JP6704210B2 - Abutment base group for dental implants - Google Patents
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Description
本発明は、外側アバットメントを装着し、他端では人工歯根上に装着される複数形状の歯科インプラント用アバットメントベースからなるアバットメントベース群に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to an abutment base group including a plurality of abutment bases for dental implants, each of which has an outer abutment and which is mounted on an artificial tooth root at the other end.
歯科用インプラント治療は、歯をウ蝕や歯周病、または外傷などによって全顎または部分的に喪失した際の治療手段として、広く普及している歯科治療の一つである。 Dental implant treatment is one of the widespread dental treatments as a treatment means when the tooth is lost in the whole jaw or partially due to caries, periodontal disease, trauma or the like.
歯科用インプラントは、人工歯根・アバットメント・歯科補綴装置の３つの基本要素から構成される。人工歯根（フィクスチャーまたはインプラントとも称する）は、歯を喪失した部分の顎骨（歯槽骨）に埋入して当該歯槽骨に結合する。アバットメントは、前記人工歯根に挿入または接触して固定され、口腔内側で歯科補綴装置（上部構造体とも称する）を保持する支台として機能する。歯科補綴装置は前記アバットメントに装着され、歯牙形状を模擬した形態をしており、審美性・機能性の回復を担う。 A dental implant is composed of three basic elements: an artificial tooth root, an abutment, and a dental prosthesis. An artificial tooth root (also referred to as a fixture or an implant) is embedded in a jaw bone (alveolar bone) where a tooth is lost and is bonded to the alveolar bone. The abutment is inserted into or in contact with the artificial tooth root and fixed, and functions as an abutment for holding a dental prosthesis (also referred to as an upper structure) inside the oral cavity. The dental prosthesis device is attached to the abutment, has a form simulating a tooth shape, and plays a role of restoring aesthetics and functionality.
前記人工歯根は、強度と生体親和性に優れるチタンなどの金属材料で作製されることが多い。また、人工歯根と直接的に接触・固定されるアバットメントも、強度や親和性から同質のチタンなど金属材料で作製されることが多い。歯科用インプラントの普及に伴い審美性への要求が高まっているが、アバットメントが金属材料である場合、歯科補綴装置のみでの審美性回復には限界があった。 The artificial tooth root is often made of a metal material such as titanium having excellent strength and biocompatibility. Further, an abutment that is directly contacted and fixed to an artificial tooth root is often made of a metal material such as titanium having the same quality because of its strength and affinity. Although the demand for aesthetics is increasing with the spread of dental implants, when the abutment is made of a metal material, there is a limit to the restoration of aesthetics only with a dental prosthesis.
そこで審美性の向上を目指し、アバットメントの中には、特許文献１に記載のように審美性と強度の両立を求め、歯科補綴装置の支台となる部分（特許文献１では、「外側アバットメント」と記載されている。）と、人工歯根と接合し外側アバットメントの台座となる部分（特許文献１では、「インレー」と記載されている。本明細書中では、「アバットメントベース」と称する。）の二つの部品から構成・接合される形態が存在する。本形態は外側アバットメント部分を歯科用セラミックス材料などの審美性に優れる材料で、アバットメントベースをチタンなどの強度と生体親和性に優れる金属材料で作製し、この二つを歯科用接着材などで接合したアバットメント（本明細書中では、２パーツアバットメントと称する。）とすることで、口腔内側に金属部分が露呈することなく強度を有するアバットメント形状を作製することが可能となる。 Therefore, in order to improve the aesthetics, the abutment is required to have both the aesthetics and the strength as described in Patent Document 1, and a portion serving as an abutment of the dental prosthesis (in Patent Document 1, “outer abutment”). Ment") and a portion which becomes a pedestal of the outer abutment by being joined to the artificial tooth root (in Patent Document 1, it is described as "inlay". In the present specification, "abutment base". There is a form in which it is constructed and joined from two parts. In this embodiment, the outer abutment part is made of a material such as a dental ceramic material having excellent aesthetics, and the abutment base is made of a metal material having excellent strength and biocompatibility such as titanium. By using the abutment (referred to as a two-part abutment in the present specification) joined by (1), it becomes possible to manufacture an abutment shape having strength without exposing the metal portion inside the oral cavity.
この２パーツアバットメントを口腔内で使用する場合は、外側アバットメントの上部を被覆する形で歯科補綴装置が装着される。つまり、人工歯根から口腔内側に向けて、アバットメントベース、外側アバットメント、歯科補綴装置の順に構成要素が配置される。 When the two-part abutment is used in the oral cavity, the dental prosthesis device is attached so as to cover the upper part of the outer abutment. That is, the components are arranged in the order of the abutment base, the outer abutment, and the dental prosthesis from the artificial tooth root toward the inside of the oral cavity.
しかし、このアバットメントベースは画一された形状であり、術者が任意に形状を選択することが出来なかった。そのため２パーツアバットメントで患者個々の適応部位の形状を再現する場合、外側アバットメントの形状変更のみで対応する必要がある。これにより、極端に外側アバットメントが細長くなったり、薄くなったりして、破折するなどの問題があった。また、外側アバットメントとアバットメントベースの接着形状・接着面積は一定であるため、咬合圧の大きい症例へ適応した場合、外側アバットメントが脱離するなど、２パーツアバットメントの適応範囲は狭かった。 However, this abutment base has a uniform shape, and the operator cannot arbitrarily select the shape. Therefore, when the shape of the adaptation site of each patient is reproduced by the two-part abutment, it is necessary to deal with it only by changing the shape of the outer abutment. As a result, there has been a problem that the outer abutment becomes extremely long and thin, and breaks. In addition, since the outer abutment and the abutment base have the same adhesive shape/adhesive area, the two-part abutment has a narrow application range, such as detachment of the outer abutment when applied to a case with a large occlusal pressure. ..
例えば、２パーツアバットメントを歯槽骨の吸収が生じている前歯部に適応しようとした場合、外側アバットメントが極端に細長くなるため、破折やチッピングの恐れがあった。また、２パーツアバットメントを臼歯部のように、外側アバットメントが長軸に対して幅広な形状となる部位に適応する場合、咬合圧が負荷された際にアバットメントベース部を中心とした回転モーメントが大きくなり、アバットメントベースとの接着を維持できなくなり外側アバットメントが脱離する恐れがあった。つまり、２パーツアバットメントでは、アバットメントベースの形状も、患者個々の適応部位の形状を再現するために適宜形状が変更できることが求められていた。 For example, when trying to adapt a two-part abutment to the anterior tooth part where alveolar bone resorption occurs, the outer abutment becomes extremely long and thin, and there is a risk of fracture or chipping. In addition, when the two-part abutment is adapted to a region where the outer abutment has a wide shape with respect to the major axis, such as a molar, when the occlusal pressure is applied, rotation about the abutment base is performed. There was a risk that the moment would increase and the adhesion with the abutment base could not be maintained, causing the outer abutment to come off. That is, in the two-part abutment, it has been required that the shape of the abutment base can be appropriately changed to reproduce the shape of the adaptation site of each patient.
また、単一構成のアバットメントや外側アバットメントにおいては、患者個々の適応部位の形状を再現するため、特許文献２−３に記載のようにＣＡＤ／ＣＡＭ等のデジタル技術を用いてアバットメントの大きさや角度などの形状を個々に調整して設計する手法が開示されている。さらなる簡便さを求めて特許文献４ではデジタル技術を使用せずにアバットメントを設計する手法も開示されている。また、特許文献５では、患者個々で理想的な形態を要求されるアバットメント形状の範囲も開示されているようにアバットメント形状の設計方法やアバットメント形状の範囲は広く知られているが、２パーツアバットメントの構成要素の一つであるアバットメントベースに関する設計方法や形状範囲は明示されていなかった。 In addition, in a single-structure abutment or outer abutment, in order to reproduce the shape of the adaptation site of each patient, the abutment of the abutment is formed using a digital technique such as CAD/CAM as described in Patent Document 2-3. A method for designing by individually adjusting shapes such as size and angle is disclosed. For further simplicity, Patent Document 4 also discloses a method of designing an abutment without using digital technology. Further, in Patent Document 5, the design method of the abutment shape and the range of the abutment shape are widely known as the range of the abutment shape that requires an ideal shape for each patient is disclosed, but The design method and shape range of the abutment base, which is one of the components of the two-part abutment, were not specified.
アバットメントベースは画一された形状であり、術者が任意に形状を選択することが出来なった。そのため２パーツアバットメントを作製する場合、外側アバットメントの形状のみを変更することで、患者個々の適応部位の形状を再現する必要がある。これにより、極端に外側アバットメントが細長くなったり、薄くなったりして、破折するなどの問題があった。また、外側アバットメントとアバットメントベースの接着形状・接着面積は一定であるため、咬合圧の大きい症例へ適応した場合、外側アバットメントが脱離するなど、２パーツアバットメントの適応範囲は狭かった。つまり、２パーツアバットメントでは、アバットメントベースの形状も、患者個々の適応部位の形状を再現するために適宜形状が変更できることが求められていた。 The abutment base had a uniform shape, and the operator could not arbitrarily select the shape. Therefore, when manufacturing a two-part abutment, it is necessary to reproduce the shape of the adaptation site for each patient by changing only the shape of the outer abutment. As a result, there has been a problem that the outer abutment becomes extremely long and thin, and breaks. In addition, since the outer abutment and the abutment base have the same adhesive shape/adhesive area, the two-part abutment has a narrow application range, such as detachment of the outer abutment when applied to a case with a large occlusal pressure. .. That is, in the two-part abutment, it has been required that the shape of the abutment base can be appropriately changed to reproduce the shape of the adaptation site of each patient.
そこで本発明は、費用・手間・時間をかけずに患者個々の適応部位の形状に応じた歯科インプラント用アバットメントベースを簡易に提供できるようにするため、幅広い患者個々の適応部位の形状を再現できる上限値・下限値の範囲設定と、その範囲内における適切な間隔を有するマージンライン直径、ベース部高さ、歯肉縁下部高さ、およびベース部厚さの値の組合せから構成されるアバットメントベース群を提供する。 Therefore, the present invention reproduces a wide range of patient-specific adaptive site shapes in order to easily provide an abutment base for a dental implant according to the shape of a patient-specific adaptive site without spending time, effort, and time. Abutment consisting of a set of upper and lower limits that can be set, and a combination of margin line diameter, base height, gingival margin height, and base thickness that have appropriate intervals within that range. Providing a base group.
以下、本発明について説明する。ここでは分かりやすさのため、図面に付した参照番号を括弧書きで併せて記載するが、本発明はこれに限定されるものではない。 The present invention will be described below. Here, for ease of understanding, reference numerals attached to the drawings are also shown in parentheses, but the present invention is not limited thereto.
本発明は、外側アバットメント（９）を装着し、他端では任意の人工歯根（１１）上に装着される複数形状の歯科インプラント用アバットメントベース（１）からなるアバットメントベース群であって、前記アバットメントベース（１）が、前記人工歯根（１１）に装着される部位である嵌合部（２）、前記嵌合部（２）から滑らかに広がる歯肉縁下部（３）、前記歯肉縁下部（３）の他端に、長軸を中心とした円形であるマージンライン（４）、前記マージンライン（４）の上部に繋がり外側アバットメント（９）が装着される円筒形状のベース部（５）、前記ベース部（５）には外側アバットメント（９）の装着される方向を限定するための一つ以上の回転防止機構（６）及び、アバットメントベース（１）を人工歯根（１１）に装着するための固定具が挿入されるアクセスホール（７）を有し、前記マージンライン（４）の直径をマージンライン直径（Ａ）、前記マージンライン（４）からベース部（５）の天面までの高さをベース部高さ（Ｂ）、前記嵌合部（２）からマージンライン（４）までの高さを歯肉縁下部高さ（Ｃ）及び、ベース部の肉厚をベース部厚さ（Ｄ）とし、この４つの値で選択できるアバットメントベースを含むアバットメントベース群である。 The present invention relates to an abutment base group consisting of an abutment base (1) for a dental implant having a plurality of shapes, to which an outer abutment (9) is attached and which is attached on an arbitrary artificial tooth root (11) at the other end. A fitting part (2) where the abutment base (1) is mounted on the artificial tooth root (11), a lower gingival margin (3) smoothly spreading from the fitting part (2), and the gingiva A cylindrical base part having a circular margin line (4) centered on the long axis at the other end of the lower edge part (3) and an outer abutment (9) connected to the upper part of the margin line (4). (5) One or more anti-rotation mechanisms (6) for limiting the mounting direction of the outer abutment (9) and the abutment base (1) on the base part (5) and the artificial tooth root (1). 11) has an access hole (7) into which a fixture for mounting is attached, and the diameter of the margin line (4) is the margin line diameter (A), and the margin line (4) to the base portion (5). To the top surface of the base portion (B), the height from the fitting portion (2) to the margin line (4) is the lower gingival height (C) and the thickness of the base portion base thickness and (D), an abutment base group including the abutment base can be selected in this four values.
本発明のアバットメントベース群は、
マージンライン直径（Ａ）は、3〜10mmの範囲であり、かつ0.25〜2.0mmの間隔で選択される。好ましくは0.5〜1.0mmの間隔、更に好ましくは0.5mmまたは1.0mmの間隔で選択される。
ベース部高さ（Ｂ）は、2〜10mmの範囲であり、かつ0.25〜2.0mmの間隔で選択される。好ましくは0.5〜1.0mmの間隔、更に好ましくは0.5mmまたは1.0mmの間隔で選択される。
歯肉縁下部高さ（Ｃ）は、0.1〜10mmの範囲であり、かつ0.25〜2.0mmの間隔で選択される。好ましくは0.5〜1.0mmの間隔、更に好ましくは0.5mmまたは1.0mmの間隔で選択される。
ベース部厚さ（Ｄ）は、0.2〜1.0mmの範囲であり、かつ0.05〜0.5mmの間隔で選択される。好ましくは0.1mmまたは0.2mmの間隔で選択される。
上記の範囲にすることで、幅広い患者個々の適応部位の形状を再現できるようになり、かつ上記の間隔で選択できるようにすることで簡易にアバットメントベース群から必要なアバットメントベースを選択できることが可能になる。
The abutment base group of the present invention,
Margin line diameter (A) ranges from 3 to 10 mm and is selected at intervals of 0.25 to 2.0 mm. It is preferably selected at intervals of 0.5 to 1.0 mm, more preferably at intervals of 0.5 mm or 1.0 mm.
The height (B) of the base portion is in the range of 2 to 10 mm and is selected in the interval of 0.25 to 2.0 mm. It is preferably selected at intervals of 0.5 to 1.0 mm, more preferably at intervals of 0.5 mm or 1.0 mm.
The lower gingival height (C) is in the range of 0.1 to 10 mm and is selected at intervals of 0.25 to 2.0 mm. It is preferably selected at intervals of 0.5 to 1.0 mm, more preferably at intervals of 0.5 mm or 1.0 mm.
The base portion thickness (D) is in the range of 0.2 to 1.0 mm and is selected at intervals of 0.05 to 0.5 mm. It is preferably selected at intervals of 0.1 mm or 0.2 mm.
By setting the above range, it becomes possible to reproduce the shape of the adaptation site for a wide range of patients, and it is possible to easily select the required abutment base from the abutment base group by making it possible to select at the above intervals. Will be possible.
本発明は、前記アバットメントベース群から、前記マージンライン直径（Ａ）、ベース部高さ（Ｂ）、歯肉縁下部高さ（Ｃ）及び、ベース部厚さ（Ｄ）の値を実質的に決定することによりアバットメントベース形状を選択することを特徴とするアバットメントベースの選択方法である。
４つの値のみでアバットメントベース形状を選択可能な方法であるため、その選択された形状を簡易に伝達することが可能となる。情報量の膨大になる図面や三次元データが不要となり、FAXや電子メールなどの一般的な情報伝達手法を用いての形状選択が可能となる。
According to the present invention, the values of the margin line diameter (A), the base portion height (B), the lower gingival margin height (C), and the base portion thickness (D) are substantially determined from the abutment base group. It is a method of selecting an abutment base characterized by selecting an abutment base shape by determining.
Since the abutment base shape can be selected with only four values, the selected shape can be transmitted easily. It eliminates the need for drawings and three-dimensional data that require enormous amounts of information, and makes it possible to select shapes using general information transmission methods such as fax and electronic mail.
本発明のアバットメントベース群は、前記マージンライン直径（Ａ）、ベース部高さ（Ｂ）、歯肉縁下部高さ（Ｃ）及び、ベース部厚さ（Ｄ）とは異なる部位の値の選択からも構成・決定することが可能である。つまり、前記４つの値と異なる部位の値であっても、前記４つの値を算出することが可能な場合、前記マージンライン直径（Ａ）、ベース部高さ（Ｂ）、歯肉縁下部高さ（Ｃ）及び、ベース部厚さ（Ｄ）とは異なる部位の値からアバットメントベースを選択することが可能である。 In the abutment base group of the present invention, selection of a value of a portion different from the margin line diameter (A), the height of the base portion (B), the height of the lower gingival margin (C), and the thickness of the base portion (D). It is also possible to configure and decide from. That is, even if the values of the part different from the four values can be calculated, the margin line diameter (A), the base portion height (B), and the gingival margin lower portion height can be calculated. It is possible to select the abutment base from the values of (C) and the portion different from the thickness (D) of the base portion.
本発明のアバットメントベース群に含まれる前記アバットメントベースは、目印（８）を有している。前記目印（８）は、ベース部（５）に一定の配列で付与されたアバットメントベース長軸に対して周方向の凹凸形状またはマーキングであり、この配列はマージンライン（４）から1.0〜3.0mm離れた位置を基準とし、そこから0.5〜2.0mmの間隔で並ぶことを特徴とする。
目印（８）が凹凸形状の場合は、マシニングセンタなどの機械加工によって付与してもよく、マーキングの場合はレーザー印字などで付与しても良い。
The abutment base included in the abutment base group of the present invention has a mark (8). The mark (8) is a concavo-convex shape or marking in the circumferential direction with respect to the major axis of the abutment base, which is given to the base portion (5) in a fixed arrangement, and this arrangement is 1.0 to 3.0 from the margin line (4). The feature is that they are lined up at intervals of 0.5 to 2.0 mm from the position separated by mm.
When the mark (8) has an uneven shape, it may be applied by machining such as a machining center, and in the case of marking, it may be applied by laser printing or the like.
本発明のアバットメントベース群は、ベース部（５）に外側アバットメントの装着される方向を限定するための一つ以上の回転防止機構（６）を有しており、この回転防止機構としては支台部（５）に、アバットメントベース長軸方向に凹凸を設けたり、溝を設けたりすることが可能である。 The abutment base group of the present invention has at least one rotation preventing mechanism (6) for limiting the mounting direction of the outer abutment on the base portion (5). The abutment portion (5) can be provided with irregularities or grooves in the abutment base major axis direction.
本発明のアバットメントベース群は、チタンやコバルトクロムといった生体親和性の高い金属材料や、ジルコニアなどのセラミックス材料、ポリエーテルエーテルケトン（PEEK）などの樹脂材料をはじめとする、公知の歯科材料から作製されたアバットメントベースを含む。 The abutment base group of the present invention includes metal materials with high biocompatibility such as titanium and cobalt chromium, ceramic materials such as zirconia, resin materials such as polyether ether ketone (PEEK), and other known dental materials. Includes a manufactured abutment base.
本発明のアバットメントベース群のアバットメントベースには、ジルコニアなどのセラミックス材料、ハイブリッドセラミックスなどの樹脂材料をはじめとする公知の歯科材料から作製された外側アバットメントを装着することが出来る。 The abutment base of the abutment base group of the present invention can be fitted with an outer abutment made of a known dental material such as a ceramic material such as zirconia or a resin material such as hybrid ceramics.
本発明のアバットメントベース群のアバットメントベースからなる２パーツアバットメントには、ジルコニアなどのセラミックス材料、ハイブリッドセラミックスなどの樹脂材料をはじめとする公知の歯科材料から作製された歯冠形態を有する歯科補綴装置を装着することが出来る。 The two-part abutment including the abutment base of the abutment base group of the present invention has a dental crown having a crown shape made of a known dental material such as a ceramic material such as zirconia or a resin material such as hybrid ceramics. A prosthetic device can be attached.
本発明によれば、幅広い患者個々の適応部位の形状に対応したアバットメントベース群を用意することで、費用・手間・時間をかけずに必要とするアバットメントベースを選択・使用することが可能になる。
また、選択される値の上限値・下限値の範囲およびその範囲内における間隔を適切に決定することで、簡易にアバットメントベース形状を選択することが可能になる。
アバットメントベース群のアバットメントベースには、回転防止機構を付与することにより外側アバットメントの挿入時に外側アバットメントが回転するのを抑制または防止し、正確な装着が可能となる。また、ベース部には目印を付与することで、ベース部高さを簡易に視認でき、ベース部高さの形態修整を行う際は作業性が向上する。
According to the present invention, by preparing an abutment base group corresponding to the shape of a wide range of individual patient adaptation sites, it is possible to select and use the required abutment base without spending time, labor and time. become.
Further, by appropriately determining the range of the upper limit value/lower limit value of the selected value and the interval within the range, it becomes possible to easily select the abutment base shape.
By providing a rotation preventing mechanism to the abutment bases of the abutment base group, it is possible to suppress or prevent the outer abutment from rotating when the outer abutment is inserted, and it is possible to accurately mount the abutment base. Further, by providing a mark on the base portion, the height of the base portion can be easily visually recognized, and the workability is improved when the base portion height is modified.
本発明の上記した作用および利得は、次に説明する発明を実施するための形態から明らかにされる。以下、本発明を図面に示す実施形態に基づき説明する。ただし、本発明はこれら実施形態に限定されるものではない。 The above-described operation and gain of the present invention will be clarified from the modes for carrying out the invention described below. Hereinafter, the present invention will be described based on the embodiments shown in the drawings. However, the present invention is not limited to these embodiments.
図１・２は、アバットメントベース群に含まれる一つの形態のアバットメントベースである。アバットメントベースは、嵌合部（２）、歯肉縁下部（３）、マージンライン（４）、ベース部（５）を有する。ベース部（５）には、外側アバットメント（９）の装着される方向を限定するための一つ以上の回転防止機構（６）が存在する。 1 and 2 show one form of abutment base included in the abutment base group. The abutment base has a fitting portion (2), a lower gingival margin (3), a margin line (4), and a base portion (5). The base part (5) has one or more anti-rotation mechanisms (6) for limiting the mounting direction of the outer abutment (9).
アバットメントベースの中心には、アバットメントベースを人工歯根（１１）に装着するための固定具が挿入されるアクセスホール（７）を有しており、このアクセスホールに固定具を挿入・締結することで嵌合部（２）と人工歯根（１１）が固定される。ここでは、公知の人工歯根や固定具を用いることができる。
嵌合部（２）・アクセスホール（７）・固定具の形状は、装着される任意の人工歯根（１１）の形態によって決まる。
At the center of the abutment base, there is an access hole (7) into which a fixture for attaching the abutment base to the artificial tooth root (11) is inserted, and the fixture is inserted and fastened in this access hole. As a result, the fitting portion (2) and the artificial tooth root (11) are fixed. Here, a known artificial tooth root or a fixture can be used.
The shapes of the fitting portion (2), the access hole (7), and the fixture are determined by the shape of any artificial tooth root (11) to be mounted.
口腔内での装着状態において、アバットメントベースの歯肉縁下部（３）は歯肉内に埋設され、歯肉と隣接する部位となる。マージンライン（４）は歯肉との境界線に位置し、ベース部（５）には外側アバットメント（９）が挿入され、歯科用の接着材等を用いて固定される。外側アバットメントは、歯科補綴装置が装着される支台部となる。歯科補綴装置は、例えば人工歯冠のように歯列の欠損部を実質的に補う部材であり、歯牙を模した形状を有しており、歯牙の形状及び質感が再現されている。このような外側アバットメント・歯科補綴装置や歯科用接着材には公知のものを用いることができる。 In the mounted state in the oral cavity, the lower gingival margin (3) of the abutment base is embedded in the gingiva and is a portion adjacent to the gingiva. The margin line (4) is located at the boundary with the gingiva, and the outer abutment (9) is inserted into the base portion (5) and fixed using a dental adhesive or the like. The outer abutment serves as an abutment on which the dental prosthesis is mounted. The dental prosthesis device is a member that substantially supplements a defective part of a tooth row, such as an artificial dental crown, has a shape simulating a tooth, and the shape and texture of the tooth are reproduced. Known materials can be used for the outer abutment/dental prosthesis and the dental adhesive.
図３は、アバットメントベース群に含まれるアバットメントベースは目印（８）を有していることを示している。前記目印（８）は、ベース部（５）に一定の配列で付与されたアバットメントベース長軸に対する周方向の凹凸形状またはマーキングであり、この配列はマージンライン（４）から1.0〜3.0mm離れた位置を基準とし、そこから0.5〜2.0mmの間隔で並ぶことを特徴とする。図２・３の例で示すように、目印（８）はマージンライン（４）から2.0mm離れた位置を基準とし、1.0mmの間隔で配列されることが好ましい。目印（８）が凹凸形状の場合は、マシニングセンタなどの機械加工によって付与してもよく、マーキングの場合はレーザー印字などで付与しても良い。 FIG. 3 shows that the abutment base included in the abutment base group has a mark (8). The mark (8) is an irregular shape or marking in the circumferential direction with respect to the abutment base major axis, which is given to the base portion (5) in a fixed arrangement, and this arrangement is 1.0 to 3.0 mm away from the margin line (4). It is characterized by arranging at intervals of 0.5 to 2.0 mm from that position as a reference. As shown in the examples of FIGS. 2 and 3, the marks (8) are preferably arranged at intervals of 1.0 mm with reference to the position 2.0 mm away from the margin line (4). When the mark (8) has an uneven shape, it may be applied by machining such as a machining center, and in the case of marking, it may be applied by laser printing or the like.
この目印（８）を付与することで、簡易にアバットメントベースのベース部高さを視認することが出来るようになる。測定器具を用いずとも異なるベース部高さのアバットメントベースと識別可能となり、誤使用を回避できる。また、外側アバットメントを作製する段階でベース部高さが長すぎて、外側アバットメントの長軸方向厚さが不足すると判断された際は、この目印（８）を目印として、ベース部高さを削減することが出来る。 By providing this mark (8), the height of the base portion of the abutment base can be easily visually recognized. It is possible to distinguish from an abutment base having a different base height without using a measuring instrument, and misuse can be avoided. In addition, when it is determined that the height of the base portion is too long at the stage of manufacturing the outer abutment and the thickness of the outer abutment in the longitudinal direction is insufficient, the height of the base portion is set using this mark (8) as a mark. Can be reduced.
以上のようなアバットメントベース（１）は後述する値の決定により簡易に選択することができる。 The abutment base (1) as described above can be easily selected by determining a value described later.
図４は、アバットメントベース群に含まれる一つの形態のアバットメントベースの選択される寸法の位置関係を示している。マージンライン（４）の直径をマージンライン直径（Ａ）、マージンライン（４）からベース部の天面までの高さをベース部高さ（Ｂ）、嵌合部（２）からマージンライン（４）までの高さを歯肉縁下部高さ（Ｃ）及び、ベース部の肉厚をベース部厚さ（Ｄ）とする。この４つの値が選択できるアバットメントベースを含むアバットメントベース群を用意することで、これらの値の選択によりアバットメントベースを簡易に選択することが出来ようになる。具体的には図４はマージンライン直径（Ａ）、ベース部高さ（Ｂ）、歯肉縁下部高さ（Ｃ）、ベース部厚さ（Ｄ）をそれぞれ、6.0mm、6.5mm、2.0mm、0.4mmと決定することで選択されたアバットメントベースである。 FIG. 4 shows a positional relationship of selected dimensions of one form of abutment base included in the abutment base group. The diameter of the margin line (4) is the diameter of the margin line (A), the height from the margin line (4) to the top surface of the base portion is the height of the base portion (B), and the height of the fitting portion (2) is the margin line (4). ) Is the height below the gingival margin (C), and the wall thickness of the base portion is the base portion thickness (D). By preparing an abutment base group including an abutment base from which these four values can be selected, it becomes possible to easily select the abutment base by selecting these values. Specifically, in FIG. 4, the margin line diameter (A), the base portion height (B), the gingival margin lower portion height (C), and the base portion thickness (D) are 6.0 mm, 6.5 mm, 2.0 mm, respectively. It is an abutment base selected by determining 0.4 mm.
マージンライン直径（Ａ）は、3〜10mmの範囲である。アバットメントベース形状のマージンライン直径（Ａ）の値の範囲はこれまで開示されていない。関連する値として、特許文献５には人工歯根の最大直径は約3〜6mmの値とある。アバットメントベース形状では、人工歯根との嵌合部（２）からマージンライン（４）へと直径が拡大する形状が好ましいため、前記約3〜6mmの範囲よりも大きなマージンライン（４）を有する形状を選択できるようマージン直径（Ａ）の範囲を決定した。これにより、公知の人工歯根上との組合せが成立し、アバットメントベースを任意に選択可能となる。 The margin line diameter (A) is in the range of 3-10 mm. The range of values for the margin line diameter (A) of the abutment base shape has not been disclosed so far. As a related value, in Patent Document 5, the maximum diameter of the artificial tooth root is a value of about 3 to 6 mm. In the abutment base shape, it is preferable that the diameter expands from the fitting portion (2) with the artificial tooth root to the margin line (4), so that the abutment base shape has a margin line (4) larger than the range of about 3 to 6 mm. The range of margin diameter (A) was determined so that the shape could be selected. As a result, a combination with a known artificial tooth root is established, and the abutment base can be arbitrarily selected.
マージンライン直径（Ａ）は、上記範囲の中から0.25〜2.0mmの間隔で選択される。好ましくは0.5〜1.0mmの間隔、更に好ましくは0.5mmまたは1.0mmの間隔で選択される。この間隔は、0.25mm以下の間隔では間隔ごとの形状差異が小さくなりすぎ、2.0mm以上では選択可能な形状が少なくなりすぎることから設定した。更に0.5mmまたは1.0mmの間隔とすることで、一般的な定規などを用いて計測・認識することや、直感的に大きさを把握することが可能となる。また、上記の間隔で選択できるようにすることで、アバットメントベース群を構成するアバットメントベースの数が不必要に増大することを抑制し、簡易にアバットメントベース群からアバットメントベースを選択できることが可能になる。 The margin line diameter (A) is selected from the above range at intervals of 0.25 to 2.0 mm. It is preferably selected at intervals of 0.5 to 1.0 mm, more preferably at intervals of 0.5 mm or 1.0 mm. This interval was set because the difference in shape for each interval becomes too small at intervals of 0.25 mm or less and the selectable shapes become too small at 2.0 mm or more. Further, by setting the interval to 0.5 mm or 1.0 mm, it becomes possible to measure/recognize using a general ruler or to intuitively grasp the size. In addition, by making it possible to select at the intervals described above, it is possible to suppress an unnecessary increase in the number of abutment bases that form the abutment base group, and to easily select an abutment base from the abutment base group. Will be possible.
具体的には、小径の人工歯根を埋入し、隣在する天然歯または歯科補綴装置との距離が近い場合が多い前歯部への症例の範囲であれば、より細かな直径値の選択が必要となり0.5mm間隔が必要となる。一方、人工歯根が大きな径となり、隣在する天然歯または歯科補綴装置との距離が大きくなる臼歯部等の症例の範囲であればその間隔は1.0mmでも十分である。 Specifically, if a small-diameter artificial root is implanted and the range of the case to the anterior tooth that is often close to the adjacent natural tooth or dental prosthesis, it is possible to select a finer diameter value. Required and 0.5mm spacing is required. On the other hand, if the artificial root has a large diameter and the distance to the adjacent natural tooth or the dental prosthesis is large in the case of a molar or the like, the interval of 1.0 mm is sufficient.
ベース部高さ（Ｂ）は、2〜10mmの範囲である。これは、アバットメント形状の範囲としては、アバットメント高さの範囲が1.5〜15mmが良いという値が特許文献５に開示されている。これを参考とし、この範囲を網羅できるアバットメントベース形状となるように後記歯肉縁下部高さ（Ｃ）との関係から設定した。例えば、ベース部高さ（Ｂ）を8.0mm、歯肉縁下部（Ｃ）を8.0mmとすると、アバットメントベース部の全高は16.0mmとなり、歯槽骨の吸収が生じている患者への適応に対しても対応することができるようになる。 The base height (B) is in the range of 2-10 mm. As a range of the abutment shape, a value that the range of abutment height is preferably 1.5 to 15 mm is disclosed in Patent Document 5. With reference to this, it was set from the relationship with the lower gingival margin height (C) described below so that the abutment base shape can cover this range. For example, if the base height (B) is 8.0 mm and the lower gingival margin (C) is 8.0 mm, the total height of the abutment base is 16.0 mm, which is suitable for patients with alveolar bone resorption. You will be able to deal with it.
ベース部高さ（Ｂ）は、上記範囲の中から、0.25〜2.0mmの間隔で選択される。好ましくは0.5〜1.0mmの間隔、更に好ましくは0.5mmまたは1.0mmの間隔で設定される。この間隔は、0.25mm以下の間隔では間隔ごとの形状差異が小さくなりすぎ、2.0mm以上では選択可能な形状が少なくなりすぎることから設定した。更に0.5mmまたは1.0mmの間隔とすることで、一般的な定規などを用いて計測・認識することや、直感的に大きさを把握することが可能となる。また、上記の間隔で選択できるようにすることで、アバットメントベース群を構成するアバットメントベースの数が不必要に増大することを抑制し、簡易にアバットメントベース群からアバットメントベースを選択できることが可能になる。 The height (B) of the base portion is selected from the above range at intervals of 0.25 to 2.0 mm. The distance is preferably set to 0.5 to 1.0 mm, more preferably set to 0.5 mm or 1.0 mm. This interval was set because the difference in shape for each interval becomes too small at intervals of 0.25 mm or less and the selectable shapes become too small at 2.0 mm or more. Further, by setting the interval to 0.5 mm or 1.0 mm, it becomes possible to measure/recognize using a general ruler or to intuitively grasp the size. In addition, by making it possible to select at the intervals described above, it is possible to suppress an unnecessary increase in the number of abutment bases that form the abutment base group, and to easily select an abutment base from the abutment base group. Will be possible.
具体的には、外側アバットメントの高さが小さくなる臼歯部への症例の範囲では、より細かなアバットメント高さの選択が必要となり0.5mm間隔が必要となる。一方、外側アバットメントの高さが大きくなる前歯部への症例の範囲であればその間隔は1.0mmでも十分である。 Specifically, in the range of cases to the posterior part where the height of the outer abutment is small, it is necessary to select a finer abutment height and 0.5 mm intervals are required. On the other hand, if the outer abutment has a large height to the anterior tooth, the gap of 1.0 mm is sufficient.
歯肉縁下部高さ（Ｃ）は、0.1〜10mmの範囲である。これは、アバットメント形状の範囲として、歯肉縁下部高さ（Ｃ）の範囲が0.5〜5mmが良いという値が特許文献５に開示されている。この値よりも歯肉縁下部高さのある形状を選択できる範囲とすることで歯肉退縮が生じて歯冠長の長い患者への適応に対してもアバットメントベース形状として対応することができるようになる。 The lower gingival height (C) is in the range of 0.1 to 10 mm. As a range of the abutment shape, a value that the lower gingival margin height (C) range is preferably 0.5 to 5 mm is disclosed in Patent Document 5. By setting a shape with a lower gingival height higher than this value so that it can be used as an abutment base shape even when it is applied to patients with long crown length due to gingival retraction. Become.
歯肉縁下部高さ（Ｃ）は、上記範囲の中から、0.25〜2.0mmの間隔で選択される。好ましくは0.5〜1.0mmの間隔、更に好ましくは0.5mmまたは1.0mmの間隔で設定される。この間隔は、0.25mm以下の間隔では間隔ごとの形状差異が小さくなりすぎ、2.0mm以上では選択可能な形状が少なくなりすぎることから設定した。更に0.5mmまたは1.0mmの間隔とすることで、一般的な定規などを用いて計測・認識することや、直感的に大きさを把握することが可能となる。また、上記の間隔で選択できるようにすることで、アバットメントベース群を構成するアバットメントベースの数が不必要に増大することを抑制し、簡易にアバットメントベース群からアバットメントベースを選択できることが可能になる。 The lower gingival height (C) is selected from the above range at intervals of 0.25 to 2.0 mm. The distance is preferably set to 0.5 to 1.0 mm, more preferably set to 0.5 mm or 1.0 mm. This interval was set because the difference in shape for each interval becomes too small at intervals of 0.25 mm or less and the selectable shapes become too small at 2.0 mm or more. Further, by setting the interval to 0.5 mm or 1.0 mm, it becomes possible to measure/recognize using a general ruler or to intuitively grasp the size. In addition, by making it possible to select at the intervals described above, it is possible to suppress an unnecessary increase in the number of abutment bases that form the abutment base group, and to easily select an abutment base from the abutment base group. Will be possible.
具体的には、人工歯根の埋入された位置から歯肉までの距離が短い症例の範囲の場合、歯肉縁下部高さの値は小さな値となり、より細かな歯肉縁下部高さの選択が必要となるため0.5mm間隔が必要となる。一方、歯肉退縮が生じている症例の範囲であれば歯肉縁下部高さの値は大きな値となりその間隔は1.0mmでも十分である。 Specifically, in the case of a range of cases where the distance from the position where the artificial tooth root is embedded to the gingiva is short, the value of the lower gingival height becomes a small value, and it is necessary to select a finer lower gingival height. Therefore, 0.5mm interval is required. On the other hand, within the range of cases where gingival retraction occurs, the value of the lower gingival margin is large, and the gap of 1.0 mm is sufficient.
ベース部厚さ（Ｄ）は、0.2〜1.0mmの範囲である。これは、0.2mm以下となると薄すぎてベース部の強度が担保出来ないためである。また、1.0mm以上では、マージンライン直径（Ａ）に対してベース部が太い形状となる。このような形状は、従来のアバットメント形状と差異がなく、審美性に優れるアバットメントベース形状としての要望を満たさないため範囲外とした。また、1.0mm以上を含むと後記（式２）のように、ベース部の直径がマージンライン直径（Ａ）よりも大きくなることが増加し、アバットメントベースとして成立しない形状が増え、アバットメントベース群からの簡易な選択を阻害するため、この範囲に設定した。 The base thickness (D) is in the range of 0.2 to 1.0 mm. This is because if the thickness is 0.2 mm or less, the strength of the base portion cannot be ensured because it is too thin. On the other hand, if it is 1.0 mm or more, the base portion becomes thicker than the margin line diameter (A). Such a shape is out of the range because it has no difference from the conventional abutment shape and does not satisfy the demand as an abutment base shape having excellent aesthetics. In addition, when 1.0 mm or more is included, the diameter of the base portion becomes larger than the margin line diameter (A), as shown in (Expression 2), and the number of shapes that cannot be established as an abutment base increases. This range was set to prevent easy selection from the group.
ベース部厚さ（Ｄ）は、上記範囲の中から、0.05〜0.5mmの間隔で選択される。好ましくは0.1mmまたは0.2mmの間隔で設定される。この間隔は、0.05mm以下の間隔では間隔ごとの形状差異が小さくなりすぎ、0.2mm以上では選択可能な形状が少なくなりすぎることから設定した。更に0.1mmまたは0.2mmの間隔とすることで、一般的なノギスなどを用いて計測・認識することが可能となる。また、上記の間隔で選択できるようにすることで、アバットメントベース群を構成するアバットメントベースの数が不必要に増大することを抑制し、簡易にアバットメントベース群からアバットメントベースを選択できることが可能になる。 The base portion thickness (D) is selected from the above range at intervals of 0.05 to 0.5 mm. Preferably, the intervals are set to 0.1 mm or 0.2 mm. This interval was set because the difference in shape for each interval becomes too small when the interval is 0.05 mm or less, and the selectable shapes become too small when the interval is 0.2 mm or more. Further, by setting the interval to 0.1 mm or 0.2 mm, it becomes possible to measure and recognize using a general caliper. In addition, by making it possible to select at the intervals described above, it is possible to suppress an unnecessary increase in the number of abutment bases that form the abutment base group, and to easily select an abutment base from the abutment base group. Will be possible.
また、ベース部は円筒形状に近似できる。同じ孔径を有する円筒形状であれば、肉厚を増やすことで強度と表面積が増えることは公知の通りである。また、接着力は、接着表面積に比例することも公知の通りである。よって、ベース部厚さを選択することで審美性・強度・外側アバットメントとの接着強度を適応部位に応じて調整することが出来る。 Further, the base portion can be approximated to a cylindrical shape. It is well known that the strength and the surface area are increased by increasing the wall thickness in the case of a cylindrical shape having the same pore diameter. It is also known that the adhesive force is proportional to the adhesive surface area. Therefore, by selecting the thickness of the base portion, the aesthetics, strength, and adhesive strength with the outer abutment can be adjusted according to the application site.
具体的には、より小径の人工歯根を埋入し、隣在する天然歯または歯科補綴装置との距離が近い場合が多い前歯部への症例の範囲であれば、より細かなベース部厚さの選択が必要となり0.1mm間隔が必要となる。また、審美性が要求される部位のため、ベース部厚さは0.4mmなどの値を選択し、ベース部が外側アバットメントの内側に遮蔽され目立たないような選択をする。
一方、人工歯根が大きな径となり、隣在する天然歯または歯科補綴装置との距離が大きくなる臼歯部等の症例の範囲であればその間隔は0.2mmでも十分である。また、アバットメントベース自体の強度と外側アバットメントとの接着強度が要求される部位のため、ベース部厚さは0.6mmなどの値を選択する。
Specifically, if a smaller-diameter artificial root is embedded and there is a case of an anterior tooth that is often close to the adjacent natural tooth or dental prosthesis, a smaller base thickness Is required, and 0.1mm intervals are required. In addition, because it is a site that requires aesthetics, select a value such as 0.4 mm for the base thickness, and make a selection so that the base is hidden by the inside of the outer abutment.
On the other hand, if the artificial root has a large diameter and the distance to the adjacent natural tooth or the dental prosthesis is large in the case of a molar or the like, the spacing of 0.2 mm is sufficient. In addition, since the strength of the abutment base itself and the adhesion strength with the outer abutment are required, a value such as 0.6 mm is selected as the base thickness.
図５は、アバットメントベース群から４つの値を選択したアバットメントベースの実際の例を示す図である。図５（a）はマージンライン直径（Ａ）、ベース部高さ（Ｂ）、歯肉縁下部高さ（Ｃ）、ベース部厚さ（Ｄ）をそれぞれ、4.0mm、5.0mm、0.5mm、0.4mmと決定することで選択されたアバットメントベース、図５（b）はマージンライン直径（Ａ）、ベース部高さ（Ｂ）、歯肉縁下部高さ（Ｃ）、ベース部厚さをそれぞれ、7.0mm、5.0mm、3.0mm、0.6mmと決定することで選択されたアバットメントベース、図５（c）はマージンライン直径（Ａ）、ベース部高さ（Ｂ）、歯肉縁下部高さ（Ｃ）、ベース部厚さ（Ｄ）をそれぞれ、5.0mm、8.0mm、8.0mm、0.6mmと決定することで選択されたアバットメントベースである。 FIG. 5 is a diagram showing an actual example of an abutment base in which four values are selected from the abutment base group. Fig. 5(a) shows margin line diameter (A), base height (B), gingival margin lower height (C), and base thickness (D) of 4.0 mm, 5.0 mm, 0.5 mm and 0.4, respectively. The abutment base selected by determining as mm, FIG.5(b) is a margin line diameter (A), a base part height (B), a gingival margin lower part height (C), and a base part thickness, respectively. Abutment base selected by determining 7.0 mm, 5.0 mm, 3.0 mm, and 0.6 mm. Fig. 5 (c) shows margin line diameter (A), base height (B), gingival margin lower height ( C) and the thickness (D) of the base portion are 5.0 mm, 8.0 mm, 8.0 mm, and 0.6 mm, respectively, which are selected abutment bases.
アバットメントベース群には、除外されるべきアバットメントベースの形態も存在する。下記の（式１）およびまたは（式２）に該当するようなアバットメントベース形状は含まない。
（式１）嵌合部（２）直径 ＞ マージンライン直径（Ａ）
（式２）ベース部（５）直径 ＞ マージンライン直径（Ａ）
In the abutment base group, there are also abutment base forms to be excluded. The abutment base shape that corresponds to the following (Formula 1) and/or (Formula 2) is not included.
(Formula 1) Fitting part (2) diameter> Margin line diameter (A)
(Equation 2) Base part (5) diameter> Margin line diameter (A)
具体的には、嵌合部（２）の直径が6.0mmの時、マージンライン直径（Ａ）が4.0mmとなるようなアバットメントベースは、アバットメントベース群には含まない。また、アクセスホール（７）の直径が3.0mm、ベース部厚さ（Ｄ）が1.0mmの時、ベース部（５）の直径は5.0mmとなるため、マージンライン直径（Ａ）が4.0mmとなるようなアバットメントベースは、アバットメントベース群には含めない。 Specifically, the abutment bases whose margin line diameter (A) is 4.0 mm when the diameter of the fitting portion (2) is 6.0 mm are not included in the abutment base group. When the diameter of the access hole (7) is 3.0 mm and the thickness of the base portion (D) is 1.0 mm, the diameter of the base portion (5) is 5.0 mm, so the margin line diameter (A) is 4.0 mm. Such abutment bases are not included in the abutment base group.
本発明のアバットメントベース群は具体的には、嵌合部（２）の直径が3.0mmである時、
-マージンライン直径（Ａ）を4.0〜8.0mmの範囲から、4.0、4.5、5.0、5.5、6.0、6.5、7.0mmと選択し、
-ベース部高さ（Ｂ）を2〜10mmの範囲から、5.0、6.5、8.0mmと選択し、
-歯肉縁下高さ（Ｃ）を1〜8mmの範囲から、0.5、1.0、2.0、3.0、4.0、5.0、6.0、8.0mmと選択し
-ベース部厚さ（Ｄ）を0.2〜1.0mmの範囲から、0.4、0.6mmと選択した場合は、336形態のアバットメントベース形態を含むアバットメントベース群となる。
Specifically, the abutment base group of the present invention, when the diameter of the fitting portion (2) is 3.0 mm,
-Select the margin line diameter (A) from the range of 4.0 to 8.0 mm as 4.0, 4.5, 5.0, 5.5, 6.0, 6.5, 7.0 mm,
-Select the base height (B) from 2 to 10 mm, 5.0, 6.5, 8.0 mm,
-Select the subgingival height (C) from the range of 1 to 8 mm as 0.5, 1.0, 2.0, 3.0, 4.0, 5.0, 6.0, 8.0 mm.
-When the thickness (D) of the base portion is selected from the range of 0.2 to 1.0 mm to be 0.4 or 0.6 mm, the abutment base group includes 336 abutment base shapes.
本発明のアバットメントベース群は、前記マージンライン直径（Ａ）、ベース部高さ（Ｂ）、歯肉縁下部高さ（Ｃ）及び、ベース部厚さ（Ｄ）とは異なる部位の値の選択からも構成・決定することが可能である。つまり、前記４つの値と異なる部位の値であっても、前記４つの値を算出することが可能な場合、前記マージンライン直径（Ａ）、ベース部高さ（Ｂ）、歯肉縁下部高さ（Ｃ）及び、ベース部厚さ（Ｄ）とは異なる部位の値からアバットメントベースを選択することが可能となる。 In the abutment base group of the present invention, selection of a value of a portion different from the margin line diameter (A), the height of the base portion (B), the height of the lower gingival margin (C), and the thickness of the base portion (D). It is also possible to configure and decide from. That is, even if the values of the part different from the four values can be calculated, the margin line diameter (A), the base portion height (B), and the gingival margin lower portion height can be calculated. It is possible to select the abutment base from the values of (C) and the portion different from the base portion thickness (D).
具体的には、アバットメントベース全体の高さと歯肉縁下部高さ（Ｃ）の値を選択した場合、「アバットメントベース全体の高さ − 歯肉縁下部高さ（Ｃ）」の計算式で、ベース部高さ（Ｂ）の値を算出することが可能である。つまり、アバットメントベース全体の高さと歯肉縁下部高さ（Ｃ）の値の組合せからも、アバットメントベース形状が選択可能となる。また、ベース部の直径の値を選択した場合、「（ベース部の直径 − アクセスホールの直径）/ 2」の計算式でベース部厚さ（Ｄ）の値を算出することが可能であるため、ベース部直径の値の選択からも、アバットメントベース形状が選択可能となる。 Specifically, when the values of the height of the entire abutment base and the height of the lower gingival margin (C) are selected, the formula of "the height of the entire abutment base-the lower height of the gingival margin (C)", It is possible to calculate the value of the base portion height (B). That is, the abutment base shape can be selected from the combination of the height of the entire abutment base and the value of the lower gingival margin height (C). Moreover, when the value of the diameter of the base is selected, it is possible to calculate the value of the thickness (D) of the base by the formula "(diameter of base-diameter of access hole)/2". Also, the abutment base shape can be selected from the selection of the value of the base portion diameter.
図６にアバットメントベース群から選択されたアバットメントベースを口腔内に適応した状態の模式図のある例を示す。ここでは、前歯部に埋入された人工歯根（１１）にアバットメントベース（１）を適応する場合を想定している。アバットメントベース（１）の歯肉縁下部高さ（Ｃ）を高くした形状を選択すれば、アバットメントベース部に装着される外側アバットメント（９）が細長く・薄い形状になることを改善できる。これにより、外側アバットメントが破折やチッピングすることを回避することが出来る。 FIG. 6 shows an example of a schematic diagram of a state in which an abutment base selected from the abutment base group is applied to the oral cavity. Here, it is assumed that the abutment base (1) is applied to the artificial tooth root (11) embedded in the front tooth portion. By selecting a shape in which the height (C) of the lower part of the gingival margin of the abutment base (1) is selected, it is possible to improve that the outer abutment (9) mounted on the abutment base portion becomes elongated and thin. This can prevent the outer abutment from breaking or chipping.
２パーツアバットメント用のアバットメントベースではあるが、患者個々の適応部位の形状に応じた形状を選択できるため、外側アバットメントを装着することによる審美性の向上などを要求しない場合、従来のアバットメントと同様の使用も可能である。つまり、本発明のアバットメントベース群のアバットメントベースには、外側アバットメント（９）を装着せずに直接、歯科補綴装置（１０）を装着する使用方法も可能である。 Although it is an abutment base for a two-part abutment, the shape can be selected according to the shape of the adaptation site of each patient, so if the improvement of aesthetics by mounting the outer abutment is not required, the conventional abutment It can also be used in the same way as a ment. That is, it is possible to use the dental prosthesis device (10) directly without attaching the outer abutment (9) to the abutment base of the abutment base group of the present invention.
図７にアバットメントベース群から選択されたアバットメントベースを口腔内に適応した状態の模式図の異なる例を示す。ここでは、前歯部に埋入された人工歯根（１１）にアバットメントベース（１）を適応する場合を想定している。アバットメントベース（１）の歯肉縁下部高さ（Ｃ）・ベース部高さ（Ｂ）を高くした形状を選択すれば、外側アバットメント（９）を使用せずに直接、歯科補綴装置（１０）をアバットメントベースに装着することも可能となる。本使用方法ではアバットメントベース自体が歯肉縁上に露出する可能性もあり、図６に示した２パーツアバットメントとして使用される場合よりも、審美性などは劣るが、口腔内に装着される部品点数が減少することにより、製造コストの低減や、各パーツ間の接着箇所が減少し、接着部位からの脱離や残留接着材による歯肉炎などの恐れを回避できる。 FIG. 7 shows a different example of a schematic view of a state in which an abutment base selected from the abutment base group is applied to the oral cavity. Here, it is assumed that the abutment base (1) is applied to the artificial tooth root (11) embedded in the front tooth portion. If a shape in which the lower gingival height (C) and the base portion height (B) of the abutment base (1) are increased is selected, the dental prosthesis device (10) can be directly used without using the outer abutment (9). ) Can be attached to the abutment base. In this method of use, the abutment base itself may be exposed on the gingival margin, which is inferior in aesthetics to the case of being used as the two-part abutment shown in FIG. Since the number of parts is reduced, the manufacturing cost is reduced, the number of bonding points between the respective parts is reduced, and the risk of gingivitis due to detachment from the bonding sites or residual adhesive material can be avoided.
アバットメントベース群に含まれるアバットメントベースには、ベース部（５）に挿入された外側アバットメントが回転するのを防止するための、少なくとも一つ以上の回転防止構造（６）を備えているアバットメントベースを含むことが出来る。回転防止機構としてはベース部（５）に、アバットメントベースの長軸方向に凹凸を設けたり、溝を設けたりすることが可能である。図３では、ベース部（５）の一部が凹んだ形状の回転防止機構（６）が示されている。これにより、外側アバットメントがアバットメントベースに対して回転するのを抑制または防止し、装着した際の外側アバットメントの向きを一方向に定義することが可能となる。 The abutment bases included in the abutment base group are provided with at least one anti-rotation structure (6) for preventing the outer abutment inserted in the base part (5) from rotating. It may include an abutment base. As the rotation preventing mechanism, it is possible to provide the base portion (5) with irregularities or grooves in the major axis direction of the abutment base. FIG. 3 shows the rotation preventing mechanism (6) in which the base portion (5) is partially recessed. This makes it possible to suppress or prevent the outer abutment from rotating with respect to the abutment base, and to define the direction of the outer abutment when it is mounted in one direction.
本発明のアバットメントベース群は、チタンやコバルトクロムといった生体親和性の高い金属材料や、ジルコニアなどのセラミックス材料、ポリエーテルエーテルケトン（PEEK）などの樹脂材料をはじめとする、公知の歯科材料から作製されたアバットメントベースを含む。 The abutment base group of the present invention includes metal materials with high biocompatibility such as titanium and cobalt chromium, ceramic materials such as zirconia, resin materials such as polyether ether ketone (PEEK), and other known dental materials. Includes a manufactured abutment base.
本発明のアバットメントベース群のアバットメントベースには、ジルコニアなどのセラミックス材料、ハイブリッドセラミックスなどの樹脂材料をはじめとする公知の歯科材料から作製された外側アバットメントを装着することが出来る。 The abutment base of the abutment base group of the present invention can be fitted with an outer abutment made of a known dental material such as a ceramic material such as zirconia or a resin material such as hybrid ceramics.
本発明のアバットメントベース群のアバットメントベースからなる２パーツアバットメントには、ジルコニアなどのセラミックス材料、ハイブリッドセラミックスなどの樹脂材料をはじめとする公知の歯科材料から作製された歯冠形態を有する歯科補綴装置を装着することが出来る。 The two-part abutment including the abutment base of the abutment base group of the present invention has a dental crown having a crown shape made of a known dental material such as a ceramic material such as zirconia or a resin material such as hybrid ceramics. A prosthetic device can be attached.
本発明の歯科インプラント用アバットメントベース群は、幅広い患者個々の適応部位の形状に対応できるため臨床応用幅が広く汎用性が高い。従って、本発明は歯科用インプラントの分野に広く利用することが出来る。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The abutment base group for dental implants of the present invention can be applied to a wide range of shapes of the adaptation site of each patient, and thus has a wide range of clinical application and high versatility. Therefore, the present invention can be widely used in the field of dental implants.
１ アバットメントベース
２ 嵌合部
３ 歯肉縁下部
４ マージンライン
５ ベース部
６ 回転防止機構
７ アクセスホール
８ 目印
９ 外側アバットメント
１０ 歯科補綴装置
１１ 人工歯根
１２ 歯肉
１３ 歯槽骨
Ａ マージンライン直径
Ｂ ベース部高さ
Ｃ 歯肉縁下部高さ
Ｄ ベース部厚さ
1 Abutment Base 2 Fitting Part 3 Gingival Lower Part 4 Margin Line 5 Base Part 6 Rotation Prevention Mechanism 7 Access Hole 8 Mark 9 Outer Abutment 10 Dental Prosthesis Device 11 Artificial Root 12 Gingiva 13 Alveolar B Margin Line Diameter B Base Part Height C Lower gingival height D Base thickness
Claims (4)
前記アバットメントベース（１）が、前記人工歯根（１１）に装着される部位である嵌合部（２）、前記嵌合部（２）から滑らかに広がる歯肉縁下部（３）、前記歯肉縁下部（３）の他端に、長軸を中心とした円形であるマージンライン（４）、前記マージンライン（４）の上部に繋がり外側アバットメント（９）が装着される円筒形状のベース部（５）、前記ベース部（５）には外側アバットメント（９）の装着される方向を限定するための一つ以上の回転防止機構（６）及び、アバットメントベース（１）を人工歯根（１１）に装着するための固定具が挿入されるアクセスホール（７）を有し、
前記マージンライン（４）の直径をマージンライン直径（Ａ）、前記マージンライン（４）からベース部（５）の天面までの高さをベース部高さ（Ｂ）、前記嵌合部（２）からマージンライン（４）までの高さを歯肉縁下部高さ（Ｃ）及び、ベース部の肉厚をベース部厚さ（Ｄ）とすると、
-前記マージンライン直径（Ａ）は、3〜10mmの範囲であり、かつ0.25〜2.0mmの間隔で選択でき、
-前記ベース部高さ（Ｂ）は、2〜10mmの範囲であり、かつ0.25〜2.0mmの間隔で選択でき、
-前記歯肉縁下部高さ（Ｃ）は、0.1〜10mmの範囲であり、かつ0.25〜2.0mmの間隔で選択でき、
-前記ベース部厚さ（Ｄ）は、0.2〜1.0mmの範囲であり、かつ0.05〜0.5mmの間隔で選択でき、当該アバットメントベースは下記（式１）および（式２）
（式１）嵌合部（２）直径 ＞ マージンライン直径（Ａ）
（式２）ベース部（５）直径 ＞ マージンライン直径（Ａ）
に該当する形状を含まないことを特徴とするアバットメントベース群。 An abutment base group consisting of an abutment base (1) for dental implants having a plurality of shapes, to which an outer abutment (9) is attached and which is attached on an arbitrary artificial tooth root (11) at the other end,
The abutment base (1) is a fitting part (2) that is a part to be attached to the artificial tooth root (11), a lower gingival margin (3) that spreads smoothly from the fitting part (2), and the gingival margin. At the other end of the lower part (3), a circular margin line (4) centered on the long axis, and a cylindrical base part (4) connected to the upper part of the margin line (4) and fitted with an outer abutment (9) ( 5), one or more anti-rotation mechanisms (6) for limiting the mounting direction of the outer abutment (9) and an abutment base (1) on the base part (5). ) Has an access hole (7) into which a fixture for attachment to
The diameter of the margin line (4) is the margin line diameter (A), the height from the margin line (4) to the top surface of the base portion (5) is the base portion height (B), and the fitting portion (2). ) To the margin line (4) is the lower gingival margin height (C) and the wall thickness of the base portion is the base portion thickness (D),
- the margin line diameter (A) is in the range of 3 to 10 mm, and can be selected at intervals of 0.25～2.0Mm,
- the base portion height (B) is in the range of 2 to 10 mm, and can be selected at intervals of 0.25～2.0Mm,
- the gingival margin lower height (C) is in the range of 0.1 to 10 mm, and can be selected at intervals of 0.25～2.0Mm,
- the base portion thickness (D) is in the range of 0.2 to 1.0 mm, and can be selected at intervals of 0.05 to 0.5 mm, the abutment base below (Equation 1) and (Equation 2)
(Formula 1) Fitting part (2) diameter> Margin line diameter (A)
(Equation 2) Base part (5) diameter> Margin line diameter (A)
Abutment base group characterized by not including a shape corresponding to.
アバットメントベース群に含まれる前記アバットメントベースは目印（８）を有しており、
前記目印（８）は、ベース部（５）に一定の配列で付与されたアバットメントベース長軸に対する周方向の凹凸形状またはマーキングであり、この配列はマージンライン（４）から1.0〜3.0mm離れた位置を基準とし、そこから0.5〜2.0mmの間隔で並ぶことを特徴とするアバットメントベース群。
The abutment base group according to claim 1,
The abutment base included in the abutment base group has a mark (8),
The mark (8) is an irregular shape or marking in the circumferential direction with respect to the abutment base major axis, which is given to the base portion (5) in a fixed arrangement, and this arrangement is 1.0 to 3.0 mm away from the margin line (4). The abutment base group, which is characterized by arranging at intervals of 0.5 to 2.0 mm from that position as a reference.
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