JP6522331B2 - Board work equipment - Google Patents

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Description

本発明は、回路基板(以下、基板と略称する)に、接合材料、はんだ等の高粘度流体を塗布したり、部品を装着したりする対基板作業装置に関するものである。   The present invention relates to an apparatus for working on a substrate in which a high viscosity fluid such as a bonding material or solder is applied to a circuit board (hereinafter abbreviated as a board), or parts are mounted.

特許文献1には、基板に、接合材料を塗布したり、部品を装着したりする対基板作業装置が記載されている。この対基板作業装置の装置本体には、試し打ちステーションを備えたユニットが着脱可能に取り付けられる。試し打ちステーションにおいて、塗布ノズルによって試し打ちが行われ、接合材料の塗布状態がチェックされる。
特許文献2には、基板にペーストを塗布する塗布装置が記載されている。この塗布装置にはタッチセンサが設けられ、タッチセンサにより塗布ノズルの先端が基板の上面に当接したと検出された場合の塗布ノズルの高さが0点とされる。
Patent Document 1 describes a substrate working apparatus that applies a bonding material to a substrate or mounts a component. A unit provided with a trial operation station is removably attached to the apparatus body of the substrate-to-substrate operation apparatus. At the trial run station, a trial run is performed by the application nozzle to check the state of application of the bonding material.
Patent Document 2 describes a coating apparatus for applying a paste to a substrate. The coating device is provided with a touch sensor, and the height of the coating nozzle is zero when the touch sensor detects that the tip of the coating nozzle is in contact with the upper surface of the substrate.

特開2002−059056号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-059056 特開平1−122127号公報JP-A-1-122127

本発明の課題は、基板に、高粘性流体の塗布が行われたり、部品の装着が行われたりする対基板作業装置の改良であり、例えば、吸着ノズル用のタッチセンサを用いることなく、塗布ノズルの昇降制御が良好に行われるようにすることである。   An object of the present invention is an improvement of a substrate working apparatus in which high viscosity fluid is applied to a substrate or components are attached. For example, application is performed without using a touch sensor for a suction nozzle. This is to ensure that the elevation control of the nozzle is performed well.

課題を解決するための手段、作用および効果Means, action and effect for solving the problem

本発明に係る対基板作業装置には、塗布ノズル用のタッチセンサが設けられる。塗布ノズルによって塗布ノズル用のタッチセンサが用いられるのであり、吸着ノズル用のタッチセンサが用いられることはない。そのため、吸着ノズル用のタッチセンサの、塗布ノズルの使用に起因する汚れを良好に防止することができる。また、塗布ノズル用のタッチセンサを用いれば、塗布ノズルの昇降制御が良好に行われるようにすることができる。   The substrate working apparatus according to the present invention is provided with a touch sensor for an application nozzle. The application nozzle uses the touch sensor for the application nozzle, and the touch sensor for the suction nozzle is not used. Therefore, the stain | pollution | contamination resulting from use of the application nozzle of the touch sensor for adsorption | suction nozzles can be prevented favorably. In addition, if the touch sensor for the coating nozzle is used, elevation control of the coating nozzle can be favorably performed.

本発明の一実施形態である対基板作業装置の斜視図である。It is a perspective view of the board | substrate operation | work apparatus which is one Embodiment of this invention. 上記対基板作業装置のフィーダ等保持部材の斜視図である。It is a perspective view of a feeder etc. holding member of the said board | substrate operation | work apparatus. 上記対基板作業装置のヘッド移動装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the head moving apparatus of the said board | substrate working apparatus. 上記ヘッド移動装置に着脱可能に保持される装着ヘッドの斜視図である。FIG. 6 is a perspective view of a mounting head that is detachably held by the head moving device. 上記ヘッド移動装置に着脱可能に保持される塗布ヘッドを概念的に示す一部断面図である。FIG. 5 is a partial cross-sectional view conceptually showing an application head detachably held by the head moving device. 上記フィーダ等保持部材に取り付けられる塗布ノズル用ユニットの正面図である。It is a front view of the unit for coating nozzles attached to the said holding members, such as a feeder. 上記塗布ノズル用ユニットの背面図である。It is a rear view of the unit for said coating nozzles. 上記塗布ノズル用ユニットの平面図である。It is a top view of the unit for said coating nozzles. 上記対基板作業装置の制御装置を概念的に示す図である。It is a figure which shows notionally the control apparatus of the said board | substrate operation | work apparatus. 上記制御装置の記憶部に記憶された作動許可・禁止プログラムを表すフローチャートである。It is a flowchart showing the operation | movement permission * prohibition program memorize | stored in the memory | storage part of the said control apparatus. 上記記憶部に記憶された吸着ノズル昇降制御プログラムを表すフローチャートである。It is a flowchart showing the adsorption nozzle raising / lowering control program memorize | stored in the said memory | storage part. 上記記憶部に記憶された塗布ノズル昇降制御プログラムを表すフローチャートである。It is a flowchart showing the application | coating nozzle raising / lowering control program memorize | stored in the said memory | storage part. 上記塗布ノズルの作動を概念的に示す図である。It is a figure which shows notionally the action | operation of the said application | coating nozzle.

発明の実施形態Embodiments of the invention

以下、本発明の一実施形態である対基板作業装置について図面に基づいて詳細に説明する。
図1に示す対基板作業装置は、装置本体2,基板搬送保持装置4,部品供給装置6,ヘッド移動装置8等を含む。
基板搬送保持装置4は、回路基板P(以後、基板Pと略称する)を水平な姿勢で搬送して保持するものであり、(a)装置本体2に位置決めして設けられた基板搬送保持装置4の本体10、(b)本体10に設けられた基板保持装置12(図13参照)、(c)図示を省略する搬送装置等を含む。基板Pは、搬送装置により搬送され、予め定められた位置において基板保持装置12によって保持される。図1において、xは基板Pの搬送方向であり、yは基板Pの幅方向であり、zは基板Pの厚み方向、すなわち、対基板作業装置の上下方向である。これら、x方向、y方向、z方向は互いに直交する。
Hereinafter, a substrate work apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail based on the drawings.
The substrate-to-substrate operation apparatus shown in FIG. 1 includes an apparatus main body 2, a substrate conveyance / holding device 4, a component supply device 6, a head moving device 8 and the like.
The substrate conveyance and holding device 4 conveys and holds the circuit board P (hereinafter referred to as a substrate P) in a horizontal posture, and (a) a substrate conveyance and holding device provided by being positioned on the apparatus main body 2 4 includes a main body 10, (b) a substrate holding device 12 (see FIG. 13) provided on the main body 10, and (c) a transport device whose illustration is omitted. The substrate P is transported by the transport device and held by the substrate holding device 12 at a predetermined position. In FIG. 1, x is the transport direction of the substrate P, y is the width direction of the substrate P, and z is the thickness direction of the substrate P, that is, the vertical direction of the substrate working apparatus. The x direction, the y direction, and the z direction are orthogonal to one another.

基板保持装置12は、基板Pを上下方向からクランプして保持するものであり、基板保持装置12によって保持された基板Pの上面である基板上面Sは、基板Pの厚みにかかわらず、ほぼ同じ高さとされる。本体10には、基板上面Sと同じ高さの被接触部13を有するタッチセンサ14と、基板上面Sと同じ高さ(被接触部13と同じ高さでもある)の第2反射面としての被反射面15を有する高さ測定治具16とが設けられる。タッチセンサ14は、被接触部13に吸着ノズルの先端が当接したか否かを検出するものである。高さ測定治具16の被反射面15は光等の電子線が反射し易い面であり、後述するように、非接触式の距離センサの光等の電子線の照射対象面として利用される。   The substrate holding device 12 clamps and holds the substrate P in the vertical direction, and the substrate upper surface S which is the upper surface of the substrate P held by the substrate holding device 12 is substantially the same regardless of the thickness of the substrate P It is considered to be the height. The main body 10 has a touch sensor 14 having a contacted portion 13 at the same height as the upper surface S of the substrate and a second reflecting surface at the same height as the upper surface S of the substrate (also the same height as the contacted portion 13). A height measuring jig 16 having a reflected surface 15 is provided. The touch sensor 14 detects whether or not the tip of the suction nozzle abuts on the contacted portion 13. The reflection surface 15 of the height measurement jig 16 is a surface on which electron beams such as light are easily reflected, and as described later, it is used as a surface to be irradiated with electron beams such as light of a noncontact distance sensor. .

部品供給装置6は、基板Pに装着される電子部品である部品を供給するものであり、複数のテープフィーダ20等を含む。複数のテープフィーダ20は図2に示すフィーダ等保持部材22に保持される。フィーダ等保持部材22は、テープフィーダ20等を保持する保持台23と、テープフィーダ20の位置決めを行う位置決めプレート24とを含む。保持台23には、互いに平行に延びた複数の保持溝25と、それら保持溝25と直交する方向に延びた係合溝26とが設けられる。位置決めプレート24には、保持溝25の各々に対応する2つずつの位置決め凹部27a,bと、コネクタ接続部27nとが設けられる。フィーダ等保持部材22は、保持溝25がy方向に延び、位置決めプレート24がxz平面とほぼ平行となる姿勢で、装置本体2に、位置決めされた状態で取り付けられる。
それに対して、テープフィーダ20のフィーダ本体には、図示を省略する位置決め突部、コネクタ、係合突部等が設けられ、テープフィーダ20はフィーダ等保持部材22の保持溝25に、位置決め突部が位置決め凹部27a、bに嵌合し、コネクタがコネクタ接続部27nに嵌合し、係合突部が係合溝26に係合させられた状態で取り付けられる。フィーダ等保持部材22には、後述する塗布ノズル用ユニットも取り付けられる。
The component supply device 6 supplies components which are electronic components to be mounted on the substrate P, and includes a plurality of tape feeders 20 and the like. The plurality of tape feeders 20 are held by a holding member 22 such as a feeder shown in FIG. The feeder holding member 22 includes a holder 23 for holding the tape feeder 20 and the like, and a positioning plate 24 for positioning the tape feeder 20. The holding table 23 is provided with a plurality of holding grooves 25 extending in parallel to one another, and an engaging groove 26 extending in a direction perpendicular to the holding grooves 25. The positioning plate 24 is provided with two positioning recesses 27a and 27b corresponding to the holding grooves 25 and a connector connection portion 27n. The feeder holding member 22 is attached to the apparatus main body 2 in a state in which the holding groove 25 extends in the y direction and the positioning plate 24 is substantially parallel to the xz plane.
On the other hand, the feeder main body of the tape feeder 20 is provided with positioning protrusions, connectors, engaging protrusions and the like which are not shown, and the tape feeder 20 is positioned in the holding groove 25 of the holding member 22 such as a feeder. Is fitted into the positioning recesses 27a and 27b, the connector is fitted into the connector connection portion 27n, and the engaging projection is attached to the engaging groove 26. A unit for coating nozzles, which will be described later, is also attached to the feeder holding member 22.

ヘッド移動装置8は、図3に示すように、作業ヘッド30を保持して水平方向に移動させるものであり、x方向移動装置32,y方向移動装置34を含む。
y方向移動装置34は、(a)駆動源としてのy軸モータ36、(b)駆動伝達部としての送りねじ機構37、(c)y方向に延びる一対のガイドレール38、(d)一対のガイドレール38に係合させられたスライダ39等を含む。送りねじ機構37は、送りねじと、送りねじに嵌合されたナット40とを備え、ナット40にスライダ39が取り付けられる。y軸モータ36の駆動が送りねじ機構37を介してスライダ39へ伝達され、スライダ39がガイドレール38に沿ってy方向へ直線的に移動させられる。
x方向移動装置32は、スライダ39に設けられ、第1、第2の2つの移動装置41,42を含む2重構造を成したものである。スライダ39に第1移動装置41が設けられ、第1移動装置41のスライダとしてのプレート43に第2移動装置42が設けられる。第2移動装置42は、(a)駆動源としてのx軸モータ45、(b)駆動伝達部としての送りねじ機構46、(c)x方向に延びる一対のガイドレール47、(d)スライダ48等を含む。x軸モータ45の駆動が送りねじ機構46を介してスライダ48に伝達され、スライダ48が一対のガイドレール47に沿ってx方向へ直線的に移動させられる。
スライダ48には、作業ヘッド30である図4に示す装着ヘッド50と図5に示す塗布ヘッド52とのいずれか一方が、選択的に着脱装置54を介して取り付けられる。着脱装置54は、作業ヘッド30のヘッド本体をスライダ48に、上下方向に位置決めした状態で連結したり、切離したりするものであり、着脱装置54として、例えば、特開2004−221518号公報に記載されたものを採用することができる。
As shown in FIG. 3, the head moving device 8 holds the working head 30 and moves it in the horizontal direction, and includes an x-direction moving device 32 and a y-direction moving device 34.
The y-direction moving device 34 includes (a) a y-axis motor 36 as a drive source, (b) a feed screw mechanism 37 as a drive transmission unit, (c) a pair of guide rails 38 extending in the y direction, and (d) a pair of It includes a slider 39 or the like engaged with the guide rail 38. The feed screw mechanism 37 includes a feed screw and a nut 40 fitted to the feed screw, and the slider 39 is attached to the nut 40. The drive of the y-axis motor 36 is transmitted to the slider 39 via the feed screw mechanism 37, and the slider 39 is linearly moved in the y direction along the guide rail 38.
The x-direction moving device 32 is provided on the slider 39 and has a double structure including the first and second moving devices 41 and 42. The slider 39 is provided with a first moving device 41, and the plate 43 as a slider of the first moving device 41 is provided with a second moving device 42. The second moving device 42 includes (a) an x-axis motor 45 as a drive source, (b) a feed screw mechanism 46 as a drive transmission unit, (c) a pair of guide rails 47 extending in the x direction, and (d) a slider 48 Etc. The drive of the x-axis motor 45 is transmitted to the slider 48 via the feed screw mechanism 46, and the slider 48 is linearly moved in the x direction along the pair of guide rails 47.
One of the mounting head 50 as the working head 30 shown in FIG. 4 and the application head 52 shown in FIG. 5 is selectively attached to the slider 48 through the mounting and demounting device 54. The attaching / detaching device 54 connects or disconnects the head main body of the working head 30 to the slider 48 in a state of being positioned in the vertical direction, and as the attaching / detaching device 54, for example, described in JP-A 2004-221518 Can be adopted.

装着ヘッド50は、(1)ヘッド本体56、(2)吸着ノズル57、(3)吸着ノズル57を保持するノズル保持部をヘッド本体56に対して昇降させる昇降装置58、(4)吸着ノズル57に正圧と負圧とを選択的に供給可能な正圧負圧選択供給装置59(図9参照)等を含む。昇降装置58は、図9に示すz軸モータ60等を含み、z軸モータ60の駆動が駆動伝達部を介してスライダに伝達され、スライダに保持されたノズル保持部、吸着ノズル57が上下方向へ移動させられる。また、正圧負圧選択供給装置59の制御により、吸着ノズル57によって部品が保持されたり、開放されたりする。   The mounting head 50 includes (1) a head main body 56, (2) a suction nozzle 57, (3) an elevation device 58 for raising and lowering a nozzle holding portion holding the suction nozzle 57 with respect to the head main body 56; And a positive pressure negative pressure selective supply device 59 (see FIG. 9) capable of selectively supplying positive pressure and negative pressure. Lifting device 58 includes z-axis motor 60 and the like shown in FIG. 9, and the drive of z-axis motor 60 is transmitted to the slider via the drive transmission portion, and the nozzle holding portion held by the slider and suction nozzle 57 are vertically moved. Moved to Further, the components are held or released by the suction nozzle 57 by the control of the positive pressure / negative pressure selective supply device 59.

塗布ヘッド52は、(1)ヘッド本体64、(2)塗布ノズル65を有するシリンジ67、(3)シリンジ67をヘッド本体64に対して昇降させる昇降装置68、(4)図9に示すエア制御装置69等を含む。シリンジ67には高粘性流体が収容され、上方のエア室のエア圧、エアの供給状態等がエア制御装置69によって制御される。エア制御装置69の制御により、塗布ノズル65の先端の吐出管70から吐出される高粘性流体の量(直径)等が制御される。
昇降装置68は、図9に示すz軸モータ72等を含み、z軸モータ72の駆動が駆動伝達部を介してスライダ73に伝達される。スライダ73はシリンジ67を上下方向に一体的に移動可能に保持するものであり、スライダ73の上下方向の移動に伴って、シリンジ67および塗布ノズル65が上下方向に移動させられる。
The coating head 52 includes (1) a head main body 64, (2) a syringe 67 having a coating nozzle 65, (3) an elevation device 68 for moving the syringe 67 up and down relative to the head main body 64, (4) air control shown in FIG. Apparatus 69 and the like. The highly viscous fluid is accommodated in the syringe 67, and the air pressure in the upper air chamber, the air supply state, and the like are controlled by the air control device 69. By control of the air control device 69, the amount (diameter) and the like of the highly viscous fluid discharged from the discharge pipe 70 at the tip of the application nozzle 65 is controlled.
The lifting device 68 includes the z-axis motor 72 and the like shown in FIG. 9, and the drive of the z-axis motor 72 is transmitted to the slider 73 via the drive transmission unit. The slider 73 holds the syringe 67 so as to be integrally movable in the vertical direction, and along with the movement of the slider 73 in the vertical direction, the syringe 67 and the application nozzle 65 are moved in the vertical direction.

フィーダ等保持部材22には、図1に示すように、塗布ノズル65のチェックが行われる塗布ノズル用ユニット(以下、ユニットと略称する)78が着脱可能に取り付けられる。ユニット78は、図6〜8に示すように、概して直方体を成した本体79を備え、本体79の一端面に2つの位置決め突起80a、bとコネクタ80nとが設けられ、下面に係合突部81が突出位置と退避位置とに移動可能に設けられる。位置決め突起80a、bが位置決め凹部27a、bに嵌合し、コネクタ80nがコネクタ接続部27nに嵌合し、係合突部81が係合凹部26に係合させられることにより、ユニット78がフィーダ等保持部材22に位置決めされ、かつ、電気的に接続された状態で取り付けられる。   As shown in FIG. 1, an application nozzle unit (hereinafter referred to as a unit) 78 for checking the application nozzle 65 is detachably attached to the feeder holding member 22. As shown in FIGS. 6-8, the unit 78 is provided with a main body 79 which is generally in the form of a rectangular parallelepiped, and two positioning projections 80a, b and a connector 80n are provided on one end surface of the main body 79. 81 are provided movably between the projecting position and the retracted position. The positioning protrusions 80a and 80b fit in the positioning recesses 27a and 27b, the connector 80n fits in the connector connection portion 27n, and the engagement protrusion 81 is engaged with the engagement recess 26 so that the unit 78 is a feeder. It is attached to the equal holding member 22 while being positioned and electrically connected.

ユニット78は、紙供給装置82、タッチセンサ83、高さ測定治具84、容器85等を含む。紙供給装置82は、紙Yが巻かれて成るロールPRから試し打ちエリアAに紙Yを供給するものであり、(a)ロールPRを保持するロール保持ローラ86、(b)試し打ちエリアAから紙Yを巻き取る巻き取りローラ87、(c)巻き取りローラ87を駆動する巻き取り用モータ88(図9参照)、(d)複数の送りローラ89等を含む。巻き取り用モータ88の駆動によりロール保持ローラ86に保持されたロールPRから紙Yが送り出され、試し打ちエリアAへ供給され、巻き取りローラ87に巻き取られる。紙Yは、高粘性流体の浸み込む程度等が基板Pとほぼ同じものとすることができる。   The unit 78 includes a paper supply device 82, a touch sensor 83, a height measurement jig 84, a container 85, and the like. The paper feeding device 82 feeds the paper Y from the roll PR formed by winding the paper Y to the test hitting area A, and (a) a roll holding roller 86 which holds the roll PR, (b) the test hitting area A And a winding motor 88 (see FIG. 9) for driving the winding roller 87, and (d) a plurality of feed rollers 89 and the like. The paper Y is fed from the roll PR held by the roll holding roller 86 by the drive of the winding motor 88, supplied to the test hitting area A and taken up by the winding roller 87. The paper Y may be substantially the same as the substrate P in the degree of penetration of the highly viscous fluid.

タッチセンサ83、高さ測定治具84は、基板搬送保持装置4に設けられたタッチセンサ14、高さ測定治具16と同様の構造を成したものである。タッチセンサ83は、予め定められた高さ(例えば、基板搬送保持装置4によって保持された基板上面Sと同じ高さであると想定される高さとすることができる)に位置する被接触部91を備え、被接触部91に吐出管70の先端が当接したか否かを検出する。高さ測定治具84は、タッチセンサ83の被接触部91と同じ高さに設けられた第1基準面としての被反射面92を備える。
容器85は、塗布ノズル65から吐出された高粘性流体を受けるものである。例えば、塗布ノズル65から高いエア圧で高粘性流体を吐出させることによりノズル内の詰まり等を解消することができる。容器85の中央に設けられた仕切り板は、吐出管70に付着した高粘性流体を拭うためのものである。
The touch sensor 83 and the height measurement jig 84 have the same structure as the touch sensor 14 and the height measurement jig 16 provided in the substrate transport holding device 4. The touch sensor 83 is a contact portion 91 located at a predetermined height (for example, the height assumed to be the same height as the upper surface S of the substrate held by the substrate conveyance and holding device 4). And detects whether the tip of the discharge pipe 70 abuts on the contacted portion 91. The height measurement jig 84 includes a reflected surface 92 as a first reference surface provided at the same height as the contact portion 91 of the touch sensor 83.
The container 85 is for receiving the highly viscous fluid discharged from the application nozzle 65. For example, by discharging the highly viscous fluid from the application nozzle 65 at high air pressure, clogging and the like in the nozzle can be eliminated. The partition plate provided at the center of the container 85 is for wiping the highly viscous fluid attached to the discharge pipe 70.

試し打ちエリアAにおいて紙Yの上に塗布ノズル65によって塗布された高粘性流体が、スライダ48に取り付けられたカメラ90により撮像され、撮像画像に基づいて、高粘性流体の大きさ等の形状が適正であるか否か、高粘性流体の中心点が塗布ノズル65の中心点と一致するか否か等がチェックされる。チェック結果に基づき、エア室に供給されるエア圧、エア供給時間等が調整されたり、塗布ノズル65の詰まりが解消されたりする。
また、これら試し打ち領域A,タッチセンサ83、高さ測定治具84、容器85は、本体79の、ユニット78がフィーダ等保持部材22に取り付けられた状態で、作業ヘッド30の可動範囲内に位置する部分に設けられる。作業ヘッド30の可動範囲はヘッド移動装置8、昇降装置68の構造等によって決まる。
The high viscosity fluid applied on the paper Y by the application nozzle 65 in the trial shot area A is imaged by the camera 90 attached to the slider 48, and the shape such as the size of the high viscosity fluid is based on the imaged image It is checked whether the center point of the high viscosity fluid coincides with the center point of the application nozzle 65, etc. Based on the check result, the air pressure supplied to the air chamber, the air supply time, and the like are adjusted, and the clogging of the coating nozzle 65 is eliminated.
Further, the test hitting area A, the touch sensor 83, the height measuring jig 84, and the container 85 are within the movable range of the working head 30 with the unit 78 of the main body 79 attached to the holding member 22 such as a feeder. It is provided in the part where it is located. The movable range of the working head 30 is determined by the structure of the head moving device 8 and the lifting device 68.

図1に示すように、対基板作業装置の装置本体2の上部(フレーム)には開口97が設けられる。開口97は、作業者の人体の一部(例えば、手、腕等)が侵入可能な大きさとされ、装置本体2に設けられた基板搬送保持装置4、ヘッド移動装置8等のメンテナンスが行われる場合等に利用される。開口97には安全扉98が開閉可能に取り付けられ、安全扉98の閉状態において対基板作業装置の作動が許可される。安全扉98が開状態にあるか否は、検知装置としての安全扉開閉センサ99(図9参照)によって検出される。   As shown in FIG. 1, an opening 97 is provided in the upper portion (frame) of the apparatus main body 2 of the substrate handling apparatus. The opening 97 has a size that allows a part of the worker's human body (for example, a hand, an arm, and the like) to enter, and maintenance of the substrate conveyance and holding device 4 and the head moving device 8 provided in the device main body 2 is performed. It is used for cases. A safety door 98 is attached to the opening 97 in an openable / closable manner, and the operation of the substrate handling apparatus is permitted when the safety door 98 is closed. Whether or not the safety door 98 is open is detected by a safety door open / close sensor 99 (see FIG. 9) as a detection device.

本対基板作業装置には、図9に示すように、コンピュータを主体とする制御装置100が設けられる。制御装置100は、実行部、記憶部、入出力部等を含み、タッチセンサ14,83、カメラ90、安全扉開閉センサ99、距離センサ110等が接続されるとともに、x軸モータ45、y軸モータ36、z軸モータ60,72、巻き取り用モータ88、正圧負圧選択供給装置59、エア制御装置69等が接続される。距離センサ110は、スライダ48に設けられた非接触型のものであり、光等の電子線を照射対象面である被反射面15、92に照射し、反射した電子線を受けて被反射面15、92との間の距離を検出する。   As shown in FIG. 9, the control apparatus 100 mainly composed of a computer is provided in the substrate-to-substrate operation apparatus. Control device 100 includes an execution unit, a storage unit, an input / output unit, etc., and is connected with touch sensors 14, 83, camera 90, safety door open / close sensor 99, distance sensor 110, etc. A motor 36, z-axis motors 60 and 72, a winding motor 88, a positive pressure / negative pressure selective supply device 59, an air control device 69 and the like are connected. The distance sensor 110 is a non-contact type provided on the slider 48 and irradiates an electron beam such as light to the surface to be reflected 15, 92 to be irradiated and receives the reflected electron beam to be reflected. Detect the distance between 15 and 92.

対基板作業装置において、図10のフローチャートで表される作動許可・禁止プログラムが予め定められた設定時間毎に実行される。ステップ1(以下、S1と略称する。他のステップについても同様とする)において、安全扉開閉センサ99の出力に基づいて、安全扉98が開状態にあるか否かが判定される。閉状態にある場合にはS2において作動が許可され、開状態にある場合にはS3において作動が禁止される。例えば、対基板作業装置の作動状態において安全扉98が開かれた場合には、S1の判定がYESとなりS3において作動が禁止されるのであり、対基板作業装置の作動が停止させられる。   In the substrate working apparatus, the operation permission / prohibition program represented by the flow chart of FIG. 10 is executed every predetermined set time. In step 1 (hereinafter abbreviated as S1; the same applies to other steps), it is determined based on the output of the safety door open / close sensor 99 whether the safety door 98 is in the open state. When in the closed state, the operation is permitted in S2, and in the open state, the operation is inhibited in S3. For example, when the safety door 98 is opened in the operation state of the substrate working apparatus, the determination in S1 is YES, and the operation is prohibited in S3, and the operation of the substrate working apparatus is stopped.

対基板作業装置の作動許可状態において、装着ヘッド50がスライダ48に取り付けられた場合に装着制御が行われる。装着ヘッド50は、部品供給位置と部品装着位置との間を、ヘッド移動装置8、昇降装置58の制御により水平方向および上下方向へ移動させられる。吸着ノズル57が基板上面Sの予め定められた位置において部品の寸法等に基づき決まる高さに達すると、正圧負圧選択供給装置59の制御により部品が放され、基板Pに装着される。吸着ノズル57の高さは吸着ノズル基準下降量に基づいて制御される。吸着ノズル基準下降量は、吸着ノズル57が基準高さから基板上面Sに当接するまでの下降量であり、基準高さは、吸着ノズル57のヘッド本体56に対する予め定められた相対高さである。吸着ノズル基準下降量は、予め取得されて記憶される。
吸着ノズル57の高さは、図11のフローチャートで表される吸着ノズル昇降制御プログラムの実行により行われる。S11において、吸着ノズル57が基準高さにある状態で、タッチセンサ14の上方において、下降させられる。S12において、タッチセンサ14によって被接触部13に吸着ノズル57が当接したか否かが判定される。吸着ノズル57の当接が検出されない間は、吸着ノズル57の下降が続けられるが、当接が検出された場合には、S13において、基準高さから当接するまでの吸着ノズル57の昇降装置58による下降量である吸着ノズル実下降量Dが取得される。吸着ノズル実下降量Dが吸着ノズル基準下降量Daとされ(D→Da)、S14において記憶される。その後、S15において装着制御が行われるのであり、吸着ノズル基準下降量Daに基づいて昇降装置58が制御されて、吸着ノズル57の高さが制御される。
The mounting control is performed when the mounting head 50 is mounted on the slider 48 in the operation permitting state of the substrate working apparatus. The mounting head 50 is moved horizontally and vertically between the component supply position and the component mounting position under the control of the head moving device 8 and the lifting device 58. When the suction nozzle 57 reaches a height determined on the predetermined position of the upper surface S of the substrate based on the dimensions and the like of the component, the component is released by the control of the negative pressure selective supply device 59 and mounted on the substrate P. The height of the suction nozzle 57 is controlled based on the suction nozzle reference descent amount. The suction nozzle reference lowering amount is a lowering amount until the suction nozzle 57 comes in contact with the substrate upper surface S from the reference height, and the reference height is a predetermined relative height of the suction nozzle 57 with respect to the head main body 56 . The suction nozzle reference descent amount is acquired in advance and stored.
The height of the suction nozzle 57 is determined by executing the suction nozzle elevation control program represented by the flowchart of FIG. In S11, the suction nozzle 57 is lowered above the touch sensor 14 with the suction nozzle 57 at the reference height. In S12, it is determined by the touch sensor 14 whether or not the suction nozzle 57 is in contact with the contacted portion 13. The lowering of the suction nozzle 57 is continued while the contact of the suction nozzle 57 is not detected, but when the contact is detected, the lifting device 58 of the suction nozzle 57 from the reference height to the contact in S13. The suction nozzle actual descent amount D, which is the descent amount by d, is acquired. The suction nozzle actual lowering amount D is made the suction nozzle reference lowering amount Da (D → Da), and is stored in S14. Thereafter, mounting control is performed in S15, and the elevation device 58 is controlled based on the suction nozzle reference descent amount Da to control the height of the suction nozzle 57.

塗布ヘッド52がスライダ48に取り付けられた場合に塗布制御が行われる。塗布ノズル65がヘッド移動装置8、昇降装置68の制御により、水平方向および上下方向へ移動させられる。塗布ノズル65が、基板上面Sの予め定められた位置の予め定められた高さに達すると、エア制御装置69の制御により高粘性流体が塗布される。塗布ノズル65の高さは塗布ノズル基準下降量に基づいて制御される。塗布ノズル基準下降量は、塗布ノズル65の基準高さから基板上面Sに当接するまでの下降量であり、基準高さは、塗布ノズル65のヘッド本体64に対する予め定められた相対高さである。塗布ノズル基準下降量は予め取得されて、記憶される。
塗布ノズル65は、図13(b)に示すように、通常、基板上面Sより設定距離gだけ高い位置まで下降させられ、高粘性流体が吐出される。従来の塗布ヘッドにおいては、塗布ノズルとは別に、吐出管の先端より距離gだけ下方へ突出する突出棒が設けられ、突出棒が基板上面Sに当接するまで下降させられた後に、高粘性流体が吐出されるようにされていた。しかし、突出棒がすでに装着された部品と干渉する等、高い密度で部品を装着する場合に問題があった。また、突出棒が基板上面Sに押し付けられた後に高粘性流体が吐出されるため、その分、塗布に要する時間が長くなる等の問題もあった。そのため、突出棒を用いることなく、塗布ノズル65を基板上面Sから設定距離gだけ高い位置まで正確に下降させる要求があった。
When the application head 52 is attached to the slider 48, application control is performed. The application nozzle 65 is moved horizontally and vertically by the control of the head moving device 8 and the lifting device 68. When the application nozzle 65 reaches a predetermined height of a predetermined position on the upper surface S of the substrate, the highly viscous fluid is applied by the control of the air control device 69. The height of the application nozzle 65 is controlled based on the application nozzle reference descent amount. The application nozzle reference descent amount is a descent amount from the reference height of the application nozzle 65 to contact with the upper surface S of the substrate, and the reference height is a predetermined relative height of the application nozzle 65 with respect to the head main body 64 . The application nozzle reference descent amount is obtained in advance and stored.
The application nozzle 65 is normally lowered to a position higher by a set distance g than the upper surface S of the substrate, as shown in FIG. 13B, and a highly viscous fluid is discharged. In a conventional coating head, a protruding bar is provided separately from the coating nozzle and protrudes downward by a distance g from the tip of the discharge pipe, and after the protruding bar is lowered until it abuts on the upper surface S of the substrate, highly viscous fluid Was being discharged. However, there has been a problem in mounting the parts with high density, such as the protruding bar interfering with the already mounted parts. In addition, since the highly viscous fluid is discharged after the protruding bar is pressed against the upper surface S of the substrate, there has been a problem that the time required for coating becomes longer accordingly. Therefore, there has been a demand for accurately lowering the coating nozzle 65 to a position higher than the upper surface S of the substrate by the set distance g without using a protruding bar.

一方、タッチセンサ14を用いれば、塗布ノズル基準下降量を正確に取得することができるが、タッチセンサ14は吸着ノズル57によって用いられるものであり、塗布ノズル65の先端が被接触部13に当接すると高粘性流体が付着し、望ましくない。そこで、ユニット78に塗布ヘッド専用のタッチセンサ83を設けたのであるが、ユニット78は、装置本体2に着脱可能に取り付けられたものであるため、タッチセンサ83の被接触部91の高さが基板上面Sと同じ高さにならない場合がある。
以上の事情から、本実施例においては、スライダ48に取り付けられた非接触型の距離センサ110を用いて高さ測定治具16、84の各々の被反射面15、92の高さの差ΔH、すなわち、タッチセンサ14、83の被接触部13、91の高さの差ΔHが取得され、これら差ΔHと、塗布ノズル65がタッチセンサ83の被接触部91に当接するまでの下降量Dとに基づいて、塗布ノズル基準下降量が取得されるようにした。
On the other hand, if the touch sensor 14 is used, the application nozzle reference descent amount can be accurately obtained, but the touch sensor 14 is used by the suction nozzle 57 and the tip of the application nozzle 65 is in contact with the contact portion 13. If it contacts, highly viscous fluid adheres, which is not desirable. Therefore, the unit 78 is provided with the touch sensor 83 dedicated to the coating head. However, since the unit 78 is detachably attached to the apparatus main body 2, the height of the contact portion 91 of the touch sensor 83 is The height may not be the same as the top surface S of the substrate.
From the above circumstances, in the present embodiment, the difference ΔH between the heights of the reflection surfaces 15 and 92 of the height measurement jigs 16 and 84 using the non-contact distance sensor 110 attached to the slider 48 That is, the difference ΔH between the heights of the contact portions 13 and 91 of the touch sensors 14 and 83 is acquired, and the difference ΔH and the amount of lowering D until the application nozzle 65 abuts on the contact portion 91 of the touch sensor 83. The application nozzle reference descent amount is obtained based on the above.

塗布ノズルの高さは、図12のフローチャートで表される塗布ノズル昇降制御プログラムの実行により制御される。図13(a)が示すように、S21において、ヘッド移動装置8により塗布ヘッド52(スライダ48)が基板搬送保持装置4の高さ測定治具16の上方へ移動させられ、距離センサ110により、第2基準面15までの距離である上面間距離(第2基準面間距離)H2が取得され、S22において、ユニット78の高さ測定治具84の上方へ移動させられ、距離センサ110により第1基準面92までの距離である第1基準面間距離H1が取得され、S23において、これら距離の差(距離差)ΔH(H2−H1)が求められる。そして、タッチセンサ83の上方へ移動させられ、S24、25において、塗布ノズル65が基準高さから昇降装置68により下降させられ、タッチセンサ83によって被接触部91に塗布ノズル65が当接したか否かが判定される。塗布ノズル65の当接が検出されない間、塗布ノズル65の下降が続けられるが、当接が検出されると、S26において、その時までの下降量である塗布ノズル実下降量Dが取得される。S27,28において、塗布ノズル実下降量Dに距離差ΔHを加えた値が塗布ノズル基準下降量Dbとして取得され(D+ΔH→Db)、記憶される。その後、S29において塗布制御が行われるが、塗布ノズル65の高さ制御は、塗布ノズル基準下降量Dbに基づく昇降装置68の制御により行われる。   The height of the coating nozzle is controlled by the execution of the coating nozzle elevation control program represented by the flowchart of FIG. As shown in FIG. 13A, in S21, the head moving device 8 moves the coating head 52 (slider 48) above the height measuring jig 16 of the substrate transport and holding device 4, and the distance sensor 110 The distance between the upper surfaces (the distance between the second reference surfaces) H2 which is the distance to the second reference surface 15 is acquired, and in S22, it is moved above the height measuring jig 84 of the unit 78. A first reference plane distance H1 which is a distance to the 1 reference plane 92 is acquired, and in S23, a difference (distance difference) ΔH (H2−H1) of these distances is obtained. Then, it is moved to the upper side of the touch sensor 83, and in S24, 25, whether the coating nozzle 65 is lowered from the reference height by the lifting device 68 and the touch sensor 83 abuts the coating nozzle 65 on the contact portion 91 It is determined whether or not. The lowering of the application nozzle 65 is continued while the contact of the application nozzle 65 is not detected, but when the contact is detected, the actual lowering amount of the application nozzle D, which is the amount of descent up to that time, is acquired in S26. At S27 and S28, a value obtained by adding the distance difference ΔH to the application nozzle actual descent amount D is acquired as the application nozzle reference descent amount Db (D + ΔH → Db) and stored. Thereafter, the application control is performed in S29, but the height control of the application nozzle 65 is performed by the control of the lifting and lowering device 68 based on the application nozzle reference descent amount Db.

このように、塗布ノズル専用のタッチセンサ83を設けたため、タッチセンサ14を汚すことなく、塗布ノズル基準下降量を正確に取得することができる。塗布ノズル65の高さを基板上面Sから設定距離gだけ高い位置に正確に制御することができ、高粘性流体を、精度よく、安定して基板上面Sに塗布することができる。また、突出棒を用いないため、高密度で部品を装着する場合にも有効である。さらに、高粘性流体の塗布に要する時間を短くすることもできる。
また、塗布ノズル専用のタッチセンサ83が設けられたユニット78がフィーダ等保持部材22に着脱可能に取り付けられるため、安全扉98を開けることなく、フィーダ等保持部材22から取り外すことが可能である。そのため、対基板作業装置において基板Pに作業が行われている間に、対基板作業装置の作動を停止させることなく、ユニット78を取り出して、タッチセンサ83の被接触部91の清掃等のメンテナンスを行うことができる。
As described above, since the touch sensor 83 dedicated to the coating nozzle is provided, the coating nozzle reference descent amount can be accurately acquired without soiling the touch sensor 14. The height of the application nozzle 65 can be accurately controlled to a position higher than the substrate upper surface S by the set distance g, and the highly viscous fluid can be applied to the substrate upper surface S accurately and stably. In addition, since no protruding bar is used, it is also effective in mounting components at high density. Furthermore, the time required to apply the highly viscous fluid can also be shortened.
In addition, since the unit 78 provided with the touch sensor 83 dedicated to the application nozzle is detachably attached to the holding member 22 such as a feeder, it can be removed from the holding member 22 such as a feeder without opening the safety door 98. Therefore, while the work is being performed on the substrate P in the substrate working apparatus, the unit 78 is taken out without stopping the operation of the substrate working apparatus, and maintenance such as cleaning of the contacted portion 91 of the touch sensor 83 is performed. It can be performed.

以下、タッチセンサ14、被接触部13が、吸着ノズル用タッチセンサ、吸着ノズル用被接触部に対応し、タッチセンサ83、被接触部91が塗布ノズル用タッチセンサ、塗布ノズル用被接触部に対応する。また、昇降装置58、68等によりノズル昇降装置が構成される。さらに、制御装置100の吸着ノズル昇降制御プログラムを記憶する部分、実行する部分等により吸着ノズル昇降制御装置が構成され、そのうちの、S11〜14を記憶する部分、実行する部分等により吸着ノズル基準下降量取得部が構成される。また、制御装置100の塗布ノズル昇降制御プログラムを記憶する部分、実行する部分、距離センサ110等により塗布ノズル昇降制御装置が構成され、そのうちのS21〜28を記憶する部分、実行する部分等により塗布ノズル基準下降量取得部が構成される。なお、吸着ノズル昇降制御装置、吸着ノズル昇降制御装置は、それぞれ、吸着ノズル高さ制御部、塗布ノズル高さ制御部でもある。また、制御装置100の作動許可・停止プログラムのS1、3を記憶する部分、実行する部分等により作動停止装置が構成される。   Hereinafter, the touch sensor 14 and the contact portion 13 correspond to the suction nozzle touch sensor and the suction nozzle contact portion, and the touch sensor 83 and the contact portion 91 correspond to the coating nozzle touch sensor and the coating nozzle contact portion. It corresponds. Further, the lifting and lowering devices 58 and 68 and the like constitute a nozzle lifting and lowering device. Furthermore, the suction nozzle elevation control device is configured by the portion storing and executing the suction nozzle elevation control program of the control device 100, etc., and the suction nozzle reference lowering by the portion storing S11 to 14 and the portion executed thereof. A quantity acquisition unit is configured. In addition, the coating nozzle elevation control device is configured by the portion storing and executing the coating nozzle elevation control program of the control device 100, the distance sensor 110 and the like, and the portion storing the S21 to 28 among them, the portion to be executed A nozzle reference descent amount acquisition unit is configured. The suction nozzle elevation control device and the suction nozzle elevation control device are respectively also a suction nozzle height control unit and an application nozzle height control unit. The operation stop device is configured by a portion storing S1 and 3 of the operation permission / stop program of the control device 100, a portion to be executed, and the like.

なお、塗布ノズル専用のタッチセンサ83は、ユニット78ではなく、装置本体2(基板搬送保持装置4の本体10を含む)等に設けることもできる。その場合には、高さ測定治具16,84は不要となり、塗布ノズル65が専用のタッチセンサの被接触部に当接するまでの下降量を塗布ノズル基準下降量とすることができる。
また、上面間距離は固定値とすることもでき、その場合には、上面間距離である第2基準面間距離を測定する必要がなくなり、高さ測定治具16をなくすことができる。スライダ48と基板上面Sとの間の距離は対基板作業装置によって決まるからである。さらに、高さ測定治具16、84は、基板搬送保持装置4の本体10、ユニット78の本体79の一部を被反射面として利用可能である場合等には不要となる。
また、作業ヘッド30がスライダ48に、昇降可能に取り付けられるようにしたり、スライダ48が2つの作業ヘッド50,52を保持可能なものとしたりする等、本発明は、前記実施例に記載の態様の他、当業者の知識に基づいて種々の変更、改良を施した形態で実施することができる。
The touch sensor 83 dedicated to the application nozzle may be provided not on the unit 78 but on the apparatus main body 2 (including the main body 10 of the substrate transport holding apparatus 4) or the like. In that case, the height measurement jigs 16 and 84 become unnecessary, and the amount of descent until the application nozzle 65 abuts on the contact portion of the dedicated touch sensor can be used as the amount of application nozzle descent.
Further, the distance between the upper surfaces may be a fixed value, in which case it is not necessary to measure the distance between the second reference surfaces which is the distance between the upper surfaces, and the height measuring jig 16 can be eliminated. This is because the distance between the slider 48 and the upper surface S of the substrate is determined by the substrate working apparatus. Furthermore, the height measurement jigs 16 and 84 become unnecessary when the main body 10 of the substrate transport holding device 4 and a part of the main body 79 of the unit 78 can be used as a surface to be reflected.
In the present invention, the working head 30 is attached to the slider 48 so as to be able to move up and down, or the slider 48 can hold the two working heads 50 and 52. Besides, various modifications and improvements can be made based on the knowledge of those skilled in the art.

4:基板搬送保持装置 8:ヘッド移動装置 14,83:タッチセンサ 13,91:被接触部 16,84:高さ測定治具 15,92:被反射面 22:フィーダ等保持部材 30:作業ヘッド 32:x方向移動装置 34:y方向移動装置 48:スライダ 54:着脱機構 56,64:ヘッド本体 57:吸着ノズル 65:塗布ノズル 58,68:昇降装置 78:塗布ノズル用ユニット 99:安全扉開閉センサ 100:制御装置 110:距離センサ   4: Substrate conveying and holding device 8: Head moving device 14, 83: Touch sensor 13, 91: Contacted portion 16, 84: Height measuring jig 15, 92: Reflected surface 22: Feeding member holding member 30: Working head 32: x-direction moving device 34: y-direction moving device 48: slider 54: detachment mechanism 56, 64: head body 57: suction nozzle 65: application nozzle 58, 68: lifting device 78: unit for application nozzle 99: safety door opening / closing Sensor 100: Control device 110: Distance sensor

Claims (4)

装置本体と、
前記装置本体に設けられ、回路基板を保持する回路基板保持装置と、
その回路基板保持装置に保持された前記回路基板の上面である基板上面に高粘性流体を塗布する塗布ノズルと、電子部品を保持して前記基板上面に装着する吸着ノズルとを上下方向に移動させるノズル昇降装置と、
前記装置本体に設けられ、前記吸着ノズルの先端が当接したか否かを検出する吸着ノズル用タッチセンサと、
前記装置本体に着脱可能に取り付けられたユニットと、
前記塗布ノズルの先端が当接可能な塗布ノズル用被接触部を有し、前記ユニットに設けられ、前記塗布ノズルの先端が当接したか否かを検出する塗布ノズル用タッチセンサと、
前記ユニットに設けられ、前記塗布ノズル用被接触部と同じ高さに位置する第1基準面と、
前記吸着ノズルの先端が前記吸着ノズル用タッチセンサに当接するまでの前記ノズル昇降装置による前記吸着ノズルの下降量である吸着ノズル実下降量に基づいて、前記ノズル昇降装置を制御して、前記吸着ノズルが前記基板上面に電子部品を装着する際の、前記吸着ノズルの下降量を制御する吸着ノズル昇降制御装置と、
前記塗布ノズルの先端が前記塗布ノズル用タッチセンサに当接するまでの前記ノズル昇降装置による前記塗布ノズルの下降量である塗布ノズル実下降量に基づいて、前記ノズル昇降装置を制御して、前記塗布ノズルが前記基板上面に高粘性流体を塗布する際の、前記塗布ノズルの下降量を制御する塗布ノズル昇降制御装置と
を含み、
前記塗布ノズル昇降制御装置が、(a)照射対象面との間の距離を検出する非接触型の距離センサと、(b)その距離センサによって検出された前記照射対象面としての前記第1基準面との間の距離である第1基準面間距離と、前記基板上面との間の距離である第2基準面間距離との差である距離差と、前記塗布ノズル実下降量とに基づいて、前記塗布ノズルが前記基板上面に当接するまでの前記ノズル昇降装置による下降量である塗布ノズル基準下降量を取得する塗布ノズル基準下降量取得部と、(c)その塗布ノズル基準下降量取得部によって取得された前記塗布ノズル基準下降量に基づいて、前記ノズル昇降装置を制御して、前記塗布ノズルの前記基板上面からの高さを制御する塗布高さ制御部とを含む対基板作業装置。
The device body,
A circuit board holding device provided in the device body and holding a circuit board;
An application nozzle for applying a highly viscous fluid to the upper surface of the circuit board, which is the upper surface of the circuit board held by the circuit board holding device, and a suction nozzle for holding electronic components and mounted on the upper surface of the board A nozzle lifter,
A suction nozzle touch sensor provided in the device main body and detecting whether or not the tip of the suction nozzle abuts;
A unit detachably attached to the device body;
An application nozzle touch sensor including an application nozzle contactable portion capable of contacting the tip of the application nozzle, provided in the unit and detecting whether or not the tip of the application nozzle abuts;
A first reference surface provided in the unit and positioned at the same height as the contact portion for the coating nozzle;
The nozzle lifting and lowering device is controlled based on the suction nozzle actual lowering amount which is the lowering amount of the suction nozzle by the nozzle lifting and lowering device until the tip of the suction nozzle abuts on the suction nozzle touch sensor. A suction nozzle elevation control device that controls the amount of descent of the suction nozzle when the nozzle mounts an electronic component on the upper surface of the substrate;
The nozzle lifting and lowering device is controlled based on an actual lowering amount of the application nozzle which is a lowering amount of the application nozzle by the nozzle lifting and lowering device until the tip of the application nozzle abuts on the coating nozzle touch sensor. nozzle at the time of applying the highly viscous fluid to the substrate upper surface, seen including a coating nozzle elevation control unit for controlling the lowering amount of the coating nozzle,
(A) a non-contact distance sensor for detecting the distance between the coating nozzle elevation control device and the irradiation target surface; (b) the first reference as the irradiation target surface detected by the distance sensor Based on the difference between the first reference surface distance which is the distance between the surface and the second reference surface distance which is the distance between the upper surface of the substrate, and the application nozzle actual lowering amount (C) acquisition of the application nozzle reference descent amount of the application nozzle reference descent amount which acquires the application nozzle reference descent amount which is the descent amount of the nozzle elevating device until the application nozzle abuts on the upper surface of the substrate based on the coating nozzle reference descent amount obtained by section, wherein by controlling the nozzle elevating device, the height to control the coating level controller and the including-board work from the substrate top surface of said coating nozzle apparatus.
当該対基板作業装置が、前記基板上面と同じ高さに設けられた第2基準面を含み、
前記第2基準面間距離が、前記距離センサによって検出された前記照射対象面としての前記第2基準面との間の距離である請求項1に記載の対基板作業装置。
The substrate-to-substrate working device includes a second reference surface provided at the same height as the upper surface of the substrate,
Wherein between the second reference plane distance, the substrate-related-operation performing device according to claim 1 which is the distance between the distance the second reference surface as the irradiation target surface detected by the sensor.
前記吸着ノズル用タッチセンサが、前記吸着ノズルの先端が当接可能な吸着ノズル用被接触部を有し、
前記吸着ノズル用被接触部が、前記基板上面と同じ高さに位置し、
前記吸着ノズル昇降制御装置が、前記吸着ノズル実下降量を吸着ノズル基準下降量として、その吸着ノズル基準下降量に基づいて、前記ノズル昇降装置を制御して、前記吸着ノズルの前記基板上面からの高さを制御する装着高さ制御部を含む請求項1または2に記載の対基板作業装置。
The suction nozzle touch sensor has a suction nozzle contactable portion with which the tip of the suction nozzle can contact.
The suction nozzle contact portion is positioned at the same height as the upper surface of the substrate;
The suction nozzle elevation control device controls the nozzle elevation device based on the suction nozzle reference descent amount with the suction nozzle actual descent amount as the suction nozzle reference descent amount, from the upper surface of the substrate of the suction nozzle. The substrate working apparatus according to claim 1, further comprising a mounting height control unit that controls the height.
当該対基板作業装置に設けられた安全扉と、
前記安全扉が開状態にあるか否かを検知する検知装置と、
前記検知装置の検知に基づいて、前記安全扉が開状態にある場合に、当該対基板作業装置の作動を停止させる作動停止装置と
を含み、
前記塗布ノズル用タッチセンサが、前記安全扉の閉状態において、作業者によってアクセス可能な状態で設けられた請求項1ないし3のいずれか1つに記載の対基板作業装置。
A safety door provided in the substrate-to-substrate work device;
A detection device for detecting whether or not the safety door is in an open state;
An operation stop device for stopping the operation of the substrate handling device when the safety door is in an open state based on the detection of the detection device;
The substrate-to-board operation apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the coating nozzle touch sensor is provided in a state accessible by an operator in a closed state of the safety door.
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