JP7238034B2 - 温度制御された短時間アブレーション - Google Patents
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Description
本出願は、参照により本明細書に組み込まれる、2016年1月25日出願の米国特許仮出願第62/286,534号の利益を主張するものである。
本発明は、概して、手術に関し、具体的には、高周波アブレーションを使用した手術に関する。
70W~100Wの範囲内で、電極によって送達される最大高周波(RF)電力を選択することと、
0.05N~0.5N(5g~50g)の範囲内で、電極に対する許容可能な力を選択することと、
55℃~65℃の範囲内で、アブレーションされる組織の最大許容温度を選択することと、
8~45mL/分の範囲内で、灌注液を電極にもたらす灌注速度を選択することと、選択した値を使用して組織のアブレーションを実行することと、を含む。
70W~100Wの範囲内で、電極によって送達される第1最大高周波(RF)電力を選択することと、
20W~60Wの範囲内で、電極によって送達される第2最大RF電力を選択することと、
0.05N~0.5N(5g~50g)の範囲内で、電極に対する許容可能な力を選択することと、
55℃~65℃の範囲内で、アブレーションされる組織の最大許容温度を選択することと、
8~45mL/分の範囲内で、灌注液を電極にもたらす灌注速度を選択することと、最初に第1電力を使用し、3秒~6秒の所定の時間後に第2電力に切り替え、10秒~20秒のアブレーションの総時間後にアブレーションを終了することによって、選択した値を使用して組織のアブレーションを実行することと、を含む、方法が更に提供される。
高周波(RF)電力を使用して、生物組織でアブレーション処置を実行することと、
処置中にRF電力に対するインピーダンスを測定することと、インピーダンスの変化が既定値を超えると、組織へのRF電力の供給を中止することと、を含む、方法が更に提供される。典型的に、この変化は、少なくとも7Ωである。
高周波(RF)電力を使用して、生物組織でアブレーション処置を実行することと、
各時間において組織の温度を測定することと、温度が既定の最大許容温度を超えると、組織に供給されるRF電力のレベルを低減させることと、を含む、方法が更に提供される。典型的に、組織の温度は、少なくとも30Hzの周波数で測定される。
電極と、
70W~100Wの範囲内で、電極によって送達される最大高周波(RF)電力を選択するように構成されている電力制御モジュールと、この電力制御モジュールに接続され、かつ
0.05N~0.5N(5g~50g)の範囲内で、電極に対する許容可能な力を選択し、
55℃~65℃の範囲内で、アブレーションされる組織の最大許容温度を選択し、
8~45mL/分の範囲内で、灌注液を電極にもたらす灌注速度を選択し、選択した値を使用して組織のアブレーションを実行するように構成されているプロセッサと、を備える、装置が更に提供される。
電極と、
70W~100Wの範囲内で、電極によって送達される第1最大高周波(RF)電力を選択し、かつ20W~60Wの範囲内で、電極によって送達される第2最大RF電力を選択するように構成されている電力制御モジュールと、この電力制御モジュールに接続され、かつ
0.05N~0.5N(5g~50g)の範囲内で、電極に対する許容可能な力を選択し、
55℃~65℃の範囲内で、アブレーションされる組織の最大許容温度を選択し、
8~45mL/分の範囲内で、灌注液を電極にもたらす灌注速度を選択し、最初に第1電力を使用し、3秒~6秒の所定の時間後に第2電力に切り替え、10秒~20秒のアブレーションの総時間後にアブレーションを終了することによって、選択した値を使用して組織のアブレーションを実行するように構成されている、プロセッサと、を備える、装置が更に提供される。
高周波(RF)電力を使用して、生物組織でアブレーション処置を実行するように構成されている電力制御モジュールと、プロセッサであって、
処置中にRF電力に対するインピーダンスを測定し、かつインピーダンスの変化が既定値を超えると、組織へのRF電力の供給を中止するように構成されている、プロセッサと、を備える、装置が更に提供される。
高周波(RF)電力を使用して、生物組織でアブレーション処置を実行するように構成されている電力制御モジュールと、プロセッサであって、
各時間において組織の温度を測定し、かつ温度が既定の最大許容温度を超えると、組織に供給されるRF電力のレベルを低減させるように構成されている、プロセッサと、を備える装置が更に提供される。
従来技術のシステムでの高周波(RF)アブレーションは、典型的に、約20~50ワットの連続的な電力レベルで、約0.1N(10g)の接触力及び灌注下で実行される。アブレーションの時間は、達成するべき損傷部位の大きさに応じるが、典型的に、約1分間である。概して、電力レベルが高いほど、特定損傷部位の形成に必要な時間は短縮する。しかしながら、従来技術のシステムでは、スチームポップが形成される恐れがあるために、約100ワットという大きな値の連続電力を使用できない。
ここで図1を参照するが、図1は、本発明の一実施形態に従った、アブレーション装置12を使用した侵襲性医療処置の概略図である。処置は医師14により行われ、一例として、本明細書の以下の説明における処置は、ヒトの患者18の心臓の心筋16の一部のアブレーションを含むと仮定される。しかしながら、本発明の実施形態はこの特定の処置のみに適用できるのではなく、生物組織で実行される、実質的に全てのアブレーションを含んでよいことが理解されよう。
最大許容温度T(工程204で設定)と時間tにおける測定温度Ttとの温度差、
連続的な温度測定値、すなわち、Tt-1~Tt間での測定温度の変化、
目標電力P(フローチャートが第1時間で機能しているときのPは第1目標電力であり、フローチャートが第2時間で機能しているときのPは第2目標電力である)、
時間tにおいて測定された電力Pt。
(1) 方法であって、
高周波(RF)電力を使用して、生物組織でアブレーション処置を実行することと、
前記処置中に前記RF電力に対するインピーダンスを測定することと、
前記インピーダンスの変化が既定値を超えると、前記組織への前記RF電力の供給を中止することと、を含む、方法。
(2) 前記変化が少なくとも7Ωである、実施態様1に記載の方法。
(3) 装置であって、
高周波(RF)電力を使用して、生物組織でアブレーション処置を実行するように構成されている電力制御モジュールと、
プロセッサであって、
前記処置中に前記RF電力に対するインピーダンスを測定し、かつ
前記インピーダンスの変化が既定値を超えると、前記組織への前記RF電力の供給を中止するように構成されている、プロセッサと、備える、装置。
(4) 前記変化が少なくとも7Ωである、実施態様3に記載の装置。
Claims (5)
- 装置であって、
電極と、
70W~100Wの範囲内で、前記電極によって送達される最大高周波(RF)電力を選択するように構成されている電力制御モジュールと、
前記電力制御モジュールに接続されたプロセッサであって、
5g~50g(0.05N~0.5N)の範囲内で、前記電極に対する許容可能な力を選択し、
55℃~65℃の範囲内で、アブレーションされる組織の最大許容温度を選択し、
8~45mL/分の範囲内で、灌注液を前記電極にもたらす灌注速度を選択し、
選択した値を使用して前記組織のアブレーションを実行するように構成されている、プロセッサと、を備え、
前記プロセッサが、
アブレーション処置中の時間(T-1)におけるRF電力に対するインピーダンスIT-1を測定し、
前記アブレーション処置中の時間(T)における前記RF電力に対するインピーダンスITを測定し、
前記インピーダンスIT-1とITとの差異が既定のインピーダンスの値を超えると、前記組織への前記RF電力の供給を中止するように構成されている、装置。 - 前記プロセッサは前記インピーダンスIT-1およびITを、500ms毎の割合で測定するように構成されている、請求項1に記載の装置。
- 前記既定のインピーダンスの値が少なくとも7Ωである、請求項1に記載の装置。
- 前記装置が、温度モジュールと、力モジュールと、灌注モジュールと、を更に備える、請求項1~3のいずれか1つに記載の装置。
- 前記装置がプローブを更に備えており、前記プローブは、前記電極と、位置センサーと、力センサーと、温度センサーと、を含む、請求項1~4のいずれか1つに記載の装置。
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