーク顔料などが挙げられる。光輝性顔料は、無着色のものであってよく、着色されたものであってもよい。
光輝性顔料は、積層体の成型において露光を行う場合、露光による硬化を妨げない範囲において用いられることが好ましい。
The pigment may include a pigment having light transmittance and light reflectivity (so-called luster pigment). Luster pigments include, for example, metallic luster pigments such as aluminum, copper, zinc, iron, nickel, tin, aluminum oxide, and alloys thereof, interference mica pigments, white mica pigments, graphite pigments, glass flake pigments, and the like. are mentioned. The bright pigment may be colorless or colored.
When light exposure is performed in molding the laminate, the bright pigment is preferably used within a range that does not interfere with curing by exposure.

着色剤は、1種単独で用いられてもよく、2種以上を組み合わせて用いられてもよい。また、2種以上の着色剤を用いる場合、無機顔料と有機顔料とを組み合わせてもよい。
着色層中の着色剤の含有量は、目的とする色の発現及び成型加工適性の観点から、着色層の全質量に対して、1質量%~50質量%が好ましく、5質量%~50質量%がより好ましく、10質量%~40質量%が特に好ましい。
A coloring agent may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. Moreover, when using 2 or more types of coloring agents, you may combine an inorganic pigment and an organic pigment.
The content of the coloring agent in the colored layer is preferably 1% by mass to 50% by mass, preferably 5% by mass to 50% by mass, based on the total mass of the colored layer, from the viewpoint of the desired color expression and molding processability. % is more preferable, and 10% by mass to 40% by mass is particularly preferable.

-分散剤-
着色層に含まれる着色剤、特に顔料の分散性を向上する観点から、着色層は、分散剤を含有してもよい。分散剤を含むことにより、形成される着色層における着色剤の分散性が向上し、得られる積層体における色の均一化が図れる。
- Dispersant -
The colored layer may contain a dispersant from the viewpoint of improving the dispersibility of the colorant contained in the colored layer, particularly the pigment. By containing a dispersant, the dispersibility of the colorant in the formed colored layer is improved, and the resulting laminate can have a uniform color.

分散剤としては、着色剤の種類、形状等に応じて適宜選択することができ、高分子分散剤が好ましい。
高分子分散剤としては、例えば、シリコーンポリマー、アクリルポリマー、ポリエステルポリマー等が挙げられる。積層体に耐熱性を付与したい場合には、例えば、分散剤として、グラフト型シリコーンポリマー等のシリコーンポリマーを用いることが好ましい。
The dispersant can be appropriately selected according to the type, shape, etc. of the colorant, and is preferably a polymer dispersant.
Polymeric dispersants include, for example, silicone polymers, acrylic polymers, and polyester polymers. When it is desired to impart heat resistance to the laminate, for example, it is preferable to use a silicone polymer such as a graft-type silicone polymer as the dispersant.

分散剤の重量平均分子量は、1,000~5,000,000であることが好ましく、2,000~3,000,000であることがより好ましく、2,500~3,000,000であることが特に好ましい。重量平均分子量が1,000以上であると、着色剤の分散性がより向上する。 The weight average molecular weight of the dispersant is preferably 1,000 to 5,000,000, more preferably 2,000 to 3,000,000, and 2,500 to 3,000,000. is particularly preferred. When the weight average molecular weight is 1,000 or more, the dispersibility of the colorant is further improved.

分散剤としては、市販品を用いてもよい。市販品としては、BASFジャパン社のEFKA 4300(アクリル系高分子分散剤)、花王(株)製のホモゲノールL-18、ホモゲノールL-95及びホモゲノールL-100、日本ルーブリゾール(株)製の、ソルスパース20000及びソルスパース24000、ビックケミー・ジャパン(株)製の、DISPERBYK-110、DISPERBYK-164、DISPERBYK-180及びDISPERBYK-182等が挙げられる。なお、「ホモゲノール」、「ソルスパース」、及び「DISPERBYK」はいずれも登録商標である。 A commercially available product may be used as the dispersant. Commercially available products include EFKA 4300 (acrylic polymer dispersant) manufactured by BASF Japan, Homogenol L-18, Homogenol L-95 and Homogenol L-100 manufactured by Kao Corporation, and manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd. Solsperse 20000 and Solsperse 24000, and DISPERBYK-110, DISPERBYK-164, DISPERBYK-180 and DISPERBYK-182 manufactured by BYK-Chemie Japan Co., Ltd. can be mentioned. "Homogenol", "Solsperse" and "DISPERBYK" are all registered trademarks.

分散剤は、1種単独で用いられてもよく、2種以上を組み合わせて用いられてもよい。
着色層中の分散剤の含有量は、着色剤100質量部に対して、1質量部~30質量部であることが好ましい。
A dispersing agent may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
The content of the dispersant in the colored layer is preferably 1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the colorant.

-バインダー樹脂-
着色層は、成型加工適正の観点から、バインダー樹脂を含むことが好ましい。
バインダー樹脂としては、制限されず、公知の樹脂を適用することができる。バインダー樹脂としては、所望の色を得る観点から、透明な樹脂であることが好ましく、具体的には、全光透過率が80%以上の樹脂が好ましい。全光透過率は、分光光度計(例えば、(株)島津製作所製の分光光度計「UV-2100」)により測定することができる。
- Binder resin -
The colored layer preferably contains a binder resin from the viewpoint of suitability for molding.
The binder resin is not limited, and known resins can be applied. From the viewpoint of obtaining a desired color, the binder resin is preferably a transparent resin, and specifically, a resin having a total light transmittance of 80% or more is preferable. The total light transmittance can be measured with a spectrophotometer (eg, "UV-2100" spectrophotometer manufactured by Shimadzu Corporation).

バインダー樹脂としては、制限されず、公知の樹脂を適用することができる。バインダー樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、ポリオレフィン等が挙げられる。バインダー樹脂は、特定の単量体の単独重合体であってもよく、特定の単量体と他の単量体との共重合体であってもよい。 The binder resin is not limited, and known resins can be applied. Examples of binder resins include acrylic resins, silicone resins, polyesters, polyurethanes, and polyolefins. The binder resin may be a homopolymer of a specific monomer, or a copolymer of a specific monomer and another monomer.

バインダー樹脂は、1種単独で用いられてもよく、2種以上を組み合わせて用いられてもよい。
着色層中のバインダー樹脂の含有量は、成型加工性の観点から、着色層の全質量に対して、5質量%~70質量%であることが好ましく、10質量%~60質量%であることがより好ましく、20質量%~60質量%であることが特に好ましい。
Binder resin may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
The content of the binder resin in the colored layer is preferably 5% by mass to 70% by mass, more preferably 10% by mass to 60% by mass, based on the total mass of the colored layer, from the viewpoint of molding processability. is more preferred, and 20% by mass to 60% by mass is particularly preferred.

-添加剤-
着色層は、上記の成分以外に、必要に応じて添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、制限されず、公知の添加剤を適用することができる。添加剤としては、例えば、特許第4502784号公報の段落0017、及び特開2009-237362号公報の段落0060~0071に記載の界面活性剤、特許第4502784号公報の段落0018に記載の熱重合防止剤(重合禁止剤ともいう。好ましくはフェノチアジンが挙げられる。)、特開2000-310706号公報の段落0058~0071に記載の添加剤等が挙げられる。
-Additive-
The colored layer may contain additives, if necessary, in addition to the above components. Additives are not limited, and known additives can be applied. Examples of additives include surfactants described in paragraph 0017 of Japanese Patent No. 4502784 and paragraphs 0060 to 0071 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-237362, and thermal polymerization inhibitors described in paragraph 0018 of Japanese Patent No. 4502784. agents (also called polymerization inhibitors, preferably phenothiazine), additives described in paragraphs 0058 to 0071 of JP-A-2000-310706, and the like.

-着色層の形成方法-
着色層の形成方法としては、例えば、着色層形成用組成物を用いる方法、着色されたフィルムを貼り合せる方法等が挙げられる。上記の中でも、着色層の形成方法としては、着色層形成用組成物を用いる方法が好ましい。また、naxレアルシリーズ、naxアドミラシリーズ、naxマルチシリーズ(日本ペイント株式会社製)、レタンPGシリーズ(関西ペイント株式会社製)等の市販の塗料を用いて着色層を形成してもよい。
-Method of forming colored layer-
Examples of the method for forming the colored layer include a method using a colored layer-forming composition and a method of bonding a colored film. Among the above methods, a method using a composition for forming a colored layer is preferable as the method for forming the colored layer. Moreover, you may form a colored layer using commercially available paints, such as nax Real series, nax Admira series, nax multi series (made by Nippon Paint Co., Ltd.), Retan PG series (made by Kansai Paint Co., Ltd.).

着色層形成用組成物を用いる方法としては、着色層形成用組成物を塗布して着色層を形成する方法、着色層形成用組成物を印刷して着色層を形成する方法等が挙げられる。印刷方法としては、例えば、スクリーン印刷、インクジェット印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、オフセット印刷等が挙げられる。 Examples of the method using the colored layer-forming composition include a method of applying the colored layer-forming composition to form a colored layer, and a method of printing the colored layer-forming composition to form a colored layer. Examples of printing methods include screen printing, inkjet printing, flexographic printing, gravure printing, and offset printing.

着色層形成用組成物は、着色剤を含む。また、着色層形成用組成物は、有機溶媒を含むことが好ましく、着色層に含まれ得る上記各成分を含んでいてもよい。
着色層形成用組成物に含まれ得る上記各成分の含有量は、着色層中の上記各成分の含有量に関する記載のうち、「着色層」を「着色層形成用組成物」と読み替えた量の範囲で調節することが好ましい。
The colored layer-forming composition contains a colorant. Moreover, the composition for forming a colored layer preferably contains an organic solvent, and may contain each of the above components that can be contained in the colored layer.
The content of each of the above components that can be contained in the composition for forming a colored layer is the amount obtained by replacing the "colored layer" with the "composition for forming a colored layer" in the description regarding the content of each of the above components in the colored layer. is preferably adjusted within the range of

有機溶媒としては、制限されず、公知の有機溶媒を適用することができる。有機溶媒としては、例えば、アルコール化合物、エステル化合物、エーテル化合物、ケトン化合物、芳香族炭化水素化合物等が挙げられる。 The organic solvent is not limited, and known organic solvents can be applied. Examples of organic solvents include alcohol compounds, ester compounds, ether compounds, ketone compounds, aromatic hydrocarbon compounds, and the like.

有機溶媒は、1種単独で用いられてもよく、2種以上を組み合わせて用いられてもよい。
着色層形成用組成物中の有機溶媒の含有量は、着色層形成用組成物の全質量に対して、5質量%~90質量%が好ましく、30質量%~70質量%がより好ましい。
An organic solvent may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
The content of the organic solvent in the colored layer-forming composition is preferably 5% by mass to 90% by mass, more preferably 30% by mass to 70% by mass, based on the total mass of the colored layer-forming composition.

着色層形成用組成物の調製方法としては、例えば、有機溶媒と、着色剤等の着色層に含まれる成分と、を混合する方法等が挙げられる。また、着色層形成用組成物が着色剤として顔料を含む場合、顔料の均一分散性、及び、分散安定性をより高める観点から、顔料と分散剤とを含む顔料分散液を用いて、着色層形成用組成物を調製することが好ましい。 Examples of the method for preparing the colored layer-forming composition include a method of mixing an organic solvent and a component contained in the colored layer, such as a colorant. Further, when the composition for forming a colored layer contains a pigment as a colorant, from the viewpoint of further enhancing the uniform dispersibility and dispersion stability of the pigment, a pigment dispersion containing a pigment and a dispersant is used to form the colored layer. It is preferred to prepare a forming composition.

-着色層の厚さ-
着色層の厚さは、特に制限はないが、視認性及び立体成型性の観点から、0.5μm以上であることが好ましく、3μm以上であることがより好ましく、3μm~50μmであることが更に好ましく、3μm~20μmであることが特に好ましい。
積層体が着色層を2層以上有する場合は、各着色層がそれぞれ独立に、上記厚さの範囲であることが好ましい。
-Thickness of colored layer-
Although the thickness of the colored layer is not particularly limited, it is preferably 0.5 μm or more, more preferably 3 μm or more, and further preferably 3 μm to 50 μm from the viewpoint of visibility and three-dimensional moldability. It is preferably 3 μm to 20 μm, particularly preferably 3 μm to 20 μm.
When the laminate has two or more colored layers, it is preferable that each colored layer independently has a thickness within the above range.

<配向層>
本開示に係る積層体は、液晶層に接する配向層を有していてもよい。配向層は、液晶層の形成の際、液晶層中の液晶化合物の分子を配向させるために用いられる。
配向層は、液晶層などの層の形成の際に用いられ、積層体においては、配向層が含まれていてもいなくてもよい。
<Orientation layer>
A laminate according to the present disclosure may have an alignment layer in contact with the liquid crystal layer. The alignment layer is used to orient the molecules of the liquid crystal compound in the liquid crystal layer when forming the liquid crystal layer.
The alignment layer is used when forming a layer such as a liquid crystal layer, and the laminate may or may not include the alignment layer.

配向層は、有機化合物(好ましくはポリマー)のラビング処理、SiOなどの無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成等の手段で設けることができる。更には、電場の付与、磁場の付与、或いは光照射により配向機能が生じる配向層も知られている。
基材、液晶層などの下層の材料によっては、配向層を設けなくても、下層を直接配向処理(例えば、ラビング処理)することで、配向層として機能させることもできる。そのような下層となる基材の一例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)を挙げることができる。
また、液晶層の上に直接層を積層する場合、下層の液晶層が配向層として振舞い上層の作製のための液晶化合物を配向させることができる場合もある。このような場合、配向層を設けなくても、また、特別な配向処理(例えば、ラビング処理)を実施しなくても上層の液晶化合物を配向することができる。
The alignment layer can be provided by rubbing treatment of an organic compound (preferably polymer), oblique vapor deposition of an inorganic compound such as SiO, formation of a layer having microgrooves, or the like. Further, an alignment layer is known in which an alignment function is produced by application of an electric field, application of a magnetic field, or light irradiation.
Depending on the material of the lower layer such as the base material and the liquid crystal layer, the lower layer can be made to function as an orientation layer by directly subjecting the lower layer to an orientation treatment (for example, rubbing treatment) without providing an orientation layer. An example of such a base material for the lower layer is polyethylene terephthalate (PET).
In addition, when a layer is laminated directly on the liquid crystal layer, the lower liquid crystal layer may act as an alignment layer to orient the liquid crystal compound for the fabrication of the upper layer. In such a case, the liquid crystal compound in the upper layer can be aligned without providing an alignment layer or performing a special alignment treatment (for example, rubbing treatment).

以下、好ましい例として表面をラビング処理して用いられるラビング処理配向層及び光配向層を説明する。 Hereinafter, a rubbing-treated alignment layer and a photo-alignment layer, which are used by rubbing the surface, will be described as preferred examples.

-ラビング処理配向層-
ラビング処理配向層に用いることができるポリマーの例には、例えば特開平8-338913号公報の段落0022に記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ(N-メチロールアクリルアミド)、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー(例、ポリ(N-メチロールアクリルアミド)、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール)が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。
-Rubbing treatment alignment layer-
Examples of polymers that can be used in the rubbing alignment layer include methacrylate copolymers, styrene copolymers, polyolefins, polyvinyl alcohols and modified polyvinyl alcohols described in paragraph 0022 of JP-A-8-338913; Poly(N-methylolacrylamide), polyester, polyimide, vinyl acetate copolymer, carboxymethyl cellulose, polycarbonate and the like are included. A silane coupling agent can be used as the polymer. Water-soluble polymers (e.g., poly(N-methylolacrylamide), carboxymethylcellulose, gelatin, polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol) are preferred, gelatin, polyvinyl alcohol or modified polyvinyl alcohol are more preferred, and polyvinyl alcohol or modified polyvinyl alcohol is particularly preferred. .

配向層のラビング処理面に液晶組成物を塗布して、液晶化合物の分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向層ポリマーと液晶層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向層ポリマーを架橋させることで、液晶層を形成することができる。
配向層の厚みは、0.01μm~10μmの範囲にあることが好ましい。
A liquid crystal composition is applied to the rubbing-treated surface of the alignment layer to orient the molecules of the liquid crystal compound. After that, the liquid crystal layer can be formed by reacting the alignment layer polymer with a polyfunctional monomer contained in the liquid crystal layer, or by cross-linking the alignment layer polymer using a cross-linking agent, if necessary.
The thickness of the alignment layer is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm.

-ラビング処理-
液晶組成物が塗布される、配向層、基材、又は、そのほかの層の表面は、必要に応じてラビング処理をしてもよい。ラビング処理は、一般にはポリマーを主成分とする膜の表面を、紙又は布で一定方向に擦ることにより実施することができる。ラビング処理の一般的な方法については、例えば、「液晶便覧」(丸善社発行、平成12年10月30日)に記載されている。
-Rubbing treatment-
The surface of the alignment layer, substrate, or other layer to which the liquid crystal composition is applied may be rubbed if necessary. The rubbing treatment can generally be carried out by rubbing the surface of the film containing a polymer as a main component with paper or cloth in one direction. A general rubbing method is described, for example, in "Liquid Crystal Handbook" (published by Maruzen Co., Ltd., Oct. 30, 2000).

ラビング密度を変える方法としては、「液晶便覧」(丸善社発行)に記載されている方法を用いることができる。ラビング密度(L)は、下記式(A)で定量化されている。
式(A) L=Nl(1+2πrn/60v)
式(A)中、Nはラビング回数、lはラビングローラーの接触長を表し、rはローラーの半径を表し、nはローラーの回転数(rpm;revolutions per minute)を表し、vはステージ移動速度(秒速)を表す。
As a method for changing the rubbing density, a method described in "Liquid Crystal Handbook" (published by Maruzen Co., Ltd.) can be used. The rubbing density (L) is quantified by the following formula (A).
Formula (A) L=Nl(1+2πrn/60v)
In formula (A), N represents the number of rubbing times, l represents the contact length of the rubbing roller, r represents the radius of the roller, n represents the revolutions per minute (rpm) of the roller, and v represents the stage movement speed. (per second).

ラビング密度を高くするためには、ラビング回数を増やす、ラビングローラーの接触長を長く、ローラーの半径を大きく、ローラーの回転数を大きく、ステージ移動速度を遅くすればよく、一方、ラビング密度を低くするためには、この逆にすればよい。また、ラビング処理の際の条件としては、特許第4052558号公報の記載を参照することもできる。 In order to increase the rubbing density, it is necessary to increase the number of times of rubbing, lengthen the contact length of the rubbing roller, increase the radius of the roller, increase the rotation speed of the roller, and slow down the stage movement speed. To do this, do the opposite. In addition, the description in Japanese Patent No. 4052558 can be referred to as conditions for the rubbing treatment.

-光配向層-
光照射により形成される光配向層に用いられる光配向材料としては、多数の文献等に記載がある。例えば、特開2006-285197号公報、特開2007-76839号公報、特開2007-138138号公報、特開2007-94071号公報、特開2007-121721号公報、特開2007-140465号公報、特開2007-156439号公報、特開2007-133184号公報、特開2009-109831号公報、特許第3883848号公報、特許第4151746号公報に記載のアゾ化合物、特開2002-229039号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開2002-265541号公報、特開2002-317013号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミド及び/又はアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第4205195号、特許第4205198号公報に記載の光架橋性シラン誘導体、特表2003-520878号公報、特表2004-529220号公報、特許第4162850号公報に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド、又は、エステルが好ましい例として挙げられる。特に好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、又は、エステルである。
- Photo-alignment layer -
A large number of documents and the like describe photo-alignment materials used in photo-alignment layers formed by light irradiation. For example, JP-A-2006-285197, JP-A-2007-76839, JP-A-2007-138138, JP-A-2007-94071, JP-A-2007-121721, JP-A-2007-140465, Azo compounds described in JP-A-2007-156439, JP-A-2007-133184, JP-A-2009-109831, JP-A-3883848, JP-A-4151746, JP-A-2002-229039 Aromatic ester compounds of, JP-A-2002-265541, maleimide and / or alkenyl-substituted nadimide compounds having photo-orientation units described in JP-A-2002-317013, Patent No. 4205195, Patent No. 4205198 Preferred examples include the photocrosslinkable silane derivative described in JP-T-2003-520878, JP-T-2004-529220, and photocrosslinkable polyimide, polyamide or ester described in JP-A-4162850. Particularly preferred are azo compounds, photocrosslinkable polyimides, polyamides, and esters.

上記材料から形成した光配向層に、直線偏光又は非偏光照射を施し、光配向層を製造する。
本開示において、「直線偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。好ましくは、光照射に用いる光のピーク波長が200nm~700nmであり、より好ましくは光のピーク波長が400nm以下の紫外光である。
A photo-alignment layer formed from the above materials is subjected to linearly polarized or non-polarized irradiation to produce a photo-alignment layer.
In the present disclosure, "linearly polarized light irradiation" is an operation for causing a photoreaction in the photoalignment material. The wavelength of light to be used varies depending on the photo-alignment material to be used, and is not particularly limited as long as the wavelength is necessary for the photoreaction. The peak wavelength of light used for light irradiation is preferably 200 nm to 700 nm, and more preferably ultraviolet light with a peak wavelength of 400 nm or less.

光照射に用いる光源は、公知の光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー(例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、YAGレーザー)、発光ダイオード、陰極線管などを挙げることができる。 The light source used for light irradiation includes known light sources such as tungsten lamps, halogen lamps, xenon lamps, xenon flash lamps, mercury lamps, mercury xenon lamps, carbon arc lamps, and various lasers (e.g., semiconductor lasers, helium neon). lasers, argon ion lasers, helium-cadmium lasers, YAG lasers), light-emitting diodes, cathode ray tubes, and the like.

直線偏光を得る手段としては、偏光板(例、ヨウ素偏光板、二色色素偏光板、ワイヤーグリッド偏光板)を用いる方法、プリズム系素子(例、グラントムソンプリズム)又はブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、又は、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルター又は波長変換素子等を用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。 As means for obtaining linearly polarized light, a method using a polarizing plate (e.g., iodine polarizing plate, dichroic dye polarizing plate, wire grid polarizing plate), a prism-based element (e.g., Glan-Thompson prism), or reflection using Brewster's angle A method using a type polarizer or a method using light emitted from a polarized laser light source can be employed. Alternatively, only light of a required wavelength may be selectively irradiated using a filter, a wavelength conversion element, or the like.

照射する光は、直線偏光の場合、配向層に対して上面若しくは裏面から配向層表面に対して垂直、又は、斜めから光を照射する方法が例示される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、配向層に対して、好ましくは0°~90°(垂直)、より好ましくは40°~90°である。
非偏光を利用する場合には、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、好ましくは10°~80°、より好ましくは20°~60°、特に好ましくは30°~50°である。
照射時間は、好ましくは1分~60分、より好ましくは1分~10分である。
When the light to be irradiated is linearly polarized light, a method of irradiating light perpendicularly or obliquely to the surface of the alignment layer from the upper surface or the back surface of the alignment layer is exemplified. Although the incident angle of light varies depending on the photo-alignment material, it is preferably 0° to 90° (perpendicular), more preferably 40° to 90°, with respect to the alignment layer.
When using non-polarized light, the non-polarized light is obliquely irradiated. The angle of incidence is preferably 10° to 80°, more preferably 20° to 60°, particularly preferably 30° to 50°.
The irradiation time is preferably 1 minute to 60 minutes, more preferably 1 minute to 10 minutes.

<保護層>
本開示に係る積層体は、保護層を有することもできる。
保護層は、液晶層等を保護する十分な強度を有し、紫外光(UV(Ultra Violet)光)、湿熱など耐候性に優れる層であればよい。また、視認性、及び、黒しまり(外部からの反射光による映り込み抑制性、例えば、蛍光灯の映り込みの抑制)の観点から、反射防止能を有する保護層であってもよい。
保護層は、以下に説明する成分を含む保護層形成用塗布液を塗布して形成してよい。
<Protective layer>
Laminates according to the present disclosure may also have a protective layer.
The protective layer may be a layer that has sufficient strength to protect the liquid crystal layer and the like and is excellent in weather resistance such as ultraviolet light (UV (Ultra Violet) light) and wet heat. In addition, from the viewpoint of visibility and black density (ability to suppress glare due to reflected light from the outside, for example, suppression of glare from a fluorescent lamp), a protective layer having antireflection properties may be used.
The protective layer may be formed by applying a protective layer-forming coating liquid containing the components described below.

保護層としては、強度、及び、耐候性の観点から、樹脂を含むことが好ましく、シロキサン樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、及び、ウレタン樹脂よりなる群から選ばれた少なくとも1種の樹脂を含むことがより好ましく、空隙を有するシロキサン樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、及び、ウレタン樹脂よりなる群から選ばれた少なくとも1種の樹脂を含むことが更に好ましい。 From the viewpoint of strength and weather resistance, the protective layer preferably contains a resin. The group consisting of siloxane resin, fluororesin, acrylic resin, melamine resin, polyolefin resin, polyester resin, polycarbonate resin, and urethane resin. It is more preferable to contain at least one resin selected from, and it is further preferable to contain at least one resin selected from the group consisting of siloxane resins having voids, fluororesins, acrylic resins, and urethane resins. .

-保護層の屈折率-
保護層の屈折率は、視認性、及び、反射防止性の観点から、1.05~1.6が好ましく、1.2~1.5がより好ましく、1.2~1.4が更に好ましい。
本開示において、屈折率は、25℃における550nmの波長の光に対する屈折率である。
また、自動車等の外装に用いられる際には、ワックス及びガソリン等の汚染を目立たなくさせるため、屈折率はそれらの屈折率に近い範囲、すなわち、1.4~1.5の範囲に設定すると、汚れが目立ちにくくなり、好ましい。
また、本開示における各層の屈折率は、無アルカリガラスOA-10G上に形成した保護層の単独膜に対して、分光光度計で透過スペクトルを測定し、上記測定で得られた透過率と、光干渉法により計算で算出した透過率と、を用い、フィッティング解析を行うことにより、各層の厚さ及び屈折率を求めるものとする。また、カルニュー精密屈折計(例えば、(株)島津製作所製「KPR-3000」)を用いて測定することもできる。
また、空隙を有する保護層を形成する場合は、シロキサン樹脂又はフッ素樹脂を含むと、保護層の屈折率を1.5以下、好ましくは1.4以下にすることができ、反射防止能にも優れた保護層が容易に得られる。また、低屈折率粒子を含むことにより、保護層の屈折率を1.5以下に下げても同様の反射防止効果が得られる。
-Refractive index of protective layer-
The refractive index of the protective layer is preferably 1.05 to 1.6, more preferably 1.2 to 1.5, even more preferably 1.2 to 1.4, from the viewpoint of visibility and antireflection properties. .
In the present disclosure, refractive index is the refractive index for light with a wavelength of 550 nm at 25°C.
In addition, when used for the exterior of automobiles, etc., the refractive index should be set in a range close to those refractive indices, that is, in the range of 1.4 to 1.5, in order to make contamination such as wax and gasoline inconspicuous. , dirt becomes less conspicuous, which is preferable.
In addition, the refractive index of each layer in the present disclosure is obtained by measuring the transmission spectrum with a spectrophotometer for a single film of the protective layer formed on the alkali-free glass OA-10G, and the transmittance obtained by the above measurement, The thickness and refractive index of each layer are obtained by performing a fitting analysis using the transmittance calculated by the optical interference method. It can also be measured using a Carnew precision refractometer (eg, "KPR-3000" manufactured by Shimadzu Corporation).
In the case of forming a protective layer having voids, if a siloxane resin or a fluororesin is included, the refractive index of the protective layer can be made 1.5 or less, preferably 1.4 or less. A good protective layer is easily obtained. Moreover, by including low refractive index particles, the same antireflection effect can be obtained even if the refractive index of the protective layer is lowered to 1.5 or less.

-保護層の厚さ-
保護層の厚さは、特に制限はないが、耐傷性及び立体成型性の観点から、2μm以上であることが好ましく、4μm以上であることがより好ましく、4μm~50μmであることが更に好ましく、4μm~20μmであることが特に好ましい。
-Thickness of protective layer-
Although the thickness of the protective layer is not particularly limited, it is preferably 2 μm or more, more preferably 4 μm or more, even more preferably 4 μm to 50 μm, from the viewpoint of scratch resistance and three-dimensional moldability. Particularly preferred is between 4 μm and 20 μm.

-フッ素樹脂-
フッ素樹脂としては、特に制限ないが、特開2009-217258号公報の段落0076~段落0106、又は、特開2007-229999号公報の段落0083~段落0127に記載のもの等が挙げられる。
フッ素樹脂の例としては、オレフィン中の水素をフッ素に置換したフッ化アルキル樹脂が挙げられ、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、パーフルオロアルコキシアルカン、パーフルオロエチレンプロペン、エチレンテトラフルオロエチレンなどの共重合体、又は、乳化剤又は水との親和性を高める成分と共重合体化して水分散化したフッ素樹脂ディスパージョンなどがある。このようなフッ素樹脂の具体例としては、旭硝子(株)製ルミフロン、オブリガート、ダイキン工業(株)製ゼッフル、ネオフロン、デュポン社製テフロン(登録商標)、アルケマ社カイナーなどが挙げられる。
また、例えば、重合性官能基及び架橋性官能基のうちの少なくとも1つの基を有し、かつフッ素原子を含む化合物を用いてもよく、パーフルオロアルキル(メタ)アクリレート、フッ化ビニルモノマー、フッ化ビニリデンモノマーのようなラジカル重合性のモノマー、パーフルオロオキセタンのようなカチオン重合性のモノマーなどが挙げられる。このようなフッ素化合物の具体例としては、共栄社化学(株)製LINC3A、ダイキン工業(株)製オプツール、荒川化学工業(株)製オプスター、ダイキン工業(株)製などテトラフルオロオキセタン等が挙げられる。
- Fluororesin -
The fluororesin is not particularly limited, but includes those described in paragraphs 0076 to 0106 of JP-A-2009-217258 and paragraphs 0083 to 0127 of JP-A-2007-229999.
Examples of fluororesins include fluoroalkyl resins obtained by substituting fluorine for hydrogen in olefins, such as polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polyvinylidene fluoride, polyvinyl fluoride, perfluoroalkoxyalkane, perfluoro There are copolymers such as ethylene propene and ethylene tetrafluoroethylene, and fluororesin dispersions which are copolymerized with an emulsifier or a component that enhances affinity with water and dispersed in water. Specific examples of such fluororesins include Lumiflon and Obligato manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., Zeffle and Neoflon manufactured by Daikin Industries, Ltd., Teflon (registered trademark) manufactured by DuPont, and Kynar manufactured by Arkema.
Further, for example, a compound having at least one of a polymerizable functional group and a crosslinkable functional group and containing a fluorine atom may be used, such as perfluoroalkyl (meth)acrylate, vinyl fluoride monomer, fluorine Examples include radically polymerizable monomers such as vinylidene chloride monomers and cationically polymerizable monomers such as perfluorooxetane. Specific examples of such fluorine compounds include LINC3A manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., Optool manufactured by Daikin Industries, Ltd., Opstar manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., and tetrafluorooxetane manufactured by Daikin Industries, Ltd. .

-低屈折率粒子-
低屈折率粒子、好ましくは屈折率1.45以下の粒子としては、特に制限はないが、特開2009-217258号公報の段落0075~段落0103に記載のものが挙げられる。
低屈折率粒子の例としては、シリカなどの無機酸化物粒子、又は、アクリル樹脂粒子などの樹脂粒子を用いた中空粒子、粒子表面に多孔質構造を有する多孔質粒子、素材自体の屈折率が低いフッ化物粒子などが挙げられる。
このような中空粒子の具体例としては、日揮触媒化成(株)製スルーリア、日鉄鉱業(株)製シリナックス、積水化成品工業(株)製テクポリマーMBX、SBX、NH、多中空粒子等が、多孔質粒子の具体例としては、日産化学工業(株)製ライトスター等が、フッ化物粒子の具体例としては、(株)希少金属材料研究所製フッ化マグネシウムナノ粒子等が挙げられる。また、コアシェル粒子を用いて、上記樹脂を含んで構成されるマトリックス中に閉鎖空隙を形成してもよい。
中空粒子を含む保護層形成用塗布液を塗布して保護層を形成する方法としては、例えば、特開2009-103808号公報の段落0028~0029に記載の方法、又は特開2008-262187号公報の段落0030~0031、又は特開2017-500384号広報の段落0018に記載の方法を適用できる。
- Low refractive index particles -
Low refractive index particles, preferably particles having a refractive index of 1.45 or less, are not particularly limited, but include those described in paragraphs 0075 to 0103 of JP-A-2009-217258.
Examples of low refractive index particles include inorganic oxide particles such as silica, hollow particles using resin particles such as acrylic resin particles, porous particles having a porous structure on the particle surface, and materials whose refractive index is low. and low fluoride particles.
Specific examples of such hollow particles include Sururia manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd., Silinax manufactured by Nittetsu Mining Co., Ltd., Techpolymer MBX, SBX, NH manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd., multi-hollow particles, etc. However, specific examples of porous particles include Light Star manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., and specific examples of fluoride particles include magnesium fluoride nanoparticles manufactured by Rare Metals Research Institute Co., Ltd. . Core-shell particles may also be used to form closed voids in a matrix comprising the resin.
Examples of the method of forming a protective layer by applying a protective layer-forming coating liquid containing hollow particles include, for example, the method described in paragraphs 0028 to 0029 of JP-A-2009-103808, or JP-A-2008-262187. paragraphs 0030 to 0031, or paragraph 0018 of JP-A-2017-500384 can be applied.

-シロキサン樹脂、シロキサン化合物-
保護層形成用塗布液は、シロキサン化合物を含むことが好ましい。シロキサン化合物を加水分解縮合することにより、好適なシロキサン樹脂が得られる。
特に、シロキサン化合物としては、下記式1で表されるシロキサン化合物、及び、下記式1で表されるシロキサン化合物の加水分解縮合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物(以下、特定シロキサン化合物ともいう。)が好ましい。
-Siloxane resin, siloxane compound-
The protective layer-forming coating liquid preferably contains a siloxane compound. A suitable siloxane resin can be obtained by subjecting the siloxane compound to hydrolytic condensation.
In particular, as the siloxane compound, at least one compound selected from the group consisting of a siloxane compound represented by the following formula 1 and a hydrolytic condensate of the siloxane compound represented by the following formula 1 (hereinafter referred to as a specific siloxane Also referred to as a compound.) is preferred.

式1中、R、R及びRはそれぞれ独立に、炭素数1~6のアルキル基、又は、アルケニル基を表し、Rは複数の場合はそれぞれ独立に、アルキル基、ビニル基、又は、ビニル基、エポキシ基、ビニルフェニル基、(メタ)アクリロキシ基、(メタ)アクリルアミド基、アミノ基、イソシアヌレート基、ウレイド基、メルカプト基、スルフィド基、ポリオキシアルキル基、カルボキシ基及び第四級アンモニウム基よりなる群から選ばれる基を有するアルキル基を表し、mは、0~2の整数を表し、nは1~20の整数を表す。In Formula 1, R 1 , R 2 and R 3 each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkenyl group, and R 4 is each independently an alkyl group, vinyl group, Alternatively, vinyl group, epoxy group, vinylphenyl group, (meth)acryloxy group, (meth)acrylamide group, amino group, isocyanurate group, ureido group, mercapto group, sulfide group, polyoxyalkyl group, carboxy group and quaternary represents an alkyl group having a group selected from the group consisting of an ammonium group, m represents an integer of 0-2, and n represents an integer of 1-20.

式1で表されるシロキサン化合物の加水分解縮合物とは、式1で表されるシロキサン化合物と、式1で表されるシロキサン化合物におけるケイ素原子上の置換基の少なくとも一部が加水分解して、シラノール基となっている化合物とが縮合した化合物をいう。 The hydrolytic condensate of the siloxane compound represented by Formula 1 is obtained by hydrolyzing at least a part of the siloxane compound represented by Formula 1 and the substituents on the silicon atoms in the siloxane compound represented by Formula 1. , and a compound having a silanol group are condensed.

式1におけるR、R及びRにおける炭素数1~6のアルキル基、又は、アルケニル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。炭素数1~6のアルキル基、又は、アルケニル基としては、保護層の強度、光透過性及びヘーズの観点から、アルキル基であることが好ましい。
炭素数1~6のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、メチル基又はエチル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
式1におけるRは、保護層の強度、光透過性及びヘーズの観点から、複数の場合はそれぞれ独立に、アルキル基であることが好ましく、炭素数1~8のアルキル基であることがより好ましい。
また、式1におけるRの炭素数は、1~40であることが好ましく、1~20であることがより好ましく、1~8であることが特に好ましい。
式1におけるmは、保護層の強度、光透過性及びヘーズの観点から、1又は2であることが好ましく、2であることがより好ましい。
式1におけるnは、保護層の強度、光透過性及びヘーズの観点から、2~20の整数であることが好ましい。
The alkyl group or alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms in R 1 , R 2 and R 3 in Formula 1 may be linear, branched, or have a ring structure. good too. The alkyl group or alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferably an alkyl group from the viewpoint of strength, light transmittance and haze of the protective layer.
Examples of alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group and cyclohexyl group. is preferably a methyl group or an ethyl group, more preferably a methyl group.
R 4 in Formula 1 is preferably an alkyl group, more preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, from the viewpoint of the strength, light transmittance and haze of the protective layer. preferable.
The number of carbon atoms in R 4 in Formula 1 is preferably 1-40, more preferably 1-20, and particularly preferably 1-8.
m in Formula 1 is preferably 1 or 2, more preferably 2, from the viewpoint of the strength, light transmittance and haze of the protective layer.
n in Formula 1 is preferably an integer of 2 to 20 from the viewpoint of the strength, light transmittance and haze of the protective layer.

特定シロキサン化合物の例としては、信越化学工業(株)製のKBE-04、KBE-13、KBE-22、KBE-1003、KBM-303、KBE-403、KBM-1403、KBE-503、KBM-5103、KBE-903、KBE-9103P、KBE-585、KBE-803、KBE-846、KR-500、KR-515、KR-516、KR-517、KR-518、X-12-1135、X-12-1126、X-12-1131;エボニックジャパン(株)製のDynasylan4150;三菱ケミカル(株)製のMKCシリケートMS51、MKCシリケートMS56、MKCシリケートMS57、MKCシリケートMS56S;コルコート(株)製のエチルシリケート28、N-プロピルシリケート、N-ブチルシリケート、SS-101;等が挙げられる。
また、シロキサン化合物の縮合を促進する縮合触媒を含有してもよい。
保護層形成用塗布液が縮合触媒を含有することにより、より耐久性に優れた保護層を形成することができる。
縮合触媒としては、特に制限はなく、公知の縮合触媒を用いることができる。
Examples of specific siloxane compounds include Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KBE-04, KBE-13, KBE-22, KBE-1003, KBM-303, KBE-403, KBM-1403, KBE-503, KBM- 5103, KBE-903, KBE-9103P, KBE-585, KBE-803, KBE-846, KR-500, KR-515, KR-516, KR-517, KR-518, X-12-1135, X- Dynasylan 4150 manufactured by Evonik Japan Co., Ltd.; MKC silicate MS51, MKC silicate MS56, MKC silicate MS57, MKC silicate MS56S manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation; Ethyl silicate manufactured by Colcoat Co., Ltd. 28, N-propyl silicate, N-butyl silicate, SS-101;
It may also contain a condensation catalyst that promotes condensation of the siloxane compound.
By including a condensation catalyst in the protective layer-forming coating liquid, a protective layer having more excellent durability can be formed.
The condensation catalyst is not particularly limited, and known condensation catalysts can be used.

-ウレタン樹脂-
保護層に好適に用いることのできるウレタン樹脂は、ポリイソシアネート化合物(例えば、ジイソシアネート化合物)と、ポリオールの反応、又は、ウレタン(メタ)アクリレート化合物の重合反応等により得ることができる。
-Urethane resin-
A urethane resin that can be suitably used for the protective layer can be obtained by a reaction of a polyisocyanate compound (for example, a diisocyanate compound) and a polyol, or a polymerization reaction of a urethane (meth)acrylate compound.

ポリウレタン樹脂の合成に用いるポリオールの例としては、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオール、及び、ポリアクリルポリオールが挙げられる。中でも、ポリエステルポリオール、又は、ポリアクリルポリオールが、耐衝撃性の観点から好ましい。 Examples of polyols used in synthesizing polyurethane resins include polyester polyols, polyether polyols, polycarbonate polyols, and polyacrylic polyols. Among them, polyester polyol or polyacrylic polyol is preferable from the viewpoint of impact resistance.

ポリエステルポリオールは、多塩基酸及び多価アルコールを使用するエステル化反応を用いた公知の方法によって得ることが可能である。 A polyester polyol can be obtained by a known method using an esterification reaction using a polybasic acid and a polyhydric alcohol.

ポリエステルポリオールの多塩基酸成分としてポリカルボン酸を使用するが、必要であれば、一塩基脂肪酸なども一緒に用いてよい。ポリカルボン酸の例は、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、テトラヒドロイソフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、および他のこのような芳香族ポリカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、コハク酸、アゼライン酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸、及び、他のこのような脂肪族ポリカルボン酸、並びに、それらの無水物を含む。これらの多塩基酸は単独で使用してもよく、又は、それらの2つ以上の組合せを用いることも可能である。 A polycarboxylic acid is used as the polybasic acid component of the polyester polyol, but if necessary, a monobasic fatty acid or the like may also be used together. Examples of polycarboxylic acids are phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, tetrahydrophthalic acid, tetrahydroisophthalic acid, hexahydrophthalic acid, hexahydroterephthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, and other such aromatic Polycarboxylic acids, adipic acid, sebacic acid, succinic acid, azelaic acid, fumaric acid, maleic acid, itaconic acid, and other such aliphatic polycarboxylic acids and their anhydrides. These polybasic acids may be used alone, or it is possible to use a combination of two or more thereof.

ポリエステルポリオールの多価アルコール成分の例、及び、同様に、ポリウレタン樹脂の合成で使用する多価アルコールの例としては、グリコール及び三価以上の多価アルコールが挙げられる。グリコールの例は、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキシレングリコール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール、メチルプロパンジオール、シクロヘキサンジメタノール、3,3-ジエチル-1,5-ペンタンジオールなどを含む。三価以上の多価アルコールの例は、グリセロール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリトリトール、ジペンタエリトリトールなどを含む。これらの多価アルコールは単独でも使用可能であり、又は、それらの2つ以上の組合せを用いることも可能である。 Examples of polyhydric alcohol components of polyester polyols, and likewise polyhydric alcohols used in the synthesis of polyurethane resins, include glycols and trihydric or higher polyhydric alcohols. Examples of glycols are ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, neopentyl glycol, hexylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4- butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, methylpropanediol, cyclohexanedimethanol, 3,3-diethyl-1,5- Including pentanediol and the like. Examples of trihydric or higher polyhydric alcohols include glycerol, trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, and the like. These polyhydric alcohols can be used alone, or two or more of them can be used in combination.

アルカン酸ジメチロールの例は、プロピオン酸ジメチロール、ブタン酸ジメチロール、ペンタン酸ジメチロール、ヘプタン酸ジメチロール、オクタン酸ジメチロール、及び、ノナン酸ジメチロールが挙げられる。これらのアルカン酸ジメチロールは単独でも使用可能であり、又は、それらの2つ以上の組合せを用いることも可能である。 Examples of dimethylol alkanoates include dimethylol propionate, dimethylol butanoate, dimethylol pentanoate, dimethylol heptanoate, dimethylol octanoate, and dimethylol nonanoate. These dimethylol alkanoates can be used alone, or a combination of two or more thereof can be used.

ポリアクリルポリオールは、イソシアネート基と反応可能なヒドロキシ基を有する種々の、公知のポリアクリルポリオールを用いることができる。例えば、(メタ)アクリル酸、ヒドロキシ基が付加された種々の(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリルアミド及びその誘導体、ビニルアルコールのカルボン酸エステル、不飽和カルボン酸、鎖状不飽和アルキル部分を有する炭化水素などの少なくとも一種以上をモノマーとするポリアクリルポリオールを挙げることができる。 Various known polyacrylic polyols having a hydroxyl group capable of reacting with an isocyanate group can be used as the polyacrylic polyol. For example, (meth)acrylic acid, various (meth)acrylic acids to which a hydroxy group is added, (meth)acrylic acid alkyl esters, (meth)acrylamide and derivatives thereof, carboxylic acid esters of vinyl alcohol, unsaturated carboxylic acids, Polyacrylic polyols containing at least one or more monomers such as hydrocarbons having chain unsaturated alkyl moieties can be mentioned.

ポリイソシアネート化合物の例は、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4-又は2,6-トリレンジイソシアネート、1,5-ナフタレンジイソシアネート、p-又はm-フェニレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、及び、m-テトラメチルキシリレンジイソシアネートなどの芳香族ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、4,4’-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、1,4-シクロヘキシレンジイソシアネート、及び、水素化トリレンジイソシアネートなどの脂環式ジ-イソシアネート、並びに、ヘキサメチレンジイソシアネートなどの脂肪族ジイソシアネートなどを含む。これらのうち、脂環式ジイソシアネートは、褪色などへの抵抗性に関して好ましい。これらのジイソシアネート化合物は単独で用いてもよく、又は、それらの2つ以上の組合せを使用することも可能である。 Examples of polyisocyanate compounds are 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 2,4- or 2,6-tolylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, p- or m-phenylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, and m - aromatic diisocyanates such as tetramethylxylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate, 1,4-cyclohexylmethane diisocyanate, and cycloaliphatic diisocyanates such as hydrogenated tolylene diisocyanate, and Including aliphatic diisocyanates such as hexamethylene diisocyanate. Among these, alicyclic diisocyanates are preferred in terms of resistance to fading and the like. These diisocyanate compounds may be used alone, or it is possible to use combinations of two or more thereof.

ウレタン(メタ)アクリレートについて説明する。ウレタン(メタ)アクリレートの製造方法としては、例えば、ヒドロキシ基及び(メタ)アクリロイル基を有する化合物とポリイソシアネート化合物とをウレタン化反応させる方法が挙げられる。 Urethane (meth)acrylate will be explained. A method for producing urethane (meth)acrylate includes, for example, a method of subjecting a compound having a hydroxyl group and a (meth)acryloyl group to a polyisocyanate compound for a urethanization reaction.

ヒドロキシ基及び(メタ)アクリロイル基を有する化合物としては、例えば、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシ-n-ブチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-n-ブチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシ-n-ブチル(メタ)アクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート、N-(2-ヒドロキシエチル)(メタ)アクリルアミド、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイルオキシエチル-2-ヒドロキシエチルフタレート、末端にヒドロキシ基を有するラクトン変性(メタ)アクリレート等のヒドロキシ基を有する単官能(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド(EO)変性ジアクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等のヒドロキシ基を有する多官能(メタ)アクリレートなどが挙げられるが、これらの中でも、保護層の耐擦傷性が向上することから、ペンタエリスリトールトリアクリレート、又は、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートが好ましい。なお、これらのヒドロキシ基及び(メタ)アクリロイル基を有する化合物は、単独で用いることも2種以上併用することもできる。 Compounds having a hydroxy group and a (meth)acryloyl group include, for example, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxy-n-butyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (Meth) acrylate, 2-hydroxy-n-butyl (meth) acrylate, 3-hydroxy-n-butyl (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol mono (meth) acrylate, N-(2-hydroxyethyl) (Meth)acrylamide, glycerin mono(meth)acrylate, polyethylene glycol mono(meth)acrylate, polypropylene glycol mono(meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl(meth)acrylate, 2-(meth)acryloyloxyethyl- 2-hydroxyethyl phthalate, monofunctional (meth)acrylates having a hydroxyl group such as lactone-modified (meth)acrylates having a terminal hydroxyl group; trimethylolpropane di(meth)acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide (EO)-modified diacrylate , pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate and other polyfunctional (meth)acrylates having a hydroxy group. , pentaerythritol triacrylate or dipentaerythritol pentaacrylate are preferred. These compounds having a hydroxy group and a (meth)acryloyl group can be used alone or in combination of two or more.

ポリイソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、m-キシリレンジイソシアネート、m-フェニレンビス(ジメチルメチレン)ジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート;ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、1,3-ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、2-メチル-1,3-ジイソシアナトシクロヘキサン、2-メチル-1,5-ジイソシアナトシクロヘキサン、4,4’-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂肪族又は脂環式ジイソシアネートなどが挙げられる。 Examples of polyisocyanates include aromatic diisocyanates such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, m-phenylenebis(dimethylmethylene) diisocyanate; hexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, 1,3-bis(isocyanato Aliphatic or alicyclic diisocyanates such as methyl)cyclohexane, 2-methyl-1,3-diisocyanatocyclohexane, 2-methyl-1,5-diisocyanatocyclohexane, 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate and isophorone diisocyanate etc.

ウレタン(メタ)アクリレートは、活性光線を照射することで硬化することができる。この活性光線とは、紫外線、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線をいう。成型後に、活性光線として紫外線を照射して保護層を硬化する場合には、保護層に光重合開始剤を添加し、硬化性を向上することが好ましい。また、必要であれば、光増感剤を更に添加して、硬化性を向上することもできる。 Urethane (meth)acrylate can be cured by irradiation with actinic rays. The actinic rays refer to ionizing radiation such as ultraviolet rays, electron beams, α rays, β rays, and γ rays. When the protective layer is cured by irradiating ultraviolet rays as actinic rays after molding, it is preferable to add a photopolymerization initiator to the protective layer to improve curability. Moreover, if necessary, a photosensitizer can be further added to improve curability.

-界面活性剤-
保護層形成用塗布液は、界面活性剤を含むことが好ましい。
界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、イオン性界面活性剤であるアニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤等が挙げられ、いずれも本開示に好適に用いることができる。
-Surfactant-
The protective layer-forming coating liquid preferably contains a surfactant.
Examples of surfactants include nonionic surfactants, anionic surfactants that are ionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and the like, all of which can be suitably used in the present disclosure.

-その他の成分-
保護層形成用塗布液は、既述の成分に加え、目的に応じて他の成分を含有することができる。
他の成分としては、公知の添加剤を用いることができ、例えば、帯電防止剤、防腐剤等が挙げられる。
-Other ingredients-
The protective layer-forming coating solution may contain other components in addition to the components described above, depending on the purpose.
As other components, known additives can be used, such as antistatic agents and preservatives.

-帯電防止剤-
保護層形成用塗布液は、帯電防止剤を含有してもよい。
帯電防止剤は、保護層に帯電防止性を付与することで、汚染物質の付着を抑制する目的で用いられる。
帯電防止性を付与するための帯電防止剤としては、特に制限はない。
保護層に用いられる帯電防止剤としては、金属酸化物粒子、金属ナノ粒子、導電性高分子、及び、イオン液体よりなる群から選ばれる少なくとも1種を好ましく用いることができる。帯電防止剤は2種以上を併用してもよい。
金属酸化物粒子は帯電防止性を与えるために比較的多量の添加が必要であるが、無機粒子であるために、金属酸化物粒子を含有することで、保護層の防汚性をより高めることができる。
- Antistatic agent -
The protective layer-forming coating liquid may contain an antistatic agent.
Antistatic agents are used for the purpose of suppressing adhesion of contaminants by imparting antistatic properties to the protective layer.
The antistatic agent for imparting antistatic properties is not particularly limited.
As the antistatic agent used in the protective layer, at least one selected from the group consisting of metal oxide particles, metal nanoparticles, conductive polymers, and ionic liquids can be preferably used. Antistatic agents may be used in combination of two or more.
Metal oxide particles need to be added in a relatively large amount in order to impart antistatic properties, but since they are inorganic particles, the inclusion of metal oxide particles further enhances the antifouling properties of the protective layer. can be done.

金属酸化物粒子には、特に制限はないが、酸化スズ粒子、アンチモンドープ酸化スズ粒子、スズドープ酸化インジウム粒子、酸化亜鉛粒子、シリカ粒子等が挙げられる。
金属酸化物粒子は屈折率が大きく、粒子径が大きいと透過光の散乱による光透過性の低下が懸念されるため、金属酸化物粒子の平均一次粒子径は100nm以下であることが好ましく、50nm以下であることがより好ましく、30nm以下であることが特に好ましい。また、下限値は、2nm以上であることが好ましい。
また粒子の形状は特に限定されず、球状であっても、板状であっても、針状であってもよい。
金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、分散した粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた写真から求めることができる。写真の画像より、粒子の投影面積を求め、そこから円相当径を求め平均粒子径(平均一次粒子径)とする。本開示における平均一次粒子径は、300個以上の粒子について投影面積を測定して、円相当径を求めて算出した値を用いている。
なお、金属酸化物粒子の形状が球状ではない場合にはその他の方法、例えば動的光散乱法を用いて求めてもよい。
The metal oxide particles are not particularly limited, but include tin oxide particles, antimony-doped tin oxide particles, tin-doped indium oxide particles, zinc oxide particles, silica particles and the like.
Metal oxide particles have a large refractive index, and if the particle size is large, there is a concern that light transmission may decrease due to scattering of transmitted light. It is more preferably 30 nm or less, and particularly preferably 30 nm or less. Also, the lower limit is preferably 2 nm or more.
The shape of the particles is not particularly limited, and may be spherical, plate-like, or needle-like.
The average primary particle size of the metal oxide particles can be determined from the photograph obtained by observing the dispersed particles with a transmission electron microscope. From the photographic image, the projected area of the particles is determined, and the equivalent circle diameter is determined therefrom and taken as the average particle diameter (average primary particle diameter). The average primary particle diameter in the present disclosure is a value calculated by measuring the projected area of 300 or more particles and determining the equivalent circle diameter.
When the shape of the metal oxide particles is not spherical, other methods such as dynamic light scattering may be used.

帯電防止剤は、保護層形成用塗布液に1種のみ含有してもよく、2種以上含有してもよい。金属酸化物粒子を2種以上含有する場合、平均一次粒子径、形状、素材が互いに異なるものを2種以上使用してもよい。
保護層形成用塗布液においては、帯電防止剤の含有量は保護層形成用塗布液の全固形分に対し、40質量%以下であることが好ましく、30質量%以下であることがより好ましく、20質量%以下であることが特に好ましい。
帯電防止剤の含有量を上記範囲とすることにより、保護層形成用塗布液の製膜性を低下させることなく、保護層に効果的に帯電防止性を付与することができる。
また、帯電防止剤として金属酸化物粒子を用いる場合の含有量は、保護層形成用塗布液の全質量に対し、30質量%以下であることが好ましく、20質量%以下であることがより好ましく、10質量%以下であることが特に好ましい。
金属酸化物粒子の含有量を上記範囲とすることで、保護層形成用塗布液における金属酸化物粒子の分散性が良好となり、凝集の発生が抑制され、必要な帯電防止性を保護層に付与することができる。
One type of antistatic agent may be contained in the protective layer-forming coating liquid, or two or more types may be contained. When two or more kinds of metal oxide particles are contained, two or more kinds of particles different in average primary particle diameter, shape and material from each other may be used.
In the protective layer-forming coating liquid, the content of the antistatic agent is preferably 40% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, based on the total solid content of the protective layer-forming coating liquid. 20% by mass or less is particularly preferable.
By setting the content of the antistatic agent within the above range, it is possible to effectively impart antistatic properties to the protective layer without lowering the film-forming properties of the protective layer-forming coating liquid.
When metal oxide particles are used as an antistatic agent, the content is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, relative to the total mass of the coating liquid for forming a protective layer. , 10% by mass or less.
By setting the content of the metal oxide particles within the above range, the dispersibility of the metal oxide particles in the coating liquid for forming the protective layer is improved, the occurrence of aggregation is suppressed, and the necessary antistatic property is imparted to the protective layer. can do.

-保護層形成用塗布液の調製-
保護層形成用塗布液の調製方法は、特に制限はなく、例えば、有機溶媒、界面活性剤、及び、水を混合して、有機溶媒を水中に分散し、特定シロキサン化合物を添加して一部加水分解縮合して分散した有機溶媒の表面にシェル層を形成してコアシェル粒子を作製し、保護層形成用塗布液を製造する方法、有機溶媒、界面活性剤、上述する樹脂、モノマーを混合して製造する方法等が挙げられる。
-Preparation of coating solution for forming protective layer-
The method for preparing the coating solution for forming a protective layer is not particularly limited. A method for producing a coating liquid for forming a protective layer by forming a shell layer on the surface of an organic solvent dispersed by hydrolytic condensation to prepare core-shell particles, and mixing an organic solvent, a surfactant, the above-described resin, and a monomer. and the like.

-保護層の形成-
以上説明した保護層形成用塗布液は、保護層の下層上に塗布し、乾燥させることで、保護層が形成される。
保護層形成用塗布液を塗布する方法としては、特に限定されず、例えば、スプレー塗布、刷毛塗布、ローラー塗布、バー塗布、ディップ塗布等の公知の塗布法をいずれも適用することができる。
また、保護層形成用塗布液を塗布する前に、保護層形成用塗布液が塗布される下層に対し、コロナ放電処理、グロー処理、大気圧プラズマ処理、火炎処理、紫外線照射処理等の表面処理を施してもよい。
-Formation of protective layer-
The protective layer forming coating solution described above is applied onto the lower layer of the protective layer and dried to form the protective layer.
The method of applying the protective layer-forming coating liquid is not particularly limited, and any of known coating methods such as spray coating, brush coating, roller coating, bar coating, and dip coating can be applied.
Before applying the protective layer-forming coating liquid, the lower layer to which the protective layer-forming coating liquid is applied may be subjected to surface treatment such as corona discharge treatment, glow treatment, atmospheric pressure plasma treatment, flame treatment, and ultraviolet irradiation treatment. may be applied.

保護層形成用塗布液の乾燥は、室温(25℃)で行ってもよく、加熱して行ってもよい。保護層形成用塗布液に含まれる有機溶媒を十分揮発させ、また、保護層の光透過性及び着色抑制の観点、更には、基材として樹脂基材を用いた場合に樹脂基材の分解温度以下の温度で加熱する点から、40℃~200℃に加熱して行うことが好ましい。また、樹脂基材の熱変形を抑制する観点では、40℃~120℃に加熱して行うことがより好ましい。
また、加熱を行う場合には、加熱時間は、特に制限はないが、1分~30分であることが好ましい。
Drying of the protective layer-forming coating solution may be performed at room temperature (25° C.) or by heating. From the viewpoint of sufficiently volatilizing the organic solvent contained in the coating liquid for forming the protective layer, the light transmittance of the protective layer and the suppression of coloration, and furthermore, the decomposition temperature of the resin base material when the resin base material is used as the base material It is preferable to heat to 40° C. to 200° C. from the point of heating at the following temperature. Further, from the viewpoint of suppressing thermal deformation of the resin base material, it is more preferable to perform heating at 40°C to 120°C.
When heating is performed, the heating time is not particularly limited, but is preferably 1 minute to 30 minutes.

また、保護層を形成する方法は、特に制限は無く、保護層形成用塗布液を保護層の下層上に塗布し、乾燥させることで保護層を形成する上記方法以外にも、あらかじめフィルム化された保護層を下層にラミネートする方法、粘着剤を介して下層に貼合する方法等が挙げられる。 In addition, the method of forming the protective layer is not particularly limited. Examples include a method of laminating the protective layer to the lower layer, and a method of laminating the protective layer to the lower layer via an adhesive.

<樹脂層>
本開示に係る積層体は、着色層を含む態様において、液晶層の平面性を確保するために、液晶層と着色層との間に、樹脂層を更に有していてもよい。
樹脂層は、保護層とは異なる種類の樹脂を含む層であることが好ましい。
樹脂層としては、視認性の観点から、透明樹脂層であることが好ましく、透明フィルムからなる層であることがより好ましい。
透明フィルムとしては、必要な強度と耐傷性とを有する透明フィルムであれば特に制限されない。
本開示において、透明フィルムにおける「透明」とは、全光透過率が85%以上であることを指す。透明フィルムの全光透過率は、既述の着色層の全光透過率と同様の方法により測定することができる。
<Resin layer>
In a mode including a colored layer, the laminate according to the present disclosure may further have a resin layer between the liquid crystal layer and the colored layer in order to ensure the flatness of the liquid crystal layer.
The resin layer is preferably a layer containing a different kind of resin from the protective layer.
From the viewpoint of visibility, the resin layer is preferably a transparent resin layer, more preferably a layer made of a transparent film.
The transparent film is not particularly limited as long as it has the required strength and scratch resistance.
In the present disclosure, "transparent" in the transparent film means having a total light transmittance of 85% or more. The total light transmittance of the transparent film can be measured by the same method as the total light transmittance of the colored layer described above.

透明フィルムは、透明な樹脂を製膜して得られたフィルムが好ましく、具体的には、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、アクリル樹脂、ポリカーボネート(PC)、トリアセチルセルロース(TAC)、シクロオレフィンポリマー(COP)等の樹脂を含む樹脂フィルムが挙げられる。
特に、金型に対する形状追従性の点から、アクリル樹脂、ポリカーボネート、又はポリエチレンテレフタレートを、透明フィルムに含まれる全樹脂成分に対して60質量%以上(より好ましくは80質量%以上、更に好ましくは100質量%)含む樹脂フィルムが好ましい。特に、アクリル樹脂を透明フィルムに含まれる全樹脂成分に対して60質量%以上(より好ましくは80質量%以上、更に好ましくは100質量%)含む樹脂フィルムがより好ましい。
また、樹脂層の厚みは、特に制限はないが、50μm~150μmが好ましい。
The transparent film is preferably a film obtained by forming a transparent resin, specifically polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), acrylic resin, polycarbonate (PC), triacetyl cellulose (TAC ) and resin films containing resins such as cycloolefin polymer (COP).
In particular, from the viewpoint of conformability to molds, acrylic resin, polycarbonate, or polyethylene terephthalate is added to 60% by mass or more (more preferably 80% by mass or more, more preferably 100% by mass) of the total resin components contained in the transparent film. % by mass) is preferred. In particular, a resin film containing 60% by mass or more (more preferably 80% by mass or more, still more preferably 100% by mass) of an acrylic resin based on the total resin components contained in the transparent film is more preferable.
The thickness of the resin layer is not particularly limited, but is preferably 50 μm to 150 μm.

透明フィルムとしては、市販品を用いてもよく、市販品としては、例えば、アクリプレン(登録商標)HBS010(アクリル樹脂フィルム、三菱ケミカル(株)製)、テクノロイ(登録商標)S001G(アクリル樹脂フィルム、住友化学(株)製)、C000(ポリカーボネート樹脂フィルム、住友化学(株)製)、C001(アクリル樹脂/ポリカーボネート樹脂積層フィルム、住友化学(株)製)等が挙げられる。 As the transparent film, a commercially available product may be used. Commercially available products include, for example, Acryprene (registered trademark) HBS010 (acrylic resin film, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Technoloy (registered trademark) S001G (acrylic resin film, Sumitomo Chemical Co., Ltd.), C000 (polycarbonate resin film, Sumitomo Chemical Co., Ltd.), C001 (acrylic resin/polycarbonate resin laminated film, Sumitomo Chemical Co., Ltd.), and the like.

-樹脂層の形成-
樹脂層の形成方法としては、特に制限はないが、透明フィルムを着色層にラミネートする方法が好ましく挙げられる。
透明フィルムをラミネートする際に用いられる装置としては、ラミネーター、真空ラミネーター、及び、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用することができる。
ラミネーターはゴムローラーなどの任意の加熱可能なローラーを備え、加圧及び加熱ができるものであることが好ましい。
ラミネーターからの加熱により、透明フィルム及び液晶層の少なくとも一方が一部溶融し、液晶層と透明フィルムとの間の密着性を更に高めることができる。
-Formation of resin layer-
A method for forming the resin layer is not particularly limited, but a method of laminating a transparent film on the colored layer is preferable.
As an apparatus used for laminating a transparent film, a known laminator such as a laminator, a vacuum laminator, and an autocut laminator capable of further improving productivity can be used.
Preferably, the laminator is equipped with any heatable roller, such as a rubber roller, and can be applied with pressure and heat.
At least one of the transparent film and the liquid crystal layer is partially melted by the heat from the laminator, and the adhesion between the liquid crystal layer and the transparent film can be further enhanced.

透明フィルムをラミネートする際の温度は、透明フィルムの材質及び液晶層の溶融温度等に応じて決定されればよいが、透明フィルムの温度を、60℃~150℃としうる温度であることが好ましく、65℃~130℃としうる温度であることがより好ましく、70℃~100℃としうる温度であることが特に好ましい。 The temperature at which the transparent film is laminated may be determined according to the material of the transparent film, the melting temperature of the liquid crystal layer, etc., but it is preferable that the temperature of the transparent film can be 60°C to 150°C. , 65°C to 130°C, and particularly preferably 70°C to 100°C.

また、透明フィルムをラミネートする際、透明フィルムと液晶層との間には、線圧60N/cm~200N/cmをかけることが好ましく、線圧70N/cm~160N/cmをかけることがより好ましく、線圧80N/cm~120N/cmをかけることが特に好ましい。 Further, when laminating the transparent film, it is preferable to apply a linear pressure of 60 N/cm to 200 N/cm, more preferably 70 N/cm to 160 N/cm, between the transparent film and the liquid crystal layer. , a linear pressure of 80 N/cm to 120 N/cm is particularly preferred.

<粘着層>
本開示に係る積層体は、他の部材(好ましくは他の成型用部材)への貼り付け容易性、及び、各層間の密着性を高める観点から、粘着層を有していてもよい。
粘着層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、公知の粘着剤又は接着剤を含む粘着層が挙げられる。耐光性の観点から、粘着層に紫外線吸収剤を含むことが好ましい。紫外線吸収剤としては、紫外線吸収層において後述するものが挙げられる。
<Adhesive layer>
The laminate according to the present disclosure may have an adhesive layer from the viewpoint of facilitating attachment to other members (preferably other molding members) and enhancing adhesion between layers.
The material of the adhesive layer is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include known adhesives or adhesive layers containing adhesives. From the viewpoint of light resistance, the adhesive layer preferably contains an ultraviolet absorber. Examples of the ultraviolet absorber include those described below for the ultraviolet absorbing layer.

-粘着剤-
粘着剤の例としては、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤などが挙げられる。また、粘着剤の例として、「剥離紙・剥離フィルムおよび粘着テープの特性評価とその制御技術」、情報機構、2004年、第2章に記載のアクリル系粘着剤、紫外線(UV)硬化型粘着剤、シリコーン粘着剤等が挙げられる。なお、アクリル系粘着剤とは、(メタ)アクリルモノマーの重合体((メタ)アクリルポリマー)を含む粘着剤をいう。
粘着剤を含む場合には、更に、粘着付与剤が含まれていてもよい。
-Adhesive-
Examples of adhesives include acrylic adhesives, rubber adhesives, and silicone adhesives. Also, as examples of adhesives, acrylic adhesives and ultraviolet (UV) curable adhesives described in Chapter 2 of "Release Paper/Release Film and Adhesive Tape Characteristic Evaluation and Control Technology", Information Organization, 2004 agents, silicone adhesives, and the like. The acrylic pressure-sensitive adhesive refers to a pressure-sensitive adhesive containing a polymer of (meth)acrylic monomers ((meth)acrylic polymer).
When a pressure-sensitive adhesive is included, a tackifier may also be included.

-接着剤-
接着剤としては、例えば、ウレタン樹脂接着剤、ポリエステル接着剤、アクリル樹脂接着剤、エチレン酢酸ビニル樹脂接着剤、ポリビニルアルコール接着剤、ポリアミド接着剤、シリコーン接着剤等が挙げられる。接着強度がより高いという観点から、ウレタン樹脂接着剤又はシリコーン接着剤が好ましい。
-glue-
Examples of adhesives include urethane resin adhesives, polyester adhesives, acrylic resin adhesives, ethylene vinyl acetate resin adhesives, polyvinyl alcohol adhesives, polyamide adhesives, and silicone adhesives. A urethane resin adhesive or a silicone adhesive is preferable from the viewpoint of higher adhesive strength.

-粘着層の形成方法-
粘着層の形成方法としては、特に限定されず、粘着層が形成された保護フィルムを、粘着層と被着体(例えば、液晶層、基材、着色層等)とが接するようにラミネートする方法、粘着層を単独で被着体に接するようにラミネートする方法、粘着剤又は接着剤を含む組成物を被着体上に塗布する方法等が挙げられる。ラミネート方法又は塗布方法としては、上述の透明フィルムのラミネート方法又は着色層形成用組成物の塗布方法と同様の方法が好ましく挙げられる。
-Method of forming adhesive layer-
The method of forming the adhesive layer is not particularly limited, and a protective film having an adhesive layer formed thereon is laminated so that the adhesive layer and the adherend (e.g., liquid crystal layer, substrate, colored layer, etc.) are in contact with each other. , a method of laminating an adhesive layer alone so as to be in contact with an adherend, a method of applying a pressure-sensitive adhesive or a composition containing an adhesive onto an adherend, and the like. As the lamination method or application method, the same methods as the above-described transparent film lamination method or the application method of the colored layer forming composition are preferably used.

積層体における粘着層の厚みとしては、粘着力及びハンドリング性の両立の点で、5μm~100μmが好ましい。 The thickness of the adhesive layer in the laminate is preferably 5 μm to 100 μm from the viewpoint of both adhesive strength and handling properties.

<紫外線吸収層>
本開示に係る積層体は、耐光性の観点から、紫外線(UV)吸収層を有することが好ましく、紫外線吸収層を介して硬化された液晶層が視認される位置に、紫外線吸収層を有することがより好ましい。
紫外線吸収層は、紫外線吸収剤を含む層であることが好ましく、紫外線吸収剤及びバインダーポリマーを含む層であることがより好ましい。
紫外線吸収剤としては、公知の紫外線吸収剤を特に制限なく使用することができ、有機化合物であっても無機化合物であってもよい。
紫外線吸収剤としては、例えば、トリアジン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、サリチル酸化合物、金属酸化物粒子などが挙げられる。また、紫外線吸収剤としては、紫外線吸収構造を含むポリマーであってもよく、紫外線吸収構造を含むポリマーとしては、トリアジン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、サリチル酸化合物等の構造の少なくとも一部を含むアクリル酸エステル化合物に由来する単量体単位を含むアクリル樹脂等が挙げられる。
金属酸化物粒子としては、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化セリウム粒子などが挙げられる。
バインダーポリマーとしては、ポリオレフィン、アクリル樹脂、ポリエステル、フッ素樹脂、シロキサン樹脂及びポリウレタン等が挙げられる。
紫外線吸収層は、紫外線吸収層に含まれる各成分と、必要に応じて溶媒を含む紫外線吸収層形成用塗布液を、表面基材上に塗布し、必要に応じて乾燥することにより形成される。
<Ultraviolet absorption layer>
The laminate according to the present disclosure preferably has an ultraviolet (UV) absorption layer from the viewpoint of light resistance, and has an ultraviolet absorption layer at a position where the liquid crystal layer cured through the ultraviolet absorption layer is visible. is more preferred.
The ultraviolet absorption layer is preferably a layer containing an ultraviolet absorber, more preferably a layer containing an ultraviolet absorber and a binder polymer.
As the ultraviolet absorber, any known ultraviolet absorber can be used without particular limitation, and it may be an organic compound or an inorganic compound.
Examples of ultraviolet absorbers include triazine compounds, benzotriazole compounds, benzophenone compounds, salicylic acid compounds, and metal oxide particles. Further, the ultraviolet absorber may be a polymer containing an ultraviolet absorbing structure, and the polymer containing an ultraviolet absorbing structure includes at least part of the structure of a triazine compound, a benzotriazole compound, a benzophenone compound, a salicylic acid compound, or the like. Examples thereof include acrylic resins containing monomer units derived from acrylic acid ester compounds.
Examples of metal oxide particles include titanium oxide particles, zinc oxide particles, and cerium oxide particles.
Examples of binder polymers include polyolefins, acrylic resins, polyesters, fluororesins, siloxane resins and polyurethanes.
The UV-absorbing layer is formed by coating each component contained in the UV-absorbing layer and a UV-absorbing layer-forming coating solution containing a solvent, if necessary, onto the surface base material, and drying if necessary. .

紫外線吸収層の厚さは、特に制限はないが、耐光性及び立体成型性の観点から、0.01μm~100μmであることが好ましく、0.1μm~50μmであることがより好ましく、0.5μm~20μmであることが特に好ましい。 The thickness of the ultraviolet absorption layer is not particularly limited, but from the viewpoint of light resistance and three-dimensional moldability, it is preferably 0.01 μm to 100 μm, more preferably 0.1 μm to 50 μm, and 0.5 μm. ~20 μm is particularly preferred.

<光学マスク層>
本開示に係る積層体は、その製造過程において液晶層をパターニングするための、後述の光学マスク層を含んでいてよい。例えば、本開示に係る積層体は、基材と液晶層との間、液晶層の基材を有する側とは反対側の面、基材の液晶層を有する側とは反対側の面等に光学マスク層が設けられていてよい。
<Optical mask layer>
A laminate according to the present disclosure may include an optical mask layer, described below, for patterning the liquid crystal layer during its manufacturing process. For example, in the laminate according to the present disclosure, between the substrate and the liquid crystal layer, the surface of the liquid crystal layer opposite to the side having the substrate, the surface of the substrate opposite to the side having the liquid crystal layer, etc. An optical mask layer may be provided.

<その他の層>
本開示に係る積層体は、上述した以外の他の層を有していてもよい。
他の層としては、積層体において公知の層である、反射層、自己修復層、帯電防止層、防汚層、防電磁波層、導電性層などが挙げられる。
積層体におけるその他の層は公知の方法により形成することができる。例えば、これらの層に含まれる成分を含む組成物(層形成用組成物)を層状に付与し、乾燥する方法等が挙げられる。
<Other layers>
The laminate according to the present disclosure may have layers other than those described above.
Other layers include a reflective layer, a self-healing layer, an antistatic layer, an antifouling layer, an anti-electromagnetic layer, a conductive layer, and the like, which are known layers in laminates.
Other layers in the laminate can be formed by known methods. Examples thereof include a method of applying a composition (layer-forming composition) containing components contained in these layers in layers and drying the layers.

<カバーフィルム>
本開示に係る積層体は、汚れの防止等を目的として、最外層としてカバーフィルムを有していてもよい。
カバーフィルムとしては、可撓性を有し、剥離性が良好な材料であれば特に制限なく使用され、ポリエチレンフィルム等の樹脂フィルム等が挙げられる。
カバーフィルムの貼り付け方法としては、特に制限されず、公知の貼り付け方法が挙げられ、カバーフィルムを保護層上にラミネートする方法等が挙げられる。
<Cover film>
The laminate according to the present disclosure may have a cover film as the outermost layer for the purpose of preventing contamination and the like.
As the cover film, any material having flexibility and good releasability can be used without any particular limitation, and examples thereof include resin films such as polyethylene films.
The method of attaching the cover film is not particularly limited, and includes known attaching methods, such as a method of laminating the cover film on the protective layer.

<積層体の好ましい層構成>
本開示に係る積層体の層構成は、基材及び硬化された液晶層を有すること以外、特に制限はないが、例えば、積層体が光学マスク層を含む態様においては、下記に示す層構成が好ましく挙げられる。なお、下記各層構成において、最外層として右側に記載した層の側から視認する態様であることが好ましい。
層構成1:基材/光学マスク層/硬化液晶層
層構成2:光学マスク層/基材/硬化液晶層
層構成3:着色層/光学マスク層/硬化液晶層/基材
層構成4:着色層/光学マスク層/基材/硬化液晶層
これらの中でも、上記例示的な態様において、パターニング性と、光学マスク層の視認性を抑制する観点から、層構成4が最も好ましい。
更に、上記例示的な態様において、積層体は、他の部材への貼り付け性の観点から、各層構成において、最外層として右側に記載した層(すなわち、層構成1、層構成2及び層構成4において液晶層、層構成3において基材)の側に、粘着層を更に有することが好ましい。
更に、本開示に係る積層体は、耐光性の観点から、粘着層に紫外線吸収剤を含むか、紫外線吸収層を更に有することが好ましい。紫外線吸収層の位置は、紫外線吸収層を介して上記硬化液晶層が視認される位置であることが好ましい。
<Preferred Layer Structure of Laminate>
The layer structure of the laminate according to the present disclosure is not particularly limited except that it has a substrate and a cured liquid crystal layer. It is preferably mentioned. In addition, in each layer structure described below, it is preferable that the outermost layer is viewed from the side of the layer described on the right side.
Layer structure 1: Base material/optical mask layer/cured liquid crystal layer Layer structure 2: Optical mask layer/base material/cured liquid crystal layer Layer structure 3: Colored layer/optical mask layer/hardened liquid crystal layer/base layer Layer structure 4: Coloring Layer/optical mask layer/substrate/cured liquid crystal layer Among these, in the exemplary embodiment described above, the layer configuration 4 is most preferable from the viewpoint of patterning properties and suppressing visibility of the optical mask layer.
Furthermore, in the above-described exemplary embodiment, from the viewpoint of adhesion to other members, the laminate includes the layers described on the right side as the outermost layer in each layer configuration (that is, layer configuration 1, layer configuration 2, and layer configuration It is preferable to further have an adhesive layer on the side of the liquid crystal layer in 4 and on the side of the substrate in layer structure 3).
Furthermore, from the viewpoint of light resistance, the laminate according to the present disclosure preferably contains an ultraviolet absorber in the adhesive layer or further has an ultraviolet absorbing layer. The position of the ultraviolet absorbing layer is preferably a position where the cured liquid crystal layer can be visually recognized through the ultraviolet absorbing layer.

本開示に係る積層体(ある態様において、加飾成型フィルム)は、特に用途の制限はなく、種々の用途に用いることができ、例えば、電子デバイスの筐体パネルの内外装、電子デバイス、自動車の内外装(例えば、自動車外装板)、電気製品の内外装、包装容器、電化製品の筐体、スマートフォン及びタブレットのカバー等の用途が挙げられる。中でも好適な用途として、電子デバイスの筐体パネル、特に電子デバイスの筐体パネルの外装、及び電気製品の内外装の用途に好ましく用いられてよい。 The laminate according to the present disclosure (in one aspect, the decorative molded film) is not particularly limited in application and can be used in various applications, for example, interior and exterior of housing panels of electronic devices, electronic devices, automobiles interior and exterior (for example, automobile exterior panels), interior and exterior of electrical appliances, packaging containers, housings of electrical appliances, covers for smartphones and tablets, and the like. Among them, it may be preferably used for housing panels of electronic devices, particularly exteriors of housing panels of electronic devices, and interior and exterior applications of electric products.

(成型物、電子デバイスの筐体パネル)
本開示に係る成型物は、本開示に係る積層体(ある態様において、加飾成型フィルム)を成型してなる成型物である。
また、本開示に係る成型物は、本開示に係る積層体の製造方法により製造された積層体を成型してなる成型物であることが好ましい。
更に、本開示に係る成型物は、その製造方法は特に限定されないが、後に説明する本開示に係る成型方法により製造された成型物であることが好ましい。
本開示に係る成型物は、特に用途の制限はなく、例えば、本開示に係る積層体について上述したものと同様の用途に用いることができる。
(Molded products, housing panels for electronic devices)
A molded product according to the present disclosure is a molded product obtained by molding a laminate (in one aspect, a decorative molded film) according to the present disclosure.
Further, the molded product according to the present disclosure is preferably a molded product obtained by molding a laminate manufactured by the method for manufacturing a laminate according to the present disclosure.
Furthermore, although the method for producing the molded product according to the present disclosure is not particularly limited, it is preferably a molded product manufactured by the molding method according to the present disclosure, which will be described later.
The molded product according to the present disclosure is not particularly limited in use, and can be used for, for example, the same uses as those described above for the laminate according to the present disclosure.

本開示に係る成型物の形状は、特に制限はなく、所望の形状であればよい。
また、本開示に係る成型物は、本開示に係る積層体の形状のみを成型したものであっても、後述するように、積層体をインサート成型し、樹脂成型物の表面に積層体が一体化された成型物であってもよい。
本開示に係る電子デバイスの筐体パネルは、本開示に係る成型物以外に、電子デバイスの筐体パネルに用いられる公知の部材を有していてもよい。
The shape of the molded product according to the present disclosure is not particularly limited as long as it has a desired shape.
In addition, even if the molded product according to the present disclosure is obtained by molding only the shape of the laminate according to the present disclosure, as described later, the laminate is insert-molded and the laminate is integrally formed on the surface of the resin molded product. It may also be a molded article that has been made into.
The housing panel of the electronic device according to the present disclosure may have known members used for the housing panel of the electronic device, in addition to the molding according to the present disclosure.

(積層体の製造方法)
本開示に係る積層体について、その製造方法は特に限定されないが、以下に説明する本開示に係る積層体の製造方法により、好ましく製造することができる。
本開示に係る積層体の製造方法は、
基材と、基材上に設けられた液晶化合物と光異性化化合物とを含む液晶層と、液晶層及び基材の少なくとも一方に隣接し、かつ、光透過率が互いに異なる複数のパターンが面内方向に形成された光学マスク層と、を有する液晶材料を準備する工程(以下、「液晶材料準備工程」と呼ぶことがある)と、
光学マスク層を介して液晶層に光を照射し、光異性化化合物を光異性化させる工程(以下、「光異性化工程」と呼ぶことがある)と
を含む。
(Laminate manufacturing method)
The manufacturing method of the laminate according to the present disclosure is not particularly limited, but it can be preferably manufactured by the method for manufacturing the laminate according to the present disclosure, which will be described below.
A method for manufacturing a laminate according to the present disclosure includes:
A substrate, a liquid crystal layer containing a liquid crystal compound and a photoisomerizable compound provided on the substrate, and a plurality of patterns adjacent to at least one of the liquid crystal layer and the substrate and having different light transmittances are formed on the surface. an optical mask layer formed inward (hereinafter sometimes referred to as a "liquid crystal material preparation step");
a step of irradiating the liquid crystal layer with light through the optical mask layer to photoisomerize the photoisomerizable compound (hereinafter sometimes referred to as a “photoisomerization step”).

以下、本開示に係る積層体の製造方法について、詳細に説明する。 Hereinafter, a method for manufacturing a laminate according to the present disclosure will be described in detail.

<液晶材料準備工程>
液晶材料準備工程は、基材と、基材上に設けられた液晶化合物と光異性化化合物とを含む液晶層と、液晶層及び基材の少なくとも一方に隣接し、かつ、光透過率が互いに異なる複数のパターンが面内方向に形成された光学マスク層と、を有する液晶材料を準備する工程である。
<Liquid crystal material preparation process>
The liquid crystal material preparation step comprises: a substrate; a liquid crystal layer containing a liquid crystal compound and a photoisomerizable compound provided on the substrate; and an optical mask layer in which a plurality of different patterns are formed in an in-plane direction.

-基材-
基材は、積層体について上述したものを用いることができる。
-Base material-
As the base material, those described above for the laminate can be used.

-光学マスク層-
光学マスク層は、液晶層及び基材の少なくとも一方に隣接し、かつ、光透過率が互いに異なる複数のパターンが面内方向に形成されている。後に詳細を説明する光異性化工程において、光学マスク層を介して液晶に光を照射し、液晶層中の光異性化化合物を光異性化させることにより、選択反射波長が互いに異なる複数のパターンを液晶層の面内方向に形成することができる。
光学マスク層は、光透過率を調節する材料を有する領域と、光透過率を調節する材料を有しない領域とを設けることにより、光透過率が互いに異なる複数のパターンが面内方向に形成されたものであってよい。例えば、光学マスク層は、後述のように、光の吸収又は反射を有する成分を含むインクを印刷した領域と印刷しない領域とを設けたものであってよい。
- Optical mask layer -
The optical mask layer is adjacent to at least one of the liquid crystal layer and the substrate, and has a plurality of patterns with different light transmittances formed in the in-plane direction. In the photoisomerization step, which will be described later in detail, the liquid crystal is irradiated with light through an optical mask layer to photoisomerize the photoisomerizable compound in the liquid crystal layer, thereby forming a plurality of patterns with mutually different selective reflection wavelengths. It can be formed in the in-plane direction of the liquid crystal layer.
The optical mask layer has a region having a material for adjusting light transmittance and a region having no material for adjusting light transmittance, so that a plurality of patterns having different light transmittances are formed in the in-plane direction. It can be anything. For example, the optical mask layer may have a region printed with an ink containing a light-absorbing or reflective component and a non-printed region, as will be described later.

光学マスク層は、基材に隣接していてよい。例えば、基材の光学マスク層が隣接する側とは反対側の面に、液晶層が設けられていてよい。
また、光学マスク層は、液晶層に隣接していてよい。例えば、液晶層の基材を有する側とは反対側の面に、光学マスク層が設けられてよい。
また、光学マスク層は、基材及び液晶層の両方に隣接していてよい。例えば、基材と液晶層との間に光学マスク層が設けられていてよい。
The optical mask layer may be adjacent to the substrate. For example, a liquid crystal layer may be provided on the side of the substrate opposite to the side adjacent to the optical mask layer.
Also, the optical mask layer may be adjacent to the liquid crystal layer. For example, an optical mask layer may be provided on the side of the liquid crystal layer opposite to the side having the substrate.
Also, the optical mask layer may be adjacent to both the substrate and the liquid crystal layer. For example, an optical mask layer may be provided between the substrate and the liquid crystal layer.

光学マスク層は、波長範囲250nm~400nmにおける光透過率の相違でパターニングされていることが好ましい。すなわち、光学マスク層の複数のパターンの少なくとも一部は、波長範囲250nm~400nmにおいて光透過率が互いに異なることが好ましい。液晶層中の光異性化化合物の光異性化が、250~400nmの波長範囲で生じる場合、波長範囲250~400nmにおける光透過率が互いに異なる複数のパターンが形成された光学マスク層により、250~400nmの波長範囲の透過率が面内方向で変化する。そして、面内方向の透過率の変化に応じて、液晶層中の光異性化化合物の光異性化率を面内方向でコントロールすることができ、所望の選択反射率を有する複数のパターンを液晶層に描くことができる。光学マスク層の複数のパターンは、好ましくは、280nm~380nm、より好ましくは、300nm~350nmの波長範囲で光透過率が互いに異なる。
光学マスク層の複数のパターンにおいて、極大透過率の相違は、30%以上が好ましく、50%以上がより好ましく、75%以上が更に好ましい。すなわち、光学マスクの複数のパターンは、光透過率の極大値が30%以上異なることが好ましく、50%以上異なることがより好ましく、75%以上異なることが更に好ましい。透過率の相違が大きい程、パターニング性に優れ、色味変化に富んだ選択反射パターンを形成できる。
光学マスク層の複数のパターンの少なくとも一部において、波長範囲250nm~400nmにおける光透過率が互いに異なっていれば、他波長領域の光透過率は特に限定されない。本開示に係る積層体は、液晶層を介して下地色層を視認する形態が好ましく、下地色層の視認性を向上させるため、光学マスク層の複数のパターンは、波長範囲400nm~780nmにおける面内の平均透過率が、50%以上であることが好ましい。上記平均透過率は、より好ましくは、65%以上、更に好ましくは、80%以上である。
The optical mask layer is preferably patterned with a difference in light transmittance in the wavelength range of 250 nm to 400 nm. That is, at least some of the plurality of patterns of the optical mask layer preferably have different light transmittances in the wavelength range of 250 nm to 400 nm. When the photoisomerization of the photoisomerizable compound in the liquid crystal layer occurs in the wavelength range of 250 to 400 nm, the optical mask layer formed with a plurality of patterns having different light transmittances in the wavelength range of 250 to 400 nm allows the optical mask layer to have a light transmittance of 250 to 400 nm. The transmittance in the wavelength range of 400 nm varies in the in-plane direction. The photoisomerization rate of the photoisomerizable compound in the liquid crystal layer can be controlled in the in-plane direction according to the change in the transmittance in the in-plane direction. You can draw in layers. The plurality of patterns of the optical mask layer preferably have different light transmittances in the wavelength range of 280 nm to 380 nm, more preferably 300 nm to 350 nm.
In a plurality of patterns of the optical mask layer, the difference in maximum transmittance is preferably 30% or more, more preferably 50% or more, and even more preferably 75% or more. That is, the maximum values of the light transmittance of the plurality of patterns of the optical mask preferably differ by 30% or more, more preferably by 50% or more, and even more preferably by 75% or more. The greater the difference in transmittance, the better the patterning properties, and the more varied the color tone of the selective reflection pattern can be formed.
As long as the light transmittance in the wavelength range of 250 nm to 400 nm is different from each other in at least part of the plurality of patterns of the optical mask layer, the light transmittance in other wavelength regions is not particularly limited. The laminate according to the present disclosure preferably has a form in which the base color layer is visually recognized through the liquid crystal layer. It is preferable that the average transmittance of the inside is 50% or more. The average transmittance is more preferably 65% or higher, still more preferably 80% or higher.

光学マスク層のパターンの光透過率は、分光光度計(例えば、(株)島津製作所製の分光光度計「UV-2100」)により測定することができる。 The light transmittance of the pattern of the optical mask layer can be measured with a spectrophotometer (for example, a spectrophotometer "UV-2100" manufactured by Shimadzu Corporation).

光学マスク層のパターンは、250nm~400nmの波長範囲に光の吸収又は反射を有する成分、及び、バインダーを少なくとも含むことが好ましい。250nm~400nmの波長範囲に光吸収を有する成分としては、顔料及び染料等の着色剤、並びに、紫外線吸収剤等を用いることが好ましい。
耐久性の観点から、顔料、又は、紫外線吸収剤を用いることが好ましい。
The pattern of the optical mask layer preferably contains at least a component that absorbs or reflects light in the wavelength range of 250 nm to 400 nm and a binder. Colorants such as pigments and dyes, ultraviolet absorbers, and the like are preferably used as components that absorb light in the wavelength range of 250 nm to 400 nm.
From the viewpoint of durability, it is preferable to use a pigment or an ultraviolet absorber.

光学マスク層のパターンに含有させることができる顔料としては、制限されず、公知の無機顔料、有機顔料等を適用することができる。
無機顔料としては、例えば、二酸化チタン、酸化亜鉛、リトポン、軽質炭酸カルシウム、ホワイトカーボン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム等の白色顔料、カーボンブラック、チタンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、黒鉛等の黒色顔料、酸化鉄、バリウムイエロー、カドミウムレッド、クロムイエローなどが挙げられる。
無機顔料としては、特開2005-7765号公報の段落0015及び段落0114に記載の無機顔料を適用することもできる。
The pigment that can be contained in the pattern of the optical mask layer is not limited, and known inorganic pigments, organic pigments, and the like can be applied.
Examples of inorganic pigments include white pigments such as titanium dioxide, zinc oxide, lithopone, light calcium carbonate, white carbon, aluminum oxide, aluminum hydroxide, and barium sulfate, carbon black, titanium black, titanium carbon, iron oxide, graphite, and the like. black pigment, iron oxide, barium yellow, cadmium red, chrome yellow and the like.
As the inorganic pigment, the inorganic pigments described in paragraphs 0015 and 0114 of JP-A-2005-7765 can also be applied.

有機顔料としては、例えば、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン等のフタロシアニン系顔料、アゾレッド、アゾイエロー、アゾオレンジ等のアゾ系顔料、キナクリドンレッド、シンカシャレッド、シンカシャマゼンタ等のキナクリドン系顔料、ペリレンレッド、ペリレンマルーン等のペリレン系顔料、カルバゾールバイオレット、アントラピリジン、フラバンスロンイエロー、イソインドリンイエロー、インダスロンブルー、ジブロムアンザスロンレッド、アントラキノンレッド、ジケトピロロピロールなどが挙げられる。
有機顔料の具体例としては、C.I.Pigment Red 177、179、224、242、254、255、264等の赤色顔料、C.I.Pigment Yellow 138、139、150、180、185等の黄色顔料、C.I.Pigment Orange 36、38、71等の橙色顔料、C.I.Pigment Green 7、36、58等の緑色顔料、C.I.Pigment Blue 15:6等の青色顔料、C.I.Pigment Violet 23等の紫色顔料が挙げられる。
有機顔料としては、特開2009-256572号公報の段落0093に記載の有機顔料を適用することもできる。
Examples of organic pigments include phthalocyanine pigments such as phthalocyanine blue and phthalocyanine green; azo pigments such as azo red, azo yellow and azo orange; quinacridone pigments such as quinacridone red, syncash red and syncash magenta; perylene pigments such as perylene maroon; carbazole violet; anthrapyridine; flavanthrone yellow; isoindoline yellow;
Specific examples of organic pigments include C.I. I. Pigment Red 177, 179, 224, 242, 254, 255, 264; I. Pigment Yellow 138, 139, 150, 180, 185 and other yellow pigments, C.I. I. Pigment Orange 36, 38, 71 and other orange pigments, C.I. I. Pigment Green 7, 36, 58 and other green pigments, C.I. I. Pigment Blue 15:6, a blue pigment such as C.I. I. and purple pigments such as Pigment Violet 23.
As the organic pigment, the organic pigment described in paragraph 0093 of JP-A-2009-256572 can also be applied.

顔料としては、光透過性及び光反射性を有する顔料(いわゆる、光輝性顔料)を含んでいてもよい。光輝性顔料としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、鉄、ニッケル、スズ、酸化アルミニウム、及びこれらの合金等の金属製光輝性顔料、干渉マイカ顔料、ホワイトマイカ顔料、グラファイト顔料、ガラスフレーク顔料などが挙げられる。光輝性顔料は、無着色のものであってよく、着色されたものであってもよい。
光輝性顔料は、積層体の成型において露光を行う場合、露光による硬化を妨げない範囲において用いられることが好ましい。
The pigment may include a pigment having light transmittance and light reflectivity (so-called luster pigment). Luster pigments include, for example, metallic luster pigments such as aluminum, copper, zinc, iron, nickel, tin, aluminum oxide, and alloys thereof, interference mica pigments, white mica pigments, graphite pigments, glass flake pigments, and the like. are mentioned. The bright pigment may be colorless or colored.
When light exposure is performed in molding the laminate, the bright pigment is preferably used within a range that does not interfere with curing by exposure.

光学マスク層のパターンに含有させることができる着色剤は、1種単独で用いられてもよく、2種以上を組み合わせて用いられてもよい。また、2種以上の着色剤を用いる場合、無機顔料と有機顔料とを組み合わせてもよい。
光学マスク層のパターン中の着色剤の含有量は、目的とする色の発現及び成型加工適性の観点から、光学マスク層のパターンの全質量に対して、1質量%~50質量%が好ましく、5質量%~50質量%がより好ましく、10質量%~40質量%が特に好ましい。
Colorants that can be contained in the pattern of the optical mask layer may be used singly or in combination of two or more. Moreover, when using 2 or more types of coloring agents, you may combine an inorganic pigment and an organic pigment.
The content of the colorant in the pattern of the optical mask layer is preferably 1% by mass to 50% by mass with respect to the total mass of the pattern of the optical mask layer, from the viewpoint of expression of the desired color and suitability for molding. 5% to 50% by mass is more preferable, and 10% to 40% by mass is particularly preferable.

光学マスク層のパターンに含有させることができる紫外線吸収剤としては、公知の紫外線吸収剤を特に制限なく使用することができ、有機化合物であっても無機化合物であってもよい。
紫外線吸収剤としては、例えば、トリアジン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、サリチル酸化合物、金属酸化物粒子などが挙げられる。また、紫外線吸収剤としては、紫外線吸収構造を含むポリマーであってもよく、紫外線吸収構造を含むポリマーとしては、トリアジン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、サリチル酸化合物等の構造の少なくとも一部を含むアクリル酸エステル化合物に由来する単量体単位を含むアクリル樹脂等が挙げられる。特に好ましくは、トリアジン化合物である。
金属酸化物粒子としては、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化セリウム粒子などが挙げられる。
As the ultraviolet absorber that can be contained in the pattern of the optical mask layer, any known ultraviolet absorber can be used without particular limitation, and it may be an organic compound or an inorganic compound.
Examples of ultraviolet absorbers include triazine compounds, benzotriazole compounds, benzophenone compounds, salicylic acid compounds, and metal oxide particles. Further, the ultraviolet absorber may be a polymer containing an ultraviolet absorbing structure, and the polymer containing an ultraviolet absorbing structure includes at least part of the structure of a triazine compound, a benzotriazole compound, a benzophenone compound, a salicylic acid compound, or the like. Examples thereof include acrylic resins containing monomer units derived from acrylic acid ester compounds. Particularly preferred are triazine compounds.
Examples of metal oxide particles include titanium oxide particles, zinc oxide particles, and cerium oxide particles.

光学マスク層のパターンに含有させることができるバインダーポリマーとしては、ポリオレフィン、アクリル樹脂、ポリエステル、フッ素樹脂、シロキサン樹脂及びポリウレタン等が挙げられる。 Binder polymers that can be contained in the pattern of the optical mask layer include polyolefins, acrylic resins, polyesters, fluororesins, siloxane resins and polyurethanes.

-その他の添加剤-
光学マスク層は、必要に応じて、上述した以外のその他の添加剤を含んでいてもよい。
その他の添加剤としては、公知の添加剤を用いることができ、界面活性剤、重合禁止剤、酸化防止剤、水平配向剤、光安定化剤等を挙げることができる。
-Other additives-
The optical mask layer may contain additives other than those mentioned above, if necessary.
As other additives, known additives can be used, including surfactants, polymerization inhibitors, antioxidants, horizontal alignment agents, light stabilizers, and the like.

パターン境界部の滲みの幅を小さくして、パターン境界部のシャープネスを向上させる観点から、光学マスク層と、液晶層との間の距離は、近い方が好ましい。上記距離は、好ましくは、150μm以下、より好ましくは、100μm以下、更に好ましくは、75μm以下、特に好ましくは、50μm以下である。光学マスク層と、液晶層との間の距離を近づけるには、後述の基材の厚みを薄くする等の手段が考えられる。 The distance between the optical mask layer and the liquid crystal layer is preferably short from the viewpoint of improving the sharpness of the pattern boundary by reducing the width of bleeding at the pattern boundary. The distance is preferably 150 μm or less, more preferably 100 μm or less, still more preferably 75 μm or less, and particularly preferably 50 μm or less. In order to shorten the distance between the optical mask layer and the liquid crystal layer, means such as reducing the thickness of the base material, which will be described later, can be considered.

-光学マスク層の形成-
光学マスク層形成工程は特に限定されず、上述の成分を含む組成物を基材又は液晶層に付与(例えば、塗布)する工程であってよい。
光学マスク層のパターンは、印刷方式で、形成することが好ましい。印刷方式としては、ダイレクトグラビア印刷法、リバースグラビアコーティング印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェット印刷法等が挙げられる。 好ましくは、ダイレクトグラビア印刷法、リバースグラビアコーティング印刷法、及びスクリーン印刷法であり、より好ましくは、ダイレクトグラビア印刷法である。
-Formation of optical mask layer-
The optical mask layer forming step is not particularly limited, and may be a step of applying (for example, applying) a composition containing the above components to the substrate or liquid crystal layer.
The pattern of the optical mask layer is preferably formed by a printing method. Examples of the printing method include direct gravure printing, reverse gravure coating printing, screen printing, flexographic printing, offset printing, inkjet printing, and the like. A direct gravure printing method, a reverse gravure coating printing method, and a screen printing method are preferred, and a direct gravure printing method is more preferred.

光学マスク層は、例えば、250nm~400nmの波長範囲に光吸収を有する成分、バインダー、および、溶媒を含む印刷用インクを、上記印刷方式により、印刷し、必要に応じて乾燥することにより形成してよい。溶媒は特に限定されず、例えば、液晶組成物において後述するものが挙げられる。 The optical mask layer is formed by, for example, printing a printing ink containing a component that absorbs light in the wavelength range of 250 nm to 400 nm, a binder, and a solvent by the above printing method, and drying if necessary. you can The solvent is not particularly limited, and examples thereof include those described later in the liquid crystal composition.

光学マスク層は、250nm~400nmの波長範囲の光吸収、又は、反射を有する成分1を含むインクでパターン形成された部分と、この成分よりも、250nm~400nmの波長範囲の光吸収、又は、反射率が低い成分を含むインクでパターン形成された部分の両方を含むことも好ましい。 The optical mask layer has a portion patterned with an ink containing component 1 having light absorption or reflection in the wavelength range of 250 nm to 400 nm, and light absorption in the wavelength range of 250 nm to 400 nm from this component, or It is also preferred to include both portions patterned with inks containing low reflectance components.

特に、光吸収、又は、反射を有する成分を含むインクでパターンが形成されていないか、印刷膜厚が小さい部分に、この成分よりも、250nm~400nmの波長範囲の光吸収、又は、反射率が低い成分を含むインクでパターン形成することで、光学マスク層のパターンの膜厚が均一になり、基材の巻き取り性、及びハンドリング性が向上する。250nm~400nmの波長範囲に光吸収、又は、反射を有する成分を含むインクでパターン形成された部分の上に、オーバーコート層を設けることも好ましい。 In particular, in a portion where a pattern is not formed with ink containing a component having light absorption or reflection, or where the printed film thickness is small, light absorption or reflectance in the wavelength range of 250 nm to 400 nm is higher than that of this component. By forming a pattern with an ink containing a component with a low molecular weight, the film thickness of the pattern of the optical mask layer becomes uniform, and the winding and handling properties of the substrate are improved. It is also preferred to provide an overcoat layer over the patterned portion of the ink containing a component that absorbs or reflects light in the wavelength range of 250 nm to 400 nm.

-液晶層-
基材上に、液晶化合物と光異性化化合物とを含む液晶層が設けられている。
液晶層は、液晶層における螺旋構造のピッチ、屈折率、及び、厚みよりなる群から選ばれた少なくとも1つを変えることにより、視認される角度による色の変化、及び、視認される色自体を調整することができる。上記螺旋構造のピッチは、カイラル剤の添加量を変えることによって容易に調整可能である。具体的には富士フイルム研究報告No.50(2005年)p.60-63に詳細な記載がある。また、上記螺旋構造のピッチは、コレステリック配向状態を固定するときの温度、照度、照射時間などの条件などで調整することもできる。
-Liquid crystal layer-
A liquid crystal layer containing a liquid crystal compound and a photoisomerizable compound is provided on the substrate.
In the liquid crystal layer, by changing at least one selected from the group consisting of the pitch of the helical structure in the liquid crystal layer, the refractive index, and the thickness, the color changes depending on the angle viewed and the color itself viewed. can be adjusted. The pitch of the helical structure can be easily adjusted by changing the amount of chiral agent added. Specifically, Fuji Film Research Report No. 50 (2005) p. 60-63 for a detailed description. The pitch of the helical structure can also be adjusted by adjusting the conditions such as the temperature, illuminance, and irradiation time for fixing the cholesteric alignment state.

また、後述する硬化工程後における硬化された液晶層は、コレステリック液晶化合物をコレステリック配向状態で固定したものが好ましい。コレステリック配向状態は、右円偏光を反射する配向状態でも、左円偏光を反射する配向状態でも、その両方を含んでいてもよい。コレステリック液晶化合物は特に限定はなく、各種公知のものを使用することができる。 In addition, the liquid crystal layer cured after the curing step described below preferably has a cholesteric liquid crystal compound fixed in a cholesteric alignment state. The cholesteric alignment state may include an alignment state that reflects right-handed circularly polarized light, an alignment state that reflects left-handed circularly polarized light, or both. The cholesteric liquid crystal compound is not particularly limited, and various known compounds can be used.

-コレステリック液晶化合物-
液晶層は、コレステリック液晶化合物を含むことが好ましい。
コレステリック液晶化合物はその形状から、棒状タイプ及び円盤状タイプが挙げられる。更にそれぞれ低分子と高分子タイプとが挙げられる。本開示において、コレステリック液晶化合物における“高分子”とは、重合度が100以上のものを指すものとする(高分子物理・相転移ダイナミクス,土井 正男 著,2頁,、岩波書店,1992)。
本開示においては、いずれのコレステリック液晶化合物を用いることもできるが、棒状コレステリック液晶化合物を用いることが好ましい。
なお、本開示において、コレステリック液晶化合物を含む液晶組成物から形成された層(すなわち、硬化した液晶層)について記載されるとき、この形成された液晶層において液晶性を有する化合物が含まれなくともよい。例えば、上記低分子コレステリック液晶化合物が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合又は架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものが含まれる層であってもよい。
また、コレステリック液晶化合物としては、2種以上の棒状コレステリック液晶化合物、2種以上の円盤状液晶性化合物、又は棒状コレステリック液晶化合物と円盤状コレステリック液晶化合物との混合物を用いてもよい。温度変化及び湿度変化を小さくできることから、反応性基を有する棒状コレステリック液晶化合物又は円盤状コレステリック液晶化合物を用いて形成することがより好ましく、少なくとも1つは1液晶分子中の反応性基が2以上あることが更に好ましい。2種以上のコレステリック液晶化合物の混合物の場合、少なくとも1つが2以上の反応性基を有していることが好ましい。
- Cholesteric Liquid Crystal Compounds -
The liquid crystal layer preferably contains a cholesteric liquid crystal compound.
Cholesteric liquid crystal compounds include a rod-like type and a disk-like type depending on their shape. Furthermore, low-molecular-weight and high-molecular-weight types are mentioned, respectively. In the present disclosure, the term "polymer" in cholesteric liquid crystal compounds refers to those having a degree of polymerization of 100 or more (Polymer Physics, Phase Transition Dynamics, Masao Doi, p.2, Iwanami Shoten, 1992).
Although any cholesteric liquid crystal compound can be used in the present disclosure, it is preferred to use a rod-like cholesteric liquid crystal compound.
In the present disclosure, when a layer formed from a liquid crystal composition containing a cholesteric liquid crystal compound (that is, a cured liquid crystal layer) is described, even if the formed liquid crystal layer does not contain a compound having liquid crystallinity, good. For example, the low-molecular-weight cholesteric liquid crystal compound has a group that reacts with heat, light, etc., and as a result, it is polymerized or crosslinked by the reaction with heat, light, etc., and has a high molecular weight and loses liquid crystallinity. It can be layers.
As the cholesteric liquid crystal compound, two or more rod-shaped cholesteric liquid crystal compounds, two or more discotic liquid crystal compounds, or a mixture of a rod-shaped cholesteric liquid crystal compound and a discotic liquid crystal compound may be used. It is more preferable to use a rod-shaped cholesteric liquid crystal compound or a disk-shaped cholesteric liquid crystal compound having a reactive group because it can reduce temperature change and humidity change, and at least one liquid crystal molecule has two or more reactive groups. It is even more preferable to have In the case of a mixture of two or more cholesteric liquid crystal compounds, at least one preferably has two or more reactive groups.

また、架橋機構の異なる2種類以上の反応性基を有するコレステリック液晶化合物を用いることが好ましい。上記化合物を用いる場合、条件を選択して2種類以上の反応性基の一部の種類のみを重合させることにより、未反応の反応性基を有するポリマーを含む光学異方性層を作製することが好ましい。
架橋機構としては、縮合反応、水素結合、重合など特に限定はないが、上記2種以上の反応性基のうち少なくとも一方の架橋機構は重合が好ましく、2種類以上の異なる重合を用いることがより好ましい。上記架橋における架橋反応は、重合に用いられるビニル基、(メタ)アクリル基、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基だけでなく、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基なども用いることができる。
Moreover, it is preferable to use a cholesteric liquid crystal compound having two or more reactive groups with different crosslinking mechanisms. When the above compound is used, an optically anisotropic layer containing a polymer having an unreacted reactive group is prepared by selecting conditions and polymerizing only a part of two or more reactive groups. is preferred.
The crosslinking mechanism is not particularly limited, such as condensation reaction, hydrogen bonding, and polymerization, but the crosslinking mechanism of at least one of the above two or more reactive groups is preferably polymerization, and it is more preferable to use two or more different polymerizations. preferable. In the cross-linking reaction in the above cross-linking, not only vinyl groups, (meth)acryl groups, epoxy groups, oxetanyl groups and vinyl ether groups used for polymerization but also hydroxyl groups, carboxy groups and amino groups can be used.

本開示における架橋機構の異なる2種類以上の反応性基を有する化合物とは、段階的に異なる架橋反応工程を用いて架橋可能な化合物であり、各段階の架橋反応工程では、それぞれの架橋機構に応じた反応性基が官能基として反応する。また、例えば側鎖にヒドロキシ基を有するポリビニルアルコールのようなポリマーの場合で、ポリマーを重合する重合反応を行った後、側鎖のヒドロキシ基をアルデヒドなどで架橋させた場合は2種類以上の異なる架橋機構を用いたことになるが、本開示において2種類以上の異なる反応性基を有する化合物という場合は、基材等の上に液晶層を形成した時点においてこの液晶層中で2種類以上の異なる反応性基を有する化合物であって、その後にその反応性基を段階的に架橋させることができる化合物であることが好ましい。
また、反応性基としては、重合性基であることが好ましい。重合性基としては、ラジカル重合性基、及び、カチオン重合性基が挙げられる。
中でも、2種以上の重合性基を有するコレステリック液晶化合物を用いることが特に好ましい。
段階的に架橋させる反応条件として、温度の違い、光(照射線)の波長の違い、重合機構の違いのいずれでもよいが、反応を分離しやすい点から重合機構の違いを用いることが好ましく、用いる重合開始剤の種類によって制御することがより好ましい。
重合性基の組み合わせとしては、ラジカル重合性基とカチオン重合性基との組み合わせが好ましい。中でも、ラジカル重合性基がビニル基又は(メタ)アクリル基であり、かつカチオン重合性基がエポキシ基、オキセタニル基又はビニルエーテル基である組み合わせが反応性を制御しやすく特に好ましい。
中でも、コレステリック液晶化合物は、反応性、及び、螺旋構造のピッチの固定容易性の観点から、ラジカル重合性基を有することが好ましい。
以下に反応性基の例を示す。なお、Etはエチル基を表し、n-Prはn-プロピル基を表す。
A compound having two or more reactive groups with different cross-linking mechanisms in the present disclosure is a compound that can be cross-linked using stepwise different cross-linking reaction steps. The corresponding reactive groups react as functional groups. Further, for example, in the case of a polymer such as polyvinyl alcohol having a hydroxy group in a side chain, after performing a polymerization reaction to polymerize the polymer, when the hydroxy group in the side chain is crosslinked with an aldehyde or the like, two or more different In the present disclosure, a compound having two or more different reactive groups means that two or more different reactive groups are used in the liquid crystal layer at the time of forming the liquid crystal layer on the substrate or the like. Compounds with different reactive groups, which can then be crosslinked stepwise, are preferred.
Further, the reactive group is preferably a polymerizable group. Polymerizable groups include radically polymerizable groups and cationically polymerizable groups.
Among them, it is particularly preferable to use a cholesteric liquid crystal compound having two or more polymerizable groups.
As reaction conditions for stepwise cross-linking, any of a difference in temperature, a difference in wavelength of light (irradiation), and a difference in polymerization mechanism may be used. It is more preferable to control by the kind of polymerization initiator to be used.
As a combination of polymerizable groups, a combination of a radically polymerizable group and a cationic polymerizable group is preferable. Among them, a combination in which the radically polymerizable group is a vinyl group or a (meth)acrylic group and the cationic polymerizable group is an epoxy group, an oxetanyl group, or a vinyl ether group is particularly preferable because the reactivity can be easily controlled.
Among them, the cholesteric liquid crystal compound preferably has a radically polymerizable group from the viewpoint of reactivity and ease of fixation of the pitch of the helical structure.
Examples of reactive groups are shown below. Et represents an ethyl group, and n-Pr represents an n-propyl group.

棒状コレステリック液晶化合物としては、アゾメチン化合物、アゾキシ化合物、シアノビフェニル化合物、シアノフェニルエステル化合物、安息香酸エステル化合物、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル化合物、シアノフェニルシクロヘキサン化合物、シアノ置換フェニルピリミジン化合物、アルコキシ置換フェニルピリミジン化合物、フェニルジオキサン化合物、トラン化合物及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類化合物が好ましく挙げられる。以上のような低分子コレステリック液晶化合物だけではなく、高分子コレステリック液晶化合物も用いることができる。上記高分子コレステリック液晶化合物は、低分子の反応性基を有する棒状コレステリック液晶化合物が重合した高分子化合物である。棒状コレステリック液晶化合物の例としては特開2008-281989号公報、特表平11-513019号公報(国際公開第97/00600号)又は特表2006-526165号公報に記載のものが挙げられる。 Rod-shaped cholesteric liquid crystal compounds include azomethine compounds, azoxy compounds, cyanobiphenyl compounds, cyanophenyl ester compounds, benzoate ester compounds, cyclohexanecarboxylic acid phenyl ester compounds, cyanophenylcyclohexane compounds, cyano-substituted phenylpyrimidine compounds, and alkoxy-substituted phenylpyrimidine compounds. , phenyldioxane compounds, tolan compounds and alkenylcyclohexylbenzonitrile compounds. Not only low-molecular-weight cholesteric liquid crystal compounds as described above, but also high-molecular-weight cholesteric liquid-crystal compounds can be used. The polymer cholesteric liquid crystal compound is a polymer compound obtained by polymerizing a rod-like cholesteric liquid crystal compound having a low molecular weight reactive group. Examples of rod-shaped cholesteric liquid crystal compounds include those described in JP-A-2008-281989, JP-A-11-513019 (International Publication No. 97/00600) or JP-A-2006-526165.

以下に、棒状コレステリック液晶化合物の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。なお、下記に示す化合物は、特表平11-513019号公報(国際公開第97/00600号)に記載の方法で合成することができる。 Specific examples of the rod-shaped cholesteric liquid crystal compound are shown below, but are not limited thereto. The compounds shown below can be synthesized by the method described in Japanese Patent Publication No. 11-513019 (International Publication No. 97/00600).

円盤状コレステリック液晶化合物としては、モノマー等の低分子量の円盤状コレステリック液晶化合物、又は、重合性の円盤状コレステリック液晶化合物が挙げられる。
円盤状コレステリック液晶化合物の例としては、C.Destradeらの研究報告、Mol.Cryst.71巻、111頁(1981年)に記載されているベンゼン誘導体、C.Destradeらの研究報告、Mol.Cryst.122巻、141頁(1985年)、Physicslett,A,78巻、82頁(1990)に記載されているトルキセン誘導体、B.Kohneらの研究報告、Angew.Chem.96巻、70頁(1984年)に記載されたシクロヘキサン誘導体及びJ.M.Lehnらの研究報告、J.Chem.Commun.,1794頁(1985年)、J.Zhangらの研究報告、J.Am.Chem.Soc.116巻、2655頁(1994年)に記載されているアザクラウン系又はフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。
上記円盤状コレステリック液晶化合物は、上記各種構造を分子中心の円盤状の母核とし、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等の基(L)が放射線状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般的に円盤状液晶とよばれるものが含まれる。ただし、このような分子の集合体が一様に配向した場合は負の一軸性を示すが、この記載に限定されるものではない。円盤状コレステリック液晶化合物の例としては特開2008-281989号公報の段落0061~段落0075に記載のものが挙げられる。
コレステリック液晶化合物として、反応性基を有する円盤状コレステリック液晶化合物を用いる場合、後述する硬化された液晶層において、水平配向、垂直配向、傾斜配向、及び、ねじれ配向のいずれの配向状態で固定されていてもよい。
Discotic cholesteric liquid crystal compounds include low-molecular-weight discotic cholesteric liquid crystal compounds such as monomers, and polymerizable discotic cholesteric liquid crystal compounds.
Examples of discotic cholesteric liquid crystal compounds include C.I. Destrade et al., Mol. Cryst. 71, 111 (1981), benzene derivatives, C.I. Destrade et al., Mol. Cryst. 122, 141 (1985); Physicslett, A, 78, 82 (1990); Kohne et al., Angew. Chem. 96, 70 (1984) and the cyclohexane derivative described in J. Am. M. In the report of Lehn et al., J. Am. Chem. Commun. , 1794 (1985); In the report of Zhang et al., J. Am. Am. Chem. Soc. 116, 2655 (1994), azacrown-based or phenylacetylene-based macrocycles.
The discotic cholesteric liquid crystal compound has a structure in which the various structures described above are used as a discotic core at the center of the molecule, and groups (L) such as straight-chain alkyl groups, alkoxy groups, and substituted benzoyloxy groups are radially substituted. They are liquid crystalline and include what is generally called discotic liquid crystals. However, when such a molecular assembly is uniformly oriented, it exhibits negative uniaxiality, but is not limited to this description. Examples of discotic cholesteric liquid crystal compounds include those described in paragraphs 0061 to 0075 of JP-A-2008-281989.
When a disk-shaped cholesteric liquid crystal compound having a reactive group is used as the cholesteric liquid crystal compound, it is fixed in any alignment state of horizontal alignment, vertical alignment, tilt alignment, and twist alignment in the cured liquid crystal layer described later. may

コレステリック液晶化合物を含有する液晶層においては、コレステリック液晶化合物の架橋を促進するため重合性モノマーを添加してもよい。
例えば、エチレン性不飽和結合を2個以上有し、光の照射によって付加重合するモノマー又はオリゴマーを用いることができる。
そのようなモノマー及びオリゴマーとしては、分子中に少なくとも1個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物を挙げることができる。その例としては、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート及びフェノキシエチル(メタ)アクリレートなどの単官能アクリレート又は単官能メタクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)シアヌレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパン、グリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加した後(メタ)アクリレート化したもの等の多官能アクリレート又は多官能メタクリレートを挙げることができる。
In a liquid crystal layer containing a cholesteric liquid crystal compound, a polymerizable monomer may be added to promote cross-linking of the cholesteric liquid crystal compound.
For example, a monomer or oligomer that has two or more ethylenically unsaturated bonds and undergoes addition polymerization upon irradiation with light can be used.
Such monomers and oligomers can include compounds having at least one addition polymerizable ethylenically unsaturated group in the molecule. Examples include monofunctional acrylates or monofunctional methacrylates such as polyethylene glycol mono(meth)acrylate, polypropylene glycol mono(meth)acrylate and phenoxyethyl (meth)acrylate; polyethylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate; ) acrylate, trimethylolethane triacrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, trimethylolpropane diacrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, di Pentaerythritol hexa(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, hexanediol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(acryloyloxypropyl) ether, tri(acryloyloxyethyl) isocyanurate, tri(acryloyloxyethyl) ) cyanurate, glycerin tri(meth)acrylate; polyfunctional acrylates or polyfunctional methacrylates obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide to polyfunctional alcohols such as trimethylolpropane and glycerin and then (meth)acrylated them. .

更に特公昭48-41708号公報、特公昭50-6034号公報及び特開昭51-37193号公報に記載されているウレタンアクリレート化合物;特開昭48-64183号公報、特公昭49-43191号公報及び特公昭52-30490号公報に記載されているポリエステルアクリレート化合物;エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート化合物等の多官能アクリレー卜又はメタクリレートを挙げることができる。
これらの中で、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジぺンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジぺンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートが好ましい。
また、この他、特開平11-133600号公報に記載の「重合性化合物B」も好適なものとして挙げることができる。
これらのモノマー又はオリゴマーは、単独でも、二種類以上を混合して使用してもよい。
Furthermore, urethane acrylate compounds described in JP-B-48-41708, JP-B-50-6034 and JP-A-51-37193; JP-B-48-64183, JP-B-49-43191 and polyester acrylate compounds described in JP-B-52-30490; and polyfunctional acrylates or methacrylates such as epoxy acrylate compounds which are reaction products of epoxy resins and (meth)acrylic acid.
Among these, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, and dipentaerythritol penta(meth)acrylate are preferred.
In addition, the "polymerizable compound B" described in JP-A-11-133600 can also be mentioned as a suitable compound.
These monomers or oligomers may be used alone or in combination of two or more.

また、カチオン重合性モノマーを用いることもできる。例えば、特開平6-9714号、特開2001-31892号、特開2001-40068号、特開2001-55507号、特開2001-310938号、特開2001-310937号、特開2001-220526号の各公報に例示されているエポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合物などが挙げられる。
エポキシ化合物としては、以下の芳香族エポキシド、脂環式エポキシド及び脂肪族エポキシド等が挙げられる。
芳香族エポキシドとしては、例えば、ビスフェノールA、あるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールA或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、並びにノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
脂環式エポキシドとしては、少なくとも1個のシクロへキセン又はシクロペンテン環等のシクロアルカン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによって得られる、シクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物が挙げられる。
脂肪族エポキシドの好ましいものとしては、脂肪族多価アルコール或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル等があり、その代表例としては、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテル又は1,6-ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、グリセリン或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はトリグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコール或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコール或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル等のポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
Cationic polymerizable monomers can also be used. For example, JP-A-6-9714, JP-A-2001-31892, JP-A-2001-40068, JP-A-2001-55507, JP-A-2001-310938, JP-A-2001-310937, JP-A-2001-220526 and epoxy compounds, vinyl ether compounds, and oxetane compounds exemplified in each publication.
Epoxy compounds include the following aromatic epoxides, alicyclic epoxides and aliphatic epoxides.
Examples of aromatic epoxides include di- or polyglycidyl ethers of bisphenol A or its alkylene oxide adducts, di- or polyglycidyl ethers of hydrogenated bisphenol A or its alkylene oxide adducts, and novolac type epoxy resins. . Examples of the alkylene oxide include ethylene oxide and propylene oxide.
Cyclohexene oxide obtained by epoxidizing a compound having at least one cycloalkane ring such as cyclohexene or cyclopentene ring with an appropriate oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid as the alicyclic epoxide. or a cyclopentene oxide-containing compound.
Preferred aliphatic epoxides include di- or polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or their alkylene oxide adducts. Representative examples thereof include diglycidyl ether of ethylene glycol, diglycidyl ether of propylene glycol, Diglycidyl ether of alkylene glycol such as diglycidyl ether of 1,6-hexanediol, polyglycidyl ether of polyhydric alcohol such as di- or triglycidyl ether of glycerin or alkylene oxide adduct thereof, polyethylene glycol or alkylene oxide adduct thereof and diglycidyl ether of polyalkylene glycol such as diglycidyl ether of polypropylene glycol or its alkylene oxide adduct. Examples of the alkylene oxide include ethylene oxide and propylene oxide.

また、カチオン重合性モノマーとして、単官能又は2官能のオキセタンモノマーを用いることもできる。例えば、3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン(東亞合成(株)製商品名OXT101等)、1,4-ビス[(3-エチル-3-オキセタニル)メトキシメチル]ベンゼン(同OXT121等)、3-エチル-3-(フェノキシメチル)オキセタン(同OXT211等)、ジ(1-エチル-3-オキセタニル)メチルエーテル(同OXT221等)、3-エチル-3-(2-エチルヘキシロキシメチル)オキセタン(同OXT212等)等を好ましく用いることができ、特に、3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン、3-エチル-3-(フェノキシメチル)オキセタン、ジ(1-エチル-3-オキセタニル)メチルエーテルなどの化合物、特開2001-220526号公報、同2001-310937号公報に記載されている公知のあらゆる単官能又は多官能オキセタン化合物を使用できる。 Monofunctional or bifunctional oxetane monomers can also be used as cationic polymerizable monomers. For example, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane (trade name OXT101, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 1,4-bis[(3-ethyl-3-oxetanyl)methoxymethyl]benzene (trade name OXT121, etc.), 3 - Ethyl-3-(phenoxymethyl) oxetane (OXT211 etc.), di(1-ethyl-3-oxetanyl) methyl ether (OXT221 etc.), 3-ethyl-3-(2-ethylhexyloxymethyl) oxetane ( OXT212, etc.) can be preferably used, and in particular, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 3-ethyl-3-(phenoxymethyl)oxetane, di(1-ethyl-3-oxetanyl)methyl ether, etc. Any known monofunctional or polyfunctional oxetane compounds described in JP-A-2001-220526 and JP-A-2001-310937 can be used.

コレステリック液晶化合物を含む液晶組成物からなる光学異方性層を2層以上積層する場合、液晶性化合物の組み合わせについては特に限定されず、コレステリック液晶化合物の全てが棒状コレステリック液晶化合物である層の積層体、コレステリック液晶化合物として、円盤状コレステリック液晶化合物を含む層と棒状性コレステリック液晶化合物を含む層との積層体、又は、コレステリック液晶化合物の全てが円盤状コレステリック液晶化合物である層の積層体のいずれであってもよい。また、各層の配向状態の組み合わせも特に限定されず、同じ配向状態の硬化された液晶層を積層してもよいし、異なる配向状態の硬化された液晶層を積層してもよい。 When two or more optically anisotropic layers made of a liquid crystal composition containing a cholesteric liquid crystal compound are laminated, the combination of the liquid crystal compounds is not particularly limited, and lamination of layers in which all of the cholesteric liquid crystal compounds are rod-shaped cholesteric liquid crystal compounds. As the cholesteric liquid crystal compound, either a laminate of a layer containing a discotic cholesteric liquid crystal compound and a layer containing a rod-like cholesteric liquid crystal compound, or a laminate of layers in which all of the cholesteric liquid crystal compounds are discotic cholesteric liquid crystal compounds. may be Also, the combination of the alignment states of the layers is not particularly limited, and cured liquid crystal layers having the same alignment state may be stacked, or cured liquid crystal layers having different alignment states may be stacked.

液晶層は、コレステリック液晶化合物を、1種単独で含んでいても、2種以上を含んでいてもよい。
コレステリック液晶化合物の含有量は、液晶層の全質量に対し、意匠性の観点から、30質量%以上99質量%以下であることが好ましく、40質量%以上99質量%以下であることがより好ましく、60質量%以上99質量%以下であることが更に好ましく、70質量%以上98質量%以下であることが特に好ましい。
The liquid crystal layer may contain one type of cholesteric liquid crystal compound alone, or may contain two or more types thereof.
From the viewpoint of designability, the content of the cholesteric liquid crystal compound is preferably 30% by mass or more and 99% by mass or less, more preferably 40% by mass or more and 99% by mass or less, relative to the total mass of the liquid crystal layer. , more preferably 60% by mass or more and 99% by mass or less, and particularly preferably 70% by mass or more and 98% by mass or less.

-積層体の硬化された液晶層における架橋密度-
ラジカル重合性基を有するコレステリック液晶化合物を液晶層に用いる場合、本開示に係る積層体における硬化された液晶層におけるラジカル重合性基による架橋密度は、液晶配向の固定、立体成型性、及び、成型後における反射率変化抑制の観点から、0.05mol/L以上1mol/L以下であることが好ましく、0.1mol/L以上0.5mol/L以下であることがより好ましく、0.15mol/L以上0.45mol/L以下が更に好ましく、0.2mol/L以上0.4mol/L以下であることが特に好ましい。
上記架橋密度は、日本分光(株)製「FT/IR-4000」を用い、以下のように測定するものとする。
キャノシス(株)製シリコンウエハーSiD-4上に、液晶層を形成する。
C=C二重結合(エチレン性不飽和結合)の反応消費率を下記の計算式で見積もり、処方添加量から液晶層中に含まれるC=C二重結合の当量(mol/L)を算出して上記反応消費率を乗算することにより、硬化された液晶層中のラジカル重合性基による架橋密度とする。
反応消費率=(硬化前のC=C二重結合由来のピーク強度-硬化後のC=C二重結合由来のピーク強度)/硬化前のC=C二重結合由来のピーク強度
-Crosslinking density in the cured liquid crystal layer of the laminate-
When a cholesteric liquid crystal compound having a radically polymerizable group is used in the liquid crystal layer, the cross-linking density by the radically polymerizable group in the cured liquid crystal layer in the laminate according to the present disclosure is effective for fixation of liquid crystal alignment, three-dimensional moldability, and molding. From the viewpoint of suppressing reflectance change later, it is preferably 0.05 mol/L or more and 1 mol/L or less, more preferably 0.1 mol/L or more and 0.5 mol/L or less, and 0.15 mol/L. 0.45 mol/L or less is more preferable, and 0.2 mol/L or more and 0.4 mol/L or less is particularly preferable.
The cross-linking density is measured as follows using "FT/IR-4000" manufactured by JASCO Corporation.
A liquid crystal layer is formed on a silicon wafer SiD-4 manufactured by Canosys.
The reaction consumption rate of the C=C double bond (ethylenically unsaturated bond) is estimated by the following formula, and the equivalent amount (mol/L) of the C=C double bond contained in the liquid crystal layer is calculated from the amount added in the prescription. and multiplied by the reaction consumption rate, the crosslink density by the radically polymerizable groups in the cured liquid crystal layer is obtained.
Reaction consumption rate = (Peak intensity derived from C=C double bond before curing-Peak intensity derived from C=C double bond after curing)/Peak intensity derived from C=C double bond before curing

-光異性化化合物-
液晶層は、光異性化化合物を含む。
光異性化化合物は、光異性化可能な化合物であればよいが、成型後における反射率変化抑制、及び、異性化構造の維持性の観点から、露光により立体構造が変化する化合物であることが好ましい。
光異性化工程において、光異性化する光異性化化合物の光異性化構造は、特に制限はないが、成型後における反射率変化抑制、光異性化容易性、及び、異性化構造の維持性の観点から、露光により立体構造が変化する構造であることが好ましく、露光によりEZ配置が異性化する2置換以上のエチレン性不飽和結合を有することがより好ましく、露光によりEZ配置が異性化する2置換のエチレン性不飽和結合を有することが特に好ましい。
また、本開示におけるEZ配置の異性化には、cis-trans異性化も含まれる。
また、上記2置換のエチレン性不飽和結合は、芳香族基とエステル結合とが置換したエチレン性不飽和結合であることが好ましい。
また、光異性化化合物は、光異性化構造を1つのみ有していても、2つ以上有していてもよいが、成型後における反射率変化抑制、光異性化容易性、及び、異性化構造の維持性の観点から、2つ以上有していることが好ましく、2つ~4つ有していることがより好ましく、2つ有していることが特に好ましい。
-Photoisomerizable compound-
The liquid crystal layer contains a photoisomerizable compound.
The photoisomerizable compound may be a compound that can be photoisomerized, but from the viewpoint of suppressing change in reflectance after molding and maintaining the isomerized structure, it is preferable that the compound changes its steric structure upon exposure to light. preferable.
In the photoisomerization step, the photoisomerization structure of the photoisomerization compound to be photoisomerized is not particularly limited. From the viewpoint, it is preferably a structure whose steric structure changes by exposure, more preferably has a disubstituted or more ethylenically unsaturated bond whose EZ configuration is isomerized by exposure, and 2 whose EZ configuration is isomerized by exposure. It is particularly preferred to have a substituted ethylenically unsaturated bond.
Isomerization of the EZ configuration in this disclosure also includes cis-trans isomerization.
Moreover, the disubstituted ethylenically unsaturated bond is preferably an ethylenically unsaturated bond in which an aromatic group and an ester bond are substituted.
In addition, the photoisomerizable compound may have only one photoisomerizable structure or may have two or more photoisomerizable structures. From the viewpoint of maintaining the structure, it is preferable to have two or more, more preferably two to four, and particularly preferably two.

光異性化構造として2置換以上のエチレン性不飽和結合を有する光異性化化合物を用いた場合であっても、液晶層において、光異性化化合物が光異性化された部分、及び光異性化化合物が光異性化されていない部分は、重合していない光異性化化合物の有無により確認することができる。 Even when a photoisomerizable compound having a disubstituted or more ethylenically unsaturated bond is used as the photoisomerizable structure, in the liquid crystal layer, the photoisomerized portion of the photoisomerizable compound and the photoisomerizable compound The portion where is not photoisomerized can be confirmed by the presence or absence of the photoisomerizable compound that is not polymerized.

光異性化化合物は、後述するカイラル剤としても作用する光異性化化合物であることが好ましい。
カイラル剤としても作用する光異性化化合物は、波長313nmにおけるモル吸光係数が30,000以上のカイラル剤であることが好ましい。
また、カイラル剤としても作用する光異性化化合物としては、下記式(CH1)で表される化合物が好ましく挙げられる。
下記式(CH1)で表される化合物は、光照射時の光量に応じてコレステリック液晶相の螺旋ピッチ(ねじれ力、螺旋のねじれ角)などの配向構造を変化させ得る。
また、下記式(CH1)で表される化合物は、2つのエチレン性不飽和結合におけるEZ配置が露光により異性化可能な化合物である。
The photoisomerizable compound is preferably a photoisomerizable compound that also acts as a chiral agent, which will be described later.
The photoisomerizable compound that also acts as a chiral agent is preferably a chiral agent having a molar extinction coefficient of 30,000 or more at a wavelength of 313 nm.
Moreover, as a photoisomerizable compound that also acts as a chiral agent, a compound represented by the following formula (CH1) is preferably exemplified.
The compound represented by the following formula (CH1) can change the alignment structure such as the helical pitch (twisting force, helical twist angle) of the cholesteric liquid crystal phase depending on the amount of light irradiated.
In addition, the compound represented by the following formula (CH1) is a compound in which the EZ configuration of two ethylenically unsaturated bonds can be isomerized by exposure.

式(CH1)中、ArCH1及びArCH2はそれぞれ独立に、アリール基又は複素芳香環基を表し、RCH1及びRCH2はそれぞれ独立に、水素原子又はシアノ基を表す。In formula (CH1), Ar CH1 and Ar CH2 each independently represent an aryl group or a heteroaromatic ring group, and R CH1 and R CH2 each independently represent a hydrogen atom or a cyano group.

式(CH1)におけるArCH1及びArCH2はそれぞれ独立に、アリール基であることが好ましい。
式(CH1)のArCH1及びArCH2におけるアリール基は、置換基を有していてもよく、総炭素数6~40であることが好ましく、総炭素数6~30であることがより好ましい。置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボキシ基、シアノ基、又は、複素環基が好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、又は、アリールオキシカルボニル基がより好ましい。
式(CH1)におけるRCH1及びRCH2はそれぞれ独立に、水素原子であることが好ましい。
Ar 4 CH1 and Ar 4 CH2 in formula (CH1) are each independently preferably an aryl group.
The aryl group in Ar 2 CH1 and Ar 2 CH2 of formula (CH1) may have a substituent, and preferably has 6 to 40 carbon atoms in total, more preferably 6 to 30 carbon atoms in total. Examples of substituents include halogen atoms, alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, alkoxy groups, hydroxy groups, acyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, acyloxy groups, carboxy groups, cyano groups, or heterocyclic rings. A group is preferred, and a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, or an aryloxycarbonyl group is more preferred.
R CH1 and R CH2 in formula (CH1) are preferably each independently a hydrogen atom.

中でも、ArCH1及びArCH2としては、下記式(CH2)又は式(CH3)で表されるアリール基が好ましい。Among them, Ar CH1 and Ar CH2 are preferably aryl groups represented by the following formula (CH2) or formula (CH3).

式(CH2)及び式(CH3)中、RCH3及びRCH4はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボキシ基、又は、シアノ基を表し、LCH1及びLCH2はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又は、ヒドロキシ基を表し、nCH1は0~4の整数を表し、nCH2は0~6の整数を表し、*は式(CH1)におけるエチレン性不飽和結合との結合位置を表す。In formula (CH2) and formula (CH3), R CH3 and R CH4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, a hydroxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, a carboxy group, or a cyano group, L CH1 and L CH2 each independently represent a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, or a hydroxy group, nCH1 represents an integer of 0 to 4, nCH2 represents an integer of 0 to 6, and * represents a bonding position with an ethylenically unsaturated bond in formula (CH1).

式(CH2)及び式(CH3)におけるRCH3及びRCH4はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、又は、アシルオキシ基が好ましく、アルコキシ基、ヒドロキシ基、又は、アシルオキシ基がより好ましく、アルコキシ基が特に好ましい。
式(CH2)及び式(CH3)におけるLCH1及びLCH2はそれぞれ独立に、炭素数1~10のアルコキシ基、又は、ヒドロキシ基が好ましい。
式(CH2)におけるnCH1は、0又は1が好ましい。
式(CH3)におけるnCH2は、0又は1が好ましい。
R CH3 and R CH4 in formula (CH2) and formula (CH3) are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an alkoxy group, a hydroxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, Alternatively, an acyloxy group is preferred, an alkoxy group, a hydroxy group, or an acyloxy group is more preferred, and an alkoxy group is particularly preferred.
L CH1 and L CH2 in the formulas (CH2) and (CH3) are each independently preferably an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or a hydroxy group.
nCH1 in the formula (CH2) is preferably 0 or 1.
nCH2 in the formula (CH3) is preferably 0 or 1.

式(CH1)のArCH1及びArCH2における複素芳香環基は、置換基を有していてもよく、総炭素数4~40が好ましく、総炭素数4~30がより好ましい。置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、又は、シアノ基が好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、又は、アシルオキシ基がより好ましい。
複素芳香環基としては、ピリジル基、ピリミジニル基、フリル基、又は、ベンゾフラニル基が好ましく、ピリジル基、又は、ピリミジニル基がより好ましい。
The heteroaromatic ring groups in Ar 2 CH1 and Ar 2 CH2 of formula (CH1) may have a substituent and preferably have 4 to 40 total carbon atoms, more preferably 4 to 30 total carbon atoms. Preferred substituents include, for example, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkoxy group, a hydroxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, or a cyano group. Halogen atoms, alkyl groups, alkenyl groups, aryl groups, alkoxy groups, or acyloxy groups are more preferred.
The heteroaromatic ring group is preferably a pyridyl group, a pyrimidinyl group, a furyl group or a benzofuranyl group, more preferably a pyridyl group or a pyrimidinyl group.

光異性化化合物としては、下記に記載の化合物が好ましく挙げられる。なお、Buはn-ブチル基を表す。
なお、これら下記化合物は、各エチレン性不飽和結合の立体配置がE体(trans体)であるが、露光によりZ体(cis体)に変化する化合物である。
As the photoisomerizable compound, the compounds described below are preferably exemplified. Bu represents an n-butyl group.
In these compounds below, the steric configuration of each ethylenically unsaturated bond is E-form (trans-form), but changes to Z-form (cis-form) by exposure.

液晶層は、光異性化化合物を、1種単独で含んでいても、2種以上を含んでいてもよい。
光異性化化合物の含有量は、特に制限はないが、成型後における反射率変化抑制の観点から、液晶層の全質量に対し、1質量%以上20質量%以下であることが好ましく、2質量%以上10質量%以下であることがより好ましく、3質量%以上9質量%以下であることが更に好ましく、4質量%以上8質量%以下であることが特に好ましい。
The liquid crystal layer may contain one type of photoisomerizable compound alone, or two or more types thereof.
The content of the photoisomerizable compound is not particularly limited, but from the viewpoint of suppressing change in reflectance after molding, it is preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less with respect to the total mass of the liquid crystal layer, and 2% by mass. % or more and 10 mass % or less, more preferably 3 mass % or more and 9 mass % or less, and particularly preferably 4 mass % or more and 8 mass % or less.

-カイラル剤(光学活性化合物)-
液晶層は、液晶層形成の容易性、及び、螺旋構造のピッチの調整容易性の観点から、カイラル剤(光学活性化合物)を含むことが好ましい。
カイラル剤は、液晶層における螺旋構造を誘起する機能を有する。
カイラル剤は、コレステリック液晶相の螺旋構造を誘起する機能を有する。カイラル化合物は、化合物によって、誘起する螺旋のセンス又は螺旋ピッチが異なるため、目的に応じて選択すればよい。
カイラル剤としては、公知の化合物を用いることができるが、シンナモイル基を有することが好ましい。カイラル剤の例としては、液晶デバイスハンドブック(第3章4-3項、TN、STN用カイラル剤、199頁、日本学術振興会第142委員会編、1989)
、並びに、特開2003-287623号公報、特開2002-302487号公報、
特開2002-80478号公報、特開2002-80851号公報、特開2010-1
81852号公報及び特開2014-034581号公報等に記載される化合物が例示される。
- Chiral agent (optically active compound) -
The liquid crystal layer preferably contains a chiral agent (optically active compound) from the viewpoints of easiness of forming the liquid crystal layer and easiness of adjusting the pitch of the helical structure.
A chiral agent has a function of inducing a helical structure in a liquid crystal layer.
A chiral agent has a function of inducing a helical structure of a cholesteric liquid crystal phase. The chiral compound may be selected depending on the purpose, since the induced helical sense or helical pitch differs depending on the compound.
A known compound can be used as the chiral agent, but it preferably has a cinnamoyl group. Examples of chiral agents include Liquid Crystal Device Handbook (Chapter 3, Section 4-3, Chiral Agents for TN and STN, p. 199, Japan Society for the Promotion of Science, 142nd Committee, 1989).
, as well as Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-287623, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-302487,
JP 2002-80478, JP 2002-80851, JP 2010-1
Compounds described in JP-A-81852 and JP-A-2014-034581 are exemplified.

カイラル剤は、不斉炭素原子を含むことが好ましいが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物又は面性不斉化合物もカイラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物又は面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン及びこれらの誘導体が含まれる。
また、カイラル剤は、重合性基を有していてもよい。
カイラル剤とコレステリック液晶化合物とが、いずれも重合性基を有する場合は、重合性基を有するカイラル剤(重合性カイラル剤)と重合性基を有するコレステリック液晶化合物(重合性コレステリック液晶化合物)との重合反応により、重合性コレステリック液晶化合物から誘導される構成単位と、カイラル剤から誘導される構成単位とを有するポリマーを形成することができる。
この態様では、重合性カイラル剤が有する重合性基は、重合性コレステリック液晶化合物が有する重合性基と、同種の基であることが好ましい。
カイラル剤の重合性基は、エチレン性不飽和基、エポキシ基又はアジリジニル基であることが好ましく、エチレン性不飽和基であることがより好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることが特に好ましい。
また、カイラル剤は、コレステック液晶化合物であってもよい。
中でも、液晶層は、液晶層形成の容易性、螺旋構造のピッチの調整容易性、及び、成型後における反射率変化抑制の観点から、カイラル剤として、上記カイラル剤としても作用する光異性化化合物を少なくとも1種含むことが好ましく、上記式(CH1)で表される化合物を少なくとも1種含むことがより好ましい。
The chiral agent preferably contains an asymmetric carbon atom, but an axially chiral compound or planar chiral compound that does not contain an asymmetric carbon atom can also be used as the chiral agent. Examples of axially or planarly chiral compounds include binaphthyl, helicene, paracyclophane and derivatives thereof.
Moreover, the chiral agent may have a polymerizable group.
When both the chiral agent and the cholesteric liquid crystal compound have a polymerizable group, the chiral agent having a polymerizable group (polymerizable chiral agent) and the cholesteric liquid crystal compound having a polymerizable group (polymerizable cholesteric liquid crystal compound) A polymer having a structural unit derived from a polymerizable cholesteric liquid crystal compound and a structural unit derived from a chiral agent can be formed by a polymerization reaction.
In this aspect, the polymerizable group possessed by the polymerizable chiral agent is preferably the same type of group as the polymerizable group possessed by the polymerizable cholesteric liquid crystal compound.
The polymerizable group of the chiral agent is preferably an ethylenically unsaturated group, an epoxy group or an aziridinyl group, more preferably an ethylenically unsaturated group, and particularly preferably an ethylenically unsaturated polymerizable group. .
Also, the chiral agent may be a cholestech liquid crystal compound.
Among them, the liquid crystal layer is composed of a photoisomerizable compound that also acts as a chiral agent as a chiral agent from the viewpoints of easiness of forming the liquid crystal layer, easiness of adjusting the pitch of the helical structure, and suppression of change in reflectance after molding. and more preferably at least one compound represented by the above formula (CH1).

カイラル剤としては、イソソルビド誘導体、イソマンニド誘導体、ビナフチル誘導体等を好ましく用いることができる。イソソルビド誘導体としては、BASF社製のLC-756等の市販品を用いてもよい。 As chiral agents, isosorbide derivatives, isomannide derivatives, binaphthyl derivatives and the like can be preferably used. As the isosorbide derivative, a commercially available product such as LC-756 manufactured by BASF may be used.

液晶層は、カイラル剤を、1種単独で含んでいても、2種以上を含んでいてもよい。
カイラル剤の含有量は、使用するコレステリック液晶化合物の構造及び螺旋構造の所望のピッチに応じ適宜選択することができるが、液晶層形成の容易性、螺旋構造のピッチの調整容易性、及び、成型後における反射率変化抑制の観点から、液晶層の全質量に対し、1質量%以上20質量%以下であることが好ましく、2質量%以上10質量%以下であることがより好ましく、3質量%以上9質量%以下であることが更に好ましく、4質量%以上8質量%以下であることが特に好ましい。
また、重合性基を有するカイラル剤の含有量は、成型後における反射率変化抑制の観点から、液晶層の全質量に対し、0.2質量%以上15質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以上10質量%以下であることがより好ましく、1質量%以上8質量%以下であることが更に好ましく、1.5質量%以上5質量%以下であることが特に好ましい。
更に、重合性基を有しないカイラル剤を含有する場合、重合性基を有しないカイラル剤の含有量は、成型後における反射率変化抑制の観点から、液晶層の全質量に対し、0.2質量%以上20質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以上10質量%以下であることがより好ましく、2質量%以上8質量%以下であることが特に好ましい。
また、液晶層におけるコレステリック液晶の螺旋構造のピッチ、並びに、後述する選択反射波長及びその範囲は、使用するコレステリック液晶化合物の種類だけでなく、カイラル剤の含有量を調製することによっても、容易に変化させることができる。一概には言えないが、液晶層におけるカイラル剤の含有量が2倍になると、上記ピッチが1/2、及び、選択反射波長の中心値も1/2となる場合がある。
The liquid crystal layer may contain chiral agents singly or in combination of two or more.
The content of the chiral agent can be appropriately selected according to the structure of the cholesteric liquid crystal compound to be used and the desired pitch of the helical structure. From the viewpoint of suppressing reflectance change later, it is preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less, more preferably 2% by mass or more and 10% by mass or less, and 3% by mass of the total mass of the liquid crystal layer. It is more preferably 9 mass % or more, and particularly preferably 4 mass % or more and 8 mass % or less.
In addition, the content of the chiral agent having a polymerizable group is preferably 0.2% by mass or more and 15% by mass or less with respect to the total mass of the liquid crystal layer from the viewpoint of suppressing change in reflectance after molding. 5% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 8% by mass or less, and particularly preferably 1.5% by mass or more and 5% by mass or less.
Furthermore, when a chiral agent having no polymerizable group is contained, the content of the chiral agent having no polymerizable group is 0.2% with respect to the total mass of the liquid crystal layer, from the viewpoint of suppressing change in reflectance after molding. It is preferably from 0.5% to 10% by mass, and particularly preferably from 2% to 8% by mass.
In addition, the pitch of the helical structure of the cholesteric liquid crystal in the liquid crystal layer, and the selective reflection wavelength and its range described later can be easily adjusted not only by the type of cholesteric liquid crystal compound used but also by adjusting the content of the chiral agent. can be changed. Although it cannot be generalized, if the content of the chiral agent in the liquid crystal layer is doubled, the pitch may be halved and the central value of the selective reflection wavelength may also be halved.

-重合開始剤-
液晶層は、重合開始剤を含むことが好ましく、光重合開始剤を含むことがより好ましい。
重合開始剤としては、公知の重合開始剤を用いることができる。
また、重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤の例としては、α-カルボニル化合物(米国特許第2367661号、同2367670号の各明細書記載)、アシロインエーテル化合物(米国特許第2448828号明細書記載)、α-炭化水素置換芳香族アシロイン化合物(米国特許第2722512号明細書記載)、多核キノン化合物(米国特許第3046127号、同2951758号の各明細書記載)、トリアリールイミダゾールダイマーとp-アミノフェニルケトンとの組み合わせ(米国特許第3549367号明細書記載)、アクリジン化合物及びフェナジン化合物(特開昭60-105667号公報、米国特許第4239850号明細書記載)、オキサジアゾール化合物(米国特許第4212970号明細書記載)等が挙げられる。
-Polymerization initiator-
The liquid crystal layer preferably contains a polymerization initiator, more preferably a photopolymerization initiator.
A known polymerization initiator can be used as the polymerization initiator.
Moreover, the polymerization initiator is preferably a photopolymerization initiator capable of initiating a polymerization reaction by ultraviolet irradiation.
Examples of photopolymerization initiators include α-carbonyl compounds (described in US Pat. Nos. 2,367,661 and 2,367,670), acyloin ether compounds (described in US Pat. No. 2,448,828), α-hydrocarbon substituted Aromatic acyloin compounds (described in US Pat. No. 2,722,512), polynuclear quinone compounds (described in US Pat. Japanese Patent No. 3549367), acridine compounds and phenazine compounds (Japanese Patent Laid-Open No. 60-105667, US Pat. No. 4,239,850), oxadiazole compounds (US Pat. No. 4,212,970), etc. mentioned.

また、光ラジカル重合開始剤としては、公知のものを用いることができる。
光ラジカル重合開始剤としては、α-ヒドロキシアルキルフェノン化合物、α-アミノアルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、チオキサントン化合物(例えば、日本化薬(株)製の「カヤキュアーDETX」(2,4-ジエチルチオキサントン))、オキシムエステル化合物等が好ましく挙げられる。
更に、光カチオン重合開始剤としては、公知のものを用いることができる。
光カチオン重合開始剤としては、ヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物等が好ましく挙げられる。
Moreover, a well-known thing can be used as a photoradical polymerization initiator.
Examples of photoradical polymerization initiators include α-hydroxyalkylphenone compounds, α-aminoalkylphenone compounds, acylphosphine oxide compounds, thioxanthone compounds (for example, "Kayacure DETX" (2,4-diethyl thioxanthone)), oxime ester compounds, and the like.
Further, as the photocationic polymerization initiator, a known one can be used.
As the photocationic polymerization initiator, iodonium salt compounds, sulfonium salt compounds and the like are preferably used.

液晶層は、重合開始剤を、1種単独で含んでいても、2種以上を含んでいてもよい。
重合開始剤の含有量は、使用するコレステリック液晶化合物の構造及び螺旋構造の所望のピッチに応じ適宜選択することができるが、螺旋構造のピッチの調整容易性、重合速度、及び、硬化後の液晶層の強度の観点から、液晶層の全質量に対し、0.05質量%以上10質量%以下であることが好ましく、0.05質量%以上5質量%以下であることがより好ましく、0.1質量%以上4質量%以下であることが更に好ましく、0.2質量%以上3質量%以下であることが特に好ましい。
The liquid crystal layer may contain one polymerization initiator alone, or may contain two or more polymerization initiators.
The content of the polymerization initiator can be appropriately selected according to the structure of the cholesteric liquid crystal compound to be used and the desired pitch of the helical structure. From the viewpoint of strength of the layer, it is preferably 0.05% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 0.05% by mass or more and 5% by mass or less, based on the total mass of the liquid crystal layer. It is more preferably 1% by mass or more and 4% by mass or less, and particularly preferably 0.2% by mass or more and 3% by mass or less.

-架橋剤-
液晶層は、硬化後の液晶層の強度向上及び耐久性向上のため、架橋剤を含んでいてもよい。架橋剤としては、紫外線、熱、湿気等で硬化するものが好適に使用できる。
架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等の多官能アクリレート化合物;グリシジル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテル、3’,4’-エポキシシクロヘキシルメチル 3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等のエポキシ化合物;2-エチルヘキシルオキセタン、キシリレンビスオキセタン等のオキセタン化合物;2,2-ビスヒドロキシメチルブタノール-トリス[3-(1-アジリジニル)プロピオネート]、4,4-ビス(エチレンイミノカルボニルアミノ)ジフェニルメタン等のアジリジン化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、ビウレット型イソシアネート等のイソシアネート化合物;オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物;ビニルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)3-アミノプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物などが挙げられる。また、架橋剤の反応性に応じて公知の触媒を用いることができ、液晶層の強度及び耐久性向上に加えて生産性を向上させることができる。
-Crosslinking agent-
The liquid crystal layer may contain a cross-linking agent in order to improve the strength and durability of the liquid crystal layer after curing. As the cross-linking agent, one that is cured by ultraviolet rays, heat, humidity, or the like can be preferably used.
The cross-linking agent is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, polyfunctional acrylate compounds such as trimethylolpropane tri(meth)acrylate and pentaerythritol tri(meth)acrylate; Epoxy compounds such as ethylene glycol diglycidyl ether, 3′,4′-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexane carboxylate; 2-ethylhexyloxetane, oxetane compounds such as xylylene bisoxetane; 2,2-bishydroxymethyl aziridine compounds such as butanol-tris[3-(1-aziridinyl)propionate] and 4,4-bis(ethyleneiminocarbonylamino)diphenylmethane; isocyanate compounds such as hexamethylene diisocyanate and biuret type isocyanate; having an oxazoline group in the side chain polyoxazoline compounds; alkoxysilane compounds such as vinyltrimethoxysilane and N-(2-aminoethyl)3-aminopropyltrimethoxysilane; Further, a known catalyst can be used depending on the reactivity of the cross-linking agent, and productivity can be improved in addition to improving the strength and durability of the liquid crystal layer.

液晶層は、架橋剤を、1種単独で含んでいても、2種以上を含んでいてもよい。
架橋剤の含有量は、液晶層の強度及び耐久性の観点から、液晶層の全質量に対し、1質量%以上20質量%以下であることが好ましく、3質量%以上15質量%以下であることがより好ましい。
The liquid crystal layer may contain one type of cross-linking agent alone, or two or more types thereof.
From the viewpoint of the strength and durability of the liquid crystal layer, the content of the cross-linking agent is preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less, and 3% by mass or more and 15% by mass or less with respect to the total mass of the liquid crystal layer. is more preferable.

-多官能重合性化合物-
液晶層は、成型後における反射率変化抑制の観点から、多官能重合性化合物を含むことが好ましい。
多官能重合性化合物としては、上述した化合物における、2つ以上のエチレン性不飽和基を有し、かつ環状エーテル基を有しないコレステリック液晶化合物、2つ以上の環状エーテル基を有し、かつエチレン性不飽和基を有しないコレステリック液晶化合物、及び、2つ以上のエチレン性不飽和基及び2つ以上の環状エーテル基を有するコレステリック液晶化合物、2つ以上の重合性基を有するカイラル剤、上記架橋剤が挙げられる。
エチレン性不飽和基としては、(メタ)アクリル基が好ましく挙げられ、(メタ)アクリロキシ基がより好ましく挙げられる。
環状エーテル基としては、エポキシ基、及び、オキセタニル基が好ましく挙げられ、オキセタニル基がより好ましく挙げられる。
中でも、多官能重合性化合物としては、2つ以上のエチレン性不飽和基を有し、かつ環状エーテル基を有しないコレステリック液晶化合物、2つ以上の環状エーテル基を有し、かつエチレン性不飽和基を有しないコレステリック液晶化合物、及び、2つ以上の重合性基を有するカイラル剤よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物を含むことが好ましく、2つ以上の重合性基を有するカイラル剤を含むことがより好ましい。
- Polyfunctional polymerizable compound -
The liquid crystal layer preferably contains a polyfunctional polymerizable compound from the viewpoint of suppression of change in reflectance after molding.
Examples of polyfunctional polymerizable compounds include cholesteric liquid crystal compounds having two or more ethylenically unsaturated groups and no cyclic ether groups, and cholesteric liquid crystal compounds having two or more cyclic ether groups and ethylene a cholesteric liquid crystal compound having no polyunsaturated groups, a cholesteric liquid crystal compound having two or more ethylenically unsaturated groups and two or more cyclic ether groups, a chiral agent having two or more polymerizable groups, and the cross-linking agents.
As the ethylenically unsaturated group, a (meth)acryl group is preferred, and a (meth)acryloxy group is more preferred.
As the cyclic ether group, an epoxy group and an oxetanyl group are preferred, and an oxetanyl group is more preferred.
Among them, as the polyfunctional polymerizable compound, a cholesteric liquid crystal compound having two or more ethylenically unsaturated groups and no cyclic ether group, a cholesteric liquid crystal compound having two or more cyclic ether groups and ethylenically unsaturated It preferably contains at least one compound selected from the group consisting of a group-free cholesteric liquid crystal compound and a chiral agent having two or more polymerizable groups, and a chiral agent having two or more polymerizable groups. It is more preferable to include

多官能重合性化合物の含有量は、成型後における反射率変化抑制の観点から、液晶層の全質量に対し、0.5質量%以上70質量%以下であることが好ましく、1質量%以上50質量%以下であることがより好ましく、1.5質量%以上20質量%以下であることが更に好ましく、2質量%以上10質量%以下であることが特に好ましい。 From the viewpoint of suppressing change in reflectance after molding, the content of the polyfunctional polymerizable compound is preferably 0.5% by mass or more and 70% by mass or less, and 1% by mass or more and 50% by mass of the total mass of the liquid crystal layer. It is more preferably 1.5% by mass or more and 20% by mass or less, and particularly preferably 2% by mass or more and 10% by mass or less.

-その他の添加剤-
液晶層は、必要に応じて、上述した以外のその他の添加剤を含んでいてもよい。
その他の添加剤としては、公知の添加剤を用いることができ、界面活性剤、重合禁止剤、酸化防止剤、水平配向剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、着色剤、金属酸化物粒子等を挙げることができる。
-Other additives-
The liquid crystal layer may contain additives other than those mentioned above, if necessary.
Other additives that can be used include known additives such as surfactants, polymerization inhibitors, antioxidants, horizontal alignment agents, UV absorbers, light stabilizers, colorants, and metal oxide particles. can be mentioned.

液晶層形成工程は特に限定されず、例えば、液晶化合物と光異性化化合物とを含む液晶組成物を基材に付与(例えば、塗布)してなる膜(液晶層)を形成する工程であることが好ましい。 The liquid crystal layer forming step is not particularly limited, and is, for example, a step of applying (for example, coating) a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound and a photoisomerizable compound to a substrate to form a film (liquid crystal layer). is preferred.

液晶組成物に含まれる成分の詳細は、液晶層について上述したものと同様であるが、成分の含有量については「液晶層の全質量に対し」を「液晶組成物の全固形分に対し」と読み替えるものとする。 The details of the components contained in the liquid crystal composition are the same as those described above for the liquid crystal layer. shall be read as

また、塗布をより容易にする観点から、液晶組成物は、溶媒を含んでいてもよい。溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、有機溶媒が好ましく用いられる。
有機溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン化合物、アルキルハライド化合物、アミド化合物、スルホキシド化合物、ヘテロ環化合物、炭化水素化合物、エステル化合物、エーテル化合物、アルコール化合物などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、環境への負荷を考慮した場合にはケトン化合物が特に好ましい。また、上述の成分が溶媒として機能していてもよい。
In addition, from the viewpoint of facilitating application, the liquid crystal composition may contain a solvent. The solvent is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the intended purpose, but an organic solvent is preferably used.
The organic solvent is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. Examples include ketone compounds such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, alkyl halide compounds, amide compounds, sulfoxide compounds, heterocyclic compounds, and hydrocarbon compounds. , ester compounds, ether compounds, and alcohol compounds. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these, ketone compounds are particularly preferred in consideration of the load on the environment. Moreover, the above-mentioned component may function as a solvent.

液晶組成物が溶剤を含有する場合、溶剤の含有量は、液晶組成物の全量に対して、40質量%~90質量%であることが好ましく、50質量%~80質量%であることがより好ましい。 When the liquid crystal composition contains a solvent, the content of the solvent is preferably 40% by mass to 90% by mass, more preferably 50% by mass to 80% by mass, relative to the total amount of the liquid crystal composition. preferable.

溶媒を含有する液晶組成物を用いて液晶層を形成した場合、硬化後の液晶層には、液晶組成物に由来する上記溶媒が残存することがあり、硬化後の液晶層は、溶媒を含んでいてもよい。
硬化後の液晶層における溶媒の含有量は、液晶層の全質量に対し、5質量%以下であることが好ましく、3質量%以下であることがより好ましく、2質量%以下であることが更に好ましく、1質量%以下であることが特に好ましい。
When a liquid crystal layer is formed using a liquid crystal composition containing a solvent, the solvent derived from the liquid crystal composition may remain in the liquid crystal layer after curing, and the liquid crystal layer after curing contains the solvent. You can stay.
The content of the solvent in the liquid crystal layer after curing is preferably 5% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, and further preferably 2% by mass or less, relative to the total mass of the liquid crystal layer. It is preferably 1% by mass or less, and particularly preferably 1% by mass or less.

液晶組成物の調製方法は特に限定されず、例えば、液晶化合物等の各成分を混合する方法により液晶組成物を調製してよい。 The method of preparing the liquid crystal composition is not particularly limited, and for example, the liquid crystal composition may be prepared by a method of mixing each component such as a liquid crystal compound.

-液晶層の形成-
液晶層の形成は、上記各成分を含む液晶組成物を溶媒により溶液状態としたり、液晶組成物を加熱による溶融液等の液状物としたりしたものを、ロールコーティング方式、グラビア印刷方式、スピンコート方式などの適宜な方式で展開する方法などにより行うことができる。更に、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法等の種々の方法によって行うことができる。また、インクジェット装置を用いて、上記液晶組成物をノズルから吐出して、塗布膜を形成することもできる。
上記溶媒を使用した場合、液晶組成物の塗布後、公知の方法で乾燥することが好ましい。例えば放置によって乾燥してもよく、加熱によって乾燥してもよい。
液晶組成物の付与量は、乾燥後の液晶層を考慮し、適宜設定すればよい。
液晶組成物の塗布及び乾燥後の液晶層において、液晶層中の液晶化合物が配向していることが好ましい。
-Formation of liquid crystal layer-
The formation of the liquid crystal layer is carried out by turning the liquid crystal composition containing the above components into a solution state with a solvent, or by heating the liquid crystal composition into a liquid such as a melt, and applying the roll coating method, gravure printing method, or spin coating. It can be performed by a method of developing in an appropriate method such as a method. Furthermore, various methods such as wire bar coating, extrusion coating, direct gravure coating, reverse gravure coating and die coating can be used. A coating film can also be formed by discharging the liquid crystal composition from a nozzle using an inkjet device.
When the above solvent is used, it is preferable to dry by a known method after applying the liquid crystal composition. For example, it may be dried by standing or may be dried by heating.
The amount of the liquid crystal composition to be applied may be appropriately set in consideration of the liquid crystal layer after drying.
In the liquid crystal layer after application and drying of the liquid crystal composition, it is preferable that the liquid crystal compound in the liquid crystal layer is oriented.

<光異性化工程>
光異性化工程は、光学マスク層を介して液晶層に光を照射し、液晶層に含まれる光異性化化合物を光異性化させる工程である。これにより、選択反射波長が互いに異なる複数のパターンを液晶層の面内方向に形成することができる。
光異性化工程においては、成型後における反射率変化抑制の観点から、液晶層の一部を異性化することが好ましく、成型を行う形状に応じて液晶層の一部を異性化することがより好ましい。
また、光異性化工程においては、成型を行う形状に応じ、光異性化化合物の異性化割合を変化させる態様で行ってもよい。例えば、液晶層に異性化割合が0%の部分と100%の部分とを形成してもよいし、液晶層に異性化割合が0%から100%へ変化する部分を形成してもよいし、液晶層に異性化割合が0%の部分と上記異性化割合が50%から100%へ変化する部分を形成してもよい。
特に、成型を行う形状に応じ、成型時に積層体の延伸率が大きくなる部分ほど、上記異性化割合が大きい態様が好ましい。
<Photoisomerization step>
The photoisomerization step is a step of irradiating the liquid crystal layer with light through the optical mask layer to photoisomerize the photoisomerizable compound contained in the liquid crystal layer. Thereby, a plurality of patterns having different selective reflection wavelengths can be formed in the in-plane direction of the liquid crystal layer.
In the photoisomerization step, it is preferable to isomerize part of the liquid crystal layer from the viewpoint of suppressing change in reflectance after molding, and it is more preferable to isomerize part of the liquid crystal layer depending on the shape to be molded. preferable.
Moreover, in the photoisomerization step, the isomerization ratio of the photoisomerization compound may be changed according to the shape to be molded. For example, the liquid crystal layer may have a portion where the isomerization ratio is 0% and a portion where the isomerization ratio is 100%, or a portion where the isomerization ratio changes from 0% to 100% may be formed in the liquid crystal layer. Alternatively, the liquid crystal layer may have a portion where the isomerization ratio is 0% and a portion where the isomerization ratio changes from 50% to 100%.
In particular, according to the shape to be molded, it is preferable that the isomerization ratio is higher in the portion where the stretch ratio of the laminate is increased during molding.

光異性化工程においては、液晶層の一部のみを露光することにより、光異性化化合物を異性化させることが好ましい。また、露光強度に応じて、異性化割合を制御することもできる。
光異性化工程における光異性化させる光の波長としては、特に制限はなく、光異性化化合物に応じ適宜選択すればよい。
光異性化工程における露光する光は、光異性化可能な波長を含む光であればよいが、400nm以下の波長範囲の光を少なくとも用いて光異性化することが好ましく、360nm以下の波長範囲の光を用いることがより好ましく、310nm以上360nm以下の波長範囲の光を少なくとも用いて光異性化することが特に好ましい。
光異性化工程における露光波長の調整は、公知の手段及び公知の方法を用いることができる。例えば、光学フィルターを用いる方法、2種以上の光学フィルターを用いる方法、特定波長の光源を用いる方法等が挙げられる。
光異性化工程においては、液晶層中の光重合開始剤から重合開始種が発生しない波長域の光により上記露光を行うことが好ましい。例えば、光異性化合物の光異性化が生じる波長域の光を透過し、光重合開始剤から重合開始種が発生する波長域の光を遮光する光学マスク層を好適に用いることができる。
In the photoisomerization step, it is preferable to isomerize the photoisomerizable compound by exposing only a part of the liquid crystal layer. Also, the isomerization ratio can be controlled according to the exposure intensity.
The wavelength of light for photoisomerization in the photoisomerization step is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the photoisomerizable compound.
The light to be exposed in the photoisomerization step may be light containing a photoisomerizable wavelength, but it is preferable to photoisomerize using at least light in the wavelength range of 400 nm or less, and in the wavelength range of 360 nm or less. It is more preferable to use light, and it is particularly preferable to perform photoisomerization using at least light in the wavelength range of 310 nm or more and 360 nm or less.
Known means and known methods can be used to adjust the exposure wavelength in the photoisomerization step. Examples thereof include a method using an optical filter, a method using two or more types of optical filters, and a method using a light source with a specific wavelength.
In the photoisomerization step, the exposure is preferably performed with light in a wavelength range in which the photopolymerization initiator in the liquid crystal layer does not generate polymerization initiation species. For example, an optical mask layer that transmits light in a wavelength range that causes photoisomerization of a photoisomeric compound and blocks light in a wavelength range that generates polymerization initiation species from the photopolymerization initiator can be preferably used.

光異性化工程における光源として、具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。また、光源としては、波長域の狭い光を照射可能な発光ダイオード等も用いることができる。その場合は、必要に応じて、光学マスク層以外の他のマスクを使用してもよいし、使用しなくともよい。
光異性化工程における露光量としては、特に制限はなく、適宜設定すればよく、5mJ/cm~2,000mJ/cmであることが好ましく、10mJ/cm~1,000mJ/cmであることがより好ましい。また、所望の異性化割合に応じ、液晶層の各部において、露光量を変化させてもよい。
また、上記露光による異性化の際に、加熱することが好ましい。加熱温度としては、特に制限はなく、使用する光異性化化合物等に応じて選択すればよく、例えば、60℃~120℃が挙げられる。
また、露光方法としては、光異性化が可能であれば、特に制限はないが、例えば、特開2006-23696号公報の段落0035~段落0051に記載の方法を本開示においても好適に用いることができる。
Specific examples of the light source in the photoisomerization step include ultra-high pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, metal halide lamps, and the like. Moreover, as a light source, a light-emitting diode or the like that can irradiate light with a narrow wavelength band can be used. In that case, a mask other than the optical mask layer may or may not be used as required.
The amount of exposure in the photoisomerization step is not particularly limited, and may be set as appropriate . It is more preferable to have Further, the exposure amount may be changed in each part of the liquid crystal layer according to the desired isomerization ratio.
Moreover, it is preferable to heat during the isomerization by exposure. The heating temperature is not particularly limited, and may be selected depending on the photoisomerizable compound used, and is, for example, 60°C to 120°C.
Further, the exposure method is not particularly limited as long as photoisomerization is possible. can be done.

パターン境界部の滲みの幅を小さくして、パターン境界部のシャープネスを向上させる観点から、光源と、光学マスク層との距離を近づけることが好ましい。上記距離は、好ましくは、2mm以下、より好ましくは、1mm以下、更に好ましくは、0.5mm以下、特に好ましくは、0.1mm以下である。 From the viewpoint of improving the sharpness of the pattern boundary by reducing the width of bleeding at the pattern boundary, it is preferable to reduce the distance between the light source and the optical mask layer. The distance is preferably 2 mm or less, more preferably 1 mm or less, even more preferably 0.5 mm or less, and particularly preferably 0.1 mm or less.

<硬化工程>
本開示に係る積層体の製造方法は、光異性化工程後の液晶層を硬化する工程(以下、「硬化工程」ともいう。)を含むことが好ましい。上記硬化により、液晶化合物の分子の配向状態を維持して固定することが容易となる。
上記硬化は、液晶層が含んでいる化合物が有するエチレン性不飽和基又は環状エーテル基等の重合性基の重合反応により、実施することが好ましい。
また、上記硬化は、露光により行っても、熱により行ってもよい。
<Curing process>
The method for producing a laminate according to the present disclosure preferably includes a step of curing the liquid crystal layer after the photoisomerization step (hereinafter also referred to as a “curing step”). The above-mentioned curing makes it easy to maintain and fix the alignment state of the molecules of the liquid crystal compound.
The curing is preferably carried out by a polymerization reaction of a polymerizable group such as an ethylenically unsaturated group or a cyclic ether group possessed by a compound contained in the liquid crystal layer.
Further, the curing may be performed by exposure or by heat.

上記硬化は、露光により行うことが好ましい。露光により硬化を行う場合、液晶層は、光重合開始剤を含むことが好ましい。
露光の光源としては、光重合開始剤に合わせ、適宜選定して用いることができる。例えば、波長域の光(例えば、365nm、405nm)を照射できる光源が好ましく挙げられ、具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
露光量としては、特に制限はなく、適宜設定すればよく、5mJ/cm~2,000mJ/cmであることが好ましく、10mJ/cm~1,000mJ/cmであることがより好ましい。
また、上記露光による硬化の際に、液晶化合物の配列を容易にするため、加熱することが好ましい。加熱温度としては、特に制限はなく、硬化させる液晶層の組成に応じて選択すればよく、例えば、60℃~120℃が挙げられる。
また、上記露光により、液晶層を形成するだけでなく、必要に応じて、着色層等の他の層もあわせて露光による硬化を行ってもよい。
また、露光方法としては、例えば、特開2006-23696号公報の段落0035~0051に記載の方法を本開示においても好適に用いることができる。
The curing is preferably performed by exposure. When curing is performed by exposure, the liquid crystal layer preferably contains a photopolymerization initiator.
The light source for exposure can be appropriately selected and used according to the photopolymerization initiator. For example, a light source capable of irradiating light in a wavelength range (eg, 365 nm, 405 nm) is preferably used, and specific examples include an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, and the like.
The amount of exposure is not particularly limited and may be set as appropriate . .
In addition, in order to facilitate alignment of the liquid crystal compound during curing by exposure, it is preferable to heat. The heating temperature is not particularly limited, and may be selected according to the composition of the liquid crystal layer to be cured.
Moreover, not only the liquid crystal layer is formed by the above-mentioned exposure, but also other layers such as a colored layer may be cured by exposure, if necessary.
Further, as the exposure method, for example, the methods described in paragraphs 0035 to 0051 of JP-A-2006-23696 can also be suitably used in the present disclosure.

光異性化工程と、硬化工程との間の時間は、0.01秒以上10分以下が好ましい。より好ましくは、0.1秒以上5分以下、更に好ましくは、0.2秒以上1分以下、特に好ましくは、0.5秒以上30秒以下である。光異性化工程と、硬化工程との間の時間が上記範囲にあると、0.01秒以上にて、光異性化に応じた液晶化合物の再配向が生じ、反射光がパターンされた絵柄を容易に形成でき、10分以下にて、光異性化した化合物の膜中熱拡散が容易に抑えられ、パターンの境界のシャープネスが容易に維持できる。 The time between the photoisomerization step and the curing step is preferably 0.01 seconds or more and 10 minutes or less. It is more preferably 0.1 seconds or more and 5 minutes or less, still more preferably 0.2 seconds or more and 1 minute or less, and particularly preferably 0.5 seconds or more and 30 seconds or less. When the time between the photoisomerization step and the curing step is within the above range, the reorientation of the liquid crystal compound occurs in response to the photoisomerization at 0.01 seconds or more, and a pattern in which the reflected light is patterned is formed. It can be easily formed, and in 10 minutes or less, the thermal diffusion of the photoisomerized compound in the film can be easily suppressed, and the sharpness of the boundary of the pattern can be easily maintained.

また、液晶層を熱により硬化させる場合、加熱温度及び加熱時間は、特に制限はなく、使用する熱重合開始剤等に応じて、適宜選択すればよい。例えば、加熱温度は、60℃以上200℃以下であることが好ましく、また、加熱時間は、1分~2時間であることが好ましい。加熱手段としては、特に制限はなく、公知の加熱手段を用いることができるが、例えば、ヒーター、オーブン、ホットプレート、赤外線ランプ、赤外線レーザー等が挙げられる。 Moreover, when the liquid crystal layer is cured by heat, the heating temperature and the heating time are not particularly limited, and may be appropriately selected according to the thermal polymerization initiator and the like to be used. For example, the heating temperature is preferably 60° C. or higher and 200° C. or lower, and the heating time is preferably 1 minute to 2 hours. The heating means is not particularly limited, and known heating means can be used. Examples thereof include heaters, ovens, hot plates, infrared lamps, infrared lasers, and the like.

また、硬化工程における酸素濃度には、制限はなく、酸素雰囲気下で行っても、大気下で行っても、低酸素雰囲気下(好ましくは、酸素濃度1,000ppm以下)で行ってもよい。更に、硬化をより促進するため、硬化工程は、低酸素雰囲気下で行うことが好ましく、加熱下、かつ、低酸素雰囲気下で行うことがより好ましい。 Moreover, the oxygen concentration in the curing step is not limited, and may be carried out in an oxygen atmosphere, in the air, or in a low-oxygen atmosphere (preferably, oxygen concentration of 1,000 ppm or less). Furthermore, in order to accelerate curing, the curing step is preferably performed in a low-oxygen atmosphere, more preferably under heating and in a low-oxygen atmosphere.

<その他の工程>
本開示に係る積層体の製造方法は、所望に応じ、上述した工程以外のその他の工程を含んでいてもよい。
その他の工程としては、例えば、上述の各層を形成する工程、具体的には、着色層を形成する工程、保護層を形成する工程、粘着層を形成する工程等が挙げられる。
着色層等の上記各層の形成については、上述した方法、又は、公知の方法を用いて行うことができる。
<Other processes>
The method for manufacturing a laminate according to the present disclosure may optionally include other steps than the steps described above.
Other steps include, for example, a step of forming each layer described above, specifically a step of forming a colored layer, a step of forming a protective layer, a step of forming an adhesive layer, and the like.
Formation of each of the layers such as the colored layer can be performed using the above-described method or a known method.

(成型物の製造方法)
本開示に係る成型物の製造方法は、本開示に係る積層体、または、本開示に係る積層体の製造方法により製造された積層体を成型する工程を含む。
(Manufacturing method of molding)
A method for manufacturing a molded article according to the present disclosure includes a step of molding a laminate according to the present disclosure or a laminate manufactured by a method for manufacturing a laminate according to the present disclosure.

<成型する工程>
本開示に係る積層体(ある態様において、加飾成型用フィルム)は、成型加工性に優れるため、成型物の製造に好適に用いることができ、例えば、立体成型、及び、インサート成型よりなる群から選ばれた少なくとも1種の成型により成型物を製造する際に特に好適である。
以下、インサート成型を例に挙げて成型物の作製方法(成型方法)について詳述する。
<Molding process>
The laminate according to the present disclosure (in one aspect, the film for decorative molding) is excellent in moldability, and thus can be suitably used in the production of molded products. It is particularly suitable when producing a molding by molding at least one selected from
Hereinafter, a method for producing a molded product (molding method) will be described in detail, taking insert molding as an example.

インサート成型において、成型物は、例えば、金型内に積層体を予め配置して、その金型内に基材樹脂を射出成型することにより得られる。このインサート成型により、樹脂成型物の表面に積層体が一体化された成型物が得られる。 In insert molding, a molded product is obtained, for example, by placing a laminate in advance in a mold and injection-molding a base resin in the mold. By this insert molding, a molded product in which the laminate is integrated with the surface of the resin molded product is obtained.

以下、インサート成型による成型物の作製方法の一実施態様を説明する。
成型物の作製方法は、射出成型用の金型内に、積層体を配置して型閉めを行う工程、その後、溶融樹脂を金型内に射出する工程、更に、射出樹脂が固化したところで取り出す工程を含む。
An embodiment of a method for producing a molded article by insert molding will be described below.
The method of manufacturing a molded product consists of the steps of placing the laminate in the mold for injection molding and closing the mold, then injecting the molten resin into the mold, and taking out the injected resin when it solidifies. Including process.

加飾成型物の製造に用いる射出成型用の金型(即ち、成型金型)は、凸形状を有する金型(即ち、雄型)と凸形状に対応する凹形状を有する金型(即ち、雌型)を備えており、雌型の内周面となる成型面に積層体を配置した後に、型閉めを行う。 The mold for injection molding (i.e., molding mold) used to manufacture the decorative molded product includes a mold having a convex shape (i.e., male mold) and a mold having a concave shape corresponding to the convex shape (i.e., A female mold) is provided, and the mold is closed after the laminate is arranged on the molding surface, which is the inner peripheral surface of the female mold.

ここで、成型金型内に積層体を配置する前には、積層体を、成型金型を用いて積層体を成型(プレフォーム)することにより、積層体に予め三次元形状を付与しておき、成型金型に供給することも可能である。
また、成型金型内に積層体を配置する際には、成型金型へ積層体を挿入した状態で、積層体と成型金型との位置合わせが必要になる。
Here, before arranging the laminate in the molding die, the laminate is given a three-dimensional shape in advance by molding (preforming) the laminate using the molding die. It is also possible to place it and supply it to the molding die.
Further, when placing the laminate in the mold, it is necessary to align the laminate and the mold while the laminate is inserted into the mold.

成型金型へ積層体を挿入した状態で、積層体と成型金型との位置合わせを行う方法としては、雌型が有する位置合わせ穴へ、雄型が有する固定ピンを挿入して保持する方法がある。
ここで、位置合わせ穴は、雌型において、積層体の端部(成型後に三次元形状が付与されない位置)が予め形成されている。
As a method of aligning the laminate and the molding die while the laminate is inserted into the molding die, a method of inserting and holding fixing pins of the male die into the alignment holes of the female die. There is
Here, the positioning holes are formed in advance in the female die at the end of the laminate (the position where the three-dimensional shape is not given after molding).

また、固定ピンは、雄型において、位置合わせ穴と嵌合する位置に、予め形成されている。
また、成型金型へ積層体を挿入した状態で、積層体と成型金型との位置合わせを行う方法としては、位置合わせ穴へ固定ピンを挿入する方法以外にも、以下の方法を用いることが可能である。
In addition, the fixing pin is formed in advance at a position to be fitted in the positioning hole in the male mold.
In addition, as a method of aligning the laminate and the molding die while the laminate is inserted into the molding die, the following method can be used in addition to the method of inserting the fixing pin into the alignment hole. is possible.

例えば、積層体のうち成型後に三次元形状が付与されない位置に予め付した位置合わせマークに目標として、積層体の搬送装置側の駆動により微調整して合わせ込む方法が挙げられる。この方法の場合、位置合わせマークは、射出成型品(加飾成型体)の製品部分から見て、対角2点以上で認識するのが好ましい。 For example, there is a method of finely adjusting and aligning the laminated body by driving the conveying device of the laminated body to a position alignment mark previously attached to a position where the three-dimensional shape is not imparted after molding. In this method, it is preferable to recognize the alignment mark at two or more diagonal points when viewed from the product portion of the injection molded product (decorative molded product).

積層体と成型金型との位置合わせを行い、成型金型を型閉じした後に、積層体を挿入した成型金型内に溶融樹脂を射出する。射出時には、積層体の上記樹脂基材側に溶融樹脂を射出する。 After the laminate and the molding die are aligned and the molding die is closed, molten resin is injected into the molding die into which the laminate is inserted. At the time of injection, the molten resin is injected onto the resin substrate side of the laminate.

成型金型内に射出される溶融樹脂の温度は、使用する樹脂の物性等に応じて設定する。例えば、使用する樹脂がアクリル樹脂であれば、溶融樹脂の温度は、240℃以上260℃以下の範囲内とすることが好ましい。 The temperature of the molten resin injected into the molding die is set according to the physical properties of the resin used. For example, if the resin to be used is acrylic resin, the temperature of the molten resin is preferably within the range of 240° C. or higher and 260° C. or lower.

なお、雄型が有する注入口(射出口)の位置を、溶融樹脂を成型金型内へ射出する際に発生する熱及びガスにより、積層体が異常に変形することを抑制する目的で、成型金型の形状又は溶融樹脂の種類に合わせて設定してもよい。
積層体を挿入した成型金型内に射出した溶融樹脂が固化した後、成型金型を型開きして、成型金型から、固化した溶融樹脂である成型基材に積層体が固定化された中間加飾成型体を取り出す。
In addition, the position of the injection port (injection port) of the male mold was changed to prevent abnormal deformation of the laminate due to the heat and gas generated when the molten resin was injected into the mold. You may set according to the shape of a metal mold|die or the kind of molten resin.
After the molten resin injected into the molding die into which the laminate was inserted solidified, the molding die was opened, and the laminate was fixed from the molding die to the solidified molten resin forming base material. An intermediate decorative molding is taken out.

中間成型物は、最終的に製品(成型物)となる加飾部の周囲に、バリと、成型物のダミー部分が一体化している。ここで、ダミー部分には、上述した位置合わせにおいて、固定ピンが挿通されて形成された挿通孔が存在している。
このため、仕上げ加工前の中間成型物から、上記のバリとダミー部分とを取り除く仕上げ加工を施すことにより、成型物を得ることができる。
In the intermediate molding, the burr and the dummy portion of the molded product are integrated around the decorative portion that will be the final product (molded product). Here, the dummy portion has an insertion hole formed by inserting a fixing pin in the alignment described above.
For this reason, a molded product can be obtained by subjecting an intermediate molded product before finishing processing to finishing processing for removing the burrs and the dummy portion.

上記成型としては、立体成型も好適に挙げられる。
立体成型は、熱成型、真空成型、圧空成型、真空圧空成型などが好適に挙げられる。
真空成型する方法としては、特に制限されるものではないが、立体成型を、真空下の加熱した状態で行う方法が好ましい。
真空とは、室内を真空引きし、100Pa以下の真空度とした状態を指す。
立体成型する際の温度は、用いる成型用基材に応じ適宜設定すればよいが、60℃以上の温度域が好ましく、80℃以上の温度域がより好ましく、100℃以上の温度域が更に好ましい。立体成型する際の温度の上限は、200℃が好ましい。
立体成型する際の温度とは、立体成型に供される成型用基材の温度を指し、成型用基材の表面に熱電対を付すことで測定される。
Three-dimensional molding is also suitable as the molding.
Three-dimensional molding is suitably exemplified by thermoforming, vacuum molding, compressed air molding, vacuum and compressed air molding, and the like.
The method of vacuum molding is not particularly limited, but a method of performing three-dimensional molding in a heated state under vacuum is preferred.
Vacuum refers to a state in which the inside of the chamber is evacuated to a degree of vacuum of 100 Pa or less.
The temperature at the time of three-dimensional molding may be appropriately set according to the molding substrate to be used, but the temperature range is preferably 60°C or higher, more preferably 80°C or higher, and even more preferably 100°C or higher. . The upper limit of the temperature for three-dimensional molding is preferably 200°C.
The temperature at the time of three-dimensional molding refers to the temperature of the molding substrate subjected to three-dimensional molding, and is measured by attaching a thermocouple to the surface of the molding substrate.

上記の真空成型は、成型分野で広く知られている真空成型技術を利用して行うことができ、例えば、日本製図器工業(株)製のFormech508FSを用いて真空成型してもよい。 The above-mentioned vacuum molding can be performed using a vacuum molding technique widely known in the molding field.

<その他の工程>
本開示に係る成型物の製造方法は、上述した工程以外の他の工程、例えば、積層体を成型用部材に貼り付ける工程、上述したように、成型物からバリを取り除く工程、成型物からダミー部分を取り除く工程等、所望に応じ、任意のその他の工程を含んでいてもよい。
その他の工程は、特に制限はなく、公知の手段及び公知の方法を用いて行うことができる。
<Other processes>
The method for manufacturing a molded product according to the present disclosure includes steps other than those described above, such as the step of attaching the laminate to the molding member, the step of removing burrs from the molded product as described above, and the step of removing the dummy from the molded product. Any other steps may be included as desired, such as removing portions.
Other steps are not particularly limited and can be performed using known means and methods.

以下、実施例により本開示を詳細に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。なお、本実施例において、「%」、「部」とは、特に断りのない限り、それぞれ「質量%」、「質量部」を意味する。 EXAMPLES The present disclosure will be described in detail below with reference to Examples, but the present disclosure is not limited to these. In the present examples, "%" and "parts" mean "% by mass" and "parts by mass", respectively, unless otherwise specified.

(実施例1)
<基材の準備>
基材として、易接着層つきPET(厚さ38μm、コスモシャイン(登録商標)A4300、東洋紡社製)を準備した。
(Example 1)
<Preparation of base material>
As a substrate, PET with an easy-adhesion layer (thickness: 38 μm, Cosmoshine (registered trademark) A4300, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was prepared.

<光学マスク層の作製>
下記に記載の組成を有するマスク印刷用インク1を調製した。
-マスク印刷用インク1の組成-
・ウレタン変性アクリルバインダー(8UA-301、固形分30%):35.00質量部
・シクロヘキサノン:30.00質量部
・メチルエチルケトン:34.99質量部
・Tinuvin479(BASF社製、UV吸収剤):1.00質量部
・F553(DIC社製界面活性剤):0.01質量部
<Production of optical mask layer>
Mask printing ink 1 was prepared having the composition described below.
-Composition of mask printing ink 1-
・Urethane-modified acrylic binder (8UA-301, solid content 30%): 35.00 parts by mass ・Cyclohexanone: 30.00 parts by mass ・Methyl ethyl ketone: 34.99 parts by mass ・Tinuvin479 (manufactured by BASF, UV absorber): 1 .00 parts by mass F553 (surfactant manufactured by DIC): 0.01 parts by mass

A4300上に、マスク印刷用インク1を用い、グラビア印刷機(Kプリンティングプルーファー、RK Print Coat Instruments社製)にて、図1に示すパターンを印刷した。図1において、黒で示される領域がインク印刷部分であり、インク印刷部分とそれ以外の部分とは、光透過率が互いに異なる。
印刷後、フィルムを80℃2分乾燥させることで、マスクを作製した。
印刷膜厚の最も厚い部分は、3.0μmであった。
作製したマスクの印刷部の400nm~780nmにおける面内の平均透過率は、90%を超えていた。また、光学マスク層内で、波長330nmの透過率が最も高い部分と、透過率が最も低い部分の相違は、90%を超えていた。
A pattern shown in FIG. 1 was printed on A4300 using mask printing ink 1 with a gravure printing machine (K printing proofer, manufactured by RK Print Coat Instruments). In FIG. 1, the area shown in black is the ink-printed portion, and the ink-printed portion and other portions have different light transmittances.
After printing, the film was dried at 80°C for 2 minutes to prepare a mask.
The thickest portion of the printed film thickness was 3.0 μm.
The in-plane average transmittance of the printed portion of the manufactured mask at 400 nm to 780 nm exceeded 90%. Moreover, the difference between the portion with the highest transmittance at a wavelength of 330 nm and the portion with the lowest transmittance in the optical mask layer exceeded 90%.

<液晶配向層の形成>
下記に記載の組成を有する液晶配向層用塗布液1を調製した。
-液晶配向層形成用塗布液1の組成-
・下記に示す構造の変性ポリビニルアルコール(化合物1):10.00質量部
・水:55.00質量部
・メタノール:35.00質量部
<Formation of liquid crystal alignment layer>
A liquid crystal alignment layer coating liquid 1 having the composition described below was prepared.
-Composition of coating liquid 1 for forming liquid crystal alignment layer-
・Modified polyvinyl alcohol (compound 1) having the structure shown below: 10.00 parts by mass ・Water: 55.00 parts by mass ・Methanol: 35.00 parts by mass

・変性ポリビニルアルコール(化合物1):下記化合物。各構成単位の右下の数字はモル比を表す。 - Modified polyvinyl alcohol (compound 1): the following compound. The lower right number of each structural unit represents the molar ratio.

A4300の光学マスク層を形成した面とは反対面に、液晶配向層形成用塗布液1をワイヤーバー(番手#10)で塗布し、100℃にて2分乾燥させることにより、液晶配向層付き積層体を得た。
次いで、作製した液晶配向層に、短辺方向を基準に反時計回りに3°回転させた方向にラビング処理(レーヨン布、圧力0.1kgf、回転数1,000rpm、搬送速度10m/min、回数1回)を施した。
On the surface opposite to the surface of A4300 on which the optical mask layer was formed, the liquid crystal alignment layer forming coating liquid 1 was applied with a wire bar (count #10) and dried at 100 ° C. for 2 minutes to form a liquid crystal alignment layer. A laminate was obtained.
Next, the prepared liquid crystal alignment layer is rubbed in a direction rotated 3° counterclockwise with respect to the short side direction (rayon cloth, pressure 0.1 kgf, number of rotations 1,000 rpm, conveying speed 10 m / min, number of times 1 time) was applied.

<液晶層の形成>
下記に記載の組成を有する液晶層形成用塗布液1を調製した。
-液晶層形成用塗布液1の組成-
・液晶化合物1(化合物2):2.42質量部
・液晶化合物2(化合物5):0.30質量部
・液晶化合物3(化合物6):0.30質量部
・カイラル剤1(LC756、2つのアクリロキシ基及び液晶構造を有するカイラル剤、BASF社製):0.204質量部
・カイラル剤2(化合物3):0.023質量部
・光重合開始剤(カヤキュアーDETX、2,4-ジエチルチオキサントン、日本化薬(株)製):0.091質量部
・界面活性剤(化合物4、メチルエチルケトン(MEK)1%希釈液):0.97質量部
・メチルエチルケトン(溶媒):4.37質量部
・シクロヘキサノン(溶媒):1.33質量部
<Formation of liquid crystal layer>
A coating liquid 1 for forming a liquid crystal layer having the composition described below was prepared.
-Composition of Liquid Crystal Layer Forming Coating Liquid 1-
Liquid crystal compound 1 (compound 2): 2.42 parts by mass Liquid crystal compound 2 (compound 5): 0.30 parts by mass Liquid crystal compound 3 (compound 6): 0.30 parts by mass Chiral agent 1 (LC756, 2 Chiral agent having two acryloxy groups and a liquid crystal structure, manufactured by BASF): 0.204 parts by mass Chiral agent 2 (compound 3): 0.023 parts by mass Photopolymerization initiator (Kayacure DETX, 2,4-diethylthioxanthone , Nippon Kayaku Co., Ltd.): 0.091 parts by mass Surfactant (Compound 4, methyl ethyl ketone (MEK) 1% diluted solution): 0.97 parts by mass Methyl ethyl ketone (solvent): 4.37 parts by mass Cyclohexanone (solvent): 1.33 parts by mass

液晶化合物1(化合物2):下記化合物 Liquid crystal compound 1 (compound 2): the following compound

カイラル剤2(化合物3):下記化合物。なお、下記化合物中、Buはn-ブチル基を表す。 Chiral agent 2 (compound 3): the following compound. In the compounds below, Bu represents an n-butyl group.

界面活性剤(化合物4):下記化合物 Surfactant (compound 4): the following compound


液晶化合物2(化合物5):下記化合物 Liquid crystal compound 2 (compound 5): the following compound

液晶化合物3(化合物6):下記化合物 Liquid crystal compound 3 (compound 6): the following compound

上記作製した液晶配向層に、ワイヤーバー(番手#10)を用いて、液晶層形成用塗布液1を塗布後、85℃にて2分乾燥処理を行い、厚さ3μmの液晶層を形成した。
次いで、光学マスク層を形成した面側から、50mJ/cmの露光量のメタルハライドランプ((株)GSユアサ製MAL625NAL)の光を液晶層の異性化する部分に照射して、異性化処理を行った。
更に、85℃のホットプレート上にて、低酸素雰囲気化(酸素濃度1,000ppm以下)にて照射量30mJ/cmの露光量のメタルハライドランプ((株)GSユアサ製MAL625NAL)の光を照射することにより液晶層を硬化して、異性化した部分と異性化しない部分とをそれぞれ有する積層体(成型用加飾フィルム)を得た。
After coating the liquid crystal layer forming coating liquid 1 on the liquid crystal alignment layer prepared above using a wire bar (count #10), drying treatment was performed at 85 ° C. for 2 minutes to form a liquid crystal layer with a thickness of 3 μm. .
Next, from the side on which the optical mask layer is formed, light from a metal halide lamp (MAL625NAL, manufactured by GS Yuasa Co., Ltd.) with an exposure amount of 50 mJ/cm 2 is irradiated to the portion of the liquid crystal layer to be isomerized to perform isomerization treatment. gone.
Furthermore, on a hot plate at 85 ° C., light is irradiated from a metal halide lamp (MAL625NAL manufactured by GS Yuasa Co., Ltd.) with an exposure amount of 30 mJ / cm 2 in a low oxygen atmosphere (oxygen concentration 1,000 ppm or less). By doing so, the liquid crystal layer was cured to obtain a laminate (decorative film for molding) each having an isomerized portion and a non-isomerized portion.

<積層体(加飾成型フィルム)の評価>
-架橋密度-
日本分光(株)製FT/IR-4000を用いて架橋密度の評価を行った。
キャノシス(株)製シリコンウエハーSiD-4上に上記手順で液晶配向層、液晶層を形成した。
C=C二重結合(エチレン性不飽和結合)の反応消費率を下記の計算式で見積もり、処方添加量から液晶層中に含まれる液晶化合物のC=C二重結合の当量(mol/L)を算出して上記反応消費率を乗算することにより、液晶層のエチレン性不飽和結合による架橋密度とした。
反応消費率=(硬化前のC=C二重結合由来のピーク強度-硬化後のC=C二重結合由来のピーク強度)/硬化前のC=C二重結合由来のピーク強度
<Evaluation of laminate (decorative molded film)>
-Crosslinking density-
The crosslink density was evaluated using FT/IR-4000 manufactured by JASCO Corporation.
A liquid crystal alignment layer and a liquid crystal layer were formed by the above procedure on a silicon wafer SiD-4 manufactured by Canosys.
The reaction consumption rate of the C=C double bond (ethylenically unsaturated bond) is estimated by the following formula, and the equivalent amount of the C=C double bond (mol/L ) and multiplied by the reaction consumption rate, the cross-linking density of the ethylenically unsaturated bond of the liquid crystal layer was obtained.
Reaction consumption rate = (Peak intensity derived from C=C double bond before curing-Peak intensity derived from C=C double bond after curing)/Peak intensity derived from C=C double bond before curing

-反射特性評価-
日本分光(株)製分光光度計V-670を用いて反射特性の評価を行った。
上記手順でテクノロイC003上に作製した液晶層つき積層体の液晶層が形成されていない面に、黒PET((株)巴川製紙所製、商品名「くっきりミエール」)を貼り合わせ、液晶層が形成されている面を入射面として、反射スペクトルを測定し、最も色味の異なる部分の反射波長をそれぞれ測定した。
- Evaluation of reflection characteristics -
Reflection characteristics were evaluated using a spectrophotometer V-670 manufactured by JASCO Corporation.
Black PET (manufactured by Tomoegawa Paper Works Co., Ltd., trade name “Kukkiri Mieru”) was attached to the surface of the laminate with a liquid crystal layer produced on Technolloy C003 by the above procedure on which the liquid crystal layer was not formed, and the liquid crystal layer was formed. The reflection spectrum was measured using the formed surface as an incident surface, and the reflection wavelengths of the portions with the most different tints were measured.

<着色層の形成>
積層体の光学マスク層上に、日本ペイント(株)製naxレアル スーパーブラック塗料をワイヤーバー(番手#20)を用いて塗布し、100℃にて2分乾燥させることにより、厚さ10μmの着色層付き積層体を得た。
<Formation of colored layer>
On the optical mask layer of the laminate, nax real super black paint manufactured by Nippon Paint Co., Ltd. was applied using a wire bar (#20) and dried at 100 ° C. for 2 minutes to give a 10 μm thick coloring. A layered laminate was obtained.

<粘着層の形成>
着色層付き積層体の液晶層が形成された面に、両面に保護フィルムを有する粘着シート(G25、厚さ25μm、日栄化工(株)製)の片面の保護フィルムを剥離した後、仮支持体を剥離した面に粘着シートをラミネート(温度:30℃、線圧100N/cm、搬送速度0.1m/分)することにより、加飾成型用フィルムを得た。なお、片面の保護フィルムは剥離しなかった。上記の如くして、保護フィルム、粘着層、液晶層、液晶配向層、基材、光学マスク層、及び着色層をこの順に有する加飾成型用フィルムを得た。
<Formation of adhesive layer>
On the surface on which the liquid crystal layer of the laminate with a colored layer is formed, an adhesive sheet having protective films on both sides (G25, thickness 25 μm, manufactured by Nichiei Kako Co., Ltd.) After peeling off the protective film on one side, the temporary support A decorative molding film was obtained by laminating an adhesive sheet (temperature: 30°C, linear pressure: 100 N/cm, transport speed: 0.1 m/min) on the surface from which the was peeled off. The protective film on one side was not peeled off. As described above, a decorative molding film having a protective film, an adhesive layer, a liquid crystal layer, a liquid crystal alignment layer, a substrate, an optical mask layer, and a colored layer in this order was obtained.

<成型物の形成>
スマートフォン筐体パネルを想定し、図2A及び図2Bに示すガラス部材10に対し、立体成型性を作製した。部材10は、図2Aに示す主面12を有し、部材10の長手方向と平行な断面22は図2Bに示す通りである。
上記の手順で作製した粘着シートの保護シートを剥離後、布施真空(株)製TOM成型機NGF0406を用いて加熱温度170℃にて真空成型し、成型物を形成した。
<Formation of molding>
Assuming a smartphone housing panel, the glass member 10 shown in FIGS. 2A and 2B was made to have three-dimensional formability. The member 10 has a major surface 12 shown in FIG. 2A and a cross-section 22 parallel to the longitudinal direction of the member 10 as shown in FIG. 2B.
After peeling off the protective sheet of the pressure-sensitive adhesive sheet prepared by the above procedure, vacuum molding was performed using a TOM molding machine NGF0406 manufactured by Fuse Vacuum Co., Ltd. at a heating temperature of 170° C. to form a molding.

-パターン性評価-
得られた成型物を50cm離れた距離から、目視で評価を行った。A、Bが好ましく、Aが特に好ましい。
<基準>
A:はっきりとした反射色のパターンが視認される。
B:よく見ると、反射色のパターンが視認される。
C:反射色のパターンが視認されない。
-Pattern evaluation-
The obtained molding was visually evaluated from a distance of 50 cm. A and B are preferred, and A is particularly preferred.
<Criteria>
A: A clear reflection color pattern is visually recognized.
B: If you look closely, you can see the pattern of the reflected color.
C: No pattern of reflected color is visible.

-パターン境界部のシャープネス-
パターンの境界部の滲みの幅は、以下のようにして測定した。
ミクロトーム(大和光機工業(株)製、RX-860)を用いて積層体の切片を作成し、その切片の液晶層の断面について、パターンの境界部を走査電子顕微鏡(例えば、(株)日立ハイテク製、SU3800)を用いて観察した。パターン境界部において、液晶層の面内方向で螺旋ピッチが10%以上変化する領域の幅を測定し、「パターンの境界部の滲みの幅」とした。A及びBを合格と判定した。Aが特に好ましい。
<基準>
A:パターン境界部の滲みの幅が、1μm以上20μm未満である。
B:パターン境界部の滲みの幅が、20μm以上100μm未満である。
E:パターン境界部の滲みの幅が、100μm以上である。
-Sharpness of Pattern Boundaries-
The bleeding width at the boundary of the pattern was measured as follows.
A slice of the laminate is prepared using a microtome (RX-860, manufactured by Daiwa Koki Kogyo Co., Ltd.), and the boundary of the pattern is examined with a scanning electron microscope (for example, Hitachi Co., Ltd.) for the cross section of the liquid crystal layer of the slice. Observation was made using SU3800 manufactured by Hitech. In the pattern boundary, the width of the region where the helical pitch changes by 10% or more in the in-plane direction of the liquid crystal layer was measured and defined as the "bleeding width of the pattern boundary". A and B were determined to be acceptable. A is particularly preferred.
<Criteria>
A: The bleeding width at the pattern boundary is 1 μm or more and less than 20 μm.
B: The bleeding width at the pattern boundary is 20 μm or more and less than 100 μm.
E: The bleeding width at the pattern boundary is 100 μm or more.

(実施例2)
着色層として、日本ペイント(株)製naxレアル320 ホワイト塗料を用いる以外は、実施例1と同様にして、加飾パネルを作製した。
(Example 2)
A decorative panel was produced in the same manner as in Example 1, except that naxreal 320 white paint manufactured by Nippon Paint Co., Ltd. was used as the colored layer.

(実施例3)
着色層として、日本ペイント(株)製naxレアル537 スレンレッド塗料を用いる以外は、実施例1と同様にして、加飾パネルを作製した。
(Example 3)
A decorative panel was produced in the same manner as in Example 1, except that naxreal 537 thread red paint manufactured by Nippon Paint Co., Ltd. was used as the colored layer.

(実施例4)
液晶層付き積層体を、光学マスク層を形成した面側から、100mJ/cmの露光量のメタルハライドランプ((株)GSユアサ製「MAL625NAL」)の光を、液晶層の異性化する部分に照射して、異性化処理を行う以外は、実施例1と同様にして、加飾パネルを作製した。
(Example 4)
Light from a metal halide lamp (“MAL625NAL” manufactured by GS Yuasa Co., Ltd.) with an exposure amount of 100 mJ/cm 2 is applied to the part of the liquid crystal layer to be isomerized from the side of the laminate with the liquid crystal layer on which the optical mask layer is formed. A decorative panel was produced in the same manner as in Example 1, except that the isomerization treatment was performed by irradiation.

(実施例5)
液晶層付き積層体を、光学マスク層を形成した面側から、200mJ/cmの露光量のメタルハライドランプ((株)GSユアサ製「MAL625NAL」)の光を、液晶層の異性化する部分に照射して、異性化処理を行う以外は、実施例1と同様にして、加飾パネルを作製した。
(Example 5)
Light from a metal halide lamp (“MAL625NAL” manufactured by GS Yuasa Co., Ltd.) with an exposure amount of 200 mJ/cm 2 is applied to the isomerized portion of the liquid crystal layer from the side of the laminate with the liquid crystal layer formed with the optical mask layer. A decorative panel was produced in the same manner as in Example 1, except that the isomerization treatment was performed by irradiation.

(実施例6)
光学マスク層形成用インクとして、日本ペイント(株)製naxレアル320 ホワイト塗料(マスク印刷用インク2)を用いる以外は、実施例1と同様にして、加飾パネルを作製した。
作製したマスクの印刷部の400nm~780nmにおける面内の平均透過率は、45%であった。また、光学マスク層内で、波長330nmの透過率が最も高い部分は、透過率が91%以上、最も低い部分は吸収率が1%以下であった。
(Example 6)
A decorative panel was produced in the same manner as in Example 1, except that naxreal 320 white paint (mask printing ink 2) manufactured by Nippon Paint Co., Ltd. was used as the optical mask layer forming ink.
The in-plane average transmittance of the printed portion of the manufactured mask at 400 nm to 780 nm was 45%. In the optical mask layer, the highest transmittance at a wavelength of 330 nm had a transmittance of 91% or more, and the lowest part had an absorptance of 1% or less.

(実施例7)
光学マスク層形成用インクとして、下記に記載の組成を有するマスク印刷用インク3を用いる以外は、実施例1と同様にして、加飾パネルを作製した。
-マスク印刷用インク3の組成-
・ウレタン変性アクリルバインダー(8UA-301、固形分30%):35.00質量部
・シクロヘキサノン:30.00質量部
・メチルエチルケトン:34.99質量部
・Tinuvin479(BASF社製、UV吸収剤):0.20質量部
・F553(DIC社製界面活性剤):0.01質量部
(Example 7)
A decorative panel was produced in the same manner as in Example 1, except that Mask Printing Ink 3 having the composition described below was used as the optical mask layer forming ink.
-Composition of mask printing ink 3-
・Urethane-modified acrylic binder (8UA-301, solid content 30%): 35.00 parts by mass ・Cyclohexanone: 30.00 parts by mass ・Methyl ethyl ketone: 34.99 parts by mass ・Tinuvin479 (manufactured by BASF, UV absorber): 0 .20 parts by mass F553 (surfactant manufactured by DIC): 0.01 parts by mass

印刷膜厚の最も厚い部分は、0.5μmであった。
作製したマスクの印刷部の400nm~780nmにおける面内の平均透過率は、90%を超えていた。また、光学マスク層内で、波長330nmの透過率が最も高い部分と、透過率が最も低い部分の相違は、40%であった。
The thickest portion of the printed film thickness was 0.5 μm.
The in-plane average transmittance of the printed portion of the manufactured mask at 400 nm to 780 nm exceeded 90%. The difference between the portion with the highest transmittance at a wavelength of 330 nm and the portion with the lowest transmittance in the optical mask layer was 40%.

(実施例8)
基材として、テクノロイC000(ポリカーボネート、250μm)を用いる以外は、実施例1と同様にして、加飾パネルを作製した。
(Example 8)
A decorative panel was produced in the same manner as in Example 1, except that Technolloy C000 (polycarbonate, 250 μm) was used as the base material.

(比較例1)
光学マスク層を形成しない以外は、実施例1と同様にして加飾パネルを作製した。
(Comparative example 1)
A decorative panel was produced in the same manner as in Example 1, except that no optical mask layer was formed.

(比較例2)
A4300に、実施例1と同様にして光学マスク層を印刷した。また、光学マスク層を印刷していない、別のA4300上に、実施例1と同様の方法で、液晶配向層及び液晶層を形成した。その後、光学マスク層を形成したA4300の光学マスク層を有する側とは反対側の面を、液晶配向層及び液晶層を形成したA4300の液晶層を有する側とは反対の面に重ね合わせ、光学マスク層を介して、異性化処理を行った。上記以外は、実施例1と同様にして、加飾パネルを作製した。
(Comparative example 2)
An optical mask layer was printed in the same manner as in Example 1 on A4300. Also, a liquid crystal alignment layer and a liquid crystal layer were formed in the same manner as in Example 1 on another A4300 on which the optical mask layer was not printed. After that, the surface of A4300 having the optical mask layer formed thereon, which is opposite to the side having the optical mask layer, is superimposed on the surface of A4300 having the liquid crystal alignment layer and the liquid crystal layer formed thereon, which is opposite to the side having the liquid crystal layer. The isomerization treatment was performed through the mask layer. A decorative panel was produced in the same manner as in Example 1 except for the above.

実施例1~8および比較例1~2の意匠性を評価した結果を表1に示す。 Table 1 shows the results of evaluating the designability of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 2.

2019年12月25日に出願された日本国特許出願2019-235082号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記載された場合と同程度に、本明細書に参照により取り込まれる。 The disclosure of Japanese Patent Application No. 2019-235082 filed on December 25, 2019 is incorporated herein by reference in its entirety. All publications, patent applications and technical standards mentioned herein are to the same extent as if each individual publication, patent application and technical standard were specifically and individually indicated to be incorporated by reference. incorporated herein by reference.

Claims (12)

液晶化合物と光異性化化合物とを含む液晶層と、
基材と、
光透過率が互いに異なる複数のパターンが面内方向に形成された光学マスク層と、
着色層と、をこの順に有する積層体であって、
前記液晶層は、選択反射波長が互いに異なる複数のパターンが面内方向に形成されており、
前記複数のパターンの境界部の滲みの幅が、1μm以上100μm未満である、積層体。
a liquid crystal layer containing a liquid crystal compound and a photoisomerizable compound;
a substrate;
an optical mask layer in which a plurality of patterns with different light transmittances are formed in an in-plane direction;
A laminate having, in this order, a colored layer,
The liquid crystal layer has a plurality of patterns with different selective reflection wavelengths formed in an in-plane direction,
The layered product, wherein the width of bleeding at the boundaries of the plurality of patterns is 1 μm or more and less than 100 μm.
加飾成型フィルムである、請求項1に記載の積層体。 The laminate according to claim 1, which is a decorative molded film. 液晶化合物と光異性化化合物とを含む液晶層と、基材と、光透過率が互いに異なる複数のパターンが面内方向に形成された光学マスク層と、着色層と、をこの順に有する液晶材料を準備する工程と、
前記光学マスク層を介して前記液晶層に光を照射し、前記光異性化化合物を光異性化させる工程と
を含む、積層体の製造方法。
A liquid crystal material having, in this order, a liquid crystal layer containing a liquid crystal compound and a photoisomerizable compound, a substrate, an optical mask layer having a plurality of patterns with different light transmittance formed in an in-plane direction, and a colored layer. a step of preparing
and a step of irradiating the liquid crystal layer with light through the optical mask layer to photoisomerize the photoisomerizable compound.
前記光学マスク層が前記基材に隣接し、かつ、前記基材の前記光学マスク層が隣接する側とは反対側の面に、前記液晶層が設けられている請求項3に記載の積層体の製造方法。 4. The laminate according to claim 3, wherein the optical mask layer is adjacent to the substrate, and the liquid crystal layer is provided on the surface of the substrate opposite to the side on which the optical mask layer is adjacent. manufacturing method. 前記複数のパターンの少なくとも一部は、波長範囲250nm~400nmにおいて光透過率が互いに異なる、請求項3又は請求項4に記載の積層体の製造方法。 5. The method for producing a laminate according to claim 3, wherein at least some of the plurality of patterns have different light transmittances in a wavelength range of 250 nm to 400 nm. 前記複数のパターンは、波長範囲400nm~780nmにおける面内の平均透過率が50%以上である請求項3~請求項5のいずれか1項に記載の積層体の製造方法。 The method for producing a laminate according to any one of claims 3 to 5, wherein the plurality of patterns have an in-plane average transmittance of 50% or more in a wavelength range of 400 nm to 780 nm. 前記光学マスク層が、印刷方式により形成されたものである請求項3~請求項6のいずれか1項に記載の積層体の製造方法。 The method for producing a laminate according to any one of claims 3 to 6, wherein the optical mask layer is formed by a printing method. 前記積層体が、電子デバイスの筐体パネルの加飾に用いられる加飾成型フィルムである、請求項3~請求項7のいずれか1項に記載の積層体の製造方法。 The method for producing a laminate according to any one of claims 3 to 7, wherein the laminate is a decorative molded film used for decorating a housing panel of an electronic device. 請求項1又は請求項2に記載の積層体を成型してなる成型物。 A molding obtained by molding the laminate according to claim 1 or 2. 請求項3~請求項8のいずれか1項に記載の積層体の製造方法により得られた積層体を成型する工程を含む成型物の製造方法。 A method for producing a molded article, comprising a step of molding a laminate obtained by the method for producing a laminate according to any one of claims 3 to 8. 請求項1又は請求項2に記載の積層体を備えた電子デバイスの筐体パネル。 An electronic device housing panel comprising the laminate according to claim 1 or 2. 請求項9に記載の成型物を備えた電子デバイス。 An electronic device comprising the molding according to claim 9 .
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