JP6166883B2 - Predicted defect analysis - Google Patents

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関連特許
本出願は、2009年8月11日に出願された係属中の米国出願第12/538,995号、名称「Methods and Apparatus to Predict Process Quality in a Process Control System」の一部継続出願であり、その内容は、本明細書において参照することにより本明細書に明示的に組み込まれる。
Related Patents This application is a continuation-in-part of pending US Application No. 12 / 538,995, entitled “Methods and Apparatus to Predicate Process Quality in a Process Control System” filed on August 11, 2009. And the contents of which are expressly incorporated herein by reference.

本開示は、概して、プロセス制御システムに関し、より具体的には、プロセス制御システムにおいてプロセス品質を予測するための方法および装置に関する。   The present disclosure relates generally to process control systems, and more specifically to methods and apparatus for predicting process quality in a process control system.

化学、石油、または他のプロセスにおいて使用されるもののようなプロセス制御システムは、典型的に、少なくとも1つのホストまたはオペレータワークステーションに、ならびにアナログ、デジタル、または複合アナログ/デジタルバスを介して、1つ以上のフィールドデバイスに、通信可能に連結される、1つ以上のプロセスコントローラ、および入力/出力(I/O)デバイスを含む。例えば、バルブ、バルブポジショナ、スイッチ、および伝送器(例えば、温度、圧力、および流量センサ)であってもよい、フィールドデバイスは、バルブの開放または閉鎖、およびプロセス制御パラメータの測定といった、プロセス内でのプロセス制御機能を実施する。プロセスコントローラは、フィールドデバイスによって行われたプロセス測定値を示す信号を受信し、制御ルーチンを実装するようにこの情報を処理し、プロセスの動作を制御するように、バスまたは他の通信回線上でフィールドデバイスに送信される制御信号を生成する。このように、プロセスコントローラは、バスおよび/または他の通信リンクを介したフィールドデバイスを使用して、制御戦略を実行および調整することができる。   Process control systems, such as those used in chemical, petroleum, or other processes, typically are connected to at least one host or operator workstation and via an analog, digital, or combined analog / digital bus. One or more process controllers and an input / output (I / O) device that are communicatively coupled to one or more field devices. For example, field devices, which may be valves, valve positioners, switches, and transmitters (eg, temperature, pressure, and flow sensors) can be used in processes such as opening or closing valves and measuring process control parameters. Implement process control functions. The process controller receives signals indicating process measurements made by the field device, processes this information to implement control routines, and controls the operation of the process on a bus or other communication line. A control signal to be transmitted to the field device is generated. In this way, the process controller can use field devices over buses and / or other communication links to execute and coordinate control strategies.

フィールドデバイスおよびコントローラからのプロセス情報は、オペレータが、プロセスの現在の状態の表示(例えば、グラフィカルユーザインターフェースを介して)、プロセスの評価、プロセスの動作の修正(例えば、視覚的なオブジェクト図を介して)等といった、プロセスに関する所望の機能を実施することを可能にするように、オペレータワークステーション(例えば、プロセッサベースのシステム)によって実行される1つ以上のアプリケーション(すなわち、ソフトウェアルーチン、プログラム等)を利用可能にすることができる。多くのプロセス制御システムはまた、1つ以上のアプリケーションステーション(例えば、ワークステーション)を含む。典型的に、これらのアプリケーションステーションは、ローカルエリアネットワーク(LAN)を介して、プロセス制御システム内のコントローラ、オペレータワークステーション、および他のシステムに通信可能に連結される、パーソナルコンピュータ、ラップトップ、または同等のものを使用して実装される。各アプリケーションステーションは、プロセス変数の値、プロセスに関連付けられる品質パラメータの値、プロセス欠陥検出情報、および/またはプロセス状態情報を含む、プロセス制御情報を表示するグラフィカルユーザインターフェースを含んでもよい。   Process information from field devices and controllers allows operators to view the current state of the process (eg, via a graphical user interface), evaluate the process, modify process behavior (eg, via visual object diagrams) One or more applications (ie, software routines, programs, etc.) that are executed by an operator workstation (eg, a processor-based system) to allow a desired function related to the process to be performed. Can be made available. Many process control systems also include one or more application stations (eg, workstations). Typically, these application stations are personal computers, laptops, or communicatively coupled to controllers, operator workstations, and other systems within the process control system via a local area network (LAN). Implemented using equivalents. Each application station may include a graphical user interface that displays process control information, including process variable values, quality parameter values associated with the process, process defect detection information, and / or process state information.

典型的に、グラフィカルユーザインターフェースにおけるプロセス情報の表示は、プロセスに関連付けられる各プロセス変数の値の表示に限定される。さらに、一部のプロセス制御システムは、プロセスに関連付けられる品質測定基準を判定するように、一部のプロセス変数間の関係を特徴付けすることができる。しかしながら、プロセスの得られる製品が、事前定義された品質制御測定基準に合致しない場合、プロセスおよび/またはプロセス変数は、得られる製品のバッチ、プロセス、および/または組み立ての完了後に分析することができるのみである。プロセスおよび/またはバッチの完了後に、プロセスおよび/または品質変数を表示する結果として、その後の製品の製造および/または処理を改善するために、改善を実装することができる。しかしながら、これらの改善は、現在の規格外の完成製品を修正することができない。   Typically, the display of process information in a graphical user interface is limited to displaying the value of each process variable associated with the process. Furthermore, some process control systems can characterize relationships between some process variables to determine quality metrics associated with the process. However, if the resulting product of the process does not meet predefined quality control metrics, the process and / or process variables can be analyzed after completion of the resulting product batch, process, and / or assembly. Only. Improvements can be implemented to improve subsequent product manufacturing and / or processing as a result of displaying process and / or quality variables after completion of the process and / or batch. However, these improvements cannot correct finished products that are out of current standards.

候補因子を、プロセス制御システムにおける予測された欠陥に相関させるための例示的な方法、装置、およびシステムを説明する。例示的な方法は、プロセス制御システムにおいて制御されるプロセスに対応する、プロセス制御情報(例えば、1つ以上の測定された変数もしくはパラメータに関連付けられる1つ以上の値、または他のプロセス制御情報)を取得することを含むことができる。例示的な方法は、受信されたプロセス制御情報に基づいて、欠陥を予測することを含むことができる。例えば、欠陥は、プロセスの予測された品質が第1の閾値を過ぎる時に、予測することができ、プロセスの予測された品質は、プロセス制御情報に基づいて判定される。別の実施例において、欠陥は、特定の測定された変数の受信された値の変動が第2の閾値を過ぎる時に、予測することができる。例示的な方法は、予測された欠陥に寄与し得る一組の候補因子(例えば、測定された変数、パラメータ、および/または変数もしくはパラメータの値に基づく計算)を判定することと、予測された欠陥と、その組からの少なくとも1つの候補因子との間の相関の表示を行うことと、をさらに含むことができる。   Exemplary methods, apparatus, and systems for correlating candidate factors with predicted defects in a process control system are described. Exemplary methods include process control information (eg, one or more values associated with one or more measured variables or parameters, or other process control information) corresponding to the process being controlled in the process control system. Can be included. An example method may include predicting a defect based on received process control information. For example, a defect can be predicted when the predicted quality of the process exceeds a first threshold, and the predicted quality of the process is determined based on the process control information. In another example, a defect can be predicted when the variation in the received value of a particular measured variable passes a second threshold. An exemplary method includes determining a set of candidate factors (eg, calculations based on measured variables, parameters, and / or values of variables or parameters) that may contribute to the predicted defects and predicted Displaying a correlation between the defect and at least one candidate factor from the set may further be included.

プロセス制御システムにおける予測された欠陥に寄与する因子を相関させるための例示的な装置は、バッチデータ受信器と通信接続するコンピューティングデバイスを含むことができる。バッチデータ受信器は、プロセス制御システムに通信可能に連結することができ、測定された変数またはパラメータに対応する値といった、プロセス制御システムにおいて制御されているプロセスに対応するプロセス制御情報を受信するように構成することができる。コンピューティングデバイスは、プロセッサと、メモリとを含むことができ、メモリは、バッチデータ受信器によって受信されるプロセス制御情報に対応する欠陥を予測するように、プロセッサによって実行可能である命令を記憶することができる。欠陥は、例えば、特定の測定された変数の値における変動が対応する閾値を過ぎる時、および/またはプロセスの予測された品質が対応する閾値を過ぎる時、予測することができる。コンピュータで実行可能な命令は、さらに、予測された欠陥に寄与し得る一組の候補因子を判定するように、およびユーザインターフェース上に表示されるべき予測された欠陥と少なくとも1つの候補因子との間の相関の表現を行うように、実行可能であってもよい。   An exemplary apparatus for correlating factors contributing to a predicted defect in a process control system can include a computing device in communication connection with a batch data receiver. The batch data receiver can be communicatively coupled to the process control system to receive process control information corresponding to a process being controlled in the process control system, such as a value corresponding to a measured variable or parameter. Can be configured. The computing device can include a processor and memory that stores instructions that are executable by the processor to predict defects corresponding to process control information received by the batch data receiver. be able to. A defect can be predicted, for example, when a variation in the value of a particular measured variable passes a corresponding threshold and / or when the predicted quality of the process passes a corresponding threshold. The computer-executable instructions are further configured to determine a set of candidate factors that may contribute to the predicted defect and between the predicted defect to be displayed on the user interface and the at least one candidate factor. It may be feasible to represent a correlation between the two.

プロセス制御システムにおける予測された欠陥に寄与する因子を相関させるための例示的なシステムは、バッチデータ受信器と、バッチデータ受信器と通信接続するプロセッサとを含むことができる。バッチデータ受信器は、プロセスに対応するプロセス制御情報を受信するように構成することができ、プロセス制御情報は、特定の測定された変数またはパラメータに関連付けられる1つ以上の値を含むことができる。プロセッサは、プロセスに対応する予測された欠陥と特定の測定された変数またはパラメータとの間の相関の表示の提示を行うように、コンピュータで実行可能な命令を実行するように構成することができ、予測された欠陥は、バッチデータ受信器によって受信されるプロセス制御情報の少なくとも一部分に基づいて判定することができる。表示は、ユーザインターフェース上に提示することができ、表示は、予測された欠陥に対応する第1のセクションと、特定の測定された変数またはパラメータに対応する第2のセクションとを含むことができる。表示の第1および第2のセクションは、時間整合することができる。   An exemplary system for correlating factors that contribute to predicted defects in a process control system can include a batch data receiver and a processor in communication with the batch data receiver. The batch data receiver can be configured to receive process control information corresponding to a process, and the process control information can include one or more values associated with a particular measured variable or parameter. . The processor can be configured to execute computer-executable instructions so as to present an indication of the correlation between a predicted defect corresponding to the process and a specific measured variable or parameter The predicted defect can be determined based on at least a portion of the process control information received by the batch data receiver. The display can be presented on a user interface, and the display can include a first section corresponding to the predicted defect and a second section corresponding to a particular measured variable or parameter. . The first and second sections of the display can be time aligned.

例示的な運用管理システムを含む例示的なプロセス制御システムを例解するブロック図である。1 is a block diagram illustrating an example process control system that includes an example operations management system. FIG. プロセス変数および品質変数を含む例示的なバッチのためのデータ構造を表す。Fig. 4 represents a data structure for an exemplary batch including process variables and quality variables. プロセス変数およびそれぞれの品質変数を含む例示的なバッチのためのデータ構造を表す。Fig. 4 represents a data structure for an exemplary batch including process variables and respective quality variables. 図1の例示的な運用管理システムの機能図である。FIG. 2 is a functional diagram of the exemplary operation management system of FIG. 1. プロセス制御システム内の欠陥を判定するために表示することができる、図1の運用管理システムによって生成されるチャートおよび/またはグラフを表す図である。FIG. 2 is a diagram representing charts and / or graphs generated by the operations management system of FIG. 1 that can be displayed to determine defects in the process control system. 図1の例示的なプロセス制御システムの例示的なプロセス概要を表示するユーザインターフェースを示す。2 illustrates a user interface displaying an example process overview of the example process control system of FIG. 図6の例示的なバッチプロセスに関する、説明されていない、および説明される変動グラフを含む例示的なプロセス変動グラフを表示する、図6のユーザインターフェースを示す。FIG. 7 illustrates the user interface of FIG. 6 displaying an exemplary process variation graph including unexplained and described variation graphs for the exemplary batch process of FIG. 要約寄与フェースプレートを含む例示的なプロセス変動グラフを表示する、図7のユーザインターフェースを示す。FIG. 8 illustrates the user interface of FIG. 7 displaying an exemplary process variation graph including a summary contribution faceplate. FIG. 図1のプロセス制御システムに関連付けられる変数に関する、説明されていない、および説明されるプロセス変動を含む、例示的な寄与グラフを表示する図6のユーザインターフェースを示す。FIG. 7 illustrates the user interface of FIG. 6 displaying an exemplary contribution graph including unexplained and described process variations for variables associated with the process control system of FIG. 図8および9の媒体流量(Media Flow)変数に関する変数傾向グラフを表示する、図6のユーザインターフェースを示す。FIG. 10 shows the user interface of FIG. 6 displaying a variable trend graph for the media flow variable of FIGS. 8 and 9. FIG. 図6の例示的なバッチに関する品質予測グラフを表示する、図6のユーザインターフェースを示す。FIG. 7 illustrates the user interface of FIG. 6 displaying a quality prediction graph for the example batch of FIG. 図9の変数のうちの一部に関する、スパークラインおよびバーチャートを含む、第1の時間に例示的なマイクロチャートを表示する、図6のユーザインターフェースを示す。FIG. 10 illustrates the user interface of FIG. 6 displaying an exemplary microchart at a first time, including sparklines and bar charts, for some of the variables of FIG. 選択された第2の時間に図12の例示的なマイクロチャートを表示する、図6のユーザインターフェースを示す。FIG. 7 illustrates the user interface of FIG. 6 displaying the exemplary microchart of FIG. 12 at a selected second time. 図12および13の混合器温度(Mixer Temp)プロセス変数に関する、例示的なスパークラインを表示する、図6のユーザインターフェースを示す。FIG. 14 illustrates the user interface of FIG. 6 displaying an exemplary sparkline for the Mixer Temp process variable of FIGS. 図12および13の混合器温度(Mixer Temp)プロセス変数に関する、例示的なスパークラインを表示する、図6のユーザインターフェースを示す。FIG. 14 illustrates the user interface of FIG. 6 displaying an exemplary sparkline for the Mixer Temp process variable of FIGS. 図1および/または4の例示的な運用管理システム、例示的なユーザインターフェース、例示的な解析プロセッサ、プロセスモデル生成器、および/または表示マネージャを実装するために使用することができる例示的な方法のフローチャートである。Exemplary methods that can be used to implement the exemplary operational management system, exemplary user interface, exemplary analysis processor, process model generator, and / or display manager of FIGS. 1 and / or 4. It is a flowchart of. 図1および/または4の例示的な運用管理システム、例示的なユーザインターフェース、例示的な解析プロセッサ、プロセスモデル生成器、および/または表示マネージャを実装するために使用することができる例示的な方法のフローチャートである。Exemplary methods that can be used to implement the exemplary operational management system, exemplary user interface, exemplary analysis processor, process model generator, and / or display manager of FIGS. 1 and / or 4. It is a flowchart of. 図1および/または4の例示的な運用管理システム、例示的なユーザインターフェース、例示的な解析プロセッサ、プロセスモデル生成器、および/または表示マネージャを実装するために使用することができる例示的な方法のフローチャートである。Exemplary methods that can be used to implement the exemplary operational management system, exemplary user interface, exemplary analysis processor, process model generator, and / or display manager of FIGS. 1 and / or 4. It is a flowchart of. 図1および/または4の例示的な運用管理システム、例示的なユーザインターフェース、例示的な解析プロセッサ、プロセスモデル生成器、および/または表示マネージャを実装するために使用することができる例示的な方法のフローチャートである。Exemplary methods that can be used to implement the exemplary operational management system, exemplary user interface, exemplary analysis processor, process model generator, and / or display manager of FIGS. 1 and / or 4. It is a flowchart of. 図1および/または4の例示的な運用管理システム、例示的なユーザインターフェース、例示的な解析プロセッサ、プロセスモデル生成器、および/または表示マネージャを実装するために使用することができる例示的な方法のフローチャートである。Exemplary methods that can be used to implement the exemplary operational management system, exemplary user interface, exemplary analysis processor, process model generator, and / or display manager of FIGS. 1 and / or 4. It is a flowchart of. 図1および/または4の例示的な運用管理システム、例示的なユーザインターフェース、例示的な解析プロセッサ、プロセスモデル生成器、および/または表示マネージャを実装するために使用することができる例示的な方法のフローチャートである。Exemplary methods that can be used to implement the exemplary operational management system, exemplary user interface, exemplary analysis processor, process model generator, and / or display manager of FIGS. 1 and / or 4. It is a flowchart of. 図1および/または4の例示的な運用管理システム、例示的なユーザインターフェース、例示的な解析プロセッサ、プロセスモデル生成器、および/または表示マネージャを実装するために使用することができる例示的な方法のフローチャートである。Exemplary methods that can be used to implement the exemplary operational management system, exemplary user interface, exemplary analysis processor, process model generator, and / or display manager of FIGS. 1 and / or 4. It is a flowchart of. 図1および/または4の例示的な運用管理システム、例示的なユーザインターフェース、例示的な解析プロセッサ、プロセスモデル生成器、および/または表示マネージャを実装するために使用することができる例示的な方法のフローチャートである。Exemplary methods that can be used to implement the exemplary operational management system, exemplary user interface, exemplary analysis processor, process model generator, and / or display manager of FIGS. 1 and / or 4. It is a flowchart of. 図1および/または4の例示的な運用管理システム、例示的なユーザインターフェース、例示的な解析プロセッサ、プロセスモデル生成器、および/または表示マネージャを実装するために使用することができる例示的な方法のフローチャートである。Exemplary methods that can be used to implement the exemplary operational management system, exemplary user interface, exemplary analysis processor, process model generator, and / or display manager of FIGS. 1 and / or 4. It is a flowchart of. 本明細書において説明される例示的な方法および装置を実装するために使用することができる例示的なプロセッサシステムのブロック図である。FIG. 6 is a block diagram of an example processor system that can be used to implement the example methods and apparatus described herein. ユーザインターフェース上に提示することができる予測された欠陥に対応する表示の例示的な表示を例解する。Fig. 4 illustrates an exemplary display of a display corresponding to a predicted defect that can be presented on a user interface. ユーザインターフェース上に提示することができる予測された欠陥に対応する表示の例示的な表示を例解する。Fig. 4 illustrates an exemplary display of a display corresponding to a predicted defect that can be presented on a user interface. 候補因子をプロセス制御システムにおける予測された欠陥に相関させるための例示的な方法のフローチャートである。2 is a flowchart of an exemplary method for correlating candidate factors with predicted defects in a process control system.

構成要素の中でも特に、ハードウェア上で実行されるソフトウェアおよび/またはファームウェアを含む例示的な方法および装置を以下に説明するが、これらの例は例解に過ぎず、限定として見なされてはならないことに注意されたい。例えば、ハードウェア、ソフトウェア、およびファームウェアの構成要素のうちのいずれか、または全ては、ハードウェアの中にのみ、ソフトウェアの中にのみ、またはハードウェアおよびソフトウェアの任意の組み合わせにおいて具現化され得ると考えられる。したがって、例示的な方法および装置を以下に説明するが、当業者は、提供される例はそのような方法および装置を実装するための唯一の方式ではないことを容易に理解するであろう。   Among the components, exemplary methods and apparatus that include software and / or firmware running on hardware are described below, but these examples are illustrative only and should not be considered limiting Please note that. For example, any or all of the hardware, software, and firmware components may be embodied only in hardware, only in software, or in any combination of hardware and software. Conceivable. Accordingly, although exemplary methods and apparatus are described below, those skilled in the art will readily appreciate that the examples provided are not the only way to implement such methods and apparatuses.

現在、プロセス制御システムは、プロセス制御情報の解析および/または統計分析を提供する。しかしながら、これらのシステムは、オフラインツールを実装して、得られる製品の品質に影響を与える可能性があるプロセス制御欠陥の原因および潜在的な是正措置を判定する。これらのオフラインツールとして、プロセス研究、実験研究、ビジネス研究、トラブルシューティング、プロセス改善分析、および/またはシックスシグマ分析を挙げることができる。これらのツールは後続の製品のプロセスを是正することができるが、ツールは欠陥が発生している時にプロセス品質を修正および/または是正することはできない。このため、これらのオフラインツールは、プロセス制御状態に応じるものであり、プロセスを是正することができるまで、品質に問題のある製品を製造することになる可能性がある。   Currently, process control systems provide analysis and / or statistical analysis of process control information. However, these systems implement offline tools to determine the cause of process control defects and potential corrective actions that can affect the quality of the resulting product. These offline tools may include process research, experimental research, business research, troubleshooting, process improvement analysis, and / or six sigma analysis. While these tools can correct the process of subsequent products, the tools cannot correct and / or correct process quality when a defect occurs. For this reason, these off-line tools are dependent on the process control status and may produce products with quality problems until the process can be corrected.

本明細書に説明される例示的な方法および装置は、プロセス中の欠陥検出、分析、および/または是正情報を提供するために、プロセス制御システム内で使用することができ、オペレータが、プロセスが発生中または進行中にプロセス欠陥を是正することを可能にする。すなわち、プロセスの是正は、予測された欠陥に応答して、欠陥が発生する時に、または欠陥が発生した直後に実装することができる。本明細書に説明される例示的な方法および装置は、バッチおよび/または連続的プロセスのプロセス品質を改善するために、プロセス欠陥を予測および/または是正するために使用されてもよい。さらに、または代替として、例示的な方法および装置は、製品品質を予測し、対応するプロセス欠陥を是正することによって、および/または検出されたプロセス欠陥を是正することによって、製品品質を是正するために使用されてもよい。   The example methods and apparatus described herein can be used within a process control system to provide in-process defect detection, analysis, and / or correction information so that an operator can Allows process deficiencies to be corrected while occurring or ongoing. That is, process correction can be implemented in response to a predicted defect, when the defect occurs, or immediately after the defect occurs. The example methods and apparatus described herein may be used to predict and / or correct process defects to improve the process quality of batch and / or continuous processes. Additionally or alternatively, the exemplary methods and apparatus are for correcting product quality by predicting product quality, correcting corresponding process defects, and / or correcting detected process defects. May be used.

本明細書に説明される例示的な運用管理システム(OMS)は、プロセス制御システムによって生成されたプロセス制御情報の分析、整理、および表示を管理する。例示的なOMSは、プロセス制御情報を、情報にアクセスする権限を有するワークステーションに提供する。プロセス制御システムとして、任意の種類のバッチ処理システム、連続処理システム、自動化システム、および/または製造システムを挙げることができる。   The exemplary operations management system (OMS) described herein manages the analysis, organization, and display of process control information generated by the process control system. An exemplary OMS provides process control information to a workstation that has authority to access the information. The process control system can include any type of batch processing system, continuous processing system, automation system, and / or manufacturing system.

プロセス制御情報は、プロセス制御システム内のフィールドデバイスによって生成され、例えば、プロセス環境測定値(例えば、温度、濃度、または圧力検知)、フィールドデバイス測定値(例えば、ポンプ速度、弁位置、またはライン速度)、プロセスステータス測定、および/またはプロセス処理能力測定値に対して構成されてもよい。プロセス制御情報は、出力変数データ(例えば、フィールドデバイスが発生源である変数に関連付けられる値)としてコントローラによって受信することができる。コントローラは、次いで、そのような変数データを、プロセスモデルに基づいた分析および統計処理のためにOMSへ転送することができる。   Process control information is generated by field devices in the process control system, for example, process environment measurements (eg, temperature, concentration, or pressure sensing), field device measurements (eg, pump speed, valve position, or line speed). ), Process status measurements, and / or process throughput measurements. The process control information can be received by the controller as output variable data (eg, a value associated with a variable from which the field device originates). The controller can then transfer such variable data to the OMS for analysis and statistical processing based on the process model.

本明細書に説明される例示的なOMSは、プロセス制御システムのステータスおよび/または品質に関するフィードバックを生成するために、記述的モデリング、予測的モデリング、および/または最適化を利用する。さらに、OMSは、プロセスの動作欠陥を予測、検出、識別、および/または診断し、得られる製品の品質に関連付けられる品質変数に与える任意の欠陥の影響を予測する。欠陥は、閾値を超える、1つ以上のフィールドデバイスからの出力の多変量および/または統計的結合である、プロセス品質欠陥を含んでもよい。さらに、欠陥は、それぞれの閾値を超えている1つ以上のフィールドデバイスからの出力を含んでもよい。その上、例示的なOMSは、グラフィカルユーザインターフェースを介して、プロセス制御データへのアクセスおよび制御を管理する。このユーザインターフェースは、任意のプロセス制御欠陥の発生をプロセス制御オペレータに警告するために使用されてもよい。さらに、ユーザインターフェースは、プロセス欠陥の発生源を判定し、得られる製品の品質に与えるプロセス欠陥の是正措置の影響を予測するように、分析プロセスを通じてオペレータを誘導することができる。ユーザインターフェースは、インターネットを介して遠隔地からユーザインターフェースにアクセスする場合があるプロセスオペレータを含めて、情報へのアクセス権を有する任意のプロセス制御オペレータによってアクセスすることができる。OMSは、プロセスが発生している時にプロセス情報をプロセス制御オペレータに提供することができ、それによって、オペレータが任意の欠陥を是正するためにプロセスに調整を行うことを可能にする。プロセス中に欠陥を是正することによって、オペレータは、得られる製品および後続の製品の品質を維持することができる。   The exemplary OMS described herein utilizes descriptive modeling, predictive modeling, and / or optimization to generate feedback regarding the status and / or quality of the process control system. In addition, the OMS predicts, detects, identifies, and / or diagnoses process operational defects and predicts the impact of any defects on quality variables associated with the quality of the resulting product. Defects may include process quality defects that are multivariate and / or statistical combinations of outputs from one or more field devices that exceed a threshold. Further, the defect may include output from one or more field devices that exceed their respective thresholds. Moreover, the exemplary OMS manages access and control to process control data via a graphical user interface. This user interface may be used to alert the process control operator of the occurrence of any process control defect. Further, the user interface can guide the operator through the analysis process to determine the source of process defects and to predict the impact of process defect corrective actions on the resulting product quality. The user interface can be accessed by any process control operator with access to information, including process operators that may access the user interface remotely from the Internet. The OMS can provide process information to the process control operator when the process is occurring, thereby allowing the operator to make adjustments to the process to correct any deficiencies. By correcting defects during the process, the operator can maintain the quality of the resulting product and subsequent products.

例示的なOMSは、グラフィカルユーザインターフェース内の1つ以上のチャートおよび/またはグラフ(例えば、グラフィックス)内に検出、分析、是正措置、および品質予測情報を表示することができる。例えば、プロセス概要チャートは、監視されている1つ以上のプロセスのステータスを表示することができる。この概要チャートから、オペレータは、プロセス内の任意の説明された(例えば、モデル化された)および/または説明されない(例えば、モデル化されていない)変動を示すプロセス変動グラフを選択することができる。オペレータは、プロセス全体の変動に関連付けられる各プロセス変数および/または品質変数に対する説明されない変動および説明された変動の寄与を示す、プロセス変動グラフ中の1点を選択することができる。例示的なOMSは、プロセス制御システムのモデリングおよび/または分析に基づいて、プロセス変数および/または品質変数間の寄与関係を判定することができる。   An exemplary OMS can display detection, analysis, corrective action, and quality prediction information in one or more charts and / or graphs (eg, graphics) within a graphical user interface. For example, the process summary chart can display the status of one or more processes being monitored. From this overview chart, the operator can select a process variation graph that shows any described (eg, modeled) and / or unexplained (eg, unmodeled) variation within the process. . The operator can select a point in the process variation graph that shows the unexplained variation and the contribution of the explained variation to each process variable and / or quality variable associated with the overall process variation. An exemplary OMS can determine contributions between process variables and / or quality variables based on modeling and / or analysis of the process control system.

寄与チャート内で、オペレータは、プロセス欠陥に寄与している1つ以上の変数を識別することができる。さらに、オペレータは、1つ以上の変数を選択して、プロセス中の各変数に関連付けられる値を以前のプロセス中の変数の過去の平均および/または標準偏差と比較して示す変数傾向グラフを表示することができる。オペレータは、次いで、プロセス品質予測グラフにアクセスして、欠陥が、プロセスから得られる製品の得られる品質に顕著に影響するか判定することができる。品質が顕著に影響を受けていなかった場合、オペレータは、プロセスに適当な調整を行って任意の欠陥を是正するために、変数傾向情報を使用することができる。   Within the contribution chart, the operator can identify one or more variables contributing to the process defect. In addition, the operator can select one or more variables and display a variable trend graph that compares the value associated with each variable in the process with the past average and / or standard deviation of the variables in the previous process. can do. The operator can then access the process quality prediction graph to determine if the defect significantly affects the resulting quality of the product obtained from the process. If the quality was not significantly affected, the operator can use variable trend information to make appropriate adjustments to the process to correct any defects.

代替の実装において、オペレータは、プロセス変数および/または品質変数の各々に関連付けられる種々の欠陥を示しているマイクロチャートを表示することができる。さらに、このマイクロチャートは、プロセス中の各プロセス変数および/または品質変数の過去の値の要約情報を表示しているスパークラインを含むことができる。その上、マイクロチャートは、以前および/または現在の欠陥および/または偏差を表示するタイムラインを含むことができる。オペレータは、タイムラインのある時刻までスクロールして、その選択された時刻の変数寄与、プロセスの値、および/または品質変数を表示してもよい。さらに、マイクロチャートは、選択された時刻の予測され、計算された品質変数および/または全体品質変数を示してもよい。オペレータは、変数のうちの任意の1つを選択して、その変数の変数傾向グラフを視認する場合、または、代替として、プロセス品質予測グラフにアクセスする場合がある。このように、容易に読み取り可能にリンクされたチャートおよび/またはグラフ(例えば、グラフィックス)内に多変量解析データおよび/または予測データを提供することによって、本明細書に説明される例示的な方法および装置は、プロセス制御オペレータが、プロセス制御欠陥が得られる製品の品質に影響を与える前に、プロセス制御欠陥に比較的迅速に対処することを可能にする。   In an alternative implementation, the operator can display a microchart showing various defects associated with each of the process variables and / or quality variables. Further, the microchart can include a sparkline displaying summary information of past values for each process variable and / or quality variable in the process. Moreover, the microchart can include a timeline that displays previous and / or current defects and / or deviations. The operator may scroll to a time on the timeline to display the variable contribution, process value, and / or quality variable for that selected time. Further, the microchart may show predicted and calculated quality variables and / or overall quality variables at a selected time. The operator may select any one of the variables and view the variable trend graph for that variable, or alternatively, access the process quality prediction graph. Thus, by providing multivariate analytical data and / or predictive data in easily readable linked charts and / or graphs (eg, graphics), the exemplary described herein The method and apparatus allows a process control operator to address process control defects relatively quickly before they affect the quality of the product from which the process control defects are obtained.

本明細書に説明される例示的な方法および装置は、例示的なマイクロチャート、スパークライン、統合グラフ、概要チャート、プロセス変動グラフ、プロセス品質予測グラフ、および/または変数傾向グラフを参照するが、マイクロチャート、スパークライン、統合グラフ、概要チャート、プロセス変動グラフ、プロセス品質予測グラフ、および/または変数傾向グラフは、同種類のプロセス制御情報および/またはプロセス制御情報の間の関係を実質的に示す任意の様式でグラフィックスを使用して実装されてもよい。さらに、例示的なOMSは、例示的なマイクロチャート、スパークライン、統合グラフ、概要チャート、プロセス変動グラフ、プロセス品質予測グラフ、および/または変数傾向グラフを生成するが、任意の他のプロセス制御コントローラ、サーバ、ワークステーション、および/または構成要素が、マイクロチャート、スパークライン、統合グラフ、概要チャート、プロセス変動グラフ、プロセス品質予測グラフ、および/または変数傾向グラフを生成してもよい。   The exemplary methods and apparatus described herein refer to exemplary microcharts, sparklines, integrated graphs, summary charts, process variation graphs, process quality prediction graphs, and / or variable trend graphs, Microcharts, sparklines, integrated graphs, summary charts, process variation graphs, process quality prediction graphs, and / or variable trend graphs substantially indicate the same types of process control information and / or relationships between process control information It may be implemented using graphics in any manner. Further, the exemplary OMS generates an exemplary microchart, sparkline, integrated graph, summary chart, process variation graph, process quality prediction graph, and / or variable trend graph, but any other process control controller , Servers, workstations, and / or components may generate microcharts, sparklines, integrated graphs, summary charts, process variation graphs, process quality prediction graphs, and / or variable trend graphs.

図1は、例示的な運用管理システム(OMS)102を含む、例示的なプロセス制御環境100を示すブロック図である。他の例では、OMS102は、プロセス監視および品質予測システム(PMS)として知られる場合がある。例示的なOMS102は、プロセス制御システム106を含むプラント104内に位置する。例示的なプラント104は、任意の種類の製造施設、プロセス施設、自動化施設、および/または任意の他の種類のプロセス制御構造またはシステムを含むことができる。一部の例では、プラント104は、異なる場所に位置する複数の施設を含む場合がある。さらに、例示的なプラント104はプロセス制御システム106を示すが、プラント104は、追加のプロセス制御システムを含む場合がある。   FIG. 1 is a block diagram illustrating an example process control environment 100 that includes an example operations management system (OMS) 102. In another example, OMS 102 may be known as a process monitoring and quality prediction system (PMS). The exemplary OMS 102 is located in a plant 104 that includes a process control system 106. The example plant 104 may include any type of manufacturing facility, process facility, automation facility, and / or any other type of process control structure or system. In some examples, the plant 104 may include multiple facilities located at different locations. Further, although the exemplary plant 104 shows a process control system 106, the plant 104 may include additional process control systems.

例示的なプロセス制御システム106は、データバス110を介して、コントローラ108に通信可能に連結される。プロセス制御システム106は、任意の数のフィールドデバイス(例えば、入力および/または出力デバイス)を含むことができる。フィールドデバイスは、入力を受信、出力を生成、および/またはプロセスを制御することが可能である、任意の種類のプロセス制御構成要素を含むことができる。例えば、フィールドデバイスは、プロセスを制御するために、例えば、バルブ、ポンプ、ファン、加熱器、冷却器、および/または混合器等の入力デバイスを含む場合がある。さらに、フィールドデバイスは、プロセスの一部を測定するために、例えば、温度計、圧力計、濃度計、液面計、流量計、および/または蒸気センサ等の出力デバイスを含む場合がある。入力デバイスは、指定されたコマンドを実行し、プロセスに変更を生じさせるために、コントローラ108からの命令を受信することができる。その上、出力デバイスは、プロセスデータ、環境データ、および/または入力デバイスデータを測定し、測定したデータを、プロセス制御情報としてコントローラ108へ伝送する。このプロセス制御情報は、各フィールドデバイスから測定された出力に対応する変数(例えば、測定されたプロセス変数および/または測定された品質変数)の値を含む場合がある。   The exemplary process control system 106 is communicatively coupled to the controller 108 via the data bus 110. The process control system 106 can include any number of field devices (eg, input and / or output devices). A field device can include any type of process control component that can receive input, generate output, and / or control a process. For example, field devices may include input devices such as valves, pumps, fans, heaters, coolers, and / or mixers to control the process. In addition, the field device may include an output device such as a thermometer, pressure gauge, concentration meter, liquid level meter, flow meter, and / or vapor sensor to measure a portion of the process. The input device can receive instructions from the controller 108 to execute specified commands and cause changes to the process. In addition, the output device measures process data, environmental data, and / or input device data, and transmits the measured data to the controller 108 as process control information. This process control information may include the value of a variable (eg, a measured process variable and / or a measured quality variable) corresponding to the measured output from each field device.

図1の例解された例において、例示的なコントローラ108は、データバス110を介して、プロセス制御システム106内のフィールドデバイスと通信することができる。このデータバス110は、プロセス制御システム106内の中間通信構成要素に連結されてもよい。これらの通信構成要素は、コマンド区域内のフィールドデバイスをデータバス110に通信可能に連結するために、フィールド接続箱を含むことができる。さらに、通信構成要素は、フィールドデバイスおよび/またはフィールド接続箱への通信経路を整理するために、マーシャリングキャビネットを含むことができる。その上、通信構成要素は、フィールドデバイスからデータを受信し、データを、例示的なコントローラ108によって受信されることが可能な通信媒体内へ変換するために、I/Oカードを含むことができる。さらに、これらのI/Oカードは、コントローラ108からのデータを対応するフィールドデバイスによって処理されることが可能なデータ形式に変換することができる。一例において、データバス110は、Fieldbusプロトコルまたは他の種類の有線および/または無線通信プロトコル(例えば、Profibusプロトコル、HARTプロトコル等)を使用して実装される場合がある。   In the illustrated example of FIG. 1, the exemplary controller 108 can communicate with field devices in the process control system 106 via the data bus 110. This data bus 110 may be coupled to intermediate communication components within the process control system 106. These communication components can include a field connection box to communicatively couple field devices in the command area to the data bus 110. In addition, the communication component can include a marshalling cabinet to organize communication paths to the field devices and / or field junction boxes. Moreover, the communication component can include an I / O card to receive data from the field device and convert the data into a communication medium that can be received by the example controller 108. . In addition, these I / O cards can convert data from the controller 108 into a data format that can be processed by the corresponding field device. In one example, the data bus 110 may be implemented using the Fieldbus protocol or other types of wired and / or wireless communication protocols (eg, Profibus protocol, HART protocol, etc.).

図1の例示的なコントローラ108は、プロセス制御システム106内のフィールドデバイスを管理するために、1つ以上の制御ルーチンを管理する。制御ルーチンは、プロセス監視アプリケーション、警告管理アプリケーション、プロセス傾向および/または履歴アプリケーション、バッチ処理および/またはキャンペーン管理アプリケーション、統計アプリケーション、ストリーミングビデオアプリケーション、高度制御アプリケーション等を含むことができる。その上、コントローラ108は、プロセス制御情報を例示的なOMS102へ転送する。制御ルーチンは、プロセス制御システム106が所定の品質閾値内で指定数量の所望製品を製造することを確実にすることができる。例えば、プロセス制御システム106は、バッチの最後に製品を製造するバッチシステムとして構成される場合がある。他の例では、プロセス制御システム106は、製品を継続的に製造する、連続プロセス製造システムを含む場合がある。   The example controller 108 of FIG. 1 manages one or more control routines to manage field devices in the process control system 106. Control routines can include process monitoring applications, alert management applications, process trends and / or history applications, batch processing and / or campaign management applications, statistical applications, streaming video applications, advanced control applications, and the like. In addition, the controller 108 forwards process control information to the exemplary OMS 102. The control routine can ensure that the process control system 106 produces a specified quantity of the desired product within a predetermined quality threshold. For example, the process control system 106 may be configured as a batch system that produces products at the end of the batch. In other examples, the process control system 106 may include a continuous process manufacturing system that continuously manufactures products.

コントローラ108からのプロセス制御情報は、プロセス制御システム106内のフィールドデバイス内を発生源とする、測定されたプロセス変数および/または測定された品質変数に対応する値を含むことができる。他の例では、OMS102は、プロセス制御情報内の値を対応する変数にパースすることができる。測定されたプロセス変数は、フィールドデバイスのプロセスおよび/または特徴の一部を測定するフィールドデバイスを発生源とするプロセス制御情報に関連付けられてもよい。測定された品質変数は、完成製品の少なくとも一部に関連付けられるプロセスの特徴を測定することに関するプロセス制御情報に関連付けられてもよい。   Process control information from the controller 108 may include values corresponding to measured process variables and / or measured quality variables originating from within field devices in the process control system 106. In other examples, the OMS 102 can parse values in the process control information into corresponding variables. The measured process variable may be associated with process control information originating from a field device that measures some of the process and / or characteristics of the field device. The measured quality variable may be associated with process control information relating to measuring a characteristic of the process associated with at least a portion of the finished product.

例えば、プロセス制御システム106は、液体中にある濃度の化学物質を製造するタンク内の化学反応を含む場合がある。この例では、液体中の化学物質の濃度が、品質変数の場合がある。液体温度およびタンク内への液体流量が、プロセス変数であってもよい。例示的なOMS102は、プロセス制御モデリングおよび/または監視を介して、タンク内の液体の濃度が、タンク内の液体温度およびタンク内への液体流量に基づくことを判定する場合がある。このように、濃度だけが品質変数ではなく、液体流量および液体温度が濃度の品質に寄与または影響する。すなわち、測定されたプロセス変数は、測定された品質変数の品質に寄与または影響する。OMS102は、統計処理を使用して、各プロセス変数が品質変数に関して有する影響および/または寄与の量を判定することができる。   For example, the process control system 106 may include a chemical reaction in a tank that produces a concentration of chemical in the liquid. In this example, the chemical concentration in the liquid may be a quality variable. Liquid temperature and liquid flow rate into the tank may be process variables. The exemplary OMS 102 may determine, via process control modeling and / or monitoring, that the concentration of liquid in the tank is based on the liquid temperature in the tank and the liquid flow rate into the tank. Thus, not only the concentration is a quality variable, but the liquid flow rate and the liquid temperature contribute or influence the quality of the concentration. That is, the measured process variable contributes or affects the quality of the measured quality variable. The OMS 102 can use statistical processing to determine the amount of impact and / or contribution each process variable has on the quality variable.

さらに、例示的なOMS102は、プロセス制御システム106に関連付けられる、測定されたプロセス変数および/または測定された品質変数間の関係をモデル化および/または判定することができる。測定されたプロセス変数および/または測定された品質変数間のこれらの関係は、1つ以上の計算された品質変数を生じる場合がある。計算された品質変数は、1つ以上の測定されたプロセス変数、測定された品質変数、および/または他の計算された品質変数の多変量および/または線形代数結合であってもよい。その上、OMS102は、測定されたプロセス変数、測定された品質変数、および/または計算された品質変数の組み合わせから、全体品質変数を判定することができる。全体品質変数は、プロセス全体の品質判定に対応する場合、および/またはプロセスの得られる製品の予測された品質に対応する場合がある。   Further, the exemplary OMS 102 can model and / or determine a relationship between measured process variables and / or measured quality variables associated with the process control system 106. These relationships between measured process variables and / or measured quality variables may result in one or more calculated quality variables. The calculated quality variable may be a multivariate and / or linear algebraic combination of one or more measured process variables, measured quality variables, and / or other calculated quality variables. Moreover, the OMS 102 can determine an overall quality variable from a combination of measured process variables, measured quality variables, and / or calculated quality variables. The overall quality variable may correspond to an overall process quality decision and / or may correspond to the predicted quality of the resulting product of the process.

図1の例示的なOMS102は、解析プロセッサ114を含む。例示的な解析プロセッサ114は、プロセス制御システム106のステータスおよび/または品質に関するフィードバックを生成するために、記述的モデリング、予測的モデリング、および/または最適化を利用する。解析プロセッサ114は、プロセス動作の欠陥を検出、識別、および/または診断し、プロセス制御システム106の得られる製品の品質に関連付けられる品質変数および/または全体品質変数に与える任意の欠陥の影響を予測してもよい。その上、解析プロセッサ114は、品質および/またはプロセス変数を、プロセスの全体品質に関連付けられる全体品質変数に統計的および/または論理的に組み合わせることによって、プロセスの品質を監視してもよい。解析プロセッサ114は、次いで、全体品質変数に対して計算された値および/または他の品質変数に関連付けられる値をそれぞれの閾値に比較してもよい。これらの閾値は、プロセス内の異なる時刻での全体品質変数の事前定義された品質限界に基づいていてもよい。例えば、プロセスに関連付けられる全体品質変数がある期間にわたって閾値を超える場合、得られる製品の予測された最終品質が、最終製品に関連付けられる品質基準を満たさない場合がある。   The exemplary OMS 102 of FIG. 1 includes an analysis processor 114. The example analysis processor 114 utilizes descriptive modeling, predictive modeling, and / or optimization to generate feedback regarding the status and / or quality of the process control system 106. The analysis processor 114 detects, identifies, and / or diagnoses process operation defects and predicts the impact of any defects on quality variables and / or overall quality variables associated with the resulting product quality of the process control system 106. May be. Moreover, the analysis processor 114 may monitor the quality of the process by statistically and / or logically combining the quality and / or process variables with an overall quality variable associated with the overall quality of the process. The analysis processor 114 may then compare the values calculated for the overall quality variable and / or values associated with other quality variables to respective threshold values. These thresholds may be based on predefined quality limits of the overall quality variable at different times within the process. For example, if the overall quality variable associated with the process exceeds a threshold over a period of time, the predicted final quality of the resulting product may not meet the quality criteria associated with the final product.

全体品質変数および/または任意の他の品質変数がそれぞれの閾値から逸脱すると、解析プロセッサ114は、プロセス概要チャートおよび/またはプロセス変動グラフ内に、全体品質変数に関連付けられる説明された、および/または説明されない変動(または分散)を示す欠陥指標を生成してもよく、ならびに/あるいはプロセス欠陥を生成した変数を示してもよい。例示的な解析プロセッサ114は、オペレータが、測定プロセス変数、測定された品質変数、および/または計算された品質変数の現在および/または過去の値を表示することができるプロセス品質グラフ(例えば、統合グラフ、マイクロチャート、プロセス変動グラフ、変数傾向グラフ、グラフィックス等)を生成することを可能にする機能を提供することによって、1つ以上のプロセス欠陥の原因を判定するように分析を管理する。その上、解析プロセッサ114は、プロセスが動作中にこれらのグラフを生成し、追加のプロセス制御情報がOMS102によって受信されると同時に、グラフの各々に関連付けられる多変量解析を連続的に更新および/または再計算する。   When the overall quality variable and / or any other quality variable deviates from the respective threshold, the analysis processor 114 is described in the process summary chart and / or the process variation graph as described and / or associated with the overall quality variable. A defect indicator may be generated that exhibits unexplained variation (or variance) and / or a variable that generated the process defect. The example analysis processor 114 may provide a process quality graph (eg, integration) that allows an operator to display current and / or past values of measured process variables, measured quality variables, and / or calculated quality variables. The analysis is managed to determine the cause of one or more process defects by providing the capability to generate graphs, microcharts, process variation graphs, variable trend graphs, graphics, etc.). Moreover, the analysis processor 114 generates these graphs while the process is in operation, and continuously updates and / or multivariate analyzes associated with each of the graphs as additional process control information is received by the OMS 102. Or recalculate.

解析プロセッサ114は、欠陥をトリガする全体品質変数または品質変数に対するプロセス変数および/または品質変数の寄与を計算することによって、寄与グラフを生成することができる。プロセス変数および/または品質変数の寄与は、欠陥に関連付けられる全体品質変数および/または品質変数に関連付けられる変動に対する寄与として、各変数の説明された変動および/または説明されない変動として表示されてもよい。   The analysis processor 114 can generate a contribution graph by calculating the overall quality variable that triggers the defect or the contribution of the process variable and / or the quality variable to the quality variable. The contributions of process variables and / or quality variables may be displayed as explained variations and / or unexplained variations of each variable as a contribution to the overall quality variable associated with the defect and / or the variation associated with the quality variable. .

その上、例示的な解析プロセッサ114は、定義された閾値より大きい変動を有する場合がある、選択されたプロセス変数および/または品質変数のうちのいずれかに対して、変数傾向グラフを生成することができる。変数傾向グラフは、プロセスのある時間内に変数に関連付けられる値を以前のプロセスの類似の時間中の変数の値に比較して示してもよい。寄与グラフおよび/または変数傾向グラフを生成することによって、解析プロセス114はまた、検出された欠陥を調節するために、プロセスに可能な是正を識別してもよい。変数傾向グラフは、現在の値に関連付けられる変動(例えば、標準偏差)を含む履歴プロットのオーバーレイを提供することによって、オペレータがプロセス欠陥の原因を判定することを支援してもよい。   Moreover, the exemplary analysis processor 114 generates a variable trend graph for any of the selected process variables and / or quality variables that may have a variation that is greater than a defined threshold. Can do. The variable trend graph may show a value associated with a variable within a time of the process compared to the value of the variable during a similar time of the previous process. By generating a contribution graph and / or a variable trend graph, the analysis process 114 may also identify possible corrections to the process to adjust the detected defects. The variable trend graph may assist the operator in determining the cause of the process defect by providing an overlay of a historical plot that includes the variation (eg, standard deviation) associated with the current value.

解析プロセッサ114は、実装された場合、プロセスの全体品質に与える是正の影響を判定するために、品質予測グラフを生成してもよい。是正が全体品質を指定閾値内に維持または指定閾値内まで改善する場合、解析プロセッサ114は、是正を実装するようにOMS102に指示してもよい。代替として、解析プロセッサ114は、プロセス是正を実装するように命令をコントローラ108へ送信してもよい。   If implemented, the analysis processor 114 may generate a quality prediction graph to determine the corrective impact on the overall quality of the process. If the correction maintains or improves the overall quality within the specified threshold, the analysis processor 114 may instruct the OMS 102 to implement the correction. Alternatively, the analysis processor 114 may send instructions to the controller 108 to implement process correction.

さらに、例示的な解析プロセッサ114は、全体品質変数および/または任意の他の品質変数に関連付けられる欠陥を判定すると、マイクロチャートを生成することができる。マイクロチャートは、指定された時刻(例えば、プロセス欠陥に関連付けられる時刻)のプロセス変数および/または品質変数の値を変数の各々に対する平均値および/または標準偏差に比較した値を含んでもよい。さらに、マイクロチャートは、プロセス変数および/または品質変数の各々に関連付けられる前の値を示すスパークラインを含んでもよい。マイクロチャートから、例示的な解析プロセッサ114は、オペレータが、プロセスに対する1つ以上の是正措置を判定および/または選択すること、および/または是正のいずれかが、全体品質変数が指定限界内であることを予測されるようにプロセスを改善するかを判定することを可能にしてもよい。   Further, once the exemplary analysis processor 114 determines the defects associated with the overall quality variable and / or any other quality variable, it can generate a microchart. The microchart may include values of process variables and / or quality variables at specified times (eg, times associated with process defects) compared to an average value and / or standard deviation for each of the variables. Further, the microchart may include a sparkline that indicates a previous value associated with each of the process variables and / or quality variables. From the microchart, the exemplary analysis processor 114 determines that the operator has determined and / or selected one or more corrective actions for the process and / or that the overall quality variable is within specified limits. It may be possible to determine whether to improve the process as expected.

例示的なOMS102は、オンラインデータプロセッサ116を介して、プロセス変動グラフ、寄与グラフ、変数傾向グラフ、品質予測グラフ、および/またはマイクロチャートを含む、プロセス制御データへのアクセスおよび制御を管理する。さらに、オンラインデータプロセッサ116は、プロセス制御オペレータが、プロセス制御データを視認、プロセス制御データを変更および/または修正、ならびに/あるいはプロセス制御システム106内のフィールドデバイスに対する命令を生成するために、アクセスを提供する。   The exemplary OMS 102 manages access and control of process control data, including process variation graphs, contribution graphs, variable trend graphs, quality prediction graphs, and / or microcharts via an online data processor 116. Further, the online data processor 116 provides access for the process control operator to view the process control data, change and / or modify the process control data, and / or generate instructions for field devices within the process control system 106. provide.

図1の例示的なプラント104は、ローカルエリアネットワーク(LAN)124を介して、オンラインデータプロセッサ116に通信可能に連結されたルータ120およびローカルワークステーション122を含む。その上、例示的なルータ120は、プラント104内の任意の他のワークステーション(図示せず)をLAN124および/またはオンラインデータプロセッサ116に通信可能に連結してもよい。ルータ120は、無線および/または有線接続を介して、他のワークステーションに通信可能に連結してもよい。ルータ120は、LAN124および/またはオンラインデータプロセッサ116へのアクセスハブとしての任意の種類の無線および/または有線ルータを含んでもよい。   The example plant 104 of FIG. 1 includes a router 120 and a local workstation 122 that are communicatively coupled to an online data processor 116 via a local area network (LAN) 124. Moreover, the example router 120 may communicatively couple any other workstation (not shown) in the plant 104 to the LAN 124 and / or the online data processor 116. The router 120 may be communicatively coupled to other workstations via wireless and / or wired connections. Router 120 may include any type of wireless and / or wired router as an access hub to LAN 124 and / or online data processor 116.

LAN124は、任意の所望の通信媒体およびプロトコルを使用して実装されてもよい。例えば、LAN124は、ハードワイヤードまたは無線イーサネット通信スキームに基づく場合がある。しかしながら、任意の他の好適な通信媒体およびプロトコルが使用されてもよい。その上、単一のLANが示されるが、ワークステーション122とそれぞれ類似のワークステーション(図示せず)との間に重複通信経路を提供するために、2つ以上のLANおよびワークステーション122内の適当な通信ハードウェアが使用されてもよい。   LAN 124 may be implemented using any desired communication medium and protocol. For example, the LAN 124 may be based on a hardwired or wireless Ethernet communication scheme. However, any other suitable communication medium and protocol may be used. In addition, a single LAN is shown, but in two or more LANs and workstations 122 to provide redundant communication paths between the workstation 122 and each similar workstation (not shown). Appropriate communication hardware may be used.

LAN124はまた、ファイアウォール128にも通信可能に連結される。ファイアウォール128は、1つ以上の規則に基づいて、リモートワークステーション130および/または132からプラント104内への通信が許可されるか判定する。例示的なリモートワークステーション130および132は、プラント104内に存在しないオペレータに、プラント104内のリソースへのアクセスを提供することができる。リモートワークステーション130および132は、ワイドエリアネットワーク(WAN)134を介して、ファイアウォール128に通信可能に連結される。   LAN 124 is also communicatively coupled to firewall 128. The firewall 128 determines whether communication from the remote workstations 130 and / or 132 into the plant 104 is permitted based on one or more rules. The exemplary remote workstations 130 and 132 can provide access to resources in the plant 104 to operators that are not in the plant 104. Remote workstations 130 and 132 are communicatively coupled to firewall 128 via wide area network (WAN) 134.

例示的なワークステーション122、130および/または132は、プロセス制御システム106内で1つ以上のプロセスを視認、変更、および/または是正するように構成されてもよい。例えば、ワークステーション122、130および/または132は、OMS102によって生成されたプロセス制御情報をフォーマットおよび/または表示する、ユーザインターフェース136を含む場合がある。例えば、ユーザインターフェース136は、OMS102から、生成されたグラフおよび/またはチャート、あるいは、代替として、プロセス制御グラフおよび/またはチャートを生成するためのデータを受信する場合がある。それぞれのワークステーション122、130、および/または132でグラフおよび/またはチャートデータを受信すると、ユーザインターフェース136は、オペレータにとって理解が比較的容易である、グラフおよび/またはチャート138の表示を生成することができる。図1の例は、ユーザインターフェース136を備えるワークステーション132を示す。しかしながら、ワークステーション122および/または130は、ユーザインターフェース136を含む場合がある。   The exemplary workstations 122, 130, and / or 132 may be configured to view, change, and / or correct one or more processes within the process control system 106. For example, the workstations 122, 130 and / or 132 may include a user interface 136 that formats and / or displays process control information generated by the OMS 102. For example, the user interface 136 may receive data from the OMS 102 for generating generated graphs and / or charts, or alternatively, process control graphs and / or charts. Upon receipt of the graph and / or chart data at each workstation 122, 130, and / or 132, the user interface 136 may generate a display of the graph and / or chart 138 that is relatively easy for the operator to understand. Can do. The example of FIG. 1 shows a workstation 132 with a user interface 136. However, workstations 122 and / or 130 may include a user interface 136.

例示的なユーザインターフェース136は、プロセス制御システム106および/またはプラント104内の任意の他のプロセス制御システム内の任意のプロセス制御欠陥の発生をプロセス制御オペレータに警告することができる。さらに、ユーザインターフェース136は、プロセス欠陥の発生源を判定し、得られる製品の品質に与えるプロセス欠陥の影響を予測するように、分析プロセスを通じてオペレータを誘導することができる。ユーザインターフェース136は、プロセスが発生している時に、プロセス制御統計情報をオペレータに提供することができ、それによって、オペレータが任意の欠陥を是正するためにプロセスに任意の調整を行うことを可能にする。プロセス中に欠陥を是正することによって、オペレータは、得られる製品の品質を維持することができる。   The example user interface 136 can alert the process control operator to the occurrence of any process control defects in the process control system 106 and / or any other process control system in the plant 104. Further, the user interface 136 can guide the operator through the analysis process to determine the source of process defects and to predict the effect of process defects on the quality of the resulting product. The user interface 136 can provide process control statistics to the operator as the process occurs, thereby allowing the operator to make any adjustments to the process to correct any defects. To do. By correcting defects during the process, the operator can maintain the quality of the resulting product.

例示的なユーザインターフェース136は、例示的なOMS102を介して、検出、分析、是正措置、および品質予測情報を表示することができる。例えば、ユーザインターフェース136は、プロセス概要チャート、プロセス変動グラフ、マイクロチャート、寄与グラフ、変数傾向グラフ、および/または品質予測グラフ(例えば、グラフ138)を表示する場合がある。これらのグラフ138を視認すると、オペレータは、多変量および/または統計プロセス情報を視認して、プロセス欠陥の原因を判定するために、追加のグラフ138を選択することができる。さらに、ユーザインターフェース136は、プロセス欠陥に対して可能な是正措置を表示することができる。ユーザインターフェース136は、次いで、オペレータが1つ以上の是正措置を選択することを可能にすることができる。是正を選択すると、ユーザインターフェース136は、是正をOMS102へ伝送することができ、次いで、OMS102は、プロセス制御システム106内で適当な是正を行うように命令をコントローラ108へ送信する。   The example user interface 136 may display detection, analysis, corrective action, and quality prediction information via the example OMS 102. For example, the user interface 136 may display a process summary chart, process variation graph, microchart, contribution graph, variable trend graph, and / or quality prediction graph (eg, graph 138). Viewing these graphs 138, the operator can select additional graphs 138 to view multivariate and / or statistical process information to determine the cause of process defects. In addition, the user interface 136 can display possible corrective actions for process defects. User interface 136 may then allow the operator to select one or more corrective actions. Upon selecting a correction, the user interface 136 can transmit the correction to the OMS 102, which then sends an instruction to the controller 108 to make the appropriate correction within the process control system 106.

図1の例示的なワークステーション122、130および/または132は、パーソナルコンピュータ、ラップトップ、サーバ、コントローラ、パーソナルデジタルアシスタント(PDA)、マイクロコンピュータ等を含む、任意のコンピューティングデバイスを含むことができる。ワークステーション122、130および/または132は、任意の好適なコンピュータシステムまたは処理システム(例えば、図18のプロセッサシステムP10)を使用して実装されてもよい。例えば、ワークステーション122、130および/または132は、シングルプロセッサパーソナルコンピュータ、シングルまたはマルチプロセッサワークステーション等を使用して実装することができる。   The exemplary workstations 122, 130, and / or 132 of FIG. 1 can include any computing device, including personal computers, laptops, servers, controllers, personal digital assistants (PDAs), microcomputers, and the like. . Workstations 122, 130 and / or 132 may be implemented using any suitable computer system or processing system (eg, processor system P10 of FIG. 18). For example, the workstations 122, 130 and / or 132 can be implemented using a single processor personal computer, a single or multiprocessor workstation, and the like.

例示的なプロセス制御環境100は、以下に詳細を記載する例示的な方法および装置が有利に採用されてもよい、ある種のシステムを例示するために提供される。しかしながら、本明細書に記載の例示的な方法および装置は、所望される場合、図1に示される例示的なプロセス制御環境100および/またはプロセス制御システム106より複雑度が高いまたは低い他のシステム、ならびに/あるいはプロセス制御動作、エンタープライズ管理動作、通信動作等に関連して使用されるシステム内で有利に採用されてもよい。   An exemplary process control environment 100 is provided to illustrate certain systems in which the exemplary methods and apparatus described in detail below may be advantageously employed. However, the exemplary methods and apparatus described herein may be other systems that are more or less complex than the exemplary process control environment 100 and / or process control system 106 shown in FIG. 1, if desired. And / or may be advantageously employed in systems used in connection with process control operations, enterprise management operations, communication operations, and the like.

図2は、測定された変数202および計算された品質変数204を含む、例示的なバッチ(例えば、バッチ#1)のデータ構造200を表す。例示的なデータ構造200はまた、全体品質変数(図示せず)も含む場合がある。バッチ処理は、比較的多数の製品および/または製品の一部がルーチンによって制御される1つ以上の場所で並列に作製される種類の製品製造である。ルーチンは、1つ以上のプロセス段階を含むことができ、各段階は、1つ以上の動作を含み、各動作は、1つ以上の相を含む。他の例では、プロセス制御システムは、製品を生成するために連続処理を利用する場合がある。連続処理は、プロセスおよび/または動作各々が一度に単一(または少数)の製品に対して単一機能を順次に実施する、組立ライン製造に類似する。本明細書に説明される方法および装置は、バッチプロセスを参照するが、任意の種類のプロセスが実装されてもよい。   FIG. 2 depicts an exemplary batch (eg, batch # 1) data structure 200 that includes measured variables 202 and calculated quality variables 204. The example data structure 200 may also include an overall quality variable (not shown). Batch processing is a type of product manufacturing in which a relatively large number of products and / or parts of products are made in parallel at one or more locations that are routinely controlled. A routine can include one or more process phases, each phase including one or more operations, and each operation including one or more phases. In other examples, the process control system may utilize continuous processing to produce a product. Continuous processing is similar to assembly line manufacturing where each process and / or operation sequentially performs a single function on a single (or few) product at a time. The methods and apparatus described herein refer to a batch process, but any type of process may be implemented.

例示的な測定された変数202は、測定プロセス変数および/または測定品質変数を含む。例えば、変数P1は、液体流量(例えば、プロセス変数)に対応する場合があり、変数P2は、液体濃度(例えば、品質変数)に対応する場合がある。測定された変数202は、バッチプロセス「バッチ#1」に関連して示される。バッチプロセスは、Z軸(例えば、時間)に沿って示される時間中に発生する。さらに、図2のバッチプロセスは、8つの測定された変数を含む。しかしながら、他の例では、バッチプロセスは、これより少ないまたは多い測定された変数を含んでもよい。   Exemplary measured variables 202 include measurement process variables and / or measurement quality variables. For example, the variable P1 may correspond to a liquid flow rate (eg, a process variable) and the variable P2 may correspond to a liquid concentration (eg, a quality variable). The measured variable 202 is shown in relation to the batch process “Batch # 1”. The batch process occurs during the time indicated along the Z axis (eg, time). In addition, the batch process of FIG. 2 includes eight measured variables. However, in other examples, the batch process may include fewer or more measured variables.

図2は、測定された変数202の各々が、バッチプロセス中の所定の時間のみ関与することを示す。例えば、変数P1は、バッチの開始から、バッチ全体の中間点まで関与する。このため、変数P1が液体流量に関連付けられる場合、バッチプロセス中の液体はバッチの開始からバッチの中間点までのみ流れている場合がある。この時点以降、バッチは液体流量を利用しない場合があり、このため、変数P1は、この時点を過ぎるとバッチプロセスに関与しない。対照的に、変数P4は、バッチプロセス全体に関与する。   FIG. 2 shows that each measured variable 202 is involved only for a predetermined time during the batch process. For example, the variable P1 is involved from the start of the batch to the midpoint of the entire batch. Thus, when the variable P1 is related to the liquid flow rate, the liquid in the batch process may only flow from the start of the batch to the midpoint of the batch. From this point on, the batch may not use the liquid flow rate, so the variable P1 is not involved in the batch process beyond this point. In contrast, the variable P4 is involved in the entire batch process.

例示的な計算された品質変数204は、バッチプロセス全体に関連付けられる。計算された品質変数204は、測定された変数202および/または他の品質変数204の間の多変量、統計的、および/または代数的関係であってもよい。例えば、品質変数Q1 204は、バッチプロセスから得られる製品の組成品質に対応する場合がある。組成品質Q1は、プロセス制御システム106内で直接測定可能ではない場合があるため、品質変数とすることができる。代わりに、組成品質Q1は、測定された変数202 P1、P3、P4およびP7の多変量の結合からモデル化および/または判定されてもよい。このため、組成品質Q1が定義された閾値を超える場合、測定された変数P1、P3、P4および/またはP7のうちの任意の1つおよび/または組み合わせは、変数に対する寄与因子となる場合がある。   An exemplary calculated quality variable 204 is associated with the entire batch process. The calculated quality variable 204 may be a multivariate, statistical, and / or algebraic relationship between the measured variable 202 and / or other quality variables 204. For example, the quality variable Q1 204 may correspond to the composition quality of a product obtained from a batch process. The composition quality Q1 may be a quality variable because it may not be directly measurable in the process control system 106. Alternatively, the composition quality Q1 may be modeled and / or determined from a multivariate combination of measured variables 202 P1, P3, P4 and P7. Thus, if the composition quality Q1 exceeds a defined threshold, any one and / or combination of measured variables P1, P3, P4 and / or P7 may be a contributing factor to the variable. .

図3は、プロセス変数302およびそれぞれの品質変数304を含む、例示的なバッチのデータ構造300を表す。バッチ(例えば、バッチ1〜7)は、バッチプロセスが順次に実行される段階(例えば、段階1〜4)を含むことを示す。例えば、段階1は、バッチの中の化学物質の合成および混合に対応する場合があり、一方、段階2は、バッチの中のそれらの混合された化学物質の焼成に対応する。これらの段階はさらに、動作、相、および/またはレベルに細分化される場合がある。加えて、計算された品質変数306は、各バッチの測定された変数302に対応する。   FIG. 3 depicts an exemplary batch data structure 300 that includes process variables 302 and respective quality variables 304. A batch (eg, batch 1-7) indicates that the batch process includes stages (eg, stages 1-4) that are performed sequentially. For example, stage 1 may correspond to the synthesis and mixing of chemicals in a batch, while stage 2 corresponds to the firing of those mixed chemicals in a batch. These stages may be further subdivided into operations, phases, and / or levels. In addition, the calculated quality variable 306 corresponds to the measured variable 302 of each batch.

図3の例は、各バッチは経過時間が異なる場合があることを示し、各段階の開始および終了はバッチ間で異なる。例えば、バッチ2は、バッチ1より短い時間内に完了するが、バッチ3および4は、バッチ1より長い時間内に完了する。さらに、バッチ1は、バッチ2よりも段階1を完了するために長い時間を必要とする。しかしながら、各変数(図示せず)に関与する経過時間は、対応する段階の時間の長さに比例してもよい。このため、バッチおよび/または段階の完了までの時間が不定であることは、各バッチ内の測定された変数302によって解決されてもよい。測定された変数の時間の長さが比例することから、バッチ間の測定された変数値の間で比較が行われてもよい。例えば、バッチ1の段階1全体の50%での測定された変数P1の値は、バッチ2〜7の段階1全体の50%での変数P1の値と実質的に同じ値を有するべきである。   The example of FIG. 3 shows that each batch may have a different elapsed time, and the start and end of each stage varies from batch to batch. For example, batch 2 completes in a shorter time than batch 1, while batches 3 and 4 complete in a longer time than batch 1. Further, batch 1 requires longer time to complete stage 1 than batch 2. However, the elapsed time involved in each variable (not shown) may be proportional to the length of time of the corresponding stage. Thus, the indefinite time to batch and / or stage completion may be resolved by the measured variable 302 in each batch. Since the length of time of the measured variable is proportional, a comparison may be made between the measured variable values between batches. For example, the value of the measured variable P1 at 50% of the entire stage 1 of batch 1 should have substantially the same value as the value of the variable P1 at 50% of the entire stage 1 of batch 2-7. .

図4は、図1の例示的な運用管理システム(OMS)102の機能図である。例示的なOMSは、図1のコントローラ108からのプロセス制御情報を処理し、プロセス制御システム106に関連付けられる変数に関与するモデルを判定し、プロセス制御情報から品質変数を計算し、任意の変数がそれぞれの閾値を超えるか判定し、ユーザインターフェースのための表示情報を生成し、および/またはプロセス制御情報へのアクセスを管理する。さらに、図4の例示的なOMS102は、プロセスを実行するように構成された機能ブロックを含むが、OMS102は、機能ブロックを組み合わせる、または追加の機能ブロックを含む場合がある。一部の例において、OMS102は、単一のプロセス制御システム(例えば、プロセス制御システム106)に関連付けられる場合がある一方、他の例では、OMS102は、複数のプロセス制御システムからのデータを処理する場合がある。さらに、OMS102は、バッチデータを処理し、管理すると記載されるが、OMS102は、連続、自動化、および/または製造型プロセスに関連付けられるデータを処理および/または管理することが可能であってもよい。   FIG. 4 is a functional diagram of the exemplary operations management system (OMS) 102 of FIG. The exemplary OMS processes the process control information from the controller 108 of FIG. 1, determines the model involved in variables associated with the process control system 106, calculates quality variables from the process control information, Determine if each threshold is exceeded, generate display information for the user interface, and / or manage access to process control information. Further, although the exemplary OMS 102 of FIG. 4 includes functional blocks configured to perform the process, the OMS 102 may combine functional blocks or include additional functional blocks. In some examples, OMS 102 may be associated with a single process control system (eg, process control system 106), while in other examples, OMS 102 processes data from multiple process control systems. There is a case. Further, although the OMS 102 is described as processing and managing batch data, the OMS 102 may be capable of processing and / or managing data associated with continuous, automated, and / or manufacturing processes. .

コントローラ108からデータを受信し、処理するために、例示的なOMS102は、バッチデータ受信器402を含む。例示的なバッチデータ受信器402は、通信経路404を介して、コントローラ108からプロセス制御情報を受信する。例示的な通信経路404は、任意の種類の有線および/または無線通信経路を含むことができる。プロセス制御情報は、プロセス制御システム106内のフィールドデバイスからの出力データを含むことができる。この出力データは、バッチデータ受信器402によって、フィールドデバイスを発生源とする測定されたプロセス変数および/または品質変数に対応する値として受信されてもよい。他の例では、プロセス制御データは、フィールドデバイスの出力に対応する値を含むデータファイルとして受信されてもよい。これらの例で、バッチデータ受信器402は、発生源であるフィールドデバイスを注釈することによって、値に対応する対応の測定された変数を判定することができる。その上、バッチデータ受信器402は、コントローラ108がプロセス制御情報を受信すると同時に、および/またはコントローラ108からのプロセス制御情報をリクエストすることによって、コントローラ108から周期的な間隔でプロセス制御情報を受信することができる。   In order to receive and process data from the controller 108, the exemplary OMS 102 includes a batch data receiver 402. The exemplary batch data receiver 402 receives process control information from the controller 108 via the communication path 404. The exemplary communication path 404 can include any type of wired and / or wireless communication path. The process control information can include output data from field devices in the process control system 106. This output data may be received by the batch data receiver 402 as a value corresponding to the measured process variable and / or quality variable originating from the field device. In another example, the process control data may be received as a data file that includes values corresponding to field device outputs. In these examples, the batch data receiver 402 can determine the corresponding measured variable corresponding to the value by annotating the originating field device. Moreover, the batch data receiver 402 receives process control information from the controller 108 at periodic intervals simultaneously with the controller 108 receiving process control information and / or by requesting process control information from the controller 108. can do.

プロセス制御情報を受信すると、図4の例示的なバッチデータ受信器402は、対応する変数別および/またはフィールドデバイスによってデータが生成された時間別にフィールドデバイスからの値を整理する。バッチデータ受信器402は、プロセス制御システム106内の段階、動作、プロセス、バッチ番号、および/または事象別に値を整理する場合もある。例えば、バッチデータ受信器402は、バッチID(例えば、バッチ#7)、バッチ段階(例えば、段階2)、段階内のバッチ動作(例えば、加熱)等別に値を整理する場合がある。測定された変数に対応する値を整理すると、バッチデータ受信器402は、整理された情報をバッチデータデータベース406に記憶する。さらに、例示的なバッチデータ受信器402は、記憶されたバッチデータにアクセスする、および/またはバッチデータを解析プロセッサ114へ伝送する場合がある。バッチデータデータベース406は、電気的に消去可能かつプログラム可能な読み出し専用メモリ(EEPROM)、ランダムアクセスメモリ(RAM)、読み出し専用メモリ(ROM)、および/または任意の他の種類のメモリによって実装することができる。   Upon receipt of the process control information, the exemplary batch data receiver 402 of FIG. 4 organizes values from the field device by corresponding variable and / or time by which data was generated by the field device. The batch data receiver 402 may organize values by stage, operation, process, batch number, and / or event within the process control system 106. For example, the batch data receiver 402 may organize values by batch ID (eg, batch # 7), batch stage (eg, stage 2), batch operation within the stage (eg, heating), and the like. Once the values corresponding to the measured variables are organized, the batch data receiver 402 stores the organized information in the batch data database 406. Further, the exemplary batch data receiver 402 may access stored batch data and / or transmit batch data to the analysis processor 114. The batch data database 406 may be implemented by an electrically erasable and programmable read only memory (EEPROM), random access memory (RAM), read only memory (ROM), and / or any other type of memory. Can do.

例示的な解析プロセッサ114は、プロセス制御システム106に関連付けられる計算、モデリング、および/または欠陥判定を管理する。解析プロセッサ114は、測定された変数に関連付けられる値から計算された変数に関連付けられる値を計算するために、解析プロセスモデラ408を含む。解析プロセスモデラ408は、測定されたプロセス変数および/または測定された品質変数の間の関係を判定するため、ならびに/あるいは測定された変数と計算されたおよび/または全体変数との間の関係を判定するために、プロセス制御システム106のモデルを利用する。解析プロセスモデラ408は、プロセスモデルの中の測定された変数に関連付けられる値を含め、測定された値でモデルを処理し、ならびに/あるいはモデルの出力として、計算された品質変数および/または全体品質変数に関連付けられる値を受信することによって、計算されたおよび/または全体品質変数の値を計算する。他の例では、測定されたデータは、計算されたおよび/または全体品質変数に関連付けられる場合がある値および/または一般化を抽出するために、多変量、最適化、幾何、および/または代数射影を利用するグラフィックス空間内に整理される場合がある。   The example analysis processor 114 manages calculations, modeling, and / or defect determination associated with the process control system 106. The analysis processor 114 includes an analysis process modeler 408 to calculate a value associated with the calculated variable from a value associated with the measured variable. The analysis process modeler 408 determines the relationship between the measured process variable and / or the measured quality variable and / or the relationship between the measured variable and the calculated and / or global variable. A model of the process control system 106 is used to make the determination. The analysis process modeler 408 processes the model with the measured values, including values associated with the measured variables in the process model, and / or as the output of the model as a calculated quality variable and / or overall quality. By calculating the value associated with the variable, the value of the calculated and / or overall quality variable is calculated. In other examples, the measured data is multivariate, optimized, geometric, and / or algebraic to extract values and / or generalizations that may be associated with calculated and / or overall quality variables. Sometimes it is organized in a graphics space that uses projection.

変動を利用する例示的なグラフでは、例示的な解析プロセスモデラ408は、現在のバッチデータ(例えば、測定された変数、計算された変数、および/または全体変数)に関連付けられる値と、以前のバッチおよび/または現在のバッチデータの特定目標値に関連付けられる値を比較することによって、現在のバッチデータの変動を計算する場合がある。変動計算は、T2および/またはQ統計的検定を測定された変数および/または計算された変数に関連付けられる値に適用することを含む場合がある。例えば、T2統計は、プロセス制御変数の説明された変動を判定するために使用される場合がある一方、Q統計は、説明されない変動に対応する変数に関連付けられる異常値の許容を判定するために使用される場合がある。   In an exemplary graph that utilizes variability, the exemplary analysis process modeler 408 includes values associated with current batch data (eg, measured variables, calculated variables, and / or global variables) Variations in the current batch data may be calculated by comparing values associated with specific target values for the batch and / or current batch data. Variation calculation may include applying T2 and / or Q statistical tests to the measured variable and / or the value associated with the calculated variable. For example, the T2 statistic may be used to determine the explained variation of the process control variable, while the Q statistic is used to determine the tolerance of outliers associated with the variable corresponding to the unexplained variation. May be used.

さらに、例示的な解析プロセスモデラ408は、測定された変数、計算された変数、および/または全体品質変数に関連付けられる変動を用いて、測定された変数の寄与量を判定してもよい。解析プロセスモデラ408は、プロセス制御システム106のプロセスモデルに基づいて、測定された変数の寄与量を判定してもよい。これらのモデルに基づいて、解析プロセスモデラ408は、測定された変数値をモデルに適用し、モデルを処理し、および/または各変数の寄与因子を識別してもよい。   Further, the example analysis process modeler 408 may determine the contribution of the measured variable using the variables associated with the measured variable, the calculated variable, and / or the overall quality variable. Analysis process modeler 408 may determine the contribution of the measured variable based on the process model of process control system 106. Based on these models, the analysis process modeler 408 may apply the measured variable values to the model, process the model, and / or identify the contributing factors for each variable.

その上、解析プロセスモデラ408は、是正の実装後、プロセスの品質を予測するために、測定された変数、計算された変数、および/または全体変数に関連付けられる値を使用してもよい。解析プロセスモデラ408は、最新のプロセス変数を検討し、類似のデータ特徴を有する過去のバッチの是正および/または品質を考慮する予測モデルを使用することによって、品質を予測してもよい。さらに、解析プロセスモデラ408は、例えば、95%の信頼を持って、得られる製品の可能である品質を示してもよい、予測された品質の統計的信頼範囲を計算してもよい。   Moreover, the analysis process modeler 408 may use values associated with measured variables, calculated variables, and / or global variables to predict process quality after corrective implementation. The analysis process modeler 408 may predict quality by reviewing current process variables and using a prediction model that considers correction and / or quality of past batches with similar data characteristics. Further, the analysis process modeler 408 may calculate a statistical confidence range of the predicted quality that may indicate the possible quality of the resulting product, for example, with 95% confidence.

図4の例示的な解析プロセスモデラ408は、プロセス制御情報がコントローラ108から受信されると同時に、全体および/または計算された変数を計算し、変数の寄与量を判定し、プロセス品質を予測し、および/または変動統計を計算してもよい。他の例では、解析プロセスモデラ408は、プロセス制御オペレータからのリクエスト時に、事前定義された期間の、全体変数および/または計算された変数を計算し、変数の寄与量を判定し、プロセス品質を予測し、および/または変動統計を計算する場合がある。さらに、解析プロセスモデラ408は、対応するグラフが、ユーザインターフェースのプロセス制御情報を視認しているプロセス制御オペレータによって利用および/またはリクエストされる時に、全体および/または計算された変数を計算、変数の寄与量を判定、プロセス品質を予測、および/または変動統計を計算してもよい。例えば、解析プロセスモデラ408は、プロセス制御オペレータが、品質予測グラフを視認することを選択した時にのみプロセス品質を予測する場合がある。代替として、解析プロセスモデラ408は、プロセス制御オペレータに表示するために、全体および/または計算された変数、変数の寄与量、予測されたプロセス品質、および/または変動統計をOMS102内の他の機能ブロックに提供してもよい。その上、解析プロセスモデラ708は、全体および/または計算された品質変数、変数の寄与量、予測プロセス品質、および/または変動統計を、プロセス制御情報にアクセスしているプロセス制御オペレータに関連付けられるユーザインターフェース(例えば、ユーザインターフェース136)に伝送してもよい。   The example analysis process modeler 408 of FIG. 4 calculates overall and / or calculated variables, determines variable contributions, and predicts process quality as process control information is received from the controller 108. And / or variation statistics may be calculated. In another example, the analysis process modeler 408 calculates global variables and / or calculated variables for a predefined period upon request from the process control operator, determines variable contributions, and determines process quality. Predictions and / or variability statistics may be calculated. In addition, the analysis process modeler 408 calculates global and / or calculated variables when the corresponding graph is utilized and / or requested by a process control operator viewing the process control information in the user interface. Contributions may be determined, process quality may be predicted, and / or variation statistics may be calculated. For example, the analysis process modeler 408 may predict process quality only when the process control operator chooses to view the quality prediction graph. Alternatively, the analysis process modeler 408 may display the overall and / or calculated variables, variable contributions, predicted process quality, and / or variability statistics to other functions within the OMS 102 for display to the process control operator. You may provide the block. In addition, the analysis process modeler 708 allows the user to associate the overall and / or calculated quality variables, variable contributions, predicted process quality, and / or variability statistics with the process control operator accessing the process control information. It may be transmitted to an interface (eg, user interface 136).

図4の例示的な解析プロセッサ114は、計算された品質値、プロセス変動、変数の寄与量、および/または予測プロセス品質値がそれぞれの既定閾値を超えるかを判定するために、評価プロセスモデラ410を含む。例示的な評価プロセスモデラ410は、プロセス制御システム106に関連付けられるモデルから閾値を受信してもよい。代替として、評価プロセスモデラ410は、プロセス制御オペレータから閾値を受信してもよい。これらの閾値は、プロセス制御システム106の製品が品質規格に合致することを保証する、最大および/または最低基準および/または値に基づいてもよい。   The example analysis processor 114 of FIG. 4 determines the evaluation process modeler 410 to determine whether the calculated quality values, process variations, variable contributions, and / or predicted process quality values exceed respective predefined thresholds. including. The example evaluation process modeler 410 may receive thresholds from a model associated with the process control system 106. Alternatively, the evaluation process modeler 410 may receive a threshold value from a process control operator. These thresholds may be based on maximum and / or minimum criteria and / or values that ensure that the product of process control system 106 meets quality standards.

例示的な評価プロセスモデラ410はまた、測定された変数、計算された変数、および/または全体変数値が閾値を超える場合、欠陥指標を生成してもよい。さらに、評価プロセスモデラ410は、測定された変数、計算された変数、および/または全体変数に関連付けられる変動が閾値を超える場合、欠陥指標を生成してもよい。欠陥指標を生成後、評価プロセスモデラ410は、OMS102内の別の機能ブロック、および/または欠陥に関するプロセス制御データにアクセスしているワークステーション内のユーザインターフェースへ欠陥指標を伝送することができる。さらに、評価プロセスモデラ410は、測定および/または計算された変数値の傾向、ならびに/あるいはこれらの変数に関連付けられる変動に基づいて、プロセス欠陥を予測してもよい。例えば、評価プロセスモデラ410は、測定された変数の値の長期的増加に基づいて、プロセス欠陥が発生する可能性があると判定する場合がある。評価プロセスモデラ410が、プロセス欠陥が発生する可能性があると判定した場合、評価プロセスモデラ410は、予測欠陥指標を生成することができる。   The example evaluation process modeler 410 may also generate a defect indicator if the measured variable, calculated variable, and / or global variable value exceeds a threshold. Further, the evaluation process modeler 410 may generate a defect indicator if the variation associated with the measured variable, the calculated variable, and / or the global variable exceeds a threshold. After generating the defect indicator, the evaluation process modeler 410 may transmit the defect indicator to another functional block in the OMS 102 and / or a user interface in the workstation accessing process control data regarding the defect. Further, the evaluation process modeler 410 may predict process defects based on trends in measured and / or calculated variable values and / or variations associated with these variables. For example, the evaluation process modeler 410 may determine that a process defect may occur based on a long-term increase in the value of the measured variable. If the evaluation process modeler 410 determines that a process defect may occur, the evaluation process modeler 410 can generate a predicted defect indicator.

さらに、評価プロセスモデラ410は、解析プロセスモデラ408からの品質予測計算が品質限界を超える、または品質限界外になるか判定することができる。その上、評価プロセスモデラ410は、予測された品質の信頼範囲のいずれかが、対応する品質閾値を超えるか、またはそうでなければ満足させることに失敗するか判定することができる。何らかの品質範囲が品質閾値を超える場合、評価プロセスモデラ410は、予測欠陥指標を送信することができる。予測欠陥指標は、是正措置がプロセスを品質制御閾値または限界内にもたらさないことをプロセス制御オペレータに通知することができる。予測欠陥指標の結果、プロセス制御オペレータは、得られる製品が品質規格、基準、および/または閾値を満たさない可能性があるため、プロセスを終了することによって時間を節約、および/またはプロセスを再開することを判定することができる。   Further, the evaluation process modeler 410 can determine whether the quality prediction calculation from the analysis process modeler 408 exceeds or falls outside the quality limit. Moreover, the evaluation process modeler 410 can determine whether any of the predicted quality confidence ranges exceed a corresponding quality threshold or otherwise fail to satisfy. If any quality range exceeds the quality threshold, the evaluation process modeler 410 can send a predictive defect indicator. The predictive defect indicator can inform the process control operator that the corrective action will not bring the process within quality control thresholds or limits. As a result of the predictive defect indicator, the process control operator saves time and / or restarts the process by terminating the process because the resulting product may not meet quality standards, criteria, and / or thresholds Can be determined.

図4の例示的な評価プロセスモデラ410は、OMS102の各インスタンスがコントローラ108からプロセス制御データを受信すると、任意の変数値、変動、および/または品質予測が、閾値を超えるか、または満たすことに失敗するか判定することができる。代替として、評価プロセスモデラ410は、任意の変数値、変動、および/または品質予測が、事前定義された期間に、および/またはプロセス制御オペレータからのリクエスト時に閾値を超えるか判定する場合がある。   The example evaluation process modeler 410 of FIG. 4 allows any variable value, variation, and / or quality prediction to exceed or meet a threshold as each instance of the OMS 102 receives process control data from the controller 108. You can determine if it fails. Alternatively, the evaluation process modeler 410 may determine whether any variable values, variations, and / or quality predictions exceed a threshold during a predefined period and / or upon request from a process control operator.

プロセス制御システム106のプロセスモデルを判定するために、図4の例示的なOMS102は、プロセスモデル生成器412を含む。例示的なプロセスモデル生成器412は、解析プロセスモデラ408、解析プロセッサ114、および/または評価プロセスモデラ410によって利用されるモデルを判定する。モデルは、測定された変数、品質変数および/または全体プロセス品質の間の関係、測定された変数、品質変数および/または全体プロセス品質の閾値、ならびに/あるいは測定された変数、品質変数および/または全体プロセス品質のグラフ表示タイプを定義することができる。   To determine the process model of process control system 106, the example OMS 102 of FIG. 4 includes a process model generator 412. The example process model generator 412 determines the model utilized by the analysis process modeler 408, the analysis processor 114, and / or the evaluation process modeler 410. The model may include a relationship between measured variables, quality variables and / or overall process quality, measured variables, quality variables and / or overall process quality thresholds, and / or measured variables, quality variables and / or A graphical display type of the overall process quality can be defined.

例示的なプロセスモデル生成器412は、プロセス制御システム106内のフィールドデバイスのリスト、各フィールドデバイスに関連付けられる入力および/または出力、フィールドデバイスの配置、ならびに/あるいはフィールドデバイスの相互接続を受信することによって、プロセスモデルを構築および/または判定することができる。さらに、プロセスモデル生成器412は、フィールドデバイスおよび/またはフィールドデバイスの出力の間の関係を予測するために、いくつかのフィールドデバイスの間の過去のプロセス関係を利用することができる。これらの関係はまた、フィールドデバイスからのデータを分析してフィールドデバイスの間の相互接続に基づいて関係および/または寄与を判定するために、多変量統計方法論を利用することによって判定されてもよい。多変量解析は、判別分析、主成分分析、潜在構造分析に対する射影、および/または多変量プロセス制御分析を含むことができる。多変量解析に加えて、プロセスモデル生成器412は、探索的データ解析、制御および機能解析、回帰分析、相関分析、分散分析(例えば、ANOVA)、再現性分析、再生分析、および/または時系列分析を利用することができる。   The example process model generator 412 receives a list of field devices in the process control system 106, inputs and / or outputs associated with each field device, field device placement, and / or field device interconnections. The process model can be constructed and / or determined. Further, the process model generator 412 can utilize past process relationships between several field devices to predict relationships between field devices and / or field device outputs. These relationships may also be determined by utilizing multivariate statistical methodologies to analyze data from field devices and determine relationships and / or contributions based on interconnections between field devices. . Multivariate analysis can include discriminant analysis, principal component analysis, projection to latent structure analysis, and / or multivariate process control analysis. In addition to multivariate analysis, the process model generator 412 can be used for exploratory data analysis, control and functional analysis, regression analysis, correlation analysis, analysis of variance (eg, ANOVA), reproducibility analysis, regeneration analysis, and / or time series. Analysis can be used.

過去の関係、多変量解析、および/または統計分析は、測定された変数、計算された変数、予測された品質値、変動等の各々に対する閾値を判定するために、プロセスモデル生成器412によって使用されてもよい。閾値はまた、実験、設計プロトタイピング、故障影響分析の設計、生産前プロセス制御システムプロトタイピング、プロセス制御オペレータの計算、および/またはプロセス品質を正確に予測および/または計算することができる任意の他の方法を通して判定されてもよい。   Past relationships, multivariate analysis, and / or statistical analysis are used by the process model generator 412 to determine thresholds for each of measured variables, calculated variables, predicted quality values, variability, etc. May be. The threshold may also be an experiment, design prototyping, failure impact analysis design, pre-production process control system prototyping, process control operator calculations, and / or any other that can accurately predict and / or calculate process quality. It may be determined through the method.

さらに、プロセスモデル生成器412は、プロセス制御システム106の制御および/または動作を定義する、機能図、アルゴリズム、ルーチン、および/または任意の他の種類のコマンド構造を分析することによって、変数間の関係を判定することができる。また、プロセス制御オペレータは、プロセスモデル生成器412の外で実施される実験および/または計算に基づいて、変数間の関係を定義することもできる。その上、プロセスモデル生成器412は、欠陥および是正措置の影響を含む過去のバッチデータを分析することによって、是正措置を適用してプロセス欠陥を是正するための条件を判定することができる。さらに、是正措置は、フィールドデバイスへの入力を欠陥の原因かもしれない、測定された変数に連結することによって、判定されてもよい。例えば、流量が欠陥の原因であると判定された場合、プロセスモデル生成器412は、流量がバルブおよび/またはポンプによって調整されてもよいと判定することができる。このように、バルブおよび/またはポンプへの入力を変更することは、異常な流量に対する是正措置であると判定することができる。代替として、プロセスモデル生成器412は、プロセス制御オペレータから是正措置を受信してもよい。   In addition, the process model generator 412 analyzes the functional diagrams, algorithms, routines, and / or any other type of command structure that define the control and / or operation of the process control system 106 to provide a variable between variables. The relationship can be determined. The process control operator can also define relationships between variables based on experiments and / or calculations performed outside of the process model generator 412. Moreover, the process model generator 412 can determine the conditions for applying the corrective action to correct the process defect by analyzing past batch data including the effects of the defect and the corrective action. Further, corrective action may be determined by linking the input to the field device to a measured variable that may be the cause of the defect. For example, if it is determined that the flow rate is the cause of the defect, the process model generator 412 can determine that the flow rate may be adjusted by a valve and / or pump. In this way, changing the input to the valve and / or pump can be determined to be a corrective action for an abnormal flow rate. Alternatively, the process model generator 412 may receive corrective action from the process control operator.

加えて、プロセスモデル生成器412は、全体プロセス品質を用いて、測定された変数および/または計算された変数の間の関係を判定するために、任意の多変量および/または統計方法を使用することができる。プロセスモデル生成器412はまた、プロセス制御システム106に対する是正に基づいて、プロセス品質を予測するモデルを判定するために、任意の多変量および/または統計方法を使用することもできる。品質予測モデルは、類似のデータ特徴を含む過去のバッチに基づいた射影分析を用いて過去のデータに是正措置を適用することに基づいてもよい。また、プロセスモデル生成器412は、過去のバッチデータ傾向に基づいて任意の変数が閾値を超えるか予測するモデルを判定するために、多変量および/または統計方法を使用することができる。   In addition, the process model generator 412 uses any multivariate and / or statistical method to determine the relationship between measured and / or calculated variables using the overall process quality. be able to. The process model generator 412 may also use any multivariate and / or statistical method to determine a model that predicts process quality based on corrections to the process control system 106. The quality prediction model may be based on applying corrective actions to past data using projection analysis based on past batches containing similar data features. The process model generator 412 can also use multivariate and / or statistical methods to determine a model that predicts whether any variable exceeds a threshold based on past batch data trends.

その上、プロセスモデル生成器412は、ホテリングのT2統計の適用を通じて数量化される測定されたプロセス外乱および/またはQ統計(例えば、二乗予測誤差(SPE))の適用を通じて未測定の外乱を判定することによって、モデル化されたデータからの品質変数に対する測定された変数の変動および/または寄与を判定することができる。さらに、プロセスモデル生成器412によって判定されたモデルは、値の特定範囲内に集団化している場合がある個別の正常に合致するバッチ別に、および/または集団範囲外の場合がある、非合致のバッチ別に、測定された変数に関連付けられる値をグループ化することができる。   Moreover, the process model generator 412 determines unmeasured disturbances through application of measured process disturbances and / or Q statistics (eg, square prediction error (SPE)) quantified through application of Hotelling's T2 statistics. By doing so, the variation and / or contribution of the measured variable to the quality variable from the modeled data can be determined. Further, the models determined by the process model generator 412 may be non-matching, with individual normally matching batches that may be grouped within a specific range of values and / or outside the group range. By batch, values associated with measured variables can be grouped.

測定された変数および/または計算された変数間の関係に対するモデルを判定することに加えて、例示的なプロセスモデル生成器412は、モデル化された関係タイプに基づいてグラフ種類を判定する。グラフのタイプは一般的に、各グラフの外観、データ表示、データ種類、および/またはインターフェースオプションを決定するプロセス制御オペレータによって作成される場合がある。例示的なプロセスモデル生成器412は、次いで、各タイプのグラフに対応するデータ種類を自動入力してもよい。例えば、プロセスモデル生成器412は、マイクロチャート内に表示される測定された変数と、プロセス変動グラフ内に表示されるプロセス変動データおよび/または対応する変数と、寄与グラフ内に表示される測定された変数および/または計算された変数ならびに寄与関係とを含む場合がある。   In addition to determining a model for the relationship between measured variables and / or calculated variables, the example process model generator 412 determines a graph type based on the modeled relationship type. Graph types may generally be created by a process control operator that determines the appearance, data display, data type, and / or interface options for each graph. The exemplary process model generator 412 may then automatically enter the data types corresponding to each type of graph. For example, the process model generator 412 may measure measured variables displayed in a microchart, process variation data and / or corresponding variables displayed in a process variation graph, and measured variables displayed in a contribution graph. And / or calculated variables and contribution relationships.

図4の例示的なプロセスモデル生成器412は、モデル、関係、および/または閾値をプロセスモデルデータベース416に記憶してもよい。プロセスモデルデータベース416は、通信経路418を介して、プロセス制御オペレータによって、モデル、関係、および/または閾値のうちのいずれかを視認、変更、および/またはいずれかに情報を追加するために、アクセスされてもよい。通信経路418は、任意の種類の有線および/または無線通信経路であってもよい。プロセスモデルデータベース416は、EEPROM、RAM、ROM、および/または任意の他の種類のメモリによって実装されてもよい。   The example process model generator 412 of FIG. 4 may store models, relationships, and / or thresholds in the process model database 416. The process model database 416 is accessed via the communication path 418 by the process control operator to view, change, and / or add information to any of the models, relationships, and / or thresholds. May be. The communication path 418 may be any type of wired and / or wireless communication path. Process model database 416 may be implemented by EEPROM, RAM, ROM, and / or any other type of memory.

例示的なプロセスモデル生成器412は、オペレータからのリクエスト時に、モデル、関係、および/または閾値を解析プロセスモデラ408および/または評価プロセスモデラ410に提供することができる。代替として、解析プロセスモデラ408および/または評価プロセスモデラ410は、必要に応じて、プロセスモデル生成器412を介して、プロセスモデルデータベース416の中に記憶されたモデル、関係、および/または閾値にアクセスすることができる。さらに、プロセスモデル生成器412は、プロセス制御情報がOMS102によって受信されると同時に、各モデル、関係、および/または閾値を更新することができる。   The example process model generator 412 may provide models, relationships, and / or thresholds to the analysis process modeler 408 and / or the evaluation process modeler 410 upon request from an operator. Alternatively, the analysis process modeler 408 and / or the evaluation process modeler 410 may access models, relationships, and / or thresholds stored in the process model database 416 via the process model generator 412 as needed. can do. Further, the process model generator 412 can update each model, relationship, and / or threshold at the same time that process control information is received by the OMS 102.

ユーザインターフェース内の変数値の表示を管理するために、図4の例示的なOMS102は、表示マネージャ420を含む。例示的な表示マネージャ420は、解析プロセッサ114から、測定された変数値、計算された変数値、計算された変動、計算された寄与、閾値、グラフタイプ情報および/または欠陥指標を受信する。情報を受信後、表示マネージャ420は、ユーザインターフェース内に表示するために、情報をグラフタイプ別に整理する。例えば、ワークステーション(例えば、図1のワークステーション130)が、ウェブアプリケーションを使用してOMS102にアクセスすると、例示的な表示マネージャ420は、ユーザインターフェース内に1つ以上のグラフを表示する。   To manage the display of variable values within the user interface, the exemplary OMS 102 of FIG. 4 includes a display manager 420. The example display manager 420 receives from the analysis processor 114 measured variable values, calculated variable values, calculated variations, calculated contributions, thresholds, graph type information, and / or defect indicators. After receiving the information, the display manager 420 organizes the information by graph type for display in the user interface. For example, when a workstation (eg, workstation 130 of FIG. 1) accesses OMS 102 using a web application, exemplary display manager 420 displays one or more graphs in the user interface.

表示マネージャ420は、ユーザインターフェースアプリケーションを用いて、解析プロセスモデラ408および/または解析プロセッサ114から生成されたグラフ情報を組み合わせることによって、グラフを表示することができる。例えば、表示マネージャ420は、プロセス制御オペレータ、技術者、および/または管理者にウェブサーバフレームワークを提供するために、Silverlight(商標)、アドビFlash(商標)、ハイパーテキストマークアップ言語(HTML)5、または任意の他の類似のプラグインベースのリッチインターネットアプリケーション技術を使用して構築されたリッチインターネットアプリケーション(RIA)内に、生成されたグラフを挿入する場合がある。表示マネージャ420は、Silverlightおよび/またはFlashプラグインを含む任意のワークステーション以外でも、特殊なプロセス制御ソフトウェアの配備を必要としない、相互作用型ブラウザベースのアプリケーションを可能にする。表示マネージャ420は、ワークステーションがOMS102に連続的にアクセスする必要なく、ワークステーションから、グラフ内のデータの直接操作を可能にする。グラフの直接操作は、曲線上の点の視覚的フィードバック、グラフのパンおよび/または縮小拡大、ならびに/あるいは関係するグラフの表示を含むことができる。代替として、グラフを視認するために特殊なアプリケーションが必要な例では、表示マネージャ420は、生成されたグラフに関連付けられるデータを用いてそのアプリケーションを提供する場合がある。   Display manager 420 can display a graph by combining the graph information generated from analysis process modeler 408 and / or analysis processor 114 using a user interface application. For example, the display manager 420 may be a Silverlight ™, Adobe Flash ™, Hypertext Markup Language (HTML) 5 to provide a web server framework to process control operators, technicians, and / or administrators. Or the generated graph may be inserted into a rich internet application (RIA) built using any other similar plug-in based rich internet application technology. The display manager 420 enables interactive browser-based applications that do not require the deployment of specialized process control software other than any workstation that includes Silverlight and / or Flash plug-ins. The display manager 420 allows direct manipulation of data in the graph from the workstation without the workstation needing continuous access to the OMS 102. Direct manipulation of the graph can include visual feedback of points on the curve, panning and / or scaling of the graph, and / or display of the related graph. Alternatively, in examples where a special application is required to view the graph, the display manager 420 may provide that application with data associated with the generated graph.

どのプロセス制御オペレータがどのプロセス制御データにアクセスするかを管理するために、例示的なOMS102は、セッションコントローラ422を含む。一部の例において、セッションコントローラ422は、ウェブサーバとして表示マネージャ420と組み合わされる場合がある。例示的なセッションコントローラ422は、解析プロセッサ114によって生成されたデータおよび/またはグラフにアクセスするプロセス制御オペレータ各々に新しいセッションを開始する。各オペレータに新しいセッションを作成することによって、セッションコントローラ422は、オペレータによってアクセスされたプロセスに関するプロセス制御データだけがオペレータに伝送されることを確実にする。例えば、4人の異なるオペレータが4つの異なるプロセスに関連付けられるデータを視認するためにOMS102にアクセスする場合がある。その上、セッションコントローラ422は、2人以上のオペレータが同じプロセスに関連付けられるプロセスデータおよび/またはグラフを視認する際のセッションを管理してもよい。   The exemplary OMS 102 includes a session controller 422 to manage which process control operators access which process control data. In some examples, the session controller 422 may be combined with the display manager 420 as a web server. The example session controller 422 initiates a new session for each process control operator that accesses the data and / or graphs generated by the analysis processor 114. By creating a new session for each operator, the session controller 422 ensures that only process control data relating to the process accessed by the operator is transmitted to the operator. For example, four different operators may access OMS 102 to view data associated with four different processes. In addition, the session controller 422 may manage sessions when two or more operators view process data and / or graphs associated with the same process.

さらに、セッションコントローラ422は、ワークステーション上のユーザインターフェース内に表示されるデータを追跡してもよい。この様式では、ワークステーションがOMS102との接続を失うと、セッションコントローラ422は、ワークステーションが再接続することが可能な際に使用するために、ワークステーションの最後の場所を記憶する。さらに、セッションコントローラ422は、ユーザインターフェースへの情報の伝送を管理することができる。例えば、オペレータがセッションを開くと、セッションコントローラ422は、概要チャートおよび/または任意のプロセス変動グラフをワークステーションへ伝送する場合がある。次いで、セッションコントローラ422は、任意の寄与グラフ、変数傾向グラフ、および/またはマイクロチャートを伝送してもよい。   In addition, the session controller 422 may track data displayed in the user interface on the workstation. In this manner, when the workstation loses connection with the OMS 102, the session controller 422 stores the last location of the workstation for use when the workstation can be reconnected. Furthermore, the session controller 422 can manage the transmission of information to the user interface. For example, when an operator opens a session, the session controller 422 may transmit a summary chart and / or any process variation graph to the workstation. The session controller 422 may then transmit any contribution graph, variable trend graph, and / or microchart.

ワークステーションへのプロセス制御情報の通信を管理するために、図4の例示的なOMS102は、オンラインデータプロセッサ116を含む。例示的なオンラインデータプロセッサ116は、プラント内通信および/またはウェブブラウザ通信を、セッションコントローラ422、表示マネージャ420、および/または解析プロセッサ114と通信するための単一のプロトコル内に解決してもよい。さらに、オンラインデータプロセッサ116は、登録されたワークステーションおよび/またはプロセス制御オペレータだけがプロセス制御データおよび関連グラフにアクセスする可能性があることを確実にするために、セキュリティおよび/またはユーザ認証機能を含んでもよい。   In order to manage communication of process control information to the workstation, the exemplary OMS 102 of FIG. 4 includes an online data processor 116. The exemplary online data processor 116 may resolve in-plant communications and / or web browser communications in a single protocol for communicating with the session controller 422, display manager 420, and / or analysis processor 114. . In addition, the online data processor 116 provides security and / or user authentication functions to ensure that only registered workstations and / or process control operators may access process control data and associated graphs. May be included.

プラント104内のワークステーションと通信するために、例示的なOMS102は、プラント内アクセスサーバ424を含む。プラント内アクセスサーバ424は、図1のLAN124に連結するために構成要素および/または接続機能を含んでもよい。さらに、プラント内アクセスサーバ424は、伝送されるデータが未承認の個人によって視認される可能性がないことを確実にするために、暗号化および/または任意の他のデータ伝送セキュリティを含むことができる。プラント内アクセスサーバ424は、プロセス制御データおよび関連グラフを表示することが可能である、任意のワークステーション、ラップトップ、パーソナルデジタルアシスタント(PDA)、スマートフォン、および/または任意の他のデバイスによってアクセスされてもよい。   To communicate with workstations within the plant 104, the exemplary OMS 102 includes an in-plant access server 424. The in-plant access server 424 may include components and / or connection functions for coupling to the LAN 124 of FIG. Further, the in-plant access server 424 may include encryption and / or any other data transmission security to ensure that the transmitted data is not likely to be viewed by unauthorized individuals. it can. The in-plant access server 424 is accessed by any workstation, laptop, personal digital assistant (PDA), smartphone, and / or any other device capable of displaying process control data and associated graphs. May be.

プラント104外部のワークステーションと通信するために、例示的なOMS102は、ウェブアクセスサーバ428を含む。ウェブアクセスサーバ428は、図1のWAN134に連結するために構成要素および/または接続機能を含んでもよい。さらに、ウェブアクセスサーバ428は、伝送されるデータが未承認の個人によって視認される可能性がないことを確実にするために、暗号化および/または任意の他のデータ伝送セキュリティを含んでもよい。   To communicate with workstations outside the plant 104, the exemplary OMS 102 includes a web access server 428. Web access server 428 may include components and / or connectivity functions for coupling to WAN 134 of FIG. Further, the web access server 428 may include encryption and / or any other data transmission security to ensure that the data transmitted is not likely to be viewed by unauthorized individuals.

OMS102を実装する例示的な様式が図4に表されているが、図4に示されるインターフェース、データ構造、要素、プロセス、および/またはデバイスのうちの1つ以上は、任意の他の方式で組み合わせられても、分割されても、再配置されても、省略されても、排除されても、および/または実装されてもよい。例えば、図4に示される、例示的なバッチデータ受信器402、例示的な解析プロセッサ114、例示的な解析プロセスモデラ408、例示的な評価プロセスモデラ410、例示的なプロセスモデル生成器412、例示的な表示マネージャ420、例示的なセッションコントローラ422、例示的なオンラインデータプロセッサ116、例示的なプラント内アクセスサーバ424、および/または例示的なウェブアクセスサーバ428は、例えば、1つ以上のコンピューティングデバイスおよび/またはコンピューティングプラットフォーム(例えば、図18の例示的な処理プラットフォームP10)によって実行される機械アクセス可能または読み取り可能命令を使用して、個別におよび/または任意の組み合わせで実装されてもよい。   Although an exemplary manner of implementing OMS 102 is depicted in FIG. 4, one or more of the interfaces, data structures, elements, processes, and / or devices shown in FIG. 4 may be in any other manner. It may be combined, split, rearranged, omitted, eliminated, and / or implemented. For example, the exemplary batch data receiver 402, exemplary analysis processor 114, exemplary analysis process modeler 408, exemplary evaluation process modeler 410, exemplary process model generator 412, illustrated in FIG. The exemplary display manager 420, exemplary session controller 422, exemplary online data processor 116, exemplary in-plant access server 424, and / or exemplary web access server 428 may include, for example, one or more computing devices. It may be implemented individually and / or in any combination using machine-accessible or readable instructions executed by a device and / or computing platform (eg, exemplary processing platform P10 of FIG. 18). .

その上、例示的なバッチデータ受信器402、例示的な解析プロセッサ114、例示的な解析プロセスモデラ408、例示的な評価プロセスモデラ410、例示的なプロセスモデル生成器412、例示的な表示マネージャ420、例示的なセッションコントローラ422、例示的なオンラインデータプロセッサ116、例示的なプラント内アクセスサーバ424、例示的なウェブアクセスサーバ428、および/またはより一般的には、OMS102は、ハードウェア、ソフトウェア、ファームウェア、ならびに/あるいはハードウェア、ソフトウェア、および/またはファームウェアの任意の組み合わせによって実装されてもよい。このため、例えば、例示的なバッチデータ受信器402、例示的な解析プロセッサ114、例示的な解析プロセスモデラ408、例示的な評価プロセスモデラ410、例示的なプロセスモデル生成器412、例示的な表示マネージャ420、例示的なセッションコントローラ422、例示的なオンラインデータプロセッサ116、例示的なプラント内アクセスサーバ424、例示的なウェブアクセスサーバ428、および/または、より一般的には、OMS102のうちのいずれかは、1つ以上の回路、プログラム可能プロセッサ、特定用途向け集積回路(ASIC)、プログラム可能ロジックデバイス(PLD)、および/またはフィールドプログラム可能ロジックデバイス(FPLD)等によって実装してもよい。   Moreover, exemplary batch data receiver 402, exemplary analysis processor 114, exemplary analysis process modeler 408, exemplary evaluation process modeler 410, exemplary process model generator 412, exemplary display manager 420 The exemplary session controller 422, the exemplary online data processor 116, the exemplary in-plant access server 424, the exemplary web access server 428, and / or more generally, the OMS 102 includes hardware, software, It may be implemented by firmware and / or any combination of hardware, software, and / or firmware. Thus, for example, exemplary batch data receiver 402, exemplary analysis processor 114, exemplary analysis process modeler 408, exemplary evaluation process modeler 410, exemplary process model generator 412, exemplary display Any of manager 420, exemplary session controller 422, exemplary online data processor 116, exemplary in-plant access server 424, exemplary web access server 428, and / or more generally, OMS 102. Or may be implemented by one or more circuits, programmable processors, application specific integrated circuits (ASICs), programmable logic devices (PLDs), and / or field programmable logic devices (FPLDs), and the like.

図5は、プロセス制御システム106内の欠陥を判定するために表示される場合がある、図1および/または図4のOMS102によって生成されたチャートおよび/またはグラフ502〜512を表す図500である。図500は、プロセス制御オペレータが、プロセス欠陥の初期検出から、欠陥の原因を判定すること、次いで、欠陥の是正措置がプロセス全体品質を改善する可能性があるかを判定することまで、どの程度比較的容易に論理的にナビゲーションすることができるかを示す。図500は、欠陥を判定するため、および/または欠陥の是正によるプロセス品質を予測するための2つの可能な流れを示す。しかしながら、他のチャート、グラフ、図、および/またはデータが表示されてもよい。チャートおよび/またはグラフ502〜512の各々の説明は、図6〜14Bを参照して提供する。   FIG. 5 is a diagram 500 representing charts and / or graphs 502-512 generated by OMS 102 of FIGS. 1 and / or 4 that may be displayed to determine defects in process control system 106. . FIG. 500 illustrates how much from the initial detection of a process defect to the process control operator determining the cause of the defect and then determining whether the corrective action for the defect may improve the overall process quality. Shows how easy it is to navigate logically with relative ease. The diagram 500 shows two possible flows for determining defects and / or predicting process quality due to defect correction. However, other charts, graphs, diagrams, and / or data may be displayed. A description of each of the charts and / or graphs 502-512 is provided with reference to FIGS.

プロセス概要チャート502は、ステータスまたは1つ以上のプロセス制御システム(例えば、プロセス制御システム106)を示す。概要チャート502は、プロセス制御オペレータがワークステーション上でユーザインターフェースを最初に開き、プロセス制御環境および/またはプラントを選択する時に表示されてもよい。OMS102が欠陥および/またはプロセス欠陥の予測を検出した場合、OMS102は、概要チャート502内に欠陥を示してもよい。   Process summary chart 502 shows status or one or more process control systems (eg, process control system 106). An overview chart 502 may be displayed when a process control operator first opens a user interface on a workstation and selects a process control environment and / or plant. If OMS 102 detects a defect and / or process defect prediction, OMS 102 may indicate the defect in summary chart 502.

概要チャート502内で欠陥の指標を視認すると、プロセス制御オペレータは、プロセス変動グラフ504を開くために指標を選択することができる。代替として、オペレータは、マイクロチャート508を開くために指標を選択してもよい。プロセス変動グラフ504は、示された欠陥に関連付けられる変動を示すことができる。例えば、プロセス欠陥がプロセス全体の品質に関連付けられる場合、プロセス変動グラフ504は、プロセス全体の品質に関連付けられる説明された変動および/または説明されない変動を表示する場合がある。代替として、欠陥が測定および/または計算された変数に関連付けられる場合、プロセス変動グラフ504は、測定および/または計算された変数に関連付けられる説明された変動および/または説明されない変動を表示してもよい。その上、プロセス変動グラフ504は、欠陥に関連付けられる変数および/またはプロセス品質の最新および過去の値を、平均値、値の標準偏差および/または値の閾値と比較して表示してもよい。プロセス変動グラフ504はまた、測定された変数および/または計算された変数の変動への寄与を含むバーチャートも示してもよい。   Viewing the defect indicator in the overview chart 502, the process control operator can select the indicator to open the process variation graph 504. Alternatively, the operator may select an indicator to open the microchart 508. The process variation graph 504 can show the variation associated with the indicated defect. For example, if a process defect is associated with the overall process quality, the process variation graph 504 may display the explained variation and / or the unexplained variation associated with the overall process quality. Alternatively, if the defect is associated with a measured and / or calculated variable, the process variation graph 504 may display the explained variation and / or unexplained variation associated with the measured and / or calculated variable. Good. Moreover, the process variation graph 504 may display the latest and past values of variables and / or process quality associated with the defect compared to an average value, a standard deviation of values, and / or a threshold value. The process variation graph 504 may also show a bar chart that includes contributions to measured variables and / or calculated variable variations.

プロセス変動グラフ504を視認すると、プロセス制御オペレータは、ある時刻に対応するグラフ上の1点を選択してもよい。1点を選択すると、寄与グラフ506が表示されてもよい。寄与グラフ506は、プロセスおよび/または変数の変動に寄与する変数を示す。オペレータは、どの変数が識別された欠陥に寄与しているかを判定するために、寄与グラフ506を使用してもよい。このように、寄与グラフ506は、検出された欠陥の潜在的な原因を示す。その上、プロセス制御オペレータは、プロセス内の時刻を変更して、選択された時刻の変数の値を視認してもよい。さらに、寄与グラフ506は、欠陥の勧告是正措置を表示してもよい。オペレータは、変数傾向グラフ510で現在のバッチプロセスの変数の履歴を視認するために、寄与チャート504にリストされた変数のうちのいずれかを選択してもよい。   When viewing the process variation graph 504, the process control operator may select one point on the graph corresponding to a certain time. When one point is selected, a contribution graph 506 may be displayed. The contribution graph 506 shows variables that contribute to process and / or variable variations. The operator may use the contribution graph 506 to determine which variables contribute to the identified defects. Thus, the contribution graph 506 shows potential causes of detected defects. In addition, the process control operator may change the time within the process and view the value of the variable at the selected time. Further, the contribution graph 506 may display a defect recommendation corrective action. The operator may select any of the variables listed in the contribution chart 504 to view the current batch process variable history in the variable trend graph 510.

代替として、オペレータがプロセス変動グラフ504上の1点を選択すると、マイクロチャート508が表示されてもよい。例示的なマイクロチャート508は、選択された時刻に基づいて、測定された変数および/または計算された変数に関連付けられる値を示す。オペレータは、1つ以上の変数が閾値および/または標準偏差を超えたか、いつ超えたか、および/またはどの程度超えたかを判定するために、バッチプロセスの履歴に対して、測定された変数および/または計算された変数の値を検証するために、マイクロチャート508を使用することができる。マイクロチャート508はまた、測定された値および/または計算された値の履歴を示すスパークラインも含んでもよい。オペレータは、選択したスパークラインのより詳細の説明を視認するために、スパークラインのうちのいずれかを選択してもよい。その上、マイクロチャート508は、プロセス欠陥が発生した時間を示すタイムラインを含む場合がある。オペレータは、タイムライン内の矢印を選択しスクロール、および/またはタイムライン内のある時刻を選択して、その時刻に対応する測定された変数値および/または計算された変数値を表示してもよい。オペレータは、変数傾向グラフ510を開くために、表示された変数のうちのいずれか1つを選択してもよい。代替として、またはさらに、オペレータは、1つ以上の是正措置のうちの実装された是正措置に基づいて、予測プロセス品質を表示するために、品質予測グラフ512を開いてもよい。   Alternatively, the microchart 508 may be displayed when the operator selects a point on the process variation graph 504. The example microchart 508 shows values associated with measured and / or calculated variables based on a selected time. The operator may use the measured variables and / or against the batch process history to determine when one or more variables have exceeded a threshold and / or standard deviation, when, and / or to what extent. Or the microchart 508 can be used to verify the value of the calculated variable. The microchart 508 may also include a sparkline that shows a history of measured values and / or calculated values. The operator may select any of the spark lines to view a more detailed description of the selected spark line. In addition, the microchart 508 may include a timeline that indicates the time at which the process defect occurred. The operator may select an arrow in the timeline and scroll and / or select a time in the timeline to display the measured and / or calculated variable values corresponding to that time. Good. The operator may select any one of the displayed variables to open the variable trend graph 510. Alternatively or additionally, the operator may open the quality prediction graph 512 to display the predicted process quality based on the implemented corrective action of the one or more corrective actions.

例示的な変数傾向グラフ510は、バッチプロセスの期間にわたる変数値を表示する。いくつかの例では、変数傾向グラフ510は、オペレータによって選択された分解度に応じて、バッチプロセスの段階および/または動作にわたる変数値を表示する場合がある。例示的な変数傾向グラフ510は、バッチプロセス中に選択された変数の履歴を、以前のバッチプロセスの平均および/または標準偏差に比較して示すことができる。変数傾向グラフ510はまた、選択された変数の閾値および/または計算された標準偏差も表示してもよい。オペレータは、バッチプロセス中の変数の履歴を視認するために、変数傾向グラフ510を使用してもよい。変数傾向グラフ510を視認した後、オペレータは、品質予測グラフ512を選択してもよい。   The example variable trend graph 510 displays variable values over the duration of the batch process. In some examples, the variable trend graph 510 may display variable values across batch process stages and / or operations, depending on the degree of resolution selected by the operator. The example variable trend graph 510 may show a history of variables selected during a batch process compared to the average and / or standard deviation of previous batch processes. The variable trend graph 510 may also display the threshold of the selected variable and / or the calculated standard deviation. The operator may use the variable trend graph 510 to view the history of variables during the batch process. After viewing the variable trend graph 510, the operator may select the quality prediction graph 512.

例示的な品質予測グラフ512は、1つ以上の是正措置の実装に基づいて、プロセスの予測された品質を示す。オペレータは、是正措置がプロセスの実行を継続するために十分にプロセス品質を改善するか判定するために、品質予測グラフ512を使用してもよい。プロセス品質が改善しないことが予測された場合、および/またはプロセス品質が許容限界から相当既に外れていた場合、オペレータはプロセスを中止するように決定してもよい。さらに、選択された是正措置がプロセスを改善することが予測されない場合、オペレータは、1つ以上の是正措置がプロセスの品質を改善することができるか判定するために、追加の是正措置を選択してもよい。是正措置がプロセス品質を許容変動内まで改善することが予測される場合、オペレータは、是正措置をOMS102および/またはコントローラ108へ伝送するように、品質予測グラフ512内で選択してもよい。   The example quality prediction graph 512 shows the predicted quality of the process based on the implementation of one or more corrective actions. The operator may use the quality prediction graph 512 to determine if the corrective action improves the process quality sufficiently to continue execution of the process. If it is predicted that the process quality will not improve and / or if the process quality is already significantly out of tolerance, the operator may decide to abort the process. In addition, if the selected corrective actions are not expected to improve the process, the operator may select additional corrective actions to determine if one or more corrective actions can improve the quality of the process. May be. If the corrective action is predicted to improve the process quality to within acceptable tolerances, the operator may select within the quality prediction graph 512 to transmit the corrective action to the OMS 102 and / or the controller 108.

品質予測グラフ512はまた、欠陥に関連付けられる全体品質変数ならびに/あるいは測定された変数および/または計算された変数の予測された変動も示してもよい。その上、品質予測グラフ512は、プロセスの予測された品質、ならびにプロセス品質の現在および/または過去の変動を示すことができる。品質予測グラフ512を視認後、オペレータは、概要チャート502に戻ってもよい。さらに、グラフ504〜510のいずれかを視認後、オペレータは、概要チャート502に戻る、および/または他のグラフ504〜512のうちのいずれかを開いてもよい。その上、グラフおよび/またはチャート502〜512は、OMS102がプロセス制御情報を受信および/または処理すると同時に、最新の変数値および/または品質予測を用いて、更新されてもよい。   The quality prediction graph 512 may also indicate the overall quality variable associated with the defect and / or the predicted variation of the measured and / or calculated variable. Moreover, the quality prediction graph 512 can show the predicted quality of the process, as well as current and / or past variations in process quality. After visually recognizing the quality prediction graph 512, the operator may return to the overview chart 502. Further, after viewing any of the graphs 504-510, the operator may return to the overview chart 502 and / or open any of the other graphs 504-512. Moreover, the graphs and / or charts 502-512 may be updated with the latest variable values and / or quality predictions as the OMS 102 receives and / or processes process control information.

図6は、図1の例示的なプロセス制御システム106に関連付けられる、図5の例示的なプロセス概要チャート502を表示するユーザインターフェース136を示す。概要チャート502は、2つ以上のバッチが同時に有効な場合がある、プラント(例えば、プラント104)内の複数のプロセスの概要を提供するために使用されてもよい。概要チャート502は、プロセス区域別に整理され、第1のプロセス区域(例えば、プロセス区域1)および第2のプロセス区域(例えば、プロセス区域2)の状態を含む。第1のプロセス区域は、プロセス制御システム106に対応してもよい。各プロセス区域は、欠陥が検出される時および/またはバッチ品質予測変数の端が指定された閾値の外側にある時に、プロセス制御オペレータを警告するために使用されてもよい、最新および/または以前のバッチに関連付けられる情報を含む。   6 illustrates a user interface 136 that displays the example process summary chart 502 of FIG. 5 associated with the example process control system 106 of FIG. The overview chart 502 may be used to provide an overview of multiple processes in a plant (eg, plant 104) where two or more batches may be active at the same time. The overview chart 502 is organized by process area and includes the status of a first process area (eg, process area 1) and a second process area (eg, process area 2). The first process area may correspond to the process control system 106. Each process area may be used to alert the process control operator when a defect is detected and / or when the end of the batch quality predictor is outside a specified threshold, and / or Contains information associated with a batch of

例示的な概要チャート502は、バッチ12359〜12369のバッチ情報を含む。しかしながら、バッチ12369のバッチ情報だけが示される。例示的な概要チャート502は、バッチ識別番号(例えば、バッチID)、バッチの段階(例えば、段階)、段階の状態(例えば、状態)、予測された品質値(例えば、予測)、および/または欠陥ステータス(例えば、欠陥)のフィールドを含む。予測された品質値は、得られる製品の品質に関連付けられる全体品質変数の予測された変動に対応してもよい。欠陥フィールドは、欠陥が検出されているか、および/または欠陥が予測されているか表示してもよい。欠陥フィールドはまた、欠陥が発生した時刻および/または欠陥に関する任意の他のプロセス情報(例えば、欠陥の原因である測定された変数および/または計算された変数)も表示してもよい。さらに、欠陥フィールドは、グラフィックスを使用してオペレータに欠陥を警告するように、アイコン604を含んでもよい。   The exemplary summary chart 502 includes batch information for batches 12359-12369. However, only batch information for batch 12369 is shown. Exemplary summary chart 502 includes a batch identification number (eg, batch ID), a batch stage (eg, stage), a stage state (eg, state), a predicted quality value (eg, prediction), and / or Includes a field for defect status (eg, defect). The predicted quality value may correspond to a predicted variation in the overall quality variable associated with the quality of the resulting product. The defect field may indicate whether a defect has been detected and / or if a defect is predicted. The defect field may also display the time at which the defect occurred and / or any other process information about the defect (eg, a measured variable and / or a calculated variable that caused the defect). In addition, the defect field may include an icon 604 to alert the operator of the defect using graphics.

オペレータは、アイコン604、欠陥フィールドのテキスト(例えば、真)、バッチ番号、および/またはバッチ12369に関連付けられるフィールド内の任意の他のテキストを選択することによって、欠陥に関する追加情報を視認してもよい。代替として、オペレータは、概要チャート502内に位置してもよい、進む矢印(図示せず)および/またはグラフのタブ(図示せず)を選択することによって、欠陥に関連付けられる追加情報を視認してもよい。その上、オペレータは、欠陥に関連付けられるテキストおよび/またはアイコン604を選択することによって、他のプロセス制御オペレータおよび/または管理者に検出された欠陥を警告してもよい。   The operator may also view additional information about the defect by selecting icon 604, defect field text (eg, true), batch number, and / or any other text in the field associated with batch 12369. Good. Alternatively, the operator can view additional information associated with the defect by selecting a forward arrow (not shown) and / or a graph tab (not shown) that may be located in the overview chart 502. May be. In addition, the operator may alert other process control operators and / or administrators of detected defects by selecting text and / or icons 604 associated with the defects.

図7は、バッチプロセス12369の全体品質の説明された変動グラフ710および説明されない変動グラフ720を含む、図5の例示的なプロセス変動グラフ504を表示している、図6のユーザインターフェース136を示す。プロセス変動グラフ504は、図6の概要チャート502内のバッチ12369情報をクリックすることによって、表示されてもよい。   FIG. 7 shows the user interface 136 of FIG. 6 displaying the example process variation graph 504 of FIG. . The process variation graph 504 may be displayed by clicking on the batch 12369 information in the overview chart 502 of FIG.

例示的なプロセス変動グラフ504は、プロセス期間(例えば、T1〜T4)に関連付けられる時間について、バッチ12369のために計算された統計を示す。プロセス制御オペレータは、検出された欠陥前後のバッチ、段階、動作、および/または期間を含むように、期間を選択してもよい。図7の例は、プロセス品質変動を示す。しかしながら、他のプロセス変動グラフが、測定された変数、計算された変数、および/または全体品質変数に関連付けられる変動を示してもよい。さらに、変数の変動を示す代わりに、プロセス変動グラフは、プロセス期間にわたる変数の値を示してもよい。   The example process variation graph 504 shows the statistics calculated for the batch 12369 for the time associated with the process period (eg, T1-T4). The process control operator may select a time period to include batches, stages, operations, and / or time periods before and after the detected defect. The example of FIG. 7 shows process quality variation. However, other process variation graphs may show variations associated with measured variables, calculated variables, and / or overall quality variables. Further, instead of showing the variation of the variable, the process variation graph may show the value of the variable over the process period.

説明された変動グラフ710は、プロセス期間の説明された変動値の変動曲線712を示す。同様に、説明されない変動グラフ720は、プロセス期間の説明されない変動値の変動曲線722を示す。点選択714および724は、オペレータによって選択されたそれぞれの変動グラフ710および720上の点を示す。例えば、図7で、点選択724は、オペレータが説明されない変動の最大点を選択したことを示す。代替として、概要チャート502内の欠陥を選択すると、点選択714および/または724が変動の最大点上に表示されたプロセス変動グラフ504が開いてもよい。閾値ライン726は、1.0の限界を含む。欠陥は、説明されない変動曲線722が閾値ライン726を超える場合に示されてもよい。例えば、概要チャート502内に示された欠陥は、T3直前の午後12時38分26秒に1.0の閾値を超えているバッチの全体品質の説明されない変動曲線722に関連付けられる場合がある。時間指標ライン728は、点選択714および/または724に対応する時刻に関連付けられる期間中のある時刻を参照する。   The illustrated variation graph 710 shows a variation curve 712 of the illustrated variation value for the process period. Similarly, the unexplained variation graph 720 shows an unexplained variation value variation curve 722 for the process period. Point selections 714 and 724 show the points on the respective variation graphs 710 and 720 selected by the operator. For example, in FIG. 7, point selection 724 indicates that the operator has selected the maximum point of variation that is not explained. Alternatively, selecting a defect in the overview chart 502 may open a process variation graph 504 with point selections 714 and / or 724 displayed on the maximum point of variation. The threshold line 726 includes a limit of 1.0. A defect may be indicated when the unexplained variation curve 722 exceeds the threshold line 726. For example, the defect shown in summary chart 502 may be associated with an unexplained variation curve 722 of the overall quality of the batch that exceeds the threshold of 1.0 at 12:38:26 pm just before T3. Time indicator line 728 refers to a time in the period associated with the time corresponding to point selection 714 and / or 724.

その上、プロセス変動グラフ504は、ナビゲーション矢印、点選択714および/または724の時刻に対応する時刻(例えば、午後12時38分26秒)、バッチ識別番号、バッチによって処理されている材料、バッチによって現在使用中の機器、バッチの段階、およびバッチの状態を含む、プロセス情報フェースプレート730を含む。さらに、フェースプレート730は、それぞれの点選択714および/または724での説明された変動および説明されない変動の数値を含む。オペレータは、フェースプレート730内で対応する変動数値を確認するために、それぞれの曲線712および722に沿って点選択714および/または724を移動させてもよい。   In addition, the process variation graph 504 includes a navigation arrow, a time corresponding to the time of point selection 714 and / or 724 (eg, 12:38:26 pm), batch identification number, material being processed by the batch, batch Includes a process information faceplate 730 that includes the equipment currently in use, the stage of the batch, and the status of the batch. Further, the faceplate 730 includes the explained and unexplained variability values at each point selection 714 and / or 724. The operator may move the point selections 714 and / or 724 along the respective curves 712 and 722 to see the corresponding variation values within the faceplate 730.

オペレータは、図5のグラフおよび/またはチャート502〜512の間をナビゲートするために、矢印の1つ以上を選択してもよい。例えば、進む矢印(例えば、「午後」の上の矢印)をクリックすることによって、寄与グラフ506が表示されてもよく、あるいは、上および/または戻る矢印をクリックすることによって、概要チャート502が表示されてもよい。さらに、オペレータは、プロセス変動グラフ504の上部に位置する、対応するタブを選択することによって、グラフ504〜512の間をナビゲートしてもよい。例えば、オペレータは、マイクロチャートタブを選択することによって、マイクロチャート(例えば、マイクロチャート508)を視認してもよい。さらに、オペレータは、曲線712および/または722上の1点(例えば、点選択714および/または724)を選択することによって、寄与グラフ506および/またはマイクロチャート508へナビゲートしてもよい。その上、曲線722および/または724上で選択された点に関連付けられる時刻は、寄与グラフ506および/またはマイクロチャート508へ転送されてもよい。   The operator may select one or more of the arrows to navigate between the graphs and / or charts 502-512 of FIG. For example, the contribution graph 506 may be displayed by clicking a forward arrow (eg, an arrow above “Afternoon”), or a summary chart 502 may be displayed by clicking the up and / or back arrows. May be. Further, the operator may navigate between the graphs 504-512 by selecting the corresponding tab located at the top of the process variation graph 504. For example, the operator may view a microchart (eg, microchart 508) by selecting a microchart tab. Further, the operator may navigate to contribution graph 506 and / or microchart 508 by selecting a point on curves 712 and / or 722 (eg, point selection 714 and / or 724). Moreover, the time associated with the selected point on curves 722 and / or 724 may be transferred to contribution graph 506 and / or microchart 508.

図8は、要約寄与フェースプレート802を含む、例示的なプロセス変動グラフ504を表示している、図7のユーザインターフェース136を示す。プロセス変動グラフ504は、説明された変動グラフ710、説明されない変動グラフ720、変動曲線712および722、ならびに図7に類似するプロセス情報フェースプレート730を含む。要約寄与フェースプレート802は、説明された変動および/または説明されない変動に寄与する変数を含む寄与グラフを含む。寄与グラフのバーチャートは、変数の値を、変数が全体品質変動の説明された部分および/または説明されない部分に寄与する程度に比較して示す。さらに、寄与グラフは、その変数の寄与量および/または変動量に関連付けられる値を示す。   FIG. 8 shows the user interface 136 of FIG. 7 displaying an exemplary process variation graph 504 that includes a summary contribution faceplate 802. Process variation graph 504 includes a variation graph 710 described, a variation graph 720 not described, variation curves 712 and 722, and a process information faceplate 730 similar to FIG. The summary contribution faceplate 802 includes a contribution graph that includes variables that contribute to the explained and / or unexplained fluctuations. The contribution graph bar chart shows the value of the variable compared to the extent to which the variable contributes to the explained and / or unexplained portion of the overall quality variation. Further, the contribution graph shows values associated with the contribution amount and / or variation amount of the variable.

例えば、「媒体流量」変数は、説明されない変動に最も寄与する、測定されたプロセス変数の場合がある。説明されない寄与量は、黒一色のバー部分によって示されてもよく、説明された寄与量は、斜線のバー部分によって示されてもよい。さらに、「媒体流量」変数の値は、「媒体流量」閾値を2.33ガロン(gal)/秒(sec)下回ることを示してもよい。代替として、2.33は、全体プロセス品質変動に対する、「媒体流量」変数の統計的信頼値および/または統計的寄与値を示してもよい。各変数の寄与は、図1および/または図4のOMS102によってモデル化されても、および/または計算されてもよい。   For example, the “medium flow” variable may be a measured process variable that contributes most to unexplained variations. Unexplained contributions may be indicated by a solid black bar portion, and described contributions may be indicated by a shaded bar portion. Further, the value of the “media flow rate” variable may indicate that the “media flow rate” threshold is 2.33 gallons (gal) / second (sec) below. Alternatively, 2.33 may indicate a statistical confidence value and / or a statistical contribution value of the “medium flow” variable for the overall process quality variation. The contribution of each variable may be modeled and / or calculated by the OMS 102 of FIG. 1 and / or FIG.

オペレータは、曲線712および/または722の1点を選択してもよい。オペレータが曲線の1点を選択すると、要約寄与フェースプレート802内の寄与情報は、選択された時刻での各変数の変動に対する寄与を反映するように変化してもよい。例えば、時間T2の点が選択されると、「媒体流量」は、時刻T2の全体プロセス品質の変動がより低いため、より低い説明された寄与量および/または説明されない寄与値を示す場合がある。さらに、図7に類似して、オペレータは、プロセス情報フェースプレート730内の進む矢印、タブ、ならびに/あるいは要約寄与フェースプレート802を選択することによって、寄与グラフ506および/またはマイクロチャート508を開くように選択してもよい。   The operator may select one of the curves 712 and / or 722. When the operator selects a point on the curve, the contribution information in the summary contribution faceplate 802 may change to reflect the contribution to the variation of each variable at the selected time. For example, if the point at time T2 is selected, the “medium flow rate” may show a lower explained contribution and / or an unexplained contribution value due to a lower overall process quality variation at time T2. . Further, similar to FIG. 7, the operator opens the contribution graph 506 and / or the microchart 508 by selecting a forward arrow, tab, and / or summary contribution faceplate 802 in the process information faceplate 730. You may choose.

図9は、図1のプロセス制御システム106に関連付けられる変数の説明されないプロセス変動および/または説明されたプロセス変動を含む、図5の例示的な寄与グラフ506を表示している、図6のユーザインターフェース136を示す。例示的な寄与グラフ506は、全体プロセス品質変動に寄与する各変数の説明された変動(例えば、黒1色のバーまたはバー部分)および説明されない変動(例えば、斜線のバーまたはバー部分)を表示する、バーチャート910を含む。他の例では、バーチャートは、異なる色および/または形状で示されてもよい。さらに、変数(例えば、媒体流量、混合器温度、水温等)は、上部に表示された全体プロセス変動に対する最大寄与を有する変数毎に整理される。他の例では、変数は、プロセス制御オペレータの好みによって整理されてもよい。   9 shows the user of FIG. 6 displaying the exemplary contribution graph 506 of FIG. 5 including unexplained process variations and / or described process variations of variables associated with the process control system 106 of FIG. An interface 136 is shown. The exemplary contribution graph 506 displays the illustrated variation (eg, a black bar or bar portion) and unexplained variation (eg, a shaded bar or bar portion) for each variable that contributes to the overall process quality variation. A bar chart 910 is included. In other examples, the bar chart may be shown in different colors and / or shapes. In addition, variables (eg, media flow rate, mixer temperature, water temperature, etc.) are organized for each variable that has the largest contribution to the overall process variation displayed at the top. In other examples, the variables may be organized according to process control operator preferences.

バーチャート910内の変数は、変数の変動に関連付けられる数値を含む。例えば、「媒体流量」変数に関連付けられる−2.33の値は、液体が平均値または閾値よりも2.33gal/秒遅く流れていることを示す場合がある。代替として、−2.33の値は、「媒体流量」変数が図7および図8の全体プロセス品質変動の変動に対して寄与する統計的寄与量を示してもよい。バーチャート910内の変数の寄与量は、図1のOMS102によって決定されてもよい。   Variables in the bar chart 910 include numerical values associated with variable variations. For example, a value of −2.33 associated with the “medium flow” variable may indicate that the liquid is flowing 2.33 gal / sec slower than the average value or threshold. Alternatively, a value of −2.33 may indicate the statistical contribution that the “medium flow” variable contributes to the variation in the overall process quality variation of FIGS. The contribution amount of the variables in the bar chart 910 may be determined by the OMS 102 of FIG.

各変数の説明された変動および説明されない変動は、プロセス制御オペレータにわかりやすいグラフ表示を提供するために、スーパーインポーズまたは合わせて示される。各変数の説明された変動は、モデル変動T2統計を利用することによって、OMS102によって計算されてもよい。各変数の説明されない変動は、Q統計的検定を利用することによって、OMS102によって計算されてもよい。他の例では、バーチャート910は、選択された時刻の変数の値、変数の平均値、および/または変数の各々の標準偏差を表示してもよい。   The explained and unexplained variability of each variable is superimposed or shown together to provide a clear graphical display to the process control operator. The explained variation of each variable may be calculated by the OMS 102 by utilizing model variation T2 statistics. Unexplained variation of each variable may be calculated by OMS 102 by utilizing a Q statistical test. In other examples, the bar chart 910 may display the value of the variable at the selected time, the mean value of the variable, and / or the standard deviation of each of the variables.

例示的な寄与グラフ506は、プロセス情報、各変数に表示された変動のプロセス時刻、ならびに選択された変数の説明された変動および説明されない変動の数値を表示する、プロセス情報フェースプレート920を含む。例えば、図9では、プロセス情報フェースプレート920は、12時38分26秒に、「媒体流量」変数が、図7および図8に表示された全体プロセス変動に対して、0.26の変動および2.89の説明されない寄与を有することを示す。寄与グラフ506は、プロセス変動グラフ504から受信された時刻に基づいて、午後12時38分26秒の変数変動を示してもよい。代替として、オペレータは、時刻を進める、または戻すために、矢印のいずれか1つを選択することによって、プロセス時刻を変更してもよい。時刻を変更すると、バーチャート910は、選択された時刻に対応する変数変動値を表示してもよい。   The exemplary contribution graph 506 includes a process information faceplate 920 that displays process information, the process time of the variation displayed for each variable, and the explained and unexplained variation values of the selected variable. For example, in FIG. 9, the process information faceplate 920 indicates that at 12:38:26, the “Media Flow” variable has a variation of 0.26 with respect to the overall process variation displayed in FIGS. 2.89 with unexplained contributions. Contribution graph 506 may indicate a variable variation at 12:38:26 pm based on the time received from process variation graph 504. Alternatively, the operator may change the process time by selecting any one of the arrows to advance or return the time. When the time is changed, the bar chart 910 may display a variable fluctuation value corresponding to the selected time.

その上、寄与グラフ506は、勧告措置フェースプレート930を含む。勧告措置フェースプレート930は、検出されたプロセス欠陥(例えば、図6の検出された欠陥)を修正するために、プロセス是正推奨を表示してもよい。例えば、勧告措置フェースプレート930は、フィールドデバイスFIC3で媒体流量を1.85gal/秒増加させることによって、欠陥を是正することを推奨する。FIC3は、媒体流量を変更することが可能である、プロセス制御システム106内のバルブまたはポンプに対応してもよい。さらに、勧告措置フェースプレート930は、流量計FIT3を検査するように推奨を含む。流量計FIT3を検査することによって、オペレータは、流量計が正確な媒体流量値を出力しているか判定してもよい。フェースプレート930内に表示される勧告措置は、類似の欠陥を有した類似のプロセス制御システムの過去の分析によって判定されてもよい。さらに、勧告措置は、プロセス制御システム106のモデル化に基づいて、OMS102によって判定されてもよい。   In addition, the contribution graph 506 includes a recommended action faceplate 930. The recommended action faceplate 930 may display process correction recommendations to correct detected process defects (eg, detected defects in FIG. 6). For example, the recommended action faceplate 930 recommends correcting the defect by increasing the media flow rate by 1.85 gal / sec with the field device FIC3. The FIC 3 may correspond to a valve or pump in the process control system 106 that can change the media flow rate. Further, the recommended action faceplate 930 includes a recommendation to inspect the flow meter FIT3. By inspecting the flow meter FIT3, the operator may determine whether the flow meter is outputting an accurate media flow value. The recommended action displayed in the faceplate 930 may be determined by past analysis of similar process control systems with similar defects. Further, the recommended action may be determined by the OMS 102 based on the modeling of the process control system 106.

オペレータは、バーチャート910の中の所望の変数を選択することによって、変数の各々の値の履歴を視認してもよい。変数を選択すると、選択された変数の履歴を示す変数傾向グラフ510が表示される。代替として、オペレータは、変数を選択し、次いで、「変数傾向」タブを選択、および/またはプロセス情報フェースプレート920の進む矢印を選択してもよい。さらに、オペレータは、1つ以上の是正措置が実装された場合に予測された品質を視認するために、勧告措置フェースプレート930内の勧告措置のうちの1つ以上を選択することによって、品質予測グラフ512を表示してもよい。   The operator may view the history of each value of the variable by selecting the desired variable in the bar chart 910. When a variable is selected, a variable trend graph 510 showing the history of the selected variable is displayed. Alternatively, the operator may select a variable, then select the “Variable Trends” tab, and / or select the forward arrow on the process information faceplate 920. In addition, the operator can select one or more of the recommended actions in the recommended action faceplate 930 to view the predicted quality when one or more corrective actions are implemented, thereby predicting the quality. A graph 512 may be displayed.

図10は、図8および図9の「媒体流量」変数に対する図5の変数傾向グラフ510を表示している、図6のユーザインターフェース136を示す。変数傾向グラフ510は、現在のバッチプロセス中のプロセス変数傾向を、品質閾値内の製品で終了した以前のバッチプロセス中の変数の傾向に比較するために、プロセス制御オペレータによって使用されてもよい。過去のバッチからの変数の異常な偏差は、全体品質変数および/または全体プロセス品質変動内で検出された欠陥および/または偏差の発生源であるかもしれない。変数傾向グラフ510は、変数の現在のバッチに関連付けられる値が、以前のバッチから外れていた程度を示す。複数の変数傾向グラフ510は、複数の変数の履歴傾向を表示するために、オペレータによって開かれてもよい。例示的な変数傾向グラフ510は、任意の測定された変数、計算された品質変数、および/または全体プロセス品質変数の値の履歴を表示してもよい。   FIG. 10 shows the user interface 136 of FIG. 6 displaying the variable trend graph 510 of FIG. 5 for the “medium flow” variable of FIGS. The variable trend graph 510 may be used by a process control operator to compare the process variable trend during the current batch process to the trend of the variable in the previous batch process that ended with products within the quality threshold. Anomalous deviations in variables from past batches may be the source of defects and / or deviations detected within the overall quality variable and / or overall process quality variation. The variable trend graph 510 shows the extent to which the value associated with the current batch of variables has deviated from the previous batch. A plurality of variable trend graphs 510 may be opened by an operator to display a historical trend of a plurality of variables. The example variable trend graph 510 may display a history of the values of any measured variables, calculated quality variables, and / or overall process quality variables.

例示的な変数傾向グラフ510は、選択点1004を含む最新変数曲線1002を含む。最新変数曲線1002は、プロセスの期間(例えば、T1〜T4)の変数の値を示す。期間は、オペレータによって、欠陥検出前後の段階、動作、および/または時刻だけを含むように調整されてもよい。最新変数曲線1002は、媒体流が時間T2前にバッチプロセスで開始し、時間T3を通じてほぼ中間まで、1.7〜2.4gal/秒の流量を示したことを示す。時間T4までに、バッチプロセス12369の媒体流は停止していた。   The exemplary variable trend graph 510 includes a current variable curve 1002 that includes a selected point 1004. The latest variable curve 1002 shows the values of variables during the process period (for example, T1 to T4). The time period may be adjusted by the operator to include only stages, actions, and / or times before and after defect detection. The latest variable curve 1002 shows that the media flow started in a batch process before time T2 and showed a flow rate of 1.7-2.4 gal / sec through time T3 to about the middle. By time T4, the media flow of batch process 12369 had stopped.

変数傾向グラフ510は、過去のプロセスの「媒体流量」の値に対応する、変数平均1006、上限標準偏差1008、および下限標準偏差1010を含む。さらに、変数傾向グラフ510は、媒体流量の計算された平均、計算された標準偏差、および/または閾値を含んでもよい。変数平均1006ならびに標準偏差1008および1010を表示することによって、例示的な変数傾向グラフ510は、オペレータが、変数の傾向を、許容可能な製品を産出した異なるバッチ中の同じ変数の以前の傾向に比較することを可能にする。変数平均1006ならびに/または標準偏差1008および1010は、図1のOMS102によって決定されてもよい。   The variable trend graph 510 includes a variable average 1006, an upper limit standard deviation 1008, and a lower limit standard deviation 1010 corresponding to the “medium flow rate” values of past processes. Further, the variable trend graph 510 may include a calculated average, a calculated standard deviation, and / or a threshold of the media flow rate. By displaying the variable mean 1006 and standard deviations 1008 and 1010, the exemplary variable trend graph 510 allows the operator to change the variable trend to the previous trend for the same variable in different batches that produced acceptable products. Allows comparison. The variable average 1006 and / or standard deviations 1008 and 1010 may be determined by the OMS 102 of FIG.

変数平均1006は、過去のバッチの「媒体流量」変数の決定された平均値であってもよく、標準偏差1008および1010は、過去のバッチの「媒体流量」変数の標準偏差から決定されてもよい。図10の変数傾向グラフ510は、最新変数曲線1002が変数平均1006をほぼ2.0gal/秒下回り、下限標準偏差をほぼ1.6gal/秒下回っていることを示す。   The variable average 1006 may be the determined average value of the “media flow” variable for the past batch, and the standard deviations 1008 and 1010 may be determined from the standard deviation of the “media flow” variable for the past batch. Good. The variable trend graph 510 of FIG. 10 shows that the latest variable curve 1002 is approximately 2.0 gal / sec below the variable average 1006 and approximately 1.6 gal / sec below the lower standard deviation.

その上、変数傾向グラフ510は、プロセス情報フェースプレートおよび/または勧告措置フェースプレートを含んでもよい。オペレータは、変数曲線1002上の1点(例えば、選択点1004)を選択することによって、「予測」タブを選択することによって、および/または勧告措置フェースプレート内の是正措置を選択することによって、品質予測グラフ512にアクセスしてもよい。代替として、オペレータは、「寄与」タブを選択することによって、および/または変数傾向グラフ510を閉じることによって、寄与グラフ506に戻ってもよい。   Moreover, the variable trend graph 510 may include a process information faceplate and / or a recommended action faceplate. The operator can select one point on the variable curve 1002 (eg, selection point 1004), by selecting the “Forecast” tab, and / or by selecting a corrective action in the recommended action faceplate. The quality prediction graph 512 may be accessed. Alternatively, the operator may return to the contribution graph 506 by selecting the “Contribution” tab and / or by closing the variable trend graph 510.

図11は、例示的なバッチ12369の図5の品質予測グラフ512を表示している、図6のユーザインターフェース136を示す。例示的な品質予測グラフ512は、プロセス変動(例えば、図7のプロセス変動グラフ504に示されるプロセス変動)に与える、欠陥に対する可能な是正の影響を示す。品質予測グラフ512は、プロセスから得られる製品の予測された品質および/またはバッチプロセス12369の終了に関連付けられる予測された品質を示してもよい。加えて、品質予測グラフ512は、検出された欠陥を修正するための是正措置の実装後の、バッチプロセスの予測された品質を示してもよい。オペレータは、是正措置がプロセス品質を定義された閾値内にもたらすに十分であるかを判定するために、品質予測グラフ512を使用してもよい。品質予測グラフ512が、是正措置が品質製品を製造するに十分ではないことを示す場合、オペレータは、他の是正措置を選択してもよく、および/またはプロセスを終了することを決定してもよい。   FIG. 11 shows the user interface 136 of FIG. 6 displaying the quality prediction graph 512 of FIG. 5 for an exemplary batch 12369. The example quality prediction graph 512 shows the possible corrective effect on the defects on the process variation (eg, the process variation shown in the process variation graph 504 of FIG. 7). The quality prediction graph 512 may indicate the predicted quality of the product resulting from the process and / or the predicted quality associated with the end of the batch process 12369. In addition, the quality prediction graph 512 may indicate the predicted quality of the batch process after implementing corrective actions to correct the detected defects. The operator may use the quality prediction graph 512 to determine whether corrective action is sufficient to bring the process quality within a defined threshold. If the quality prediction graph 512 indicates that the corrective action is not sufficient to produce a quality product, the operator may select another corrective action and / or decide to end the process. Good.

その上、品質予測グラフ512は、全体品質変数に対応してもよい。他の例では、品質予測グラフ512は、是正措置の実装後に、測定された変数および/または計算された変数の予測値を示してもよい。図11の例示的な品質予測グラフ512は、バッチプロセス12369の完全な期間(例えば、T1〜T7)の品質予測曲線1102を含む。例示的な予測曲線1102は、正規化されてもよい、統計的プロセス品質計算として表されてもよい。統計的プロセス品質計算および/または統計的プロセス品質計算のモデルは、図1の例示的なOMS102によって生成されてもよい。   Moreover, the quality prediction graph 512 may correspond to the overall quality variable. In other examples, the quality prediction graph 512 may show predicted values of measured variables and / or calculated variables after implementing corrective actions. The example quality prediction graph 512 of FIG. 11 includes a quality prediction curve 1102 for the complete period (eg, T1-T7) of the batch process 12369. The example prediction curve 1102 may be represented as a statistical process quality calculation that may be normalized. Statistical process quality calculations and / or models of statistical process quality calculations may be generated by the exemplary OMS 102 of FIG.

例示的な品質予測グラフ512はまた、バッチプロセスを通じて現在時刻および/または進捗を示す、タイムマーカライン1104も含む。さらに、タイムマーカライン1104は、品質予測グラフ512がバッチプロセスに是正措置を適用する影響を計算する時刻を表してもよい。その上、品質予測グラフ512は、予測された品質の計算された信頼範囲を表す、信頼限界1108を含む。例えば、信頼限界1108は、バッチプロセスの実際の品質が信頼限界1108内に含まれることを95%の信頼を持って示す場合がある。すなわち、バッチプロセスの品質が信頼限界1108の間の何らかの点にあるという95%の確率が存在する。例示的な信頼限界1108は、プロセスの品質がプロセスの開始点では不確実性がより高い可能性があるため、バッチプロセス12369の開始点では広い。次いで、バッチプロセスが進捗するにつれて、プロセスの品質は確実性がより高い可能性があり、これは時間T7で信頼限界1108が狭くなっていることで示される。   The exemplary quality prediction graph 512 also includes a time marker line 1104 that indicates the current time and / or progress through the batch process. Further, the time marker line 1104 may represent the time at which the quality prediction graph 512 calculates the impact of applying corrective action to the batch process. Moreover, the quality prediction graph 512 includes a confidence limit 1108 that represents the calculated confidence range of the predicted quality. For example, the confidence limit 1108 may indicate with 95% confidence that the actual quality of the batch process is within the confidence limit 1108. That is, there is a 95% probability that the quality of the batch process is somewhere between the confidence limits 1108. The exemplary confidence limit 1108 is wide at the start of the batch process 12369 because the process quality may be more uncertain at the start of the process. Then, as the batch process progresses, the quality of the process may be more certain, as indicated by the narrowing of the confidence limit 1108 at time T7.

その上、図11の品質予測グラフ512は、閾値(例えば、仕様)限界1110および目標限界1111を含む。閾値限界1110は、品質予測曲線1102が、許容品質として見なされるバッチプロセスを有するかもしれない最大値を示してもよい。目標限界1111は、許容可能な品質製品を産出するために、品質予測曲線1102の理想的な値を示してもよい。   In addition, the quality prediction graph 512 of FIG. 11 includes a threshold (eg, specification) limit 1110 and a target limit 1111. The threshold limit 1110 may indicate the maximum value that the quality prediction curve 1102 may have with a batch process that is considered acceptable quality. The target limit 1111 may indicate an ideal value of the quality prediction curve 1102 in order to produce an acceptable quality product.

例示的な品質予測グラフ512はまた、ナビゲーション矢印、バッチプロセス情報、バッチプロセス品質曲線1102上の選択された点の予測された数値、および、曲線1102上で選択された点に関連付けられる信頼限界1108の数値を含む、プロセス情報フェースプレート1112も含む。予測品質曲線1102上の選択された点は、時間T7の黒丸によって表されてもよい。さらに、品質予測グラフ512は、選択可能な是正措置を含む、勧告措置フェースプレート1114を含む。図11の例では、FIC3の流量を1.85gal/秒増加するという是正措置が選択され、品質予測グラフ512がその是正措置をバッチプロセス品質の予測に適用したことを示す。他の例では、勧告措置フェースプレート1114は、追加の是正措置を含む場合、および/またはオペレータが是正措置を入力することを可能にする機能を含む場合がある。   The exemplary quality prediction graph 512 also includes navigation arrows, batch process information, predicted numerical values of selected points on the batch process quality curve 1102, and confidence limits 1108 associated with the selected points on the curve 1102. A process information faceplate 1112 is also included. The selected point on the predicted quality curve 1102 may be represented by a black circle at time T7. In addition, the quality prediction graph 512 includes a recommended action faceplate 1114 that includes selectable corrective actions. In the example of FIG. 11, the corrective action to increase the flow rate of FIC3 by 1.85 gal / sec was selected and the quality prediction graph 512 indicates that the corrective action has been applied to the prediction of batch process quality. In other examples, the recommended action faceplate 1114 may include additional corrective actions and / or may include functionality that allows an operator to enter corrective actions.

プロセス制御オペレータが、適用された是正措置が検出された欠陥を修正すると判定する場合、プロセス制御オペレータは、勧告措置フェースプレート1114内の措置を選択することによって、図1のプロセス制御システム106に是正措置を適用してもよい。代替として、オペレータは、ユーザインターフェース136および/または品質予測グラフ内に含まれた他の機能を介して、是正措置を選択して適用してもよい。   If the process control operator determines that the applied corrective action corrects the detected defect, the process control operator may correct the process control system 106 of FIG. 1 by selecting the action in the recommended action faceplate 1114. Measures may apply. Alternatively, the operator may select and apply corrective actions via the user interface 136 and / or other functions included in the quality prediction graph.

図12は、第1の時刻の図5の例示的なマイクロチャート508を表示している、図6のユーザインターフェース136を示す。例示的なマイクロチャートは、バッチプロセス時間1204を示すタイムライン1202、およびバッチプロセス時間1204を通じて現在の進捗1206を示す。さらに、タイムライン1202は、検出された欠陥1208〜1214およびプロット時間位置矢印1216を含む。プロセス時間1204は、バッチプロセス(例えば、バッチプロセス12369)を完了する時間に対応する。現在の進捗1206は、プロセス時間1204に対するバッチプロセスのステータスを示す。例えば、図12では、現在の進捗は、プロセス時間1204全体のほぼ3分の2である。他の例では、プロセス時間1204は、段階時間、動作時間、および/またはオペレータによって指定された時間に対応してもよい。   FIG. 12 shows the user interface 136 of FIG. 6 displaying the exemplary microchart 508 of FIG. 5 at a first time. The exemplary microchart shows a timeline 1202 showing batch process time 1204 and current progress 1206 through batch process time 1204. In addition, timeline 1202 includes detected defects 1208-1214 and plot time position arrow 1216. Process time 1204 corresponds to the time to complete a batch process (eg, batch process 12369). Current progress 1206 shows the status of the batch process relative to process time 1204. For example, in FIG. 12, the current progress is approximately two-thirds of the total process time 1204. In other examples, the process time 1204 may correspond to a stage time, an operating time, and / or a time specified by an operator.

検出された欠陥1208〜1214は、図1のプロセス制御システム106内で検出された欠陥に対応する。検出された欠陥1208〜1214の期間は、検出された欠陥1208〜1214のバーの幅によって示すことができる。さらに、検出された欠陥1208〜1214の濃淡は、欠陥の種類に対応してもよい。例えば、欠陥1208および1210は、閾値を超えるバッチプロセスの動作状況(例えば、品質変数)に対応してもよい。欠陥1212は、測定、制御ループ動作、および/またはフィールドデバイス(例えば、測定された変数)に関連付けられる欠陥に対応してもよい。欠陥1214は、動作状況に対応する欠陥および測定、制御ループ動作、および/またはフィールドデバイスに対応する欠陥の組み合わせに対応してもよい。他の例では、検出された欠陥1208〜1214は、色分けされたバーによって、形状によって、および/またはアイコンによって表されてもよい。   The detected defects 1208-1214 correspond to defects detected in the process control system 106 of FIG. The period of detected defects 1208-1214 can be indicated by the width of the bars of detected defects 1208-1214. Furthermore, the density of the detected defects 1208 to 1214 may correspond to the type of defect. For example, defects 1208 and 1210 may correspond to batch process operating conditions (eg, quality variables) that exceed a threshold. Defect 1212 may correspond to a defect associated with measurement, control loop operation, and / or a field device (eg, a measured variable). Defect 1214 may correspond to a combination of defects and measurements corresponding to operating conditions, control loop operations, and / or defects corresponding to field devices. In other examples, detected defects 1208-1214 may be represented by color-coded bars, by shape, and / or by icons.

タイムライン1202は、オペレータがバッチプロセス中のある時刻を選択して、変動値情報を視認することを可能にするように、プロット時間位置矢印1216を含む。変動値情報は、バーチャート1218内および/またはスパークライン1220〜1226内に表示されてもよい。図12のマイクロチャート508は、第1の時刻に位置付けられるプロット時間位置矢印1216を示し、バーチャート1218に示された変数値は、第1の期間に対応する。さらに、スパークライン1220〜1226の進捗は、第1の期間を通じて示される。その上、変数は、変数の名前、および第1の時刻での変数の数値を含む。例えば、第1の変数である「媒体流量」は、バッチプロセス中の「媒体流量」変数の値の履歴を示すスパークライン1220、第1の時刻での値2.8gal/秒、および2.8gal/秒が「媒体流量」変数の平均値に対してどのような関係であるかを示して正規化される、バーチャート1218を含む。   The timeline 1202 includes a plot time position arrow 1216 to allow an operator to select a time in the batch process and view the variable value information. The variable value information may be displayed in the bar chart 1218 and / or in the spark lines 1220-1226. A microchart 508 in FIG. 12 shows a plot time position arrow 1216 positioned at the first time, and the variable value shown in the bar chart 1218 corresponds to the first period. Furthermore, the progress of the spark lines 1220-1226 is shown throughout the first period. In addition, the variable includes the name of the variable and the numeric value of the variable at the first time. For example, the first variable “medium flow rate” includes a spark line 1220 indicating a history of the value of the “medium flow rate” variable during the batch process, a value 2.8 gal / sec at a first time, and 2.8 gal. It includes a bar chart 1218 that is normalized to show how per second is relative to the average value of the “medium flow” variable.

例示的なマイクロチャート508は、バッチプロセスの変動に寄与している可能性がある変数の各々に対する最新変数値(例えば、バーチャート1218を介して)および変数値の履歴(例えば、スパークライン1220〜1226を介して)をプロセス制御オペレータに提供する。このように、例示的なマイクロチャート508は、寄与グラフ506および変数傾向グラフ510の機能を組み合わせる。   The exemplary microchart 508 shows the latest variable values (eg, via bar chart 1218) and variable value history (eg, sparklines 1220-120) for each of the variables that may contribute to batch process variation. (Via 1226) to the process control operator. Thus, the exemplary microchart 508 combines the functions of the contribution graph 506 and the variable trend graph 510.

例示的なマイクロチャート508は、バーチャート1218の共通平均および/または共通標準偏差内に変数を表示できるように、変数の各々の平均および/または標準偏差を正規化しても、および/または再スケーリングしてもよい。バーチャート1218内のバーは、1つ以上の変数が標準偏差を超えるが、プロセス欠陥を生じない場合を示すために、色を変更してもよい。さらに、バーチャート1218内のバーは、1つ以上の変数が標準偏差を超えて、プロセス欠陥の原因であることを示すために、色を変更してもよい。その上、バーチャート1218内のバーは、変数各々の統計履歴を示すために、濃淡を付けてもよい。例えば、図10の変数傾向チャート510内の以前のバッチの平均および標準偏差に類似して、バーチャート1218内のバーは、各変数の以前のバッチの平均および/または標準偏差を示すために濃淡を付けてもよい。その上、オペレータは、変数傾向グラフ510内で選択した変数を視認するために、バーチャート1218内の変数のうちの任意の1つを選択してもよい。   The exemplary microchart 508 normalizes and / or rescals each variable's mean and / or standard deviation so that the variables can be displayed within the common average and / or common standard deviation of the bar chart 1218. May be. The bars in the bar chart 1218 may change color to indicate when one or more variables exceed the standard deviation but do not cause a process defect. Furthermore, the bars in the bar chart 1218 may change color to indicate that one or more variables exceed the standard deviation and are responsible for process defects. In addition, the bars in the bar chart 1218 may be shaded to show the statistical history of each variable. For example, similar to the average and standard deviation of the previous batch in the variable trend chart 510 of FIG. 10, the bars in the bar chart 1218 are shaded to show the average and / or standard deviation of the previous batch for each variable. May be attached. In addition, the operator may select any one of the variables in the bar chart 1218 to view the selected variable in the variable trend graph 510.

例示的なスパークライン1220〜1226は、変数の各々に対して現在のバッチに対する以前の値の履歴を示す。スパークライン1220〜126は、各変数の平均値に沿ってプロットされてもよく、および/または変数の絶対値として示されてもよい。その上、スパークラインは、プロセス中に変数の値が閾値を超える場合を示す指標を含んでもよい。プロセス制御オペレータは、所望のスパークライン1220〜1226を選択することによって、スパークライン1220〜1226の詳細情報を視認してもよい。   Exemplary sparklines 1220-1226 show a history of previous values for the current batch for each of the variables. Sparklines 1220-126 may be plotted along the average value of each variable and / or shown as the absolute value of the variable. In addition, the sparkline may include an indicator that indicates when the value of the variable exceeds a threshold during the process. The process control operator may view detailed information of the spark lines 1220-1226 by selecting the desired spark lines 1220-1226.

図13は、選択された第2の時間の図12の例示的なマイクロチャート508を表示している、図6のユーザインターフェース136を示す。図13の例では、プロット時間位置矢印1216は、バッチプロセス時間1204の最新の進捗1206上の第2の時刻に移動している。プロット時間位置矢印1216は、欠陥1214の発生時点に位置付けられる。このため、バーチャート1218は、第2の時刻に関連付けられる変数値を示し、変数は、第2の時刻に関連付けられる数値(例えば、3.3gal/秒の媒体流量)を示す。さらに、スパークライン1220〜1226は、第2の時刻までの各変数の以前の値を示す。他の例では、スパークライン1220〜1226は、バッチプロセスの現在の時刻までの各変数の以前の値を含んでもよいが、第2の時刻の指標を示してもよい。図13の例は、欠陥1214が、媒体流量がバーチャート1218で示された標準偏差を超えている媒体流量に寄与している可能性があることを示す。さらに、媒体流量に関連付けられるバーチャート1218内のバーは、変数が欠陥1214に対する寄与因子であることを示すために、色および/または濃淡を変化させてもよい。   FIG. 13 shows the user interface 136 of FIG. 6 displaying the example microchart 508 of FIG. 12 for a selected second time. In the example of FIG. 13, the plot time position arrow 1216 has moved to the second time on the latest progress 1206 of the batch process time 1204. Plot time position arrow 1216 is positioned at the time of occurrence of defect 1214. For this reason, the bar chart 1218 shows a variable value associated with the second time, and the variable shows a numerical value (for example, a medium flow rate of 3.3 gal / second) associated with the second time. Furthermore, the spark lines 1220 to 1226 indicate previous values of each variable up to the second time. In other examples, the sparklines 1220-1226 may include previous values for each variable up to the current time of the batch process, but may indicate a second time indicator. The example of FIG. 13 shows that the defect 1214 may contribute to the media flow rate where the media flow rate exceeds the standard deviation indicated by the bar chart 1218. Further, the bars in the bar chart 1218 associated with the media flow rate may change color and / or tint to indicate that the variable is a contributing factor to the defect 1214.

図14Aおよび14Bは、図12および図13の「混合器温度」プロセス変数の例示的なスパークライン1220を表示している、図6のユーザインターフェース136を示す。スパークライングラフ1400および/または1420は、図12および/または図13のスパークライン1220の選択によって、ユーザインターフェース136内に生成および/または表示されてもよい。図14Aおよび14Bの例示的なスパークライングラフ1400および1420は、バッチプロセスの以前の変数値を表示するための2つの異なる構成を示す。しかしながら、バッチプロセスの以前の変数値を表示するために、他のスパークライングラフが異なって構成されてもよい。   14A and 14B show the user interface 136 of FIG. 6 displaying an exemplary sparkline 1220 of the “mixer temperature” process variable of FIGS. Sparkline graphs 1400 and / or 1420 may be generated and / or displayed within user interface 136 by selection of sparkline 1220 of FIGS. 12 and / or 13. The exemplary sparkline graphs 1400 and 1420 of FIGS. 14A and 14B show two different configurations for displaying previous variable values for a batch process. However, other sparkline graphs may be configured differently to display previous variable values for the batch process.

図14Aの例示的なスパークライングラフ1400は、バッチプロセス時間T1〜T4のスパークライン「混合器温度」スパークライン1220を含む。スパークライン1220は、温度の絶対スケールに沿って示される。例えば、T1では、「混合器温度」は40℃で、T4では、「混合器温度」は180℃である。このため、示されるように、スパークライン1220は、温度に関して増加する。   The exemplary sparkline graph 1400 of FIG. 14A includes a sparkline “mixer temperature” sparkline 1220 for batch process times T1-T4. Spark line 1220 is shown along an absolute scale of temperature. For example, at T1, the “mixer temperature” is 40 ° C., and at T4, the “mixer temperature” is 180 ° C. Thus, as shown, the spark line 1220 increases with temperature.

さらに、スパークライングラフ1400は、偏差インジケータ1404および1406を含む。偏差インジケータ1404および1406の長さは、閾値を超える変数値の時間に対応する。スパークラインからの偏差インジケータ1404および1406の高さは、変数値が閾値をどの程度超えるかを示してもよい。スパークライン1220の上に位置する偏差インジケータ1404は、変数値が上限標準偏差限界を超えることを示してもよく、スパークライン1220の下に位置する偏差インジケータ1406は、変数値が下限標準偏差限界を超えることを示すことができる。さらに、偏差インジケータ1404および1406は、偏差の重大度、偏差の量、および/または偏差の種類を示すために、色を付けてもよい。   Further, the sparkline graph 1400 includes deviation indicators 1404 and 1406. The length of the deviation indicators 1404 and 1406 corresponds to the time of the variable value exceeding the threshold. The height of the deviation indicators 1404 and 1406 from the sparkline may indicate how much the variable value exceeds the threshold. A deviation indicator 1404 located above the spark line 1220 may indicate that the variable value exceeds the upper standard deviation limit, and a deviation indicator 1406 located below the spark line 1220 indicates that the variable value is below the lower standard deviation limit. Can be shown to exceed. Further, deviation indicators 1404 and 1406 may be colored to indicate the severity of deviation, the amount of deviation, and / or the type of deviation.

図14Bの例示的なスパークライングラフ1420は、バッチプロセス時間T1〜T4のスパークライン「混合器温度」スパークライン1220を含む。スパークライン1220は、平均および標準偏差スケールに沿って示される。例えば、スパークライングラフ1420は、スパークライン1220の変数値を、時間T1〜T4のバッチプロセス中の「混合器温度」に対して計算された平均値に比較して示す。さらに、スパークライングラフ1420は、偏差指標1424を含む。偏差指標1424は、図4Aのスパークライングラフ1400に示される偏差指標1404および1406に対応しない。例示的な偏差指標1424は、スパークライン1220の一部が標準偏差(例えば、閾値)を超えるという視覚的指標をオペレータに提供する。偏差指標1424は、破線、太線、線の色、形状、および/またはアイコンによって視覚的に示されてもよい。   The exemplary sparkline graph 1420 of FIG. 14B includes a sparkline “mixer temperature” sparkline 1220 for batch process times T1-T4. Sparklines 1220 are shown along the mean and standard deviation scale. For example, the sparkline graph 1420 shows the variable value of the sparkline 1220 compared to the average value calculated for “mixer temperature” during the batch process at times T1-T4. Further, the sparkline graph 1420 includes a deviation indicator 1424. Deviation indicator 1424 does not correspond to deviation indicators 1404 and 1406 shown in sparkline graph 1400 of FIG. 4A. The example deviation indicator 1424 provides the operator with a visual indication that a portion of the sparkline 1220 exceeds a standard deviation (eg, a threshold). Deviation indicator 1424 may be visually indicated by a dashed line, bold line, line color, shape, and / or icon.

一部の実施形態において、2つ以上のチャートまたはグラフ502〜512は、予測されたプロセス欠陥に寄与する可能性、または寄与している可能性がある候補因子を相関させるために、ユーザインターフェース上に同時に提示されてもよい。候補因子は、実施形態において、例えば、プロセスパラメータまたはプロセス変数を含んでもよい。実施形態において、候補因子は、1つ以上のプロセスパラメータまたは変数に基づく1つ以上の計算を含んでもよい。一部の事例では、候補因子は、経時の1つ以上の測定されたパラメータまたは変数の値に基づく1つ以上の計算を含んでもよい。例えば、候補因子は、1つ以上の測定されたパラメータまたは変数の平均値における変位または変化、1つ以上のパラメータ値の標準偏差における推移または変化、あるいはパラメータ値のばらつき度数における推移または変化を含む場合がある。他の候補因子も可能であってもよい。一般に、候補因子は、欠陥が予測されるプロセスのモデルに対応してもよい。   In some embodiments, two or more charts or graphs 502-512 may be displayed on a user interface to correlate candidate factors that may or may contribute to predicted process defects. May be presented at the same time. Candidate factors may include, for example, process parameters or process variables in embodiments. In embodiments, the candidate factor may include one or more calculations based on one or more process parameters or variables. In some cases, the candidate factor may include one or more calculations based on the values of one or more measured parameters or variables over time. For example, candidate factors include a displacement or change in the mean value of one or more measured parameters or variables, a transition or change in the standard deviation of one or more parameter values, or a change or change in the variation frequency of the parameter values. There is a case. Other candidate factors may be possible. In general, the candidate factors may correspond to a model of the process in which defects are predicted.

実施形態において、同時に表示されたチャートまたはグラフ502〜512は、時間的に整合されてもよく、ユーザが、候補因子を迅速に分析し、欠陥に対する最も顕著な寄与因子を識別し、対応する原因を隔離し、重大な状況を修正するために有効な措置をとることを可能にするために、分割表示に提示されてもよい。   In an embodiment, simultaneously displayed charts or graphs 502-512 may be temporally aligned so that the user can quickly analyze candidate factors, identify the most prominent contributing factors to the defect, and corresponding causes May be presented in a split view to allow effective actions to be taken to isolate and correct critical situations.

例えば、図6のプロセス概要チャート502を参照して前述したように、予測された欠陥は、プロセス制御情報に基づいて判断されてもよく、アイコン604または他の選択可能なユーザ制御(図示せず)による等、チャート502上に示されてもよい。アイコン604または他の選択可能なユーザ制御を選択すると、予測された欠陥に対応する表示がユーザインターフェース上に提示されてもよい。   For example, as previously described with reference to the process overview chart 502 of FIG. 6, the predicted defect may be determined based on the process control information, and may include an icon 604 or other selectable user control (not shown). ) Or the like. Upon selection of icon 604 or other selectable user control, a display corresponding to the predicted defect may be presented on the user interface.

図19は、予測された欠陥604の選択時に、ユーザインターフェース上に提示されてもよい、表示1800の例示的な表示を示す。表示1800は、予測された欠陥604に対応するセクション1802(例えば、第1のセクション1802)を含んでもよい。実施形態において、第1のセクション1802は、ある時間間隔または期間1810にわたって表示される1つ以上の曲線1805、1808を含む場合がある。第1の曲線1805は、時間間隔または期間1810の特定のプロセス変数またはパラメータの測定された値の説明されない変動に対応してもよい。実施形態において、第1の曲線1805は、図7のプロセス変動グラフ504の説明されない変動曲線722と類似または同一であってもよい。第2の曲線1808は、時間間隔または期間1810にわたって予測されたプロセス品質に対応してもよい。実施形態において、第2の曲線1808は、図11の品質予測グラフ512の予測曲線1102に類似または同一であってもよい。両方の曲線1805および1808は、図19でセクション1802に同時に提示されると示されるが、一部の実施形態では、曲線1805のみ、または曲線1808のみがセクション1802または表示1800に提示されてもよい。一部の実施形態において、2つ以上の説明されない変動曲線1805が、第1のセクション1802または表示1800に表示されてもよい。   FIG. 19 shows an exemplary display of display 1800 that may be presented on the user interface upon selection of predicted defect 604. Display 1800 may include a section 1802 (eg, first section 1802) corresponding to predicted defect 604. In an embodiment, the first section 1802 may include one or more curves 1805, 1808 displayed over a time interval or period 1810. The first curve 1805 may correspond to an unexplained variation in the measured value of a particular process variable or parameter for a time interval or period 1810. In embodiments, the first curve 1805 may be similar or identical to the unexplained variation curve 722 of the process variation graph 504 of FIG. The second curve 1808 may correspond to the predicted process quality over a time interval or period 1810. In an embodiment, the second curve 1808 may be similar or identical to the prediction curve 1102 of the quality prediction graph 512 of FIG. Both curves 1805 and 1808 are shown in FIG. 19 as being presented simultaneously in section 1802, but in some embodiments, only curve 1805 or only curve 1808 may be presented in section 1802 or display 1800. . In some embodiments, more than one unexplained variation curve 1805 may be displayed in the first section 1802 or display 1800.

セクション1802はまた、閾値1812も含んでもよい。図19に示された例では、説明されない変動曲線1805に対応する単一の閾値1812が表示されるが、他の実施形態では、予測プロセス品質曲線1808に対応する追加の閾値(図示せず)および/または任意のそれぞれの追加の説明されない変動曲線に対応する追加の閾値(これも図示せず)が表示1800のセクション1802に加えてまたは代替として表示されてもよい。一般に、表示1800のセクション1802は、図7のプロセス変動グラフ504に提示される可能性がある情報のうちの任意または全てを含んでもよく、および/または図11の品質予測グラフ512に提示される可能性がある情報のうちの任意または全てを含んでもよい。その上、図7および/または図11からの情報は、図7および図11に示される様式に類似の様式で表示1800の第1のセクション1802に提示されてもよく、または情報は任意の所望または適切な形式で提示されてもよい。   Section 1802 may also include a threshold 1812. In the example shown in FIG. 19, a single threshold value 1812 corresponding to a non-explained variation curve 1805 is displayed, but in other embodiments an additional threshold value (not shown) corresponding to the predicted process quality curve 1808. And / or additional thresholds (also not shown) corresponding to any respective additional unexplained variation curves may be displayed in addition to or as an alternative to section 1802 of display 1800. In general, section 1802 of display 1800 may include any or all of the information that may be presented in process variation graph 504 of FIG. 7 and / or presented in quality prediction graph 512 of FIG. Any or all of the possible information may be included. Moreover, the information from FIGS. 7 and / or 11 may be presented in the first section 1802 of the display 1800 in a manner similar to that shown in FIGS. 7 and 11, or the information may be any desired Or it may be presented in an appropriate format.

表示1800は、ユーザインターフェース上に同時に提示される複数のセクションを有する分割表示であってもよい。例えば、第1のセクション1802に加えて、表示1800は、候補因子情報を提示する第2のセクション1820を含む場合がある。実施形態において、第2のセクション1820は、予測された欠陥604に寄与的影響を有する可能性がある、一組の有効な候補因子(例えば、1つ以上のプロセスパラメータ、プロセス変数、1つ以上のプロセスパラメータまたはプロセス変数の値に基づく計算、および/または他の候補因子)1822の指標を含んでもよい。セクション1820は、予測された欠陥604に対する因子1822の各々のそれぞれの寄与1825の値を含んでもよく、因子1822の各々の変動(例えば、説明された変動および/または説明されない変動)1828の値を含んでもよい。実施形態において、一組の候補因子1822は、プロセスモデル生成器412によって作成され、プロセスモデルデータベース416の中に記憶されたプロセスモデルに対応する一組のプロセス変数またはパラメータに基づいてもよい。   Display 1800 may be a split display having multiple sections that are presented simultaneously on the user interface. For example, in addition to the first section 1802, the display 1800 may include a second section 1820 that presents candidate factor information. In an embodiment, the second section 1820 includes a set of valid candidate factors (e.g., one or more process parameters, process variables, one or more) that may have a contributing impact on the predicted defect 604. Calculation based on the values of process parameters or process variables, and / or other candidate factors) 1822 indicators. Section 1820 may include a value for each respective contribution 1825 of factor 1822 to predicted defect 604, and a value for each variation (eg, explained variation and / or unexplained variation) 1828 of factor 1822. May be included. In an embodiment, the set of candidate factors 1822 may be based on a set of process variables or parameters corresponding to the process model created by the process model generator 412 and stored in the process model database 416.

図19に示される第2のセクション1820の実施形態は、英数チャート形式で提示されている寄与因子情報1822、1825、1828を例解する。チャートは、パラメータまたは計算の名前1822、予測された欠陥に対する寄与量1825、および/または偏差の量1828に基づいてソートすることができる。   The embodiment of the second section 1820 shown in FIG. 19 illustrates contributing factor information 1822, 1825, 1828 that is presented in an alphanumeric chart format. The chart may be sorted based on parameter or calculation name 1822, predicted defect contribution 1825, and / or deviation amount 1828.

一部の実施形態では、チャート形式の代わりに、候補因子情報1822、1825、1828の一部または全ては、グラフ形式、あるいは図9に示されるバーチャート形式910または図8の要約フェースプレート形式802等、何らかの他の所望の形式に提示されてもよい。一般に、分割表示1800の第2のセクション1820は、図9の寄与グラフ506または図8の要約フェースプレート802の中に含まれる可能性がある情報のうちの任意または全てを含んでもよく、情報は任意の所望または適切な形式で提示されてもよい。   In some embodiments, instead of the chart format, some or all of the candidate factor information 1822, 1825, 1828 may be in graph format or the bar chart format 910 shown in FIG. 9 or the summary faceplate format 802 of FIG. Etc., may be presented in some other desired format. In general, the second section 1820 of the split display 1800 may include any or all of the information that may be included in the contribution graph 506 of FIG. 9 or the summary faceplate 802 of FIG. It may be presented in any desired or appropriate format.

各候補因子1822の各指標は、実施形態において、表示1800上の第3のセクション1840内でより詳細または拡大表示するために、ユーザまたはオペレータによって手動で選択されてもよい。各候補因子1822の各指標は、実施形態において、第3のセクション1840内でより詳細または拡大表示するために、自動的に選択されてもよい。例えば、第2のセクション1820に含まれたパラメータ、変数、または計算は、一組の候補因子1822の最大偏差1828を有する時、詳細を表示するために自動的に選択される場合がある。別の例では、第2のセクション1820に含まれたパラメータ、変数、または計算は、一組の候補因子1822の最大寄与1825を有する時、自動的に選択される場合がある。また別の例では、組1822からの特定の測定された変数または特定の計算は、第3のセクション1840に自動的に表示されるデフォルト因子として識別される場合がある。   Each indicator of each candidate factor 1822 may be manually selected by a user or operator in embodiments to be more detailed or magnified in the third section 1840 on the display 1800. Each indicator of each candidate factor 1822 may be automatically selected for more detailed or enlarged display within the third section 1840 in embodiments. For example, a parameter, variable, or calculation included in the second section 1820 may be automatically selected to display details when it has a maximum deviation 1828 of a set of candidate factors 1822. In another example, a parameter, variable, or calculation included in the second section 1820 may be automatically selected when it has a maximum contribution 1825 of a set of candidate factors 1822. In yet another example, a particular measured variable or a particular calculation from set 1822 may be identified as a default factor that is automatically displayed in third section 1840.

候補因子1822のうちの1つを選択すると、選択された候補因子に対応する情報が表示1800の第3のセクション1840内に提示されてもよい。図19に例解される状況では、例えば、パラメータ「simple_process/mixer_pres」(参照1822a)は、ハイライトによって示されるように、第2のセクション1820内で選択されている。したがって、「simple_process/mixer_pres」に対応しているパラメータまたは変数曲線1842、1845が、第3のセクション1840内に提示される。第1の曲線1842は、選択されたパラメータ1822aの測定された値を示してもよい。実施形態において、第1の曲線1842は、図10の変数傾向グラフ510の測定変数曲線1002に対応してもよい。第2の曲線1845は、許容プロセス品質に関連付けられる、最適の予測または平均変数曲線に対応してもよい。実施形態において、第2の曲線1845は、図10の曲線1006に類似または同じであってもよい。一部の実施形態で、選択されたパラメータまたは変数(図19には図示せず)に対応する他の曲線もまた表示1800の第3のセクション1840内に提示されてもよい。例えば、期待変数曲線1845(図10の変数傾向グラフ510の偏差曲線1008および1010等)に対応している上限および下限標準偏差曲線は、第3のセクション1840内に提示される場合がある。一般に、表示1800の第3のセクション1840は、図10の変数傾向グラフ510に提示される可能性がある情報のうちの任意または全てを含んでもよく、含まれた情報は、図10に示される様式あるいは任意の所望または適切な形式で提示されてもよい。   Selecting one of the candidate factors 1822 may present information corresponding to the selected candidate factor in the third section 1840 of the display 1800. In the situation illustrated in FIG. 19, for example, the parameter “simple_process / mixer_press” (reference 1822a) has been selected in the second section 1820, as indicated by the highlight. Accordingly, parameter or variable curves 1842, 1845 corresponding to “simple_process / mixer_pres” are presented in the third section 1840. The first curve 1842 may indicate a measured value of the selected parameter 1822a. In an embodiment, the first curve 1842 may correspond to the measured variable curve 1002 of the variable trend graph 510 of FIG. The second curve 1845 may correspond to an optimal prediction or mean variable curve associated with acceptable process quality. In embodiments, the second curve 1845 may be similar or the same as the curve 1006 of FIG. In some embodiments, other curves corresponding to the selected parameter or variable (not shown in FIG. 19) may also be presented in the third section 1840 of the display 1800. For example, upper and lower standard deviation curves corresponding to expected variable curve 1845 (such as deviation curves 1008 and 1010 of variable trend graph 510 of FIG. 10) may be presented in third section 1840. In general, the third section 1840 of the display 1800 may include any or all of the information that may be presented in the variable trend graph 510 of FIG. 10, and the included information is shown in FIG. It may be presented in a form or in any desired or appropriate form.

表示1800の実施形態において、表示1800の第1のセクション1802および第3のセクション1840は、表示された時間間隔1810上に整合されてもよい。すなわち、表示された時間間隔1810の時間スケールは、第1のセクション1802および第3のセクション1840の両方に共通であってもよい。実施形態において、表示1800は、1つ以上の共通のインジケータ1850、1852、および1855を含むことができ、これらの各々は、表示1800のセクション1802および1840の両方に拡張してもよい。このように、共通のインジケータ1850、1852、1855は、共通の時間インジケータであってもよい。図19の例では、共通インジケータ1850は、バッチプロセスが「充填」段階から「加熱」段階へ移動している、表示された時間間隔1852中の時間事例を示し、共通インジケータ1852は、バッチプロセスが「加熱」段階から「変位」段階へ移動している、表示された時間間隔1810中の異なる時間事例を示す。共通インジケータ1855は、プロセスの特定の段階に対応するのではなく、代わりに、表示された時間間隔1810の中に含まれた任意の所望の時間事例に対応してもよい。実施形態において、共通インジケータ1855は、共通時間軸1810に沿って移動可能であってもよい。例えば、オペレータまたはユーザは、共通インジケータ1855を所望の時間事例へ移動する場合がある。一部の実施形態において、2つ以上の移動可能なインジケータ1855が表示1800上に含まれてもよい。   In an embodiment of display 1800, first section 1802 and third section 1840 of display 1800 may be aligned over displayed time interval 1810. That is, the time scale of the displayed time interval 1810 may be common to both the first section 1802 and the third section 1840. In an embodiment, display 1800 may include one or more common indicators 1850, 1852, and 1855, each of which may extend to both sections 1802 and 1840 of display 1800. Thus, the common indicators 1850, 1852, 1855 may be common time indicators. In the example of FIG. 19, common indicator 1850 indicates a time instance during the displayed time interval 1852 where the batch process is moving from the “fill” stage to the “heating” stage, and the common indicator 1852 indicates that the batch process is The different time instances during the displayed time interval 1810 are shown moving from the “heating” stage to the “displacement” stage. The common indicator 1855 may not correspond to a particular stage of the process, but instead may correspond to any desired time instance contained within the displayed time interval 1810. In an embodiment, the common indicator 1855 may be movable along a common time axis 1810. For example, the operator or user may move the common indicator 1855 to the desired time case. In some embodiments, more than one movable indicator 1855 may be included on the display 1800.

分割表示1800、第1のセクション1802内の予測欠陥604に対応する情報および第3のセクション1840内の有効な寄与因子1822aに対応する情報の同時かつ時間的に整合された提示、ならびに共通時間インジケータ1850、1852、1855は、オペレータが、予測された欠陥604に対する有効な寄与因子1822aの影響を迅速かつ容易に分析し、相関させることを可能にしてもよい。移動可能な共通インジケータ1855は、候補因子1842の振る舞い、候補因子1845の所望の振る舞い、任意の説明されない変動1805、および予測されたプロセス品質1808の相関し、時間的に同期した表示を可能にしてもよい。   Split display 1800, simultaneous and time aligned presentation of information corresponding to predictive defect 604 in first section 1802 and information corresponding to valid contributor 1822a in third section 1840, and common time indicator 1850, 1852, 1855 may allow the operator to quickly and easily analyze and correlate the impact of valid contributor 1822a on the predicted defect 604. A movable common indicator 1855 enables a correlated and temporally synchronized display of candidate factor 1842 behavior, desired behavior of candidate factor 1845, any unexplained variation 1805, and predicted process quality 1808. Also good.

その上、一部の実施形態では、欠陥分析をさらに容易にするために、オペレータは、表示1800の表示された時間間隔1810を調整することができる。セクション1802、1840のうちの1つに対して、または表示された時間間隔1810に対する最初の手動調整時、他のセクションは、セクション1802と1840の間の相関が維持されてもよいように、自動的に調整されてもよい。例えば、オペレータが、表示された時間間隔1810をそれより前または後の時間間隔に推移することを示してもよく、セクション1802および1840の時間軸は、オペレータの指標に基づいて自動的に推移されてもよい。代替として、またはさらに、オペレータは、特定のセクションを拡大または縮小してもよい。例えば、オペレータが表示1800の第1のセクション1802を拡大する場合、表示された時間間隔1810は、第1のセクション1802全体でより短い時間間隔(このため、粒度がより高い詳細)を示すように変更されてもよい。第1のセクション1802および第3のセクション1840は、共通の時間スケールを共有するので、第3のセクション1840の表示された時間間隔は、第1のセクション1802の変更されて表示された時間間隔に対応し、整合するように自動的に変更されてもよい。同様に、オペレータが、第3のセクション1840上で縮小する場合、表示された時間間隔1810は、第3のセクション1840全体でより長い時間間隔(すなわち、粒度がより低い詳細)を示すように変更されてもよい。これに従い、第1のセクション1802の表示された時間間隔は、第3のセクション1840の変更された表示された時間間隔に対応し、整合するように自動的に調整されてもよい。   Moreover, in some embodiments, the operator can adjust the displayed time interval 1810 of the display 1800 to further facilitate defect analysis. During the first manual adjustment for one of the sections 1802, 1840, or for the displayed time interval 1810, the other sections may be automatic so that the correlation between sections 1802 and 1840 may be maintained. May be adjusted. For example, an operator may indicate that the displayed time interval 1810 transitions to an earlier or later time interval, and the time axis of sections 1802 and 1840 are automatically transitioned based on the operator's indicator. May be. Alternatively or additionally, the operator may enlarge or reduce a particular section. For example, if the operator zooms in on the first section 1802 of the display 1800, the displayed time interval 1810 will show a shorter time interval (and thus more granular details) across the first section 1802. It may be changed. Since the first section 1802 and the third section 1840 share a common time scale, the displayed time interval of the third section 1840 will be the modified displayed time interval of the first section 1802. Corresponding and may be automatically changed to match. Similarly, if the operator zooms out on the third section 1840, the displayed time interval 1810 is changed to show a longer time interval (ie, less granular details) across the third section 1840. May be. Accordingly, the displayed time interval of the first section 1802 may be automatically adjusted to correspond to and match the changed displayed time interval of the third section 1840.

容易な欠陥分析をさらに支援するために、実施形態では、現在提示されたパラメータ1822a以外の異なるパラメータまたは変数1822が、表示1800上に提示されるように、第2のセクション1820から選択されてもよい。実施形態において、オペレータは、異なるパラメータまたは変数を手動で選択してもよい。例えば、オペレータは、組1822から異なる候補因子を手動で選択してもよく、手動選択時、以前に表示された因子1822aに対応する変数情報の代わりに、オペレータが選択したパラメータに対応する変数情報が、第3のセクション1840に表示されてもよい。   To further assist in easy defect analysis, in an embodiment, a different parameter or variable 1822 other than the currently presented parameter 1822a may be selected from the second section 1820 to be presented on the display 1800. Good. In embodiments, the operator may manually select different parameters or variables. For example, the operator may manually select different candidate factors from the set 1822, and at the time of manual selection, instead of the variable information corresponding to the factor 1822a displayed previously, the variable information corresponding to the parameter selected by the operator May be displayed in the third section 1840.

実施形態において、異なるパラメータまたは変数が自動的に選択されてもよい。例えば、オペレータは、共通時間インジケータ1855を異なる時間事例に移動させてもよく、変数1822a(その傾向情報は現在第3のセクション1840に提示されている)以外の異なるパラメータまたは変数は、異なる時間事例で予測された欠陥604に対してより高い寄与を有してもよい。したがって、異なるパラメータまたは変数に対応する変数傾向情報が、以前に提示された変数1822aに対応する変数傾向情報の代わりに、セクション1840内に自動的に提示されてもよい。異なるパラメータまたは変数の変数傾向情報は、実施形態において、第1のセクション1820および第3のセクション1840が共通の時間スケールを維持するように、第1のセクション1802の予測された欠陥情報と共通に整合して提示されてもよい。   In embodiments, different parameters or variables may be automatically selected. For example, the operator may move the common time indicator 1855 to a different time case, and different parameters or variables other than the variable 1822a (whose trend information is currently presented in the third section 1840) May have a higher contribution to the predicted defect 604. Accordingly, variable trend information corresponding to different parameters or variables may be automatically presented in section 1840 instead of variable trend information corresponding to previously presented variable 1822a. The variable trend information for different parameters or variables is common in the embodiment with the predicted defect information in the first section 1802 such that the first section 1820 and the third section 1840 maintain a common time scale. It may be presented consistently.

一部の実施形態では、異なる候補因子の変数傾向情報は、現在表示された候補因子の変数傾向情報と同時に提示されてもよい。図20はこのような例を示す。図20では、第2のパラメータまたは変数1822b(「simple_process/mixer_conc」)は、第1のパラメータまたは変数1822aに加えて選択されている。候補因子1822bの選択に応答して、追加の因子1822bに応答する追加のセクション1860が表示1800上に提示される。追加のセクション1860は、第1のセクション1802および第3のセクション1840の両方と共通の時間整合および共通の時間スケールを共有してもよい。追加のセクション1860は、第3のセクション1840に関して前述した様式と類似の様式で、候補因子1822bに対応する変数傾向情報を含んでもよい。図20に表される特定の例では、表示1800の追加のセクション1860は、「simple_process/mixer_conc」の測定された変数値に対応する最新変数曲線1862、「simple_process/mixer_conc」の最適、平均または期待変数曲線1865、ならびに対応する偏差曲線1868および1870を含む。   In some embodiments, the variable trend information for different candidate factors may be presented simultaneously with the variable trend information for the currently displayed candidate factors. FIG. 20 shows such an example. In FIG. 20, the second parameter or variable 1822b (“simple_process / mixer_conc”) is selected in addition to the first parameter or variable 1822a. In response to selection of candidate factor 1822b, an additional section 1860 that is responsive to additional factor 1822b is presented on display 1800. Additional section 1860 may share a common time alignment and common time scale with both first section 1802 and third section 1840. Additional section 1860 may include variable trend information corresponding to candidate factor 1822b in a manner similar to that described above with respect to third section 1840. In the particular example depicted in FIG. 20, an additional section 1860 of display 1800 includes the latest variable curve 1862 corresponding to the measured variable value of “simple_process / mixer_conc”, the optimal, average or expected of “simple_process / mixer_conc”. Variable curve 1865 and corresponding deviation curves 1868 and 1870 are included.

表示1800に提示するために、任意の数の候補因子(例えば、プロセス変数、プロセスパラメータ、計算、および/または他の候補因子)1822が第2のセクション1820から選択されてもよいことに注意されたい。例えば、1、2、3、または4つ以上の候補因子が第2のセクション1820から選択されてもよく、選択された追加の候補因子に対応するそれぞれの追加セクションが表示1800上に含められてもよい。各追加セクションは、特定のそれぞれの追加の候補因子に対応する変数傾向情報を含んでもよく、各追加セクションは、表示された時間間隔1810全体で、予測された欠陥604に対応する第1のセクション1802と整合していてもよい。さらに、任意の共通時間インジケータ1850、1852、1855は、共通の時間整合を共有する、表示1800の表示セクション全体に拡張してもよい。   Note that any number of candidate factors (eg, process variables, process parameters, calculations, and / or other candidate factors) 1822 may be selected from second section 1820 for presentation in display 1800. I want. For example, 1, 2, 3, or more than four candidate factors may be selected from the second section 1820, and each additional section corresponding to the selected additional candidate factors is included on the display 1800. Also good. Each additional section may include variable trend information corresponding to each particular additional candidate factor, and each additional section includes a first section corresponding to the predicted defect 604 over the displayed time interval 1810. It may be consistent with 1802. Further, any common time indicator 1850, 1852, 1855 may extend to the entire display section of display 1800 that shares a common time alignment.

表示される追加セクションの数がユーザインターフェースの物理的寸法によって制限される場合、実施形態において、ユーザまたはオペレータは、所望に応じて、表示1800の1つ以上のセクションの寸法を変更してもよい。さらに、または代替として、ユーザまたはオペレータは、表示1800の第1の表示に表示するための所与の数の変数またはパラメータおよびそれらの対応する追加セクション、ならびに表示1800の1つ以上の後続の表示で表示するための別の所与の数の他の変数またはパラメータおよびそれらの対応する追加セクションを選択してもよい。典型的に、表示1800の各異なる表示は、予測された欠陥604に対応する第1のセクション1802を含んでもよいが、その必要はない。   If the number of additional sections displayed is limited by the physical dimensions of the user interface, in an embodiment, the user or operator may change the dimensions of one or more sections of display 1800 as desired. . Additionally or alternatively, the user or operator may provide a given number of variables or parameters and their corresponding additional sections for display in the first display of display 1800, and one or more subsequent displays of display 1800. Another given number of other variables or parameters and their corresponding additional sections may be selected for display. Typically, each different display of display 1800 may include a first section 1802 corresponding to a predicted defect 604, but that is not required.

その上、実施形態において、ユーザまたはオペレータは、表示1800から削除される表示1800の特定セクション(例えば、セクション1840またはセクション1860)を選択してもよい。例えば、オペレータがパラメータAの変数傾向情報を表示しているセクションを分析し、その後、そのパラメータAがオペレータにとって興味がないと判定すると、オペレータは、パラメータAに対応する変数傾向情報セクションが表示1800から削除されることを示してもよい。パラメータAに対応するセクションが削除されてもよいが、しかしながら、パラメータAは、予測された欠陥640および/または欠陥640が発生することが予測されるプロセスに引き続き関連付けられる可能性があるので、パラメータAの指標は、第2のセクション1820に表示された一組の変数1822に引き続き維持されてもよい。   Moreover, in embodiments, a user or operator may select a particular section of display 1800 that is deleted from display 1800 (eg, section 1840 or section 1860). For example, if the operator analyzes a section displaying the parameter A variable trend information and then determines that the parameter A is not of interest to the operator, the operator displays a variable trend information section corresponding to the parameter A 1800. May be deleted from The section corresponding to parameter A may be deleted; however, parameter A may continue to be associated with the predicted defect 640 and / or the process in which the defect 640 is predicted to occur, so The indicator of A may continue to be maintained in the set of variables 1822 displayed in the second section 1820.

図20は、オペレータまたはユーザが、予測された欠陥604に対して寄与する可能性がある候補因子を容易に分析し、相関させることを可能にすることができる、他の例示的な機能を表す。図20によって示される事例では、オペレータは、点1872、1875および1878によってそれぞれセクション1802、1840、1860上に表される特定の時間事例を選択している。オペレータは、例えば、点1872を選択することによって、点1872上にマウスオーバすることによって、またはその他の方法で点1872を示すことによって、点1872を示した。点1872のオペレータ指標に応答して、ウィンドウ1880(例えば、ポップアップウィンドウ、ドロップダウンウィンドウ等)が対応するセクション1802内に表示されてもよい。ウィンドウ1880は、プロセス情報、バッチ名、レシピ名、タイムスタンプ、および/または任意の他の所望の詳細情報等、示された点1872に対応するより詳細な情報(例えば、1つ以上の詳細)を提示してもよい。実施形態において、ウィンドウ1880に表示される詳細情報は、図7のプロセス情報フェースプレート730に含まれた情報の少なくとも一部、および/または図11のプロセス情報フェースプレート1112に含まれた情報の少なくとも一部を含んでもよい。   FIG. 20 represents another exemplary function that may allow an operator or user to easily analyze and correlate candidate factors that may contribute to the predicted defect 604. . In the case illustrated by FIG. 20, the operator has selected a specific time case represented on sections 1802, 1840, 1860 by points 1872, 1875 and 1878, respectively. The operator indicated point 1872 by, for example, selecting point 1872, hovering over point 1872, or otherwise showing point 1872. In response to the operator indicator at point 1872, a window 1880 (eg, a pop-up window, a drop-down window, etc.) may be displayed in the corresponding section 1802. Window 1880 provides more detailed information (eg, one or more details) corresponding to the indicated point 1872, such as process information, batch name, recipe name, time stamp, and / or any other desired detail information. May be presented. In an embodiment, the detailed information displayed in the window 1880 includes at least a portion of the information included in the process information faceplate 730 of FIG. 7 and / or at least of the information included in the process information faceplate 1112 of FIG. Some may be included.

類似の様式において、オペレータは、点1875を選択することによって、点1875をマウスオーバすることによって、および/またはその他の方法で点1875を示すことによって、第2のセクション1840内に含まれた点1875を示してもよい。点1875の指標に応答して、ウィンドウ1882(例えば、ポップアップウィンドウ、ドロップダウンウィンドウ等)が対応するセクション1840内に表示されてもよい。ウィンドウ1882は、特定の時間事例の対応する変数の測定された値、特定の時間事例の対応する変数の予測された値、特定の時間事例の対応する変数の標準偏差、および/または任意の他の所望の詳細情報等、示された点1875に対応する変数またはパラメータに対応するより詳細な情報(例えば、1つ以上の詳細)を提示してもよい。   In a similar manner, the operator may include points contained within the second section 1840 by selecting point 1875, hovering over point 1875, and / or otherwise indicating point 1875. 1875 may be indicated. In response to the indicator at point 1875, a window 1882 (eg, a pop-up window, a drop-down window, etc.) may be displayed in the corresponding section 1840. Window 1882 may include a measured value of a corresponding variable for a particular time case, a predicted value of the corresponding variable for a particular time case, a standard deviation of the corresponding variable for a particular time case, and / or any other More detailed information (eg, one or more details) corresponding to the variable or parameter corresponding to the indicated point 1875 may be presented, such as desired detailed information.

実施形態において、詳細情報1880、1882を表示する代わりに、オペレータがそれぞれ特定の点1872、1875を明確または明示的に示す時、同じ特定の時間事例に対応する関係点の明示的指標に応答して、詳細情報が表示されてもよい。例えば、オペレータは、点1875を明確または明示的に選択してもよく、点1875の明示的選択時に、点1872に対応するウィンドウ1880が、表示1800上に自動的に提示されてもよい。   In an embodiment, instead of displaying detailed information 1880, 1882, when the operator clearly or explicitly indicates a particular point 1872, 1875, respectively, it responds to an explicit indicator of the relevant point corresponding to the same particular time case. Detailed information may be displayed. For example, the operator may select point 1875 clearly or explicitly, and a window 1880 corresponding to point 1872 may be automatically presented on display 1800 upon explicit selection of point 1875.

図15、図16A〜16F、図17A〜17Bおよび図21は、図1および/または図4の例示的なOMS102、例示的なコントローラ108、例示的なユーザインターフェース136、例示的なバッチデータ受信器402、例示的な解析プロセッサ114、例示的な解析プロセスモデラ408、例示的な評価プロセスモデラ410、例示的なプロセスモデル生成器412、例示的な表示マネージャ420、例示的なセッションコントローラ422、例示的なオンラインデータプロセッサ116、例示的なウェブアクセスサーバ428、および/または例示的なプラント内アクセスサーバ424を実装するために実行されてもよい、例示的な方法の流れ図である。図15、図16A〜16F、図17A〜17Bおよび/または図21の例示的な方法は、プロセッサ、コントローラ、および/または任意の他の適切な処理装置によって実行されてもよい。例えば、図15、図16A〜16F、図17A〜17Bおよび/または図21の例示的な方法は、フラッシュメモリ、CD、DVD、フロッピーディスク、ROM、RAM、プログラム可能ROM(PROM),電気的プログラム可能ROM(EPROM)、電気的消去可能PROM(EEPROM)、光学式ストレージディスク、光学式記憶装置、磁気式ストレージディスク、磁気式記憶装置、ならびに/あるいは方法またはデータ構造の形態でプログラムコードおよび/または命令を携帯または記憶するために使用されてもよい、プロセッサ、汎用目的または特殊目的のコンピュータ、またはプロセッサを装備する他の機械によってアクセスすることができる、任意の他の媒体等、任意の有形の非一時的コンピュータ可読記憶媒体上に記憶されたコード命令の中に具現化されてもよい(例えば例示的なプロセッサプラットフォームP10が図18に関連して以下で議論される)。上記の組み合わせもまた有形の非一時的コンピュータ可読記憶媒体の中に含まれる。   FIGS. 15, 16A-16F, FIGS. 17A-17B and FIG. 21 illustrate the exemplary OMS 102, exemplary controller 108, exemplary user interface 136, exemplary batch data receiver of FIGS. 402, exemplary analysis processor 114, exemplary analysis process modeler 408, exemplary evaluation process modeler 410, exemplary process model generator 412, exemplary display manager 420, exemplary session controller 422, exemplary FIG. 6 is a flow diagram of an example method that may be performed to implement an exemplary online data processor 116, an example web access server 428, and / or an example in-plant access server 424. The example methods of FIGS. 15, 16A-16F, FIGS. 17A-17B and / or FIG. 21 may be performed by a processor, controller, and / or any other suitable processing device. For example, the exemplary methods of FIGS. 15, 16A-16F, FIGS. 17A-17B and / or FIG. 21 include flash memory, CD, DVD, floppy disk, ROM, RAM, programmable ROM (PROM), electrical program Program code and / or in the form of a readable ROM (EPROM), an electrically erasable PROM (EEPROM), an optical storage disk, an optical storage device, a magnetic storage disk, a magnetic storage device, and / or a method or data structure Any tangible, such as a processor, a general purpose or special purpose computer, or any other medium accessible to the processor that may be used to carry or store instructions Recorded on non-transitory computer-readable storage medium Which may be embodied in a code instructions (e.g. example processor platform P10 is discussed below in connection with FIG. 18). Combinations of the above are also included within the tangible non-transitory computer readable storage medium.

方法は、例えば、プロセッサ、汎用コンピュータ、専用コンピュータ、または専用処理機械に1つ以上の特定の方法を実装させる、命令および/またはデータを含む。代替として、図15、図16A〜16F、図17A〜17B、および/または図21の例示的な方法のうちのいくつかまたは全ては、ASIC、PLD、FPLD、個別論理、ハードウェア、ファームウェア等の任意の組み合わせを使用して実装されてもよい。   The methods include, for example, instructions and / or data that cause a processor, general purpose computer, special purpose computer, or special purpose processing machine to implement one or more specific methods. Alternatively, some or all of the exemplary methods of FIGS. 15, 16A-16F, 17A-17B, and / or FIG. 21 may include ASIC, PLD, FPLD, discrete logic, hardware, firmware, etc. It may be implemented using any combination.

また、図15、図16A〜16F、図17A〜17B、および/または図21の例示的な方法のうちのいくつかまたは全ては、その代わりに、手動動作を使用して、前述の技術のいずれかの任意の組み合わせ、例えば、ファームウェア、ソフトウェア、個別論理および/またはハードウェアの任意の組み合わせとして、実装されてもよい。その上、図15、図16A〜16F、図17A〜17B、および/または図21の例示的な動作を実装する多数の他の方法が採用されてもよい。例えば、ブロックの実行の順序が変更されてもよく、および/または説明されたブロックのうちの1つ以上が変更、排除、細分化、または組み合わされてもよい。さらに、図15、図16A〜16F、図17A〜17B、および/または図21の例示的な方法のうちのいずれかまたは全ては、例えば、個別処理スレッド、プロセッサ、デバイス、個別論理、回路等によって順次に実行および/または並列に実行されてもよい。   Also, some or all of the exemplary methods of FIGS. 15, 16A-16F, 17A-17B, and / or FIG. 21 may instead use any of the techniques described above, using manual operation. Any combination of these may be implemented, for example, any combination of firmware, software, discrete logic and / or hardware. Moreover, numerous other ways of implementing the exemplary operations of FIGS. 15, 16A-16F, 17A-17B, and / or 21 may be employed. For example, the order of execution of the blocks may be changed and / or one or more of the described blocks may be changed, eliminated, subdivided, or combined. Further, any or all of the exemplary methods of FIGS. 15, 16A-16F, FIGS. 17A-17B, and / or FIG. 21 may be performed by, for example, individual processing threads, processors, devices, individual logic, circuits, etc. It may be executed sequentially and / or in parallel.

図15の例示的な方法1500は、プロセス制御システムの特徴に基づいて、測定された変数、計算された変数、および/または全体品質変数の間の関係をモデル化する。複数の例示的な方法1500は、プロセス制御システムの一部をモデル化するために、および/または他のプロセス制御システムをモデル化するために、並列にまたは順次に実行されてもよい。   The example method 1500 of FIG. 15 models the relationship between measured variables, calculated variables, and / or overall quality variables based on features of the process control system. The plurality of exemplary methods 1500 may be performed in parallel or sequentially to model a portion of a process control system and / or to model other process control systems.

図15の例示的な方法1500は、プロセス制御システム内のフィールドデバイスを識別することによって開始する(ブロック1502)。例示的な方法1500は、識別シリアル番号、プロセス制御識別番号、および/または任意の他の識別方法によって、フィールドデバイスを識別することができる。例示的な方法1500は、次いで、フィールドデバイスに対する入力を識別する(ブロック1504)。次に、例示的な方法1500は、フィールドデバイスからの出力を識別し、各出力に関連付けられる測定プロセスおよび/または品質変数を識別する(ブロック1506)。   The example method 1500 of FIG. 15 begins by identifying a field device in the process control system (block 1502). The example method 1500 can identify a field device by an identification serial number, a process control identification number, and / or any other identification method. The example method 1500 then identifies input to the field device (block 1504). Next, the example method 1500 identifies outputs from field devices and identifies measurement processes and / or quality variables associated with each output (block 1506).

例示的な方法1500は、測定されたプロセス変数および/または品質変数から計算された品質変数を判定することによって継続する(ブロック1508)。例示的な方法1500は、次いで、測定された変数および/または計算された変数に基づいて、プロセスの全体品質変数を判定する(ブロック1510)。次に、例示的な方法1500は、測定された変数、計算された変数、および/または全体品質変数の間の関係(例えば、寄与関係)を計算する(ブロック1512)。関係は、任意の多変量解析、統計分析、代数解析、プロセス制御履歴分析、および/または最適化方法を使用して、図4のプロセスモデル生成器412によって判定および/またはモデル化されてもよい。   The example method 1500 continues by determining a quality variable calculated from the measured process variables and / or quality variables (block 1508). The example method 1500 then determines an overall quality variable for the process based on the measured and / or calculated variables (block 1510). The example method 1500 then calculates a relationship (eg, a contribution relationship) between the measured variable, the calculated variable, and / or the overall quality variable (block 1512). The relationship may be determined and / or modeled by the process model generator 412 of FIG. 4 using any multivariate analysis, statistical analysis, algebra analysis, process control history analysis, and / or optimization method. .

図15の例示的な方法1500は、次いで、変数の各々の閾値を判定する(ブロック1514)。例示的な方法1500は、測定された変数から計算された変数および/または全体品質変数を判定するために、図4のプロセスモデル生成器412を参照して検討した任意の多変量解析、統計分析、代数解析、過去のプロセス分析、および/または最適化方法および/または計算を使用してもよい。さらに、例示的な方法1500は、変数と変数の各々の閾値との間の関係を判定するために、図4のプロセスモデル生成器412を参照して検討した任意の多変量解析、統計分析、代数解析、過去のプロセス分析、および/または最適化方法および/または計算を使用してもよい。閾値を判定後、例示的な方法1500は、変数、変数各々の値の発生源(例えば、フィールドデバイス)、変数間の関係、および/または変数各々の閾値を図4のプロセスモデルデータベース414に記憶する(ブロック1516)。さらに、例示的な方法1500は、プロセス制御システムからの予測モデルを判定し、予測モデルをデータベース414に記憶する。プロセス制御変数、閾値、および/または関係を記憶すると、例示的な方法1500は終了する。   The example method 1500 of FIG. 15 then determines a threshold value for each of the variables (block 1514). The example method 1500 may be any multivariate, statistical analysis discussed with reference to the process model generator 412 of FIG. 4 to determine variables calculated from measured variables and / or overall quality variables. Algebraic analysis, historical process analysis, and / or optimization methods and / or calculations may be used. Further, the exemplary method 1500 may include any multivariate analysis, statistical analysis, discussed with reference to the process model generator 412 of FIG. 4 to determine the relationship between the variables and their respective thresholds. Algebraic analysis, historical process analysis, and / or optimization methods and / or calculations may be used. After determining the thresholds, the exemplary method 1500 stores the variables, sources of values for each variable (eg, field devices), relationships between the variables, and / or threshold values for each variable in the process model database 414 of FIG. (Block 1516). Further, the example method 1500 determines a prediction model from the process control system and stores the prediction model in the database 414. Once the process control variables, thresholds, and / or relationships are stored, exemplary method 1500 ends.

図16A〜16Fの例示的な方法1600は、プロセス制御グラフおよび/またはチャート(例えば、図5〜14Bのグラフおよび/またはチャート502〜514)の間のナビゲーションを生成および/または管理する。複数の例示的な方法1600は、チャートおよび/またはグラフを生成および/またはナビゲーションするために、並列または順次に実行されてもよい。さらに、複数の例示的な方法1600は、プロセス制御オペレータによって開始された各セッションに実装されてもよい。例示的な方法1600は、プロセス制御オペレータがセッションを開き、プロセス制御環境、プラント、および/またはプロセス制御システムを選択する時に開始する。加えて、例示的な方法1600は、概要チャート(例えば、図6の概要チャート502)を表示することから開始してもよい。   The example method 1600 of FIGS. 16A-16F generates and / or manages navigation between process control graphs and / or charts (eg, the graphs and / or charts 502-514 of FIGS. 5-14B). The example methods 1600 may be performed in parallel or sequentially to generate and / or navigate charts and / or graphs. Further, multiple example methods 1600 may be implemented for each session initiated by a process control operator. The example method 1600 begins when a process control operator opens a session and selects a process control environment, plant, and / or process control system. In addition, the example method 1600 may begin by displaying a summary chart (eg, the summary chart 502 of FIG. 6).

図16Aの例示的な方法1600は、コントローラ(例えば、図1のコントローラ108)からプロセス制御情報を受信することによって開始する(ブロック1602)。さらに、例示的な方法1600は、同じバッチおよび/またはプロセスに関連付けられる、以前に受信されたプロセス制御情報から、受信されたプロセス制御情報を蓄積してもよい。次に、例示的な方法1600は、受信されたプロセス制御情報から、測定された値に関連付けられる値を判定する(ブロック1604)。例示的な方法1600は、次いで、測定された変数に関連付けられる値から計算された変数および/または全体品質変数に関連付けられる値を計算する(ブロック1606)。例示的な方法1600は、変数に関連付けられる値をバッチデータデータベース416に記憶する(ブロック1608)。値は、値がフィールドデバイスによって生成された時刻(例えば、タイムスタンプを使用する)に基づいて、バッチ番号別、および/またはバッチ内の段階別に記憶されてもよい。   The example method 1600 of FIG. 16A begins by receiving process control information from a controller (eg, the controller 108 of FIG. 1) (block 1602). Further, the example method 1600 may accumulate received process control information from previously received process control information associated with the same batch and / or process. The example method 1600 then determines a value associated with the measured value from the received process control information (block 1604). The example method 1600 then calculates a value that is calculated from a value associated with the measured variable and / or a value that is associated with the overall quality variable (block 1606). The example method 1600 stores values associated with the variables in the batch data database 416 (block 1608). The value may be stored by batch number and / or by stage within the batch based on the time when the value was generated by the field device (eg, using a timestamp).

例示的な方法1600は、変数に関連付けられる値のうちいずれかが、それぞれの閾値を超えるか判定することによって継続する(ブロック1610)。1つ以上の値がそれぞれの閾値を超える場合、例示的な方法1600は、それぞれの閾値を超えている1つ以上の値に対応するプロセス制御欠陥を示す(ブロック1612)。例示的な方法1600は、次いで、グラフの選択が受信されているか判定する(ブロック1614)。グラフの選択は、プロセス制御オペレータによって行われてもよい。さらに、1つ以上の値がそれぞれの閾値を超えない場合(ブロック1610)、例示的な方法1610は、グラフの選択が受信されているか判定する(ブロック1614)。   The example method 1600 continues by determining whether any of the values associated with the variable exceed a respective threshold (block 1610). If the one or more values exceed the respective thresholds, the example method 1600 indicates a process control defect corresponding to the one or more values exceeding the respective thresholds (block 1612). The example method 1600 then determines whether a graph selection has been received (block 1614). The selection of the graph may be performed by a process control operator. Further, if one or more values do not exceed their respective thresholds (block 1610), the example method 1610 determines whether a graph selection has been received (block 1614).

グラフの選択が受信されていない場合、例示的な方法1600は、継続して、プロセス制御情報を受信する(ブロック1602)。しかしながら、グラフの選択が受信されている場合、例示的な方法1600は、選択されたグラフの種類(例えば、マイクロチャート、スパークライン、寄与グラフ、変数傾向グラフ、プロセス変動グラフ、および/または品質予測グラフ)を判定する(ブロック1614)。さらに、例示的な方法1600は、プロセス制御情報の受信を継続し、および/またはオペレータがグラフを選択し、視認する時に受信された変数値をバッチデータ内に含めてもよい。   If a graph selection has not been received, the example method 1600 continues to receive process control information (block 1602). However, if a graph selection is received, the example method 1600 may select a selected graph type (eg, microchart, sparkline, contribution graph, variable trend graph, process variation graph, and / or quality prediction). Graph) is determined (block 1614). Further, the example method 1600 may continue to receive process control information and / or include in the batch data the variable values received when the operator selects and views the graph.

例示的な方法1600は、プロセス変動グラフの選択が受信された場合、図16B上に続く。例示的な方法1600は、選択された変数に関連付けられる説明された変動および/または説明されない変動を含む、プロセス変動グラフの表示を生成する(ブロック1616)。選択された変数は、全体品質変数、測定された変数、および/または計算された変数を含み、例示的な方法1600によって検出された欠陥に対応してもよい。代替として、プロセス変動グラフは、選択された変数に関連付けられる、値の履歴および対応する閾値を含んでもよい。例示的な方法1600は、次いで、選択された時間の説明された変動および/または説明されない変動に対する値、ならびに/あるいは最新の受信されたプロセス制御情報を表示する(ブロック1618)。例えば、オペレータが概要チャートから、ある欠陥を選択する場合、例示的な方法1600は、欠陥が検出された時刻に関連付けられる説明された変動値および/説明されない変動値を表示してもよい。   The example method 1600 continues on FIG. 16B when a process variation graph selection is received. The example method 1600 generates a display of a process variation graph that includes explained and / or unexplained variations associated with the selected variable (block 1616). Selected variables may include overall quality variables, measured variables, and / or calculated variables, and may correspond to defects detected by exemplary method 1600. Alternatively, the process variation graph may include a history of values and corresponding threshold values associated with the selected variable. The example method 1600 then displays the values for the explained and / or unexplained variations of the selected time and / or the latest received process control information (block 1618). For example, if the operator selects a defect from the overview chart, the exemplary method 1600 may display the explained variation value and / or the unexplained variation value associated with the time the defect was detected.

例示的な方法1600は、次いで、プロセス変動グラフ上の時刻の選択が受信されたか判定する(ブロック1620)。時刻の選択は、オペレータが、あるプロセス時刻に対応する、変動プロット上の1点を選択することに対応してもよい。例示的な方法1600が時刻の選択を受信した場合、例示的な方法1600は、選択された時刻に関連付けられる、説明されない変動値および/または説明された変動値を表示する(ブロック1622)。次いで、例示的な方法1600は、変動に対する変数寄与を視認するために選択が受信されているか判定する(ブロック1624)。また、プロセス変動グラフ上の時刻の選択が受信されなかった場合(ブロック1620)、例示的な方法1600は、変動に対する変数寄与を視認するために選択が受信されたか判定する(ブロック1624)。   The example method 1600 then determines whether a time selection on the process variation graph has been received (block 1620). The selection of the time may correspond to the operator selecting one point on the variation plot that corresponds to a certain process time. If example method 1600 receives a time selection, example method 1600 displays unexplained variation values and / or explained variation values associated with the selected time (block 1622). The example method 1600 then determines if a selection has been received to view the variable contribution to the variation (block 1624). Also, if a time selection on the process variation graph has not been received (block 1620), the example method 1600 determines if a selection has been received to view the variable contribution to the variation (block 1624).

変動に対する変数寄与を視認するための選択が受信されなかった場合、例示的な方法1600は、オペレータがバッチデータの分析を継続することを意図するか判定してもよい(ブロック1626)。例えば、オペレータは、プロセス変動グラフを視認後、プロセスは許容されると判定する場合があり、概要チャートの表示に戻ることを望む場合がある。オペレータがバッチ分析を継続することを意図する場合、例示的な方法1600は、プロセス概要チャートを表示し、プロセス制御情報を継続して受信してもよい(ブロック1602)。オペレータがバッチ分析の継続を意図しない場合(ブロック1626)、オペレータはプロセスを終了してもよく、例示的な方法1600は終了する。   If no selection is received to view the variable contribution to the variation, the example method 1600 may determine whether the operator intends to continue analyzing the batch data (block 1626). For example, after viewing the process variation graph, the operator may determine that the process is acceptable and may wish to return to the overview chart display. If the operator intends to continue batch analysis, the example method 1600 may display a process summary chart and continue to receive process control information (block 1602). If the operator does not intend to continue the batch analysis (block 1626), the operator may end the process and the example method 1600 ends.

しかしながら、変動に対する変数寄与を視認するために選択が受信された場合(ブロック1624)かつマイクロチャートで視認されるように寄与が選択された場合、例示的な方法1600は、図16Cで、測定プロセスおよび/または品質変数を含むマイクロチャートの表示を生成することによって、継続する(ブロック1628)。マイクロチャートはまた、計算された品質変数も表示してもよい。さらに、マイクロチャートは、マイクロチャートの選択を受信すると、例示的な方法1600によって表示されてもよい(ブロック1614)。例示的な方法1600は、オペレータによる時刻の選択に基づいて、マイクロチャート内の変数値を表示する(ブロック1630)。例えば、時間の選択は、オペレータが概要チャート内でプロセス欠陥を選択する場合はプロセス欠陥に関連付けられる時刻であってもよく、および/またはプロセス変動グラフ内の説明されない変動および/または説明された変動を視認するために選択された時間であってもよい。マイクロチャートを表示時、例示的な方法1600は、別の時刻の選択が受信されているか判定する(ブロック1632)。時刻の選択は、矢印をタイムラインに沿ってプロセスの所望の時刻までスライドすることによって、マイクロチャート内で行われてもよい。代替として、時刻の選択は、マイクロチャート内の変数に関連付けられるスパークライン上の1点を選択することによって行われてもよい。   However, if a selection is received to view the variable contribution to the variation (block 1624) and the contribution is selected to be viewed in the microchart, the example method 1600 is shown in FIG. Continue by generating a microchart display that includes and / or quality variables (block 1628). The microchart may also display calculated quality variables. Further, the microchart may be displayed by the example method 1600 upon receiving a microchart selection (block 1614). The example method 1600 displays variable values in the microchart based on a time selection by an operator (block 1630). For example, the time selection may be the time associated with the process defect if the operator selects the process defect in the overview chart, and / or unexplained variation and / or explained variation in the process variation graph It may be the time selected for visually recognizing. When displaying the microchart, the example method 1600 determines if another time selection has been received (block 1632). Time selection may be done in the microchart by sliding the arrow along the timeline to the desired time of the process. Alternatively, the time selection may be made by selecting a point on the sparkline associated with a variable in the microchart.

例示的な方法が時刻の選択を受信すると、例示的な方法1600は、マイクロチャート内に表示された変数の各々に対して選択された時刻に対応する、バッチデータデータベース416からの値にアクセスする(ブロック1634)。代替として、値は生成されたマイクロチャート内に既に含まれていてもよい。値がマイクロチャート内に既に含まれている場合(例えば、フラッシュプラグインアプリケーション)、例示的な方法1600は、マイクロチャートの表示を更新して、選択された時刻に関連付けられる値を示す。   When the exemplary method receives a time selection, the exemplary method 1600 accesses values from the batch data database 416 corresponding to the selected time for each of the variables displayed in the microchart. (Block 1634). Alternatively, the value may already be included in the generated microchart. If the value is already included in the microchart (eg, a flash plug-in application), the example method 1600 updates the display of the microchart to show the value associated with the selected time.

例示的な方法1600は、次いで、表示された変数の各々に関連付けられるバーチャートおよび/またはスパークライン内に値を表示する(ブロック1636)。次に、例示的な方法1600は、変数のうちの少なくとも1つのスパークラインに関連付けられる選択が受信されているか判定する(ブロック1638)。さらに、例示的な方法1600が時刻の選択を受信しない場合(ブロック1632)、例示的な方法1600は、変数のうちの少なくとも1つのスパークラインに関連付けられる選択が受信されているか判定する(ブロック1638)。   The example method 1600 then displays the values in a bar chart and / or sparkline associated with each of the displayed variables (block 1636). Next, the example method 1600 determines if a selection associated with at least one of the variables is received (block 1638). Further, if example method 1600 does not receive a time selection (block 1632), example method 1600 determines whether a selection associated with at least one of the sparklines of the variable has been received (block 1638). ).

例示的な方法1600がスパークライン内の変数の選択を受信する場合、図16Dの例示的な方法1600は、選択された変数の選択されたスパークラインの詳細表示を生成する(ブロック1646)。例示的な方法1600はまた、オペレータからグラフの選択を受信することによって、スパークラインを生成してもよい(ブロック1614)。スパークラインは、バッチの開始点からの時刻で開始し、最新のバッチデータに関連付けられる時刻で終了してもよい。代替として、スパークラインは、オペレータによって指定された期間を示してもよい(例えば、段階、動作、欠陥の発生前後の指定された時刻等)。例示的な方法1600は、次いで、関連閾値を超える可能性があるスパークライン内の任意の値の任意の偏差および/または欠陥を示してもよい(ブロック1648)。   If the example method 1600 receives a selection of a variable in the sparkline, the example method 1600 of FIG. 16D generates a detailed display of the selected sparkline for the selected variable (block 1646). The example method 1600 may also generate a sparkline by receiving a graph selection from an operator (block 1614). The sparkline may start at the time from the start of the batch and end at the time associated with the latest batch data. Alternatively, the sparkline may indicate a period specified by the operator (eg, stage, action, specified times before and after the occurrence of a defect, etc.). The example method 1600 may then indicate any deviations and / or defects in any value in the sparkline that may exceed an associated threshold (block 1648).

次に、例示的な方法1600は、表示されたスパークライン上の点の選択が受信されているか判定する(ブロック1650)。点が選択されていない場合、例示的な方法1600は、オペレータがバッチデータの分析を継続する意図があるか判定してもよい(ブロック1652)。オペレータがバッチ分析を継続することを意図する場合、例示的な方法1600は、プロセス概要チャートを表示して、プロセス制御情報を継続して受信してもよい(ブロック1602)。オペレータがバッチ分析の継続を意図しない場合(ブロック1652)、オペレータはプロセスを終了することができ、例示的な方法1600は終了する。しかしながら、図16Dの例示的な方法1600がスパークライン上の1点の選択を受信した場合(ブロック1650)、例示的な方法1600は、オペレータによって選択されたスパークライン上の時刻に関連付けられる変数値を含むマイクロチャートを表示することに戻ってもよい(ブロック1654、1628および1630)。   Next, the example method 1600 determines if a selection of points on the displayed sparkline has been received (block 1650). If a point has not been selected, the example method 1600 may determine whether the operator intends to continue analyzing the batch data (block 1652). If the operator intends to continue batch analysis, the example method 1600 may display a process summary chart and continue to receive process control information (block 1602). If the operator does not intend to continue the batch analysis (block 1652), the operator can end the process and the example method 1600 ends. However, if the example method 1600 of FIG. 16D receives a selection of a point on the sparkline (block 1650), the example method 1600 may use a variable value associated with the time on the sparkline selected by the operator. May return to displaying a microchart containing (blocks 1654, 1628 and 1630).

図16Cの例示的な方法1600がスパークラインの選択を受信しない場合(ブロック1638)、例示的な方法1600は、マイクロチャートのバーチャート内に表示された変数の選択が受信されているか判定する(ブロック1640)。図16Dの例示的な方法1600は、バーチャート内に表示された変数の選択が受信されている場合、選択された変数に関連付けられる以前のバッチデータから平均および/または標準偏差を判定することによって、継続する(ブロック1656)。例示的な方法1600は、次いで、以前のバッチデータから判定された平均および/または標準偏差を含む、選択された変数の変数傾向グラフの表示を生成する(ブロック1658)。例示的な方法1600はまた、オペレータから変数傾向グラフの選択を受信することによって、変数傾向グラフを生成することができる(ブロック1614)。次に、例示的な方法1600は、品質予測グラフを視認するために選択が受信されているか判定する(ブロック1660)。   If the example method 1600 of FIG. 16C does not receive a sparkline selection (block 1638), the example method 1600 determines whether a selection of a variable displayed in the microchart bar chart has been received (see FIG. 16C). Block 1640). The example method 1600 of FIG. 16D determines a mean and / or standard deviation from previous batch data associated with a selected variable when a selection of the variable displayed in the bar chart is received. Continue (block 1656). The example method 1600 then generates a display of a variable trend graph for the selected variable that includes the mean and / or standard deviation determined from previous batch data (block 1658). The example method 1600 may also generate a variable trend graph by receiving a variable trend graph selection from an operator (block 1614). Next, the example method 1600 determines if a selection has been received to view the quality prediction graph (block 1660).

品質予測グラフが選択されていない場合、例示的な方法1600は、オペレータがバッチデータの解析を継続する意図があるか判定してもよい(ブロック1652)。オペレータがバッチ分析を継続することを意図する場合、例示的な方法1600は、プロセス概要チャートを表示して、プロセス制御情報を継続して受信してもよい(ブロック1602)。オペレータがバッチ分析の継続を意図しない場合(ブロック1652)、オペレータはプロセスを終了する場合があり、例示的な方法1600は終了する。   If the quality prediction graph has not been selected, the example method 1600 may determine whether the operator intends to continue analyzing the batch data (block 1652). If the operator intends to continue batch analysis, the example method 1600 may display a process summary chart and continue to receive process control information (block 1602). If the operator does not intend to continue batch analysis (block 1652), the operator may end the process and the example method 1600 ends.

しかしながら、品質予測グラフが選択された場合(ブロック1660)、例示的な方法1600は、図16Fに継続する。品質予測グラフはまた、図16Aにおいて、オペレータによって選択される場合もある(ブロック1614)。さらに、例示的な方法1600が、バーチャート内の変数の選択を受信しない(ブロック1640)が、図16Cで品質予測グラフを視認するための選択を受信する(ブロック1642)場合、例示的な方法1600は、図16Fに継続する。   However, if a quality prediction graph is selected (block 1660), the example method 1600 continues to FIG. 16F. The quality prediction graph may also be selected by the operator in FIG. 16A (block 1614). Further, if exemplary method 1600 does not receive a selection of a variable in the bar chart (block 1640), but receives a selection to view the quality prediction graph in FIG. 16C (block 1642), the exemplary method 1600 continues to FIG. 16F.

代替として、図16Bの例示的な方法1600が品質予測グラフを視認するように選択を受信しない場合(ブロック1642)、例示的な方法1600は、オペレータがバッチデータの分析を継続する意図があると判定してもよい(ブロック1644)。オペレータがバッチ分析を継続することを意図する場合、例示的な方法1600は、プロセス概要チャートを表示し、プロセス制御情報を継続して受信してもよい(ブロック1602)。オペレータがバッチ分析の継続を意図しない場合(ブロック1644)、オペレータはプロセスを終了する場合があり、例示的な方法1600は終了する。   Alternatively, if the example method 1600 of FIG. 16B does not receive a selection to view the quality prediction graph (block 1642), the example method 1600 may indicate that the operator intends to continue analyzing the batch data. A determination may be made (block 1644). If the operator intends to continue batch analysis, the example method 1600 may display a process summary chart and continue to receive process control information (block 1602). If the operator does not intend to continue batch analysis (block 1644), the operator may end the process and the example method 1600 ends.

しかしながら、変動に対する変数寄与を視認するように選択が受信されなかった場合、かつ寄与グラフで視認するように寄与が選択された場合(ブロック1624)、図16Eの例示的な方法1600は、選択された期間の欠陥に関連付けられる変数の説明されない変動および/または説明された変動を計算することによって、継続する(ブロック1662)。説明された変動はT2統計を使用して計算されてもよく、説明されない変動はQ統計を使用して計算されてもよい。選択された期間は、オペレータによって選択された、プロセス変動グラフおよび/または概要チャート上の時刻に対応することができる。例示的な方法1600は、次いで、関連変数の各々の説明された変動および/または説明されない変動の寄与を含む、寄与グラフの表示を生成する(ブロック1664)。代替として、寄与グラフは、プロセス欠陥に寄与している変数に関連付けられる値、値各々の平均値、および/または値の各々の標準偏差を表示してもよい。   However, if the selection is not received to view the variable contribution to the variation and the contribution is selected to view in the contribution graph (block 1624), the example method 1600 of FIG. 16E is selected. Continue by calculating unexplained and / or explained variability of variables associated with defects over a period of time (block 1662). The explained variation may be calculated using T2 statistics, and the unexplained variation may be calculated using Q statistics. The selected time period may correspond to a time on the process variation graph and / or summary chart selected by the operator. The example method 1600 then generates a representation of a contribution graph that includes contributions of each described and / or unexplained variation of the associated variable (block 1664). Alternatively, the contribution graph may display the value associated with the variable contributing to the process defect, the average value of each value, and / or the standard deviation of each value.

例示的な方法1600は、勧告措置メッセージを決定し、表示することによって継続する(ブロック1666)。勧告措置は、検出された欠陥を是正するために、プロセス制御システムに適用されてもよい是正を含んでもよい。例示的な方法1600は、次いで、寄与チャート内の時刻の選択が受信されているか判定する。時刻のセクションは、現在のプロセス中の時刻に対応する。時刻の選択が受信された場合、新しく選択された期間の欠陥に関連付けられる変数に対して説明された変動および/または説明されない変動が計算される(ブロック1662)。例示的な方法1600が時刻の選択を受信しない場合、例示的な方法1600は、寄与グラフ内の変数の選択が受信されたか判定する(ブロック1670)。変数の選択が受信された場合、例示的な方法は、選択された変数に対して変数傾向グラフを生成する(図16Dのブロック1656および1658)。   The example method 1600 continues by determining and displaying a recommendation action message (block 1666). The recommended action may include a correction that may be applied to the process control system to correct the detected defect. The example method 1600 then determines whether a time selection in the contribution chart has been received. The time section corresponds to the time in the current process. If a time selection is received, the explained variation and / or unexplained variation for the variable associated with the defect in the newly selected period is calculated (block 1662). If the example method 1600 does not receive a time selection, the example method 1600 determines if a selection of a variable in the contribution graph has been received (block 1670). If a variable selection is received, the exemplary method generates a variable trend graph for the selected variable (blocks 1656 and 1658 in FIG. 16D).

しかしながら、変数の選択が受信されなかった場合(ブロック1670)、例示的な方法1600は、品質予測グラフを視認するための選択が受信されたか判定する(ブロック1672)。品質予測グラフを視認するための選択が受信された場合、例示的な方法は、図16Fの品質予測グラフを生成する。品質予測グラフが選択されていない場合、例示的な方法1600は、オペレータがバッチデータの解析を継続する意図があるかを判定することができる(ブロック1674)。オペレータがバッチ分析を継続することを意図する場合、例示的な方法1600は、プロセス概要チャートを表示し、プロセス制御情報を継続して受信してもよい(ブロック1602)。オペレータがバッチ分析の継続を意図しない場合(ブロック1674)、オペレータはプロセスを終了する場合があり、例示的な方法1600は終了する。   However, if a selection of variables has not been received (block 1670), the example method 1600 determines if a selection has been received for viewing the quality prediction graph (block 1672). If a selection for viewing the quality prediction graph is received, the exemplary method generates the quality prediction graph of FIG. 16F. If a quality prediction graph has not been selected, the example method 1600 may determine whether the operator intends to continue analyzing the batch data (block 1684). If the operator intends to continue batch analysis, the example method 1600 may display a process summary chart and continue to receive process control information (block 1602). If the operator does not intend to continue batch analysis (block 1674), the operator may end the process and the example method 1600 ends.

例示的な方法1600が品質予測グラフを受信する場合(ブロック1614、1642、1660、1672)、例示的な方法は、プロセス欠陥に対する是正の選択を受信することによって、図16Fに継続する。プロセス制御オペレータは、有効な是正のリストから是正を選択することによって、または是正を例示的な方法1600に入力することによって、プロセス欠陥に対する是正を選択することができる。代替として、例示的な方法1600は、図1および4の例示的なOMS102によって生成された是正モデルから、プロセス欠陥に対する是正を決定してもよい。   If exemplary method 1600 receives a quality prediction graph (blocks 1614, 1642, 1660, 1672), the exemplary method continues to FIG. 16F by receiving a correction selection for a process defect. The process control operator can select a correction for the process defect by selecting a correction from the list of valid corrections or by entering the correction into the example method 1600. Alternatively, the example method 1600 may determine corrections for process defects from the correction models generated by the example OMS 102 of FIGS.

例示的な方法1600は、選択された是正をプロセスに適用した際のプロセス品質を予測することによって、継続する(ブロック1678)。例示的な方法1600は、任意の多変量解析、統計分析、代数解析、プロセス制御履歴データ分析、および/または最適化方法を使用する図4のプロセスモデル生成器412によって判定された任意のモデルおよび/または関係を使用してプロセス品質を予測してもよい。予測されたプロセス品質は、全体品質変数、計算された品質変動および/または測定された変数に対応してもよい。さらに、例示的な方法1600は、例示的なOMS102によって生成された予測プロセスモデルに基づいて、プロセス品質を予測してもよい。次に、例示的な方法1600は、予測された品質の信頼限界(例えば、範囲)を計算する(ブロック1680)。例示的な方法1600は次いで、予測されたプロセス品質および対応する信頼限界を含む品質予測グラフを表示する(ブロック1682)。   The example method 1600 continues by predicting process quality when the selected remediation is applied to the process (block 1678). The example method 1600 includes any model determined by the process model generator 412 of FIG. 4 using any multivariate analysis, statistical analysis, algebra analysis, process control history data analysis, and / or optimization method and Process quality may be predicted using / or relationships. The predicted process quality may correspond to an overall quality variable, a calculated quality variation and / or a measured variable. Further, the example method 1600 may predict process quality based on a prediction process model generated by the example OMS 102. Next, the example method 1600 calculates confidence limits (eg, ranges) for the predicted quality (block 1680). The example method 1600 then displays a quality prediction graph that includes the predicted process quality and corresponding confidence limits (block 1682).

例示的な方法1600は、次いで、是正が対応するプロセス制御システム内で実装されるか判定する(ブロック1684)。是正が実装される場合、例示的な方法1600は、OMS102および/またはコントローラ108を介して、是正をプロセスへ伝送する(ブロック1686)。是正を伝送することによって、プロセス制御システムは、是正に関連付けられるフィールドデバイスの動作特徴を変更するために、是正に関連付けられる命令を受信してもよい。例示的な方法1600は、次いで、バッチ分析を継続するか判定する(ブロック1688)。さらに、是正が実装されない場合(ブロック1684)、例示的な方法1600は、バッチ分析が継続するか判定する(ブロック1688)。オペレータがバッチ分析を継続することを意図する場合、例示的な方法1600は、プロセス概要チャートを表示し、プロセス制御情報を継続して受信してもよい(ブロック1602)。オペレータがバッチ分析の継続を意図しない場合(ブロック1688)、オペレータはプロセスを中止する場合があり、例示的な方法1600は終了する。   The example method 1600 then determines if the remediation is implemented in the corresponding process control system (block 1684). If the correction is implemented, the example method 1600 transmits the correction to the process via the OMS 102 and / or the controller 108 (block 1686). By transmitting the correction, the process control system may receive instructions associated with the correction to change the operational characteristics of the field device associated with the correction. The example method 1600 then determines whether to continue batch analysis (block 1688). Further, if remediation is not implemented (block 1684), the example method 1600 determines whether batch analysis continues (block 1688). If the operator intends to continue batch analysis, the example method 1600 may display a process summary chart and continue to receive process control information (block 1602). If the operator does not intend to continue batch analysis (block 1688), the operator may abort the process and the example method 1600 ends.

図17A〜17Bの例示的な方法1700は、検出されたプロセス欠陥に対する是正措置を判定する。例示的な方法1700は、図5の例示的な図500を実装するために使用されてもよい。複数の例示的な方法1700は、共通のプロセスからの複数のプロセス欠陥を是正するために並列または順次に実行されてもよい。さらに、複数の例示的な方法1700は、異なるプロセスによって検出された欠陥に対して実装されてもよい。例示的な方法1700は、プロセス制御オペレータが、ユーザインターフェース(例えば、図1のユーザインターフェース136)を表示する機能を含むワークステーションにログインすると開始する。   The example method 1700 of FIGS. 17A-17B determines corrective actions for detected process defects. The example method 1700 may be used to implement the example diagram 500 of FIG. Multiple example methods 1700 may be performed in parallel or sequentially to correct multiple process defects from a common process. Further, the plurality of exemplary methods 1700 may be implemented for defects detected by different processes. The example method 1700 begins when a process control operator logs into a workstation that includes a function for displaying a user interface (eg, the user interface 136 of FIG. 1).

図17Aの例示的な方法1700は、プロセス制御オペレータによるセッションの開始を受信することによって開始する(ブロック1702)。例示的な方法1700は、次いで、ユーザインターフェースを表示し、オペレータにプロセス環境を選択するように問い合わせる(ブロック1704)。例示的な方法1700は、オペレータからプロセス環境の選択を受信する(ブロック1706)。代替として、オペレータは、プラント、プロセス制御システム、および/または複数のプロセス制御システムを選択してもよい。次に、例示的な方法1700は、選択されたプロセス環境に関連付けられる概要チャートを生成および/または表示する(ブロック1708)。例示的な方法1700は次いで、選択されたプロセス制御システム、環境、および/またはプラントから、測定された変数値を受信し、処理する(ブロック1710)。   The example method 1700 of FIG. 17A begins by receiving a session start by a process control operator (block 1702). The example method 1700 then displays a user interface and queries the operator to select a process environment (block 1704). The example method 1700 receives a process environment selection from an operator (block 1706). Alternatively, the operator may select a plant, process control system, and / or multiple process control systems. The example method 1700 then generates and / or displays a summary chart associated with the selected process environment (block 1708). The example method 1700 then receives and processes measured variable values from the selected process control system, environment, and / or plant (block 1710).

例示的な方法1700は、プロセス欠陥の検出があるか判定することによって継続する(ブロック1712)。プロセス欠陥は、閾値を超えている変数、変数が閾値を超えるという予測、および/または閾値を超えているプロセスの品質の結果であってもよい。例示的な方法1700が、欠陥が検出されたと判定する場合、例示的な方法は、プロセス制御システムから測定された変数値を受信するように継続する(ブロック1710)。しかしながら、例示的な方法1700がプロセス欠陥を検出する場合、例示的な方法1700は、概要チャート内に検出された欠陥を示す(ブロック1714)。さらに、例示的な方法1700が変数値を分析して欠陥の原因を判定すると同時に、例示的な方法1700は、プロセス変数値を受信および/または処理するように継続してもよい。   The example method 1700 continues by determining if there is a process defect detected (block 1712). A process defect may be a result of a variable that exceeds a threshold, a prediction that the variable exceeds a threshold, and / or a quality of the process that exceeds the threshold. If the example method 1700 determines that a defect has been detected, the example method continues to receive a measured variable value from the process control system (block 1710). However, if the example method 1700 detects a process defect, the example method 1700 indicates the detected defect in the overview chart (block 1714). Further, while the example method 1700 analyzes the variable value to determine the cause of the defect, the example method 1700 may continue to receive and / or process the process variable value.

次に、例示的な方法1700は、概要チャート上の欠陥の選択を受信する(ブロック1716)。例示的な方法1700は次いで、検出された欠陥に関連付けられるプロセス変動グラフを生成および/または表示する(ブロック1718)。オペレータがプロセス変動グラフ上の情報を確認することを可能にすると、例示的な方法1700は、プロセス変動グラフ上の時刻の選択を受信してもよい(ブロック1720)。時刻の選択は、検出された欠陥中に変動が閾値を超える、プロセス変動グラフ上の1点に対応してもよい。時刻の選択を受信すると、例示的な方法1700は、オペレータがマイクロチャートおよび/または寄与グラフ内の変動に対する寄与変数を視認するように選択するか判定する(ブロック1722)。   Next, the example method 1700 receives a selection of defects on the overview chart (block 1716). The example method 1700 then generates and / or displays a process variation graph associated with the detected defect (block 1718). Once the operator is able to verify information on the process variation graph, the example method 1700 may receive a selection of a time on the process variation graph (block 1720). The time selection may correspond to a point on the process variation graph where the variation exceeds the threshold during the detected defect. Upon receipt of the time selection, the example method 1700 determines whether the operator chooses to view contribution variables for variations in the microchart and / or contribution graph (block 1722).

オペレータがマイクロチャートを選択する場合、例示的な方法1700は、プロセス変動グラフ内の選択された変動に関連付けられる変数を含むマイクロチャートを生成し、表示する(ブロック1724)。変数に関連付けられる値は、マイクロチャート内のバーチャートおよび/またはスパークライン内に存在してもよい。マイクロチャートを視認する一方、オペレータは、選択したスパークラインの詳細表示を視認してもよく、および/または表示された変数値に対応するプロセス内の時刻を変更してもよい。   If the operator selects a microchart, the example method 1700 generates and displays a microchart that includes variables associated with the selected variation in the process variation graph (block 1724). The value associated with the variable may be present in a bar chart and / or sparkline in the microchart. While viewing the microchart, the operator may view a detailed display of the selected sparkline and / or change the time in the process corresponding to the displayed variable value.

しかしながら、オペレータが寄与グラフを選択する場合、例示的な方法1700は、プロセス変動グラフ内の選択された変動に関連付けられる変数を含む寄与グラフを生成し、表示する(ブロック1726)。オペレータは、プロセス分析セクションの進む矢印を選択することによって、グラフを選択してもよく、および/またはユーザインターフェース内の対応するグラフへのタブを選択してもよい。   However, if the operator selects a contribution graph, the example method 1700 generates and displays a contribution graph that includes variables associated with the selected variation in the process variation graph (block 1726). The operator may select a graph by selecting the forward arrow in the process analysis section and / or select a tab to the corresponding graph in the user interface.

オペレータがマイクロチャートおよび/または寄与グラフ内の変数値を視認することを可能にすると、例示的な方法1700は、オペレータがマイクロチャートおよび/または寄与グラフ内で1つ以上の変数を選択したか判定する(ブロック1728)。少なくとも1つの変数の選択が受信された場合、例示的な方法1700は、各選択された変数の変数傾向グラフを生成および/または表示する(ブロック1730)。例示的な方法1700は、次いで、品質予測グラフの選択が受信されたか判定する(ブロック1732)。さらに、オペレータがマイクロチャートおよび/または寄与グラフ内の変数を選択しなかった場合、例示的な方法1700は、品質予測グラフの選択が受信されたか判定する(ブロック1732)。オペレータは、ユーザインターフェース内の対応するタブを選択することによって、および/または変数傾向グラフを通して品質予測グラフを選択することによって、品質予測グラフを視認するように選択してもよい。   Once the operator is able to view variable values in the microchart and / or contribution graph, the example method 1700 determines whether the operator has selected one or more variables in the microchart and / or contribution graph. (Block 1728). If a selection of at least one variable is received, the example method 1700 generates and / or displays a variable trend graph for each selected variable (block 1730). The example method 1700 then determines if a quality prediction graph selection has been received (block 1732). Further, if the operator has not selected a variable in the microchart and / or contribution graph, the example method 1700 determines if a selection of a quality prediction graph has been received (block 1732). The operator may choose to view the quality prediction graph by selecting the corresponding tab in the user interface and / or by selecting the quality prediction graph through the variable trend graph.

例示的な方法1700が品質予測グラフの選択を受信しなかった場合、例示的な方法1700は、概要チャートに戻り、測定された変数値の受信および/または処理を継続してもよい(ブロック1710)。しかしながら、例示的な方法1700が品質予測グラフの選択を受信した場合(ブロック1732)、例示的な方法は品質予測グラフを生成および/または表示する(ブロック1734)。品質予測グラフ1700を表示すると、例示的な方法は是正が実装されているか判定する(ブロック1736)。是正が実装される場合、例示的な方法1700は、OMS102および/またはコントローラ108を介して、是正をプロセスへ伝送する(ブロック1738)。是正を伝送することによって、プロセス制御システムは、是正に関連付けられるフィールドデバイスの動作特徴を変更するために、是正に関連付けられる命令を受信してもよい。例示的な方法1700は、次いで、バッチ分析を継続するか判定する(ブロック1740)。さらに、是正が実装されない場合(ブロック1736)、例示的な方法1700は、バッチ分析が継続するか判定する(ブロック1740)。オペレータがバッチ分析を継続することを意図する場合、例示的な方法1700は、プロセス概要チャートを表示し、プロセス制御情報を継続して受信してもよい(ブロック1710)。オペレータがバッチ分析を継続する意図がない場合(ブロック1740)、例示的な方法はプロセスを中止し(ブロック1742)、例示的な方法1700は終了する。   If the example method 1700 did not receive a quality prediction graph selection, the example method 1700 may return to the overview chart and continue to receive and / or process the measured variable values (block 1710). ). However, if the example method 1700 receives a selection of a quality prediction graph (block 1732), the example method generates and / or displays a quality prediction graph (block 1734). Displaying the quality prediction graph 1700, the exemplary method determines whether remediation is implemented (block 1736). If the correction is implemented, the example method 1700 transmits the correction to the process via the OMS 102 and / or the controller 108 (block 1738). By transmitting the correction, the process control system may receive instructions associated with the correction to change the operational characteristics of the field device associated with the correction. The example method 1700 then determines whether to continue batch analysis (block 1740). Further, if remediation is not implemented (block 1736), the example method 1700 determines whether batch analysis continues (block 1740). If the operator intends to continue batch analysis, the example method 1700 may display a process summary chart and continue to receive process control information (block 1710). If the operator does not intend to continue batch analysis (block 1740), the example method stops the process (block 1742) and the example method 1700 ends.

図21は、候補因子を、プロセス制御システムにおいて予測された欠陥に相関させるための例示的な方法2000を示す。方法2000は、例えば、図1のシステム110等のプロセス制御システムまたは別のプロセス制御システムと共に使用されてもよい。実施形態において、方法2000の少なくとも一部は、図4のOMS102または何らかの他の適切な運用管理システム等、運用管理システムによって実行されてもよい。方法2000は、例解の(しかし限定ではない)目的のために図1、図4、図19および図20を参照して以下に説明する。   FIG. 21 illustrates an exemplary method 2000 for correlating candidate factors with predicted defects in a process control system. The method 2000 may be used with, for example, a process control system such as the system 110 of FIG. 1 or another process control system. In an embodiment, at least a portion of the method 2000 may be performed by an operations management system, such as the OMS 102 of FIG. 4 or some other suitable operations management system. The method 2000 is described below with reference to FIGS. 1, 4, 19 and 20 for illustrative (but not limiting) purposes.

ブロック2002で、プロセス制御システム内で制御されるプロセスに対応する特定の測定された変数またはパラメータに関連付けられる値が取得されてもよい。実施形態において、プロセスはバッチプロセスであってもよく、別の実施形態において、プロセスは連続プロセスであってもよい。   At block 2002, a value associated with a particular measured variable or parameter corresponding to a process controlled within the process control system may be obtained. In an embodiment, the process may be a batch process, and in another embodiment, the process may be a continuous process.

ブロック2005で、プロセスに対応する欠陥は、ブロック2002で取得された測定された変数またはパラメータの値に基づいて予測されてもよい。例えば、欠陥は、取得された値の変動が第1の閾値を過ぎる(例えば、超える、または下回る)時に予測されてもよい。別の例では、欠陥は、予測されたプロセス品質の値に基づいて予測されてもよく(ブロック2005)、予測されたプロセス品質値は、ブロック2002で取得された測定された変数またはパラメータの値に基づいて決定される。例えば、欠陥は、プロセスの予測された品質が第2の閾値を過ぎる(例えば、超える、または下回る)時に予測されてもよい。一般的に、欠陥は、図4の評価プロセスモデラ410を参照して前述した任意の技法を使用して、または別の適切な技術を使用することによって、予測されてもよい(ブロック2005)。予測された欠陥は、例えば、図6の概要チャート502等、プロセス制御システムと通信接続したユーザインターフェース上に提示された概要チャート上に示されてもよい。   At block 2005, a defect corresponding to the process may be predicted based on the value of the measured variable or parameter obtained at block 2002. For example, a defect may be predicted when a variation in the acquired value passes (eg, exceeds or falls below) a first threshold. In another example, a defect may be predicted based on a predicted process quality value (block 2005), where the predicted process quality value is the value of a measured variable or parameter obtained at block 2002. To be determined. For example, a defect may be predicted when the predicted quality of the process passes (eg, exceeds or falls below) a second threshold. In general, defects may be predicted using any of the techniques described above with reference to the evaluation process modeler 410 of FIG. 4 or using another suitable technique (block 2005). The predicted defects may be shown on a summary chart presented on a user interface in communication with the process control system, such as, for example, the summary chart 502 of FIG.

ブロック2008で、予測された欠陥および/またはプロセスに対応する一組の候補因子が判定されてもよい。実施形態において、候補因子は、プロセスに対応する1つ以上の測定された変数またはパラメータを含んでもよく、値がブロック2002で取得された特定の測定された変数を含んでもよい。実施形態において、候補因子は、1つ以上のプロセスパラメータまたは変数に基づく1つ以上の計算を含んでもよい。一部の事例において、1つ以上の計算は、経時の1つ以上のプロセスパラメータまたは変数の値に基づいてもよい。例えば、候補因子は、1つ以上のパラメータの計算された平均値における推移または変化の値、1つ以上のパラメータ値の標準偏差における推移または変化の値、あるいはパラメータ値のばらつきの度数の推移または変化の値を含んでもよい。一部の実施形態において、計算された値における推移または変化を含む候補因子はそれ自体時刻、例えば、X度の推移が時間間隔Y中に発生した時に基づいてもよい。他の候補因子も可能であってもよい。   At block 2008, a set of candidate factors corresponding to the predicted defect and / or process may be determined. In an embodiment, the candidate factors may include one or more measured variables or parameters corresponding to the process, and may include specific measured variables whose values were obtained at block 2002. In embodiments, the candidate factor may include one or more calculations based on one or more process parameters or variables. In some cases, the one or more calculations may be based on the values of one or more process parameters or variables over time. For example, the candidate factor may be a transition or change value in a calculated average value of one or more parameters, a transition or change value in a standard deviation of one or more parameter values, or a transition in frequency of variation in parameter values or A change value may be included. In some embodiments, a candidate factor that includes a transition or change in a calculated value may itself be based on time, eg, when a degree X transition occurs during time interval Y. Other candidate factors may be possible.

典型的に、しかし限定ではなく、候補因子の各々は、プロセスのモデルに対応してもよい。例えば、一組の候補因子は、プロセスのモデルに対応する1つ以上の変数またはパラメータを呼び出すために、プロセスモデルデータベース416にアクセスすることによって判定されてもよい。   Typically, but without limitation, each of the candidate factors may correspond to a model of the process. For example, the set of candidate factors may be determined by accessing the process model database 416 to invoke one or more variables or parameters corresponding to the model of the process.

実施形態において、ブロック2008で判定された一組の候補因子の各メンバ指標は、ユーザインターフェース上に表示されてもよい。実施形態において、予測された欠陥に対する各メンバのそれぞれの寄与は、ユーザインターフェース上に表示されてもよい。実施形態において、所望の値または平均値からの各メンバのそれぞれの偏差は、ユーザインターフェース上に表示されてもよい。例えば、図19は、一組の候補因子1822に含まれた各メンバの指標、メンバ各々の対応する寄与1825、およびメンバ各々の対応する偏差1828を提示しているセクション1820を含む、例示的な表示の表示1800を示す。実施形態において、一組の候補因子1822のメンバは、例えば、「予測された欠陥に関して、その値が各々Xの寄与を超える全ての測定された変数を表示する」という、ユーザコマンドまたは指標によって選択されてもよい。   In an embodiment, each member index of the set of candidate factors determined at block 2008 may be displayed on the user interface. In an embodiment, each member's respective contribution to the predicted defect may be displayed on the user interface. In an embodiment, each member's respective deviation from a desired or average value may be displayed on the user interface. For example, FIG. 19 includes an exemplary section 1820 that presents an indicator for each member included in the set of candidate factors 1822, a corresponding contribution 1825 for each member, and a corresponding deviation 1828 for each member. A display 1800 of the display is shown. In an embodiment, the members of the set of candidate factors 1822 are selected by a user command or indicator, for example, “For a predicted defect, display all measured variables whose values each exceed the contribution of X”. May be.

ブロック2010で、予測された欠陥および一組の候補因子の中に含まれた少なくとも1つの候補因子の相関がユーザインターフェース上に表示されてもよく、または表示されるように生成されてもよい。少なくとも1つの表示された候補因子は、値がブロック2002で取得された測定された変数を含んでもよく、または少なくとも1つの表示された候補因子は、値がブロック2002で取得された特定の測定された変数以外の1つ以上の異なる候補因子を含んでもよい。実施形態において、少なくとも1つの候補因子は、ブロック2008で判定された一組の候補因子から自動的または手動で選択されてもよく、相関は、選択に基づいて、表示されてもよく、または表示されるように生成されてもよい(ブロック2010)。実施形態において、相関は、例えば、プロセス制御システムと通信接続した、ローカルまたはリモートワークステーション、コンピュータ、携帯用デバイスにおいて、プロセス制御システムと通信接続したユーザインターフェース上に表示される場合がある。   At block 2010, the predicted defect and the correlation of at least one candidate factor included in the set of candidate factors may be displayed or generated to be displayed on the user interface. The at least one displayed candidate factor may include a measured variable whose value was obtained at block 2002, or at least one displayed candidate factor is a specific measured value whose value was obtained at block 2002. One or more different candidate factors other than the variable may be included. In embodiments, the at least one candidate factor may be automatically or manually selected from the set of candidate factors determined at block 2008, and the correlation may be displayed or displayed based on the selection. May be generated (block 2010). In embodiments, the correlation may be displayed on a user interface in communication with the process control system, eg, at a local or remote workstation, computer, portable device in communication with the process control system.

実施形態において、ブロック2010に関して検討された相関は、時間ベースの相関であってもよい。実施形態において、時間ベースの相関は、予測された欠陥に対応する第1のグラフ表現(例えば、第1のグラフまたは他の適切なグラフ表現)および候補因子に対応する第2のグラフ表現(例えば、第2のグラフまたは他の適切なグラフ表現)の同時表示を含んでもよい。例えば、図19は、予測された欠陥604に対応する第1のグラフ表現(例えば、第1のセクション1802)および測定された変数1822aに対応する第2のグラフ表現(例えば、第3のセクション1840)の例示的な実施形態を表す。   In an embodiment, the correlation considered for block 2010 may be a time-based correlation. In an embodiment, the time-based correlation may include a first graphical representation that corresponds to the predicted defect (eg, a first graph or other suitable graphical representation) and a second graphical representation that corresponds to the candidate factor (eg, , A second graph or other suitable graph representation). For example, FIG. 19 shows a first graphical representation (eg, first section 1802) corresponding to the predicted defect 604 and a second graphical representation (eg, third section 1840) corresponding to the measured variable 1822a. ) Represents an exemplary embodiment.

第1のグラフ表現および第2のグラフ表現は、時間事例(例えば、図19の参照1850、1852、または1855によって示された時間事例)で整合されてもよい。実施形態において、第1のグラフ表現および第2のグラフ表現は、表示された時間間隔全体(例えば、表示された時間間隔1810)で整合していてもよく、そのため、これらのそれぞれの時間軸全体で共通の時間スケールを共有してもよい。   The first graph representation and the second graph representation may be aligned with a time case (eg, a time case indicated by reference 1850, 1852, or 1855 in FIG. 19). In an embodiment, the first graphical representation and the second graphical representation may be aligned over the entire displayed time interval (eg, the displayed time interval 1810), so that their entire respective time axis is May share a common time scale.

実施形態において、予測された欠陥と少なくとも1つの測定された変数またはパラメータとの相関(ブロック2010)は、予測された欠陥と2つ以上の候補因子との相関を含んでもよい。そのため、各候補因子に対応するそれぞれのグラフ表現は、予測された欠陥に対応するグラフ表現と共に同時に表示されてもよい。示された例では、図20は、2つの候補因子に対応する2つのグラフ表現1840および1860を表し、各グラフ表現1840、1860は、異なる測定された変数(1822a、1822b)の値に対応する経時的グラフを含む。両方のグラフ表現1840および1860は、予測された欠陥604に対応するグラフ表現1802と共に、表示1800上で同時に提示されるように例解される。言うまでもなく、任意の数の候補因子に対応する、任意の数の追加のグラフ表現が同時に表示されてもよい。実施形態において、それぞれの候補因子に対応するグラフ表現の全ての表示は、特定の時間事例で(例えば、共通インジケータ1850、1852または1855によって示されたような)、および/または全体の表示された時間間隔1810にわたる等、時間内に整合されてもよい。実施形態において、表示されたグラフ表現のうちの1つは、その値がブロック2002で取得された測定された変数に対応してもよく、実施形態において、表示されたグラフ表現は、値がブロック2002で取得された測定された変数に全く対応しなくてもよい。   In an embodiment, the correlation between the predicted defect and the at least one measured variable or parameter (block 2010) may include a correlation between the predicted defect and two or more candidate factors. Therefore, each graph representation corresponding to each candidate factor may be displayed simultaneously with the graph representation corresponding to the predicted defect. In the example shown, FIG. 20 represents two graph representations 1840 and 1860 corresponding to two candidate factors, each graph representation 1840, 1860 corresponding to the value of a different measured variable (1822a, 1822b). Includes a graph over time. Both graphical representations 1840 and 1860 are illustrated as being presented simultaneously on the display 1800 with a graphical representation 1802 corresponding to the predicted defect 604. Of course, any number of additional graphical representations corresponding to any number of candidate factors may be displayed simultaneously. In an embodiment, all representations of the graph representation corresponding to each candidate factor are displayed in a particular time case (eg, as indicated by a common indicator 1850, 1852 or 1855) and / or the entire display. It may be aligned in time, such as over a time interval 1810. In an embodiment, one of the displayed graph representations may correspond to a measured variable whose value was obtained in block 2002, and in an embodiment, the displayed graph representation is a value that blocks It may not correspond to the measured variable obtained at 2002 at all.

実施形態において、方法2000は、任意選択のブロック2012〜2018を含んでもよい。ブロック2012で、方法2000は、ユーザインターフェース上に提示されたグラフ表現またはグラフのうちの1つの表示を変更または調整するために指標(例えば、「目標」グラフ表現または「目標」グラフの表示を変更するための指標)を受信することを含んでもよい。実施形態において、目標グラフ表現を変更または調整するための指標は、ユーザまたはオペレータによって生成されてもよい。目標グラフ表現は、例えば、予測された欠陥に対応するグラフ表現(例えば、図20のセクション1802)であってもよく、または目標グラフ表現は、候補因子のうちの1つに対応するグラフ表現(例えば、図20のセクション1840または1860)であってもよい。例えば、修正または調整は、表示された時間間隔を時間内で前または後ろに推移するため、表示された時間間隔の詳細が拡張されるように目標グラフ表現を拡大するため、あるいは表示された時間間隔の詳細が収縮するように目標グラフ表現を縮小するためのリクエストに対応してもよい。   In an embodiment, the method 2000 may include optional blocks 2012-2018. At block 2012, the method 2000 changes an indication (eg, a “goal” graph representation or a “goal” graph display to change or adjust the display of one of the graph representations or graphs presented on the user interface. Receiving an indicator). In an embodiment, an indicator for changing or adjusting the target graph representation may be generated by a user or an operator. The target graph representation may be, for example, a graph representation corresponding to the predicted defect (eg, section 1802 of FIG. 20), or the target graph representation may be a graph representation corresponding to one of the candidate factors ( For example, it may be section 1840 or 1860) of FIG. For example, corrections or adjustments move the displayed time interval forward or backward in time, expand the target graph representation to expand the details of the displayed time interval, or display the displayed time It may correspond to a request to reduce the target graph representation so that the details of the interval shrink.

第1の修正または調整の受信された指標(ブロック2012)に基づいて、ユーザインターフェース上の目標提示の表示は、これに応じて調整されてもよい(ブロック2015)。また、第1の修正または調整の受信された指標(ブロック2012)に基づいて、ユーザインターフェース上に同時に提示されている他のグラフ表現の表示に対して、他のグラフ表現が変更され表示された時間間隔全体で変更された目標グラフ表現と時間的に整合されたままであるように、後続の修正または調整が行われてもよい(ブロック2018)。   Based on the received indication of the first modification or adjustment (block 2012), the display of the target presentation on the user interface may be adjusted accordingly (block 2015). Also, based on the received indication of the first modification or adjustment (block 2012), other graph representations have been changed and displayed relative to other graph representations presented simultaneously on the user interface. Subsequent corrections or adjustments may be made so as to remain in time alignment with the target graph representation changed over the entire time interval (block 2018).

実施形態において、方法2000は、任意選択のブロック2020〜2022を含んでもよい。ブロック2020で、表示されたグラフ表現またはグラフ上に含まれる特定の点に対する、ユーザの選択、ユーザのマウスオーバ、または何らかの他のユーザ指標を受信してもよい。特定の点のユーザ指標を受信すること(ブロック2020)に応答して、ポップアップウィンドウ、ドロップダウンウィンドウ、または類似物等、示された点および/または関係する点に対応する詳細が表示されてもよい(ブロック2022)。例えば、示された点が測定された変数に対応する変動曲線上に含まれる場合、表示される詳細は、タイムスタンプ、最新の測定された値、予測、最適または平均値、平均値からの偏差、および/あるいは任意の他の所望の詳細情報を含む場合がある。別の例では、示された点が予測プロセス品質曲線上に含まれる場合、表示される詳細は、タイムスタンプ、バッチ識別、レシピ名、および/または任意の他の所望の詳細情報を含む場合がある。実施形態において、表示上の関係する点に対応する1つ以上の詳細は、ユーザが関係する点を明示的かつ明確に示さないが、特定の点を明確に示す場合(ブロック2020)であっても、提示されてもよい(ブロック2020)。例えば、関係する点に対応する1つ以上の詳細は、関係する点に対応する特定の時間事例が選択された(ブロック2020)場合、または時間内の同じ特定の事例の別の点が選択された(ブロック2020)場合、表示上に自動的に提示されてもよい(2022)。   In an embodiment, the method 2000 may include optional blocks 2020-2022. At block 2020, a user selection, user mouse over, or some other user indication may be received for the displayed graph representation or a particular point included on the graph. In response to receiving a user indication of a particular point (block 2020), details corresponding to the indicated point and / or related point may be displayed, such as a pop-up window, drop-down window, or the like. Good (block 2022). For example, if the indicated point is included on a variation curve that corresponds to the measured variable, the details displayed are: timestamp, latest measured value, forecast, optimal or average value, deviation from average value And / or any other desired details. In another example, if the indicated point is included on the predicted process quality curve, the displayed details may include a timestamp, batch identification, recipe name, and / or any other desired detail information. is there. In an embodiment, the one or more details corresponding to the relevant points on the display do not explicitly and clearly indicate the points that the user is concerned with, but explicitly indicate certain points (block 2020). May also be presented (block 2020). For example, one or more details corresponding to a point of interest may be selected if a particular time case corresponding to the relevant point is selected (block 2020), or another point of the same particular case in time is selected. (Block 2020), it may be automatically presented on the display (2022).

図18は、本明細書に説明された例示的な方法および装置を実装するために使用されてもよい例示的なプロセッサシステムP10のブロック図である。例えば、例示的なプロセッサシステムP10に類似または同一のプロセッサシステムは、図1および/または図4の例示的なOMS102、例示的なバッチデータ受信器402、例示的な解析プロセッサ114、例示的な解析プロセスモデラ408、例示的な評価プロセスモデラ410、例示的なプロセスモデル生成器412、例示的な表示マネージャ420、例示的なセッションコントローラ422、例示的なオンラインデータプロセッサ116、例示的なプラント内アクセスサーバ424、および/または例示的なウェブアクセスサーバ428を実装するために使用されてもよい。例示的なプロセッサシステムP10は以下に複数の周辺機器、インターフェース、チップ、メモリ等を含むと記載されるが、それらの要素のうちの1つ以上は、例示的なOMS102、例示的なバッチデータ受信器402、例示的な解析プロセッサ114、例示的な解析プロセスモデラ408、例示的な評価プロセスモデラ410、例示的なプロセスモデル生成器412、例示的な表示マネージャ420、例示的なセッションコントローラ422、例示的なオンラインプロセッサ116、例示的なプラント内アクセスサーバ424、および/または例示的なウェブアクセスサーバ428のうちの1つ以上を実装するために使用される他の例示的なプロセッサシステムから省略されてもよい。   FIG. 18 is a block diagram of an example processor system P10 that may be used to implement the example methods and apparatus described herein. For example, a processor system similar or identical to exemplary processor system P10 may include exemplary OMS 102, exemplary batch data receiver 402, exemplary analysis processor 114, exemplary analysis of FIGS. 1 and / or FIG. Process modeler 408, exemplary evaluation process modeler 410, exemplary process model generator 412, exemplary display manager 420, exemplary session controller 422, exemplary online data processor 116, exemplary in-plant access server 424 and / or may be used to implement an exemplary web access server 428. Exemplary processor system P10 is described below as including a plurality of peripherals, interfaces, chips, memories, etc., one or more of which are an exemplary OMS 102, exemplary batch data reception 402, exemplary analysis processor 114, exemplary analysis process modeler 408, exemplary evaluation process modeler 410, exemplary process model generator 412, exemplary display manager 420, exemplary session controller 422, exemplary Omitted from other exemplary processor systems used to implement one or more of exemplary online processor 116, exemplary in-plant access server 424, and / or exemplary web access server 428. Also good.

図18に示されるように、プロセッサシステムP10は、相互接続バスP14に連結されるプロセッサP12を含む。プロセッサP12は、図18では完全にオンチップとして表されるが代替として完全または部分的にオフチップで、専用の電気的接続を介して、および/または相互接続バスP14を介して、プロセッサP12に直接連結されてもよい、レジスタセットまたはレジスタ空間P16を含む。プロセッサP12は、任意の適切なプロセッサ、処理装置、またはマイクロプロセッサであってもよい。図18には図示されないが、システムP10は、マルチプロセッサシステムであってもよく、このため、プロセッサP12と同一または類似で、相互接続バスP14に通信可能に連結される、1つ以上の追加のプロセッサを含んでもよい。   As shown in FIG. 18, the processor system P10 includes a processor P12 coupled to an interconnection bus P14. The processor P12 is represented entirely on-chip in FIG. 18 but alternatively completely or partially off-chip, via a dedicated electrical connection and / or via the interconnection bus P14 to the processor P12. It includes a register set or register space P16 that may be directly linked. The processor P12 may be any suitable processor, processing device, or microprocessor. Although not shown in FIG. 18, the system P10 may be a multiprocessor system, and thus is one or more additional ones that are the same or similar to the processor P12 and communicatively coupled to the interconnect bus P14. A processor may be included.

図18のプロセッサP12は、メモリコントローラP20および周辺入力/出力(I/O)コントローラP22を含む、チップセットP18に連結される。周知のように、チップセットは典型的に、I/Oおよびメモリ管理機能、ならびにチップセットP18に連結される1つ以上のプロセッサによってアクセス可能または使用される、複数の汎用および/または専用レジスタ、タイマ等を提供する。メモリコントローラP20は、プロセッサP12(または複数のプロセッサがある場合は複数のプロセッサ)がシステムメモリP24および大容量ストレージメモリP25にアクセスすることを可能にする機能を実施する。   The processor P12 of FIG. 18 is coupled to a chipset P18 that includes a memory controller P20 and a peripheral input / output (I / O) controller P22. As is well known, a chipset typically has I / O and memory management functions and a plurality of general purpose and / or dedicated registers accessible or used by one or more processors coupled to chipset P18. Provides a timer and the like. The memory controller P20 implements functions that allow the processor P12 (or multiple processors if there are multiple processors) to access the system memory P24 and the mass storage memory P25.

システムメモリP24は、例えば、静的ランダムアクセスメモリ(SRAM)、動的ランダムアクセスメモリ(DRAM)、フラッシュメモリ、読み取り専用メモリ(ROM)等の任意の種類の揮発性および/または不揮発性メモリを含んでもよい。大容量ストレージメモリP25は、任意の所望される種類の大容量記憶装置を含んでもよい。例えば、例示的なプロセッサシステムP10がOMS102(図2)を実装するために使用される場合、大容量ストレージメモリP25は、ハードディスクドライブ、光学式ドライブ、テープ式記憶装置等を含んでもよい。代替として、例示的なプロセッサシステムP10がプロセスモデルデータベース416および/またはバッチデータデータベース406を実装するために使用される場合、大容量ストレージメモリP25は、ソリッドステートメモリ(例えば、フラッシュメモリ、RAMメモリ等)、磁気メモリ(例えば、ハードドライブ)、あるいはプロセスモデルデータベース416および/またはバッチデータデータベース406内の大容量記憶に適切な任意の他のメモリを含んでもよい。   The system memory P24 includes any type of volatile and / or nonvolatile memory such as, for example, static random access memory (SRAM), dynamic random access memory (DRAM), flash memory, read only memory (ROM), and the like. It's okay. The mass storage memory P25 may include any desired type of mass storage device. For example, if the exemplary processor system P10 is used to implement the OMS 102 (FIG. 2), the mass storage memory P25 may include a hard disk drive, an optical drive, a tape storage device, and the like. Alternatively, if the exemplary processor system P10 is used to implement the process model database 416 and / or the batch data database 406, the mass storage memory P25 is solid state memory (eg, flash memory, RAM memory, etc.). ), Magnetic memory (eg, hard drive), or any other memory suitable for mass storage within the process model database 416 and / or the batch data database 406.

周辺I/OコントローラP22は、プロセッサP12が、周辺I/OバスP32を介して、周辺入力/出力(I/O)デバイスP26および28、ならびにネットワークインターフェースP30と通信することを可能にする機能を実施する。I/OデバイスP26およびP28は、例えば、キーボード、ディスプレイ(例えば、液晶ディスプレイ(LCD)、ブラウン管(CRT)ディスプレイ等)、ナビゲーションデバイス(例えば、マウス、トラックボール、容量性タッチパッド、ジョイスティック等)等の任意の所望の種類のI/Oデバイスであってもよい。ネットワークインターフェースP30は、プロセッサシステムP10が別のプロセッサシステムと通信することを可能にする、例えば、イーサネットデバイス、非同期転送モード(ATM)デバイス、802.11デバイス、DSLモデム、ケーブルモデム、セルラーモデム等であってもよい。   Peripheral I / O controller P22 has functions that allow processor P12 to communicate with peripheral input / output (I / O) devices P26 and 28 and network interface P30 via peripheral I / O bus P32. carry out. The I / O devices P26 and P28 are, for example, a keyboard, a display (for example, a liquid crystal display (LCD), a cathode ray tube (CRT) display, etc.), a navigation device (for example, a mouse, a trackball, a capacitive touch pad, a joystick, etc.) Any desired type of I / O device. The network interface P30 enables the processor system P10 to communicate with another processor system, such as an Ethernet device, an asynchronous transfer mode (ATM) device, an 802.11 device, a DSL modem, a cable modem, a cellular modem, etc. There may be.

メモリコントローラP20およびI/OコントローラP22は、図18ではチップセットP18内部の独立した機能ブロックとして表されるが、これらのブロックによって実施される機能は、単一の集積回路内に統合されてもよく、または2つ以上の独立した集積回路を使用して実装されてもよい。   The memory controller P20 and the I / O controller P22 are represented in FIG. 18 as independent functional blocks within the chipset P18, but the functions performed by these blocks may be integrated within a single integrated circuit. Or may be implemented using two or more independent integrated circuits.

上記の例示的な方法および/または装置のうちの少なくともいくつかは、コンピュータプロセッサ上で稼動する1つ以上のソフトウェアおよび/またはファームウェアプログラムによって実装される。しかしながら、特定用途向け集積回路、プログラム可能ロジックアレイ、および他のハードウェアデバイスを含むがこれらに限定されない専用ハードウェア実装は、同様に、全体的または部分的のいずれかで、本明細書に説明された例示的な方法および/または装置のうちのいくつかまたは全てを実装するために検討されてもよい。さらに、分散処理または構成要素/オブジェクト分散処理、並列処理、または仮想マシン処理を含むがこれらに限定されない代替のソフトウェア実装もまた、本明細書に説明された例示的な方法および/またはシステムを実装するために検討されてもよい。   At least some of the exemplary methods and / or apparatus described above are implemented by one or more software and / or firmware programs running on a computer processor. However, dedicated hardware implementations, including but not limited to application specific integrated circuits, programmable logic arrays, and other hardware devices, are similarly described herein either in whole or in part. Considered to implement some or all of the illustrated exemplary methods and / or apparatus. Further, alternative software implementations including, but not limited to, distributed processing or component / object distributed processing, parallel processing, or virtual machine processing also implement the exemplary methods and / or systems described herein. May be considered to.

また、本明細書に説明される例示的なソフトウェアおよび/またはファームウェア実装は、磁気媒体(例えば、磁気ディスクまたはテープ)、光学ディスク等の磁気光学または光学媒体、あるいはメモリカードまたは1つ以上の読み取り専用(不揮発性)メモリ、ランダムアクセスメモリ、または他の再書き込み可能(揮発性)メモリを収容する他のパッケージ等の、有形記憶媒体上に記憶されることに注意されたい。したがって、本明細書に説明される例示的なソフトウェアおよび/またはファームウェアは、上記または次世代の記憶媒体等の有形の記憶媒体上に記憶することができる。上記の明細は例示的な構成要素および機能を特定の規格およびプロトコルを参照して説明するが、本特許の範囲はそのような規格およびプロトコルに限定されないことを理解されたい。例えば、インターネットおよび他のパケット切替ネットワーク伝送(例えば、伝送制御プロトコル(TCP)/インターネットプロトコル(IP)、ユーザデータグラムプロトコル(UDP)/IP、ハイパーテキストマークアップ言語(HTML)、ハイパーテキスト転送プロトコル(HTTP))の規格の各々は、最新技術の例を表す。そのような規格は、同じ汎用機能を有するより高速またはより効率的な均等物によって定期的に置換される。したがって、同じ機能を有する代替の規格およびプロトコルは均等物であり、本特許によって検討され、添付の請求項の範囲内に含まれると意図される。   Also, the exemplary software and / or firmware implementations described herein can be a magnetic medium (eg, magnetic disk or tape), a magneto-optical or optical medium such as an optical disk, or a memory card or one or more reads. Note that it is stored on a tangible storage medium, such as dedicated (non-volatile) memory, random access memory, or other package containing other rewritable (volatile) memory. Accordingly, the example software and / or firmware described herein can be stored on a tangible storage medium, such as the above or next generation storage media. While the above specification describes exemplary components and functions with reference to specific standards and protocols, it should be understood that the scope of this patent is not limited to such standards and protocols. For example, Internet and other packet switched network transmissions (eg, Transmission Control Protocol (TCP) / Internet Protocol (IP), User Datagram Protocol (UDP) / IP, Hypertext Markup Language (HTML), Hypertext Transfer Protocol ( Each of the HTTP)) standards represents an example of the state of the art. Such standards are regularly replaced by faster or more efficient equivalents with the same general purpose functionality. Accordingly, alternative standards and protocols having the same functions are equivalent, are contemplated by this patent, and are intended to be included within the scope of the appended claims.

さらに、本特許は、ハードウェア上で実行されるソフトウェアまたはファームウェアを含む例示的な方法および装置を開示するが、そのようなシステムは例解に過ぎず、限定として見なされてはならないことに注意されたい。例えば、これらのハードウェアおよびソフトウェアの構成要素のうちのいずれか、または全ては、ハードウェアの中にのみ、ソフトウェアの中にのみ、ファームウェアの中にのみ、またはハードウェア、ファームウェアおよび/またはソフトウェアの何らかの組み合わせにおいて具現化され得ることが検討される。したがって、上記の明細は、例示的な方法、システム、および機械アクセス可能媒体を説明したが、例はそのようなシステム、方法、および機械アクセス可能媒体を実装するための唯一の方式ではない。このため、所定の例示的な方法、システム、および機械アクセス可能媒体が本明細書に説明されているが、本特許の対象範囲はそれらに限定されない。むしろ、本特許は逐語的または均等論の下のいずれかで、添付の請求項の範囲内に公正に収まる全ての方法、システム、および機械アクセス可能媒体を対象とする。例としてであって、制限ではなく、本明細書の開示は、少なくとも以下の態様を検討する。   Further, although this patent discloses exemplary methods and apparatus that include software or firmware running on hardware, such systems are merely illustrative and should not be considered as limiting. I want to be. For example, any or all of these hardware and software components may be in hardware only, only in software, only in firmware, or of hardware, firmware and / or software. It is contemplated that it can be embodied in any combination. Thus, while the above specification describes exemplary methods, systems, and machine-accessible media, the examples are not the only way to implement such systems, methods, and machine-accessible media. Thus, although certain exemplary methods, systems, and machine-accessible media are described herein, the scope of this patent is not limited thereto. Rather, this patent is directed to all methods, systems, and machine-accessible media that fall within the scope of the appended claims, either verbatim or under equivalence. By way of example and not limitation, the disclosure herein contemplates at least the following aspects.

候補因子を、プロセス制御システムにおいて予測された欠陥に相関させる方法であって、   A method of correlating a candidate factor with a predicted defect in a process control system, comprising:

プロセス制御システムにおいて制御されるプロセスに対応する特定の因子に関連付けられる値を取得することと、   Obtaining a value associated with a particular factor corresponding to the process being controlled in the process control system;

プロセスの予測された品質であって、特定の因子に関連付けられる値に基づいて判定される、プロセスの予測された品質が、第1の閾値を過ぎる時、または特定の因子の値の変動が第2の閾値を過ぎる時のうちの少なくとも1つの時に、プロセスに対応する欠陥を予測することと、   The predicted quality of the process, determined based on a value associated with a particular factor, when the predicted quality of the process exceeds a first threshold or when a variation in the value of a particular factor is Predicting defects corresponding to the process at least at one of the times when the threshold of 2 is exceeded;

予測された欠陥に対応する一組の候補因子であって、特定の因子を含む、一組の候補因子を判定することと、   Determining a set of candidate factors corresponding to the predicted defect, including a specific factor;

プロセス制御システムと通信接続するコンピューティングデバイスのユーザインターフェース上に、一組の候補因子のうちの少なくとも1つの候補因子、および予測された欠陥の相関を表示することとを含む、方法。   Displaying at least one candidate factor of the set of candidate factors and a predicted defect correlation on a user interface of a computing device in communication connection with the process control system.

少なくとも1つの候補因子の選択の指標を受信することをさらに含み、少なくとも1つの候補因子および予測された欠陥との相関を表示することは、受信された指標に基づく、前述の態様の方法。   The method of the foregoing aspect, further comprising receiving an indication of selection of at least one candidate factor, wherein displaying the correlation with the at least one candidate factor and the predicted defect is based on the received indicator.

少なくとも1つの候補因子および予測された欠陥の相関を表示することは、一組の候補因子のうちの2つ以上の候補因子および予測された欠陥の相関を表示することを含む、前述の態様のうちのいずれかの方法。   Displaying the correlation between at least one candidate factor and the predicted defect comprises displaying a correlation between two or more candidate factors and the predicted defect of the set of candidate factors. Either way.

相関、予測された欠陥に対応する一組の候補因子の各メンバの指標、予測された欠陥に対する各メンバのそれぞれの寄与を同時に表示することをさらに含む、前述の態様のうちのいずれかの方法。   The method of any of the preceding aspects, further comprising simultaneously displaying a correlation, an indication of each member of the set of candidate factors corresponding to the predicted defect, and a respective contribution of each member to the predicted defect .

少なくとも1つの候補因子および予測された欠陥の相関を表示することは、少なくとも1つの候補因子および予測された欠陥の時間ベースの相関を表示することを含む、前述の態様のうちのいずれかの方法。   The method of any of the preceding aspects, wherein displaying the correlation between the at least one candidate factor and the predicted defect comprises displaying a time-based correlation of the at least one candidate factor and the predicted defect. .

ユーザインターフェース上に、少なくとも1つの候補因子および予測された欠陥の時間ベースの相関を表示することは、ユーザインターフェース上に、予測された欠陥に対応する第1のグラフ表現、および少なくとも1つの候補因子に対応する第2のグラフ表現を同時に表示することを含み、第1のグラフ表現上に示される特定の時間事例は、ユーザインターフェース上で、第2のグラフ表現上に示される特定の時間事例と整合される、前述の態様のうちのいずれかの方法。   Displaying on the user interface at least one candidate factor and the time-based correlation of the predicted defect is a first graphical representation corresponding to the predicted defect and at least one candidate factor on the user interface. Simultaneously displaying a second graph representation corresponding to, wherein the specific time case shown on the first graph representation is on the user interface with the specific time case shown on the second graph representation and The method of any of the preceding aspects being matched.

第1のグラフ表現および第2のグラフ表現にわたり共通のインジケータを表示することによって、特定の時間事例を示すことをさらに含む、前述の態様のうちのいずれかの方法。   The method of any of the preceding aspects, further comprising indicating a particular time instance by displaying a common indicator across the first graph representation and the second graph representation.

共通の時間スケールに従って、第1のグラフ表現および第2のグラフ表現を整合させることをさらに含む、前述の態様のうちのいずれかの方法。   The method of any of the preceding aspects further comprising aligning the first graph representation and the second graph representation according to a common time scale.

第1のグラフ表現の表示を修正するためのユーザ指標を受信することと、ユーザインターフェース上に表示される、第1のグラフ表現の表示と第2のグラフ表現の表示の間の時間整合を保つことを含む、ユーザ指標に基づいて、第1のグラフ表現の表示および第2のグラフ表現の表示を調整することとをさらに含む、前述の態様のうちのいずれかの方法。   Receiving a user indication for modifying the display of the first graph representation and maintaining a time alignment between the display of the first graph representation and the display of the second graph representation displayed on the user interface Adjusting the display of the first graph representation and the display of the second graph representation based on a user indicator. The method of any of the preceding aspects.

第1のグラフ表現上に含まれるか、または第2のグラフ表現上に含まれる点に対応する少なくとも1つの詳細を表示することをさらに含み、少なくとも1つの詳細を表示することは、点のユーザ選択、または点のユーザマウスオーバに応答して生じる、前述の態様のうちのいずれかの方法。   The method further includes displaying at least one detail corresponding to a point included on the first graph representation or included on the second graph representation, wherein displaying the at least one detail is a point user. The method of any of the preceding aspects occurring in response to a selection or point user mouse over.

プロセスに対応する特定の因子に関連付けられる値を取得することは、プロセスに対応する特定の測定された変数の値を取得することを含む、前述の態様のうちのいずれかの方法。   The method of any of the preceding aspects, wherein obtaining a value associated with a particular factor corresponding to a process includes obtaining a value of a particular measured variable corresponding to the process.

プロセスに対応する特定の因子に関連付けられる値を取得することは、プロセスに対応するパラメータの値に基づく計算の値を取得することを含む、前述の態様のうちのいずれかの方法。   The method of any of the preceding aspects, wherein obtaining a value associated with a particular factor corresponding to a process includes obtaining a calculated value based on a value of a parameter corresponding to the process.

パラメータの値に基づく計算の値を取得することは、パラメータに対応する平均値への変化に対応する値を取得すること、パラメータに対応する標準偏差への変化に対応する値を取得すること、またはパラメータの値のばらつきの度数の推移に対応する値を取得することのうちの少なくとも1つを含む、前述の態様のうちのいずれかの方法。   Obtaining a calculated value based on the parameter value includes obtaining a value corresponding to a change to an average value corresponding to the parameter, obtaining a value corresponding to a change to a standard deviation corresponding to the parameter, Alternatively, the method of any of the preceding aspects, comprising at least one of obtaining a value corresponding to a frequency transition of parameter value variation.

プロセス制御システムにおける予測された欠陥に寄与する因子を相関させるための装置であって、装置は、前述の態様のうちのいずれかを実施するように構成され、   An apparatus for correlating factors contributing to predicted defects in a process control system, wherein the apparatus is configured to perform any of the foregoing aspects;

バッチデータ受信器と通信接続状態にあるコンピューティングデバイスを備え、バッチデータ受信器は、プロセス制御システムに通信可能に連結され、プロセス制御システムによって制御されるプロセスに対応する特定の因子に関連付けられる値を受信するように構成され、コンピューティングデバイスは、プロセッサおよびメモリを含み、メモリは、   A computing device in communication connection with a batch data receiver, the batch data receiver communicatively coupled to a process control system and associated with a particular factor corresponding to a process controlled by the process control system The computing device includes a processor and memory, the memory comprising:

プロセスの予測された品質であって、特定の因子に関連付けられる値に基づいて判定されたプロセスの予測された品質が第1の閾値を過ぎる時、または特定の因子の値の変動が第2の閾値を過ぎる時のうちの少なくとも1つの時に、プロセス制御システムにおいて発生する欠陥を予測し、   The predicted quality of the process when the predicted quality of the process determined based on the value associated with the specific factor exceeds a first threshold or when the variation of the value of the specific factor is a second Predicting defects occurring in the process control system at least one of the times when the threshold is exceeded;

一組の候補因子であって、特定の因子を含む一組の候補因子を判定し、   Determining a set of candidate factors, including a specific factor,

予測された欠陥と一組の候補因子のうちの少なくとも1つの候補因子の間の相関の表現をユーザインターフェース上に表示させるように、プロセッサによって実行可能であるコンピュータで実行可能な命令を記憶する、装置。   Storing computer-executable instructions that are executable by the processor to cause a representation of a correlation between the predicted defect and at least one candidate factor of the set of candidate factors to be displayed on the user interface; apparatus.

コンピューティングデバイスのメモリ上に記憶され、少なくとも1つの候補因子の選択の指標を受信するように、プロセッサによって実行可能な、追加のコンピュータで実行可能な命令をさらに備える、前述の態様のうちのいずれかの装置。   Any of the preceding aspects further comprising additional computer-executable instructions stored on a memory of the computing device and executable by the processor to receive an indication of selection of at least one candidate factor. Equipment.

少なくとも1つの候補因子は、2つ以上の候補因子を備える、前述の態様のうちのいずれかの装置。   The apparatus of any of the preceding aspects, wherein the at least one candidate factor comprises two or more candidate factors.

予測された欠陥と少なくとも1つの候補因子との間の相関は、予測された欠陥および少なくとも1つの候補因子の時間ベースの相関を備える、前述の態様のうちのいずれかの装置。   The apparatus of any of the preceding aspects, wherein the correlation between the predicted defect and the at least one candidate factor comprises a time-based correlation of the predicted defect and the at least one candidate factor.

予測された欠陥と少なくとも1つの候補因子との間の相関の表現は、   A representation of the correlation between the predicted defect and the at least one candidate factor is

予測された欠陥に対応する第1のグラフと、少なくとも1つの候補因子に対応する第2のグラフであって、ユーザインターフェース上で、第1のグラフと同時に表示される第2のグラフとを備え、第1のグラフの時間軸および第2のグラフの時間軸は、ユーザインターフェース上で、表示された時間間隔にわたり整合して提示される、前述の態様のうちのいずれかの装置。   A first graph corresponding to the predicted defect; and a second graph corresponding to at least one candidate factor, the second graph being displayed simultaneously with the first graph on the user interface. The apparatus of any of the preceding aspects, wherein the time axis of the first graph and the time axis of the second graph are presented consistently over the displayed time interval on the user interface.

相関の表現は、特定の時間事例のインジケータをさらに備え、インジケータは、第1のグラフおよび第2のグラフにわたって表示される、前述の態様のうちのいずれかの装置。   The apparatus of any of the preceding aspects, wherein the representation of the correlation further comprises an indicator of a particular time instance, wherein the indicator is displayed across the first graph and the second graph.

特定の時間事例のインジケータは、表示された時間間隔にわたって移動可能である、前述の態様のうちのいずれかの装置。   The apparatus of any of the preceding aspects, wherein the indicator of the particular time instance is movable over the displayed time interval.

コンピューティングデバイスのメモリ上に記憶され、ユーザインターフェース上に表示される予測された欠陥と少なくとも1つの候補因子との間の相関の表現への修正の提示を行うように、プロセッサによって実行可能な、追加のコンピュータで実行可能な命令をさらに備え、修正は、第1のグラフまたは第2のグラフのうちの一方への第1の調整であって、ユーザ指標に基づき、表示された時間間隔への修正を含む、第1の調整と、第1のグラフまたは第2のグラフのうちの他方への第2の調整であって、第1の調整に基づき、表示された時間間隔の修正に対応する、第2の調整とを含む、前述の態様のうちのいずれかの装置。   Executable by a processor to present a correction to a representation of a correlation between a predicted defect stored on a memory of a computing device and displayed on a user interface and at least one candidate factor; Further comprising instructions executable on the computer, the modification being a first adjustment to one of the first graph or the second graph, based on a user indicator, to the displayed time interval A first adjustment including a correction and a second adjustment to the other of the first graph or the second graph, corresponding to the correction of the displayed time interval based on the first adjustment; And the second adjustment. The apparatus of any of the preceding aspects.

少なくとも1つの候補因子は、2つ以上の候補因子を備え、予測された欠陥と2つ以上の候補因子との間の相関の表現は、予測された欠陥に対応する第1のグラフ、および2つ以上の候補因子の各候補因子に対応するそれぞれのグラフを備え、各それぞれのグラフは、ユーザインターフェース上で、第1のグラフと同時に提示される、前述の態様のうちのいずれかの装置。   The at least one candidate factor comprises two or more candidate factors, and the representation of the correlation between the predicted defect and the two or more candidate factors is a first graph corresponding to the predicted defect, and 2 The apparatus of any of the preceding aspects, comprising a respective graph corresponding to each candidate factor of the one or more candidate factors, wherein each respective graph is presented simultaneously with the first graph on the user interface.

特定の因子は、特定の測定された変数である、前述の態様のうちのいずれかの装置。   The apparatus of any of the preceding aspects, wherein the particular factor is a particular measured variable.

特定の測定された変数に関連付けられる値は、特定の測定された変数の値である、前述の態様のうちのいずれかの装置。   The apparatus of any of the preceding aspects, wherein the value associated with the particular measured variable is the value of the particular measured variable.

特定の測定された変数に関連付けられる値は、特定の測定された変数の値に基づき、平均値の推移の計算、標準偏差の推移の計算、またはばらつきの度数の推移の計算のうちの少なくとも1つを含む、計算の値である、前述の態様のうちのいずれかの装置。   The value associated with a particular measured variable is based on the value of the particular measured variable and is at least one of calculating a mean value transition, calculating a standard deviation change, or calculating a variation frequency transition. The apparatus of any of the preceding aspects being a calculated value, including one.

プロセス制御システムにおける予測された欠陥に寄与している因子を相関させるためのシステムであって、前述の態様のうちのいずれかを含み、   A system for correlating factors contributing to predicted defects in a process control system, comprising any of the foregoing aspects,

プロセス制御システムにおいて制御されるプロセスに対応するプロセス制御情報を受信するように構成されるバッチデータ受信器であって、プロセス制御情報が特定の因子に関連付けられる値を含む、バッチデータ受信器と、   A batch data receiver configured to receive process control information corresponding to a process controlled in a process control system, wherein the process control information includes a value associated with a particular factor;

バッチデータ受信器と通信接続し、ユーザインターフェース上で、プロセスに対応する予測された欠陥と特定因子との間の相関の表示の提示を行うように、コンピュータで実行可能な命令を実行するように構成される、プロセッサであって、予測された欠陥は、プロセス制御情報の少なくとも一部に基づいて判定され、表示は、予測された欠陥に対応する第1のセクションと特定因子に対応する第2のセクションとを含む、プロセッサとを備え、第1のセクションにおいて示される特定の時間事例は、表示上で、第2のセクションに示される特定の時間事例と整合している、システム。   Communicating with a batch data receiver to execute computer-executable instructions on the user interface to present a display of correlations between predicted defects corresponding to the process and specific factors A configured processor, wherein the predicted defect is determined based on at least a portion of the process control information, and the display is a first section corresponding to the predicted defect and a second corresponding to the specific factor. A specific time case shown in the first section is consistent with the specific time case shown in the second section on the display.

第1のセクションは、予測された欠陥に対応する経時的なグラフを含み、第2のセクションは、特定の因子に対応する経時的なグラフを含む、前述の態様のうちのいずれかのシステム。   The system of any of the preceding aspects, wherein the first section includes a graph over time corresponding to the predicted defect, and the second section includes a graph over time corresponding to a particular factor.

第1のセクションに対応する時間軸および第2のセクションに対応する時間軸は整合してスケーリングされる、前述の態様のうちのいずれかのシステム。   The system of any of the preceding aspects, wherein the time axis corresponding to the first section and the time axis corresponding to the second section are scaled consistently.

表示は、それぞれの少なくとも1つの他の因子に対応する少なくとも1つの他のセクションをさらに含み、少なくとも1つの他のセクションにおいて示される特定の時間事例は、表示上で、第1のセクションにおいて示される特定の時間事例と整合している、前述の態様のうちのいずれかのシステム。   The display further includes at least one other section corresponding to each at least one other factor, and the particular time case shown in the at least one other section is shown in the first section on the display The system of any of the preceding aspects consistent with a particular time case.

プロセッサは、表示の提示への修正を行うように、追加のコンピュータで実行可能な命令を実行するように構成され、修正は、第1のセクションへの第1の調整であって、ユーザ指標に基づき、第1のセクションの表示された時間間隔への修正を含む、第1の調整と、第2のセクションへの第2の調整であって、第1の調整に基づき、第1のセクションの表示された時間間隔の変更に対応するように、第2のセクションの表示された時間間隔の修正を含む、第2の調整とを含む、前述の態様のうちのいずれかのシステム。   The processor is configured to execute additional computer-executable instructions to make corrections to the presentation of the display, wherein the correction is a first adjustment to the first section and includes a user indication A first adjustment, including a correction to the displayed time interval of the first section, and a second adjustment to the second section, based on the first adjustment, A system according to any of the preceding aspects, comprising a second adjustment, including a modification of the displayed time interval of the second section, to accommodate a change in the displayed time interval.

表示は、一組の候補因子の1つ以上のメンバの指標であって、一組の候補因子は、プロセスに対応し、特定の因子を含む、指標と、予測された欠陥に対する、一組の候補因子の1つ以上のメンバの各々のそれぞれの寄与の指標とを含む、第3のセクションをさらに含む、前述の態様のうちのいずれかのシステム。   The display is an indicator of one or more members of a set of candidate factors, where the set of candidate factors corresponds to a process and includes a specific set of indicators and a set of predicted defects. The system of any of the preceding aspects further comprising a third section that includes an indication of the respective contribution of each of the one or more members of the candidate factor.

特定の因子は、プロセスに対応する測定されたパラメータ、またはプロセスに対応する測定されたパラメータの値に基づく計算のうちの少なくとも1つである、前述の態様のうちのいずれかのシステム。   The system of any of the preceding aspects, wherein the particular factor is at least one of a measured parameter corresponding to the process or a calculation based on a value of the measured parameter corresponding to the process.

計算は、平均、標準偏差、または、ばらつきの度数に対応する、前述の態様のうちのいずれかのシステム。   The system of any of the preceding aspects, wherein the calculation corresponds to a mean, standard deviation, or frequency of variation.

Claims (18)

候補因子を、プロセス制御システムにおける予測された欠陥に相関させる方法であって、
前記プロセス制御システムにおいて制御されるプロセスに対応する特定の因子に関連付けられる値を取得することと、
前記プロセスの予測され且つ前記特定の因子に関連付けられる前記値に基づいて判定される品質が、第1の閾値を過ぎる時、または、前記特定の因子の前記値の変動が第2の閾値を過ぎる時のうちの少なくとも1つの時に、前記プロセスに対応する欠陥を予測することと、
前記予測された欠陥に対応する一組の候補因子であって、前記特定の因子を含む、一組の候補因子を判定することと、
前記プロセス制御システムと通信接続するコンピューティングデバイスのユーザインターフェース上に、前記一組の候補因子のうちの少なくとも1つの候補因子と、前記予測された欠陥間の相関を表示することであって、前記少なくとも1つの候補因子の調整の、前記プロセスの全体の品質上の効果を示す品質予測グラフとして前記相関を表示することと、
を含む、方法。
A method of correlating a candidate factor with a predicted defect in a process control system, comprising:
Obtaining a value associated with a particular factor corresponding to a process controlled in the process control system;
The quality determined based on the predicted value of the process and associated with the specific factor exceeds a first threshold, or the variation of the value of the specific factor exceeds a second threshold Predicting a defect corresponding to the process at at least one of the times;
Determining a set of candidate factors corresponding to the predicted defect, the set including the specific factors;
On the user interface of a computing device in communication connection with the process control system, and at least one candidate agent of the set of candidate agent, the method comprising: displaying the correlation between the predicted fault Displaying the correlation as a quality prediction graph showing the overall quality effect of the process of adjusting the at least one candidate factor;
Including the method.
前記少なくとも1つの候補因子の選択の指標を受信することをさらに含み、前記少なくとも1つの候補因子および前記予測された欠陥の前記相関を表示することは、前記受信された指標に基づき、
前記少なくとも1つの候補因子の調整が、特定のしきい値以内で前記プロセスの全体の品質を改良すると予測される場合には、前記少なくとも1つの候補因子の調整は、自動的に実施される、請求項1に記載の方法。
Wherein further comprising receiving an indication of selection of at least one candidate agent, wherein the displaying the correlation of at least one candidate agent and the predicted fault is-out based on the received index,
If the adjustment of the at least one candidate factor is predicted to improve the overall quality of the process within a certain threshold, the adjustment of the at least one candidate factor is performed automatically. The method of claim 1.
前記少なくとも1つの候補因子および前記予測された欠陥の前記相関を表示することは、前記一組の候補因子のうちの2つ以上の候補因子および前記予測された欠陥の相関を表示することを含む、請求項1又は請求項2に記載の方法。   Displaying the correlation of the at least one candidate factor and the predicted defect includes displaying a correlation of two or more candidate factors of the set of candidate factors and the predicted defect. 3. A method according to claim 1 or claim 2. 前記相関、前記予測された欠陥に対応する前記一組の候補因子の各メンバの指標、および前記予測された欠陥に対する前記各メンバのそれぞれの寄与を同時に表示することをさらに含む、請求項1〜請求項3の何れか1項に記載の方法。   2. The method further comprising simultaneously displaying the correlation, an indication of each member of the set of candidate factors corresponding to the predicted defect, and a respective contribution of each member to the predicted defect. The method according to claim 3. 前記少なくとも1つの候補因子および前記予測された欠陥の前記相関を表示することは、前記少なくとも1つの候補因子および前記予測された欠陥の時間ベースの相関を表示することを含む、請求項1〜請求項4の何れか1項に記載の方法。   2. The displaying of the correlation of the at least one candidate factor and the predicted defect comprises displaying a time-based correlation of the at least one candidate factor and the predicted defect. Item 5. The method according to any one of Items4. 前記プロセスに対応する前記特定の因子に関連付けられる前記値を取得することは、前記プロセスに対応する特定の測定された変数の値を取得することを含む、請求項1〜請求項5の何れか1項に記載の方法。   6. The method of any of claims 1-5, wherein obtaining the value associated with the particular factor corresponding to the process comprises obtaining a value of a particular measured variable corresponding to the process. 2. The method according to item 1. 前記プロセスに対応する前記特定の因子に関連付けられる前記値を取得することは、前記プロセスに対応するパラメータの値に基づく計算の値を取得することを含む、請求項1〜請求項6の何れか1項に記載の方法。   7. The method of claim 1, wherein obtaining the value associated with the particular factor corresponding to the process includes obtaining a calculated value based on a parameter value corresponding to the process. 2. The method according to item 1. プロセス制御システムにおける予測された欠陥に寄与する候補因子を相関させるための装置であって、
バッチデータ受信器と通信接続するコンピューティングデバイスを備え、前記バッチデータ受信器は、前記プロセス制御システムに通信可能に連結され、前記プロセス制御システムによって制御されるプロセスに対応する特定の因子に関連付けられる値を受信するように構成され、前記コンピューティングデバイスは、プロセッサおよびメモリを含み、前記メモリは、
前記プロセスの予測され且つ前記特定の因子に関連付けられる前記値に基づいて判定される品質が第1の閾値を過ぎる時、または、前記特定の因子の前記値の変動が第2の閾値を過ぎる時のうちの少なくとも1つの時に、前記プロセス制御システムにおいて生じる欠陥を予測すること、
前記特定の因子を含む一組の候補因子を判定すること、ならびに
前記少なくとも1つの候補因子の調整の、前記プロセスの全体の品質上の効果を示す品質予測グラフ内でユーザインターフェース上に表示されるべき、前記予測された欠陥と、前記一組の候補因子のうちの少なくとも1つの候補因子との間の相関の表現を行うこと、
を行うように、前記プロセッサによって実行可能であるコンピュータで実行可能な命令を記憶する、装置。
An apparatus for correlating candidate factors contributing to predicted defects in a process control system,
A computing device communicatively connected to a batch data receiver, the batch data receiver communicatively coupled to the process control system and associated with a particular factor corresponding to a process controlled by the process control system Configured to receive a value, the computing device includes a processor and a memory, the memory comprising:
When the quality of the process determined and determined based on the value associated with the specific factor exceeds a first threshold, or when the variation of the value of the specific factor exceeds a second threshold Predicting defects occurring in the process control system at at least one of the following:
Determining a set of candidate factors comprising the specific factor; and
Of the predicted defect and the set of candidate factors to be displayed on a user interface in a quality prediction graph that indicates an overall quality effect of the process of adjusting the at least one candidate factor Expressing a correlation between at least one candidate factor of
An apparatus for storing computer-executable instructions that are executable by the processor to perform:
前記予測された欠陥と前記少なくとも1つの候補因子との間の前記相関は、前記予測された欠陥および前記少なくとも1つの候補因子の時間ベースの相関を備える、請求項8に記載の装置。   The apparatus of claim 8, wherein the correlation between the predicted defect and the at least one candidate factor comprises a time-based correlation of the predicted defect and the at least one candidate factor. 前記予測された欠陥と前記少なくとも1つの候補因子との間の前記相関の前記表現は、 前記予測された欠陥に対応する第1のグラフと、
前記少なくとも1つの候補因子に対応する第2のグラフであって、前記ユーザインターフェース上で、前記第1のグラフと同時に表示される第2のグラフと、を備え、
前記第1のグラフの時間軸、および前記第2のグラフの時間軸は、前記ユーザインターフェース上で、表示された時間間隔にわたり整合して提示される、請求項8又は請求項9に記載の装置。
The representation of the correlation between the predicted defect and the at least one candidate factor is a first graph corresponding to the predicted defect;
A second graph corresponding to the at least one candidate factor, the second graph being displayed simultaneously with the first graph on the user interface,
10. The apparatus according to claim 8 or claim 9, wherein the time axis of the first graph and the time axis of the second graph are presented consistently over the displayed time interval on the user interface. .
前記相関の前記表現は、特定の時間事例のインジケータをさらに備え、前記インジケータは、前記第1のグラフおよび前記第2のグラフにわたって表示される、請求項10に記載の装置。   The apparatus of claim 10, wherein the representation of the correlation further comprises an indicator of a particular time instance, wherein the indicator is displayed across the first graph and the second graph. 前記特定の時間事例の前記インジケータは、前記表示された時間間隔にわたって移動可能である、請求項11に記載の装置。   The apparatus of claim 11, wherein the indicator of the particular time instance is movable over the displayed time interval. 前記特定の因子は、特定の数である、請求項8〜請求項12の何れか1項に記載の装置。 The specific factor is specific variables, device according to any one of claims 8 to claim 12. 前記特定の数に関連付けられる前記値は、前記特定の数の値である、請求項13に記載の装置。 Wherein the values specified associated with variable, said a specific value of variable A device according to claim 13. 前記特定の数に関連付けられる前記値は、前記特定の数の値に基づき、かつ平均値の推移の計算、標準偏差の推移の計算、または発振周波数の推移の計算のうちの少なくとも1つを含む、計算の値である、請求項13に記載の装置。 The value associated with the particular variable is based on the value of the particular variable, and the calculation of the transition of the average value, at least one of the calculation of the calculation of the standard deviation changes, or the oscillation frequency changes The apparatus of claim 13, wherein the apparatus is a calculated value. プロセス制御システムにおける予測された欠陥に寄与する因子を相関させるためのシステムであって、
前記プロセス制御システムにおいて制御されるプロセスに対応し且つ特定の因子に関連付けられる値を含むプロセス制御情報を受信するように構成されているバッチデータ受信器と、
前記バッチデータ受信器と通信接続し、ユーザインターフェース上で、前記プロセスに対応する予測され且つ前記プロセス制御情報の少なくとも一部分に基づいて判定される欠陥と前記特定の因子との間の相関の表示の提示を行うように、コンピュータで実行可能な命令を実行するように構成されているプロセッサであって、前記表示は、
前記予測された欠陥に対応する第1のセクションと、
前記特定の因子に対応する第2のセクションと、を含む、プロセッサと、を備え、
前記第1のセクションにおいて示される特定の時間事例は、前記表示上で、前記少なくとも1つの候補因子の調整の、前記プロセスの全体の品質上の効果を示す品質予測グラフ内で前記第2のセクションにおいて示される前記特定の時間事例と整合している、システム。
A system for correlating factors contributing to predicted defects in a process control system,
A batch data receiver configured to receive process control information corresponding to a process controlled in the process control system and including a value associated with a particular factor;
Communicatively connecting with the batch data receiver and displaying on a user interface a correlation between a predicted defect corresponding to the process and determined based on at least a portion of the process control information and the particular factor. A processor configured to execute computer-executable instructions to make a presentation, the display comprising:
A first section corresponding to the predicted defect;
A processor including a second section corresponding to the particular factor,
The particular time case shown in the first section is the second section in the quality prediction graph showing the overall quality effect of the adjustment of the at least one candidate factor on the display. A system that is consistent with the specific time case shown in FIG.
前記プロセッサは、前記表示の前記提示への修正を行うように、追加のコンピュータで実行可能な命令を実行するように構成されており、前記修正は、
前記第1のセクションへの第1の調整であって、前記第1の調整は、ユーザ指標に基づき、前記第1のセクションの表示された時間間隔への修正を含む、第1の調整と、
前記第2のセクションへの第2の調整であって、前記第2の調整は、前記第1の調整に基づき、前記第1のセクションの前記表示された時間間隔の前記修正に対応するように、前記第2のセクションの表示された時間間隔の修正を含む、第2の調整と、を含む、請求項16に記載のシステム。
The processor is configured to execute additional computer-executable instructions to make modifications to the presentation of the display,
A first adjustment to the first section, wherein the first adjustment includes a correction to the displayed time interval of the first section based on a user indicator;
A second adjustment to the second section, the second adjustment corresponding to the correction of the displayed time interval of the first section based on the first adjustment. And a second adjustment comprising a modification of the displayed time interval of the second section.
前記表示は、
前記プロセスに対応し且つ前記特定の因子を含む一組の候補因子の1つ以上のメンバの指標と、
前記予測された欠陥に対する、前記一組の候補因子の前記1つ以上のメンバの各々のそれぞれの寄与の指標と、
を含む、第3のセクションをさらに含む、請求項16又は請求項17に記載のシステム。
The display is
An indicator of one or more members of a set of candidate factors corresponding to the process and including the particular factor;
An indication of the respective contribution of each of the one or more members of the set of candidate factors to the predicted defect;
18. The system of claim 16 or claim 17, further comprising a third section comprising:
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