JP7215060B2 - 分光分析用光源、分光分析装置及び分光分析方法 - Google Patents

分光分析用光源、分光分析装置及び分光分析方法 Download PDF

Info

Publication number
JP7215060B2
JP7215060B2 JP2018193889A JP2018193889A JP7215060B2 JP 7215060 B2 JP7215060 B2 JP 7215060B2 JP 2018193889 A JP2018193889 A JP 2018193889A JP 2018193889 A JP2018193889 A JP 2018193889A JP 7215060 B2 JP7215060 B2 JP 7215060B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
spectroscopic analysis
pulse
wavelength
sample
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018193889A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2020060537A (ja
Inventor
剛 山田
拓馬 横山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ushio Denki KK
Original Assignee
Ushio Denki KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ushio Denki KK filed Critical Ushio Denki KK
Priority to JP2018193889A priority Critical patent/JP7215060B2/ja
Priority to CN201980061103.XA priority patent/CN112752967A/zh
Priority to DK19871348.9T priority patent/DK3865850T3/da
Priority to EP19871348.9A priority patent/EP3865850B1/en
Priority to PCT/JP2019/035899 priority patent/WO2020075441A1/ja
Priority to US17/282,780 priority patent/US11385173B2/en
Publication of JP2020060537A publication Critical patent/JP2020060537A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7215060B2 publication Critical patent/JP7215060B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/39Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using tunable lasers
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02Details
    • G01J3/10Arrangements of light sources specially adapted for spectrometry or colorimetry
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J3/14Generating the spectrum; Monochromators using refracting elements, e.g. prisms
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J3/18Generating the spectrum; Monochromators using diffraction elements, e.g. grating
    • G01J3/1804Plane gratings
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J3/18Generating the spectrum; Monochromators using diffraction elements, e.g. grating
    • G01J3/1895Generating the spectrum; Monochromators using diffraction elements, e.g. grating using fiber Bragg gratings or gratings integrated in a waveguide
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28Investigating the spectrum
    • G01J3/2889Rapid scan spectrometers; Time resolved spectrometry
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28Investigating the spectrum
    • G01J3/30Measuring the intensity of spectral lines directly on the spectrum itself
    • G01J3/32Investigating bands of a spectrum in sequence by a single detector
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28Investigating the spectrum
    • G01J3/42Absorption spectrometry; Double beam spectrometry; Flicker spectrometry; Reflection spectrometry
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/35Non-linear optics
    • G02F1/3528Non-linear optics for producing a supercontinuum
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/35Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
    • G01N21/3563Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light for analysing solids; Preparation of samples therefor
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/35Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
    • G01N21/3577Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light for analysing liquids, e.g. polluted water
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/35Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
    • G01N21/359Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light using near infrared light
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/06Illumination; Optics
    • G01N2201/061Sources
    • G01N2201/06113Coherent sources; lasers
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/08Optical fibres; light guides

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Description

この出願の発明は、分光分析の技術に関するものである。
試料に光を照射し、光照射された試料からの光を分光測定して当該試料の分析を行う分光分析の技術は、新規材料の開発や各種研究において盛んに利用されている。典型的な分光分析装置は、回折格子のような分散素子を使用した装置である。
特開2013-205390号公報
回折格子を使用した分光分析装置は、測定する波長域に合わせて回折格子の姿勢を変化させること(掃引)が必要になる。このため、この種の分光分析装置は、分光分析を高速に行う必要のある用途には向いていない。
また、回折格子を使用した分光分析装置では、測定のSN比を十分に高くしたり高感度の測定を行ったりするには掃引を何回か行って受光器に入射する光の総量(光量)を多くする必要があり、この点も高速の分析が行えない要因となっている。
多数の光電変換素子を一列に配列したエリアセンサを使用するマルチチャンネル型の分光分析装置では回折格子の掃引は不要であるが、高SN比や高感度の分析のためには光量を多くする必要があり、高速の分析が行えないという問題は解決されない。
また、試料における吸収が多い波長の光を照射して分光分析を行う場合、受光器に入射する試料からの光が微弱になるため、SN比の高い分析を高速で行うことは従来の装置では非常に難しい。
一方、このような分光測定の分野では、最近、スーパーコンティニウム光を利用する研究がされるようになってきている(例えば特許文献1)。スーパーコンティニウム光(以下、SC光と略記する。)は、レーザー光に非線形効果を生じさせ、レーザー光としての性質を残しつつ波長を広帯域化させたレーザー光である。
このようなSC光を利用した分光測定の研究は、大気中のガスの分析のように気相試料の分析が専らであり、固相や液相の試料についてSC光を使用した分光分析を行う研究はされていない。
また、波長域については、1300nmより長波長側(例えば1300~2000nm)を使用した研究が殆どであり、1200nm以下の波長域を使用した研究の報告はされていない。
発明者の検討によると、固相試料や液相試料の吸収スペクトルによる分析を行う場合、1100~1200nm程度の波長域が特に効果的である。例えば、厚みのある固相試料に光を照射してその透過光を捉えて吸収スペクトルを測定する場合、1300nm以上の波長域では吸収が大きいため、透過光があまりにも微弱になってしまい、十分な精度で分析を行えない場合が多い。一方、1100~1200nmではオーバートーン吸収となる場合が多く、吸収が微弱となるため、厚みのある固相試料であっても透過光はある程度の強度となって受光器に捉えられる。
しかしながら、SC光を使用した分光測定の研究で、1100~1200nmの波長域を扱ったものはなく、最適な構成の提案は何らされていない。発明者の検討によると、1100~1200nmの波長域が扱われていない原因は、パルス伸張時の損失にあると考えられる。即ち、特許文献1に開示されているように、SC光を分光測定に用いるには、SC光を分散補償ファイバーのようなパルス伸張素子に通し、パルスの時間幅を広くする(パルス伸張する)必要がある。この際、1100~1200nmの波長域では、ファイバー中の損失が非常に大きく、実用に耐え得る強度を保ったままパルス伸張することができないという事情があると考えられる。
このような事情があるものの、発明者は、パルス伸張する際の構成を工夫することで1100~1200nmの波長域であっても何とか強度を保ったままパルス伸張させることができ、SC光を利用した分光分析をより高速により高精度に行えるのではないかと考えた。このような着眼に基づき、鋭意研究を行って本願発明を完成させた。
したがって、本願発明における解決課題は、SC光を利用して1100~1200nmの波長域で固相試料や液相試料を分光分析する際の最適な構成を提供するということにある。
上記課題を解決するため、本願の請求項1記載の発明は、固相又は液相の試料に光を照射し、照射された試料からの光のスペクトルを測定することで当該試料を分析する際に使用される分光分析用光源であって、
パルスレーザー源と、
パルスレーザー源からの光に非線形効果を生じさせて1100nm以上1200nm以下を含む波長域のスーパーコンティニウム光を出力する非線形素子と、
非線形素子からのスーパーコンティニウム光のパルス幅を伸張させるパルス伸張素子と
を備えており、
パルス伸張素子は、1100nm以上1200nm以下の波長域での1パルス内における波長と経過時間との関係が1対1となるようパルス伸張を行う素子であって、1100nm以上1200nm以下の波長域での波長1nmあたりの時間分散が10ピコ秒以上となるようパルス伸張を行う素子であり、
パルス伸張素子に入射するスーパーコンティニウム光のピーク照度が1GW/cm 以下であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項2記載の発明は、前記請求項1の構成において、前記パルス伸張素子は、1100nm以上1200nm以下の波長域におけるスペクトル強度平坦性が±50%以内となるよう前記パルス伸張を行う素子であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項3記載の発明は、前記請求項1または2の構成において、前記非線形素子は、フォトニッククリスタルファイバー又は非線形ファイバーであるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項4記載の発明は、前記請求項1乃至3いずれかの構成において、前記パルス伸張素子は、シングルモードファイバー、マルチモードファイバー、回折格子、チャープドファイバーブラッググレーティング又はプリズムで構成されている。
また、上記課題を解決するため、請求項5記載の発明は、前記請求項1乃至3いずれかの構成において、前記パルス伸張素子は、長さ10km以下のシングルモードファイバーで構成されている。
また、上記課題を解決するため、請求項記載の発明は、固相又は液相の試料に対して光を照射する請求項1乃至いずれかに記載の分光分析用光源と、
この分光分析用光源からの光が照射された試料からの光を受光する位置に配置され、試料からの光の強度を検出して出力する受光器と、
受光器からの出力の時間的変化をスペクトルに変換する演算手段と
を備えているという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項記載の発明は、請求項1乃至いずれかに記載の分光分析用光源からの光を固相又は液相の試料に照射する工程と、
光照射された試料からの光を受光器で受光して光の強度を受光器に出力させる工程と、
受光器からの出力の時間的変化を演算によりスペクトルに変換する工程と
を含む分光分析方法であるという構成を有する。
以下に説明する通り、本願の各請求項記載の発明によれば、SC光を分光分析用の光として試料に照射するので、高速、高感度、高SN比での分光分析が可能となる。そして、1100~1200nmの波長域を分光分析の帯域として含めることができるため、この帯域での分子振動のオーバートーン吸収から分析を行うことができ、高速、高感度、高SN比の分光分析をこの帯域で行うことができるようになる。
また、請求項2記載の発明によれば、上記効果に加え、1100nm以上1200nm以下の波長域におけるスペクトル強度平坦性が±50%以内であるので、ダイナミックレンジの関係で分析の精度が低下してしまうことはなく、高精度の分光分析をこの帯域で行うことができる。
実施形態に係る分光分析用光源の概略図である。 実施形態の分光分析用光源において、パルス伸張後のSC光のパルス内時刻と波長との関係を模式的に示した図である。 実施形態に係る分光分析装置の概略図である。 分光分析ソフトウェアに含まれる分析プログラムの構成について示した概略図である。 パルス伸張素子として用いるファイバーの分散特性の一例を示した概略図である。 ファイバーによるパルス伸張の一例について示した概略図である。 高ピーク値のSC光をパルス伸張させた場合の出力光の乱れについて確認した実験の結果を示した図である。 実施例1の分光分析用光源の出力特性を示す概略図である。 実施例2の分光分析用光源の出力特性を示す概略図である。 パルス伸張素子の他の例について示した概略図である。
以下、この出願の発明を実施するための形態(実施形態)について説明する。
図1は、実施形態に係る分光分析用光源の概略図である。実施形態の分光分析用光源は、固相又は液相の試料の分光分析用に特に構成された光源であって、1100~1200nmの波長域の光を試料に照射して当該試料からの光の強度を検出することで分光分析する用途で使用されるものとなっている。
具体的には、実施形態の分光分析用光源は、1100~1200nmの波長範囲に亘って十分な強度とスペクトル強度平坦性を有するSC光を出力するものとなっている。より具体的には、この光源は、パルスレーザー源1と、パルスレーザー源1からの光に非線形効果を生じさせてSC光を出力する非線形素子2と、非線形素子2からのSC光のパルス幅を伸張させるパルス伸張素子3とを備えている。
尚、ここでのスペクトル強度平坦性とは、1100~1200nmの波長域において、最も高い強度をSmax、最も低い強度をSminとしたとき、{(S max -Smin)/(S max +S min )}×100(%)で表される量である。したがって、スペクトル強度平坦性が50%以内とは、SmaxがSminの3倍以内ということになる。
パルスレーザー源1としては、種々のものを用いることができるが、例えばゲインスイッチレーザー、マイクロチップレーザー、ファイバーレーザー等を用いることができる。尚、パルスレーザー源1としては必ずしも1100~1200nmの波長域内に発振波長がある必要はない。非線形素子2によってSC光を生成する際に1100~1200nmの波長域の光が新たに生成される場合もあるからである。
非線形素子2としては、ファイバーが使用される場合が多い。例えば、フォトニッククリスタルファイバーやその他の非線形ファイバーが非線形素子2として使用できる。ファイバーのモードとしてはシングルモードの場合が多いが、マルチモードであっても十分な非線形性を示すものであれば、非線形素子2として使用できる。
パルス伸張素子3についても、ファイバーが使用される場合が多いが、ファイバー以外の素子がパルス伸張素子として使用される場合もあり得る。ファイバーについては、シングルモードファイバー、マルチモードファイバーのいずれもが使用できる。ファイバー以外の素子としては、後述するように、回折格子、チャープドファイバーブラッググレーティング(CFBG)等を用いた素子を使用することができる。
パルス伸張素子3の特性として重要なことは、1パルスにおける経過時間と波長との関係が1対1で対応しているようSC光を伸張させることである。以下、この点について説明する。図2は、実施形態の分光分析用光源において、パルス伸張後のSC光のパルス内の経過時間と波長との関係を模式的に示した図である。図2(1)は1パルス内の経過時間に対する強度を示し、図2(2)は各波長の強度を示す。また、図2(3)は、パルス内の経過時間と波長との関係を示す。
図2(1)~(3)に示すように、パルス伸張後のSC光は、1パルス内の経過時間と波長とが1対1で対応している。即ち、1パルスの立ち上がり時刻をtとし、当該パルスの終了時刻をtとすると、1パルスの立ち上がりの初期には、最も長い波長λの光が存在している。時間が経過するにつれ、存在する光の波長は短波長側にシフトとする。そして、パルスの終期tの直前では最も短い波長λの光が存在している。このように、パルス内の波長と経過時間とが1対1で対応するため、パルスの始期tからの経過時間を特定して光の強度を取得すると、その強度は特定の波長の強度ということになる。即ち、各経過時間における強度は各波長の強度であり、これはスペクトルに他ならない。
このような経過時間と波長との一意性は、後述するように、受光器からの出力の時間的変化によりスペクトルを求める実施形態の分光分析において特に重要であるが、時間の経過に対する波長の変化の割合もまた重要である。この点は、波長1nmの違いがどの程度の時間のずれ(時間分散)で存在しているかということであり、図2(3)にΔt/Δλで示す。実施形態の分光分析用光源は、Δλを1nmとするとΔtが10ピコ秒以上となっている。
尚、以上のパルス伸張素子3の各特性は、パルス伸張素子3としてファイバーを使用した場合、後述するように、適宜の分散特性を有するファイバーを選択し、また適宜の長さのものを使用することで実現できる。
次に、分光分析装置及び分光分析方法の各発明の実施形態について説明する。
図3は、実施形態に係る分光分析装置の概略図である。図3に示す分光分析装置は、試料に光を照射することができる位置に配置された光源10と、光照射された試料からの光を受光位置に配置された受光器4と、受光器4からの出力を処理する演算手段5とを備えている。
光源10としては、上記実施形態の分光分析用光源が使用される。試料Sは、近赤外線の透過率の高い材料で形成された受け板7上に配置される。光源10からの光を受け板7上の試料Sに照射する光学系40が、必要に応じて設けられる。
受け板7の光出射側に、受光器4が配置されている。受光器4としては、フォトダイオードが使用される。帯域0.1~10GHz程度の高速応答のフォトダイオードが好適に使用できる。
演算手段5としては、プロセッサ50及びストレージ51を備えた汎用PCが使用できる。ストレージ51には、分光分析ソフトウェアがインストールされており、これには、受光器4からの出力の時間的変化をスペクトルに変換するコードを含む分析プログラム511や、スペクトルの算出の際に使用される基準スペクトルデータ512等が含まれている。尚、受光器4と汎用PCとの間にはAD変換器6が設けられており、受光器4の出力は、AD変換器6によりデジタルデータに変換されて汎用PCに入力される。
図4は、分光分析ソフトウェアに含まれる分析プログラムの構成について示した概略図である。図4の例は、吸収スペクトル(分光吸収率)を測定するための構成の例となっている。
基準スペクトルデータは、吸収スペクトルを算出するための基準となる波長毎の値である。基準スペクトルデータは、分光分析用光源からの光を試料を経ない状態で受光器4に入射させることで取得する。即ち、試料を経ないで光を受光器4に直接入射させ、受光器4の出力をAD変換器6経由で汎用PCに入力させ、時間分解能Δtごとの値を取得する。各値は、Δtごとの各時刻(t,t,t,・・・)の基準強度として記憶される(V,V,V,・・・)。
各時刻t,t,t,・・・での基準強度V,V,V,・・・は、対応する各波長λ,λ,λ,・・・の強度(スペクトル)である。1パルス内の時刻t,t,t,・・・と波長との関係が予め調べられており、各時刻の値V,V,V,・・・が各λ,λ,λ,・・・の値であると取り扱われる。
そして、試料Sを経た光を受光器4に入射させた際、受光器4からの出力はAD変換器6を経て同様に各時刻t,t,t,・・・の値(測定値)としてメモリに記憶される(v,v,v,・・・)。各測定値は、基準スペクトルデータと比較され(v/V,v/V,v/V,・・・)、その結果が吸収スペクトルとなる(厳密には100%から除算した各値)。
上記のような演算処理をするよう、分析プログラムはプログラミングされている。尚、図4の例では、吸収スペクトルを調べるだけのようになっているが、実際には、吸収スペクトルを調べることで、試料の成分の比率を分析したり、試料を同定したりすることもある。
次に、このような分光分析を実現する分光分析用光源のより望ましい構成について詳説する。
図5は、パルス伸張素子3として用いるファイバーの分散特性の一例を示した概略図である。パルス伸張素子3としてのファイバーは、少なくとも1100~1200nmの波長域において、0分散を含まないものであることが望ましい。即ち、1100~1200nmの波長域において、全て正常分散特性又は全て異常分散特性であることが望ましい。図5は、正常分散特性のファイバーの例である。
1100~1200nmの波長域において0分散を含むと、同一時刻に2つ以上の波長が対応してしまうことになり、また意図しない非線形光学効果が生じ易いため、上述した時間波長一意性が崩れてしまう恐れがある。また、異常分散よりは正常分散を1100~1200nmにおいて示すファイバーの方が望ましい。SC光は、長波長側の光が先に出射され、短波長側の光が後に出射される特性を持つものが多い。この場合、SC光のパルスは初期には長波長の光が存在し、その後、時間経過とともに短波長側にシフトする。パルス伸張素子3として正常分散特性のファイバーを使用すると、短波長側の光が長波長側の光に比べてさらに遅れる結果となるので、上記時間的関係を維持してさらに伸張した状態となる。このため、時間波長一意性を崩すことなく容易に長パルスの光を得ることができる。
尚、1100~1200nmの波長域において異常分散のファイバーをパルス伸張素子3として使用することも可能である。この場合は、SC光においてパルスの初期に存在していた長波長側の光が遅れ、後の時刻に存在していた短波長側の光が進む状態で分散するので、1パルス内での時間的関係が逆転し、1パルスの初期に短波長側の光が存在し、時間経過とともにより長波長側の光が存在する状態でパルス伸張されることになる。但し、正常分散の場合に比べると、パルス伸張のための伝搬距離をより長くすることが必要になる場合が多く、損失が大きくなり易い。したがって、この点で正常分散の方が好ましい。
また、発明者の研究によると、特に1100~1200nmの波長範囲を使用する場合、パルス伸張素子3として用いるファイバーの長さは10km以下とすることが分析精度向上の観点から好ましい。以下、この点について図6を参照して説明する。
図6は、ファイバーによるパルス伸張の一例について示した概略図である。図6の例では、古河電工(株)製の分散補償ファイバーSMFDK-Sを11kmの長さで使用してパルス伸張がされている。図6の横軸は波長、縦軸は入力に対する減衰比をdBで示している。
ファイバーでパルス伸張すると光がある程度減衰するのはやむを得ないことであるが、問題なのは、図6に示すように、1100~1200nmの範囲で減衰比が大きく異なってしまうことである。即ち、この例では、1200nmでは-16dB程度の減衰であるのに対し、1100nmでは-21dB程度の減衰となっており、5dBもの差がある。このように減衰比に差があると、同じ強さの光が入力されてもパルス伸張後に大きな出力の差が生じることになってしまう。このような光を使用して分光分析をすると、受光器4のダイナミックレンジの関係で分析の精度が低下し易い。
一方、同じような分散補償ファイバーを使用した場合でも、長さを3km程度にしておくと、1100~1200nmの波長範囲でほぼ-3dBの減衰比となる。このため、ダイナミックレンジそれほど大きくなく、分析の精度が低下することはない。
発明者の研究によると、ファイバーをパルス伸張素子3として使用する場合、一般的に10kmを超える長さとすると、1100~1200nmの波長範囲で大きな減衰比の差が生じ、分析精度に影響を与える。したがって、10km以下とすることが好ましく、5km以下とすることがより好ましい。
このような実施形態の分光分析用光源において、精度の高い分析を可能にするには、パルス伸張素子3に入射するSC光のピーク照度の大きさも重要なパラメーターである。発明者の研究によると、SC光のピーク照度が1GW(ギガワット)/cm以下とすることが時間波長一意性の維持の観点から重要であることが判明した。以下、この点について説明する。
パルス伸張素子3に入射するSC光のピーク照度とは、パルス伸張素子3の入射面での有効な照度であり、1パルス内の時間経過において最も高い照度(全波長での照度)のことである。「有効な照度」とは、パルス伸張素子3に入射して伝搬していくという意味において有効な光の照度ということである。図7は、高ピーク値のSC光をパルス伸張させた場合の出力光の乱れについて確認した実験の結果を示した図である。図7において縦軸は対数目盛である。
図7に結果を示す実験では、中心波長1064nm、パルス幅2ナノ秒のマイクロチップレーザー光を非線形素子2としてのフォトニッククリスタルファイバーに入れてSC光とし、これを長さ5kmのシングルモードファイバーでパルス伸張させた。シングルモードファイバーは、1100~1200nmの範囲で正常分散のファイバーである。この際、シングルモードファイバーへの入射SC光のエネルギーを、0.009μJ、0.038μJ、0.19μJ、0.79μJと変化させた。
図7に示すように、入射SC光のエネルギーが0.19μJまでの場合には、1100~1200nmの波長範囲において出射光強度の大きなばらつきはないが、0.79μJの場合、出射光強度は波長に応じて激しく変動する。このような変動は、パルス伸張素子3としてのシングルモードファイバーに入射して伝搬する過程でSC光に意図しないさらなる非線形効果が生じたことを示すものと考えられる。このように激しい変動が生じると、上述したようにダイナミックレンジの関係で分析精度が低下してしまう。また、このような意図しない非線形効果が生じると、時間波長一意性も低下するため、その点でも分析精度が低下してしまう。
図7に結果を示す実験では、入射SC光のパルス幅は変わっていないので、ピーク値を変化させたということになる。この場合、発明者の研究によると、ピーク値が300W以上の場合にこのような意図しない非線形効果が生じ易い。パルス伸張素子3としてのファイバーのモードフィールド径は6μm程度であるので、入射光のピーク照度は一般的には1GW/cm以下とすることが望ましいということになる。
このような実施形態の分光分析用光源、分光分析装置又は分光分析方法によれば、SC光を分光分析用の光として試料に照射するので、高速で高感度の分光分析が可能となる。即ち、SC光は、非線形効果によって広帯域化させた光ではあるものの、高エネルギーの光を効率良く試料に照射することが可能である。このため、数回のパルス光の照射が必要になったとしても、従来に比べて高速での測定が可能である。高照度での照射が可能になることから、気相試料に比べて一般的に吸収が大きくなる固相、液相の試料の分光分析に特に適している。高照度での照射が可能になるということは、吸収が大きな試料についても比較的に強い透過光を受光器に到達させることができるようになることを意味しており、高感度の分光分析が可能になることを意味している。
そして、1100~1200nmの波長域を分光分析の帯域として含めることができるため、この帯域での分子振動のオーバートーン吸収について分析を行うことができ、高速、高感度、高SN比の分光分析をこの帯域で行うことができるようになる。この際、1100nm以上1200nm以下の波長域におけるスペクトル強度平坦性が±50%以内であるので、ダイナミックレンジの関係で分析の精度が低下してしまうことはなく、高精度の分光分析をこの帯域で行うことができる。
またこの際、時間波長一意性における時間分散の大きさΔt/Δλが10ピコ秒以上であるので、実用的な検出系の応答速度において1nm以上の波長分解能を実現することができる構成となっている。即ち、受光器4の信号の出力周期やAD変換器6の処理速度が検出系の応答速度を規定するが、これらは10ピコ秒程度が限度である。したがって、Δt/Δλが10ピコ秒以上としておくことで、1nm以上の波長分解能が実現できる実用的な構成が提供されることになる。
また、ピーク照度の高いSC光がパルス伸張素子に入射することはないので、意図しない非線形効果が生じて出力光の時間波長一意性が崩れたり、スペクトル強度平坦性が限度以上に低下したりする恐れが低減されている。この効果を得るには、上記のようにパルス伸張素子に入射するSC光のピーク照度は1GW/cm以下であることが好ましい。
次に、上記実施形態に属する幾つかの実施例について説明する。
図8は、実施例1の分光分析用光源の出力特性を示す概略図である。実施例1では、パルスレーザー源1としてゲインスイッチレーザー(中心波長1060nm、パルス幅100ピコ秒、繰り返し周波数1MHz、平均パワー200mW)が使用された。このパルスレーザー源1からの光を、非線形素子2としての非線形ファイバーに入射させてSC光を生成し、生成したSC光を1100~1200nmの範囲でシングルモード伝搬かつ正常分散(-10ps/nm/km以下)のファイバーでパルス伸張させた。ファイバーの長さは、3kmとした。図8(1)は、この実施例におけるパルス伸張後の波長対強度の関係を示し、図8(2)は、波長対時間の関係を示す図である。
図8(1)に示すように、この実施例によれば、1100~1200nmの範囲で±30%程度となっており、50%以内のスペクトル強度平坦性が得られている。また、図8(2)に示すように、この実施例によれば、1nmあたりの分散は80ピコ秒程度であり、10ピコ秒/nm以上分散した状態で時間波長一意性が得られていることがわかる。
また、図9は、実施例2の分光分析用光源の出力特性を示す概略図である。実施例2では、パルスレーザー源1としてマイクロチップレーザー(中心波長1064nm、パルス幅2ナノ秒、繰り返し周波数20kHz、平均パワー100mW)が使用された。このパルスレーザー源1からの光を非線形素子2としてフォトニッククリスタルファイバーに入射させてSC光を生成した。このSC光を、パルス伸張素子3として1100~1200nmの範囲でシングルモード伝搬かつ正常分散(-10ps/nm/km以下)のファイバーに入射させてパルス伸長させた。ファイバーの長さは、長さ3kmとした。
図9(1)は、この実施例におけるパルス伸張後の波長対強度の関係を示し、図9(2)は、波長対時間の関係を示す図である。
図9(1)に示すように、この実施例によれば、1100~1200nmの範囲で同様に±30%程度となっており、50%以内のスペクトル強度平坦性が得られている。また、図9(2)に示すように、この実施例によれば、1100~1200nmにおける1nmあたりの分散は同様に80ピコ秒程度であり、10ピコ秒/nm以上分散した状態で時間波長一意性が得られていることがわかる。
この他、図示は省略するが、Ybファイバーレーザー(中心波長1060nm、パルス幅2ピコ秒、繰り返し周波数1MHz、平均パワー10mW)をパルスレーザー源1として使用し、このレーザー源からの光を非線形ファイバーに入射させてSC光を生成した。このSC光を、同様に正常分散のシングルモードファイバーでパルス伸張させたところ、同様に1100~1200nmの範囲でスペクトル強度平坦性50%以内、10ピコ秒/nm以上の分散で時間波長一意性が達成された。
次に、パルス伸張素子3の他の例について図10を参照して説明する。図10は、パルス伸張素子3の他の例について示した概略図である。パルス伸張素子3としては、ファイバーの他、回折格子、チャープドファイバーブラッググレーティング(CFBG)、プリズム等を使用して構成することができる。例えば、図10(1)に示すように、2個の回折格子81を使用して波長分散させる。この際、波長に応じて光路差を形成し、時間波長一意性を達成した状態でパルス伸張する。この例では、長波長の光ほど光路が短くなるようにしている。
また、図10(2)に示すように、CFBG82を使用してパルス伸張することも可能である。FBGは、コアの長さ方向に屈折率が変化する部位を周期的に設けて回折格子を構成したファイバーであるが、このうち、CFBG82は、チャープミラーの機能をファイバーを使って実現されるように反射位置が波長に応じて異なる位置となるようにしたものということができる。パルス伸張素子3として用いる場合、CFBG82において、入射した光のうち、例えば長波長側の光はファイバー中の進行方向の手前側で反射して戻り、短波長側になるにつれて奥側で反射して戻るようコア内の屈折率変動層を形成する。これは、正常分散ファイバーと同等の構成である。短波長側ほど遅れて戻ってくるので、同様に時間波長一意性が確保される。
さらに、図10(3)に示すように、プリズム83を使用してパルス伸張することもできる。この例では、4個のプリズム83を使用し、短波長側ほど光路が長くなるように配置することでパルス伸張素子3を構成している。この例でも、短波長側ほど遅れて受光器4に到達するので、時間波長一意性が確保される。
尚、図10(1)~(3)の例では、光を折り返す際に光路差を形成している。復路の光を取り出す構成としては、偏光ビームスプリッタと1/4波長板を組み合わせたものをパルス伸張素子3の手前の光路上に配置する構成が採用できる。往路については偏光ビームスプリッタ、1/4波長板の順に光が進んでパルス伸張素子3に入射し、復路についてはパルス伸張素子3から戻った光が1/4波長板、偏光ビームスプリッタの順に進むように構成する。
尚、上記各実施形態では、試料を透過した光が受光器4に入射して分光分析されるように説明したが、試料に反射した光が受光器に入射して分光分析される場合もある。反射光については、試料の表面での反射の場合の他、内部反射光(インタラクタンス反射光)の場合もある。
また、分光分析装置、分光分析方法の構成としては、光源10からの光を試料Sを経ないで受光器に入射させる参照用光学系が設けられることもある。この場合、光源10からの光をビームスプリッタ等で測定用の光と参照用の光に分割してそれぞれ受光器で強度を検出する構成を採用し、リアルタイムで基準スペクトルデータを得て分光分析する場合もある。
1 パルスレーザー源
2 非線形素子
3 パルス伸張素子
4 受光器
5 演算手段
6 AD変換器
7 受け板

Claims (7)

  1. 固相又は液相の試料に光を照射し、照射された試料からの光のスペクトルを測定することで当該試料を分析する際に使用される分光分析用光源であって、
    パルスレーザ源と、
    パルスレーザ源からの光に非線形効果を生じさせて1100nm以上1200nm以下を含む波長域のスーパーコンティニウム光を出力する非線形素子と、
    非線形素子からのスーパーコンティニウム光のパルス幅を伸張させるパルス伸張素子と
    を備えており、
    パルス伸張素子は、1100nm以上1200nm以下の波長域での1パルス内における波長と経過時間との関係が1対1となるようパルス伸張を行う素子であって、1100nm以上1200nm以下の波長域での波長1nmあたりの時間分散が10ピコ秒以上となるようパルス伸張を行う素子であり、
    パルス伸張素子に入射するスーパーコンティニウム光のピーク照度が1GW/cm 以下であることを特徴とする分光分析用光源。
  2. 前記パルス伸張素子は、1100nm以上1200nm以下の波長域におけるスペクトル強度平坦性が±50%以内となるよう前記パルス伸張を行う素子であることを特徴とする請求項1に記載の分光分析用光源。
  3. 前記非線形素子は、フォトニッククリスタルファイバー又は非線形ファイバーであることを特徴とする請求項1または2いずれかに記載の分光分析用光源。
  4. 前記パルス伸張素子は、シングルモードファイバー、マルチモードファイバー、回折格子、チャープドファイバーブラッググレーティング又はプリズムで構成されていることを特徴とする請求項1乃至3いずれかに記載の分光分析用光源。
  5. 前記パルス伸張素子は、長さ10km以下のシングルモードファイバーで構成されていることを特徴とする請求項1乃至3いずれかに記載の分光分析用光源。
  6. 固相又は液相の試料に対して光を照射することができる位置に配置された、請求項1乃至いずれかに記載の分光分析用光源と、
    この分光分析用光源からの光が照射された試料からの光を受光する位置に配置され、試料からの光の強度を検出して出力する受光器と、
    受光器からの出力の時間的変化をスペクトルに変換する演算手段と
    を備えていることを特徴とする分光分析装置。
  7. 請求項1乃至いずれかに記載の分光分析用光源からの光を固相又は液相の試料に照射する工程と、
    光照射された試料からの光を受光器で受光して光の強度を受光器に出力させる工程と、
    受光器からの出力の時間的変化を演算によりスペクトルに変換する工程と
    を含むことを特徴とする分光分析方法。
JP2018193889A 2018-10-12 2018-10-12 分光分析用光源、分光分析装置及び分光分析方法 Active JP7215060B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018193889A JP7215060B2 (ja) 2018-10-12 2018-10-12 分光分析用光源、分光分析装置及び分光分析方法
CN201980061103.XA CN112752967A (zh) 2018-10-12 2019-09-12 分光分析用光源、分光分析装置以及分光分析方法
DK19871348.9T DK3865850T3 (da) 2018-10-12 2019-09-12 Lyskilde til spektroskopisk analyse, spektroskopisk analyseindretning og spektroskopisk analysefremgangsmåde
EP19871348.9A EP3865850B1 (en) 2018-10-12 2019-09-12 Light source for spectroscopic analysis, spectroscopic analysis device, and spectroscopic analysis method
PCT/JP2019/035899 WO2020075441A1 (ja) 2018-10-12 2019-09-12 分光分析用光源、分光分析装置及び分光分析方法
US17/282,780 US11385173B2 (en) 2018-10-12 2019-09-12 Light source for spectroscopic analysis, spectroscopic analysis device, and spectroscopic analysis method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018193889A JP7215060B2 (ja) 2018-10-12 2018-10-12 分光分析用光源、分光分析装置及び分光分析方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020060537A JP2020060537A (ja) 2020-04-16
JP7215060B2 true JP7215060B2 (ja) 2023-01-31

Family

ID=70163671

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018193889A Active JP7215060B2 (ja) 2018-10-12 2018-10-12 分光分析用光源、分光分析装置及び分光分析方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US11385173B2 (ja)
EP (1) EP3865850B1 (ja)
JP (1) JP7215060B2 (ja)
CN (1) CN112752967A (ja)
DK (1) DK3865850T3 (ja)
WO (1) WO2020075441A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022042444A (ja) * 2020-09-02 2022-03-14 ウシオ電機株式会社 パルス分光装置及びマルチファイバ用照射ユニット
JP2022050277A (ja) * 2020-09-17 2022-03-30 ウシオ電機株式会社 分光測定方法、分光測定装置、製品検査方法、製品検査装置及び製品選別装置
JP7463926B2 (ja) * 2020-09-23 2024-04-09 ウシオ電機株式会社 錠剤分光測定方法、錠剤分光測定装置、錠剤検査方法及び錠剤検査装置
JP2022054350A (ja) * 2020-09-25 2022-04-06 ウシオ電機株式会社 アレイ導波路回折格子、広帯域光源装置及び分光測定装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008002815A (ja) 2006-06-20 2008-01-10 Univ Nagoya 波長変化パルス光発生装置およびこれを用いた光断層計測装置
WO2009098519A1 (en) 2008-02-08 2009-08-13 Fianium Limited A source of optical supercontinuum radiation
JP2009273550A (ja) 2008-05-13 2009-11-26 Canon Inc 光断層画像撮像装置
WO2017211374A1 (en) 2016-06-10 2017-12-14 Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e. V. Pulse light source device and method for creating cep stable fs laser pulses

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5862287A (en) * 1996-12-13 1999-01-19 Imra America, Inc. Apparatus and method for delivery of dispersion compensated ultrashort optical pulses with high peak power
US6249630B1 (en) * 1996-12-13 2001-06-19 Imra America, Inc. Apparatus and method for delivery of dispersion-compensated ultrashort optical pulses with high peak power
US6198568B1 (en) * 1997-04-25 2001-03-06 Imra America, Inc. Use of Chirped Quasi-phase-matched materials in chirped pulse amplification systems
JP5819309B2 (ja) * 2010-09-29 2015-11-24 株式会社日立ハイテクノロジーズ 生体ポリマーの光学的解析装置及び方法
EP2634551B1 (en) * 2010-10-28 2021-05-19 FOSS Analytical A/S Interferometer and fourier-transform spectroscopic analyzer
CN102713504B (zh) * 2010-12-17 2014-08-27 松下电器产业株式会社 表面形状测定方法及表面形状测定装置
JP2013205390A (ja) 2012-03-29 2013-10-07 Nagoya Univ 吸収分光計測装置
JP5658207B2 (ja) * 2012-06-18 2015-01-21 韓国電気研究院 異方性レーザー結晶を用いたレーザー装置
US9500634B2 (en) * 2012-12-31 2016-11-22 Omni Medsci, Inc. Short-wave infrared super-continuum lasers for natural gas leak detection, exploration, and other active remote sensing applications
JP2015007598A (ja) * 2013-06-26 2015-01-15 キヤノン株式会社 非線形発光測定装置
WO2015056049A1 (en) * 2013-10-15 2015-04-23 Uab Mgf Sviesos Konversija Laser pulse stretcher and compressor
JP6659565B2 (ja) * 2014-03-25 2020-03-04 エヌケイティー フォトニクス アクティーゼルスカブNkt Photonics A/S 微細構造ファイバおよびスーパーコンティニューム光源
US9244002B1 (en) * 2014-08-01 2016-01-26 Institut National D'optique Optical method and system for measuring an environmental parameter
WO2016132349A1 (en) * 2015-02-19 2016-08-25 B. G. Negev Technologies And Applications Ltd., At Ben-Gurion University Transient bragg gratings in optical waveguides and their applications
JP2017067804A (ja) * 2015-09-28 2017-04-06 国立大学法人名古屋大学 スーパーコンティニュアム光源
JP6729878B2 (ja) * 2016-04-05 2020-07-29 ウシオ電機株式会社 多光子励起用スーパーコンティニウム光生成光源、多光子励起用スーパーコンティニウム光生成方法、多光子励起蛍光顕微鏡及び多光子励起方法
WO2017175747A1 (ja) * 2016-04-05 2017-10-12 ウシオ電機株式会社 スーパーコンティニウム光生成光源、スーパーコンティニウム光生成方法、多光子励起蛍光顕微鏡及び多光子励起方法
FR3063395B1 (fr) * 2017-02-28 2021-05-28 Centre Nat Rech Scient Source laser pour l'emission d'un groupe d'impulsions
US11300452B2 (en) * 2017-06-08 2022-04-12 Ushio Denki Kabushiki Kaisha Spectral measurement method, spectral measurement system, and broadband pulsed light source unit
JP7265908B2 (ja) * 2019-03-27 2023-04-27 ウシオ電機株式会社 錠剤検査方法及び錠剤検査装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008002815A (ja) 2006-06-20 2008-01-10 Univ Nagoya 波長変化パルス光発生装置およびこれを用いた光断層計測装置
WO2009098519A1 (en) 2008-02-08 2009-08-13 Fianium Limited A source of optical supercontinuum radiation
JP2009273550A (ja) 2008-05-13 2009-11-26 Canon Inc 光断層画像撮像装置
WO2017211374A1 (en) 2016-06-10 2017-12-14 Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e. V. Pulse light source device and method for creating cep stable fs laser pulses

Non-Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
HULT,J et al.,High bandwidth absorption spectroscopy with a dispersed supercontinuum source,OPTICS EXPRESS,2007年,Vol.15,No.18,p.11385-11395
KAMINSKI,C.F. et al.,Supercontinuum radiation for applications in chemical sensing and microscopy,Applied Physics B,2008年,Vol.92,pp. 367-378
REN,Z. et al.,Shot-to-shot spectrally-resolved characterization of continuous-wave-triggered supercontinuum near 1μm,2013 IEEE Photonics Conference,2013年,pp.396-397,DOI: 10.1109/IPCon.2013.6656604
SONG,H. et al.,Ultra-high-speed phase-sensitive optical coherence reflectometer with a stretched pulse supercontinuum source,Applied Optics,2011年,Vol. 50, Issue 21,pp. 4000-4004
佐原 純輝,外5名,チャープパルス光源を用いた高速近赤外分光装置の開発,第78回応用物理学会秋季学術講演会 講演予稿集,2017年,p.6p-A414-6

Also Published As

Publication number Publication date
US11385173B2 (en) 2022-07-12
DK3865850T3 (da) 2024-05-13
JP2020060537A (ja) 2020-04-16
EP3865850A4 (en) 2021-11-24
EP3865850B1 (en) 2024-04-17
US20210389237A1 (en) 2021-12-16
WO2020075441A1 (ja) 2020-04-16
CN112752967A (zh) 2021-05-04
EP3865850A1 (en) 2021-08-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7215060B2 (ja) 分光分析用光源、分光分析装置及び分光分析方法
JP7115387B2 (ja) 光測定用光源装置、分光測定装置及び分光測定方法
JP7070567B2 (ja) 分光測定方法、分光測定装置及び広帯域パルス光源ユニット
US8693004B2 (en) Dual-etalon cavity ring-down frequency-comb spectroscopy with broad band light source
Tosi et al. Rayleigh scattering characterization of a low-loss MgO-based nanoparticle-doped optical fiber for distributed sensing
JP7172415B2 (ja) 広帯域伸張パルス光源、分光測定装置及び分光測定方法
WO2020196688A1 (ja) 広帯域パルス光源装置、分光測定装置及び分光測定方法
WO2020196692A1 (ja) 広帯域パルス光源装置、分光測定装置及び分光測定方法
JP7147657B2 (ja) 広帯域パルス光源装置、分光測定装置及び分光測定方法
WO2020235441A1 (ja) 広帯域パルス光源装置、分光測定装置及び分光測定方法
JP4853255B2 (ja) ガス分析装置
WO2021024890A1 (ja) 広帯域パルス光源装置、分光測定装置、分光測定方法及び分光分析方法
JP7352962B2 (ja) ブリルアン周波数シフト測定装置及びブリルアン周波数シフト測定方法
JP2021047130A (ja) 分光測定装置及び方法
JP3393081B2 (ja) 光デバイスの特性評価システム
Wang et al. Dispersive Fourier transformation in the 800 nm spectral range
JP7238540B2 (ja) 広帯域パルス光源装置、分光測定装置及び分光測定方法
JP7238541B2 (ja) 分光測定装置及び分光測定方法
JP2012132704A (ja) ピークパワーモニター装置、およびピークパワーのモニター方法
WO2022064875A1 (ja) アレイ導波路回折格子、広帯域光源装置及び分光測定装置
CN116018503A (zh) 分光测量方法、分光测量装置、制品检查方法、制品检查装置及制品甄别装置
JP2012132706A (ja) パルス光のモニター装置、およびパルス光のモニター方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210922

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220705

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20220823

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221101

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20221220

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230102

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7215060

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151