JP6540188B2 - Diluent for epoxy resin, and epoxy resin composition - Google Patents

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Description

本発明は、エポキシ化合物を含有するエポキシ樹脂用希釈剤、及びエポキシ樹脂用希釈剤を含むエポキシ樹脂組成物に関する。   The present invention relates to an epoxy resin diluent containing an epoxy compound, and an epoxy resin composition containing the epoxy resin diluent.

エポキシ樹脂は、接着性、耐食性、機械特性、耐熱性、電気特性等に優れることから、接着材料、光学材料、電子材料等の幅広い用途に使用される樹脂である。
例えばLED等に使用される封止材にエポキシ樹脂が用いられている。封止材用のエポキシ樹脂としては、芳香族エポキシ樹脂よりも耐熱性や耐光性に優れた脂肪族エポキシ樹脂が一般的に使用されており、特に脂肪族環式エポキシ樹脂は、耐光性に優れ、かつ耐熱性に非常に優れた材料として知られている。
Epoxy resins are resins used for a wide range of applications such as adhesive materials, optical materials, electronic materials, etc. because they are excellent in adhesion, corrosion resistance, mechanical properties, heat resistance, electrical properties and the like.
For example, epoxy resin is used for the sealing material used for LED etc. As an epoxy resin for a sealing material, an aliphatic epoxy resin which is more excellent in heat resistance and light resistance than an aromatic epoxy resin is generally used, and in particular, an aliphatic cyclic epoxy resin is excellent in light resistance. It is known as a material which is extremely excellent in heat resistance.

またエポキシ樹脂は放熱材料としても使用されており、特に芳香族エポキシ化合物が、その耐熱性の高さから好ましく用いられている。
一方、エポキシ樹脂の中には粘度の高いものがあり、そのようなエポキシ樹脂を、成型や塗布といった方法で加工する際には、エポキシ樹脂の粘度を低減させ、加工性を向上させる目的で希釈剤が使用されている。一般的には、主材料となるエポキシ樹脂に対し、より粘度の低いエポキシ樹脂が希釈剤として用いられる。例えば水素化したビスフェノールA型エポキシ樹脂を用いる方法が提案されている(特許文献1)。
Epoxy resins are also used as heat dissipation materials, and aromatic epoxy compounds are particularly preferably used because of their high heat resistance.
On the other hand, some epoxy resins have high viscosity, and when such an epoxy resin is processed by a method such as molding or coating, the viscosity of the epoxy resin is reduced to dilute it for the purpose of improving processability. Agents are used. Generally, an epoxy resin having a lower viscosity is used as a diluent for the epoxy resin as the main material. For example, a method of using a hydrogenated bisphenol A epoxy resin has been proposed (Patent Document 1).

特開2000−143939号Japanese Patent Laid-Open No. 2000-143939

しかし、この水素化したビスフェノールA型エポキシ樹脂を希釈剤として使用した際、強度は改善が見られるものの、耐熱性が低下し、脂肪族環式エポキシ樹脂の性能低下を招いている。このように、従来用いられている希釈剤には、主材料となるエポキシ樹脂の低粘度化に寄与する反面、エポキシ樹脂の硬化速度の低下や、希釈剤を使用しなかった場合に比べて、得られる硬化物の物性を低下させるという問題がある。具体的には、主材料となる高い耐熱性を有するエポキシ樹脂を、希釈剤を用いて希釈した場合、加工性は向上するものの、硬化物の耐熱性が低下するという問題がある。主材料のエポキシ樹脂に対して、硬化物の耐熱性を下げずに、加工性を向上させることができる希釈剤はこれまでに見出されていない。   However, when this hydrogenated bisphenol A-type epoxy resin is used as a diluent, although the strength is improved, the heat resistance is lowered and the performance of the aliphatic cyclic epoxy resin is lowered. Thus, while the conventionally used diluent contributes to lowering the viscosity of the epoxy resin which is the main material, it also reduces the curing speed of the epoxy resin, as compared with the case where no diluent is used. There is a problem of reducing the physical properties of the resulting cured product. Specifically, when an epoxy resin having high heat resistance, which is a main material, is diluted with a diluent, although the processability is improved, there is a problem that the heat resistance of the cured product is reduced. With respect to the epoxy resin of the main material, a diluent capable of improving the processability without lowering the heat resistance of the cured product has not been found so far.

本発明は、エポキシ樹脂と混合して硬化させても、元のエポキシ樹脂の物性を損なうことなく、加工性が向上するエポキシ樹脂用途の希釈剤を得ることを課題とする。   An object of the present invention is to obtain a diluent for epoxy resin applications, which improves processability without impairing the physical properties of the original epoxy resin even when mixed with an epoxy resin and cured.

本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定の構造を有するブテンジオールを出発原料としたエポキシ化合物が得られ、既に本発明者が特許出願をおこなっている特願2013−212891号に記載のエポキシ樹脂が、本課題を解決する希釈剤となることを見出し、本発明に到達した。
すなわち、本発明の要旨は、
[1]下記一般式(1)及び(2)から選ばれる少なくとも一方で表される構造を有することを特徴とするエポキシ樹脂用希釈剤、
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors obtained an epoxy compound using a butenediol having a specific structure as a starting material, and the present applicant has already filed a patent application for patent application 2013 It has been found that the epoxy resin described in JP-A-212891 becomes a diluent for solving the problem, and the present invention has been achieved.
That is, the gist of the present invention is
[1] A diluent for an epoxy resin, having a structure represented by at least one selected from the following general formulas (1) and (2),

Figure 0006540188
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Figure 0006540188
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(式(1)、式(2)中、L及びLは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい2価の有機基を示し、A及びBは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜8の1価の有機基を示す。但し、L及びL上の置換基は、それぞれA及びBと環を形成していてもよく、3つのエポキシ環のうちの1つがエポキシ環の代わりに炭素−炭素二重結合を形成していてもよい。)
[2]前記式(1)、式(2)中のA及びBが水素原子である、上記[1]に記載のエポキシ樹脂用希釈剤、
[3]前記式(1)、式(2)中のL及びLが−(CH−(但し、nは1〜14の整数を示す。)で表わされるアルキレン基である、上記[1]又は[2]に記載のエポキシ樹脂用希釈剤、
[4]前記nが1である、上記[3]に記載のエポキシ樹脂用希釈剤、
[5]前記希釈剤の理論エポキシ当量に対する前記希釈剤のエポキシ当量の比が1.0以上、1.2以下である、上記[1]から[4]のいずれかに記載のエポキシ樹脂用希釈剤、
[6]上記[1]〜[5]のいずれかに記載のエポキシ樹脂用希釈剤(a)と、該エポキシ樹脂用希釈剤(a)以外のエポキシ樹脂(b)とを含むことを特徴とするエポキシ樹脂組成物、
[7]さらに硬化剤を含む、上記[6]に記載のエポキシ樹脂組成物、
[8]さらに充填剤を含む、上記[6]または[7]に記載のエポキシ樹脂組成物、
[9]前記エポキシ樹脂用希釈剤(a)のL及びLが、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜14の2価の脂肪族基であり、かつA及びBが、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜8の1価の脂肪族基である、上記[6]〜[8]のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物、
[10]前記エポキシ樹脂(b)が、脂肪族型エポキシ樹脂である、上記[6]〜[9]のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物、
[11]前記エポキシ樹脂(b)が、芳香族基を有するエポキシ樹脂であることを特徴とする上記[6]〜[9]のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物、
[12]上記[6]〜[11]のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を用いた光学材料用エポキシ樹脂組成物、
[13]上記[6]〜[10]のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を用いたLED封止材用エポキシ樹脂組成物、
[14]上記[11]に記載のエポキシ樹脂組成物を用いた放熱材料用エポキシ樹脂組成物、
[15]上記[6]〜[14]のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物、
[16]上記[13]に記載のエポキシ樹脂組成物によりLEDチップが封止されているLED装置、
[17]上記[14]に記載のエポキシ樹脂組成物を用いた放熱材料、に存する。
(In Formula (1) and Formula (2), L 1 and L 2 each independently represent a divalent organic group which may have a substituent, and A and B each independently represent hydrogen) It represents a C 1-8 monovalent organic group which may have an atom or a substituent, provided that the substituents on L 1 and L 2 form a ring with A and B, respectively. Well, one of the three epoxy rings may form a carbon-carbon double bond instead of the epoxy ring)
[2] The diluent for an epoxy resin according to the above [1], wherein A and B in the formulas (1) and (2) are hydrogen atoms,
[3] L 1 and L 2 in the formulas (1) and (2) are alkylene groups represented by — (CH 2 ) n — (wherein n represents an integer of 1 to 14), The diluent for epoxy resin as described in the above [1] or [2],
[4] The diluent for an epoxy resin according to the above [3], wherein the n is 1;
[5] The dilution for an epoxy resin according to any one of the above [1] to [4], wherein the ratio of the epoxy equivalent of the diluent to the theoretical epoxy equivalent of the diluent is 1.0 or more and 1.2 or less. Agent,
[6] A diluent for an epoxy resin according to any one of the above [1] to [5] (a), and an epoxy resin (b) other than the diluent for the epoxy resin (a). Epoxy resin composition,
[7] The epoxy resin composition according to the above [6], further comprising a curing agent,
[8] The epoxy resin composition according to the above [6] or [7], further containing a filler.
[9] L 1 and L 2 of the diluent (a) for an epoxy resin are each independently a divalent aliphatic group having 1 to 14 carbon atoms which may have a substituent, and A The epoxy according to any one of the above [6] to [8], wherein each of B and C independently represents a hydrogen atom or a monovalent aliphatic group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent. Resin composition,
[10] The epoxy resin composition according to any one of the above [6] to [9], wherein the epoxy resin (b) is an aliphatic epoxy resin,
[11] The epoxy resin composition according to any one of the above [6] to [9], wherein the epoxy resin (b) is an epoxy resin having an aromatic group.
[12] An epoxy resin composition for optical materials using the epoxy resin composition according to any one of the above [6] to [11],
[13] An epoxy resin composition for an LED encapsulant using the epoxy resin composition according to any one of the above [6] to [10],
[14] An epoxy resin composition for heat dissipation material using the epoxy resin composition according to the above [11],
[15] A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of the above [6] to [14],
[16] An LED device in which an LED chip is sealed with the epoxy resin composition according to the above [13],
[17] A heat dissipation material using the epoxy resin composition according to the above [14].

本発明の希釈剤を用いてエポキシ樹脂を希釈して使用することにより、元のエポキシ樹脂の性能、特に耐熱性を損なうことなく、加工性を向上させることができる。また本発明の希釈剤を、脂肪族エポキシ樹脂に対する希釈剤として用いることにより、得られる硬化物の黄色劣化を抑制し、かつ線膨張係数を下げることができる。   By diluting and using the epoxy resin with the diluent of the present invention, the processability can be improved without impairing the performance of the original epoxy resin, particularly the heat resistance. By using the diluent of the present invention as a diluent for an aliphatic epoxy resin, it is possible to suppress yellow deterioration of the obtained cured product and to lower the coefficient of linear expansion.

合成例2で得られたエポキシ化合物のH−NMR測定のチャートである。5 is a chart of 1 H-NMR measurement of an epoxy compound obtained in Synthesis Example 2.

以下、本発明の実施の形態について更に詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の一例であり、本発明はこれらに限定されるものではなく、その要旨の範囲の内で種々変形して実施することができる。
なお本明細書において、「エポキシ樹脂」とは、その分子中にエポキシ基を2個以上有する化合物をいう。また本発明のエポキシ樹脂用希釈剤(a)によって希釈される、主材料となる(a)以外のエポキシ樹脂を「エポキシ樹脂(b)」、エポキシ樹脂用希釈剤(a)とエポキシ樹脂(b)を混合したものを「エポキシ樹脂組成物」、前記エポキシ樹脂組成物と硬化剤とを反応させて得られた樹脂を「硬化物」ということがある。
Hereinafter, the embodiment of the present invention will be described in more detail, but the description of the constituent requirements described below is an example of the embodiment of the present invention, and the present invention is not limited thereto, and the gist thereof In the range of, it can deform | transform variously and can implement.
In the present specification, "epoxy resin" refers to a compound having two or more epoxy groups in its molecule. The epoxy resin other than the main material (a) diluted with the diluent (a) for an epoxy resin of the present invention is an "epoxy resin (b)", a diluent for an epoxy resin (a) and an epoxy resin (b) The mixture obtained by mixing the epoxy resin composition and the resin obtained by reacting the epoxy resin composition with a curing agent may be referred to as a “cured product”.

<希釈剤>
本発明のエポキシ樹脂用希釈剤は、下記一般式(1)及び(2)から選ばれる少なくとも一方で表される構造を有する。
<Diluent>
The diluent for epoxy resin of the present invention has a structure represented by at least one selected from the following general formulas (1) and (2).

Figure 0006540188
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Figure 0006540188
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式(1)、式(2)中、L及びLは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい2価の有機基を示し、A及びBは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜8の1価の有機基を示す。但し、L及びL上の置換基は、それぞれA及びBと環を形成していてもよく、3つのエポキシ環のうちの1つがエポキシ環の代わりに炭素−炭素二重結合を形成していてもよい。 In formulas (1) and (2), L 1 and L 2 each independently represent a divalent organic group which may have a substituent, and A and B each independently represent a hydrogen atom Or a monovalent organic group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent. However, the substituent on L 1 and L 2 may form a ring with A and B, respectively, and one of the three epoxy rings forms a carbon-carbon double bond instead of the epoxy ring. It may be

本明細書において希釈剤とは、エポキシ樹脂(b)の物性を調整するため、エポキシ樹脂(b)を希釈する目的で使用されるものを言い、特にエポキシ樹脂組成物の粘度を低下させ、加工性を向上させるために使用される。
まず本発明の希釈剤を構成する一般式(1)及び(2)で表される構造を有する化合物について述べる。
In the present specification, the diluent means one used for diluting the epoxy resin (b) in order to adjust the physical properties of the epoxy resin (b), and in particular, the viscosity of the epoxy resin composition is decreased to process Used to improve gender.
First, compounds having the structures represented by the general formulas (1) and (2) which constitute the diluent of the present invention will be described.

一般式(1)及び(2)で表される構造を有する化合物は、置換基を有していてもよいブテンジオール類から誘導されて得られるエポキシ化合物である。これらの化合物は、特願2013−212891にて本出願人が特許出願を行なっている新規の化合物である。
一般式(1)及び(2)において、L及びLは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい2価の有機基を表す。前記有機基としては、例えばアルキレン基、アリーレン基等の2価の炭化水素基、カルボニル基(−CO−)、オキシ基(−O−)、チオ基(−S−)、イミノ基(−NH−)、ホスフィンジイル基(−PH−)、シリレン基(−SiH−)等が挙げられる。これら2価の有機基は1種を単独で用いてもよく、2種以上の有機基が適宜連結したものであってもよい。
The compounds having the structures represented by the general formulas (1) and (2) are epoxy compounds obtained by being derived from butenediols which may have a substituent. These compounds are novel compounds for which the present applicant has filed patent applications in Japanese Patent Application No. 2013-212891.
In the general formulas (1) and (2), L 1 and L 2 each independently represent a divalent organic group which may have a substituent. Examples of the organic group include divalent hydrocarbon groups such as an alkylene group and an arylene group, a carbonyl group (-CO-), an oxy group (-O-), a thio group (-S-) and an imino group (-NH) -), phosphine-diyl group (-Ph-), a silylene group (-SiH 2 -) and the like. These divalent organic groups may be used alone or in combination of two or more organic groups.

2価の有機基が2種以上連結したものの例としては、カルボニルアルキレン基、カルボニルアリーレン基、カルボニルオキシアルキレン基、アルキレンオキシアルキレン基等が挙げられ、低粘度化の観点からはカルボニルアルキレン基、アルキレンオキシアルキレン基等が好ましい。
前記置換基を有してもよい2価の有機基の炭素数は、特に限定されないが、通常1〜14であり、耐熱性がより向上することから1〜6が好ましく、原料入手の容易さから1〜4がさらに好ましい。この炭素数は、当該有機基が更に置換基を有する場合、その置換基も含めた炭素数を意味する。
A carbonyl alkylene group, a carbonyl arylene group, a carbonyloxy alkylene group, an alkylene oxy alkylene group etc. are mentioned as an example of what 2 or more types of bivalent organic groups connected, and a viewpoint of viscosity reduction to a carbonyl alkylene group, alkylene An oxyalkylene group etc. are preferable.
The carbon number of the divalent organic group which may have a substituent is not particularly limited, but is usually 1 to 14 and is preferably 1 to 6 because heat resistance is further improved, and ease of raw material acquisition 1 to 4 are more preferable. When the organic group further has a substituent, this carbon number means the carbon number including the substituent.

アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基等の直鎖状のアルキレン基;イソプロピレン基、イソブチレン基等の分岐鎖状のアルキレン基;シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基等の環状アルキレン基;等が挙げられる。
アリーレン基としてはフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、トルイレン基等が挙げられる。
Examples of the alkylene group include linear alkylene groups such as methylene group and ethylene group; branched alkylene groups such as isopropylene group and isobutylene group; cyclic alkylene groups such as cyclopentylene group and cyclohexylene group; It can be mentioned.
Examples of the arylene group include phenylene group, naphthylene group, biphenylene group, toluylene group and the like.

なおアルキレン基、アリーレン基が複数の置換可能な位置を有する場合は、任意の置換位置で置換されていてもよい。
前記L及びLは希釈剤の用途に応じて、適宜選択可能であるが、光学材料等の透明性が必要な用途に用いる場合は、硬化物の透明性が高く、黄色劣化性が低くなる点で、アルキレン基、カルボニル基、オキシ基、チオ基、イミノ基、ホスフィンジイル基、シリレン基、またはこれらを2種以上連結したものが好ましく、中でも炭素数1〜14の直鎖アルキレン基、カルボニル基、オキシ基、またはこれらを2種類以上連結したものが、黄色劣化性がさらに低いことからより好ましく、製造の容易であることから炭素数1〜14の直鎖アルキレン基が更に好ましい。
When the alkylene group or arylene group has a plurality of substitutable positions, it may be substituted at any substitution position.
The above L 1 and L 2 can be appropriately selected according to the application of the diluent, but when used for applications requiring transparency such as optical materials, the cured product has high transparency and low yellow deterioration. From the viewpoint of forming an alkylene group, a carbonyl group, an oxy group, a thio group, an imino group, a phosphinediyl group, a silylene group, or a combination of two or more of them. Among them, a linear alkylene group having 1 to 14 carbon atoms, A carbonyl group, an oxy group, or a combination of two or more of these is more preferable because the yellow deterioration is further reduced, and a linear alkylene group having 1 to 14 carbon atoms is further preferable because it is easy to produce.

一方、放熱材料等の透明性が要求されない用途に用いる場合は、原料の入手が容易である点でアルキレン基、アリーレン基、カルボニル基、オキシ基、またはこれらを2種類以上連結したものが好ましく、炭素数1〜14の直鎖アルキレン基、フェニレン基、カルボニル基、オキシ基、またはこれらを2種類以上連結したものがより好ましく、より低粘度の希釈剤が得られることから炭素数1〜14の直鎖アルキレン基を用いるのが更に好ましい。   On the other hand, when it is used for applications where transparency is not required, such as a heat dissipation material, it is preferable that an alkylene group, an arylene group, a carbonyl group, an oxy group, or two or more of these be linked in terms of availability of raw materials. A linear alkylene group having 1 to 14 carbon atoms, a phenylene group, a carbonyl group, an oxy group, or a combination of two or more of these is more preferable, and a diluent having a lower viscosity can be obtained. It is further preferred to use a linear alkylene group.

前記L及びLが有していてもよい置換基としては、本発明の希釈剤の効果を損ねな
い限りにおいて特に限定はされないが、例えば、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、水酸基、アミノ基、エステル基、ハロゲン原子、チオール基、チオエーテル基、アルキルシリル基等が挙げられる。
前記L及びLが有していてもよい置換基は、希釈剤の用途に応じて、適宜選択可能であるが、光学材料等の透明性が必要な用途に用いる場合は、硬化物の透明性が高く、黄色劣化性が低くなる点で、脂肪族基が好ましく、具体的にはアルキル基、アルコキシ基、水酸基、アミノ基、エステル基、ハロゲン原子、チオール基、チオエーテル基、アルキルシリル基が挙げられる。一方、放熱材料等の透明性が要求されない用途の場合は、原料の入手が容易であるという観点からアルキル基、アリール基、水酸基が好ましく、より低粘度の希釈剤が得られる点からは、アルキル基、エステル基、ハロゲン原子、チオエーテル基が好ましい。また、これらの置換基は更に置換基を有していてもよく、この置換基としても上記のような置換基が挙げられる。
The substituent which L 1 and L 2 may have is not particularly limited as long as the effect of the diluent of the present invention is not impaired, and examples thereof include an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, and an alkoxy group. And a hydroxyl group, an amino group, an ester group, a halogen atom, a thiol group, a thioether group, an alkylsilyl group and the like.
Although the substituent which said L 1 and L 2 may have can be suitably selected according to the use of a diluent, when using for uses which require transparency, such as an optical material, it is a hardened material. From the viewpoint of high transparency and low yellowing resistance, aliphatic groups are preferred. Specifically, alkyl groups, alkoxy groups, hydroxyl groups, amino groups, ester groups, halogen atoms, thiol groups, thioether groups, alkylsilyl groups Can be mentioned. On the other hand, in applications where transparency is not required, such as heat radiation materials, alkyl groups, aryl groups, and hydroxyl groups are preferable from the viewpoint of easy availability of raw materials, and from the viewpoint of obtaining a thinner diluent, alkyl Preferred is a group, an ester group, a halogen atom or a thioether group. Further, these substituents may further have a substituent, and the above-mentioned substituents can be mentioned as this substituent.

一般式(1)及び(2)において、前記A及びBは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜8の1価の有機基を示す。前記1価の有機基としては、特に限定されないが、例えば、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アラルキル基、エステル基等が挙げられる。
前記A及びBは、希釈剤の用途に応じて適宜選択可能であるが、特に本発明の希釈剤を光学材料向けに用いる場合は、硬化物の透明性が高く、黄色劣化性が低くなる点で、アルキル基、アルコキシ基、エステル基等の脂肪族基が好ましく、炭素数1〜8の脂肪族基がより好ましい。
In the general formulas (1) and (2), the aforementioned A and B each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent. The monovalent organic group is not particularly limited, and examples thereof include an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aralkyl group and an ester group.
Although the above A and B can be appropriately selected according to the application of the diluent, particularly when the diluent of the present invention is used for an optical material, the point that the transparency of the cured product is high and the yellowing deterioration becomes low And aliphatic groups such as alkyl groups, alkoxy groups and ester groups are preferable, and aliphatic groups having 1 to 8 carbon atoms are more preferable.

一方、より低粘度の希釈剤が得られる点からはアルキル基が好ましく、中でも炭素数1〜8のアルキル基が好ましく、原料入手が容易であるという観点から炭素数1〜4のアルキル基がさらに好ましい。
具体的には、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基等の直鎖状アルキル基;イソプロピル基、イソブチル基等の分岐鎖状アルキル基;シクロプロピル基等の環状アルキル基;等が挙げられる。アリール基としては、例えば、フェニル基、トルイル基等が挙げられる。アルコキシフェニル基としては、例えば、メトキシフェニル基等が挙げられる。複素環基としては、ピリジル基、チエニル基、フリル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、ピラゾリル基、ピリミジル基、ピラジニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基等が挙げられる。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等が挙げられる。アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェニルエチル基等が挙げられる。エステル基としては、例えば、エチルエステル基、ブチルエステル基等が挙げられる。
On the other hand, an alkyl group is preferable from the viewpoint that a lower viscosity diluent can be obtained, among which an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is further obtained from the viewpoint of easy availability of raw materials. preferable.
Specifically, examples of the alkyl group include linear alkyl groups such as methyl and ethyl; branched alkyl groups such as isopropyl and isobutyl; and cyclic alkyl groups such as cyclopropyl; Be As an aryl group, a phenyl group, toluyl group, etc. are mentioned, for example. As an alkoxyphenyl group, a methoxyphenyl group etc. are mentioned, for example. Examples of the heterocyclic group include pyridyl group, thienyl group, furyl group, thiazolyl group, oxazolyl group, pyrazolyl group, pyrimidyl group, pyrazinyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, triazolyl group and the like. As an alkoxy group, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group etc. are mentioned, for example. As an aralkyl group, a benzyl group, a phenylethyl group, etc. are mentioned, for example. As an ester group, an ethyl ester group, a butyl ester group etc. are mentioned, for example.

前記A及びBにおける「炭素数1〜8の1価の有機基」が有していてもよい置換基としては、上記L及びLにおける置換基と同様のものが挙げられる。これらの中で、原料の入手が容易であるという観点からアルキル基、アリール基、水酸基が好ましい。
また、前記L及びL上の置換基は、それぞれ、前記A及びBと環を形成していてもよい。具体的には、例えば、一般式(1)において、アルキル基同士が連結した以下の構造式(3)及び(4)のような構造が挙げられる。
As a substituent which "the monovalent organic group having 1 to 8 carbon atoms" in A and B may have, the same as the substituents in the above L 1 and L 2 can be mentioned. Among these, an alkyl group, an aryl group and a hydroxyl group are preferable from the viewpoint of easy availability of the raw material.
The substituents on L 1 and L 2 may form a ring with A and B, respectively. Specifically, for example, structures represented by the following structural formulas (3) and (4) in which alkyl groups are linked in general formula (1) can be mentioned.

Figure 0006540188
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Figure 0006540188
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構造式(3)、(4)として、一般式(1)において、前記Lと前記A、前記Lと前記Bの両方が結合した炭素6員環を形成している例を示したが、置換基の炭素数内において員環数に制限はなく、前記Lと前記A、前記Lと前記Bのどちらか一方のみが環を形成している化合物も具体例として挙げられる。また、一般式(2)においても同様に、置換基の炭素数内において員環数に制限はなく、例えば、前記Lと前記A、前記Lと前記Bの一方若しくは両方が結合して、炭素6員環を形成していてもよい。具体的には例えば、構造式(5)が挙げられる。 As Structural Formulas (3) and (4), in General Formula (1), an example in which a carbon six-membered ring in which both of L 1 and A and L 2 and B are bonded is shown. There is no limitation on the number of membered rings in the number of carbon atoms of the substituent, and a compound in which only one of L 1 and A, and L 2 and B form a ring is also exemplified as a specific example. Also in the general formula (2), similarly, the number of membered rings is not limited within the number of carbon atoms of the substituent, and for example, one or both of L 1 and A, L 2 and B are bonded And a carbon six-membered ring may be formed. Specifically, for example, structural formula (5) can be mentioned.

Figure 0006540188
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上記L及びLとして好ましいものは、より低粘度の希釈剤が得られる点から、−(CH−(但し、nは1〜14の整数を示す。)で表わされる無置換の直鎖アルキレン基であり、nが1〜6の基がさらに好ましく、耐熱性の観点を合わせるとnが1の基、すなわちメチレン基が特に好ましい。
上記A及びBとして好ましいものは、原料入手の容易さから水素原子、炭素数1〜8の無置換アルキル基であり、中でも硬化剤との反応性が高いことから、水素原子が特に好ましい。
具体的には一般式(1)及び(2)としては以下の化合物が好ましい。
As the above L 1 and L 2 , unsubstituted ones represented by — (CH 2 ) n — (wherein n represents an integer of 1 to 14) from the viewpoint of obtaining a lower viscosity diluent are preferable. The linear alkylene group is more preferably a group in which n is 1 to 6 and, from the viewpoint of heat resistance, a group in which n is 1 or a methylene group is particularly preferred.
Preferred as A and B are a hydrogen atom and an unsubstituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms in view of availability of raw materials, and among these, a hydrogen atom is particularly preferable in view of high reactivity with a curing agent.
Specifically, the following compounds are preferable as the general formulas (1) and (2).

Figure 0006540188
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中でもより好ましくは、以下の化合物である。   Among them, the following compounds are more preferable.

Figure 0006540188
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本発明の希釈剤は、一般式(1)及び(2)で表されるエポキシ化合物から選ばれる少なくとも一方であり、前記エポキシ化合物はエポキシ環を3つ有するトリエポキシ化合物であるが、これらエポキシ化合物は、さらに一般式(1)及び一般式(2)で表される化合物が有する3つのエポキシ環のうちの1つがエポキシ環の代わりに炭素−炭素二重結合を形成したジエポキシ化合物を含んでいても良い。さらにはそれぞれの前記ジエポキシ化合物同士が混合したものであってもよい。前記ジエポキシ化合物は、具体的には下記一般式(6)で表される化合物のいずれかである。   The diluent of the present invention is at least one selected from epoxy compounds represented by the general formulas (1) and (2), and the epoxy compound is a triepoxy compound having three epoxy rings, and these epoxy compounds Furthermore, it includes a diepoxy compound in which one of the three epoxy rings possessed by the compounds represented by the general formula (1) and the general formula (2) has formed a carbon-carbon double bond instead of the epoxy ring. Also good. Furthermore, each said diepoxy compound may be mixed. Specifically, the diepoxy compound is any of the compounds represented by the following general formula (6).

Figure 0006540188
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一般式(6)において、L、L、A、Bは前記一般式(1)及び(2)と同義である。また一般式(6)において、波線で表わされる炭素−炭素二重結合の置換基は、二重結合が有するシス/トランス異性体のいずれでも良いことを表わす。
前記一般式(1)及び(2)で表わされるトリエポキシ化合物及び前記一般式(6)で表されるジエポキシ化合物は、それぞれの光学異性体を含んでいてもよく、ジアステレオマー、エナンチオマーなどの立体異性体を含んでいても良い。また、一般式(1)で表わされるトリエポキシ化合物と、一般式(2)で表わされるトリエポキシ化合物を混合していてもよく、前記一般式(6)で表されるジエポキシ化合物のうち2種類以上が混合していてもよい。さらには一般式(1)で表されるトリエポキシ化合物と一般式(6)で表されるジエポキシ化合物のうち1種類以上が混合していてもよく、一般式(2)で表されるトリエポキシ化合物と一般式(6)で表されるジエポキシ化合物のうち1種類以上が混合していてもよい。
In the general formula (6), L 1 , L 2 , A and B are as defined in the general formulas (1) and (2). Further, in the general formula (6), the substituent of the carbon-carbon double bond represented by a wavy line represents that any of cis / trans isomers possessed by the double bond may be used.
The triepoxy compound represented by the general formulas (1) and (2) and the diepoxy compound represented by the general formula (6) may contain the respective optical isomers, such as diastereomers and enantiomers. It may contain stereoisomers. Further, the triepoxy compound represented by the general formula (1) may be mixed with the triepoxy compound represented by the general formula (2), and two types of diepoxy compounds represented by the general formula (6) may be used. The above may be mixed. Furthermore, one or more kinds of the triepoxy compound represented by the general formula (1) and the diepoxy compound represented by the general formula (6) may be mixed, and the triepoxy represented by the general formula (2) One or more kinds of the compound and the diepoxy compound represented by the general formula (6) may be mixed.

本発明の希釈剤として前記一般式(1)及び(2)で表わされるトリエポキシ化合物及び前記一般式(6)で表されるジエポキシ化合物の混合物を用いる場合、本発明の効果を損ねない範囲においてそれらの混合比率は特に限定されるものではなく、使用する目的によって適宜設定可能だが、硬化物の耐熱性を維持する点からは前記トリエポキシ化合物を90質量%以上含む方が好ましく、エポキシ樹脂組成物の粘度を下げる点では前記ジエポキシ化合物を1質量%以上含む方が好ましい。   When a mixture of the triepoxy compound represented by the above general formula (1) and (2) and the diepoxy compound represented by the above general formula (6) is used as the diluent of the present invention, the effect of the present invention is not impaired The mixing ratio thereof is not particularly limited, and can be appropriately set depending on the purpose of use. However, from the viewpoint of maintaining the heat resistance of the cured product, it is preferable to contain 90% by mass or more of the triepoxy compound, and the epoxy resin composition The diepoxy compound is preferably contained in an amount of 1% by mass or more in order to reduce the viscosity of the product.

そのためトリエポキシ化合物の理論エポキシ当量に対する本発明の希釈剤のエポキシ当量の比(希釈剤のエポキシ当量/トリエポキシ化合物の理論エポキシ当量)は、特に限定はされないが、通常1.0以上、1.2以下であり、好ましくは1.1以下である。
なお本発明の希釈剤のエポキシ当量は、JIS法 K7236:2001に準じて測定することができる。
Therefore, the ratio of the epoxy equivalent of the diluent of the present invention to the theoretical epoxy equivalent of the triepoxy compound (epoxy equivalent of diluent / theoretical epoxy equivalent of the triepoxy compound) is not particularly limited, but is usually 1.0 or more. It is 2 or less, preferably 1.1 or less.
The epoxy equivalent of the diluent of the present invention can be measured according to JIS method K7236: 2001.

本発明の希釈剤として用いられるエポキシ化合物は、一分子内に3つのエポキシ基を有していることからエポキシ当量が小さく、硬化により密なネットワークが形成され、高いTgと耐熱性を有すると考えられる。
本発明の希釈剤を含むエポキシ樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物のTgは特に限定されず、主材料となるエポキシ樹脂の種類やそのエポキシ当量、混合比率、硬化剤の種類、及び硬化条件等により好ましい範囲が異なるが、通常は100℃以上、好ましくは1
10℃以上であり、通常200℃以下である。
The epoxy compound to be used as a diluent according to the present invention has three epoxy groups in one molecule, so that the epoxy equivalent is small, and a dense network is formed by curing, and it is considered to have high Tg and heat resistance. Be
The Tg of the cured product obtained by curing the epoxy resin composition containing the diluent of the present invention is not particularly limited, and the type of epoxy resin as the main material, the epoxy equivalent thereof, the mixing ratio, the type of curing agent, and the curing The preferred range is different depending on the conditions etc., but usually 100 ° C. or higher, preferably 1
It is 10 ° C. or more, and usually 200 ° C. or less.

本発明の希釈剤として用いられるエポキシ化合物は、エポキシ当量が小さいため、硬化した際に単位体積あたりの酸素原子の数が多くなる傾向があるため、高い接着性が期待できる。
本発明の希釈剤として用いられるエポキシ化合物は粘度が低い。よって、本発明の希釈剤を混合することにより、エポキシ樹脂(b)が粘度の高いエポキシ樹脂であっても、エポキシ樹脂組成物が十分に低粘度化して加工性を確保することができる。その粘度は限定されるものではないが、70℃における粘度で、通常1cP以上、30cP以下であり、好ましくは20cP以下、より好ましくは10cP以下、さらに好ましくは5cP以下である。
Since the epoxy compound used as the diluent of the present invention has a small epoxy equivalent, when it is cured, the number of oxygen atoms per unit volume tends to increase, so high adhesion can be expected.
The epoxy compounds used as diluents in the present invention have low viscosity. Therefore, by mixing the diluent of the present invention, even if the epoxy resin (b) is a high viscosity epoxy resin, the viscosity of the epoxy resin composition can be sufficiently lowered to ensure processability. The viscosity is not limited, but is usually 1 cP or more and 30 cP or less, preferably 20 cP or less, more preferably 10 cP or less, still more preferably 5 cP or less at 70 ° C.

エポキシ樹脂(b)には、粘度が高いものがあり、加工性に乏しい場合がある。本発明の希釈剤(a)は粘度が低いため、エポキシ樹脂(b)と混合して組成物とすることにより、エポキシ樹脂組成物全体の粘度を下げることができ、加工性を上げることが可能になる。同時に本発明の希釈剤(a)は、これを硬化させて得られる硬化物のTgが高いため、加工性と耐熱性を両立することが可能である。   Some epoxy resins (b) have high viscosity and sometimes have poor processability. Since the diluent (a) of the present invention has a low viscosity, the viscosity of the entire epoxy resin composition can be lowered by mixing it with the epoxy resin (b) to form a composition, and the processability can be increased. become. At the same time, since the diluent (a) of the present invention has a high Tg of a cured product obtained by curing it, it is possible to achieve both processability and heat resistance.

前記一般式(1)及び(2)における前記L及びLが官能基を有さない炭素鎖である場合は、硬化物が塩基や水に対して安定で、耐薬品性を有し、吸水性が低い。また本発明の希釈剤が一般式(1)で示され、A及びBが水素原子である場合は、エポキシ基が末端であるため、硬化反応速度が速い。また本発明のエポキシ化合物は、液状であることから加工性に優れ、また水溶性も有することから水性のエポキシ樹脂に対する希釈剤としても利用可能であり、加工処理条件が広いという特徴を有する。つまり、本発明の希釈剤を混合することによって、エポキシ樹脂(b)の性能を損なわず、これらの性能を付け加えることができる。 When L 1 and L 2 in the general formulas (1) and (2) are carbon chains having no functional group, the cured product is stable to a base or water and has chemical resistance, Low water absorption. When the diluent of the present invention is represented by the general formula (1) and A and B are hydrogen atoms, the curing reaction rate is fast because the epoxy group is at the end. Further, the epoxy compound of the present invention is excellent in processability because it is liquid, and is also usable as a diluent for aqueous epoxy resin since it has water solubility, and has a feature that processing conditions are wide. That is, by mixing the diluent of the present invention, these properties can be added without impairing the properties of the epoxy resin (b).

<希釈剤の製造方法>
本発明の希釈剤の製造方法は特に限定されず、用いる基質や所望の物性に応じて適宜合成することができる。具体的には置換基を有していてもよいブテンジオールを出発原料とし、前記ブテンジオールの水酸基と炭素−炭素二重結合を有する有機基を連結して得られたトリオレフィン化合物を酸化する方法(以下、製法1)や、ブテンジオール、又はブテンジオールに水酸基を有する有機基を連結して得たアルコール化合物にエピクロロヒドリンを作用させ、得られたジエポキシ化合物をさらに酸化する方法(以下、製法2)等が挙げられる。
<Method of producing diluent>
The method for producing the diluent of the present invention is not particularly limited, and may be appropriately synthesized depending on the substrate to be used and desired physical properties. Specifically, using a butenediol which may have a substituent as a starting material, a method of oxidizing a triolefin compound obtained by linking a hydroxyl group of the butenediol and an organic group having a carbon-carbon double bond. Epichlorohydrin is allowed to act on an alcohol compound obtained by linking an organic group having a hydroxyl group to butenediol or butenediol (hereinafter referred to as production method 1), and the obtained diepoxy compound is further oxidized (hereinafter referred to as Production method 2) and the like can be mentioned.

このうち前記製法1は、副反応に伴う高分子量体を殆ど生成しないため、トリエポキシ化合物の含有比率がより高く、低粘度の希釈剤が得られる点で好ましい。また一般式(1)の構造のように、分子内の隣り合った位置にエポキシ基を有する化合物を容易に合成することができることから、耐熱性の観点でも好ましい。
前記製法1による製造方法は、具体的には、特願2013−212891の明細書中に記載されており、これらに記載された方法、条件に基づき本発明に用いるトリエポキシ化合物を製造することができる。
Among them, the production method 1 is preferable because it hardly generates a high molecular weight due to a side reaction, so that the content ratio of the triepoxy compound is higher, and a low viscosity diluent can be obtained. Further, as in the structure of the general formula (1), since a compound having an epoxy group at an adjacent position in the molecule can be easily synthesized, it is also preferable from the viewpoint of heat resistance.
The manufacturing method according to the above-mentioned manufacturing method 1 is specifically described in the specification of Japanese Patent Application No. 2013-212891, and manufacturing the triepoxy compound used in the present invention based on the methods and conditions described therein. it can.

また前記製法2による製造方法は、ブテンジオールに水酸基を有する有機基を連結し、アルコール化合物を得る方法としては、Journal of Combinatorial Chemistry(2001),3,(2),154−156や、特開平06−329571号公報等の公知の方法を使用することができる。また前記アルコール化合物にエピクロロヒドリンを作用させ、エポキシ基を導入する方法は、例えばSynthesis(1985)、(6−7)、649−51等に記載の方法、条件が使用できる。   In addition, as a method for producing an alcohol compound by connecting an organic group having a hydroxyl group to a butenediol by the production method according to the above-mentioned production method 2, Journal of Combinatorial Chemistry (2001), 3, (2), 154-156, Well-known methods, such as 06-329571 gazette, can be used. Moreover, the method and conditions as described, for example in Synthesis (1985), (6-7), 649-51 etc. can be used for the method of making an epichlorohydrin act on the said alcohol compound, and introduce | transducing an epoxy group.

<エポキシ樹脂組成物>
(エポキシ樹脂(b))
本発明のエポキシ樹脂組成物は、本発明のエポキシ樹脂用希釈剤(a)と、(a)以外のエポキシ樹脂(b)とを含むものである。
また、本発明の硬化物は、前記エポキシ樹脂組成物を硬化して得られるものである。
<Epoxy resin composition>
(Epoxy resin (b))
The epoxy resin composition of the present invention contains the diluent (a) for epoxy resin of the present invention and an epoxy resin (b) other than (a).
In addition, the cured product of the present invention is obtained by curing the epoxy resin composition.

本発明で用いられる、エポキシ樹脂(b)としては、本発明の目的を損なわない限りにおいて特に限定されるものではなく、いわゆるエポキシ樹脂一般を用いることができる。
前記エポキシ樹脂(b)は、大別して芳香族基を有するエポキシ樹脂と脂肪族型エポキシ樹脂に分けられる。
芳香族基を有するエポキシ樹脂とは、その単位構造中に芳香族基を有するエポキシ樹脂をいい、特に限定はされないが、具体的には、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂類、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂類等のグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;芳香族アミン類やアミノフェノール類等から得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂;フタル酸型エポキシ樹脂等のグリシジルエステル型エポキシ樹脂;フェノールノボラックから得られるエポキシ樹脂、クレゾールノボラックから得られるエポキシ樹脂、ビスフェノールAのノボラックエポキシ樹脂、フェノール類とヒドロキシベンズアルデヒド類から得られるノボラックエポキシ樹脂等のノボラックエポキシ樹脂;一つの芳香環に複数のエポキシ基を有するビフェニル、ビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられる。
The epoxy resin (b) used in the present invention is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and so-called epoxy resins in general can be used.
The epoxy resin (b) is roughly divided into an epoxy resin having an aromatic group and an aliphatic epoxy resin.
The epoxy resin having an aromatic group is an epoxy resin having an aromatic group in the unit structure thereof, and is not particularly limited. Specifically, bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, bisphenol S Ether type epoxy resins such as epoxy resins, biphenol type epoxy resins, naphthalene type epoxy resins, triphenylmethane type epoxy resins; glycidyl amine type epoxy resins obtained from aromatic amines, aminophenols and the like; Ester type epoxy resin etc .; epoxy resin obtained from phenol novolac, epoxy resin obtained from cresol novolak, novolak epoxy resin of bisphenol A, obtained from phenol and hydroxybenzaldehyde Novolak epoxy resins such as novolac epoxy resins; biphenyl having one plurality of epoxy groups to the aromatic ring of a bisphenol type epoxy resin and a phenoxy resin.

脂肪族型エポキシ化合物とは、前記の芳香族基を有するエポキシ樹脂以外のものをいい、具体的には、芳香族基を有さないエポキシ樹脂をいう。例えば前記芳香族基を有するエポキシ樹脂が有する芳香族基の芳香環を水素添加して得られる水添型エポキシ樹脂や、環状オレフィンがエポキシ化された脂環基を有する脂環式エポキシ樹脂類、1,3,5−トリスグリシジルイソシアヌル酸等の複素環式エポキシ樹脂類、シルセスキオキサン構造を有するエポキシ樹脂等が挙げられる。   The aliphatic epoxy compound refers to an epoxy resin other than the above-described epoxy resin having an aromatic group, and specifically refers to an epoxy resin having no aromatic group. For example, a hydrogenated epoxy resin obtained by hydrogenating an aromatic ring of an aromatic group possessed by the epoxy resin having an aromatic group, an alicyclic epoxy resin having an alicyclic group in which a cyclic olefin is epoxidized, Examples thereof include heterocyclic epoxy resins such as 1,3,5-trisglycidyl isocyanuric acid, epoxy resins having a silsesquioxane structure, and the like.

前記エポキシ樹脂(b)は、エポキシ樹脂組成物の用途に応じて適宜選択可能であり、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の組合せで併用してもよい。
本発明のエポキシ樹脂組成物を光学材料用途に用いる場合、硬化物の黄色劣化を抑制することができる点で脂肪族型エポキシ樹脂が好ましく、脂環式エポキシ樹脂やシルセスキオキサン構造のエポキシ樹脂がさらに好ましい。特に脂環式エポキシ樹脂の場合、骨格にエポキシシクロヘキサン構造を有する化合物が好ましく、シクロヘキセン構造を有する化合物の酸化反応により得られるエポキシ樹脂が好ましい。
The said epoxy resin (b) can be suitably selected according to the use of an epoxy resin composition, 1 type may be used independently, and 2 or more types may be used together in arbitrary combinations.
When the epoxy resin composition of the present invention is used for optical material applications, aliphatic epoxy resins are preferable in that yellow deterioration of a cured product can be suppressed, and alicyclic epoxy resins and epoxy resins of silsesquioxane structure are preferable. Is more preferred. In particular, in the case of an alicyclic epoxy resin, a compound having an epoxycyclohexane structure in a skeleton is preferable, and an epoxy resin obtained by an oxidation reaction of a compound having a cyclohexene structure is preferable.

これら脂環式エポキシ樹脂の具体例としては、例えば、水添型ビスフェノールA型エポキシ樹脂、及びジシクロペンタジエンジエポキシド等が挙げられるが、これらに限定されるものではない(参考文献:総説エポキシ樹脂 基礎編I p76−85)。これらエポキシ樹脂は1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。
これら脂環式エポキシ樹脂の具体例としては、例えば、水添型ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ペンタエリスリトールグリシジルエーテル等のグリシジルエーテルを有する脂環式エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエンジエポキシド、3‘,4‘−エポキシシクロヘキシルメチル 3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2−ビス(ヒドロキ
シメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物等のグリシジルエーテルを持たない脂環式エポキシ樹脂が挙げられる。
Specific examples of these alicyclic epoxy resins include, for example, hydrogenated bisphenol A type epoxy resins, dicyclopentadiene diepoxide and the like, but are not limited thereto (Reference: Review Epoxy Resins) Basic edition I p 76-85). These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.
Specific examples of these alicyclic epoxy resins include, for example, hydrogenated bisphenol A type epoxy resins, alicyclic epoxy resins having a glycidyl ether such as pentaerythritol glycidyl ether; dicyclopentadiene diepoxide, 3 ', 4' Aliphatic acid free from glycidyl ether such as epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol, etc. And epoxy resins of the formula.

また、本発明のエポキシ樹脂組成物をパワーデバイス等の放熱材料用途に用いる場合は
、耐熱性の観点から芳香族基を有するエポキシ樹脂が好ましく、1分子の中に3つ以上のエポキシ基を含むエポキシ樹脂がさらに好ましいが、特に高粘度のエポキシ樹脂であるほうが、本発明の希釈剤による低粘度化の効果を得られやすい。
Moreover, when using the epoxy resin composition of this invention for thermal radiation material applications, such as a power device, the epoxy resin which has an aromatic group is preferable from a heat resistant viewpoint, and it contains three or more epoxy groups in 1 molecule. Although an epoxy resin is more preferable, it is easy to obtain the effect of viscosity reduction by the diluent of the present invention particularly when the epoxy resin is a high viscosity.

これらのエポキシ樹脂としてはビフェニル型エポキシ樹脂;ビスフェノール型エポキシ樹脂;ナフタレン環、アントラセン環、ピレン環等の多環式芳香族構造を有するエポキシ樹脂;フェノールノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。
本発明の希釈剤(a)と、エポキシ樹脂(b)の混合比は目的に応じて適宜設定可能であるが、通常希釈剤(a)の重量比がエポキシ樹脂組成物の50質量%以下であり、30質量%以下が好ましく、10質量%以下がさらに好ましい。
Examples of these epoxy resins include biphenyl type epoxy resins; bisphenol type epoxy resins; epoxy resins having a polycyclic aromatic structure such as naphthalene ring, anthracene ring and pyrene ring; and phenol novolac type epoxy resins.
The mixing ratio of the diluent (a) of the present invention to the epoxy resin (b) can be appropriately set according to the purpose, but the weight ratio of the diluent (a) is usually 50% by mass or less of the epoxy resin composition 30 mass% or less is preferable, and 10 mass% or less is more preferable.

(硬化剤、硬化促進剤)
本発明のエポキシ樹脂組成物は、さらに硬化剤を含んでいてもよい。
本発明に用いられる硬化剤は、用いるエポキシ樹脂組成物を硬化することができる限りにおいて特に限定はされず、一般的にエポキシ樹脂硬化剤として知られているものを使用できる。例えば、フェノール系硬化剤、1級及び2級アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤などの付加重合型硬化剤;3級アミン系硬化剤、イミダゾール系硬化剤、有機ホスフィン系硬化剤、ホスホニウム塩系硬化剤などの触媒型硬化剤;等が挙げられる。
(Hardening agent, hardening accelerator)
The epoxy resin composition of the present invention may further contain a curing agent.
The curing agent used in the present invention is not particularly limited as long as it can cure the epoxy resin composition to be used, and those generally known as epoxy resin curing agents can be used. For example, addition polymerization type curing agents such as phenol type curing agents, primary and secondary amine type curing agents, acid anhydride type curing agents; tertiary amine type curing agents, imidazole type curing agents, organic phosphine type curing agents, phosphonium Catalyst type curing agents such as salt based curing agents;

フェノール系硬化剤の具体例としては、ビスフェノールA、ビスフェノールF、4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、1,4−ビス(4−ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4,4’−ジヒドロキシジフェニルケトン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、2,2’−ジヒドロキシビフェニル、10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−10H−9−オキサ−10−ホスファフェナンスレン−10−オキサイド、フェノールノボラック、ビスフェノールAノボラック、o−クレゾールノボラック、m−クレゾールノボラック、p−クレゾールノボラック、キシレノールノボラック、ポリ−p−ヒドロキシスチレン、ハイドロキノン、レゾルシン、カテコール、t−ブチルカテコール、t−ブチルハイドロキノン、フルオログリシノール、ピロガロール、t−ブチルピロガロール、アリル化ピロガロール、ポリアリル化ピロガロール、1,2,4−ベンゼントリオール、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、1,2−ジヒドロキシナフタレン、1,3−ジヒドロキシナフタレン、1,4−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、1,7−ジヒドロキシナフタレン、1,8−ジヒドロキシナフタレン、2,3−ジヒドロキシナフタレン、2,4−ジヒドロキシナフタレン、2,5−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレン、2,8−ジヒドロキシナフタレン、上記ジヒドロキシナフタレンのアリル化物またはポリアリル化物、アリル化ビスフェノールA、アリル化ビスフェノールF、アリル化フェノールノボラック等が挙げられる。   Specific examples of the phenol-based curing agent include bisphenol A, bisphenol F, 4,4′-dihydroxydiphenylmethane, 4,4′-dihydroxydiphenyl ether, 1,4-bis (4-hydroxyphenoxy) benzene, and 1,3-bis. (4-hydroxyphenoxy) benzene, 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide, 4,4'-dihydroxydiphenyl ketone, 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone, 4,4'-dihydroxybiphenyl, 2,2'-dihydroxybiphenyl 10- (2,5-dihydroxyphenyl) -10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, phenol novolak, bisphenol A novolak, o-cresol novolak, m-cresol novolak, p-cresol Alk novolak, xylenol novolak, poly-p-hydroxystyrene, hydroquinone, resorcin, catechol, t-butyl catechol, t-butyl hydroquinone, fluoroglycinol, pyrogallol, t-butyl pyrogallol, allylated pyrogallol, polyallylated pyrogallol, 1,2 , 4-benzenetriol, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 1,2-dihydroxynaphthalene, 1,3-dihydroxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene 1,7-dihydroxynaphthalene, 1,8-dihydroxynaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene, 2,4-dihydroxynaphthalene, 2,5-dihydroxynaphthalene, 2, - dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, 2,8-dihydroxynaphthalene, allyl compound or polyallyl compound of the dihydroxynaphthalene, allylated bisphenol A, allylated bisphenol F, allylated phenol novolak and the like.

前記1級及び2級アミン系硬化剤の具体例としては、脂肪族アミン類、ポリエーテルアミン類、脂環式アミン類、芳香族アミン類などが挙げられる。脂肪族アミン類としては、エチレンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノプロパン、ヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメチルヘキサメチレンジアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、イミノビスプロピルアミン、ビス(ヘキサメチレン)トリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、N−ヒドロキシエチルエチレンジアミン、テトラ(ヒドロキシエチル)エチレンジアミン等が挙げられる。ポリエーテルアミン類としては、トリエチレングリコールジアミン、テトラエチレングリコールジアミン、ジエチレングリコールビス(プロピルアミン)、ポリオキシプロピレンジアミン、ポリオキシプロピレントリアミン類等が挙げられる。
脂環式アミン類としては、イソホロンジアミン、メタセンジアミン、N−アミノエチルピペラジン、ビス(4−アミノ−3−メチルジシクロヘキシル)メタン、ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、ノルボルネンジアミン等が挙げられる。芳香族アミン類としては、テトラクロロ−p−キシレンジアミン、m−キシレンジアミン、p−キシレンジアミン、m−フェニレンジアミン、o−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、2,4−ジアミノアニソール、2,4−トルエンジアミン、2,4−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−1,2−ジフェニルエタン、2,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、m−アミノフェノール、m−アミノベンジルアミン、ベンジルジメチルアミン、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、トリエタノールアミン、メチルベンジルアミン、α−(3−アミノフェニル)エチルアミン、α−(4−アミノフェニル)エチルアミン、ジアミノジエチルジメチルジフェニルメタン、α,α’−ビス(4−アミノフェニル)−p−ジイソプロピルベンゼン等が挙げられる。
Specific examples of the primary and secondary amine curing agents include aliphatic amines, polyether amines, alicyclic amines, aromatic amines and the like. As aliphatic amines, ethylenediamine, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminopropane, hexamethylenediamine, 2,5-dimethylhexamethylenediamine, trimethylhexamethylenediamine, diethylenetriamine, iminobispropylamine, bis ( Hexamethylene) triamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, pentaethylenehexamine, N-hydroxyethylethylenediamine, tetra (hydroxyethyl) ethylenediamine and the like can be mentioned. Examples of polyetheramines include triethylene glycol diamine, tetraethylene glycol diamine, diethylene glycol bis (propylamine), polyoxypropylene diamine, polyoxypropylene triamines and the like.
Alicyclic amines such as isophorone diamine, metacene diamine, N-aminoethyl piperazine, bis (4-amino-3-methyldicyclohexyl) methane, bis (aminomethyl) cyclohexane, 3,9-bis (3-amino And propyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane, norbornene diamine and the like. As aromatic amines, tetrachloro-p-xylenediamine, m-xylenediamine, p-xylenediamine, m-phenylenediamine, o-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 2,4-diaminoanisole, 2,4 -Toluenediamine, 2,4-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diamino-1,2-diphenylethane, 2,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone , M-aminophenol, m-aminobenzylamine, benzyldimethylamine, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, triethanolamine, methylbenzylamine, α- (3-aminophenyl) ethylamine, α- (4-aminophenyl) ) Ethylamine, diaminodiechi Dimethyl diphenylmethane, alpha,. Alpha .'- bis (4-aminophenyl)-p-diisopropylbenzene and the like.

酸無水物系硬化剤の具体例としては、ドデセニル無水コハク酸、ポリアジピン酸無水物、ポリアゼライン酸無水物、ポリセバシン酸無水物、ポリ(エチルオクタデカン二酸)無水物、ポリ(フェニルヘキサデカン二酸)無水物、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水メチルハイミック酸、テトラヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸無水物、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、エチレングリコールビストリメリテート二無水物、無水ヘット酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1−ナフタレンコハク酸二無水物、1−メチル−3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1−ナフタレンコハク酸二無水物等が挙げられる。   Specific examples of the acid anhydride-based curing agent include dodecenyl succinic anhydride, polyadipic acid anhydride, polyazelaic acid anhydride, polysebacic acid anhydride, poly (ethyl octadecanedioic acid) anhydride, poly (phenylhexadecanedioic acid) Anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhymic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride, methylcyclohexene dicarboxylic anhydride, methylcyclohexenetetracarboxylic acid Acid anhydride, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, ethylene glycol bis trimellitate dianhydride, hetic anhydride, nadic anhydride, methyl nadic anhydride, 5- ( 2, -Dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid anhydride, 3,4-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-1-naphthalene succinic acid Anhydrides, 1-methyl-3,4-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-1-naphthalene succinic dianhydride etc. are mentioned.

第3級アミン系硬化剤の具体例としては、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等が挙げられる。
イミダゾール系硬化剤の具体例としては、2−フェニルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノ−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾールトリメリテイト、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−(2−メチル−1−イミダゾリル)−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−(2−エチル−4−メチル−1−イミダゾリル)−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−(2−メチル−1−イミダゾリル)−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加体、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加体、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、およびエポキシ樹脂と上記イミダゾール類との付加体等が挙げられる。
Specific examples of tertiary amine curing agents include 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) And the like.
Specific examples of the imidazole-based curing agent include 2-phenylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyano-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2,4- Diamino-6- (2-methyl-1-imidazolyl) -ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- (2-ethyl-4-methyl-1-imidazolyl) -ethyl-s-triazine, 2, 4-diamino-6- (2-methyl-1-imidazolyl) -ethyl-s-tria Isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, and epoxy resin with the above imidazoles An adduct etc. are mentioned.

有機ホスフィン系硬化剤としては、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフイン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィン等が挙げられ、ホスホニウム塩系硬化剤としては、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウム・エチルトリフェニルボレート、テトラブチルホスホ
ニウム・テトラブチルボレート等が挙げられる。
Examples of the organic phosphine-based curing agent include tributyl phosphine, methyl diphenyl phosphine, triphenyl phosphine, diphenyl phosphine, phenyl phosphine and the like, and examples of the phosphonium salt-based curing agent include tetraphenylphosphonium tetraphenylborate and tetraphenylphosphonium. Ethyl triphenyl borate, tetrabutyl phosphonium tetrabutyl borate and the like can be mentioned.

なお、これらの硬化剤の中のいずれを用いるかは、硬化条件及び樹脂硬化物の形状、樹脂硬化物の耐熱性、接着性、吸水性、曲げ強度などの各種性状のバランスによって種々選択される。
本発明のエポキシ樹脂組成物を光学材料向けに用いる場合、硬化剤としては、黄色劣化を抑制する点から酸無水物を使用するのが好ましく、特にLED封止材用途では無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルヘキサヒドロフタル酸を使用するのが好ましい。また、硬化性、耐熱性、耐湿性の観点から、有機ホスフィン系、有機ホスホニウム塩系もしくは第3級アミン等の前記触媒型硬化剤を硬化促進剤として併用するのが好ましい。
In addition, which of these curing agents is used is variously selected according to the balance of various properties such as the curing conditions and the shape of the cured resin, the heat resistance of the cured resin, adhesiveness, water absorbency, and bending strength. .
When the epoxy resin composition of the present invention is used for an optical material, it is preferable to use an acid anhydride as a curing agent from the viewpoint of suppressing yellow deterioration, and particularly in the application of an LED encapsulant, hexahydrophthalic anhydride, It is preferred to use methyl hexahydrophthalic acid anhydride. From the viewpoint of curability, heat resistance and moisture resistance, it is preferable to use the catalyst type curing agent such as organic phosphine type, organic phosphonium salt type or tertiary amine in combination as a curing accelerator.

また、本発明のエポキシ樹脂組成物を放熱材料向けに用いる場合、硬化剤としては、耐熱性向上の観点から、付加重合型硬化剤が好ましく、フェノール系硬化剤や1級及び2級アミン系硬化剤を使用するのが好ましい。中でも、フェノール系硬化剤としてはフェノールノボラック硬化剤がより好ましく、1級及び2級アミン系硬化剤としては芳香族ポリアミンがより好ましい。   In addition, when the epoxy resin composition of the present invention is used for a heat radiation material, an addition polymerization type curing agent is preferable as a curing agent from the viewpoint of heat resistance improvement, and a phenol type curing agent or primary and secondary amine curing It is preferred to use an agent. Among them, a phenol novolac curing agent is more preferable as a phenol-based curing agent, and an aromatic polyamine is more preferable as a primary and secondary amine-based curing agent.

以上に挙げた硬化剤は、1種のみで用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で混合して用いてもよい。
本発明のエポキシ樹脂組成物において、硬化剤の使用量は特に限定されないが、硬化剤が前記付加重合型硬化剤の場合は、本発明の希釈剤(a)とエポキシ樹脂(b)とを混合したエポキシ樹脂中のエポキシ基と、硬化剤中のエポキシ基と反応し架橋構造を形成する反応部位との当量比で、通常0.8以上、好ましくは0.9以上、通常1.5以下、好ましくは1.2以下となるように用いる。この範囲内であると未反応のエポキシ基や硬化剤の反応部位の残留が抑制され、所望の物性を容易に得られる。
The curing agents listed above may be used alone or in combination of two or more in any combination and ratio.
In the epoxy resin composition of the present invention, the amount of the curing agent used is not particularly limited, but when the curing agent is the addition polymerization type curing agent, the diluent (a) of the present invention and the epoxy resin (b) are mixed. The equivalent ratio of the epoxy group in the epoxy resin to the reaction site that reacts with the epoxy group in the curing agent to form a crosslinked structure is usually 0.8 or more, preferably 0.9 or more, and usually 1.5 or less, Preferably, it is used so as to be 1.2 or less. Within this range, the remaining of the unreacted epoxy group and the reaction site of the curing agent are suppressed, and desired physical properties can be easily obtained.

硬化剤が前記触媒型硬化剤の場合は、その使用量は特に限定されず、用いるエポキシ樹脂(b)の種類、構造、又は本発明の希釈剤との混合比率等に応じ適宜調整可能であるが、エポキシ樹脂組成物中のエポキシ樹脂(b)100質量部に対して通常0.1質量部以上、好ましくは0.2質量部以上、通常20質量部以下、好ましくは10質量部以下の範囲で用いられる。前記の範囲で使用することで十分な硬化が達成でき、本発明の希釈剤の特徴である硬化物の耐熱性を特に向上させることができる。   When the curing agent is the catalyst type curing agent, the amount used is not particularly limited, and can be appropriately adjusted according to the type of epoxy resin (b) used, the structure, or the mixing ratio with the diluent of the present invention, etc. Is usually 0.1 parts by mass or more, preferably 0.2 parts by mass or more, and usually 20 parts by mass or less, preferably 10 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the epoxy resin (b) in the epoxy resin composition Used in By using it in the above-mentioned range, sufficient curing can be achieved, and the heat resistance of the cured product, which is a feature of the diluent of the present invention, can be particularly improved.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じ、硬化剤とともに硬化促進剤を併用してもよい。また、硬化剤を用いずに硬化促進剤のみで硬化させることもできる。用いられる硬化促進剤としては、特に限定されないが、例えば、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾ−ル類;2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7等の第3級アミン類;トリフェニルホスフィン等のホスフィン類;テトラブチルアンモニウム塩、トリイソプロピルメチルアンモニウム塩、トリメチルデカニルアンモニウム塩、セチルトリメチルアンモニウム塩等の4級アンモニウム塩;トリフェニルベンジルフォスフォニウム塩、トリフェニルエチルフォスフォニウム塩、テトラブチルフォスフォニウム塩、メチルトリブチルフォスフォニウム塩等の4級ホスホニウム塩等が挙げられる。4級塩のカウンターアニオンは、塩化物イオン、臭化物イオン、有機リン酸イオン、水酸化物イオン等、特に指定は無いが、特に有機リン酸イオン、水酸化物イオンが好ましい。
硬化促進剤を用いる場合は、エポキシ樹脂(b)100質量部に対して、通常0.01以上10質量部以下である。
In the epoxy resin composition of the present invention, if necessary, a curing accelerator may be used in combination with the curing agent. Moreover, it is also possible to cure only with a curing accelerator without using a curing agent. The curing accelerator used is not particularly limited. For example, imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole; 2- (dimethylaminomethyl) phenol, 1 , Tertiary amines such as 8-diaza-bicyclo (5,4,0) undecene-7; phosphines such as triphenylphosphine; tetrabutyl ammonium salt, triisopropyl methyl ammonium salt, trimethyl decanyl ammonium salt, cetyl Examples thereof include quaternary ammonium salts such as trimethyl ammonium salt; and quaternary phosphonium salts such as triphenyl benzyl phosphonium salt, triphenyl ethyl phosphonium salt, tetrabutyl phosphonium salt, methyl tributyl phosphonium salt and the like. The counter anion of the quaternary salt is not particularly specified, such as chloride ion, bromide ion, organic phosphate ion, hydroxide ion and the like, but organic phosphate ion and hydroxide ion are particularly preferable.
When using a hardening accelerator, it is usually 0.01 or more and 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin (b).

(充填剤)
本発明のエポキシ樹脂組成物には、樹脂硬化物の熱伝導率を向上させたり、熱膨張係数
を低下させたりするなど、種々の特性の向上を目的として、必要に応じて充填剤を添加することができる。充填剤としては、特に限定はされないが、通常無機化合物が用いられ、例えば、結晶シリカ、溶融シリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、酸化マグネシウム、ジルコニア、フォステライト、ステアタイト、スピネル、チタニア、タルク等の粉体またはこれらを球形化したビーズ等が挙げられる。また導電性を付与する目的として、カーボン、アルミニウム、銅、金、炭化ケイ素等を添加してもよい。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。粒径や形状の異なるものを混合してもよい。
これら充填剤の含有量は、本発明のエポキシ樹脂組成物中において、特に限定されないが、通常1質量%以上、95質量%以下を占める量が用いられる。
(filler)
A filler is added to the epoxy resin composition of the present invention as needed for the purpose of improving various properties such as improving the thermal conductivity of the cured resin and reducing the thermal expansion coefficient. be able to. The filler is not particularly limited, but usually an inorganic compound is used. For example, crystalline silica, fused silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, silicon nitride, silicon nitride, boron nitride, aluminum nitride, magnesium oxide And zirconia, forsterite, steatite, spinel, titania, powder such as talc, or beads obtained by spheroidizing them. In addition, carbon, aluminum, copper, gold, silicon carbide or the like may be added for the purpose of imparting conductivity. One of these may be used alone, or two or more may be used in combination. You may mix the thing from which a particle size and a shape differ.
Although content of these fillers is not specifically limited in the epoxy resin composition of this invention, The quantity which occupies 1 mass% or more and 95 mass% or less normally is used.

(本発明の希釈剤以外の希釈剤)
本発明の多官能エポキシ樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、本発明の希釈剤以外の希釈剤を含有していても良いが、本発明の多官能エポキシ樹脂組成物は、本発明の希釈剤を加えることにより粘度が下がり十分な加工性を有することから、本発明の希釈剤以外の希釈剤は使用しないのが好ましい。
(Diluents other than the diluent of the present invention)
The multifunctional epoxy resin composition of the present invention may contain a diluent other than the diluent of the present invention as long as the effects of the present invention are not impaired, but the multifunctional epoxy resin composition of the present invention may It is preferable not to use a diluent other than the diluent of the present invention, since the viscosity is lowered by the addition of the diluent of the present invention and the processability is sufficient.

(その他の添加剤)
さらに、本発明のエポキシ樹脂組成物には、その性能を損なわない範囲で、所望の物性を得るための各種添加剤を添加することができ、例えばリン含有化合物等の難燃剤;フェノール系、イオウ系、リン系等の酸化防止剤;ヒンダートアミン等の光安定剤;シランカップリング剤;ステアリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の離型剤;ブチラール系樹脂、アセタール系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ−ナイロン系樹脂、NBR−フェノール系樹脂、エポキシ−NBR系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、シリコーン系樹脂等のバインダー樹脂;界面活性剤、染料、顔料、紫外線吸収剤等の種々の配合剤;等を添加することができる。
(Other additives)
Furthermore, various additives for obtaining desired physical properties can be added to the epoxy resin composition of the present invention as long as the performance is not impaired. For example, flame retardants such as phosphorus-containing compounds; phenols, sulfur Antioxidants such as phosphorus system, light stabilizers such as hindered amine, silane coupling agents, release agents such as stearic acid, palmitic acid, zinc stearate, calcium stearate, etc. butyral resins, acetal resins, Binder resins such as acrylic resins, epoxy-nylon resins, NBR-phenol resins, epoxy-NBR resins, polyamide resins, polyimide resins, silicone resins; surfactants, dyes, pigments, UV absorbers, etc. And the like can be added.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、光学材料用エポキシ樹脂組成物として好適であり、LED封止材として特に好適である。
具体的にLED封止材に使用する場合、必要に応じて、蛍光体を添加することができる。蛍光体は、例えば、青色LED素子から発せられた青色光の一部を吸収し、波長変換された黄色光を発することにより、白色光を形成する作用を有するものである。蛍光体を、エポキシ樹脂組成物に予め分散させておいてから、光半導体を封止する。蛍光体としては特に制限がなく、従来公知の蛍光体を使用することができる。
The epoxy resin composition of the present invention is suitable as an epoxy resin composition for optical materials, and is particularly suitable as an LED sealing material.
When using it for LED sealing material specifically, fluorescent substance can be added as needed. The phosphor has a function of forming white light by, for example, absorbing a part of blue light emitted from the blue LED element and emitting wavelength-converted yellow light. The phosphor is previously dispersed in the epoxy resin composition, and then the photosemiconductor is sealed. There is no restriction | limiting in particular as fluorescent substance, A conventionally well-known fluorescent substance can be used.

また本発明のエポキシ樹脂組成物は、放熱材料向けエポキシ樹脂組成物としても好適であるが、その機能性の更なる向上を目的として、上述の各種添加剤に加えて、さらに可塑剤、はんだの酸化皮膜除去のためのフラックス、分散剤、乳化剤、低弾性化剤、消泡剤、イオントラップ剤等を含んでいても良い。   The epoxy resin composition of the present invention is also suitable as an epoxy resin composition for heat dissipation materials, but for the purpose of further improving its functionality, in addition to the various additives described above, plasticizers and solders are also useful. A flux for removing the oxide film, a dispersing agent, an emulsifying agent, a low elasticity agent, an antifoaming agent, an ion trapping agent, etc. may be included.

<硬化物>
本発明のエポキシ樹脂組成物は、容易にその硬化物とすることができる。
硬化に際しては、前記エポキシ樹脂(b)、本発明の希釈剤(a)に、必要により前記硬化剤、硬化促進剤、前記充填材、添加剤等とを混合したエポキシ樹脂組成物を得る。
前記エポキシ樹脂組成物の混合方法は特に限定されず、押出機、ニーダ、ロール等を用いることができる。
前記エポキシ樹脂組成物を均一になるまで充分に混合した後、その樹脂組成物を成型する。成型手段は特に限定されず、ポッティング、溶融後(液状の場合は溶融不要)注型、又はトランスファー成型機等を用いて成型することができる。
<Cured product>
The epoxy resin composition of the present invention can be easily cured.
At the time of curing, an epoxy resin composition is obtained in which the curing agent, the curing accelerator, the filler, the additives, etc. are mixed with the epoxy resin (b) and the diluent (a) of the present invention as required.
The mixing method of the said epoxy resin composition is not specifically limited, An extruder, a kneader, a roll etc. can be used.
After sufficiently mixing the epoxy resin composition until it becomes uniform, the resin composition is molded. The molding means is not particularly limited, and it can be molded by potting, casting after melting (in the case of a liquid, it does not require melting), casting, or a transfer molding machine.

硬化温度は特に限定されないが、通常80〜200℃である。
硬化時間は特に限定されないが、通常2〜10時間加熱することにより本発明の硬化物を得ることができる。
また本発明のエポキシ樹脂組成物を、必要に応じて、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等の溶剤に溶解させてワニスとし、ガラス繊維、カ−ボン繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維、アルミナ繊維、紙等の基材に含浸させて加熱乾燥して得たプリプレグを熱プレス成形することにより、本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物とすることができる。この際の溶剤は、本発明のエポキシ樹脂組成物と該溶剤の混合物中で通常10質量%以上、好ましくは15質量%以上であって、通常70質量%以下を占める量を用いる。また液状組成物であれば、そのまま例えば、RTM(Resin Transfer Molding)成形により、カーボン繊維を含有するエポキシ樹脂硬化物を得ることもできる。
Although the curing temperature is not particularly limited, it is usually 80 to 200 ° C.
Although the curing time is not particularly limited, the cured product of the present invention can be obtained by heating generally for 2 to 10 hours.
Further, the epoxy resin composition of the present invention is dissolved in a solvent such as toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, N, N-dimethyl acetamide, N-methyl pyrrolidone and the like to make a varnish, if necessary. Curing of the epoxy resin composition of the present invention by heat press forming a prepreg obtained by impregnating a substrate such as glass fiber, carbon fiber, polyester fiber, polyamide fiber, alumina fiber, paper, etc. and heating and drying it. It can be a thing. In this case, the solvent is used in an amount of usually 10% by mass or more, preferably 15% by mass or more, and usually 70% by mass or less in the mixture of the epoxy resin composition of the present invention and the solvent. In the case of a liquid composition, it is also possible to obtain an epoxy resin cured product containing carbon fibers by, for example, RTM (Resin Transfer Molding) molding.

また本発明のエポキシ樹脂組成物は、フィルム型組成物の改質剤としても使用できる。具体的には、Bステージにおけるフレキ性等を向上させる場合に用いることができる。このようなフィルム型の樹脂組成物を得る場合は、このようなフィルム型の樹脂組成物は、本発明のエポキシ樹脂組成物を前記ワニスとして剥離フィルム上に塗布し、加熱下で溶剤を除去した後、Bステージ化を行うことによりシート状の接着剤として得られる。このシート状接着剤は多層基板等における層間絶縁層として使用することができる。   The epoxy resin composition of the present invention can also be used as a film type composition modifier. Specifically, it can be used to improve the flexibility and the like in the B-stage. When such a film-type resin composition is obtained, such a film-type resin composition was coated on the release film with the epoxy resin composition of the present invention as the varnish, and the solvent was removed under heating. Thereafter, B-staging is performed to obtain a sheet-like adhesive. This sheet-like adhesive can be used as an interlayer insulating layer in a multilayer substrate or the like.

硬化物のTgは、特に限定されるものではなく、前記エポキシ樹脂(b)と本発明の希釈剤(a)との比率によって適宜調整可能であるが、通常140℃以上、好ましくは160℃以上であり、上限は通常、前記エポキシ樹脂(b)のTgであり、好ましくは250℃以下、より好ましくは220℃以下である。
本発明の希釈剤のTgが高いため、得られる硬化物は、前記エポキシ樹脂(b)が有するTgを著しく低下させることがなく、耐熱性を保持することができる。
The Tg of the cured product is not particularly limited, and can be appropriately adjusted by the ratio of the epoxy resin (b) to the diluent (a) of the present invention, but is usually 140 ° C. or more, preferably 160 ° C. or more The upper limit is usually the Tg of the epoxy resin (b), preferably 250 ° C. or less, more preferably 220 ° C. or less.
Since the Tg of the diluent of the present invention is high, the resulting cured product can maintain heat resistance without significantly lowering the Tg of the epoxy resin (b).

本発明の希釈剤は、硬化後の黄色劣化性が小さい。そのため前記エポキシ樹脂組成物を硬化させた場合も、硬化物の黄色劣化性を低下させることがない。
本発明の硬化物は、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂が使用される一般の用途に用いることができ、例えば、接着剤、塗料、コーティング剤、成形材料(シート、フィルム、FRP等を含む)、絶縁材料(プリント基板、電線被覆等を含む)、封止材の他、封止材、基板用のシアネート樹脂組成物、レジスト用硬化剤としてアクリル酸エステル系樹脂等、他樹脂等への添加剤等が挙げられる。
The diluent of the present invention is less susceptible to yellowing after curing. Therefore, even when the epoxy resin composition is cured, the yellow deterioration of the cured product is not reduced.
The cured product of the present invention can be used in general applications in which a thermosetting resin such as an epoxy resin is used, and, for example, an adhesive, a paint, a coating agent, a molding material (including sheet, film, FRP, etc.) In addition to insulating materials (including printed circuit boards and wire coatings), sealing materials, sealing materials, sealing materials, cyanate resin compositions for substrates, acrylic ester resins as curing agents for resists, and other resins etc. Agents and the like.

接着剤としては、例えば、土木用、建築用、自動車用、一般事務用、医療用の接着剤の他、電子材料用の接着剤が挙げられる。これらのうち電子材料用の接着剤としては、ビルドアップ基板等の多層基板の層間接着剤、ダイボンディング剤、アンダーフィル等の半導体用接着剤、BGA補強用アンダーフィル、異方性導電性フィルム(ACF)、異方性導電性ペースト(ACP)等の実装用接着剤等が挙げられる。   Examples of the adhesive include adhesives for electronic materials as well as adhesives for civil engineering, construction, automobiles, general office work, and medical use. Among these, as adhesives for electronic materials, interlayer adhesives for multilayer substrates such as buildup substrates, die bonding agents, adhesives for semiconductors such as underfills, underfills for BGA reinforcement, anisotropic conductive films ( Examples of the adhesive include mounting adhesives such as ACF) and anisotropic conductive paste (ACP).

封止材としては、例えば、コンデンサ、トランジスタ、ダイオード、発光ダイオード、IC、LSI等用のポッティング、ディッピング、トランスファーモールド封止、IC、LSI類のCOB(Chip On Board)、COF(Chip On Film)、TAB(Tape Automated Bonding)等用のポッティング封止、フリップチップ等用のアンダーフィル、QFP(Quad Flat Package)、BGA(Ball Grid Array)、CSP(Chip Size Package)等用のICパッケージ類実装時の封止(補強用アンダーフィルを含む)等が挙げられる。   As the sealing material, for example, a capacitor, a transistor, a diode, a light emitting diode, potting for IC, LSI, etc., dipping, transfer mold sealing, IC, LSI COB (chip on board), COF (chip on film) , Potting for TAB (Tape Automated Bonding), etc., underfill for flip chip etc., QFP (Quad Flat Package), BGA (Ball Grid Array), IC package for CSP (Chip Size Package) etc. Sealing (including a reinforcing underfill) and the like.

上述の用途の中でも、本発明の希釈剤を含むエポキシ樹脂組成物は、低粘度であることから、成型加工時の低粘度化が求められる用途に対しての利用が好適であり、該硬化物が高耐熱性、強度、低線膨張性等を有することが特徴であることから、特に、多層プリント配線基板、フィルム状接着剤、液状接着剤、半導体封止材料、アンダーフィル材料、3D−LSI用インターチップフィル、絶縁シート、プリプレグ、放熱基板等の半導体材料向け用途がさらに好適である。   Among the above-mentioned applications, the epoxy resin composition containing the diluent of the present invention has a low viscosity, and is thus suitably used for applications requiring a reduction in viscosity during molding and processing, and the cured product In particular, multilayer printed wiring board, film adhesive, liquid adhesive, semiconductor sealing material, underfill material, 3D-LSI, since it is characterized by having high heat resistance, strength, low linear expansion and the like. Applications for semiconductor materials such as inter-chip fills, insulating sheets, prepregs, heat dissipation substrates, etc. are more preferable.

上述の通り、エポキシ樹脂組成物には、樹脂硬化物の熱伝導率を向上させたり、熱膨張係数を低下させたりするなど、種々の特性の向上を図る目的で、充填剤を添加することができる。特に、パワーデバイス向け材料では、エポキシ樹脂で硬化物の耐熱性を持たせ、熱伝導率の高い充填剤の添加により放熱性を向上させる方法が広く知られている一方で、充填剤の配合量が増大すると組成物の粘度が高くなり、成型加工性が悪化する。つまり充填剤の配合量は液状成分の粘度に制約を受けるため、エポキシ樹脂組成物は耐熱性に加えて、より低粘度であることが求められる。本発明の希釈剤を含むエポキシ樹脂組成物は、既存の希釈剤を混合した場合と同程度の粘度を有しながら、得られる硬化物は主材料であるエポキシ樹脂(b)の耐熱性を損なうことが無いため、パワーデバイス向けの材料に特に好適である。   As described above, a filler may be added to the epoxy resin composition for the purpose of improving various properties such as improving the thermal conductivity of the cured resin and reducing the thermal expansion coefficient. it can. In the case of materials for power devices, in particular, there is widely known a method of improving heat dissipation by adding a filler having a high thermal conductivity by providing the heat resistance of a cured product with an epoxy resin, while the blending amount of the filler As the viscosity of the composition increases, the viscosity of the composition increases and the moldability deteriorates. That is, since the blending amount of the filler is limited by the viscosity of the liquid component, the epoxy resin composition is required to have lower viscosity in addition to heat resistance. The epoxy resin composition containing the diluent of the present invention has the same degree of viscosity as when the existing diluent is mixed, but the resulting cured product impairs the heat resistance of the epoxy resin (b) as the main material. It is particularly suitable as a material for power devices because it does not occur.

なおここで「パワーデバイス」とは、具体的には多層プリント配線基板、フィルム状接着剤、液状接着剤、半導体封止材料、アンダーフィル材料、3D−LSI用インターチップフィル、絶縁シート、プリプレグ、放熱基板、放熱シートである。
また、本発明の希釈剤は透明性にも優れていることから光学材料向けエポキシ樹脂の希釈剤としての使用することもできる。ここで「光学材料」とは具体的には光学レンズ、光ディスク、フラットパネルディスプレイに用いられる導光板や各種フィルムであり、特に、本発明の希釈剤を含むエポキシ樹脂組成物の硬化物は主材料であるエポキシ樹脂(b)の耐熱性を損なうことが無いことから、光半導体部材向けの使用が好適である。また、LED封止材向けエポキシ樹脂として、低黄色劣化性の観点から一般に脂肪族エポキシ樹脂が使用されるが、本発明の希釈剤のうち、一般式(1)、(2)のL、L、A、Bが置換基を含めて全て脂肪族有機基である場合、希釈剤自体も脂肪族エポキシ樹脂となる。よってこれらはLED封止材向けエポキシ樹脂の希釈剤として使用するのがさらに好適であり、これを含むエポキシ樹脂組成物は、LED封止材向けエポキシ樹脂組成物として好適である。
Here, the “power device” specifically refers to a multilayer printed wiring board, a film adhesive, a liquid adhesive, a semiconductor sealing material, an underfill material, an interchip fill for 3D-LSI, an insulating sheet, a prepreg, It is a heat dissipation board and a heat dissipation sheet.
In addition, since the diluent of the present invention is also excellent in transparency, it can also be used as a diluent for epoxy resins for optical materials. Here, the “optical material” is specifically an optical lens, an optical disc, a light guide plate used for a flat panel display and various films, and in particular, a cured product of an epoxy resin composition containing a diluent of the present invention is a main material Since the heat resistance of the epoxy resin (b) which is the above is not impaired, the use for an optical semiconductor member is suitable. Moreover, although an aliphatic epoxy resin is generally used as an epoxy resin for LED sealing materials from a viewpoint of low yellow deterioration property, L 1 of general formula (1), (2) among the diluents of this invention, When L 2 , A and B are all aliphatic organic groups including substituents, the diluent itself is also an aliphatic epoxy resin. Therefore, it is more suitable to use these as a diluent for epoxy resin for LED sealing materials, and the epoxy resin composition containing this is suitable as an epoxy resin composition for LED sealing materials.

封止方法としては一般的な方法で実施すればよく、低圧トランスファー成形法が挙げられるが、射出成形、圧縮成形、注型、ポッティング、キャスティング、スクリーン印刷等により封止することもできる。成形時及び/または成形後の硬化条件は、エポキシ樹脂組成物の各成分の種類や、配合量により異なるが、通常、硬化温度は50〜200℃、硬化時間は1分〜10時間が好ましい。   The sealing method may be carried out by a general method, and low pressure transfer molding may be mentioned, but sealing may be carried out by injection molding, compression molding, casting, potting, casting, screen printing or the like. The curing conditions at the time of molding and / or after molding vary depending on the types of the components of the epoxy resin composition and the compounding amount, but generally, the curing temperature is 50 to 200 ° C., and the curing time is preferably 1 minute to 10 hours.

前記LED封止材向け希釈剤を含むエポキシ樹脂組成物、すなわちLED封止材向けエポキシ樹脂組成物は、これを用いてLED発光素子を封止することで、LED装置に適用することができる。
前記LED発光素子としては特に限定されず、従来公知の発光素子を用いることができ、例えばGaN、InGaN等の窒化物系LEDを用いた発光素子等を用いることができる。
The epoxy resin composition containing the said diluent for LED sealing materials, ie, the epoxy resin composition for LED sealing materials, can be applied to a LED apparatus by sealing an LED light emitting element using this.
The LED light emitting element is not particularly limited, and a conventionally known light emitting element can be used. For example, a light emitting element using a nitride-based LED such as GaN or InGaN can be used.

前記LED装置としては、従来公知の装置構成を用いることができ、特に限定はされないが、前記LED封止材向け希釈剤を含むエポキシ樹脂組成物を封止材として含み、例えば前記LED発光素子、発光素子に形成された電極部、前記電極部を電気接続するための
リード端子部、これらを装置内に固定するダイボンド部等を必要に応じて有することができる。
A conventionally known device configuration can be used as the LED device, and there is no particular limitation, but an epoxy resin composition containing a diluent for the LED sealing material is included as a sealing material, for example, the LED light emitting element, An electrode portion formed in the light emitting element, a lead terminal portion for electrically connecting the electrode portion, a die bonding portion for fixing these in the device, and the like can be provided as necessary.

以下、実験例(合成例、実施例)に基づいて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実験例により限定されるものではない。
実施例中の資材は断りのない限り通常入手可能な市販試薬を用いた。また、実施例及び比較例における各種分析方法は以下の通りである。
Hereinafter, the present invention will be more specifically described based on experimental examples (synthetic examples and examples), but the present invention is not limited by the following experimental examples as long as the gist thereof is not exceeded.
Materials in the examples used commercially available reagents unless otherwise noted. Moreover, the various analysis methods in an Example and a comparative example are as follows.

H−NMR分析条件)
装置 :BRUKER社製 AVANCE400、400MHz
溶媒 :0.03体積%テトラメチルシラン含有重クロロホルム
(以下、ガスクロマトグラフ(GC)分析条件1とする)
( 1 H-NMR analysis conditions)
Device: AVKER 400 manufactured by BRUKER, 400 MHz
Solvent: Heavy chloroform containing 0.03% by volume of tetramethylsilane
(Hereafter, gas chromatograph (GC) analysis condition 1)

(ガスクロマトグラフ分析条件)
カラム :ZB−5(30m×0.25mmφ、0.25μm)
検出器 :水素炎イオン検出器(FID)
Inj温度:250℃
Det温度:280℃
昇温条件 :100℃から10℃/minで270℃まで昇温後、5分間保持した。
(以下、GC分析条件2)
カラム :ZB−1(30mx0.25mmφ、0.25μm、島津ジーエルシー製)検出器 :水素炎イオン検出器(FID)
Inj温度:250℃
Det温度:280℃
昇温条件 :100℃で5分間保持した後、10℃/minで250℃まで昇温し、さらに5分間保持した。
(Gas chromatography analysis conditions)
Column: ZB-5 (30m × 0.25mmφ, 0.25μm)
Detector: Hydrogen flame ion detector (FID)
Inj temperature: 250 ° C
Det temperature: 280 ° C
Temperature rising conditions: After raising the temperature from 100 ° C. to 270 ° C. at 10 ° C./min, it was held for 5 minutes.
(Hereafter, GC analysis condition 2)
Column: ZB-1 (30 mx 0.25 mm φ, 0.25 μm, Shimadzu LCC) detector: Hydrogen flame ion detector (FID)
Inj temperature: 250 ° C
Det temperature: 280 ° C
Temperature rising condition: After holding for 5 minutes at 100 ° C., the temperature was raised to 250 ° C. at 10 ° C./min and kept for 5 minutes more.

(エポキシ当量)
JIS K7236:2001に準じて測定し、固形分換算値として表記した。
(Epoxy equivalent)
It measured according to JIS K 7236: 2001, and described as a solid content conversion value.

(粘度分析)
分析装置:コーンプレート粘度計(東海八神株式会社製)
70℃に調整した粘度計の熱板の上に3mLのスポイトで吸引したエポキシ樹脂を1滴滴下して、回転速度750rpmで粘度を測定した。
(Viscosity analysis)
Analyzer: Corn plate viscometer (made by Tokai Yagami Co., Ltd.)
One drop of epoxy resin sucked by a 3 mL dropper was dropped on the hot plate of the viscometer adjusted to 70 ° C., and the viscosity was measured at a rotation speed of 750 rpm.

(ガラス転位温度(Tg)および線膨張係数(α、α)の測定)
エポキシ樹脂硬化物を厚さ約2mm、直径約7mmの円柱状試験片として測定を行なった。
分析装置(TMA):EXSTAR6000E(セイコーインスツルメント社製)
測定モード:圧縮モード
昇温速度 :5℃/minで2回、測定温度範囲: 0℃から250℃
2回目の測定におけるガラス転移温度を測定した。
(Measurement of glass transition temperature (Tg) and linear expansion coefficient (α 1 , α 2 ))
The cured epoxy resin was measured as a cylindrical specimen having a thickness of about 2 mm and a diameter of about 7 mm.
Analyzer (TMA): EXSTAR 6000E (manufactured by Seiko Instruments Inc.)
Measurement mode: Compression mode heating rate: 2 times at 5 ° C / min, measurement temperature range: 0 ° C to 250 ° C
The glass transition temperature in the second measurement was measured.

(YI(Yellowness Index)の測定)
樹脂硬化物を厚さ約2mm、一片約6cmの板状試験片として測定を行なった。
分析装置:日本電色工業株式会社 Color Meter ZE2000
(Measurement of YI (Yellowness Index))
The cured resin was measured as a plate-shaped test piece having a thickness of about 2 mm and a piece of about 6 cm.
Analyzer: Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd. Color Meter ZE2000

(耐熱劣化試験)
厚さ約2mm、一片約6cmの四角柱状のエポキシ樹脂硬化物を、オーブン中に150
℃で96時間放置した後、オーブンから取り出し、エポキシ硬化物を室温に冷却した後、YIおよび光線透過率の測定に用いた。
(Heat resistance deterioration test)
An epoxy resin cured product of about 2 mm in thickness and about 6 cm in one piece is put in an oven 150
After leaving for 96 hours at ° C., it was removed from the oven, and the epoxy cured product was cooled to room temperature and then used for measurement of YI and light transmittance.

(耐UV劣化試験)
厚さ約2mm、一片約6cmの四角柱状のエポキシ樹脂硬化物に、メタリイングバーチカルウェザーメーター(スガ試験機社製)を使用して、照射強度0.4kW/m2、ブラックパネル温度63℃の条件で96時間紫外線照射した後、メタリイングバーチカルウェザーメーターから取り出し、エポキシ硬化物を室温に冷却した後、YIおよび光線透過率の測定に用いた。
(UV resistance test)
Using a metalizing vertical weather meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) with a thickness of about 2 mm and a square columnar epoxy resin cured product having a length of about 6 cm, conditions of irradiation intensity 0.4 kW / m 2 and black panel temperature 63 ° C. After UV irradiation for 96 hours, it was removed from the metallizing vertical weather meter, and after curing the epoxy cured product to room temperature, it was used for measurement of YI and light transmittance.

(光線透過率の測定)
樹脂硬化物を厚さ約2mm、一片約6cmの板状試験片として測定を行った。
測定装置:日立 分光光度計 UV Solution U−2010(Spectro
photometer)
波長:400nm
(合成例1)3−ブテン−1,2−ジオールジアリルエーテルの合成
(Measurement of light transmittance)
The cured resin was measured as a plate-like test piece having a thickness of about 2 mm and a length of about 6 cm.
Measuring device: Hitachi spectrophotometer UV Solution U-2010 (Spectro
photometer)
Wavelength: 400 nm
Synthesis Example 1 Synthesis of 3-butene-1,2-diol diallyl ether

Figure 0006540188
Figure 0006540188

還流冷却管、窒素導入管、温度計を備えた200mLの3口フラスコを窒素置換した後に、3−ブテン−1,2−ジオール5.0g(56.7mmol、三菱化学社製、GC純度95.5%(Area))、テトラヒドロフラン25mL、n−テトラブチルアンモニウムブロマイド0.5g(1.6mmol、東京化成工業社製)、アリルブロマイド17.2g(142.1mmol、東京化成工業社製)及び顆粒状水酸化ナトリウム6.8g(170mmol)を加え、内温60℃で4.5時間反応させた。反応終了後、イオン交換水20mLを加えた後、ヘキサン75mLで抽出を行った。その後有機層をイオン交換水20mLで5回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し透明液体の生成物6.1g(36mmol、収率64%)を得た。(GC分析条件1)で分析したところ、3−ブテン−1,2−ジオールジアリルエーテルのGC純度は98.3%(Area%)だった。また、H−NMRの測定結果は以下の通りであった。 A 200 mL three-necked flask equipped with a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, and a thermometer was purged with nitrogen, and then 5.0 g (56.7 mmol, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, GC purity 95.3 of 3-butene-1,2-diol. 5% (Area), 25 mL of tetrahydrofuran, 0.5 g (1.6 mmol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) of n-tetrabutylammonium bromide, 17.2 g (142.1 mmol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) of allyl bromide and granular 6.8 g (170 mmol) of sodium hydroxide was added and allowed to react at an internal temperature of 60 ° C. for 4.5 hours. After completion of the reaction, 20 mL of ion exchanged water was added and extraction was performed with 75 mL of hexane. Thereafter, the organic layer was washed 5 times with 20 mL of ion-exchanged water and dried over magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off to obtain 6.1 g (36 mmol, yield 64%) of a clear liquid product. As a result of analysis under (GC analysis condition 1), the GC purity of 3-butene-1,2-diol diallyl ether was 98.3% (Area%). Moreover, the measurement result of 1 H-NMR was as follows.

H−NMR]δ=3.47ppm(1H,dd,J=4.6,10.4Hz)、3.53ppm(1H,dd,J=6.6,10.4Hz)、3.92−4.13ppm(5H,m)、5.15−5.20ppm(2H,m)、5.25−5.33ppm(4H,m)、5.75ppm(1H,dd,J=7.1,10.4Hz)、5.86−5.97ppm(2H,m)
(合成例2)3,4−エポキシ−1,2−ブタンジオールジグリシジルエーテルの合成
[ 1 H-NMR] δ = 3.47 ppm (1 H, dd, J = 4.6, 10.4 Hz), 3.53 ppm (1 H, dd, J = 6.6, 10.4 Hz), 3.92- 4.13 ppm (5 H, m), 5.15-5. 20 ppm (2 H, m), 5.25-5. 33 ppm (4 H, m), 5. 75 ppm (1 H, dd, J = 7.1, 10 .4 Hz), 5.86-5.97 ppm (2 H, m)
Synthesis Example 2 Synthesis of 3,4-Epoxy-1,2-butanediol Diglycidyl Ether

Figure 0006540188
Figure 0006540188

還流冷却管、窒素導入管、温度計を備えた100mLの反応容器を窒素置換した後に、合成例1で合成した3−ブテン−1,2−ジオールジアリルエーテル20.0g(119mmol)、クロロホルム400mLを加え、内温40℃〜45℃に調整しながら、純度約65%のm−クロロ過安息香酸(東京化成社製)110.43g(約416mmol)を30分ごとに8分割して加えた。内温40〜45℃に保ちながら11時間反応させた。トリエポキシ化合物とジエポキシ化合物のGC面積比が91.8:8.2となった。   A 100 mL reaction vessel equipped with a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, and a thermometer was purged with nitrogen, and then 20.0 g (119 mmol) of 3-butene-1,2-diol diallyl ether synthesized in Synthesis Example 1 and 400 mL of chloroform were added. In addition, 110.43 g (about 416 mmol) of m-chloroperbenzoic acid (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.) having a purity of about 65% was added in eight divided portions every 30 minutes while adjusting the internal temperature to 40 ° C to 45 ° C. The reaction was carried out for 11 hours while maintaining the internal temperature at 40-45 ° C. The GC area ratio of the triepoxy compound to the diepoxy compound was 91.8: 8.2.

反応終了後、ジクロロメタン100mLを追加して室温に戻した後、セライト40.0gを水120mLに懸濁させて加え、15分撹拌した。続いてこの反応液中の不溶物をセライトで濾別し、残渣をジクロロメタン40mLと水200mLで洗浄した。洗浄液と濾液を混合した中に、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液30mLを反応系に内温19〜25℃の範囲で滴下した。室温で1時間撹拌した後に有機層と水層を分離し、水層をクロロホルム40mLを用いて再抽出した。これらの有機層を合わせて、1N水酸化ナトリウム水溶液40mLで3回洗浄した。次に3回分の水層を合わせてクロロホルム40mLを用いて再抽出した。これらの有機層を合わせて更に飽和塩化ナトリウム水溶液40mLで2回洗浄した。続いて2回分の水層を合わせてクロロホルム40mLを用いて再抽出した。これらの有機層を合わせて溶媒を留去し、透明粘性液体として3,4−エポキシ−1,2−ブタンジオールジグリシジルエーテルとそのジエポキシ化合物を含む混合物(以下、これを粗3,4−エポキシ−1,2−ブタンジオールジグリシジルエーテルと呼ぶ)を得た。同様の操作を繰り返し実施し、3−ブテン−1,2−ジオールジアリルエーテル40.0g(238mmol)分に相当する粗3,4−エポキシ−1,2−ブタンジオールジグリシジルエーテルを得た。   After completion of the reaction, 100 mL of dichloromethane was additionally added to bring it to room temperature, and 40.0 g of celite was suspended in 120 mL of water and added, and stirred for 15 minutes. Subsequently, the insoluble matter in the reaction mixture was filtered off through Celite, and the residue was washed with 40 mL of dichloromethane and 200 mL of water. While mixing the washing solution and the filtrate, 30 mL of a saturated aqueous solution of sodium thiosulfate was dropped to the reaction system at an internal temperature of 19 to 25 ° C. After stirring at room temperature for 1 hour, the organic layer and the aqueous layer were separated, and the aqueous layer was reextracted with 40 mL of chloroform. The organic layers were combined and washed three times with 40 mL of 1 N aqueous sodium hydroxide solution. The three aqueous layers were then combined and reextracted with 40 mL chloroform. The organic layers were combined and further washed twice with 40 mL of saturated aqueous sodium chloride solution. Subsequently, the two aqueous layers were combined and reextracted with 40 mL of chloroform. These organic layers are combined, the solvent is distilled off, and a mixture containing 3,4-epoxy-1,2-butanediol diglycidyl ether and its diepoxy compound as a transparent viscous liquid (hereinafter referred to as crude 3,4-epoxy (Referred to as 1,2-butanediol diglycidyl ether). The same operation was repeated to obtain crude 3,4-epoxy-1,2-butanediol diglycidyl ether corresponding to 40.0 g (238 mmol) of 3-butene-1,2-diol diallyl ether.

これをカラムクロマトグラフィー(関東化学社製 シリカゲルN60 400g、展開溶媒:n−ヘキサン/酢酸エチル=1/1、粗3,4−エポキシ−1,2−ブタンジオールジグリシジルエーテルにトリエチルアミン2mLを添加して展開)にて精製し、3,4−エポキシ−1,2−ブタンジオールジグリシジルエーテル23.7g(109mmol)を得た。収率は46%だった。(GC分析条件2)で分析したところ、3,4−エポキシ−1,2−ブタンジオールジグリシジルエーテルのGC純度は98.2%(Area%)であり、ジエポキシ化合物のピークは観察されなかった。H−NMRの測定では、合成例1の生成物に含まれていたトリオレフィン由来のオレフィンのピークは観察されなかった。得られたH−NMRのチャートを図1に示した。また、得られた3,4−エポキシ−1,2−ブタンジオールジグリシジルエーテルの粘度は70℃で2cPであり、エポキシ当量は75g/当量であった。また、得られた3,4−エポキシ−1,2−ブタンジオールジグリシジルエーテルのエポキシ当量/トリエポキシ化合物の理論エポキシ当量は1.0であった。
(合成例3)3,4−エポキシ−1,2−ブタンジオールジグリシジルエーテルの合成
Column chromatography (silica gel N 60 400 g manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-hexane / ethyl acetate = 1/1, crude 3,4-epoxy-1,2-butanediol diglycidyl ether) and adding 2 mL of triethylamine The reaction mixture was purified by lyophilization to obtain 23.7 g (109 mmol) of 3,4-epoxy-1,2-butanediol diglycidyl ether. The yield was 46%. As a result of analysis under (GC analysis condition 2), the GC purity of 3,4-epoxy-1,2-butanediol diglycidyl ether was 98.2% (Area%), and the peak of the diepoxy compound was not observed . In the measurement of 1 H-NMR, the peak of the triolefin-derived olefin contained in the product of Synthesis Example 1 was not observed. The chart of the obtained 1 H-NMR is shown in FIG. Moreover, the viscosity of the obtained 3,4-epoxy-1,2-butanediol diglycidyl ether was 2 cP at 70 ° C., and the epoxy equivalent was 75 g / equivalent. Moreover, the theoretical epoxy equivalent of the epoxy equivalent / triepoxy compound of the obtained 3, 4- epoxy 1, 2- butanediol diglycidyl ether was 1.0.
Synthesis Example 3 Synthesis of 3,4-Epoxy-1,2-butanediol Diglycidyl Ether

Figure 0006540188
Figure 0006540188

還流冷却管、窒素導入管、温度計を備えた100mLの反応容器を窒素置換した後に、合成例1で合成した3−ブテン−1,2−ジオールのジアリルエーテル5.0g(27.0mmol)、クロロホルム50mLを加え、内温40℃〜45℃に調整しながら、純度
約65%のm−クロロ過安息香酸(東京化成工業社製)24.9g(約93.8mmol)を分割して加えた。内温40〜45℃に保ちながら8時間反応させた。GC分析により、トリエポキシ化合物が85.0%(Area%)、ジエポキシ化合物が15.0%(Area%)観測された。
After nitrogen substitution of a 100 mL reaction vessel equipped with a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, and a thermometer, 5.0 g (27.0 mmol) of diallyl ether of 3-butene-1,2-diol synthesized in Synthesis Example 1; While adding 50 mL of chloroform and adjusting the internal temperature to 40 ° C. to 45 ° C., 24.9 g (about 93.8 mmol) of m-chloroperbenzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) having a purity of about 65% was added in portions . The reaction was carried out for 8 hours while keeping the internal temperature at 40-45 ° C. As a result of GC analysis, 85.0% (Area%) of the triepoxy compound and 15.0% (Area%) of the diepoxy compound were observed.

反応終了後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液6mLを反応系に内温45℃以下になるように少量ずつ加えた後、析出した不溶物をセライトで濾別した。得られたろ液を1N水酸化ナトリウム水溶液20mLで3回洗浄し、更に水20mLで洗浄後、溶媒を留去し透明粘性液体として粗3,4−エポキシ−1,2−ブタンジオールジグリシジルエーテルを得た。   After completion of the reaction, 6 mL of saturated aqueous sodium thiosulfate solution was added little by little to the reaction system so that the internal temperature was 45 ° C. or less, and the precipitated insoluble matter was separated by filtration through Celite. The obtained filtrate is washed 3 times with 20 mL of 1 N aqueous solution of sodium hydroxide and further with 20 mL of water, then the solvent is distilled off and crude 3,4-epoxy-1,2-butanediol diglycidyl ether is obtained as a transparent viscous liquid. Obtained.

これを、カラムクロマトグラフィー(関東化学社製 シリカゲルN60 200g、展開溶媒:n−ヘキサン/酢酸エチル=1/1→1/2、粗3,4−エポキシ−1,2−ブタンジオールジグリシジルエーテルにトリエチルアミン4mLを添加して展開)にて精製し、3,4−エポキシ−1,2−ブタンジオールジグリシジルエーテルをジアステレオマー混合物として3.50g(16.1mmol)を得た。収率は61%であった。(GC分析条件1)で分析したところ、GC純度は96.5%(Area%)であり、ジエポキシ化合物のピークは観察されなかった。H−NMRの測定では、合成例2と同様のピークが観測された。得られた3,4−エポキシ−1,2−ブタンジオールジグリシジルエーテルの粘度は70℃で2cPであり、エポキシ当量は74g/当量であった。また得られた3,4−エポキシ−1,2−ブタンジオールジグリシジルエーテルのエポキシ当量/トリエポキシ化合物の理論エポキシ当量は1.0であった。
(合成例4)cis−2−ブテン−1,4−ジオールジグリシジルエーテルの合成
Column chromatography (silica gel N 60 200 g, manufactured by Kanto Chemical Co., developing solvent: n-hexane / ethyl acetate = 1/1 → 1/2, crude 3,4-epoxy-1,2-butanediol diglycidyl ether) The reaction solution was purified by adding 4 mL of triethylamine and developed to obtain 3.50 g (16.1 mmol) of 3,4-epoxy-1,2-butanediol diglycidyl ether as a diastereomer mixture. The yield was 61%. As a result of analysis under (GC analysis condition 1), the GC purity was 96.5% (Area%), and the peak of the diepoxy compound was not observed. In the measurement of 1 H-NMR, the same peak as in Synthesis Example 2 was observed. The viscosity of the obtained 3,4-epoxy-1,2-butanediol diglycidyl ether was 2 cP at 70 ° C., and the epoxy equivalent was 74 g / equivalent. The epoxy equivalent of the obtained 3,4-epoxy-1,2-butanediol diglycidyl ether / theoretical epoxy equivalent of the triepoxy compound was 1.0.
Synthesis Example 4 Synthesis of cis-2-butene-1,4-diol diglycidyl ether

Figure 0006540188
Figure 0006540188

還流冷却管、窒素導入管、温度計を備えた100mLの反応容器を窒素置換した後に、cis−2−ブテン−1,4−ジオール2.0g(23mmol、東京化成工業社製)、テトラヒドロフラン20mL、N,N−ジメチルアセトアミド2.0mL、n−テトラブチルアンモニウムブロマイド0.73g(2.3mmol、東京化成工業社製)、顆粒状水酸化ナトリウム2.7g(68mmol)を加え、内温40℃に加温した。これにエピクロロヒドリン5.9g(64mmol、和光純薬社製)を3回に分割して添加し、内温40〜45℃で5時間反応させた。反応終了後、水10mLで2回洗浄し、更に酢酸エチル10mLを加えた後、水10mLで1回洗浄し、溶媒を留去し、cis−2−ブテン−1,4−ジオールジグリシジルエーテルを含む黄色液体(以下、粗cis−2−ブテン−1,4−ジオールジグリシジルエーテルという)5.2g得た。(GC分析条件1)で分析したところ、GC純度76.6%(Area%)、収率87%であった。   After nitrogen substitution of a 100 mL reaction vessel equipped with a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, and a thermometer, 2.0 g (23 mmol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) of cis-2-butene-1,4-diol, 20 mL of tetrahydrofuran, 2.0 mL of N, N-dimethylacetamide, 0.73 g (2.3 mmol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), and 2.7 g (68 mmol) of granular sodium hydroxide are added, and the internal temperature is adjusted to 40 ° C. It warmed up. To this, 5.9 g (64 mmol, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) of epichlorohydrin was added in three portions and reacted at an internal temperature of 40 to 45 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction product is washed twice with 10 mL of water, and after 10 mL of ethyl acetate is added, it is washed once with 10 mL of water and the solvent is distilled off to give cis-2-butene-1,4-diol diglycidyl ether 5.2 g of a yellow liquid (hereinafter referred to as crude cis-2-butene-1,4-diol diglycidyl ether) containing was obtained. When analyzed under (GC analysis condition 1), the GC purity was 76.6% (Area%), and the yield was 87%.

この粗cis−2−ブテン−1,4−ジオールジグリシジルエーテルのうち、4.0gをカラムクロマトグラフィー(関東化学社製 シリカゲルN60 100g、展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=1/2)にて精製し、cis−2−ブテン−1,4−ジオールジグリシジルエーテルを1.8g得た。H−NMRの測定結果は以下の通りであった。
H−NMR]δ=2.61ppm(2H,dd,J=2.5,4.8Hz)、2.80ppm(2H,dd,J=4.3,5.0Hz),3.13−3.18ppm(2H,m),3.38ppm(2H,dd,J=5.8,11.4Hz),3.75ppm(2H,dd,J=3.0,11.6Hz)、4.08−4.19ppm(4H,m)、5.
70−5.79ppm(2H,m)
(合成例5)cis−2,3−エポキシ−1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルの合成
Of the crude cis-2-butene-1,4-diol diglycidyl ether, 4.0 g is purified by column chromatography (100 g of silica gel N60 manufactured by Kanto Chemical Co., developing solvent: hexane / ethyl acetate = 1/2) Thus, 1.8 g of cis-2-butene-1,4-diol diglycidyl ether was obtained. The measurement results of 1 H-NMR are as follows.
[ 1 H-NMR] δ = 2.61 ppm (2H, dd, J = 2.5, 4.8 Hz), 2.80 ppm (2H, dd, J = 4.3, 5.0 Hz), 3.13 3.18 ppm (2 H, m), 3.38 ppm (2 H, dd, J = 5.8, 11.4 Hz), 3.75 ppm (2 H, dd, J = 3.0, 11.6 Hz), 4.08 -4.19 ppm (4H, m), 5.
70-5.79 ppm (2H, m)
Synthesis Example 5 Synthesis of cis-2,3-Epoxy-1,4-butanediol Diglycidyl Ether

Figure 0006540188
Figure 0006540188

還流冷却管、窒素導入管、温度計を備えた100mLの反応容器を窒素置換した後に、合成例4で合成した粗cis−2−ブテン−1,4−ジオールジグリシジルエーテル1.0g(3.8mmol)、クロロホルム10mLを加え、内温40℃〜45℃に調整しながら、純度約65%のm−クロロ過安息香酸1.6g(約6.0mmol、東京化成工業社製)を2分割して加えた。内温40〜45℃で3時間反応させた。   After nitrogen substitution of a 100 mL reaction vessel equipped with a reflux condenser, a nitrogen introduction pipe, and a thermometer, 1.0 g of crude cis-2-butene-1,4-diol diglycidyl ether synthesized in Synthesis Example 4 (3. 8 mmol) and 10 mL of chloroform, and adjusting the internal temperature to 40 ° C. to 45 ° C., divide 1.6 g (about 6.0 mmol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) of m-chloroperbenzoic acid having a purity of about 65% into two parts Added. The reaction was carried out at an internal temperature of 40 to 45 ° C. for 3 hours.

反応終了後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液2mLを反応系に内温45℃以下になるように少量ずつ加えた後、析出した不溶物をセライトで濾別した。得られたろ液を1N水酸化ナトリウム水溶液3mLで3回洗浄し、更に水3mLで洗浄後、溶媒を留去しcis−2−ブテン−1,4−ジオールジグリシジルエーテルを含む黄色液体(以下、粗cis−2−ブテン−1,4−ジオールジグリシジルエーテルという)を得た。透明液体を得た。   After completion of the reaction, 2 mL of a saturated aqueous sodium thiosulfate solution was added little by little to the reaction system so that the internal temperature was 45 ° C. or less, and the precipitated insoluble matter was separated by filtration through Celite. The obtained filtrate is washed 3 times with 3 mL of 1 N aqueous solution of sodium hydroxide and further with 3 mL of water, and then the solvent is distilled off to obtain a yellow liquid containing cis-2-butene-1,4-diol diglycidyl ether (hereinafter referred to as Crude cis-2-butene-1,4-diol diglycidyl ether was obtained. A clear liquid was obtained.

これを、カラムクロマトグラフィー(関東化学社製 シリカゲルN60 100g、展開溶媒:n−ヘキサン/酢酸エチル=1/1→1/2、粗cis−2−ブテン−1,4−ジオールジグリシジルエーテルにトリエチルアミン1mLを添加して展開)にて精製し、ジアステレオマー混合物としてcis−2,3−エポキシ−1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルを0.29g(1.3mmol)得た。(GC分析条件1)で分析したところ、GC純度は98%(Area%)、収率34%であった。H−NMRの測定結果は以下の通りであった。 Column chromatography (silica gel N 60 100 g, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-hexane / ethyl acetate = 1/1 to 1/2, triethylamine in crude cis-2-butene-1,4-diol diglycidyl ether) The reaction mixture was purified by adding 1 mL and developed to obtain 0.29 g (1.3 mmol) of cis-2,3-epoxy-1,4-butanediol diglycidyl ether as a diastereomer mixture. As a result of analysis under (GC analysis condition 1), the GC purity was 98% (Area%), and the yield was 34%. The measurement results of 1 H-NMR are as follows.

H−NMR]δ=2.57−2.69ppm(2H,m)、2.77−2.84ppm(2H,m)、3.13−3.28(4H,m)、3.34−3.41、3.46−3.53(2H,m)、3.52−3.64(2H,m)、3.72−3.92(4H,m) [ 1 H-NMR] δ = 2.57-2.69 ppm (2H, m), 2.77-2.84 ppm (2H, m), 3.13-3.28 (4H, m), 3.34 -3.41, 3.46-3.53 (2H, m), 3.52-3.64 (2H, m), 3.72-3.92 (4H, m)

また、得られたcis−2,3−エポキシ−1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルの粘度は70℃で2cPであり、エポキシ当量は84g/当量であった。また、得られたcis−2,3−エポキシ−1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルのエポキシ当量/トリエポキシ化合物の理論エポキシ当量は1.2であった。
(合成例6)trans−2−ブテン−1,4−ジオールジグリシジルエーテルの合成
Moreover, the viscosity of the obtained cis-2,3-epoxy-1,4-butanediol diglycidyl ether was 2 cP at 70 ° C., and the epoxy equivalent was 84 g / equivalent. Further, the epoxy equivalent of the obtained cis-2,3-epoxy-1,4-butanediol diglycidyl ether / the theoretical epoxy equivalent of the triepoxy compound was 1.2.
Synthesis Example 6 Synthesis of trans-2-butene-1,4-diol diglycidyl ether

Figure 0006540188
Figure 0006540188

還流冷却管、窒素導入管、温度計を備えた300mLの反応容器を窒素置換した後に、trans−2−ブテン−1,4−ジオールを8.70g(98.3mmol)、cis−2−ブテン−1,4−ジオールを1.30g(14.5mmol)含む2−ブテン−1,4−ジオール10.0g(113mmol、三菱化学社製)、テトラヒドロフラン100mL、N,N−ジメチルアセトアミド10mL、n−テトラブチルアンモニウムブロマイド3.66g(11.4mmol、東京化成工業社製)、顆粒状水酸化ナトリウム3.62g(341mmol)を加え、内温48℃に加温した。これにエピクロロヒドリン29.4g(317mmol)を5回に分割して添加し、内温45〜48℃で3時間反応させた。反応終了後、反応液を室温に戻し、析出した固体を濾別し、固体は酢酸エチル20mLで洗浄し、洗浄液と濾液を混合した。この液を飽和塩化ナトリウム水溶液30mLで2回洗浄し、分液した水層を酢酸エチル20mLで再抽出した。これらの有機層を合わせて無水硫酸ナトリウム10gを加えて乾燥させ、硫酸ナトリウムを濾別した後、溶媒を留去し、trans−2−ブテン−1,4−ジオールジグリシジルエーテルを含む黄色液体(以下、粗trans−2−ブテン−1,4−ジオールジグリシジルエーテルという)を得た。同様の操作を繰り返し実施し、trans−2−ブテン−1,4−ジオール26.1g(295mmol)分に相当する粗trans−2−ブテン−1,4−ジオールジグリシジルエーテルを得た。この黄色液体をカラムクロマトグラフィー(関東化学社製 シリカゲルN60 500g、展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=2/1→1/1→1/2にて精製し、2−ブテン−1,4−ジオールジグリシジルエーテルをtrans体とcis体の混合物として29.0gを含む酢酸エチル溶液を得た。(GC分析条件1)で分析したところ、酢酸エチルを除くtrans−2−ブテン−1,4−ジオールジグリシジルエーテルのGC純度は81.3%(Area%)、混合物としての収率は42.6%だった。H−NMRの測定結果は以下の通りであった。 After nitrogen substitution of a 300 mL reaction vessel equipped with a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, and a thermometer, 8.70 g (98.3 mmol) of trans-2-butene-1,4-diol, cis-2-butene- 2-butene-1,4-diol 10.0 g (113 mmol, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) containing 1.30 g (14.5 mmol) of 1,4-diol, 100 mL of tetrahydrofuran, 10 mL of N, N-dimethylacetamide, n-tetra 3.66 g (11.4 mmol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) of butylammonium bromide and 3.62 g (341 mmol) of granular sodium hydroxide were added, and the mixture was heated to an internal temperature of 48 ° C. To this, 29.4 g (317 mmol) of epichlorohydrin was added in five portions and reacted at an internal temperature of 45 to 48 ° C. for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution is returned to room temperature, the precipitated solid is separated by filtration, the solid is washed with 20 mL of ethyl acetate, and the washing solution and the filtrate are mixed. The solution was washed twice with 30 mL of saturated aqueous sodium chloride solution, and the separated aqueous layer was reextracted with 20 mL of ethyl acetate. These organic layers are combined, dried by adding 10 g of anhydrous sodium sulfate, and after sodium sulfate is filtered off, the solvent is distilled off and a yellow liquid (trans-2-butene-1,4-diol diglycidyl ether ( Hereinafter, crude trans-2-butene-1,4-diol diglycidyl ether was obtained. The same operation was repeated to obtain crude trans-2-butene-1,4-diol diglycidyl ether corresponding to 26.1 g (295 mmol) of trans-2-butene-1,4-diol. The yellow liquid is purified by column chromatography (500 g of silica gel N60 manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: hexane / ethyl acetate = 2/1 → 1/1 → 1/2), 2-butene-1,4-diol di An ethyl acetate solution containing 29.0 g of glycidyl ether as a mixture of trans and cis isomers was obtained, and analysis according to (GC analysis condition 1) revealed that trans-2-butene-1,4-diol di is excluded except ethyl acetate. The GC purity of glycidyl ether was 81.3% (Area%), and the yield as a mixture was 42.6% .The measurement results of 1 H-NMR were as follows.

H−NMR]δ=2.62ppm(2H,dd,J=2.5,4.8Hz)、2.80ppm(2H,dd,J=4.3,4.8Hz),3.15−3.18ppm(2H,m)、3.40ppm(2H,dd,J=5.8,11.4Hz),3.74ppm(2H,dd,J=3.0,11.6Hz)、4.05−4.10ppm(4H,m)、5.82−5.84ppm(2H,m) [ 1 H-NMR] δ = 2.62 ppm (2H, dd, J = 2.5, 4.8 Hz), 2.80 ppm (2H, dd, J = 4.3, 4.8 Hz), 3.15 3.18 ppm (2H, m), 3.40 ppm (2H, dd, J = 5.8, 11.4 Hz), 3.74 ppm (2 H, dd, J = 3.0, 11.6 Hz), 4.05 -4.10 ppm (4H, m), 5.82-5.84 ppm (2H, m)

(合成例7)trans−2,3−エポキシ−1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルの合成   Synthesis Example 7 Synthesis of trans-2,3-epoxy-1,4-butanediol diglycidyl ether

Figure 0006540188
Figure 0006540188

還流冷却管、窒素導入管、温度計を備えた500mLの反応容器を窒素置換した後に、合成例6で合成した2−ブテン−1,4−ジオールジグリシジルエーテルのtrans体とcis体の混合物15.0g(75.0mmol)、クロロホルム10mLを加え、内温40℃〜45℃に調整しながら、純度約65%のm−クロロ過安息香酸23.9g(約90.0mmol)を4分割して加えた。内温40〜45℃で4時間反応させた。反応終了後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液30mLを反応系に内温が45℃以下になるように少量ずつ加えた後、析出した不溶物をセライトで濾別した。得られた濾液を飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液30mLで1回洗浄し、分液した水層を酢酸エチル15mLで再抽出した。これらの有機層を合わせて1N水酸化ナトリウム水溶液30mLで2回洗浄し、分液
した水層を酢酸エチル15mLで再抽出した。これらの有機層を合わせて更に飽和塩化ナトリウム水溶液15mLで2回洗浄後、分液した水層を酢酸エチル15mLで再抽出した。これらの有機層を合わせて溶媒を留去した後、trans−2,3−エポキシ−1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルを含む薄黄色液体(以下、粗trans−2,3−エポキシ−1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルという)を得た。これを、カラムクロマトグラフィー(関東化学社製 シリカゲルN60 150g、展開溶媒:n−ヘキサン/酢酸エチル=1/1→1/2、粗trans−2,3−エポキシ−1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルにトリエチルアミン1mLを添加して展開)にて精製し、ジアステレオマー混合物として2,3−エポキシ−1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル9.86g(45.6mmol)を白色ろう状固体として得た。(GC分析条件1)で分析したところ、混合物としてのGC純度は93%(Area%)、収率は61%だった。H−NMRの測定結果は以下の通りであった。
A nitrogen-substituted 500 mL reaction vessel equipped with a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, and a thermometer is mixed with a mixture of trans and cis isomers of 2-butene-1,4-diol diglycidyl ether synthesized in Synthesis Example 6 .0 g (75.0 mmol) and 10 mL of chloroform are added, and 23.9 g (about 90.0 mmol) of m-chloroperbenzoic acid having a purity of about 65% is divided into four while adjusting to an internal temperature of 40 ° C to 45 ° C added. The reaction was carried out at an internal temperature of 40 to 45 ° C. for 4 hours. After completion of the reaction, 30 mL of a saturated aqueous sodium thiosulfate solution was added little by little to the reaction system so that the internal temperature was 45 ° C. or less, and the precipitated insoluble matter was separated by filtration through Celite. The obtained filtrate was washed once with 30 mL of saturated aqueous sodium thiosulfate solution, and the separated aqueous layer was reextracted with 15 mL of ethyl acetate. These organic layers were combined, washed twice with 30 mL of 1 N aqueous sodium hydroxide solution, and the separated aqueous layer was reextracted with 15 mL of ethyl acetate. These organic layers were combined and further washed twice with 15 mL of saturated aqueous sodium chloride solution, and the separated aqueous layer was reextracted with 15 mL of ethyl acetate. After combining these organic layers and evaporating the solvent, a light yellow liquid containing trans-2,3-epoxy-1,4-butanediol diglycidyl ether (hereinafter referred to as crude trans-2,3-epoxy-1, 4-butanediol diglycidyl ether was obtained. Column chromatography (silica gel N 60 150 g manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-hexane / ethyl acetate = 1/1 → 1/2, crude trans-2,3-epoxy-1,4-butanediol diglycidyl The residue is purified by adding 1 mL of triethylamine to ether and then developing to obtain 9.86 g (45.6 mmol) of 2,3-epoxy-1,4-butanediol diglycidyl ether as a mixture of diastereomers as a white waxy solid. The As a result of analysis under (GC analysis condition 1), the GC purity of the mixture was 93% (Area%), and the yield was 61%. The measurement results of 1 H-NMR are as follows.

H−NMR]δ=2.62ppm(2H,dd,J=2.8,5.0Hz)、2.80ppm(2H,dd,J=0.8,4.3Hz),3.08−3.14ppm(2H,m),3.15−3.19ppm(2H,m)、3.43ppm(2H,ddd,J=6.0,11.6,17.9Hz),3.52ppm(2H,ddd,J=5.6,11.8,26.5Hz)、3.79−3.88ppm(4H,m)3.53(2H,m)、3.52−3.64(2H,m)、3.72−3.92(4H,m) [ 1 H-NMR] δ = 2.62 ppm (2H, dd, J = 2.8, 5.0 Hz), 2.80 ppm (2H, dd, J = 0.8, 4.3 Hz), 3.08- 3.14 ppm (2H, m), 3.15-3.19 ppm (2H, m), 3.43 ppm (2H, ddd, J = 6.0, 11.6, 17.9 Hz), 3.52 ppm (2H , Ddd, J = 5.6, 11.8, 26.5 Hz), 3.79-3.88 ppm (4H, m) 3.53 (2H, m), 3.52-3.64 (2H, m) ), 3.72-3.92 (4H, m)

また、H−NMRの測定の結果、trans−2,3−エポキシ−1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルを8.96g(41.4mmol)含んでいたことから、trans−2,3−エポキシ−1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルとしては、合成例6と合成例7の通算収率が27%だった。
また、得られたtrans−2,3−エポキシ−1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルの粘度は70℃で2cPであり、エポキシ当量は82g/当量であった。また得られたtrans−2,3−エポキシ−1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルのエポキシ当量/トリエポキシ化合物の理論エポキシ当量は1.1であった。
In addition, trans-2,3-epoxy was found to contain 8.96 g (41.4 mmol) of trans-2,3-epoxy-1,4-butanediol diglycidyl ether as a result of measurement of 1 H-NMR. As -1, 4- butanediol diglycidyl ether, the total yield of the synthesis example 6 and the synthesis example 7 was 27%.
In addition, the viscosity of the obtained trans-2,3-epoxy-1,4-butanediol diglycidyl ether was 2 cP at 70 ° C., and the epoxy equivalent was 82 g / equivalent. The epoxy equivalent of the obtained trans-2,3-epoxy-1,4-butanediol diglycidyl ether / the theoretical epoxy equivalent of the triepoxy compound was 1.1.

(樹脂X)1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル(三菱化学社製 YED216D)
(樹脂Y)水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学社製 YX8000)
(樹脂Z)3‘,4‘−エポキシシクロヘキシルメチル 3,4−エポキシシクロヘキ
サンカルボキシレート(ダイセル社製 セロキサイド2021P)
(Resin X) 1,6-Hexanediol diglycidyl ether (YED216D manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
(Resin Y) Hydrogenated bisphenol A epoxy resin (Mitsubishi Chemical Corporation YX8000)
(Resin Z) 3 ', 4'-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexane carboxylate (Celoxide 2021 P, manufactured by Daicel Corporation)

(実施例1〜5、比較例1〜3)エポキシ樹脂組成物の硬化
下記表1に示す配合比で、エポキシ樹脂(希釈剤(a)及びエポキシ樹脂(b))と、硬化剤として4-メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸=70/30(MH−700 商品名、新日本理化社製 酸無水物当量165g/当量)を、40℃で均一になるまで混合し、続いて硬化促進剤としてメチルトリブチルホスホニウムジメチルホスフェート(日本化学工業社製 ヒシコーリン(登録商標)PX−4MP)を添加し、攪拌、溶解してエポキシ樹脂組成物を得た。このエポキシ樹脂組成物を減圧下で脱泡した後、各評価試験の試験片作製用の型の中に流し込み、オーブン中にて100℃で3時間、次いで140℃で3時間硬化させ透明な硬化物を得た。
表1に、エポキシ樹脂及びその硬化物の物性評価結果を示した。
(Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3) Curing of Epoxy Resin Composition In the compounding ratio shown in Table 1 below, an epoxy resin (diluent (a) and epoxy resin (b)) and 4- as a curing agent Methyl hexahydrophthalic anhydride / hexahydrophthalic anhydride = 70/30 (MH-700, trade name, manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd., acid anhydride equivalent 165 g / equivalent) is mixed until uniform at 40 ° C., followed by curing As an accelerator, methyltributylphosphonium dimethyl phosphate (Hishikorin (registered trademark) PX-4MP, manufactured by Nippon Chemical Industrial Co., Ltd.) was added, stirred and dissolved to obtain an epoxy resin composition. The epoxy resin composition is defoamed under reduced pressure, poured into a mold for test piece preparation of each evaluation test, cured in an oven at 100 ° C. for 3 hours, and then at 140 ° C. for 3 hours to clear cure. I got a thing.
Table 1 shows the evaluation results of physical properties of the epoxy resin and the cured product thereof.

Figure 0006540188
Figure 0006540188

比較例1で用いた樹脂Xは、従来エポキシ樹脂組成物の低粘度化希釈剤として用いられているものである。比較例2及び3で用いた樹脂Y、Zは、従来LED封止材等の光学材料用エポキシ樹脂として一般的に用いられているものである。
実施例1〜4と比較例1を対比すると、本発明の希釈剤は、従来の希釈剤と同等の低粘度性を有しながらも、硬化物が極めて高いTgを示すことが分かった。これは本発明の希釈剤となるエポキシ樹脂が、分子量が小さく低粘度でありながら、その小さい一分子内に3つのエポキシ基を有し、またエポキシ当量が小さいために、硬化により密なネットワークが形成されるためだと考えられる。このことから、本発明の希釈剤を使用すると、従来の希釈剤を使用した場合より、硬化物のTgの高く維持できると考えられる。
The resin X used in Comparative Example 1 is one which has been conventionally used as a viscosity reducing diluent for epoxy resin compositions. Resins Y and Z used in Comparative Examples 2 and 3 are those generally used as epoxy resins for optical materials such as conventional LED sealing materials.
When Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 are compared, it was found that the diluent of the present invention exhibited extremely high Tg of the cured product while having low viscosity equivalent to that of the conventional diluent. This is because the epoxy resin to be the diluent of the present invention has three epoxy groups in one small molecule while having a small molecular weight and a low viscosity, and since the epoxy equivalent is small, a dense network is obtained by curing. It is thought that it is because it is formed. From this, it is considered that the use of the diluent of the present invention can maintain the Tg of the cured product at a higher level than when a conventional diluent is used.

さらに、実施例5では、比較例2で用いた樹脂Yに本発明の希釈剤を加えることによって、樹脂Y単独の時よりも粘度が大幅に低下しているが、硬化物のTgは変わらないことが示された。
また、実施例3及び4と比べると、実施例1及び2のTgが高いことが分かった。これは、各エポキシ樹脂が有するエポキシ基が、実施例1及び2は末端に2つと内部に1つあるのに対し、実施例3では3つとも末端に位置していることから、より硬化時の反応性が高いことが一因と考えられる。
Furthermore, in Example 5, by adding the diluent of the present invention to the resin Y used in Comparative Example 2, the viscosity is significantly lower than when the resin Y alone, but the Tg of the cured product does not change. It was shown.
Further, it was found that the Tg of Examples 1 and 2 was higher than that of Examples 3 and 4. This is because the epoxy group possessed by each epoxy resin is located at two ends and one inside in Example 1 and Example 2 in the inside, while all three are located at the end in Example 3, therefore, it is more cured Is considered to be one of the reasons for its high reactivity.

実施例1〜4の硬化物のTgは、比較例2と同等又はそれ以上であり、比較的高いことがわかった。また、実施例1〜4の希釈剤の粘度は、樹脂Y、Zの粘度より低かった。従って、樹脂X、Yに本発明の希釈剤を添加すると、粘度を低くできると共に、硬化物のTgも高く維持できると考えられる。
以上の結果から、本発明の希釈剤をエポキシ樹脂の希釈剤として用いれば、得られるエポキシ樹脂組成物の硬化物は、耐熱性を損なうことなく、粘度を低くすることが可能となり得る。よって本発明のエポキシ樹脂組成物は、成型加工性が求められる半導体用途として好適である。
The Tgs of the cured products of Examples 1 to 4 were found to be equal to or higher than Comparative Example 2 and relatively high. Moreover, the viscosity of the diluent of Examples 1-4 was lower than the viscosity of resin Y and Z. Therefore, it is considered that adding the diluent of the present invention to the resins X and Y can lower the viscosity and maintain the Tg of the cured product high.
From the above results, when the diluent of the present invention is used as a diluent for an epoxy resin, the cured product of the epoxy resin composition obtained can be able to lower the viscosity without losing the heat resistance. Therefore, the epoxy resin composition of the present invention is suitable as a semiconductor application for which moldability is required.

表2に実施例2、比較例2,3で得られた硬化物に対し、光学材料として求められる物性の評価結果を示した。
その結果、実施例2の硬化物は、Tgより高い温度領域(α2)での線膨張係数が低く、従来のエポキシ樹脂と比較しても低いことが分かった。
Table 2 shows the evaluation results of physical properties required as an optical material for the cured products obtained in Example 2 and Comparative Examples 2 and 3.
As a result, it was found that the cured product of Example 2 had a low linear expansion coefficient in a temperature range (α2) higher than Tg and was lower than that of a conventional epoxy resin.

Figure 0006540188
Figure 0006540188

以上の結果から、本発明の希釈剤をエポキシ樹脂に混合すれば、エポキシ樹脂組成物の低粘度化が可能となり、成型加工性を向上させることができる。また、硬化物はエポキシ樹脂の耐熱性を損なわないだけでなく、線膨張係数が低いことから、クラックの少ない、高い信頼性を有する封止材であると言える。よって半導体封止剤への使用が期待されるが
、本希釈剤は脂肪族エポキシ樹脂でもあるため黄色劣化性が低く、特にLEDの封止剤に代表される光学材料用途にも好適である。
From the above results, when the diluent of the present invention is mixed with the epoxy resin, the viscosity of the epoxy resin composition can be reduced, and the molding processability can be improved. Further, the cured product not only does not impair the heat resistance of the epoxy resin but also has a low coefficient of linear expansion, so it can be said that it is a highly reliable sealing material with few cracks. Therefore, although the use for a semiconductor sealing agent is anticipated, since this diluent is also an aliphatic epoxy resin, its yellow deterioration property is low, and it is suitable also for the optical material use represented by the sealing agent of LED especially.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、接着剤、塗料、土木建築用材料、電気・電子部品の絶縁材料等、様々な分野に適用可能であり、特に電気・電子分野における絶縁注型、積層材料、封止材料等として有用である。その用途の一例としては、多層プリント配線基板、フィルム状接着剤、液状接着剤、半導体封止材料、アンダーフィル材料、3D−LSI用インターチップフィル、絶縁シート、プリプレグ、放熱基板等が挙げられる。   The epoxy resin composition of the present invention can be applied to various fields such as adhesives, paints, materials for civil engineering and construction, insulation materials for electric and electronic parts, etc. In particular, insulation casting and lamination materials in the electric and electronic fields It is useful as a sealing material etc. Examples of the application include a multilayer printed wiring board, a film adhesive, a liquid adhesive, a semiconductor sealing material, an underfill material, an interchip fill for 3D-LSI, an insulating sheet, a prepreg, a heat dissipation substrate and the like.

Claims (16)

下記一般式(1)及び一般式(2)から選ばれる少なくとも一方で表される構造を有す
ることを特徴とするエポキシ樹脂用希釈剤。
Figure 0006540188
Figure 0006540188
一般式(1)、一般式(2)中、L及びLは、それぞれ独立に、−(CH
(但し、nは1〜14の整数を示す。)で表わされるアルキレン基を示し、A及びBは、
それぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜8の1価の有機基を
示す。)
A diluent for an epoxy resin, having a structure represented by at least one selected from the following general formula (1) and the general formula (2).
Figure 0006540188
Figure 0006540188
(In the general formula (1) and the general formula (2), L 1 and L 2 are each independently — (CH 2 ) n
(Wherein n represents an integer of 1 to 14) represents an alkylene group, and A and B represent
Each independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent. )
前記一般式(1)、一般式(2)中のA及びBが水素原子である、請求項1に記載のエ
ポキシ樹脂用希釈剤。
The diluent for epoxy resins according to claim 1, wherein A and B in the general formula (1) and the general formula (2) are hydrogen atoms.
前記nが1である、請求項1または請求項2に記載のエポキシ樹脂用希釈剤。   The diluent for epoxy resins according to claim 1 or 2, wherein n is 1. 前記希釈剤の理論エポキシ当量に対する前記希釈剤のエポキシ当量の比が1.0以上、
1.2以下である、請求項1から3のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂用希釈剤。
The ratio of the epoxy equivalent of the diluent to the theoretical epoxy equivalent of the diluent is 1.0 or more,
The diluent for epoxy resin according to any one of claims 1 to 3, which is 1.2 or less.
前記一般式(1)及び一般式(2)から選ばれる少なくとも一方で表される構造を有す
トリエポキシ体を90質量%以上含む、請求項1から4のいずれか1項に記載のエポキ
シ樹脂用希釈剤。
It has a structure represented by at least one selected from the general formula (1) and the general formula (2)
The diluent for epoxy resin according to any one of claims 1 to 4, which contains 90% by mass or more of the triepoxy compound.
請求項1から5のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂用希釈剤(a)と、該エポキシ樹
脂用希釈剤(a)以外のエポキシ樹脂(b)とを含むことを特徴とするエポキシ樹脂組成
物。
An epoxy resin composition comprising: a diluent (a) for an epoxy resin according to any one of claims 1 to 5; and an epoxy resin (b) other than the diluent (a) for an epoxy resin. object.
さらに硬化剤を含む、請求項6に記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to claim 6, further comprising a curing agent. さらに充填剤を含む、請求項6または7に記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to claim 6, further comprising a filler. 前記エポキシ樹脂(b)が、脂肪族型エポキシ樹脂である、請求項6から8のいずれか
1項に記載のエポキシ樹脂組成物。
The epoxy resin composition according to any one of claims 6 to 8, wherein the epoxy resin (b) is an aliphatic epoxy resin.
前記エポキシ樹脂(b)が、芳香族基を有するエポキシ樹脂である、請求項6から8の
いずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物。
The epoxy resin composition according to any one of claims 6 to 8, wherein the epoxy resin (b) is an epoxy resin having an aromatic group.
請求項6から10のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物を用いた光学材料用エポ
キシ樹脂組成物。
The epoxy resin composition for optical materials using the epoxy resin composition of any one of Claims 6-10.
請求項6から9のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物を用いたLED封止材用エ
ポキシ樹脂組成物。
The epoxy resin composition for LED sealing materials using the epoxy resin composition of any one of Claims 6-9.
請求項10に記載のエポキシ樹脂組成物を用いた放熱材料用エポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition for heat-radiation materials which used the epoxy resin composition of Claim 10. 請求項6から13のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物。   A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of claims 6 to 13. 請求項12に記載のエポキシ樹脂組成物によりLEDチップが封止されているLED装
置。
The LED device with which the LED chip is sealed by the epoxy resin composition of Claim 12.
請求項13に記載のエポキシ樹脂組成物を用いた放熱材料。   A heat dissipation material using the epoxy resin composition according to claim 13.
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