JP7157368B2 - A wafer transport container, a wafer transport container position detection method, a wafer transport container position and impact detection method, a wafer transport container moving speed and acceleration control method, and a wafer transport container interior cleaning method. - Google Patents

A wafer transport container, a wafer transport container position detection method, a wafer transport container position and impact detection method, a wafer transport container moving speed and acceleration control method, and a wafer transport container interior cleaning method. Download PDF

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Description

本発明は、ウエハ搬送容器及びウエハ搬送容器の位置検出方法に関し、より詳細には、ウエハ搬送容器に設置されたセンサによってウエハ搬送容器の位置を検出できるようにしたウエハ搬送容器及びウエハ搬送容器の位置検出方法に関する。 BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer transport container and a wafer transport container position detection method, and more particularly, to a wafer transport container and a wafer transport container in which the position of the wafer transport container can be detected by a sensor installed in the wafer transport container. It relates to a position detection method.

半導体工場内では、半導体ウエハ等の基板が収容された容器（ＦＯＵＰ等）が、ＯＨＴ（オーバーヘッドトランスポート）等の搬送装置を介して各処理装置間を移動する。 In a semiconductor factory, containers (FOUPs, etc.) in which substrates such as semiconductor wafers are housed are moved between processing apparatuses via a carrier such as an OHT (overhead transport).

ウエハ搬送行程において、ウエハ搬送容器が工場内のどこに存在するかを検知するために、例えば特許文献１には、ウエハ搬送容器にＧＰＳ受信機を設置することが開示されている。 In order to detect the location of the wafer transfer container in the factory during the wafer transfer process, for example, Patent Document 1 discloses installing a GPS receiver in the wafer transfer container.

特表２００５－５１３４５９号公報Japanese translation of PCT publication No. 2005-513459

特許文献１に係るウエハ搬送容器の位置特定方法では、ＧＰＳ衛星からの電波が工場の天井や壁によって遮蔽され、ＧＰＳ受信機の受信感度が低下するため、安定かつ高精度な測位を行うことが困難である。 In the method for specifying the position of a wafer transport container according to Patent Document 1, radio waves from GPS satellites are blocked by the ceiling and walls of the factory, and the reception sensitivity of the GPS receiver decreases, so stable and highly accurate positioning cannot be performed. Have difficulty.

本発明は、このような実状に鑑みてなされ、ウエハ搬送容器の位置を安定的かつ高精度に検出することが可能なウエハ搬送容器の位置検出方法及びウエハ搬送容器を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a wafer transport container position detection method and wafer transport container capable of stably and highly accurately detecting the position of the wafer transport container. .

上記課題を解決するために、本発明は、ウエハを収容する収容部を備える本体と、加速度センサと角速度センサを備える検出部と、前記検出部によって取得した加速度データ及び角速度データ、または前記加速度データ及び前記角速度データから算出したデータを外部に送信する通信部とを有することを特徴とするウエハ搬送容器を提供する。 In order to solve the above-described problems, the present invention provides a main body having a housing portion for housing a wafer, a detection portion having an acceleration sensor and an angular velocity sensor, acceleration data and angular velocity data acquired by the detection portion, or the acceleration data. and a communication unit for transmitting data calculated from the angular velocity data to the outside.

本発明に係るウエハ搬送容器は、ＧＰＳを用いなくても、加速度センサと角速度センサによってウエハ搬送容器の位置を特定することができるため、天井や壁などの遮蔽物が存在する工場などの屋内においても、ウエハ搬送容器の位置を安定的かつ高精度に追跡することができる。 Since the wafer transport container according to the present invention can specify the position of the wafer transport container by the acceleration sensor and the angular velocity sensor without using GPS, it can be used indoors such as in a factory where there are shields such as ceilings and walls. Also, the position of the wafer transport container can be stably and accurately tracked.

また、例えば、前記検出部と前記通信部は、前記本体の底部に収納されていてもよい。 Further, for example, the detection section and the communication section may be housed in the bottom of the main body.

検出部と通信部がウエハ搬送容器本体の底部に収納されていることで、検出部と通信部がウエハ搬送容器の内部に存在することによる容器内部の汚染等を回避しながら、容器の状態を検出することができる。 Since the detection unit and the communication unit are housed in the bottom of the wafer transfer container body, the state of the container can be monitored while avoiding contamination of the inside of the container due to the presence of the detection unit and the communication unit inside the wafer transfer container. can be detected.

また、例えば、前記検出部と前記通信部は、前記本体の外面に着脱可能なアタッチメント部材として構成されていてもよい。 Further, for example, the detection section and the communication section may be configured as attachment members that can be attached to and detached from the outer surface of the main body.

検出部と通信部がウエハ搬送容器本体の外面に着脱可能なアタッチメント部材として構成されることで、検出部と通信部がウエハ搬送容器の内部に存在することによる容器内部の汚染等を回避しながら、容器の状態を検出することができる。また、ウエハ搬送容器の洗浄時等に検出部と通信部を容器から取り外したり、検出部と通信部を他のウエハ搬送容器に付け替えて使用したりすることができる。 By configuring the detection unit and the communication unit as attachment members that can be attached to and detached from the outer surface of the wafer transfer container body, the detection unit and the communication unit are present inside the wafer transfer container, thereby avoiding contamination of the inside of the container. , the state of the container can be detected. In addition, the detection unit and the communication unit can be removed from the container when cleaning the wafer transfer container, or the detection unit and the communication unit can be replaced with another wafer transfer container for use.

また、本発明に係るウエハ搬送容器は、前記検出部と前記通信部に電力を供給する電源部をさらに有し、前記電源部は、非接触給電によって外部から電力の供給を受ける受電部を備えていてもよい。 Further, the wafer transport container according to the present invention further includes a power supply section that supplies power to the detection section and the communication section, and the power supply section includes a power reception section that receives power supply from the outside by non-contact power supply. may be

検出部と通信部に電力を供給する電源部への電力供給が非接触給電によって行われることで、ウエハ搬送容器は、外部と導通する配線がなくても、検出部と通信部に電力を供給することができる。そのため、ウエハ搬送容器に電気的なデバイスである検出部及び通信部が設置されても、ウエハ搬送容器の気密性や耐久性が阻害されない。 Since power is supplied to the power supply unit that supplies power to the detection unit and the communication unit by non-contact power supply, the wafer transfer container can supply power to the detection unit and the communication unit without wiring that connects to the outside. can do. Therefore, even if the detection unit and the communication unit, which are electrical devices, are installed in the wafer transfer container, the airtightness and durability of the wafer transfer container are not hindered.

また、本発明に係るウエハ搬送容器は、前記加速度データと前記角速度データを処理するデータ処理部をさらに有していてもよい。 Moreover, the wafer transport container according to the present invention may further include a data processing section for processing the acceleration data and the angular velocity data.

ウエハ搬送容器が加速度データと角速度データを処理するデータ処理部を有していることで、データ処理装置をウエハ搬送容器の外部に設ける必要がないため、工場内におけるデータ処理装置の設置スペースを節減することができる。 Since the wafer transport container has a data processing unit that processes acceleration data and angular velocity data, there is no need to install the data processing equipment outside the wafer transport container, thus reducing the installation space for the data processing equipment in the factory. can do.

また、例えば、前記検出部は、温度センサ、湿度センサ、酸素センサ、窒素センサ、及びパーティクルカウンタから選ばれる少なくとも１つをさらに備えていてもよい。 Also, for example, the detection unit may further include at least one selected from a temperature sensor, a humidity sensor, an oxygen sensor, a nitrogen sensor, and a particle counter.

検出部が上述のセンサを備えることで、ウエハ搬送容器内部の環境状態を検出することができる。 The environmental condition inside the wafer transfer container can be detected by the detection unit including the above-described sensor.

また、本発明は、ウエハ搬送容器の加速度を検出する加速度検出ステップと、前記ウエハ搬送容器の角速度を検出する角速度検出ステップと、前記加速度検出ステップと前記角速度検出ステップにて取得した加速度データと角速度データを、前記ウエハ搬送容器が有するデータ処理部または外部に設けられたデータ処理装置に送信する加速度データ及び角速度データ送受信ステップと、前記データ送受信ステップにて取得した前記加速度データと前記角速度データに基づき、前記データ処理部または前記データ処理装置にて前記ウエハ搬送容器の位置を算出する位置算出ステップとを含むことを特徴とするウエハ搬送容器の位置検出方法を提供する。 Further, the present invention includes an acceleration detection step of detecting an acceleration of a wafer transfer container, an angular velocity detection step of detecting an angular velocity of the wafer transfer container, and acceleration data and angular velocity obtained in the acceleration detection step and the angular velocity detection step. an acceleration data and angular velocity data transmitting/receiving step of transmitting data to a data processing unit of the wafer transport container or an external data processing device; and based on the acceleration data and the angular velocity data acquired in the data transmitting/receiving step. , and a position calculating step of calculating the position of the wafer carrier in the data processing unit or the data processing device.

本発明に係るウエハ搬送容器の位置検出方法は、ＧＰＳを用いることなく、加速度センサと角速度センサによってウエハ搬送容器の位置を特定するため、天井や壁などの遮蔽物が存在する工場などの屋内においても、ウエハ搬送容器の位置を安定的かつ高精度に追跡することができる。 The method for detecting the position of a wafer transport container according to the present invention uses an acceleration sensor and an angular velocity sensor to specify the position of the wafer transport container without using GPS. Also, the position of the wafer transport container can be stably and accurately tracked.

また、例えば、前記位置算出ステップでは、前記データ処理部にて前記ウエハ搬送容器の位置を算出し、算出した前記ウエハ搬送容器の位置データを外部に送信する位置データ送受信ステップがさらに含まれていてもよい。 Further, for example, the position calculation step further includes a position data transmission/reception step of calculating the position of the wafer transfer container in the data processing unit and transmitting the calculated position data of the wafer transfer container to the outside. good too.

ウエハ搬送容器に設けられたデータ処理部でウエハ搬送容器の位置を算出することで、ウエハ搬送容器自体が、他の機器に対してウエハ搬送容器の位置を通信することができる。 By calculating the position of the wafer transport container in the data processing unit provided in the wafer transport container, the wafer transport container itself can communicate the position of the wafer transport container to other devices.

また、例えば、前記ウエハ搬送容器がロードポートに載置されたことを検出する載置検出ステップがさらに含まれ、前記位置算出ステップにおいて、前記ウエハ搬送容器の位置は、前記ウエハ搬送容器がロードポートに載置された位置との相対位置として算出されてもよい。 Further, for example, a placement detection step of detecting that the wafer transfer container is placed on the load port is further included, and in the position calculation step, the position of the wafer transfer container is determined by determining whether the wafer transfer container is placed on the load port. may be calculated as a relative position to the position placed on the .

ウエハ搬送容器の位置を、ウエハ搬送容器がロードポートに載置された位置との相対位置として算出することで、ロードポートを基準にしてウエハ搬送容器の位置を追跡することができる。 By calculating the position of the wafer transport container relative to the position where the wafer transport container is placed on the load port, the position of the wafer transport container can be tracked with reference to the load port.

また、例えば、前記ウエハ搬送容器がロードポートに載置されたことを検出する載置検出ステップと、前記ウエハ搬送容器がロードポートに載置された状態の前記加速度データ、前記角速度データ、及び前記ウエハ搬送容器の位置データを用いて、前記加速度データ、前記角速度データ、及び前記ウエハ搬送容器の位置データのうちの少なくとも１つを補正する補正ステップとがさらに含まれてもよい。 Further, for example, a placement detection step of detecting that the wafer transfer container is placed on the load port, the acceleration data, the angular velocity data, and the A correction step of correcting at least one of the acceleration data, the angular velocity data, and the position data of the wafer transport container using the position data of the wafer transport container may be further included.

ウエハ搬送容器がロードポートに載置された状態の加速度データ、角速度データ、及び位置データを用いて加速度データ、角速度データ、位置データの補正を行うことで、これらの誤差を低減または防止し、ウエハ搬送容器の位置をより高精度に検出することができる。 By correcting the acceleration data, the angular velocity data, and the position data using the acceleration data, the angular velocity data, and the position data in the state where the wafer transport container is placed on the load port, these errors are reduced or prevented, and the wafer The position of the transport container can be detected with higher accuracy.

また、本発明は、上述のウエハ搬送容器の位置検出方法に加え、前記加速度データ及び角速度データ送受信ステップにて取得した前記加速度データに基づき、前記データ処理部または前記データ処理装置にて前記ウエハ搬送容器に加わる衝撃を算出する衝撃算出ステップを含むことを特徴とするウエハ搬送容器の位置及び衝撃検出方法を提供する。 Further, in addition to the above-described method for detecting the position of a wafer transfer container, the present invention provides a method for transferring the wafer by the data processing unit or the data processing apparatus based on the acceleration data acquired in the step of transmitting and receiving the acceleration data and the angular velocity data. A method for detecting the position and impact of a wafer transfer container is provided, comprising an impact calculation step of calculating impact applied to the container.

上述のウエハ搬送容器の位置検出方法に加え、ウエハ搬送容器に加わる衝撃を算出する衝撃算出ステップを含むことで、ウエハ搬送容器への衝撃と、衝撃発生時のウエハ搬送容器の位置を同時に検出することができる。 In addition to the above-described wafer transport container position detection method, by including an impact calculation step of calculating the impact applied to the wafer transport container, the impact to the wafer transport container and the position of the wafer transport container at the time of occurrence of the impact are simultaneously detected. be able to.

また、本発明は、上述のウエハ搬送容器の位置及び衝撃検出方法に加え、前記位置算出ステップにて取得した位置データと、前記衝撃算出ステップにて取得した衝撃データとに基づき、前記ウエハ搬送容器の位置に応じて前記ウエハ搬送容器を移動させる速度及び加速度を調整する移動速度及び加速度調整ステップを含むことを特徴とするウエハ搬送容器の移動速度及び加速度制御方法を提供する。 In addition to the position and impact detection method of the wafer transport container described above, the present invention also provides the wafer transport container based on the position data obtained in the position calculation step and the impact data obtained in the impact calculation step. A moving speed and acceleration control method for a wafer transport container, comprising a moving speed and acceleration adjusting step of adjusting the speed and acceleration of moving the wafer transport container according to the position of the wafer transport container.

ウエハの搬送行程において、ウエハ搬送容器に衝撃が加わらないように、搬送装置やロードポートによってウエハ搬送容器を移動させる速度及び加速度を調整することで、衝撃によりウエハ搬送容器の内部が汚染されることを防止し、ウエハの歩留まりを向上させることができる。 During the wafer transfer process, the speed and acceleration of movement of the wafer transfer container are adjusted by the transfer device and the load port so that the wafer transfer container is not subjected to impact, thereby preventing the interior of the wafer transfer container from being contaminated by the impact. can be prevented and the wafer yield can be improved.

また、本発明は、上述のウエハ搬送容器の位置検出方法、ウエハ搬送容器の位置及び衝撃検出方法、またはウエハ搬送容器の移動速度及び加速度制御方法に加え、前記ウエハ搬送容器の加速度または前記ウエハ搬送容器に加わる衝撃が所定値を超えた場合に、前記ウエハ搬送容器の内部を清浄化するウエハ搬送容器内清浄化ステップを含むことを特徴とするウエハ搬送容器内清浄化方法を提供する。 In addition to the above-described wafer transport container position detection method, wafer transport container position and impact detection method, or wafer transport container movement speed and acceleration control method, the present invention also provides the wafer transport container acceleration or wafer transport detection method. Provided is a method for cleaning the interior of a wafer transport container, comprising a cleaning step of cleaning the interior of the wafer transport container when an impact applied to the container exceeds a predetermined value.

ウエハ搬送容器に所定値を超える衝撃が加わった場合にウエハ搬送容器を清浄化工程に移送し、衝撃によって汚染されたウエハ搬送容器の内部を清浄化することで、ウエハの歩留まりを向上させることができる。 When an impact exceeding a predetermined value is applied to the wafer transport container, the wafer transport container is transferred to a cleaning process to clean the inside of the wafer transport container contaminated by the impact, thereby improving the wafer yield. can.

図１は、本発明の一実施形態に係るウエハ搬送容器の概略斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view of a wafer transport container according to one embodiment of the present invention. 図２は、本発明の一実施形態に係る検出装置の概略斜視図である。FIG. 2 is a schematic perspective view of a detection device according to one embodiment of the present invention. 図３は、本発明の一実施形態に係るウエハ搬送容器の位置検出方法の構成を示すブロック図である。FIG. 3 is a block diagram showing the configuration of the position detection method for the wafer transfer container according to one embodiment of the present invention. 図４は、本発明の一実施形態に係るウエハ搬送容器の位置検出方法の構成を示すブロック図である。FIG. 4 is a block diagram showing the configuration of the wafer transfer container position detection method according to one embodiment of the present invention. 図５は、本発明の一実施形態に係るウエハ搬送容器がロードポートに載置された状態を示す概略斜視図である。FIG. 5 is a schematic perspective view showing a state in which the wafer transfer container according to one embodiment of the present invention is placed on the load port. 図６は、ウエハ搬送容器が搬送装置（ＯＨＴ）によって搬送される様子を示す概略図である。FIG. 6 is a schematic diagram showing how the wafer transfer container is transferred by the transfer device (OHT).

以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づいて説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings.

図１は、本発明の一実施形態に係るウエハ搬送容器１０を示す概略斜視図である。ウエハ搬送容器１０は、半導体工場内においてウエハを収容及び搬送するための容器（ＦＯＵＰ等）である。図１に示すように、ウエハ搬送容器１０は、箱型の外形状を有し、内部にウエハ（不図示）を収容する空間（収容部）が形成された本体１を有する。ウエハ搬送容器１０の本体１の複数の側面の一つには、ウエハ搬送容器１０内にウエハを出し入れするための開口３が形成されている。ウエハの搬送を行う際、ウエハ搬送容器１０の開口３には、ウエハ搬送容器１０の内部を密閉するための蓋（不図示）が着脱自在に配置される。 FIG. 1 is a schematic perspective view showing a wafer transport container 10 according to one embodiment of the present invention. The wafer transfer container 10 is a container (FOUP or the like) for containing and transferring wafers in a semiconductor factory. As shown in FIG. 1, the wafer transport container 10 has a box-shaped outer shape and has a main body 1 in which a space (accommodating portion) for accommodating wafers (not shown) is formed. One of a plurality of side surfaces of the main body 1 of the wafer transport container 10 is formed with an opening 3 for loading and unloading wafers into the wafer transport container 10 . A lid (not shown) for sealing the inside of the wafer transport container 10 is detachably arranged in the opening 3 of the wafer transport container 10 when wafers are transported.

図１に示すように、ウエハ搬送容器１０の本体１の底部２には、ウエハ搬送容器１０の状態を検出して通知する検出装置２０が設けられている。図１において、検出装置２０は、開口３に対して近い位置に配置された２箇所の底部開口４（ウエハ搬送容器１０の内部を清浄化する際、パージガスの給排気孔として使用される）の間に設けられているが、検出装置２０の配置はこれに限定されない。また、検出装置２０は、ウエハ搬送容器１０の本体１の底部２に収納されていてもよいし、ウエハ搬送容器１０の本体１の外面に設けられていてもよい。 As shown in FIG. 1, the bottom 2 of the main body 1 of the wafer transfer container 10 is provided with a detection device 20 for detecting and notifying the state of the wafer transfer container 10 . In FIG. 1, the detector 20 detects two bottom openings 4 (used as purge gas supply/exhaust holes when cleaning the inside of the wafer transfer container 10) located near the opening 3. Although provided between them, the arrangement of the detection device 20 is not limited to this. Further, the detection device 20 may be accommodated in the bottom portion 2 of the main body 1 of the wafer transfer container 10 or may be provided on the outer surface of the main body 1 of the wafer transfer container 10 .

図２は、本発明の一実施形態に係る検出装置２０の概略斜視図である。図２に示すように、検出装置２０は、検出部２１、通信部２２及び電源部２３が配置された基板２４を備えており、基板２４の表面の大部分が樹脂等からなる被覆部２５で覆われた構成を有している。検出装置２０は、例えば、ウエハ搬送容器１０の本体１の底部２に収納されている。 FIG. 2 is a schematic perspective view of a detection device 20 according to one embodiment of the invention. As shown in FIG. 2, the detection device 20 includes a substrate 24 on which a detection unit 21, a communication unit 22, and a power supply unit 23 are arranged. It has a covered configuration. The detection device 20 is accommodated, for example, in the bottom portion 2 of the main body 1 of the wafer transfer container 10 .

検出装置２０は、ウエハ搬送容器１０の本体１から着脱可能に収納されてもよいし、着脱不可に収納されてもよい。例えば、図１に示す検出装置２０は、外部から見えないように、底部２の内部に収容されていてもよく、また、ウエハ搬送容器１０の本体１の外面２ａ（例えば、底部２の外側面）に着脱可能なアタッチメント部材として構成されていてもよい。 The detection device 20 may be housed detachably from the main body 1 of the wafer transport container 10, or may be housed non-detachably. For example, the detection device 20 shown in FIG. 1 may be housed inside the bottom portion 2 so as not to be seen from the outside, and may also be located on the outer surface 2a of the main body 1 of the wafer transport container 10 (for example, the outer surface of the bottom portion 2). ) as a detachable attachment member.

検出装置２０を外面２ａに着脱可能に配置することで、検出装置２０やその収容部分がウエハ搬送容器１０の内部に存在することでウエハ搬送容器１０内部の清浄度を低下させるパーティクル発生源等となる問題を回避しながら、ウエハ搬送容器１０の状態を検出することができる。さらに、検出装置２０をウエハ搬送容器１０の本体１に着脱可能に構成することで、ウエハ搬送容器１０の洗浄時等に検出装置２０をウエハ搬送容器１０から取り外すことが可能であり、また、必要に応じて、検出装置２０を他のウエハ搬送容器１０に付け替えて使用することができる。ただし、検出装置２０の形状及び構造はこれらに限定されるものではない。 By detachably arranging the detection device 20 on the outer surface 2a, the presence of the detection device 20 and its accommodating portion inside the wafer transfer container 10 prevents a particle generation source or the like that lowers the cleanliness inside the wafer transfer container 10. It is possible to detect the state of the wafer transport container 10 while avoiding the following problems. Further, by configuring the detection device 20 to be detachable from the main body 1 of the wafer transfer container 10, the detection device 20 can be removed from the wafer transfer container 10 when cleaning the wafer transfer container 10 or the like. Depending on the situation, the detector 20 can be replaced with another wafer carrier 10 for use. However, the shape and structure of the detection device 20 are not limited to these.

図２に示す検出装置２０の検出部２１は、ウエハ搬送容器１０の状態を検出する複数のセンサを備える。図３に示すように、検出部２１は、加速度センサ２１ａと角速度センサ（ジャイロセンサ）２１ｂを備える。ただし、検出部２１が備えるセンサは、加速度センサ２１ａと角速度センサ２１ｂのみに限定されない。検出部２１は、ウエハ搬送容器１０内部の環境状態（気体成分や清浄度等）を検出する内部状態検出センサ２１ｃをさらに備えていてもよい。内部状態検出センサ２１ｃとしては、例えば、温度センサ、湿度センサ、酸素センサ、窒素センサ及びパーティクルカウンタ等が挙げられる。 A detection unit 21 of the detection device 20 shown in FIG. 2 includes a plurality of sensors for detecting the state of the wafer transfer container 10 . As shown in FIG. 3, the detection unit 21 includes an acceleration sensor 21a and an angular velocity sensor (gyro sensor) 21b. However, the sensors included in the detection unit 21 are not limited to the acceleration sensor 21a and the angular velocity sensor 21b. The detection unit 21 may further include an internal state detection sensor 21c that detects the environmental state (gas component, cleanliness, etc.) inside the wafer transfer container 10 . Examples of the internal state detection sensor 21c include a temperature sensor, a humidity sensor, an oxygen sensor, a nitrogen sensor, a particle counter, and the like.

図３に示す内部状態検出センサ２１ｃを有する検出部２１は、図２に示すように、被覆部２５から露出したセンシング部２１ｄを備える。センシング部２１ｄは、ウエハ搬送容器１０の底部２においてセンシング部２１ｄに対応する位置に設けられた貫通孔（不図示）を介して、ウエハ搬送容器１０における収容部５の雰囲気と接触しており、内部状態検出センサ２１ｃは、センシング部２１ｄを介してウエハ搬送容器１０内部の環境状態を検出する。 The detection section 21 having the internal state detection sensor 21c shown in FIG. 3 includes a sensing section 21d exposed from the covering section 25 as shown in FIG. The sensing portion 21d is in contact with the atmosphere of the housing portion 5 of the wafer transport container 10 through a through hole (not shown) provided in the bottom portion 2 of the wafer transport container 10 at a position corresponding to the sensing portion 21d. The internal state detection sensor 21c detects the environmental state inside the wafer transfer container 10 via the sensing section 21d.

図３に示すように、通信部２２は、加速度センサ２１ａ、角速度センサ２１ｂ、及び内部状態検出センサ２１ｃによって取得したデータをウエハ搬送容器１０の外部に設けられたホストコンピュータ３０のデータ処理装置４０に無線送信する。ホストコンピュータ３０は、工場内におけるウエハの搬送を制御するコンピュータである。なお、データ処理装置４０は、必ずしもホストコンピュータ３０に配置されている必要はなく、ウエハ搬送容器１０の外部の任意の場所に設けることができる。ただし、第２実施形態に示すように、データ処理装置は、ウエハ搬送容器１０の内部に配置される場合もある。また、通信部２２は、ウエハ搬送容器１０の外部に設けられた制御装置から検出装置２０に関する制御信号を受信することも可能である。通信部２２は、モデムやアンテナ等で構成されるが、通信部２２の具体的な構成については、特に限定されない。 As shown in FIG. 3, the communication unit 22 transmits data acquired by the acceleration sensor 21a, the angular velocity sensor 21b, and the internal state detection sensor 21c to the data processing device 40 of the host computer 30 provided outside the wafer transfer container 10. Send wirelessly. The host computer 30 is a computer that controls wafer transfer within the factory. Note that the data processing device 40 does not necessarily have to be arranged in the host computer 30 , and can be arranged in any place outside the wafer transfer container 10 . However, as shown in the second embodiment, the data processing apparatus may be arranged inside the wafer transport container 10 in some cases. The communication unit 22 can also receive a control signal regarding the detection device 20 from a control device provided outside the wafer transfer container 10 . The communication unit 22 is composed of a modem, an antenna, and the like, but the specific configuration of the communication unit 22 is not particularly limited.

図２に示すように、電源部２３は、ウエハ搬送容器１０の外部から電力を受け取る受電部２３ａと、受電部２３ａが受け取った電力を蓄える蓄電部２３ｂとを有する。受電部２３ａとしては、例えば、蓄電部２３ｂへの非接触充電に用いられる受電コイルなどが挙げられる。蓄電部２３ｂとしては、リチウムイオン二次電池、電気二重層キャパシタ（ＥＤＬＣ）、全固体電池などが例示されるが、特に限定されない。電源部２３が受電部２３ａと蓄電部２３ｂとを有することにより、電池の交換等を行わなくても、継続的にウエハ搬送容器１０の状態検出及び検出結果の通信を行うことができる。したがって、このようなウエハ搬送容器１０は、電池の寿命を管理する手間を削減することができ、電池の管理コスト及び交換コストを低減することができる。 As shown in FIG. 2, the power supply unit 23 has a power receiving unit 23a that receives power from the outside of the wafer transfer container 10, and a power storage unit 23b that stores the power received by the power receiving unit 23a. As the power receiving unit 23a, for example, a power receiving coil used for contactless charging of the power storage unit 23b may be used. A lithium ion secondary battery, an electric double layer capacitor (EDLC), an all-solid-state battery, and the like are exemplified as the electric storage unit 23b, but the electric storage unit 23b is not particularly limited. Since the power supply unit 23 has the power receiving unit 23a and the power storage unit 23b, it is possible to continuously detect the state of the wafer transport container 10 and communicate the detection results without exchanging the battery. Therefore, such a wafer transfer container 10 can reduce the trouble of managing the life of the battery, and can reduce the management cost and replacement cost of the battery.

本実施形態において、電源部２３の受電部２３ａは、非接触充電用の受電コイルを有しており、ロードポート６０（図４参照）の載置台６１に設けられた給電部から、電磁誘導により電力の供給を受ける。ロードポート６０の給電部は、例えば、ウエハ搬送容器１０が載置台６１に載置された状態において、電源部２３の受電コイルに対向するように設けられた非接触給電用の給電コイルを有する。 In this embodiment, the power receiving unit 23a of the power supply unit 23 has a power receiving coil for non-contact charging, and receives power from the power supply unit provided on the mounting table 61 of the load port 60 (see FIG. 4) by electromagnetic induction. Receive power. The power supply unit of the load port 60 has, for example, a power supply coil for non-contact power supply provided to face the power receiving coil of the power supply unit 23 when the wafer transfer container 10 is placed on the mounting table 61 .

受電部２３ａが非接触充電用の受電コイルを有することにより、ウエハ搬送容器１０は、外部と導通する配線がなくても、蓄電部２３ｂを充電することができる。そのため、ウエハ搬送容器１０に電気的なデバイスである検出部２１及び通信部２２が設置されても、ウエハ搬送容器１０の気密性や耐久性をほとんど阻害することがない。受電部２３ａを介して蓄電部２３ｂが蓄えた電力は、検出部２１や通信部２２に供給され、ウエハ搬送容器１０の状態検出や検出データの送受信などに利用される。 Since the power receiving unit 23a has a power receiving coil for non-contact charging, the wafer transfer container 10 can charge the power storage unit 23b without a wiring for conducting with the outside. Therefore, even if the detection unit 21 and the communication unit 22, which are electrical devices, are installed in the wafer transfer container 10, the airtightness and durability of the wafer transfer container 10 are hardly hindered. The power stored in the power storage unit 23b through the power receiving unit 23a is supplied to the detection unit 21 and the communication unit 22, and is used for detecting the state of the wafer transport container 10 and transmitting/receiving detection data.

図２に示す被覆部２５は、ウエハ搬送容器１０内の雰囲気に接触するセンシング部２１ｄを除く検出部２１、通信部２２、及び電源部２３をウエハ搬送容器１０においてウエハを収容する収容部５の雰囲気に接触しないように被覆している。このような被覆部２５を有する検出装置２０は、検出部２１、通信部２２、及び電源部２３を構成する回路や電子部品等を、ウエハ搬送容器１０に収容されたウエハから放出されるアウトガス等から保護することができるため、好適な信頼性を有する。 The covering unit 25 shown in FIG. 2 covers the detection unit 21 , the communication unit 22 , and the power supply unit 23 excluding the sensing unit 21 d that contacts the atmosphere in the wafer transfer container 10 , in the storage unit 5 that stores the wafers in the wafer transfer container 10 . Covered to prevent contact with the atmosphere. The detection device 20 having such a covering portion 25 protects the circuits and electronic components constituting the detection portion 21 , the communication portion 22 , and the power supply portion 23 from outgassing and the like emitted from the wafers accommodated in the wafer transfer container 10 . It has suitable reliability because it can be protected from

以下で述べるように、本発明では、検出部２１が有する加速度センサ２１ａと角速度センサ２１ｂを用いて、ウエハ搬送容器１０の位置を特定することができる。 As described below, in the present invention, the position of the wafer transport container 10 can be specified using the acceleration sensor 21a and the angular velocity sensor 21b of the detection section 21. FIG.

加速度センサ２１ａは、検出方向における移動体の加速度、すなわち単位時間あたりの速度の変化量に応じた値を出力するセンサである。加速度センサ２１ａとしては、例えば、静電容量型加速度センサ、ピエゾ抵抗型加速度センサなどが例示されるが、特に限定されない。加速度センサ２１ａは、ウエハ搬送容器１０の少なくとも１軸方向の加速度を検出可能に構成され、好ましくは３軸方向の加速度を検出可能な３軸加速度センサとして構成される。加速度センサ２１ａを３軸加速度センサとして構成することで、センサを小型化できるとともに、より正確な検出を行うことができる。 The acceleration sensor 21a is a sensor that outputs a value corresponding to the acceleration of the moving body in the detection direction, that is, the amount of change in speed per unit time. Examples of the acceleration sensor 21a include, but are not limited to, a capacitance acceleration sensor, a piezoresistive acceleration sensor, and the like. The acceleration sensor 21a is configured to detect acceleration of the wafer transfer container 10 in at least one axial direction, preferably as a triaxial acceleration sensor capable of detecting acceleration in three axial directions. By configuring the acceleration sensor 21a as a triaxial acceleration sensor, the sensor can be miniaturized and more accurate detection can be performed.

角速度センサ２１ｂは、検出方向における移動体の回転運動の角速度、すなわち単位時間あたりの回転角度に応じた値を出力するセンサである。角速度センサ２１ｂとしては、例えば、振動ジャイロセンサ、光ファイバジャイロセンサなどが例示されるが、特に限定されない。角速度センサ２１ｂは、ウエハ搬送容器１０の少なくとも１軸回りの角速度を検出可能に構成され、好ましくは３軸回りの角速度を検出可能な３軸角速度センサとして構成される。角速度センサ２１ｂを３軸角速度センサとして構成することで、センサを小型化できるとともに、より正確な検出を行うことができる。 The angular velocity sensor 21b is a sensor that outputs a value corresponding to the angular velocity of rotational motion of the moving body in the detection direction, that is, the rotation angle per unit time. Examples of the angular velocity sensor 21b include a vibration gyro sensor and an optical fiber gyro sensor, but are not particularly limited. The angular velocity sensor 21b is configured to be capable of detecting angular velocities about at least one axis of the wafer transfer container 10, preferably as a triaxial angular velocity sensor capable of detecting angular velocities about three axes. By configuring the angular velocity sensor 21b as a triaxial angular velocity sensor, the sensor can be miniaturized and more accurate detection can be performed.

図３および図４に示すように、検出部２１の加速度センサ２１ａ及び角速度センサ２１ｂが、工場内を移動するウエハ搬送容器１０の加速度及び角速度を検出する。ウエハ搬送容器１０は、例えば、図６に示すウエハ搬送容器搬送システム７０のＯＨＴ７１を介して走行レール７２に沿ってウエハ処理装置６２間を移動する。また、例えば、ウエハ搬送容器１０は、ウエハ処理装置６２との間でウエハの受け渡しを行う際に、ロードポート６０の載置台６１上を移動する。加速度センサ２１ａ及び角速度センサ２１ｂによって検出されたウエハ搬送容器１０の加速度データと角速度データは、通信部２２を介してホストコンピュータ３０のデータ処理装置４０に出力される。 As shown in FIGS. 3 and 4, the acceleration sensor 21a and the angular velocity sensor 21b of the detector 21 detect the acceleration and angular velocity of the wafer transport container 10 moving in the factory. The wafer carrier 10 moves between the wafer processing apparatuses 62 along the travel rail 72 via the OHT 71 of the wafer carrier carrier system 70 shown in FIG. 6, for example. Further, for example, the wafer transfer container 10 moves on the mounting table 61 of the load port 60 when transferring wafers to and from the wafer processing apparatus 62 . Acceleration data and angular velocity data of the wafer transport container 10 detected by the acceleration sensor 21 a and the angular velocity sensor 21 b are output to the data processor 40 of the host computer 30 via the communication section 22 .

データ処理装置４０は、取得した加速度データと角速度データに基づき、ウエハ搬送容器１０の位置を算出する。以下、データ処理装置４０が加速度データと角速度データからウエハ搬送容器１０の位置を求める処理について説明する。 The data processing device 40 calculates the position of the wafer transport container 10 based on the acquired acceleration data and angular velocity data. A process of obtaining the position of the wafer transport container 10 from the acceleration data and the angular velocity data by the data processing device 40 will be described below.

図３に示すように、所定の時間周期Δｔごとに、加速度センサ２１ａ及び角速度センサ２１ｂで検出された加速度データα及び角速度データωがデータ処理装置４０に出力される。データ処理装置４０は、時刻ｔにおける加速度センサ２１ａ及び角速度センサ２１ｂからの出力データに基づき、ウエハ搬送容器１０の加速度αｔ及び角速度ωｔを得る。 As shown in FIG. 3, the acceleration data α and the angular velocity data ω detected by the acceleration sensor 21a and the angular velocity sensor 21b are output to the data processing device 40 every predetermined time period Δt. The data processor 40 obtains the acceleration α t and the angular velocity ω t of the wafer transport container 10 based on the output data from the acceleration sensor 21a and the angular velocity sensor 21b at time t.

データ処理装置４０の移動距離算出部４０ａは、加速度αｔから時間周期Δｔにおけるウエハ搬送容器１０の速度ｖｔを算出する。さらに、移動距離算出部４０ａは、速度ｖｔと加速度αｔから時間周期Δｔにおけるウエハ搬送容器１０の移動距離ΔＤｔを算出する。データ処理装置４０の移動方位算出部４０ｂは、角速度ωｔから時間周期Δｔにおけるウエハ搬送容器１０の移動方位Δθｔを算出する。データ処理装置４０の位置算出部４０ｃは、時間周期Δｔにおけるウエハ搬送容器１０の移動距離ΔＤｔ及び移動方位Δθｔについて初期位置Ｐ０からの累積演算を行うことにより、時刻ｔにおけるウエハ搬送容器１０の位置Ｐｔを算出する。 The movement distance calculator 40a of the data processing device 40 calculates the velocity vt of the wafer transport container 10 in the time period Δt from the acceleration αt. Further, the movement distance calculator 40a calculates the movement distance ΔD t of the wafer transport container 10 in the time period Δt from the velocity v t and the acceleration α t . The movement direction calculator 40b of the data processing device 40 calculates the movement direction Δθ t of the wafer transport container 10 in the time period Δt from the angular velocity ω t . The position calculation unit 40c of the data processing device 40 calculates the moving distance ΔD t and the moving azimuth Δθ t of the wafer transport container 10 in the time period Δt from the initial position P 0 , thereby calculating the wafer transport container 10 at time t. , the position P t of is calculated.

このようにして、例えば、データ処理装置４０は、ウエハ搬送容器１０の初期位置を、ロードポート６０の載置台６１に載置された状態（ロードポート６０が備える載置検出センサによって検出される）におけるウエハ搬送容器１０の位置とすることができる。この場合、ウエハ搬送容器１０の位置は、ウエハ搬送容器１０がロードポート６０に載置された位置との相対位置として算出される。ただし、ウエハ搬送容器１０の初期位置は、これに限定されず、ＯＨＴ７１の搬送ルートにおける所定の位置など、データ処理装置４０が、ウエハ搬送容器１０の位置を、加速度センサ２１ａおよび角速度センサ２１ｂ以外から検出できる任意の位置とすることができる。 In this manner, for example, the data processing apparatus 40 sets the initial position of the wafer transport container 10 to the state where it is placed on the placement table 61 of the load port 60 (detected by the placement detection sensor provided in the load port 60). can be the position of the wafer carrier 10 in . In this case, the position of the wafer transfer container 10 is calculated as a relative position to the position where the wafer transfer container 10 is placed on the load port 60 . However, the initial position of the wafer transport container 10 is not limited to this. It can be any position that can be detected.

図３に示すデータ処理装置４０は、以上のように、加速度センサ２１ａと角速度センサ２１ｂによってウエハ搬送容器１０の位置を特定するため、天井や壁などの遮蔽物が存在する工場などの屋内においても、ウエハ搬送容器１０を安定的かつ高精度に追跡することができる。 As described above, the data processing apparatus 40 shown in FIG. 3 identifies the position of the wafer transport container 10 using the acceleration sensor 21a and the angular velocity sensor 21b. , the wafer carrier 10 can be stably and accurately tracked.

データ処理装置４０は、ウエハ搬送容器１０がロードポート６０の載置台６１に載置された状態の加速度データ、角速度データ、及び位置データを用いて、ウエハ搬送容器１０の加速度データ、角速度データ、及び位置データを補正することが好ましい。加速度センサ２１ａや角速度センサ２１ｂは、バイアス値（検出する加速度または角速度がゼロの時の出力値）が時間経過や温度変化などの外的要因によって変動することで誤差を生じる。これらの誤差はたとえ僅かなものであっても、ウエハ搬送容器１０の位置を算出する際にウエハ搬送容器１０の移動時間の長さに伴って累積されるため、位置データに無視できないほど大きな誤差が生じる場合がある。本発明では、ウエハ搬送容器１０の基準位置（例えば、ロードポート２０への載置位置）における加速度データ、角速度データ、位置データの補正を行い、これらの誤差を低減または防止することで、ウエハ搬送容器１０の位置をより高精度に検出することができる。 The data processing device 40 uses the acceleration data, the angular velocity data, and the position data of the wafer transport container 10 placed on the mounting table 61 of the load port 60 to obtain the acceleration data, the angular velocity data, and the position data of the wafer transport container 10 . It is preferable to correct the position data. The acceleration sensor 21a and the angular velocity sensor 21b generate errors when the bias value (the output value when the detected acceleration or angular velocity is zero) fluctuates due to external factors such as passage of time and temperature change. Even if these errors are slight, they are accumulated along with the length of the movement time of the wafer transport container 10 when calculating the position of the wafer transport container 10. Therefore, the position data has a large error that cannot be ignored. may occur. In the present invention, the acceleration data, the angular velocity data, and the position data at the reference position (for example, the mounting position on the load port 20) of the wafer transfer container 10 are corrected to reduce or prevent these errors. The position of the container 10 can be detected with higher accuracy.

さらに、本発明は、加速度センサ２１ａを用いて、ウエハの搬送中にウエハ搬送容器１０に加わる衝撃を検出することができる。ウエハ搬送容器１０に加わる衝撃は、データ処理装置４０の衝撃算出部４０ｄにおいて、加速度センサ２１ａにより検出された加速度データに基づいて算出される。これにより、本発明では、ウエハ搬送容器１０への衝撃と、衝撃発生時のウエハ搬送容器１０の位置を同時に検出することができる。 Furthermore, the present invention can detect the impact applied to the wafer transfer container 10 during transfer of the wafer using the acceleration sensor 21a. The impact applied to the wafer transport container 10 is calculated by the impact calculator 40d of the data processor 40 based on the acceleration data detected by the acceleration sensor 21a. Accordingly, in the present invention, the impact to the wafer transport container 10 and the position of the wafer transport container 10 at the time of occurrence of the impact can be detected at the same time.

図３に示すホストコンピュータ３０の制御装置５０は、データ処理装置４０から取得したウエハ搬送容器１０の位置データと衝撃データに基づき、ウエハ搬送容器１０の位置に応じてウエハ搬送容器１０を移動させる速度及び加速度を調整する。搬送システム７０のＯＨＴ７１やロードポート６０の載置台６１によってウエハ搬送容器１０を搬送または移動させる際、ウエハ搬送容器１０が衝撃によって振動すると、容器の内壁に付着していた塵埃が離脱するなどして容器の内部が汚染され、ウエハの歩留まり低下を招くおそれがある。本発明では、制御装置５０により、ウエハの搬送行程においてウエハ搬送容器１０に許容値以上の衝撃が加わらないように、搬送システム７０のＯＨＴ７１やロードポート６０の載置台６１によるウエハ搬送容器１０の移動速度及び加速度を調整する（例えば、ウエハ搬送容器１０が衝撃の発生しやすい地点を通過する際にウエハ搬送容器１０の移動速度及び加速度を低下させる）ことで、衝撃によりウエハ搬送容器１０の内部が汚染されることを防止し、ウエハの歩留まりを向上させることができる。なお、制御装置５０は、必ずしもホストコンピュータ３０に配置されている必要はなく、例えば、搬送システム７０やロードポート６０が備える制御装置であってもよい。 The control unit 50 of the host computer 30 shown in FIG. 3 controls the speed at which the wafer transport container 10 is moved according to the position of the wafer transport container 10 based on the position data and impact data of the wafer transport container 10 acquired from the data processing unit 40 . and adjust the acceleration. When the wafer transport container 10 is transported or moved by the OHT 71 of the transport system 70 or the mounting table 61 of the load port 60, if the wafer transport container 10 vibrates due to the impact, dust adhering to the inner wall of the container may come off. The inside of the container may be contaminated, resulting in a decrease in wafer yield. In the present invention, the control device 50 controls the movement of the wafer transport container 10 by the OHT 71 of the transport system 70 and the mounting table 61 of the load port 60 so that the wafer transport container 10 is not subjected to an impact exceeding an allowable value during the wafer transport process. By adjusting the speed and acceleration (for example, reducing the moving speed and acceleration of the wafer transport container 10 when the wafer transport container 10 passes through a point where impact is likely to occur), the impact can cause the inside of the wafer transport container 10 to break. Contamination can be prevented, and the yield of wafers can be improved. Note that the control device 50 does not necessarily have to be arranged in the host computer 30, and may be a control device provided in the transport system 70 or the load port 60, for example.

また、制御装置５０は、加速度センサ２１ａにより検出されたウエハ搬送容器１０の加速度またはデータ処理装置４０により算出された衝撃が所定値を超えた場合、搬送システム７０のＯＨＴ７１やロードポート６０の載置台６１を介してウエハ搬送容器１０を清浄化工程に移送し、ウエハ搬送容器１０の内部を清浄化する。本発明では、衝撃によって汚染されたウエハ搬送容器１０の内部を清浄化することで、ウエハの歩留まりを向上させることができる。 Further, when the acceleration of the wafer transfer container 10 detected by the acceleration sensor 21a or the impact calculated by the data processing device 40 exceeds a predetermined value, the control device 50 controls the OHT 71 of the transfer system 70 or the mounting table of the load port 60. The wafer carrier 10 is transferred to the cleaning process via 61 to clean the inside of the wafer carrier 10 . In the present invention, the yield of wafers can be improved by cleaning the interior of the wafer transport container 10 that has been contaminated by impact.

以上、本発明に係るウエハ搬送容器の第１実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能である。 Although the first embodiment of the wafer transfer container according to the present invention has been described above, the present invention is not limited to this, and various modifications are possible without departing from the gist of the present invention.

図４は、本発明の第２実施形態に係るウエハ搬送容器１００の位置検出方法の構成を示すブロック図である。ウエハ搬送容器１００は、外部に設けられたデータ処理装置４０を有しておらず、ウエハ搬送容器１００に設けられたデータ処理部４１を有している点を除き、第１実施形態に係るウエハ搬送容器１０と同様である。 FIG. 4 is a block diagram showing the configuration of the position detection method for the wafer transport container 100 according to the second embodiment of the present invention. The wafer transport container 100 does not have an external data processing device 40, but has a data processing unit 41 provided in the wafer transport container 100. It is the same as the transport container 10 .

図４に示すように、データ処理部４１は、データ処理装置４０の移動距離算出部４０ａ、移動方位算出部４０ｂ、位置算出部４０ｃ、及び衝撃算出部４０ｄに相当する移動距離算出部４１ａ、移動方位算出部４１ｂ、位置算出部４１ｃ、及び衝撃算出部４１ｄを備えており、データ処理装置４０と同様に、加速度センサ２１ａ、角速度センサ２１ｂから出力された加速度データ及び角速度データから搬送容器１００の位置や衝撃を検出することができる。 As shown in FIG. 4, the data processing unit 41 includes a movement distance calculation unit 41a corresponding to a movement distance calculation unit 40a, a movement direction calculation unit 40b, a position calculation unit 40c, and an impact calculation unit 40d of the data processing device 40. It includes an orientation calculation unit 41b, a position calculation unit 41c, and an impact calculation unit 41d. and impact can be detected.

本実施形態において、通信部２２は、図４に示すように、ウエハ搬送容器１００に設けられたデータ処理部４１によって加速度センサ２１ａ、角速度センサ２１ｂ、及び内部状態検出センサ２１ｃの検出データだけでなく、これらの検出データからデータ処理部４１において算出したデータ（ウエハ搬送容器１００の位置情報など）を、ウエハ搬送容器１００の外部に配置されたホストコンピュータ１３０の制御装置５０に無線送信するように構成されている。なお、図４に示すデータ処理部４１は、検出装置１２０に配置されているが、ウエハ搬送容器１００の任意の場所に設置することができる。本構成によれば、ウエハ搬送容器１００の外部にデータ処理装置４０を設ける必要がないため、工場内におけるデータ処理装置の設置スペースを節減することができる。 In this embodiment, as shown in FIG. 4, the communication unit 22 not only detects data detected by the acceleration sensor 21a, the angular velocity sensor 21b, and the internal state detection sensor 21c, but also detects data from the data processing unit 41 provided in the wafer transfer container 100. , data (such as positional information of the wafer transfer container 100 ) calculated by the data processing unit 41 from these detected data are wirelessly transmitted to the controller 50 of the host computer 130 arranged outside the wafer transfer container 100 . It is Although the data processing unit 41 shown in FIG. 4 is arranged in the detection device 120 , it can be installed at any place in the wafer transfer container 100 . According to this configuration, it is not necessary to install the data processing device 40 outside the wafer transfer container 100, so the installation space for the data processing device in the factory can be saved.

上述した実施形態は、本発明に含まれる実施形態の例示にすぎず、本発明を何ら限定するものではない。例えば、上述の実施形態では、ウエハ搬送容器１０、１００が検出部２１、通信部２２及び電源部２３を備える検出装置２０、１２０を有しているが、ウエハ搬送容器１０、１００が検出装置２０、１２０を有しておらず、検出部２１、通信部２２及び電源部２３がそれぞれ個別にウエハ搬送容器１０、１００の本体１に配置されていてもよい。 The above-described embodiments are merely examples of embodiments included in the present invention, and are not intended to limit the present invention. For example, in the above-described embodiments, the wafer transfer containers 10 and 100 have the detection devices 20 and 120 having the detection unit 21, the communication unit 22, and the power supply unit 23. , 120, and the detection unit 21, the communication unit 22, and the power supply unit 23 may be individually arranged in the main bodies 1 of the wafer transfer containers 10 and 100, respectively.

１：本体
２：底部
２ａ：外面
３：開口
４：底部開口
５：収容部
１０、１００：ウエハ搬送容器
２０、１２０：検出装置
２１：検出部
２１ａ：加速度センサ
２１ｂ：角速度センサ
２１ｃ：内部状態検出センサ
２１ｄ：センシング部
２２：通信部
２３：電源部
２３ａ：受電部
２３ｂ：蓄電部
２４：基板
２５：被覆部
３０、１３０：ホストコンピュータ
４０：データ処理装置
４１：データ処理部
４０ａ、４１ａ：移動距離算出部
４０ｂ、４１ｂ：移動方位算出部
４０ｃ、４１ｃ：位置算出部
４０ｄ、４１ｄ：衝撃算出部
５０：制御装置
６０：ロードポート
６１：載置台
６２：ウエハ処理装置
７０：搬送システム
７１：ＯＨＴ
７２：走行レール 1: Main body 2: Bottom 2a: Outer surface 3: Opening 4: Bottom opening 5: Storage units 10, 100: Wafer transfer container 20, 120: Detecting device 21: Detecting unit 21a: Acceleration sensor 21b: Angular velocity sensor 21c: Internal state detection Sensor 21d: Sensing unit 22: Communication unit 23: Power supply unit 23a: Power receiving unit 23b: Power storage unit 24: Substrate 25: Coating unit 30, 130: Host computer 40: Data processing device 41: Data processing units 40a, 41a: Movement distance Calculation units 40b and 41b: movement direction calculation units 40c and 41c: position calculation units 40d and 41d: impact calculation unit 50: control device
60: Load port 61: Mounting table 62: Wafer processing apparatus 70: Transfer system 71: OHT
72: Running rail

Claims (13)

ウエハを収容する収容部を備える本体と、
加速度センサと角速度センサを備える検出部と、
前記検出部によって取得した加速度データ及び角速度データを外部に送信する通信部と、を有するウエハ搬送容器の移動速度及び加速度制御装置であって、
前記送信された前記加速度データ及び前記角速度データに基づき、前記ウエハ搬送容器の位置を算出する位置算出部と、
前記送信された前記加速度データに基づき、前記ウエハ搬送容器に加わる衝撃を算出する衝撃算出部と、
前記位置算出部にて取得した位置データと、前記衝撃算出部にて取得した衝撃データとに基づき、前記ウエハ搬送容器の位置に応じて、前記ウエハ搬送容器を移動させる速度及び加速度を調整する制御装置と、を有することを特徴とするウエハ搬送容器の移動速度及び加速度制御装置。 a main body having an accommodation portion for accommodating a wafer;
a detection unit including an acceleration sensor and an angular velocity sensor;
A moving speed and acceleration control device for a wafer transport container, comprising a communication unit that transmits acceleration data and angular velocity data acquired by the detection unit to the outside,
a position calculation unit that calculates the position of the wafer transport container based on the transmitted acceleration data and angular velocity data;
an impact calculation unit that calculates an impact applied to the wafer transport container based on the transmitted acceleration data;
Control for adjusting speed and acceleration for moving the wafer transport container according to the position of the wafer transport container based on the position data acquired by the position calculation unit and the impact data acquired by the impact calculation unit. A moving speed and acceleration control device for a wafer carrier, comprising: ウエハを収容する収容部を備える本体と、
加速度センサと角速度センサを備える検出部と、
データ処理部と、
通信部と、を有するウエハ搬送容器の移動速度及び加速度制御装置であって、
前記データ処理部は、 前記検出部によって取得した加速度データと角速度データを処理するデータ処理部であって、前記加速度データ及び前記角速度データに基づき、前記ウエハ搬送容器の位置を算出する位置算出部と、前記加速度データに基づき、前記ウエハ搬送容器に加わる衝撃を算出する衝撃算出部と、を有し、
前記通信部は、 前記位置算出部にて取得した位置データと前記衝撃算出部にて取得した衝撃データとを外部に送信し、
前記送信された前記位置データと、前記送信された前記衝撃データとに基づき、前記ウエハ搬送容器の位置に応じて、前記ウエハ搬送容器を移動させる速度及び加速度を調整する制御装置を有することを特徴とするウエハ搬送容器の移動速度及び加速度制御装置。 a main body having an accommodation portion for accommodating a wafer;
a detection unit including an acceleration sensor and an angular velocity sensor;
a data processing unit;
A moving speed and acceleration control device for a wafer transport container, comprising:
The data processing unit a data processing unit for processing acceleration data and angular velocity data acquired by the detection unit, comprising: a position calculation unit for calculating the position of the wafer transport container based on the acceleration data and the angular velocity data; , and an impact calculation unit that calculates an impact applied to the wafer transfer container.death,
The communication unit Sending the position data acquired by the position calculation unit and the impact data acquired by the impact calculation unit to the outsidedeath,
A controller for adjusting the speed and acceleration for moving the wafer transport container according to the position of the wafer transport container based on the transmitted position data and the transmitted shock data. A moving speed and acceleration control device for a wafer transport container. ウエハを収容する収容部を備える本体と、
加速度センサを備える検出部と、
前記検出部によって取得した加速度データを外部に送信する通信部と、
を有するウエハ搬送容器を清浄化するウエハ搬送容器内清浄化装置であって、
前記送信された前記加速度データに基づき、前記ウエハ搬送容器の加速度が所定値を超えた場合に、前記ウエハ搬送容器の内部を清浄化する清浄化手段を有することを特徴とするウエハ搬送容器内清浄化装置。 a main body having an accommodation portion for accommodating a wafer;
a detection unit including an acceleration sensor;
a communication unit that transmits the acceleration data acquired by the detection unit to the outside;
A cleaning apparatus for cleaning a wafer carrier, comprising:
cleaning means for cleaning the inside of the wafer transport container when the acceleration of the wafer transport container exceeds a predetermined value based on the transmitted acceleration data. conversion device. ウエハを収容する収容部を備える本体と、
加速度センサを備える検出部と、
前記検出部によって取得した加速度データを外部に送信する通信部と、
を有するウエハ搬送容器を清浄化するウエハ搬送容器内清浄化装置であって、
前記送信された前記加速度データに基づき、前記ウエハ搬送容器に加わる衝撃を算出する衝撃算出部と、
前記衝撃算出部にて算出した前記ウエハ搬送容器に加わる衝撃が所定値を超えた場合に、前記ウエハ搬送容器の内部を清浄化する清浄化手段と、を有することを特徴とするウエハ搬送容器内清浄化装置。 a main body having an accommodation portion for accommodating a wafer;
a detection unit including an acceleration sensor;
a communication unit that transmits the acceleration data acquired by the detection unit to the outside;
A cleaning apparatus for cleaning a wafer carrier, comprising:
an impact calculation unit that calculates an impact applied to the wafer transport container based on the transmitted acceleration data;
cleaning means for cleaning the inside of the wafer transport container when the impact applied to the wafer transport container calculated by the impact calculator exceeds a predetermined value. cleaning equipment. ウエハを収容する収容部を備える本体と、
加速度センサを備える検出部と、
データ処理部と、
通信部と、を有するウエハ搬送容器を清浄化するウエハ搬送容器内清浄化装置であって、
前記データ処理部は、 前記検出部によって取得した加速度データに基づき、前記ウエハ搬送容器に加わる衝撃を算出する衝撃算出部を有し、
前記通信部は、 前記衝撃算出部にて取得した衝撃データを外部に送信し、
前記送信された前記衝撃データに基づき、前記ウエハ搬送容器に加わる衝撃が所定値を超えた場合に、前記ウエハ搬送容器の内部を清浄化する清浄化手段を有することを特徴とするウエハ搬送容器内清浄化装置。 a main body having an accommodation portion for accommodating a wafer;
a detection unit including an acceleration sensor;
a data processing unit;
A wafer transport container interior cleaning apparatus for cleaning a wafer transport container having a communication unit,
The data processing unit An impact calculation unit for calculating an impact applied to the wafer transfer container based on the acceleration data acquired by the detection unit.death,
The communication unit Sending the impact data acquired by the impact calculation unit to the outsidedeath,
and cleaning means for cleaning the inside of the wafer transport container when the shock applied to the wafer transport container exceeds a predetermined value based on the transmitted shock data. cleaning equipment. 請求項１または２に記載のウエハ搬送容器の移動速度及び加速度制御装置、または、請求項３～５のいずれか１項に記載のウエハ搬送容器内清浄化装置のいずれか１の装置を有するロードポート。 A load having any one of the moving speed and acceleration control device for a wafer transfer container according to claim 1 or 2 or the cleaning device for cleaning inside a wafer transfer container according to any one of claims 3 to 5. port. ウエハ搬送容器を搬送する搬送装置（ＯＨＴ）、および
請求項１または２に記載のウエハ搬送容器の移動速度及び加速度制御装置、または、請求項３～５のいずれか１項に記載のウエハ搬送容器内清浄化装置のいずれか１の装置、
を有するウエハ搬送容器搬送システム。 A transfer device (OHT) for transferring a wafer transfer container, and a moving speed and acceleration control device for the wafer transfer container according to claim 1 or 2, or a wafer transfer container according to any one of claims 3 to 5. The device of any one of the internal cleaning devices,
A wafer transport container transport system comprising: ウエハ搬送容器の加速度を検出する加速度検出ステップと、
前記ウエハ搬送容器の角速度を検出する角速度検出ステップと、
前記加速度検出ステップと前記角速度検出ステップにて取得した加速度データと角速度データを、前記ウエハ搬送容器が有するデータ処理部または外部に設けられたデータ処理装置に送信する加速度データ及び角速度データ送受信ステップと、
前記加速度データ及び角速度データ送受信ステップにて取得した前記加速度データと前記角速度データに基づき、前記データ処理部または前記データ処理装置にて前記ウエハ搬送容器の位置を算出する位置算出ステップと、
前記加速度データ及び角速度データ送受信ステップにて取得した前記加速度データに基づき、前記データ処理部または前記データ処理装置にて前記ウエハ搬送容器に加わる衝撃を算出する衝撃算出ステップと、
前記位置算出ステップにて取得した位置データと、前記衝撃算出ステップにて取得した衝撃データとに基づき、前記ウエハ搬送容器の位置に応じて前記ウエハ搬送容器を移動させる速度及び加速度を調整する移動速度及び加速度調整ステップと、を含むことを特徴とするウエハ搬送容器の移動速度及び加速度制御方法。 an acceleration detection step of detecting acceleration of the wafer transfer container;
an angular velocity detection step of detecting an angular velocity of the wafer transport container;
an acceleration data and angular velocity data transmitting/receiving step of transmitting the acceleration data and the angular velocity data acquired in the acceleration detection step and the angular velocity detection step to a data processing unit provided in the wafer transport container or to a data processing device provided outside;
a position calculation step of calculating the position of the wafer transport container by the data processing unit or the data processing device based on the acceleration data and the angular velocity data acquired in the acceleration data and angular velocity data transmission/reception step;
an impact calculation step of calculating an impact applied to the wafer transport container by the data processing unit or the data processing device based on the acceleration data acquired in the step of transmitting and receiving the acceleration data and the angular velocity data;
moving speed for adjusting the speed and acceleration of moving the wafer transport container according to the position of the wafer transport container based on the position data obtained in the position calculation step and the impact data obtained in the impact calculation step; and an acceleration adjusting step. 前記ウエハ搬送容器がロードポートに載置されたことを検出する載置検出ステップと、
前記ウエハ搬送容器がロードポートに載置された状態の前記加速度データ、前記角速度データ、及び前記ウエハ搬送容器の位置データを用いて、前記加速度データ、前記角速度データ、及び前記ウエハ搬送容器の位置データのうちの少なくとも１つを補正する補正ステップとをさらに含むことを特徴とする請求項８に記載のウエハ搬送容器の移動速度及び加速度制御方法。 a placement detection step of detecting that the wafer transport container has been placed on the load port;
Using the acceleration data, the angular velocity data, and the position data of the wafer transport container with the wafer transport container placed on the load port, the acceleration data, the angular velocity data, and the position data of the wafer transport container 9. The method of claim 8, further comprising a correcting step of correcting at least one of: 請求項８または９に記載のウエハ搬送容器の移動速度及び加速度制御方法に加え、
前記ウエハ搬送容器の加速度または前記ウエハ搬送容器に加わる衝撃が所定値を超えた場合に、前記ウエハ搬送容器の内部を清浄化するウエハ搬送容器内清浄化ステップを含むことを特徴とするウエハ搬送容器内清浄化方法。 In addition to the movement speed and acceleration control method of the wafer transport container according to claim 8 or 9,
a wafer transport container cleaning step of cleaning the inside of the wafer transport container when the acceleration of the wafer transport container or the impact applied to the wafer transport container exceeds a predetermined value. internal cleansing method. ウエハ搬送容器の加速度を検出する加速度検出ステップと、
前記加速度検出ステップにて取得した加速度データを、前記ウエハ搬送容器が有するデータ処理部または外部に設けられたデータ処理装置に送信する加速度データ送受信ステップと、
前記加速度データ送受信ステップにて取得した前記加速度データに基づき、前記ウエハ搬送容器の加速度が所定値を超えた場合に、前記ウエハ搬送容器の内部を清浄化するウエハ搬送容器内清浄化ステップと、を含むことを特徴とするウエハ搬送容器内清浄化方法。 an acceleration detection step of detecting acceleration of the wafer transfer container;
an acceleration data transmitting/receiving step of transmitting the acceleration data acquired in the acceleration detecting step to a data processing unit provided in the wafer transport container or a data processing device provided outside;
a wafer transport container interior cleaning step of cleaning the inside of the wafer transport container when the acceleration of the wafer transport container exceeds a predetermined value based on the acceleration data acquired in the acceleration data transmission/reception step; A method for cleaning the inside of a wafer transfer container, comprising: ウエハ搬送容器の加速度を検出する加速度検出ステップと、
前記加速度検出ステップにて取得した加速度データを、前記ウエハ搬送容器が有するデータ処理部または外部に設けられたデータ処理装置に送信する加速度データ送受信ステップと、
前記加速度データ送受信ステップにて取得した前記加速度データに基づき、前記データ処理部または前記データ処理装置にて前記ウエハ搬送容器に加わる衝撃を算出する衝撃算出ステップと、
前記衝撃算出ステップにて取得した衝撃データに基づき、前記ウエハ搬送容器に加わる衝撃が所定値を超えた場合に、前記ウエハ搬送容器の内部を清浄化するウエハ搬送容器内清浄化ステップと、を含むことを特徴とするウエハ搬送容器内清浄化方法。 an acceleration detection step of detecting acceleration of the wafer transfer container;
an acceleration data transmitting/receiving step of transmitting the acceleration data acquired in the acceleration detecting step to a data processing unit provided in the wafer transport container or a data processing device provided outside;
an impact calculation step of calculating an impact applied to the wafer transport container by the data processing unit or the data processing device based on the acceleration data acquired in the acceleration data transmission/reception step;
a wafer transport container interior cleaning step of cleaning the inside of the wafer transport container when the impact applied to the wafer transport container exceeds a predetermined value based on the impact data acquired in the impact calculation step; A method for cleaning the inside of a wafer transfer container, comprising: 前記ウエハ搬送容器がロードポートに載置されたことを検出する載置検出ステップと、
前記ウエハ搬送容器がロードポートに載置された状態の前記加速度データを用いて、前記加速度データを補正する補正ステップと、をさらに含むことを特徴とする請求項１１または１２に記載のウエハ搬送容器内清浄化方法。

a placement detection step of detecting that the wafer transport container has been placed on the load port;
13. The wafer transport container according to claim 11, further comprising a correction step of correcting the acceleration data using the acceleration data in a state where the wafer transport container is placed on the load port. internal cleansing method.
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