JP7274403B2 - Electron beam sterilization device and method - Google Patents

Electron beam sterilization device and method Download PDF

Info

Publication number
JP7274403B2
JP7274403B2 JP2019227926A JP2019227926A JP7274403B2 JP 7274403 B2 JP7274403 B2 JP 7274403B2 JP 2019227926 A JP2019227926 A JP 2019227926A JP 2019227926 A JP2019227926 A JP 2019227926A JP 7274403 B2 JP7274403 B2 JP 7274403B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gripper
electron beam
container
rotating body
rotor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019227926A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2021095178A (en
Inventor
敦士 上田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Machinery Systems Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Machinery Systems Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Machinery Systems Co Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Machinery Systems Co Ltd
Priority to JP2019227926A priority Critical patent/JP7274403B2/en
Publication of JP2021095178A publication Critical patent/JP2021095178A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7274403B2 publication Critical patent/JP7274403B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)

Description

本開示は、例えば、飲料、食品、医薬品等が充填される容器を電子線により殺菌する装置および方法に関する。 The present disclosure relates to an apparatus and method for sterilizing containers filled with, for example, beverages, foods, medicines, etc., using electron beams.

樹脂製のボトル状の容器の内面および外面を、コストを抑えつつ確実に殺菌するための技術開発が続けられている。かかるボトル容器は、プリフォームと呼ばれる前駆体からブロー成形により形成される。このプリフォームに対する殺菌も行われている(特許文献1)。
特許文献1では、プリフォームに対して行う予備殺菌に続いて、ブロー成形により得られた容器に対する本殺菌が行われる。特許文献1によると、予備殺菌は、プリフォームを連続走行させながら、予備殺菌温度まで予熱し、予熱したプリフォームに過酸化水素を含んだミストまたはガスを吹き付けることで行われる。その後、さらにプリフォームを成形温度まで加熱し、成形温度に達したプリフォームを同じく連続走行するブロー成形機により容器に成形したならば、成形された容器を連続走行させながら、例えば、過酸化水素、過酢酸、オゾン等を含むミストやガスを吹き付けることで容器の本殺菌を行う。
Technological development is continuing to reliably sterilize the inner and outer surfaces of resin bottle-shaped containers while keeping costs down. Such a bottle container is formed by blow molding from a precursor called a preform. This preform is also sterilized (Patent Document 1).
In Patent Document 1, main sterilization is performed on a container obtained by blow molding subsequent to preliminary sterilization performed on a preform. According to Patent Document 1, preliminary sterilization is performed by preheating a preform to a preliminary sterilization temperature while continuously running the preform, and spraying mist or gas containing hydrogen peroxide onto the preheated preform. After that, the preform is further heated to the molding temperature, and the preform that has reached the molding temperature is molded into a container by a similarly continuously running blow molding machine. Main sterilization of the container is performed by spraying mist or gas containing peracetic acid, ozone, etc.

殺菌処理に用いられる薬剤のコスト、容器のリンス、廃液処理等によるランニングコストを考慮し、薬液をなるべく使用しないで、電子線を用いる殺菌技術が期待されている。
電子線殺菌装置を開示する特許文献2では、回転式搬送機構の回転体(スターホイール)に設けられて容器の首部を把持するグリッパの爪に貫通孔が形成されている。貫通孔は、グリッパの表面から裏面へとグリッパを貫通している。電子線照射装置から発せられ、容器の軸線方向に沿って進行する電子線が、貫通孔を通じてグリッパの裏側にも供給されることにより、殺菌効果が高められている。
Considering the cost of chemicals used for sterilization and the running costs of container rinsing, waste liquid treatment, etc., sterilization technology that uses electron beams and uses as little chemicals as possible is expected.
In Patent Document 2, which discloses an electron beam sterilizer, a through hole is formed in a claw of a gripper that is provided on a rotating body (star wheel) of a rotary transfer mechanism and grips the neck of a container. The through hole penetrates the gripper from the front surface to the back surface of the gripper. The sterilization effect is enhanced by supplying an electron beam emitted from the electron beam irradiation device and traveling along the axial direction of the container to the rear side of the gripper through the through hole.

特開2016-27989号公報JP 2016-27989 A 特開2013-133111号公報JP 2013-133111 A

特許文献2のようにグリッパの爪に形成された貫通孔を通じて、グリッパの爪の裏側、つまりグリッパ爪に隠れている容器の部位に電子線が供給されるものの、電子線が到達する領域は、空気への散乱を考慮しても、貫通孔の投影範囲およびその近傍に留まる。
また、容器に接触するグリッパ爪も、殺菌して無菌化しておく必要があるが、特許文献2では、グリッパ爪の表面に照射される電子線が、貫通孔の近傍を除いてグリッパ爪の裏面には照射されない。また、グリッパ爪の内壁と首部との間の隙間が狭いので、グリッパ爪の内壁に十分に電子線を供給することが難しい。グリッパ爪に剛性を確保する必要上、内壁と首部との間の隙間や、貫通孔の径を大きくすることは難しい。
以上より、容器およびグリッパの電子線による殺菌処理には改善の余地がある。
本開示は、プリフォームやボトル等の容器と、容器の首部を把持するグリッパとを電子線を用いて十分に殺菌することが可能な装置および方法を提供することを目的とする。
Although the electron beam is supplied to the back side of the gripper claw, that is, the part of the container hidden by the gripper claw through the through hole formed in the gripper claw as in Patent Document 2, the area reached by the electron beam is Even if scattering into the air is taken into account, it remains within the projection range of the through-hole and its vicinity.
In addition, the gripper claws that come into contact with the container also need to be sterilized and sterilized. is not irradiated. Moreover, since the gap between the inner wall of the gripper claw and the neck is narrow, it is difficult to sufficiently supply the electron beam to the inner wall of the gripper claw. It is difficult to increase the clearance between the inner wall and the neck and the diameter of the through-hole due to the need to ensure the rigidity of the gripper claw.
As described above, there is room for improvement in the electron beam sterilization of containers and grippers.
An object of the present disclosure is to provide an apparatus and method capable of sufficiently sterilizing a container such as a preform or a bottle and a gripper that grips the neck of the container using an electron beam.

本開示の電子線殺菌装置は、容器を把持する第1グリッパが設けられた第1回転体と、第1グリッパから容器を受け取る第2グリッパが設けられた第2回転体と、第1グリッパに把持された状態の容器に対し、第1回転体の径方向の外側から内側に向けて電子線を照射する第1照射部と、第2グリッパに把持された状態の容器に対し、第2回転体の径方向の外側から内側に向けて電子線を照射する第2照射部と、容器を把持していない状態の第2グリッパに対し、第2回転体の径方向の外側から内側に向けて電子線を照射するグリッパ照射部と、を備える。
第1グリッパおよび第2グリッパはそれぞれ、容器の首部を間に受け入れ、両側から閉じて首部を挟む一対の爪を含む。
一対の爪は、首部に接触または近接する把持領域を含む。
グリッパ照射部は、第2回転体の回転に伴い移動する第2グリッパに対し、少なくとも把持領域に亘り電子線を照射する。
The electron beam sterilizer of the present disclosure includes a first rotating body provided with a first gripper that grips a container, a second rotating body provided with a second gripper that receives the container from the first gripper, and the first gripper A first irradiating unit that irradiates the held container with an electron beam from the outer side to the inner side in the radial direction of the first rotating body; A second irradiator that irradiates an electron beam from the outside in the radial direction of the body to the inside, and a second gripper that is not gripping a container, the electron beams are emitted from the outside in the radial direction of the second rotating body to the inside. and a gripper irradiation unit that irradiates an electron beam.
The first gripper and the second gripper each include a pair of claws that receive the neck of the container between them and close from both sides to pinch the neck.
A pair of claws includes gripping regions that contact or are adjacent to the neck.
The gripper irradiation unit irradiates the second gripper, which moves with the rotation of the second rotating body, with an electron beam over at least the gripping area.

本開示の他の電子線殺菌装置は、容器を把持する複数の第1グリッパが設けられた第1回転体と、第1グリッパからそれぞれ容器を受け取る複数の第2グリッパが設けられた第2回転体と、
第1グリッパに把持された状態の容器に対し、第1回転体の径方向の外側から内側に向けて電子線を照射する第1照射部と、第2グリッパに把持された状態の容器に対し、第2回転体の径方向の外側から内側に向けて電子線を照射する第2照射部と、第2回転体において周方向に分布している奇数個の第2グリッパに対して、1個おきに第1グリッパから容器が渡される。
上記の電子線殺菌装置のいずれも、電子線殺菌方法に展開することができる。
Another electron beam sterilization apparatus of the present disclosure includes a first rotating body provided with a plurality of first grippers for gripping containers, and a second rotating body provided with a plurality of second grippers each receiving containers from the first grippers. body and
A first irradiating unit that irradiates the container held by the first gripper with an electron beam from the outside to the inside in the radial direction of the first rotor; , a second irradiator that irradiates an electron beam from the outside to the inside in the radial direction of the second rotor, and an odd number of second grippers distributed in the second rotor in the circumferential direction. Every other container is delivered from the first gripper.
Any of the electron beam sterilization devices described above can be developed into an electron beam sterilization method.

さらに、本開示は、電子線に代えて紫外線を照射することで容器を殺菌する装置および方法にも展開することができる。 Furthermore, the present disclosure can be expanded to an apparatus and method for sterilizing containers by irradiating ultraviolet rays instead of electron beams.

本開示によれば、第1グリッパにより把持された状態の容器の殺菌と、第2グリッパに把持された状態の容器の殺菌とを順次実施し、かつ、容器を把持していない第2グリッパの殺菌をも行うことができるので、容器の外周部の全域に亘り十分に殺菌することができる。 According to the present disclosure, the sterilization of the container gripped by the first gripper and the sterilization of the container gripped by the second gripper are sequentially performed, and the second gripper that does not grip the container is sterilized. Since sterilization can also be performed, the entire outer peripheral portion of the container can be sufficiently sterilized.

本開示の第1実施形態に係る電子線殺菌装置を模式的に示す平面図である。1 is a plan view schematically showing an electron beam sterilizer according to a first embodiment of the present disclosure; FIG. 図1に示す電子線殺菌装置の回転体に備わるグリッパを示す平面図および斜視図である。3A and 3B are a plan view and a perspective view showing a gripper provided on a rotating body of the electron beam sterilizer shown in FIG. 1; FIG. 第1回転体の第1グリッパと、第2回転体の第2グリッパとを示す図である。FIG. 4 shows a first gripper of a first rotor and a second gripper of a second rotor; 電子線をそれぞれ照射する第1照射部および第2照射部を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the 1st irradiation part and 2nd irradiation part which each irradiate an electron beam. グリッパの一対の爪の形状および電子線の出射方向を模式的に示す図である。FIG. 4 is a diagram schematically showing the shape of a pair of claws of a gripper and the emission direction of electron beams; 第2回転体の回転に伴い移動する空の状態の第2グリッパと、第2グリッパに入射する電子線を模式的に示す図である。FIG. 10 is a diagram schematically showing an empty second gripper that moves as the second rotating body rotates, and an electron beam incident on the second gripper; 揺動可能な第2グリッパの挙動の例を示す模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram showing an example of the behavior of a swingable second gripper; 揺動可能な第2グリッパに対する電子線照射の例を示す模式図である。FIG. 10 is a schematic diagram showing an example of electron beam irradiation to a swingable second gripper; 本開示の第2実施形態に係る電子線殺菌装置を模式的に示す平面図である。Fig. 2 is a plan view schematically showing an electron beam sterilizer according to a second embodiment of the present disclosure; 第2実施形態の変形例に係る電子線殺菌装置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the electron beam sterilization apparatus which concerns on the modification of 2nd Embodiment.

以下、添付図面を参照しながら、各実施形態について説明する。
[第1実施形態]
〔装置全体の構成〕
図1に示す電子線殺菌装置10は、電子線を照射することにより、容器2、および容器2を把持可能なグリッパ3を殺菌する。
電子線殺菌装置10は、容器2に飲料、食料、医薬品等の内容物を充填する充填装置16、および容器2を密封する図示しない密封装置と共に、チャンバ17で覆われた無菌充填システム1を構成している。無菌充填システム1は、図示しないブロー成形機等から供給された容器2を複数の回転体11,12等からなる回転式搬送機構により、導入区画101、殺菌区画102、および充填・密封区画103に連続した所定の搬送路100を搬送しながら、容器2の殺菌、充填、および密閉を行う。
Hereinafter, each embodiment will be described with reference to the accompanying drawings.
[First embodiment]
[Configuration of entire device]
An electron beam sterilizer 10 shown in FIG. 1 sterilizes a container 2 and a gripper 3 capable of gripping the container 2 by irradiating electron beams.
The electron beam sterilizer 10 constitutes an aseptic filling system 1 covered with a chamber 17 together with a filling device 16 that fills the container 2 with contents such as beverages, food, and pharmaceuticals, and a sealing device (not shown) that seals the container 2. are doing. The aseptic filling system 1 transports containers 2 supplied from a blow molding machine (not shown) to an introduction section 101, a sterilization section 102, and a filling/sealing section 103 by a rotary conveying mechanism comprising a plurality of rotating bodies 11 and 12. The container 2 is sterilized, filled, and sealed while being conveyed along a predetermined continuous conveying path 100 .

チャンバ17の内側は、ブロー成形等の上流工程から容器2が導入される導入区画101と、容器2およびグリッパ3の殺菌が行われる殺菌区画102と、殺菌済みの容器2に内容物を充填し、蓋の装着により容器2を密封する充填・密封区画103とに仕切られている。 Inside the chamber 17 are an introduction section 101 into which the container 2 is introduced from an upstream process such as blow molding, a sterilization section 102 in which the container 2 and the gripper 3 are sterilized, and a sterilized container 2 filled with contents. , and a filling and sealing compartment 103 which seals the container 2 by fitting a lid.

容器2は、回転体11,12等にそれぞれ設けられたグリッパ3(図2および図3)により首部21(図3)が把持された状態で、回転体にそれぞれ備わるグリッパ3間を受け渡されながら搬送される。
殺菌区画102において、電子線殺菌装置10により容器2の外周部が電子線の照射により殺菌される。容器2の外周部の殺菌を確実ならしめるため、グリッパ3の殺菌も行われる。
The container 2 is transferred between the grippers 3 provided on the rotating bodies 11, 12, etc., with the neck 21 (FIG. 3) gripped by the grippers 3 (FIGS. 2 and 3) provided on the rotating bodies 11, 12, respectively. transported while
In the sterilization section 102, the electron beam sterilizer 10 sterilizes the outer periphery of the container 2 by irradiating electron beams. To ensure sterilization of the outer circumference of the container 2, the gripper 3 is also sterilized.

容器2の内部は、電子線殺菌装置10による容器2の外周部の殺菌の前あるいは後において、少なくとも充填される前までに別途行われる。
殺菌区画102よりも前に、容器2の内部を適宜な方法、例えば、過酢酸や過酸化水素、オゾンを含むミストやガス、あるいは電子線、紫外線等を用いて殺菌し、必要に応じて容器2を圧縮空気や無菌状態の水等を用いてリンスする内部殺菌用の区画を設けることができる。
容器2の内部および外部の殺菌は、殺菌用装置の導入や、薬剤等の殺菌用媒体の購入、廃棄等を含めた運用に要するコスト、および要求される殺菌効果指標を考慮して、適宜に採用することができる。
Before or after sterilization of the outer periphery of the container 2 by the electron beam sterilizer 10, the interior of the container 2 is separately treated at least before filling.
Prior to the sterilization section 102, the inside of the container 2 is sterilized using an appropriate method, for example, mist or gas containing peracetic acid, hydrogen peroxide, or ozone, or electron beams, ultraviolet rays, etc., and if necessary, the container is sterilized. An internal sterilization compartment may be provided in which 2 is rinsed with compressed air, sterile water, or the like.
Sterilization of the inside and outside of the container 2 is appropriately performed in consideration of the cost required for operation including the introduction of a sterilization device, the purchase of a sterilization medium such as a drug, disposal, etc., and the required sterilization effect index. can be adopted.

〔容器の構成〕
本実施形態の容器2は、PET(ポリエチレンテレフタラート)等の樹脂材料からボトル状に形成されている。容器2は、図3および図4に示すように、筒状の首部21と、首部21の上方で開口した口部22と、首部21よりも径が大きい胴部23と、胴部23の下側の底部24とを備えている。
首部21は、図示しない蓋が装着されるねじ21Aと、ねじ21Aの下側で首部21の径方向外側に突出した複数の円環状のフランジ21B,21Cとを備えている。
胴部23の横断面の形状は、円形に限らず、矩形等であってもよい。
[Construction of container]
The container 2 of this embodiment is formed in a bottle shape from a resin material such as PET (polyethylene terephthalate). As shown in FIGS. 3 and 4 , the container 2 includes a cylindrical neck 21 , a mouth 22 opening above the neck 21 , a body 23 having a larger diameter than the neck 21 , and a bottom 24 on the side.
The neck portion 21 includes a screw 21A to which a lid (not shown) is attached, and a plurality of annular flanges 21B and 21C projecting radially outward from the neck portion 21 below the screw 21A.
The cross-sectional shape of the trunk portion 23 is not limited to a circle, and may be rectangular or the like.

容器2は、図示しないプリフォームからブロー成形により形成することができる。プリフォームにも、ボトルの首部21と同様の首部が備えられている。プリフォームも、グリッパにより首部が把持された状態で搬送可能である。
本明細書における「容器」には、首部を備えたボトルのほか、首部を備えたプリフォームも含まれるものとする。
The container 2 can be formed by blow molding from a preform (not shown). The preform is also provided with a neck similar to the neck 21 of the bottle. Preforms can also be transported with their necks gripped by grippers.
The term "container" as used herein shall include bottles with necks as well as preforms with necks.

プリフォームの内部および外部は、適宜な方法で殺菌することができる。プリフォームの内部のみを例えば過酢酸や過酸化水素、オゾンを含むミストやガス、あるいは電子線、紫外線等を用いて殺菌し、内部の殺菌性を維持したままブロー成形された容器2の外周部を電子線殺菌装置10により殺菌することで、容器2を内部および外周部の全体に亘り殺菌してもよい。あるいは、プリフォームの内部および外部をそれぞれ適宜な方法で殺菌し、内部の殺菌性を維持したままブロー成形された容器2の外周部を電子線殺菌装置10により殺菌するようにしてもよい。 The interior and exterior of the preform can be sterilized by any suitable method. Only the inside of the preform is sterilized using, for example, mist or gas containing peracetic acid, hydrogen peroxide, ozone, electron beam, ultraviolet rays, etc., and the outer peripheral portion of the blow-molded container 2 while maintaining the sterilization inside. may be sterilized by the electron beam sterilizer 10 to sterilize the entire inside and outer periphery of the container 2 . Alternatively, the inside and outside of the preform may be sterilized by appropriate methods, and the outer periphery of the blow-molded container 2 may be sterilized by the electron beam sterilizer 10 while maintaining the sterilization of the inside.

〔電子線殺菌装置の構成〕
電子線殺菌装置10(図1)は、導入区画101に配置される搬送用第1回転体11および搬送用第2回転体12と、殺菌区画102に配置されるいずれも円盤状の第1回転体13および第2回転体14と、第1回転体13により搬送中の容器2に電子線を照射して殺菌する第1照射部41と、第2回転体14により搬送中の容器2に電子線を照射して殺菌する第2照射部42と、第2回転体14に設けられたグリッパ3を殺菌するグリッパ照射部43とを備えている。
[Configuration of electron beam sterilizer]
The electron beam sterilizer 10 (FIG. 1) includes a first rotating body 11 for transportation and a second rotating body 12 for transportation arranged in the introduction section 101, and a disk-shaped first rotation body arranged in the sterilization section 102. body 13 and second rotating body 14; first irradiation unit 41 that irradiates and sterilizes container 2 being transported by first rotating body 13 with an electron beam; A second irradiation unit 42 for sterilizing by irradiating rays, and a gripper irradiation unit 43 for sterilizing the gripper 3 provided on the second rotating body 14 are provided.

(第1グリッパを備えた第1回転体、および第2グリッパを備えた第2回転体)
第1回転体13は、第1回転体13の軸に設けられたモータの回転駆動力により、あるいは、他の回転体の軸に設けられたモータから伝達される回転駆動力により、軸周りに、図1に示す矢印の向きに回転する。第2回転体14も同様である。
第1回転体13には、容器2を把持する複数のグリッパ3(図2および図3)が設けられている。
なお、図1には、搬送中の多数の容器2のうち一部の容器2のみが示されており、また、図示された容器2を把持するグリッパ3のみが示されているが、実際は、それぞれの回転体の全周に亘り、多数のグリッパ3が等しいピッチで分布している。
第1回転体13に設けられたグリッパ3のことを第1グリッパ31と称する。第1回転体13の回転に伴い、第1グリッパ31は第1回転体13の軸周りに周回する。
(first rotating body with first gripper and second rotating body with second gripper)
The first rotating body 13 is rotated around its axis by a rotational driving force of a motor provided on the shaft of the first rotating body 13 or by a rotational driving force transmitted from a motor provided on the shaft of another rotating body. , rotates in the direction of the arrow shown in FIG. The same applies to the second rotating body 14 .
A plurality of grippers 3 (FIGS. 2 and 3) for gripping the container 2 are provided on the first rotor 13 .
FIG. 1 shows only some containers 2 out of a large number of containers 2 being transported, and only grippers 3 for gripping the illustrated containers 2 are shown. A large number of grippers 3 are distributed with equal pitch over the circumference of each rotary body.
The gripper 3 provided on the first rotor 13 is called a first gripper 31 . As the first rotating body 13 rotates, the first gripper 31 rotates around the axis of the first rotating body 13 .

第2回転体14には、第1グリッパ31から容器2を受け取る複数のグリッパ3(第2グリッパ32と称する)が設けられている。第2グリッパ32は、第2回転体14の全周に亘り、等しいピッチで分布して設けられており、第2回転体14の回転に伴い、第2回転体14の軸周りに周回する。
なお、第1グリッパ31および第2グリッパ32を特定する必要がない場合は、単にグリッパ3と称する。
The second rotating body 14 is provided with a plurality of grippers 3 (referred to as second grippers 32 ) that receive the containers 2 from the first grippers 31 . The second grippers 32 are distributed at equal pitches over the entire circumference of the second rotating body 14 and revolve around the axis of the second rotating body 14 as the second rotating body 14 rotates.
Note that the first gripper 31 and the second gripper 32 are simply referred to as the gripper 3 when there is no need to specify them.

第1グリッパ31は、搬送用第2回転体12のグリッパ3から受け渡し箇所P1で1本ずつ容器2を受け取った後、第1回転体13の回転に伴い周方向に移動し、第1回転体13と第2回転体14との間の受け渡し箇所P2で容器2を第2グリッパ32へ渡す。容器2を受け取った第2グリッパ32は、第2回転体14の回転に伴い周方向に移動し、受け渡し箇所P3で充填・密封区画103の回転体103Aに設けられている図示しないグリッパへ容器2を渡す。
グリッパ3間で容器2を確実に受け渡すことができるように、グリッパ3が設けられている回転体は、いずれも等しい周速に制御される。
搬送用第2回転体12のグリッパ3、第1グリッパ31、第2グリッパ32、および回転体103Aのグリッパに順次把持される容器2は、図1に破線で示す搬送路100を通過する。
The first gripper 31 receives the containers 2 one by one from the gripper 3 of the second conveying rotating body 12 at the transfer point P1, and then moves in the circumferential direction as the first rotating body 13 rotates. The container 2 is transferred to the second gripper 32 at the transfer point P2 between 13 and the second rotor 14 . The second gripper 32 that has received the container 2 moves in the circumferential direction as the second rotating body 14 rotates, and passes the container 2 to a gripper (not shown) provided on the rotating body 103A of the filling/sealing section 103 at the delivery point P3. give.
In order to reliably transfer the container 2 between the grippers 3, the rotating bodies provided with the grippers 3 are all controlled to have the same peripheral speed.
The container 2 successively gripped by the gripper 3, the first gripper 31, the second gripper 32 of the second conveying rotor 12, and the gripper of the rotor 103A passes through the conveying path 100 indicated by the dashed line in FIG.

(第1照射部、第2照射部、およびグリッパ照射部)
第1照射部41は、第1グリッパ31に把持された状態の容器2の外周部に対して電子線を照射する。第1照射部41は、搬送路100の受け渡し箇所P1から受け渡し箇所P2までの円弧状の第1区間100A上の適宜な位置を選び、第1区間100Aの近傍に配置されている。この第1照射部41は、第1区間100Aを搬送される容器2に対し、図4に示すように、第1回転体13の径方向D1の外側から内側に向けて電子線を照射する。
(First irradiation unit, second irradiation unit, and gripper irradiation unit)
The first irradiation unit 41 irradiates the outer peripheral portion of the container 2 held by the first gripper 31 with an electron beam. The first irradiation unit 41 selects an appropriate position on the arc-shaped first section 100A from the transfer point P1 to the transfer point P2 of the transport path 100, and is arranged in the vicinity of the first section 100A. The first irradiation unit 41 irradiates the container 2 conveyed in the first section 100A with an electron beam from the outside to the inside in the radial direction D1 of the first rotor 13, as shown in FIG.

第2照射部42は、第2グリッパ32に把持された状態の容器2の外周部に対して電子線を照射する。第2照射部42は、搬送路100の受け渡し箇所P2から受け渡し箇所P3までの円弧状の第2区間100B上の適宜な位置を選び、第2区間100Bの近傍に配置されている。この第2照射部42は、第2区間100Bを搬送される容器2に対し、図4に示すように、第2回転体14の径方向D1の外側から内側に向けて電子線を照射する。 The second irradiation unit 42 irradiates the outer peripheral portion of the container 2 held by the second gripper 32 with an electron beam. The second irradiation unit 42 selects an appropriate position on the arc-shaped second section 100B from the transfer point P2 to the transfer point P3 of the transport path 100, and is arranged in the vicinity of the second section 100B. The second irradiation unit 42 irradiates the container 2 conveyed in the second section 100B with an electron beam from the outside toward the inside in the radial direction D1 of the second rotor 14, as shown in FIG.

グリッパ照射部43(図1)は、容器2を把持していない状態の第2グリッパ32に電子線を照射する。
第2回転体14の円周方向において受け渡し箇所P3から受け渡し箇所P2までの間は、容器2を把持していない、空の状態の第2グリッパ32が移動する範囲に相当する。グリッパ照射部43は、この範囲における適宜な位置を選び、第2グリッパ32の軌道の近傍に配置されている。このグリッパ照射部43は、第2回転体14の回転に伴い移動する第2グリッパ32に対し、第2回転体14の径方向D1の外側から内側に向けて電子線を照射する。
The gripper irradiation unit 43 (FIG. 1) irradiates the second gripper 32, which is not gripping the container 2, with an electron beam.
The range from the transfer point P3 to the transfer point P2 in the circumferential direction of the second rotating body 14 corresponds to the range in which the empty second gripper 32 that does not grip the container 2 moves. The gripper irradiation unit 43 selects an appropriate position within this range and is arranged in the vicinity of the trajectory of the second gripper 32 . The gripper irradiation unit 43 irradiates the second gripper 32 moving along with the rotation of the second rotor 14 with an electron beam from the outside to the inside in the radial direction D1 of the second rotor 14 .

第1照射部41、第2照射部42、およびグリッパ照射部43には、300keV以下の電子線を放射する低エネルギータイプであって、面内において均一なエネルギー量の電子線を窓から出射可能な電子線放出装置を好ましく用いることができる。低エネルギータイプを採用すると、容器2による電子線の吸収が小さいため、容器2の除電が必ずしも必要ない。 The first irradiation unit 41, the second irradiation unit 42, and the gripper irradiation unit 43 are of a low-energy type that emits electron beams of 300 keV or less, and can emit electron beams with a uniform energy amount in the plane through the windows. electron beam emitting device can be preferably used. When the low-energy type is used, the container 2 does not necessarily need to be statically eliminated because the absorption of the electron beam by the container 2 is small.

図4を参照し、第1照射部41、第2照射部42、およびグリッパ照射部43に採用可能な低エネルギーでかつ面照射タイプの電子線照射装置40の一例を説明する。
電子線照射装置40は、電子線を発生する電子銃を内蔵する電子加速部401と、電圧印加により電子線を加速させて出射する矩形状の出射窓402と、電子加速部401から出射窓402に対応する平面状の領域まで電子線を拡げながら輸送する電子輸送部403と、図示しない高電圧電源および制御部とを備えている。
電子線照射装置40では、電子銃から発せられた電子ビームのエネルギーの一部がX線に変換される。そのため、電子線照射装置40は、X線を遮蔽するための筐体に収容されている。X線を遮蔽する筐体は、チャンバ17の殺菌区画102であってもよい。
An example of a low-energy surface irradiation type electron beam irradiation apparatus 40 that can be employed in the first irradiation section 41, the second irradiation section 42, and the gripper irradiation section 43 will be described with reference to FIG.
The electron beam irradiation device 40 includes an electron acceleration unit 401 containing an electron gun that generates an electron beam, a rectangular exit window 402 that accelerates and emits the electron beam by applying voltage, and an exit window 402 from the electron acceleration unit 401. An electron transporting portion 403 that spreads and transports an electron beam up to a planar region corresponding to , and a high-voltage power source and control portion (not shown).
In the electron beam irradiation device 40, part of the energy of the electron beam emitted from the electron gun is converted into X-rays. Therefore, the electron beam irradiation device 40 is housed in a housing for shielding X-rays. The X-ray shielding enclosure may be the sterile compartment 102 of the chamber 17 .

出射窓402からは、長手方向にほぼ均一なエネルギーの電子線が出射される。電子線照射装置40は、出射窓402の長手方向を鉛直方向と一致させて、容器2の搬送路100の近傍に設置されている。出射窓402から出射された電子線は、基本的には出射窓402に対して直交する方向(出射方向D2)へ進行しつつも、大気中の空気分子と衝突しながら散乱され、出射窓402の領域の前方に拡がりながら、出射窓402の前方を通過する容器2、および容器2を把持するグリッパ3へと照射される。
電子線に散乱する成分が存在することで、電子線は、出射方向D2に対して交差する容器2やグリッパ3の部位のみならず、出射方向D2に対して平行な物体の部位(例えば底部24やグリッパ3の表面および裏面)にも入射可能である。
また、首部21とグリッパ3との間の隙間に入射した電子線が、胴部23の上部への反射により、フランジ21B,21Cの裏側にも入射可能である。
An electron beam with substantially uniform energy is emitted from the emission window 402 in the longitudinal direction. The electron beam irradiation device 40 is installed near the conveying path 100 of the container 2 with the longitudinal direction of the emission window 402 aligned with the vertical direction. The electron beam emitted from the emission window 402 basically travels in a direction perpendicular to the emission window 402 (the emission direction D2), and is scattered while colliding with air molecules in the atmosphere. While spreading forward in the area of , the container 2 passing in front of the exit window 402 and the gripper 3 gripping the container 2 are irradiated.
Due to the presence of scattered components in the electron beam, the electron beam is not only scattered in the parts of the container 2 and the gripper 3 intersecting the emission direction D2, but also in the parts of the object parallel to the emission direction D2 (for example, the bottom part 24). and the front and rear surfaces of the gripper 3).
In addition, the electron beam that has entered the gap between the neck 21 and the gripper 3 can also enter the rear sides of the flanges 21B and 21C by being reflected to the upper part of the body 23 .

第1照射部41、第2照射部42、およびグリッパ照射部43がそれぞれ「径方向D1の外側から内側に向けて電子線を照射する」ことは、電子線の照射方向を厳密に意味するものではない。上述のように電子線が散乱することも考慮し、回転体の径方向D1にほぼ沿う方向に、第1照射部41、第2照射部42、およびグリッパ照射部43からそれぞれ電子線が照射されていれば足りる。 The fact that the first irradiation unit 41, the second irradiation unit 42, and the gripper irradiation unit 43 each "irradiate the electron beams from the outside toward the inside in the radial direction D1" strictly means the irradiation direction of the electron beams. isn't it. Considering the electron beam scattering as described above, electron beams are emitted from the first irradiation unit 41, the second irradiation unit 42, and the gripper irradiation unit 43 in a direction substantially along the radial direction D1 of the rotor. It's enough.

容器2およびグリッパ3へと電子線を十分に、かつ容器2の軸線やグリッパ3に対して対称に照射するために、出射窓402からの電子線が照射される範囲に容器2およびグリッパ3の全体を収めつつ、搬送路100の法線が出射窓402に対して直交するように電子線照射装置40が配置されることが好ましい。 In order to irradiate the container 2 and the gripper 3 with the electron beam sufficiently and symmetrically with respect to the axis of the container 2 and the gripper 3, the container 2 and the gripper 3 are positioned within the range where the electron beam from the exit window 402 is irradiated. It is preferable that the electron beam irradiation device 40 is arranged so that the normal line of the transport path 100 is orthogonal to the exit window 402 while accommodating the whole.

図4に示すように、第1グリッパ31により把持された状態で搬送される容器2が、第1照射部41を通過する間に、容器2の外周部において、第1回転体13の径方向D1外側を向いている約1/2周の領域に電子線が直接的に照射される。容器2の外周部の残りの領域には電子線は照射されない。その後、受け渡し箇所P2で第1グリッパ31から第2グリッパ32へと容器2が持ち替えられる。このとき、グリッパ照射部43により既に殺菌されている第2グリッパ32へと容器2が持ち替えられるので、容器2の首部21における殺菌済の領域は、第2グリッパ32が接触した後も、無菌状態に維持される。 As shown in FIG. 4 , while the container 2 conveyed while being gripped by the first gripper 31 passes through the first irradiation unit 41 , the outer peripheral portion of the container 2 moves in the radial direction of the first rotating body 13 . The electron beam is directly irradiated to about 1/2 circumference area facing D1 outward. The remaining area of the outer periphery of the container 2 is not irradiated with the electron beam. Thereafter, the container 2 is changed from the first gripper 31 to the second gripper 32 at the transfer point P2. At this time, since the container 2 is transferred to the second gripper 32 already sterilized by the gripper irradiation unit 43, the sterilized region of the neck 21 of the container 2 remains sterile even after the second gripper 32 comes into contact with it. maintained at

第2グリッパ32への持ち替え後、容器2は、第2回転体14の回転に伴い第2照射部42に向けて移動する。このとき、容器2の外周部における残りの領域が第2回転体14の径方向D1の外側に向いている。つまり、第1グリッパ31により把持されている間は電子線に対して隠れていた容器2の部分は、第2グリッパ32に把持されている間は電子線に対して露出する。そして、図4に示すように、第2グリッパ32により把持された状態で搬送される容器2が第2照射部42を通過する間に、容器2の外周部において電子線が未照射である約1/2周の領域に電子線が直接的に照射される。
以上によれば、第1グリッパ31から第2グリッパ32への受け渡しに先行して第2グリッパ32を殺菌しつつ、第1グリッパ31により把持された状態の容器2の殺菌と、第2グリッパ32に把持された状態の容器2の殺菌とを順次実施することにより、首部21、胴部23、および底部24を含めた容器2の外周部の全域に亘り十分に無菌化することができる。
After switching to the second gripper 32 , the container 2 moves toward the second irradiation section 42 as the second rotor 14 rotates. At this time, the remaining area of the outer peripheral portion of the container 2 faces outward in the radial direction D1 of the second rotor 14 . That is, the portion of the container 2 hidden from the electron beam while being gripped by the first gripper 31 is exposed to the electron beam while being gripped by the second gripper 32 . Then, as shown in FIG. 4, while the container 2 conveyed while being gripped by the second gripper 32 passes through the second irradiation section 42, the outer peripheral portion of the container 2, which is not irradiated with the electron beam, is approximately An electron beam is directly irradiated to the area of 1/2 circumference.
According to the above, while the second gripper 32 is sterilized prior to the transfer from the first gripper 31 to the second gripper 32, the container 2 in the state gripped by the first gripper 31 is sterilized and the second gripper 32 is sterilized. By sequentially sterilizing the container 2 in the gripped state, the entire outer peripheral portion of the container 2 including the neck portion 21, the body portion 23, and the bottom portion 24 can be sufficiently sterilized.

(グリッパ)
図2~図5にグリッパ3の一例を示すように、グリッパ3は、板状の基体30と、基体30に対して直交する軸301,302を中心にそれぞれ回転可能に設けられる一対の爪3A,3Bとを備えており、取付具35により第1回転体13や第2回転体14に取り付けられている。
基体30および爪3A,3Bは、ステンレス鋼等の金属材料を用いて形成することができる。
各グリッパ3は、それぞれの軸線3Xに対して対称に配置されている。軸線3Xの方向は、各グリッパ3がそれぞれ設けられる回転体の径方向D1に相当する。
(gripper)
As an example of the gripper 3 is shown in FIGS. 2 to 5, the gripper 3 includes a plate-shaped base 30 and a pair of claws 3A provided rotatably around axes 301 and 302 orthogonal to the base 30, respectively. , 3B, and are attached to the first rotating body 13 and the second rotating body 14 by means of fixtures 35 .
Base 30 and claws 3A and 3B can be formed using a metal material such as stainless steel.
Each gripper 3 is arranged symmetrically with respect to each axis 3X. The direction of the axis 3X corresponds to the radial direction D1 of the rotor on which each gripper 3 is provided.

一対の爪3A,3Bは、容器2の首部21を間に受け入れ、両側から閉じて首部21を挟む。爪3A,3Bは、基体30に設けられたカムローラ304により、基体30に設けられたコイルばね303の弾性力に抗して両側に開かれる。図2に両矢印で示すように、爪3A,3Bは、軸線3Xに対して対称に離間する。
容器2の受け渡しに際して離間させた爪3A,3Bの間に容器2の首部21が配置されると、コイルばね303の弾性力により爪3A,3Bが両側から閉じられることで、爪3A,3Bの間に首部21が把持される。
なお、グリッパ3は、口部22を上方に向けた正立の姿勢の容器2の首部21を把持することも、逆向きに倒立した姿勢の容器2の首部21を把持することもできる。
The pair of claws 3A and 3B receive the neck 21 of the container 2 therebetween and are closed from both sides to sandwich the neck 21.例文帳に追加The claws 3A and 3B are opened to both sides by a cam roller 304 provided on the base 30 against the elastic force of a coil spring 303 provided on the base 30 . As indicated by double arrows in FIG. 2, the claws 3A and 3B are symmetrically spaced apart with respect to the axis 3X.
When the neck portion 21 of the container 2 is placed between the claws 3A and 3B that are spaced apart when the container 2 is delivered, the claws 3A and 3B are closed from both sides by the elastic force of the coil spring 303, so that the claws 3A and 3B are closed. A neck 21 is gripped therebetween.
The gripper 3 can grip the neck portion 21 of the container 2 in an upright posture with the mouth portion 22 directed upward, or grip the neck portion 21 of the container 2 in an inverted posture.

爪3A,3Bの間に把持された首部21は、グリッパ3に備わる3箇所の部位311~313により支持される。部位311~313は、首部21の周長の1/2以上の長さに亘り分布している。これらの部位311~313により、容器2は搬送中でも安定して支持される。
部位313は、爪3A,3Bがなす凹部305の内側で首部21を支持する中間支持部313に相当する。
部位311,312は、一対の爪3A,3Bのそれぞれの先端側に形成された支持突起311,312に相当する。支持突起311は爪3Bに向けて突出し、支持突起312は爪3Aに向けて突出している。
The neck portion 21 gripped between the claws 3A and 3B is supported by three portions 311-313 provided on the gripper 3. As shown in FIG. The parts 311 to 313 are distributed over a length of 1/2 or more of the circumference of the neck 21 . These parts 311 to 313 stably support the container 2 during transportation.
A portion 313 corresponds to an intermediate support portion 313 that supports the neck portion 21 inside the recess 305 formed by the claws 3A and 3B.
The portions 311 and 312 correspond to support projections 311 and 312 formed on the tip sides of the pair of claws 3A and 3B, respectively. The support projection 311 projects toward the claw 3B, and the support projection 312 projects toward the claw 3A.

爪3Aと首部21との間には、支持突起311から中間支持部313までの範囲に亘り隙間321が形成される。爪3Bと首部21との間には、支持突起312から中間支持部313までの範囲に亘り隙間322が形成される。これらの隙間321,322を通じて、第1照射部41または第2照射部42から出射された電子線を爪3A,3Bの裏側に隠れている容器2の部位に到達させることができる。
隙間321,322に加えて、爪3A,3Bをそれぞれ厚さ方向に貫通する貫通孔306を例えば二点鎖線で示す位置に形成することによっても、その貫通孔306を通じて爪3A,3Bの裏側に電子線を到達させることができる。
A gap 321 is formed between the claw 3A and the neck portion 21 over the range from the support projection 311 to the intermediate support portion 313 . A gap 322 is formed between the claw 3B and the neck portion 21 over the range from the support projection 312 to the intermediate support portion 313 . Through these gaps 321 and 322, the electron beam emitted from the first irradiation section 41 or the second irradiation section 42 can reach the portion of the container 2 hidden behind the claws 3A and 3B.
In addition to the gaps 321 and 322, by forming through holes 306 that pass through the claws 3A and 3B in the thickness direction, for example, at positions indicated by two-dot chain lines, through the through holes 306, the back side of the claws 3A and 3B can be provided. can be reached by electron beams.

一対の爪3A,3Bは、首部21に接触または近接する把持領域R1を含んでいる。図2~図5に示す例における把持領域R1は、一対の爪3A,3Bにおいて、支持突起311,312および中間支持部313を含む内壁310(図5)の全体に相当する。グリッパ3により容器2が把持されているならば、支持突起311,312および中間支持部313のそれぞれの先端は、首部21に接触する。このとき、支持突起311の先端と中間支持部313の先端との間は、隙間321を介して首部21に近接する。同様に、支持突起312の先端と中間支持部313の先端との間も、隙間322を介して首部21と近接する。
「把持領域」は、グリッパの一対の爪において首部に接触する部分、および隙間を介して首部に近接する部分の双方を包含するものとする。
A pair of claws 3A, 3B includes a gripping region R1 that contacts or is adjacent to the neck 21. As shown in FIG. The grip region R1 in the examples shown in FIGS. 2 to 5 corresponds to the entire inner wall 310 (FIG. 5) including the support protrusions 311 and 312 and the intermediate support portion 313 in the pair of claws 3A and 3B. When the container 2 is gripped by the gripper 3 , the tips of the support projections 311 and 312 and the intermediate support portion 313 come into contact with the neck portion 21 . At this time, the tip of the support projection 311 and the tip of the intermediate support portion 313 come close to the neck 21 via a gap 321 . Similarly, the tip of the support projection 312 and the tip of the intermediate support portion 313 also come close to the neck 21 via a gap 322 .
The "gripping area" includes both a portion of the pair of claws of the gripper that contacts the neck and a portion that is close to the neck through a gap.

第1グリッパ31と第2グリッパ32とは、図1に示すように、受け渡し箇所P2において容器2を挟んで互いに対向する。このとき第1グリッパ31と第2グリッパ32とのそれぞれの軸線3Xは、同一直線上に位置している。 As shown in FIG. 1, the first gripper 31 and the second gripper 32 face each other across the container 2 at the delivery point P2. At this time, the axes 3X of the first gripper 31 and the second gripper 32 are positioned on the same straight line.

容器2を受け渡す際に第1グリッパ31と第2グリッパ32とが干渉しないように、図3に示す如く、第1グリッパ31の爪3A,3Bの先端側331と、第2グリッパ32の爪3A,3Bの先端側332とは、首部21の高さ方向における位置が異なっている。
一例として、第1グリッパ31の爪3A,3Bは、首部21のフランジ21Cの下側に配置されてフランジ21Cを支持する。第2グリッパ32の爪3A,3Bは、首部21のフランジ21Bとフランジ21Cとの間に配置されて上側のフランジ21Bを支持する。
To prevent the first gripper 31 and the second gripper 32 from interfering when the container 2 is transferred, as shown in FIG. The position in the height direction of the neck portion 21 is different from the tip side 332 of 3A and 3B.
As an example, the claws 3A, 3B of the first gripper 31 are arranged below the flange 21C of the neck 21 to support the flange 21C. The claws 3A, 3B of the second gripper 32 are arranged between the flanges 21B and 21C of the neck 21 to support the upper flange 21B.

(電子線を用いた殺菌作用)
さて、図5は、容器2を把持していない状態の第2グリッパ32に対して、グリッパ照射部43により出射された電子線EB1,EB2を模式的に示している。
図5に示す状態では、電子線EB1,EB2に対して第2グリッパ32が正対している。「正対」は、一対の爪3A,3Bの対称の軸線3Xと、グリッパ照射部43からの電子線の出射方向とが平行または略平行である状態を言うものとする。
グリッパ照射部43から、図5に示すように第2グリッパ32の軸線3Xに沿って、爪3Aの先端に向けて出射された電子線EB1は、電子線EB1に対して影となる支持突起311の裏側(斜線で示す)には、直接的に照射されない。また、散乱等により間接的にも照射され難い。爪3Bの先端に向かう電子線EB2に対して影となる支持突起312の裏側も同様である。
以上より、支持突起311,312には、グリッパ照射部43が出射する電子線に対する第2グリッパ32の正対時に、電子線が支持突起311,312に遮られて影となる部位が存在する。こうした影となる部位が、第2グリッパ32の把持領域R1に含まれる。影となる部位は、例えば、図5および図6において斜線を付して示した部位に相当する。
本実施形態では、第2回転体14の回転に伴い移動する第2グリッパ32に対してグリッパ照射部43により電子線を照射することで、正対時に影となる部位を含め、第2グリッパ32の爪3A,3Bにおける少なくとも把持領域R1の全体に亘り電子線を入射させる。
(Bactericidal action using electron beam)
Now, FIG. 5 schematically shows electron beams EB1 and EB2 emitted by the gripper irradiation unit 43 with respect to the second gripper 32 in a state in which the container 2 is not gripped.
In the state shown in FIG. 5, the second gripper 32 faces the electron beams EB1 and EB2. "Directly facing" refers to a state in which the symmetrical axis 3X of the pair of claws 3A and 3B and the electron beam emission direction from the gripper irradiation section 43 are parallel or substantially parallel.
The electron beam EB1 emitted from the gripper irradiation unit 43 toward the tip of the claw 3A along the axis 3X of the second gripper 32 as shown in FIG. The backside of the (hatched) is not directly illuminated. In addition, it is difficult to be irradiated indirectly due to scattering or the like. The same applies to the back side of the support projection 312, which is a shadow with respect to the electron beam EB2 directed toward the tip of the claw 3B.
As described above, the support protrusions 311 and 312 have a shadow portion where the electron beam is blocked by the support protrusions 311 and 312 when the second gripper 32 faces the electron beam emitted from the gripper irradiation unit 43 . Such a shadowed portion is included in the gripping region R1 of the second gripper 32 . The shaded portions correspond to, for example, the shaded portions in FIGS. 5 and 6 .
In this embodiment, the gripper irradiation unit 43 irradiates the second gripper 32, which moves along with the rotation of the second rotating body 14, with an electron beam. The electron beam is incident on at least the entire gripping region R1 of the claws 3A and 3B.

図6に示すように、第2グリッパ32は、第2回転体14の回転に伴い、第2回転体14の軸周り方向へ、矢印で示す電子線に対して相対変位する。そのため、正対時に影となる、支持突起311,312の裏側にも電子線が直接的に照射される。電子線が直接的に照射されることで、十分な殺菌効果を得ることができる。 As shown in FIG. 6, the second gripper 32 is displaced relative to the electron beam indicated by the arrow in the direction around the axis of the second rotor 14 as the second rotor 14 rotates. Therefore, the back side of the support projections 311 and 312, which are shadowed when facing each other, is also directly irradiated with the electron beam. A sufficient sterilization effect can be obtained by directly irradiating the electron beam.

図6は、同一の第2グリッパ32が第2回転体14の回転に伴い、電子線に対して漸次に相対変位する様子を示している。
電子線に対する第2グリッパ32の正対時(図5)のみならず、第2グリッパ32の電子線に対する所定の位相範囲に亘り、把持領域R1において、影となる部位(例えば、支持突起311,312の裏側)が存在する。図6に示すように、ある位相で影となる部位には、影とはならない位相のときに電子線が直接的に照射される。
図6に示す各状態S1~S4を順に説明すると、先ず、状態S1の如く、第2グリッパ32において爪3Bの支持突起312の裏側を含む領域に電子線EB3,EB4が入射する。このとき支持突起312の裏側に電子線EB3が入射する。なお、上述した電子線の散乱により、爪3A,3Bの表面3Sおよび裏面にも電子線が入射する。
FIG. 6 shows how the same second gripper 32 is gradually displaced relative to the electron beam as the second rotor 14 rotates.
Not only when the second gripper 32 is directly facing the electron beam (FIG. 5), but also over a predetermined phase range of the second gripper 32 with respect to the electron beam, the shadowed portions (for example, the support projections 311, 312) exists. As shown in FIG. 6, an electron beam is directly irradiated to a portion which is shadowed at a certain phase when the phase is not shadowed.
The states S1 to S4 shown in FIG. 6 will be described in order. First, as in state S1, the electron beams EB3 and EB4 are incident on the area including the back side of the support projection 312 of the claw 3B in the second gripper 32. As shown in FIG. At this time, the electron beam EB3 is incident on the back side of the support projection 312. As shown in FIG. Due to the electron beam scattering described above, the electron beams also enter the front surface 3S and the back surface of the claws 3A and 3B.

次に、状態S2の如く、爪3Bの先端近傍であって、凹部305の外側に電子線EB5が入射する。このとき凹部305の内壁における電子線EB6よりも左側の領域には電子線が直接的には照射されない。但し、電子線の散乱等により、間接的には照射され得る。
続いて、状態S3の如く、第2グリッパ32の軸線(状態S3における一点鎖線)の方向と電子線EB7の出射方向とが平行であるときは、中間支持部313を含め、凹部305の内壁の大部分の領域に電子線が入射する。
さらに、状態S4の如く、爪3Aの支持突起311の裏側を含む領域に電子線EB8,EB9が入射する。爪3Aの支持突起311の裏側には電子線EB8が入射する。
Next, as in state S2, the electron beam EB5 is incident on the outside of the concave portion 305 near the tip of the claw 3B. At this time, the electron beam does not directly irradiate the area on the inner wall of the recess 305 to the left of the electron beam EB6. However, it may be irradiated indirectly due to electron beam scattering or the like.
Subsequently, as in state S3, when the direction of the axis of the second gripper 32 (chain line in state S3) is parallel to the emission direction of the electron beam EB7, the inner wall of the recess 305 including the intermediate support 313 The electron beam is incident on most of the area.
Furthermore, as in the state S4, the electron beams EB8 and EB9 are incident on the area including the back side of the support projection 311 of the nail 3A. An electron beam EB8 is incident on the back side of the support projection 311 of the nail 3A.

以上のように、移動する第2グリッパ32に対してグリッパ照射部43から電子線が照射されることにより、第2グリッパ32における電子線の照射範囲が変わるので、第2グリッパ32の少なくとも正対時に影となる部位を含む、把持領域R1の全体に亘り電子線を直接的に照射することができる。その結果、爪3A,3Bの表面3S、裏面、凹部305の内壁および外側を含む全体に亘り十分に殺菌することができる。 As described above, the irradiation range of the electron beam on the second gripper 32 is changed by irradiating the moving second gripper 32 with the electron beam from the gripper irradiation unit 43 . It is possible to directly irradiate the electron beam over the entire gripping region R1, including the part that is sometimes shaded. As a result, it is possible to sufficiently sterilize the entire surface including the front surface 3S and rear surface of the claws 3A and 3B, the inner wall of the concave portion 305, and the outer surface.

電子線の照射による第2グリッパ32の殺菌効果を高めるため、爪3A,3Bが半開あるいは全開の状態の第2グリッパ32に対してグリッパ照射部43から電子線を照射するようにすることもできる。爪3A,3Bを開くことで、第2回転体14の周方向における爪3A,3Bの寸法が増大する。そのため、一対の爪3A,3Bが完全に閉じている状態の第2グリッパ32に対して電子線を照射する場合に対し、同一の周速下において、グリッパ照射部43から爪3A,3Bの内側に電子線が照射される時間をより長く確保して殺菌効果を向上させることが可能となる。 In order to enhance the sterilization effect of the second gripper 32 by electron beam irradiation, it is also possible to irradiate the second gripper 32 with the claws 3A and 3B half-opened or fully-opened with the electron beam from the gripper irradiation unit 43. . By opening the claws 3A and 3B, the dimensions of the claws 3A and 3B in the circumferential direction of the second rotor 14 are increased. Therefore, in the case of irradiating the second gripper 32 with the pair of claws 3A and 3B in a completely closed state, under the same peripheral speed, the electron beams from the gripper irradiation part 43 to the inside of the claws 3A and 3B It is possible to improve the sterilization effect by securing a longer period of time during which the electron beam is irradiated to the surface.

爪3A,3Bが開いた状態の第2グリッパ32に対して電子線を照射する場合は、制御部によるカムローラ304の制御の下、グリッパ照射部43よりも手前から爪3A,3Bを開く動作を開始し、グリッパ照射部43を第2グリッパ32が通過する間に亘り、爪3A,3Bが開いた状態を維持することが好ましい。第2グリッパ32がグリッパ照射部43を通過した後も、受け取り箇所P2で第1グリッパ31から容器2を受け取るまでの間は爪3A,3Bが開いた状態を維持すればよい。 When the second gripper 32 with the claws 3A and 3B open is irradiated with the electron beam, the claws 3A and 3B are opened from before the gripper irradiation unit 43 under the control of the cam roller 304 by the control unit. It is preferable to maintain the opened state of the claws 3A and 3B while the second gripper 32 passes through the gripper irradiation section 43 from the beginning. Even after the second gripper 32 passes through the gripper irradiation section 43, the claws 3A and 3B may be kept open until the container 2 is received from the first gripper 31 at the receiving point P2.

以上で説明した本実施形態によれば、第1回転体13の第1グリッパ31から第2回転体14の第2グリッパ32へ容器2を持ち替える前後において、第1照射部41により容器2の殺菌を実施し(第1照射ステップ)、かつ第2照射部42により容器2の殺菌を実施する(第2照射ステップ)とともに、受け取り箇所P2における容器2の受け渡しに先行して、容器2を把持していない状態の第2グリッパ32の殺菌をグリッパ照射部43により実施する(グリッパ照射ステップ)。そうすることで、第1照射部41により既に殺菌済みの容器2の領域が第2グリッパ32により汚染されることなく、容器2の外周部全域に亘る殺菌を確実ならしめることができる。
電子線を用いる殺菌方法は、薬剤を用いる殺菌方法と比べて、導入コストおよび運用コスト共に安価であるため、容器2入り製品の製造コストの低減に寄与できる。
According to the present embodiment described above, before and after holding the container 2 from the first gripper 31 of the first rotating body 13 to the second gripper 32 of the second rotating body 14, the first irradiation unit 41 sterilizes the container 2. (first irradiation step), sterilize the container 2 by the second irradiation unit 42 (second irradiation step), and grasp the container 2 prior to delivery of the container 2 at the receiving point P2. The gripper irradiation unit 43 sterilizes the second gripper 32 that is not in the state (gripper irradiation step). By doing so, the area of the container 2 that has already been sterilized by the first irradiation unit 41 is not contaminated by the second gripper 32, and the sterilization of the entire outer peripheral portion of the container 2 can be ensured.
The sterilization method using an electron beam is cheaper than the sterilization method using a chemical agent in terms of introduction cost and operation cost, so it can contribute to the reduction of the manufacturing cost of the product in the container 2 .

グリッパ照射部43から第2グリッパ32に対して電子線が照射される時間をより長く確保する観点から、グリッパ照射部43の出射窓402は、第2グリッパ32の幅に対して第2回転体14の周方向に十分に広いことが好ましい。この観点からは、図4に示す電子線照射装置40の向きとは異なり、出射窓402の短手方向が鉛直方向と一致する向きに、グリッパ照射部43の電子線照射装置40が配置されることが好ましい。 From the viewpoint of securing a longer time for the second gripper 32 to be irradiated with the electron beam from the gripper irradiation unit 43 , the exit window 402 of the gripper irradiation unit 43 is set to the width of the second gripper 32 by the second rotation body 14 is preferably sufficiently wide in the circumferential direction. From this point of view, unlike the orientation of the electron beam irradiation device 40 shown in FIG. 4, the electron beam irradiation device 40 of the gripper irradiation section 43 is arranged in a direction in which the short direction of the exit window 402 coincides with the vertical direction. is preferred.

上述したように、第2グリッパ32への電子線の照射時に第2グリッパ32の爪3A,3Bを開くことに代えて、あるいはそれと並行して、図7に示すように、第2グリッパ32を第2回転体14の回転方向の前方r+および後方r-の少なくとも一方に向けて揺動させることもできる。なお、図7では、第2グリッパ32の爪3A,3Bの内壁のみを模式的に示している。
第2グリッパ32の揺動によれば、第2回転体14の同一の周速下において、上述した影となる部位に電子線が照射される時間をより長く確保して、第2グリッパ32の殺菌効果を高めることができる。この場合、第2グリッパ32において少なくとも、爪3A,3Bを支持する部分(図2~図5の例で言えば基体30)が、例えば、第2回転体14の回転軸の方向に沿った図示しない所定の軸の周りに揺動可能に構成されていることが好ましい。当該軸は、爪3A,3Bの軸301,302(図2)とは別に設定される。当該軸の周りに、第2グリッパ32が、爪3A,3Bの軸線3Xの方向が第2回転体14の径方向に一致する状態を基準として、第2回転体14の周方向の両側に揺動可能に構成されていることが好ましい。なお、カム等を用いて、当該軸に対して非対称に第2グリッパ32が揺動可能に構成されていてもよい。
As described above, instead of opening the claws 3A and 3B of the second gripper 32 when the second gripper 32 is irradiated with the electron beam, or in parallel with this, the second gripper 32 is opened as shown in FIG. It is also possible to swing the second rotating body 14 toward at least one of the forward r+ and rearward r− directions of rotation. 7 schematically shows only the inner walls of the claws 3A and 3B of the second gripper 32. As shown in FIG.
According to the oscillation of the second gripper 32, under the same peripheral speed of the second rotating body 14, the above-described shadowed portion is irradiated with the electron beam for a longer time, and the second gripper 32 is moved. It can enhance the bactericidal effect. In this case, at least the portion of the second gripper 32 that supports the claws 3A and 3B (the base 30 in the example of FIGS. It is preferably configured to be swingable around a predetermined axis. The axes are set separately from the axes 301, 302 (FIG. 2) of the claws 3A, 3B. Around this axis, the second gripper 32 swings to both sides in the circumferential direction of the second rotating body 14 with the direction of the axis 3X of the claws 3A and 3B matching the radial direction of the second rotating body 14 as a reference. It is preferably configured to be movable. Note that the second gripper 32 may be configured to swing asymmetrically with respect to the axis using a cam or the like.

第2グリッパ32を揺動させながら電子線を照射する場合は、制御部による制御の下、例えば図7に示すように、電子線に対する正対時の位置P0に第2グリッパ32が近接するように移動する間(図8の状態S1-1および状態S2-1)には、第2グリッパ32を第2回転体14の回転方向の後方r-に向けて揺動させる。また、第2グリッパ32が、正対時の位置P0を超えた後(図8の状態S4-1)は、位置P0から遠ざかる第2グリッパ32を前方r+に向けて揺動させる。
第2グリッパ32を揺動させることにより、特に状態S1-1および状態S4-1に示すように、少なくとも正対時に影となる部位が電子線に対して露出する時間を長く確保できるので、殺菌効果の向上に寄与できる。
When irradiating the electron beam while swinging the second gripper 32, under the control of the control unit, the second gripper 32 is brought closer to the position P0 when directly facing the electron beam, as shown in FIG. 8 (states S1-1 and S2-1 in FIG. 8), the second gripper 32 is swung rearward r- in the direction of rotation of the second rotor 14 . Further, after the second gripper 32 has passed the position P0 when facing directly (state S4-1 in FIG. 8), the second gripper 32 moving away from the position P0 is swung forward r+.
By swinging the second gripper 32, as shown in states S1-1 and S4-1 in particular, it is possible to ensure a longer exposure time of the shadowed portion to the electron beam at least when the user is facing forward. It can contribute to the improvement of the effect.

上述したグリッパ3の構成は一例であり、グリッパ3の爪3A,3Bが必ずしも支持突起311,312や中間支持部313を備えている必要はない。支持突起311,312等を備えていない爪3A,3Bの平滑に形成された内壁の全体に亘り、首部21に接触または近接する把持領域が設定されていてもよい。こうした把持領域が設定された第2グリッパに対しても、第2回転体14の回転に伴い移動させつつ、上述した把持領域R1が設定された第2グリッパ32と同様に、第2グリッパの少なくとも正対時には影となる部位を含め、把持領域の全体に亘り電子線を入射させることができる。 The configuration of the gripper 3 described above is merely an example, and the claws 3A and 3B of the gripper 3 do not necessarily have the support projections 311 and 312 and the intermediate support portion 313 . A gripping area that contacts or approaches the neck 21 may be set over the entire smoothly formed inner walls of the claws 3A and 3B that are not provided with the support projections 311 and 312 and the like. Similarly to the second gripper 32 having the above-described gripping area R1, while moving the second gripper having the gripping area set as described above with the rotation of the second rotor 14, at least the second gripper having the gripping area R1 is moved. The electron beam can be made incident on the entire grasping area, including the shadowed portion when facing the object.

電子線に代えて紫外線を照射することによっても、容器2および第2グリッパ32の殺菌が可能である。そのため、第1照射部41、第2照射部42、およびグリッパ照射部43の少なくとも一つを、紫外線を照射する構成に置き換えることができる。
また、以下で述べる第2実施形態の第1照射部41および第2照射部42の少なくとも一つを、紫外線を照射する構成に置き換えることもできる。
The container 2 and the second gripper 32 can also be sterilized by irradiating with ultraviolet light instead of the electron beam. Therefore, at least one of the first irradiation section 41, the second irradiation section 42, and the gripper irradiation section 43 can be replaced with a configuration for irradiating ultraviolet rays.
Moreover, at least one of the first irradiation section 41 and the second irradiation section 42 of the second embodiment described below can be replaced with a configuration for irradiating ultraviolet rays.

[第2実施形態]
次に、図9を参照し、本開示の第2実施形態に係る電子線殺菌装置50を説明する。
以下、第1実施形態と相違する事項を中心に説明する。第1実施形態と同様の構成要素には同じ符号を付している。
[Second embodiment]
Next, an electron beam sterilizer 50 according to a second embodiment of the present disclosure will be described with reference to FIG.
The following description focuses on matters that differ from the first embodiment. The same symbols are given to the same components as in the first embodiment.

電子線殺菌装置50は、第1グリッパ31が設けられた第1回転体13と、第2グリッパ32が設けられた第2回転体14と、第1グリッパ31に把持された状態の容器2に対し、第1回転体13の径方向外側から電子線を照射する第1照射部41と、第2グリッパ32に把持されている容器2に対し、第2回転体14の径方向外側から電子線を照射する第2照射部44とを備えている。 The electron beam sterilizer 50 includes a first rotating body 13 provided with a first gripper 31 , a second rotating body 14 provided with a second gripper 32 , and a container 2 gripped by the first gripper 31 . On the other hand, a first irradiation unit 41 that irradiates an electron beam from the radially outer side of the first rotating body 13 and an electron beam from the radially outer side of the second rotating body 14 to the container 2 gripped by the second gripper 32 . and a second irradiation unit 44 for irradiating.

図示しない搬送用回転体のグリッパから第1回転体13の第1グリッパ31へと導入された容器2は、第1回転体13および第2回転体14を搬送される間に外周部の殺菌が行われ、第3回転体15へと移送される。第3回転体15は、例えば、充填機の回転体に相当する。あるいは、第3回転体15を介して他の装置に容器2が転送される。 The container 2 introduced from the gripper of the conveying rotor (not shown) to the first gripper 31 of the first rotor 13 is sterilized at the outer periphery while being conveyed through the first rotor 13 and the second rotor 14 . and transferred to the third rotating body 15 . The third rotating body 15 corresponds to, for example, a rotating body of a filling machine. Alternatively, the container 2 is transferred to another device via the third rotor 15 .

第2実施形態では、以下に述べるように、第2照射部44により、第2グリッパ32に把持されている容器2に加えて、容器2を把持していない状態の第2グリッパ32に対しても電子線の照射を行い殺菌することが可能となる。 In the second embodiment, as described below, in addition to the container 2 being gripped by the second gripper 32 , the second irradiating unit 44 also emits light to the second gripper 32 that is not gripping the container 2 . can also be sterilized by electron beam irradiation.

第2実施形態では、奇数個(図9に示す例では7つ)の第2グリッパ32が第2回転体14の周方向に分布している。これら奇数個の第2グリッパ32に対し、1個おきに第1グリッパ31から容器2が渡される。図9において、第1グリッパ31および第2グリッパ32にはそれぞれ四角形で囲んだ番号が付されている。図9に示す例においては、第1回転体13の第1グリッパ31のピッチα、第2回転体14の第2グリッパ32の1個おきのピッチα、および第3回転体15のグリッパ3のピッチαはいずれも同一に設定されている。受け渡し箇所P2において、第1グリッパ31の周速と、第1グリッパ31から容器2を受け取る第2グリッパ32の周速とが同一であるから、容器2を容易に受け渡すことができる。受け渡し箇所P3においても同様であり、第2グリッパ32から第3回転体15のグリッパ3へと容器2を容易に受け渡すことができる。
いま、1番の第1グリッパ31により把持された容器2が、受け渡し箇所P2において1番の第2グリッパ32へ渡されるものとする。次は、2番の第1グリッパ31に把持された容器2が、2番の第2グリッパ32へと渡される。このとき、1番の第2グリッパ32と2番の第2グリッパ32との間の第2グリッパ32には、容器2は渡されないので、容器2が存在しない。
続いて、3番の第1グリッパ31が、第2グリッパ32を1つ飛ばして3番の第2グリッパ32へと渡され、その後も同様に繰り返される。
In the second embodiment, an odd number (seven in the example shown in FIG. 9) of second grippers 32 are distributed in the circumferential direction of the second rotor 14 . Every other second container 2 is delivered from the first gripper 31 to these odd-numbered second grippers 32 . In FIG. 9, the first gripper 31 and the second gripper 32 are each numbered with a square. In the example shown in FIG. 9, the pitch α of the first grippers 31 of the first rotating body 13, the alternate pitch α of the second grippers 32 of the second rotating body 14, and the pitch α of the grippers 3 of the third rotating body 15 All the pitches α are set to be the same. Since the circumferential speed of the first gripper 31 and the circumferential speed of the second gripper 32 that receives the container 2 from the first gripper 31 are the same at the transfer point P2, the container 2 can be easily transferred. The same is true at the transfer point P3, and the container 2 can be easily transferred from the second gripper 32 to the gripper 3 of the third rotating body 15. As shown in FIG.
Now, it is assumed that the container 2 gripped by the number 1 first gripper 31 is transferred to the number 1 second gripper 32 at the transfer point P2. Next, the container 2 gripped by the first gripper 31 numbered 2 is transferred to the second gripper 32 numbered 2 . At this time, since the container 2 is not passed to the second gripper 32 between the second gripper 32 numbered 1 and the second gripper 32 numbered 2, the container 2 does not exist.
Subsequently, the first gripper 31 numbered 3 is passed to the second gripper 32 numbered 3, skipping one second gripper 32, and so on.

第1実施形態と同様に、第1照射部41により、第1グリッパ3に把持された容器2の外周部の約1/2周に電子線が照射される(第1照射ステップ)。第1グリッパ31から第2グリッパ32へと容器2が持ち替えられた後、第2照射部44により、第2グリッパ32により把持された容器2の残りの約1/2周に電子線が照射される(第2照射ステップ)。 As in the first embodiment, the first irradiation unit 41 irradiates an electron beam to about 1/2 of the circumference of the container 2 gripped by the first gripper 3 (first irradiation step). After the container 2 is changed from the first gripper 31 to the second gripper 32, the second irradiation unit 44 irradiates the electron beam on the remaining approximately half of the circumference of the container 2 gripped by the second gripper 32. (second irradiation step).

ここで、図9に示すように、奇数個の第2グリッパ32の1個おきに容器2が把持されるため、第2照射部44は、第2グリッパ32に把持された状態の容器2と、容器2を把持していない状態の第2グリッパ32とに対して交互に電子線を照射する。
第2照射部44により外周部の殺菌を終えた容器2は、受け渡し箇所P3において第2グリッパ32から第3回転体15の第3グリッパ33へと渡される。それによって第2グリッパ32は、空の状態となり、受け渡し箇所P2へと戻る。
しかし、第2グリッパ32の数が奇数であって、1個おきに第1グリッパ31から第2グリッパ32へと容器2が渡されるから、受け渡し箇所P2へ戻った第2グリッパ32は、第1グリッパ31から容器2を受け取らずに、空の状態のまま、第2照射部44により電子線が照射される。
このとき、第1実施形態と同様に、第2回転体14の回転に伴い移動している第2グリッパ32に対して電子線が照射されるので、第1実施形態の説明と同様に、第2グリッパ32の把持領域R1の全体に亘り直接的に電子線を照射して十分に殺菌することができる。電子線の照射時に第2グリッパ32の爪3A,3Bを開いた状態としたり、第2グリッパ32を第2回転体14の回転方向の前方および後方に向けて揺動させたりすると、同一の周速下における電子線の照射時間を長く確保して殺菌効果を向上させることができる。
Here, as shown in FIG. 9 , since the container 2 is gripped by every second odd number of the second grippers 32 , the second irradiation unit 44 is positioned between the container 2 and the container 2 gripped by the second grippers 32 . , and the second gripper 32 not gripping the container 2 are alternately irradiated with the electron beam.
The container 2 whose outer periphery has been sterilized by the second irradiation unit 44 is transferred from the second gripper 32 to the third gripper 33 of the third rotor 15 at the transfer point P3. The second gripper 32 is thereby emptied and returned to the transfer point P2.
However, since the number of the second grippers 32 is an odd number and every other container 2 is transferred from the first gripper 31 to the second gripper 32, the second gripper 32 returning to the transfer point P2 Without receiving the container 2 from the gripper 31 , the second irradiation unit 44 irradiates the container 2 in an empty state with an electron beam.
At this time, as in the first embodiment, the second gripper 32, which is moving with the rotation of the second rotating body 14, is irradiated with the electron beam. 2. The entire gripping region R1 of the gripper 32 can be directly irradiated with an electron beam to sufficiently sterilize. When the claws 3A and 3B of the second gripper 32 are opened during electron beam irradiation, or when the second gripper 32 is swung forward and backward in the rotation direction of the second rotating body 14, the same circumference is obtained. It is possible to improve the sterilization effect by securing a long irradiation time of the electron beam under high speed.

第2照射部44により殺菌された第2グリッパ32は、容器2を把持していないため、第3回転体15の第3グリッパ33を単に通過し、無菌状態を維持しつつ、受け取り箇所P2にて第1グリッパ31から容器2を受け取る。この第2グリッパ32は、第3グリッパ33を単に通過しただけなので、第2照射部44により無菌化された状態が維持されている。したがって、第2グリッパ32により受け取られた容器2の外周部において電子線が未照射の領域に第2照射部44により電子線が照射されることで、容器2の外周部全域に亘る無菌化が完了する。 Since the second gripper 32 sterilized by the second irradiation unit 44 does not grip the container 2, it simply passes through the third gripper 33 of the third rotating body 15 and, while maintaining the sterile state, reaches the receiving point P2. receives the container 2 from the first gripper 31 . Since this second gripper 32 simply passes through the third gripper 33 , it is maintained in a sterilized state by the second irradiation section 44 . Therefore, the second irradiating unit 44 irradiates an area of the outer peripheral portion of the container 2 received by the second gripper 32 that has not been irradiated with the electron beam, so that the entire outer peripheral portion of the container 2 is sterilized. complete.

[第2実施形態の変形例]
図10に示す例では、第1回転体13の第1グリッパ31のピッチが可変である。第1グリッパ31は、アーム307の伸縮により第1回転体13の径方向に変位可能に構成されている。そのため、受け渡し箇所P2に向けて移動する第1グリッパ31のアーム307を伸長させて第1グリッパ31のピッチを拡大することにより、受け渡し箇所P2において、第2グリッパ32の1個おきのピッチαに対応する広いピッチを第1グリッパ31に与えつつ、アーム307の収縮により、第1グリッパ31を相対的に狭いピッチで並べることができる。そうすると、回転体を設置するためのスペースを節減できる上、第1~第3回転体13~15の上流から下流に亘るまでグリッパのピッチを狭く設定して単位時間あたりの容器移送数を増加させることが可能となるので、搬送能力の向上に寄与できる。
第3回転体15のグリッパ3のピッチも同様に、アーム307の伸縮により可変である。そのため、受け渡し箇所P3においても、第2グリッパ32の1個おきのピッチαに対応する広いピッチを第3回転体15のグリッパ3に与えつつ、第3回転体15の径の寸法を抑えながら、同一周速における容器2の受け渡しを実現可能となる。
[Modification of Second Embodiment]
In the example shown in FIG. 10, the pitch of the first gripper 31 of the first rotor 13 is variable. The first gripper 31 is configured to be displaceable in the radial direction of the first rotating body 13 by extension and contraction of the arm 307 . Therefore, by expanding the pitch of the first gripper 31 by extending the arm 307 of the first gripper 31 moving toward the transfer point P2, the pitch α of every other second gripper 32 is set at the transfer point P2. Contraction of the arm 307 allows the first grippers 31 to be aligned with a relatively narrow pitch, while providing the first grippers 31 with a correspondingly wide pitch. By doing so, the space for installing the rotating bodies can be saved, and the pitch of the grippers can be narrowed from upstream to downstream of the first to third rotating bodies 13 to 15 to increase the number of container transfers per unit time. Since it becomes possible, it can contribute to the improvement of the carrying capacity.
Similarly, the pitch of the gripper 3 of the third rotating body 15 is also variable by extension and contraction of the arm 307 . Therefore, at the delivery point P3 as well, while giving the grippers 3 of the third rotating body 15 a wide pitch corresponding to the alternate pitch α of the second grippers 32, while suppressing the diameter of the third rotating body 15, Delivery of the container 2 at the same peripheral speed can be realized.

第2実施形態によれば、第1実施形態のグリッパ照射部43を備えることなく、つまり電子線照射装置の台数を低減してコストを抑えながら、第1実施形態と同様に、容器2の外周部全域に亘り十分に殺菌することができる。 According to the second embodiment, the gripper irradiation unit 43 of the first embodiment is not provided. Sufficient sterilization can be achieved over the entire area.

上記以外にも、上記実施形態で挙げた構成を取捨選択したり、他の構成に適宜変更したりすることが可能である。 In addition to the above, it is possible to select the configurations mentioned in the above embodiments, or to change them to other configurations as appropriate.

1 無菌充填システム
2 容器
3 グリッパ
3A,3B 爪
3S 表面
3X 軸線
10,50 電子線殺菌装置
11 搬送用第1回転体
12 搬送用第2回転体
13 第1回転体
14 第2回転体
15 第3回転体
16 充填装置
17 チャンバ
21 首部
21B,21C フランジ
22 口部
23 胴部
24 底部
30 基体
31 第1グリッパ
32 第2グリッパ
33 第3グリッパ
35 取付具
40 電子線照射装置
41 第1照射部
42 第2照射部
43 グリッパ照射部
44 第2照射部
100 搬送路
100A,100B 区間
101 導入区画
102 殺菌区画
103 充填・密封区画
103A 回転体
301,302 軸
303 コイルばね
304 カムローラ
305 凹部
306 貫通孔
307 アーム
310 内壁
311,312 支持突起
313 中間支持部
321,322 隙間
331,332 先端側
401 電子加速部
402 出射窓
403 電子輸送部
D1 径方向
D2 出射方向
EB1~EB9 電子線
P1,P2,P3 受け渡し箇所
R1 把持領域
r+ 前方
r- 後方
S1~S4 状態
α ピッチ
1 Aseptic filling system 2 Container 3 Gripper 3A, 3B Claw 3S Surface 3X Axis 10, 50 Electron beam sterilizer 11 First rotary body for transfer 12 Second rotary body for transfer 13 First rotary body 14 Second rotary body 15 Third Rotating body 16 Filling device 17 Chamber 21 Neck 21B, 21C Flange 22 Mouth 23 Body 24 Bottom 30 Substrate 31 First gripper 32 Second gripper 33 Third gripper 35 Fixture 40 Electron beam irradiation device 41 First irradiation unit 42 Second 2 irradiation unit 43 gripper irradiation unit 44 second irradiation unit 100 conveying paths 100A, 100B section 101 introduction section 102 sterilization section 103 filling/sealing section 103A rotating bodies 301, 302 shaft 303 coil spring 304 cam roller 305 recess 306 through hole 307 arm 310 Inner walls 311, 312 Support projection 313 Intermediate support portions 321, 322 Gap 331, 332 Front end side 401 Electron acceleration portion 402 Emission window 403 Electron transport portion D1 Radial direction D2 Emission directions EB1 to EB9 Electron beams P1, P2, P3 Delivery point R1 Grip Region r+ Front r- Rear S1 to S4 State α Pitch

Claims (13)

容器を把持する第1グリッパが設けられた第1回転体と、
前記第1グリッパから前記容器を受け取る第2グリッパが設けられた第2回転体と、
前記第1グリッパに把持された状態の前記容器に対し、前記第1回転体の径方向の外側から内側に向けて電子線を照射する第1照射部と、
前記第2グリッパに把持された状態の前記容器に対し、前記第2回転体の径方向の外側から内側に向けて電子線を照射する第2照射部と、
前記容器を把持していない状態の前記第2グリッパに対し、前記第2回転体の径方向の外側から内側に向けて電子線を照射するグリッパ照射部と、を備え、
前記第1グリッパおよび前記第2グリッパはそれぞれ、
前記容器の首部を間に受け入れ、両側から閉じて前記首部を挟む一対の爪を含み、
前記一対の爪は、前記首部に接触または近接する把持領域を含み、
前記グリッパ照射部により前記第2回転体の径方向の外側から内側に向けて出射した電子線に対して前記第2グリッパが正対する位置を正対位置と呼ぶとき、
前記第2グリッパは、
前記正対位置に向けて近接する際における前記第2回転体の所定の中心角の範囲に亘り、前記第2回転体の回転方向の後方に向けて揺動し、かつ、前記正対位置から遠ざかる際における前記第2回転体の所定の中心角の範囲に亘り、前記第2回転体の回転方向の前方に向けて揺動するように構成され、
前記グリッパ照射部は、
前記第2回転体の回転に伴い移動する前記第2グリッパに対し、
少なくとも前記把持領域に亘り電子線を照射する、
電子線殺菌装置。
a first rotating body provided with a first gripper for gripping the container;
a second rotating body provided with a second gripper that receives the container from the first gripper;
a first irradiation unit that irradiates the container held by the first gripper with an electron beam from the outside to the inside in the radial direction of the first rotating body;
a second irradiation unit that irradiates the container held by the second gripper with an electron beam from the outside to the inside in the radial direction of the second rotating body;
a gripper irradiation unit that irradiates the second gripper, which is not gripping the container, with an electron beam from the outer side to the inner side in the radial direction of the second rotating body;
Each of said first gripper and said second gripper:
including a pair of claws that receive the neck of the container therebetween and close from both sides to sandwich the neck;
the pair of claws includes a gripping region that contacts or is adjacent to the neck;
When the position at which the second gripper directly faces the electron beam emitted from the gripper irradiator from the outside to the inside in the radial direction of the second rotating body is called the facing position,
The second gripper is
Over a range of a predetermined central angle of the second rotating body when approaching toward the directly facing position, the second rotating body swings rearward in the rotational direction and from the directly facing position. configured to swing forward in the direction of rotation of the second rotating body over a range of a predetermined central angle of the second rotating body when moving away,
The gripper irradiation unit is
For the second gripper that moves with the rotation of the second rotating body,
irradiating an electron beam over at least the gripping region;
Electron beam sterilizer.
前記第2グリッパの前記把持領域は、
前記グリッパ照射部により前記第2回転体の径方向の外側から内側に向けて出射した電子線に対して前記第2グリッパの少なくとも正対時には影となる部位を含む、
請求項1に記載の電子線殺菌装置。
The gripping area of the second gripper comprises:
including a portion that is shaded at least when the second gripper is directly facing the electron beam emitted from the gripper irradiation unit from the outside to the inside in the radial direction of the second rotating body,
The electron beam sterilizer according to claim 1.
前記第2グリッパの前記一対の爪は、それぞれの先端側に、
相手の前記爪に向けて突出して前記首部を支持する支持突起を備え、
前記支持突起には、
少なくとも前記正対時に電子線が前記支持突起に遮られて前記影となる部位が存在する、
請求項2に記載の電子線殺菌装置。
The pair of claws of the second gripper have, on their tip end sides,
A support projection that protrudes toward the claw of the other party and supports the neck,
The support protrusion includes:
At least at the time of facing the electron beam is blocked by the support projection, and there is a part that becomes the shadow.
The electron beam sterilizer according to claim 2.
前記第2グリッパは、
前記一対の爪がなす凹部の内側で前記首部を支持する中間支持部を備え、
前記第2グリッパの前記把持領域は、前記中間支持部を含む、
請求項1から3のいずれか一項に記載の電子線殺菌装置。
The second gripper is
An intermediate support portion that supports the neck portion inside the recess formed by the pair of claws,
the gripping area of the second gripper includes the intermediate support;
The electron beam sterilizer according to any one of claims 1 to 3.
前記グリッパ照射部は、
前記一対の爪が開かれた状態の前記第2グリッパに対して電子線を照射する、
請求項1から4のいずれか一項に記載の電子線殺菌装置。
The gripper irradiation unit is
irradiating the second gripper with the pair of claws opened with an electron beam;
The electron beam sterilizer according to any one of claims 1 to 4.
前記第2グリッパは、
前記第2回転体の回転方向における前方および後方の少なくとも一方に向けて揺動可能に構成されている、
請求項1から5のいずれか一項に記載の電子線殺菌装置。
The second gripper is
configured to be swingable toward at least one of forward and rearward in the direction of rotation of the second rotating body,
The electron beam sterilizer according to any one of claims 1 to 5.
容器を把持する複数の第1グリッパが設けられた第1回転体と、
前記第1グリッパからそれぞれ前記容器を受け取る複数の第2グリッパが設けられた第2回転体と、
前記第1グリッパに把持された状態の前記容器に対し、前記第1回転体の径方向の外側から内側に向けて電子線を照射する第1照射部と、
前記第2グリッパに把持された状態の前記容器に対し、前記第2回転体の径方向の外側から内側に向けて電子線を照射する第2照射部と、
前記第2回転体において周方向に分布している奇数個の前記第2グリッパに対して、1個おきに前記第1グリッパから前記容器が渡される、
電子線殺菌装置。
a first rotating body provided with a plurality of first grippers for gripping the container;
a second rotating body provided with a plurality of second grippers each receiving the container from the first gripper;
a first irradiation unit that irradiates the container held by the first gripper with an electron beam from the outside to the inside in the radial direction of the first rotating body;
a second irradiation unit that irradiates the container held by the second gripper with an electron beam from the outside to the inside in the radial direction of the second rotating body;
The container is passed from the first gripper every other second gripper to an odd number of the second grippers distributed in the circumferential direction of the second rotating body,
Electron beam sterilizer.
容器、および前記容器を把持可能なグリッパに対して電子線を照射する電子線殺菌方法であって、
第1回転体に設けられた第1グリッパに把持されている前記容器に対し、前記第1回転体の径方向の外側から内側に向けて電子線を照射する第1照射ステップと、
第2回転体に設けられ、前記第1グリッパから前記容器を受け取る第2グリッパに把持されている前記容器に対し、前記第2回転体の径方向の外側から内側に向けて電子線を照射する第2照射ステップと、
前記容器を把持していない状態の前記第2グリッパに対し、前記第2回転体の径方向の外側から内側に向けて電子線を照射するグリッパ照射ステップと、を備え、
前記第1グリッパおよび前記第2グリッパはそれぞれ、
前記容器の首部を間に受け入れ、両側から閉じて前記首部を挟む一対の爪を含み、
前記一対の爪は、前記首部に接触または近接する把持領域を含み、
前記第2回転体の径方向の外側から内側に向けて出射した電子線に対して前記第2グリッパが正対する位置を正対位置と呼ぶとき、
前記グリッパ照射ステップでは、
前記第2回転体の回転に伴い移動する前記第2グリッパに対し、少なくとも前記把持領域に亘り電子線を照射しつつ、
前記正対位置に向けて前記第2グリッパが近接する際における前記第2回転体の所定の中心角の範囲に亘り、前記第2回転体の回転方向の後方に向けて前記第2グリッパを揺動させ、かつ、前記正対位置から前記第2グリッパが遠ざかる際における前記第2回転体の所定の中心角の範囲に亘り、前記第2回転体の回転方向の前方に向けて前記第2グリッパを揺動させる、
電子線殺菌方法。
An electron beam sterilization method for irradiating a container and a gripper capable of gripping the container with an electron beam,
a first irradiation step of irradiating the container gripped by the first gripper provided on the first rotor with an electron beam from the outer side to the inner side in the radial direction of the first rotor;
An electron beam is irradiated from the outside to the inside in the radial direction of the second rotor toward the container gripped by a second gripper that is provided on the second rotor and receives the container from the first gripper. a second irradiation step;
a gripper irradiation step of irradiating the second gripper, which is not gripping the container, with an electron beam from the outside to the inside in the radial direction of the second rotating body;
Each of said first gripper and said second gripper:
including a pair of claws that receive the neck of the container therebetween and close from both sides to sandwich the neck;
the pair of claws includes a gripping region that contacts or is adjacent to the neck;
When the position where the second gripper faces the electron beam emitted from the radially outer side to the inner side of the second rotating body is called the facing position,
In the gripper irradiation step,
irradiating the second gripper, which moves with the rotation of the second rotating body, with an electron beam over at least the gripping area;
swinging the second gripper rearward in the direction of rotation of the second rotor over a range of a predetermined central angle of the second rotor when the second gripper approaches toward the directly facing position; and move the second gripper forward in the direction of rotation of the second rotor over a range of a predetermined central angle of the second rotor when the second gripper moves away from the directly facing position. rock the
Electron beam sterilization method.
前記グリッパ照射ステップは、
前記第2グリッパの前記一対の爪を開いた状態で行われる、
請求項8に記載の電子線殺菌方法。
The gripper irradiation step includes:
performed with the pair of claws of the second gripper opened;
The electron beam sterilization method according to claim 8.
前記第2グリッパの前記把持領域は、
前記グリッパ照射ステップにより前記第2回転体の径方向の外側から内側に向けて出射した電子線に対して前記第2グリッパの少なくとも正対時には影となる部位を含む、
請求項8または9に記載の電子線殺菌方法。
The gripping area of the second gripper comprises:
including a portion that is shadowed at least when the second gripper is directly facing the electron beam emitted from the radially outer side to the inner side of the second rotating body in the gripper irradiation step;
The electron beam sterilization method according to claim 8 or 9.
前記第2グリッパの前記一対の爪は、それぞれの先端側に、
相手の前記爪に向けて突出して前記首部を支持する支持突起を備え、
前記グリッパ照射ステップでは、
前記支持突起において、少なくとも前記正対時に電子線が前記支持突起に遮られて前記影となる部位にも電子線を照射する、
請求項10に記載の電子線殺菌方法。
The pair of claws of the second gripper have, on their tip end sides,
A support projection that protrudes toward the claw of the other party and supports the neck,
In the gripper irradiation step,
In the support projection, the electron beam is irradiated to the shadowed portion that is blocked by the support projection at least when the electron beam is facing directly.
The electron beam sterilization method according to claim 10.
前記グリッパ照射ステップでは、
前記正対時の位置に向けて前記第2グリッパを移動させながら前記第2回転体の回転方向の後方に向けて揺動させ、前記正対時の位置を超えて前記第2グリッパを移動させながら前記回転方向の前方に向けて揺動させる、
請求項10または11に記載の電子線殺菌方法。
In the gripper irradiation step,
While moving the second gripper toward the facing position, the second rotor is swung backward in the direction of rotation to move the second gripper beyond the facing position. While swinging forward in the direction of rotation,
The electron beam sterilization method according to claim 10 or 11.
容器、および前記容器を把持可能なグリッパに対して電子線を照射する電子線殺菌方法であって、
前記容器を把持する第1グリッパに把持されている前記容器に対し、第1回転体の径方向外側から内側に向けて電子線を照射する第1照射ステップと、
前記第1グリッパから前記容器を受け取る第2グリッパに把持されている前記容器に対し、第2回転体の径方向外側から内側に向けて電子線を照射する第2照射ステップと、を備え、
前記第2回転体において周方向に奇数個が分布している前記第2グリッパに対して、1個おきに前記第1グリッパから前記容器を渡しつつ、前記第1照射ステップおよび前記第2照射ステップが行われる、
電子線殺菌方法。
An electron beam sterilization method for irradiating a container and a gripper capable of gripping the container with an electron beam,
a first irradiation step of irradiating the container gripped by the first gripper for gripping the container with an electron beam from the outside in the radial direction of the first rotor toward the inside;
a second irradiation step of irradiating the container gripped by the second gripper that receives the container from the first gripper with an electron beam from the outside to the inside in the radial direction of the second rotor;
The first irradiation step and the second irradiation step while passing the container from the first gripper every other one to the second grippers distributed in the circumferential direction in an odd number on the second rotating body. takes place,
Electron beam sterilization method.
JP2019227926A 2019-12-18 2019-12-18 Electron beam sterilization device and method Active JP7274403B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019227926A JP7274403B2 (en) 2019-12-18 2019-12-18 Electron beam sterilization device and method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019227926A JP7274403B2 (en) 2019-12-18 2019-12-18 Electron beam sterilization device and method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021095178A JP2021095178A (en) 2021-06-24
JP7274403B2 true JP7274403B2 (en) 2023-05-16

Family

ID=76430447

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019227926A Active JP7274403B2 (en) 2019-12-18 2019-12-18 Electron beam sterilization device and method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7274403B2 (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010533108A (en) 2007-07-11 2010-10-21 ストークリー−ヴァン キャンプ インコーポレイテッド Active sterilization zone for container filling
JP2011046189A (en) 2009-07-18 2011-03-10 Krones Ag Apparatus for treating containers including carrier sterilization
JP2015093679A (en) 2013-11-11 2015-05-18 日立造船株式会社 Container transport method in electron beam processing system and electron beam processing system

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010533108A (en) 2007-07-11 2010-10-21 ストークリー−ヴァン キャンプ インコーポレイテッド Active sterilization zone for container filling
JP2011046189A (en) 2009-07-18 2011-03-10 Krones Ag Apparatus for treating containers including carrier sterilization
JP2015093679A (en) 2013-11-11 2015-05-18 日立造船株式会社 Container transport method in electron beam processing system and electron beam processing system

Also Published As

Publication number Publication date
JP2021095178A (en) 2021-06-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6650187B2 (en) Holding element holding from inside for sterilization of containers by electron beam
JP4757258B2 (en) Apparatus and method for sterilizing filling of packaging unit components, in particular bottles and / or caps
JP4730190B2 (en) Container sterilization apparatus and container sterilization method
JP6084765B2 (en) Equipment for sterilizing containers
KR101408003B1 (en) Electron beam sterilizer
EP1956608B1 (en) Electron beam vacuum apparatus for sterilising containers
EP2100814B1 (en) Container sterilization apparatus
US9775923B2 (en) Device for external sterilisation of plastic parisons
JP6166441B1 (en) Sterilization apparatus and sterilization method
JP2007297067A (en) Electron beam irradiation device for open container
JP4983092B2 (en) Electron beam sterilizer
JP4560870B2 (en) Preform sterilization method and preform sterilizer
EP2292515B1 (en) Electron beam irradiation device for aperture vessel
JP2008239181A (en) Electron beam sterilizer
JP2000214300A (en) Electron beam sterilization apparatus
JP7274403B2 (en) Electron beam sterilization device and method
JP5293092B2 (en) Electron beam sterilizer
JP4516909B2 (en) Electron beam irradiation device
JP4903608B2 (en) Electron beam irradiation device for open containers
JP4246819B2 (en) Static electricity removing method and apparatus
JP4953352B2 (en) Sterilization apparatus and container sterilization method
JP2006061558A (en) Electron beam sterilizing device
JP5755133B2 (en) Electron beam sterilizer
JP2010105685A (en) Electron ray sterilizer
JP4910819B2 (en) Electron beam sterilizer

Legal Events

Date Code Title Description
A625 Written request for application examination (by other person)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A625

Effective date: 20210917

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220916

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20221004

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221129

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230404

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230501

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7274403

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150