JP7000525B2 - カラーフィルタアレイの形成方法および電子デバイスの製造方法 - Google Patents

カラーフィルタアレイの形成方法および電子デバイスの製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、カラーフィルタアレイに関する。
撮像デバイスや表示デバイスなどの電子デバイスでは、複数色のカラーフィルタを配置したカラーフィルタアレイが用いられる。以下、複数色のカラーフィルタを含むカラーフィルタアレイをマルチカラーフィルタアレイと称し、MCFA(Multi Color Filter Array)と略記する。MCFAを用いることで、カラーの画像を撮影あるいは表示できる。
特許文献1にはカラーフィルタ素子の色配列をベイヤー配列とした固体撮像装置が開示されている。
特開2009-43899号公報
MCFAにおける課題の一つに色シェーディングがあげられる。色シェーディングは画像内の領域毎にホワイトバランスが異なることで生じる色むらである。
本発明は、色シェーディングを低減する上で有用な技術を提供することを目的とする。
本発明の一側面としての表示装置は、基板上に配された発光層と、前記発光層の上に配されたカラーフィルタアレイと、を有する表示装置であって、前記カラーフィルタアレイは、第1の色のカラーフィルタからなる第1カラーフィルタアレイと、前記第1の色と異なる第2の色のカラーフィルタからなる第2カラーフィルタアレイと、を有し、前記第1カラーフィルタアレイは、所定の方向において第1間隔を介して互いに隣り合う第1対のカラーフィルタと、前記所定の方向において、第2間隔を介して互いに隣り合う第2対のカラーフィルタと、を含み、前記第1対のカラーフィルタと前記第1カラーフィルタアレイの周縁との間の最短距離は、前記第2対のカラーフィルタと前記第1カラーフィルタアレイの周縁との間の最短距離よりも大きく、前記第2カラーフィルタアレイは、前記第1対のカラーフィルタの間に位置する第1のカラーフィルタと、前記第2対のカラーフィルタの間に位置する第2のカラーフィルタと、を含み、前記所定の方向における前記第1間隔は、前記所定の方向における前記第2間隔よりも大きく、前記所定の方向における前記第1のカラーフィルタの幅は、前記所定の方向における前記第2のカラーフィルタの幅よりも大きく、前記基板に対する平面視において、前記第2のカラーフィルタは、前記第2対のカラーフィルタと部分的に重なることを特徴とする。
本発明は、色シェーディングを低減する上で有用な技術を提供することができる。
電子デバイスを説明するための断面模式図。 MCFAの形成方法を説明するための平面模式図。 MCFAの形成方法を説明するための断面模式図。 MCFAの形成方法を説明するための平面模式図。 MCFAの形成方法を説明するため図。 MCFAの形成方法を説明するための平面模式図。 MCFAの形成方法を説明するための断面模式図。 MCFAの形成方法を説明するための平面模式図。 MCFAの形成方法を説明するための平面模式図。
以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態を説明する。なお、以下の説明および図面において、複数の図面に渡って共通の構成については共通の符号を付している。そのため、複数の図面を相互に参照して共通する構成を説明し、共通の符号を付した構成については適宜説明を省略する。
マルチカラーフィルタアレイを有する電子デバイスの一例として、図1(a)では撮像デバイスISを、図1(b)では表示デバイスDPをそれぞれ示している。MCFA50は基体400の上に配されている。
図1(a)を用いて、電子デバイスの一例としての撮像デバイスISの構造を説明する。基体400は、フォトダイオードなどの光電変換部101を有する半導体基板100と、半導体基板100上の多層配線構造とを含む。多層配線構造は層間絶縁膜200を介して積層された配線層210、220、230を含む。多層配線構造の上にはパッシベーション膜310と平坦化膜320が配されている。本実施例では配線層210、220、230はアルミニウム配線、層間絶縁膜200は酸化シリコン膜が用いられている。配線層上のパッシベーション膜310はSiON/SiN/SiONの3層構造となっている。平坦化膜320の上にMCFA50が配されている。MCFA50の上には平坦化膜330を介してマイクロレンズアレイ340が設けられている。
図1(b)を用いて、電子デバイスの一例としての表示デバイスDPの構造を説明する。基体400は、トランジスタ102を有する半導体基板100と、半導体基板100上の多層配線構造とを含む。多層配線構造は層間絶縁膜200を介して積層された配線層210、220を含む。多層配線構造の上には陽極および陰極の一方として機能する複数の画素電極130と、複数の画素電極130に対向し、陽極および陰極の他方として機能する対向電極150とが配されている。画素電極130と対向電極150との間に有機半導体材料からなる発光層140が配されている。画素電極130間には分離用の絶縁部材135が配されている。対向電極150は透明導電膜でありうる。対向電極150の上にはパッシベーション膜310と平坦化膜320とが配されている。平坦化膜320の上にMCFA50が配されている。MCFA50の上には保護膜350が設けられている。
撮像デバイスを備える撮像装置や表示デバイスを備える表示装置はこれらの電子デバイスを収容する容器(パッケ―ジ)をさらに備えることもできる。パッケージは、電子デバイスに対向する蓋体や、電子デバイスと外部との信号をやり取りするための接続部材と、を含みうる。
撮像装置を用いて、撮像システムを構築することができる。撮像システムは、カメラや撮影機能を有する情報端末である。撮像システムは撮像装置から得られた信号を処理する信号処理装置や、撮像装置で撮影された画像を表示する表示装置、を備えることができる。
表示装置を用いて、表示システムを構築することができる。表示システムは、ディスプレイや表示機能を有する情報端末である。表示システムは表示装置へ入力される信号を処理する信号処理装置や、表示装置で表示する画像を撮影する撮像装置を備えることができる。
本開示は複数の実施形態を含むが、まずは、複数の実施形態に共通の事項を説明する。
図2を用いて、MCFA50の構成および形成方法を説明する。図2(c)はMCFA50の平面図を示している。図2(a)、(b)はMCFA50の形成において図2(c)の状態に至る途中の状態を示している。
MCFA50は、カラーフィルタアレイ10、カラーフィルタアレイ20、カラーフィルタアレイ30を含む複数色のカラーフィルタアレイで構成されている。MCFA50の配置領域は、撮像デバイスにおいては撮像領域、表示デバイスにおいては表示領域となる。各色のカラーフィルタアレイ10、20、30は、配置領域に1次元状あるは2次元状に配列された複数のカラーフィルタを含む。カラーフィルタアレイに含まれる複数のカラーフィルタの各々が1つの画素に対応する。カラーフィルタアレイ10、20、30を構成する複数のカラーフィルタは、ある方向において、不連続に配置されている。ただし、カラーフィルタアレイを構成する複数のカラーフィルタは、角部などで部分的に連続していてもよい。色毎の配置は本例のようなベイヤー型の他に、ハニカム型、ストライプ型を採用することができる。
カラーフィルタアレイ10、20、30は色毎に、可視光を透過する主波長(可視光のうち透過率が最大になる波長)が異なる。例えば、カラーフィルタアレイ10は赤色(R)を主に透過するカラーフィルタ(赤色フィルタ)で構成される。また、カラーフィルタアレイ20は、緑色(G)を主に透過するカラーフィルタ(緑色フィルタ)で構成される。そして、カラーフィルタアレイ30は、青色(B)を主に透過するカラーフィルタ(青色フィルタ)で構成される。MCFA50は、カラーフィルタアレイ10、20、30を組み合わせて構成することができる。色の組み合わせはRGB系これに限らず、CMY系を採用してもよいし、これらを組み合わせてもよい。MCFA50は部分的に白色光(W)を透過するように構成してもよい。本例では、カラーフィルタアレイ10が緑色、カラーフィルタアレイ20が青色、カラーフィルタアレイ30が赤色の波長域にそれぞれ主波長を有する。
図2(a)~(c)に示すように、MCFA50は中央部110と周辺部120を有する。MCFA50の配置領域において、中心51とMCFA50の周縁52との間に中央部110と周辺部120の境界53を設定し、境界53の内側(中心51側)を中央部110、境界53の外側(周縁52側)を周辺部120とする。境界53は中心51と周縁52から等距離の位置に設定することができる。つまり、境界53の各点は、周縁52の各点と中心51との中点に位置することになる。
図3および図4は、MCFA50の形成を含む電子デバイスの製造方法における段階毎の状態について、中央部110と周辺部120の一部の断面図として示している。
図2(a)は、カラーフィルタアレイ10を形成する工程Gを示しており、その工程Gに含まれる段階毎の断面の様子を図3(a)、(b)、(c)、図4(a)に示している。
図3(a)に示す段階Gaでは適当な半導体プロセス等によって形成された基体400が用意される。基体400はX方向と、X方向に交差(直交)するY方向と、に広がる表面を有する。厚さや高さはX方向かつY方向に交差(直交)するZ方向における位置を意味する。以下の説明では、この表面を中央部110における表面410と周辺部120における表面420に分けて説明する。
図3(a)には、基体400の表面について、中央部110における表面410の高さH10、周辺部120における表面420の高さH20を示している。ここで、或る所定面の高さとは、基準面500から所定面までの距離である。基準面500はX方向およびY方向に平行な平面である。基準面500のZ方向における位置は任意であるが、本例では半導体基板100の表面を基準面500に設定している。また、図3(a)には、高さH10と高さ20の差、つまり、表面410と表面420の高低差HD0(HD0=|H10-H20|)を示している。
図3(b)に示す段階Gbでは基体400の上に、塗布法を用いてカラーフィルタ膜600を成膜する。カラーフィルタ膜600の膜厚は500~1000nm程度が好適である。塗布法としては、スピンコート法が典型的であるが、ディッピング法やスプレー法などでもよい。この時の、基体400に塗布されるカラーフィルタ膜600の材料となる液体組成物の粘度は、1~20mPa・Sが好適である。スピンコート法での塗布における回転数は300rpm~2500rpmが好適である。
次に、カラーフィルタ膜600をフォトリソグラフィ(露光、現像)によってパターニングする。図3(c)に示す段階Gcでは、適当なフォトマスク510で露光される。本例のカラーフィルタ膜600はネガタイプの感光性樹脂であるが、カラーフィルタ膜600はポジタイプの感光性樹脂であってもよい。
図4(a)に示す段階Gdでは、露光されたカラーフィルタ膜600を現像する。ネガタイプの感光性樹脂であるカラーフィルタ膜600の露光された部分が現像後に残る。カラーフィルタ膜600のパターニングよって残った部分が、カラーフィルタアレイ10となる。
図2(a)、図4(a)に示すように、カラーフィルタアレイ10は、X方向において間隙1を介して互いに隣り合う1対のカラーフィルタ11、12を含む。また、カラーフィルタアレイ10は、X方向において、間隙2を介して互いに隣り合う1対のカラーフィルタ13、14を含む。図4(a)には、X方向における間隙1の幅W1と、X方向における間隙2の幅W2とを示している。
なお、間隙1,2の幅W1,W2を測定する高さは、カラーフィルタ11、12あるいはカラーフィルタ13、14の上面と下面から等距離に位置する中間面が位置する高さであるとよい。間隙1,2の幅W1,W2を測定する高さは、カラーフィルタ11、12あるいはカラーフィルタ13、14の上面が位置する高さ、あるいは、下面が位置する高さでもよい。しかし、幅W1,W2を測定する高さは、上面が位置する高さや下面が位置する高さよりも、中間面が位置する高さの方が、カラーフィルタの残渣や端部の異常形状等による幅の測定誤差を低減できる。さらに、図2(a)に示すように、カラーフィルタアレイ10は、Y方向において間隙3を介して互いに隣り合う1対のカラーフィルタ15、16を含む。また、カラーフィルタアレイ10は、Y方向において、間隙4を介して互いに隣り合う1対のカラーフィルタ17、18を含む。Y方向における間隙3の幅W3と、Y方向における間隙4の幅W4は不図示である。
なお、間隙の幅は同じ方向(例えばX方向あるいはY方向)で比較すべきである。例えば、間隙1のX方向における幅と間隙2のY方向における幅との比較は意味を成さない。間隙1の幅W1は、間隙1の両側に位置するカラーフィルタ11、12の線幅で制御が可能であり、間隙2の幅W2は、間隙2の両側に位置するカラーフィルタ13、14の線幅で制御が可能である。幅W1が幅W2の99%以下あるいは101%以上であることは、本開示の全ての実施形態において、幅W1と幅W2に違いを持たせる上で適切な範囲であると言える。一方、少なくとも、幅W1が幅W2の99.9%以上100.1%以下であれば、幅W1と幅W2は同じとみなしてよい。本開示の全ての実施形態において、幅W1が幅W2の90%以上110%以下であるとよく、幅W1が幅W2の95%以上105%以下であるとよりよい。幅W1と幅W2が極端に異なることは画素サイズが異なることによる感度差や輝度差を生じ得るからである。幅W1と幅W2の差はMCFA50の下の最上配線層である配線層230の線幅よりも小さくすることが好ましい。幅W1と幅W2が異なっても、その差が最上配線層の線幅よりも小さければ、画素サイズが異なることによる感度差や輝度差の影響を最小限に抑えることができる。カラーフィルタ間の間隙や間隙の両側に位置するカラーフィルタの幅は、フォトマスク510におけるマスクパターンを、目標とする間隙の幅に合わせて適切に設計することで調整が可能である。
図2(a)ではX方向およびY方向におけるカラーフィルタアレイ10間の間隙の幅を3種類に分類してハッチングを付している。第1種類の間隙GLは第2種類の間隙GSよりも幅が大きい。第3種類の間隙GMは第1種類の間隙GLの幅と第2種類の間隙GSの幅の間の幅を有する。間隙1は第1種類の間隙GLに分類され、間隙2は第2種類の間隙GSに分類される。第3種類の間隙GMは境界53の近傍に位置する。
図2(b)は、カラーフィルタアレイ20を形成する工程Bを示しており、その工程Bの段階毎の断面の様子を図4(b)、(c)に示している。
図4(b)に示す段階Bbでは基体400の上に、カラーフィルタアレイ10を覆うように塗布法を用いてカラーフィルタ膜700を成膜する。カラーフィルタ膜700の膜厚は500~1000nm程度が好適である。塗布法としては、スピンコート法が典型的であるが、ディッピング法やスプレー法などでもよい。この時の、基体400に塗布されるカラーフィルタ膜700の材料となる液体組成物の粘度1~20mPa・Sが好適である。スピンコート法での塗布における回転数としては300rpm~2500rpmが好適である。
次に、カラーフィルタ膜700をフォトリソグラフィ(露光、現像)によってパターニングする。図4(b)に示す段階Bbでは、適当なフォトマスク520で露光される。本例のカラーフィルタ膜700はネガタイプの感光性樹脂であるが、カラーフィルタ膜700はポジタイプの感光性樹脂であってもよい。
図4(c)に示す段階Bcでは、露光されたカラーフィルタ膜700を現像する。ネガタイプの感光性樹脂であるカラーフィルタ膜700の露光された部分が現像後に残る。カラーフィルタ膜700のパターニングによって残った部分が、カラーフィルタアレイ20となる。
カラーフィルタアレイ20は、1対のカラーフィルタ11、12の間に位置するカラーフィルタ21を含む。また、カラーフィルタアレイ20は、1対のカラーフィルタ13、14の間に位置するカラーフィルタ22を含む。カラーフィルタ21は図2(a)、図4(a)に示した間隙1に配置され、カラーフィルタ22は図2(a)、図4(a)に示した間隙2に配置される。X方向において、カラーフィルタ21は間隙1の幅W1に相当する幅を有し、カラーフィルタ22は間隙2の幅W2に相当する幅を有する。さらに、図2(b)、図4(c)に示すように、カラーフィルタアレイ20は、1対のカラーフィルタ15、16の間に位置するカラーフィルタ23を含む。また、カラーフィルタアレイ20は、1対のカラーフィルタ17、18の間に位置するカラーフィルタ24を含む。カラーフィルタ23は図2(a)に示した間隙3に配置され、カラーフィルタ24は図2(a)に示した間隙4に配置される。Y方向において、カラーフィルタ23は間隙3の幅W3に相当する幅を有し、カラーフィルタ24は間隙4の幅W4に相当する幅を有する。カラーフィルタ21およびカラーフィルタ22のそれぞれは、基体400の側の面である下面と、下面とは反対側の面である上面を有する。
ここで、カラーフィルタ21の上面の高さH21とは、基準面500からカラーフィルタ21の上面までの距離のことを意味する。同様に、カラーフィルタ22の上面の高さH22とは、基準面500からカラーフィルタ22の上面までの距離のことを意味する。なお、カラーフィルタ21の下面の高さL21とは、基準面500からカラーフィルタ21の下面までの距離のことを意味する。同様に、カラーフィルタ22の下面の高さL22とは、基準面500からカラーフィルタ22の下面までの距離のことを意味する。
カラーフィルタ21の厚さT21はカラーフィルタ21の上面と下面との距離に対応し、高さH21と高さL21との差(T21=H21-L21)に対応する。同様に、カラーフィルタ22の厚さT22はカラーフィルタ22の上面と下面との距離に対応し、高さH22と高さL22との差(T22=H22-L22)に対応する。
図2(b)ではカラーフィルタアレイ20の各カラーフィルタ(2色目フィルタ)の上面の高さを3種類に分類してハッチングを付している。第1種類の2色目フィルタBLの上面の高さは第2種類の2色目フィルタBHの上面の高さよりも小さい。第3種類の2色目フィルタBMの上面の高さは第1種類の2色目フィルタBLの上面の高さと第2種類の2色目フィルタBLの上面の高さとの間の高さを有する。第3種類の2色目フィルタBMは境界53の近傍に位置する。
図2(c)は、カラーフィルタアレイ30を形成する工程Rを示している。カラーフィルタアレイ30もカラーフィルタアレイ20と同様に、スピコート法などの塗布によってカラーフィルタ膜を形成し、カラーフィルタ膜のパターニングによって形成できる。カラーフィルタアレイ30のカラーフィルタは、工程Gで形成された間隙のうち、工程Bでカラーフィルタアレイ20が設けられていない間隙に形成される。なお、工程Rで形成されるカラーフィルタ膜の膜厚は、カラーフィルタ膜600の膜厚およびカラーフィルタ膜700の膜厚よりも大きいことが好ましい。このよう3色目のカラーフィルタ膜を厚くすることで、工程Gや工程Bで形成されたカラーフィルタアレイの表面の凹凸の影響によって、3色目のカラーフィルタアレイの厚さにムラを生じても、相対的に透過率のムラへの影響を抑制できる。3色目のカラーフィルタ膜およびカラーフィルタアレイの厚さは、1色目、2色目のカラーフィルタ膜およびカラーフィルタアレイの厚さの110%以上とすることもできる。例えば、1色目、2色目のカラーフィルタの厚さが600~800nmであるのに対し、3色目のカラーフィルタの厚さが800~1000nmであってもよい。図1(a)、(b)にはカラーフィルタアレイ30の厚さをカラーフィルタアレイ10、20よりも厚く記載している。
図2(c)ではカラーフィルタアレイ30の各カラーフィルタ(3色目フィルタ)の上面の高さを3種類に分類してハッチングを付している。第1種類の3色目フィルタRLの上面の高さは第2種類の3色目フィルタRHの上面の高さよりも小さい。第3種類の3色目フィルタRMの上面の高さは第1種類の3色目フィルタRLの上面の高さと第2種類の3色目フィルタRHの上面の高さとの間の高さを有する。第3種類の3色目フィルタRMは境界53の近傍に位置する。
上述したカラーフィルタ11、12の間隔と、カラーフィルタ13、14の間隔は互いに異なるが、カラーフィルタ11、12の中心間距離(ピッチ)と、カラーフィルタ13、14の中心間距離(ピッチ)は等しくてよい。仮に、製造誤差でピッチに誤差があったとしても、カラーフィルタ11、12の中心間距離がカラーフィルタ13、14の99%以上101%以下であってもよく、99.9%以上100.1%以下であってもよい。同様に、カラーフィルタ11、21の中心間距離(ピッチ)と、カラーフィルタ13、22の中心間距離(ピッチ)も等しくてよい。仮に、製造誤差でピッチに誤差があったとしても、カラーフィルタ11、21の中心間距離がカラーフィルタ13、22の99%以上101%以下であってもよく、99.9%以上100.1%以下であってもよい。なお、マルチカラーフィルタの配列ピッチを光電変換部101の配列ピッチよりも小さくすることもできる。
(第1実施形態)
カラーフィルタアレイ10、20の形状の第1実施形態を説明する。
第1実施形態では、図3(a)に示すように、基体400は周辺部120における表面420が中央部110における表面410よりも高くなっている(H10<H20)。
基体400において、各配線層を絶縁するために形成される絶縁層は化学機械研磨(CMP)法によって平坦化されている。CMP法による平坦化においては、配線密度の違いにより研磨速度に差が生まれる。具体的には配線密度が低い撮像領域では研磨速度が高く、配線密度が高い周辺回路領域では研磨速度が低い。その結果、周辺回路領域に近い周辺部120のほうが中央部110よりも層間絶縁膜200の厚さが大きくなる場合がある。このため、表面420は表面410よりも高くなり得る。
また、図3(a)に示したように撮像領域では多層配線構造が、配線層210、220、230の3層であるのに対し、周辺回路領域では配線層210、220、230、240の4層である。そのため、周辺回路領域におけるパッシベーション膜310や平坦化膜320の上面は、配線層240の分だけ、撮像領域よりも高くなる。その結果、周辺回路領域に近い周辺部120のほうが中央部110よりもパッシベーション膜310や平坦化膜320の上面が高くなる場合がある。このため、表面420は表面410よりも高くなり得る。
図3(b)に示す段階Gbにおいて、局所的な凹凸の無い下地となる基体400の上に塗布法によって成膜されたカラーフィルタ膜600は、中央部110と周辺部120とで、下地である基体400の表面410、420からおおむね等しい膜厚を有し得る。そのため、カラーフィルタ膜600の上面の高低差は基体400の表面の高低差HD0に応じたものになる。
第1実施形態では、X方向における間隙1の幅W1は、X方向における間隙2の幅W2よりも大きい(W1>W2)。上述したように、幅W1は幅W2の101%以上であることが好ましく、110%以下であることも好ましく、105%以下であることがより好ましい。また、Y方向における間隙3の幅W3は、Y方向における間隙4の幅W4よりも大きい(W3>W4)。そして、幅W1を有する間隙1に代表される第1種類の間隙GLは中央部110に位置し、幅W2を有する間隙2に代表される第2種類の間隙GSは周辺部120に位置する。
間隙1の両側に位置するカラーフィルタ11、12は中央部110に位置し、間隙2の両側に位置するカラーフィルタ13、14は周辺部120に位置する。X方向において、中央部110に位置するカラーフィルタ11、12の線幅は、周辺部120に位置するカラーフィルタ13、14の線幅よりも小さい。
カラーフィルタアレイ10によって局所的な凹凸のある下地となる基体400の上に塗布法によって成膜されたカラーフィルタ膜700の厚さは、カラーフィルタアレイ10の形状の影響を受ける。すなわち、カラーフィルタアレイ10の間隔が広い部分ではカラーフィルタアレイ10の間隔が狭い部分に比べて、カラーフィルタ膜700の上面が低くなり易い傾向にある。これは、次のように考えることができる。まず、単位面積当たりに供給される液体組成物としてのカラーフィルタ材料の体積が一定であると仮定する。カラーフィルタアレイ10の間隙はカラーフィルタ材料の容器となる。カラーフィルタアレイ10の間隙が狭いことは、容器の底面積が小さいことを意味する。一定の体積の液体組成物を底面積が小さい容器で保持すると液面は高くなる。よって、フィルタアレイ10の間隔が狭い部分では、カラーフィルタ膜700の上面が高くなり易いという現象が生じる。基体400に塗布されるカラーフィルタ膜700の材料となる液体組成物の粘度が1~20mPa・Sであれば、このような現象を好適に利用することができる。また、スピンコート法での塗布における回転数が300rpm~2500rpmであれば、このような現象を好適に利用することができる。図5(a)は、カラーフィルタ間の1つの間隙について、当該間隙の両側のカラーフィルタの線幅(横軸WIDTH)と、当該間隙に配されるカラーフィルタの膜厚(縦軸THICKNESS)との関係を表している。両側のカラーフィルタの線幅が大きくなるにしたがって、間隙の幅は小さくなり、間隙に形成されるカラーフィルタの膜厚は厚くなる。なお、図5(a)の傾きは、例えば0.05~0.25である。例えば、1色目フィルタの間隙の幅を100nm変えると、間隙に形成される2色目フィルタの膜厚を5~25nm程度変えることができる。
間隙の幅でカラーフィルタ膜700の厚さを制御できることは上述した通りである。そのため、カラーフィルタアレイ10における間隙の両側のカラーフィルタの線幅が等しくても、間隙の幅を異ならせることで、カラーフィルタ膜700の厚さを制御できる。しかし、カラーフィルタアレイ10における間隙の両側のカラーフィルタの線幅によっても、カラーフィルタ膜700の厚さを制御できる。これは、カラーフィルタ膜700の材料となる液体組成物は、両側のカラーフィルタの上にも形成されるためである。両側のカラーフィルタの幅が大きいほど、間隙上のカラーフィルタ膜700の上面の高さを高く維持するのに有利である。よって、間隙の幅を小さくし、かつ、間隙の両側のカラーフィルタの線幅を大きくすることが、間隙に配されるカラーフィルタの厚さを大きくする上で有効な関係であるといえる。カラーフィルタの厚さを小さくする場合にはこの逆にすればよい。また、図2(a)に示すように、カラーフィルタアレイ11の複数のカラーフィルタを角部で部分的に連続するように構成すれば、間隙をカラーフィルタアレイ11のカラーフィルタで切れ目なく囲むことができる。このような構成も、カラーフィルタ材料が間隙から別の間隙へ流出することを抑制するため、間隙の広さによるカラーフィルタ膜の厚さを制御する上で有利である。
図5(a)に示した関係に基づき、カラーフィルタ21の上面の高さH21とカラーフィルタ22の上面の高さH22とが互いに異なる(H22≠H21)。本実施形態では、高さH22が高さH21よりも高い(H22>H21)。本実施形態では、高さL22が高さL21よりも高い(L22>L21)。高さL21は高さH10におおむね対応し、高さL22は高さH20におおむね対応する。L22>L21となるのは、H20>H10だからである。
そして、図2(b)に示すように、厚さT21を有するカラーフィルタ21に代表される第1種類の2色目フィルタBLは中央部110に位置する。厚さT22を有するカラーフィルタ22に代表される第2種類の2色目フィルタBHは周辺部120に位置する。
カラーフィルタ21の厚さT21とカラーフィルタ22の厚さT22との差をTD2(TD2=T22-T21)とする。厚さの差TD2は、カラーフィルタ21の下面の高さL21とカラーフィルタ22の下面の高さL22との差(L22-L21)よりも小さい(TD2=T21-T22<L22-L21)。カラーフィルタ21の厚さT21とカラーフィルタ22の厚さT22は互いに等しくなるようにすることもできる。カラーフィルタ21の厚さT21はカラーフィルタ21の上面と下面との距離に対応し、高さH21と高さL21との差(T21=H21-L21)に対応する。同様に、カラーフィルタ22の厚さT22はカラーフィルタ22の上面と下面との距離に対応し、高さH22と高さL22との差(T22=H22-L22)に対応する。
よって、T22-T21<L22-L21とは、カラーフィルタ21、22の厚さの差(TD2)が、下地である基体400の表面の高低差(HD0)よりも小さい(TD2<HD0)ことを意味している。厚さの差TD2を高低差HD0の1/5以下、さらには、1/10以下にすることもできる。例えば基体の表面410、420の高低差は100~300nmであるところ、カラーフィルタ21、22の厚さの差を10~30nm程度とすることができる。
カラーフィルタ21、22の厚さの差(TD2)を小さくすることで、カラーフィルタ21、22の透過率の差を小さくできる。撮像デバイスISにおいては、カラーフィルタ21が設けられた画素とカラーフィルタ22が設けられた画素とで、カラーフィルタの感度の差を低減できる。表示デバイスDPにおいては、カラーフィルタ21が設けられた画素とカラーフィルタ22が設けられた画素とで、カラーフィルタの輝度の差を低減できる。
(比較形態)
図9は、第1実施形態の図3(a)と同様の基体400(H10<H20)を用いて、図3(c)に対応する段階を異なる段階を経た場合の比較形態を示している。
図9(a)は図4(a)と同様の段階であるが、間隙1の幅W1が、間隙2の幅W2と等しい場合(W1=W2)を示している。図9(b)は図4(b)と同様の段階を示している。中央部110と周辺部120とでカラーフィルタ膜700の上面にはほとんど高低差が生じていない。
図9(c)は図4(c)と同様の段階を示している。上面にほとんど高低差が生じていないカラーフィルタ膜700をパターニングすると、カラーフィルタ21の上面の高さH21とカラーフィルタ22の上面の高さH22は等しくなる(H21=H22)。一方、下地となる基体400の表面410の高さH10と表面420の高さH20との関係(H10=H20)に対応して、カラーフィルタ21の下面の高さL21はカラーフィルタ22の下面の高さL22よりも低くなる(L21<L22)。よって、カラーフィルタ21の厚さT21(T21=H21-L21)はカラーフィルタ22の厚さT22(T22=H22-L22)よりも大きくなる。よって、カラーフィルタ21、22の透過率の差が大きくなり、カラーフィルタ21が設けられた画素とカラーフィルタ22が設けられた画素とで、透過率の差が大きくなる。この透過率差により、カラーフィルタを通る光量は中央部110よりも周辺部120のほうが大きくなり、色シェーディングの原因となってしまう。
これに対して第1実施形態では、間隙1と間隙2の幅を異ならせることで、間隙1,2に形成されるカラーフィルタ21、22の厚さの差を小さくし、カラーフィルタ21、22の透過率の差を低減することができる。
(第2実施形態)
第2実施形態の第1実施形態との主な違いは2点ある。1点目は、中央部110における表面410の高さH10が、周辺部120における表面420の高さH20よりも高い点(H10>H20)である。2点目は、カラーフィルタ11、12およびそれらの間の間隙1が周辺部120に位置し、カラーフィルタ13、14およびそれらの間の間隙2が中央部110に位置する点である。
図6(a)~(c)は、図2(a)~(c)と類似の図面であるが、幅W1を有する間隙1に代表される第1種類の間隙GLは周辺部120に位置し、幅W2を有する間隙2に代表される第2種類の間隙GSは中央部110に位置する。厚さT21を有するカラーフィルタ21に代表される第1種類の2色目フィルタBLは周辺部120に位置し、厚さT22を有するカラーフィルタ22に代表される第2種類の2色目フィルタBHは中央部110に位置する。第1種類の3色目フィルタRLは周辺部120に位置し、第2種類の3色目フィルタRHは中央部110に位置する。
図7(a)は図4(a)に対応する段階を示している。カラーフィルタアレイ10は、周辺部120において、間隙1を介して配された1対のカラーフィルタ11、12を含み、中央部110において、間隙2を介して配された1対のカラーフィルタ13、14を含む。X方向における間隙1の幅W1は、X方向における間隙2の幅W2よりも大きい(W1>W2)。
さらに、カラーフィルタアレイ10は、周辺部120において、間隙3を介して配された1対のカラーフィルタ15、16を含み、中央部110において、間隙4を介して配された1対のカラーフィルタ17、18を含む。Y方向における間隙3の幅W3は、Y方向における間隙4の幅W4よりも大きい(W3>W4)。
図7(b)は図4(b)に対応する段階を示している。カラーフィルタアレイ10によって局所的な凹凸のある下地となる基体400の上に塗布法によって成膜されたカラーフィルタ膜700の厚さは、カラーフィルタアレイ10の形状の影響を受ける。すなわち、カラーフィルタアレイ10の間隔が広い部分ではカラーフィルタアレイ10の間隔が狭い部分に比べて、カラーフィルタ膜700の上面が低くなり易い傾向にある。
図7(c)は図4(c)に対応する段階を示している。カラーフィルタ膜700の上面の高さは中央部110よりも周辺部120で低くなっている。そのため、カラーフィルタ膜700をパターニングして得られるカラーフィルタ21、22についても同様である。すなわち、周辺部120に位置するカラーフィルタ22の上面の高さH22は、中央部110に位置するカラーフィルタ21の上面の高さH21よりも低くなる(H22>H21)。そして、本例では、H10>H20であるからL22>L21である。そして、カラーフィルタ21の厚さT21とカラーフィルタ22の厚さT22との差をTD2(TD2=T22-T21)とする。厚さの差TD2は、カラーフィルタ21の下面の高さL21とカラーフィルタ22の下面の高さL22との差(L22-L21)よりも小さい(TD2=T21-T22<L22-L21)。カラーフィルタ21の厚さT21とカラーフィルタ22の厚さT22は互いに等しくなるようにすることもできる。カラーフィルタ膜700をパターニングして得られる、間隙3、4に位置するカラーフィルタ23、24についても同様である。
この第2実施形態では、中央部110の表面410よりも周辺部120の表面420のほうが低くなっている。この場合、カラーフィルタアレイ10の間隙を均一な幅で形成してしまうと、カラーフィルタアレイ20の厚さは中央部110よりも周辺部120で大きくなってしまう。中央部110と周辺部120で感度分布が生じ、色シェーディングが大きくなってしまう。そこでカラーフィルタアレイ10の間隙を、中央部110よりも周辺部120で大きくする。これによりカラーフィルタ膜700の形成時に周辺部120と中央部110でのカラーフィルタ膜700の膜厚差を、表面410と表面420とでの高低差よりも小さくできる。そのため、カラーフィルタアレイ30の形成後にも、カラーフィルタ21の厚さT21とカラーフィルタ22の厚さT22との差TD2も、差HD0よりも小さくすることができる。よってカラーフィルタの透過率分布は抑制されて、色シェーディングを低減することができる。
(第3実施形態)
第3実施形態の第2実施形態との主な違いは、中央部110における表面410の高さH10と、周辺部120における表面420の高さH20との関係である。
図8(a)は図7(a)に対応する段階を示している。中央部110における表面410の高さH10と、周辺部120における表面420の高さH20の差HD0が小さい。本例ではH10=H20、HD0=0とみなす。また、カラーフィルタアレイ10は、周辺部120において、間隙1を介して配された1対のカラーフィルタ11、12を含み、中央部110において、間隙2を介して配された1対のカラーフィルタ13、14を含む。X方向における間隙1の幅W1は、X方向における間隙2の幅W2よりも大きい(W1>W2)。中央部110のカラーフィルタ13、14の線幅を周辺部120のカラーフィルタ11、12の線幅よりも大きく形成する。これにより、周辺部120に広い幅W1の間隙1が、中央部110に狭い幅W2の間隙2が、それぞれ形成される。
図8(b)は図4(b)に対応する段階を示している。カラーフィルタアレイ10によって局所的な凹凸のある下地となる基体400の上に塗布法によって成膜されたカラーフィルタ膜700の厚さは、カラーフィルタアレイ10の形状の影響を受ける。すなわち、カラーフィルタアレイ10の間隔が広い部分ではカラーフィルタアレイ10の間隔が狭い部分に比べて、カラーフィルタ膜700の上面が低くなり易い傾向にある。
図8(c)は図4(c)に対応する段階を示している。カラーフィルタ膜700の上面の高さは中央部110よりも周辺部120で低くなっている。そのため、カラーフィルタ膜700をパターニングして得られるカラーフィルタ21、22についても同様である。すなわち、周辺部120に位置するカラーフィルタ22の上面の高さH22は、中央部110に位置するカラーフィルタ21の上面の高さH21よりも低くなる(H21>H22)。そして、本例では、H10=H20であるからL22=L21である。そのため、カラーフィルタ21の厚さT21はカラーフィルタ22の厚さT22よりも大きい(T21>T22)。そして、カラーフィルタ21の厚さT21とカラーフィルタ22の厚さT22との差をTD2(TD2=T21-T22)とする。厚さの差TD2は、カラーフィルタ21の下面の高さL21とカラーフィルタ22の下面の高さL22との差(L22-L21)よりも大きい(TD2=T21-T22>L22-L21=0)。
撮像装置において、MCFA50の周辺部120では、対物レンズから入射してくる光は中央部110よりも入射角が大きい。入射角が大きいと周辺部120の画素に入射した光は配線により蹴られ、フォトダイオードに集光されづらくなり、感度が低下してしまう。これにより撮像領域内で、周辺部120の感度が中央部110の感度よりも低くなるという感度分布が生じ、色シェーディングが問題となる。このような場合においてもカラーフィルタの膜厚分布を制御することによって色シェーディングを低減させることができる。すなわち、中央部110のカラーフィルタの透過率を周辺部120のカラーフィルタの透過率よりも高くすればよい。カラーフィルタの透過率はカラーフィルタの厚さで制御でき、カラーフィルタの厚さは下地の凹凸で制御できる。
つまり、周辺部120のカラーフィルタ22は中央部110のカラーフィルタ21よりも薄く形成される。入射角特性による周辺部120における感度低下を補い、感度分布のムラを低減させることができる。その結果、色シェーディングを改善することができる。このように、中央部110と周辺部120で基体400の表面の高さが略同等の場合であって、色シェーディングを改善することができる。
(第4実施形態)
第2実施形態のように、基体400の中央部110における表面410が周辺部120における表面420よりも高い(H10>H20)場合であっても、第3実施形態と同様に色シェーディングを抑制できる。つまり、入射角特性による周辺部120の感度低下が顕著な場合に、中央部110に厚いカラーフィルタ21を配置し、周辺部120に薄いカラーフィルタ22を配置すればよい。そのためには、中央部110に狭い間隙1を配置し、周辺部120に広い間隙2が位置するように、カラーフィルタアレイ10を形成すればよい。
(第5実施形態)
中央部110における感度を周辺部120における感度よりも高めたい場合が想定される。その場合には、中央部110に薄いカラーフィルタ22を配置し、周辺部120に厚いカラーフィルタ21を配置すればよい。そのためには、中央部110に広い間隙2を配置し、周辺部120に狭い間隙1が位置するように、カラーフィルタアレイ10を形成すればよい。
(変形例)
上述した各実施形態において間隙1と間隙2の幅を異ならせる方法の変形例を説明する。
本変形例ではカラーフィルタ膜600を露光する際に表面410と表面420の高低差を考慮して露光条件を決定する。露光条件とは具体的には露光装置の光学系のフォーカス条件である。フォーカス条件を制御することでカラーフィルタ11、12の線幅および間隙1の幅と、カラーフィルタ13、14の線幅および間隙2の幅とを異ならせることができる。上述した様に、カラーフィルタ13、14のほうがカラーフィルタ11、12よりも線幅を大きくできる。
図5(b)はカラーフィルタ膜600の露光時のフォーカス条件であるFOCUS値とカラーフィルタアレイ10の線幅WIDTHの関係を表したグラフである。線Pは表面の高さが低い部分(例えば、第1実施形態における中央部110)におけるFOCUS値とカラーフィルタアレイ10の線幅WIDTHとの関係を示している。線Qは表面の高さが高い部分(例えば、第1実施形態における周辺部120)におけるFOCUS値とカラーフィルタアレイ10の線幅WIDTHとの関係を示している。ここで、線PはFOCUS値Sの方がFOCUS値R、Tよりも合焦状態が良好(ベストフォーカス値)であることを示している。また、線QはFOCUS値Tの方がFOCUS値R、Sよりも合焦状態が良好(ベストフォーカス値)であることを示している。
ネガタイプのカラーフィルタ膜に対しては、ベストフォーカス値からのズレが大きい方が、露光された部分に残るカラーフィルタの線幅は大きくなり、カラーフィルタ間の間隙は小さくなる。よって、広い間隙1を配置する部分でのベストフォーカス値からのズレ量を、狭い間隙2を配置する部分でのベストフォーカス値からのズレ量よりも小さくする。よって、FOCUS値Rを採用することで、第1実施形態や第2実施形態のように、表面が高い部分に狭い間隙2を、表面が低い部分に広い間隙1を配置することができる。
ポジタイプのカラーフィルタ膜に対しては、ベストフォーカス値からのズレが大きい方が、露光された部分に形成されるカラーフィルタ間の間隙は大きくなる。よって、広い間隙1を配置する部分でのベストフォーカス値からのズレを、狭い間隙2を配置する部分でのベストフォーカス値からのズレよりも大きくする。よって、FOCUS値Pを採用することで、第1実施形態や第2実施形態のように、表面が高い部分に狭い間隙2を、表面が低い部分に広い間隙1を配置することができる。
このように、ベストフォーカス値からのズレ(デフォーカス)を利用することで、フォトマスクのマスクパターンにおける対応するカラーフィルタの線幅や間隙の幅が等しくても、カラーフィルタの線幅や間隙の幅を異ならせられる。
以上、説明した実施形態は、本発明の思想を逸脱しない範囲において適宜変更が可能である。
50 マルチカラーフィルタアレイ
600、700 カラーフィルタ膜
10、20 カラーフィルタアレイ
1、2 間隙
11、12、13、14、21、22 カラーフィルタ
W1、W2 幅

Claims (16)

  1. 基板上に配された発光層と、
    前記発光層の上に配されたカラーフィルタアレイと、を有する表示装置であって、
    前記カラーフィルタアレイは、
    第1の色のカラーフィルタからなる第1カラーフィルタアレイと、
    前記第1の色と異なる第2の色のカラーフィルタからなる第2カラーフィルタアレイと、を有し、
    前記第1カラーフィルタアレイは、所定の方向において第1間隔を介して互いに隣り合う第1対のカラーフィルタと、前記所定の方向において、第2間隔を介して互いに隣り合う第2対のカラーフィルタと、を含み、
    前記第1対のカラーフィルタと前記第1カラーフィルタアレイの周縁との間の最短距離は、前記第2対のカラーフィルタと前記第1カラーフィルタアレイの周縁との間の最短距離よりも大きく、
    前記第2カラーフィルタアレイは、前記第1対のカラーフィルタの間に位置する第1のカラーフィルタと、前記第2対のカラーフィルタの間に位置する第2のカラーフィルタと、を含み、
    前記所定の方向における前記第1間隔は、前記所定の方向における前記第2間隔よりも大きく、
    前記所定の方向における前記第1のカラーフィルタの幅は、前記所定の方向における前記第2のカラーフィルタの幅よりも大きく、
    前記基板に対する平面視において、前記第2のカラーフィルタは、前記第2対のカラーフィルタと部分的に重なる
    ことを特徴とする表示装置。
  2. 前記基板に対する平面視において、前記第1のカラーフィルタは、前記第1対のカラーフィルタと部分的に重なる
    ことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
  3. 前記第2のカラーフィルタの前記基板から最も離れた部分の高さは、前記第2対のカラーフィルタを構成する2つのカラーフィルタの前記基板から最も離れた部分の高さと異なる
    ことを特徴とする請求項1または2に記載の表示装置。
  4. 前記第1のカラーフィルタの前記基板から最も離れた部分の高さは、前記第1対のカラーフィルタを構成する2つのカラーフィルタの前記基板から最も離れた部分の高さと異なる
    ことを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の表示装置。
  5. 前記基板上に配されたトランジスタと、
    前記トランジスタと前記発光層との間に配された多層配線構造と、をさらに有する
    ことを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の表示装置。
  6. 基板上に配された発光層と、
    前記発光層の上に配されたカラーフィルタアレイと、を有する表示装置であって、
    前記カラーフィルタアレイは、
    第1の色のカラーフィルタからなる第1カラーフィルタアレイと、
    前記第1の色と異なる第2の色のカラーフィルタからなる第2カラーフィルタアレイと、を有し、
    前記第1カラーフィルタアレイは、所定の方向において第1間隔を介して互いに隣り合う第1対のカラーフィルタと、前記所定の方向において、第2間隔を介して互いに隣り合う第2対のカラーフィルタと、を含み、
    前記第1対のカラーフィルタと前記第1カラーフィルタアレイの周縁との間の最短距離は、前記第2対のカラーフィルタと前記第1カラーフィルタアレイの周縁との間の最短距離よりも大きく、
    前記第2カラーフィルタアレイは、前記第1対のカラーフィルタの間に位置する第1のカラーフィルタと、前記第2対のカラーフィルタの間に位置する第2のカラーフィルタと、を含み、
    前記所定の方向における前記第1間隔は、前記所定の方向における前記第2間隔よりも大きく、
    前記所定の方向における前記第1のカラーフィルタの幅は、前記所定の方向における前記第2のカラーフィルタの幅よりも大きく、
    前記第2のカラーフィルタの前記基板から最も離れた部分の高さは、前記第2対のカラーフィルタを構成する2つのカラーフィルタの前記基板から最も離れた部分の高さと異なる
    ことを特徴とする表示装置。
  7. 前記第1のカラーフィルタの前記基板から最も離れた部分の高さは、前記第1対のカラーフィルタを構成する2つのカラーフィルタの前記基板から最も離れた部分の高さと異なる
    ことを特徴とする請求項6に記載の表示装置。
  8. 前記基板上に配されたトランジスタと、
    前記トランジスタと前記発光層との間に配された多層配線構造と、をさらに有する
    ことを特徴とする請求項6または7に記載の表示装置。
  9. 基板上に配された発光層と、
    前記発光層の上に配されたカラーフィルタアレイと、を有する表示装置であって、
    前記基板上に配されたトランジスタと、
    前記トランジスタと前記発光層との間に配された多層配線構造と、を有し、
    前記カラーフィルタアレイは、
    第1の色のカラーフィルタからなる第1カラーフィルタアレイと、
    前記第1の色と異なる第2の色のカラーフィルタからなる第2カラーフィルタアレイと、を有し、
    前記第1カラーフィルタアレイは、所定の方向において第1間隔を介して互いに隣り合う第1対のカラーフィルタと、前記所定の方向において、第2間隔を介して互いに隣り合う第2対のカラーフィルタと、を含み、
    前記第1対のカラーフィルタと前記第1カラーフィルタアレイの周縁との間の最短距離は、前記第2対のカラーフィルタと前記第1カラーフィルタアレイの周縁との間の最短距離よりも大きく、
    前記第2カラーフィルタアレイは、前記第1対のカラーフィルタの間に位置する第1のカラーフィルタと、前記第2対のカラーフィルタの間に位置する第2のカラーフィルタと、を含み、
    前記所定の方向における前記第1間隔は、前記所定の方向における前記第2間隔よりも大きく、
    前記所定の方向における前記第1のカラーフィルタの幅は、前記所定の方向における前記第2のカラーフィルタの幅よりも大きい
    ことを特徴とする表示装置。
  10. 前記第2のカラーフィルタは、前記第2対のカラーフィルタを構成する2つのカラーフィルタと接している
    ことを特徴とする請求項1~9のいずれか1項に記載の表示装置。
  11. 前記第1のカラーフィルタは、前記第1対のカラーフィルタを構成する2つのカラーフィルタと接している
    ことを特徴とする請求項1~10のいずれか1項に記載の表示装置。
  12. 前記カラーフィルタアレイは、ハニカム型の配置である
    ことを特徴とする請求項1~11のいずれか1項に記載の表示装置。
  13. 前記カラーフィルタアレイは、ベイヤー型またはストライプ型の配置である
    ことを特徴とする請求項1~11のいずれか1項に記載の表示装置。
  14. 前記第1カラーフィルタアレイは、前記第2対のカラーフィルタを複数有し、
    前記基板に対する平面視において、複数の前記第2対のカラーフィルタは、前記第1対のカラーフィルタを囲んでいる
    ことを特徴とする請求項1~13のいずれか1項に記載の表示装置。
  15. 信号処理装置と、
    前記信号処理装置で処理された信号が入力される表示装置と、を有する表示システムであって、
    前記表示装置は請求項1~14のいずれか1項に記載の表示装置である
    ことを特徴とする表示システム。
  16. 撮像装置と、
    前記撮像装置で撮像された画像を表示する表示装置と、を有する表示システムであって、
    前記表示装置は請求項1~14のいずれか1項に記載の表示装置である
    ことを特徴とする表示システム。
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