JP7112838B2 - OPTICAL FILM, LAMINATED FILM USING THE SAME, AND OPTICAL FILM MANUFACTURING METHOD - Google Patents
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Description
本発明は、光学フィルム、それを用いた積層フィルム及びフレキシブルデバイス、並びに光学フィルムの製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical film, a laminated film and a flexible device using the same, and a method for producing an optical film.
従来、太陽電池やディスプレイ等の各種表示部材の基材及び前面板等の透明部材の材料として、ガラスが用いられてきた。しかしながら、ガラスは、割れやすい、重いといった欠点があった。また、近年のディスプレイの薄型化及び軽量化や、フレキシブル化の要求に対して、充分な材質を有していなかった。そのため、ガラスに代わるフレキシブルデバイスの透明部材として、各種フィルム(光学フィルム)が検討されている。 BACKGROUND ART Conventionally, glass has been used as a material for base materials of various display members such as solar cells and displays, and as a material for transparent members such as front plates. However, glass has drawbacks such as being fragile and heavy. In addition, they do not have sufficient materials to meet the recent demands for thinner, lighter, and more flexible displays. Therefore, various films (optical films) are being studied as transparent members for flexible devices to replace glass.
例えば、特許文献1には、ポリイミド樹脂組成物を用いて形成された、透明性、フレキシブル性及び耐折性等に優れたポリイミドフィルムが開示されている。 For example, Patent Document 1 discloses a polyimide film excellent in transparency, flexibility, folding resistance, etc., which is formed using a polyimide resin composition.
しかしながら、従来のポリイミド系フィルムは、取り扱い時に折れ跡やキズといった欠陥が発生しやすいという問題がある。そのため、切り出したフィルムを同じ向きに重なるように積み上げる工程、積み上げたフィルムから1枚ずつフィルムを取って次の加工に供する工程、など、フィルムを単独で取り上げて移動する操作中に折れ跡などの欠陥が発生し、歩留まりが低下する傾向があった。 However, conventional polyimide films have the problem that defects such as crease marks and scratches are likely to occur during handling. Therefore, during the process of picking up and moving the film independently, such as the process of stacking the cut films so that they overlap in the same direction, and the process of removing one film from the stacked film one by one and using it for the next processing Defects tend to occur and yields tend to decrease.
本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、取り扱い時に折れ跡やキズといった欠陥が発生しにくい光学フィルム及び積層フィルムを提供することを目的とする。本発明はまた、上記光学フィルムを用いたフレキシブルデバイス用前面板及びフレキシブルデバイスを提供することを目的とする。本発明は更に、上記光学フィルムの製造方法を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide an optical film and a laminated film that are less prone to defects such as creases and scratches during handling. Another object of the present invention is to provide a front panel for a flexible device and a flexible device using the optical film. A further object of the present invention is to provide a method for producing the above optical film.
上記目的を達成するために、本発明は、ポリイミド系高分子を含有する光学フィルムであって、上記光学フィルムの端面が、上記光学フィルムの表面に対して5°以上75°以下の角度で傾斜した傾斜面である、光学フィルムを提供する。 In order to achieve the above object, the present invention provides an optical film containing a polyimide polymer, wherein an end surface of the optical film is inclined at an angle of 5° or more and 75° or less with respect to the surface of the optical film. Provided is an optical film having a slanted surface.
本発明者らは鋭意検討の結果、従来のポリイミド系フィルムでは、フィルムの取り扱い時にフィルムが引きずられる等した場合に、フィルム端部が引っかかって不規則に曲がったり折れたりして、フィルム表面に折れ跡やキズといった欠陥が発生しやすいことを見出した。これらの欠陥は、フィルム端部だけでなく、フィルム中央付近も含めてフィルム表面全体に生じる。このような従来のポリイミド系フィルムに対し、上記本発明の光学フィルムによれば、端面が上記所定の角度で傾斜した傾斜面となっていることで、光学フィルムの取り扱い時に端部が引っかかって不規則に曲がったり折れたりすることが抑制され、フィルム表面に折れ跡やキズといった欠陥が発生することを抑制することができる。 As a result of extensive studies, the inventors of the present invention have found that when the conventional polyimide film is dragged during handling, the edges of the film are caught and irregularly bent or broken, resulting in folding on the film surface. It was found that defects such as marks and scratches are likely to occur. These defects occur not only at the edges of the film, but also over the entire film surface, including near the center of the film. In contrast to such a conventional polyimide film, according to the optical film of the present invention, since the end face is a slanted surface slanted at the above-mentioned predetermined angle, the end portion is caught during handling of the optical film. It is possible to suppress regular bending and folding, and to suppress the occurrence of defects such as creases and scratches on the film surface.
上記光学フィルムは、上記光学フィルムの上記端面を垂直に切断した断面の、上記端面から10~20μm内側の領域において測定される、下記式(A)で定義されるDMT弾性率のばらつき(Ra)の値が500MPa以下であってもよい。
[式(A)中、LはRaの算出範囲の長さを表し、M(x)は測定位置xにおけるDMT弾性率の測定値を表す。]
The optical film has a variation in DMT elastic modulus (Ra) defined by the following formula (A), which is measured in a
[In formula (A), L represents the length of the Ra calculation range, and M(x) represents the measured value of the DMT elastic modulus at the measurement position x. ]
上記光学フィルムにおいて、上記傾斜面はレーザー切断面であってもよい。換言すれば、上記光学フィルムにおいて、上記傾斜面はレーザー照射による切断面であってもよい。 In the optical film, the inclined surface may be a laser-cut surface. In other words, in the optical film, the inclined surface may be a cut surface by laser irradiation.
本発明はまた、ポリイミド系高分子を含有する光学フィルムであって、上記光学フィルムの端面を垂直に切断した断面の、上記端面から10~20μm内側の領域において測定される、下記式(A)で定義されるDMT弾性率のばらつき(Ra)の値が500MPa以下である、光学フィルムを提供する。
[式(A)中、LはRaの算出範囲の長さを表し、M(x)は測定位置xにおけるDMT弾性率の測定値を表す。]
The present invention also provides an optical film containing a polyimide-based polymer, wherein the following formula (A) is measured in a
[In formula (A), L represents the length of the Ra calculation range, and M(x) represents the measured value of the DMT elastic modulus at the measurement position x. ]
上記本発明の光学フィルムによれば、その端面について上記方法で測定されるDMT弾性率のばらつき(Ra)の値が上記範囲内であることで、端部付近における歪の残留が抑制されたものとなり、光学フィルムの取り扱い時に端部が引っかかって不規則に曲がったり折れたりすることが抑制され、フィルム表面に折れ跡やキズといった欠陥が発生することを抑制することができる。 According to the optical film of the present invention, the value of the dispersion (Ra) of the DMT elastic modulus measured by the above method on the end face is within the above range, so that residual strain is suppressed in the vicinity of the end. As a result, it is possible to suppress irregular bending or folding due to catching of the ends of the optical film during handling, and it is possible to suppress the occurrence of defects such as crease marks and scratches on the film surface.
上記光学フィルムは、シリカ粒子を更に含有していてもよい。 The optical film may further contain silica particles.
上記光学フィルムにおいて、上記ポリイミド系高分子は、フッ素原子を上記ポリイミド系高分子の全質量を基準として5質量%以上含有していてもよい。 In the optical film, the polyimide polymer may contain fluorine atoms in an amount of 5% by mass or more based on the total mass of the polyimide polymer.
上記光学フィルムは、厚さが20μm以上100μm以下であってもよい。 The optical film may have a thickness of 20 μm or more and 100 μm or less.
本発明はまた、上記本発明の光学フィルムと、該光学フィルムの少なくとも一方の表面上に積層された機能層と、を備え、上記光学フィルムの端面と上記機能層の端面とが接続されている、積層フィルムを提供する。 The present invention also includes the optical film of the present invention and a functional layer laminated on at least one surface of the optical film, wherein the end surface of the optical film and the end surface of the functional layer are connected. provides laminated films.
上記積層フィルムによれば、当該積層フィルムを構成する光学フィルムの端面が、上記所定の角度で傾斜した傾斜面となっている、又は、光学フィルムの端面について上記方法で測定されるDMT弾性率のばらつき(Ra)の値が上記範囲内であることで、積層フィルムの取り扱い時に端部が引っかかって不規則に曲がったり折れたりすることが抑制され、フィルム表面に折れ跡やキズといった欠陥が発生することを抑制することができる。 According to the laminated film, the end surface of the optical film constituting the laminated film is an inclined surface inclined at the predetermined angle, or the DMT elastic modulus measured by the above method for the end surface of the optical film is When the value of the variation (Ra) is within the above range, it is possible to suppress irregular bending or folding due to the edges being caught during handling of the laminated film, resulting in defects such as creases and scratches on the film surface. can be suppressed.
上記積層フィルムは、上記機能層の端面が、上記機能層の表面に対して5°以上75°以下の角度で傾斜した傾斜面であり、上記光学フィルムの上記傾斜面と上記機能層の上記傾斜面とが連続的に接続されていてもよい。この場合、積層フィルムの取り扱い時に端部が引っかかって不規則に曲がったり折れたりすることがより一層抑制され、フィルム表面に折れ跡やキズといった欠陥が発生することをより一層抑制することができる。 In the laminated film, the end surface of the functional layer is an inclined surface inclined at an angle of 5° or more and 75° or less with respect to the surface of the functional layer, and the inclined surface of the optical film and the inclined surface of the functional layer. The surfaces may be continuously connected. In this case, it is possible to further prevent the laminated film from being caught at the edges and irregularly bent or broken, and to further prevent defects such as creases and scratches on the film surface.
上記積層フィルムにおいて、上記機能層がハードコート層であってもよい。 In the laminated film, the functional layer may be a hard coat layer.
本発明はまた、レーザー照射によって端部を切断加工する工程を有する、ポリイミド系高分子を含有する光学フィルムの製造方法を提供する。 The present invention also provides a method for producing an optical film containing a polyimide-based polymer, which comprises a step of cutting the edges by laser irradiation.
上記光学フィルムの製造方法において、上記切断加工により形成される上記光学フィルムの端面が、上記光学フィルムの表面に対して5°以上75°以下の角度で傾斜した傾斜面であってもよい。 In the method for producing an optical film, the end surface of the optical film formed by the cutting process may be an inclined surface inclined at an angle of 5° or more and 75° or less with respect to the surface of the optical film.
上記光学フィルムの製造方法において、上記切断加工により形成される上記光学フィルムの端面を垂直に切断した断面の、上記端面から10~20μm内側の領域において測定される、下記式(A)で定義されるDMT弾性率のばらつき(Ra)の値が500MPa以下であってもよい。
[式(A)中、LはRaの算出範囲の長さを表し、M(x)は測定位置xにおけるDMT弾性率の測定値を表す。]
In the method for producing an optical film, the cross section of the optical film formed by the cutting process is defined by the following formula (A) measured in a
[In formula (A), L represents the length of the Ra calculation range, and M(x) represents the measured value of the DMT elastic modulus at the measurement position x. ]
本発明はまた、上記本発明の光学フィルムを有するフレキシブルデバイス用前面板を提供する。 The present invention also provides a flexible device front panel having the optical film of the present invention.
本発明は更に、フレキシブル機能層と、上記本発明の光学フィルムと、を有するフレキシブルデバイスを提供する。 The present invention further provides a flexible device having a flexible functional layer and the optical film of the present invention.
本発明によれば、取り扱い時に折れ跡やキズといった欠陥が発生しにくい光学フィルム及び積層フィルムを提供することができる。また、本発明によれば、上記光学フィルムを用いたフレキシブルデバイス用前面板及びフレキシブルデバイスを提供することができる。更に、本発明によれば、上記光学フィルムの製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an optical film and a laminated film that are less prone to defects such as crease marks and scratches during handling. Further, according to the present invention, it is possible to provide a flexible device front panel and a flexible device using the optical film. Furthermore, according to the present invention, it is possible to provide a method for producing the above optical film.
以下、場合により図面を参照しつつ本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。
なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。また、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。更に、図面を参照して実施形態を説明する際の上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Preferred embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings as the case may be.
In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and redundant explanations are omitted. Also, the dimensional ratios in the drawings are not limited to the illustrated ratios. Further, the positional relationships such as top, bottom, left, and right when describing the embodiments with reference to the drawings are based on the positional relationships shown in the drawings unless otherwise specified.
[光学フィルム]
本実施形態の光学フィルムは、ポリイミド系高分子を含有する光学フィルムであって、上記光学フィルムの端面が、下記条件(1)又は(2)の一方又は両方を満たすものである。
条件(1):上記光学フィルムの端面が、上記光学フィルムの表面に対して5°以上75°以下の角度で傾斜した傾斜面である。
条件(2):上記光学フィルムの端面を垂直に切断した断面の、上記端面から10~20μm内側の領域において測定される、下記式(A)で定義されるDMT弾性率のばらつき(Ra)の値が500MPa以下である。
[式(A)中、LはRaの算出範囲の長さを表し、M(x)は測定位置xにおけるDMT弾性率の測定値を表す。]
以下、条件(1)を満たす光学フィルムの実施形態を説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されず、条件(1)を満たさず、条件(2)のみを満たすものであってもよい。なお、条件(1)及び(2)の両方を満たす光学フィルムが特に好ましい。
[Optical film]
The optical film of this embodiment is an optical film containing a polyimide-based polymer, and the end surface of the optical film satisfies one or both of the following conditions (1) and (2).
Condition (1): The end surface of the optical film is an inclined surface inclined at an angle of 5° or more and 75° or less with respect to the surface of the optical film.
Condition (2): The dispersion (Ra) of the DMT elastic modulus defined by the following formula (A), which is measured in a
[In formula (A), L represents the length of the Ra calculation range, and M(x) represents the measured value of the DMT elastic modulus at the measurement position x. ]
Hereinafter, an embodiment of an optical film that satisfies the condition (1) will be described, but the present invention is not limited to the following embodiments. good. An optical film that satisfies both conditions (1) and (2) is particularly preferable.
図1は、本実施形態に係る光学フィルムの1例を示す斜視図である。図1に示した光学フィルム10は、矩形(長方形)の平面形状を有しており、短手方向において互いに対向する二辺(矩形を形成する互いに平行な2つの長辺)の端面E1及びE2、並びに、長手方向において互いに対向する二辺(矩形を形成する互いに平行な2つの短辺)の端面E3及びE4を有する。光学フィルム10は、端面が光学フィルム10の表面に対して5°以上75°以下の角度で傾斜した傾斜面となっている。取り扱い時の欠陥の発生をより充分に抑制する観点から、対向する二辺の端面(端面E1とE2、又は、端面E3とE4)が上記傾斜面となっていることが好ましく、光学フィルム10の全ての端面が上記傾斜面となっていることがさらに好ましい。図1に示した本実施形態の光学フィルム10では、端面E1、E2、E3及びE4の全てが上記傾斜面となっているが、これに限定されない。
FIG. 1 is a perspective view showing an example of the optical film according to this embodiment. The
図2は、図1に示した光学フィルムのII-II断面図である。本実施形態の光学フィルム10において、端面E1及びE2の光学フィルム10の表面に対する傾斜角θは、いずれも5°以上75°以下となっている。同様に、本実施形態の光学フィルム10において、端面E3及びE4の光学フィルム10の表面に対する傾斜角θは、いずれも5°以上75°以下となっている。端面E1、E2、E3及びE4における傾斜角θは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
FIG. 2 is a II-II cross-sectional view of the optical film shown in FIG. In the
本明細書において、傾斜角θは、フィルム厚みの20%以上80%以下の膜厚範囲における平均角度を意味する。この平均角度は、フィルム厚みの20%、30%、40%、50%、60%、70%及び80%の位置での端面の傾斜角をそれぞれ測定し、その平均値を算出したものである。また、本明細書において、傾斜角θは、光学フィルム10の一方の表面と端面とのなす角度から求められる上記平均角度、及び、光学フィルム10の他方の表面と端面とのなす角度から求められる上記平均角度のうち、小さい方の平均角度を意味する。フィルム厚みの20%未満や80%を超える膜厚範囲にあるフィルム表面の付近において、端面は曲率を有していてもよく、膜厚が大きくなった盛り上がった部分を有していてもよい。一つの端面内において、傾斜角は略一定であることが好ましいが、変動していてもよい。ここで、傾斜角度の差(最大値と最小値の差)は、好ましくは30°以下であり、より好ましくは20°以下であり、さらに好ましくは10°以下であり、とりわけ好ましくは5°以下であって、30°以下の場合を略一定とする。
In this specification, the tilt angle θ means an average angle in a film thickness range of 20% or more and 80% or less of the film thickness. This average angle is obtained by measuring the inclination angles of the end faces at positions of 20%, 30%, 40%, 50%, 60%, 70% and 80% of the film thickness and calculating the average value. . Further, in this specification, the tilt angle θ is obtained from the average angle obtained from the angle formed by one surface of the
傾斜角θは、好ましくは5°以上75°以下であるが、フィルム取り扱い時の欠陥の発生をより充分に抑制する観点から、より好ましくは10°以上73°以下であり、更に好ましくは20°以上70°以下であり、特に好ましくは25°以上70°以下である。傾斜角θが5°未満であると、端部の強度が低下する場合があり、フィルム取り扱い時に端部に欠陥が発生しやすくなる。傾斜角θが75°を超えると、フィルム取り扱い時に折れ跡やキズといった欠陥が発生しやすくなる。なお、傾斜角θは、光学フィルム10の端面又は断面を光学顕微鏡で観察することで測定することができる。
The inclination angle θ is preferably 5° or more and 75° or less, more preferably 10° or more and 73° or less, and still more preferably 20° from the viewpoint of sufficiently suppressing the occurrence of defects during film handling. 70° or less, particularly preferably 25° or more and 70° or less. If the angle of inclination θ is less than 5°, the strength of the edges may be lowered, and defects at the edges are likely to occur during handling of the film. If the angle of inclination θ exceeds 75°, defects such as creases and scratches are likely to occur during handling of the film. The tilt angle θ can be measured by observing the end face or cross section of the
上記の光学フィルム10において、その屈折率は通常、1.45~1.70であり、好ましくは1.50~1.66である。
The refractive index of the
光学フィルム10の厚さは、フレキシブルデバイスの種類等に応じて適宜調整されるが、通常、10~500μmである。フィルムが薄いと切断後取扱いにおいて折れが生やすくなり、欠陥が生じる原因となりうる。また、フィルムが厚いと、均一な切断加工がしにくくなる傾向があるため、15~200μmであることが好ましく、20~100μmであることがより好ましい。
The thickness of the
光学フィルム10は、通常、透明である。光学フィルム10は、JIS K 7105:1981に準拠した全光線透過率が、通常、85%以上であり、好ましくは90%以上である。
光学フィルム10は、JIS K 7105:1981に準拠したHazeが1以下であることができ、0.9以下であることもできる。
The
なお、屈折率、全光線透過率、及び、Hazeは、光学フィルムの厚み方向において測定する値である。 The refractive index, total light transmittance, and haze are values measured in the thickness direction of the optical film.
光学フィルム10の大きさは、使用されるフレキシブルデバイスの大きさに応じて適宜調節することができる。光学フィルム10の平面形状は、通常、矩形又は正方形であるが、台形、平行四辺形等の他の四角形であってもよい。また、光学フィルム10の平面形状は、角が丸められた四角形であってもよい。
The size of the
(光学フィルムの材質)
(透明樹脂)
上記光学フィルムは、ポリイミド系高分子などの透明樹脂を含む。
(Material of optical film)
(transparent resin)
The optical film contains a transparent resin such as a polyimide polymer.
(ポリイミド系高分子)
本明細書において、ポリイミドとは、イミド基を含む繰返し構造単位を含有する重合体であり、ポリアミドとは、アミド基を含む繰返し構造単位を含有する重合体である。ポリイミド系高分子とは、ポリイミド並びにイミド基及びアミド基の両方を含む繰返し構造単位を含有する重合体を示す。
(polyimide polymer)
As used herein, polyimide is a polymer containing repeating structural units containing imide groups, and polyamide is a polymer containing repeating structural units containing amide groups. Polyimide-based polymers refer to polyimides and polymers containing repeating structural units containing both imide and amide groups.
本実施形態に係るポリイミド系高分子は、後述するテトラカルボン酸化合物とジアミン化合物とを主な原料として製造することができ、式(10)で表される繰り返し構造単位を有する。ここで、Gは4価の有機基であり、Aは2価の有機基である。G及び/又はAが異なる、2種類以上の式(10)で表される構造を含んでいてもよい。また、本実施形態に係るポリイミド系高分子は、得られるポリイミド系高分子フィルムの各種物性を損なわない範囲で、式(11)~式(13)のいずれかで表される構造を含んでいてもよい。 The polyimide-based polymer according to the present embodiment can be produced using a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound, which will be described later, as main raw materials, and has a repeating structural unit represented by formula (10). Here, G is a tetravalent organic group and A is a divalent organic group. Two or more types of structures represented by formula (10) in which G and/or A are different may be included. In addition, the polyimide polymer according to the present embodiment contains a structure represented by any one of formulas (11) to (13) within a range that does not impair various physical properties of the obtained polyimide polymer film. good too.
G及びG1は4価の有機基であり、好ましくは炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基であり、式(20)~式(29)で表される基並びに4価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。式中の*は結合手を表し、Zは、単結合、-O-、-CH2-、-CH2-CH2-、-CH(CH3)-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-Ar-、-SO2-、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH2-Ar-、-Ar-C(CH3)2-Ar-又は-Ar-SO2-Ar-を表す。Arはフッ素原子で置換されていてもよい炭素数6~20のアリーレン基を表し、具体例としてはフェニレン基が挙げられる。得られるフィルムの黄色度を抑制しやすいことから、G及びG1は、式(20)~式(27)で表される基が好ましい。 G and G 1 are a tetravalent organic group, preferably an organic group optionally substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, represented by formulas (20) to (29) and a tetravalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms. * in the formula represents a bond, Z is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -Ar-, -SO 2 -, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar- represents C(CH 3 ) 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom, and specific examples include a phenylene group. G and G 1 are preferably groups represented by formulas (20) to (27) because they tend to suppress the yellowness of the resulting film.
G2は3価の有機基であり、好ましくは炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基であり、式(20)~式(29)で表される基の結合手のいずれか1つが水素原子に置き換わった基並びに3価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 G 2 is a trivalent organic group, preferably an organic group optionally substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, represented by formulas (20) to (29) is substituted with a hydrogen atom, and a trivalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.
G3は2価の有機基であり、好ましくは炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基であり、式(20)~式(29)で表される基の結合手のうち、隣接しない2つが水素原子に置き換わった基及び炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 G 3 is a divalent organic group, preferably an organic group optionally substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, represented by formulas (20) to (29) and two non-adjacent bonds are replaced with hydrogen atoms, and chain hydrocarbon groups having 6 or less carbon atoms are exemplified.
A、A1~A3はいずれも2価の有機基であり、好ましくは炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基であり、式(30)~式(38)で表される基;それらがメチル基、フルオロ基、クロロ基もしくはトリフルオロメチル基で置換された基並びに炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。式中の*は結合手を表し、Z1、Z2及びZ3は、それぞれ独立して、単結合、-O-、-CH2-、-CH2-CH2-、-CH(CH3)-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-SO2-又は-CO-を表す。1つの例は、Z1及びZ3が-O-であり、かつ、Z2が-CH2-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-又は-SO2-である。Z1とZ2、及び、Z2とZ3は、それぞれ、各環に対してメタ位又はパラ位であることが好ましい。 Each of A and A 1 to A 3 is a divalent organic group, preferably a hydrocarbon group or an organic group optionally substituted with a fluorine-substituted hydrocarbon group, represented by formulas (30) to ( 38); groups substituted with a methyl group, fluoro group, chloro group or trifluoromethyl group, and chain hydrocarbon groups having 6 or less carbon atoms. * in the formula represents a bond, and Z 1 , Z 2 and Z 3 each independently represent a single bond, —O—, —CH 2 —, —CH 2 —CH 2 —, —CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 - or -CO-. One example is when Z 1 and Z 3 are —O— and Z 2 is —CH 2 —, —C(CH 3 ) 2 —, —C(CF 3 ) 2 — or —SO 2 —. be. Z 1 and Z 2 and Z 2 and Z 3 are each preferably meta or para to each ring.
上記光学フィルムは、ポリアミドを含んでいてもよい。本実施形態に係るポリアミドは、式(13)で表される繰り返し構造単位を主とする重合体である。好ましい例及び具体例は、ポリイミド系高分子におけるG3及びA3と同じである。G3及び/又はA3が異なる、2種類以上の式(13)で表される構造を含んでいてもよい。 The optical film may contain polyamide. The polyamide according to this embodiment is a polymer mainly composed of repeating structural units represented by formula (13). Preferred examples and specific examples are the same as G3 and A3 in the polyimide polymer. Two or more types of structures represented by formula (13) in which G 3 and/or A 3 are different may be included.
ポリイミド系高分子は、例えば、ジアミンとテトラカルボン酸化合物(テトラカルボン酸二無水物等)との重縮合によって得られ、例えば特開2006-199945号公報又は特開2008-163107号公報に記載されている方法にしたがって合成することができる。ポリイミドの市販品としては、三菱ガス化学(株)製ネオプリム、河村産業(株)製KPI-MX300Fなどを挙げることができる。 Polyimide-based polymers, for example, are obtained by polycondensation of a diamine and a tetracarboxylic acid compound (tetracarboxylic dianhydride, etc.), for example, described in JP-A-2006-199945 or JP-A-2008-163107. can be synthesized according to the method Commercial products of polyimide include Neoprim manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., KPI-MX300F manufactured by Kawamura Sangyo Co., Ltd., and the like.
ポリイミドの合成に用いられるテトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸化合物及び脂肪族テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸化合物が挙げられる。テトラカルボン酸化合物は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。テトラカルボン酸化合物は、二無水物の他、酸クロライド化合物等のテトラカルボン酸化合物類縁体であってもよい。 Examples of the tetracarboxylic acid compound used for polyimide synthesis include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic dianhydrides and aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic dianhydrides. A tetracarboxylic acid compound may be used independently and may use 2 or more types together. The tetracarboxylic acid compound may be a dianhydride or a tetracarboxylic acid compound analog such as an acid chloride compound.
芳香族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、1,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’-(p-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、4,4’-(m-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物及び2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物が挙げられ、好ましくは4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、1,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’-(p-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物及び4,4’-(m-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Specific examples of aromatic tetracarboxylic dianhydrides include 4,4′-oxydiphthalic dianhydride, 3,3′,4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2′,3, 3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenoxyphenyl)propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride, 1,2-bis(2,3 -dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1, 1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 4,4 '-(p-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride, 4,4'-(m-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride and 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride. preferably 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride , 3,3′,4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2′,3,3′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3′,4,4′-diphenylsulfonetetra Carboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis ( 3,4-dicarboxyphenoxyphenyl)propane dianhydride, 4,4′-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride, 1,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxy Phenyl)ethane dianhydride , bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 4,4′-(p-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride and 4 , 4′-(m-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride. These can be used individually or in combination of 2 or more types.
脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、環式又は非環式の脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物とは、脂環式炭化水素構造を有するテトラカルボン酸二無水物であり、その具体例としては、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等のシクロアルカンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル3,3’-4,4’-テトラカルボン酸二無水物及びこれらの位置異性体が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-ペンタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Aliphatic tetracarboxylic dianhydrides include cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydrides. The cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is a tetracarboxylic dianhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride. 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, cycloalkanetetracarboxylic dianhydride such as 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo[2.2 .2] oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl 3,3′-4,4′-tetracarboxylic dianhydride and positional isomers thereof . These can be used individually or in combination of 2 or more types. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride and 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride. and these can be used alone or in combination of two or more.
上記テトラカルボン酸二無水物の中でも、高透明性及び低着色性の観点から、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物及び4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物が好ましい。 Among the above tetracarboxylic dianhydrides, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo[2.2.2]oct-7-ene, from the viewpoint of high transparency and low coloring -2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride and 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride are preferred.
なお、本実施形態に係るポリイミド系高分子は、得られるポリイミド系高分子フィルムの各種物性を損なわない範囲で、上記のポリイミド合成に用いられるテトラカルボン酸の無水物に加えて、テトラカルボン酸、トリカルボン酸及びジカルボン酸並びにそれらの無水物及び誘導体を更に反応させたものであってもよい。 The polyimide-based polymer according to the present embodiment contains, in addition to the anhydride of tetracarboxylic acid used in the polyimide synthesis, tetracarboxylic acid, Further reaction of tricarboxylic acids and dicarboxylic acids and their anhydrides and derivatives may also be used.
トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロライド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を併用してもよい。
具体例としては、1,2,4-ベンゼントリカルボン酸の無水物;2,3,6-ナフタレントリカルボン酸-2,3-無水物;フタル酸無水物と安息香酸とが単結合、-CH2-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-SO2-もしくはフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。
Examples of tricarboxylic acid compounds include aromatic tricarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids, their analogous acid chloride compounds, acid anhydrides, and the like, and two or more of them may be used in combination.
Specific examples include the anhydride of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3-anhydride; a single bond between phthalic anhydride and benzoic acid ; -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, or compounds linked by a phenylene group.
ジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロライド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を併用してもよい。具体例としては、テレフタル酸;イソフタル酸;ナフタレンジカルボン酸;4,4’-ビフェニルジカルボン酸;3,3’-ビフェニルジカルボン酸;炭素数8以下である鎖式炭化水素、のジカルボン酸化合物及び2つの安息香酸が単結合、-CH2-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-SO2-もしくはフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。 Examples of dicarboxylic acid compounds include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, their analogous acid chloride compounds, acid anhydrides, and the like, and two or more of them may be used in combination. Specific examples include terephthalic acid; isophthalic acid; naphthalenedicarboxylic acid; 4,4′-biphenyldicarboxylic acid; 3,3′-biphenyldicarboxylic acid; Examples include compounds in which two benzoic acids are linked via a single bond, —CH 2 —, —C(CH 3 ) 2 —, —C(CF 3 ) 2 —, —SO 2 — or a phenylene group.
ポリイミドの合成に用いられるジアミンとしては、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン又はそれらの混合物でもよい。なお、本実施形態において「芳香族ジアミン」とは、アミノ基が芳香環に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に脂肪族基又はその他の置換基を含んでいてもよい。芳香環は単環でも縮合環でもよく、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフルオレン環等が例示されるが、これらに限定されるわけではない。これらの中でも、好ましくはベンゼン環である。また「脂肪族ジアミン」とは、アミノ基が脂肪族基に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に芳香環やその他の置換基を含んでいてもよい。 Aliphatic diamines, aromatic diamines, or mixtures thereof may be used as the diamines used in polyimide synthesis. In this embodiment, the term "aromatic diamine" refers to a diamine in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and part of its structure may contain an aliphatic group or other substituents. The aromatic ring may be a single ring or a condensed ring, and examples include, but are not limited to, benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring and fluorene ring. Among these, a benzene ring is preferred. The term "aliphatic diamine" refers to a diamine in which an amino group is directly bonded to an aliphatic group, and part of its structure may contain an aromatic ring or other substituents.
脂肪族ジアミンとしては、例えば、ヘキサメチレンジアミン等の非環式脂肪族ジアミン及び1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ノルボルナンジアミン、4,4’-ジアミノジシクロヘキシルメタン等の環式脂肪族ジアミン等が挙げられ、これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Aliphatic diamines include, for example, acyclic aliphatic diamines such as hexamethylenediamine, 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane, 1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane, norbornanediamine, 4,4'- Cycloaliphatic diamines such as diaminodicyclohexylmethane and the like can be mentioned, and these can be used alone or in combination of two or more.
芳香族ジアミンとしては、例えば、p-フェニレンジアミン、m-フェニレンジアミン、2,4-トルエンジアミン、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミン、1,5-ジアミノナフタレン、2,6-ジアミノナフタレン等の、芳香環を1つ有する芳香族ジアミン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルプロパン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,3’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、ビス〔4-(4-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4-(3-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’-ジメチルベンジジン、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-メチルフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-クロロフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-フルオロフェニル)フルオレン等の、芳香環を2つ以上有する芳香族ジアミンが挙げられ、これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of aromatic diamines include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene and 2,6-diaminonaphthalene. aromatic diamines having one aromatic ring, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3' -diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis( 4-aminophenoxy)benzene, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[ 4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine , 4,4′-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 9,9-bis(4-aminophenyl) Fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-methylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-chlorophenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-fluorophenyl) Examples thereof include aromatic diamines having two or more aromatic rings such as fluorene, and these can be used alone or in combination of two or more.
上記ジアミンの中でも、高透明性及び低着色性の観点からは、ビフェニル構造を有する芳香族ジアミンからなる群から選ばれる1種以上を用いることが好ましい。2,2’-ジメチルベンジジン、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル及び4,4’-ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1種以上を用いることがさらに好ましく、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンが含まれることがよりさらに好ましい。 Among the above diamines, it is preferable to use one or more selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure from the viewpoint of high transparency and low coloration. 1 selected from the group consisting of 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl and 4,4'-diaminodiphenyl ether More preferably, the above is used, and even more preferably 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine is included.
式(10)~式(13)のいずれかで表される繰り返し構造単位を少なくとも1種含む重合体であるポリイミド系高分子及びポリアミドは、ジアミンと、テトラカルボン酸化合物(酸クロライド化合物、テトラカルボン酸二無水物等のテトラカルボン酸化合物類縁体)、トリカルボン酸化合物(酸クロライド化合物、トリカルボン酸無水物等のトリカルボン酸化合物類縁体)及びジカルボン酸化合物(酸クロライド化合物等のジカルボン酸化合物類縁体)からなる群に含まれる少なくとも1種類の化合物との重縮合生成物である縮合型高分子である。出発原料としては、これらに加えて、さらにジカルボン酸化合物(酸クロライド化合物等の類縁体を含む)を用いることもある。式(11)で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン類及びテトラカルボン酸化合物から誘導される。式(12)で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン及びトリカルボン酸化合物から誘導される。式(13)で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン及びジカルボン酸化合物から誘導される。ジアミン及びテトラカルボン酸化合物の具体例は、上述のとおりである。 Polyimide-based polymers and polyamides, which are polymers containing at least one repeating structural unit represented by any one of formulas (10) to (13), are composed of a diamine and a tetracarboxylic acid compound (acid chloride compound, tetracarboxylic acid tetracarboxylic acid compound analogues such as acid dianhydrides), tricarboxylic acid compounds (acid chloride compounds, tricarboxylic acid compound analogues such as tricarboxylic anhydride) and dicarboxylic acid compounds (dicarboxylic acid compound analogues such as acid chloride compounds) It is a condensation-type polymer that is a polycondensation product with at least one compound included in the group consisting of In addition to these, dicarboxylic acid compounds (including analogues such as acid chloride compounds) may also be used as starting materials. The repeating structural unit represented by formula (11) is usually derived from diamines and tetracarboxylic acid compounds. A repeating structural unit represented by formula (12) is usually derived from a diamine and a tricarboxylic acid compound. A repeating structural unit represented by formula (13) is usually derived from a diamine and a dicarboxylic acid compound. Specific examples of diamines and tetracarboxylic acid compounds are as described above.
本実施形態に係るポリイミド系高分子及びポリアミドの標準ポリスチレン換算重量平均分子量は、通常、10,000~500,000であり、好ましくは50,000~500,000であり、さらに好ましくは100,000~400,000である。ポリイミド系高分子及びポリアミドの重量平均分子量が大きいほどフィルム化した際に高い耐屈曲性を発現しやすい傾向があるが、ポリイミド系高分子及びポリアミドの重量平均分子量が大きすぎると、ワニスの粘度が高くなり、加工性が低下する傾向がある。 The standard polystyrene equivalent weight average molecular weight of the polyimide polymer and polyamide according to the present embodiment is usually 10,000 to 500,000, preferably 50,000 to 500,000, more preferably 100,000. ~400,000. The higher the weight-average molecular weight of the polyimide-based polymer and the polyamide, the higher the flexibility tends to be when formed into a film. It tends to be high and workability tends to decrease.
ポリイミド系高分子及びポリアミドは、含フッ素置換基を含むことにより、フィルム化した際の弾性率が向上するとともに、YI値が低減される傾向がある。フィルムの弾性率が高いと、キズ及びシワ等の発生が抑制される傾向がある。フィルムの透明性の観点から、ポリイミド系高分子及びポリアミドは、含フッ素置換基を有することが好ましい。含フッ素置換基の具体例としては、フルオロ基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。 Polyimide-based polymers and polyamides tend to improve the elastic modulus and reduce the YI value when formed into a film by containing fluorine-containing substituents. When the elastic modulus of the film is high, the occurrence of scratches and wrinkles tends to be suppressed. From the viewpoint of film transparency, the polyimide polymer and the polyamide preferably have a fluorine-containing substituent. Specific examples of fluorine-containing substituents include a fluoro group and a trifluoromethyl group.
ポリイミド系高分子及びポリアミドにおけるフッ素原子の含有量は、ポリイミド系高分子又はポリアミドの質量を基準として、好ましくは1質量%以上40質量%以下であり、さらに好ましくは5質量%以上40質量%以下である。フッ素原子の含有量が1質量%以上であると、フィルム化した際の弾性率をより向上し、吸水率を下げ、YI値をより低減し、透明性をより向上することができる傾向がある。一方で、フッ素原子の含有量が1質量%以上であると、フィルム化した際、静電気の発生により取り扱い時に不規則な折れなどを生じやすくなる。本発明によれば、このようなフィルムであっても、取り扱い時に折れ跡やキズといった欠陥が発生しにくい光学フィルムを提供することができる。フッ素原子の含有量は、40質量%を越えると、合成が困難になる傾向がある。 The content of fluorine atoms in the polyimide polymer and polyamide is preferably 1% by mass or more and 40% by mass or less, more preferably 5% by mass or more and 40% by mass or less, based on the mass of the polyimide polymer or polyamide. is. When the content of fluorine atoms is 1% by mass or more, there is a tendency that the elastic modulus when formed into a film can be further improved, the water absorption rate can be lowered, the YI value can be further reduced, and the transparency can be further improved. . On the other hand, if the fluorine atom content is 1% by mass or more, static electricity is generated when the film is made into a film, which tends to cause irregular folding during handling. According to the present invention, it is possible to provide an optical film that does not easily cause defects such as crease marks and scratches during handling. If the content of fluorine atoms exceeds 40% by mass, synthesis tends to become difficult.
本実施形態に係る光学フィルムにおいて、ポリイミド系高分子の含有量は、光学フィルムの全質量を基準として、40質量%以上であることができ、好ましくは50質量%以上であり、さらに好ましくは70質量%以上である。ポリイミド系高分子の含有量が40質量%以上であると、良好な屈曲性が得られやすい傾向がある。 In the optical film according to this embodiment, the content of the polyimide polymer may be 40% by mass or more, preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass, based on the total mass of the optical film. % by mass or more. When the content of the polyimide-based polymer is 40% by mass or more, there is a tendency that good flexibility is likely to be obtained.
(無機粒子)
本実施形態に係る光学フィルムは、上記のポリイミド系高分子及び/又はポリアミドに加えて、無機粒子等の無機材料を更に含有していてもよい。
(Inorganic particles)
The optical film according to this embodiment may further contain an inorganic material such as inorganic particles in addition to the polyimide polymer and/or polyamide.
無機材料として好ましくは、シリカ粒子、オルトケイ酸テトラエチル(TEOS)等の4級アルコキシシラン等のケイ素化合物が挙げられ、ワニス安定性の観点から、シリカ粒子が好ましい。 Preferred inorganic materials include silicon compounds such as silica particles and quaternary alkoxysilanes such as tetraethyl orthosilicate (TEOS), and silica particles are preferred from the viewpoint of varnish stability.
シリカ粒子の平均一次粒子径は、好ましくは10~100nm、さらに好ましくは20~80nmである。シリカ粒子の平均一次粒子径が100nm以下であると透明性が向上する傾向がある。シリカ粒子の平均一次粒子径が10nm以上であると、シリカ粒子の凝集力が弱まるために取り扱い易くなる傾向がある。 The silica particles preferably have an average primary particle size of 10 to 100 nm, more preferably 20 to 80 nm. When the average primary particle size of the silica particles is 100 nm or less, the transparency tends to be improved. When the average primary particle size of the silica particles is 10 nm or more, the cohesive force of the silica particles is weakened, which tends to facilitate handling.
本実施形態に係るシリカ微粒子は、有機溶剤等にシリカ粒子を分散させたシリカゾルであっても、気相法で製造したシリカ微粒子粉末を用いてもよいが、ハンドリングが容易であることからシリカゾルであることが好ましい。 The silica fine particles according to the present embodiment may be a silica sol in which silica particles are dispersed in an organic solvent or the like, or may be a silica fine particle powder produced by a gas phase method. Preferably.
光学フィルム中のシリカ粒子の(平均)一次粒子径は、透過型電子顕微鏡(TEM)による観察で求めることができる。光学フィルムを形成する前のシリカ粒子の粒度分布は、市販のレーザー回折式粒度分布計により求めることができる。 The (average) primary particle size of the silica particles in the optical film can be determined by observation with a transmission electron microscope (TEM). The particle size distribution of silica particles before forming the optical film can be determined by a commercially available laser diffraction particle size distribution meter.
本実施形態に係る光学フィルムにおいて、無機材料の含有量は、光学フィルムの全質量を基準として、0質量%以上90質量%以下であることができ、好ましくは0質量%以上60質量%以下であり、さらに好ましくは0質量%以上40質量%以下である。無機材料(ケイ素材料)の含有量が上記の範囲内であると、光学フィルムの透明性及び機械的強度を両立させやすい傾向がある。 In the optical film according to the present embodiment, the content of the inorganic material may be 0% by mass or more and 90% by mass or less, preferably 0% by mass or more and 60% by mass or less, based on the total mass of the optical film. more preferably 0% by mass or more and 40% by mass or less. When the content of the inorganic material (silicon material) is within the above range, it tends to be easy to achieve both transparency and mechanical strength of the optical film.
本実施形態に係る光学フィルムは、以上説明した成分に加えて、更に添加剤を含有していてもよい。上記添加剤としては、例えば、pH調整剤、シリカ分散剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、離型剤、安定剤、ブルーイング剤などの着色剤、難燃剤、滑剤及びレベリング剤が挙げられる。 The optical film according to this embodiment may further contain additives in addition to the components described above. Examples of the additives include pH adjusters, silica dispersants, ultraviolet absorbers, antioxidants, release agents, stabilizers, colorants such as bluing agents, flame retardants, lubricants and leveling agents.
樹脂成分及び無機材料以外の成分の含有量は、光学フィルムの全質量を基準として、好ましくは0質量%以上20質量%以下であり、さらに好ましくは0質量%超10質量%以下である。 The content of components other than the resin component and the inorganic material is preferably 0% by mass or more and 20% by mass or less, more preferably more than 0% by mass and 10% by mass or less, based on the total mass of the optical film.
また、本実施形態に係る光学フィルムは、上記光学フィルムの上記端面を垂直に切断した断面の、上記端面から10~20μm内側の領域において測定される、式(A)で定義されるDMT弾性率のばらつき(Ra)の値が500MPa以下であることが好ましく、400MPa以下であることがより好ましく、350MPa以下であることが更に好ましい。
[式(A)中、LはRaの算出範囲の長さを表し、M(x)は測定位置xにおけるDMT弾性率の測定値を表す。]
Further, the optical film according to the present embodiment has a DMT elastic modulus defined by the formula (A), which is measured in a
[In formula (A), L represents the length of the Ra calculation range, and M(x) represents the measured value of the DMT elastic modulus at the measurement position x. ]
ここで、フィルム端面付近の弾性率の分布は、SPM(Scanning Probe Microscope)のDMT(Derjaguin-Muller-Toporov) Modulus Image測定によって確認することができる。一般的なシェアー刃を用いた切断の場合、端部付近で不規則な応力が生じて歪が残留するため、上記弾性率の分布が大きくなりやすいが、これを小さくすることで、本発明の効果が得られやすい傾向がある。 Here, the elastic modulus distribution in the vicinity of the film end surface can be confirmed by DMT (Derjaguin-Muller-Toporov) Modulus Image measurement of SPM (Scanning Probe Microscope). In the case of cutting using a general shear blade, irregular stress is generated near the end portion and strain remains, so the distribution of the elastic modulus tends to increase. tend to be more effective.
(SPMの測定法)
光学フィルムを、光学フィルムの1辺に対して垂直方向に、カミソリ等の刃物で切断する。刃物で切断すると歪が残留することがあるので、ウルトラミクロトームを用い、切断した試験片を-60℃に冷却し、ガラスナイフを用い、断面を10μm以上切削する。切削した試験片をSPMにセットする。使用するカンチレバーはバネ定数が10~60N/mのものを選定し、QNM(Quantitative Nanomechanical Mapping)のモードを用いDMT Modulus Imageを測定する。ここで、DMT ModulusはDMTモデルを用いてフィッティングすることにより得られるModulus(弾性率)である。DMTモデルはDerjaquin,Muller,Toropovモデルのことである。フィルム端面近傍のImageを測定し、ImageからLine Profileを作成する。Line Profileはフィルム端面から内部の方向へ作成を行い、フィルム端面の位置を0μmとする。10~20μmのDMT弾性率の分布より、Raを求める。Imageをフィルムの厚みの90~70%、60~40%、30~10%の位置で、3か所測定し、それぞれのImageよりLine profileを作成し、N=3のRaを計算して、平均値を求める。
(SPM measurement method)
The optical film is cut with a knife such as a razor in a direction perpendicular to one side of the optical film. When cut with a blade, strain may remain, so an ultramicrotome is used to cool the cut test piece to −60° C., and a glass knife is used to cut a cross section of 10 μm or more. Set the cut test piece in the SPM. A cantilever having a spring constant of 10 to 60 N/m is selected, and DMT Modulus Image is measured using QNM (Quantitative Nanomechanical Mapping) mode. Here, the DMT modulus is the modulus (elastic modulus) obtained by fitting using the DMT model. The DMT model is the Derjaquin, Muller, Toropov model. An image near the edge of the film is measured, and a Line Profile is created from the image. The Line Profile is created inward from the film end surface, and the position of the film end surface is set to 0 μm. Ra is obtained from the distribution of the DMT elastic modulus of 10 to 20 μm. Image is measured at 3 points at 90% to 70%, 60% to 40%, and 30% to 10% of the thickness of the film, a line profile is created from each image, Ra at N=3 is calculated, Find the average value.
[積層フィルム]
本実施形態の積層フィルムは、上述した本実施形態の光学フィルムと、該光学フィルムの少なくとも一方の表面上に積層された機能層と、を備えるものである。本実施形態の積層フィルムにおいて、上記光学フィルムの端面と上記機能層の端面とは、連続的に接続されていることが好ましい。
[Laminated film]
The laminated film of this embodiment includes the optical film of this embodiment described above and a functional layer laminated on at least one surface of the optical film. In the laminated film of the present embodiment, it is preferable that the end face of the optical film and the end face of the functional layer are continuously connected.
図3は、本実施形態に係る積層フィルムの1例を示す斜視図である。図3に示した積層フィルム30は、矩形の平面形状を有している。積層フィルム30を構成する機能層20は、短手方向において互いに対向する二辺(矩形を形成する互いに平行な2つの長辺)の端面E11及びE12、並びに、長手方向において互いに対向する二辺(矩形を形成する互いに平行な2つの短辺)の端面E13及びE14を有する。機能層20は、端面が機能層20の表面に対して5°以上75°以下の角度で傾斜した傾斜面となっている部分を有していればよく、少なくとも対向する二辺の端面(端面E11とE12、又は、端面E13とE14)が機能層20の表面に対して5°以上75°以下の角度で傾斜した傾斜面となっていることがさらに好ましい。そして、機能層20の傾斜面は、光学フィルム10の傾斜面と連続的に接続されていることが好ましい。取り扱い時の欠陥の発生をより充分に抑制する観点から、機能層20の全ての端面が上記傾斜面となっていると殊更好ましい。図3に示した本実施形態の積層フィルム30では、機能層20の端面E11、E12、E13及びE14の全てが上記傾斜面となっているが、これに限定されない。
FIG. 3 is a perspective view showing one example of the laminated film according to this embodiment. The
図4の(a)は、図3に示した積層フィルムのIV-IV断面図である。本実施形態の積層フィルム30の機能層20において、端面E11及びE12の機能層20の表面に対する傾斜角θ’は、いずれも5°以上75°以下となっていることが好ましい。同様に、本実施形態の積層フィルム30の機能層20において、端面E13及びE14の機能層20の表面に対する傾斜角θ’は、いずれも5°以上75°以下となっていることが好ましい。端面E11、E12、E13及びE14における傾斜角θ’は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。また、一つの端面内において、傾斜角θ’は略一定であることが好ましいが、5°以上75°以下の範囲内であれば変動していてもよい。一つの端面内において傾斜角θ’が変動している場合、フィルム取り扱い時の欠陥の発生をより充分に抑制する観点から、傾斜角θ’の最大値と最小値の差は30°以下であることが好ましく、20°以下であることがより好ましい。なお、図4の(a)に示す積層フィルム30において、光学フィルム10の傾斜角θは光学フィルム10と機能層20との積層面を傾斜角θ=0°としている。
FIG. 4(a) is a cross-sectional view of the laminated film shown in FIG. 3 taken along line IV-IV. In the
図4の(b)は、本実施形態の積層フィルム30の別の形態を示した断面図である。図4の(b)に示す積層フィルム30において、光学フィルム10の傾斜角θは、光学フィルム10の機能層20との積層面とは反対側の面を傾斜角θ=0°としている。
図4の(b)に示す積層フィルム30において、機能層20の傾斜角θ’は、光学フィルム10の機能層20との積層面を傾斜角θ’=0°としている。なお、図4の(a)及び(b)の積層フィルム30の向きは上下逆であってもよい。
FIG. 4(b) is a cross-sectional view showing another form of the
In the
図4の(c)は、本実施形態の積層フィルム30の別の形態を示した断面図である。図4の(c)に示すように、積層フィルム30は、光学フィルム10及び機能層20の一方の端面E1、E11が傾斜面となっており、反対側の端面E2、E12が光学フィルム10及び機能層20の表面に対して垂直な垂直面となっていてもよい。なお、光学フィルム10の他の端面E3、E4及び機能層20の他の端面E13、E14は、傾斜面であっても垂直面であってもよい。図4の(c)に示す積層フィルム30において、光学フィルム10の傾斜角θは、光学フィルム10の機能層20との積層面を傾斜角θ=0°としている。また、図4の(c)に示す積層フィルム30において、機能層20の傾斜角θ’は、光学フィルム10の機能層20との積層面とは反対側の面を傾斜角θ’=0°としている。
FIG. 4(c) is a cross-sectional view showing another form of the
また、図4の(c)に示す積層フィルム30は、図4の(b)に示す積層フィルム30のように、上底よりも下底の方が短い逆台形の断面形状、換言すれば、積層フィルム30の光学フィルム10側の表面から機能層20側の表面に向かって端面がすぼまった断面形状を有していてもよい。この場合の光学フィルム10の傾斜角θ及び機能層20の傾斜角θ’の位置は、図4の(b)と同様である。更に、図4の(c)の積層フィルム30の向きは上下逆であってもよい。
The
本明細書において、積層フィルム30における光学フィルム10の端面の傾斜角θは、光学フィルム10の一方の表面と端面とのなす角度から求められる上記平均角度、及び、光学フィルム10の他方の表面と端面とのなす角度から求められる上記平均角度のうち、小さい方の平均角度を意味する。同様に、積層フィルム30における機能層20の端面の傾斜角θは、機能層20の一方の表面と端面とのなす角度から求められる上記平均角度、及び、機能層20の他方の表面と端面とのなす角度から求められる上記平均角度のうち、小さい方の平均角度を意味する。ここで言う光学フィルム10及び機能層20の表面は、光学フィルム10と機能層20との積層面を含む。
In this specification, the inclination angle θ of the end surface of the
傾斜角θ’は、5°以上75°以下であるが、フィルム取り扱い時の欠陥の発生をより充分に抑制する観点から、10°以上73°以下であることがより好ましく、20°以上70°以下であることが更に好ましく、25°以上70°以下であることが特に好ましい。傾斜角θ’が5°未満であると、端部の強度が低下し、フィルム取り扱い時に端部に欠陥が発生しやすくなる傾向がある。傾斜角θ’が75°を超えると、フィルム取り扱い時に折れ跡やキズといった欠陥が発生しやすくなる傾向がある。なお、傾斜角θ’は、積層フィルム30の端面又は断面を光学顕微鏡で観察することで測定することができる。
The inclination angle θ′ is 5° or more and 75° or less, but from the viewpoint of sufficiently suppressing the occurrence of defects during film handling, it is more preferably 10° or more and 73° or less, and 20° or more and 70°. or less, and particularly preferably 25° or more and 70° or less. If the angle of inclination θ′ is less than 5°, the strength of the edges tends to be low and defects tend to occur at the edges when the film is handled. If the angle of inclination θ′ exceeds 75°, defects such as creases and scratches tend to occur during handling of the film. Note that the tilt angle θ′ can be measured by observing the end face or cross section of the
光学フィルム10の端面と機能層20の端面とが連続して傾斜面を形成する場合、光学フィルム10の端面の傾斜角θと、機能層20の端面の傾斜角θ’とは同一であっても異なっていてもよい。フィルム取り扱い時に折れ跡やキズといった欠陥の発生をより抑制できるとともに、光学フィルム10と機能層20とがより剥がれにくくなることから、傾斜角θと傾斜角θ’との差は20°以下であることが好ましく、10°以下であることがより好ましく、傾斜角θと傾斜角θ’とが略同一であることが特に好ましい。
When the end surface of the
機能層20としては、紫外線吸収層、ハードコート層、粘着層、色相調整層、屈折率調整層などの種々の機能を有する層が挙げられる。なお、積層フィルム30は、機能の異なる複数の機能層を備えていてもよく、上述した機能層のうちの2種以上の層を備えていてもよい。機能層20は、ハードコート層を含むことが好ましい。
Examples of the
(機能層)
機能層としてのハードコート層は、表面に高硬度を発現する機能を有する層であり、例えば、光学フィルムの表面の鉛筆硬度よりも高い鉛筆硬度を有する表面を積層フィルムに与える層である。ハードコート層の表面の鉛筆硬度は、例えば2H以上であってもよい。
このハードコート層は、特に限定されないが、アクリル系、エポキシ系、ウレタン系、ベンジルクロライド系、ビニル系などの公知のハードコートを用いることができる。アクリル系ハードコートは、ポリ(メタ)アクリレート類に代表される、紫外線硬化型、電子線硬化型、又は熱硬化型の樹脂を含む。ハードコート層は、光重合開始剤、有機溶剤を含んでもよく、シリカ、アルミナ、ポリオルガノシロキサン等の無機酸化物を含んでもよい。
(functional layer)
The hard coat layer as a functional layer is a layer having a function of expressing high hardness on the surface, for example, a layer that provides the laminated film with a surface having a higher pencil hardness than the pencil hardness of the surface of the optical film. The surface of the hard coat layer may have a pencil hardness of, for example, 2H or more.
The hard coat layer is not particularly limited, but known hard coats such as acrylic, epoxy, urethane, benzyl chloride, and vinyl can be used. Acrylic hard coats include UV-curing, electron beam-curing, or heat-curing resins typified by poly(meth)acrylates. The hard coat layer may contain a photopolymerization initiator and an organic solvent, and may contain inorganic oxides such as silica, alumina, and polyorganosiloxane.
機能層としての紫外線吸収層は、紫外線吸収の機能を有する層であり、例えば、紫外線硬化型の透明樹脂、電子線硬化型の透明樹脂、及び熱硬化型の透明樹脂から選ばれる主材と、この主材に分散した紫外線吸収剤とから構成される。機能層として紫外線吸収層を設けることにより、光照射による黄色度の変化を容易に抑制することができる。 The ultraviolet absorption layer as a functional layer is a layer having a function of absorbing ultraviolet rays, and includes, for example, a main material selected from an ultraviolet-curing transparent resin, an electron beam-curing transparent resin, and a heat-curing transparent resin, It is composed of an ultraviolet absorber dispersed in this main material. By providing an ultraviolet absorption layer as a functional layer, it is possible to easily suppress a change in yellowness due to light irradiation.
機能層としての粘着層は、粘着性の機能を有する層であり、光学フィルムを他の部材に接着させる機能を有する。粘着層の形成材料としては、通常知られたものを用いることができる。例えば、熱硬化性樹脂組成物又は光硬化性樹脂組成物を用いることができる。 The adhesive layer as a functional layer is a layer having an adhesive function, and has a function of adhering the optical film to another member. Commonly known materials can be used as the material for forming the adhesive layer. For example, a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition can be used.
粘着層は、重合性官能基を有する成分を含む樹脂組成物から構成されていてもよい。この場合、光学フィルムを他の部材に密着させた後に粘着層を構成する樹脂組成物をさらに重合させることにより、強固な接着を実現することができる。光学フィルムと粘着層との接着強度は、0.1N/cm以上、又は0.5N/cm以上であってもよい。 The adhesive layer may be composed of a resin composition containing a component having a polymerizable functional group. In this case, strong adhesion can be achieved by further polymerizing the resin composition forming the adhesive layer after the optical film is adhered to another member. The adhesive strength between the optical film and the adhesive layer may be 0.1 N/cm or more, or 0.5 N/cm or more.
粘着層は、熱硬化性樹脂組成物又は光硬化性樹脂組成物を材料として含んでいてもよい。この場合、事後的にエネルギーを供給することで樹脂組成物を高分子化し硬化させることができる。 The adhesive layer may contain a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition as a material. In this case, the resin composition can be polymerized and cured by supplying energy afterward.
粘着層は、感圧型接着剤(Pressure Sensitive Adhesive、PSA)と呼ばれる、押圧により対象物に貼着される層であってもよい。感圧型接着剤は、「常温で粘着性を有し、軽い圧力で被着材に接着する物質」(JIS K6800)である粘着剤であってもよく、「特定成分を保護被膜(マイクロカプセル)に内容し、適当な手段(圧力、熱等)によって被膜を破壊するまでは安定性を保持できる接着剤」(JIS K6800)であるカプセル型接着剤であってもよい。 The adhesive layer may be a layer that adheres to an object by pressing, which is called a pressure sensitive adhesive (PSA). The pressure-sensitive adhesive may be a pressure-sensitive adhesive that is "a substance that has adhesiveness at room temperature and adheres to the adherend with light pressure" (JIS K6800), and "a specific component is a protective coating (microcapsule) It may be a capsule-type adhesive that is "adhesive that can maintain stability until the coating is destroyed by appropriate means (pressure, heat, etc.)" (JIS K6800).
機能層としての色相調整層は、色相調整の機能を有する層であり、光学フィルムを目的の色相に調整することができる層である。色相調整層は、例えば、樹脂及び着色剤を含有する層である。この着色剤としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、弁柄、チタニウムオキサイド系焼成顔料、群青、アルミン酸コバルト、及びカーボンブラック等の無機顔料;アゾ系化合物、キナクリドン系化合物、アンスラキノン系化合物、ペリレン系化合物、イソインドリノン系化合物、フタロシアニン系化合物、キノフタロン系化合物、スレン系化合物及びジケトピロロピロール系化合物等の有機顔料;硫酸バリウム及び炭酸カルシウム等の体質顔料;塩基性染料、酸性染料及び媒染染料等の染料を挙げることができる。 The hue-adjusting layer as a functional layer is a layer having a hue-adjusting function and capable of adjusting the hue of the optical film to a desired hue. A hue adjustment layer is a layer containing resin and a coloring agent, for example. Examples of the coloring agent include inorganic pigments such as titanium oxide, zinc oxide, red iron oxide, titanium oxide-based calcined pigments, ultramarine blue, cobalt aluminate, and carbon black; azo-based compounds, quinacridone-based compounds, anthraquinone-based compounds, Organic pigments such as perylene compounds, isoindolinone compounds, phthalocyanine compounds, quinophthalone compounds, threne compounds and diketopyrrolopyrrole compounds; extender pigments such as barium sulfate and calcium carbonate; basic dyes, acid dyes and Dyes such as mordant dyes can be mentioned.
機能層としての屈折率調整層は、屈折率調整の機能を有する層であり、光学フィルムとは異なる屈折率を有し、積層フィルムに所定の屈折率を付与することができる層である。
屈折率調整層は、例えば、適宜選択された樹脂、及び場合によりさらに顔料を含有する樹脂層であってもよいし、金属の薄膜であってもよい。
The refractive index adjusting layer as a functional layer is a layer having a refractive index adjusting function, has a refractive index different from that of the optical film, and can impart a predetermined refractive index to the laminated film.
The refractive index adjusting layer may be, for example, a resin layer containing an appropriately selected resin and optionally a pigment, or may be a metal thin film.
屈折率を調整する顔料としては、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化ジルコニウム及び酸化タンタルが挙げられる。顔料の平均粒子径は、0.1μm以下であってもよい。顔料の平均粒子径を0.1μm以下とすることにより、屈折率調整層を透過する光の乱反射を防止し、透明度の低下を防止することができる。 Pigments that adjust the refractive index include, for example, silicon oxide, aluminum oxide, antimony oxide, tin oxide, titanium oxide, zirconium oxide, and tantalum oxide. The average particle size of the pigment may be 0.1 μm or less. By setting the average particle size of the pigment to 0.1 μm or less, it is possible to prevent diffused reflection of light passing through the refractive index adjusting layer and prevent deterioration of transparency.
屈折率調整層に用いられる金属としては、例えば、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ケイ素、酸化インジウム、酸窒化チタン、窒化チタン、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素等の金属酸化物又は金属窒化物が挙げられる。 Examples of metals used for the refractive index adjusting layer include metals such as titanium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, silicon oxide, indium oxide, titanium oxynitride, titanium nitride, silicon oxynitride, and silicon nitride. Oxides or metal nitrides may be mentioned.
機能層は、光学フィルムの用途に応じて、上記の機能を適宜有する。機能層は、単層であっても、複数の層であってもよい。各層が1つの機能又は2つ以上の機能を有していてもよい。 The functional layer appropriately has the above functions depending on the use of the optical film. The functional layer may be a single layer or multiple layers. Each layer may have one function or more than one function.
機能層の厚さは、光学フィルムが適用されるフレキシブルデバイス等の用途に応じて適宜調整されるが、例えば、1~100μm、又は2~80μmであってもよい。 The thickness of the functional layer is appropriately adjusted according to the application such as a flexible device to which the optical film is applied.
[光学フィルムの製造方法]
次に、本実施形態の光学フィルムの製造方法の一例を説明する。
[Method for producing optical film]
Next, an example of the method for manufacturing the optical film of this embodiment will be described.
本実施形態に係る光学フィルムの作製に用いるワニス(光学フィルム用ワニス)は、例えば、上記テトラカルボン酸化合物、上記ジアミン及び上記のその他の原料から選択して反応させて得られる、ポリイミド系高分子及び/又はポリアミドの反応液、溶媒並びに必要に応じて用いられる上記添加剤を混合、攪拌することにより調製することができる。ポリイミド系高分子等の反応液に変えて、購入したポリイミド系高分子等の溶液や、購入した固体のポリイミド系高分子等の溶液を用いてもよい。 The varnish (varnish for optical film) used for producing the optical film according to the present embodiment is, for example, a polyimide-based polymer obtained by selecting and reacting the above tetracarboxylic acid compound, the above diamine, and the above other raw materials. And/or it can be prepared by mixing and stirring the reaction solution of the polyamide, the solvent, and the additives used as necessary. A solution of a purchased polyimide polymer or the like, or a solution of a purchased solid polyimide polymer or the like may be used instead of the reaction liquid of the polyimide polymer or the like.
上記ワニスに含まれる溶媒は、ポリイミド系高分子を溶解可能であればよい。溶媒としては、例えば、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミドなどのアミド系溶媒、γ-ブチロラクトン、γ-バレロラクトン等のラクトン系溶媒、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶剤、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒を用いることができる。これらの溶媒の中でも、アミド系溶剤又はラクトン系溶媒が好ましい。また、これら溶媒は単独で又は2種以上混合して用いてもよい。 The solvent contained in the varnish may be any solvent as long as it can dissolve the polyimide polymer. Examples of solvents include amide solvents such as N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide, lactone solvents such as γ-butyrolactone and γ-valerolactone, sulfur-containing solvents such as dimethylsulfone, dimethylsulfoxide, and sulfolane. Carbonate-based solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate can be used. Among these solvents, amide solvents or lactone solvents are preferred. Moreover, these solvents may be used alone or in combination of two or more.
次いで、公知のロール・ツー・ロールやバッチ方式により、樹脂基材、ステンテレス鋼ベルト、又はガラス基材上に、上記のワニスを塗布して塗膜を形成し、その塗膜を乾燥して、基材から剥離することによって、ポリイミド系高分子を含むフィルムを得る。剥離後に更にフィルムの乾燥を行ってもよい。 Next, by a known roll-to-roll or batch method, the above varnish is applied to a resin substrate, stainless steel belt, or glass substrate to form a coating film, and the coating film is dried, A film containing a polyimide-based polymer is obtained by peeling from the substrate. After peeling, the film may be further dried.
塗膜の乾燥は、温度50~350℃にて、適宜、大気下、不活性雰囲気下あるいは減圧の条件下に溶媒を蒸発させることにより行う。 The coating film is dried by evaporating the solvent at a temperature of 50 to 350° C. under air, inert atmosphere or reduced pressure.
樹脂基材の例としては、PET、PEN、ポリイミド、ポリアミドイミドなどが挙げられる。中でも、耐熱性に優れた樹脂が好ましい。特に、PET基材がフィルムとの密着性及びコストの観点で好ましい。 Examples of resin substrates include PET, PEN, polyimide, and polyamideimide. Among them, a resin having excellent heat resistance is preferable. In particular, a PET base material is preferable from the viewpoint of adhesion to the film and cost.
続いて、光学フィルムの端面に対し、光学フィルム表面に対して5°以上75°以下の角度で傾斜した傾斜面となるように処理を施す。 Subsequently, the end surface of the optical film is processed so as to form an inclined surface inclined at an angle of 5° or more and 75° or less with respect to the surface of the optical film.
上記処理方法としては、上記傾斜角を有するように端面を切断する又は削る方法が挙げられる。端面を切断する又は削る方法としては、レーザーを照射する方法、シェアー刃等の切断刃を斜めに用いる方法が挙げられる。中でも、傾斜角の変動が少ない平滑な傾斜面を形成しやすいことから、レーザーを照射する方法が好ましい。すなわち、上記処理により形成された端面はレーザー切断面であることが好ましい。 Examples of the processing method include a method of cutting or shaving the end face so as to have the inclination angle. Examples of the method of cutting or scraping the end face include a method of irradiating a laser and a method of using a cutting blade such as a shear blade at an angle. Among them, the method of irradiating with a laser is preferable because it is easy to form a smooth inclined surface with little variation in inclination angle. That is, it is preferable that the end surface formed by the above treatment be a laser-cut surface.
レーザーとしては特に限定されず、上記傾斜面を形成可能な任意のレーザーを用いることができる。使用可能なレーザーとして具体的には、CO2レーザー、エキシマレーザー等の気体レーザー;YAGレーザー等の固体レーザー;半導体レーザーなどが挙げられる。好適なレーザーはCO2レーザーである。具体的には、フィルム原反を所望の大きさにCO2レーザーで切断することにより、上記傾斜角を有する端面を容易に形成することができる。 The laser is not particularly limited, and any laser capable of forming the inclined surface can be used. Specific examples of usable lasers include gas lasers such as CO2 lasers and excimer lasers; solid lasers such as YAG lasers; and semiconductor lasers. A preferred laser is a CO2 laser. Specifically, by cutting the original film into a desired size with a CO 2 laser, the end face having the above-described inclination angle can be easily formed.
レーザー照射は、上記傾斜角を有する端面を容易に形成する観点から、以下の条件で行うことが好ましい。レーザーは10μm以下の波長であると好ましい。出力は10W以上が好ましく、12W以上がさらに好ましい。出力が大きくなると、傾斜角が小さくなりやすい傾向があり、出力が小さくなると、傾斜角が大きくなりやすい傾向がある。レーザーによる加工速度は50mm/sec以上であることが好ましく、100mm/sec以上であるとさらに好ましい。端部に複数回レーザーを照射してもよい。レーザーは、上記傾斜角を有する切断面を形成するために、光学フィルムの表面に対してレーザーの中心軸が傾斜するように斜め方向から照射することができる。また、光学フィルムの表面に対して垂直方向からレーザー照射を行いつつ、レーザーの焦点位置をずらす(例えば、光学フィルム表面よりも上方に焦点位置を設定する)ことにより、上記傾斜角を有する切断面を形成してもよい。 Laser irradiation is preferably performed under the following conditions from the viewpoint of easily forming the end face having the above-described inclination angle. Preferably, the laser has a wavelength of 10 μm or less. The output is preferably 10 W or more, more preferably 12 W or more. The tilt angle tends to decrease as the output increases, and the tilt angle tends to increase as the output decreases. The laser processing speed is preferably 50 mm/sec or higher, more preferably 100 mm/sec or higher. The edge may be irradiated with the laser multiple times. In order to form a cut surface having the above tilt angle, the laser can be irradiated obliquely so that the central axis of the laser is tilted with respect to the surface of the optical film. In addition, while irradiating the surface of the optical film with a laser in a direction perpendicular to the surface of the optical film, by shifting the focal position of the laser (for example, by setting the focal position above the surface of the optical film), the cut surface having the above inclination angle can be obtained. may be formed.
[積層フィルムの製造方法]
本実施形態に係る積層フィルムの作製において、機能層の形成に用いるワニス(機能層用ワニス)は、上述した機能層の種類に応じた材料を配合して調製することができる。
[Method for producing laminated film]
In the production of the laminated film according to the present embodiment, the varnish used for forming the functional layer (varnish for functional layer) can be prepared by blending the materials according to the type of the functional layer described above.
本実施形態に係る積層フィルムの製造方法では、まず、公知のロール・ツー・ロールやバッチ方式により、樹脂基材、ステンテレス鋼ベルト、又はガラス基材上に、上記光学フィルム用ワニスを塗布して塗膜を形成し、その塗膜を乾燥し、基材から剥離して光学フィルムを得る。次いで、光学フィルム上に、上記機能層用ワニスを塗布して塗膜を形成することによって、光学フィルムと機能層とが積層された積層フィルムを得る。光学フィルムと機能層の塗膜の形成順序は逆でもよく、基材上に機能層の塗膜を形成した後、その塗膜上に光学フィルムの塗膜を形成してもよい。また、光学フィルムに公知の接着剤、粘着剤を用いて貼り合せてもよい。 In the method for producing a laminated film according to the present embodiment, first, the varnish for optical films is applied onto a resin substrate, a stainless steel belt, or a glass substrate by a known roll-to-roll or batch method. A coating film is formed, the coating film is dried, and peeled off from the substrate to obtain an optical film. Then, the functional layer varnish is applied on the optical film to form a coating film, thereby obtaining a laminated film in which the optical film and the functional layer are laminated. The order of forming the optical film and the coating film of the functional layer may be reversed, and after the coating film of the functional layer is formed on the substrate, the coating film of the optical film may be formed on the coating film. Alternatively, the optical film may be attached using a known adhesive or pressure-sensitive adhesive.
光学フィルム及び機能層の塗膜の乾燥は、温度50~350℃にて溶媒を蒸発させることにより行う。大気下、不活性雰囲気下、あるいは減圧の条件下で乾燥させてもよい。 The coating film of the optical film and the functional layer is dried by evaporating the solvent at a temperature of 50 to 350°C. Drying may be performed under air, inert atmosphere, or under reduced pressure.
続いて、積層フィルムの端面に対し、積層フィルム表面に対して5°以上75°以下の角度で傾斜した傾斜面となるように処理を施す。その処理方法は、光学フィルムの作製方法において説明した方法と同様である。かかる処理は、通常、光学フィルム及び機能層の両方に対して同時に施す。この場合、光学フィルムと機能層とで連続した傾斜面が形成されるため好ましい。 Subsequently, the end face of the laminated film is treated so as to form an inclined surface inclined at an angle of 5° or more and 75° or less with respect to the laminated film surface. The processing method is the same as the method described in the method for producing the optical film. Such treatments are usually applied simultaneously to both the optical film and the functional layer. In this case, the optical film and the functional layer form a continuous inclined surface, which is preferable.
[フレキシブルデバイス]
このような光学フィルム及び積層フィルムは、フレキシブルデバイスの前面板として好適に使用することができる。本実施形態に係るフレキシブルデバイスは、フレキシブル機能層と、フレキシブル機能層に重ねられて前面板として機能する上記の光学フィルム又は積層フィルムとを有する。すなわち、フレキシブルデバイスの前面板は、フレキシブル機能層の上の視認側に配置される。この前面板は、フレキシブル機能層を保護する機能を有する。
[Flexible device]
Such an optical film and laminated film can be suitably used as a front plate of a flexible device. A flexible device according to the present embodiment has a flexible functional layer and the above optical film or laminated film that is overlaid on the flexible functional layer and functions as a front plate. That is, the front panel of the flexible device is positioned on the viewing side above the flexible functional layer. This front plate has the function of protecting the flexible functional layer.
フレキシブルデバイスの例としては、画像表示装置(フレキシブルディスプレイ、電子ペーパーなど)、太陽電池などが挙げられる。例えば、ディスプレイ機能層、太陽電池機能層がフレキシブル機能層となる。 Examples of flexible devices include image display devices (flexible displays, electronic paper, etc.), solar cells, and the like. For example, a display functional layer and a solar cell functional layer are flexible functional layers.
フレキシブルディスプレイの1例を図5に示す。このフレキシブルディスプレイ100は、表面側(視認側)から順に、前面板110/偏光板保護フィルム120B/偏光子120A/偏光板保護フィルム120B/タッチセンサーフィルム130/有機EL素子層140/TFT基板150という構成を有する。フレキシブルディスプレイ100における前面板110以外の層がフレキシブル機能層190である。偏光板保護フィルム120B/偏光子120A/偏光板保護フィルム120Bは偏光板120を構成する。各層の表面及び各層間に、ハードコート層、粘着層、接着層、位相差層などを含んでもよい。前面板110は、光学フィルム110A及びハードコート層110Bからなる。前面板110として、上記の光学フィルム10及び上記の機能層20としてのハードコート層からなる積層フィルム30を使用できる。なお、ハードコート層110Bは、他の機能を有する層に置き換えてもよく、その機能によっては、光学フィルム110Aの内側(光学フィルム110Aとフレキシブル機能層190との間)に配置されてもよい。かかるフレキシブルディスプレイは、タブレットPC、スマートフォン、携帯ゲーム機などの画像表示部として用いることができる。
An example of a flexible display is shown in FIG. This
本実施形態にかかるフレキシブルデバイスによれば、前面板110として上記の積層フィルム30を用いている。積層フィルム30は、取り扱い時に折れ跡やキズといった欠陥が発生しにくいため、フレキシブルデバイス作製時にも欠陥が発生しにくく、欠陥がなく視認性に優れたフレキシブルデバイスが歩留まり良く得られる。
According to the flexible device according to this embodiment, the
以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail below based on examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.
(実施例1)
(ワニス1の処方)
ポリイミド系高分子である三菱ガス化学(株)製「ネオプリムC6A20」(γ-ブチロラクトン溶媒、22質量%)、γ-ブチロラクトンに固形分濃度30質量%のシリカ粒子を分散した溶液、アミノ基を有するアルコキシシランのジメチルアセトアミド溶液、及び、水を混合し、30分間攪拌した。ここで、シリカとポリイミドの質量比を30:70、アミノ基を有するアルコキシシランの量をシリカ及びポリイミドの合計100質量部に対して1.67質量部、水をシリカ及びポリイミドの合計100質量部に対して10質量部とした。
(Example 1)
(Prescription of varnish 1)
"Neoplim C6A20" (γ-butyrolactone solvent, 22% by mass) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., which is a polyimide polymer, a solution in which silica particles with a solid content concentration of 30% by mass are dispersed in γ-butyrolactone, and having amino groups A solution of alkoxysilane in dimethylacetamide and water were mixed and stirred for 30 minutes. Here, the mass ratio of silica and polyimide is 30:70, the amount of alkoxysilane having an amino group is 1.67 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of silica and polyimide, and the total amount of water is 100 parts by mass of silica and polyimide. and 10 parts by mass.
(製膜)
上記方法にて作製したワニス1を基材にキャスト製膜し、50μmの厚みのポリイミド系高分子フィルム原反を得た。フィルム原反の屈折率は1.57であった。その後、フィルム原反からCO2レーザーで矩形(10cm×5cm)の領域を切り出して光学フィルムを得た。加工は以下の条件で行った。
装置:キーエンス社製ML-Z9510T
波長:9.3μm
出力:80%
加工速度:150mm/秒
(film formation)
Varnish 1 prepared by the above method was cast on a base material to obtain a polyimide polymer film material having a thickness of 50 μm. The refractive index of the original film was 1.57. After that, a rectangular area (10 cm×5 cm) was cut out from the original film with a CO 2 laser to obtain an optical film. Processing was performed under the following conditions.
Device: ML-Z9510T manufactured by Keyence Corporation
Wavelength: 9.3 μm
Output: 80%
Machining speed: 150mm/sec
(実施例2)
実施例1と同様の方法でポリイミド系高分子フィルム原反を作製した。その後、加工速度を300mm/秒とした以外は実施例1と同様にしてフィルム原反からCO2レーザーで矩形の領域を切り出して光学フィルムを得た。
(Example 2)
A raw polyimide polymer film was produced in the same manner as in Example 1. Thereafter, a rectangular region was cut out from the original film by a CO 2 laser in the same manner as in Example 1, except that the processing speed was 300 mm/sec, to obtain an optical film.
(比較例1)
実施例1と同様の方法でポリイミド系高分子フィルム原反を作製した。その後、フィルム原反からシェアー刃で矩形(10cm×5cm)の領域を切り出して光学フィルムを得た。
(Comparative example 1)
A raw polyimide polymer film was produced in the same manner as in Example 1. Thereafter, a rectangular region (10 cm×5 cm) was cut out from the raw film with a shear blade to obtain an optical film.
(実施例3)
ポリイミド系高分子(河村産業(株)製「KPI-MX300F(100)」をγ-ブチロラクトンに溶解してポリイミド系高分子の濃度が16質量%である高分子溶液(ワニス2)を得た。得られたワニス2を基材にキャスト製膜し、50μmの厚みのポリイミド系高分子フィルム原反を得た。フィルム原反の屈折率は1.56であった。その後、フィルム原反から実施例1と同様の条件でCO2レーザー加工して光学フィルムを得た。
(Example 3)
A polyimide polymer (“KPI-MX300F (100)” manufactured by Kawamura Sangyo Co., Ltd.) was dissolved in γ-butyrolactone to obtain a polymer solution (varnish 2) having a polyimide polymer concentration of 16% by mass. The resulting varnish 2 was cast on a base material to obtain a polyimide polymer film raw material having a thickness of 50 μm and a refractive index of 1.56. An optical film was obtained by CO 2 laser processing under the same conditions as in Example 1.
(比較例2)
実施例3と同様の方法でポリイミド系高分子フィルム原反を作製した。その後、フィルム原反からシェアー刃で矩形の領域を切り出して光学フィルムを得た。
(Comparative example 2)
A raw polyimide polymer film was produced in the same manner as in Example 3. After that, a rectangular region was cut out from the original film with a shear blade to obtain an optical film.
(実施例4)
実施例1のワニス1からキャスト製膜した膜厚30μmのポリイミド系フィルムの上に、30μmのエポキシ系ハードコート層をキャスト製膜し、厚み30μmの光学フィルムと、厚み30μmのハードコート層とが積層された積層フィルム原反を得た。その後、フィルム原反から実施例1と同様の条件でCO2レーザー加工を行って矩形(10cm×5cm)の領域を切り出して積層フィルムを得た。切り出しの際は、積層フィルムの光学フィルム側からレーザーを照射した。
(Example 4)
A 30 μm-thick epoxy hard coat layer was cast on a 30 μm-thick polyimide film cast from the varnish 1 of Example 1, and a 30 μm-thick optical film and a 30 μm-thick hard coat layer were formed. A laminated film raw material was obtained. After that, CO 2 laser processing was performed from the original film under the same conditions as in Example 1, and a rectangular region (10 cm×5 cm) was cut out to obtain a laminated film. When cutting out, a laser was irradiated from the optical film side of the laminated film.
(比較例3)
実施例4と同様の方法で積層フィルム原反を作製した。その後、フィルム原反からシェアー刃で矩形(10cm×5cm)の領域を切り出して積層フィルムを得た。切り出しの際は、積層フィルムの光学フィルム側から刃を入れるようにした。
(Comparative Example 3)
A laminated film raw fabric was produced in the same manner as in Example 4. After that, a rectangular region (10 cm×5 cm) was cut out from the original film with a shear blade to obtain a laminated film. When cutting out, the blade was inserted from the optical film side of the laminated film.
(実施例5)
膜厚が80μmである以外は実施例3と同様にしてポリイミド系フィルム原反を得た。
その後、フィルム原反から以下の条件でCO2レーザー加工を行った。加工の際はレーザーを固定し、フィルムを移動させた。矩形(10cm×5cm)の形状にレーザーを3回照射して端部を切断し、光学フィルムを得た。
装置:COHERENT社製E400iCL
波長:9.4μm
出力:13W
加工速度:400mm/秒
周波数:60kHz
(Example 5)
A raw polyimide film was obtained in the same manner as in Example 3, except that the film thickness was 80 μm.
After that, CO 2 laser processing was performed on the original film under the following conditions. During processing, the laser was fixed and the film was moved. A rectangular shape (10 cm×5 cm) was irradiated with a laser three times and the edges were cut to obtain an optical film.
Device: E400iCL manufactured by COHERENT
Wavelength: 9.4 μm
Output: 13W
Machining speed: 400 mm/sec Frequency: 60 kHz
(比較例4)
実施例5と同様の方法でポリイミド系フィルム原反を作製した。その後、フィルム原反からシェアー刃で矩形(10cm×5cm)の領域を切り出して光学フィルムを得た。
(Comparative Example 4)
A raw polyimide film was produced in the same manner as in Example 5. Thereafter, a rectangular region (10 cm×5 cm) was cut out from the raw film with a shear blade to obtain an optical film.
<弾性率のばらつき(Ra)の測定>
実施例5及び比較例4で得られたフィルムについて、端面から10~20μmの領域におけるDMT弾性率のばらつき(Ra)を以下の条件で測定した。
まず、カミソリを用いてフィルムの一辺に垂直な方向に切断した切片を作製した後、断面を以下の条件で処理した。
装置:LEICA社製ミクロトーム EMFC6
切削条件:-60℃ 乾式
ナイフ:ガラスナイフ
切削:10μm以上切削
その後、得られた断面について、SPMを用いて以下の条件でDMT Modulus Imageを得た。
装置:Dimension ICOM (Bruker社製)
Cantilever: RTESP
The measured deflection error sensitivity:63.59nm/V
Calculated spring constant: 20.8727N/m
Resonance frequency: 320.192kHz
Tip radius: 10nm
Sample Poisson’s ratio: 0.42
Feedback gain: 10~20
Peak Force setpoint: 70nN
Scan size : 2μm×40μm
Scan ratio : 0.1 Hz
Points/Line: 256
得られたDMT Modulus ImageからLine Profileを作成し、Line Profileについて、端面から10~20μm内側(フィルム内部側)の領域に対して、フィルムの厚みの90~70%、60~40%、30~10%の位置でそれぞれRaを計算し、平均値を算出した。実施例5で得られたフィルムのRaの測定結果は345MPa、比較例4で得られたフィルムのRaの測定結果は1026MPaであった。
<Measurement of elastic modulus variation (Ra)>
For the films obtained in Example 5 and Comparative Example 4, the variation (Ra) of the DMT elastic modulus in the
First, a section was cut perpendicular to one side of the film using a razor to prepare a section, and then the section was treated under the following conditions.
Apparatus: Microtome EMFC6 manufactured by LEICA
Cutting conditions: −60° C. Dry knife: glass knife cutting: cutting of 10 μm or more After that, a DMT Modulus Image was obtained for the obtained cross section using SPM under the following conditions.
Device: Dimension ICOM (manufactured by Bruker)
Cantilever: RTESP
The measured deflection error sensitivity: 63.59nm/V
Calculated spring constant: 20.8727N/m
Resonance frequency: 320.192kHz
Tip radius: 10nm
Sample Poisson's ratio: 0.42
Feedback gain: 10-20
Peak Force setpoint: 70nN
Scan size: 2μm×40μm
Scan ratio: 0.1Hz
Points/Line: 256
A line profile is created from the obtained DMT Modulus Image, and the line profile is 90 to 70%, 60 to 40%, 30 to 70%, 60 to 40%, and 30 to Ra was calculated at each 10% position, and an average value was calculated. The Ra measurement result of the film obtained in Example 5 was 345 MPa, and the Ra measurement result of the film obtained in Comparative Example 4 was 1026 MPa.
<傾斜角の測定>
実施例及び比較例で得られた光学フィルム又は積層フィルムの断面を光学顕微鏡により観察し、フィルム端面の傾斜角を測定した。なお、フィルム端面の傾斜角は、4つの端面の全てにおいてほぼ同様の値であった。結果を表1に示す。また、図6に実施例4で得られた積層フィルムの断面写真を示す。図6に示すように、実施例4で得られた光学フィルム10の端面は、測定位置によっては若干の荒れが見られたが、平均角度は概ね45°であった。また、実施例4で得られた積層フィルムでは、光学フィルム10の端面とハードコート層(機能層20)の端面とが、同じ傾斜角で連続的に接続されていた。一方、比較例3で得られた積層フィルムは、光学フィルム10の端面が荒れており、厚み方向に10~170°程度に非常に大きく端面の角度がばらつく結果であり、平均すると80°であった。また、比較例3で得られた積層フィルムでは、光学フィルム10の端面とハードコート層(機能層20)の端面とが連続していなかった。比較例2、比較例4で得られたフィルムについても、一部に鈍角となる部分を有するなど、傾斜が厚み方向で大きく変動していた。
<Measurement of tilt angle>
The cross sections of the optical films or laminated films obtained in Examples and Comparative Examples were observed with an optical microscope to measure the tilt angles of the film end surfaces. The tilt angles of the film end surfaces were substantially the same values for all four end surfaces. Table 1 shows the results. Moreover, the cross-sectional photograph of the laminated|multilayer film obtained in Example 4 is shown in FIG. As shown in FIG. 6, the edge surface of the
<取り扱い時の欠陥発生有無の評価>
実験台上にECOLE社製スケルトンカッティングマット「EKM-L」を敷き、マット上に実施例及び比較例で得られた光学フィルム又は積層フィルムを設置し、フィルムに対して下記(1)~(5)の操作を10回繰り返した。フィルムは、マットに接する面側に向かって端面がすぼまった状態となるように(すなわち、マット上のフィルム断面が、マットとは反対側の上底がマットと接する下底より長い逆台形となるように)設置した。積層フィルムの場合、機能層の面がマットに接するように設置した。
(1)フィルムの上のフィルム長手方向に8cm離れた2箇所に、直径1cmのゴムA及びゴムBを押し当てる。
(2)ゴムAを固定し、ゴムBをマットに押し付けながらゴムAの方向に5cm近づける。このとき、フィルムがゴムBに引きずられ、ゴムAとゴムBの間のフィルムが持ち上がる。
(3)ゴムA及びゴムBをマットから離して上方に5cm持ち上げる。フィルムはゴムAとゴムBに挟まれて持ち上がる。
(4)3秒間その状態で保持する。その間にフィルムはマット上に落下してもよい。
(5)ゴムA及びゴムBの間隔を8cmまで広げる。フィルムはマット上に落下する。
上記操作後、フィルム全体の欠陥(折れ跡及びキズ)の有無を調べ、欠陥が確認されなかったものを「A」、欠陥が確認されたものを「B」と判定した。結果を表1に示す。
<Evaluation of presence/absence of defects during handling>
A skeleton cutting mat "EKM-L" manufactured by ECOLE is laid on a laboratory bench, the optical films or laminated films obtained in Examples and Comparative Examples are placed on the mat, and the following (1) to (5) are applied to the film. ) was repeated 10 times. The film is tapered so that the end face tapers toward the side that contacts the mat (that is, the cross section of the film on the mat is an inverted trapezoid in which the upper base on the opposite side of the mat is longer than the lower base that contacts the mat). ) was installed. In the case of the laminated film, the surface of the functional layer was placed in contact with the mat.
(1) Rubber A and rubber B with a diameter of 1 cm are pressed against two locations on the film that are 8 cm apart in the longitudinal direction of the film.
(2) Fix the rubber A and bring it closer to the rubber A by 5 cm while pressing the rubber B against the mat. At this time, the film is dragged by the rubber B, and the film between the rubbers A and B is lifted.
(3) Separate rubber A and rubber B from the mat and lift upward by 5 cm. The film is sandwiched between rubber A and rubber B and lifted.
(4) Hold in that state for 3 seconds. In the meantime the film may fall onto the mat.
(5) Widen the gap between rubber A and rubber B to 8 cm. The film falls onto the mat.
After the above operation, the film as a whole was examined for defects (fold marks and scratches), and the film was rated as "A" if no defects were found, and as "B" if defects were found. Table 1 shows the results.
<耐屈曲性の評価>
実施例4及び比較例3で得られた積層フィルムについて、耐屈曲性の評価を以下の方法で行った。積層フィルムを、ユアサ製折り曲げ試験機DLDM111LHを用い、R=2mm、1Hzの条件で繰り返し折り曲げ試験を行った。積層フィルムに割れ、又は、光学フィルムとハードコート層との間の剥がれが生じるまでの屈曲回数を測定した。実施例4の積層フィルムでは、30000回の屈曲回数でも割れや剥がれが生じなかった。比較例3の積層フィルムでは端部に微小なキズが生じていたため、20000回以下の折り曲げでハードコート層にクラックが生じたのに対し、実施例4の積層フィルムはクラック等のない滑らかな端部を全体に有していたため、端部がクラックのきっかけとなることなく、30000回の屈曲に耐えたと考えられる。このような端部の微細なクラックは、フィルムのカット時に加え、運搬、取扱い時に端部を擦ったり、ぶつけたりすることによっても生じる。また、フィルムの折れ跡、キズといった欠陥があった場合、それを起点にフィルムの割れ、剥がれが生じるため、本発明は、耐屈曲性を向上させる効果もある。
<Evaluation of bending resistance>
The laminated films obtained in Example 4 and Comparative Example 3 were evaluated for bending resistance by the following method. The laminated film was subjected to a repeated bending test using a bending tester DLDM111LH manufactured by Yuasa under the conditions of R=2 mm and 1 Hz. The number of times of bending was measured until the laminated film cracked or the optical film and the hard coat layer peeled off. The laminated film of Example 4 did not crack or peel even after being flexed 30,000 times. Since the laminated film of Comparative Example 3 had fine scratches at the edges, cracks occurred in the hard coat layer after bending 20,000 times or less, whereas the laminated film of Example 4 had smooth edges without cracks. It is thought that the end portion of the fiber endured 30,000 times of flexing without triggering a crack because it had a portion all over. Such fine cracks at the edges of the film are caused not only when the film is cut, but also when the edges are rubbed or bumped during transportation and handling. In addition, if there is a defect such as a crease or a scratch on the film, the film cracks or peels from that defect, so the present invention also has the effect of improving the bending resistance.
表1に示した結果から明らかなように、実施例で得られた光学フィルム及び積層フィルムはいずれも、取り扱い時に折れ跡やキズといった欠陥が発生しにくいことが確認された。一方、比較例で得られた光学フィルム及び積層フィルムはいずれも、取り扱い時に折れ跡やキズといった欠陥が発生した。これは、取り扱い時にフィルムが引きずられる際に、端部がマットに引っかかりやすく、不規則に曲がったり折れたりすることが原因であると考えられる。 As is clear from the results shown in Table 1, it was confirmed that the optical films and the laminated films obtained in the examples are less likely to cause defects such as creases and scratches during handling. On the other hand, both the optical films and laminated films obtained in the comparative examples had defects such as creases and scratches during handling. It is believed that this is because when the film is dragged during handling, the edges tend to get caught on the mat and bend or fold irregularly.
なお、シリカ粒子を含むフィルムや、ハードコート層を有する積層フィルムは、特に折れ跡が付きやすいが、実施例においてはいずれの場合でも折れ跡等の欠陥発生を抑制できることが確認された。また、実施例及び比較例の光学フィルム及び積層フィルムは、吸水率が低いため静電気が生じてマットに張り付きやすく、持ち上げにくい状態であった。そのため、比較例の光学フィルム及び積層フィルムでは、フィルムを持ち上げる際に局所的に応力が掛かって折れ跡が付いたが、実施例においては折れ跡等の欠陥発生を抑制できることが確認された。このように、本発明の光学フィルム及び積層フィルムは、シリカ粒子を含む場合、ハードコート層を備える場合、及び、静電気が生じやすい場合といった、取り扱い時に欠陥が生じやすい場合であっても、欠陥の発生を抑制することができる。 A film containing silica particles and a laminated film having a hard coat layer are particularly susceptible to creases, but it was confirmed in the examples that the occurrence of defects such as creases could be suppressed in any case. In addition, the optical films and laminated films of Examples and Comparative Examples were in a state where static electricity was generated due to their low water absorption, and they easily stuck to the mat and were difficult to lift. Therefore, in the optical film and laminated film of the comparative example, when the film was lifted, stress was applied locally and creases were formed, but it was confirmed that defects such as creases could be suppressed in the examples. As described above, the optical film and laminated film of the present invention can be used to prevent defects even when defects are likely to occur during handling, such as when silica particles are included, when the hard coat layer is provided, and when static electricity is likely to occur. The occurrence can be suppressed.
10…光学フィルム、20…機能層、30…積層フィルム、100…フレキシブルディスプレイ。
DESCRIPTION OF
Claims (10)
前記画像表示装置用光学フィルムの端面が、前記画像表示装置用光学フィルムの表面に対して5°以上75°以下の角度で傾斜した傾斜面であり、
前記画像表示装置用光学フィルムの前記端面を垂直に切断した断面の、前記端面から10~20μm内側の領域において測定される、下記式(A)で定義されるDMT弾性率のばらつき(Ra)の値が500MPa以下であり、
前記DMT弾性率のばらつき(Ra)は、前記端面から10~20μm内側の領域に対する、フィルムの厚みの90~70%、60~40%、30~10%の位置における測定結果の平均値である、画像表示装置用光学フィルム。
[式(A)中、LはRaの算出範囲の長さを表し、M(x)は測定位置xにおけるDMT弾性率の測定値を表す。] An optical film for an image display device containing a polyimide polymer,
an end surface of the optical film for an image display device is an inclined surface inclined at an angle of 5° or more and 75° or less with respect to the surface of the optical film for an image display device;
Variation (Ra) of DMT elastic modulus defined by the following formula (A), which is measured in a region 10 to 20 μm inside from the end face of the cross section obtained by cutting the end face of the optical film for an image display device perpendicularly. value is 500 MPa or less,
The variation (Ra) of the DMT elastic modulus is the average value of the measurement results at positions of 90 to 70%, 60 to 40%, and 30 to 10% of the thickness of the film in the region 10 to 20 μm inside from the end face. , an optical film for an image display device.
[In formula (A), L represents the length of the Ra calculation range, and M(x) represents the measured value of the DMT elastic modulus at the measurement position x. ]
前記画像表示装置用光学フィルムの端面と前記機能層の端面とが接続されている、積層フィルム。 The optical film for an image display device according to any one of claims 1 to 5, and a functional layer laminated on at least one surface of the optical film for an image display device,
A laminated film in which an end face of the optical film for an image display device and an end face of the functional layer are connected.
前記レーザーの波長が10μm以下であり、
前記切断加工により形成される前記画像表示装置用光学フィルムの端面が、前記画像表示装置用光学フィルムの表面に対して5°以上75°以下の角度で傾斜した傾斜面であり、
前記切断加工により形成される前記画像表示装置用光学フィルムの端面を垂直に切断した断面の、前記端面から10~20μm内側の領域において測定される、下記式(A)で定義されるDMT弾性率のばらつき(Ra)の値が500MPa以下であり、
前記DMT弾性率のばらつき(Ra)は、前記端面から10~20μm内側の領域に対する、フィルムの厚みの90~70%、60~40%、30~10%の位置における測定結果の平均値である、画像表示装置用光学フィルムの製造方法。
[式(A)中、LはRaの算出範囲の長さを表し、M(x)は測定位置xにおけるDMT弾性率の測定値を表す。] A method for producing an optical film for an image display device containing a polyimide-based polymer, comprising a step of cutting edges by laser irradiation,
The wavelength of the laser is 10 μm or less,
an end surface of the optical film for an image display device formed by the cutting process is an inclined surface inclined at an angle of 5° or more and 75° or less with respect to the surface of the optical film for an image display device;
DMT elastic modulus defined by the following formula (A), which is measured in a region 10 to 20 μm inside from the end face of the cross section obtained by cutting the end face of the optical film for an image display device formed by the cutting process. The value of the variation (Ra) is 500 MPa or less,
The variation (Ra) of the DMT elastic modulus is the average value of the measurement results at positions of 90 to 70%, 60 to 40%, and 30 to 10% of the thickness of the film in the region 10 to 20 μm inside from the end face. and a method for producing an optical film for an image display device.
[In formula (A), L represents the length of the Ra calculation range, and M(x) represents the measured value of the DMT elastic modulus at the measurement position x. ]
A flexible device comprising a flexible functional layer and the optical film for an image display device according to any one of claims 1 to 5.
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TWI700781B (en) * | 2019-05-09 | 2020-08-01 | 陽程科技股份有限公司 | Method for pre-separating flexible display and carrier board |
CN110303256A (en) * | 2019-07-01 | 2019-10-08 | 东莞市德普特电子有限公司 | A kind of laser special-shaped processing technology of polaroid |
CN112388151B (en) * | 2019-08-16 | 2022-08-02 | 阳程科技股份有限公司 | Method for pre-separating flexible display and additional circuit board |
JPWO2022085726A1 (en) * | 2020-10-23 | 2022-04-28 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006154447A (en) | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Nitto Denko Corp | Manufacturing method of film-like optical waveguide |
JP2006184773A (en) | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Mitsui Chemicals Inc | Optical waveguide and opto-electric hybrid substrate having the same |
JP2010083092A (en) | 2008-10-02 | 2010-04-15 | Toray Ind Inc | Resin film roll and process for producing the same |
JP2011191693A (en) | 2010-03-16 | 2011-09-29 | Nippon Shokubai Co Ltd | Light selective transmission filter and method for producing the same |
JP2012143814A (en) | 2012-03-28 | 2012-08-02 | Nitto Denko Corp | Laser machining method, and product machined by laser beam |
JP2013033278A (en) | 2004-11-11 | 2013-02-14 | Nitto Denko Corp | Combination optical film, laminated combination optical film, and image display |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100236432B1 (en) * | 1996-07-31 | 1999-12-15 | 미야즈 쥰이치로 | Optical deflector, process for productng the same, and blade for use in production of optical deflector |
JP2000080163A (en) * | 1998-09-04 | 2000-03-21 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Fluorinated polyimide and precursor thereof |
JP2001033604A (en) * | 1999-05-20 | 2001-02-09 | Sharp Corp | Manufacture of optical component and polyimide thick film |
WO2001031369A1 (en) * | 1999-10-28 | 2001-05-03 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optical component and method of manufacturing thick polyimide film |
JP4240789B2 (en) * | 2000-09-20 | 2009-03-18 | 富士ゼロックス株式会社 | Electrophotographic transfer sheet and color image forming apparatus using the same |
TWI341983B (en) * | 2003-02-12 | 2011-05-11 | Nissha Printing | Touch panel |
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JP5827456B2 (en) * | 2010-03-24 | 2015-12-02 | 住友化学株式会社 | Slitting machine |
TWI615367B (en) * | 2012-10-12 | 2018-02-21 | 康寧公司 | Articles having retained strength |
JP6298321B2 (en) * | 2014-02-25 | 2018-03-20 | 株式会社カネカ | Film with transparent conductive layer |
JP2015042423A (en) * | 2014-12-02 | 2015-03-05 | 住友化学株式会社 | Cutting machine, slitter with the same and method for cutting film |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013033278A (en) | 2004-11-11 | 2013-02-14 | Nitto Denko Corp | Combination optical film, laminated combination optical film, and image display |
JP2006154447A (en) | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Nitto Denko Corp | Manufacturing method of film-like optical waveguide |
JP2006184773A (en) | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Mitsui Chemicals Inc | Optical waveguide and opto-electric hybrid substrate having the same |
JP2010083092A (en) | 2008-10-02 | 2010-04-15 | Toray Ind Inc | Resin film roll and process for producing the same |
JP2011191693A (en) | 2010-03-16 | 2011-09-29 | Nippon Shokubai Co Ltd | Light selective transmission filter and method for producing the same |
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