JP7057147B2 - Light emitting element and display device - Google Patents

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Description

本開示は、発光素子、及び、係る発光素子を複数備えた表示装置に関する。 The present disclosure relates to a light emitting element and a display device including a plurality of such light emitting elements.

近年、発光素子として有機電界発光(EL:Electroluminescence)素子を用いた表示装置(有機ELディスプレイ)の開発が進んでいる。この表示装置では、例えば、画素毎に分離して形成された第1電極(下部電極)の上に、少なくとも発光層を含む有機層、及び、第2電極(上部電極)が形成される。そして、例えば、白色を発光する有機層と赤色カラーフィルタとが組み合わされた赤色発光素子、白色を発光する有機層と緑色カラーフィルタとが組み合わされた緑色発光素子、白色を発光する有機層と青色カラーフィルタとが組み合わされた青色発光素子のそれぞれが、副画素として設けられ、これらの副画素から1画素が構成される。第2電極(上部電極)を介して、発光層からの光が外部に出射される。そして、正面光取り出し効率の向上のために、第2電極の上方にオンチップマイクロレンズが設けられている。 In recent years, the development of a display device (organic EL display) using an organic electroluminescence (EL) element as a light emitting element has been progressing. In this display device, for example, an organic layer including at least a light emitting layer and a second electrode (upper electrode) are formed on a first electrode (lower electrode) formed separately for each pixel. Then, for example, a red light emitting element in which an organic layer that emits white light and a red color filter are combined, a green light emitting element in which an organic layer that emits white light and a green color filter are combined, an organic layer that emits white light and blue. Each of the blue light emitting elements combined with the color filter is provided as a sub-pixel, and one pixel is composed of these sub-pixels. The light from the light emitting layer is emitted to the outside through the second electrode (upper electrode). An on-chip microlens is provided above the second electrode in order to improve the efficiency of extracting front light.

ところで、発光素子の微細化が進むと、有機層とオンチップマイクロレンズとの間の位置合わせが困難になる。このような問題を解決するための手段が、例えば、特開2003-133057号公報あるいは特開2015-118761号公報に開示されている。 By the way, as the miniaturization of the light emitting element progresses, it becomes difficult to align the organic layer with the on-chip microlens. Means for solving such a problem are disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-133057 or Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-118761.

特開2003-133057号公報に開示された発光装置は、エレクトロルミネッセンスによって発光可能な発光層と、発光層に電界を印加するための一対の電極と、表面に凹部を有する基板とを含み、発光層は基板の凹部内に配置されている。そして、第5の実施形態にあっては、発光層は光学レンズとして機能するように形成されている。 The light emitting device disclosed in JP-A-2003-133057 includes a light emitting layer capable of emitting light by electroluminescence, a pair of electrodes for applying an electric field to the light emitting layer, and a substrate having a recess on the surface, and emits light. The layers are arranged within the recesses of the substrate. Then, in the fifth embodiment, the light emitting layer is formed so as to function as an optical lens.

また、特開2015-118761号公報に開示された有機EL表示装置は、基板と、TFTと、反射層及び透明電極層を含み、TFTに電気的に接続されたアノード電極と、反射層と透明電極層との間に配置されたレンズ部材とを有する。透明電極層の上に有機発光層が形成されており、有機発光層上にカソード電極が形成されている。 Further, the organic EL display device disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-118761 includes a substrate, a TFT, a reflective layer and a transparent electrode layer, an anode electrode electrically connected to the TFT, and a reflective layer and transparent. It has a lens member arranged between the electrode layer and the electrode layer. An organic light emitting layer is formed on the transparent electrode layer, and a cathode electrode is formed on the organic light emitting layer.

特開2003-133057号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-133057 特開2015-118761号公報JP-A-2015-118761

しかしながら、特開2003-133057号公報に開示された発光装置のように、光学レンズとして機能する発光層を得るためには、層厚が変化する発光層を形成しなければならないが、このような発光層の形成は非常に困難である。また、特開2015-118761号公報に開示された有機EL表示装置のように、反射層と透明電極層との間に配置されたレンズ部材を有する構造とした場合、レンズ部材の形成、透明電極層の形成といった工程が増加するし、透明電極層上に凸状の透明電極層の上に有機発光層を形成することは困難である。 However, like the light emitting device disclosed in JP-A-2003-133057, in order to obtain a light emitting layer that functions as an optical lens, it is necessary to form a light emitting layer having a variable layer thickness. The formation of the light emitting layer is very difficult. Further, when the structure has a lens member arranged between the reflective layer and the transparent electrode layer as in the organic EL display device disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-118761, the lens member is formed and the transparent electrode is formed. The number of steps such as layer formation increases, and it is difficult to form an organic light emitting layer on a transparent electrode layer having a convex shape on the transparent electrode layer.

従って、本開示の目的は、発光層を含む一定厚さの有機層を有し、正面光取り出し効率の向上を図ることができ、製造工程が大幅に増加することのない発光素子、及び、係る発光素子を複数備えた表示装置を提供することにある。 Therefore, an object of the present disclosure is a light emitting device having an organic layer having a certain thickness including a light emitting layer, capable of improving front light extraction efficiency, and a manufacturing process that does not significantly increase. It is an object of the present invention to provide a display device provided with a plurality of light emitting elements.

上記の目的を達成するための本開示の発光素子は、
基体、
基体の表面に設けられた凹部、
少なくとも一部分が凹部の頂面の形状に倣って形成された第1電極層、
第1電極層上に、少なくとも一部分が第1電極層の頂面の形状に倣って形成された有機層、
有機層上に、有機層の頂面の形状に倣って形成された第2電極層、及び、
第2電極層上に形成された平坦化層、
を少なくとも備えており、
有機層からの光が第2電極層及び平坦化層を介して外部に出射される。
The light emitting device of the present disclosure for achieving the above object is
Hypokeimenon,
Recesses provided on the surface of the substrate,
A first electrode layer, at least a part of which is formed to follow the shape of the top surface of the recess.
An organic layer formed on the first electrode layer at least in part following the shape of the top surface of the first electrode layer.
A second electrode layer formed on the organic layer following the shape of the top surface of the organic layer, and
A flattening layer formed on the second electrode layer,
At least have
Light from the organic layer is emitted to the outside through the second electrode layer and the flattening layer.

上記の目的を達成するための本開示の表示装置は、
第1基板、及び、第2基板、並びに、
第1基板と第2基板との間に位置し、第1基板の上に形成された基体上に設けられ、2次元状に配列された複数の発光素子、
を備えた表示装置であって、
各発光素子は、
基体の表面に設けられた凹部、
少なくとも一部分が凹部の頂面の形状に倣って形成された第1電極層、
第1電極層上に、少なくとも一部分が第1電極層の頂面の形状に倣って形成された有機層、
有機層上に、有機層の頂面の形状に倣って形成された第2電極層、及び、
第2電極層上に形成された平坦化層、
を少なくとも備えており、
有機層からの光が、第2電極層、平坦化層及び第2基板を介して外部に出射される。
The display device of the present disclosure for achieving the above object is
The first board, the second board, and
A plurality of light emitting elements arranged two-dimensionally, which are located between the first substrate and the second substrate and are provided on the substrate formed on the first substrate.
It is a display device equipped with
Each light emitting element
Recesses provided on the surface of the substrate,
A first electrode layer, at least a part of which is formed to follow the shape of the top surface of the recess.
An organic layer formed on the first electrode layer at least in part following the shape of the top surface of the first electrode layer.
A second electrode layer formed on the organic layer following the shape of the top surface of the organic layer, and
A flattening layer formed on the second electrode layer,
At least have
Light from the organic layer is emitted to the outside through the second electrode layer, the flattening layer, and the second substrate.

本開示の発光素子あるいは本開示の表示装置に備えられた発光素子(以下、これらの発光素子を総称して、『本開示の発光素子等』と呼ぶ場合がある)にあっては、基体の表面に凹部が設けられているので、有機層から出射された光の一部は第1電極層で反射されて有機層、第2電極層、平坦化層を介して発光素子から出射される結果、正面光取り出し効率の向上を図ることができ、しかも、製造工程が大幅に増加することもない。また、第1電極層、有機層、第2電極層は実質的に凹部の頂面の形状に倣って形成されており、有機層の厚さが一定の厚さであるが故に、後述するように、共振器構造を容易に形成することができる。しかも、第1電極層の厚さが一定であるが故に、第1電極層の厚さ変化に起因して、表示装置を眺める角度に依存した第1電極層の色付きや輝度変化といった現象の発生を抑制することができる。尚、本明細書に記載された効果はあくまで例示であって限定されるものでは無く、また、付加的な効果があってもよい。 In the case of the light emitting element of the present disclosure or the light emitting element provided in the display device of the present disclosure (hereinafter, these light emitting elements may be collectively referred to as "the light emitting element of the present disclosure"), the substrate is used. Since the surface is provided with recesses, a part of the light emitted from the organic layer is reflected by the first electrode layer and emitted from the light emitting element via the organic layer, the second electrode layer, and the flattening layer. It is possible to improve the efficiency of taking out the front light, and the manufacturing process is not significantly increased. Further, the first electrode layer, the organic layer, and the second electrode layer are formed substantially following the shape of the top surface of the recess, and the thickness of the organic layer is constant, so that it will be described later. In addition, the resonator structure can be easily formed. Moreover, since the thickness of the first electrode layer is constant, a phenomenon such as coloring or a change in brightness of the first electrode layer depending on the viewing angle of the display device occurs due to the change in the thickness of the first electrode layer. Can be suppressed. It should be noted that the effects described in the present specification are merely exemplary and not limited, and may have additional effects.

図1は、実施例1の発光素子の一部の模式的な一部端面図である。FIG. 1 is a schematic partial end view of a part of the light emitting element of the first embodiment. 図2は、図1に示した実施例1の発光素子の一部の模式的な一部端面図において、一部のハッチング線を除き、光の軌跡を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a locus of light in a schematic partial end view of a part of the light emitting element of the first embodiment shown in FIG. 1, except for a part of hatching lines. 図3は、実施例1の表示装置の模式的な一部断面図である。FIG. 3 is a schematic partial cross-sectional view of the display device of the first embodiment. 図4は、実施例1の発光素子の変形例の模式的な一部端面図である。FIG. 4 is a schematic partial end view of a modified example of the light emitting element of the first embodiment. 図5は、実施例1の発光素子の別の変形例の模式的な一部端面図である。FIG. 5 is a schematic partial end view of another modification of the light emitting element of the first embodiment. 図6は、実施例2の発光素子の模式的な一部端面図である。FIG. 6 is a schematic partial end view of the light emitting element of the second embodiment. 図7は、実施例3の表示装置における発光素子の模式的な一部端面図である。FIG. 7 is a schematic partial end view of the light emitting element in the display device of the third embodiment. 図8は、実施例3の表示装置における、図7とは異なる位置に位置する発光素子の模式的な一部端面図である。FIG. 8 is a schematic partial end view of a light emitting element located at a position different from that of FIG. 7 in the display device of the third embodiment. 図9は、実施例3の表示装置における、図7及び図8とは異なる位置に位置する発光素子の模式的な一部端面図である。FIG. 9 is a schematic partial end view of a light emitting element located at a position different from that of FIGS. 7 and 8 in the display device of the third embodiment. 図10は、実施例3の表示装置における発光素子の変形例の模式的な一部端面図である。FIG. 10 is a schematic partial end view of a modified example of the light emitting element in the display device of the third embodiment. 図11は、実施例3の表示装置における、図10とは異なる位置に位置する発光素子の変形例の模式的な一部端面図である。FIG. 11 is a schematic partial end view of a modified example of the light emitting element located at a position different from that of FIG. 10 in the display device of the third embodiment. 図12は、実施例3の表示装置における、図10及び図11とは異なる位置に位置する発光素子の変形例の模式的な一部端面図である。FIG. 12 is a schematic partial end view of a modified example of the light emitting element located at a position different from that of FIGS. 10 and 11 in the display device of the third embodiment. 図13は、実施例1の発光素子の変形例の模式的な一部端面図である。FIG. 13 is a schematic partial end view of a modified example of the light emitting element of the first embodiment. 図14A、図14B、図14C及び図14Dは、実施例1の表示装置における発光素子の配列を模式的に示す図である。14A, 14B, 14C and 14D are diagrams schematically showing the arrangement of light emitting elements in the display device of the first embodiment. 図15A及び図15B、並びに、図15C及び図15Dは、実施例1の表示装置における第2電極及びカラーフィルタ層の配置関係を模式的に示す図である。15A and 15B, and FIGS. 15C and 15D are diagrams schematically showing the arrangement relationship of the second electrode and the color filter layer in the display device of the first embodiment. 図16A、図16B及び図16Cは、図1に示した実施例1の発光素子の製造方法を説明するための基体等の模式的な一部端面図である。16A, 16B and 16C are schematic partial end views of a substrate or the like for explaining the method for manufacturing the light emitting device of the first embodiment shown in FIG. 図17A及び図17Bは、図16Cに引き続き、図1に示した実施例1の発光素子の製造方法を説明するための基体等の模式的な一部端面図である。17A and 17B are schematic partial end views of a substrate and the like for explaining the method of manufacturing the light emitting device of the first embodiment shown in FIG. 1, following FIG. 16C. 図18A及び図18Bは、図1に示した実施例1の発光素子の別の製造方法を説明するための基体等の模式的な一部端面図である。18A and 18B are schematic partial end views of a substrate or the like for explaining another manufacturing method of the light emitting device of the first embodiment shown in FIG. 1. 図19A及び図19Bは、本開示の表示装置をレンズ交換式一眼レフレックスタイプのデジタルスチルカメラに適用した例を示し、デジタルスチルカメラの正面図を図19Aに、背面図を図19Bに示す。19A and 19B show an example in which the display device of the present disclosure is applied to an interchangeable lens type single-lens reflex type digital still camera, and a front view of the digital still camera is shown in FIG. 19A and a rear view is shown in FIG. 19B. 図20は、本開示の表示装置をヘッドマウントディスプレイに適用した例を示すヘッドマウントディスプレイの外観図である。FIG. 20 is an external view of a head-mounted display showing an example in which the display device of the present disclosure is applied to a head-mounted display.

以下、図面を参照して、実施例に基づき本開示を説明するが、本開示は実施例に限定されるものではなく、実施例における種々の数値や材料は例示である。尚、説明は、以下の順序で行う。
1.本開示の発光素子及び本開示の表示装置、全般に関する説明
2.実施例1(本開示の発光素子及び本開示の表示装置)
3.実施例2(実施例1の変形)
4.実施例3(実施例1の別の変形)
5.その他
Hereinafter, the present disclosure will be described based on examples with reference to the drawings, but the present disclosure is not limited to the examples, and various numerical values and materials in the examples are examples. The explanation will be given in the following order.
1. 1. Description of the light emitting element of the present disclosure and the display device of the present disclosure, and the general description 2. Example 1 (light emitting element of the present disclosure and display device of the present disclosure)
3. 3. Example 2 (Modification of Example 1)
4. Example 3 (Another variant of Example 1)
5. others

〈本開示の発光素子及び本開示の表示装置、全般に関する説明〉
本開示の発光素子等にあっては、第2電極層と平坦化層との間に保護膜が形成されている形態とすることができる。保護膜は、第2電極層の頂面の形状に倣って形成されていることが好ましい。保護膜は、保護膜を通過する光の屈折角度を調整、制御する機能を有する。そして、これらの場合、平坦化層を構成する材料の屈折率をn1、保護膜を構成する材料の屈折率をn2としたとき、n1>n2を満足することが好ましい。(n1-n2)の値として、限定するものではないが、0.1乃至0.6を例示することができる。このような保護膜を形成することで、有機層から出射された光の一部は、第2電極層及び保護膜を通過し、平坦化層に入射するし、有機層から出射された光の一部は、第1電極層で反射され、有機層、第2電極層及び保護膜を通過し、平坦化層に入射する。このように、保護膜及び平坦化層によって内部レンズが形成され、有機層から出射された光を発光素子の中心側に向かう方向に集光することができる結果、第2電極層の上方にオンチップマイクロレンズを設けなくとも、発光素子から外部に出射される光における正面光取り出し効率の向上を図ることができる。
<Explanation of the light emitting element of the present disclosure and the display device of the present disclosure, in general>
In the light emitting element and the like of the present disclosure, a protective film may be formed between the second electrode layer and the flattening layer. The protective film is preferably formed so as to follow the shape of the top surface of the second electrode layer. The protective film has a function of adjusting and controlling the refraction angle of light passing through the protective film. In these cases, it is preferable that n 1 > n 2 is satisfied when the refractive index of the material constituting the flattening layer is n 1 and the refractive index of the material constituting the protective film is n 2 . The value of (n 1 − n 2 ) is not limited, but 0.1 to 0.6 can be exemplified. By forming such a protective film, a part of the light emitted from the organic layer passes through the second electrode layer and the protective film, enters the flattening layer, and emits light from the organic layer. A part of the light is reflected by the first electrode layer, passes through the organic layer, the second electrode layer and the protective film, and is incident on the flattening layer. In this way, the internal lens is formed by the protective film and the flattening layer, and the light emitted from the organic layer can be focused in the direction toward the center side of the light emitting element. As a result, the light is turned on above the second electrode layer. Even if a chip microlens is not provided, it is possible to improve the efficiency of extracting front light in the light emitted to the outside from the light emitting element.

あるいは又、本開示の発光素子等において、有機層から出射され、第2電極層を介して平坦化層に入射するときの光の入射角をθi、平坦化層に入射した光の屈折角をθrとしたとき、|θr|≠0の場合、
|θi|>|θr
を満足する形態とすることができる。このような条件を満足することで、有機層から出射する光の一部は、第2電極層を通過し、平坦化層に入射するし、有機層から出射する光の一部は、第1電極層で反射され、有機層及び第2電極層を通過し、平坦化層に入射する。このように、内部レンズが形成され、有機層から出射された光を発光素子の中心側に向かう方向に集光することができる結果、第2電極層の上方にオンチップマイクロレンズを設けなくとも、発光素子から外部に出射される光における正面光取り出し効率の向上を図ることができる。
Alternatively, in the light emitting device of the present disclosure, the incident angle of the light emitted from the organic layer and incident on the flattening layer via the second electrode layer is θ i , and the refraction angle of the light incident on the flattening layer is θ i. Is θ r , and if | θ r | ≠ 0,
| θ i | > | θ r
Can be made into a satisfying form. By satisfying such conditions, a part of the light emitted from the organic layer passes through the second electrode layer and is incident on the flattening layer, and a part of the light emitted from the organic layer is the first. It is reflected by the electrode layer, passes through the organic layer and the second electrode layer, and is incident on the flattening layer. In this way, the internal lens is formed and the light emitted from the organic layer can be focused in the direction toward the center side of the light emitting element. As a result, the on-chip microlens is not provided above the second electrode layer. It is possible to improve the efficiency of taking out the front light in the light emitted to the outside from the light emitting element.

上記の各種好ましい形態を含む本開示の発光素子等において、平坦化層はカラーフィルタとしての機能を有する形態とすることができる。一般に、カラーフィルタ層は、所望の顔料や染料から成る着色剤を添加した樹脂によって構成されており、顔料や染料を選択することにより、目的とする赤色、緑色、青色等の波長域における光透過率が高く、他の波長域における光透過率が低くなるように調整されている。このようなカラーフィルタとしての機能を有する平坦化層は、周知のカラーレジスト材料から構成すればよい。後述する白色を出射する発光素子にあっては透明なフィルタを配設すればよい。このように平坦化層をカラーフィルタとしても機能させることで、有機層と平坦化層とは近接しているので、発光素子から出射する光を広角化させても混色の防止を効果的に図ることができ、視野角特性が向上する。カラーフィルタ層を、平坦化層とは別に、独立して、平坦化層上に設けてもよい。 In the light emitting device and the like of the present disclosure including the above-mentioned various preferable forms, the flattening layer can be in a form having a function as a color filter. Generally, the color filter layer is composed of a resin to which a colorant composed of a desired pigment or dye is added, and by selecting a pigment or dye, light transmission in a target wavelength range such as red, green, or blue is transmitted. It is adjusted so that the rate is high and the light transmission rate in other wavelength ranges is low. The flattening layer having a function as such a color filter may be made of a well-known color resist material. A transparent filter may be provided for the light emitting element that emits white color, which will be described later. By making the flattening layer also function as a color filter in this way, the organic layer and the flattening layer are close to each other, so that even if the light emitted from the light emitting element is widened, color mixing is effectively prevented. It can improve the viewing angle characteristics. The color filter layer may be provided on the flattening layer independently of the flattening layer.

更には、上記の各種好ましい形態を含む本開示の発光素子等において、平坦化層の頂面又は上方にオンチップマイクロレンズが設けられている構成とすることができる。オンチップマイクロレンズを設けることで、有機層からの光を所望の状態に発散させることができる結果、視野角特性の制御を行うことができる。オンチップマイクロレンズは、例えば、周知のアクリル系樹脂から構成することができ、アクリル系樹脂を、メルトフローさせることで得ることができるし、あるいは又、エッチバックすることで得ることができる。発光素子から外部に出射される光における正面光取り出し効率の向上は、専ら、前述した内部レンズが担うので、オンチップマイクロレンズの位置合わせ精度は、左程、高くなくてもよい。以下の説明においても同様である。 Further, in the light emitting device and the like of the present disclosure including the above-mentioned various preferable forms, an on-chip microlens may be provided on the top surface or above the flattening layer. By providing the on-chip microlens, the light from the organic layer can be diverged to a desired state, and as a result, the viewing angle characteristics can be controlled. The on-chip microlens can be made of, for example, a well-known acrylic resin, and can be obtained by melt-flowing the acrylic resin, or by etching back. Since the above-mentioned internal lens is solely responsible for improving the front light extraction efficiency of the light emitted from the light emitting element to the outside, the positioning accuracy of the on-chip microlens does not have to be as high as the left. The same applies to the following description.

更には、上記の各種好ましい形態、構成を含む本開示の発光素子等において、第1電極層は有機層の一部と接している構成とすることができるし、有機層は第1電極層の一部と接している構成とすることができる。この場合、具体的には、第1電極層の大きさは有機層よりも小さい構成とすることができるし、あるいは又、第1電極層の大きさは有機層と同じ大きさであるが、第1電極層と有機層との間の一部分に絶縁材料膜が形成されている構成とすることもできるし、あるいは又、第1電極層の大きさは有機層より大きい構成とすることもできる。そして、これらの場合、平坦化層の上にはカラーフィルタ層が形成されており;凹部の軸線から、有機層と接する第1電極層の中心点に向かう方向と、凹部の軸線からカラーフィルタ層の中心点に向かう方向とは、逆方向の関係にある構成とすることができる。上記の「中心点」は、基体の表面を含む仮想平面(以下、『基体仮想平面』と呼ぶ)に正射影したときの中心点であり、以下、便宜上、『正射影中心点』と呼ぶ場合がある。また、上記の「方向」は、基体仮想平面に正射影したときの方向であり、以下、便宜上、『正射影方向』と呼ぶ場合がある。凹部の軸線から、有機層と接する第1電極層の中心点(正射影中心点)までの距離PL1、及び、凹部の軸線からカラーフィルタ層の中心点(正射影中心点)までの距離PL2は、発光素子が表示装置の周辺部に位置するほど、大きな値とすることが望ましい。上記の「距離」は、基体仮想平面に正射影したときの距離であり、以下、便宜上、『正射影距離』と呼ぶ場合がある。第1電極層の中心点(正射影中心点)、有機層の中心点(正射影中心点)及び凹部の軸線と基体仮想平面の交点は、概ね一直線上に位置することが好ましい。 Further, in the light emitting device and the like of the present disclosure including the above-mentioned various preferable forms and configurations, the first electrode layer may be configured to be in contact with a part of the organic layer, and the organic layer may be the first electrode layer. It can be configured to be in contact with a part. In this case, specifically, the size of the first electrode layer can be smaller than that of the organic layer, or the size of the first electrode layer is the same as that of the organic layer. The insulating material film may be formed in a part between the first electrode layer and the organic layer, or the size of the first electrode layer may be larger than that of the organic layer. .. In these cases, a color filter layer is formed on the flattening layer; from the axis of the recess toward the center point of the first electrode layer in contact with the organic layer, and from the axis of the recess to the color filter layer. The configuration may be in the opposite direction to the direction toward the center point of. The above "center point" is a center point when orthographically projected onto a virtual plane including the surface of the substrate (hereinafter referred to as "base virtual plane"), and is hereinafter referred to as "orthographic projection center point" for convenience. There is. Further, the above-mentioned "direction" is a direction when a normal projection is performed on the virtual plane of the substrate, and may be hereinafter referred to as a "normal projection direction" for convenience. Distance PL 1 from the axis of the recess to the center point (orthographic projection center point) of the first electrode layer in contact with the organic layer, and distance PL 1 from the axis of the recess to the center point (orthographic projection center point) of the color filter layer. It is desirable that 2 is set to a larger value as the light emitting element is located in the peripheral portion of the display device. The above "distance" is a distance when orthographically projected onto the virtual plane of the substrate, and may be hereinafter referred to as "orthographic projection distance" for convenience. It is preferable that the center point of the first electrode layer (orthographic projection center point), the center point of the organic layer (orthographic projection center point), and the intersection of the axis of the recess and the virtual plane of the substrate are located substantially in a straight line.

あるいは又、上記の各種好ましい形態を含む本開示の発光素子等において、
平坦化層の頂面又は上方にオンチップマイクロレンズが設けられており、
第1電極層は、有機層の一部と接しており、
凹部の軸線から、有機層と接する第1電極層の中心点(正射影中心点)に向かう方向(正射影方向)と、凹部の軸線からオンチップマイクロレンズの中心点(正射影中心点)に向かう方向(正射影方向)とは、逆方向の関係にある構成とすることができる。そして、この場合、オンチップマイクロレンズは、凹部よりも大きい構成とすることができる。凹部の軸線から第1電極層の中心点(正射影中心点)までの距離(正射影距離)PL1’、及び、凹部の軸線からオンチップマイクロレンズの中心点(正射影中心点)までの距離(正射影距離)PL2’は、発光素子が表示装置の周辺部に位置するほど、大きな値とすることが望ましい。第1電極層の中心点(正射影中心点)の正射影像、有機層の中心点(正射影中心点)の正射影像及びオンチップマイクロレンズの中心点(正射影中心点)の正射影像は、概ね一直線上に位置することが好ましい。第1電極層は有機層の一部と接しているが、具体的には、第1電極層の大きさは有機層よりも小さい構成とすることができるし、あるいは又、第1電極層の大きさは有機層と同じ大きさであるが、第1電極層と有機層との間の一部分に絶縁材料膜が形成されている構成とすることもできるし、あるいは又、第1電極層の大きさは有機層より大きい構成とすることもできる。
Alternatively, in the light emitting device and the like of the present disclosure including the above-mentioned various preferable forms,
An on-chip microlens is provided on or above the top surface of the flattening layer.
The first electrode layer is in contact with a part of the organic layer and is in contact with the organic layer.
From the axis of the recess toward the center point (normal projection center point) of the first electrode layer in contact with the organic layer (normal projection direction), and from the axis of the recess to the center point of the on-chip microlens (normal projection center point). The configuration may be in the opposite direction to the heading direction (normal projection direction). Then, in this case, the on-chip microlens can be configured to be larger than the concave portion. The distance (orthographic projection distance) PL 1'from the axis of the recess to the center point (orthographic projection center point) of the first electrode layer, and from the axis of the recess to the center point (orthographic projection center point) of the on-chip microlens. It is desirable that the distance (orthographic projection distance) PL 2'is set to a larger value as the light emitting element is located in the peripheral portion of the display device. Orthographic image of the center point of the first electrode layer (orthographic center point), orthographic image of the center point of the organic layer (orthographic center point), and orthographic image of the center point of the on-chip microlens (orthographic center point). The image is preferably located substantially in a straight line. The first electrode layer is in contact with a part of the organic layer, but specifically, the size of the first electrode layer can be smaller than that of the organic layer, or the first electrode layer can be formed. The size is the same as that of the organic layer, but the insulating material film may be formed in a part between the first electrode layer and the organic layer, or the first electrode layer may be formed. The size may be larger than that of the organic layer.

更には、以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の発光素子等において、凹部の軸線を含む仮想平面で凹部を切断したときの凹部の断面形状は、滑らかな曲線である構成とすることができるし、あるいは又、台形の一部である構成とすることができるし、あるいは又、直線状の斜面と滑らかな曲線から成る底部の組み合わせである構成とすることができる。 Further, in the light emitting element and the like of the present disclosure including the preferred form and configuration described above, the cross-sectional shape of the recess when the recess is cut in the virtual plane including the axis of the recess is configured to be a smooth curve. It can also be configured to be part of a trapezoid, or it can be configured to be a combination of a straight slope and a bottom consisting of smooth curves.

更には、以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の発光素子等において、凹部の軸線を含む仮想平面で凹部を切断したときの凹部の縁部から基体の表面に亙る断面形状は、滑らかな曲線から成る形態とすることができる。即ち、凹部の縁部は丸みを帯びていることが好ましく、これによって、その上に形成する各種の層に段切れが発生し難くなる。 Further, in the light emitting element and the like of the present disclosure including the preferred form and configuration described above, the cross-sectional shape extending from the edge of the recess to the surface of the substrate when the recess is cut in the virtual plane including the axis of the recess is smooth. It can be in the form of a curved line. That is, the edges of the recesses are preferably rounded, which makes it difficult for the various layers formed on the recesses to be cut off.

更には、以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の発光素子等において、凹部の縁部の形状は、限定するものではないが、円形又は楕円形である形態とすることができる。基体仮想平面に凹部を正射影したときの凹部の正射影像の形状の面積と等しい面積を有する円を想定したときの円の直径をR、凹部の深さをDpとしたとき、
1/4≦Dp/R≦1/2
を満足することが好ましい。
Further, in the light emitting element and the like of the present disclosure including the preferable forms and configurations described above, the shape of the edge portion of the concave portion may be a circular or elliptical form, although the shape is not limited. When the diameter of the circle is R and the depth of the recess is Dp, assuming a circle having an area equal to the area of the shape of the orthographic image of the recess when the recess is projected onto the virtual plane of the substrate.
1/4 ≤ Dp / R ≤ 1/2
It is preferable to satisfy.

更には、以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の発光素子等において、有機層は白色光を出射する形態とすることができ、この場合、有機層は、赤色発光層、緑色発光層及び青色発光層の積層構造を有する形態とすることができる。あるいは又、有機層は、青色を発光する青色発光層、及び、黄色を発光する黄色発光層の2層が積層された構造とすることができ、全体として白色を発光する。あるいは又、青色を発光する青色発光層、及び、橙色を発光する橙色発光層の2層が積層された構造とすることができ、全体として白色を発光する。有機層は、複数の発光素子において共通化されていてもよいし、各発光素子において個別に設けられていてもよい。 Further, in the light emitting device and the like of the present disclosure including the preferred forms and configurations described above, the organic layer can be in a form of emitting white light, and in this case, the organic layer is a red light emitting layer or a green light emitting layer. And can be in the form of having a laminated structure of a blue light emitting layer. Alternatively, the organic layer can have a structure in which two layers of a blue light emitting layer that emits blue light and a yellow light emitting layer that emits yellow light are laminated, and emits white light as a whole. Alternatively, the structure may be such that two layers, a blue light emitting layer that emits blue light and an orange light emitting layer that emits orange color, are laminated, and emits white light as a whole. The organic layer may be shared by a plurality of light emitting elements, or may be individually provided in each light emitting element.

平坦化層を構成する材料として、アクリル系樹脂から成る母材にTiO2を添加して屈折率を調整した(高めた)材料、カラーレジスト材料と同種の材料(但し、顔料は添加しない無色透明材料)から成る母材にTiO2を添加して屈折率を調整した(高めた)材料を例示することができる。また、保護膜を構成する材料として、SiN、SiON、Al23、TiO2を例示することができる。更には、(平坦化層を構成する材料,保護膜を構成する材料)の好ましい組み合わせとして、(アクリル系樹脂,SiN単層)、(アクリル系樹脂,SiN層とAl23層との積層構造)、(アクリル系樹脂,SiN層とAl23層とTiO2層との積層構造)、(アクリル系樹脂,Al23単層)を例示することができる。平坦化層や保護膜の形成方法として、各種CVD法、各種塗布法、スパッタリング法や真空蒸着法を含む各種PVD法、スクリーン印刷法といった各種印刷法等の公知の方法に基づき形成することができる。また、保護膜の形成方法として、更には、ALD(Atomic Layer Deposition)法を採用することもできる。平坦化層及び保護層は、複数の発光素子において共通化されていてもよいし、各発光素子において個別に設けられていてもよい。 As a material constituting the flattening layer, a material having a refractive index adjusted (increased) by adding TiO 2 to a base material made of an acrylic resin, and a material of the same type as the color resist material (however, colorless and transparent without adding a pigment). A material whose refractive index has been adjusted (increased) by adding TiO 2 to a base material made of (material) can be exemplified. Further, SiN, SiON, Al 2 O 3 , and TiO 2 can be exemplified as the material constituting the protective film. Further, as a preferable combination of (material constituting the flattening layer, material constituting the protective film), (acrylic resin, SiN single layer), (acrylic resin, lamination of SiN layer and Al 2 O 3 layer) (Structure), (Acrylic resin, laminated structure of SiN layer, Al 2 O 3 layer and TiO 2 layer), (Acrylic resin, Al 2 O 3 single layer) can be exemplified. As a method for forming the flattening layer and the protective film, it can be formed based on known methods such as various CVD methods, various coating methods, various PVD methods including a sputtering method and a vacuum vapor deposition method, and various printing methods such as a screen printing method. .. Further, as a method for forming the protective film, an ALD (Atomic Layer Deposition) method can also be adopted. The flattening layer and the protective layer may be shared by a plurality of light emitting elements, or may be individually provided in each light emitting element.

基体の表面に凹部を設ける方法として、エッチバック法を挙げることができる。即ち、基体の表面上にレジスト層を形成し、レジスト層に凹部を形成するための形状を付与した後、レジスト層及び基体を、例えば、RIE法に基づきドライエッチングすることで、基体の表面に凹部を設けることができる。あるいは又、基体の表面上に開口部を有するレジスト層を形成した後、レジスト層に設けられた開口部を介して基体を、例えば、ウェットエッチングすることで、基体の表面に凹部を設けることができる。 As a method of providing a recess on the surface of the substrate, an etch back method can be mentioned. That is, after forming a resist layer on the surface of the substrate and imparting a shape for forming recesses to the resist layer, the resist layer and the substrate are dry-etched based on, for example, the RIE method, thereby forming the surface of the substrate. A recess can be provided. Alternatively, after forming a resist layer having an opening on the surface of the substrate, the substrate may be provided with a recess on the surface of the substrate by, for example, wet etching the substrate through the opening provided in the resist layer. can.

以上に説明した各種の好ましい形態、構成を含む本開示の表示装置は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置(有機EL表示装置)から成る構成とすることができる。また、以上に説明した各種の好ましい形態、構成を含む本開示の発光素子等は、有機エレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子)から成る構成とすることができる。 The display device of the present disclosure including various preferable forms and configurations described above can be configured to include an organic electroluminescence display device (organic EL display device). Further, the light emitting device and the like of the present disclosure including various preferable forms and configurations described above can be configured to include an organic electroluminescence device (organic EL device).

本開示の発光素子等において、有機層は、前述したとおり、異なる色を発光する少なくとも2層の発光層から構成されている形態とすることができ、この場合、有機層から出射される光は白色である形態とすることができる。具体的には、有機層は、赤色(波長:620nm乃至750nm)を発光する赤色発光層、緑色(波長:495nm乃至570nm)を発光する緑色発光層、及び、青色(波長:450nm乃至495nm)を発光する青色発光層の3層が積層された構造とすることができ、全体として白色を発光する。あるいは又、青色を発光する青色発光層、及び、黄色を発光する黄色発光層の2層が積層された構造とすることができ、全体として白色を発光する。あるいは又、青色を発光する青色発光層、及び、橙色を発光する橙色発光層の2層が積層された構造とすることができ、全体として白色を発光する。そして、このような白色を発光する有機層と赤色カラーフィルタ層(あるいは赤色カラーフィルタとして機能する平坦化層)とを組み合わせることで赤色発光素子が構成され、白色を発光する有機層と緑色カラーフィルタ層(あるいは緑色カラーフィルタとして機能する平坦化層)とを組み合わせることで緑色発光素子が構成され、白色を発光する有機層と青色カラーフィルタ層(あるいは青色カラーフィルタとして機能する平坦化層)とを組み合わせることで青色発光素子が構成される。そして、赤色発光素子、緑色発光素子及び青色発光素子といった副画素の組合せによって1画素が構成される。場合によっては、赤色発光素子、緑色発光素子、青色発光素子及び白色を出射する発光素子(あるいは補色光を出射する発光素子)によって1画素を構成してもよい。異なる色を発光する少なくとも2層の発光層から構成されている形態にあっては、実際には、異なる色を発光する発光層が混合し、明確に各層に分離されていない場合がある。 In the light emitting device and the like of the present disclosure, as described above, the organic layer can be in the form of at least two light emitting layers that emit light of different colors, and in this case, the light emitted from the organic layer is emitted. It can be in the form of white. Specifically, the organic layer includes a red light emitting layer that emits red (wavelength: 620 nm to 750 nm), a green light emitting layer that emits green (wavelength: 495 nm to 570 nm), and blue (wavelength: 450 nm to 495 nm). The structure can be such that three layers of a blue light emitting layer that emits light are laminated, and emits white light as a whole. Alternatively, the structure may be such that two layers, a blue light emitting layer that emits blue light and a yellow light emitting layer that emits yellow light, are laminated, and emits white light as a whole. Alternatively, the structure may be such that two layers, a blue light emitting layer that emits blue light and an orange light emitting layer that emits orange color, are laminated, and emits white light as a whole. A red light emitting element is configured by combining such an organic layer that emits white light and a red color filter layer (or a flattening layer that functions as a red color filter), and the organic layer that emits white light and a green color filter. A green light emitting element is configured by combining a layer (or a flattening layer that functions as a green color filter), and an organic layer that emits white light and a blue color filter layer (or a flattening layer that functions as a blue color filter) are formed. By combining them, a blue light emitting element is configured. Then, one pixel is composed of a combination of sub-pixels such as a red light emitting element, a green light emitting element, and a blue light emitting element. In some cases, one pixel may be composed of a red light emitting element, a green light emitting element, a blue light emitting element, and a light emitting element that emits white (or a light emitting element that emits complementary color light). In a form composed of at least two light emitting layers that emit different colors, in reality, the light emitting layers that emit different colors may be mixed and not clearly separated into each layer.

あるいは又、有機層は、1層の発光層から構成されている形態とすることができる。この場合、発光素子を、例えば、赤色発光層を含む有機層を有する赤色発光素子、緑色発光層を含む有機層を有する緑色発光素子、あるいは、青色発光層を含む有機層を有する青色発光素子から構成することができる。カラー表示の表示装置の場合、これらの3種類の発光素子(副画素)から1画素が構成される。あるいは又、赤色発光層を含む有機層を有する赤色発光素子、緑色発光層を含む有機層を有する緑色発光素子、及び、青色発光層を含む有機層を有する青色発光素子の積層構造から構成することもできる。 Alternatively, the organic layer can be in the form of one light emitting layer. In this case, the light emitting device is derived from, for example, a red light emitting element having an organic layer including a red light emitting layer, a green light emitting element having an organic layer including a green light emitting layer, or a blue light emitting element having an organic layer including a blue light emitting layer. Can be configured. In the case of a color display display device, one pixel is composed of these three types of light emitting elements (sub-pixels). Alternatively, it is composed of a laminated structure of a red light emitting element having an organic layer including a red light emitting layer, a green light emitting element having an organic layer including a green light emitting layer, and a blue light emitting element having an organic layer including a blue light emitting layer. You can also.

カラーフィルタ層とカラーフィルタ層との間には、あるいは又、発光素子と発光素子との間には、ブラックマトリクス層を形成してもよい。ブラックマトリクス層は、例えば、黒色の着色剤を混入した光学濃度が1以上の黒色の樹脂膜(具体的には、例えば、黒色のポリイミド系樹脂)から成り、あるいは又、薄膜の干渉を利用した薄膜フィルタから構成されている。薄膜フィルタは、例えば、金属、金属窒化物あるいは金属酸化物から成る薄膜を2層以上積層して成り、薄膜の干渉を利用して光を減衰させる。薄膜フィルタとして、具体的には、Crと酸化クロム(III)(Cr23)とを交互に積層したものを挙げることができる。
A black matrix layer may be formed between the color filter layer and the color filter layer, or between the light emitting element and the light emitting element. The black matrix layer is made of, for example, a black resin film (specifically, for example, a black polyimide resin ) having an optical density of 1 or more mixed with a black colorant, or also utilizes the interference of a thin film. It consists of a thin film filter. The thin film filter is formed by stacking two or more thin films made of, for example, a metal, a metal nitride or a metal oxide, and attenuates light by utilizing the interference of the thin films. Specific examples of the thin film filter include those in which Cr and chromium (III) oxide (Cr 2 O 3 ) are alternately laminated.

本開示の発光素子等において、基体は第1基板の上あるいは上方に形成されている。基体を構成する材料として、絶縁材料、例えば、SiO2、SiN、SiONを例示することができる。あるいは又、基体の上や上方に形成される絶縁層等とエッチング選択比のある絶縁材料から基体を構成すればよい。基体は、基体を構成する材料に適した形成方法、具体的には、例えば、各種CVD法、各種塗布法、スパッタリング法や真空蒸着法を含む各種PVD法、スクリーン印刷法といった各種印刷法、メッキ法、電着法、浸漬法、ゾル-ゲル法等の公知の方法に基づき形成することができる。 In the light emitting element and the like of the present disclosure, the substrate is formed on or above the first substrate. As the material constituting the substrate, an insulating material such as SiO 2 , SiN, and SiON can be exemplified. Alternatively, the substrate may be composed of an insulating material having an etching selectivity with an insulating layer or the like formed on or above the substrate. The substrate is formed by a forming method suitable for the material constituting the substrate, specifically, various printing methods such as various CVD methods, various coating methods, various PVD methods including sputtering method and vacuum vapor deposition method, screen printing method, and plating. It can be formed based on known methods such as a method, an electrodeposition method, a dipping method, and a sol-gel method.

基体の下方には、限定するものではないが、発光素子駆動部が設けられている。発光素子駆動部は、例えば、第1基板を構成するシリコン半導体基板に形成されたトランジスタ(具体的には、例えば、MOSFET)や、第1基板を構成する各種基板に設けられた薄膜トランジスタ(TFT)から構成されている。発光素子駆動部を構成するトランジスタやTFTと第1電極層とは、基体等に形成されたコンタクトホール(コンタクトプラグ)を介して接続されている形態とすることができる。発光素子駆動部は、周知の回路構成とすることができる。第2電極層は、表示装置の外周部において、基体等に形成されたコンタクトホール(コンタクトプラグ)を介して発光素子駆動部と接続される。第1基板側に発光素子が形成されている。第2電極層は、複数の発光素子において共通電極層とされていてもよい。即ち、第2電極層は、所謂ベタ電極層とされていてもよい。 Below the substrate, a light emitting element driving unit is provided, but is not limited to. The light emitting element drive unit is, for example, a transistor (specifically, for example, MOSFET) formed on a silicon semiconductor substrate constituting the first substrate, or a thin film transistor (TFT) provided on various substrates constituting the first substrate. It is composed of. The transistor or TFT constituting the light emitting element driving unit and the first electrode layer may be connected to each other via a contact hole (contact plug) formed in a substrate or the like. The light emitting element drive unit may have a well-known circuit configuration. The second electrode layer is connected to the light emitting element driving unit via a contact hole (contact plug) formed in a substrate or the like on the outer peripheral portion of the display device. A light emitting element is formed on the first substrate side. The second electrode layer may be a common electrode layer in a plurality of light emitting elements. That is, the second electrode layer may be a so-called solid electrode layer.

本開示の表示装置は、第2基板から光を出射するトップエミッション方式(上面発光方式)の表示装置(上面発光型表示装置)である。上面発光型表示装置にあっては、第1基板の上方に、例えば、カラーフィルタ層及びブラックマトリクス層を形成すればよい。 The display device of the present disclosure is a top emission type (top emission type) display device (top emission type display device) that emits light from the second substrate. In the top light emitting display device, for example, a color filter layer and a black matrix layer may be formed above the first substrate.

本開示の表示装置において、画素(あるいは副画素)の配列として、デルタ配列を挙げることができるし、あるいは又、ストライプ配列、ダイアゴナル配列、レクタングル配列、ペンタイル配列を挙げることができる。 In the display device of the present disclosure, as the arrangement of pixels (or sub-pixels), a delta arrangement can be mentioned, or a stripe arrangement, a diagonal arrangement, a rectangle arrangement, and a pentile arrangement can be mentioned.

第1基板あるいは第2基板を、シリコン半導体基板、高歪点ガラス基板、ソーダガラス(Na2O・CaO・SiO2)基板、硼珪酸ガラス(Na2O・B23・SiO2)基板、フォルステライト(2MgO・SiO2)基板、鉛ガラス(Na2O・PbO・SiO2)基板、表面に絶縁材料層が形成された各種ガラス基板、石英基板、表面に絶縁材料層が形成された石英基板、ポリメチルメタクリレート(ポリメタクリル酸メチル,PMMA)やポリビニルアルコール(PVA)、ポリビニルフェノール(PVP)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート(PET)に例示される有機ポリマー(高分子材料から構成された可撓性を有するプラスチックフィルムやプラスチックシート、プラスチック基板といった高分子材料の形態を有する)から構成することができる。第1基板と第2基板を構成する材料は、同じであっても、異なっていてもよい。但し、第2基板は発光素子からの光に対して透明であることが要求される。 The first substrate or the second substrate may be a silicon semiconductor substrate, a high-strain point glass substrate, a soda glass (Na 2 O / CaO / SiO 2 ) substrate, or a borosilicate glass (Na 2 O / B 2 O 3 / SiO 2 ) substrate. , Forsterite (2MgO ・ SiO 2 ) substrate, lead glass (Na 2O・ PbO ・ SiO 2 ) substrate, various glass substrates with insulating material layer formed on the surface, quartz substrate, insulating material layer formed on the surface. Organic polymers such as quartz substrate, polymethylmethacrylate (polymethylmethacrylate, PMMA), polyvinyl alcohol (PVA), polyvinylphenol (PVP), polyether sulfone (PES), polyimide, polycarbonate, polyethylene terephthalate (PET) (PET). It can be made of a flexible plastic film (having a form of a polymer material such as a plastic sheet, a plastic substrate, or a plastic substrate) made of a polymer material). The materials constituting the first substrate and the second substrate may be the same or different. However, the second substrate is required to be transparent to the light from the light emitting element.

第1電極層を構成する材料として、第1電極層をアノード電極として機能させる場合、例えば、白金(Pt)、金(Au)、銀(Ag)、クロム(Cr)、タングステン(W)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、タンタル(Ta)といった仕事関数の高い金属あるいは合金(例えば、銀を主成分とし、0.3質量%乃至1質量%のパラジウム(Pd)と、0.3質量%~1質量%の銅(Cu)とを含むAg-Pd-Cu合金や、Al-Nd合金)を挙げることができる。更には、アルミニウム(Al)及びアルミニウムを含む合金等の仕事関数の値が小さく、且つ、光反射率の高い導電材料を用いる場合には、適切な正孔注入層を設けるなどして正孔注入性を向上させることで、アノード電極として用いることができる。第1電極層の厚さとして、0.1μm乃至1μmを例示することができる。あるいは又、後述する光反射層を設ける場合、第1電極層を構成する材料として、酸化インジウム、インジウム-錫酸化物(ITO,Indium Tin Oxide,SnドープのIn23、結晶性ITO及びアモルファスITOを含む)、インジウム-亜鉛酸化物(IZO,Indium Zinc Oxide)、インジウム-ガリウム酸化物(IGO)、インジウム・ドープのガリウム-亜鉛酸化物(IGZO,In-GaZnO4)、IFO(FドープのIn23)、ITiO(TiドープのIn23)、InSn、InSnZnO、酸化錫(SnO2)、ATO(SbドープのSnO2)、FTO(FドープのSnO2)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化アルミニウム・ドープの酸化亜鉛(AZO)、ガリウム・ドープの酸化亜鉛(GZO)、BドープのZnO、AlMgZnO(酸化アルミニウム及び酸化マグネシウム・ドープの酸化亜鉛)、酸化アンチモン、酸化チタン、NiO、スピネル型酸化物、YbFe24構造を有する酸化物、ガリウム酸化物、チタン酸化物、ニオブ酸化物、ニッケル酸化物等を母層とする透明導電性材料といった各種透明導電材料を挙げることができる。あるいは又、誘電体多層膜やアルミニウム(Al)といった光反射性の高い反射膜上に、インジウムとスズの酸化物(ITO)や、インジウムと亜鉛の酸化物(IZO)等の正孔注入特性に優れた透明導電材料を積層した構造とすることもできる。一方、第1電極層をカソード電極として機能させる場合、仕事関数の値が小さく、且つ、光反射率の高い導電材料から構成することが望ましいが、アノード電極として用いられる光反射率の高い導電材料に適切な電子注入層を設けるなどして電子注入性を向上させることで、カソード電極として用いることもできる。 When the first electrode layer functions as an anode electrode as a material constituting the first electrode layer, for example, platinum (Pt), gold (Au), silver (Ag), chromium (Cr), tungsten (W), nickel. Metals or alloys with high work functions such as (Ni), copper (Cu), iron (Fe), cobalt (Co), and tantalum (Ta) (for example, silver is the main component and 0.3% by mass to 1% by mass). Examples thereof include Ag—Pd—Cu alloys and Al—Nd alloys containing palladium (Pd) and 0.3% by mass to 1% by mass of copper (Cu). Furthermore, when a conductive material having a small work function value such as aluminum (Al) and an alloy containing aluminum and having a high light reflectance is used, hole injection is performed by providing an appropriate hole injection layer. By improving the property, it can be used as an anode electrode. As the thickness of the first electrode layer, 0.1 μm to 1 μm can be exemplified. Alternatively, when a light reflecting layer described later is provided, indium oxide, indium-tin oxide (ITO, Indium Tin Oxide, Sn-doped In 2 O 3 , crystalline ITO and amorphous) are used as materials constituting the first electrode layer. Including ITO), Indium-Zinc Oxide (IZO, Indium Zinc Oxide), Indium-Gallium Oxide (IGO), Indium-doped Gallium-Zinc Oxide (IGZO, In-GaZnO 4 ), IFO (F-doped) In 2 O 3 ), ITOO (Ti-doped In 2 O 3 ), InSn, InSnZnO, tin oxide (SnO 2 ), ATO (Sb-doped SnO 2 ), FTO (F-doped SnO 2 ), zinc oxide (ZnO) ), Aluminum oxide-doped zinc oxide (AZO), gallium-doped zinc oxide (GZO), B-doped ZnO, AlMgZnO (aluminum oxide and magnesium oxide-doped zinc oxide), antimonate oxide, titanium oxide, NiO, Examples thereof include various transparent conductive materials such as spinel-type oxides, oxides having a YbFe 2 O 4 structure, gallium oxides, titanium oxides, niobium oxides, and transparent conductive materials having a nickel oxide as a base layer. .. Alternatively, on a highly light-reflecting reflective film such as a dielectric multilayer film or aluminum (Al), hole injection characteristics such as indium and tin oxide (ITO) and indium and zinc oxide (IZO) can be obtained. It is also possible to have a structure in which excellent transparent conductive materials are laminated. On the other hand, when the first electrode layer functions as a cathode electrode, it is desirable that the first electrode layer is made of a conductive material having a small work function and a high light reflectance, but a conductive material having a high light reflectance used as an anode electrode. It can also be used as a cathode electrode by providing an appropriate electron injection layer in the electron injection layer to improve the electron injection property.

第2電極層を構成する材料(半光透過材料あるいは光透過材料)として、第2電極層をカソード電極として機能させる場合、発光光を透過し、しかも、有機層(発光層)に対して電子を効率的に注入できるように仕事関数の値の小さな導電材料から構成することが望ましく、例えば、アルミニウム(Al)、銀(Ag)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ナトリウム(Na)、ストロンチウム(Sr)、アルカリ金属又はアルカリ土類金属と銀(Ag)[例えば、マグネシウム(Mg)と銀(Ag)との合金(Mg-Ag合金)]、マグネシウム-カルシウムとの合金(Mg-Ca合金)、アルミニウム(Al)とリチウム(Li)の合金(Al-Li合金)等の仕事関数の小さい金属あるいは合金を挙げることができ、中でも、Mg-Ag合金が好ましく、マグネシウムと銀との体積比として、Mg:Ag=5:1~30:1を例示することができる。あるいは又、マグネシウムとカルシウムとの体積比として、Mg:Ca=2:1~10:1を例示することができる。第2電極層の厚さとして、4nm乃至50nm、好ましくは、4nm乃至20nm、より好ましくは6nm乃至12nmを例示することができる。あるいは又、第2電極層を、有機層側から、上述した材料層と、例えばITOやIZOから成る所謂透明電極(例えば、厚さ3×10-8m乃至1×10-6m)との積層構造とすることもできる。第2電極層に対して、アルミニウム、アルミニウム合金、銀、銀合金、銅、銅合金、金、金合金等の低抵抗材料から成るバス電極(補助電極)を設け、第2電極層全体として低抵抗化を図ってもよい。第2電極層の平均光透過率は50%乃至90%、好ましくは60%乃至90%であることが望ましい。一方、第2電極層をアノード電極として機能させる場合、発光光を透過し、しかも、仕事関数の値の大きな導電材料から構成することが望ましい。 When the second electrode layer functions as a cathode electrode as a material (semi-light transmitting material or light transmitting material) constituting the second electrode layer, it transmits light emitted and has electrons with respect to the organic layer (light emitting layer). It is desirable to construct from a conductive material having a small work function value so that Strontium (Sr), alkali metal or alkaline earth metal and silver (Ag) [for example, alloy of magnesium (Mg) and silver (Ag) (Mg-Ag alloy)], alloy of magnesium-calcium (Mg-Ca) Alloys), metals or alloys with a small work function such as alloys of aluminum (Al) and lithium (Li) (Al-Li alloys) can be mentioned. Among them, Mg-Ag alloys are preferable, and the volumes of magnesium and silver are preferable. As a ratio, Mg: Ag = 5: 1 to 30: 1 can be exemplified. Alternatively, as the volume ratio of magnesium to calcium, Mg: Ca = 2: 1 to 10: 1 can be exemplified. As the thickness of the second electrode layer, 4 nm to 50 nm, preferably 4 nm to 20 nm, and more preferably 6 nm to 12 nm can be exemplified. Alternatively, the second electrode layer is formed from the organic layer side with the above-mentioned material layer and a so-called transparent electrode made of, for example, ITO or IZO (for example, a thickness of 3 × 10 -8 m to 1 × 10 -6 m). It can also have a laminated structure. A bus electrode (auxiliary electrode) made of a low resistance material such as aluminum, aluminum alloy, silver, silver alloy, copper, copper alloy, gold, and gold alloy is provided on the second electrode layer, and the entire second electrode layer is low. You may try to make it resistant. The average light transmittance of the second electrode layer is preferably 50% to 90%, preferably 60% to 90%. On the other hand, when the second electrode layer functions as an anode electrode, it is desirable that the second electrode layer is made of a conductive material that transmits emitted light and has a large work function value.

第1電極層や第2電極層の形成方法として、例えば、電子ビーム蒸着法や熱フィラメント蒸着法、真空蒸着法を含む蒸着法、スパッタリング法、化学的気相成長法(CVD法)やMOCVD法、イオンプレーティング法とエッチング法との組合せ;スクリーン印刷法やインクジェット印刷法、メタルマスク印刷法といった各種印刷法;メッキ法(電気メッキ法や無電解メッキ法);リフトオフ法;レーザアブレーション法;ゾル・ゲル法等を挙げることができる。各種印刷法やメッキ法によれば、直接、所望の形状(パターン)を有する第1電極層や第2電極層を形成することが可能である。尚、有機層を形成した後、第2電極層を形成する場合、特に真空蒸着法のような成膜粒子のエネルギーが小さな成膜方法、あるいは又、MOCVD法といった成膜方法に基づき形成することが、有機層のダメージ発生を防止するといった観点から好ましい。有機層にダメージが発生すると、リーク電流の発生による「滅点」と呼ばれる非発光画素(あるいは非発光副画素)が生じる虞がある。 Examples of the method for forming the first electrode layer and the second electrode layer include an electron beam vapor deposition method, a hot filament vapor deposition method, a vapor deposition method including a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, a chemical vapor phase growth method (CVD method), and a MOCVD method. , Combination of ion plating method and etching method; Various printing methods such as screen printing method, inkjet printing method, metal mask printing method; Plating method (electric plating method and electroless plating method); Lift-off method; Laser ablation method; Sol -The gel method, etc. can be mentioned. According to various printing methods and plating methods, it is possible to directly form a first electrode layer and a second electrode layer having a desired shape (pattern). When the second electrode layer is formed after the organic layer is formed, it is formed based on a film forming method such as a vacuum vapor deposition method in which the energy of the formed particles is small, or a film forming method such as a MOCVD method. However, it is preferable from the viewpoint of preventing the occurrence of damage to the organic layer. When the organic layer is damaged, non-light emitting pixels (or non-light emitting sub-pixels) called "dead points" may be generated due to the generation of leakage current.

有機層は有機発光材料から成る発光層を備えているが、具体的には、例えば、正孔輸送層と発光層と電子輸送層との積層構造、正孔輸送層と電子輸送層を兼ねた発光層との積層構造、正孔注入層と正孔輸送層と発光層と電子輸送層と電子注入層との積層構造等から構成することができる。有機層の形成方法として、真空蒸着法等の物理的気相成長法(PVD法);スクリーン印刷法やインクジェット印刷法といった印刷法;転写用基板上に形成されたレーザ吸収層と有機層の積層構造に対してレーザを照射することでレーザ吸収層上の有機層を分離して、有機層を転写するといったレーザ転写法、各種の塗布法を例示することができる。有機層を真空蒸着法に基づき形成する場合、例えば、所謂メタルマスクを用い、係るメタルマスクに設けられた開口を通過した材料を堆積させることで有機層を得ることができる。 The organic layer includes a light emitting layer made of an organic light emitting material. Specifically, for example, the organic layer also serves as a laminated structure of a hole transport layer, a light emitting layer and an electron transport layer, and a hole transport layer and an electron transport layer. It can be composed of a laminated structure with a light emitting layer, a laminated structure with a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and the like. As a method for forming the organic layer, a physical vapor deposition method (PVD method) such as a vacuum vapor deposition method; a printing method such as a screen printing method or an inkjet printing method; a lamination of a laser absorption layer and an organic layer formed on a transfer substrate. A laser transfer method in which the organic layer on the laser absorption layer is separated by irradiating the structure with a laser and the organic layer is transferred, and various coating methods can be exemplified. When the organic layer is formed based on the vacuum vapor deposition method, for example, a so-called metal mask is used, and the organic layer can be obtained by depositing a material that has passed through an opening provided in the metal mask.

発光素子と発光素子との間に遮光層を設けてもよい。遮光層を構成する遮光材料として、具体的には、チタン(Ti)やクロム(Cr)、タングステン(W)、タンタル(Ta)、アルミニウム(Al)、MoSi2等の光を遮光することができる材料を挙げることができる。遮光層は、電子ビーム蒸着法や熱フィラメント蒸着法、真空蒸着法を含む蒸着法、スパッタリング法、CVD法やイオンプレーティング法等によって形成することができる。 A light-shielding layer may be provided between the light-emitting element and the light-emitting element. As the light-shielding material constituting the light-shielding layer, specifically, light such as titanium (Ti), chromium (Cr), tungsten (W), tantalum (Ta), aluminum (Al), MoSi 2 and the like can be shielded. Materials can be mentioned. The light-shielding layer can be formed by an electron beam vapor deposition method, a hot filament vapor deposition method, a vapor deposition method including a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, a CVD method, an ion plating method, or the like.

表示装置の光を出射する最外面(具体的には、第2基板の外面)には、紫外線吸収層、汚染防止層、ハードコート層、帯電防止層を形成してもよいし、保護部材(例えば、カバーガラス)を配してもよい。 An ultraviolet absorbing layer, a contamination prevention layer, a hard coat layer, and an antistatic layer may be formed on the outermost surface (specifically, the outer surface of the second substrate) that emits light from the display device, or a protective member (protective member). For example, a cover glass) may be arranged.

本開示の表示装置においては、絶縁層や層間絶縁層が形成されるが、これらを構成する絶縁材料として、SiO2、NSG(ノンドープ・シリケート・ガラス)、BPSG(ホウ素・リン・シリケート・ガラス)、PSG、BSG、AsSG、SbSG、PbSG、SOG(スピンオングラス)、LTO(Low Temperature Oxide、低温CVD-SiO2)、低融点ガラス、ガラスペースト等のSiOX系材料(シリコン系酸化膜を構成する材料);SiON系材料を含むSiN系材料;SiOC;SiOF;SiCNを挙げることができる。あるいは又、酸化チタン(TiO2)、酸化タンタル(Ta25)、酸化アルミニウム(Al23)、酸化マグネシウム(MgO)、酸化クロム(CrOx)、酸化ジルコニウム(ZrO2)、酸化ニオブ(Nb25)、酸化スズ(SnO2)、酸化バナジウム(VOx)といった無機絶縁材料を挙げることができる。あるいは又、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂といった各種樹脂や、SiOCH、有機SOG、フッ素系樹脂といった低誘電率絶縁材料(例えば、誘電率k(=ε/ε0)が例えば3.5以下の材料であり、具体的には、例えば、フルオロカーボン、シクロパーフルオロカーボンポリマー、ベンゾシクロブテン、環状フッ素系樹脂、ポリテトラフルオロエチレン、アモルファステトラフルオロエチレン、ポリアリールエーテル、フッ化アリールエーテル、フッ化ポリイミド、アモルファスカーボン、パリレン(ポリパラキシリレン)、フッ化フラーレン)を挙げることができるし、Silk(The Dow Chemical Co. の商標であり、塗布型低誘電率層間絶縁膜材料)、Flare(Honeywell Electronic Materials Co. の商標であり、ポリアリルエーテル(PAE)系材料)を例示することもできる。そして、これらを、単独あるいは適宜組み合わせて使用することができる。場合によっては、基体や絶縁材料膜を、以上に説明した材料から構成してもよい。絶縁層や層間絶縁層、基体、絶縁材料膜は、各種CVD法、各種塗布法、スパッタリング法や真空蒸着法を含む各種PVD法、スクリーン印刷法といった各種印刷法、メッキ法、電着法、浸漬法、ゾル-ゲル法等の公知の方法に基づき形成することができる。
In the display device of the present disclosure, an insulating layer and an interlayer insulating layer are formed, and the insulating materials constituting these are SiO 2 , NSG (non-doped silicate glass), and BPSG (boron phosphorus silicate glass). , PSG, BSG, AsSG, SbSG, PbSG, SOG (spin-on glass), LTO (Low Temperature Oxide, low temperature CVD-SiO 2 ), low melting point glass, glass paste and other SiO X materials (constituting a silicon oxide film). Material); SiN-based material including SiON-based material; SiOC; SiOF; SiCN. Alternatively, titanium oxide (TiO 2 ), tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), magnesium oxide (MgO), chromium oxide (CrO x ), zirconium oxide (ZrO 2 ), niobium oxide. Examples thereof include inorganic insulating materials such as (Nb 2 O 5 ), tin oxide (SnO 2 ), and vanadium oxide (VO x ). Alternatively, various resins such as polyimide resin, epoxy resin, and acrylic resin, and low dielectric constant insulating materials such as SiOCH, organic SOG, and fluororesin (for example, dielectric constant k (= ε / ε 0 )) are used, for example. 5 or less materials, specifically, for example, fluorocarbon, cycloperfluorocarbon polymer, benzocyclobutene, cyclic fluororesin , polytetrafluoroethylene, amorphous tetrafluoroethylene, polyaryl ether, fluoride aryl ether, foot. Polyimide (polyimide), amorphous carbon, parylene (polyparaxylylene), fullerene fluoride) can be mentioned, and Silk (a trademark of The Dow Chemical Co., a coating type low dielectric constant interlayer insulating film material), Flare ( It is a trademark of Honeywell Electronic Materials Co., and a polyallyl ether (PAE) -based material) can also be exemplified. Then, these can be used alone or in combination as appropriate. In some cases, the substrate or the insulating material film may be made of the material described above. For the insulating layer, interlayer insulating layer, substrate, and insulating material film, various printing methods such as various CVD methods, various coating methods, various PVD methods including sputtering method and vacuum vapor deposition method, screen printing method, plating method, electrodeposition method, and immersion method are used. It can be formed based on a known method such as a method or a sol-gel method.

有機EL表示装置は、更に一層の光取出し効率の向上を図るために、共振器構造を有することが好ましい。具体的には、第1電極層と有機層との界面によって構成された第1界面(あるいは、第1電極層の下方に設けられた光反射層とその上に位置する層間絶縁層の部分との界面によって構成された第1界面)と、第2電極層と有機層との界面によって構成された第2界面との間で、発光層で発光した光を共振させて、その一部を第2電極層から出射させる。第1電極層の下方に設けられた光反射層とその上に位置する層間絶縁層も、凹部の頂面の形状に倣って形成される。そして、発光層の最大発光位置から第1界面までの距離をL1、光学距離をOL1、発光層の最大発光位置から第2界面までの距離をL2、光学距離をOL2とし、m1及びm2を整数としたとき、以下の式(1-1)、式(1-2)、式(1-3)及び式(1-4)を満たしている。 The organic EL display device preferably has a resonator structure in order to further improve the light extraction efficiency. Specifically, the first interface formed by the interface between the first electrode layer and the organic layer (or the light reflecting layer provided below the first electrode layer and the portion of the interlayer insulating layer located above the light reflecting layer). The light emitted from the light emitting layer is resonated between the first interface formed by the interface of the light emitting layer) and the second interface formed by the interface between the second electrode layer and the organic layer, and a part thereof is resonated. 2 Emit from the electrode layer. The light reflecting layer provided below the first electrode layer and the interlayer insulating layer located above the light reflecting layer are also formed following the shape of the top surface of the recess. The distance from the maximum light emitting position of the light emitting layer to the first interface is L 1 , the optical distance is OL 1 , the distance from the maximum light emitting position of the light emitting layer to the second interface is L 2 , and the optical distance is OL 2 . When 1 and m 2 are integers, the following equations (1-1), equations (1-2), equations (1-3) and equations (1-4) are satisfied.

0.7{-Φ1/(2π)+m1}≦2×OL1/λ≦1.2{-Φ1/(2π)+m1} (1-1)
0.7{-Φ2/(2π)+m2}≦2×OL2/λ≦1.2{-Φ2/(2π)+m2} (1-2)
1<L2 (1-3)
1<m2 (1-4)
ここで、
λ :発光層で発生した光のスペクトルの最大ピーク波長(あるいは又、発光層で発生し た光の内の所望の波長)
Φ1:第1界面で反射される光の位相シフト量(単位:ラジアン)
但し、-2π<Φ1≦0
Φ2:第2界面で反射される光の位相シフト量(単位:ラジアン)
但し、-2π<Φ2≦0
である。
0.7 {-Φ 1 / (2π) + m 1 } ≤ 2 x OL 1 / λ ≤ 1.2 {-Φ 1 / (2π) + m 1 } (1-1)
0.7 {-Φ 2 / (2π) + m 2 } ≤ 2 x OL 2 / λ ≤ 1.2 {-Φ 2 / (2π) + m 2 } (1-2)
L 1 <L 2 (1-3)
m 1 <m 2 (1-4)
here,
λ: Maximum peak wavelength of the spectrum of light generated in the light emitting layer (or the desired wavelength of the light generated in the light emitting layer)
Φ 1 : Phase shift amount of light reflected at the first interface (unit: radian)
However, -2π <Φ 1 ≤ 0
Φ 2 : Phase shift amount of light reflected at the second interface (unit: radian)
However, -2π <Φ 2 ≤ 0
Is.

ここで、最も光取出し効率を高くし得るm1=0,m2=1である形態とすることができる。 Here, it is possible to adopt a form in which m 1 = 0 and m 2 = 1, which can maximize the light extraction efficiency.

発光層の最大発光位置から第1界面までの距離L1とは、発光層の最大発光位置から第1界面までの実際の距離(物理的距離)を指し、発光層の最大発光位置から第2界面までの距離L2とは、発光層の最大発光位置から第2界面までの実際の距離(物理的距離)を指す。また、光学距離とは、光路長とも呼ばれ、一般に、屈折率nの媒質中を距離Lだけ光線が通過したときのn×Lを指す。以下においても、同様である。従って、平均屈折率をnaveとしたとき、
OL1=L1×nave
OL2=L2×nave
の関係がある。ここで、平均屈折率naveとは、有機層(あるいは、有機層及び層間絶縁層)を構成する各層の屈折率と厚さの積を合計し、有機層(あるいは、有機層及び層間絶縁層)の厚さで除したものである。
The distance L 1 from the maximum light emitting position of the light emitting layer to the first interface refers to the actual distance (physical distance) from the maximum light emitting position of the light emitting layer to the first interface, and is the second from the maximum light emitting position of the light emitting layer. The distance L 2 to the interface refers to the actual distance (physical distance) from the maximum light emitting position of the light emitting layer to the second interface. The optical distance is also referred to as an optical path length, and generally refers to n × L when a light ray passes through a medium having a refractive index n by a distance L. The same applies to the following. Therefore, when the average refractive index is n ave ,
OL 1 = L 1 x n ave
OL 2 = L 2 x n ave
There is a relationship. Here, the average refractive index nave is the sum of the products of the refractive index and the thickness of each layer constituting the organic layer (or the organic layer and the interlayer insulating layer), and the organic layer (or the organic layer and the interlayer insulating layer). ) Is divided by the thickness.

第1電極層又は光反射層及び第2電極層は入射した光の一部を吸収し、残りを反射する。従って、反射される光に位相シフトが生じる。この位相シフト量Φ1,Φ2は、第1電極層又は光反射層及び第2電極層を構成する材料の複素屈折率の実数部分と虚数部分の値を、例えばエリプソメータを用いて測定し、これらの値に基づく計算を行うことで求めることができる(例えば、"Principles of Optic", Max Born and Emil Wolf, 1974 (PERGAMON PRESS) 参照)。有機層や層間絶縁層等の屈折率もエリプソメータを用いて測定することで求めることができる。 The first electrode layer or the light reflecting layer and the second electrode layer absorb a part of the incident light and reflect the rest. Therefore, a phase shift occurs in the reflected light. For the phase shift amounts Φ 1 and Φ 2 , the values of the real and imaginary parts of the complex refractive index of the materials constituting the first electrode layer or the light reflecting layer and the second electrode layer are measured by using, for example, an ellipsometer. It can be calculated by performing calculations based on these values (see, for example, "Principles of Optic", Max Born and Emil Wolf, 1974 (PERGAMON PRESS)). The refractive index of the organic layer, the interlayer insulating layer, etc. can also be determined by measuring with an ellipsometer.

光反射層を構成する材料として、アルミニウム、アルミニウム合金(例えば、Al-NdやAl-Cu)、Al/Ti積層構造、Al-Cu/Ti積層構造、クロム(Cr)、銀(Ag)、銀合金(例えば、Ag-Pd-Cu、Ag-Sm-Cu)を挙げることができ、例えば、電子ビーム蒸着法や熱フィラメント蒸着法、真空蒸着法を含む蒸着法、スパッタリング法、CVD法やイオンプレーティング法;メッキ法(電気メッキ法や無電解メッキ法);リフトオフ法;レーザアブレーション法;ゾル・ゲル法等によって形成することができる。 As a material constituting the light reflecting layer, aluminum, an aluminum alloy (for example, Al—Nd or Al—Cu), an Al / Ti laminated structure, an Al—Cu / Ti laminated structure, chromium (Cr), silver (Ag), and silver. Alloys (for example, Ag-Pd-Cu, Ag-Sm-Cu) can be mentioned, for example, an electron beam vapor deposition method, a hot filament vapor deposition method, a vapor deposition method including a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, a CVD method and an ion play. It can be formed by a ting method; a plating method (electroplating method or electroless plating method); a lift-off method; a laser ablation method; a sol-gel method or the like.

このように、共振器構造を有する有機EL表示装置にあっては、実際には、白色を発光する有機層と赤色カラーフィルタ層(あるいは赤色カラーフィルタとして機能する平坦化層)とを組み合わせることで構成された赤色発光素子は、発光層で発光した赤色光を共振させて、赤味がかった光(赤色の領域に光スペクトルのピークを有する光)を第2電極層から出射する。また、白色を発光する有機層と緑色カラーフィルタ層(あるいは緑色カラーフィルタとして機能する平坦化層)とを組み合わせることで構成された緑色発光素子は、発光層で発光した緑色光を共振させて、緑味がかった光(緑色の領域に光スペクトルのピークを有する光)を第2電極層から出射する。更には、白色を発光する有機層と青色カラーフィルタ層(あるいは青色カラーフィルタとして機能する平坦化層)とを組み合わせることで構成された青色発光素子は、発光層で発光した青色光を共振させて、青味がかった光(青色の領域に光スペクトルのピークを有する光)を第2電極層から出射する。即ち、発光層で発生した光の内の所望の波長λ(具体的には、赤色の波長、緑色の波長、青色の波長)を決定し、式(1-2)、式(1-2)、式(1-3)、式(1-4)に基づき、赤色発光素子、緑色発光素子、青色発光素子のそれぞれにおけるOL1,OL2等の各種パラメータを求めて、各発光素子を設計すればよい。例えば、特開2012-216495の段落番号[0041]には、有機層を共振部とした共振器構造を有する有機EL素子が開示されており、発光点から反射面までの距離を適切に調整することが可能となるため、有機層の膜厚は、80nm以上500nm以下であることが好ましく、150nm以上350nm以下であることがより好ましいと記載されている。 As described above, in an organic EL display device having a resonator structure, an organic layer that emits white light and a red color filter layer (or a flattening layer that functions as a red color filter) are actually combined. The configured red light emitting element resonates the red light emitted in the light emitting layer, and emits reddish light (light having a peak in the optical spectrum in the red region) from the second electrode layer. Further, the green light emitting element configured by combining an organic layer that emits white light and a green color filter layer (or a flattening layer that functions as a green color filter) resonates the green light emitted by the light emitting layer to resonate the green light emitted by the light emitting layer. Greenish light (light having a peak in the optical spectrum in the green region) is emitted from the second electrode layer. Furthermore, the blue light emitting element configured by combining an organic layer that emits white light and a blue color filter layer (or a flattening layer that functions as a blue color filter) resonates the blue light emitted by the light emitting layer. , Bluish light (light having a peak in the optical spectrum in the blue region) is emitted from the second electrode layer. That is, the desired wavelength λ (specifically, the wavelength of red, the wavelength of green, the wavelength of blue) in the light generated in the light emitting layer is determined, and equations (1-2) and (1-2) are used. , Based on the equations (1-3) and (1-4), obtain various parameters such as OL 1 and OL 2 in each of the red light emitting element, the green light emitting element, and the blue light emitting element, and design each light emitting element. Just do it. For example, paragraph number [0041] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-216495 discloses an organic EL element having a resonator structure having an organic layer as a resonance portion, and appropriately adjusts the distance from a light emitting point to a reflecting surface. It is described that the thickness of the organic layer is preferably 80 nm or more and 500 nm or less, and more preferably 150 nm or more and 350 nm or less.

有機EL表示装置にあっては、正孔輸送層(正孔供給層)の厚さと電子輸送層(電子供給層)の厚さは、概ね等しいことが望ましい。あるいは又、正孔輸送層(正孔供給層)よりも電子輸送層(電子供給層)を厚くしてもよく、これによって、低い駆動電圧で高効率化に必要、且つ、発光層への十分な電子供給が可能となる。即ち、アノード電極に相当する第1電極層と発光層との間に正孔輸送層を配置し、しかも、電子輸送層よりも薄い膜厚で形成することで、正孔の供給を増大させることが可能となる。そして、これにより、正孔と電子の過不足がなく、且つ、キャリア供給量も十分多いキャリアバランスを得ることができるため、高い発光効率を得ることができる。また、正孔と電子の過不足がないことで、キャリアバランスが崩れ難く、駆動劣化が抑制され、発光寿命を長くすることができる。 In an organic EL display device, it is desirable that the thickness of the hole transport layer (hole supply layer) and the thickness of the electron transport layer (electron supply layer) are substantially equal to each other. Alternatively, the electron transport layer (electron supply layer) may be thicker than the hole transport layer (hole supply layer), which is necessary for high efficiency with a low drive voltage and sufficient for the light emitting layer. Electronic supply is possible. That is, the hole supply is increased by arranging the hole transport layer between the first electrode layer corresponding to the anode electrode and the light emitting layer and forming the hole transport layer with a film thickness thinner than that of the electron transport layer. Is possible. As a result, it is possible to obtain a carrier balance in which there is no excess or deficiency of holes and electrons and the carrier supply amount is sufficiently large, so that high luminous efficiency can be obtained. Further, since there is no excess or deficiency of holes and electrons, the carrier balance is not easily lost, drive deterioration is suppressed, and the light emission life can be extended.

表示装置は、例えば、パーソナルコンピュータを構成するモニター装置として使用することができるし、テレビジョン受像機や携帯電話、PDA(携帯情報端末,Personal Digital Assistant)、ゲーム機器に組み込まれたモニター装置として使用することができる。あるいは又、電子ビューファインダ(Electronic View Finder,EVF)や頭部装着型ディスプレイ(Head Mounted Display,HMD)に適用することができる。あるいは又、電子ブック、電子新聞等の電子ペーパー、看板、ポスター、黒板等の掲示板、プリンター用紙代替のリライタブルペーパー、家電製品の表示部、ポイントカード等のカード表示部、電子広告、電子POPにおける画像表示装置を構成することができる。本開示の表示装置を発光装置として使用し、液晶表示装置用のバックライト装置や面状光源装置を含む各種照明装置を構成することができる。頭部装着型ディスプレイは、例えば、
(イ)観察者の頭部に装着されるフレーム、及び、
(ロ)フレームに取り付けられた画像表示装置、
を備えており、
画像表示装置は、
(A)本開示の表示装置、及び、
(B)本開示の表示装置から出射された光が入射され、出射される光学装置、
を備えており、
光学装置は、
(B-1)本開示の表示装置から入射された光が内部を全反射により伝播した後、観察者に向けて出射される導光板、
(B-2)導光板に入射された光が導光板の内部で全反射されるように、導光板に入射された光を偏向させる第1偏向手段(例えば、体積ホログラム回折格子膜から成る)、及び、
(B-3)導光板の内部を全反射により伝播した光を導光板から出射させるために、導光板の内部を全反射により伝播した光を複数回に亙り偏向させる第2偏向手段(例えば、体積ホログラム回折格子膜から成る)、
から成る。
The display device can be used, for example, as a monitor device constituting a personal computer, or as a monitor device incorporated in a television receiver, a mobile phone, a PDA (personal digital assistant), or a game device. can do. Alternatively, it can be applied to an electronic view finder (EVF) or a head-mounted display (HMD). Alternatively, electronic books, electronic papers such as electronic newspapers, signboards, posters, bulletin boards such as blackboards, rewritable papers that replace printer paper, display parts for home appliances, card display parts such as point cards, electronic advertisements, and images in electronic POPs. A display device can be configured. The display device of the present disclosure can be used as a light emitting device to configure various lighting devices including a backlight device for a liquid crystal display device and a planar light source device. Head-mounted displays are, for example,
(B) The frame attached to the observer's head and
(B) Image display device attached to the frame,
Equipped with
The image display device is
(A) The display device of the present disclosure and
(B) An optical device in which light emitted from the display device of the present disclosure is incident and emitted.
Equipped with
The optical device is
(B-1) A light guide plate, which is emitted toward an observer after light incident from the display device of the present disclosure propagates inside by total reflection.
(B-2) A first deflection means (for example, composed of a volume hologram diffraction grating film) that deflects the light incident on the light guide plate so that the light incident on the light guide plate is totally reflected inside the light guide plate. ,as well as,
(B-3) A second deflecting means (for example,) for deflecting the light propagated inside the light guide plate by total internal reflection a plurality of times in order to emit the light propagated inside the light guide plate by total internal reflection from the light guide plate. (Consists of a volume hologram diffraction grating film),
Consists of.

実施例1は、本開示の発光素子及び本開示の表示装置に関する。実施例1の発光素子の模式的な一部断面図を図1に示し、図1に示す実施例1の発光素子の一部の模式的な一部端面図において、一部のハッチング線を除き、光の軌跡を示す図を図2に示し、実施例1の表示装置の模式的な一部端面図を図3に示す。実施例1の表示装置は、具体的には、有機EL表示装置から成り、実施例1の発光素子は、具体的には、有機EL素子から成る。また、実施例1の表示装置は、第2基板から光を出射するトップエミッション方式(上面発光方式)の表示装置(上面発光型表示装置)である。 The first embodiment relates to the light emitting element of the present disclosure and the display device of the present disclosure. A schematic partial cross-sectional view of the light emitting element of Example 1 is shown in FIG. 1, and in a schematic partial end view of a part of the light emitting element of Example 1 shown in FIG. 1, some hatch lines are excluded. A diagram showing the locus of light is shown in FIG. 2, and a schematic partial end view of the display device of the first embodiment is shown in FIG. The display device of the first embodiment specifically comprises an organic EL display device, and the light emitting element of the first embodiment specifically comprises an organic EL element. Further, the display device of the first embodiment is a top emission type (top light emitting type) display device (top light emitting type display device) that emits light from the second substrate.

実施例1の発光素子10(10R,10G,10B)は、
基体26、
基体26の表面26Aに設けられた凹部27、
少なくとも一部分が凹部27の頂面の形状に倣って形成された第1電極層31、
第1電極層31上に、少なくとも一部分が第1電極層31の頂面の形状に倣って形成された有機層33、
有機層33上に、有機層33の頂面の形状に倣って形成された第2電極層32、及び、
第2電極層32上に形成された平坦化層35、
を少なくとも備えており、
有機層33からの光が第2電極層32及び平坦化層35を介して外部に出射される。
The light emitting element 10 (10R, 10G, 10B) of the first embodiment is
Hypokeimenon 26,
Recesses 27 provided on the surface 26A of the substrate 26,
The first electrode layer 31, which is at least partially formed to follow the shape of the top surface of the recess 27,
The organic layer 33, which is formed on the first electrode layer 31 at least in part following the shape of the top surface of the first electrode layer 31.
A second electrode layer 32 formed on the organic layer 33 following the shape of the top surface of the organic layer 33, and
The flattening layer 35 formed on the second electrode layer 32,
At least have
The light from the organic layer 33 is emitted to the outside through the second electrode layer 32 and the flattening layer 35.

また、実施例1の表示装置は、
第1基板11、及び、第2基板41、並びに、
第1基板11と第2基板41との間に位置し、第1基板11の上に形成された基体26上に設けられ、2次元状に配列された複数の発光素子10(10R,10G,10B)、
を備えた表示装置であって、
各発光素子10(10R,10G,10B)は、
基体26の表面に設けられた凹部27、
少なくとも一部分が凹部27の頂面の形状に倣って形成された第1電極層31、
第1電極層31上に、少なくとも一部分が第1電極層31の頂面の形状に倣って形成された有機層33、
有機層33上に、有機層33の頂面の形状に倣って形成された第2電極層32、及び、
第2電極層32上に形成された平坦化層35、
を少なくとも備えており、
有機層33からの光が、第2電極層32、平坦化層35及び第2基板41を介して外部に出射される。
Further, the display device of the first embodiment is
The first substrate 11, the second substrate 41, and
A plurality of light emitting elements 10 (10R, 10G,) located between the first substrate 11 and the second substrate 41, provided on the substrate 26 formed on the first substrate 11, and arranged in a two-dimensional manner. 10B),
It is a display device equipped with
Each light emitting element 10 (10R, 10G, 10B) is
Recesses 27 provided on the surface of the substrate 26,
The first electrode layer 31, which is at least partially formed to follow the shape of the top surface of the recess 27,
The organic layer 33, which is formed on the first electrode layer 31 at least in part following the shape of the top surface of the first electrode layer 31.
A second electrode layer 32 formed on the organic layer 33 following the shape of the top surface of the organic layer 33, and
The flattening layer 35 formed on the second electrode layer 32,
At least have
The light from the organic layer 33 is emitted to the outside through the second electrode layer 32, the flattening layer 35, and the second substrate 41.

実施例1の発光素子にあっては、凹部27内において、第1電極層31の全部が、凹部27の頂面の形状に倣って形成されているし、有機層33の全部が、第1電極層31上に、第1電極層31の頂面の形状に倣って形成されている。 In the light emitting element of the first embodiment, in the recess 27, the entire first electrode layer 31 is formed following the shape of the top surface of the recess 27, and the entire organic layer 33 is the first. It is formed on the electrode layer 31 following the shape of the top surface of the first electrode layer 31.

実施例1の発光素子10にあっては、第2電極層32と平坦化層35との間に保護膜34が形成されている。保護膜34は、第2電極層32の頂面の形状に倣って形成されている。ここで、平坦化層35を構成する材料の屈折率をn1、保護膜34を構成する材料の屈折率をn2としたとき、n1>n2を満足する。(n1-n2)の値として、限定するものではないが、0.1乃至0.6を例示することができる。具体的には、平坦化層35を構成する材料は、アクリル系樹脂から成る母材にTiO2を添加して屈折率を調整した(高めた)材料、あるいは又、カラーレジスト材料と同種の材料(但し、顔料は添加しない無色透明材料)から成る母材にTiO2を添加して屈折率を調整した(高めた)材料から成り、保護膜34を構成する材料は、SiN、SiON、Al23、あるいは、TiO2から成る。尚、例えば、
1=2.0
2=1.6
である。このような保護膜34を形成することで、図2に示すように、有機層33から出射された光の一部は、第2電極層32及び保護膜34を通過し、平坦化層35に入射するし、有機層33から出射された光の一部は、第1電極層31で反射され、第2電極層32及び保護膜34を通過し、平坦化層35に入射する。このように、保護膜34及び平坦化層35によって内部レンズが形成される結果、有機層33から出射された光を発光素子の中心側に向かう方向に集光することができる。
In the light emitting element 10 of the first embodiment, the protective film 34 is formed between the second electrode layer 32 and the flattening layer 35. The protective film 34 is formed following the shape of the top surface of the second electrode layer 32. Here, when the refractive index of the material constituting the flattening layer 35 is n 1 and the refractive index of the material constituting the protective film 34 is n 2 , n 1 > n 2 is satisfied. The value of (n 1 − n 2 ) is not limited, but 0.1 to 0.6 can be exemplified. Specifically, the material constituting the flattening layer 35 is a material whose refractive index is adjusted (increased) by adding TiO 2 to a base material made of an acrylic resin, or a material of the same type as the color resist material. (However, a colorless transparent material to which no pigment is added) is made of a material whose refractive index is adjusted (increased) by adding TiO 2 to the base material, and the materials constituting the protective film 34 are SiN, SiON, and Al 2 . It consists of O 3 or TiO 2 . For example,
n 1 = 2.0
n 2 = 1.6
Is. By forming such a protective film 34, as shown in FIG. 2, a part of the light emitted from the organic layer 33 passes through the second electrode layer 32 and the protective film 34 and becomes the flattening layer 35. A part of the incident light emitted from the organic layer 33 is reflected by the first electrode layer 31, passes through the second electrode layer 32 and the protective film 34, and is incident on the flattening layer 35. As a result of the internal lens being formed by the protective film 34 and the flattening layer 35, the light emitted from the organic layer 33 can be focused in the direction toward the center side of the light emitting element.

あるいは又、実施例1の発光素子において、有機層33から出射され、第2電極層32を介して平坦化層35に入射するときの光の入射角をθi、平坦化層35に入射した光の屈折角をθrとしたとき、|θr|≠0の場合、
|θi|>|θr
を満足する。このような条件を満足することで、有機層33から出射された光の一部は、第2電極層32を通過し、平坦化層35に入射するし、有機層33から出射された光の一部は、第1電極層31で反射され、第2電極層32を通過し、平坦化層35に入射する。このように内部レンズが形成される結果、有機層33から出射された光を発光素子の中心側に向かう方向に集光することができる。
Alternatively, in the light emitting device of Example 1, the incident angle of the light emitted from the organic layer 33 and incident on the flattening layer 35 via the second electrode layer 32 is θ i , and the light is incident on the flattening layer 35. When the refraction angle of light is θ r , and | θ r | ≠ 0,
| θ i | > | θ r
To be satisfied. By satisfying such conditions, a part of the light emitted from the organic layer 33 passes through the second electrode layer 32, is incident on the flattening layer 35, and is the light emitted from the organic layer 33. A part of the light is reflected by the first electrode layer 31, passes through the second electrode layer 32, and is incident on the flattening layer 35. As a result of forming the internal lens in this way, the light emitted from the organic layer 33 can be focused in the direction toward the center side of the light emitting element.

もしも凹部が形成されておらず、第1電極層、有機層、第2電極層が平坦な積層構造を有している場合、有機層から出射された光は、実施例1の発光素子よりも、発光素子の外側に大きく広がり、正面光取り出し効率の向上を図ることができない。 If no recess is formed and the first electrode layer, the organic layer, and the second electrode layer have a flat laminated structure, the light emitted from the organic layer is more than that of the light emitting device of Example 1. , It spreads widely to the outside of the light emitting element, and it is not possible to improve the efficiency of extracting front light.

また、実施例1の発光素子において、平坦化層35の頂面又は上方には(具体的には、平坦化層35の上方には、より具体的には、平坦化層35の上に形成された後述するカラーフィルタ層CFR,CFG,CFBの上に)、周知の方法で、周知の材料から成るオンチップマイクロレンズ36が設けられている。凹部27の軸線AXを含む仮想平面で凹部27を切断したときの凹部27の断面形状は、滑らかな曲線(具体的には、円弧)であるし、この仮想平面で凹部27を切断したときの凹部27の縁部から基体26の表面に亙る断面形状は、滑らかな曲線から成る。即ち、凹部27の縁部27Aは丸みを帯びている。凹部27の縁部の形状(平面形状)は、円形又は楕円形であるが、円形とした方が、第1電極層31における光反射効率の一層の向上を図ることができる。 Further, in the light emitting element of the first embodiment, it is formed on the top surface or above the flattening layer 35 (specifically, above the flattening layer 35, more specifically, on the flattening layer 35). An on-chip microlens 36 made of a well-known material is provided by a well - known method (on the color filter layers CFR, CFG , CFB ) described later. The cross-sectional shape of the recess 27 when the recess 27 is cut in the virtual plane including the axis AX of the recess 27 is a smooth curve (specifically, an arc), and when the recess 27 is cut in this virtual plane. The cross-sectional shape extending from the edge of the recess 27 to the surface of the substrate 26 consists of a smooth curve. That is, the edge portion 27A of the recess 27 is rounded. The shape (planar shape) of the edge portion of the recess 27 is circular or elliptical, but if it is circular, the light reflection efficiency in the first electrode layer 31 can be further improved.

カラーフィルタ層CFR,CFG,CFB及びオンチップマイクロレンズ36は、第2基板41に封止樹脂層37を介して亙って貼り合わされている。封止樹脂層37を構成する材料として、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤、シリコーン系接着剤、シアノアクリレート系接着剤といった熱硬化型接着剤や、紫外線硬化型接着剤を挙げることができる。カラーフィルタ層CFR,CFG,CFBは、第1の基板側に形成されたOCCF(オンチップカラーフィルタ層)である。そして、これによって、有機層とカラーフィルタ層CFとの間の距離を短くすることができ、有機層から出射した光が隣接する他色のカラーフィルタ層CFに入射して混色が生じることを抑制することができるし、オンチップマイクロレンズの幅広いレンズ設計が可能となる。 The color filter layers CFR, CFG , CFB and the on - chip microlens 36 are attached to the second substrate 41 via the sealing resin layer 37. As a material constituting the sealing resin layer 37, a heat-curable adhesive such as an acrylic adhesive, an epoxy adhesive, a urethane adhesive, a silicone adhesive, or a cyanoacrylate adhesive, or an ultraviolet curable adhesive is used. Can be mentioned. The color filter layers CFR, CFG, and CF B are OCCFs (on-chip color filter layers) formed on the first substrate side. As a result, the distance between the organic layer and the color filter layer CF can be shortened, and the light emitted from the organic layer is prevented from being incident on the adjacent color filter layer CF of another color to cause color mixing. It enables a wide range of lens designs for on-chip microlenses.

有機EL素子から成る実施例1の発光素子10において、有機層33は、赤色発光層、緑色発光層及び青色発光層の積層構造を有する。1つの画素は、赤色発光素子10R、緑色発光素子10G及び青色発光素子10Bの3つの発光素子から構成されている。発光素子10を構成する有機層33は白色光を発光し、各発光素子10R,10G,10Bは、白色光を発光する有機層33とカラーフィルタ層CFR,CFG,CFBとの組合せから構成されている。赤色を表示すべき赤色発光素子10Rには赤色カラーフィルタ層CFRが備えられており、緑色を表示すべき緑色発光素子10Gには緑色カラーフィルタ層CFGが備えられており、青色を表示すべき青色発光素子10Bには青色カラーフィルタ層CFBが備えられている。赤色発光素子10R、緑色発光素子10G及び青色発光素子10Bは、カラーフィルタ層、発光層の位置を除き、同じ構成、構造を有する。また、カラーフィルタ層CFとカラーフィルタ層CFとの間に、ブラックマトリクス層BMを備えている。ブラックマトリクス層BMは、例えば、黒色の着色剤を混入した光学濃度が1以上の黒色の樹脂膜(具体的には、例えば、黒色のポリイミド系樹脂)から成る。画素数は、例えば1920×1080であり、1つの発光素子(表示素子)は1つの副画素を構成し、発光素子(具体的には有機EL素子)は画素数の3倍である。実施例1の表示装置にあっては、副画素の配列として、図14Aに示すデルタ配列を挙げることができる。但し、図14B、図14C、図14Dに示すようなストライプ配列等とすることもできる。場合によっては、赤色発光素子、緑色発光素子、青色発光素子及び白色を出射する発光素子(あるいは補色光を出射する発光素子)によって1画素を構成してもよい。
In the light emitting element 10 of Example 1 composed of an organic EL element, the organic layer 33 has a laminated structure of a red light emitting layer, a green light emitting layer, and a blue light emitting layer. One pixel is composed of three light emitting elements, a red light emitting element 10R, a green light emitting element 10G, and a blue light emitting element 10B. The organic layer 33 constituting the light emitting element 10 emits white light, and the light emitting elements 10R, 10G, and 10B are made of a combination of the organic layer 33 that emits white light and the color filter layers CFR , CFG , and CF B. It is configured. The red light emitting element 10R that should display red is provided with a red color filter layer CFR, and the green light emitting element 10G that should display green is provided with a green color filter layer CFG to display blue. The power blue light emitting element 10B is provided with a blue color filter layer CF B. The red light emitting element 10R, the green light emitting element 10G, and the blue light emitting element 10B have the same configuration and structure except for the positions of the color filter layer and the light emitting layer. Further, a black matrix layer BM is provided between the color filter layer CF and the color filter layer CF. The black matrix layer BM is made of, for example, a black resin film (specifically, for example, a black polyimide resin ) having an optical density of 1 or more mixed with a black colorant. The number of pixels is, for example, 1920 × 1080, one light emitting element (display element) constitutes one sub-pixel, and the light emitting element (specifically, an organic EL element) is three times the number of pixels. In the display device of the first embodiment, as the arrangement of the sub-pixels, the delta arrangement shown in FIG. 14A can be mentioned. However, the stripe arrangement as shown in FIGS. 14B, 14C, and 14D may be used. In some cases, one pixel may be composed of a red light emitting element, a green light emitting element, a blue light emitting element, and a light emitting element that emits white (or a light emitting element that emits complementary color light).

図15A及び図15B、並びに、図15C及び図15Cに、第1電極31R,31G,31B及びカラーフィルタ層CFR,CFG,CFBの配置関係を模式的に示す。尚、図15B及び図15Dにおいては、カラーフィルタ層CFR,CFG,CFBを点線で示す。特に、電子ビューファインダのような目を振る(即ち、視野角色付きが気になる)用途においては、赤色発光素子、緑色発光素子、青色発光素子におけるカラーフィルタ層CFR,CFG,CFBの大きさ、及び、第1電極31R,31G,31Bの大きさを調整することで、具体的には、図15A及び図15Bに示すように、
(赤色発光素子の第1電極の幅)=(緑色発光素子の第1電極の幅)>(青色発光素子の第1電極の幅)
とすることで、白色光を発光する有機層33を備えた発光素子から構成された赤色発光素子、緑色発光素子、青色発光素子の視野角をパラメータとした色強度が同程度となり、視野角に起因した色付きを回避することができる。また、図15C及び図15Dに示すように、2つの青色発光素子を対角に配置し、赤色発光素子及び緑色発光素子を対角に配置する場合、赤色発光素子を構成する第1電極31Rと緑色発光素子を構成する第1電極31Gの対向部分を切り欠くことが好ましく、更には、方位角の視野角対称性を保つため、赤色発光素子の第1電極31Rの切り欠かれた部分と対向する第1電極31Rの部分を切り欠き、緑色発光素子の第1電極31Gの切り欠かれた部分と対向する第1電極31Gの部分を切り欠くことが一層好ましい。
15A and 15B , and FIGS. 15C and 15C, schematically show the arrangement relationship of the first electrodes 31R , 31G , 31B and the color filter layers CFR, CFG, CFB. In FIGS. 15B and 15D, the color filter layers CFR , CFG , and CFB are shown by dotted lines. In particular, in applications such as an electronic viewfinder that shake the eyes (that is, the viewing angle is worrisome), the color filter layers CFR, CFG, and CF B in the red light emitting element, the green light emitting element, and the blue light emitting element. By adjusting the size and the size of the first electrodes 31R, 31G, 31B, specifically, as shown in FIGS. 15A and 15B,
(Width of the first electrode of the red light emitting element) = (Width of the first electrode of the green light emitting element)> (Width of the first electrode of the blue light emitting element)
As a result, the color intensities of the red light emitting element, the green light emitting element, and the blue light emitting element, which are composed of the light emitting element provided with the organic layer 33 that emits white light, have the same viewing angle as the parameters, and the viewing angle becomes the same. It is possible to avoid the resulting coloring. Further, as shown in FIGS. 15C and 15D, when the two blue light emitting elements are arranged diagonally and the red light emitting element and the green light emitting element are arranged diagonally, the first electrode 31R constituting the red light emitting element is used. It is preferable to cut out the facing portion of the first electrode 31G constituting the green light emitting element, and further, in order to maintain the viewing angle symmetry of the azimuth angle, the facing portion of the first electrode 31R of the red light emitting element is opposed to the cut out portion. It is more preferable to cut out the portion of the first electrode 31R to be formed and cut out the portion of the first electrode 31G facing the notched portion of the first electrode 31G of the green light emitting element.

CVD法に基づき形成されたSiO2から成る基体(層間絶縁層)26の下方には、発光素子駆動部が設けられている。発光素子駆動部は周知の回路構成とすることができる。発光素子駆動部は、第1基板11に相当するシリコン半導体基板に形成されたトランジスタ(具体的には、MOSFET)から構成されている。MOSFETから成るトランジスタ20は、第1基板11上に形成されたゲート絶縁層22、ゲート絶縁層22上に形成されたゲート電極21、第1基板11に形成されたソース/ドレイン領域24、ソース/ドレイン領域24の間に形成されたチャネル形成領域23、並びに、チャネル形成領域23及びソース/ドレイン領域24を取り囲む素子分離領域25から構成されている。トランジスタ20と第1電極層31とは、基体26に設けられたコンタクトプラグ28を介して電気的に接続されている。尚、図面においては、1つの発光素子駆動部につき、1つのトランジスタ20を図示した。 A light emitting element driving unit is provided below the substrate (interlayer insulating layer) 26 made of SiO 2 formed by the CVD method. The light emitting element drive unit may have a well-known circuit configuration. The light emitting element driving unit is composed of a transistor (specifically, a MOSFET) formed on a silicon semiconductor substrate corresponding to the first substrate 11. The transistor 20 composed of the MOSFET includes a gate insulating layer 22 formed on the first substrate 11, a gate electrode 21 formed on the gate insulating layer 22, a source / drain region 24 formed on the first substrate 11, and a source /. It is composed of a channel forming region 23 formed between the drain regions 24, and an element separation region 25 surrounding the channel forming region 23 and the source / drain region 24. The transistor 20 and the first electrode layer 31 are electrically connected to each other via a contact plug 28 provided on the substrate 26. In the drawings, one transistor 20 is shown for each light emitting element drive unit.

第2電極層32は、表示装置の外周部において、基体(層間絶縁層)26に形成された図示しないコンタクトホール(コンタクトプラグ)を介して発光素子駆動部と接続されている。表示装置の外周部において、第2電極層32の下方に第2電極層32に接続された補助電極を設け、補助電極を発光素子駆動部と接続してもよい。 The second electrode layer 32 is connected to the light emitting element driving unit via a contact hole (contact plug) (not shown) formed in the substrate (interlayer insulating layer) 26 on the outer peripheral portion of the display device. In the outer peripheral portion of the display device, an auxiliary electrode connected to the second electrode layer 32 may be provided below the second electrode layer 32, and the auxiliary electrode may be connected to the light emitting element driving unit.

第1電極層31はアノード電極として機能し、第2電極層32はカソード電極として機能する。第1電極層31は、光反射材料層、具体的には、Al-Nd合金層、Al-Cu合金層、Al-Ti合金層とITO層の積層構造)から成り、第2電極層32は、ITO等の透明導電材料から成る。凹部27の斜面に光反射材料層から成る第1電極層31を形成するので、従来の発光素子における酸化膜から構成された反射リフレクタに生じ易い反射率のバラツキ発生を抑制することができる。第1電極層31は、真空蒸着法とエッチング法との組合せに基づき形成されている。また、第2電極層32は、特に真空蒸着法のような成膜粒子のエネルギーが小さい成膜方法によって成膜されており、パターニングされていない。有機層33もパターニングされていない。但し、これに限定するものではなく、有機層33をパターニングしてもよい。即ち、有機層33を副画素毎に塗り分け、赤色発光素子の有機層33を赤色を発光する有機層から構成し、緑色発光素子の有機層33を緑色を発光する有機層から構成し、青色発光素子の有機層33を青色を発光する有機層から構成してもよい。 The first electrode layer 31 functions as an anode electrode, and the second electrode layer 32 functions as a cathode electrode. The first electrode layer 31 is composed of a light reflecting material layer, specifically, an Al—Nd alloy layer, an Al—Cu alloy layer, a laminated structure of an Al—Ti alloy layer and an ITO layer), and the second electrode layer 32 is , ITO and other transparent conductive materials. Since the first electrode layer 31 made of a light-reflecting material layer is formed on the slope of the recess 27, it is possible to suppress the occurrence of reflectance variation that tends to occur in the reflection reflector composed of the oxide film in the conventional light emitting element. The first electrode layer 31 is formed based on a combination of a vacuum vapor deposition method and an etching method. Further, the second electrode layer 32 is formed by a film forming method such as a vacuum vapor deposition method in which the energy of the formed particles is small, and is not patterned. The organic layer 33 is also not patterned. However, the present invention is not limited to this, and the organic layer 33 may be patterned. That is, the organic layer 33 is painted separately for each sub-pixel, the organic layer 33 of the red light emitting element is composed of an organic layer that emits red, and the organic layer 33 of the green light emitting element is composed of an organic layer that emits green. The organic layer 33 of the light emitting element may be composed of an organic layer that emits blue light.

実施例1において、有機層33は、正孔注入層(HIL:Hole Injection Layer)、正孔輸送層(HTL:Hole Transport Layer)、発光層、電子輸送層(ETL:Electron Transport Layer)、及び、電子注入層(EIL:Electron InjectionLayer)の積層構造を有する。発光層は、異なる色を発光する少なくとも2層の発光層から構成されており、前述したとおり、有機層33から出射される光は白色である。具体的には、有機層は、赤色を発光する赤色発光層、緑色を発光する緑色発光層、及び、青色を発光する青色発光層の3層が積層された構造を有する。有機層を、青色を発光する青色発光層、及び、黄色を発光する黄色発光層の2層が積層された構造とすることもできるし、青色を発光する青色発光層、及び、橙色を発光する橙色発光層の2層が積層された構造とすることができる。 In Example 1, the organic layer 33 includes a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), a light emitting layer, an electron transport layer (ETL), and an electron transport layer (ETL). It has a laminated structure of electron injection layers (EIL). The light emitting layer is composed of at least two light emitting layers that emit different colors, and as described above, the light emitted from the organic layer 33 is white. Specifically, the organic layer has a structure in which three layers of a red light emitting layer that emits red light, a green light emitting layer that emits green light, and a blue light emitting layer that emits blue light are laminated. The organic layer may have a structure in which two layers, a blue light emitting layer that emits blue light and a yellow light emitting layer that emits yellow light, are laminated, or a blue light emitting layer that emits blue light and an orange light emitting layer. The structure may be such that two layers of orange light emitting layers are laminated.

正孔注入層は、正孔注入効率を高める層であると共に、リークを防止するバッファ層として機能し、厚さは、例えば2nm乃至10nm程度である。正孔注入層は、例えば、以下の式(A)又は式(B)で表されるヘキサアザトリフェニレン誘導体から成る。尚、正孔注入層の端面が第2電極層と接した状態になると、画素間の輝度バラツキ発生の主たる原因となり、表示画質の低下につながる。 The hole injection layer is a layer that enhances the hole injection efficiency and functions as a buffer layer that prevents leaks, and has a thickness of, for example, about 2 nm to 10 nm. The hole injection layer is composed of, for example, a hexaazatriphenylene derivative represented by the following formula (A) or formula (B). When the end face of the hole injection layer is in contact with the second electrode layer, it becomes a main cause of luminance variation between pixels and leads to deterioration of display image quality.

Figure 0007057147000001
Figure 0007057147000001

ここで、R1~R6は、それぞれ、独立に、水素、ハロゲン、ヒドロキシ基、アミノ基、アルールアミノ基、炭素数20以下の置換あるいは無置換のカルボニル基、炭素数20以下の置換あるいは無置換のカルボニルエステル基、炭素数20以下の置換あるいは無置換のアルキル基、炭素数20以下の置換あるいは無置換のアルケニル基、炭素数20以下の置換あるいは無置換のアルコキシ基、炭素数30以下の置換あるいは無置換のアリール基、炭素数30以下の置換あるいは無置換の複素環基、ニトリル基、シアノ基、ニトロ基、又は、シリル基から選ばれる置換基であり、隣接するRm(m=1~6)は環状構造を介して互いに結合してもよい。また、X1~X6は、それぞれ、独立に、炭素又は窒素原子である。 Here, R 1 to R 6 are independently hydrogen, halogen, hydroxy group, amino group, allulamino group, substituted or unsubstituted carbonyl group having 20 or less carbon atoms, substituted or non-substituted group having 20 or less carbon atoms, respectively. Substituent carbonyl ester group, substituted or unsubstituted alkyl group having 20 or less carbon atoms, substituted or unsubstituted alkenyl group having 20 or less carbon atoms, substituted or unsubstituted alkoxy group having 20 or less carbon atoms, 30 or less carbon atoms. A substituent selected from a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group having 30 or less carbon atoms, a nitrile group, a cyano group, a nitro group, or a silyl group, and adjacent R m (m = m =). 1 to 6) may be bonded to each other via a cyclic structure. Further, X 1 to X 6 are independently carbon or nitrogen atoms, respectively.

Figure 0007057147000002
Figure 0007057147000002

正孔輸送層は発光層への正孔輸送効率を高める層である。発光層では、電界が加わると電子と正孔との再結合が起こり、光を発生する。電子輸送層は発光層への電子輸送効率を高める層であり、電子注入層は発光層への電子注入効率を高める層である。 The hole transport layer is a layer that enhances the hole transport efficiency to the light emitting layer. In the light emitting layer, when an electric field is applied, electrons and holes are recombined to generate light. The electron transport layer is a layer that enhances the electron transport efficiency to the light emitting layer, and the electron injection layer is a layer that enhances the electron injection efficiency into the light emitting layer.

正孔輸送層は、例えば、厚さが40nm程度の4,4’,4”-トリス(3-メチルフェニルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(m-MTDATA)又はα-ナフチルフェニルジアミン(αNPD)から成る。 The hole transport layer is composed of, for example, 4,4', 4 "-tris (3-methylphenylphenylamino) triphenylamine (m-MTDATA) or α-naphthylphenyldiamine (αNPD) having a thickness of about 40 nm. ..

発光層は、混色により白色光を生じる発光層であり、例えば、上述したとおり、赤色発光層、緑色発光層及び青色発光層が積層されて成る。 The light emitting layer is a light emitting layer that produces white light by color mixing, and is formed by laminating a red light emitting layer, a green light emitting layer, and a blue light emitting layer, for example, as described above.

赤色発光層では、電界が加わることにより、第1電極層31から注入された正孔の一部と、第2電極層32から注入された電子の一部とが再結合して、赤色の光が発生する。このような赤色発光層は、例えば、赤色発光材料、正孔輸送性材料、電子輸送性材料及び両電荷輸送性材料の内、少なくとも1種の材料を含んでいる。赤色発光材料は、蛍光性の材料であってもよいし、燐光性の材料であってもよい。厚さが5nm程度の赤色発光層は、例えば、4,4-ビス(2,2-ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)に、2,6-ビス[(4’-メトキシジフェニルアミノ)スチリル]-1,5-ジシアノナフタレン(BSN)を30質量%混合したものから成る。
In the red light emitting layer, when an electric field is applied, a part of the holes injected from the first electrode layer 31 and a part of the electrons injected from the second electrode layer 32 are recombined to form red light. Occurs. Such a red light emitting layer contains, for example, at least one of a red light emitting material, a hole transporting material, an electron transporting material, and a bicharge transporting material. The red light emitting material may be a fluorescent material or a phosphorescent material. The red light emitting layer having a thickness of about 5 nm is, for example, 4,4-bis (2,2-diphenylvinyl) biphenyl ( DPVBi ) and 2,6-bis [(4'-methoxydiphenylamino) styryl] -1. , 5-Dicyanonaphthalene (BSN) mixed in an amount of 30% by mass.

緑色発光層では、電界が加わることにより、第1電極層31から注入された正孔の一部と、第2電極層32から注入された電子の一部とが再結合して、緑色の光が発生する。このような緑色発光層は、例えば、緑色発光材料、正孔輸送性材料、電子輸送性材料及び両電荷輸送性材料の内、少なくとも1種の材料を含んでいる。緑色発光材料は、蛍光性の材料であってもよいし、燐光性の材料であってもよい。厚さが10nm程度の緑色発光層は、例えば、DPVBiに、クマリン6を5質量%混合したものから成る。 In the green light emitting layer, when an electric field is applied, a part of the holes injected from the first electrode layer 31 and a part of the electrons injected from the second electrode layer 32 are recombined to form green light. Occurs. Such a green light emitting layer contains, for example, at least one of a green light emitting material, a hole transporting material, an electron transporting material, and a bicharge transporting material. The green light emitting material may be a fluorescent material or a phosphorescent material. The green light emitting layer having a thickness of about 10 nm is made of, for example, DPVBi mixed with 5% by mass of coumarin 6.

青色発光層では、電界が加わることにより、第1電極層31から注入された正孔の一部と、第2電極層32から注入された電子の一部とが再結合して、青色の光が発生する。このような青色発光層は、例えば、青色発光材料、正孔輸送性材料、電子輸送性材料及び両電荷輸送性材料の内、少なくとも1種の材料を含んでいる。青色発光材料は、蛍光性の材料であってもよいし、燐光性の材料であってもよい。厚さが30nm程度の青色発光層は、例えば、DPVBiに、4,4’-ビス[2-{4-(N,N-ジフェニルアミノ)フェニル}ビニル]ビフェニル(DPAVBi)を2.5質量%混合したものから成る。 In the blue light emitting layer, when an electric field is applied, a part of the holes injected from the first electrode layer 31 and a part of the electrons injected from the second electrode layer 32 are recombined to form blue light. Occurs. Such a blue light emitting layer contains, for example, at least one of a blue light emitting material, a hole transporting material, an electron transporting material, and a bicharge transporting material. The blue light emitting material may be a fluorescent material or a phosphorescent material. For the blue light emitting layer having a thickness of about 30 nm, for example, 2.5% by mass of 4,4'-bis [2- {4- (N, N-diphenylamino) phenyl} vinyl] biphenyl (DPAVBi) is added to DPVBi. It consists of a mixture.

厚さが20nm程度の電子輸送層は、例えば、8-ヒドロキシキノリンアルミニウム(Alq3)から成る。厚さが0.3nm程度の電子注入層は、例えば、LiFあるいはLi2O等から成る。 The electron transport layer having a thickness of about 20 nm is made of, for example, 8-hydroxyquinoline aluminum (Alq3). The electron injection layer having a thickness of about 0.3 nm is made of, for example, LiF or Li 2 O.

但し、各層を構成する材料は例示であり、これらの材料に限定するものではない。また、例えば、発光層は、青色発光層と黄色発光層から構成されていてもよいし、青色発光層と橙色発光層から構成されていてもよい。 However, the materials constituting each layer are examples and are not limited to these materials. Further, for example, the light emitting layer may be composed of a blue light emitting layer and a yellow light emitting layer, or may be composed of a blue light emitting layer and an orange light emitting layer.

発光素子は、有機層33を共振部とした共振器構造を有している。発光面から反射面迄の距離(具体的には、発光面から第1電極層31及び第2電極層32迄の距離)を適切に調整するために、有機層33の厚さは、8×10-8m以上、5×10-7m以下であることが好ましく、1.5×10-7m以上、3.5×10-7m以下であることがより好ましい。共振器構造を有する有機EL表示装置にあっては、実際には、赤色発光素子10Rは、発光層で発光した赤色光を共振させて、赤味がかった光(赤色の領域に光スペクトルのピークを有する光)を第2電極層32から出射する。また、緑色発光素子10Gは、発光層で発光した緑色光を共振させて、緑味がかった光(緑色の領域に光スペクトルのピークを有する光)を第2電極層32から出射する。更には、青色発光素子10Bは、発光層で発光した青色光を共振させて、青味がかった光(青色の領域に光スペクトルのピークを有する光)を第2電極層32から出射する。 The light emitting element has a resonator structure with the organic layer 33 as a resonance portion. In order to appropriately adjust the distance from the light emitting surface to the reflecting surface (specifically, the distance from the light emitting surface to the first electrode layer 31 and the second electrode layer 32), the thickness of the organic layer 33 is 8 ×. It is preferably 10 -8 m or more and 5 × 10 -7 m or less, and more preferably 1.5 × 10 -7 m or more and 3.5 × 10 -7 m or less. In an organic EL display device having a resonator structure, in reality, the red light emitting element 10R resonates the red light emitted in the light emitting layer to cause reddish light (the peak of the optical spectrum in the red region). Light) is emitted from the second electrode layer 32. Further, the green light emitting element 10G resonates the green light emitted in the light emitting layer, and emits greenish light (light having a peak in the optical spectrum in the green region) from the second electrode layer 32. Further, the blue light emitting element 10B resonates the blue light emitted in the light emitting layer, and emits bluish light (light having a peak in the optical spectrum in the blue region) from the second electrode layer 32.

以下、基体等の模式的な一部端面図である図16A、図16B、図16C、図17A、図17B、並びに、図18A及び図18Bを参照して、図1に示した実施例1の発光素子の製造方法の概要を説明する。 Hereinafter, Example 1 shown in FIG. 1 with reference to FIGS. 16A, 16B, 16C, 17A, 17B, and 18A and 18B, which are schematic partial end views of the substrate and the like. The outline of the manufacturing method of the light emitting element will be described.

[工程-100]
先ず、シリコン半導体基板(第1基板11)に発光素子駆動部を公知のMOSFET製造プロセスに基づき形成する。
[Step-100]
First, a light emitting element driving unit is formed on a silicon semiconductor substrate (first substrate 11) based on a known MOSFET manufacturing process.

[工程-110]
次いで、CVD法に基づき全面に基体(層間絶縁層)26を形成する。
[Process-110]
Next, a substrate (interlayer insulating layer) 26 is formed on the entire surface based on the CVD method.

[工程-120]
次に、発光素子を形成すべき基体26の部分に、凹部27を形成する。具体的には、SiO2から成る基体26の上にSiNから成るマスク層51を形成し、マスク層51の上に、凹部を形成するための形状を付与したレジスト層52を形成する(図16A及び図16B参照)。そして、レジスト層52及びマスク層51をエッチバックすることで、レジスト層52に形成された形状をマスク層51に転写する(図16C参照)。次いで、全面にレジスト層53を形成した後(図17A参照)、レジスト層53、マスク層51及び基体26をエッチバックすることで、基体26に凹部27を形成することができる(図17B参照)。レジスト層53の材料を、適宜、選択し、しかも、レジスト層53、マスク層51及び基体26をエッチバックするときのエッチング条件を適切に設定することで、具体的には、レジスト層53のエッチング速度がマスク層51のエッチング速度よりも遅い材料系及びエッチング条件を選択することで、基体26に凹部27を形成することができる。
[Step-120]
Next, the recess 27 is formed in the portion of the substrate 26 on which the light emitting element is to be formed. Specifically, a mask layer 51 made of SiN is formed on a substrate 26 made of SiO 2 , and a resist layer 52 having a shape for forming a recess is formed on the mask layer 51 (FIG. 16A). And FIG. 16B). Then, by etching back the resist layer 52 and the mask layer 51, the shape formed on the resist layer 52 is transferred to the mask layer 51 (see FIG. 16C). Next, after forming the resist layer 53 on the entire surface (see FIG. 17A), the recess 27 can be formed in the substrate 26 by etching back the resist layer 53, the mask layer 51, and the substrate 26 (see FIG. 17B). .. Specifically, by appropriately selecting the material of the resist layer 53 and appropriately setting the etching conditions for etching back the resist layer 53, the mask layer 51, and the substrate 26, the resist layer 53 is etched. By selecting a material system and etching conditions whose rate is slower than the etching rate of the mask layer 51, the recess 27 can be formed in the substrate 26.

あるいは又、基体26の上に開口部55を有するレジスト層54を形成する(図18A参照)。そして、開口部55を介して基体26をウェットエッチングすることで、基体26に凹部27を形成することができる(図18B参照)。 Alternatively, a resist layer 54 having an opening 55 is formed on the substrate 26 (see FIG. 18A). Then, by wet-etching the substrate 26 through the opening 55, the recess 27 can be formed in the substrate 26 (see FIG. 18B).

[工程-130]
その後、トランジスタ20の一方のソース/ドレイン領域の上方に位置する基体26の部分に、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術に基づき接続孔を形成する。そして、凹部27、接続孔を含む基体26の上に金属層を、例えば、スパッタリング法に基づき形成し、次いで、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術に基づき金属層をパターニングすることで、凹部27内を含む基体26の一部分の上に第1電極層31を形成することができる。第1電極層31は、各発光素子毎に分離されている。また、第1電極層31は、凹部27の頂面の形状に倣って形成されており、凹部27内においては同じ厚さを有する。併せて、接続孔内に第1電極層31とトランジスタ20とを電気的に接続するコンタクトホール(コンタクトプラグ)28を形成することができる。
[Process-130]
After that, a connection hole is formed in a portion of the substrate 26 located above one source / drain region of the transistor 20 based on a photolithography technique and an etching technique. Then, a metal layer is formed on the substrate 26 including the recess 27 and the connection hole by, for example, a sputtering method, and then the metal layer is patterned based on the photolithography technique and the etching technique to include the inside of the recess 27. The first electrode layer 31 can be formed on a part of the substrate 26. The first electrode layer 31 is separated for each light emitting element. Further, the first electrode layer 31 is formed following the shape of the top surface of the recess 27, and has the same thickness in the recess 27. At the same time, a contact hole (contact plug) 28 for electrically connecting the first electrode layer 31 and the transistor 20 can be formed in the connection hole.

[工程-140]
次に、例えば、CVD法に基づき、全面に絶縁層29を形成した後、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術に基づき、第1電極層31と第1電極層31との間の基体26の上に絶縁層29を残す。
[Process-140]
Next, for example, an insulating layer 29 is formed on the entire surface based on the CVD method, and then insulated on the substrate 26 between the first electrode layer 31 and the first electrode layer 31 based on the photolithography technique and the etching technique. Leave layer 29.

[工程-150]
その後、第1電極層31及び絶縁層29の上に、有機層33を、例えば、真空蒸着法やスパッタリング法といったPVD法、スピンコート法やダイコート法等のコーティング法等によって成膜する。場合によっては、有機層33を所望の形状にパターニングしてもよい。有機層33は、第1電極層31上に、第1電極層31の頂面の形状に倣って形成されており、凹部27内において同じ厚さを有する。
[Process-150]
After that, the organic layer 33 is formed on the first electrode layer 31 and the insulating layer 29 by, for example, a PVD method such as a vacuum vapor deposition method or a sputtering method, a coating method such as a spin coating method or a die coating method, or the like. In some cases, the organic layer 33 may be patterned into a desired shape. The organic layer 33 is formed on the first electrode layer 31 following the shape of the top surface of the first electrode layer 31, and has the same thickness in the recess 27.

[工程-160]
次いで、例えば真空蒸着法等に基づき、全面に第2電極層32を形成する。場合によっては、第2電極層32を所望の形状にパターニングしてもよい。このようにして、第1電極層31上に、有機層33及び第2電極層32を形成することができる。第2電極層32は 有機層33上に、有機層33の頂面の形状に倣って形成されており、凹部27内において同じ厚さを有する。
[Process-160]
Next, the second electrode layer 32 is formed on the entire surface based on, for example, a vacuum vapor deposition method. In some cases, the second electrode layer 32 may be patterned into a desired shape. In this way, the organic layer 33 and the second electrode layer 32 can be formed on the first electrode layer 31. The second electrode layer 32 is formed on the organic layer 33 following the shape of the top surface of the organic layer 33, and has the same thickness in the recess 27.

[工程-170]
その後、例えばALD法に基づき、全面に保護膜34を形成する。保護膜34は、第2電極層32上に、第2電極層32の頂面の形状に倣って形成されており、凹部27内においては同じ厚さを有する。次いで、塗布法に基づき、全面に平坦化層35を形成した後、平坦化層35の頂面を平坦化処理する。塗布法に基づき平坦化層35を形成することができるので、加工プロセスの制約が少なく、材料選択幅が広く、高屈折率材料の使用が可能となる。その後、周知の方法で、平坦化層35の上にカラーフィルタ層CFR,CFG,CFB、及び、ブラックマトリクス層BMを形成し、更に、カラーフィルタ層CFR,CFG,CFBの上にオンチップマイクロレンズ36を形成する。そして、カラーフィルタ層CFR,CFG,CFB及びオンチップマイクロレンズ36と第2基板41とをアクリル系接着剤から成る封止樹脂層37によって貼り合わせる。こうして、図3に示した有機EL表示装置を得ることができる。このように、第2基板側にカラーフィルタ層CFを設けるのではなく、第1基板側にカラーフィルタ層CFを設ける、所謂OCCF型とするので、有機層33とカラーフィルタ層CFとの間の距離を短くすることができ、オンチップマイクロレンズ36の設計幅、設計自由度が広がる。また、オンチップマイクロレンズ36を設けることで、隣接画素間の混色防止を図ることができるだけでなく、必要とされる視野角に応じて光を、適宜、発散させることができる。しかも、所謂OCCF型とするので、有機層33との間の位置合わせに問題が生じることもない。
[Process-170]
Then, for example, based on the ALD method, a protective film 34 is formed on the entire surface. The protective film 34 is formed on the second electrode layer 32 following the shape of the top surface of the second electrode layer 32, and has the same thickness in the recess 27. Next, based on the coating method, the flattening layer 35 is formed on the entire surface, and then the top surface of the flattening layer 35 is flattened. Since the flattening layer 35 can be formed based on the coating method, there are few restrictions on the processing process, the material selection range is wide, and a high refractive index material can be used. Then, by a well-known method, the color filter layers CFR , CFG , CF B , and the black matrix layer BM are formed on the flattening layer 35, and further, the color filter layers CFR , CFG , and CF B are formed. An on-chip microlens 36 is formed on the top. Then, the color filter layers CFR, CFG, CF B , the on-chip microlens 36, and the second substrate 41 are bonded together by a sealing resin layer 37 made of an acrylic adhesive. In this way, the organic EL display device shown in FIG. 3 can be obtained. As described above, since the so-called OCCF type is provided in which the color filter layer CF is provided on the first substrate side instead of providing the color filter layer CF on the second substrate side, the space between the organic layer 33 and the color filter layer CF is provided. The distance can be shortened, and the design width and design freedom of the on-chip microlens 36 are expanded. Further, by providing the on-chip microlens 36, it is possible not only to prevent color mixing between adjacent pixels, but also to appropriately dissipate light according to a required viewing angle. Moreover, since it is a so-called OCCF type, there is no problem in alignment with the organic layer 33.

凹部27の形状を変えることで、集光特性がどのように変化するかのシミュレーションを行った。具体的には、凹部が形成されておらず、第1電極層、有機層、第2電極層が平坦な積層構造を有している発光素子の集光特性、即ち、発光素子から出射される光のピーク強度を、基準値「1.00」とした。そして、実施例1の発光素子において、基体仮想平面に凹部27を正射影したときの凹部27の正射影像の形状を、直径4μmの円形とし、凹部27の底部、直径1.8μmの円形の領域において発光が生じると仮定した。そして、先ず、凹部27及び凹部27の上方は空気層で占められているとして、シミュレーションを行った。ここで、凹部27の深さを、1.0μm(条件-1)、1.5μm(条件-2)、2.0μm(条件-3)とした。各条件における発光素子の集光特性、即ち、発光素子から出射される光のピーク強度の値(相対ピーク強度)を、以下の表1に示す。 A simulation was performed to see how the light collection characteristics change by changing the shape of the recess 27. Specifically, the light emitting element has a light emitting element having a flat laminated structure in which the first electrode layer, the organic layer, and the second electrode layer are not formed with recesses, that is, the light is emitted from the light emitting element. The peak intensity of light was set to the reference value "1.00". Then, in the light emitting element of Example 1, the shape of the orthographic image of the recess 27 when the recess 27 is projected onto the virtual plane of the substrate is a circle with a diameter of 4 μm, and the bottom of the recess 27 is a circle with a diameter of 1.8 μm. It was assumed that light emission occurred in the region. Then, first, the simulation was performed assuming that the recess 27 and the upper part of the recess 27 are occupied by the air layer. Here, the depth of the recess 27 was set to 1.0 μm (condition-1), 1.5 μm (condition-2), and 2.0 μm (condition-3). The light-collecting characteristics of the light-emitting element under each condition, that is, the value of the peak intensity of the light emitted from the light-emitting element (relative peak intensity) are shown in Table 1 below.

次に、実施例1の発光素子と同じ構造とし、基体仮想平面に凹部27を正射影したときの凹部27の正射影像の形状を直径4μmの円形とし、平坦化層35の屈折率n1を2.00、保護層34の屈折率n2を1.50として、シミュレーションを行った。ここで、条件-4にあっては、凹部27の深さを1.5μm、基体仮想平面内における平坦化層の直径を3.0μmとし、条件-5にあっては、凹部27の深さを1.5μm、基体仮想平面内における平坦化層の直径を2.0μmとした。各条件における発光素子の集光特性、即ち、発光素子から出射される光のピーク強度の値(相対ピーク強度)を、以下の表1に示す。 Next, the structure is the same as that of the light emitting element of the first embodiment, the shape of the orthographic image of the recess 27 when the recess 27 is projected onto the virtual plane of the substrate is a circle with a diameter of 4 μm, and the refractive index n 1 of the flattening layer 35. Was 2.00, and the refractive index n 2 of the protective layer 34 was 1.50, and the simulation was performed. Here, under condition -4, the depth of the recess 27 is 1.5 μm, the diameter of the flattening layer in the virtual plane of the substrate is 3.0 μm, and under condition -5, the depth of the recess 27 is Was 1.5 μm, and the diameter of the flattening layer in the virtual plane of the substrate was 2.0 μm. The light-collecting characteristics of the light-emitting element under each condition, that is, the value of the peak intensity of the light emitted from the light-emitting element (relative peak intensity) are shown in Table 1 below.

〈表1〉
Dp/R 相対ピーク強度
条件-1 0.25 1.46
条件-2 0.38 2.34
条件-3 0.50 1.75
条件-4 0.25 1.14
条件-5 0.25 3.50
<Table 1>
Dp / R Relative peak intensity condition-1 0.25 1.46
Condition-2 0.38 2.34
Condition-3 0.50 1.75
Condition-4 0.25 1.14
Condition -5 0.25 3.50

凹部27を形成することで、平坦な積層構造を有する従来の発光素子と比較して、条件-1~条件-3にあっては、最大で正面輝度が2.3倍となることを確認できた。基本的に凹部27の大きさは画素ピッチに依るので、画素ピッチが変化してもこの比率(Dp/R)を保てば、同等の効果が得られると考える。更には、実施例1の構造を有する発光素子とすることで、更に3.5倍の集光特性の向上(条件-5参照)を確認することができた。 By forming the recess 27, it can be confirmed that the front luminance is up to 2.3 times higher under the conditions -1 to -3 as compared with the conventional light emitting element having a flat laminated structure. rice field. Since the size of the recess 27 basically depends on the pixel pitch, it is considered that the same effect can be obtained if this ratio (Dp / R) is maintained even if the pixel pitch changes. Furthermore, by using a light emitting device having the structure of Example 1, it was possible to confirm that the light collecting characteristics were further improved by 3.5 times (see condition-5).

実施例1の発光素子にあっては、基体の表面に凹部が設けられ、第1電極層、有機層、第2電極層は、実質的に凹部の頂面の形状に倣って形成されている。そして、このように凹部が形成されているので、凹部を一種の凹面鏡として機能させることができる結果、正面光取り出し効率の向上を図ることが可能となり、電流-発光効率が格段に向上し、しかも、製造工程が大幅に増加することがない。また、有機層の厚さが一定の厚さであるので、共振器構造を容易に形成することができる。更には、第1電極層の厚さが一定の厚さであるので、第1電極層の厚さ変化に起因して、表示装置を眺める角度に依存した第1電極層の色付きや輝度変化といった現象の発生を抑制することができる。 In the light emitting device of the first embodiment, a recess is provided on the surface of the substrate, and the first electrode layer, the organic layer, and the second electrode layer are formed substantially following the shape of the top surface of the recess. .. Since the concave portion is formed in this way, the concave portion can function as a kind of concave mirror, and as a result, the front light extraction efficiency can be improved, and the current-luminous efficiency is significantly improved. , The manufacturing process does not increase significantly. Further, since the thickness of the organic layer is constant, the resonator structure can be easily formed. Furthermore, since the thickness of the first electrode layer is constant, the coloration and brightness change of the first electrode layer depending on the viewing angle of the display device due to the change in the thickness of the first electrode layer. The occurrence of the phenomenon can be suppressed.

尚、図1等において、凹部27以外の領域も、第1電極層32、有機層33及び第2電極層32の積層構造から構成されているので、この領域からも光が出射される。これによって、集光効率の低下、隣接画素からの光漏れによる単色色度の低下が生じる可能性がある。ここで、絶縁層29と電極層31との境界が発光エリア端となるので、この境界を最適化することで光が出射される領域の最適化を図ればよい。
In FIG. 1 and the like, the region other than the recess 27 is also composed of the laminated structure of the first electrode layer 32, the organic layer 33, and the second electrode layer 32, so that light is emitted from this region as well. This may result in a decrease in light collection efficiency and a decrease in monochromatic chromaticity due to light leakage from adjacent pixels. Here, since the boundary between the insulating layer 29 and the electrode layer 31 is the light emitting area end, the area where light is emitted may be optimized by optimizing this boundary.

特に画素ピッチの小さいマイクロディスプレイにおいては、凹部の深さを浅くして有機層を凹部内に形成しても、高い正面光取り出し効率を達成することができるので、今後のモバイル向け用途への適用に適している。実施例1のシミュレーション結果では、従来の発光素子と比較して、3.5倍、電流―発光効率が向上し、発光素子、表示装置の長寿命化、高輝度化が実現可能である。また、アイウエア、AR(拡張現実,Augmented Reality)グラス、EVRへの用途が格段に広がる。 Especially in a micro display with a small pixel pitch, high front light extraction efficiency can be achieved even if the depth of the recess is made shallow and an organic layer is formed in the recess, so it will be applied to future mobile applications. Suitable for. In the simulation result of Example 1, the current-luminous efficiency is improved by 3.5 times as compared with the conventional light emitting element, and the life of the light emitting element and the display device can be extended and the brightness can be increased. In addition, the applications for eyewear, AR (Augmented Reality) glass, and EVR will be greatly expanded.

凹部の深さは深いほど、有機層から出射され、第1電極層によって反射された光を発光素子の中心側に向かう方向に集光することができる。しかしながら、凹部の深さが深い場合、凹部の上部における有機層の形成が困難となる場合がある。然るに、保護膜及び平坦化層によって内部レンズが形成されているので、凹部の深さが浅くとも、第1電極層によって反射された光を発光素子の中心側に向かう方向に集光することができ、正面光取り出し効率の一層の向上を図ることができる。しかも、内部レンズは有機層に対して自己整合的に(セルフ・アラインで)形成されるが故に、有機層と内部レンズとの間に位置合わせバラツキが生じることがない。また、凹部及び内部レンズの形成により、カラーフィルタ層を通過する光の基体仮想平面に対する角度を大きくすることができるので、隣接画素間の混色発生を効果的に防止することができる。そして、これによって、隣接画素間の光学混色に起因した色域低下が改善されるため、表示装置の色域の向上を図ることができる。また、一般に、発光層とレンズとを近づけるほど、効率良く広角に光を広げることができるが、内部レンズと発光層との間の距離が非常に短いので、発光素子の設計幅、設計自由度が広がる。しかも、保護膜の厚さや材料を適切に選択することで、内部レンズと発光層との間の距離や内部レンズの曲率を変えることができ、発光素子の設計幅、設計自由度が一層広がる。更には、内部レンズの形成には熱処理が不要であるので、有機層にダメージが生じることもない。 The deeper the recess is, the light emitted from the organic layer and reflected by the first electrode layer can be focused in the direction toward the center of the light emitting element. However, if the depth of the recess is deep, it may be difficult to form an organic layer in the upper part of the recess. However, since the internal lens is formed by the protective film and the flattening layer, even if the depth of the recess is shallow, the light reflected by the first electrode layer can be focused in the direction toward the center of the light emitting element. This makes it possible to further improve the efficiency of extracting front light. Moreover, since the internal lens is formed in a self-aligned manner with respect to the organic layer, there is no misalignment between the organic layer and the internal lens. Further, since the angle of the light passing through the color filter layer with respect to the virtual plane of the substrate can be increased by forming the concave portion and the internal lens, it is possible to effectively prevent the occurrence of color mixing between adjacent pixels. As a result, the color gamut deterioration caused by the optical color mixing between the adjacent pixels is improved, so that the color gamut of the display device can be improved. In general, the closer the light emitting layer and the lens are, the more efficiently the light can be spread over a wide angle. However, since the distance between the internal lens and the light emitting layer is very short, the design width and design freedom of the light emitting element Spreads. Moreover, by appropriately selecting the thickness and material of the protective film, the distance between the internal lens and the light emitting layer and the curvature of the internal lens can be changed, further expanding the design width and design freedom of the light emitting element. Furthermore, since no heat treatment is required to form the internal lens, the organic layer is not damaged.

図1に示した例では、凹部27の軸線AXを含む仮想平面で凹部27を切断したときの凹部27の断面形状を滑らかな曲線としたが、図4に示すように、断面形状を、台形の一部とすることもできるし、あるいは又、図5に示すように、直線状の斜面27Bと滑らかな曲線から成る底部27Cとの組み合わせとすることもできる。凹部27の断面形状をこれらの形状とすることで、斜面27Bの傾斜角を大きくすることができる結果、凹部27の深さが浅い形状であっても、有機層33から出射され、第1電極層31で反射される光の正面方向への取り出しを向上させることができる。 In the example shown in FIG. 1, the cross-sectional shape of the recess 27 when the recess 27 is cut in the virtual plane including the axis AX of the recess 27 is a smooth curve, but as shown in FIG. 4, the cross-sectional shape is trapezoidal. It can be part of, or it can be a combination of a straight slope 27B and a bottom 27C consisting of a smooth curve, as shown in FIG. By making the cross-sectional shape of the recess 27 into these shapes, the inclination angle of the slope 27B can be increased, and as a result, even if the depth of the recess 27 is shallow, it is emitted from the organic layer 33 and is emitted from the first electrode. It is possible to improve the frontal extraction of the light reflected by the layer 31.

実施例2は、実施例1の変形である。実施例1にあっては、平坦化層35の上にカラーフィルタ層CFR,CFG,CFBを形成した。一方、実施例2の発光素子にあっては、模式的な一部端面図を図6に示すように、平坦化層35(35R,35G,35B)はカラーフィルタとしての機能を有する。カラーフィルタ層CFR,CFG,CFBの形成は省略することができる。カラーフィルタとしての機能を有する平坦化層35は、周知のカラーレジスト材料から構成されている。これによって、集光と色分離を兼ねる構造とすることができるし、カラーフィルタとしての機能を有する平坦化層35と有機層33とが接近しているので、発光素子から出射する光を広角化させても混色の防止を効果的に図ることができ、視野角特性が向上する。以上の点を除き、実施例2の発光素子の構成、構造は、実施例1の発光素子の構成、構造と同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。 Example 2 is a modification of Example 1. In Example 1, the color filter layers CFR , CFG , and CFB were formed on the flattening layer 35. On the other hand, in the light emitting element of the second embodiment, as shown in FIG. 6, a schematic partial end view, the flattening layer 35 (35 R , 35 G , 35 B ) has a function as a color filter. .. The formation of the color filter layers CFR , CFG , and CFB can be omitted. The flattening layer 35 having a function as a color filter is made of a well-known color resist material. As a result, it is possible to have a structure that has both light collection and color separation, and since the flattening layer 35 having a function as a color filter and the organic layer 33 are close to each other, the light emitted from the light emitting element is widened. Even if this is done, color mixing can be effectively prevented and the viewing angle characteristics are improved. Except for the above points, the configuration and structure of the light emitting element of Example 2 can be the same as the configuration and structure of the light emitting element of Example 1, so detailed description thereof will be omitted.

実施例3も、実施例1の変形である。図7、図8及び図9に、実施例3の表示装置における実施例3の発光素子の模式的な一部端面図を示すが、図7は、例えば、表示装置の中央部に位置する発光素子を示し、図8は、例えば、表示装置の一端部に位置する発光素子を示し、図9は、例えば、表示装置の他端部に位置する発光素子を示す。図7、図8、図9、図10、図11及び図12においては、コンタクトホール(コンタクトプラグ)28の図示を省略する。 Example 3 is also a modification of Example 1. 7, 8 and 9 show a schematic partial end view of the light emitting element of the third embodiment in the display device of the third embodiment, and FIG. 7 shows, for example, a light emitting device located in the center of the display device. An element is shown, FIG. 8 shows, for example, a light emitting element located at one end of a display device, and FIG. 9 shows, for example, a light emitting element located at the other end of the display device. In FIGS. 7, 8, 9, 10, 11, and 12, the contact hole (contact plug) 28 is not shown.

実施例3の発光素子において、第1電極層31は有機層33の一部と接している。この場合、具体的には、第1電極層31の大きさは有機層33よりも小さい構成とすることができるし、第1電極層31の大きさは有機層33よりも大きい構成とすることができる。図示した例では、第1電極層31の大きさは有機層33よりも小さい。そして、平坦化層35の上にはカラーフィルタ層CFが形成されており、凹部27の軸線AXから、有機層33と接する第1電極層31の中心点(正射影中心点)に向かう方向(正射影方向)と、凹部27の軸線AXからカラーフィルタ層CFの中心点(正射影中心点)に向かう方向(正射影方向)とは、逆方向の関係にある。また、凹部27の軸線AXから、有機層33と接する第1電極層31の正射影中心点までの距離(正射影距離)PL1、及び、凹部27の軸線AXからカラーフィルタ層CFの正射影中心点までの距離(正射影距離)PL2は、発光素子が表示装置の周辺部に位置するほど、大きな値である。更には、第1電極層31の正射影中心点、有機層33の正射影中心点及びカラーフィルタ層CFの軸線AXと基体仮想平面との交点は、概ね一直線上に位置する。中心点を「×」印で示す。以上に説明した形態と、次に説明する形態とは、個々別々に発光素子に適用することもできる。 In the light emitting device of Example 3, the first electrode layer 31 is in contact with a part of the organic layer 33. In this case, specifically, the size of the first electrode layer 31 may be smaller than that of the organic layer 33, and the size of the first electrode layer 31 may be larger than that of the organic layer 33. Can be done. In the illustrated example, the size of the first electrode layer 31 is smaller than that of the organic layer 33. A color filter layer CF is formed on the flattening layer 35, and the direction (normal projection center point) from the axis AX of the recess 27 toward the center point (orthographic projection center point) of the first electrode layer 31 in contact with the organic layer 33 ( The orthographic projection direction) and the direction (orthographic projection direction) from the axis AX of the recess 27 toward the center point (orthographic projection center point) of the color filter layer CF have an opposite relationship. Further, the distance (orthographic projection distance) PL 1 from the axis AX of the recess 27 to the orthographic projection center point of the first electrode layer 31 in contact with the organic layer 33, and the orthographic projection of the color filter layer CF from the axis AX of the recess 27. The distance to the center point (orthographic projection distance) PL 2 is a larger value as the light emitting element is located in the peripheral portion of the display device. Further, the orthographic projection center point of the first electrode layer 31, the orthographic projection center point of the organic layer 33, and the intersection of the axis AX of the color filter layer CF and the virtual plane of the substrate are located substantially on a straight line. The center point is indicated by an "x". The form described above and the form described below can be individually applied to the light emitting element.

あるいは又、実施例3の発光素子において、平坦化層35の頂面又は上方にオンチップマイクロレンズ36が設けられており、第1電極層31は有機層33の一部と接しており、凹部27の軸線AXから、有機層33と接する第1電極層31の中心点(正射影中心点)に向かう方向(正射影方向)と、凹部27の軸線AXからオンチップマイクロレンズ36の中心点(正射影中心点)に向かう方向(正射影方向)とは、逆方向の関係にある。第1電極層31の大きさは有機層33よりも小さい構成とすることができるし、あるいは又、第1電極層31の大きさは有機層33と同じ大きさであるが、第1電極層31と有機層33との間の一部分に、絶縁材料膜61が形成されている構成とすることもできるし、あるいは又、第1電極層31の大きさは有機層33より大きい構成とすることもできる。そして、オンチップマイクロレンズ36は、凹部27よりも大きい。凹部27の軸線AXから第1電極層31の中心点(正射影中心点)までの距離(正射影距離)PL1’、及び、凹部27の軸線AXからオンチップマイクロレンズ36の中心点(正射影中心点)までの距離(正射影距離)PL2’は、発光素子が表示装置の周辺部に位置するほど、大きな値である。第1電極層31の正射影中心点、有機層33の正射影中心点及びオンチップマイクロレンズ36の正射影中心点は、概ね一直線上に位置する。 Alternatively, in the light emitting device of Example 3, an on-chip microlens 36 is provided on the top surface or above the flattening layer 35, and the first electrode layer 31 is in contact with a part of the organic layer 33 and is recessed. The direction (orthographic projection direction) from the axis AX of 27 toward the center point (orthographic projection center point) of the first electrode layer 31 in contact with the organic layer 33, and the center point of the on-chip microlens 36 from the axis AX of the recess 27 (normal projection direction). The direction toward (orthographic projection center point) (orthographic projection direction) is in the opposite direction. The size of the first electrode layer 31 can be smaller than that of the organic layer 33, or the size of the first electrode layer 31 is the same as that of the organic layer 33, but the first electrode layer is formed. The insulating material film 61 may be formed in a part between the 31 and the organic layer 33, or the size of the first electrode layer 31 may be larger than that of the organic layer 33. You can also. The on-chip microlens 36 is larger than the recess 27. The distance (orthographic projection distance) PL 1'from the axis AX of the recess 27 to the center point (orthographic projection center point) of the first electrode layer 31, and the center point (positive) of the on-chip microlens 36 from the axis AX of the recess 27. The distance to the projection center point (orthographic projection distance) PL 2'is larger as the light emitting element is located in the peripheral portion of the display device. The orthographic projection center point of the first electrode layer 31, the orthographic projection center point of the organic layer 33, and the orthographic projection center point of the on-chip microlens 36 are located substantially on a straight line.

このように、表示装置における発光素子の位置に応じて凹部27内における発光位置を変えることで、発光素子の光軸OAを、表示装置における発光素子の位置に応じて変えることができる。そして、これによって、表示装置からの画像をレンズ等の光学手段(図示せず)を用いて拡大して表示する場合、表示装置を構成する発光素子と光学手段との間の配置角度に応じて、実施例3の表示装置を適用すれば、光学手段越しの輝度分布改善や混色発生を回避することができる。 In this way, by changing the light emitting position in the recess 27 according to the position of the light emitting element in the display device, the optical axis OA of the light emitting element can be changed according to the position of the light emitting element in the display device. Then, when the image from the display device is enlarged and displayed by using an optical means (not shown) such as a lens, the image is displayed according to the arrangement angle between the light emitting element constituting the display device and the optical means. If the display device of the third embodiment is applied, it is possible to improve the luminance distribution through the optical means and avoid the occurrence of color mixing.

図10、図11及び図12に示すように、凹部27内における第1電極層31の大きさは有機層33と同じ大きさであるが、第1電極層31と有機層33との間の一部分に絶縁材料膜61が形成されている構成とすることもできる。絶縁材料膜61は、絶縁層29の延在部から構成することもできる。 As shown in FIGS. 10, 11 and 12, the size of the first electrode layer 31 in the recess 27 is the same as that of the organic layer 33, but between the first electrode layer 31 and the organic layer 33. The insulating material film 61 may be formed in a part thereof. The insulating material film 61 can also be composed of an extending portion of the insulating layer 29.

以上、本開示を好ましい実施例に基づき説明したが、本開示はこれらの実施例に限定するものではない。実施例において説明した表示装置(有機EL表示装置)、発光素子(有機EL素子)の構成、構造の構成は例示であり、適宜、変更することができるし、表示装置の製造方法も例示であり、適宜、変更することができる。例えば、実施例1の発光素子の変形例の模式的な一部端面図を図13に示すように、凹部27の底部にのみ有機層33を形成してもよい。場合によっては、保護膜を設けなくともよい。そして、この場合には、有機層33と平坦化層35とによって、あるいは又、第2電極層32と平坦化層35とによって、内部レンズを形成すればよい。 Although the present disclosure has been described above based on preferred examples, the present disclosure is not limited to these examples. The configuration and structure of the display device (organic EL display device) and the light emitting element (organic EL element) described in the examples are examples, which can be appropriately changed, and the manufacturing method of the display device is also an example. , Can be changed as appropriate. For example, as shown in FIG. 13, a schematic partial end view of a modified example of the light emitting element of the first embodiment may form the organic layer 33 only at the bottom of the recess 27. In some cases, it is not necessary to provide a protective film. Then, in this case, the internal lens may be formed by the organic layer 33 and the flattening layer 35, or by the second electrode layer 32 and the flattening layer 35.

実施例においては、専ら、白色発光素子とカラーフィルタ層の組合せから3つの副画素から1つの画素を構成したが、例えば、白色を出射する発光素子を加えた4つの副画素から1つの画素を構成してもよい。あるいは又、発光素子は、有機層が赤色を生じさせる赤色発光素子、有機層が緑色を生じさせる緑色発光素子、有機層が青色を生じさせる青色発光素子とし、これらの3種類の発光素子(副画素)を組み合わせることで、1つの画素を構成してもよい。実施例においては、発光素子駆動部をMOSFETから構成したが、TFTから構成することもできる。第1電極層や第2電極層を、単層構造としてもよいし、多層構造としてもよい。 In the embodiment, one pixel is configured from three sub-pixels exclusively from the combination of the white light emitting element and the color filter layer, but for example, one pixel is formed from four sub-pixels including a light emitting element that emits white. It may be configured. Alternatively, the light emitting element is a red light emitting element in which the organic layer produces red, a green light emitting element in which the organic layer produces green, and a blue light emitting element in which the organic layer produces blue, and these three types of light emitting elements (secondary). Pixels) may be combined to form one pixel. In the embodiment, the light emitting element drive unit is composed of MOSFET, but it can also be composed of TFT. The first electrode layer and the second electrode layer may have a single-layer structure or a multi-layer structure.

或る発光素子に隣接した発光素子に、或る発光素子から出射した光が侵入し、光学的クロストークが発生することを防止するために、発光素子と発光素子との間に遮光層を設けてもよい。即ち、発光素子と発光素子との間に溝部を形成し、この溝部を遮光材料で埋め込んで遮光層を形成してもよい。このように遮光層を設ければ、或る発光素子から出射した光が隣接発光素子に侵入する割合を低減させることができ、混色が発生し、画素全体の色度が所望の色度からずれてしまうといった現象の発生を抑制することができる。そして、混色を防止することができるので、画素を単色発光させたときの色純度が増加し、色度点が深くなる。それ故、色域が広くなり、表示装置の色表現の幅が広がる。また、色純度を上げるため各画素に対してカラーフィルタ層を配置しているが、発光素子の構成に依っては、カラーフィルタ層の薄膜化若しくはカラーフィルタ層の省略が可能となり、カラーフィルタ層で吸収されていた光を取り出すことが可能となり、結果として発光効率の向上につながる。あるいは又、ブラックマトリクス層BMに遮光性を付与してもよい。 A light-shielding layer is provided between the light-emitting element and the light-emitting element in order to prevent the light emitted from the light-emitting element from invading the light-emitting element adjacent to the light-emitting element and causing optical crosstalk. You may. That is, a groove may be formed between the light emitting element and the light emitting element, and the groove may be embedded with a light shielding material to form a light shielding layer. By providing the light-shielding layer in this way, the rate at which the light emitted from a certain light-emitting element penetrates into the adjacent light-emitting element can be reduced, color mixing occurs, and the chromaticity of the entire pixel deviates from the desired chromaticity. It is possible to suppress the occurrence of such a phenomenon. Since the color mixing can be prevented, the color purity when the pixel is made to emit a single color is increased, and the chromaticity point is deepened. Therefore, the color gamut is widened, and the range of color expression of the display device is widened. Further, a color filter layer is arranged for each pixel in order to increase the color purity. However, depending on the configuration of the light emitting element, the color filter layer can be thinned or the color filter layer can be omitted, and the color filter layer can be omitted. It becomes possible to take out the light absorbed in the above, and as a result, the light emission efficiency is improved. Alternatively, the black matrix layer BM may be imparted with light-shielding properties.

本開示の表示装置をレンズ交換式一眼レフレックスタイプのデジタルスチルカメラに適用することができる。デジタルスチルカメラの正面図を図19Aに示し、背面図を図19Bに示す。このレンズ交換式一眼レフレックスタイプのデジタルスチルカメラは、例えば、カメラ本体部(カメラボディ)211の正面右側に交換式の撮影レンズユニット(交換レンズ)212を有し、正面左側に撮影者が把持するためのグリップ部213を有している。そして、カメラ本体部211の背面略中央にはモニタ214が設けられている。モニタ214の上部には、電子ビューファインダ(接眼窓)215が設けられている。撮影者は、電子ビューファインダ215を覗くことによって、撮影レンズユニット212から導かれた被写体の光像を視認して構図決定を行うことが可能である。このような構成のレンズ交換式一眼レフレックスタイプのデジタルスチルカメラにおいて、電子ビューファインダ215として本開示の表示装置を用いることができる。 The display device of the present disclosure can be applied to an interchangeable lens type single-lens reflex type digital still camera. A front view of the digital still camera is shown in FIG. 19A, and a rear view is shown in FIG. 19B. This interchangeable lens single-lens reflex type digital still camera has, for example, an interchangeable photographing lens unit (interchangeable lens) 212 on the front right side of the camera body (camera body) 211, and is grasped by the photographer on the front left side. It has a grip portion 213 for using the lens. A monitor 214 is provided substantially in the center of the back surface of the camera body 211. An electronic viewfinder (eyepiece window) 215 is provided above the monitor 214. By looking into the electronic viewfinder 215, the photographer can visually recognize the optical image of the subject guided from the photographing lens unit 212 and determine the composition. In the interchangeable-lens single-lens reflex type digital still camera having such a configuration, the display device of the present disclosure can be used as the electronic viewfinder 215.

あるいは又、本開示の表示装置をヘッドマウントディスプレイに適用することができる。図20に外観図を示すように、ヘッドマウントディスプレイ300は、本体部301、アーム部302及び鏡筒303を有する透過式ヘッドマウントディスプレイから構成されている。本体部301は、アーム部302及び眼鏡310と接続されている。具体的には、本体部301の長辺方向の端部はアーム部302に取り付けられている。また、本体部301の側面の一方側は、接続部材(図示せず)を介して眼鏡310に連結されている。尚、本体部301は、直接的に人体の頭部に装着されてもよい。本体部301は、ヘッドマウントディスプレイ300の動作を制御するための制御基板や表示部を内蔵している。アーム部302は、本体部301と鏡筒303とを連結させることで、本体部301に対して鏡筒303を支える。具体的には、アーム部302は、本体部301の端部及び鏡筒303の端部と結合されることで、本体部301に対して鏡筒303を固定する。また、アーム部302は、本体部301から鏡筒303に提供される画像に係るデータを通信するための信号線を内蔵している。鏡筒303は、本体部301からアーム部302を経由して提供される画像光を、眼鏡310のレンズ311を透して、ヘッドマウントディスプレイ300を装着するユーザの目に向かって投射する。上記の構成のヘッドマウントディスプレイ300において、本体部301に内蔵される表示部として、本開示の表示装置を用いることができる。

Alternatively, the display device of the present disclosure can be applied to a head-mounted display. As shown in the external view in FIG. 20, the head-mounted display 300 is composed of a transmissive head-mounted display having a main body portion 301, an arm portion 302, and a lens barrel 303. The main body 301 is connected to the arm 302 and the glasses 310. Specifically, the end portion of the main body portion 301 in the long side direction is attached to the arm portion 302. Further, one side of the side surface of the main body 301 is connected to the glasses 310 via a connecting member (not shown). The main body 301 may be directly attached to the head of the human body. The main body 301 has a built-in control board and display for controlling the operation of the head-mounted display 300. The arm portion 302 supports the lens barrel 303 with respect to the main body 301 by connecting the main body 301 and the lens barrel 303. Specifically, the arm portion 302 is coupled to the end portion of the main body portion 301 and the end portion of the lens barrel 303 to fix the lens barrel 303 to the main body 301. Further, the arm portion 302 has a built-in signal line for communicating data related to an image provided from the main body portion 301 to the lens barrel 303. The lens barrel 303 projects the image light provided from the main body portion 301 via the arm portion 302 through the lens 311 of the spectacles 310 toward the eyes of the user who wears the head-mounted display 300. In the head-mounted display 300 having the above configuration, the display device of the present disclosure can be used as the display unit built in the main body unit 301.

尚、本開示は、以下のような構成を取ることもできる。
[A01]《発光素子》
基体、
基体の表面に設けられた凹部、
少なくとも一部分が凹部の頂面の形状に倣って形成された第1電極層、
第1電極層上に、少なくとも一部分が第1電極層の頂面の形状に倣って形成された有機層、
有機層上に、有機層の頂面の形状に倣って形成された第2電極層、及び、
第2電極層上に形成された平坦化層、
を少なくとも備えており、
有機層からの光が第2電極層及び平坦化層を介して外部に出射される発光素子。
[A02]第2電極層と平坦化層との間に保護膜が形成されている[A01]に記載の発光素子。
[A03]保護膜は第2電極層の頂面の形状に倣って形成されている[A02]に記載の発光素子。
[A04]平坦化層を構成する材料の屈折率をn1、保護膜を構成する材料の屈折率をn2としたとき、n1>n2を満足する[A02]又は[A03]に記載の発光素子。
[A05](n1-n2)は0.1乃至0.6を満足する[A04]に記載の発光素子。
[A06]有機層から出射され、第2電極層を介して平坦化層に入射するときの光の入射角をθi、平坦化層に入射した光の屈折角をθrとしたとき、|θr|≠0の場合、
|θi|>|θr
を満足する[A01]に記載の発光素子。
[A07]平坦化層はカラーフィルタとしての機能を有する[A01]乃至[A06]のいずれか1項に記載の発光素子。
[A08]平坦化層の頂面又は上方にオンチップマイクロレンズが設けられている[A01]乃至[A07]のいずれか1項に記載の発光素子。
[A09]第1電極層は有機層の一部と接している[A01]乃至[A08]のいずれか1項に記載の発光素子。
[A10]第1電極層の大きさは有機層よりも小さい[A09]に記載の発光素子。
[A11]第1電極層の大きさは有機層よりも大きい[A09]に記載の発光素子。
[A12]第1電極層の大きさは有機層と同じ大きさであり、第1電極層と有機層との間の一部分に絶縁材料膜が形成されている[A09]に記載の発光素子。
[A13]平坦化層の上にはカラーフィルタ層が形成されており、
凹部の軸線から、有機層と接する第1電極層の中心点に向かう方向と、凹部の軸線からカラーフィルタ層の中心点に向かう方向とは、逆方向の関係にある[A09]乃至[A12]のいずれか1項に記載の発光素子。
[A14]凹部の軸線から、有機層と接する第1電極層の中心点までの距離、及び、凹部の軸線からカラーフィルタ層の中心点までの距離は、発光素子が表示装置の周辺部に位置するほど大きな値である[A13]に記載の発光素子。
[A15]第1電極層の中心点、有機層の中心点及び凹部の軸線は一直線上に位置する[A13]又は[A14]に記載の発光素子。
[A16]平坦化層の頂面又は上方にオンチップマイクロレンズが設けられており、
第1電極層は、有機層の一部と接しており、
凹部の軸線から、有機層と接する第1電極層の中心点に向かう方向と、凹部の軸線からオンチップマイクロレンズの中心点に向かう方向とは、逆方向の関係にある[A09]乃至[A15]のいずれか1項に記載の発光素子。
[A17]オンチップマイクロレンズは凹部よりも大きい[A16]に記載の発光素子。
[A18]凹部の軸線から第1電極層の中心点までの距離、及び、凹部の軸線からオンチップマイクロレンズの中心点までの距離は、発光素子が表示装置の周辺部に位置するほど大きな値である[A16]又は[A17]に記載の発光素子。
[A19]第1電極層の中心点、有機層の中心点及びオンチップマイクロレンズの中心点は一直線上に位置する[A16]乃至[A18]のいずれか1項に記載の発光素子。
[A20]凹部の軸線を含む仮想平面で凹部を切断したときの凹部の断面形状は、滑らかな曲線である[A01]乃至[A19]のいずれか1項に記載の発光素子。
[A21]凹部の軸線を含む仮想平面で凹部を切断したときの凹部の断面形状は、台形の一部である[A01]乃至[A19]のいずれか1項に記載の発光素子。
[A22]凹部の軸線を含む仮想平面で凹部を切断したときの凹部の断面形状は、直線状の斜面と滑らかな曲線から成る底部の組み合わせである[A01]乃至[A19]のいずれか1項に記載の発光素子。
[A23]凹部の軸線を含む仮想平面で凹部を切断したときの凹部の縁部から基体の表面に亙る断面形状は、滑らかな曲線から成る[A01]乃至[A22]のいずれか1項に記載の発光素子。
[A24]凹部の縁部の形状は、円形又は楕円形である[A01]乃至[A23]のいずれか1項に記載の発光素子。
[A25]基体の表面を含む仮想平面に凹部を正射影したときの凹部の正射影像の形状の面積と等しい面積を有する円を想定したときの円の直径をR、凹部の深さをDpとしたとき、
1/4≦Dp/R≦1/2
を満足する[A01]乃至[A24]のいずれか1項に記載の発光素子。
[A26]有機層は白色光を出射する[A01]乃至[A25]のいずれか1項に記載の発光素子。
[A27]有機層は、赤色発光層、緑色発光層及び青色発光層の積層構造を有する[A26]に記載の発光素子。
[A28]有機層は共振器構造を有する[A27]に記載の発光素子。
[B01]《表示装置》
第1基板、及び、第2基板、並びに、
第1基板と第2基板との間に位置し、第1基板の上に形成された基体上に設けられ、2次元状に配列された複数の発光素子、
を備えた表示装置であって、
各発光素子は、
基体の表面に設けられた凹部、
少なくとも一部分が凹部の頂面の形状に倣って形成された第1電極層、
第1電極層上に、少なくとも一部分が第1電極層の頂面の形状に倣って形成された有機層、
有機層上に、有機層の頂面の形状に倣って形成された第2電極層、及び、
第2電極層上に形成された平坦化層、
を少なくとも備えており、
有機層からの光が、第2電極層、平坦化層及び第2基板を介して外部に出射される表示装置。
[B02]《表示装置》
第1基板、及び、第2基板、並びに、
第1基板と第2基板との間に位置し、第1基板の上に形成された基体上に設けられ、2次元状に配列された複数の発光素子、
を備えた表示装置であって、
各発光素子は、[A01]乃至[A28]のいずれか1項に記載の発光素子から成る表示装置。
The present disclosure may also have the following structure.
[A01] << Light emitting element >>
Hypokeimenon,
Recesses provided on the surface of the substrate,
A first electrode layer, at least a part of which is formed to follow the shape of the top surface of the recess.
An organic layer formed on the first electrode layer at least in part following the shape of the top surface of the first electrode layer.
A second electrode layer formed on the organic layer following the shape of the top surface of the organic layer, and
A flattening layer formed on the second electrode layer,
At least have
A light emitting device in which light from an organic layer is emitted to the outside through a second electrode layer and a flattening layer.
[A02] The light emitting device according to [A01], wherein a protective film is formed between the second electrode layer and the flattening layer.
[A03] The light emitting element according to [A02], wherein the protective film is formed following the shape of the top surface of the second electrode layer.
[A04] Described in [A02] or [A03], where n 1 > n 2 is satisfied when the refractive index of the material constituting the flattening layer is n 1 and the refractive index of the material constituting the protective film is n 2 . Light emitting element.
[A05] (n 1 − n 2 ) is the light emitting device according to [A04], which satisfies 0.1 to 0.6.
[A06] When the incident angle of the light emitted from the organic layer and incident on the flattening layer via the second electrode layer is θ i , and the refraction angle of the light incident on the flattening layer is θ r , | If θ r | ≠ 0,
| θ i | > | θ r
The light emitting device according to [A01].
[A07] The light emitting element according to any one of [A01] to [A06], wherein the flattening layer has a function as a color filter.
[A08] The light emitting device according to any one of [A01] to [A07], wherein an on-chip microlens is provided on the top surface or above the flattening layer.
[A09] The light emitting device according to any one of [A01] to [A08], wherein the first electrode layer is in contact with a part of the organic layer.
[A10] The light emitting device according to [A09], wherein the size of the first electrode layer is smaller than that of the organic layer.
[A11] The light emitting device according to [A09], wherein the size of the first electrode layer is larger than that of the organic layer.
[A12] The light emitting device according to [A09], wherein the size of the first electrode layer is the same as that of the organic layer, and an insulating material film is formed in a part between the first electrode layer and the organic layer.
[A13] A color filter layer is formed on the flattening layer, and the color filter layer is formed.
The direction from the axis of the recess toward the center point of the first electrode layer in contact with the organic layer and the direction from the axis of the recess toward the center point of the color filter layer are in opposite directions [A09] to [A12]. The light emitting element according to any one of the above items.
[A14] The distance from the axis of the recess to the center point of the first electrode layer in contact with the organic layer and the distance from the axis of the recess to the center point of the color filter layer are such that the light emitting element is located at the peripheral portion of the display device. The light emitting element according to [A13], which has a larger value.
[A15] The light emitting element according to [A13] or [A14], wherein the center point of the first electrode layer, the center point of the organic layer, and the axis of the recess are located on a straight line.
[A16] An on-chip microlens is provided on the top surface or above the flattening layer.
The first electrode layer is in contact with a part of the organic layer and is in contact with the organic layer.
The direction from the axis of the recess toward the center point of the first electrode layer in contact with the organic layer and the direction from the axis of the recess toward the center point of the on-chip microlens are in opposite directions [A09] to [A15]. ] The light emitting element according to any one of the items.
[A17] The light emitting element according to [A16], wherein the on-chip microlens is larger than the recess.
[A18] The distance from the axis of the recess to the center point of the first electrode layer and the distance from the axis of the recess to the center point of the on-chip microlens are larger as the light emitting element is located in the peripheral portion of the display device. The light emitting element according to [A16] or [A17].
[A19] The light emitting element according to any one of [A16] to [A18], wherein the center point of the first electrode layer, the center point of the organic layer, and the center point of the on-chip microlens are located on a straight line.
[A20] The light emitting element according to any one of [A01] to [A19], wherein the cross-sectional shape of the recess when the recess is cut in a virtual plane including the axis of the recess is a smooth curve.
[A21] The light emitting element according to any one of [A01] to [A19], wherein the cross-sectional shape of the recess when the recess is cut in a virtual plane including the axis of the recess is a part of a trapezoid.
[A22] The cross-sectional shape of the recess when the recess is cut in a virtual plane including the axis of the recess is any one of [A01] to [A19], which is a combination of a straight slope and a bottom composed of a smooth curve. The light emitting element according to.
[A23] The cross-sectional shape extending from the edge of the recess to the surface of the substrate when the recess is cut in a virtual plane including the axis of the recess is described in any one of [A01] to [A22] having a smooth curve. Light emitting element.
[A24] The light emitting element according to any one of [A01] to [A23], wherein the shape of the edge portion of the recess is circular or elliptical.
[A25] The diameter of the circle is R, and the depth of the recess is Dp, assuming a circle having an area equal to the area of the shape of the orthographic image of the recess when the recess is projected onto the virtual plane including the surface of the substrate. When
1/4 ≤ Dp / R ≤ 1/2
The light emitting device according to any one of [A01] to [A24], which satisfies the above.
[A26] The light emitting device according to any one of [A01] to [A25], wherein the organic layer emits white light.
[A27] The light emitting element according to [A26], wherein the organic layer has a laminated structure of a red light emitting layer, a green light emitting layer, and a blue light emitting layer.
[A28] The light emitting device according to [A27], wherein the organic layer has a resonator structure.
[B01] << Display device >>
The first board, the second board, and
A plurality of light emitting elements arranged two-dimensionally, which are located between the first substrate and the second substrate and are provided on the substrate formed on the first substrate.
It is a display device equipped with
Each light emitting element
Recesses provided on the surface of the substrate,
A first electrode layer, at least a part of which is formed to follow the shape of the top surface of the recess.
An organic layer formed on the first electrode layer at least in part following the shape of the top surface of the first electrode layer.
A second electrode layer formed on the organic layer following the shape of the top surface of the organic layer, and
A flattening layer formed on the second electrode layer,
At least have
A display device in which light from an organic layer is emitted to the outside via a second electrode layer, a flattening layer, and a second substrate.
[B02] << Display device >>
The first board, the second board, and
A plurality of light emitting elements arranged two-dimensionally, which are located between the first substrate and the second substrate and are provided on the substrate formed on the first substrate.
It is a display device equipped with
Each light emitting element is a display device including the light emitting element according to any one of [A01] to [A28].

10,10R,10G,10B・・・発光素子、11・・・第1基板、20・・・トランジスタ、21・・・ゲート電極、22・・・ゲート絶縁層、23・・・チャネル形成領域、24・・・ソース/ドレイン領域、25・・・素子分離領域、26・・・基体(層間絶縁層)、26A・・・基体の表面、27・・・凹部、27A・・・凹部の縁部、27B・・・凹部の直線状の斜面、27C・・・凹部の滑らかな曲線から成る底部、28・・・コンタクトプラグ、29・・・絶縁層、31・・・第1電極層、32・・・第2電極層、33・・・有機層、34・・・保護膜、35(35R,35G,35B)・・・平坦化層、36・・・オンチップマイクロレンズ、37・・・封止樹脂層、41・・・第2基板、51・・・マスク層、52,53,54・・・レジスト層、55・・・開口部、61・・・絶縁材料膜、CFR,CFG,CFB・・・カラーフィルタ層、BM・・・ブラックマトリクス層 10, 10R, 10G, 10B ... light emitting element, 11 ... first substrate, 20 ... transistor, 21 ... gate electrode, 22 ... gate insulating layer, 23 ... channel forming region, 24 ... source / drain region, 25 ... element separation region, 26 ... substrate (interlayer insulating layer), 26A ... substrate surface, 27 ... recess, 27A ... recess edge , 27B ... Straight slope of the recess, 27C ... The bottom consisting of the smooth curve of the recess, 28 ... Contact plug, 29 ... Insulation layer, 31 ... First electrode layer, 32. 2nd electrode layer, 33 ... organic layer, 34 ... protective film, 35 (35 R , 35 G , 35 B ) ... flattening layer, 36 ... on-chip microlens, 37. .. Sealing resin layer, 41 ... second substrate, 51 ... mask layer, 52, 53, 54 ... resist layer, 55 ... opening, 61 ... insulating material film, CF R , CFG, CF B ... Color filter layer, BM ... Black matrix layer

Claims (16)

基体、
前記基体の表面に設けられた凹部、
少なくとも一部分が前記凹部の頂面の形状に倣って形成された第1電極層、
前記第1電極層上に、少なくとも一部分が前記第1電極層の頂面の形状に倣って形成された有機層、
前記有機層上に、前記有機層の頂面の形状に倣って形成された第2電極層、及び、
前記第2電極層上に形成された平坦化層、
を少なくとも備えており、
前記有機層からの光が前記第2電極層及び前記平坦化層を介して外部に出射され、
前記第1電極層は前記有機層の一部と接しており、
前記平坦化層の上にはカラーフィルタ層が形成されており、
前記凹部の軸線から、前記有機層と接する前記第1電極層の中心点に向かう方向と、前記凹部の軸線から前記カラーフィルタ層の中心点に向かう方向とは、逆方向の関係にある、
発光素子。
Hypokeimenon,
Recesses provided on the surface of the substrate,
A first electrode layer, at least a part of which is formed to follow the shape of the top surface of the recess.
An organic layer formed on the first electrode layer at least in part following the shape of the top surface of the first electrode layer.
A second electrode layer formed on the organic layer in accordance with the shape of the top surface of the organic layer, and
The flattening layer formed on the second electrode layer,
At least have
Light from the organic layer is emitted to the outside through the second electrode layer and the flattening layer, and is emitted to the outside .
The first electrode layer is in contact with a part of the organic layer, and is in contact with the organic layer.
A color filter layer is formed on the flattening layer.
The direction from the axis of the recess toward the center point of the first electrode layer in contact with the organic layer and the direction from the axis of the recess toward the center point of the color filter layer are in opposite directions.
Light emitting element.
前記第2電極層と前記平坦化層との間に保護膜が形成されている請求項1に記載の発光素子。 The light emitting element according to claim 1, wherein a protective film is formed between the second electrode layer and the flattening layer. 前記平坦化層を構成する材料の屈折率をn1前記保護膜を構成する材料の屈折率をn2としたとき、n1>n2を満足する請求項2に記載の発光素子。 The light emitting device according to claim 2, wherein when the refractive index of the material constituting the flattening layer is n 1 and the refractive index of the material constituting the protective film is n 2 , n 1 > n 2 is satisfied. 前記有機層から出射され、前記第2電極層を介して前記平坦化層に入射するときの光の入射角をθi前記平坦化層に入射した光の屈折角をθrとしたとき、|θr|≠0の場合、
|θi|>|θr
を満足する請求項1に記載の発光素子。
When the incident angle of the light emitted from the organic layer and incident on the flattening layer via the second electrode layer is θ i , and the refraction angle of the light incident on the flattening layer is θ r . When | θ r | ≠ 0,
| θ i | > | θ r
The light emitting element according to claim 1.
前記平坦化層はカラーフィルタとしての機能を有する請求項1に記載の発光素子。 The light emitting element according to claim 1, wherein the flattening layer has a function as a color filter. 前記平坦化層の頂面又は上方にオンチップマイクロレンズが設けられている請求項1に記載の発光素子。 The light emitting element according to claim 1, wherein an on-chip microlens is provided on the top surface or above the flattening layer. 基体、
前記基体の表面に設けられた凹部、
少なくとも一部分が前記凹部の頂面の形状に倣って形成された第1電極層、
前記第1電極層上に、少なくとも一部分が前記第1電極層の頂面の形状に倣って形成された有機層、
前記有機層上に、前記有機層の頂面の形状に倣って形成された第2電極層、及び、
前記第2電極層上に形成された平坦化層、
を少なくとも備えており、
前記有機層からの光が前記第2電極層及び前記平坦化層を介して外部に出射され、
前記第1電極層は前記有機層の一部と接しており、
前記平坦化層の頂面又は上方にオンチップマイクロレンズが設けられており、
前記第1電極層は、前記有機層の一部と接しており、
前記凹部の軸線から、前記有機層と接する前記第1電極層の中心点に向かう方向と、前記凹部の軸線から前記オンチップマイクロレンズの中心点に向かう方向とは、逆方向の関係にある、
発光素子。
Hypokeimenon,
Recesses provided on the surface of the substrate,
A first electrode layer, at least a part of which is formed to follow the shape of the top surface of the recess.
An organic layer formed on the first electrode layer at least in part following the shape of the top surface of the first electrode layer.
A second electrode layer formed on the organic layer in accordance with the shape of the top surface of the organic layer, and
The flattening layer formed on the second electrode layer,
At least have
Light from the organic layer is emitted to the outside through the second electrode layer and the flattening layer, and is emitted to the outside.
The first electrode layer is in contact with a part of the organic layer, and is in contact with the organic layer.
An on-chip microlens is provided on or above the top surface of the flattening layer.
The first electrode layer is in contact with a part of the organic layer.
The direction from the axis of the recess toward the center point of the first electrode layer in contact with the organic layer and the direction from the axis of the recess toward the center point of the on-chip microlens are in opposite directions . ,
Light emitting element.
前記オンチップマイクロレンズは、前記凹部よりも大きい請求項に記載の発光素子。 The light emitting element according to claim 7 , wherein the on-chip microlens is larger than the recess. 前記凹部の軸線を含む仮想平面で前記凹部を切断したときの前記凹部の断面形状は、滑らかな曲線である請求項1に記載の発光素子。 The light emitting element according to claim 1, wherein the cross-sectional shape of the concave portion when the concave portion is cut in a virtual plane including the axis of the concave portion is a smooth curve. 前記凹部の軸線を含む仮想平面で前記凹部を切断したときの前記凹部の断面形状は、台形の一部である請求項1に記載の発光素子。 The light emitting element according to claim 1, wherein the cross-sectional shape of the recess when the recess is cut in a virtual plane including the axis of the recess is a part of a trapezoid. 前記凹部の軸線を含む仮想平面で前記凹部を切断したときの前記凹部の断面形状は、直線状の斜面と滑らかな曲線から成る底部の組み合わせである請求項1に記載の発光素子。 The light emitting element according to claim 1, wherein the cross-sectional shape of the concave portion when the concave portion is cut in a virtual plane including an axis of the concave portion is a combination of a straight slope and a bottom portion composed of a smooth curve. 前記凹部の軸線を含む仮想平面で前記凹部を切断したときの前記凹部の縁部から前記基体の表面に亙る断面形状は、滑らかな曲線から成る請求項1に記載の発光素子。 The light emitting element according to claim 1, wherein the cross-sectional shape extending from the edge of the recess to the surface of the substrate when the recess is cut in a virtual plane including the axis of the recess has a smooth curve. 前記凹部の縁部の形状は、円形又は楕円形である請求項1に記載の発光素子。 The light emitting element according to claim 1, wherein the shape of the edge portion of the recess is circular or elliptical. 前記有機層は白色光を出射する請求項1に記載の発光素子。 The light emitting element according to claim 1, wherein the organic layer emits white light. 前記有機層は、赤色発光層、緑色発光層及び青色発光層の積層構造を有する請求項14に記載の発光素子。 The light emitting element according to claim 14 , wherein the organic layer has a laminated structure of a red light emitting layer, a green light emitting layer, and a blue light emitting layer. 第1基板、及び、第2基板、並びに、
前記第1基板と前記第2基板との間に位置し、前記第1基板の上に形成された基体上に設けられ、2次元状に配列された複数の発光素子、
を備えた表示装置であって、
前記各発光素子は、
前記基体の表面に設けられた凹部、
少なくとも一部分が前記凹部の頂面の形状に倣って形成された第1電極層、
前記第1電極層上に、少なくとも一部分が前記第1電極層の頂面の形状に倣って形成された有機層、
前記有機層上に、前記有機層の頂面の形状に倣って形成された第2電極層、及び、
前記第2電極層上に形成された平坦化層、
を少なくとも備えており、
前記有機層からの光が、前記第2電極層、前記平坦化層及び前記第2基板を介して外部に出射され、
前記第1電極層は前記有機層の一部と接しており、
前記平坦化層の上にはカラーフィルタ層が形成されており、
前記凹部の軸線から、前記有機層と接する前記第1電極層の中心点に向かう方向と、前記凹部の軸線から前記カラーフィルタ層の中心点に向かう方向とは、逆方向の関係にある、
表示装置。
The first board, the second board, and
A plurality of light emitting elements arranged two-dimensionally, which are located between the first substrate and the second substrate and are provided on the substrate formed on the first substrate.
It is a display device equipped with
Each of the light emitting elements
Recesses provided on the surface of the substrate,
A first electrode layer, at least a part of which is formed to follow the shape of the top surface of the recess.
An organic layer formed on the first electrode layer at least in part following the shape of the top surface of the first electrode layer.
A second electrode layer formed on the organic layer in accordance with the shape of the top surface of the organic layer, and
The flattening layer formed on the second electrode layer,
At least have
Light from the organic layer is emitted to the outside through the second electrode layer, the flattening layer, and the second substrate .
The first electrode layer is in contact with a part of the organic layer, and is in contact with the organic layer.
A color filter layer is formed on the flattening layer.
The direction from the axis of the recess toward the center point of the first electrode layer in contact with the organic layer and the direction from the axis of the recess toward the center point of the color filter layer are in opposite directions.
Display device.
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