JP6217281B2

JP6217281B2 - Automatic warehouse and gas supply method

Info

Publication number: JP6217281B2
Application number: JP2013197806A
Authority: JP
Inventors: 村田　正直; 正直村田; 山路　孝; 孝山路
Original assignee: Murata Machinery Ltd
Current assignee: Murata Machinery Ltd
Priority date: 2013-09-25
Filing date: 2013-09-25
Publication date: 2017-10-25
Anticipated expiration: 2033-09-25
Also published as: JP2015065259A

Description

本発明は、自動倉庫、及びガス供給方法に関し、特に、シリコンウェハやレチクルなどを保管するための収納容器内に、所定のガスを供給するようにしたものに関する。 The present invention relates to an automatic warehouse and a gas supply method, and more particularly to an apparatus for supplying a predetermined gas into a storage container for storing a silicon wafer, a reticle, and the like.

半導体装置や液晶装置などにおいては、その製造工程において超微細化パターンを形成する。従って、その加工素材であるシリコンウェハやガラス基板、さらには露光時の原板となるレチクルなど（以下、単にウェハ等という。）を不活性ガスや乾燥空気などの所定雰囲気の環境に保管することが行われている。また、ウェハ等の保管・搬送に際しては、その内部雰囲気を維持可能な、例えばフープ（ＦＯＵＰ）やレチクルポッドと称される収納容器を用いて自動倉庫等への保管や、他の製造装置への搬送等を行う場合がある。収納容器を使用する場合、収納容器側には少なくともガスの注入口を設ける一方、収納容器を保管する自動倉庫等のガス供給装置側には、容器のガスの注入口と接続することのできるノズルを設けることで、保管に際してガスの供給を行うようにしている（例えば、特許文献１参照）。 In a semiconductor device or a liquid crystal device, an ultrafine pattern is formed in the manufacturing process. Therefore, silicon wafers and glass substrates as processing materials, and reticles (hereinafter simply referred to as wafers) that serve as original plates for exposure can be stored in an environment of a predetermined atmosphere such as inert gas or dry air. Has been done. Also, when storing and transporting wafers and the like, the internal atmosphere can be maintained. For example, a storage container called a FOUP or reticle pod is used to store in an automatic warehouse or other manufacturing equipment. There is a case of carrying. When a storage container is used, at least a gas inlet is provided on the storage container side, while a nozzle that can be connected to the gas inlet of the container on the gas supply device side of an automatic warehouse or the like for storing the storage container By providing this, gas is supplied during storage (see, for example, Patent Document 1).

特許第４６７０８０８号公報Japanese Patent No. 4670808

ところで、収納容器へのガスの注入口には、収納容器内に塵埃を入れないようにパーティクルフィルタが設けられている。また、この注入口には、ガス注入後に容器内の環境を長く維持するためにチェック弁が設けられている。このパーティクルフィルタやチェック弁は、定期的に交換するなどメンテナンスが必要であることから、取り外しが可能な構造となっているのが一般的である。しかし、パーティクルフィルタ等が適正に装着されていない、あるいは装着忘れ等が生じると、ガスの供給に際して収納容器中に塵埃が入り込んでしまい、容器内の環境が損なわれてウェハ等に塵埃が付着するといった事態を引き起こす。また、適正に装着されても、異常なパージや搬送中の振動等によってパーティクルフィルタの破損や、位置ずれ等が生じると同様の問題が生じる。 By the way, a particle filter is provided at a gas inlet to the storage container so as to prevent dust from entering the storage container. In addition, a check valve is provided at the inlet in order to maintain the environment in the container for a long time after gas injection. Since the particle filter and the check valve require maintenance such as periodic replacement, the structure is generally removable. However, if the particle filter or the like is not properly installed or if it is forgotten to be installed, dust will enter the storage container when the gas is supplied, and the environment inside the container will be damaged and the dust will adhere to the wafer. It causes such a situation. Further, even if the mounting is properly performed, the same problem occurs when the particle filter is damaged or misaligned due to abnormal purging or vibration during conveyance.

一方、ウェハ等に塵埃が付着していると、塵埃を含んだまま露光等によって回路パターン等が形成されることになり、例えば電気的な接続不良や短絡等が生じて製造歩留りを低下させる要因となる。回路パターン等の不良が塵埃を原因とする場合は、回路パターンの形成後の製造段階後半に発覚することが大半であり、原因の解明、除去には多くの時間を費やす結果となる。また、収納容器から取り出したウェハ等に対して適宜ゴミ検出等を行うことも可能であるが、ウェハ等を１枚ずつ検査するのでは製造スループットが長くなり、製造コストの上昇を招いてしまう。 On the other hand, if dust adheres to a wafer or the like, a circuit pattern or the like is formed by exposure or the like while containing dust, which causes factors such as poor electrical connection or short-circuiting, thereby reducing manufacturing yield. It becomes. When a defect such as a circuit pattern is caused by dust, it is mostly detected in the latter half of the manufacturing stage after the circuit pattern is formed, resulting in a long time for elucidating and removing the cause. Further, dust detection or the like can be appropriately performed on a wafer taken out from the storage container. However, inspecting the wafers one by one increases the manufacturing throughput and increases the manufacturing cost.

以上のような事情に鑑み、本発明では、収納容器内にガスを注入する際、パーティクルフィルタ等が適切に設定されていることを確認することにより、収納容器内に塵挨が浸入することを防止できる自動倉庫、及びガス供給方法を提供することを目的とする。 In view of the circumstances as described above, in the present invention, when gas is injected into the storage container, it is confirmed that the particle filter or the like is appropriately set, so that dust enters the storage container. prevention can that automatic warehouse, and an object thereof to provide a gas supply method.

本発明では、収納容器を載置する複数の載置台を備える自動倉庫であって、載置台の少なくとも１つは、載置した収納容器に対して所定のガスを供給するガス供給装置を有し、ガス供給装置は、収納容器の注入口に接続するノズルと、ノズルに所定のガスを供給するガス供給系と、ノズル内の圧力が所定圧力から外れたことを検出する圧力検出部と、を備え、圧力検出部は、複数のノズル内の圧力を比較してその差または比が所定値を超えたときにノズルのいずれかが所定圧力から外れたと判断する。 In the present invention, an automatic warehouse including a plurality of mounting tables on which storage containers are mounted, wherein at least one of the mounting tables has a gas supply device that supplies a predetermined gas to the mounted storage containers. the gas supply apparatus, a nozzle connected to the inlet of the container, and a gas supply system for supplying a predetermined gas to the nozzle, a pressure detection unit for pressure in the nozzle is detected to be out of a predetermined pressure, the The pressure detection unit compares the pressures in the plurality of nozzles and determines that any of the nozzles has deviated from the predetermined pressure when the difference or ratio exceeds a predetermined value .

また、ガス供給系は、ガス流量を制御する流量制御部を有するものでもよい。また、複数のノズルは、収納容器の複数の注入口に接続してもよい。また、圧力検出部は、ノズル内の圧力が所定圧力から外れたことを検出したときに、ガス供給系からのガスの供給を停止させるものでもよい。また、ノズルは、収納容器が載置台に載置された際に注入口と接続するように載置台に形成されるものでもよい。 The gas supply system may have a flow rate control unit that controls the gas flow rate. The plurality of nozzles may be connected to a plurality of inlets of the storage container . The pressure detection unit may stop the gas supply from the gas supply system when detecting that the pressure in the nozzle has deviated from a predetermined pressure. Further, the nozzle may be formed on the mounting table so as to be connected to the injection port when the storage container is mounted on the mounting table.

また、本発明では、収納容器の注入口に接続する複数のノズルから所定のガスを供給するガス供給方法であって、複数のノズル内の圧力を比較してその差または比が所定値を超えたときにノズルのいずれかが所定圧力から外れたと判断する。 Further, in the present invention, a gas supply method for supplying a predetermined gas from a plurality of nozzles connected to the inlets of the storage container, wherein the pressures in the plurality of nozzles are compared and the difference or ratio exceeds a predetermined value. It is determined that one of the nozzles has deviated from the predetermined pressure .

本発明によれば、収納容器の注入口に接続するノズル内のガス供給時のガスの圧力を検出する圧力検出部を備えているので、ノズル内の圧力が所定圧力から外れたことを検出したときに、ガスの供給に際して所定の負荷がかかっていないことが容易に判別可能となっている。これにより、例えば、収納容器のパーティクルフィルタ等の異常を予測することができる。この結果、収納容器へのガス供給における塵挨混入等の異常事態に対して適切な対応を迅速に行うことができる。さらに、圧力検出部が、複数のノズル内の圧力を比較してその差または比が所定値を超えたときにノズルのいずれかが所定圧力から外れたと判断するので、ガス供給の異常か否かの判断基準として特定の閾値を予め設定しなくても、ガス供給の異常のあるノズルを容易に検出することができる。また、収納容器に供給されるガスが正常に供給されていないことを検出するのに、ガス流量やガス圧力等の基準閾値がないので、ガス流量やガス注入圧力を容易に変更できる。 According to the present invention, since the pressure detection unit that detects the gas pressure at the time of gas supply in the nozzle connected to the inlet of the storage container is provided, it is detected that the pressure in the nozzle has deviated from the predetermined pressure. Sometimes, it is possible to easily determine that a predetermined load is not applied when the gas is supplied. Thereby, for example, an abnormality such as a particle filter of the storage container can be predicted. As a result, it is possible to quickly take appropriate measures against abnormal situations such as dust contamination in the gas supply to the storage container. Further, the pressure detection unit compares the pressures in the plurality of nozzles and determines that any of the nozzles has deviated from the predetermined pressure when the difference or ratio exceeds a predetermined value. Even if a specific threshold value is not set in advance as a determination criterion, it is possible to easily detect a nozzle having a gas supply abnormality. Moreover, since there is no reference threshold value such as a gas flow rate or a gas pressure to detect that the gas supplied to the storage container is not normally supplied, the gas flow rate or the gas injection pressure can be easily changed.

また、ガス供給系が、ガス流量を制御する流量制御部を有する場合には、収納容器に対して供給するガス流量を制御することができるので、ガス流量に応じた既定のガス圧力の検出が可能になる。また、ガス流量を流量制御部によって制御することができるので、容積の異なった収納容器に対しても適切なガス流量を設定できる。 In addition, when the gas supply system has a flow rate control unit that controls the gas flow rate, the gas flow rate supplied to the storage container can be controlled, so that detection of a predetermined gas pressure corresponding to the gas flow rate can be performed. It becomes possible. Further, it is possible to control the gas flow rate by the flow rate control unit, you can configure the appropriate gas flow rate with respect to different storage containers volume.

また、複数のノズルが収納容器の複数の注入口に接続する場合、上記と同様に圧力検出部によって、複数のノズル内の圧力を比較してその差または比が所定値を超えたときにノズルのいずれかが所定圧力から外れたと判断するので、ガス供給の異常か否かの判断基準として特定の閾値を予め設定しなくても、ガス供給の異常のあるノズルを容易に検出することができる。また、収納容器に供給されるガスが正常に供給されていないことを検出するのに、ガス流量やガス圧力等の基準閾値がないので、ガス流量やガス注入圧力を容易に変更できる。 The nozzle when a plurality of nozzles may be connected to a plurality of inlets of the container, which by the pressure detection unit in the same manner as described above, the difference or ratio exceeds a predetermined value by comparing the pressure in the plurality of nozzles Therefore, it is possible to easily detect a nozzle having a gas supply abnormality without presetting a specific threshold as a criterion for determining whether or not the gas supply is abnormal. . Moreover, since there is no reference threshold value such as a gas flow rate or a gas pressure to detect that the gas supplied to the storage container is not normally supplied, the gas flow rate or the gas injection pressure can be easily changed.

また、圧力検出部が、ノズル内の圧力が所定圧力から外れたことを検出したときに、ガス供給系からのガスの供給を停止させる場合には、異常事態の検出によってガス供給を停止することにより、塵埃等の汚染されたガスが注入されるのを迅速に防止できる。また、ノズルが、収納容器を載置台に載置した際に注入口と接続するように載置台に形成される場合には、収納容器を載置台に置くだけの単純な動作でガスの注入を行うことができ、収納容器内へのガス注入工程を簡略化できる。 In addition, when the pressure detection unit detects that the pressure in the nozzle has deviated from the predetermined pressure, when the gas supply from the gas supply system is stopped, the gas supply is stopped by detecting an abnormal situation. As a result, it is possible to quickly prevent a contaminated gas such as dust from being injected. In addition, when the nozzle is formed on the mounting table so as to be connected to the injection port when the storage container is mounted on the mounting table, the gas can be injected by simply moving the storage container on the mounting table. This can be performed, and the gas injection process into the storage container can be simplified.

また、本発明によれば、上記したガス供給装置を有する自動倉庫が提案されるので、載置台に保管した収納容器に対して適切なガス供給を行うことができ、収納容器の保管に際して、収納容器内に塵埃等が入り込むのを効率よく防止できる。 Further, according to the present invention, an automatic warehouse having the above-described gas supply device is proposed, so that an appropriate gas supply can be performed to the storage container stored on the mounting table, and the storage container is stored when storing the storage container. It is possible to efficiently prevent dust and the like from entering the container.

また、本発明によれば、収納容器の注入口に接続する複数のノズルからガスを供給する際に、複数のノズル内の圧力を比較してその差または比が所定値を超えたときにノズルのいずれかが所定圧力から外れたと判断する方法が提案されるので、収納容器に供給されるガスが正常に供給されていないことを、容易かつ迅速に判別することができる。 Further, according to the present invention, when gas is supplied from a plurality of nozzles connected to the inlet of the storage container , the pressure in the plurality of nozzles is compared, and when the difference or ratio exceeds a predetermined value, the nozzle since one is proposed a method of determining that deviates from a predetermined pressure, that the gas supplied to the container is not normally supplied, it is possible to easily and quickly determine.

第１実施形態に係るガス供給装置を示す要部概略図である。It is a principal part schematic diagram which shows the gas supply apparatus which concerns on 1st Embodiment. 図１に示すガス供給装置の要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view of the gas supply apparatus shown in FIG. （ａ）は載置台の一例を示す斜視図、（ｂ）は収納容器の一例を示す底面図である。(A) is a perspective view which shows an example of a mounting base, (b) is a bottom view which shows an example of a storage container. 供給ガス流量とガス圧力との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between supply gas flow volume and gas pressure. （ａ）はガス供給の不具合が生じた場合を示す要部拡大断面図、（ｂ）はガス供給に他の不具合が生じた場合を示す要部拡大断面図である。(A) is a principal part expanded sectional view which shows the case where the malfunction of gas supply arises, (b) is a principal part expanded sectional view which shows the case where another malfunction arises in gas supply. 第２実施形態に係るガス供給装置を示す要部概略図である。It is a principal part schematic diagram which shows the gas supply apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 実施形態に係る自動倉庫の一例を示す要部斜視図である。It is a principal part perspective view which shows an example of the automatic warehouse which concerns on embodiment. 図７に示す自動倉庫の概略側面図である。It is a schematic side view of the automatic warehouse shown in FIG.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。また、図面においては実施形態を説明するため、一部分を大きくまたは強調して記載するなど適宜縮尺を変更して表現している。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to this. Further, in the drawings, in order to describe the embodiment, the scale is appropriately changed and expressed by partially enlarging or emphasizing the description.

＜第1実施形態＞
第１実施形態に係る自動倉庫のガス供給装置１について、図１〜図５を参照しながら説明する。図１は、収納容器５０及びガス供給装置１を示した要部概略図である。ガス供給装置１は、図１に示すように、収納容器５０内に所定のガスＧを供給するための装置である。なお、ガスＧとしては、窒素ガスなどのウェハ等にとって不活性なガスや、清浄乾燥空気（クリーンドライエア）が用いられる。 <First Embodiment>
A gas supply device 1 for an automatic warehouse according to a first embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a main part schematic diagram showing the storage container 50 and the gas supply device 1. As shown in FIG. 1, the gas supply device 1 is a device for supplying a predetermined gas G into the storage container 50. As the gas G, a gas inert to the wafer such as nitrogen gas or clean dry air (clean dry air) is used.

収納容器５０は、例えば、半導体装置を製造するためのシリコンウェハや、液晶装置を製造するためのガラス基板、露光処理を行うためのレチクルなど（以下、ウェハ等１５という。）を収容する。収納容器５０は、ウェハ等１５の保管環境を窒素ガスや乾燥空気等の所定の環境下に保つように、密閉可能かつ搬送可能な容器である。収納容器５０には、図１に示すように、内部にウェハ等１５を収容するための、棚状の複数の保持部５５が形成されており、ウェハ等１５を出し入れするための、開閉可能な蓋部５０ａが設けられている。収納容器５０の天井部５０ｔには、搬送装置によって把持可能な把持部５０ｈが形成されている。収納容器５０の底部５０ｂには、ガスを収納容器５０内に供給可能にする注入口５１及び排出口５２が設けられている。 The storage container 50 stores, for example, a silicon wafer for manufacturing a semiconductor device, a glass substrate for manufacturing a liquid crystal device, a reticle for performing exposure processing, and the like (hereinafter referred to as a wafer 15). The storage container 50 is a container that can be sealed and transported so as to keep the storage environment of the wafer 15 or the like in a predetermined environment such as nitrogen gas or dry air. As shown in FIG. 1, the storage container 50 is formed with a plurality of shelf-like holding portions 55 for storing wafers 15 therein, and can be opened and closed for taking in and out the wafers 15. A lid 50a is provided. On the ceiling portion 50t of the storage container 50, a grip portion 50h that can be gripped by the transfer device is formed. An inlet 51 and an outlet 52 that allow gas to be supplied into the storage container 50 are provided at the bottom 50 b of the storage container 50.

ガス供給装置１は、図１に示すように、収納容器５０の注入口５１に接続するノズル１０と、ガス供給源２１に貯蔵されたガスＧをノズル１０まで導くガス供給系２０と、を備えている。ノズル１０は、載置台６０（図３（ａ）参照）から上方に突出した状態で形成される。ガス供給系２０は、ガス供給源２１からノズル１０までのガス搬送用の配管２２と、この配管２２の途中に配置された流量制御部２３と、を備えている。ガス供給源２１は、ガスＧを配管２２に供給するためのポンプを備えてもよい。また、ガス供給装置１は、流量制御部２３とノズル１０との間に配管２２内の圧力を検出する圧力検出部３０が設けられている。 As shown in FIG. 1, the gas supply device 1 includes a nozzle 10 connected to the injection port 51 of the storage container 50, and a gas supply system 20 that guides the gas G stored in the gas supply source 21 to the nozzle 10. ing. The nozzle 10 is formed in a state of protruding upward from the mounting table 60 (see FIG. 3A). The gas supply system 20 includes a gas conveyance pipe 22 from the gas supply source 21 to the nozzle 10, and a flow rate control unit 23 arranged in the middle of the pipe 22. The gas supply source 21 may include a pump for supplying the gas G to the pipe 22. In the gas supply device 1, a pressure detection unit 30 that detects the pressure in the pipe 22 is provided between the flow rate control unit 23 and the nozzle 10.

ガス供給装置１は、制御部４０を備えている。制御部４０は、例えば、ＣＰＵ（中央演算処理装置）や各種記憶装置等を備え、これらがデータバス等によって接続された構成を有している。また、制御部４０は、外部の中央制御装置等に対して無線または有線で接続されてもよい。制御部４０は、圧力検出部３０からの検出信号を受信可能となっている。したがって、ノズル１０内の圧力（配管２２内の圧力）は、圧力検出部３０から適宜検出信号を受け取ることにより、制御部４０によって監視された状態となっている。制御部４０は、圧力検出部３０からの検出信号を、予め記憶装置等に記憶している適正値と比較することにより、ノズル１０内の圧力が適正な範囲に保たれているか否かを判断する。 The gas supply device 1 includes a control unit 40. The control unit 40 includes, for example, a CPU (Central Processing Unit), various storage devices, and the like, and these are connected by a data bus or the like. The control unit 40 may be connected to an external central control device or the like wirelessly or by wire. The control unit 40 can receive a detection signal from the pressure detection unit 30. Therefore, the pressure in the nozzle 10 (pressure in the pipe 22) is monitored by the control unit 40 by appropriately receiving a detection signal from the pressure detection unit 30. The control unit 40 determines whether or not the pressure in the nozzle 10 is maintained in an appropriate range by comparing the detection signal from the pressure detection unit 30 with an appropriate value stored in advance in a storage device or the like. To do.

制御部４０は、流量制御部２３に対してガスＧの流量を制御するための制御信号を出力する。流量制御部２３は、制御部４０によって制御されることでガスＧの流量をコントロールする。流量制御部２３としては、ＭＦＣ（マスフローコントローラ）が用いられるが、これに限定するものではない。なお、制御部４０は、例えば、キーボードや、マウスまたはジョイスティック等のポインティングデバイス、バーコードリーダ等の入力部４１と、液晶ディスプレイ等の表示部４２と、を備えている。入力部４１は、ノズル１０内の圧力と比較対象となる基準圧力値の設定、変更や、流量制御部２３によるガスＧの単位時間あたりの流量の設定を行う。表示部４２は、入力部４１で入力した情報の表示や、現在の稼働状況の表示を行う。ただし、ガス供給装置１が、制御部４０や入力部４１、表示部４２を備えるか否かは任意である。また、制御部４０は、圧力検出部３０の一部として構成されてもよい。 The control unit 40 outputs a control signal for controlling the flow rate of the gas G to the flow rate control unit 23. The flow rate control unit 23 controls the flow rate of the gas G by being controlled by the control unit 40. As the flow rate control unit 23, an MFC (mass flow controller) is used, but is not limited thereto. The control unit 40 includes, for example, a keyboard, a pointing device such as a mouse or a joystick, an input unit 41 such as a barcode reader, and a display unit 42 such as a liquid crystal display. The input unit 41 sets and changes the pressure in the nozzle 10 and the reference pressure value to be compared, and sets the flow rate of the gas G per unit time by the flow rate control unit 23. The display unit 42 displays information input by the input unit 41 and displays the current operation status. However, whether or not the gas supply device 1 includes the control unit 40, the input unit 41, and the display unit 42 is arbitrary. Further, the control unit 40 may be configured as a part of the pressure detection unit 30.

図２は、収納容器５０及びガス供給装置１の要部拡大断面図である。収納容器５０の注入口５１は、図２に示すように、収納容器５０の底部５０ｂにおいて、収納容器５０の内側に突出する円筒形の円筒凹部５１ａの中に、ユニット化された注入口ユニット５１ｕを装着した構造を有している。円筒凹部５１ａは、上端部分が内側に張り出した張出部５１ｂを有し、張出部５１ｂの内側に開口部５１ｃが形成されている。張出部５１ｂは、注入口ユニット５１ｕを保持するストッパ機能を有する。張出部５１ｂは、注入口ユニット５１ｕとの間にオーリング５１ｋを挟み込むことにより、両者間の間隙をシールする。 FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a main part of the storage container 50 and the gas supply device 1. As shown in FIG. 2, the inlet 51 of the storage container 50 is formed as a unitized inlet unit 51u in a cylindrical cylindrical recess 51a protruding inside the storage container 50 at the bottom 50b of the storage container 50. It has the structure which attached. The cylindrical recess 51a has a protruding portion 51b with an upper end portion protruding inward, and an opening 51c is formed inside the protruding portion 51b. The overhang portion 51b has a stopper function for holding the inlet unit 51u. The overhanging part 51b seals the gap between the two by sandwiching the O-ring 51k between the inlet unit 51u.

注入口ユニット５１ｕには、円筒形の胴部５１ｄの内部にパーティクルフィルタ５１ｆ及びチェック弁５１ｖを備えている。胴部５１ｄは、上端部分が内側に張り出した張出部５１ｅを有し、張出部５１ｅの内側にて開口部５１ｍが形成されている。パーティクルフィルタ５１ｆは、その外周縁部５１ｆｅが張出部５１ｅと重なるように配置され、開口部５１ｍを内側から覆うようにしている。 The injection unit 51u includes a particle filter 51f and a check valve 51v inside a cylindrical body 51d. The trunk portion 51d has a protruding portion 51e with an upper end portion protruding inward, and an opening 51m is formed inside the protruding portion 51e. The particle filter 51f is arranged so that the outer peripheral edge portion 51fe overlaps the overhanging portion 51e, and covers the opening 51m from the inside.

パーティクルフィルタ５１ｆの外周縁部５１ｆｅは、張出部５１ｅとオーリング５１ｊによって挟まれることにより、所定位置に保持される。オーリング５１ｊは、オーリング押え５１ｇによってパーティクルフィルタ５１ｆ側へ押圧された状態となっている。オーリング押え５１ｇは、胴部５１ｄの内周面に固着される。胴部５１ｂへの固着方法は特に限定されないが、例えば、オーリング押え５１ｇの外周面と胴部５１ｄの内周面とがネジ結合させる方法や、オーリング押え５１ｇを胴部５１ｄに圧入させる方法、接着剤等による方法などがある。 The outer peripheral edge 51fe of the particle filter 51f is held at a predetermined position by being sandwiched between the protruding portion 51e and the O-ring 51j. The O-ring 51j is in a state of being pressed toward the particle filter 51f side by the O-ring presser 51g. The O-ring presser 51g is fixed to the inner peripheral surface of the body 51d. The fixing method to the trunk portion 51b is not particularly limited. For example, a method in which the outer peripheral surface of the O-ring presser 51g and the inner peripheral surface of the barrel portion 51d are screw-coupled, or a method in which the O-ring presser 51g is press-fitted into the trunk portion 51d. And a method using an adhesive or the like.

オーリング押え５１ｇの下側（ガスＧの流れの上流側）に、チェック弁５１ｖが取り付けられている。チェック弁５１ｖは、収納容器５０内へのガスＧの流れを許容するとともに、逆流を防止する逆止弁または一方向弁である。チェック弁５１ｖは、胴部５１ｄの内周面に固着される。胴部５１ｄへの固着方法は特に限定されるものではないが、例えば、チェック弁５１ｖの外周部にゴム等の弾性体を取り付けて胴部５１ｄの内周面に押し付ける方法や、チェック弁５１ｖの外周面と胴部５１ｄの内周面とをネジ結合させる方法、接着剤等による方法などがある。 A check valve 51v is attached to the lower side of the O-ring presser 51g (upstream side of the gas G flow). The check valve 51v is a check valve or a one-way valve that allows the gas G to flow into the storage container 50 and prevents backflow. The check valve 51v is fixed to the inner peripheral surface of the trunk portion 51d. The fixing method to the trunk portion 51d is not particularly limited. For example, a method of attaching an elastic body such as rubber to the outer peripheral portion of the check valve 51v and pressing it on the inner peripheral surface of the trunk portion 51d, or the check valve 51v There are a method for screwing the outer peripheral surface and the inner peripheral surface of the body 51d, a method using an adhesive, and the like.

チェック弁５１ｖの取り付け位置は、例えば、その下端面５１ｖｅが胴部５１ｄの下端部５１ｄｅよりも上方側に位置するようになっている。これによって、後述するノズル１０の先端突出部１０ｂが挿入される挿入スペース５１ｎが形成されている。 The mounting position of the check valve 51v is, for example, such that its lower end surface 51ve is positioned above the lower end portion 51de of the body portion 51d. As a result, an insertion space 51n into which a tip protruding portion 10b of the nozzle 10 described later is inserted is formed.

注入口５１は、円筒凹部５１ａ内にオーリング５１ｋを配置した後に、注入口ユニット５１ｕを、嵌め込んで固定することにより形成される。注入口ユニット５１ｕの固定方法は特に制限するものではないが、例えば、胴部５１ｄの外周面と円筒凹部５１ａの内周面とをネジ結合させる方法や、胴部５１ｄを円筒凹部５１ａに圧入させる方法、剥離可能な接着剤等による方法などがある。注入口ユニット５１ｕは、円筒凹部５１ａ（収納容器５０）に対して着脱自在に構成されている。これにより、パーティクルフィルタ５１ｆやチェック弁５１ｖの交換に際しては、注入口ユニット５１ｕの交換によって対応可能となっており、パーティクルフィルタ５１ｆ等の交換を容易に行うことができる。 The injection port 51 is formed by fitting and fixing the inlet unit 51u after arranging the O-ring 51k in the cylindrical recess 51a. The fixing method of the inlet unit 51u is not particularly limited. For example, a method of screwing the outer peripheral surface of the barrel portion 51d and the inner peripheral surface of the cylindrical recess portion 51a, or press-fitting the barrel portion 51d into the cylindrical recess portion 51a. And a method using a peelable adhesive or the like. The inlet unit 51u is configured to be detachable from the cylindrical recess 51a (storage container 50). Thus, the replacement of the particle filter 51f and the check valve 51v can be handled by replacing the inlet unit 51u, and the particle filter 51f and the like can be easily replaced.

ノズル１０は、載置台６０の表面に形成された、扁平な略円筒形のノズル本体部１０ａを有している。このノズル本体部１０ａは、その中央に、ガス流路部１０ｇを備えており、このガス流路部１０ｇが、載置台６０を貫通して配管２２に接続されている。ノズル本体部１０ａの上端面には、その中央部分が外周部分よりも上方に突出する突出部１０ｂが設けられている。突出部１０ｂ内にもガス流路部１０ｇが配置されている。 The nozzle 10 has a flat, substantially cylindrical nozzle body 10 a formed on the surface of the mounting table 60. The nozzle body 10 a includes a gas flow path portion 10 g at the center thereof, and the gas flow path portion 10 g passes through the mounting table 60 and is connected to the pipe 22. The upper end surface of the nozzle body 10a is provided with a protruding portion 10b whose central portion protrudes above the outer peripheral portion. The gas flow path part 10g is also arrange | positioned in the protrusion part 10b.

突出部１０ｂよりも低い外周部分は、注入口ユニット５１ｕの胴部５１ｄの下端部５１ｄｅが当接する平坦な環状の当接部１０ｃとして形成されている。当接部１０ｃと、胴部５１ｄの下端部５１ｄｅとが当接することで両者間がシールされ、ノズル１０から排出されたガスＧが外部に漏出しないようにしている。突出部１０ｂの側面は、先端側から当接部１０ｃに向かって広がるようなテーパ部１０ｔとして形成されている。外周テーパ側面１０ｔは、後述するように、ノズル１０と注入口５１とが接続される際に、ノズル１０の誘い込み面として機能する。 The outer peripheral part lower than the protruding part 10b is formed as a flat annular contact part 10c with which the lower end part 51de of the body part 51d of the inlet unit 51u contacts. The contact portion 10c and the lower end portion 51de of the body portion 51d are in contact with each other so that the gap between the two is sealed and the gas G discharged from the nozzle 10 is prevented from leaking to the outside. The side surface of the protruding portion 10b is formed as a tapered portion 10t that extends from the tip side toward the contact portion 10c. As will be described later, the outer peripheral tapered side surface 10t functions as a leading surface for the nozzle 10 when the nozzle 10 and the injection port 51 are connected.

図３（ａ）は、ガス供給装置１のノズル１０を備えた載置台６０の斜視図、図３（ｂ）は、収納容器５０の底面図である。ノズル１０は、図３（ａ）に示すように、載置台６０上に２個形成されている。また、ノズル１０とは別に、排気ノズル１２が２個設けられている。ただし、ノズル１０や排気ノズル１２の個数は任意であり、例えば、ノズル１０の個数が排気ノズル１２の個数より多くてもよい。この載置台６０は、例えば支持フレーム１０１により一端側が保持されている。ただし、載置台６０は図３に示すような片側支持構造により支持されることに限定されず、例えば、載置台６０の下側が床あるいは梁などにより適宜支持される構造であってもよい。 FIG. 3A is a perspective view of the mounting table 60 provided with the nozzle 10 of the gas supply device 1, and FIG. 3B is a bottom view of the storage container 50. As shown in FIG. 3A, two nozzles 10 are formed on the mounting table 60. In addition to the nozzle 10, two exhaust nozzles 12 are provided. However, the number of nozzles 10 and exhaust nozzles 12 is arbitrary. For example, the number of nozzles 10 may be larger than the number of exhaust nozzles 12. One end of the mounting table 60 is held by a support frame 101, for example. However, the mounting table 60 is not limited to be supported by a one-side support structure as shown in FIG. 3. For example, a structure in which the lower side of the mounting table 60 is appropriately supported by a floor or a beam may be used.

また、載置台６０は、支持フレーム１０１とは反対側の他端側を切り欠いた形状の切り欠き部６０ａが形成されている。ノズル１０及び排気ノズル１２は、切り欠き部６０ａを囲むように左右対称に配置されている。この配置は、図３（ｂ）に示すように、収納容器５０の注入口５１及び排出口５２の配置に合わせて設定される。したがって、収納容器５０において注入口５０等の配置が異なる場合は、その配置に合わせて載置台６０のノズル１０等の配置が適宜変更される。また、切り欠き部６０ａは、移載装置の容器支持台１１４に収納容器５０を載置して搬送する場合、載置台６０への収納容器５０の受け渡しに際して容器支持台１１４と干渉しない形状となっている。 Further, the mounting table 60 is formed with a notch 60 a having a shape in which the other end opposite to the support frame 101 is notched. The nozzle 10 and the exhaust nozzle 12 are arranged symmetrically so as to surround the notch 60a. This arrangement is set in accordance with the arrangement of the inlet 51 and the outlet 52 of the storage container 50 as shown in FIG. Accordingly, when the arrangement of the injection port 50 and the like is different in the storage container 50, the arrangement of the nozzle 10 and the like of the mounting table 60 is appropriately changed according to the arrangement. Further, when the storage container 50 is placed on the container support base 114 of the transfer device and transported, the cutout portion 60a has a shape that does not interfere with the container support base 114 when the storage container 50 is transferred to the placement base 60. ing.

排気ノズル１２は、構造的にはノズル１０と同様である。この排気ノズル１２に接続される排出口５２（図１参照）は、注入口５１とは異なった構造となる。すなわち、排出口５２は、注入口５１とは逆向きのチェック弁５２ｖを備えており、収納容器５０内のガスを外部に排出できるようになっている。また、排出口５２は、パーティクルフィルタ５１ｆは不要であり、設けられていない。排出口５２は、注入口５１と同様にユニット化されており、交換可能となっている。また、この排出口５２のユニットを注入口ユニット５１ｕに代えて注入口５１としてもよい。 The exhaust nozzle 12 is structurally similar to the nozzle 10. A discharge port 52 (see FIG. 1) connected to the exhaust nozzle 12 has a different structure from the injection port 51. In other words, the discharge port 52 is provided with a check valve 52v opposite to the injection port 51 so that the gas in the storage container 50 can be discharged to the outside. Further, the discharge port 52 does not require the particle filter 51f and is not provided. The discharge port 52 is unitized similarly to the injection port 51 and can be replaced. Further, the unit of the discharge port 52 may be replaced with the injection port unit 51u to serve as the injection port 51.

なお、載置台６０に排気ノズル１２を付けるか否かは任意である。排気ノズル１２を形成しない場合であっても、収納容器５０内に供給されたガスＧは、排出口５２や蓋部５０ａの隙間等から外部に排出される。また、ノズル１０や排気ノズル１２は、例えば、弾性を有する樹脂やゴム等が用いられる。これにより、収納容器５０を載置台６０に置いたときに、収納容器５０の自重によって、当接部１０ｃに胴部５１ｄの下端部５１ｄｅをくい込ませることができ、シール機能を向上させることができる。 Note that whether or not the exhaust nozzle 12 is attached to the mounting table 60 is arbitrary. Even when the exhaust nozzle 12 is not formed, the gas G supplied into the storage container 50 is exhausted to the outside through a clearance between the exhaust port 52 and the lid 50a. The nozzle 10 and the exhaust nozzle 12 are made of, for example, elastic resin or rubber. Thereby, when the storage container 50 is placed on the mounting table 60, the lower end 51de of the body part 51d can be inserted into the abutting part 10c by the weight of the storage container 50, and the sealing function can be improved. .

また、載置台６０には、図３（ａ）に示すように、突出ピン６１が３個設けられている。突出ピン６１の高さは、ノズル１０の高さＨ（図２参照）よりも高く形成されている。また、突出ピン６１にそれぞれ隣接した位置には、センサ６２が設けられている。このセンサ６２は、例えば、収納容器５０の底部５０ｂを検出して、収納容器５０が載置台６０の上に載置されたか否かを検出する。 Further, as shown in FIG. 3A, the mounting table 60 is provided with three protruding pins 61. The height of the protruding pin 61 is formed higher than the height H of the nozzle 10 (see FIG. 2). Sensors 62 are provided at positions adjacent to the protruding pins 61. For example, the sensor 62 detects the bottom 50 b of the storage container 50 to detect whether or not the storage container 50 is placed on the mounting table 60.

一方、収納容器５０の底部５０ｂには、図３の（ｂ）に示すように、注入口５１及び排気口５２とともに、突出ピン６１が挿入される３個の溝部５０ｍが形成されている。この溝部５０ｍは、長手方向が底部５０ｂの中央に向かうようにそれぞれ形成されており、さらに、後述するように、搬送装置の容器支持台１１４のピンも挿入可能な長さに形成されている。上記のように、突出ピン６１は、ノズル１０の高さＨよりも高いため、収納容器５０を載置台６０に載置する場合、溝部６０に入り込むことで収納容器５０を位置決めする。これにより、ノズル１０や排気ノズル１２に対して、注入口５１や排出口５２を容易に位置決めすることができ、それぞれの接続を確実に行うことができる。 On the other hand, as shown in FIG. 3B, the bottom 50b of the storage container 50 is formed with three grooves 50m into which the projecting pins 61 are inserted together with the injection port 51 and the exhaust port 52. Each of the groove portions 50m is formed so that the longitudinal direction thereof is directed toward the center of the bottom portion 50b. Further, as will be described later, the groove portion 50m is formed to have a length capable of inserting a pin of the container support base 114 of the transfer device. As described above, since the protruding pin 61 is higher than the height H of the nozzle 10, when the storage container 50 is mounted on the mounting table 60, the storage container 50 is positioned by entering the groove portion 60. Thereby, the inlet 51 and the outlet 52 can be easily positioned with respect to the nozzle 10 and the exhaust nozzle 12, and the respective connections can be reliably performed.

また、流量制御部２３としてＭＦＣが用いられる場合、ノズル１０からのガスＧの供給または停止はＭＦＣによって行われる。ただし、ＭＦＣが用いられない場合は、ノズル１０に、ガスＧの供給または停止を行う開閉弁が設けられてもよい。この開閉弁は、制御部４０からの指示により動作するか、または手動によって動作可能としてもよい。制御部４０からの指示により動作する場合、上記した載置台６０のセンサ６２から収納容器５０が載置された検出結果に基づいて、制御部４０が開閉弁を開放させるものでもよい。また、制御部４０によらず、例えば収納容器５０を載置台６０に載置した場合、収納容器５０の自重によって解放弁を開放させるような機構が組み込まれてもよい。 When MFC is used as the flow rate control unit 23, the supply or stop of the gas G from the nozzle 10 is performed by the MFC. However, when MFC is not used, the nozzle 10 may be provided with an on-off valve that supplies or stops the gas G. This on-off valve may be operated by an instruction from the control unit 40 or may be manually operable. In the case of operating according to an instruction from the control unit 40, the control unit 40 may open the on-off valve based on the detection result that the storage container 50 is mounted from the sensor 62 of the mounting table 60 described above. For example, when the storage container 50 is mounted on the mounting table 60, a mechanism that opens the release valve by the weight of the storage container 50 may be incorporated without depending on the control unit 40.

続いて、上記したガス供給装置１を用いて収納容器５０にガスＧを供給する場合について説明する。先ず、ウェハ等１５が収納されて蓋部５０ａが閉じられた収納容器５０は、搬送装置等によって載置台６０に載置される。このとき、上記したように、突出ピン６１によって収納容器５０は位置決めされるため、載置台６０のノズル１０及び排気ノズル１２は、正確に収納容器５０の注入口５１及び排出口５２に接続される（図１に示す状態）。なお、搬送装置は、例えば３本のピンを備える容器支持台１１４を用いて、収納容器５０の底部５０ｂの溝部５０ｍに各ピンを挿入させた状態で保持して搬送する形態の他に、収納容器５０の上部に形成された把持部５０ｈを掴んで搬送する形態がある。 Next, a case where the gas G is supplied to the storage container 50 using the gas supply device 1 described above will be described. First, the storage container 50 in which the wafer 15 or the like 15 is stored and the lid portion 50a is closed is placed on the mounting table 60 by a transfer device or the like. At this time, since the storage container 50 is positioned by the protruding pin 61 as described above, the nozzle 10 and the exhaust nozzle 12 of the mounting table 60 are accurately connected to the injection port 51 and the discharge port 52 of the storage container 50. (State shown in FIG. 1). In addition to the form which hold | maintains and conveys a conveying apparatus in the state which inserted each pin in the groove part 50m of the bottom part 50b of the storage container 50 using the container support stand 114 provided with three pins, for example, storage There is a form in which a grasping part 50h formed on the upper part of the container 50 is grasped and conveyed.

ノズル１０及び排気ノズル１２は、収納容器５０が載置台６０に載置されたときに、注入口５１及び排出口５２とそれぞれ接続されるので、収納容器５０を載置台６０に置くだけでガスＧを注入するための流路ならびに排気の流路が形成され、収納容器５０内へのガスＧの注入を容易に行うことができる。 The nozzle 10 and the exhaust nozzle 12 are connected to the injection port 51 and the discharge port 52, respectively, when the storage container 50 is mounted on the mounting table 60, so that the gas G can be obtained simply by placing the storage container 50 on the mounting table 60. A flow path for injecting gas and an exhaust flow path are formed, and the gas G can be easily injected into the storage container 50.

続いて、ガス供給装置１を動作させてガス供給源２１からガスＧを、配管２２を介してノズル１０に供給する。ノズル１０から放出されたガスＧは、チェック弁５１ｖ及びパーティクルフィルタ５１ｆを介して収納容器５０内に供給される。ガスＧの供給に際して、圧力検出部３０は所定の間隔で圧力の検出値を制御部４０に出力している。制御部４０は、受信した圧力値が正常であるか、異常であるかを判断する。 Subsequently, the gas supply device 1 is operated to supply the gas G from the gas supply source 21 to the nozzle 10 via the pipe 22. The gas G released from the nozzle 10 is supplied into the storage container 50 through the check valve 51v and the particle filter 51f. When supplying the gas G, the pressure detection unit 30 outputs a detected pressure value to the control unit 40 at a predetermined interval. The control unit 40 determines whether the received pressure value is normal or abnormal.

図４は、供給ガス流量と圧力Ｐとの関係を示すグラフである。図４のグラフにおいて、横軸は、供給するガスＧの流量であり、規定の流量に対するパーセンテージで表している。一方、縦軸は、同様に既定の圧力に対するパーセンテージで表している。なお、これら既定の流量や圧力は、予め試験等により収納容器５０に適切にガスＧを供給できることを確認した流量及び圧力が用いられる。 FIG. 4 is a graph showing the relationship between the supply gas flow rate and the pressure P. In the graph of FIG. 4, the horizontal axis represents the flow rate of the gas G to be supplied and is expressed as a percentage of the specified flow rate. On the other hand, the vertical axis is similarly expressed as a percentage of the predetermined pressure. Note that these predetermined flow rates and pressures are the flow rates and pressures that have been confirmed in advance by testing or the like to appropriately supply the gas G to the storage container 50.

ガスＧが適正に収納容器５０に供給されている場合、図４の上側の実線に示すようにあらわれる。すなわち、図４に示すように、「正常なガス供給」の場合、ガスＧを既定の流量で供給（既定の流量に対して１００％で供給）すると、圧力Ｐは９０％弱〜１００％弱の範囲Ｒとなる。この圧力は、チェック弁５１ｖやパーティクルフィルタ５１ｆが正常に機能していることによる抵抗によって生じる圧力である。なお、範囲Ｒは、予め制御部４０の記憶装置等に記録されている。制御部４０は、圧力検出部３０から受信した圧力値が範囲Ｒに入っているかを判断し、範囲Ｒに入っている場合は正常と判断する。 When the gas G is properly supplied to the storage container 50, it appears as shown by the solid line on the upper side of FIG. That is, as shown in FIG. 4, in the case of “normal gas supply”, when the gas G is supplied at a predetermined flow rate (supplied at 100% with respect to the predetermined flow rate), the pressure P is less than 90% to less than 100%. This is the range R. This pressure is a pressure generated by resistance due to the normal functioning of the check valve 51v and the particle filter 51f. The range R is recorded in advance in a storage device of the control unit 40. The control unit 40 determines whether or not the pressure value received from the pressure detection unit 30 is in the range R. If the pressure value is in the range R, the control unit 40 determines that the pressure value is normal.

また、収納容器５０に対してガスＧが供給されると、収納容器５０内に当初入っていたガスは排気口５２から排気ノズル１２を介して外部に排出される。この結果、収納容器５０内は、所定のガスＧにより満たされ、ウェハ等１５に対して所定の環境が形成される。なお、収納容器５０に供給されるガスＧは、流量制御部２３によって予め設定された流量が供給された後に供給を停止するか、あるいは予め設定された供給時間を経過した後に供給を停止する。 Further, when the gas G is supplied to the storage container 50, the gas that was initially in the storage container 50 is discharged to the outside from the exhaust port 52 through the exhaust nozzle 12. As a result, the inside of the storage container 50 is filled with a predetermined gas G, and a predetermined environment is formed for the wafer 15 or the like. The gas G supplied to the storage container 50 is stopped after the flow rate preset by the flow rate control unit 23 is supplied, or is stopped after a preset supply time has elapsed.

また、ガスＧが適正に収納容器５０に供給されない場合、図４の下側の実線や点線に示すようにあらわれる。すなわち、図４に示すように、「異常なガス供給」の場合、ガスＧを既定の流量で供給しても、そのときの圧力Ｐは範囲Ｒから外れた値となる。 Further, when the gas G is not properly supplied to the storage container 50, it appears as shown by the solid line and the dotted line on the lower side of FIG. That is, as shown in FIG. 4, in the case of “abnormal gas supply”, even if the gas G is supplied at a predetermined flow rate, the pressure P at that time is out of the range R.

図５は、ガス供給装置１において、ガス供給に不具合が生じる場合の要部拡大断面図である。図５（ａ）に示すように、例えば、注入口５１のパーティクルフィルタ５１ｆが誤って位置ずれしてセットされている場合には、パーティクルフィルタ５１ｆがオーリング５１ｊから外れてしまい、隙間５８が形成されてしまう。その結果、パーティクルフィルタ５１ｆを通過せずに、隙間５８から収納容器５０内に流入するガスＧが生じることになる。これにより、ガスＧに含んだ塵埃等がそのまま収納容器５０内に浸入し、ウェハ等１５に付着するおそれを有している。 FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of a main part when a problem occurs in gas supply in the gas supply device 1. As shown in FIG. 5A, for example, when the particle filter 51f of the injection port 51 is set by being misaligned, the particle filter 51f is detached from the O-ring 51j, and a gap 58 is formed. Will be. As a result, gas G that flows into the storage container 50 from the gap 58 without passing through the particle filter 51f is generated. As a result, dust or the like contained in the gas G may enter the storage container 50 as it is and adhere to the wafer 15 or the like.

図５（ａ）に示す状況では、ガスＧがパーティクルフィルタ５１ｆを通過しない箇所が生じるので、パーティクルフィルタ５１ｆを通過する抵抗が減少し、ガスＧの圧力Ｐは、図４に示すように、既定の範囲Ｒから外れた低い値になる。 In the situation shown in FIG. 5 (a), there are places where the gas G does not pass through the particle filter 51f, so that the resistance passing through the particle filter 51f decreases, and the pressure P of the gas G is predetermined as shown in FIG. The value is out of the range R.

また、汚染されたガス注入が行われてしまう状況としては、図５（ｂ）に示すように、パーティクルフィルタ５１ｆの外周縁部５１ｆｅが張出部５１ｂから外れることも考えられる。このような状況では、パーティクルフィルタ５１ｆと張出部５１ｂとの隙間５８が大きく形成されるため、多量のガスＧが隙間５８を介して収納容器５０に流入する。したがって、ガスＧの大半がパーティクルフィルタ５１ｆを通過しないため、その圧力Ｐは図５（ａ）に示す場合よりさらに低い値となる。 Further, as a situation where the contaminated gas is injected, it is also conceivable that the outer peripheral edge portion 51fe of the particle filter 51f is detached from the protruding portion 51b as shown in FIG. In such a situation, the gap 58 between the particle filter 51f and the overhanging portion 51b is formed large, so that a large amount of gas G flows into the storage container 50 through the gap 58. Therefore, since most of the gas G does not pass through the particle filter 51f, the pressure P is lower than that in the case shown in FIG.

図５（ｂ）に示す状況においても、図５（ａ）と同様「異常なガス供給」である。ガスＧの大半がパーティクルフィルタ５１ｆを通過しないので、パーティクルフィルタ５１ｆを通過する抵抗が大幅に減少し、ガスＧの圧力Ｐは、既定の範囲Ｒから大きく外れた低い値になる（図４にて不図示）。 Also in the situation shown in FIG. 5B, the “abnormal gas supply” is the same as in FIG. Since most of the gas G does not pass through the particle filter 51f, the resistance passing through the particle filter 51f is greatly reduced, and the pressure P of the gas G becomes a low value that is far from the predetermined range R (in FIG. 4). Not shown).

なお、ガスＧの注入における異常は、パーティクルフィルタ５１ｆのセッティング異常によるものだけではなく、その他、チェック弁５１ｖが解放状態のままとなっている場合や、ノズル１０が注入口５１に適切に接続されていない等の気密性の不良などが生じた場合にも生じる。これらの場合は、いずれも圧力Ｐが低下して範囲Ｒから外れるため「異常なガス供給」となり、検出可能となっている。 The abnormality in the injection of the gas G is not only due to an abnormality in the setting of the particle filter 51f. In addition, when the check valve 51v remains in the released state, the nozzle 10 is appropriately connected to the injection port 51. It also occurs when there is a bad airtightness such as not. In any of these cases, the pressure P decreases and deviates from the range R, so that “abnormal gas supply” occurs and detection is possible.

また、ガスＧの注入における異常は、パーティクルフィルタ５１ｆが目詰まりを起したような場合や、チェック弁５１ｖが開かない場合、ノズル１０や配管２２の一部または全部が閉塞している場合によっても生じる。このような場合は、図５に示すような圧力Ｐの低下とは異なり、図４の点線で示すように、圧力Ｐが上昇する。このような場合においても、圧力Ｐが範囲Ｒから外れるため、「異常なガス供給」となっていることが判断できる。 Further, abnormalities in the injection of the gas G may be caused when the particle filter 51f is clogged, when the check valve 51v is not opened, or when a part or all of the nozzle 10 or the piping 22 is blocked. Arise. In such a case, unlike the decrease in the pressure P as shown in FIG. 5, the pressure P increases as shown by the dotted line in FIG. Even in such a case, since the pressure P is out of the range R, it can be determined that “abnormal gas supply” has occurred.

このように、収納容器５０の注入口５１に接続するノズル１０からガスＧを供給するときに、ノズル１０内の圧力Ｐが所定圧力から外れたことを検出することにより、ガスＧが正常に供給されていないことが判別できる。この検出によって、ガス供給の停止等の適切な対応を迅速に行うことが可能である。 Thus, when the gas G is supplied from the nozzle 10 connected to the inlet 51 of the storage container 50, the gas G is normally supplied by detecting that the pressure P in the nozzle 10 has deviated from the predetermined pressure. It can be determined that it has not been done. By this detection, it is possible to quickly take appropriate measures such as stopping the gas supply.

制御部４０は、圧力検出部３０から受信した圧力値が範囲Ｒに入っているかを判断し、範囲Ｒに入っていない場合は異常と判断する。なお、圧力Ｐの範囲Ｒは任意に設定可能である。また、範囲Ｒは、収納容器５０に設置されるパーティクルフィルタ５１ｆやチェック弁５１ｖの種類に応じて適宜変更されてもよい。制御部４０は、異常と判断した場合に、流量制御部２３にガスＧの供給を停止するように指示してもよい。また、制御部４０は、不図示の開閉弁を閉じて、ガスＧの供給を停止させてもよい。さらに、制御部４０は、異常であることを表示部４２に表示させてもよい。また、制御部４０は、異常と判断した場合に、音声や発光等によるアラームを生じさせてもよく、異常が生じた旨を中央制御装置等に送信してもよい。 The control unit 40 determines whether or not the pressure value received from the pressure detection unit 30 is within the range R. If the pressure value is not within the range R, the control unit 40 determines that it is abnormal. Note that the range R of the pressure P can be arbitrarily set. The range R may be changed as appropriate according to the type of the particle filter 51f and the check valve 51v installed in the storage container 50. The control unit 40 may instruct the flow rate control unit 23 to stop the supply of the gas G when it is determined to be abnormal. Moreover, the control part 40 may close the on-off valve not shown, and may stop supply of the gas G. Further, the control unit 40 may cause the display unit 42 to display that there is an abnormality. In addition, when it is determined that there is an abnormality, the control unit 40 may generate an alarm by sound, light emission, or the like, or may transmit that the abnormality has occurred to the central control device or the like.

また、本実施形態においては、圧力Ｐが範囲Ｒから外れるか否かにより判断しているが、これに限定されない。例えば、図４に示す「正常なガス供給」のグラフを予め設定しておき、このグラフから外れることで正常または異常を判断してもよい。これにより、ガスＧの流量が変化した場合でも、その流量に応じた圧力を基準とすることにより、正常または異常を判断することができる。この場合、正常な圧力値に対して±５％など、圧力値の許容範囲を設定してもよい。 In the present embodiment, the determination is made based on whether or not the pressure P is out of the range R, but the present invention is not limited to this. For example, a graph of “normal gas supply” shown in FIG. 4 may be set in advance, and normality or abnormality may be determined by deviating from this graph. Thereby, even when the flow rate of the gas G changes, normality or abnormality can be determined by using the pressure according to the flow rate as a reference. In this case, an allowable range of the pressure value such as ± 5% with respect to the normal pressure value may be set.

＜第２実施形態＞
第２実施形態に係る自動倉庫のガス供給装置について、図６を参照しながら説明する。図６は、ガス供給装置１ａを示した要部概略図である。ガス供給装置１ａは、図１に示すガス供給装置と同様、収納容器５０内にガスＧを供給するための装置である。なお、本実施形態においては、第１実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略または簡略化する。 Second Embodiment
An automatic warehouse gas supply device according to a second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a main part schematic diagram showing the gas supply device 1a. The gas supply device 1a is a device for supplying the gas G into the storage container 50, similarly to the gas supply device shown in FIG. In the present embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted or simplified.

このガス供給装置１ａは、収納容器５０に備える複数の注入口５１のそれぞれに対応するように、ガス供給系２０として、流量調整部２３からガスＧを供給する複数の系統を有する。図６に示すように、流量調整部２３には配管２２ａが接続され、別のノズル１０に供給される。この配管２２ａには、圧力検出部３０ａが設けられている。この圧力検出部３０ａは、図１に示す圧力検出部３０と同様であり、検出信号は、制御部４０に送信されている。なお、図６では、２つの注入口５１について図示しているが、３つ以上の注入口５１についても同様に構成される。 The gas supply device 1 a has a plurality of systems for supplying the gas G from the flow rate adjusting unit 23 as the gas supply system 20 so as to correspond to the plurality of injection ports 51 provided in the storage container 50. As shown in FIG. 6, a pipe 22 a is connected to the flow rate adjusting unit 23 and supplied to another nozzle 10. The pipe 22a is provided with a pressure detector 30a. The pressure detection unit 30 a is the same as the pressure detection unit 30 shown in FIG. 1, and the detection signal is transmitted to the control unit 40. In FIG. 6, two injection ports 51 are illustrated, but three or more injection ports 51 are similarly configured.

制御部４０は、圧力検出部３０、３０ａのそれぞれから送られた検出結果に基づいて、上記したように範囲Ｒから外れているか否かを判断し、正常または異常のガス供給のいずれかを決定する。ただし、このような複数の圧力値を取得する場合、それぞれの圧力値について範囲Ｒと比較することに限定されない。例えば、図４に示すように、２つの圧力値のうち一方が正常な場合、制御部４０は、他方の圧力値との差圧Ｑ１を算出し、この差圧Ｑ１が閾値を超えた場合にガスＧの供給が異常と判断してもよい。また、圧力値が正常な場合より高い場合についても、図４に示すように、差圧Ｑ２を算出し、この差圧Ｑ２が閾値を超えた場合にガスＧの供給が異常と判断される。 Based on the detection results sent from each of the pressure detection units 30 and 30a, the control unit 40 determines whether or not the gas is out of the range R as described above, and determines whether the gas supply is normal or abnormal. To do. However, when acquiring such a plurality of pressure values, it is not limited to comparing each pressure value with the range R. For example, as shown in FIG. 4, when one of the two pressure values is normal, the control unit 40 calculates a differential pressure Q1 from the other pressure value, and when the differential pressure Q1 exceeds a threshold value. The supply of the gas G may be determined to be abnormal. Also, when the pressure value is higher than the normal value, as shown in FIG. 4, the differential pressure Q2 is calculated, and when the differential pressure Q2 exceeds the threshold value, the supply of the gas G is determined to be abnormal.

また、制御部４０は、２つの圧力値のうち一方が正常な場合、他方の圧力値との比を算出し、この比が閾値を超えた場合にガス供給が異常と判断してもよい。なお、ガスＧの供給系統が３つ以上の場合も、それぞれについて差圧や比が算出されて、閾値を超えたか否かが判断される。また、差圧Ｑ１、Ｑ２や比の閾値は、予め実験等によって設定される。差圧Ｑ１、Ｑ２や比が閾値を超える場合、全ての配管２２、２２ａによるガスＧの供給を停止してもよい。また、差圧Ｑ１、Ｑ２や比が閾値を超える場合、各圧力値を範囲Ｒと比較することにより、異常が生じたノズル１０を特定してもよい。 Further, when one of the two pressure values is normal, the control unit 40 may calculate a ratio with the other pressure value, and may determine that the gas supply is abnormal when the ratio exceeds a threshold value. In the case where there are three or more gas G supply systems, a differential pressure or a ratio is calculated for each, and it is determined whether or not a threshold value has been exceeded. Further, the differential pressures Q1 and Q2 and the ratio threshold are set in advance through experiments or the like. When the differential pressures Q1 and Q2 and the ratio exceed the threshold value, the supply of the gas G through all the pipes 22 and 22a may be stopped. Further, when the differential pressures Q1 and Q2 and the ratio exceed the threshold value, the nozzle 10 in which an abnormality has occurred may be specified by comparing each pressure value with the range R.

このように、本実施形態においては、圧力検出部３０が、複数のノズル内のガス圧力を比較し、その圧力の差または比が所定値を超えたときにノズル１０のいずれかの供給が異常と判断する。したがって、各圧力値を基準圧力とそれぞれ比較するといった処理が不要であり、ノズル１０間の圧力の比較といった簡単な処理で、ガス供給の異常を迅速に検出することができる。 As described above, in the present embodiment, the pressure detection unit 30 compares the gas pressures in the plurality of nozzles, and the supply of any of the nozzles 10 is abnormal when the pressure difference or ratio exceeds a predetermined value. Judge. Therefore, the process of comparing each pressure value with the reference pressure is unnecessary, and the gas supply abnormality can be detected quickly by a simple process such as comparing the pressures between the nozzles 10.

＜自動倉庫＞
自動倉庫の実施形態について、図７及び図８を参照しながら説明する。図７は、収納容器５０を保管する自動倉庫１００の要部斜視図である。図８は、自動倉庫１００を側面側から見た概略側面図である。この自動倉庫１００は、複数の収納容器５０を保管するとともに、保管中に収納容器５０内に所定のガスＧを供給するパージストッカである。なお、本実施形態においては、第１実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略または簡略化する。 <Automatic warehouse>
An embodiment of an automatic warehouse will be described with reference to FIGS. FIG. 7 is a perspective view of a main part of the automatic warehouse 100 that stores the storage container 50. FIG. 8 is a schematic side view of the automatic warehouse 100 as viewed from the side. The automatic warehouse 100 is a purge stocker that stores a plurality of storage containers 50 and supplies a predetermined gas G into the storage containers 50 during storage. In the present embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted or simplified.

図７及び図８に示すように、自動倉庫１００は、床９０に設置された支持フレーム１０１と、支持フレーム１０１の内側に水平かつ多段（本実施形態においては４段）に配列された複数の載置台６０と、床９０上を走行するスタッカクレーン１１０と、載置台６０にガスＧを供給するガス供給装置１と、を備えている。なお、この自動倉庫１００では、図１に示すガス供給装置１が用いられるが、これに代えて、図６に示すガス供給装置１ａが用いられてもよい。各載置台６０のそれぞれには、配管２２等からなるガス供給系２０を介してガスＧが供給される。載置台６０のそれぞれには、流量制御部２３（ＭＦＣ）及び圧力検出部３０が設置されている。 As shown in FIGS. 7 and 8, the automatic warehouse 100 includes a support frame 101 installed on a floor 90 and a plurality of horizontal and multistage (four stages in this embodiment) arrayed inside the support frame 101. The mounting table 60, the stacker crane 110 that travels on the floor 90, and the gas supply device 1 that supplies the gas G to the mounting table 60 are provided. In the automatic warehouse 100, the gas supply device 1 shown in FIG. 1 is used, but instead, the gas supply device 1a shown in FIG. 6 may be used. A gas G is supplied to each mounting table 60 via a gas supply system 20 including a pipe 22 and the like. Each of the mounting tables 60 is provided with a flow rate control unit 23 (MFC) and a pressure detection unit 30.

なお、図７では説明のため自動倉庫１００の外側（支持フレーム１０１の外側）に流量制御部２３を記載しているが、図８に示すように、支持フレーム１０１内（自動倉庫１００内）に各流量制御部２３が設置されている。ただし、流量制御部２３の一部または全部を支持フレーム１０１の外側に配置してもよい。また、ガス供給源２１や制御部４０は、支持フレーム１０１の外側に配置されているが、支持フレーム１０１内（自動倉庫１００内）に配置されてもよい。 In FIG. 7, the flow rate control unit 23 is shown outside the automatic warehouse 100 (outside the support frame 101) for the sake of explanation. However, as shown in FIG. Each flow control unit 23 is installed. However, part or all of the flow rate control unit 23 may be disposed outside the support frame 101. Moreover, although the gas supply source 21 and the control part 40 are arrange | positioned on the outer side of the support frame 101, you may arrange | position in the support frame 101 (inside the automatic warehouse 100).

各載置台６０に対するガスＧの供給または停止は、それぞれの流量制御部２３（ＭＦＣ）によって行っており、各載置台６０に対して選択的にガスＧを供給できるようにしている。制御部４０は、第１実施形態と同様に、各圧力検出部３０からの検出信号を受信するとともに、各流量制御部２３（ＭＦＣ）の制御を行う。また、制御部４０は、後述するスタッカクレーン１１０の動作を制御してもよく、収納容器５０の搬入及び搬出を１つの制御部４０で行ってもよい。なお、上記では載置台６０ごとに流量制御部２３（ＭＦＣ）及び圧力検出部３０が配置されているが、これに限定されない。例えば、２以上の載置台６０に対して流量制御部２３（ＭＦＣ）及び圧力検出部３０の一方または双方を兼用させるようにしてもよい。 Supply or stop of the gas G to each mounting table 60 is performed by each flow rate control unit 23 (MFC), and the gas G can be selectively supplied to each mounting table 60. As in the first embodiment, the control unit 40 receives the detection signal from each pressure detection unit 30 and controls each flow rate control unit 23 (MFC). Moreover, the control part 40 may control operation | movement of the stacker crane 110 mentioned later, and may carry in and carrying out the storage container 50 by one control part 40. FIG. In the above description, the flow rate control unit 23 (MFC) and the pressure detection unit 30 are arranged for each mounting table 60, but the present invention is not limited to this. For example, one or both of the flow rate control unit 23 (MFC) and the pressure detection unit 30 may be used for two or more mounting tables 60.

載置台６０は、自動倉庫１００の奥行方向（図８において左右方向）に沿って等間隔に配置されている。また、各載置台６０の下部には、ガスＧを供給するための配管２２及び排気用の配管２８が設けられている。なお、排気ガスは、排気用の配管２８を介して、例えば、不図示の排気装置によって自動倉庫１００外に排出される。 The mounting tables 60 are arranged at equal intervals along the depth direction of the automatic warehouse 100 (the left-right direction in FIG. 8). Further, a pipe 22 for supplying the gas G and an exhaust pipe 28 are provided at the bottom of each mounting table 60. The exhaust gas is discharged out of the automatic warehouse 100 by an exhaust device (not shown) through the exhaust pipe 28, for example.

スタッカクレーン１１０は、走行基台１１１と、支持柱１１２と、アーム支持部１１３と、容器支持台１１４と、を備えている。走行基台１１１は、走行用の車輪１１５を有する。車輪１１５のうち少なくとも１つはモータ等の不図示の駆動装置によって駆動し、走行基台１１１を、床９０に設けられたレール１１６に沿って矢印Ａ方向に移動させる。支持柱１１２は、走行基台１１１の上面から高さ方向に延在している。 The stacker crane 110 includes a travel base 111, a support column 112, an arm support 113, and a container support 114. The traveling base 111 has traveling wheels 115. At least one of the wheels 115 is driven by a driving device (not shown) such as a motor, and the traveling base 111 is moved in the arrow A direction along the rail 116 provided on the floor 90. The support column 112 extends in the height direction from the upper surface of the traveling base 111.

アーム支持部１１３は、支持柱１１２に沿ってスライド可能に支持されており、モータ等の不図示の駆動装置によって矢印Ｂ方向に移動する。容器支持台１１４は、収納容器５０を載置するとともに、アーム支持部１１３から水平方向に伸縮可能な複数のアームによって構成されている。容器支持台１１４は、モータ等の不図示の駆動装置によって矢印Ｃ方向に伸縮する。なお、走行基台１１１の矢印Ａ方向の移動や、アーム支持部１１３の矢印Ｂ方向の移動、容器支持台１１４の矢印Ｃ方向の伸縮は、制御部４０によって制御される。 The arm support portion 113 is supported so as to be slidable along the support pillar 112, and is moved in the arrow B direction by a driving device (not shown) such as a motor. The container support 114 is configured by a plurality of arms on which the storage container 50 is placed and which can extend and contract in the horizontal direction from the arm support 113. The container support 114 is expanded and contracted in the direction of arrow C by a driving device (not shown) such as a motor. The movement of the travel base 111 in the direction of arrow A, the movement of the arm support 113 in the direction of arrow B, and the expansion and contraction of the container support 114 in the direction of arrow C are controlled by the control unit 40.

続いて、スタッカクレーン１１０の動作について説明する。収納容器５０を自動倉庫１００内に入庫するときは、自動倉庫１００の受渡し部（図示せず）までスタッカクレーン１１０が移動する。容器支持台１１４によって、受渡し部に載置された収納容器５０をすくい上げて保持する。収納容器５０を保持した状態で、走行基台１１１及びアーム支持部１１３を矢印Ａ方向及び矢印Ｂ方向に移動させ、所望の載置台６０に位置決めする。続いて、容器支持台１１４を矢印Ｃ方向に伸長させることにより、収納容器５０を所望の載置台６０の上方に配置させる。続いて、アーム支持部１１３を下方に移動させることにより、収納容器５０は、容器支持台１１４から載置台６０に移って保持される。 Subsequently, the operation of the stacker crane 110 will be described. When storing the storage container 50 into the automatic warehouse 100, the stacker crane 110 moves to a delivery unit (not shown) of the automatic warehouse 100. The container 50 is scooped up and held by the container support 114. In a state where the storage container 50 is held, the traveling base 111 and the arm support 113 are moved in the arrow A direction and the arrow B direction, and are positioned on the desired mounting table 60. Subsequently, the container support base 114 is extended in the direction of arrow C, so that the storage container 50 is disposed above the desired mounting base 60. Subsequently, by moving the arm support portion 113 downward, the storage container 50 is moved from the container support table 114 to the mounting table 60 and held.

この載置動作によって、第１実施形態で説明した様に、載置台６０のノズル１０及び排気ノズル１２は、収納容器５０の注入口５１及び排気口５２にそれぞれ接続される。収納容器５０が載置された後、ガスＧの供給が開始される。制御部４０は、収納容器５０の載置を確認した後、開閉弁を開くとともに流量制御部２３を制御してガスＧの供給を行う。このガス供給に際して、制御部４０は、圧力検出部３０の圧力値を所定の時間間で受け取り、その都度、正常なガスＧの供給が行われているかを判断する。 By this mounting operation, as described in the first embodiment, the nozzle 10 and the exhaust nozzle 12 of the mounting table 60 are connected to the injection port 51 and the exhaust port 52 of the storage container 50, respectively. After the storage container 50 is placed, the supply of the gas G is started. After confirming the placement of the storage container 50, the control unit 40 opens the on-off valve and controls the flow rate control unit 23 to supply the gas G. When supplying the gas, the control unit 40 receives the pressure value of the pressure detecting unit 30 for a predetermined time, and determines whether normal gas G is supplied each time.

なお、制御部４０は、載置台６０に載置された段階でガスＧの供給を行うが、一定期間が経過した収納容器５０に対して改めてガスＧの供給を行ってもよい。また、制御部４０は、自動倉庫１００に搬入された段階でガスＧの供給が必要かを確認し、必要な場合はガスＧの供給を行うようにしてもよい。 The control unit 40 supplies the gas G when it is mounted on the mounting table 60, but may supply the gas G again to the storage container 50 after a certain period of time has passed. Further, the control unit 40 may confirm whether or not the supply of the gas G is necessary at the stage of being carried into the automatic warehouse 100, and may supply the gas G if necessary.

また、本実施形態の自動倉庫１００では、載置台６０の全てについてガスＧの供給が可能となっているが、これに限定するものではなく、一部の載置台６０（例えば最下段の載置台６０など）についてガスＧを供給可能としてもよい。この場合、例えば、制御部４０は、収納容器５０にガスＧの供給が必要かを監視し、必要な場合は適宜スタッカクレーン１１０を動作させて、収納容器５０をガス供給可能な載置台６０まで搬送してガスＧの供給を行う。ガス供給が終了した後は、収納容器５０を元の位置に戻す。これにより、自動倉庫１００内の構造を簡素化できるとともに、ガス供給系２０の配管２２も簡素化できる。 Further, in the automatic warehouse 100 of the present embodiment, the gas G can be supplied to all of the mounting tables 60. However, the present invention is not limited to this, and a part of the mounting tables 60 (for example, the lowermost mounting table). 60 or the like) may be able to supply the gas G. In this case, for example, the control unit 40 monitors whether it is necessary to supply the gas G to the storage container 50, and if necessary, operates the stacker crane 110 to reach the mounting table 60 that can supply the storage container 50 with gas. The gas G is conveyed and supplied. After the gas supply is completed, the storage container 50 is returned to the original position. Thereby, while being able to simplify the structure in the automatic warehouse 100, the piping 22 of the gas supply system 20 can also be simplified.

また、自動倉庫１００の載置台６０にガス供給可能な載置台６０を設けずに、例えば収納容器５０の受渡し部において、その載置台にガス供給装置１が形成されてもよい。また、自動倉庫１００の一部にガス供給装置を設置することに限定されず、自動倉庫１００への搬入前または搬出後に一旦収納容器５０を載置させ、ガスＧを供給するような、自動倉庫１００に付属する専用のガス供給ステーション等であってもよい。 Further, the gas supply device 1 may be formed on the mounting table in the delivery unit of the storage container 50, for example, without providing the mounting table 60 capable of supplying gas to the mounting table 60 of the automatic warehouse 100. Further, the automatic warehouse 100 is not limited to installing the gas supply device in a part of the automatic warehouse 100, and the automatic warehouse in which the storage container 50 is once mounted and the gas G is supplied before being carried into the automatic warehouse 100 or after being carried out. A dedicated gas supply station attached to 100 may be used.

以上、実施形態について説明したが、本発明は、上述した説明に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。例えば、上記した各実施形態において、圧力検出部３０は、検出信号を制御部４０に発信することに代えて、ノズル１０内の圧力Ｐが所定圧力から外れたことを表示する機能を有するものでもよい。利用者は、この表示を確認することにより、ガスが正常に供給されていないことを判別でき、適切な対策を講ずることが可能となる。 The embodiment has been described above, but the present invention is not limited to the above description, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. For example, in each of the embodiments described above, the pressure detection unit 30 may have a function of displaying that the pressure P in the nozzle 10 has deviated from a predetermined pressure instead of transmitting a detection signal to the control unit 40. Good. By confirming this display, the user can determine that the gas is not normally supplied, and can take appropriate measures.

また、上記した各実施形態において、ガス供給装置１、１ａのノズル１０は、図２に示す構成に限定するものではなく、収納容器５０に形成された注入口５１の形態に合わせて適宜変更可能である。また、収納容器５０のパーティクルフィルタ５１ｆは、注入口ユニット５１ｕ内に設ける構造としたが、収納容器５０側に設ける構造であってもよい。 Further, in each of the above-described embodiments, the nozzle 10 of the gas supply device 1, 1 a is not limited to the configuration shown in FIG. 2 and can be appropriately changed according to the form of the injection port 51 formed in the storage container 50. It is. In addition, the particle filter 51f of the storage container 50 is provided in the inlet unit 51u, but may be provided in the storage container 50 side.

また、上記した自動倉庫１００において、図７及び図８に示すように、各載置台６０が支持フレーム１０１に取り付けられる構造としたが、例えば、支持フレーム１０１内に収納棚を形成させ、この収納棚に並べて各載置台６０を取り付ける構造でもよい。また、収納容器５０の移載をスタッカクレーン１１０に行っているが、これに代えて例えば、各種任意の搬送装置が用いられてもよい。また、収納容器５０の底部を保持して搬送することに限定されず、例えば、収納容器５０の上部５０ｔに設けられた把持部５０ｈを用いて搬送させてもよい。 Further, in the automatic warehouse 100 described above, as shown in FIGS. 7 and 8, each mounting table 60 is structured to be attached to the support frame 101. For example, a storage shelf is formed in the support frame 101, and this storage is performed. The structure which mounts each mounting base 60 in order on a shelf may be sufficient. In addition, the storage container 50 is transferred to the stacker crane 110, but instead of this, for example, various arbitrary transfer devices may be used. Moreover, it is not limited to hold | maintain and convey the bottom part of the storage container 50, For example, you may make it convey using the holding part 50h provided in the upper part 50t of the storage container 50. FIG.

また、上記した各実施形態において、ガス供給源２１内のガスＧや、ガス供給源２１からノズル１０まで送られるガスＧに対して温度を調節する温調装置が設けられてもよい。この温調装置は、例えば、自動倉庫１００が設置された室内または建屋内の温度調節する温調装置が用いられてもよい。 Moreover, in each above-mentioned embodiment, the temperature control apparatus which adjusts temperature with respect to the gas G in the gas supply source 21 and the gas G sent from the gas supply source 21 to the nozzle 10 may be provided. As this temperature control device, for example, a temperature control device that adjusts the temperature of the room or building in which the automatic warehouse 100 is installed may be used.

なお、上記した各実施形態に係るガス供給装置１、１ａは、収納容器５０のメンテナンス時等において、パーティクルフィルタ５１ｆが正しくセットされているか等をテストする装置として用いられてもよい。テスト用の装置として用いられる場合は、自動倉庫１００等に固定されて用いられる他に、スタッカクレーン１１０等によって運搬可能に構成されてもよい。 Note that the gas supply devices 1 and 1a according to each of the above embodiments may be used as a device for testing whether the particle filter 51f is set correctly at the time of maintenance of the storage container 50 or the like. When used as a test device, it may be configured to be transportable by a stacker crane 110 or the like in addition to being fixed to the automatic warehouse 100 or the like.

Ｇ・・・ガス
１、１ａ・・・ガス供給装置
１０・・・ノズル
２０・・・ガス供給系
２１・・・ガス供給源
２２、２２ａ・・・配管
２３・・・流量制御部
３０、３０ａ・・・圧力検出部
４０・・・制御部
５０・・・収納容器
５１・・・注入口
５２・・・排出口
６０・・・載置台
１００・・・自動倉庫
G ... Gas 1, 1a ... Gas supply device 10 ... Nozzle 20 ... Gas supply system 21 ... Gas supply source 22, 22a ... Pipe 23 ... Flow control unit 30, 30a・・・ Pressure detection unit 40 ・・・ Control unit 50 ・・・ Storage container 51 ・・・ Inlet 52 ・・・ Discharge throat 60

Claims

An automatic warehouse comprising a plurality of mounting tables for mounting storage containers,
At least one of the mounting tables includes a gas supply device that supplies a predetermined gas to the storage container that is mounted,
The gas supply device includes a nozzle connecting to the inlet of the container, and a gas supply system for supplying a predetermined gas to the nozzle, the pressure in the nozzle is a pressure detection unit for detecting that out of a predetermined pressure With
The automatic pressure warehouse is characterized in that the pressure detection unit compares the pressures in the plurality of nozzles and determines that any of the nozzles has deviated from the predetermined pressure when the difference or ratio exceeds a predetermined value .

The automatic warehouse according to claim 1, wherein the gas supply system includes a flow rate control unit that controls a gas flow rate.

The automatic warehouse according to claim 1 , wherein the plurality of nozzles are connected to a plurality of inlets of the storage container .

Said pressure detection unit, when the pressure in the nozzle is detected to be out of a predetermined pressure, one of the claims 1 to 3, characterized in that to stop the supply of gas from the gas supply system Or automatic warehouse according to item 1.

The nozzle may be any one of claims 1 to 4, wherein the container is formed stage before described so as to connect with the inlet when placed on the mounting table Described in the automatic warehouse.

A gas supply method for supplying a predetermined gas from a plurality of nozzles connected to an inlet of a storage container,
A gas supply method comprising: comparing pressures in a plurality of the nozzles and determining that any of the nozzles has deviated from a predetermined pressure when the difference or ratio exceeds a predetermined value .