JP6238593B2 - Film forming composition - Google Patents

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Description

本発明は、膜形成用組成物、当該膜形成用組成物を用いる膜の形成方法、当該膜形成用組成物を用いて形成された膜、膜形成用組成物の製造方法、及び膜形成用組成物を用いて形成される膜の屈折率の改良方法に関する。   The present invention relates to a film-forming composition, a film-forming method using the film-forming composition, a film formed using the film-forming composition, a method for producing the film-forming composition, and a film-forming composition. The present invention relates to a method for improving the refractive index of a film formed using a composition.

近年、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(EL)等のフラットパネルディスプレイ(FPD)が画像表示装置として広く用いられている。これらのディスプレイでは、コントラストの低下要因となる背景の映り込みを防止するために、背景の映り込みの防止が望まれている。映り込みの防止には、画面の表面反射の抑制が有効であるため、通常、これらのディスプレイの表面には高屈折膜と低屈折膜とを積層した反射防止膜が設けられている。   In recent years, flat panel displays (FPD) such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), and an electroluminescence display (EL) have been widely used as image display devices. In these displays, in order to prevent the reflection of the background that causes a decrease in contrast, it is desired to prevent the reflection of the background. In order to prevent reflection, it is effective to suppress reflection on the surface of the screen. Therefore, an antireflection film in which a high refractive film and a low refractive film are laminated is usually provided on the surface of these displays.

反射防止膜を形成する際に、高屈折膜を形成する方法としては、例えば、酸化物で表面処理されたルチル型の酸化チタン微粒子と、有機金属化合物とを含む酸化チタン分散液に、樹脂を加えて調製された高屈折膜形成用を基板上に塗布した後、塗布膜を、乾燥、硬化させる方法が知られている(特許文献1)。   As a method of forming a highly refractive film when forming an antireflection film, for example, a resin is applied to a titanium oxide dispersion liquid containing rutile titanium oxide fine particles surface-treated with an oxide and an organometallic compound. In addition, there is known a method of applying a prepared high refractive film forming material onto a substrate and then drying and curing the coated film (Patent Document 1).

特開2007−084374号公報JP 2007-084374 A

しかし、特許文献1に記載される高屈折膜形成用組成物には、当該組成物を用いて形成される膜の屈折率が必ずしも十分でない問題がある。   However, the composition for forming a high refractive film described in Patent Document 1 has a problem that the refractive index of a film formed using the composition is not always sufficient.

本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、大気圧下での沸点が170℃以上である高沸点極性溶剤が特定量配合されることによって屈折率の改良された膜を形成できる、膜形成用組成物と、当該膜形成用組成物を用いる膜の形成方法と、当該膜形成用組成物を用いて形成された膜と、当該膜形成用組成物の製造方法と、当該膜形成用組成物を用いて形成される膜の屈折率の改良方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and a film having an improved refractive index can be formed by blending a specific amount of a high-boiling polar solvent having a boiling point of 170 ° C. or higher under atmospheric pressure. A film-forming composition, a film-forming method using the film-forming composition, a film formed using the film-forming composition, a method for producing the film-forming composition, and the film It aims at providing the improvement method of the refractive index of the film | membrane formed using the composition for formation.

本発明者らは、有機樹脂と、無機ナノ粒子と、溶剤とを含む膜形成用組成物に、有機樹脂の質量と無機ナノ粒子の質量との合計に対して、20〜100質量%の大気圧下での沸点が170℃以上である高沸点極性溶剤を、溶剤として配合することにより、上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明は、以下のようなものを提供する。   The inventors of the present invention provide a film-forming composition containing an organic resin, inorganic nanoparticles, and a solvent with a mass of 20 to 100% by mass with respect to the total of the mass of the organic resin and the mass of the inorganic nanoparticles. It has been found that the above-mentioned problems can be solved by blending a high-boiling polar solvent having a boiling point of 170 ° C. or higher under atmospheric pressure as a solvent, and the present invention has been completed. Specifically, the present invention provides the following.

本発明の第一の態様は、(A)有機樹脂と、(B)無機ナノ粒子と、(S)溶剤とを含み、
前記(S)溶剤が、大気圧下での沸点が170℃以上である高沸点極性溶剤を含み、
前記高沸点極性溶剤の含有量が、前記(A)有機樹脂の質量と前記(B)無機ナノ粒子の質量との合計に対して20〜100質量%である、膜形成用組成物である。
The first aspect of the present invention includes (A) an organic resin, (B) inorganic nanoparticles, and (S) a solvent,
The (S) solvent includes a high boiling point polar solvent having a boiling point of 170 ° C. or higher under atmospheric pressure,
It is a composition for film formation whose content of the said high boiling point polar solvent is 20-100 mass% with respect to the sum total of the mass of the said (A) organic resin, and the said (B) inorganic nanoparticle.

本発明の第二の態様は、第一の態様に係る膜形成用組成物を塗布して塗布膜を形成する工程と、
前記塗布膜を乾燥させる工程と、を含む、膜の形成方法である。
The second aspect of the present invention includes a step of applying the film forming composition according to the first aspect to form a coating film;
And a step of drying the coating film.

本発明の第三の態様は、第一の態様に係る膜形成用組成物を用いて形成された膜である。   The third aspect of the present invention is a film formed using the film forming composition according to the first aspect.

本発明の第四の態様は、(A)有機樹脂と、(B)無機ナノ粒子と、(S)溶剤とを含む膜形成用組成物に対して、
前記(S)溶剤として、前記(A)有機樹脂の質量と前記(B)無機ナノ粒子の質量との合計に対して20〜100質量%の、大気圧下での沸点が170℃以上である高沸点極性溶剤を配合することにより、前記高沸点極性溶剤を含まない膜形成用組成物を用いて形成される膜よりも、前記高沸点極性溶剤を配合された膜形成用組成物を用いて形成される膜の屈折率を向上させる、膜形成用組成物の製造方法である。
The fourth aspect of the present invention is directed to a film-forming composition comprising (A) an organic resin, (B) inorganic nanoparticles, and (S) a solvent.
As said (S) solvent, the boiling point under atmospheric pressure of 170-100 degreeC or more of 20-100 mass% with respect to the sum total of the mass of said (A) organic resin and the said (B) inorganic nanoparticle is 170 degreeC or more. By blending the high boiling polar solvent, the film forming composition containing the high boiling polar solvent is used rather than the film formed using the film forming composition not containing the high boiling polar solvent. A method for producing a film-forming composition that improves the refractive index of a film to be formed.

本発明の第五の態様は、(A)有機樹脂と、(B)無機ナノ粒子と、(S)溶剤とを含む膜形成用組成物を用いて形成される膜の屈折率の改良方法であって、
前記膜形成用組成物に対して、前記(S)溶剤として、前記(A)有機樹脂の質量と前記(B)無機ナノ粒子の質量との合計に対して20〜100質量%の、大気圧下での沸点が170℃以上である高沸点極性溶剤を配合することにより、前記高沸点極性溶剤を含まない膜形成用組成物を用いて形成される膜よりも、前記高沸点極性溶剤を含む膜形成組成物を用いて形成される膜の屈折率を向上させる、膜の屈折率の改良方法である。
The fifth aspect of the present invention is a method for improving the refractive index of a film formed using a film-forming composition comprising (A) an organic resin, (B) inorganic nanoparticles, and (S) a solvent. There,
The atmospheric pressure of 20-100 mass% with respect to the sum total of the mass of the said (A) organic resin and the mass of the said (B) inorganic nanoparticle as said (S) solvent with respect to the said film formation composition. By blending a high-boiling polar solvent having a boiling point of 170 ° C. or higher below, the high-boiling polar solvent is included rather than a film formed using the film-forming composition not containing the high-boiling polar solvent. This is a method for improving the refractive index of a film, which improves the refractive index of a film formed using the film-forming composition.

本発明によれば、大気圧下での沸点が170℃以上である高沸点極性溶剤が特定量配合されることによって屈折率の改良された膜を形成できる、膜形成用組成物と、当該膜形成用組成物を用いる膜の形成方法と、当該膜形成用組成物を用いて形成された膜と、当該膜形成用組成物の製造方法と、当該膜形成用組成物を用いて形成される膜の屈折率の改良方法を提供することができる。   According to the present invention, a film-forming composition capable of forming a film having an improved refractive index by blending a specific amount of a high-boiling polar solvent having a boiling point of 170 ° C. or higher under atmospheric pressure, and the film A film forming method using the forming composition, a film formed using the film forming composition, a manufacturing method of the film forming composition, and the film forming composition are formed. A method for improving the refractive index of a film can be provided.

≪膜形成用組成物≫
本発明に係る膜形成用組成物は、(A)有機樹脂と、(B)無機ナノ粒子と、(S)溶剤とを含む。(S)溶剤は、大気圧下での沸点が170℃以上である高沸点極性溶剤を含む。ここで、(A)有機樹脂と、(B)無機ナノ粒子と、(S)溶剤とを含む膜形成用組成物に、後述する所定の量の高沸点極性溶剤が配合されることによって、膜形成用組成物を用いて形成される硬化膜の屈折率が、高沸点極性溶剤を含まない膜形成用組成物を用いて形成された硬化膜よりも高められる。本発明の膜形成用組成物を用いて形成される膜の屈折率は、一般的に、高屈折膜と呼ばれる膜である。一般的な高屈折膜の屈折率としては、1.6以上が好ましく、1.7以上、1.8以下がより好ましい。
<< Film-forming composition >>
The film forming composition according to the present invention includes (A) an organic resin, (B) inorganic nanoparticles, and (S) a solvent. (S) A solvent contains the high boiling polar solvent whose boiling point under atmospheric pressure is 170 degreeC or more. Here, the film-forming composition containing (A) an organic resin, (B) inorganic nanoparticles, and (S) a solvent is blended with a predetermined amount of a high-boiling polar solvent, which will be described later. The refractive index of the cured film formed using the forming composition is higher than that of the cured film formed using the film forming composition that does not contain a high-boiling polar solvent. The refractive index of a film formed using the film forming composition of the present invention is a film generally called a high refractive film. The refractive index of a general high refractive film is preferably 1.6 or more, more preferably 1.7 or more and 1.8 or less.

膜形成用組成物は、以上、説明した成分に加えて、(C)光重合性モノマーと、(D)光重合開始剤とを含んでいてもよい。この場合、膜形成用組成物を、感光性の膜形成用組成物とすることができる。以下、膜形成用組成物が含む成分と、膜形成用組成物の製造方法とについて、順に説明する。   The film-forming composition may contain (C) a photopolymerizable monomer and (D) a photopolymerization initiator in addition to the components described above. In this case, the film-forming composition can be a photosensitive film-forming composition. Hereinafter, the components contained in the film-forming composition and the method for producing the film-forming composition will be described in order.

〔(A)有機樹脂〕
膜形成用組成物は、(A)有機樹脂を含む。ここで有機樹脂とは、炭素原子を含む結合から構成される主鎖を有する樹脂をいう。例えば、主鎖がシロキサン結合や、−Si−Si―結合のような炭素を含まない結合からなる樹脂は、側鎖に有機基を有していても、有機樹脂には含まれない。(A)有機樹脂の種類は、従来から屈折率1.6以上の膜を形成するために用いられている膜形成用組成物に配合されている樹脂であれば特に限定されない。
[(A) Organic resin]
The composition for film formation contains (A) organic resin. Here, the organic resin refers to a resin having a main chain composed of a bond containing a carbon atom. For example, a resin whose main chain is a siloxane bond or a bond containing no carbon such as —Si—Si— bond is not included in the organic resin even if it has an organic group in the side chain. (A) The kind of organic resin will not be specifically limited if it is resin mix | blended with the composition for film formation conventionally used in order to form a film | membrane with a refractive index of 1.6 or more.

形成される膜の透明性、屈折率、機械的特性、及び耐溶剤性が良好である点と、(B)無機ナノ粒子の分散性とから、(A)有機樹脂の中では、(a1)フェノール性水酸基を有する化合物に由来する構成単位と、重合性基を有する化合物に由来する構成単位とを含む共重合体(以下、(a1)重合性フェノール性樹脂とも記す。)、及び(a2)カルド構造を有する樹脂(以下、(a2)カルド樹脂とも記す。)が好ましい。以下、(a1)重合性フェノール性樹脂、及び(a2)カルド樹脂について順に説明する。   From the point that the transparency, refractive index, mechanical properties and solvent resistance of the film to be formed are good, and (B) the dispersibility of the inorganic nanoparticles, (A) among the organic resins, (a1) A copolymer comprising a structural unit derived from a compound having a phenolic hydroxyl group and a structural unit derived from a compound having a polymerizable group (hereinafter, also referred to as (a1) polymerizable phenolic resin), and (a2) A resin having a cardo structure (hereinafter also referred to as (a2) cardo resin) is preferable. Hereinafter, (a1) polymerizable phenolic resin and (a2) cardo resin will be described in order.

((a1)重合性フェノール性樹脂)
(a1)重合性フェノール性樹脂は、所定の官能基を有する構成単位を含んでいれて特に限定されず、(メタ)アクリル酸エステルのような不飽和化合物の重合体であってもよく、ポリカーボネートやポリエステルのような重縮合ポリマーであってもよい。(a1)重合性フェノール性樹脂の中では、樹脂の調製や入手が容易である点や、形成される膜の透明性の点から、不飽和化合物の重合体が好ましい。
((A1) polymerizable phenolic resin)
The (a1) polymerizable phenolic resin includes a structural unit having a predetermined functional group and is not particularly limited. The polymerizable phenolic resin may be a polymer of an unsaturated compound such as a (meth) acrylic acid ester. Or a polycondensation polymer such as polyester. Among (a1) polymerizable phenolic resins, an unsaturated compound polymer is preferred from the viewpoint of easy preparation and availability of the resin and transparency of the formed film.

(a1)重合性フェノール性樹脂は、ランダム共重合体であっても、ブロック共重合体であってもよい。(a1)重合性フェノール性樹脂における、フェノール性水酸基を有する化合物に由来する構成単位の量は、樹脂中の全構成単位のモル数に対して、20〜50モル%が好ましい。また、(a1)重合性フェノール性樹脂における、重合性基を有する化合物に由来する構成単位の量は、樹脂中の全構成単位のモル数に対して、50〜80モル%が好ましい。(a1)重合性フェノール性樹脂が、このような範囲の量の、フェノール性水酸基を有する化合物に由来する構成単位と、重合性基を有する化合物に由来する構成単位とを含む場合、機械的特性及び透過率に優れる膜を形成しやすい。   (A1) The polymerizable phenolic resin may be a random copolymer or a block copolymer. (A1) The amount of the structural unit derived from the compound having a phenolic hydroxyl group in the polymerizable phenolic resin is preferably 20 to 50 mol% with respect to the number of moles of all the structural units in the resin. Moreover, the amount of the structural unit derived from the compound having a polymerizable group in the polymerizable phenolic resin (a1) is preferably 50 to 80 mol% with respect to the number of moles of all the structural units in the resin. (A1) When the polymerizable phenolic resin contains a structural unit derived from a compound having a phenolic hydroxyl group and a structural unit derived from a compound having a polymerizable group in such an amount, mechanical properties And it is easy to form a film having excellent transmittance.

(a1)重合性フェノール性樹脂の質量平均分子量(Mw:ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)のポリスチレン換算による測定値)は、10,000〜30,000が好ましい。このような範囲の分子量の(a1)重合性フェノール性樹脂を用いる場合、膜形成用組成物の塗布性と、膜形成用組成物を用いて形成される膜の機械的性質とを両立させやすい。   (A1) The mass average molecular weight of the polymerizable phenolic resin (Mw: measured value by gel permeation chromatography (GPC) in terms of polystyrene) is preferably 10,000 to 30,000. When (a1) polymerizable phenolic resin having a molecular weight in such a range is used, it is easy to achieve both the applicability of the film-forming composition and the mechanical properties of the film formed using the film-forming composition. .

(a1)重合性フェノール性樹脂が不飽和化合物の重合体である場合、フェノール性水酸基を有する化合物に由来する構成単位を与える化合物は特に限定されず、例えば、ビニルフェノール類、アリルフェノール類、ビニロキシフェノール類、アリルオキシフェノール類、及びヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート等が挙げられる。   (A1) When the polymerizable phenolic resin is a polymer of an unsaturated compound, the compound that gives the structural unit derived from the compound having a phenolic hydroxyl group is not particularly limited. For example, vinylphenols, allylphenols, vinyls Examples include loxyphenols, allyloxyphenols, and hydroxyphenyl (meth) acrylate.

(a1)重合性フェノール性樹脂が不飽和化合物の重合体である場合、重合性基を有する化合物に由来する構成単位について、重合性基は、重合性基同士又は重合性基と他の官能基とで架橋反応できる基であれば特に限定されない。重合性基としては、重合性基同士で熱架橋反応できる官能基や、フェノール性水酸基と熱架橋反応可能な官能基が好ましい。熱架橋性の重合性基の中では、反応性に優れる点から、エポキシ基又はオキセタニル基が好ましい。   (A1) When the polymerizable phenolic resin is a polymer of an unsaturated compound, with respect to the structural unit derived from the compound having a polymerizable group, the polymerizable group is either a polymerizable group or a polymerizable group and another functional group. The group is not particularly limited as long as it can undergo a crosslinking reaction. As the polymerizable group, a functional group capable of undergoing a thermal crosslinking reaction between the polymerizable groups or a functional group capable of undergoing a thermal crosslinking reaction with a phenolic hydroxyl group is preferable. Among the thermally crosslinkable polymerizable groups, an epoxy group or an oxetanyl group is preferable from the viewpoint of excellent reactivity.

(a1)重合性フェノール性樹脂の中では、以下の式(1)で表される単位と、式(2)で表される単位とからなる樹脂が好ましい。(a1)重合性フェノール性樹脂は、式(1)で表される単位を、1種又は2種以上を組見合わせて含んでいてもよい。

Figure 0006238593
Among the polymerizable phenolic resins (a1), a resin composed of a unit represented by the following formula (1) and a unit represented by the formula (2) is preferable. (A1) The polymerizable phenolic resin may contain one or more units represented by the formula (1) in combination.
Figure 0006238593

式(1)及び式(2)中、Rはそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表し、Rは単結合又は炭素原子数1〜5のアルキレン基を表し、Rは、炭素原子数1〜5のアルキル基を表し、Rは、熱架橋性を有する1価の有機基を表し、aは1〜5の整数を表し、bは0〜4の整数を表し、a+bは5以下である。 In Formula (1) and Formula (2), R 0 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, R 1 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and R 2 represents a carbon atom. represents the number of 1 to 5 alkyl groups, R 3 represents a monovalent organic group having a heat crosslinking, a is an integer of 1-5, b represents an integer of 0 to 4, a + b is 5 It is as follows.

式(1)で表される単位において、Rはメチル基であるのが好ましい。 In the unit represented by the formula (1), R 0 is preferably a methyl group.

は、単結合又は炭素原子数1〜5のアルキレン基を表す。アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、n−ブチレン基、イソブチレン基、tert−ブチレン基、ペンチレン基、イソペンチレン基、及びネオペンチレン基等が挙げられる。アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基が好ましい。 R 1 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms. Examples of the alkylene group include a methylene group, ethylene group, propylene group, isopropylene group, n-butylene group, isobutylene group, tert-butylene group, pentylene group, isopentylene group, and neopentylene group. As the alkylene group, a methylene group and an ethylene group are preferable.

式(1)で表される単位が有するベンゼン環には、少なくとも1つの水酸基が結合している。水酸基の結合数を示すaは、1〜5の整数であり、1がより好ましい。式(1)で表される単位は、−O−R−で表される2価基がベンゼン環と結合する位置を1位とする場合に、ベンゼン環上の4位に水酸基を有するのが好ましい。 At least one hydroxyl group is bonded to the benzene ring of the unit represented by the formula (1). A which shows the number of bonds of a hydroxyl group is an integer of 1-5, and 1 is more preferable. The unit represented by the formula (1) has a hydroxyl group at the 4-position on the benzene ring when the position where the divalent group represented by —O—R 1 — is bonded to the benzene ring is the 1-position. Is preferred.

式(1)で表される単位が有するベンゼン環には、Rとして、炭素原子数1〜5の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が結合していてもよい。アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、及びネオペンチル基等が挙げられる。Rとしては、メチル基、又はエチル基が好ましい。bは0〜4の整数を表し、0がより好ましい。 A linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms may be bonded as R 2 to the benzene ring of the unit represented by the formula (1). Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, and neopentyl group. R 2 is preferably a methyl group or an ethyl group. b represents an integer of 0 to 4, and 0 is more preferable.

式(1)で表される単位としては、以下の式(a1−1)又は式(a1−2)で表される単位が好ましい。

Figure 0006238593
The unit represented by the formula (1) is preferably a unit represented by the following formula (a1-1) or formula (a1-2).
Figure 0006238593

式(2)で表される単位において、R及びRは、式(1)で表される単位において説明したR及びRと同様である。式(2)で表される単位は、Rとして、熱架橋性を有する1価の有機基を有する。熱架橋性基は、熱を加えることにより、架橋する基のことをいう。熱架橋性基としては、エポキシ基、オキセタニル基のいずれかを含む有機基が好ましい。これらの中でも、反応性の点から、Rとしては、エポキシ基を有する有機基が好ましい。(a1)反応性フェノール性樹脂は、式(2)で表される単位を、1種又は2種以上を組見合わせて含んでいてもよい。 In the unit represented by the formula (2), R 0 and R 1 are the same as R 0 and R 1 described in unit represented by formula (1). The unit represented by the formula (2) has a monovalent organic group having thermal crosslinkability as R 3 . A heat-crosslinkable group refers to a group that crosslinks when heated. As the thermally crosslinkable group, an organic group containing either an epoxy group or an oxetanyl group is preferable. Among these, from the viewpoint of reactivity, R 3 is preferably an organic group having an epoxy group. (A1) The reactive phenolic resin may contain one or more units represented by the formula (2) in combination.

式(2)で表される単位としては、下記の式(a1−3)〜(a1−15)で表される単位が好ましい。   As the unit represented by the formula (2), units represented by the following formulas (a1-3) to (a1-15) are preferable.

Figure 0006238593
Figure 0006238593

Figure 0006238593
Figure 0006238593

上記式(a1−3)〜(a1−15)において、R及びRについては式(1)及び式(2)と同様である。Rは、それぞれ独立に、炭素原子数1〜20のアルキレン基を表す。Rは、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。Rは、それぞれ独立に、炭素原子数1〜8のアルキレン基を表す。wは0〜10の整数を表す。 In the above formulas (a1-3) to (a1-15), R 0 and R 1 are the same as those in the formulas (1) and (2). R 4 each independently represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms. R 5 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group. R 6 independently represents an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms. w represents an integer of 0 to 10.

上記式(a1−3)〜(a1−15)で表される単位の中では、式(a1−3)で表される単位、式(a1−4)で表される単位、及び式(a1−)で表される単位が好ましい。式(a1−3)で表される単位、及び式(a1−4)で表される単位の中では、Rがメチル基である単位が好ましい。式(a1−5)で表される単位の中では、Rがメチル基であり、Rがメチレン基である単位が好ましい。 Among the units represented by the above formulas (a1-3) to (a1-15), a unit represented by the formula (a1-3), a unit represented by the formula (a1-4), and the formula (a1 -The unit represented by 5 ) is preferable. Of the units represented by the formula (a1-3) and the units represented by the formula (a1-4), a unit in which R 0 is a methyl group is preferable. Among the units represented by formula (a1-5), a unit in which R 0 is a methyl group and R 1 is a methylene group is preferable.

((a2)カルド樹脂)
カルド樹脂は、9,9−ジフェニルフルオレンを母核とするカルド構造を含む樹脂であれば特に限定されない。カルド樹脂の中でも、下記式(a−1)で表される樹脂が好ましい。
((A2) cardo resin)
The cardo resin is not particularly limited as long as it contains a cardo structure having 9,9-diphenylfluorene as a core. Among the cardo resins, a resin represented by the following formula (a-1) is preferable.

Figure 0006238593
Figure 0006238593

上記式(a−1)中、Xは、下記式(a−2)で表される基を示す。 In the formula (a-1), X a represents a group represented by the following formula (a-2).

Figure 0006238593
Figure 0006238593

上記式(a−2)中、Ra1は、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数1〜6の炭化水素基、又はハロゲン原子を示し、Ra2は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Wは、単結合又は下記式(a−3)で表される基を示す。 In the formula (a-2), R a1 independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom, and R a2 independently represents a hydrogen atom or a methyl group. , W a represents a single bond or a group represented by the following formula (a-3).

Figure 0006238593
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また、上記式(a−1)中、Yは、ジカルボン酸無水物から酸無水物基(−CO−O−CO−)を除いた残基を示す。ジカルボン酸無水物の例としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水グルタル酸等が挙げられる。 In the formula (a-1), Y a represents a residue obtained by removing an acid anhydride group (—CO—O—CO—) from a dicarboxylic acid anhydride. Examples of dicarboxylic acid anhydrides include maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, chlorendic anhydride, methyltetrahydro Examples thereof include phthalic anhydride and glutaric anhydride.

また、上記式(a−1)中、Zは、テトラカルボン酸二無水物から2個の酸無水物基を除いた残基を示す。テトラカルボン酸二無水物の例としては、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
また、上記式(a−1)中、mは、0〜20の整数を示す。
Further, in the above formula (a-1), Z a represents a residue obtained by removing two acid anhydride groups from a tetracarboxylic acid dianhydride. Examples of tetracarboxylic dianhydrides include pyromellitic dianhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, biphenyl tetracarboxylic dianhydride, biphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, and the like.
Moreover, in said formula (a-1), m shows the integer of 0-20.

(a2)カルド樹脂の質量平均分子量は、1000〜40000であることが好ましく、2000〜30000であることがより好ましい。上記の範囲内の分子量のカルド樹脂を用いることで、十分な耐熱性、及び膜強度を備える膜を形成可能な膜形成用組成物を得ることができる。   (A2) The mass average molecular weight of the cardo resin is preferably 1000 to 40000, more preferably 2000 to 30000. By using a cardo resin having a molecular weight within the above range, a film-forming composition capable of forming a film having sufficient heat resistance and film strength can be obtained.

以上説明した(A)有機樹脂の、膜形成用組成物中の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。膜形成用組成物中の(A)有機樹脂の含有量は、(A)有機樹脂の質量と、(B)無機ナノ粒子の質量との合計に対して、60質量%以下が好ましく、10〜60質量%がより好ましく、10〜50質量%がさらに好ましく、10〜30質量%が最も好ましい。このような範囲の量の(A)有機樹脂を膜形成用組成物に配合することで、膜形成用組成物を用いて形成される膜の屈折率を所望する値としつつ、膜形成用組成物の塗布性と、形成される膜の強度とを良好にすることができる。   The content of the organic resin (A) described above in the film-forming composition is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. The content of the (A) organic resin in the film-forming composition is preferably 60% by mass or less, based on the total of the mass of (A) the organic resin and (B) the mass of the inorganic nanoparticles. 60 mass% is more preferable, 10-50 mass% is further more preferable, and 10-30 mass% is the most preferable. By blending the amount of (A) organic resin in such a range into the film-forming composition, the film-forming composition can be obtained while setting the refractive index of the film formed using the film-forming composition to a desired value. The applicability of the object and the strength of the formed film can be improved.

〔(B)無機ナノ粒子〕
(B)無機ナノ粒子は、膜形成用組成物を用いて形成される膜の高屈折率化に寄与する成分である。また、(B)無機ナノ粒子を膜形成用組成物に含有させることで、硬度及び耐光性に優れる膜を形成することができる。
[(B) Inorganic nanoparticles]
(B) Inorganic nanoparticles are components that contribute to increasing the refractive index of a film formed using the film-forming composition. Moreover, the film | membrane excellent in hardness and light resistance can be formed by making the composition for film formation contain the (B) inorganic nanoparticle.

上記(B)無機ナノ粒子の平均粒子サイズは、膜の透明性確保の点から、500nm以下が好ましく、2〜100nmが好ましい。   The average particle size of the (B) inorganic nanoparticles is preferably 500 nm or less, and preferably 2 to 100 nm, from the viewpoint of ensuring the transparency of the film.

(B)無機ナノ粒子としては、金属酸化物の微粒子であることが好ましい。金属酸化物の好適な例としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、チタン酸バリウム、酸化セリウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化タンタル、酸化マンガン、酸化ニッケル、酸化鉄、酸化ケイ素、酸化ニオブ、酸化ランタン及び酸化ガドリニウム等が挙げられる。これらの中では、特に屈折率の高い膜を形成しやすいことから、酸化チタン又は酸化ジルコニウムが好ましい。(B)無機ナノ粒子は、2種以上を混合して用いることもできる。また、(B)無機ナノ粒子は、上記の材質のうちの2種以上が複合化された複合粒子を含んでいてもよい。   (B) The inorganic nanoparticles are preferably metal oxide fine particles. Suitable examples of the metal oxide include titanium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, barium titanate, cerium oxide, tin oxide, zinc oxide, tantalum oxide, manganese oxide, nickel oxide, iron oxide, silicon oxide, niobium oxide, Examples thereof include lanthanum oxide and gadolinium oxide. Among these, titanium oxide or zirconium oxide is preferable because it is easy to form a film having a particularly high refractive index. (B) Two or more kinds of inorganic nanoparticles can be mixed and used. Moreover, (B) inorganic nanoparticles may contain composite particles in which two or more of the above materials are combined.

膜形成用組成物中の(B)無機ナノ粒子の含有量は、膜形成用組成物を用いて所望する改良された屈折率の膜を形成できる限り特に限定されない。膜形成用組成物中の(B)無機ナノ粒子の含有量は、(A)有機樹脂の質量と、(B)無機ナノ粒子の質量との合計に対して、40質量%以上が好ましく、40〜90質量%がより好ましく、50〜90質量%がさらに好ましく、70〜90質量%が最も好ましい。このような範囲の量の(B)無機ナノ粒子を膜形成用組成物に配合することで、膜形成用組成物を用いて形成される膜の屈折率を所望する値としつつ、膜形成用組成物の塗布性と、形成される膜の強度とを良好にすることができる。   The content of (B) inorganic nanoparticles in the film-forming composition is not particularly limited as long as a film having an improved refractive index desired can be formed using the film-forming composition. The content of (B) inorganic nanoparticles in the film-forming composition is preferably 40% by mass or more based on the total of (A) the mass of the organic resin and (B) the mass of the inorganic nanoparticles. -90 mass% is more preferable, 50-90 mass% is further more preferable, and 70-90 mass% is the most preferable. By blending the amount of (B) inorganic nanoparticles in such a range into the film-forming composition, the refractive index of the film formed using the film-forming composition is set to a desired value, and the film-forming composition is used. The applicability | paintability of a composition and the intensity | strength of the film | membrane formed can be made favorable.

〔(S)溶剤〕
(S)溶剤は、大気圧下での沸点が170℃以上である高沸点極性溶剤を含む。高沸点極性溶剤の沸点は190℃以上であるのがより好ましい。また、高沸点極性溶剤の沸点は300℃以下が好ましく、250℃以下がより好ましい。
[(S) solvent]
(S) A solvent contains the high boiling polar solvent whose boiling point under atmospheric pressure is 170 degreeC or more. The boiling point of the high boiling polar solvent is more preferably 190 ° C. or higher. Further, the boiling point of the high boiling polar solvent is preferably 300 ° C. or less, and more preferably 250 ° C. or less.

高沸点極性溶剤としては、従来から、当業者に極性溶剤として広く知られるものであって、所定の沸点を有する溶剤であれば特に限定されない。高沸点極性溶剤としては、SP値が10(cal/cm1/2であるのものが好ましく、10〜30(cal/cm1/2であるのものがより好ましく、10〜24(cal/cm1/2 以上であるのものが特に好ましい。 The high-boiling polar solvent is not particularly limited as long as it has been widely known to those skilled in the art as a polar solvent and has a predetermined boiling point. As the high-boiling polar solvent, those having an SP value of 10 (cal / cm 3 ) 1/2 are preferable, those having 10 to 30 (cal / cm 3 ) 1/2 are more preferable, and 10 to 24 Those having (cal / cm 3 ) 1/2 or more are particularly preferred.

このような沸点を有する高沸点極性溶剤を、膜形成用組成物に所定量配合することによって、膜形成用組成物を用いて形成される膜の屈折率を顕著に改善することができる。また、このような沸点を有する高沸点極性溶剤を用いると、塗布膜を形成する際のビードの発生や、形成される膜における白濁を抑制しやすい。   By blending a predetermined amount of the high boiling polar solvent having such a boiling point into the film forming composition, the refractive index of the film formed using the film forming composition can be remarkably improved. In addition, when a high-boiling polar solvent having such a boiling point is used, it is easy to suppress the generation of beads when forming a coating film and the cloudiness in the formed film.

溶解性パラメータとして知られるSP値(cal/cm1/2は、複数の物質の相溶性及び親和性の指標として用いられるものであり、下記式(I)に表される式で定義される。
δ=(ΔEV/V0)1/2÷2.046[(cal/cm1/2]・・・(I)
The SP value (cal / cm 3 ) 1/2 known as the solubility parameter is used as an indicator of the compatibility and affinity of a plurality of substances, and is defined by the formula represented by the following formula (I). The
δ = (ΔEV / V0) 1/2 ÷ 2.046 [(cal / cm 3 ) 1/2 ] (I)

式(I)において、ΔEV[10N・m・mol−1]は溶剤の蒸発熱であり、V0[m・mol―1]は溶剤の1molあたりの体積である。二つの物質のSP値の差は、その二つの物質が相溶するために必要なエネルギーと密接な関係が有り、SP値の差が小さいほど二つの物質が相溶するために必要なエネルギーは小さなものとなる。すなわち、二つの物質が存在した場合、一般に、SP値の差が小さいほど、親和性が高く、相溶性が高いものとなる。 In the formula (I), ΔEV [10 6 N · m · mol −1 ] is the heat of evaporation of the solvent, and V0 [m 3 · mol −1 ] is the volume per 1 mol of the solvent. The difference in SP value between two substances is closely related to the energy required for the two substances to be compatible. The smaller the SP value is, the less energy is required for the two substances to be compatible. It will be small. That is, when two substances are present, generally, the smaller the difference in SP value, the higher the affinity and the higher the compatibility.

SP値は、実験によって求めることもできるが、計算によって求めることもできる。計算によってSP値を求める方法は、いくつか提案されており、例えば、比較的高分量の材料に関しては、Smallの方法(P.A.Small:J.Appl.Chem,3,71(1953))を用いることができる。また、比較的低分子量の材料に関しては、HIldebrandの方法(J.H.HIldebrand and R.L.Scott:The SolubIlIty of Non−Electrolytes,ACS Monograph SerIes,1950)を用いることができる。これらの方法を用いることにより、SP値をより妥当な値として得ることができ、溶解パラメータを求めることが容易なものとなる。   The SP value can be obtained by experiments, but can also be obtained by calculation. Several methods for obtaining the SP value by calculation have been proposed. For example, for a relatively high amount of material, the Small method (PA Small: J. Appl. Chem, 3, 71 (1953)). Can be used. For relatively low molecular weight materials, the HIdebrand method (JH HIldbrand and RL Scott: The SolbIlty of Non-Electrolytes, ACS Monograph SerIs, 1950) can be used. By using these methods, the SP value can be obtained as a more appropriate value, and the dissolution parameter can be easily obtained.

高沸点極性溶剤の具体例としては、下記表1に示す溶剤が挙げられる。表1中の沸点は、大気圧下での沸点である。

Figure 0006238593
Specific examples of the high boiling polar solvent include the solvents shown in Table 1 below. The boiling points in Table 1 are the boiling points under atmospheric pressure.
Figure 0006238593

膜形成組成物中の前記高沸点極性溶剤の含有量は、前記(A)有機樹脂の質量と前記(B)無機ナノ粒子の質量との合計に対して10〜100質量%であり、20〜80質量%であることが好ましい。高沸点極性溶剤の含有量が10質量%以上であることで、膜形成組成物を用いて形成される膜の高屈折率化の効果が得られ、100質量%以下であることで、組成物の塗布性能と膜の透明性を維持することができる。   The content of the high-boiling polar solvent in the film-forming composition is 10 to 100% by mass with respect to the total of the mass of the (A) organic resin and the mass of the (B) inorganic nanoparticles, and 20 to 20%. It is preferable that it is 80 mass%. When the content of the high-boiling polar solvent is 10% by mass or more, the effect of increasing the refractive index of the film formed using the film-forming composition is obtained, and when the content is 100% by mass or less, the composition The coating performance and transparency of the film can be maintained.

(S)溶剤は、高沸点極性溶剤とともに、樹脂や無機ナノ粒子の溶解性の改善や、膜形成組成物の濃度の調整のために、従来から、膜形成用組成物に配合されていた高沸点極性溶剤以外の他の溶剤を含んでいてもよい。   (S) Solvents, together with high-boiling polar solvents, have been conventionally blended into film-forming compositions to improve the solubility of resins and inorganic nanoparticles and to adjust the concentration of film-forming compositions. A solvent other than the boiling polar solvent may be included.

高沸点極性溶剤以外の他の溶剤の例としては、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシ−1−ブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシ−1−ブチルアセテート、アセト酢酸エチル、炭酸プロピレン等、メチルイソブチルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、アセチルアセトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジn−ブチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、トルエン、キシレン、安息香酸エチル、ナフタレン、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン等が挙げられる。   Examples of solvents other than the high boiling polar solvent include ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxy-1-butyl acetate, 3- Methyl-3-methoxy-1-butyl acetate, ethyl acetoacetate, propylene carbonate, etc., methyl isobutyl ketone, diisopropyl ketone, diisobutyl ketone, acetylacetone, cyclopentanone, cyclohexanone, cycloheptanone, diethyl ether, diisopropyl ether, di-n- Butyl ether, diphenyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether , Toluene, xylene, ethyl benzoate, naphthalene, 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene and the like.

膜形成用組成物中の(S)溶剤の総量は特に限定されず、膜形成用組成物の固形分濃度を勘案して適宜定められる。膜形成用組成物の固形分濃度は、1〜50質量%が好ましく、2〜50質量%がより好ましい。   The total amount of the (S) solvent in the film-forming composition is not particularly limited, and is appropriately determined in consideration of the solid content concentration of the film-forming composition. 1-50 mass% is preferable and, as for solid content concentration of the composition for film formation, 2-50 mass% is more preferable.

膜形成用組成物は、以上説明した成分の他に、感光性(光重合性能)を持たせる目的で、(C)光重合性モノマー、(D)光重合開始剤等を含んでいてもよい。   In addition to the components described above, the film-forming composition may contain (C) a photopolymerizable monomer, (D) a photopolymerization initiator, etc. for the purpose of imparting photosensitivity (photopolymerization performance). .

〔(C)光重合性モノマー〕
(C)光重合性モノマーとしては、特に限定されず、従来公知の単官能モノマー、多官能モノマーを用いることができる。
[(C) Photopolymerizable monomer]
(C) It does not specifically limit as a photopolymerizable monomer, A conventionally well-known monofunctional monomer and a polyfunctional monomer can be used.

単官能モノマーとしては、(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、エトキシメチル(メタ)アクリルアミド、プロポキシメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、tert−ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノ(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、フタル酸誘導体のハーフ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの単官能モノマーは、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。   Monofunctional monomers include (meth) acrylamide, methylol (meth) acrylamide, methoxymethyl (meth) acrylamide, ethoxymethyl (meth) acrylamide, propoxymethyl (meth) acrylamide, butoxymethoxymethyl (meth) acrylamide, N-methylol ( (Meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, (meth) acrylic acid, fumaric acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, crotonic acid, 2-acrylamide- 2-methylpropane sulfonic acid, tert-butylacrylamide sulfonic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate Cyclohexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (Meth) acryloyloxy-2-hydroxypropyl phthalate, glycerin mono (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, dimethylamino (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl ( And (meth) acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, and half (meth) acrylate of a phthalic acid derivative. These monofunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.

一方、多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイルオキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ(メタ)アクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート(すなわち、トリレンジイソシアネート)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートとヘキサメチレンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応物、メチレンビス(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミドメチレンエーテル、多価アルコールとN−メチロール(メタ)アクリルアミドとの縮合物等の多官能モノマーや、トリアクリルホルマール等が挙げられる。これらの多官能モノマーは、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。   On the other hand, as the polyfunctional monomer, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, butylene glycol Di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexane glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol Tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol di (meta Acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloxydi Ethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di (meth) Acrylate, diethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, diglycidyl phthalate ester di (meth) acrylate, glycerin triacrylate, glycerin polyglycidyl ether poly (Meth) acrylate, urethane (meth) acrylate (ie, tolylene diisocyanate), reaction product of trimethylhexamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, methylenebis (meth) acrylamide, (meth) acrylamide methylene Examples thereof include polyfunctional monomers such as ethers, polyhydric alcohols and N-methylol (meth) acrylamide condensates, and triacryl formal. These polyfunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.

(C)光重合性モノマーの含有量は、(A)有機樹脂に対して0質量%超、150質量%以下が好ましく、0質量%超、100質量%以下がより好ましい。上記の範囲の量の(C)光重合性モノマーを用いることにより、露光により良好に硬化する膜形成用組成物を得やすい。   (C) The content of the photopolymerizable monomer is preferably more than 0% by mass and 150% by mass or less, and more preferably more than 0% by mass and 100% by mass or less with respect to (A) the organic resin. By using the photopolymerizable monomer (C) in an amount in the above range, it is easy to obtain a film-forming composition that is cured well by exposure.

〔(D)光重合開始剤〕
(D)光重合開始剤としては、特に限定されず、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。
[(D) Photopolymerization initiator]
(D) It does not specifically limit as a photoinitiator, A conventionally well-known photoinitiator can be used.

光重合開始剤として具体的には、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−〔4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、ビス(4−ジメチルアミノフェニル)ケトン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾル−3−イル],1−(o−アセチルオキシム)、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4−ベンゾイル−4’−メチルジメチルスルフィド、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、4−ジメチルアミノ−2−エチルヘキシル安息香酸、4−ジメチルアミノ−2−イソアミル安息香酸、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、o−ベンゾイル安息香酸メチル、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、2−クロロチオキサンテン、2,4−ジエチルチオキサンテン、2−メチルチオキサンテン、2−イソプロピルチオキサンテン、2−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンパーオキシド、2−メルカプトベンゾイミダール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(メトキシフェニル)イミダゾール二量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン(すなわち、ミヒラーズケトン)、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン(すなわち、エチルミヒラーズケトン)、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、3,3−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−tert−ブチルトリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、α,α−ジクロロ−4−フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、9−フェニルアクリジン、1,7−ビス−(9−アクリジニル)ヘプタン、1,5−ビス−(9−アクリジニル)ペンタン、1,3−ビス−(9−アクリジニル)プロパン、p−メトキシトリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(5−メチルフラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(フラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−n−ブトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)フェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(2−ブロモ−4−メトキシ)フェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)スチリルフェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(2−ブロモ−4−メトキシ)スチリルフェニル−s−トリアジン、「IRGACURE OXE02」、「IRGACURE OXE01」、「IRGACURE 369」、「IRGACURE 651」、「IRGACURE 907」(商品名:BASF製)、「NCI−831」(商品名:ADEKA製)等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。   Specific examples of the photopolymerization initiator include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, and 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2- Hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2 -Methylpropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, bis (4-dimethylaminophenyl) ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl]- 2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, ethanone 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl], 1- (o-acetyloxime), 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 4-benzoyl- 4′-methyldimethylsulfide, 4-dimethylaminobenzoic acid, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, butyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylamino-2-ethylhexylbenzoic acid, 4 -Dimethylamino-2-isoamylbenzoic acid, benzyl-β-methoxyethyl acetal, benzyldimethyl ketal, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, methyl o-benzoylbenzoate, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone , 2,4-dimethylthioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, thioxanthene, 2-chlorothioxanthene, 2,4-diethylthioxanthene, 2-methylthioxanthene, 2-isopropylthioxanthene, 2-ethylanthraquinone , Octamethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone, azobisisobutyronitrile, benzoyl peroxide, cumene peroxide, 2-mercaptobenzoimidar, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercapto Benzothiazole, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-di (methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (o-fluorophe ) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (p-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer 2,4,5-triarylimidazole dimer, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4,4′-bisdimethylaminobenzophenone (ie, Michler's ketone), 4,4′-bisdiethylaminobenzophenone (ie, ethyl Michler's) Ketone), 4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether , Benzoin butyl ether, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, dichloroacetophenone, trichloroacetophenone, p-tert-butylacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, p-tert- Butyltrichloroacetophenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, α, α-dichloro-4-phenoxyacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, dibenzosuberone, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, 9-phenyl Acridine, 1,7-bis- (9-acridinyl) heptane, 1,5-bis- (9-acridinyl) pentane, 1,3-bis- (9- Cridinyl) propane, p-methoxytriazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (5 -Methylfuran-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl)- s-triazine, 2- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl ] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4- Toxistyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-n-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl -6- (3-bromo-4-methoxy) phenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (2-bromo-4-methoxy) phenyl-s-triazine, 2,4-bis- Trichloromethyl-6- (3-bromo-4-methoxy) styrylphenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (2-bromo-4-methoxy) styrylphenyl-s-triazine, “IRGACURE OXE02, IRGACURE OXE01, IRGACURE 369, IRGACURE 651, IRGAC RE 907 "(trade name: manufactured by BASF)," NCI-831 "(trade name: ADEKA Co., Ltd.), and the like. These photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.

光重合開始剤の含有量は、(A)有機樹脂の質量に対して0.5〜20質量%であることが好ましい。上記の範囲とすることにより、十分な耐熱性、耐薬品性を得ることができ、また塗膜形成能を向上させ、硬化不良を抑制することができる。   It is preferable that content of a photoinitiator is 0.5-20 mass% with respect to the mass of (A) organic resin. By setting it as said range, sufficient heat resistance and chemical-resistance can be acquired, a coating-film formation ability can be improved, and hardening failure can be suppressed.

〔(E)その他の成分〕
膜形成用組成物は、以上説明した成分の他に、従来から膜形成用組成物に使用されている種々の添加剤を含んでいてもよい。膜形成用組成物に配合される添加剤として好ましいものとしては、界面活性剤が挙げられる。界面活性剤としては、特に限定されず、フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤等の公知の成分を用いることができる。膜形成用組成物が界面活性剤を含有する場合、膜形成用組成物をスピンコーターにより塗布する際の、塗布膜の膜厚のむらが抑制される。
[(E) Other ingredients]
The film-forming composition may contain various additives conventionally used in film-forming compositions, in addition to the components described above. A preferable example of the additive added to the film-forming composition is a surfactant. The surfactant is not particularly limited, and known components such as a fluorine-based surfactant and a silicon-based surfactant can be used. When the film-forming composition contains a surfactant, unevenness of the coating film thickness when the film-forming composition is applied by a spin coater is suppressed.

〔膜形成用組成物の製造方法〕
以上説明した成分を、それぞれ所定量混合したのち、混合物を均一に撹拌して、膜形成用組成物が得られる。
[Method for producing film-forming composition]
After a predetermined amount of each of the components described above is mixed, the mixture is uniformly stirred to obtain a film-forming composition.

≪膜の形成方法≫
以上説明した膜形成用組成物を用いて、膜を形成する方法は、所望する膜厚及び特性の膜を形成できる方法であれば特に限定されない。膜は、通常、膜形成用組成物を塗布して塗布膜を形成する工程と、形成された塗布膜を乾燥させる工程と、を含む方法により形成される。
<< Film Formation Method >>
A method for forming a film using the film forming composition described above is not particularly limited as long as it can form a film having a desired film thickness and characteristics. The film is usually formed by a method including a step of applying a film-forming composition to form a coating film and a step of drying the formed coating film.

膜形成用組成物の塗布方法としては、ロールコータ、リバースコータ、バーコータ等の接触転写型塗布装置や、スピンナー(回転式塗布装置)、カーテンフローコータ等の非接触型塗布装置を用いる方法が挙げられる。   Examples of the method for applying the film-forming composition include a method using a contact transfer type coating device such as a roll coater, reverse coater or bar coater, or a non-contact type coating device such as a spinner (rotary coating device) or a curtain flow coater. It is done.

次いで、このようにして形成された塗布膜を乾燥させて、膜が形成される。塗布膜を乾燥させる方法は特に限定されず、減圧や、加熱等が挙げられ、加熱が好ましい。膜形成用組成物は、大気圧下での沸点が170℃以上である高沸点極性溶剤を含んでいるため、塗布膜を乾燥させる際の温度は、70〜150℃が好ましく、80〜120℃がより好ましい。   Next, the coating film thus formed is dried to form a film. The method for drying the coating film is not particularly limited, and examples thereof include reduced pressure and heating, and heating is preferable. Since the film-forming composition contains a high-boiling polar solvent having a boiling point of 170 ° C. or higher under atmospheric pressure, the temperature when drying the coating film is preferably 70 to 150 ° C., and 80 to 120 ° C. Is more preferable.

膜形成用組成物が、エポキシ基のような熱架橋性の重合性基を有する(A)有機樹脂を含む場合、上記の塗布後の乾燥用の加熱に加えて、さらに、加熱硬化処理を加えてもよい。加熱硬化処理の加熱温度としては、150〜250℃が好ましく、200〜250℃がより好ましい。この加熱硬化処理により、有機樹脂の架橋が進行し、形成される膜の機械的性質を向上させることができる。   When the film-forming composition contains (A) an organic resin having a thermally crosslinkable polymerizable group such as an epoxy group, in addition to the heating for drying after the application, a heat curing treatment is further added. May be. As heating temperature of heat-hardening process, 150-250 degreeC is preferable and 200-250 degreeC is more preferable. By this heat curing treatment, the crosslinking of the organic resin proceeds, and the mechanical properties of the formed film can be improved.

膜形成用組成物が、(C)光重合性モノマーと、(D)光重合開始剤とを含む感光性組成物である場合、塗布膜の乾燥前後、塗布膜を露光してもよい。塗布膜の露光は、例えば、紫外線、エキシマレーザー光等の活性エネルギー線を照射して行われる。   When the film-forming composition is a photosensitive composition containing (C) a photopolymerizable monomer and (D) a photopolymerization initiator, the coating film may be exposed before and after drying the coating film. The coating film is exposed by irradiating active energy rays such as ultraviolet rays and excimer laser light.

塗布膜の露光は、例えば、マスクを介する露光のような方法により、位置選択的に行われてもよい。塗布膜の露光を一選択的に行う場合、膜形成用組成物に含まれる(A)有機樹脂の種類等を勘案して選択された現像液を用いて露光後の塗布膜を現像して未露光部を除去することで、パターン化された膜を形成することができる。   The coating film may be exposed in a position-selective manner, for example, by a method such as exposure through a mask. When the coating film is selectively exposed, the exposed coating film is not developed by using a developer selected in consideration of the type of (A) organic resin contained in the film-forming composition. By removing the exposed portion, a patterned film can be formed.

膜形成用組成物が感光性組成物である場合にも、加熱硬化処理をさらに加えてもよい。塗布膜の乾燥前後、又は露光した塗布膜を現像後、上記と同様の加熱硬化処理を加えることにより、形成される膜の機械的性質を向上させることができる。   Even when the film-forming composition is a photosensitive composition, a heat curing treatment may be further added. The mechanical properties of the formed film can be improved by applying the same heat curing treatment as described above before or after drying the coated film or after developing the exposed coated film.

以上の説明した方法により形成される膜は、所定量の高沸点極性溶剤を(S)溶剤として配合されていることにより屈折率が高められており、反射防止膜等の種々の用途に使用される。   The film formed by the above-described method has a refractive index increased by blending a predetermined amount of a high-boiling polar solvent as the (S) solvent, and is used for various applications such as an antireflection film. The

以下、本発明について実施例を参照して詳細に説明する。なお、本発明は、下記の実施例に何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples. In addition, this invention is not limited to the following Example at all.

〔実施例1〜4、及び比較例1〜3〕
下記表2に記載の種類、及び量の成分を均一に混合して、固形分濃度が25質量%である膜形成用組成物を調製した。表2中、「高沸点極性溶剤比率」は、膜形成用組成物中の、有機樹脂の質量と無機ナノ粒子の質量との合計に対する、高沸点極性溶剤の質量比(質量%)である。
[Examples 1-4 and Comparative Examples 1-3]
Components of the types and amounts described in Table 2 below were uniformly mixed to prepare a film-forming composition having a solid content concentration of 25% by mass. In Table 2, “High-boiling polar solvent ratio” is a mass ratio (mass%) of the high-boiling polar solvent to the total of the mass of the organic resin and the mass of the inorganic nanoparticles in the film-forming composition.

実施例1〜4、及び比較例1〜3では、有機樹脂として、以下の構成単位からなり、質量平均分子量が7000である樹脂を用いた。各構成単位の右下の数字は、有機樹脂中の各構成単位の含有量(モル%)を表す。

Figure 0006238593
In Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3, a resin having the following structural units and having a mass average molecular weight of 7000 was used as the organic resin. The number on the lower right of each structural unit represents the content (mol%) of each structural unit in the organic resin.
Figure 0006238593

実施例1〜4、及び比較例1〜3では、界面活性剤として、Omonova社製、PolyFox PF656を用いた。
表2に記載の溶剤は、以下の通りである。なお、沸点は、大気圧下でのものである。
PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、沸点145℃
PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル、沸点120℃、SP値10.2(cal/cm1/2
γBL:γ−ブチロラクトン、沸点204℃、SP値12.6(cal/cm1/2
In Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3, Omonova's PolyFox PF656 was used as the surfactant.
The solvents described in Table 2 are as follows. The boiling point is at atmospheric pressure.
PGMEA: Propylene glycol monomethyl ether acetate, boiling point 145 ° C
PGME: Propylene glycol monomethyl ether, boiling point 120 ° C., SP value 10.2 (cal / cm 3 ) 1/2
γBL: γ-butyrolactone, boiling point 204 ° C., SP value 12.6 (cal / cm 3 ) 1/2

実施例1〜4、及び比較例1〜3では、無機ナノ粒子として、オプトレイク(TiO微粒子、日揮触媒化成株式会社製、数平均粒子径10nm)を用いた。 In Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3, Optolake (TiO 2 fine particles, manufactured by JGC Catalysts & Chemicals, Inc., number average particle size 10 nm) was used as the inorganic nanoparticles.

得られた各実施例及び比較例の膜形成用組成物を用いて膜厚600nmの硬化膜を形成し、形成された硬化膜について、透明性、屈折率、及びビードを評価した。
具体的には、6インチのSi基板の表面に、膜形成用組成物をスピンコーター(ミカサスピンナーIH−360S、ミカサ株式会社製)を用いて塗布した後、100℃で、2分乾燥させた。その後、さらに加熱硬化処理として、塗布膜を200℃で、5分加熱して、硬化膜を形成した。
A cured film having a film thickness of 600 nm was formed using the obtained film forming compositions of Examples and Comparative Examples, and the transparency, refractive index, and bead of the formed cured film were evaluated.
Specifically, the film-forming composition was applied to the surface of a 6-inch Si substrate using a spin coater (Mikasa Spinner IH-360S, manufactured by Mikasa Corporation), and then dried at 100 ° C. for 2 minutes. . Thereafter, as a heat curing treatment, the coating film was heated at 200 ° C. for 5 minutes to form a cured film.

〔透明性評価〕
形成された硬化膜を目視で観察して、白濁の有無により、透明性を評価した。透明性の評価基準は以下の通りである。
○:白濁が観察されない。
×:白濁が観察される。
(Transparency evaluation)
The formed cured film was visually observed, and the transparency was evaluated based on the presence or absence of white turbidity. The evaluation criteria for transparency are as follows.
○: No cloudiness is observed.
X: Cloudiness is observed.

〔屈折率評価〕
形成された硬化膜の屈折率を、分光エリプソメーター(ウーラム社製、VUV−VASE)により波長600nmにおける屈折率として測定した。測定された屈折率の値を表2に記す。
(Refractive index evaluation)
The refractive index of the formed cured film was measured as a refractive index at a wavelength of 600 nm using a spectroscopic ellipsometer (WUVRAM VUV-VASE). The measured refractive index values are shown in Table 2.

〔ビード評価〕
形成された硬化膜の断面を走査型電子顕微鏡(商品名:S−4500、日立ハイテクノロジー社製)を用いて観察して、膜の端部のムラ(凸部)の幅を測定して、ビードを評価した。ビードの評価基準は以下の通りである。
◎:膜端部の凸部の幅が0.5mm未満である。
○:膜端部の凸部の幅が2.0mm以下である。
×:膜端部の凸部の幅が2.1mm以上である。
[Bead evaluation]
The cross section of the formed cured film was observed using a scanning electron microscope (trade name: S-4500, manufactured by Hitachi High-Technology Corporation), and the width of the unevenness (convex part) at the end of the film was measured. The bead was evaluated. The bead evaluation criteria are as follows.
(Double-circle): The width | variety of the convex part of a film | membrane edge part is less than 0.5 mm.
○: The width of the convex portion at the film end is 2.0 mm or less.
X: The width | variety of the convex part of a film | membrane edge part is 2.1 mm or more.

Figure 0006238593
Figure 0006238593

表2によれば、有機樹脂と、無機ナノ粒子と、溶剤とを含む膜形成用組成物に対して、有機樹脂の質量と、無機ナノ粒子の質量との合計に対して20〜100質量%の高沸点極性溶剤を配合する場合、高沸点極性溶剤を含まない場合に比較して屈折率が顕著に高められた膜を形成可能であることが分かる。   According to Table 2, 20-100 mass% with respect to the sum total of the mass of an organic resin, and the mass of an inorganic nanoparticle with respect to the composition for film formation containing organic resin, an inorganic nanoparticle, and a solvent. When the high boiling polar solvent is added, it can be seen that a film having a significantly increased refractive index can be formed as compared with the case where the high boiling polar solvent is not included.

〔実施例5〜8、及び比較例4〜6〕
実施例1〜4、及び比較例1〜3の膜形成用組成物を、それぞれ、固形分濃度5質量%となるようにPGMEで希釈して、実施例5〜8、及び比較例4〜6の膜形成用組成物を得た。
得られた各実施例及び比較例の膜形成用組成物を用いて膜厚90nmの硬化膜を形成し、形成された硬化膜について、屈折率を評価した。硬化膜の形成、及び評価は、膜厚を変更することの他は、実施例1〜4、及び比較例1〜3と同様に行った。実施例5〜8、及び比較例4〜6の膜形成用組成物用いて形成された硬化膜の評価結果を、表3に記す。
[Examples 5 to 8 and Comparative Examples 4 to 6]
The film forming compositions of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 were each diluted with PGME so as to have a solid content concentration of 5% by mass, and Examples 5 to 8 and Comparative Examples 4 to 6 were diluted. A film-forming composition was obtained.
A cured film having a film thickness of 90 nm was formed using the obtained film forming compositions of Examples and Comparative Examples, and the refractive index of the formed cured film was evaluated. Formation and evaluation of the cured film were performed in the same manner as in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 except that the film thickness was changed. Table 3 shows the evaluation results of the cured films formed using the film forming compositions of Examples 5 to 8 and Comparative Examples 4 to 6.

Figure 0006238593
Figure 0006238593

表2及び表3によれば、有機樹脂と、無機ナノ粒子と、溶剤とを含む膜形成用組成物に対して、有機樹脂の質量と、無機ナノ粒子の質量との合計に対して20〜100質量%の高沸点極性溶剤を配合する場合、膜形成用組成物の固形分濃度や、形成する膜の膜厚によらず、高沸点極性溶剤を含まない場合に比較して屈折率が顕著に高められた膜を形成可能であることが分かる。   According to Table 2 and Table 3, with respect to the composition for film formation containing organic resin, inorganic nanoparticle, and a solvent, it is 20 ~ with respect to the sum total of the mass of organic resin, and the mass of inorganic nanoparticle. When 100% by mass of a high-boiling polar solvent is blended, the refractive index is significantly higher than when no high-boiling polar solvent is contained, regardless of the solid content concentration of the film-forming composition and the film thickness of the film to be formed. It can be seen that an enhanced film can be formed.

〔実施例9〜12、及び比較例7〜9〕
実施例9〜12、及び比較例7〜9では、γBLに変えてNMP(N−メチル−2−ピロリドン)を用いた。NMPの大気圧下での沸点は204℃であり、SP値は11.2(cal/cm1/2である。γBLに変えてNMPを用いることの他は、実施例1〜4、及び比較例1〜3と同様にして、膜形成用組成物の調製と、膜形成用組成物を用いて形成される硬化膜の評価とを行った。実施例9〜12、及び比較例7〜9の膜形成用組成物を用いて形成された硬化膜の評価結果を、表4に記す。
[Examples 9 to 12 and Comparative Examples 7 to 9]
In Examples 9-12 and Comparative Examples 7-9, NMP (N-methyl-2-pyrrolidone) was used instead of γBL. NMP has a boiling point of 204 ° C. under atmospheric pressure and an SP value of 11.2 (cal / cm 3 ) 1/2 . Preparation of a film-forming composition and curing formed using the film-forming composition in the same manner as in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3, except that NMP is used instead of γBL The film was evaluated. Table 4 shows the evaluation results of the cured films formed using the film forming compositions of Examples 9 to 12 and Comparative Examples 7 to 9.

Figure 0006238593
Figure 0006238593

表4によれば、有機樹脂と、無機ナノ粒子と、溶剤とを含む膜形成用組成物に対して、有機樹脂の質量と、無機ナノ粒子の質量との合計に対して20〜100質量%の高沸点極性溶剤を配合する場合、高沸点極性溶剤を含まない場合に比較して屈折率が顕著に高められた膜を形成可能であることが分かる。   According to Table 4, 20-100 mass% with respect to the sum total of the mass of an organic resin, and the mass of an inorganic nanoparticle with respect to the composition for film formation containing organic resin, an inorganic nanoparticle, and a solvent. When the high boiling polar solvent is added, it can be seen that a film having a significantly increased refractive index can be formed as compared with the case where the high boiling polar solvent is not included.

〔実施例13〜16、及び比較例10〜12〕
実施例9〜12、及び比較例7〜9の膜形成用組成物を、それぞれ、固形分濃度5質量%となるようにPGMEで希釈して、実施例13〜16、及び比較例10〜12の膜形成用組成物を得た。
得られた各実施例及び比較例の膜形成用組成物を用いて膜厚90nmの硬化膜を形成し、形成された硬化膜について、屈折率を評価した。硬化膜の形成、及び評価は、膜厚を変更することの他は、実施例1〜4、及び比較例1〜3と同様に行った。実施例13〜16、及び比較例10〜12の膜形成用組成物用いて形成された硬化膜の評価結果を、表5に記す。
[Examples 13 to 16 and Comparative Examples 10 to 12]
The film forming compositions of Examples 9 to 12 and Comparative Examples 7 to 9 were each diluted with PGME so as to have a solid content concentration of 5% by mass, and Examples 13 to 16 and Comparative Examples 10 to 12 were diluted. A film-forming composition was obtained.
A cured film having a film thickness of 90 nm was formed using the obtained film forming compositions of Examples and Comparative Examples, and the refractive index of the formed cured film was evaluated. Formation and evaluation of the cured film were performed in the same manner as in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 except that the film thickness was changed. Table 5 shows the evaluation results of the cured films formed using the film forming compositions of Examples 13 to 16 and Comparative Examples 10 to 12.

Figure 0006238593
Figure 0006238593

表4及び表5によれば、有機樹脂と、無機ナノ粒子と、溶剤とを含む膜形成用組成物に対して、有機樹脂の質量と、無機ナノ粒子の質量との合計に対して20〜100質量%の高沸点極性溶剤を配合する場合、膜形成用組成物の固形分濃度や、形成する膜の膜厚によらず、高沸点極性溶剤を含まない場合に比較して屈折率が顕著に高められた膜を形成可能であることが分かる。   According to Table 4 and Table 5, with respect to the total of the mass of an organic resin and the mass of an inorganic nanoparticle with respect to the composition for film formation containing organic resin, an inorganic nanoparticle, and a solvent, it is 20- When 100% by mass of a high-boiling polar solvent is blended, the refractive index is significantly higher than when no high-boiling polar solvent is contained, regardless of the solid content concentration of the film-forming composition and the film thickness of the film to be formed. It can be seen that an enhanced film can be formed.

〔実施例17〜20、及び比較例13〜15〕
実施例17〜20、及び比較例13〜15では、有機樹脂を、以下に説明する樹脂(A−1)に変更することと、PGMEAをMBA(3−メトキシブチルアセテート、沸点173℃)に変更することとの他は、実施例1〜4、及び比較例1〜3と同様にして、膜形成用組成物の調製と、膜形成用組成物を用いて形成される硬化膜の評価とを行った。実施例17〜20、及び比較例13〜15の膜形成用組成物を用いて形成された硬化膜の評価結果を、表6に記す。なお、比較例13及び14について、形成された硬化膜の表面荒れのため、屈折率を測定することができなかった。
[Examples 17 to 20 and Comparative Examples 13 to 15]
In Examples 17 to 20 and Comparative Examples 13 to 15, the organic resin was changed to the resin (A-1) described below, and PGMEA was changed to MBA (3-methoxybutyl acetate, boiling point 173 ° C.). The preparation of the film forming composition and the evaluation of the cured film formed using the film forming composition in the same manner as in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 except that went. Table 6 shows the evaluation results of cured films formed using the film forming compositions of Examples 17 to 20 and Comparative Examples 13 to 15. In Comparative Examples 13 and 14, the refractive index could not be measured due to the rough surface of the formed cured film.

(樹脂(A−1))
樹脂(A−1)として、以下の方法に従って得られた樹脂を用いた。
まず、500ml四つ口フラスコ中に、ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂(エポキシ当量235)235g、テトラメチルアンモニウムクロライド110mg、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール100mg、及びアクリル酸72.0gを仕込み、これに25ml/分の速度で空気を吹き込みながら90〜100℃で加熱溶解した。次に、溶液が白濁した状態のまま徐々に昇温し、120℃に加熱して完全溶解させた。この際、溶液は次第に透明粘稠になったが、そのまま撹拌を継続した。この間、酸価を測定し、1.0mgKOH/g未満になるまで加熱撹拌を続けた。酸価が目標値に達するまで12時間を要した。そして室温まで冷却し、無色透明で固体状の下記式(a−4)で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレートを得た。
(Resin (A-1))
As the resin (A-1), a resin obtained according to the following method was used.
First, in a 500 ml four-necked flask, 235 g of bisphenolfluorene type epoxy resin (epoxy equivalent 235), 110 mg of tetramethylammonium chloride, 100 mg of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, and 72.0 g of acrylic acid Was heated and dissolved at 90 to 100 ° C. while blowing air at a rate of 25 ml / min. Next, the temperature was gradually raised while the solution was clouded, and the solution was heated to 120 ° C. to be completely dissolved. At this time, the solution gradually became transparent and viscous, but stirring was continued as it was. During this time, the acid value was measured, and heating and stirring were continued until the acid value was less than 1.0 mgKOH / g. It took 12 hours for the acid value to reach the target value. And it cooled to room temperature and obtained the bisphenol fluorene type epoxy acrylate represented by the following transparent formula (a-4) colorless and transparent.

Figure 0006238593
Figure 0006238593

次いで、このようにして得られた上記のビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレート307.0gに3−メトキシブチルアセテート600gを加えて溶解した後、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物80.5g及び臭化テトラエチルアンモニウム1gを混合し、徐々に昇温して110〜115℃で4時間反応させた。酸無水物基の消失を確認した後、1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸38.0gを混合し、90℃で6時間反応させ、樹脂(A−1)を得た。酸無水物基の消失はIRスペクトルにより確認した。
なお、この樹脂(A−1)は、上記式(a−1)で表される化合物に相当する。
Next, after adding 600 g of 3-methoxybutyl acetate to 307.0 g of the bisphenolfluorene type epoxy acrylate thus obtained and dissolving, 80.5 g of benzophenonetetracarboxylic dianhydride and 1 g of tetraethylammonium bromide were added. The mixture was gradually heated and reacted at 110 to 115 ° C. for 4 hours. After confirming disappearance of the acid anhydride group, 38.0 g of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride was mixed and reacted at 90 ° C. for 6 hours to obtain Resin (A-1). The disappearance of the acid anhydride group was confirmed by IR spectrum.
In addition, this resin (A-1) is corresponded to the compound represented by the said Formula (a-1).

Figure 0006238593
Figure 0006238593

〔実施例21〜24、及び比較例16〜18〕
実施例17〜20、及び比較例13〜15の膜形成用組成物を、それぞれ、固形分濃度5質量%となるようにPGMEで希釈して、実施例21〜24、及び比較例16〜18の膜形成用組成物を得た。
得られた各実施例及び比較例の膜形成用組成物を用いて膜厚90nmの硬化膜を形成し、形成された硬化膜について、屈折率を評価した。硬化膜の形成、及び評価は、膜厚を変更することの他は、実施例1〜4、及び比較例1〜3と同様に行った。実施例21〜24、及び比較例16〜18の膜形成用組成物を用いて形成された硬化膜の評価結果を、表7に記す。なお、比較例16及び17ついて、形成された硬化膜の表面荒れのため、屈折率を測定することができなかった。
[Examples 21 to 24 and Comparative Examples 16 to 18]
The film forming compositions of Examples 17 to 20 and Comparative Examples 13 to 15 were each diluted with PGME so that the solid content concentration was 5% by mass, and Examples 21 to 24 and Comparative Examples 16 to 18 were diluted. A film-forming composition was obtained.
A cured film having a film thickness of 90 nm was formed using the obtained film forming compositions of Examples and Comparative Examples, and the refractive index of the formed cured film was evaluated. Formation and evaluation of the cured film were performed in the same manner as in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 except that the film thickness was changed. Table 7 shows the evaluation results of the cured films formed using the film forming compositions of Examples 21 to 24 and Comparative Examples 16 to 18. In Comparative Examples 16 and 17, the refractive index could not be measured due to the rough surface of the formed cured film.

Figure 0006238593
Figure 0006238593

表6及び表7によれば、有機樹脂と、無機ナノ粒子と、溶剤とを含む膜形成用組成物に対して、有機樹脂の質量と、無機ナノ粒子の質量との合計に対して20〜100質量%の高沸点極性溶剤を配合する場合、膜形成用組成物の固形分濃度や、形成する膜の膜厚によらず、屈折率の高い膜を形成可能であることが分かる。   According to Table 6 and Table 7, with respect to the sum total of the mass of organic resin and the mass of inorganic nanoparticles with respect to the composition for film formation containing organic resin, inorganic nanoparticles, and a solvent, it is 20- When 100% by mass of a high-boiling polar solvent is blended, it can be seen that a film having a high refractive index can be formed regardless of the solid content concentration of the film-forming composition and the film thickness of the film to be formed.

〔比較例19〜21〕
膜形成用組成物に高沸点極性溶剤として配合されたγBLを、下記のMEDG、MBA、又はPGMEAに変えることの他は、実施例4と同様にして、比較例16〜18の膜形成用組成物を得た。MEDG(メチルエチルジグリコール)は、大気圧下での沸点が176℃であり、SP値が8.3(cal/cm1/2である、非極性溶剤である。MBA(3−メトキシブチルアセテート)は、大気圧下での沸点が173℃であり、SP値が9.3(cal/cm1/2である、非極性溶剤である。PGMEA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)は、大気圧下での沸点が145℃である、低沸点溶剤である。
比較例19〜21の膜形成用組成物について、実施例4と同様にして、膜形成用組成物を用いて形成される硬化膜の透明性の評価を行った。比較例19〜21の膜形成用組成物を用いて形成された硬化膜の評価結果を表8に記す。
[Comparative Examples 19 to 21]
The film-forming compositions of Comparative Examples 16 to 18 were the same as in Example 4 except that γBL blended in the film-forming composition as a high-boiling polar solvent was changed to the following MEDG, MBA, or PGMEA. I got a thing. MEDG (methyl ethyl diglycol) is a nonpolar solvent having a boiling point under atmospheric pressure of 176 ° C. and an SP value of 8.3 (cal / cm 3 ) 1/2 . MBA (3-methoxybutyl acetate) is a nonpolar solvent having a boiling point under atmospheric pressure of 173 ° C. and an SP value of 9.3 (cal / cm 3 ) 1/2 . PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate) is a low boiling point solvent having a boiling point of 145 ° C. under atmospheric pressure.
About the film formation composition of Comparative Examples 19-21, it carried out similarly to Example 4, and evaluated the transparency of the cured film formed using the film formation composition. Table 8 shows the evaluation results of the cured films formed using the film forming compositions of Comparative Examples 19 to 21.

Figure 0006238593
Figure 0006238593

表8によれば、膜形成用組成物が所定量の高沸点極性溶剤を含む場合、膜形成用組成物を用いて形成される硬化膜の透明性が良好であるが、膜形成用組成物に非極性溶剤や低沸点溶剤が配合される場合、膜形成用組成物中で無機ナノ粒子が均一に分散しないため、透明な硬化膜を形成しにくいことが分かる。   According to Table 8, when the film-forming composition contains a predetermined amount of a high-boiling polar solvent, the cured film formed using the film-forming composition has good transparency. When a nonpolar solvent or a low-boiling solvent is blended in the inorganic film, the inorganic nanoparticles are not uniformly dispersed in the film-forming composition, which makes it difficult to form a transparent cured film.

〔実施例25、及び比較例22〕
表9に記載の種類及び量の各成分を混合して、実施例25、及び比較例22の膜形成用組成物を得た。得られた膜形成用組成物の固形分濃度は28.5質量%であった。有機樹脂、無機ナノ粒子、及び界面活性剤は、実施例1と同じものを用いた。光重合開始剤としては、下記のPI−1及びPI−2を用いた。光重合性モノマーとしては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを用いた。
[Example 25 and Comparative Example 22]
Components of the types and amounts described in Table 9 were mixed to obtain film forming compositions of Example 25 and Comparative Example 22. The solid content concentration of the obtained film-forming composition was 28.5% by mass. The same organic resin, inorganic nanoparticles, and surfactant as in Example 1 were used. The following PI-1 and PI-2 were used as photopolymerization initiators. Dipentaerythritol hexaacrylate was used as the photopolymerizable monomer.

Figure 0006238593
Figure 0006238593

得られた実施例及25及び比較例22の膜形成用組成物を用いて膜厚600nmの硬化膜を形成し、形成された硬化膜について、屈折率を評価した。
具体的には、6インチのSi基板の表面に、膜形成用組成物をスピンコーター(ミカサスピンナーIH−360S、ミカサ株式会社製)によりスピン塗布した後、塗膜を100℃で2分間乾燥させて、600nmの塗布膜を形成した。次いで、露光装置(MPA−600FA、キヤノン株式会社製)により、露光量200mJ/cmで、塗布膜を露光した。さらに、露光後の塗布膜に、200℃で5分間の加熱硬化処理を加えて、硬化膜を形成した。形成された硬化膜の屈折率を、実施例1と同様に測定した。
A cured film having a film thickness of 600 nm was formed using the obtained film forming compositions of Examples 25 and Comparative Example 22, and the refractive index of the formed cured film was evaluated.
Specifically, the film-forming composition was spin-coated on the surface of a 6-inch Si substrate with a spin coater (Mikasa Spinner IH-360S, manufactured by Mikasa Corporation), and then the coating film was dried at 100 ° C. for 2 minutes. Thus, a 600 nm coating film was formed. Then, an exposure device (MPA-600FA, manufactured by Canon Inc.) by an exposure dose of 200 mJ / cm 2, were exposed coating film. Furthermore, the cured film was formed by adding a heat curing treatment at 200 ° C. for 5 minutes to the coated film after exposure. The refractive index of the formed cured film was measured in the same manner as in Example 1.

Figure 0006238593
Figure 0006238593

表9によれば、膜形成用組成物に、光重合性モノマーと、光重合性開始剤とを配合する場合でも、有機樹脂と、無機ナノ粒子と、溶剤とを含む膜形成用組成物に対して、有機樹脂の質量と、無機ナノ粒子の質量との合計に対して20〜100質量%の高沸点極性溶剤を配合することにより、形成される硬化膜の屈折率を顕著に改良できることが分かる。   According to Table 9, even when a photopolymerizable monomer and a photopolymerizable initiator are blended in the film forming composition, the film forming composition containing an organic resin, inorganic nanoparticles, and a solvent is used. On the other hand, the refractive index of the cured film formed can be remarkably improved by blending 20 to 100% by mass of a high boiling polar solvent with respect to the total mass of the organic resin and the inorganic nanoparticles. I understand.

Claims (11)

(A)有機樹脂と、(B)無機ナノ粒子と、(S)溶剤とを含み、
前記(S)溶剤が、大気圧下での沸点が190℃以上205℃以下である高沸点極性溶剤を含み、
前記高沸点極性溶剤の含有量が、前記(A)有機樹脂の質量と前記(B)無機ナノ粒子の質量との合計に対して20〜100質量%である、膜形成用組成物であって、
前記(A)有機樹脂が、(a1)フェノール性水酸基を有する化合物に由来する構成単位と、重合性基を有する化合物に由来する構成単位とを含む共重合体、であるか、(a2)カルド構造を有する樹脂であり、
前記高沸点極性溶剤のSP値が10〜12.6(cal/cm 1/2 である、膜形成用組成物。
(A) an organic resin, (B) inorganic nanoparticles, and (S) a solvent,
The (S) solvent includes a high boiling point polar solvent having a boiling point of 190 ° C. or higher and 205 ° C. or lower under atmospheric pressure,
The content of the high-boiling polar solvent, wherein a 20 to 100% by weight relative to the total mass of (A) the mass of the organic resin (B) inorganic nanoparticles, a film forming composition ,
The (A) organic resin is a copolymer containing (a1) a structural unit derived from a compound having a phenolic hydroxyl group and a structural unit derived from a compound having a polymerizable group, or (a2) a cardo Ri resin der having a structure,
The high-boiling polar SP value of the solvent 10~12.6 (cal / cm 3) Ru 1/2 der, film-forming composition.
前記(a2)カルド構造を有する樹脂が、下記式(a−1)で表される(a2)カルド構造を有する樹脂である、請求項に記載の膜形成用組成物。
Figure 0006238593
(式(a−1)中、Xは、下記式(a−2)で表される基を示す。)
Figure 0006238593
(式(a−2)中、Ra1は、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数1〜6の炭化水素基、又はハロゲン原子を示し、Ra2は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Wは、単結合又は下記式(a−3)で表される基を示す。)
Figure 0006238593
Wherein (a2) a resin having a cardo structure, a resin having a (a2) cardo structure represented by the following formula (a-1), film-forming composition of claim 1.
Figure 0006238593
(In the formula (a-1), X a represents a group represented by the following formula (a-2).)
Figure 0006238593
(In formula (a-2), R a1 independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom, and R a2 independently represents a hydrogen atom or a methyl group. W a represents a single bond or a group represented by the following formula (a-3).)
Figure 0006238593
前記(a1)フェノール性水酸基を有する化合物が、ビニルフェノール類、アリルフェノール類、ビニロキシフェノール類、アリルオキシフェノール類、及びヒドロキシフェニル(メタ)アクリレートからなる群より選択される少なくとも1つであり、
前記重合性基が、エポキシ基及びオキセタニル基からなる群より選択される少なくとも1つである、請求項に記載の膜形成用組成物。
(A1) the compound having a phenolic hydroxyl group is at least one selected from the group consisting of vinylphenols, allylphenols, vinyloxyphenols, allyloxyphenols, and hydroxyphenyl (meth) acrylate;
The film-forming composition according to claim 1 , wherein the polymerizable group is at least one selected from the group consisting of an epoxy group and an oxetanyl group.
前記高沸点極性溶剤が、γ−ブチロラクトン(γBL)、及びN−メチル−2−ピロリドン(NMP)からなる群より選択される少なくとも1つである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の膜形成用組成物。The high-boiling polar solvent is at least one selected from the group consisting of γ-butyrolactone (γBL) and N-methyl-2-pyrrolidone (NMP). A film forming composition. 前記(S)溶剤が、前記高沸点極性溶剤以外の溶剤を更に含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の膜形成用組成物。   The film forming composition according to claim 1, wherein the (S) solvent further contains a solvent other than the high boiling polar solvent. 前記(B)無機ナノ粒子の含有量が、前記(A)有機樹脂の質量と、前記(B)無機ナノ粒子の質量との合計に対して40質量%以上である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の膜形成用組成物。   Content of the said (B) inorganic nanoparticle is 40 mass% or more with respect to the sum total of the mass of the said (A) organic resin, and the mass of the said (B) inorganic nanoparticle. The film-forming composition according to any one of the above. 前記(B)無機ナノ粒子の含有量が、前記(A)有機樹脂の質量と、前記(B)無機ナノ粒子の質量との合計に対して50質量%以上である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の膜形成用組成物。   The content of the (B) inorganic nanoparticles is 50% by mass or more based on the total of the mass of the (A) organic resin and the mass of the (B) inorganic nanoparticles. The film-forming composition according to any one of the above. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の膜形成用組成物を塗布して塗布膜を形成する工程と、
前記塗布膜を乾燥させる工程と、を含む、膜の形成方法。
Applying the film-forming composition according to any one of claims 1 to 7 to form a coating film;
And a step of drying the coating film.
請求項1〜7のいずれか1項に記載の膜形成用組成物を用いて形成された膜。   The film | membrane formed using the composition for film formation of any one of Claims 1-7. (A)有機樹脂と、(B)無機ナノ粒子と、(S)溶剤とを含む膜形成用組成物に対して、
前記(S)溶剤として、前記(A)有機樹脂の質量と前記(B)無機ナノ粒子の質量との合計に対して20〜100質量%の、大気圧下での沸点が190℃以上205℃以下でありSP値が10〜12.6(cal/cm 1/2 である高沸点極性溶剤を配合することにより、前記高沸点極性溶剤を含まない膜形成用組成物を用いて形成される膜よりも、前記高沸点極性溶剤を配合された膜形成用組成物を用いて形成される膜の屈折率を向上させる、膜形成用組成物の製造方法。
For the film-forming composition comprising (A) an organic resin, (B) inorganic nanoparticles, and (S) a solvent,
As the (S) solvent, the boiling point at atmospheric pressure of 20 to 100% by mass with respect to the total mass of the (A) organic resin and the (B) inorganic nanoparticles is 190 ° C. or higher and 205 ° C. by following der Ri SP value is blended 10~12.6 (cal / cm 3) 1/2 der Ru high boiling polar solvent, using the high-boiling polar solvent does not contain film-forming composition The manufacturing method of the film forming composition which improves the refractive index of the film | membrane formed using the film | membrane forming composition which mix | blended the said high boiling point polar solvent rather than the film | membrane formed.
(A)有機樹脂と、(B)無機ナノ粒子と、(S)溶剤とを含む膜形成用組成物を用いて形成される膜の屈折率の改良方法であって、
前記膜形成用組成物に対して、前記(S)溶剤として、前記(A)有機樹脂の質量と前記(B)無機ナノ粒子の質量との合計に対して20〜100質量%の、大気圧下での沸点が190℃以上205℃以下でありSP値が10〜12.6(cal/cm 1/2 である高沸点極性溶剤を配合することにより、前記高沸点極性溶剤を含まない膜形成用組成物を用いて形成される膜よりも、前記高沸点極性溶剤を含む膜形成組成物を用いて形成される膜の屈折率を向上させる、膜の屈折率の改良方法。
A method for improving the refractive index of a film formed using a film-forming composition comprising (A) an organic resin, (B) inorganic nanoparticles, and (S) a solvent,
The atmospheric pressure of 20-100 mass% with respect to the sum total of the mass of the said (A) organic resin and the mass of the said (B) inorganic nanoparticle as said (S) solvent with respect to the said film formation composition. by der Ri SP value boiling point of 190 ° C. or higher 205 ° C. or less under the blending 10~12.6 (cal / cm 3) 1/2 der Ru high-boiling polar solvent, the high-boiling polar solvent A method for improving the refractive index of a film, wherein the refractive index of a film formed using the film-forming composition containing the high-boiling polar solvent is higher than that of a film formed using a film-forming composition that does not contain the film.
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