JP6164121B2 - Water treatment equipment - Google Patents

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Description

本発明は、逆浸透膜モジュールを備えた水処理装置に関する。   The present invention relates to a water treatment apparatus provided with a reverse osmosis membrane module.

医薬品や化粧品の製造、電子部品や精密機器の洗浄等においては、不純物を含まない高純度の純水が使用される。この種の純水は、一般に、地下水、水道水等の供給水を膜分離装置で処理し、得られた透過水を精製することにより製造される。膜分離装置は、少なくとも1段の逆浸透膜モジュールを備えており、供給水から透過水と濃縮水とを製造することができる。以下の説明においては、逆浸透膜モジュールを「RO膜モジュール」、逆浸透膜を「RO膜」ともいう。   High-purity pure water that does not contain impurities is used in the manufacture of pharmaceuticals and cosmetics, the cleaning of electronic parts and precision equipment, and the like. This type of pure water is generally produced by treating feed water such as groundwater and tap water with a membrane separator and purifying the permeated water obtained. The membrane separation device is provided with at least one reverse osmosis membrane module, and can produce permeated water and concentrated water from the supplied water. In the following description, the reverse osmosis membrane module is also referred to as “RO membrane module”, and the reverse osmosis membrane is also referred to as “RO membrane”.

RO膜モジュールにおいては、原水に含まれるシリカがRO膜の表面にスケールとして析出される現象が発生する。RO膜の表面にスケールの析出が発生すると、透水能力が低下する。このため、RO膜モジュールを備えた逆浸透膜分離装置においては、RO膜の表面にスケールの析出が発生しないように運転することが肝要となる。   In the RO membrane module, a phenomenon occurs in which silica contained in raw water is deposited as a scale on the surface of the RO membrane. When scale deposition occurs on the surface of the RO membrane, the water permeability is reduced. For this reason, in a reverse osmosis membrane separation apparatus equipped with an RO membrane module, it is important to operate so that scale deposition does not occur on the surface of the RO membrane.

従来、シリカ系スケールの析出を抑制するために、シリカ濃度センサ(シリカ濃度検出手段)を備え、濃縮水のシリカ濃度がシリカ溶解度を超えない範囲に、RO膜モジュールへ供給される供給水の流量に対する透過水の流量の比率である回収率を調整して運転する逆浸透膜分離装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。   Conventionally, in order to suppress precipitation of silica-based scale, a silica concentration sensor (silica concentration detection means) has been provided, and the flow rate of the supply water supplied to the RO membrane module is within a range where the silica concentration of the concentrated water does not exceed the silica solubility. There is known a reverse osmosis membrane separation apparatus that operates by adjusting the recovery rate, which is the ratio of the flow rate of permeated water to the water (see, for example, Patent Document 1).

特開2005−81254号公報JP 2005-81254 A

上記特許文献1に記載された逆浸透膜分離装置では、濃縮水のシリカ濃度が高いため、従来の簡易な構成のシリカ濃度センサでは、濃縮水のシリカ濃度を精度よく検出することが難しかった。そのため、回収率の調整に際して、濃縮水のシリカ濃度を正確に検出することができない場合には、濃縮水のシリカ濃度を調整することが難しく、シリカ系スケールの析出が抑制することが難しくなる。   In the reverse osmosis membrane separation device described in Patent Document 1, since the silica concentration of concentrated water is high, it is difficult to accurately detect the silica concentration of concentrated water with a conventional silica concentration sensor having a simple configuration. Therefore, when adjusting the recovery rate, if the concentration of silica in the concentrated water cannot be accurately detected, it is difficult to adjust the silica concentration of the concentrated water, and it is difficult to suppress the precipitation of the silica-based scale.

従って、本発明は、逆浸透膜モジュールにより分離された濃縮水のシリカ濃度値を簡易な構成で精度よく検出することができ、精度よく検出された濃縮水のシリカ濃度値に基づいて回収率を調整して、シリカ系スケールの析出を抑制することができる水処理装置を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention can accurately detect the silica concentration value of the concentrated water separated by the reverse osmosis membrane module with a simple configuration, and the recovery rate can be determined based on the silica concentration value of the concentrated water detected accurately. It aims at providing the water treatment apparatus which can adjust and suppress precipitation of a silica type scale.

本発明は、水処理装置であって、供給水を第1透過水と第1濃縮水とに分離する第1逆浸透膜モジュールと、前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1濃縮水に、前記水処理装置内を流通する希釈水を混合して第1希釈濃縮水を製造する希釈手段と、前記水処理装置内を流通する希釈水のシリカ濃度を第1検出シリカ濃度値として検出する第1シリカ濃度検出手段と、前記希釈手段により製造された第1希釈濃縮水のシリカ濃度を第2検出シリカ濃度値として検出する第2シリカ濃度検出手段と、前記第1検出シリカ濃度値と前記第2検出シリカ濃度値とから、前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1濃縮水のシリカ濃度を演算シリカ濃度値として演算し、前記演算シリカ濃度値が許容シリカ濃度値となるように、前記第1逆浸透膜モジュールへ供給される供給水の流量に対する第1透過水の流量の比率である回収率を調整する制御部と、を備える水処理装置に関する。   The present invention is a water treatment apparatus, wherein a first reverse osmosis membrane module that separates supply water into a first permeated water and a first concentrated water, and a first concentrated water separated by the first reverse osmosis membrane module. And dilution means for mixing the dilution water flowing through the water treatment device to produce first diluted concentrated water, and detecting the silica concentration of the dilution water flowing through the water treatment device as a first detection silica concentration value First silica concentration detection means, second silica concentration detection means for detecting the silica concentration of the first diluted concentrated water produced by the dilution means as a second detection silica concentration value, and the first detection silica concentration value From the second detected silica concentration value, the silica concentration of the first concentrated water separated by the first reverse osmosis membrane module is calculated as the calculated silica concentration value, so that the calculated silica concentration value becomes the allowable silica concentration value. The above A control unit for adjusting the recovery rate is the flow rate ratio of the first permeate to the flow rate of the feed water supplied to the reverse osmosis membrane module, on water treatment apparatus comprising a.

また、前記水処理装置内を流通する希釈水は、前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1透過水であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the dilution water which distribute | circulates the inside of the said water treatment apparatus is the 1st permeated water isolate | separated by the said 1st reverse osmosis membrane module.

また、前記第1逆浸透膜モジュールで分離された第1透過水を、第2透過水と第2濃縮水とに分離する第2逆浸透膜モジュールを更に備え、前記水処理装置内を流通する希釈水は、前記第2逆浸透膜モジュールにより分離された第2透過水であることが好ましい。   The apparatus further comprises a second reverse osmosis membrane module that separates the first permeate separated by the first reverse osmosis membrane module into a second permeate and a second concentrated water, and circulates in the water treatment apparatus. The dilution water is preferably second permeated water separated by the second reverse osmosis membrane module.

前記第1逆浸透膜モジュールで分離された第1透過水を脱イオン処理して、脱イオン水と濃縮水とを得る脱イオン部を更に備え、前記水処理装置内を流通する希釈水は、前記脱イオン部により得られた脱イオン水であることが好ましい。   The first permeated water separated by the first reverse osmosis membrane module is further deionized to obtain deionized water and concentrated water, and the dilution water flowing through the water treatment device is: Deionized water obtained by the deionization part is preferable.

供給水の温度又は前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1濃縮水の温度を検出温度値として検出する温度検出手段を備え、前記制御部は、前記許容シリカ濃度値を、前記検出温度値から決定した第1濃縮水のシリカ溶解度に安全率を乗じて算出することが好ましい。   A temperature detecting unit configured to detect a temperature of the supplied water or a temperature of the first concentrated water separated by the first reverse osmosis membrane module as a detected temperature value, and the control unit determines the allowable silica concentration value as the detected temperature; It is preferable to calculate by multiplying the silica solubility of the first concentrated water determined from the value by the safety factor.

また、Vcを第1濃縮水のサンプル水量値とし、Vpを希釈水のサンプル水量値とし、Ccを第1濃縮水の演算シリカ濃度値とし、Cpを希釈水の第1検出シリカ濃度値とし、Cmを第1希釈濃縮水の第2検出シリカ濃度値とした場合に、前記制御部は、Cc=[Cm・(Vc+Vp)−Cp・Vp]/Vcの計算式より、第1濃縮水の前記演算シリカ濃度値Ccを演算することが好ましい。   Also, Vc is the sample water amount value of the first concentrated water, Vp is the sample water amount value of the diluted water, Cc is the calculated silica concentration value of the first concentrated water, Cp is the first detected silica concentration value of the diluted water, When Cm is the second detected silica concentration value of the first diluted concentrated water, the control unit calculates the first concentrated water from the calculation formula of Cc = [Cm · (Vc + Vp) −Cp · Vp] / Vc. It is preferable to calculate the calculated silica concentration value Cc.

前記制御部は、前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1透過水の流量を一定に維持すると共に、前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1濃縮水の流量を増減させて、前記演算シリカ濃度値が前記許容シリカ濃度値となるように、前記回収率を調整することが好ましい。   The control unit maintains a constant flow rate of the first permeated water separated by the first reverse osmosis membrane module and increases or decreases a flow rate of the first concentrated water separated by the first reverse osmosis membrane module. It is preferable to adjust the recovery rate so that the calculated silica concentration value becomes the allowable silica concentration value.

前記制御部は、前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1濃縮水の流量を一定に維持すると共に、前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1透過水の流量を増減させて、前記演算シリカ濃度値が前記許容シリカ濃度値となるように、前記回収率を調整することが好ましい。   The controller maintains a constant flow rate of the first concentrated water separated by the first reverse osmosis membrane module and increases or decreases a flow rate of the first permeated water separated by the first reverse osmosis membrane module. It is preferable to adjust the recovery rate so that the calculated silica concentration value becomes the allowable silica concentration value.

前記希釈手段は、前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1濃縮水と希釈水とが混合される混合槽と、前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1濃縮水の水圧により前記混合槽に導入される際に駆動される駆動部と、前記駆動部の駆動に従動して駆動される従動部であって前記混合槽へ向けて水圧を発生させて前記第1濃縮水の水圧よりも低い水圧の希釈水を前記混合槽に導入する従動部と、を有することが好ましい。   The dilution means includes a mixing tank in which the first concentrated water and the diluted water separated by the first reverse osmosis membrane module are mixed, and the water pressure of the first concentrated water separated by the first reverse osmosis membrane module. A driving unit that is driven when being introduced into the mixing tank; and a driven unit that is driven by the driving of the driving unit, and generates water pressure toward the mixing tank to generate the first concentrated water. It is preferable to have a driven portion that introduces dilution water having a lower water pressure than the water pressure into the mixing tank.

また、前記第1シリカ濃度検出手段及び前記第2シリカ濃度検出手段は、2以上の異なる濃度測定レンジを切替可能な単一のシリカ濃度測定手段により構成されることが好ましい。   The first silica concentration detecting means and the second silica concentration detecting means are preferably constituted by a single silica concentration measuring means capable of switching between two or more different concentration measuring ranges.

また、前記第1逆浸透膜モジュールは、複数のサブモジュールを備え、前記複数のサブモジュールは、前記複数のサブモジュールそれぞれから分離された濃縮水が次のサブモジュールに供給されるように直列に接続され、前記水処理装置は、前記複数のサブモジュールのうちの最下流側以外のサブモジュールから排出される濃縮水のシリカ濃度を第3検出シリカ濃度値として検出する第3シリカ濃度検出手段と、警報を報知する報知手段と、を備え、前記制御部は、前記第3検出シリカ濃度値が所定閾値を上回る場合に、前記報知手段による報知を実行することが好ましい。   The first reverse osmosis membrane module includes a plurality of submodules, and the plurality of submodules are connected in series so that the concentrated water separated from each of the plurality of submodules is supplied to the next submodule. A third silica concentration detecting means for detecting, as a third detection silica concentration value, a silica concentration of the concentrated water discharged from the sub-module other than the most downstream of the plurality of sub-modules; Preferably, the control unit performs notification by the notification unit when the third detection silica concentration value exceeds a predetermined threshold value.

また、本発明は、水処理装置であって、供給水を第1透過水と第1濃縮水とに分離する第1逆浸透膜モジュールと、前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1透過水を脱イオン処理して、脱イオン水と濃縮水とを得る脱イオン部と、前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1濃縮水に、前記水処理装置内を流通する希釈水としての脱イオン水を混合して第2希釈濃縮水を製造する希釈手段と、前記希釈手段により製造された第2希釈濃縮水のシリカ濃度を第4検出シリカ濃度値として検出する第4シリカ濃度検出手段と、前記脱イオン部により得られた希釈水としての脱イオン水のシリカ濃度をゼロと看做して、前記第4検出シリカ濃度値から、前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1濃縮水のシリカ濃度を演算シリカ濃度値として演算し、前記演算シリカ濃度値が許容シリカ濃度値となるように、前記第1逆浸透膜モジュールへ供給される供給水の流量に対する第1透過水の流量の比率である回収率を調整する制御部と、を備える水処理装置に関する。 Moreover, this invention is a water treatment apparatus, Comprising: The 1st reverse osmosis membrane module which isolate | separates supply water into 1st permeated water and 1st concentrated water, and the 1st separated by the said 1st reverse osmosis membrane module Diluted water that circulates in the water treatment device into the deionized part that deionizes the permeated water to obtain deionized water and concentrated water, and the first concentrated water separated by the first reverse osmosis membrane module. A deionizing means for mixing the deionized water to produce a second diluted concentrated water, and a fourth silica concentration for detecting the silica concentration of the second diluted concentrated water produced by the diluting means as a fourth detected silica concentration value Assuming that the silica concentration of the deionized water as the dilution water obtained by the detection means and the deionizing unit is zero, the silica was separated from the fourth detected silica concentration value by the first reverse osmosis membrane module. first calculating the silica concentration of concentrated water The recovery rate is a ratio of the flow rate of the first permeated water to the flow rate of the supplied water supplied to the first reverse osmosis membrane module so that the calculated silica concentration value becomes an allowable silica concentration value. And a control unit that adjusts the water treatment device.

本発明によれば、逆浸透膜モジュールにより分離された濃縮水のシリカ濃度値を簡易な構成で精度よく検出することができ、精度よく検出された濃縮水のシリカ濃度値に基づいて回収率を調整して、シリカ系スケールの析出を抑制することができる水処理装置を提供することができる。   According to the present invention, the silica concentration value of the concentrated water separated by the reverse osmosis membrane module can be accurately detected with a simple configuration, and the recovery rate can be determined based on the silica concentration value of the concentrated water detected accurately. The water treatment apparatus which can adjust and can suppress precipitation of a silica type scale can be provided.

第1実施形態に係る純水製造装置1の全体概略図である。1 is an overall schematic diagram of a pure water production apparatus 1 according to a first embodiment. 第1実施形態に係る純水製造装置1の全体構成図の前段部分である。It is the front | former part of the whole block diagram of the pure water manufacturing apparatus 1 which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る純水製造装置1の全体構成図の中段部分である。It is the middle stage part of the whole block diagram of the pure water manufacturing apparatus 1 which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る純水製造装置1の全体構成図の後段部分である。It is a back | latter stage part of the whole block diagram of the pure water manufacturing apparatus 1 which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態のRO膜モジュール7の内部構造を示す図である。It is a figure which shows the internal structure of RO membrane module 7 of 1st Embodiment. シリカ濃度センサSS1〜SS3Bの全体構成を示す図であるIt is a figure which shows the whole structure of silica concentration sensor SS1-SS3B. 検査水W101のシリカ濃度が0mgSiO/L(蒸留水)と0.1mgSiO/Lと0.2mgSiO/Lの場合において、試薬添加開始からの経過時間と、検査水W101の吸光度と、の関係を示すグラフである。When the silica concentration of the test water W101 is 0 mgSiO 2 / L (distilled water), 0.1 mgSiO 2 / L, and 0.2 mgSiO 2 / L, the elapsed time from the start of reagent addition and the absorbance of the test water W101 It is a graph which shows a relationship. 希釈装置18の全体概略図である。1 is an overall schematic diagram of a dilution device 18. FIG. 制御部30において流量フィードバック水量制御を実行する場合の処理手順を示すフローチャートである。5 is a flowchart showing a processing procedure when flow rate feedback water amount control is executed in the control unit 30. 制御部30において回収率を調整する制御を実行する場合の処理手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process sequence in the case of performing control which adjusts a collection rate in the control part 30. FIG. 制御部30においてRO膜モジュール7の内部において濃縮水の濃度が高い場合に警報が報知される制御を示すフローチャートである。7 is a flowchart showing control in which an alarm is notified when the concentration of concentrated water is high inside the RO membrane module 7 in the control unit 30. 第2実施形態に係る純水製造装置1Aの全体概略図である。It is the whole schematic diagram of the pure water manufacturing apparatus 1A which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係る純水製造装置1Aの全体構成図の前段部分である。It is a front | former part of the whole block diagram of the pure water manufacturing apparatus 1A which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係る純水製造装置1Aの全体構成図の中段部分である。It is the middle stage part of the whole block diagram of the pure water manufacturing apparatus 1A which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係る純水製造装置1Aの全体構成図の後段部分である。It is a back | latter stage part of the whole block diagram of the pure water manufacturing apparatus 1A which concerns on 2nd Embodiment. 第1実施形態における第1シリカ濃度センサSS1及び第2シリカ濃度センサSS2を、単一の第5シリカ濃度センサSS5により構成した場合の図である。It is a figure at the time of comprising the 1st silica concentration sensor SS1 and 2nd silica concentration sensor SS2 in 1st Embodiment by the single 5th silica concentration sensor SS5.

以下、本発明に係る水処理装置を純水製造装置に適用した場合の実施形態について説明する。
(第1実施形態)
まず、第1実施形態に係る純水製造装置1について、図面を参照しながら説明する。図1は、第1実施形態に係る純水製造装置1の全体概略図である。図2Aは、第1実施形態に係る純水製造装置1の全体構成図の前段部分である。図2Bは、第1実施形態に係る純水製造装置1の全体構成図の中段部分である。図2Cは、第1実施形態に係る純水製造装置1の全体構成図の後段部分である。図3は、第1実施形態のRO膜モジュール7の内部構造を示す図である。図4は、シリカ濃度センサSS1〜SS3Bの全体構成を示す図である。図5は、検査水W101のシリカ濃度が0mgSiO/L(蒸留水)と0.1mgSiO/Lと0.2mgSiO/Lの場合において、試薬添加開始からの経過時間と、検査水W101の吸光度と、の関係を示すグラフである。図6は、希釈装置18の全体概略図である。本実施形態に係る純水製造装置1は、例えば、原水(例えば、水道水)から透過水や脱イオン水を製造する純水製造装置に適用される。純水製造装置1で製造された透過水や脱イオン水は、純水として、需要箇所等に送出される。なお、本実施形態に係る純水製造装置1において、需要箇所等へ純水を供給することを「採水」ともいう。
Hereinafter, an embodiment when the water treatment apparatus according to the present invention is applied to a pure water production apparatus will be described.
(First embodiment)
First, the pure water manufacturing apparatus 1 which concerns on 1st Embodiment is demonstrated, referring drawings. FIG. 1 is an overall schematic diagram of a pure water production apparatus 1 according to the first embodiment. FIG. 2A is a front part of the overall configuration diagram of the pure water producing apparatus 1 according to the first embodiment. FIG. 2B is a middle part of the entire configuration diagram of the pure water producing apparatus 1 according to the first embodiment. FIG. 2C is a rear part of the entire configuration diagram of the pure water producing apparatus 1 according to the first embodiment. FIG. 3 is a diagram showing an internal structure of the RO membrane module 7 of the first embodiment. FIG. 4 is a diagram illustrating the overall configuration of the silica concentration sensors SS1 to SS3B. FIG. 5 shows the elapsed time from the start of reagent addition and the test water W101 when the silica concentration of the test water W101 is 0 mgSiO 2 / L (distilled water), 0.1 mgSiO 2 / L, and 0.2 mgSiO 2 / L. It is a graph which shows the relationship with a light absorbency. FIG. 6 is an overall schematic diagram of the diluting device 18. The pure water production apparatus 1 according to the present embodiment is applied to, for example, a pure water production apparatus that produces permeated water or deionized water from raw water (for example, tap water). The permeated water and deionized water produced by the pure water production apparatus 1 are sent as pure water to a demand location or the like. In the pure water production apparatus 1 according to the present embodiment, supplying pure water to a demand point or the like is also referred to as “water sampling”.

図1に示すように、第1実施形態に係る純水製造装置1は、第1オプション機器OP1と、プレフィルタ4と、第2オプション機器OP2と、加圧ポンプ5と、インバータ6と、第1逆浸透膜モジュールとしてのRO膜モジュール7と、脱炭酸装置15と、第1流路切換弁V71と、第3オプション機器OP3と、制御部30と、入力操作部40と、主表示部60と、を備える。   As shown in FIG. 1, the pure water production apparatus 1 according to the first embodiment includes a first optional device OP1, a prefilter 4, a second optional device OP2, a pressurizing pump 5, an inverter 6, RO membrane module 7 as 1 reverse osmosis membrane module, decarbonation device 15, first flow path switching valve V71, third optional device OP3, control unit 30, input operation unit 40, and main display unit 60 And comprising.

第1オプション機器OP1〜第3オプション機器OP3は、純水製造装置1に着脱可能なオプション機器として、純水製造装置1に装備される機器である。第1オプション機器OP1は、軟水器2及び活性炭濾過器3を含む。第2オプション機器OP2は、硬度センサS1及び残留塩素センサS2を含む。第3オプション機器OP3は、第2比抵抗センサRS2、全有機炭素センサTOC及び第3温度センサTE3を含む。   The first option device OP1 to the third option device OP3 are devices installed in the pure water production apparatus 1 as optional equipment that can be attached to and detached from the pure water production apparatus 1. The first optional device OP <b> 1 includes a water softener 2 and an activated carbon filter 3. The second optional device OP2 includes a hardness sensor S1 and a residual chlorine sensor S2. The third optional device OP3 includes a second specific resistance sensor RS2, a total organic carbon sensor TOC, and a third temperature sensor TE3.

また、図1に示すように、純水製造装置1は、供給水ラインL1と、透過水ラインL21と、RO透過水リターンラインL41と、RO濃縮水リターンラインL51と、を備える。なお、本明細書における「ライン」とは、流路、径路、管路等の流体の流通が可能なラインの総称である。   Moreover, as shown in FIG. 1, the pure water manufacturing apparatus 1 is provided with the supply water line L1, the permeated water line L21, the RO permeated water return line L41, and the RO concentrated water return line L51. The “line” in the present specification is a general term for lines capable of flowing a fluid such as a flow path, a radial path, and a pipeline.

また、純水製造装置1は、図2A〜図2Cに示すように、図1に示す構成に加えて、第1開閉弁V11〜第6開閉弁V16と、真空破壊弁V41と、減圧弁V42と、供給水補給弁V31と、第1排水弁V32〜第3排水弁V34と、第1定流量弁V51〜第4定流量弁V54と、第1逆止弁V61〜第4逆止弁V64と、第1圧力計P1〜第3圧力計P3と、第1圧力センサPS1及び第2圧力センサPS2と、圧力スイッチPSWと、第1温度センサTE1〜第3温度センサTE3と、第1流量センサFM1と、第1シリカ濃度センサSS1と、希釈手段としての希釈装置18が取り付けられた第2シリカ濃度センサSS2と、第1電気伝導率センサEC1と、第2比抵抗センサRS2と、を備える。   2A to 2C, in addition to the configuration shown in FIG. 1, the pure water producing apparatus 1 includes a first on-off valve V11 to a sixth on-off valve V16, a vacuum breaker valve V41, and a pressure reducing valve V42. A supply water supply valve V31, a first drain valve V32 to a third drain valve V34, a first constant flow valve V51 to a fourth constant flow valve V54, and a first check valve V61 to a fourth check valve V64. A first pressure gauge P1 to a third pressure gauge P3, a first pressure sensor PS1 and a second pressure sensor PS2, a pressure switch PSW, a first temperature sensor TE1 to a third temperature sensor TE3, and a first flow sensor. FM1, 1st silica concentration sensor SS1, 2nd silica concentration sensor SS2 to which the dilution apparatus 18 as a dilution means was attached, 1st electrical conductivity sensor EC1, and 2nd specific resistance sensor RS2 are provided.

図1、図2A〜図2Cでは、電気的な接続の経路を省略するが、制御部30は、供給水補給弁V31、第1流路切換弁V71、第1排水弁V32〜第3排水弁V34、圧力スイッチPSW、第1温度センサTE1〜第3温度センサTE3、第1圧力センサPS1及び第2圧力センサPS2、第1流量センサFM1、第1電気伝導率センサEC1、第2比抵抗センサRS2、全有機炭素センサTOC、硬度センサS1、残留塩素センサS2、第1シリカ濃度センサSS1及び第2シリカ濃度センサSS2等と電気的に接続される。   In FIG. 1 and FIG. 2A to FIG. 2C, the electrical connection path is omitted, but the control unit 30 is configured to supply water supply valve V31, first flow path switching valve V71, first drain valve V32 to third drain valve. V34, pressure switch PSW, first temperature sensor TE1 to third temperature sensor TE3, first pressure sensor PS1 and second pressure sensor PS2, first flow sensor FM1, first conductivity sensor EC1, second specific resistance sensor RS2. , The total organic carbon sensor TOC, the hardness sensor S1, the residual chlorine sensor S2, the first silica concentration sensor SS1, the second silica concentration sensor SS2, and the like.

まず、純水製造装置1における全体構成図の前段部分について説明する。   First, the front part of the overall configuration diagram in the pure water production apparatus 1 will be described.

図1及び図2Aに示すように、供給水ラインL1には、供給水W1が流通する。供給水ラインL1は、供給水W1を、RO膜モジュール7へ流通させるラインである。供給水ラインL1は、第1供給水ラインL11と、第2供給水ラインL12と、を有する。   As shown in FIGS. 1 and 2A, the supply water W1 flows through the supply water line L1. The supply water line L1 is a line through which the supply water W1 is circulated to the RO membrane module 7. The supply water line L1 includes a first supply water line L11 and a second supply water line L12.

第1供給水ラインL11には、原水W11(供給水W1)が流通する。第1供給水ラインL11は、原水W11の供給源(不図示)と軟水器2とをつなぐラインである。第1供給水ラインL11の上流側の端部は、原水W11の供給源(不図示)に接続されている。また、第1供給水ラインL11の下流側の端部は、軟水器2に接続されている。   The raw water W11 (supply water W1) flows through the first supply water line L11. The first supply water line L11 is a line that connects a supply source (not shown) of the raw water W11 and the water softener 2. The upstream end of the first supply water line L11 is connected to a supply source (not shown) of the raw water W11. Further, the downstream end of the first supply water line L <b> 11 is connected to the water softener 2.

第1供給水ラインL11には、図2Aに示すように、上流側から順に、接続部J1、第1開閉弁V11、及び軟水器2が設けられている。第1開閉弁V11は、第1供給水ラインL11の開閉を操作可能な手動弁である。   As shown in FIG. 2A, the first supply water line L11 is provided with a connecting portion J1, a first on-off valve V11, and a water softener 2 in order from the upstream side. The first on-off valve V11 is a manual valve that can be operated to open and close the first supply water line L11.

軟水器2は、原水W11中に含まれる硬度成分をナトリウムイオンに置換して軟水W12(供給水W1)を製造する機器である。軟水器2は、圧力タンク内に陽イオン交換樹脂床を収容したイオン交換塔を有する。   The water softener 2 is an apparatus that manufactures the soft water W12 (feed water W1) by replacing the hardness component contained in the raw water W11 with sodium ions. The water softener 2 has an ion exchange tower containing a cation exchange resin bed in a pressure tank.

第2供給水ラインL12には、軟水W12(供給水W1)が流通する。第2供給水ラインL12は、軟水W12を、RO膜モジュール7へ流通させるラインである。第2供給水ラインL12は、軟水器2とRO膜モジュール7とをつなぐラインである。図2Aに示すように、第2供給水ラインL12の上流側の端部は、軟水器2に接続されている。また、図2Bに示すように、第2供給水ラインL12の下流側の端部は、RO膜モジュール7の一次側入口ポート(供給水W1の入口)に接続されている。   Soft water W12 (supply water W1) flows through the second supply water line L12. The second supply water line L12 is a line through which the soft water W12 is circulated to the RO membrane module 7. The second supply water line L <b> 12 is a line that connects the water softener 2 and the RO membrane module 7. As shown in FIG. 2A, the upstream end of the second supply water line L <b> 12 is connected to the water softener 2. As shown in FIG. 2B, the downstream end of the second supply water line L12 is connected to the primary inlet port (inlet for the supply water W1) of the RO membrane module 7.

第2供給水ラインL12には、上流側から順に、図2Aに示すように、第2開閉弁V12、接続部J2、第3開閉弁V13、活性炭濾過器3、第4開閉弁V14、接続部J3、プレフィルタ4、接続部J4、及び接続部J5が設けられている。また、接続部J5以降には、図2Bに示すように、第5開閉弁V15、接続部J6、減圧弁V42、供給水補給弁V31、接続部J51、接続部J7、接続部J8、加圧ポンプ5、接続部J9、及びRO膜モジュール7が設けられている。第2開閉弁V12〜第5開閉弁V15は、第2供給水ラインL12の開閉を操作可能な手動弁である。供給水補給弁V31は、第2供給水ラインL12の開閉を制御可能な自動弁である。供給水補給弁V31は、制御部30と電気的に接続されている。供給水補給弁V31の開閉は、制御部30から送信される流路開閉信号により制御される。   As shown in FIG. 2A, in order from the upstream side, the second on-off valve V12, the connecting portion J2, the third on-off valve V13, the activated carbon filter 3, the fourth on-off valve V14, and the connecting portion are connected to the second supply water line L12. J3, the prefilter 4, the connection part J4, and the connection part J5 are provided. Further, after the connecting portion J5, as shown in FIG. 2B, as shown in FIG. 2B, the fifth on-off valve V15, the connecting portion J6, the pressure reducing valve V42, the supply water replenishing valve V31, the connecting portion J51, the connecting portion J7, the connecting portion J8, A pump 5, a connection portion J9, and an RO membrane module 7 are provided. The second on-off valve V12 to the fifth on-off valve V15 are manual valves that can be operated to open and close the second supply water line L12. The supply water supply valve V31 is an automatic valve that can control the opening and closing of the second supply water line L12. The supply water supply valve V31 is electrically connected to the control unit 30. The opening and closing of the supply water replenishing valve V31 is controlled by a flow path opening / closing signal transmitted from the control unit 30.

活性炭濾過器3は、軟水W12(供給水W1)に含まれる塩素成分(主として遊離残留塩素)を除去する機器である。活性炭濾過器3は、圧力タンク内に活性炭からなる濾材床を収容した濾過塔を有する。活性炭濾過器3は、軟水W12に含まれる塩素成分を分解除去する他、有機成分を吸着除去したり、懸濁物質を捕捉したりして軟水W12(供給水W1)を浄化する。   The activated carbon filter 3 is a device that removes chlorine components (mainly free residual chlorine) contained in the soft water W12 (feed water W1). The activated carbon filter 3 has a filtration tower in which a filter medium bed made of activated carbon is housed in a pressure tank. The activated carbon filter 3 purifies the soft water W12 (feed water W1) by decomposing and removing the chlorine component contained in the soft water W12, adsorbing and removing organic components, and capturing suspended substances.

プレフィルタ4は、活性炭濾過器3により浄化された軟水W12(供給水W1)に含まれる微粒子を除去するフィルタである。プレフィルタ4は、ハウジング内にフィルタエレメントが収容されて構成される。フィルタエレメントとしては、例えば、濾過精度が1〜50μmの不織布フィルタエレメント又は糸巻きフィルタエレメント等が用いられる。   The prefilter 4 is a filter that removes fine particles contained in the soft water W12 (supply water W1) purified by the activated carbon filter 3. The prefilter 4 is configured by accommodating a filter element in a housing. As the filter element, for example, a nonwoven fabric filter element or a thread-wound filter element having a filtration accuracy of 1 to 50 μm is used.

硬度センサS1は、供給水ラインL1を流通する供給水W1の全硬度(すなわち、硬度リーク量)を測定する機器である。残留塩素センサS2は、供給水ラインL1を流通する供給水W1の遊離残留塩素濃度(すなわち、塩素リーク量)を測定する機器である。硬度センサS1及び残留塩素センサS2は、図2Aに示すように、測定ラインL110を介して、接続部J5において供給水ラインL1に接続されている。接続部J5は、供給水ラインL1におけるプレフィルタ4と第5開閉弁V15との間に配置されている。硬度センサS1及び残留塩素センサS2は、制御部30と電気的に接続されている。硬度センサS1で測定された硬度リーク量、及び残留塩素センサS2で測定された塩素リーク量は、それぞれ制御部30へ検出信号として送信される。なお、接続部J5には、後述する軟水供給ラインL24の上流側の端部が接続されている。   The hardness sensor S1 is a device that measures the total hardness (that is, the hardness leak amount) of the supply water W1 flowing through the supply water line L1. The residual chlorine sensor S2 is a device that measures the free residual chlorine concentration (that is, chlorine leak amount) of the supply water W1 flowing through the supply water line L1. As shown in FIG. 2A, the hardness sensor S1 and the residual chlorine sensor S2 are connected to the supply water line L1 at the connection portion J5 via the measurement line L110. The connecting part J5 is disposed between the prefilter 4 and the fifth on-off valve V15 in the supply water line L1. The hardness sensor S1 and the residual chlorine sensor S2 are electrically connected to the control unit 30. The hardness leak amount measured by the hardness sensor S1 and the chlorine leak amount measured by the residual chlorine sensor S2 are transmitted to the control unit 30 as detection signals, respectively. Note that an upstream end portion of a soft water supply line L24 described later is connected to the connecting portion J5.

次に、純水製造装置1における全体構成図の中段部分について説明する。
図2Bに示すように、接続部J6には、真空破壊弁V41が接続されている。真空破壊弁V41は、常閉式の圧力作動弁であり、供給水ラインL1の管内圧力が大気圧力よりも低くなった場合に弁が開いて大気を吸入する。真空破壊弁V41を設けることにより、原水W11(供給水W1)が断水となって供給水ラインL1が負圧になったとしても、RO膜モジュール7の膜の破損等の不具合を防止することができる。
Next, the middle part of the overall configuration diagram in the pure water production apparatus 1 will be described.
As shown in FIG. 2B, a vacuum breaker valve V41 is connected to the connecting portion J6. The vacuum breaker valve V41 is a normally closed pressure operating valve, and when the pressure in the supply water line L1 becomes lower than the atmospheric pressure, the valve opens to suck the atmosphere. By providing the vacuum breaker valve V41, even if the raw water W11 (feed water W1) is cut off and the feed water line L1 becomes negative pressure, it is possible to prevent problems such as damage to the membrane of the RO membrane module 7. it can.

減圧弁V42は、軟水器2、活性炭濾過器3及びプレフィルタ4を通過した軟水W12の圧力を、RO膜モジュール7から流出する濃縮水W3の圧力よりも低い圧力に調整する機器である。減圧弁V42は、軟水W12の圧力よりも濃縮水W3の圧力が大きく(軟水W12の圧力<濃縮水W3の圧力)なるように、軟水W12の圧力を調整する。これにより、濃縮水W3の一部が軟水W12に循環され、軟水W12に濃縮水W3が混合された供給水は、RO膜モジュール7に供給される。すなわち、RO膜モジュール7においては、加圧ポンプ5により供給水を循環させながら、透過水を生産するクロスフロー方式の分離操作が行われる。   The pressure reducing valve V42 is a device that adjusts the pressure of the soft water W12 that has passed through the water softener 2, the activated carbon filter 3, and the prefilter 4 to a pressure lower than the pressure of the concentrated water W3 flowing out from the RO membrane module 7. The pressure reducing valve V42 adjusts the pressure of the soft water W12 so that the pressure of the concentrated water W3 is larger than the pressure of the soft water W12 (pressure of the soft water W12 <pressure of the concentrated water W3). Thereby, a part of the concentrated water W3 is circulated to the soft water W12, and the supply water in which the concentrated water W3 is mixed with the soft water W12 is supplied to the RO membrane module 7. That is, in the RO membrane module 7, a cross-flow type separation operation for producing permeated water is performed while circulating the supply water by the pressure pump 5.

加圧ポンプ5は、供給水ラインL1を流通する供給水W1を吸入し、RO膜モジュール7へ向けて圧送(吐出)する装置である。加圧ポンプ5には、インバータ6から周波数が変換された駆動電力が供給される。加圧ポンプ5は、供給された駆動電力の周波数(以下、「駆動周波数」ともいう)に応じた回転速度で駆動される。   The pressurizing pump 5 is a device that sucks in the supply water W1 flowing through the supply water line L1 and pumps (discharges) it toward the RO membrane module 7. The pressurizing pump 5 is supplied with driving power whose frequency is converted from the inverter 6. The pressurizing pump 5 is driven at a rotational speed corresponding to the frequency of the supplied driving power (hereinafter also referred to as “driving frequency”).

インバータ6は、加圧ポンプ5に、周波数が変換された駆動電力を供給する電気回路(又はその回路を持つ装置)である。インバータ6は、制御部30と電気的に接続されている。インバータ6には、制御部30から周波数指定信号が入力される。インバータ6は、制御部30により入力された周波数指定信号(電流値信号又は電圧値信号)に対応する駆動周波数の駆動電力を加圧ポンプ5に出力する。   The inverter 6 is an electric circuit (or a device having the circuit) that supplies driving power whose frequency is converted to the pressure pump 5. The inverter 6 is electrically connected to the control unit 30. A frequency designation signal is input to the inverter 6 from the control unit 30. The inverter 6 outputs driving power having a driving frequency corresponding to the frequency designation signal (current value signal or voltage value signal) input by the control unit 30 to the pressurizing pump 5.

RO膜モジュール7は、加圧ポンプ5により圧送された供給水W1を、溶存塩類が除去された透過水W2(第1透過水)と、溶存塩類が濃縮された濃縮水W3(第1濃縮水)と、に分離する。RO膜モジュール7は、単一又は複数のスパイラル型RO膜エレメントを圧力容器(ベッセル)に収容して構成される。当該RO膜エレメントに使用されるRO膜としては、架橋芳香族ポリアミド系複合膜等が例示される。架橋芳香族ポリアミド系複合膜からなるRO膜エレメントとしては、東レ社製:型式名「TMG20−400」、ウンジン・ケミカル社製:型式名「RE8040−BLF」、日東電工社製:型式名「ESPA1」等が市販されており、これらのエレメントを好適に用いることができる。   The RO membrane module 7 uses supply water W1 pumped by the pressurization pump 5 as permeate water W2 from which dissolved salts have been removed (first permeate) and concentrated water W3 from which dissolved salts have been concentrated (first concentrate water). ) And separated. The RO membrane module 7 is configured by accommodating a single or a plurality of spiral RO membrane elements in a pressure vessel (vessel). Examples of the RO membrane used for the RO membrane element include a crosslinked aromatic polyamide composite membrane. Examples of RO membrane elements composed of a crosslinked aromatic polyamide composite membrane include: Toray Industries, Inc .: model name “TMG20-400”, Eunjin Chemical Co., Ltd .: model name: “RE8040-BLF”, Nitto Denko Corporation: model name: “ESPA1” Are commercially available, and these elements can be suitably used.

ここで、RO膜モジュール7の内部構成について説明する。本実施形態においては、RO膜モジュール7は、分離処理水(透過水)の製造水量を高めるため、図3に示すように、3つのサブモジュール71,72,73を有している。3つのサブモジュール71,72,73は、3つのサブモジュール71,72,73それぞれから分離されたモジュール濃縮水W151,W152,W153が次のサブモジュールに供給されるように直列に接続される。3つのサブモジュール71,72,73は、上流側から下流側に向かって順に、第1サブモジュール71と、第2サブモジュール72と、第3サブモジュール73とが接続されて構成されている。3つのサブモジュール71,72,73それぞれは、RO膜エレメントを圧力容器(ベッセル)に収容している。   Here, the internal configuration of the RO membrane module 7 will be described. In the present embodiment, the RO membrane module 7 has three submodules 71, 72, and 73 as shown in FIG. 3 in order to increase the production water volume of the separation treated water (permeated water). The three submodules 71, 72, 73 are connected in series so that the module concentrated water W151, W152, W153 separated from each of the three submodules 71, 72, 73 is supplied to the next submodule. The three submodules 71, 72, 73 are configured by connecting a first submodule 71, a second submodule 72, and a third submodule 73 in order from the upstream side to the downstream side. Each of the three submodules 71, 72, 73 contains the RO membrane element in a pressure vessel (vessel).

RO膜モジュール7は、図3に示すように、その内部に、3つのサブモジュール71,72,73を接続する複数のラインを有する。RO膜モジュール7は、モジュール導入ラインL81と、第1モジュール透過水ラインL821と、第2モジュール透過水ラインL822と、第3モジュール透過水ラインL823と、モジュール透過水導出ラインL83と、第1モジュール濃縮水ラインL841と、第2モジュール濃縮水ラインL842と、モジュール濃縮水導出ラインL85と、を備える。また、RO膜モジュール7は、その内部に、第3シリカ濃度検出手段としての第3Aシリカ濃度センサSS3Aと、第3シリカ濃度検出手段としての第3Bシリカ濃度センサSS3Bと、を備える。   As shown in FIG. 3, the RO membrane module 7 has a plurality of lines connecting the three sub modules 71, 72, 73 therein. The RO membrane module 7 includes a module introduction line L81, a first module permeate water line L821, a second module permeate water line L822, a third module permeate water line L823, a module permeate water outlet line L83, and a first module. A concentrated water line L841, a second module concentrated water line L842, and a module concentrated water outlet line L85 are provided. The RO membrane module 7 includes therein a 3A silica concentration sensor SS3A as third silica concentration detection means and a 3B silica concentration sensor SS3B as third silica concentration detection means.

モジュール導入ラインL81は、RO膜モジュール7の一次側入口ポートに接続された第2供給水ラインL12の下流側の端部と第1サブモジュール71の一次側入口ポートとをつなぐラインである。第1モジュール透過水ラインL821は、第1サブモジュール71の二次側出口ポートと接続部J81とをつなぐラインである。第2モジュール透過水ラインL822は、第2サブモジュール72の二次側出口ポートと接続部J81とをつなぐラインである。第3モジュール透過水ラインL823は、第3サブモジュール73の二次側出口ポートと接続部J82とをつなぐラインである。モジュール透過水導出ラインL83は、接続部J81と、接続部J82と、RO膜モジュール7の一次側出口ポートに接続された透過水ラインL21の上流側の端部とをつなぐラインである。   The module introduction line L81 is a line that connects the downstream end of the second supply water line L12 connected to the primary inlet port of the RO membrane module 7 and the primary inlet port of the first submodule 71. The first module permeate line L821 is a line that connects the secondary side outlet port of the first submodule 71 and the connection portion J81. The second module permeated water line L822 is a line that connects the secondary side outlet port of the second submodule 72 and the connecting portion J81. The third module permeated water line L823 is a line that connects the secondary side outlet port of the third submodule 73 and the connection portion J82. The module permeated water lead-out line L83 is a line that connects the connecting part J81, the connecting part J82, and the upstream end of the permeated water line L21 connected to the primary outlet port of the RO membrane module 7.

第1モジュール濃縮水ラインL841は、第1サブモジュール71の一次側出口ポートと第2サブモジュール72の一次側入口ポートとをつなぐラインである。第2モジュール濃縮水ラインL842は、第2サブモジュール72の一次側出口ポートと第3サブモジュール73の一次側入口ポートとをつなぐラインである。モジュール濃縮水導出ラインL85は、第3サブモジュール73の一次側出口ポートとRO膜モジュール7の一次側出口ポートに接続されたRO濃縮水リターンラインL51の下流側の端部とをつなぐラインである。   The first module concentrated water line L841 is a line that connects the primary side outlet port of the first submodule 71 and the primary side inlet port of the second submodule 72. The second module concentrated water line L842 is a line that connects the primary side outlet port of the second submodule 72 and the primary side inlet port of the third submodule 73. The module concentrated water outlet line L85 is a line connecting the primary side outlet port of the third submodule 73 and the downstream end of the RO concentrated water return line L51 connected to the primary side outlet port of the RO membrane module 7. .

第1サブモジュール71には、RO膜モジュール7に供給された供給水W1が、モジュール導入ラインL81を通してサブモジュール供給水W13として供給される。第1サブモジュール71は、サブモジュール供給水W13を、第1モジュール透過水W141と、第1モジュール濃縮水W151とに分離する。   The supply water W1 supplied to the RO membrane module 7 is supplied to the first submodule 71 as the submodule supply water W13 through the module introduction line L81. The first submodule 71 separates the submodule supply water W13 into a first module permeated water W141 and a first module concentrated water W151.

第2サブモジュール72には、第1サブモジュール71により分離された第1モジュール濃縮水W151が、第1モジュール濃縮水ラインL841を通して供給される。第2サブモジュール72は、第1サブモジュール71により分離された第1モジュール濃縮水W151を、第2モジュール透過水W142と、第2モジュール濃縮水W152とに分離する。   The first module concentrated water W151 separated by the first submodule 71 is supplied to the second submodule 72 through the first module concentrated water line L841. The second submodule 72 separates the first module concentrated water W151 separated by the first submodule 71 into a second module permeated water W142 and a second module concentrated water W152.

第3サブモジュール73には、第2サブモジュール72により分離された第2モジュール濃縮水W152が、第2モジュール濃縮水ラインL842を通して供給される。第3サブモジュール73は、第2モジュール濃縮水W152を、第3モジュール透過水W143と、第3モジュール濃縮水W153とに分離する。
第3サブモジュール73により分離された第3モジュール濃縮水W153は、モジュール濃縮水導出ラインL85を通して、RO膜モジュール7の一次側出口ポート(濃縮水W3の出口)から濃縮水W3としてRO膜モジュール7の外部へ排出される。
The third module concentrated water W152 separated by the second submodule 72 is supplied to the third submodule 73 through the second module concentrated water line L842. The third submodule 73 separates the second module concentrated water W152 into a third module permeated water W143 and a third module concentrated water W153.
The third module concentrated water W153 separated by the third submodule 73 passes through the module concentrated water lead-out line L85, and is supplied from the primary outlet port (the outlet of the concentrated water W3) to the RO membrane module 7 as the concentrated water W3. It is discharged outside.

また、第1サブモジュール71により分離された第1モジュール透過水W141、第2サブモジュール72により分離された第2モジュール透過水W142、及び第3サブモジュール73により分離された第3モジュール透過水W143それぞれは、第1モジュール透過水ラインL821、第2モジュール透過水ラインL822及び第3モジュール透過水ラインL823を介して、モジュール透過水導出ラインL83を通して、RO膜モジュール7の二次側出口ポート(透過水W2の出口)から透過水W2としてRO膜モジュール7の外部へ排出される。   Further, the first module permeated water W141 separated by the first submodule 71, the second module permeated water W142 separated by the second submodule 72, and the third module permeated water W143 separated by the third submodule 73. The secondary membrane outlet port (permeation) of the RO membrane module 7 passes through the module permeate outlet line L83 via the first module permeate line L821, the second module permeate line L822, and the third module permeate line L823. From the outlet of the water W2, the permeated water W2 is discharged to the outside of the RO membrane module 7.

以上のように構成されるRO膜モジュール7は、3つのサブモジュール71,72,73それぞれにより分離した第1モジュール透過水W141〜第3モジュール透過水W143を、透過水W2として透過水ラインL21に排出すると共に、直列に接続された第1サブモジュール71、第2サブモジュール72及び第3サブモジュール73により順次分離した最下流の第3モジュール濃縮水W153を、濃縮水W3としてRO濃縮水リターンラインL51に排出する。   In the RO membrane module 7 configured as described above, the first module permeated water W141 to the third module permeated water W143 separated by the three submodules 71, 72, and 73 are transmitted to the permeated water line L21 as permeated water W2. The third module concentrated water W153 at the most downstream side that has been discharged and sequentially separated by the first sub-module 71, the second sub-module 72, and the third sub-module 73 connected in series is used as the concentrated water W3 for the RO concentrated water return line. Discharge to L51.

再び、純水製造装置1の全体構成図の中段部分における他の構成について説明する。
図2Bに示すように、RO濃縮水リターンラインL51は、RO膜モジュール7で分離された濃縮水W3の一部W31を供給水ラインL1へ返送するラインである。RO濃縮水リターンラインL51の上流側の端部は、RO膜モジュール7の一次側出口ポート(濃縮水W3の出口)に接続されている。RO濃縮水リターンラインL51の下流側の端部は、接続部J51において供給水ラインL1に接続されている。RO濃縮水リターンラインL51には、第1逆止弁V61及び第1定流量弁V51が設けられている。
Again, another configuration in the middle part of the entire configuration diagram of the pure water production apparatus 1 will be described.
As shown in FIG. 2B, the RO concentrated water return line L51 is a line for returning a part W31 of the concentrated water W3 separated by the RO membrane module 7 to the supply water line L1. The upstream end of the RO concentrated water return line L51 is connected to the primary outlet port (the outlet of the concentrated water W3) of the RO membrane module 7. The downstream end of the RO concentrated water return line L51 is connected to the supply water line L1 at the connection J51. The RO concentrated water return line L51 is provided with a first check valve V61 and a first constant flow valve V51.

RO濃縮水排出ラインL61は、RO膜モジュール7で分離された濃縮水W3の残部W32を、RO濃縮水リターンラインL51の途中から装置の外へ排出するラインである。RO濃縮水排出ラインL61の上流側の端部は、接続部J53に接続されている。接続部J53は、RO濃縮水リターンラインL51におけるRO膜モジュール7と接続部J52との間に配置されている。第1濃縮水排水ラインL611、第2濃縮水排水ラインL612及び第3濃縮水排水ラインL613の上流側の端部は、接続部J55及びJ56において、RO濃縮水排出ラインL61に接続されている。   The RO concentrated water discharge line L61 is a line for discharging the remaining portion W32 of the concentrated water W3 separated by the RO membrane module 7 from the middle of the RO concentrated water return line L51 to the outside of the apparatus. The upstream end portion of the RO concentrated water discharge line L61 is connected to the connection portion J53. The connecting portion J53 is disposed between the RO membrane module 7 and the connecting portion J52 in the RO concentrated water return line L51. The upstream end portions of the first concentrated water drain line L611, the second concentrated water drain line L612, and the third concentrated water drain line L613 are connected to the RO concentrated water discharge line L61 at the connecting portions J55 and J56.

第1濃縮水排水ラインL611〜第3濃縮水排水ラインL613には、それぞれ、第1排水弁V32〜第3排水弁V34、及び第2定流量弁V52〜第4定流量弁V54が設けられている。第2定流量弁V52〜第4定流量弁V54は、それぞれ異なる流量値に設定されている。第1排水弁V32〜第3排水弁V34により、第1濃縮水排水ラインL611〜第3濃縮水排水ラインL613を個別に開閉することができる。第1排水弁V32〜第3排水弁V34の開放数を適宜に選択することにより、装置外へ排出する濃縮水W3の排水流量を調節することができる。この調節により、透過水W2の回収率を予め設定された値に保つことができる。なお、透過水W2の回収率とは、RO膜モジュール7に供給される軟水W12(濃縮水W3の一部W31が混合される前の供給水W1)の流量に対する透過水W2の割合(%)をいう。   The first concentrated water drain line L611 to the third concentrated water drain line L613 are provided with a first drain valve V32 to a third drain valve V34, and a second constant flow valve V52 to a fourth constant flow valve V54, respectively. Yes. The second constant flow valve V52 to the fourth constant flow valve V54 are set to different flow values. The first drainage valve V32 to the third drainage valve V34 can individually open and close the first concentrated water drainage line L611 to the third concentrated water drainage line L613. By appropriately selecting the number of the first drain valve V32 to the third drain valve V34 that are opened, the drainage flow rate of the concentrated water W3 discharged to the outside of the apparatus can be adjusted. By this adjustment, the recovery rate of the permeated water W2 can be maintained at a preset value. The recovery rate of the permeated water W2 is the ratio (%) of the permeated water W2 to the flow rate of the soft water W12 supplied to the RO membrane module 7 (the supplied water W1 before the part W31 of the concentrated water W3 is mixed). Say.

第1排水弁V32〜第3排水弁V34は、それぞれ制御部30と電気的に接続されている。第1排水弁V32〜第3排水弁V34の開閉は、制御部30から送信される駆動信号により制御される。   The first drain valve V32 to the third drain valve V34 are electrically connected to the control unit 30, respectively. Opening and closing of the first drain valve V32 to the third drain valve V34 is controlled by a drive signal transmitted from the control unit 30.

第1濃縮水排水ラインL611、第2濃縮水排水ラインL612及び第3濃縮水排水ラインL613の下流側の端部は、接続部J57及びJ58において、合流排水ラインL62の上流側の端部に接続されている。合流排水ラインL62の下流側の端部は、例えば、排水ピット(不図示)に接続又は開口している。合流排水ラインL62の途中には、第2逆止弁V62が設けられている。   The downstream ends of the first concentrated water drainage line L611, the second concentrated water drainage line L612, and the third concentrated water drainage line L613 are connected to the upstream end of the merged drainage line L62 at the connecting portions J57 and J58. Has been. The downstream end portion of the combined drainage line L62 is connected or opened to a drainage pit (not shown), for example. A second check valve V62 is provided in the middle of the combined drainage line L62.

透過水ラインL21は、RO膜モジュール7で分離された透過水W2を脱炭酸装置15に流通させるラインである。透過水ラインL21は、図2B及び図2Cに示すように、前段側透過水ラインL211と、中段側透過水ラインL212と、を有する。   The permeated water line L <b> 21 is a line through which the permeated water W <b> 2 separated by the RO membrane module 7 is circulated to the decarbonation device 15. As shown in FIGS. 2B and 2C, the permeate water line L21 includes a front-stage permeate water line L211 and a middle-stage permeate water line L212.

前段側透過水ラインL211の上流側の端部は、図2Bに示すように、RO膜モジュール7の二次側ポート(透過水W2の出口)に接続されている。前段側透過水ラインL211の下流側の端部は、図2Cに示すように、第1流路切換弁V71を介して、中段側透過水ラインL212及びRO透過水リターンラインL41に接続されている。   As shown in FIG. 2B, the upstream end of the front-stage permeate line L211 is connected to the secondary port (the outlet of the permeate W2) of the RO membrane module 7. As shown in FIG. 2C, the downstream end of the front-stage permeate line L211 is connected to the middle-stage permeate line L212 and the RO permeate return line L41 via the first flow path switching valve V71. .

前段側透過水ラインL211には、上流側から順に、図2Bに示すように、第3逆止弁V63、接続部J10、接続部J11、接続部J63、及び第6開閉弁V16が設けられている。また、第6開閉弁V16以降には、図2Cに示すように、脱炭酸装置15、接続部J31、接続部J32、及び第1流路切換弁V71が設けられている。第6開閉弁V16は、透過水ラインL21の開閉を操作可能な手動弁である。   As shown in FIG. 2B, the upstream side permeate line L211 is provided with a third check valve V63, a connection portion J10, a connection portion J11, a connection portion J63, and a sixth on-off valve V16 in order from the upstream side. Yes. Further, after the sixth on-off valve V16, as shown in FIG. 2C, a decarboxylation device 15, a connection portion J31, a connection portion J32, and a first flow path switching valve V71 are provided. The sixth on-off valve V16 is a manual valve that can be operated to open and close the permeate line L21.

次に、純水製造装置1における全体構成図の後段部分について説明する。
図2Cにおいて、脱炭酸装置15は、透過水W2に含まれる遊離炭酸(溶存炭酸ガス)を、気体分離膜モジュールにより脱気処理して、精製水としての脱炭酸水を製造する設備である。RO膜モジュール7の下流側に脱炭酸装置15を設けることにより、RO膜を透過しやすい遊離炭酸を透過水W2から除去することができる。従って、より純度の高い透過水W2を得ることができる。なお、本実施形態では、脱炭酸装置15で製造された脱炭酸水を、便宜上、透過水W2ともいう。
Next, the latter part of the entire configuration diagram in the pure water production apparatus 1 will be described.
In FIG. 2C, the decarboxylation device 15 is equipment for producing decarbonated water as purified water by degassing the free carbonic acid (dissolved carbon dioxide gas) contained in the permeated water W2 with a gas separation membrane module. By providing the decarboxylation device 15 on the downstream side of the RO membrane module 7, free carbon dioxide that easily permeates the RO membrane can be removed from the permeated water W <b> 2. Accordingly, it is possible to obtain the permeated water W2 having a higher purity. In the present embodiment, the decarbonated water produced by the decarboxylation device 15 is also referred to as permeate W2 for convenience.

本実施形態の脱炭酸装置15では、中空糸膜からなる外部灌流式の気体分離膜モジュールを用い、中空糸膜の内側を真空ポンプ(後述)で吸引しながら、空気等の掃引ガスを導入し、膜壁を介して遊離炭酸を掃引ガス中に移行させつつ排気する。このような用途に適した気体分離膜モジュールとしては、例えば、セルガード社製:製品名「Liqui−Cel G−521R」等が挙げられる。気体分離膜モジュールに接続される真空ポンプは、制御部30と電気的に接続されている。   In the decarboxylation device 15 of this embodiment, an external perfusion-type gas separation membrane module composed of a hollow fiber membrane is used, and a sweep gas such as air is introduced while suctioning the inside of the hollow fiber membrane with a vacuum pump (described later). Then, free carbon dioxide is exhausted while being transferred into the sweep gas through the membrane wall. As a gas separation membrane module suitable for such an application, for example, a product name “Liqui-Cel G-521R” manufactured by Celgard Co., Ltd. may be mentioned. The vacuum pump connected to the gas separation membrane module is electrically connected to the control unit 30.

軟水供給ラインL24は、第2供給水ラインL12(図2A参照)を流通する軟水W12(供給水W1)の一部を、脱炭酸装置15(封水タンク)へ供給するラインである。軟水供給ラインL24の上流側の端部は、第2供給水ラインL12の接続部J5(図2A参照)に接続されている。軟水供給ラインL24の下流側の端部は、封水タンクの気相部(上部)に接続されている。第2供給水ラインL12を流通する軟水W12(供給水W1)の一部が軟水供給ラインL24を介して脱炭酸装置15に供給されることにより、第2供給水ラインL12(図2A参照)を流通する軟水W12(供給水W1)の一部は、真空ポンプの封水として利用され、その後、封水排出ラインL71(後述)を介して装置の外に排出される。   The soft water supply line L24 is a line that supplies a part of the soft water W12 (supply water W1) flowing through the second supply water line L12 (see FIG. 2A) to the decarboxylation device 15 (sealed water tank). The upstream end of the soft water supply line L24 is connected to the connection portion J5 (see FIG. 2A) of the second supply water line L12. The downstream end of the soft water supply line L24 is connected to the gas phase part (upper part) of the sealed water tank. A part of the soft water W12 (supply water W1) flowing through the second supply water line L12 is supplied to the decarboxylation device 15 via the soft water supply line L24, whereby the second supply water line L12 (see FIG. 2A) is supplied. A part of the circulated soft water W12 (supply water W1) is used as sealed water for the vacuum pump, and is then discharged out of the apparatus via a sealed water discharge line L71 (described later).

第1流路切換弁V71は、図2Cに示すように、RO膜モジュール7で分離された透過水W2を、中段側透過水ラインL212を介して流通させる流路(採水側流路)、又は、RO透過水リターンラインL41を介してRO膜モジュール7の上流側の供給水ラインL1へ向けて流通させる流路(循環側流路)に切り換え可能な自動弁である。第1流路切換弁V71は、例えば、電動式又は電磁式の三方弁により構成される。第1流路切換弁V71は、制御部30と電気的に接続されている。第1流路切換弁V71における流路の切り換えは、制御部30から送信される流路切換信号により制御される。   As shown in FIG. 2C, the first flow path switching valve V71 is a flow path (water sampling side flow path) through which the permeated water W2 separated by the RO membrane module 7 is circulated through the middle stage permeated water line L212. Or it is an automatic valve which can be switched to the flow path (circulation side flow path) which distribute | circulates toward the supply water line L1 of the upstream of the RO membrane module 7 via the RO permeate return line L41. The first flow path switching valve V71 is configured by, for example, an electric or electromagnetic three-way valve. The first flow path switching valve V71 is electrically connected to the control unit 30. The switching of the flow path in the first flow path switching valve V71 is controlled by a flow path switching signal transmitted from the control unit 30.

RO透過水リターンラインL41は、RO膜モジュール7で分離された透過水W2を、RO膜モジュール7よりも上流側の供給水ラインL1へ返送するラインである。RO透過水リターンラインL41の上流側の端部は、第1流路切換弁V71に接続されている。RO透過水リターンラインL41の下流側の端部は、図2Bに示すように、接続部J52において、RO濃縮水リターンラインL51に接続されている。接続部J52は、RO濃縮水リターンラインL51における接続部J53と接続部J51との間に配置されている。RO透過水リターンラインL41における接続部J52から接続部J51までの部分は、RO濃縮水リターンラインL51における接続部J52から接続部J51までの部分と共通する。RO透過水リターンラインL41の上流側には、図2Cに示すように、第4逆止弁V64が設けられている。   The RO permeated water return line L41 is a line that returns the permeated water W2 separated by the RO membrane module 7 to the supply water line L1 upstream of the RO membrane module 7. The upstream end of the RO permeate return line L41 is connected to the first flow path switching valve V71. As shown in FIG. 2B, the downstream end of the RO permeate return line L41 is connected to the RO concentrated water return line L51 at the connection portion J52. The connection part J52 is arrange | positioned between the connection part J53 and the connection part J51 in RO concentrated water return line L51. The portion from the connecting portion J52 to the connecting portion J51 in the RO permeate return line L41 is common to the portion from the connecting portion J52 to the connecting portion J51 in the RO concentrated water return line L51. A fourth check valve V64 is provided on the upstream side of the RO permeate return line L41 as shown in FIG. 2C.

中段側透過水ラインL212は、RO膜モジュール7で分離された透過水W2を、純水として需要箇所に向けて送出するラインである。中段側透過水ラインL212の上流側の端部は、第1流路切換弁V71に接続されている。中段側透過水ラインL212の下流側の端部は、需要箇所の装置等(不図示)に接続されている。   The middle-stage permeated water line L212 is a line for sending the permeated water W2 separated by the RO membrane module 7 as pure water toward the demand point. The upstream end of the middle permeate line L212 is connected to the first flow path switching valve V71. The downstream end of the middle-stage permeate line L212 is connected to a demand point device or the like (not shown).

封水排出ラインL71は、脱炭酸装置15から排出される封水排水W8を、装置の外に排出するラインである。封水排出ラインL71の上流側の端部は、脱炭酸装置15に接続されている。封水排出ラインL71の下流側は、例えば、排水ピット(不図示)に接続又は開口している。   The sealed water discharge line L71 is a line for discharging the sealed water drainage W8 discharged from the decarboxylation device 15 to the outside of the device. The upstream end of the sealed water discharge line L71 is connected to the decarbonation device 15. The downstream side of the sealed water discharge line L71 is connected or opened to a drainage pit (not shown), for example.

第1圧力計P1〜第4圧力計P4は、接続された各ラインを流通する水の圧力を計測する機器である。図2Aに示すように、第1圧力計P1〜第4圧力計P4は、接続部J1〜J4において、それぞれ、供給水ラインL1に接続されている。   The first pressure gauge P1 to the fourth pressure gauge P4 are devices that measure the pressure of water flowing through each connected line. As shown in FIG. 2A, the first pressure gauge P1 to the fourth pressure gauge P4 are each connected to the supply water line L1 at the connection portions J1 to J4.

第1圧力センサPS1及び第2圧力センサPS2は、接続された各ラインを流通する水の圧力を計測する機器である。図2Bに示すように、第1圧力センサPS1は、接続部J9において、供給水ラインL1に接続されている。接続部J9は、供給水ラインL1における加圧ポンプ5とRO膜モジュール7との間に配置されている。第2圧力センサPS2は、接続部J11において、透過水ラインL21に接続されている。接続部J11は、透過水ラインL21におけるRO膜モジュール7と脱炭酸装置15との間に配置されている。   The first pressure sensor PS1 and the second pressure sensor PS2 are devices that measure the pressure of water flowing through each connected line. As shown in FIG. 2B, the first pressure sensor PS1 is connected to the supply water line L1 at the connection portion J9. The connecting portion J9 is disposed between the pressurizing pump 5 and the RO membrane module 7 in the supply water line L1. The second pressure sensor PS2 is connected to the permeate line L21 at the connection portion J11. The connecting portion J11 is disposed between the RO membrane module 7 and the decarboxylation device 15 in the permeate line L21.

第1圧力センサPS1及び第2圧力センサPS2は、制御部30と電気的に接続されている。第1圧力センサPS1及び第2圧力センサPS2で測定された供給水W1又は透過水W2の圧力は、制御部30へ検出信号として送信される。   The first pressure sensor PS1 and the second pressure sensor PS2 are electrically connected to the control unit 30. The pressure of the supply water W1 or the permeate water W2 measured by the first pressure sensor PS1 and the second pressure sensor PS2 is transmitted to the control unit 30 as a detection signal.

圧力スイッチPSWは、供給水ラインL1を流通する供給水W1の圧力が第1設定圧力値以下又は第2設定圧力値以上であることを検出する機器である。図2Bに示すように、圧力スイッチPSWは、接続部J7において、供給水ラインL1に接続されている。接続部J7は、供給水ラインL1における接続部J51と加圧ポンプ5との間に配置されている。圧力スイッチPSWで検出された供給水W1の圧力の検出信号は、制御部30へ送信される。   The pressure switch PSW is a device that detects that the pressure of the supply water W1 flowing through the supply water line L1 is equal to or lower than the first set pressure value or equal to or higher than the second set pressure value. As shown in FIG. 2B, the pressure switch PSW is connected to the supply water line L1 at the connection portion J7. The connection part J7 is arrange | positioned between the connection part J51 and the pressurization pump 5 in the supply water line L1. A detection signal of the pressure of the supply water W <b> 1 detected by the pressure switch PSW is transmitted to the control unit 30.

第1温度センサTE1〜第3温度センサTE3は、接続された各ラインを流通する水の温度を測定する機器である。第1温度センサTE1は、接続部J8において、供給水ラインL1に接続されている。接続部J8は、供給水ラインL1における接続部J51と加圧ポンプ5との間に配置されている。水温検出手段としての第2温度センサTE2は、接続部J31において、透過水ラインL21に接続されている。接続部J31は、透過水ラインL21における脱炭酸装置15と第1流路切換弁V71との間に配置されている。第3温度センサTE3は、接続部J43において、中段側透過水ラインL212に接続されている。接続部J43は、中段側透過水ラインL212に配置されている。   The first temperature sensor TE1 to the third temperature sensor TE3 are devices that measure the temperature of water flowing through each connected line. The first temperature sensor TE1 is connected to the supply water line L1 at the connection portion J8. The connection part J8 is arrange | positioned between the connection part J51 and the pressurization pump 5 in the supply water line L1. The second temperature sensor TE2 as the water temperature detecting means is connected to the permeated water line L21 at the connection portion J31. The connection part J31 is arrange | positioned between the decarbonation apparatus 15 and the 1st flow-path switching valve V71 in the permeated water line L21. The third temperature sensor TE3 is connected to the middle-stage permeated water line L212 at the connection portion J43. The connection part J43 is arrange | positioned at the middle stage side permeated water line L212.

第1温度センサTE1〜第3温度センサTE3は、制御部30と電気的に接続されている。第1温度センサTE1〜第3温度センサTE3で測定された供給水W1、透過水W2(後述する他の実施形態では脱塩水W6)の温度(検出温度値)は、制御部30へ検出信号として送信される。   The first temperature sensor TE1 to the third temperature sensor TE3 are electrically connected to the control unit 30. The temperature (detected temperature value) of the supply water W1 and the permeated water W2 (desalted water W6 in other embodiments described later) measured by the first temperature sensor TE1 to the third temperature sensor TE3 is sent to the control unit 30 as a detection signal. Sent.

第1流量センサFM1は、接続された透過水ラインL21を流通する透過水W2の流量を測定する機器である。第1流量センサFM1は、接続部J10において、透過水ラインL21に接続されている。接続部J10は、透過水ラインL21におけるRO膜モジュール7と脱炭酸装置15との間に配置されている。   The first flow rate sensor FM1 is a device that measures the flow rate of the permeated water W2 that flows through the connected permeated water line L21. The first flow rate sensor FM1 is connected to the permeate line L21 at the connection portion J10. The connection part J10 is arrange | positioned between the RO membrane module 7 and the decarbonation apparatus 15 in the permeated water line L21.

第1流量センサFM1は、制御部30と電気的に接続されている。第1流量センサFM1で測定された透過水W2の流量(検出流量値)は、制御部30へ検出信号として送信される。   The first flow sensor FM1 is electrically connected to the control unit 30. The flow rate (detected flow rate value) of the permeated water W2 measured by the first flow rate sensor FM1 is transmitted to the control unit 30 as a detection signal.

第1電気伝導率センサEC1は、透過水ラインL21を流通する透過水W2の電気伝導率(電気的特性値)を測定する機器である。第1電気伝導率センサEC1は、接続部J32において、透過水ラインL21に接続されている。接続部J32は、透過水ラインL21における脱炭酸装置15と第1流路切換弁V71との間に配置されている。   The first electrical conductivity sensor EC1 is a device that measures the electrical conductivity (electrical characteristic value) of the permeated water W2 flowing through the permeated water line L21. The first electrical conductivity sensor EC1 is connected to the permeated water line L21 at the connection portion J32. The connection part J32 is arrange | positioned between the decarboxylation apparatus 15 and the 1st flow-path switching valve V71 in the permeated water line L21.

第2比抵抗センサRS2は、中段側透過水ラインL212を流通する透過水W2の比抵抗(電気的特性値)を測定する機器である。第2比抵抗センサRS2は、接続部J41において、中段側透過水ラインL212に接続されている。接続部J41は、中段側透過水ラインL212において、第1流路切換弁V71よりも下流側に配置されている。なお、第2比抵抗センサRS2は、測定された比抵抗値の温度補償のため、温度センサを内蔵している。そのため、第2比抵抗センサRS2は、透過水W2の水温を測定することができる。   2nd specific resistance sensor RS2 is an apparatus which measures the specific resistance (electrical characteristic value) of the permeated water W2 which distribute | circulates the middle stage side permeated water line L212. The second specific resistance sensor RS2 is connected to the middle-stage permeated water line L212 at the connection portion J41. The connecting portion J41 is disposed downstream of the first flow path switching valve V71 in the middle-stage permeated water line L212. Note that the second specific resistance sensor RS2 has a built-in temperature sensor for temperature compensation of the measured specific resistance value. Therefore, the second specific resistance sensor RS2 can measure the water temperature of the permeated water W2.

第1電気伝導率センサEC1、及び第2比抵抗センサRS2は、制御部30と電気的に接続されている。第1電気伝導率センサEC1で測定された透過水W2の電気伝導率、及び第2比抵抗センサRS2で測定された透過水W2の比抵抗(及び温度)は、それぞれ、制御部30へ検出信号として送信される。   The first electrical conductivity sensor EC1 and the second specific resistance sensor RS2 are electrically connected to the control unit 30. The electrical conductivity of the permeated water W2 measured by the first electrical conductivity sensor EC1 and the specific resistance (and temperature) of the permeated water W2 measured by the second specific resistance sensor RS2 are detected signals to the control unit 30, respectively. As sent.

全有機炭素センサTOCは、中段側透過水ラインL212を流通する透過水W2の有機体炭素量を検出する機器である。有機体炭素とは、水中に存在する有機物中の炭素である。全有機炭素センサTOCは、接続部J42において、中段側透過水ラインL212に接続されている。接続部J42は、中段側透過水ラインL212において、第1流路切換弁V71よりも下流側に配置されている。   The total organic carbon sensor TOC is a device that detects the amount of organic carbon in the permeated water W2 flowing through the middle permeate water line L212. Organic carbon is carbon in organic matter present in water. The total organic carbon sensor TOC is connected to the middle-stage permeated water line L212 at the connection portion J42. The connecting portion J42 is disposed on the downstream side of the first flow path switching valve V71 in the middle-stage permeated water line L212.

全有機炭素センサTOCは、制御部30と電気的に接続されている。全有機炭素センサTOCで検出された透過水W2の全有機炭素量は、制御部30へ検出信号として送信される。   The all organic carbon sensor TOC is electrically connected to the control unit 30. The total organic carbon amount of the permeated water W2 detected by the total organic carbon sensor TOC is transmitted to the control unit 30 as a detection signal.

第1シリカ濃度センサSS1は、透過水ラインL21を流通する透過水W2のシリカ濃度を、第1検出シリカ濃度値Cpとして検出する機器である。第1シリカ濃度センサSS1は、図2Bに示すように、透過水導入ラインL112を介して、接続部J63において、透過水ラインL21に接続されている。接続部J63は、透過水ラインL21におけるRO膜モジュール7と脱炭酸装置15との間に配置されている。
第2シリカ濃度センサSS2は、後述する希釈装置18に取り付けられている。第2シリカ濃度センサSS2は、希釈装置18により希釈(製造)された希釈濃縮水(第1希釈濃縮水)W30のシリカ濃度を、第2検出シリカ濃度値Cmとして検出する機器である。希釈装置18の構成については後述する。
The first silica concentration sensor SS1 is a device that detects the silica concentration of the permeated water W2 flowing through the permeate water line L21 as the first detection silica concentration value Cp. As shown in FIG. 2B, the first silica concentration sensor SS1 is connected to the permeated water line L21 at the connecting portion J63 via the permeated water introduction line L112. The connecting part J63 is disposed between the RO membrane module 7 and the decarboxylation device 15 in the permeate line L21.
The second silica concentration sensor SS2 is attached to a diluting device 18 described later. The second silica concentration sensor SS2 is a device that detects the silica concentration of the diluted concentrated water (first diluted concentrated water) W30 diluted (manufactured) by the diluting device 18 as the second detected silica concentration value Cm. The configuration of the dilution device 18 will be described later.

第3Aシリカ濃度センサSS3Aは、図3に示すように、第1モジュール濃縮水ラインL841を流通する第1モジュール濃縮水W151のシリカ濃度を第3A検出シリカ濃度値Cqとして検出する機器である。第3Aシリカ濃度センサSS3Aは、RO膜モジュール7の内部における接続部J83において、第1モジュール濃縮水ラインL841に接続されている。接続部J83は、第1モジュール濃縮水ラインL841の途中に配置されている。
第3Bシリカ濃度センサSS3Bは、第2モジュール濃縮水ラインL842を流通する第2モジュール濃縮水W152のシリカ濃度を第3B検出シリカ濃度値Crとして検出する機器である。第3Bシリカ濃度センサSS3Bは、RO膜モジュール7の内部における接続部J84において、第2モジュール濃縮水ラインL842に接続されている。接続部J84は、第2モジュール濃縮水ラインL842の途中に配置されている。
As shown in FIG. 3, the third A silica concentration sensor SS3A is a device that detects the silica concentration of the first module concentrated water W151 flowing through the first module concentrated water line L841 as the third A detected silica concentration value Cq. The third A silica concentration sensor SS3A is connected to the first module concentrated water line L841 at the connection portion J83 inside the RO membrane module 7. The connection part J83 is arrange | positioned in the middle of the 1st module concentrated water line L841.
The third B silica concentration sensor SS3B is a device that detects the silica concentration of the second module concentrated water W152 flowing through the second module concentrated water line L842 as the third B detected silica concentration value Cr. The third B silica concentration sensor SS3B is connected to the second module concentrated water line L842 at the connection portion J84 inside the RO membrane module 7. The connection part J84 is arrange | positioned in the middle of the 2nd module concentrated water line L842.

第1シリカ濃度センサSS1〜第3Bシリカ濃度センサSS3Bは、制御部30と電気的に接続されている。第1シリカ濃度センサSS1〜第3Bシリカ濃度センサSS3Bで検出された透過水W2、希釈濃縮水W30、第1モジュール濃縮水W151、第2モジュール濃縮水W152の検出シリカ濃度値は、制御部30へ検出信号として送信される。   The first silica concentration sensor SS1 to the third B silica concentration sensor SS3B are electrically connected to the control unit 30. The detected silica concentration values of the permeated water W2, the diluted concentrated water W30, the first module concentrated water W151, and the second module concentrated water W152 detected by the first silica concentration sensor SS1 to the third B silica concentration sensor SS3B are sent to the control unit 30. It is transmitted as a detection signal.

ここで、第1シリカ濃度センサSS1〜第3Bシリカ濃度センサSS3Bの構造について説明する。第1シリカ濃度センサSS1〜第3Bシリカ濃度センサSS3Bは、モリブデンイエロー法(モリブデン黄吸光光度法)により検査水W101のシリカ濃度を測定する装置である。ここでは、説明の便宜上、シリカ濃度センサSS1〜SS3Bにより測定する水(透過水W2、希釈濃縮水W30、第1モジュール濃縮水W151及び第2モジュール濃縮水W152等)を検査水W101として説明する。   Here, the structure of the first silica concentration sensor SS1 to the third B silica concentration sensor SS3B will be described. The first silica concentration sensor SS1 to the third B silica concentration sensor SS3B are devices that measure the silica concentration of the inspection water W101 by the molybdenum yellow method (molybdenum yellow absorptiometry). Here, for convenience of explanation, water (permeated water W2, diluted concentrated water W30, first module concentrated water W151, second module concentrated water W152, etc.) measured by silica concentration sensors SS1 to SS3B will be described as test water W101.

第1シリカ濃度センサSS1〜第3Bシリカ濃度センサSS3Bは、測定波長の切り替えにより、低濃度のシリカ濃度と、高濃度シリカ濃度とを測定することができる。図4に示すように、シリカ濃度センサSS1〜SS3Bは、測定セル120と、試薬注入部130と、吸光度測定部の一部を構成する光学検出部140と、攪拌部150と、センサ表示部160と、センサ制御部110と、検査水導入ラインL101と、検査水排出ラインL102と、を備える。   The first silica concentration sensor SS1 to the third B silica concentration sensor SS3B can measure the low concentration silica concentration and the high concentration silica concentration by switching the measurement wavelength. As shown in FIG. 4, the silica concentration sensors SS1 to SS3B include a measurement cell 120, a reagent injection unit 130, an optical detection unit 140 that constitutes a part of the absorbance measurement unit, a stirring unit 150, and a sensor display unit 160. And a sensor control unit 110, a test water introduction line L101, and a test water discharge line L102.

測定セル120は、シリカ濃度を測定する検査水W101を収容する容器である。測定セル120は、不透明の樹脂材料により形成されている。測定セル120は、その側壁に一対の光透過窓121,122が形成されている。光透過窓121,122には、透明な板材121a,122aが嵌め込まれている。   The measurement cell 120 is a container that stores the inspection water W101 for measuring the silica concentration. The measurement cell 120 is made of an opaque resin material. The measurement cell 120 has a pair of light transmission windows 121 and 122 formed on the side wall thereof. Transparent plates 121a and 122a are fitted into the light transmission windows 121 and 122, respectively.

検査水導入ラインL101は、測定セル120への検査水W101の導入を行うラインである。検査水導入ラインL101は、図4に示すように、測定セル120の光透過窓121,122よりも下方の側壁に接続されている。検査水導入ラインL101は、測定セル120へ検査水W101を導入する流路である。検査水導入ラインL101には、電磁弁123が設けられている。電磁弁123は、検査水W101を採取する際に用いられる弁である。電磁弁123の開閉は、センサ制御部110から出力される駆動信号により制御される。   The inspection water introduction line L101 is a line for introducing the inspection water W101 into the measurement cell 120. As shown in FIG. 4, the inspection water introduction line L <b> 101 is connected to the side wall below the light transmission windows 121 and 122 of the measurement cell 120. The inspection water introduction line L101 is a flow path for introducing the inspection water W101 into the measurement cell 120. An electromagnetic valve 123 is provided in the inspection water introduction line L101. The electromagnetic valve 123 is a valve used when collecting the inspection water W101. The opening and closing of the electromagnetic valve 123 is controlled by a drive signal output from the sensor control unit 110.

検査水排出ラインL102は、測定セル120からの検査水W101(試薬W102を含む)の排出を行うラインである。検査水排出ラインL102は、図4に示すように、測定セル120の光透過窓121,122よりも上方の側壁に接続されている。検査水排出ラインL102は、測定セル120から検査水W101を排出する流路である。   The inspection water discharge line L102 is a line for discharging the inspection water W101 (including the reagent W102) from the measurement cell 120. As shown in FIG. 4, the inspection water discharge line L <b> 102 is connected to the side wall above the light transmission windows 121 and 122 of the measurement cell 120. The inspection water discharge line L102 is a flow path for discharging the inspection water W101 from the measurement cell 120.

試薬注入部130は、測定セル120の内部へ試薬W102を注入する設備である。試薬注入部130は、試薬W102を内部に保持しており、所望の量の試薬W102を測定セル120の内部に吐出して供給する。試薬W102には、検査水W101に含まれるシリカと反応して、発色する呈色物質が配合されている。本実施形態では、モリブデンイエロー法によりシリカ濃度を測定しており、試薬としては、七モリブデン酸六アンモニウムおよび無機酸を含む水溶液を用いる。本実施形態に好適な一液型の試薬水溶液の組成は、本願の出願人による特許第5169809号公報に詳細に開示されているため、当該特許文献を引用して詳細な説明を省略する。   The reagent injection unit 130 is a facility for injecting the reagent W102 into the measurement cell 120. The reagent injection unit 130 holds the reagent W102 therein, and discharges and supplies a desired amount of the reagent W102 into the measurement cell 120. The reagent W102 is mixed with a coloring substance that develops color by reacting with silica contained in the test water W101. In this embodiment, the silica concentration is measured by the molybdenum yellow method, and an aqueous solution containing hexaammonium heptamolybdate and an inorganic acid is used as the reagent. Since the composition of the one-component reagent aqueous solution suitable for this embodiment is disclosed in detail in Japanese Patent No. 5169809 by the applicant of the present application, the detailed description is omitted by citing the patent document.

試薬注入部130は、試薬カートリッジ131と、ローラポンプ機構132と、を備える。試薬カートリッジ131は、試薬W102(上述した一液型の試薬水溶液)が充填された試薬パック(不図示)と、試薬パックに一端側が接続され且つ他端にノズルを有する弾性チューブとからなる注入体(不図示)とが収納された容器である。   The reagent injection unit 130 includes a reagent cartridge 131 and a roller pump mechanism 132. The reagent cartridge 131 is an injection body comprising a reagent pack (not shown) filled with the reagent W102 (the above-described one-component reagent aqueous solution), and an elastic tube having one end connected to the reagent pack and a nozzle at the other end. (Not shown).

ローラポンプ機構132は、図4に示すように、測定セル120の上方に設けられている。ローラポンプ機構132の上部には、カートリッジ差込口133が設けられている。試薬カートリッジ131は、カートリッジ差込口133に着脱自在に装着される。   As shown in FIG. 4, the roller pump mechanism 132 is provided above the measurement cell 120. A cartridge insertion port 133 is provided at the upper part of the roller pump mechanism 132. The reagent cartridge 131 is detachably attached to the cartridge insertion port 133.

ローラポンプ機構132は、ローラポンプ134を備える。ローラポンプ134を駆動して、試薬カートリッジ131に収納された注入体の弾性チューブをしごくことにより、試薬パック内の試薬W102をノズルから測定セル120に向けて注入することができる。ローラポンプ134の駆動は、センサ制御部110から出力される駆動信号により制御される。   The roller pump mechanism 132 includes a roller pump 134. By driving the roller pump 134 and squeezing the elastic tube of the injection body accommodated in the reagent cartridge 131, the reagent W102 in the reagent pack can be injected from the nozzle toward the measurement cell 120. The driving of the roller pump 134 is controlled by a driving signal output from the sensor control unit 110.

光学検出部140は、試薬W102と共に攪拌された検査水W101の吸光度を測定する設備である。光学検出部140は、図4に示すように、第1発光素子141と、第2発光素子142と、発光基板143と、第1受光素子144と、第2受光素子145と、受光基板146と、を備える。   The optical detection unit 140 is a facility for measuring the absorbance of the test water W101 stirred together with the reagent W102. As shown in FIG. 4, the optical detection unit 140 includes a first light emitting element 141, a second light emitting element 142, a light emitting substrate 143, a first light receiving element 144, a second light receiving element 145, and a light receiving substrate 146. .

第1発光素子141及び第2発光素子142は、発光基板143に実装されている。第1発光素子141及び第2発光素子142は、測定セル120の光透過窓121に向けて光を照射する素子である。第1発光素子141及び第2発光素子142は、それぞれ発光波長の異なるLED(発光ダイオード)により構成される。本実施形態においては、第1発光素子141は、低濃度のシリカ濃度を測定するために、375nmの波長(低濃度測定波長)の光を発光可能な発光素子である。第2発光素子142は、高濃度のシリカ濃度を測定するために、450nmの波長(高濃度測定波長)の光を発光可能な発光素子である。
第1発光素子141及び第2発光素子142の点灯/消灯は、センサ制御部110から出力される駆動信号により制御される。
The first light emitting element 141 and the second light emitting element 142 are mounted on the light emitting substrate 143. The first light emitting element 141 and the second light emitting element 142 are elements that irradiate light toward the light transmission window 121 of the measurement cell 120. The 1st light emitting element 141 and the 2nd light emitting element 142 are comprised by LED (light emitting diode) from which light emission wavelength differs, respectively. In the present embodiment, the first light emitting element 141 is a light emitting element that can emit light having a wavelength of 375 nm (low concentration measurement wavelength) in order to measure a low concentration of silica. The second light emitting element 142 is a light emitting element capable of emitting light having a wavelength of 450 nm (high concentration measurement wavelength) in order to measure a high concentration of silica.
The turning on / off of the first light emitting element 141 and the second light emitting element 142 is controlled by a drive signal output from the sensor control unit 110.

第1受光素子144及び第2受光素子145は、受光基板146に実装されている。第1受光素子144及び第2受光素子145は、測定セル120の光透過窓122を通過した透過光を受光する素子である。第1受光素子144及び第2受光素子145は、フォトトランジスタにより構成される。第1受光素子144及び第2受光素子145は、受光した透過光量に対応した検出値信号をセンサ制御部110に出力する。   The first light receiving element 144 and the second light receiving element 145 are mounted on the light receiving substrate 146. The first light receiving element 144 and the second light receiving element 145 are elements that receive the transmitted light that has passed through the light transmitting window 122 of the measurement cell 120. The first light receiving element 144 and the second light receiving element 145 are configured by phototransistors. The first light receiving element 144 and the second light receiving element 145 output a detection value signal corresponding to the received transmitted light amount to the sensor control unit 110.

攪拌部150は、測定セル120の内部に収容された検査水W101及び試薬W102を攪拌する設備である。図4に示すように、攪拌部150は、測定セル120の底部に設けられている。攪拌部150は、攪拌子151と、ステータコイル152と、を備える。攪拌子151は、測定セル120の底部に、回転可能に配置されている。ステータコイル152は、測定セル120の周囲を囲むようにリング状に形成された電磁誘導コイルである。ステータコイル152に駆動電流を供給すると、電磁誘導の作用により、測定セル120の底部に配置された攪拌子151が非接触で回転する。ステータコイル152の動作は、センサ制御部110から供給される駆動電流により制御される。   The stirring unit 150 is a facility for stirring the test water W101 and the reagent W102 accommodated in the measurement cell 120. As shown in FIG. 4, the stirring unit 150 is provided at the bottom of the measurement cell 120. The stirring unit 150 includes a stirring bar 151 and a stator coil 152. The stirrer 151 is rotatably disposed at the bottom of the measurement cell 120. The stator coil 152 is an electromagnetic induction coil formed in a ring shape so as to surround the periphery of the measurement cell 120. When a drive current is supplied to the stator coil 152, the stirrer 151 disposed at the bottom of the measurement cell 120 rotates in a non-contact manner due to the action of electromagnetic induction. The operation of the stator coil 152 is controlled by a drive current supplied from the sensor control unit 110.

センサ表示部160は、測定した検査水W101のシリカ濃度の測定値やシリカ濃度センサSS1〜SS3Bの動作状況等を表示する装置である。センサ表示部160は、液晶表示パネルにより構成される。   The sensor display unit 160 is a device that displays the measured value of the silica concentration of the measured inspection water W101, the operation status of the silica concentration sensors SS1 to SS3B, and the like. The sensor display unit 160 is configured by a liquid crystal display panel.

センサ制御部110は、シリカ濃度センサSS1〜SS3Bの動作を制御する装置である。センサ制御部110は、第1発光素子141、第2発光素子142を制御する。センサ制御部110は、第1受光素子144及び第2受光素子145からの出力を受信する。センサ制御部110は、光学検出部140により検出された吸光度に基づいて、検査水W101に含まれるシリカ成分の濃度を測定する。センサ制御部110は、測定した検査水W101のシリカ濃度の測定値をセンサ表示部160に表示させる。センサ制御部110は、後述する検量線を、測定波長毎に内部のメモリに格納している。   The sensor control unit 110 is a device that controls the operation of the silica concentration sensors SS1 to SS3B. The sensor control unit 110 controls the first light emitting element 141 and the second light emitting element 142. The sensor control unit 110 receives outputs from the first light receiving element 144 and the second light receiving element 145. The sensor control unit 110 measures the concentration of the silica component contained in the inspection water W101 based on the absorbance detected by the optical detection unit 140. The sensor control unit 110 causes the sensor display unit 160 to display the measured value of the silica concentration of the measured inspection water W101. The sensor control unit 110 stores a later-described calibration curve in an internal memory for each measurement wavelength.

センサ制御部110は、低濃度のシリカ濃度を測定するために、吸光度測定部の一部を構成する吸光度算出部111と、変化量算出部112と、計時部113と、シリカ濃度検出部114と、を有する。   In order to measure the low-concentration silica concentration, the sensor control unit 110 includes an absorbance calculation unit 111, a change amount calculation unit 112, a timing unit 113, and a silica concentration detection unit 114 that constitute a part of the absorbance measurement unit. Have.

吸光度算出部111は、光学検出部140により検出された透過光量の検出値に基づいて、第1時間T1及び第2時間T2(図5参照)において、検査水W101の吸光度を算出する。これにより、本実施形態においては、光学検出部140及び吸光度算出部111は、試薬W102が添加された検査水W101における375nmの吸光度を測定する。   The absorbance calculation unit 111 calculates the absorbance of the test water W101 at the first time T1 and the second time T2 (see FIG. 5) based on the detected value of the transmitted light amount detected by the optical detection unit 140. Thereby, in this embodiment, the optical detection unit 140 and the absorbance calculation unit 111 measure the absorbance at 375 nm in the test water W101 to which the reagent W102 is added.

第1時間T1は、試薬W102が添加された直後の時間である(図5参照)。第1時間T1は、好ましくは、検査水W101に試薬W102が添加されてから3分以内である。なお、第1時間T1は、規定量の試薬W102の添加を実行可能な範囲で、規定量の試薬W102の添加が完了された直後に近い時間が採用される。本実施形態においては、第1時間T1は、2分程度である(図5参照)。また、試薬W102の添加操作に要する時間が極く短時間の場合には、第1時間T1は、検査水W101に試薬W102が添加された時間と同時である0分であってもよい。   The first time T1 is a time immediately after the reagent W102 is added (see FIG. 5). The first time T1 is preferably within 3 minutes after the reagent W102 is added to the test water W101. The first time T1 is within a range in which the addition of the specified amount of the reagent W102 can be performed, and a time close to immediately after the addition of the specified amount of the reagent W102 is completed. In the present embodiment, the first time T1 is about 2 minutes (see FIG. 5). When the time required for the addition operation of the reagent W102 is extremely short, the first time T1 may be 0 minutes, which is the same as the time when the reagent W102 is added to the test water W101.

第2時間T2は、検査水W101と試薬W102との反応が終了した試薬反応終了時間である(図5参照)。第2時間T2は、検査水W101と試薬W102との呈色反応がほぼ完結し、検査水W101の発色が安定する時間であり、予め試験等により求められた時間であって、予めセンサ制御部110のメモリ(不図示)に記憶されている。本実施形態においては、第2時間T2は、試薬W102の添加が開始されてから、20分程度である(図5参照)。   The second time T2 is a reagent reaction end time when the reaction between the test water W101 and the reagent W102 is completed (see FIG. 5). The second time T2 is a time during which the color reaction between the test water W101 and the reagent W102 is almost completed and the coloration of the test water W101 is stabilized. 110 memory (not shown). In the present embodiment, the second time T2 is about 20 minutes after the addition of the reagent W102 is started (see FIG. 5).

計時部113は、第2時間T2を計時する。計時部113により計時された第2時間T2において、吸光度算出部111は、検査水W101の吸光度を算出する。   The timer 113 measures the second time T2. At the second time T2 timed by the time measuring unit 113, the absorbance calculation unit 111 calculates the absorbance of the test water W101.

変化量算出部112は、光学検出部140及び吸光度算出部111により測定される試薬W102が添加された検査水W101の吸光度について、試薬W102が添加されてから第1時間T1経過後の検査水W101の吸光度A1と、試薬W102が添加されてから第1時間T1よりも長い第2時間T2経過後の検査水W101の吸光度A2との変化量、すなわち差分A2−A1を算出する。   For the absorbance of the test water W101 to which the reagent W102, which is measured by the optical detection unit 140 and the absorbance calculation unit 111, is added, the change amount calculation unit 112 is the test water W101 after the first time T1 has elapsed since the reagent W102 was added. And the difference A2-A1 between the absorbance A1 and the absorbance A2 of the test water W101 after a second time T2 longer than the first time T1 from the addition of the reagent W102 is calculated.

シリカ濃度検出部114は、変化量算出部112により算出された吸光度の変化量(差分)に基づいて、シリカ濃度を検出する。具体的には、シリカ濃度検出部114は、算出された吸光度の変化量(差分)を検査水W101の吸光度と見做し、この吸光度に対してシリカ濃度と吸光度との検量線を用いて検査水W101中のシリカ濃度を求める。検量線は、予めシリカ標準液を用いてシリカ濃度と吸光度との関係線として作成されており、センサ制御部110のメモリ(不図示)に記憶されている。本実施形態においては、メモリ(不図示)には、検査水W101の吸光度とシリカ濃度との検量線として、検査水W101と試薬W102との呈色反応が完結された状態で作成された検量線が記憶されている。   The silica concentration detection unit 114 detects the silica concentration based on the change amount (difference) in absorbance calculated by the change amount calculation unit 112. Specifically, the silica concentration detection unit 114 regards the calculated change (difference) in absorbance as the absorbance of the test water W101, and performs an inspection using a calibration curve between the silica concentration and the absorbance for this absorbance. The silica concentration in the water W101 is determined. The calibration curve is created in advance as a relation line between the silica concentration and the absorbance using a silica standard solution, and is stored in a memory (not shown) of the sensor control unit 110. In the present embodiment, a calibration curve created in a state where the color reaction between the test water W101 and the reagent W102 is completed as a calibration curve between the absorbance of the test water W101 and the silica concentration in the memory (not shown). Is remembered.

以上のように構成される第1シリカ濃度センサSS1〜第3Bシリカ濃度センサSS3Bは、測定波長を切り替えることより、高濃度のシリカのシリカ濃度(10〜80mgSiO/L)を測定可能な高濃度レンジと、低濃度のシリカのシリカ濃度(0.1〜1mgSiO/L)を測定可能な低濃度レンジとを、切替可能である。本実施形態においては、第1シリカ濃度センサSS1は、透過水W2のシリカ濃度を検出するため、低濃度レンジで使用される。また、第2シリカ濃度センサSS2は、後述する希釈装置18により製造された希釈濃縮水W30のシリカ濃度を検出し、希釈濃縮水W30のシリカ濃度は高濃度のレンジで検出可能であるため、高濃度レンジで使用される。 The first silica concentration sensor SS1 to the third B silica concentration sensor SS3B configured as described above are capable of measuring the silica concentration (10 to 80 mg SiO 2 / L) of the high concentration silica by switching the measurement wavelength. It is possible to switch between the range and the low concentration range in which the silica concentration of the low concentration silica (0.1 to 1 mg SiO 2 / L) can be measured. In the present embodiment, the first silica concentration sensor SS1 is used in a low concentration range in order to detect the silica concentration of the permeated water W2. The second silica concentration sensor SS2 detects the silica concentration of the diluted concentrated water W30 produced by the diluting device 18 described later, and the silica concentration of the diluted concentrated water W30 can be detected in a high concentration range. Used in the concentration range.

次に、希釈装置18について説明する。
希釈装置18は、図2B及び図6に示すように、第2シリカ濃度センサSS2に取り付けられている。希釈装置18は、第2シリカ濃度センサSS2において精度よくシリカ濃度を検出するために、第2シリカ濃度センサSS2による検出対象の濃縮水W3を希釈する機器である。希釈装置18は、RO膜モジュール7により分離された濃縮水W3と純水製造装置1内を流通する透過水W2(希釈水)とを混合して、希釈濃縮水W30(第1希釈濃縮水)を製造する。このようにして、希釈装置18は、RO膜モジュール7により分離された透過水W2を希釈水として用いて、RO膜モジュール7により分離された濃縮水W3を希釈する。本実施形態の希釈装置18は、機械式の構成であり、電気的制御を使用せずに、濃縮水W3と透過水W2とを一定の比率で混合するように構成される。
Next, the diluting device 18 will be described.
As shown in FIGS. 2B and 6, the dilution device 18 is attached to the second silica concentration sensor SS2. The dilution device 18 is a device for diluting the concentrated water W3 to be detected by the second silica concentration sensor SS2 in order to accurately detect the silica concentration in the second silica concentration sensor SS2. The diluting device 18 mixes the concentrated water W3 separated by the RO membrane module 7 and the permeated water W2 (diluted water) flowing through the pure water production apparatus 1 to obtain the diluted concentrated water W30 (first diluted concentrated water). Manufacturing. In this way, the diluting device 18 dilutes the concentrated water W3 separated by the RO membrane module 7 using the permeated water W2 separated by the RO membrane module 7 as dilution water. The dilution device 18 of the present embodiment has a mechanical configuration, and is configured to mix the concentrated water W3 and the permeated water W2 at a constant ratio without using electrical control.

希釈装置18は、図6に示すように、混合槽181と、駆動部としての容積式タービン部182と、従動部としての容積式ポンプ部183と、第6逆止弁V66と、第7逆止弁V67と、を備える。また、希釈装置18は、第1導入ラインL201と、第2導入ラインL202と、希釈濃縮水導出ラインL203と、を備える。   As shown in FIG. 6, the dilution device 18 includes a mixing tank 181, a positive displacement turbine portion 182 as a driving portion, a positive displacement pump portion 183 as a driven portion, a sixth check valve V66, and a seventh reverse valve. A stop valve V67. In addition, the dilution device 18 includes a first introduction line L201, a second introduction line L202, and a diluted concentrated water lead-out line L203.

混合槽181は、RO膜モジュール7により分離された濃縮水W3と透過水W2とが混合される槽である。混合槽181には、RO膜モジュール7からの水圧により第1導入ラインL201を流通する濃縮水W3と、後述する容積式ポンプ部183による水圧により第2導入ラインL202を流通する透過水W2と、が導入される。混合槽181において混合された濃縮水W3及び透過水W2は、希釈濃縮水W30となる。希釈装置18で希釈された希釈濃縮水W30は、希釈濃縮水導出ラインL203を介して、第2シリカ濃度センサSS2へ供給される。希釈濃縮水導出ラインL203の上流側の端部は、混合槽181と接続されている。希釈濃縮水導出ラインL203の下流側の端部は、第2シリカ濃度センサSS2と接続されている。   The mixing tank 181 is a tank in which the concentrated water W3 and the permeated water W2 separated by the RO membrane module 7 are mixed. In the mixing tank 181, concentrated water W3 that circulates through the first introduction line L201 due to water pressure from the RO membrane module 7, and permeated water W2 that circulates through the second introduction line L202 due to water pressure by the positive displacement pump unit 183 described below, Is introduced. The concentrated water W3 and the permeated water W2 mixed in the mixing tank 181 become diluted concentrated water W30. The diluted concentrated water W30 diluted by the dilution device 18 is supplied to the second silica concentration sensor SS2 via the diluted concentrated water deriving line L203. The upstream end of the diluted concentrated water outlet line L203 is connected to the mixing tank 181. The downstream end of the diluted concentrated water outlet line L203 is connected to the second silica concentration sensor SS2.

第1導入ラインL201は、RO濃縮水リターンラインL51を流通するRO膜モジュール7により分離された濃縮水W3を、濃縮水導入ラインL111を介して、混合槽181に導入するラインである。第1導入ラインL201には、RO膜モジュール7の水圧により、濃縮水W3が導入される。RO濃縮水リターンラインL51を流通する濃縮水W3の水圧は、透過水ラインL21を流通する透過水W2の水圧よりも高い。第1導入ラインL201は、濃縮水導入ラインL111を介して、RO濃縮水リターンラインL51と接続されている。   The first introduction line L201 is a line for introducing the concentrated water W3 separated by the RO membrane module 7 flowing through the RO concentrated water return line L51 into the mixing tank 181 through the concentrated water introduction line L111. The concentrated water W3 is introduced into the first introduction line L201 by the water pressure of the RO membrane module 7. The water pressure of the concentrated water W3 flowing through the RO concentrated water return line L51 is higher than the water pressure of the permeated water W2 flowing through the permeated water line L21. The first introduction line L201 is connected to the RO concentrated water return line L51 via the concentrated water introduction line L111.

濃縮水導入ラインL111の上流側の端部は、接続部J61(図2B参照)に接続されている。接続部J61は、RO濃縮水リターンラインL51におけるRO膜モジュール7と接続部J53との間に配置される。濃縮水導入ラインL111の下流側の端部は、第1導入ラインL201の上流側の端部に接続されている。   The upstream end of the concentrated water introduction line L111 is connected to a connection portion J61 (see FIG. 2B). The connecting part J61 is disposed between the RO membrane module 7 and the connecting part J53 in the RO concentrated water return line L51. The downstream end of the concentrated water introduction line L111 is connected to the upstream end of the first introduction line L201.

第1導入ラインL201には、濃縮水導入ラインL111側の入口側から順に、第6逆止弁V66、容積式タービン部182、混合槽181が設けられている。
容積式タービン部182は、第1導入ラインL201に導入されるRO膜モジュール7により分離された濃縮水W3の水圧により混合槽181に導入される際に、駆動される。容積式タービン部182の回転軸は、容積式タービン部182に導入された濃縮水W3の水圧により回転子(不図示)が回転することで、回転する。容積式タービン部182の回転軸は、連結部材184により、後述する容積式ポンプ部183の回転軸に連結されている。
In the first introduction line L201, a sixth check valve V66, a positive displacement turbine unit 182 and a mixing tank 181 are provided in order from the inlet side on the concentrated water introduction line L111 side.
The positive displacement turbine unit 182 is driven when being introduced into the mixing tank 181 by the water pressure of the concentrated water W3 separated by the RO membrane module 7 introduced into the first introduction line L201. The rotary shaft of the positive displacement turbine unit 182 rotates when a rotor (not shown) rotates due to the water pressure of the concentrated water W <b> 3 introduced into the positive displacement turbine unit 182. A rotary shaft of the positive displacement turbine unit 182 is connected to a rotary shaft of a positive displacement pump unit 183 described later by a connecting member 184.

第2導入ラインL202は、透過水ラインL21を流通するRO膜モジュール7により分離された透過水W2を、透過水導入ラインL112を介して、混合槽181に導入するラインである。第2導入ラインL202は、透過水導入ラインL112を介して、透過水ラインL21と接続されている。   The second introduction line L202 is a line for introducing the permeated water W2 separated by the RO membrane module 7 flowing through the permeate water line L21 into the mixing tank 181 through the permeate water introduction line L112. The second introduction line L202 is connected to the permeated water line L21 via the permeated water introduction line L112.

透過水導入ラインL112の上流側の端部は、接続部J62(図2B参照)に接続されている。接続部J62は、透過水ラインL21におけるRO膜モジュール7と第3逆止弁V63との間に配置される。透過水導入ラインL112の下流側の端部は、第2導入ラインL202の上流側の端部に接続されている。   The upstream end portion of the permeated water introduction line L112 is connected to the connection portion J62 (see FIG. 2B). The connecting portion J62 is disposed between the RO membrane module 7 and the third check valve V63 in the permeate line L21. The downstream end of the permeated water introduction line L112 is connected to the upstream end of the second introduction line L202.

第2導入ラインL202には、透過水導入ラインL112側の入口側から順に、第7逆止弁V67、容積式ポンプ部183、混合槽181が設けられている。
容積式ポンプ部183は、容積式タービン部182の駆動に従動して駆動される。容積式ポンプ部183は、混合槽181へ向けて水圧を発生させて濃縮水W3の水圧よりも低い水圧の希釈水である透過水W2を、混合槽181に導入する。具体的には、容積式ポンプ部183の回転軸は、容積式タービン部182の回転軸が回転することで、連結部材184を介して回転される。容積式ポンプ部183の回転部材(不図示)は、容積式ポンプ部183の回転軸が回転されることで、透過水W2を混合槽181へ向けて送出する水圧を発生させる。これにより、容積式ポンプ部183は、濃縮水W3の水圧よりも低い透過水W2を混合槽181へ導入する。
In the second introduction line L202, a seventh check valve V67, a positive displacement pump unit 183, and a mixing tank 181 are provided in order from the inlet side on the permeate introduction line L112 side.
The positive displacement pump unit 183 is driven by the drive of the positive displacement turbine unit 182. The positive displacement pump unit 183 generates a water pressure toward the mixing tank 181 and introduces the permeated water W2, which is a dilution water having a lower water pressure than the water pressure of the concentrated water W3, into the mixing tank 181. Specifically, the rotary shaft of the positive displacement pump unit 183 is rotated via the connecting member 184 as the rotary shaft of the positive displacement turbine unit 182 rotates. A rotary member (not shown) of the positive displacement pump unit 183 generates a water pressure for sending the permeate W2 toward the mixing tank 181 by rotating the rotary shaft of the positive displacement pump unit 183. Thereby, positive displacement pump part 183 introduces permeated water W2 lower than the water pressure of concentrated water W3 into mixing tank 181.

以上のように構成される希釈装置18は、本実施形態においては、容積式タービン部182を圧送される濃縮水W3の容積と容積式ポンプ部183を圧送される透過水W2の容積との容積比が1対2となっている。つまり、濃縮水W3と透過水W2とが1対2の割合で混合槽181へ送り込まれるため、本実施形態における希釈装置18は、濃縮水W3と透過水W2との混合比率が1対2となっている。本実施形態における希釈装置18は、RO膜モジュール7からの濃縮水W3の水圧を利用して、機械式の構成で、濃縮水W3と透過水W2との混合比率が1対2となるように構成されている。なお、濃縮水W3と透過水W2との混合比率は、容積式タービン部182と容積式ポンプ部183との容積比を変更することで、適宜設定可能である。なお、容積式タービン部182の回転子及び容積式ポンプ部183の回転部材は、例えば幾何学的な形状を有するロータやギヤなどが使用される。   In the present embodiment, the dilution device 18 configured as described above has a volume between the volume of the concentrated water W3 pumped by the positive displacement turbine unit 182 and the volume of the permeate water W2 pumped by the positive displacement pump unit 183. The ratio is 1: 2. That is, since the concentrated water W3 and the permeated water W2 are fed into the mixing tank 181 at a ratio of 1: 2, the dilution device 18 in the present embodiment has a mixing ratio of the concentrated water W3 and the permeated water W2 of 1: 2. It has become. The diluting device 18 in the present embodiment uses a hydraulic pressure of the concentrated water W3 from the RO membrane module 7 so that the mixing ratio of the concentrated water W3 and the permeated water W2 is 1: 2 with a mechanical configuration. It is configured. The mixing ratio of the concentrated water W3 and the permeated water W2 can be appropriately set by changing the volume ratio between the positive displacement turbine unit 182 and the positive displacement pump unit 183. For example, a rotor or gear having a geometric shape is used as the rotor of the positive displacement turbine unit 182 and the rotary member of the positive displacement pump unit 183.

混合槽181で混合されて製造された希釈濃縮水W30は、希釈濃縮水導入ラインL205により、第2シリカ濃度センサSS2に導入される。ここで、図6に示す希釈濃縮水導入ラインL205は、図4に示す前述のシリカ濃度センサの構造における検査水導入ラインL101に相当する。図6に示すように、希釈濃縮水導入ラインL205の上流側の端部は、希釈装置18の希釈濃縮水導出ラインL203の下流側の端部と接続されている。希釈濃縮水導入ラインL205の下流側の端部は、第2シリカ濃度センサSS2の内部において測定セル120(図4参照)と接続されている。希釈濃縮水導入ラインL205(検査水導入ラインL101)の途中には、図4にも示した電磁弁123が設けられている。   The diluted concentrated water W30 produced by mixing in the mixing tank 181 is introduced into the second silica concentration sensor SS2 through the diluted concentrated water introduction line L205. Here, the diluted concentrated water introduction line L205 shown in FIG. 6 corresponds to the inspection water introduction line L101 in the structure of the aforementioned silica concentration sensor shown in FIG. As shown in FIG. 6, the upstream end of the diluted concentrated water introduction line L205 is connected to the downstream end of the diluted concentrated water lead-out line L203 of the dilution device 18. The downstream end of the diluted concentrated water introduction line L205 is connected to the measurement cell 120 (see FIG. 4) inside the second silica concentration sensor SS2. In the middle of the diluted concentrated water introduction line L205 (test water introduction line L101), the electromagnetic valve 123 shown in FIG. 4 is also provided.

入力操作部40は、装置の運転状態に係る選択(例えば、運転/停止の選択、警報の解除等)、装置の運転条件に係る各種設定について、ユーザー又は管理者の入力操作を受け付ける入力インターフェースである。この入力操作部40は、ディスプレイとボタンスイッチを組み合わせた操作パネル、ディスプレイ上で直接操作するタッチパネル等により構成される。入力操作部40は、制御部30と電気的に接続されている。入力操作部40から入力された情報は、制御部30に送信される。   The input operation unit 40 is an input interface that receives an input operation of a user or an administrator for selection related to the operation state of the device (for example, selection of operation / stop, release of alarm, etc.) and various settings related to the operation condition of the device. is there. The input operation unit 40 includes an operation panel that combines a display and button switches, a touch panel that directly operates on the display, and the like. The input operation unit 40 is electrically connected to the control unit 30. Information input from the input operation unit 40 is transmitted to the control unit 30.

主表示部60は、所望の情報を表示する。主表示部60は、制御部30と電気的に接続されている。主表示部60は、表示により所定の警報を報知する報知手段としても機能する。なお、本実施形態においては、報知手段として、表示により警報を報知するように主表示部60を構成したが、これに制限されない。報知手段による報知は、例えば、表示、音声、発光などのうちの一つ以上であってもよい。つまり、報知手段は、表示器(液晶ディスプレイ等)、ブザーやスピーカー、ランプなどのうちの一つ以上から構成されてもよい。   The main display unit 60 displays desired information. The main display unit 60 is electrically connected to the control unit 30. The main display unit 60 also functions as a notification unit that notifies a predetermined alarm by display. In the present embodiment, the main display unit 60 is configured to notify the alarm by display as the notification unit, but is not limited thereto. The notification by the notification means may be one or more of display, sound, light emission, and the like, for example. That is, the notification means may be configured by one or more of a display (liquid crystal display or the like), a buzzer, a speaker, a lamp, and the like.

次に、制御部30について説明する。制御部30は、CPU及びメモリを含むマイクロプロセッサ(不図示)により構成される。制御部30において、マイクロプロセッサのCPUは、メモリから読み出した所定のプログラムに従って、後述する各種の制御を実行する。制御部30において、マイクロプロセッサのメモリには、純水製造装置1を制御するためのデータや各種プログラムが記憶される。また、制御部30のマイクロプロセッサには、時間の計時等を管理するインテグレーテッドタイマユニット(以下、「ITU」ともいう)が組み込まれている。   Next, the control unit 30 will be described. The control unit 30 is configured by a microprocessor (not shown) including a CPU and a memory. In the control unit 30, the CPU of the microprocessor executes various controls described later according to a predetermined program read from the memory. In the control unit 30, data and various programs for controlling the pure water production apparatus 1 are stored in the memory of the microprocessor. The microprocessor of the control unit 30 incorporates an integrated timer unit (hereinafter also referred to as “ITU”) that manages timekeeping and the like.

制御部30は、流量フィードバック水量制御として、第1流量センサFM1の検出流量値が予め設定された目標流量値となるように、速度形デジタルPIDアルゴリズムにより、加圧ポンプ5の駆動周波数を演算し、当該駆動周波数の演算値に対応する電流値信号(周波数指定信号)をインバータ6に出力する。制御部30による流量フィードバック水量制御については後述する。   As the flow rate feedback water amount control, the control unit 30 calculates the drive frequency of the pressurizing pump 5 by the speed type digital PID algorithm so that the detected flow rate value of the first flow rate sensor FM1 becomes a preset target flow rate value. Then, a current value signal (frequency designation signal) corresponding to the calculated value of the driving frequency is output to the inverter 6. The flow rate feedback water amount control by the control unit 30 will be described later.

制御部30は、第1検出シリカ濃度値Cpと第2検出シリカ濃度値Cmとから、RO膜モジュール7により分離された濃縮水W3のシリカ濃度を演算シリカ濃度値Ccとして演算し、演算シリカ濃度値Ccが許容シリカ濃度値Caとなるように、回収率(RO膜モジュール7へ供給される供給水の流量に対する第1透過水の流量の比率)を調整する。この回収率制御は、上述した流量フィードバック水量制御と並行して実行される。   The controller 30 calculates the silica concentration of the concentrated water W3 separated by the RO membrane module 7 as the calculated silica concentration value Cc from the first detected silica concentration value Cp and the second detected silica concentration value Cm, and calculates the calculated silica concentration. The recovery rate (ratio of the flow rate of the first permeate to the flow rate of the supply water supplied to the RO membrane module 7) is adjusted so that the value Cc becomes the allowable silica concentration value Ca. This recovery rate control is executed in parallel with the above-described flow rate feedback water amount control.

制御部30は、許容シリカ濃度値Caを、第1温度センサTE1により検出された供給水W1の検出温度値Tから決定した濃縮水W3のシリカ溶解度Ssに安全率を乗じて算出する。   The control unit 30 calculates the allowable silica concentration value Ca by multiplying the silica solubility Ss of the concentrated water W3 determined from the detected temperature value T of the supply water W1 detected by the first temperature sensor TE1 by the safety factor.

制御部30は、下記の式(1)の計算式より、濃縮水W3の演算シリカ濃度値Ccを演算する。
Cc=[Cm・(Vc+Vp)−Cp・Vp]/Vc (1)
なお、Vc[mL]を濃縮水W3のサンプル水量値とし、Vp[mL]を透過水W2(希釈水)のサンプル水量値とし、Cc[mgSiO/L]を濃縮水W3の演算シリカ濃度値とし、Cp[mgSiO/L]を透過水W2(希釈水)の第1検出シリカ濃度値とし、Cm[mgSiO/L]を第1希釈濃縮水W30の第2検出シリカ濃度値とした。
The control unit 30 calculates the calculated silica concentration value Cc of the concentrated water W3 from the following formula (1).
Cc = [Cm · (Vc + Vp) −Cp · Vp] / Vc (1)
Vc [mL] is the sample water amount value of the concentrated water W3, Vp [mL] is the sample water amount value of the permeated water W2 (diluted water), and Cc [mgSiO 2 / L] is the calculated silica concentration value of the concentrated water W3. Cp [mgSiO 2 / L] was the first detected silica concentration value of the permeated water W2 (diluted water), and Cm [mgSiO 2 / L] was the second detected silica concentration value of the first diluted concentrated water W30.

制御部30は、回収率を調整する方法として、例えば、以下の第1回収率制御方法又は/及び第2回収率制御方法を採用することができる。   The control unit 30 can employ, for example, the following first recovery rate control method and / or second recovery rate control method as a method of adjusting the recovery rate.

制御部30は、第1回収率制御方法として、演算シリカ濃度値Ccが許容シリカ濃度値Caとなるように、RO膜モジュール7により分離された透過水W2の流量を一定に維持しながら、RO膜モジュール7により分離された濃縮水W3の流量を増減させることにより回収率を調整する。具体的には、演算シリカ濃度値Cc>許容シリカ濃度値Caである場合には、透過水W2の目標流量を一定に維持するように加圧ポンプ5の回転速度を制御すると共に、濃縮水W3の流量を増加させるように第1排水弁V32〜第3排水弁V34を制御し、回収率を減少させる。一方、演算シリカ濃度値Cc<許容シリカ濃度値Caである場合には、透過水W2の目標流量を一定に維持するように加圧ポンプ5の回転速度を制御すると共に、濃縮水W3の流量を減少させるように第1排水弁V32〜第3排水弁V34を制御し、回収率を増加させる。   As the first recovery rate control method, the control unit 30 maintains the flow rate of the permeate W2 separated by the RO membrane module 7 so that the calculated silica concentration value Cc becomes the allowable silica concentration value Ca, while maintaining the RO flow rate constant. The recovery rate is adjusted by increasing or decreasing the flow rate of the concentrated water W3 separated by the membrane module 7. Specifically, when the calculated silica concentration value Cc> the allowable silica concentration value Ca, the rotational speed of the pressure pump 5 is controlled so as to keep the target flow rate of the permeated water W2 constant, and the concentrated water W3. The first drain valve V32 to the third drain valve V34 are controlled so as to increase the flow rate, and the recovery rate is decreased. On the other hand, when the calculated silica concentration value Cc <allowable silica concentration value Ca, the rotational speed of the pressurizing pump 5 is controlled so that the target flow rate of the permeated water W2 is kept constant, and the flow rate of the concentrated water W3 is controlled. The first drain valve V32 to the third drain valve V34 are controlled so as to decrease, and the recovery rate is increased.

制御部30は、第2回収率制御方法として、演算シリカ濃度値Ccが許容シリカ濃度値Caとなるように、RO膜モジュール7により分離された濃縮水W3の流量を一定に維持すると共に、RO膜モジュール7により分離された透過水W2の流量を増減させることにより回収率を調整する。具体的には、演算シリカ濃度値Cc>許容シリカ濃度値Caである場合には、濃縮水W3の排水流量を一定に維持するように第1排水弁V32〜第3排水弁V34を制御すると共に、透過水W2の目標流量を減少させるように加圧ポンプ5の回転速度を制御し、回収率を減少させる。一方、演算シリカ濃度値Cc<許容シリカ濃度値Caである場合には、濃縮水W3の排水流量を一定に維持するように第1排水弁V32〜第3排水弁V34を制御すると共に、透過水W2の目標流量を増加させるように加圧ポンプ5の回転速度を制御し、回収率を増加させる。   As the second recovery rate control method, the control unit 30 maintains the flow rate of the concentrated water W3 separated by the RO membrane module 7 so that the calculated silica concentration value Cc becomes the allowable silica concentration value Ca, and RO The recovery rate is adjusted by increasing or decreasing the flow rate of the permeated water W2 separated by the membrane module 7. Specifically, when the calculated silica concentration value Cc> the allowable silica concentration value Ca, the first drain valve V32 to the third drain valve V34 are controlled so as to maintain the drain flow rate of the concentrated water W3 constant. Then, the rotational speed of the pressurizing pump 5 is controlled so as to reduce the target flow rate of the permeate W2, and the recovery rate is reduced. On the other hand, when the calculated silica concentration value Cc <the allowable silica concentration value Ca, the first drain valve V32 to the third drain valve V34 are controlled so as to keep the drain flow rate of the concentrated water W3 constant, and the permeated water. The rotational speed of the pressure pump 5 is controlled so as to increase the target flow rate of W2, and the recovery rate is increased.

次に、制御部30による流量フィードバック水量制御について説明する。図7は、制御部30において流量フィードバック水量制御を実行する場合の処理手順を示すフローチャートである。図7に示すフローチャートの処理は、純水製造装置1の運転中において、繰り返し実行される。   Next, flow rate feedback water amount control by the control unit 30 will be described. FIG. 7 is a flowchart illustrating a processing procedure when the control unit 30 executes the flow rate feedback water amount control. The process of the flowchart shown in FIG. 7 is repeatedly executed during operation of the pure water production apparatus 1.

図7に示すステップST101において、制御部30は、透過水W2の目標流量値Q´を取得する。この目標流量値Q´は、例えば、装置管理者が入力操作部40を介して制御部30のメモリに入力した設定値である。 In step ST101 shown in FIG. 7, the control unit 30 acquires the target flow rate value Q p ′ of the permeated water W2. This target flow rate value Q p ′ is, for example, a set value that is input to the memory of the control unit 30 by the device administrator via the input operation unit 40.

ステップST102において、制御部30は、ITUによる計時tが制御周期(Δt)である100msに達したか否かを判定する。このステップST102において、制御部30により、ITUによる計時tが100msに達したと(YES)判定された場合に、処理はステップST103へ移行する。また、ステップST102において、制御部30により、ITUによる計時tが100msに達していない(NO)と判定された場合に、処理はステップST102へ戻る。   In step ST102, the control unit 30 determines whether or not the time t measured by the ITU has reached 100 ms, which is the control period (Δt). In step ST102, when the control unit 30 determines that the time t measured by the ITU has reached 100 ms (YES), the process proceeds to step ST103. In step ST102, when the control unit 30 determines that the time measured by the ITU has not reached 100 ms (NO), the process returns to step ST102.

ステップST103(ステップST102:YES判定)において、制御部30は、第1流量センサFM1の検出流量値Qをフィードバック値として取得する。 Step ST 103: In (step ST 102 YES judgment), the control unit 30 acquires the detected flow rate value Q p of the first flow rate sensor FM1 as a feedback value.

ステップST104において、制御部30は、ステップST103で取得した検出流量値(フィードバック値)Qと、ステップST101で取得した目標流量値Q´との偏差がゼロとなるように、速度形デジタルPIDアルゴリズムにより操作量Uを演算する。速度形デジタルPIDアルゴリズムでは、制御周期Δt(100ms)毎に操作量の変化分ΔUを演算し、これを前回の制御周期時点の操作量Un−1に加算することで現時点の操作量Uを決定する。 In step ST 104, the control unit 30 detects the flow rate value obtained in step ST 103 (feedback value) Q p and, as difference between the target flow rate value Q p 'obtained in step ST101 becomes zero, velocity type digital PID The operation amount Un is calculated by an algorithm. In the speed type digital PID algorithm, the operation amount change ΔU n is calculated every control cycle Δt (100 ms), and this is added to the operation amount U n−1 at the previous control cycle, thereby obtaining the current operation amount U. n is determined.

速度形デジタルPIDアルゴリズムに用いられる演算式は、下記の式(2a)及び式(2b)により表される。
ΔU=K{(e−en−1)+(Δt/T)×e+(T/Δt)×(e−2en−1+en−2)} (2a)
=Un−1+ΔU (2b)
An arithmetic expression used for the velocity type digital PID algorithm is expressed by the following expressions (2a) and (2b).
ΔU n = K p {(e n -e n-1) + (Δt / T i) × e n + (T d / Δt) × (e n -2e n-1 + e n-2)} (2a)
U n = U n-1 + ΔU n (2b)

式(2a)及び式(2b)において、Δt:制御周期、U:現時点の操作量、Un−1:前回の制御周期時点の操作量、ΔU:前回から今回までの操作量の変化分、e:現時点の偏差の大きさ、en−1:前回の制御周期時点の偏差の大きさ、en−2:前々回の制御周期時点の偏差の大きさ、K:比例ゲイン、T:積分時間、T:微分時間である。なお、現時点の偏差の大きさeは、下記の式(3)により求められる。
=Q´−Q (3)
In Expression (2a) and Expression (2b), Δt: control period, U n : current operation amount, U n-1 : operation amount at the previous control period, ΔU n : change in operation amount from the previous time to this time. Minute, e n : magnitude of current deviation, e n-1 : magnitude of deviation at the previous control cycle, e n-2 : magnitude of deviation at the previous control cycle, K p : proportional gain, T i : integration time, T d : differentiation time. The size e n of the current deviation is obtained by the following formula (3).
e n = Q p ′ −Q p (3)

ステップST105において、制御部30は、現時点の操作量U、目標流量値Q´及び加圧ポンプ5の最大駆動周波数(50Hz又は60Hzの設定値)を使用して、所定の演算式により、加圧ポンプ5の駆動周波数F[Hz]を演算する。 In step ST105, the control unit 30 uses the current operation amount U n , the target flow rate value Q p ′, and the maximum drive frequency of the pressurizing pump 5 (set value of 50 Hz or 60 Hz) according to a predetermined arithmetic expression, The drive frequency F [Hz] of the pressure pump 5 is calculated.

ステップST106において、制御部30は、駆動周波数Fの演算値を、対応する電流値信号(周波数指定信号:4〜20mA)に変換し、この電流値信号をインバータ6に出力する。これにより本フローチャートの処理は終了する(ステップST101へリターンする)。なお、ステップST106において、制御部30が電流値信号をインバータ6へ出力すると、インバータ6は、入力された電流値信号で指定された周波数に変換された駆動電力を加圧ポンプ5に供給する。その結果、加圧ポンプ5は、インバータ6から入力された駆動周波数に応じた回転速度で駆動される。   In step ST <b> 106, the control unit 30 converts the calculated value of the drive frequency F into a corresponding current value signal (frequency designation signal: 4 to 20 mA), and outputs this current value signal to the inverter 6. Thereby, the process of this flowchart is complete | finished (it returns to step ST101). In step ST106, when the control unit 30 outputs a current value signal to the inverter 6, the inverter 6 supplies the driving power converted to the frequency specified by the input current value signal to the pressurizing pump 5. As a result, the pressurization pump 5 is driven at a rotational speed corresponding to the drive frequency input from the inverter 6.

次に、制御部30による回収率を調整する制御について説明する。
図8に示すステップST201において、制御部30は、第1温度センサTE1から供給水W1の検出温度値Tを取得する。
Next, control for adjusting the recovery rate by the control unit 30 will be described.
In step ST201 shown in FIG. 8, the control unit 30 acquires the detected temperature value T of the supply water W1 from the first temperature sensor TE1.

ステップST202において、制御部30は、取得した検出温度値Tに基づいて、水に対するシリカ溶解度Ssを決定する。また、制御部30は、シリカ溶解度Ssに安全率を乗じて、許容シリカ濃度値Caを算出する。   In step ST202, the control part 30 determines the silica solubility Ss with respect to water based on the acquired detected temperature value T. In addition, the control unit 30 calculates the allowable silica concentration value Ca by multiplying the silica solubility Ss by the safety factor.

ステップST203において、第1シリカ濃度センサSS1から透過水W2の第1検出シリカ濃度値Cpを取得すると共に、第2シリカ濃度センサSS2から希釈濃縮水W30の第2検出シリカ濃度値Cmを取得する。   In step ST203, the first detected silica concentration value Cp of the permeated water W2 is acquired from the first silica concentration sensor SS1, and the second detected silica concentration value Cm of the diluted concentrated water W30 is acquired from the second silica concentration sensor SS2.

ステップST204において、制御部30は、第1検出シリカ濃度値Cp及び第2検出シリカ濃度値Cmに基づいて、上記の式(1)により、演算シリカ濃度値Ccを演算する。   In step ST204, the control unit 30 calculates the calculated silica concentration value Cc by the above equation (1) based on the first detection silica concentration value Cp and the second detection silica concentration value Cm.

ステップST205において、制御部30は、演算シリカ濃度値Ccが許容シリカ濃度値Caとなるように、回収率を調整する。具体的には、例えば、制御部30は、次の第1回収率制御方法又は第2回収率制御方法を実行する。例えば、制御部30は、第1回収率制御方法として、演算シリカ濃度値Ccが許容シリカ濃度値Caとなるように、透過水W2の目標流量を一定に維持するように加圧ポンプ5の回転速度を制御すると共に濃縮水W3の流量を増減させるように第1排水弁V32〜第3排水弁V34を制御して回収率を調整する。また、例えば、制御部30は、第2回収率制御方法として、演算シリカ濃度値Ccが許容シリカ濃度値Caとなるように、濃縮水W3の排水流量を一定に維持するように第1排水弁V32〜第3排水弁V34を制御すると共に透過水W2の目標流量を減少させるように加圧ポンプ5の回転速度を制御して回収率を調整する。
これにより本フローチャートの処理は終了する(ステップST201へリターンする)。第1実施形態に係る純水製造装置1において、精度よく検出された濃縮水のシリカ濃度値に基づいて回収率を調整して、シリカ系スケールの析出を抑制することができる。
In step ST205, the control unit 30 adjusts the recovery rate so that the calculated silica concentration value Cc becomes the allowable silica concentration value Ca. Specifically, for example, the control unit 30 executes the following first recovery rate control method or second recovery rate control method. For example, as the first recovery rate control method, the control unit 30 rotates the pressurizing pump 5 so as to maintain the target flow rate of the permeate W2 constant so that the calculated silica concentration value Cc becomes the allowable silica concentration value Ca. The recovery rate is adjusted by controlling the first drain valve V32 to the third drain valve V34 so as to control the speed and increase or decrease the flow rate of the concentrated water W3. Further, for example, as a second recovery rate control method, the control unit 30 uses the first drain valve so as to keep the drain flow rate of the concentrated water W3 constant so that the calculated silica concentration value Cc becomes the allowable silica concentration value Ca. The recovery rate is adjusted by controlling the rotation speed of the pressurizing pump 5 so as to control the V32 to the third drain valve V34 and reduce the target flow rate of the permeate W2.
Thereby, the process of this flowchart is complete | finished (it returns to step ST201). In the pure water manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment, the recovery rate can be adjusted based on the silica concentration value of the concentrated water detected with high accuracy, and the precipitation of the silica-based scale can be suppressed.

次に、RO膜モジュール7の内部において、局部的に濃縮水の濃度が高くなった場合に警報を報知する動作について説明する。図9は、制御部30においてRO膜モジュール7の内部において濃縮水の濃度が高い場合に警報が報知される制御を示すフローチャートである。図9に示すフローチャートの処理は、純水製造装置1の運転中において、繰り返し実行される。   Next, an operation for notifying an alarm when the concentration of concentrated water locally increases inside the RO membrane module 7 will be described. FIG. 9 is a flowchart showing control in which an alarm is notified when the concentration of concentrated water is high inside the RO membrane module 7 in the control unit 30. The process of the flowchart shown in FIG. 9 is repeatedly executed during operation of the pure water production apparatus 1.

ステップST301において、制御部30は、第3Aシリカ濃度センサSS3Aから第3A検出シリカ濃度値Cqを取得する。制御部30は、第3Bシリカ濃度センサSS3Bから第3B検出シリカ濃度値Crを取得する。   In step ST301, the control unit 30 acquires the third A detection silica concentration value Cq from the third A silica concentration sensor SS3A. The control unit 30 acquires the third B detection silica concentration value Cr from the third B silica concentration sensor SS3B.

ステップST302において、制御部30は、取得した第3A検出シリカ濃度値Cq又は第3B検出シリカ濃度値Crが所定閾値を下回るか否かを判定する。取得した第3A検出シリカ濃度値Cqが所定閾値を上回ると判定された場合(NO)には、第1サブモジュール71において局所的なシリカの過濃縮が起こっている可能性がある。同様に、取得した第3B検出シリカ濃度値Crが所定閾値を上回ると判定された場合(NO)には、第2サブモジュール72において局所的なシリカの過濃縮が起こっている可能性がある。そこで、ステップST302の判定がNOの場合には、処理は、ステップST303に進み、シリカの過濃縮に係る警報を報知する。警報の報知が行われると、本フローチャートの処理は終了する(ステップST301へリターンする)。一方、取得した第3A検出シリカ濃度値Cq又は第3B検出シリカ濃度値Crが所定閾値を下回ると判定された場合(YES)には、そのまま本フローチャートの処理は終了する(ステップST301へリターンする)。   In step ST302, the control unit 30 determines whether or not the acquired 3A detection silica concentration value Cq or 3B detection silica concentration value Cr is below a predetermined threshold value. When it is determined that the acquired 3A detection silica concentration value Cq exceeds the predetermined threshold (NO), there is a possibility that local silica overconcentration has occurred in the first submodule 71. Similarly, when it is determined that the acquired third B detection silica concentration value Cr exceeds a predetermined threshold (NO), there is a possibility that local overconcentration of silica has occurred in the second submodule 72. Therefore, when the determination in step ST302 is NO, the process proceeds to step ST303, and an alarm relating to silica overconcentration is notified. When the alarm is notified, the process of this flowchart ends (returns to step ST301). On the other hand, when it is determined that the acquired 3A detection silica concentration value Cq or 3B detection silica concentration value Cr is lower than the predetermined threshold (YES), the processing of this flowchart is ended as it is (return to step ST301). .

上述した第1実施形態に係る純水製造装置1によれば、例えば、以下のような効果が奏される。   According to the pure water manufacturing apparatus 1 which concerns on 1st Embodiment mentioned above, the following effects are show | played, for example.

第1実施形態に係る純水製造装置1において、供給水W1を透過水W2と濃縮水W3とに分離するRO膜モジュール7と、RO膜モジュール7により分離された濃縮水W3に、純水製造装置1内を流通する透過水(希釈水)W2を混合して希釈濃縮水W30を製造する希釈装置18と、純水製造装置1内を流通する透過水(希釈水)W2のシリカ濃度を第1検出シリカ濃度値Cpとして検出する第1シリカ濃度センサSS1と、希釈装置18により製造された第1希釈濃縮水W30のシリカ濃度を第2検出シリカ濃度値Cmとして検出する第2シリカ濃度センサSS2と、第1検出シリカ濃度値Cpと第2検出シリカ濃度値Cmとから第1濃縮水W3のシリカ濃度を演算シリカ濃度値Ccとして演算し、演算シリカ濃度値Ccが許容シリカ濃度値Caとなるように、回収率(RO膜モジュール7へ供給される供給水W1の流量に対する第1透過水W2の流量の比率)を調整する制御部30と、を備える。   In the pure water production apparatus 1 according to the first embodiment, the RO membrane module 7 that separates the supply water W1 into the permeate water W2 and the concentrated water W3, and the concentrated water W3 separated by the RO membrane module 7 is purified into pure water. The silica concentration of the diluting device 18 for producing the diluted concentrated water W30 by mixing the permeated water (diluted water) W2 flowing through the apparatus 1 and the permeated water (diluted water) W2 flowing through the pure water producing device 1 is set to The first silica concentration sensor SS1 that detects the first detection silica concentration value Cp, and the second silica concentration sensor SS2 that detects the silica concentration of the first diluted concentrated water W30 produced by the dilution device 18 as the second detection silica concentration value Cm. Then, the silica concentration of the first concentrated water W3 is calculated as the calculated silica concentration value Cc from the first detected silica concentration value Cp and the second detected silica concentration value Cm, and the calculated silica concentration value Cc is the allowable silica concentration. As the value Ca, and a control unit 30 for adjusting the recovery rate (flow rate ratio of the RO membrane module 7 first permeate water W2 to the flow rate of feed water W1 is supplied to) the.

そのため、純水製造装置1内を流通する透過水W2を希釈水として利用して、濃縮水W3を希釈して希釈濃縮水W30を製造することにより、濃縮水W3のシリカ濃度を演算することができる。これにより、濃度測定レンジに制限のある第2シリカ濃度センサSS2を用いて濃縮水W3のシリカ濃度を精度よく検出することができると共に、精度よく検出した濃縮水W3のシリカ濃度に基づいて、回収率を調整することができる。従って、シリカ系スケールの析出を効果的に抑制することができる。   Therefore, the concentration of silica in the concentrated water W3 can be calculated by using the permeated water W2 flowing through the pure water production apparatus 1 as dilution water and diluting the concentrated water W3 to produce the diluted concentrated water W30. it can. Accordingly, the silica concentration of the concentrated water W3 can be accurately detected using the second silica concentration sensor SS2 having a limited concentration measurement range, and the concentration is recovered based on the silica concentration of the concentrated water W3 detected with high accuracy. The rate can be adjusted. Therefore, precipitation of silica-based scale can be effectively suppressed.

また、本実施形態においては、希釈装置18は、RO膜モジュール7により分離された濃縮水W3と透過水W2とが混合される混合槽181と、RO膜モジュール7により分離された濃縮水W3の水圧により混合槽181に導入される際に駆動される容積式タービン部182と、容積式タービン部182の駆動に従動して駆動される容積式ポンプ部183であって混合槽181へ向けて水圧を発生させて濃縮水W3の水圧よりも低い水圧の希釈水を混合槽に導入する容積式ポンプ部183と、を有する。そのため、RO膜モジュール7からの濃縮水W3の水圧で駆動する機械式の希釈装置18を利用することにより、電気的制御を使用することなく、濃縮水W3に対して透過水W2を簡易な構成で混合して希釈することができる。   In the present embodiment, the diluting device 18 includes a mixing tank 181 in which the concentrated water W3 separated by the RO membrane module 7 and the permeated water W2 are mixed, and the concentrated water W3 separated by the RO membrane module 7. A positive displacement turbine section 182 that is driven when introduced into the mixing tank 181 by water pressure, and a positive displacement pump section 183 that is driven by the drive of the positive displacement turbine section 182, and the water pressure toward the mixing tank 181. And a positive displacement pump unit 183 that introduces diluted water having a lower water pressure than the water pressure of the concentrated water W3 into the mixing tank. Therefore, by using the mechanical dilution device 18 that is driven by the pressure of the concentrated water W3 from the RO membrane module 7, the permeated water W2 can be simply configured with respect to the concentrated water W3 without using electrical control. Can be mixed and diluted.

また、本実施形態においては、RO膜モジュール7は、3つのサブモジュール71,72,73を備え、3つのサブモジュール71,72,73は、3つのサブモジュール71,72,73それぞれから分離された濃縮水が次のサブモジュールに供給されるように直列に接続され、第3A検出シリカ濃度値を検出する第3Aシリカ濃度センサSS3A又は第3B検出シリカ濃度値を検出する第3Bシリカ濃度センサSS3Bと、警報を報知する主表示部60と、を備え、制御部30は、第3A検出シリカ濃度値又は第3B検出シリカ濃度値が所定閾値を上回る場合に、主表示部60に表示させることによる報知を実行する。そのため、RO膜モジュール7の内部におけるサブモジュール71,72,73間の濃縮水のシリカ濃度を測定することで、RO膜モジュール7の内部における局部的なシリカ濃度の異常(過濃縮)が発生していないかを監視し、濃縮水のシリカ濃度の異常が発生した場合に報知することで、シリカ系スケール付着のリスクが高まっていることをユーザーに認識させることができる。これにより、ユーザーに対してRO膜モジュール7に対するフラッシング頻度や循環比(透過水の流量に対する濃縮水の流量の比率)の見直し等を促すことができる。   In this embodiment, the RO membrane module 7 includes three submodules 71, 72, and 73. The three submodules 71, 72, and 73 are separated from the three submodules 71, 72, and 73, respectively. The 3A silica concentration sensor SS3A for detecting the 3A detection silica concentration value or the 3B silica concentration sensor SS3B for detecting the 3B detection silica concentration value are connected in series so that the concentrated water is supplied to the next submodule. And a main display unit 60 that notifies an alarm, and the control unit 30 causes the main display unit 60 to display when the 3A detection silica concentration value or the 3B detection silica concentration value exceeds a predetermined threshold value. Announcement is executed. Therefore, by measuring the silica concentration of the concentrated water between the submodules 71, 72, and 73 inside the RO membrane module 7, a local silica concentration abnormality (overconcentration) occurs inside the RO membrane module 7. By monitoring whether there is an abnormality in the silica concentration of the concentrated water, it is possible to make the user recognize that the risk of silica-based scale adhesion has increased. Thereby, it is possible to prompt the user to review the flushing frequency or circulation ratio (ratio of the flow rate of the concentrated water to the flow rate of the permeated water) for the RO membrane module 7.

(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態に係る純水製造装置1Aについて、図10及び図11A〜図11Cを参照しながら説明する。図10は、第2実施形態に係る純水製造装置1Aの全体概略図である。図11Aは、第2実施形態に係る純水製造装置1Aの全体構成図の前段部分である。図11Bは、第2実施形態に係る純水製造装置1Aの全体構成図の中段部分である。図11Cは、第2実施形態に係る純水製造装置1Aの全体構成図の後段部分である。
(Second Embodiment)
Next, a pure water producing apparatus 1A according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 10 and 11A to 11C. FIG. 10 is an overall schematic diagram of a pure water producing apparatus 1A according to the second embodiment. FIG. 11A is a front part of the entire configuration diagram of the pure water producing apparatus 1A according to the second embodiment. FIG. 11B is the middle part of the overall configuration diagram of the pure water producing apparatus 1A according to the second embodiment. FIG. 11C is a rear part of the entire configuration diagram of the pure water producing apparatus 1A according to the second embodiment.

第2実施形態では、主に第1実施形態との相違点について説明する。このため、第1実施形態と同一(又は同等)の構成については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。また、第2実施形態において特に説明しない点については、第1実施形態の説明が適宜に適用される。   In the second embodiment, differences from the first embodiment will be mainly described. For this reason, the same code | symbol is attached | subjected about the same (or equivalent) structure as 1st Embodiment, and detailed description is abbreviate | omitted. The description of the first embodiment is appropriately applied to points that are not particularly described in the second embodiment.

第2実施形態に係る純水製造装置1Aは、第1実施形態に係る純水製造装置1がRO膜モジュール7の下流側に脱炭酸装置15を備えているのに対して、脱炭酸装置15の下流側に、更に脱イオン部としての電気脱イオンスタック(以下、「EDIスタック」ともいう)16を備えている点、及びこれらの周辺の構成において、第1実施形態に係る純水製造装置1と主に異なる。   The deionized water production apparatus 1A according to the second embodiment is different from the deionized water production apparatus 1 according to the first embodiment in that the decarbonation apparatus 15 is provided on the downstream side of the RO membrane module 7. The deionized water production apparatus according to the first embodiment is further provided with an electrodeionization stack (hereinafter also referred to as an “EDI stack”) 16 as a deionization section on the downstream side thereof, and the configuration around these. Mainly different from 1.

また、第2実施形態に係る純水製造装置1Aは、第1実施形態の希釈装置18における第2導入ラインL202の下流側の端部が透過水導入ラインL112を介して透過水ラインL21に接続されているのに対して脱塩水導入ラインL113を介して脱塩水ラインL3に接続されている点、及び、第1実施形態が透過水ラインL21に第1シリカ濃度センサSS1を備えているのに代えて脱塩水ラインL3に第4シリカ濃度センサSS4を備えている点で、第1実施形態に係る純水製造装置1と相違する。   Moreover, 1 A of pure water manufacturing apparatuses which concern on 2nd Embodiment connect the downstream edge part of the 2nd introduction line L202 in the dilution apparatus 18 of 1st Embodiment to the permeate line L21 via the permeate introduction line L112. However, the first embodiment is provided with the first silica concentration sensor SS1 in the permeated water line L21 in that it is connected to the desalted water line L3 via the desalted water introduction line L113. Instead, it differs from the pure water producing apparatus 1 according to the first embodiment in that the demineralized water line L3 includes the fourth silica concentration sensor SS4.

図10に示すように、第2実施形態に係る純水製造装置1Aは、第1オプション機器OP1と、プレフィルタ4と、第2オプション機器OP2と、加圧ポンプ5と、インバータ6と、RO膜モジュール7と、脱炭酸装置15と、第1流路切換弁V71と、EDIスタック16と、第2流路切換弁V72と、第3オプション機器OP3と、制御部30Aと、入力操作部40と、直流電源装置50と、主表示部60と、を備える。   As shown in FIG. 10, the pure water producing apparatus 1A according to the second embodiment includes a first optional device OP1, a prefilter 4, a second optional device OP2, a pressurizing pump 5, an inverter 6, and an RO. Membrane module 7, decarboxylation device 15, first flow path switching valve V71, EDI stack 16, second flow path switching valve V72, third optional device OP3, control unit 30A, and input operation unit 40 And a DC power supply device 50 and a main display unit 60.

図11Aに示すように、第2実施形態に係る純水製造装置1Aは、第2供給水ラインL12の接続部J5に、第2オプション機器OP2が接続され、軟水供給ラインL24は接続されていない。第2実施形態に係る純水製造装置1Aにおいて、脱炭酸装置15の封水タンクには、EDIスタック16(濃縮室162)から排出された濃縮水W7が供給され、封水W8として利用される。   As shown in FIG. 11A, in the pure water producing apparatus 1A according to the second embodiment, the second optional device OP2 is connected to the connection portion J5 of the second supply water line L12, and the soft water supply line L24 is not connected. . In the pure water producing apparatus 1A according to the second embodiment, the concentrated water W7 discharged from the EDI stack 16 (concentration chamber 162) is supplied to the sealed water tank of the decarboxylation device 15 and used as the sealed water W8. .

本実施形態の透過水ラインL21は、図11B及び図11Cに示すように、前段側透過水ラインL211と、中段側透過水ラインL212と、脱塩室流入ラインL213と、濃縮室流入ラインL214と、を有する。   As shown in FIGS. 11B and 11C, the permeate line L21 of the present embodiment includes a front-stage permeate line L211, a middle-stage permeate line L212, a desalting chamber inflow line L213, and a concentration chamber inflow line L214. Have.

本実施形態において、前段側透過水ラインL211の下流側の端部は、図11Cに示すように、第1流路切換弁V71を介して、中段側透過水ラインL212及びRO透過水リターンラインL41に接続されている。   In the present embodiment, as shown in FIG. 11C, the downstream end of the front-stage permeate line L211 is connected to the middle-stage permeate line L212 and the RO permeate return line L41 via the first flow path switching valve V71. It is connected to the.

図11Bに示すように、第2実施形態に係る純水製造装置1Aは、第2供給水ラインL12において、供給水補給弁V31と接続部J51との間に接続部J59が設けられている。接続部J59には、後述する脱塩水リターンラインL42の下流側の端部が接続されている。   As shown in FIG. 11B, in the pure water manufacturing apparatus 1A according to the second embodiment, a connection portion J59 is provided between the supply water supply valve V31 and the connection portion J51 in the second supply water line L12. The downstream end of the desalted water return line L42 described later is connected to the connecting portion J59.

図11Cに示すように、本実施形態の第1流路切換弁V71は、RO膜モジュール7で分離された透過水W2を、中段側透過水ラインL212を介してEDIスタック16へ向けて流通させる流路(採水側流路)、又は、RO透過水リターンラインL41を介してRO膜モジュール7の上流側の供給水ラインL1へ向けて流通させる流路(循環側流路)に切り換え可能な弁である。   As shown in FIG. 11C, the first flow path switching valve V71 of the present embodiment distributes the permeate W2 separated by the RO membrane module 7 toward the EDI stack 16 via the middle permeate line L212. It is possible to switch to a flow path (water sampling side flow path) or a flow path (circulation side flow path) that circulates toward the supply water line L1 on the upstream side of the RO membrane module 7 via the RO permeate return line L41. It is a valve.

本実施形態において、中段側透過水ラインL212の下流側の端部は、分岐部J71において、脱塩室流入ラインL213の上流側の端部及び濃縮室流入ラインL214の上流側の端部に接続されている。   In this embodiment, the downstream end of the middle stage permeate line L212 is connected to the upstream end of the desalination chamber inflow line L213 and the upstream end of the concentrating chamber inflow line L214 at the branch J71. Has been.

中段側透過水ラインL212の上流側の端部は、第1流路切換弁V71に接続されている。中段側透過水ラインL212の下流側の端部は、分岐部J71において、脱塩室流入ラインL213の上流側の端部及び濃縮室流入ラインL214の上流側の端部に接続されている。   The upstream end of the middle permeate line L212 is connected to the first flow path switching valve V71. The downstream end of the middle permeate water line L212 is connected to the upstream end of the desalting chamber inflow line L213 and the upstream end of the concentrating chamber inflow line L214 at the branch J71.

脱塩室流入ラインL213の下流側の端部は、EDIスタック16の一次側ポート(脱塩室161の入口側)に接続されている。脱塩室流入ラインL213には、接続部J33が配置されている。濃縮室流入ラインL214の下流側の端部は、EDIスタック16の一次側ポート(濃縮室162の各入口側)に接続されている。濃縮室流入ラインL214には、上流側から順に、第5定流量弁V55、接続部J34が設けられている。   The downstream end of the desalting chamber inflow line L213 is connected to the primary port of the EDI stack 16 (inlet side of the desalting chamber 161). A connecting portion J33 is disposed in the desalting chamber inflow line L213. The downstream end of the concentrating chamber inflow line L214 is connected to a primary port (each inlet side of the concentrating chamber 162) of the EDI stack 16. The concentrating chamber inflow line L214 is provided with a fifth constant flow valve V55 and a connecting portion J34 in order from the upstream side.

EDIスタック16は、RO膜モジュール7で供給水W1から分離された透過水W2(第1透過水)を脱塩処理(脱イオン処理)して、脱イオン水としての脱塩水W6と濃縮水W7とを得る水処理機器である。EDIスタック16は、直流電源装置50(図10参照)と電気的に接続されている。EDIスタック16には、直流電源装置50から直流電圧が印加される。EDIスタック16は、直流電源装置50から印加された直流電圧により通電され、動作する。 The EDI stack 16 demineralizes (deionizes) the permeated water W2 (first permeated water) separated from the supply water W1 by the RO membrane module 7, and demineralized water W6 as deionized water and concentrated water W7. It is a water treatment equipment that obtains. The EDI stack 16 is electrically connected to the DC power supply device 50 (see FIG. 10 ). A DC voltage is applied to the EDI stack 16 from the DC power supply device 50. The EDI stack 16 is energized by the DC voltage applied from the DC power supply device 50 and operates.

直流電源装置50は、直流電圧をEDIスタック16の一対の電極間に印加する。直流電源装置50は、制御部30Aと電気的に接続されている。直流電源装置50は、制御部30Aにより入力された電圧指定信号(又は、電流指定信号)に応答して、直流電圧をEDIスタック16に印加する。   The DC power supply device 50 applies a DC voltage between the pair of electrodes of the EDI stack 16. The DC power supply device 50 is electrically connected to the control unit 30A. The DC power supply device 50 applies a DC voltage to the EDI stack 16 in response to the voltage specifying signal (or current specifying signal) input by the control unit 30A.

EDIスタック16は、一対の電極間に、陽イオン交換膜及び陰イオン交換膜(不図示)が交互に配置される。EDIスタック16の内部は、これらイオン交換膜により、脱塩室161及び濃縮室162(陽極室及び陰極室を含む)に区画される。脱塩室161には、イオン交換体(不図示)が充填される。脱塩室161に充填されるイオン交換体としては、例えば、イオン交換樹脂又はイオン交換繊維等が用いられる。なお、図11Cでは、EDIスタック16の内部に区画された複数の脱塩室161及び濃縮室162を模式的に示す。   In the EDI stack 16, a cation exchange membrane and an anion exchange membrane (not shown) are alternately arranged between a pair of electrodes. The inside of the EDI stack 16 is partitioned into a desalting chamber 161 and a concentration chamber 162 (including an anode chamber and a cathode chamber) by these ion exchange membranes. The desalting chamber 161 is filled with an ion exchanger (not shown). As an ion exchanger filled in the desalting chamber 161, for example, an ion exchange resin or an ion exchange fiber is used. FIG. 11C schematically shows a plurality of desalting chambers 161 and concentration chambers 162 partitioned inside the EDI stack 16.

脱塩室161の入口側には、透過水W2を流入させる脱塩室流入ラインL213が接続されている。脱塩室161の出口側には、脱塩室161においてイオンが除去されて排出された脱塩水W6を流通させる脱塩水ラインL3が接続されている。濃縮室162の入口側には、透過水W2を流入させる濃縮室流入ラインL214が接続されている。濃縮室162の出口側には、イオンが濃縮されて排出された濃縮水W7を流通させるEDI濃縮水ラインL52が接続されている。   A desalting chamber inflow line L213 through which the permeated water W2 flows is connected to the inlet side of the desalting chamber 161. On the outlet side of the desalting chamber 161, a desalted water line L3 through which the desalted water W6 discharged from the ions in the desalting chamber 161 is discharged is connected. A concentrating chamber inflow line L214 through which the permeated water W2 flows is connected to the inlet side of the concentrating chamber 162. An EDI concentrated water line L52 for circulating the concentrated water W7 that has been concentrated and discharged is connected to the outlet side of the concentration chamber 162.

脱塩室161及び濃縮室162それぞれには、透過水ラインL21を流通する透過水W2が流入される。透過水W2に含まれる残留イオンは、脱塩室161内に充填されたイオン交換体(不図示)により捕捉され、脱塩水W6となる。脱塩水W6は、脱塩水ラインL3(後述)を介して需要箇所へ送出される。また、脱塩室161内のイオン交換体に捕捉された残留イオンは、印加された直流電圧の電気エネルギーにより濃縮室162に移動する。そして、残留イオンを含む水は、濃縮水W7として、濃縮室162からEDI濃縮水ラインL52(後述)を介して脱炭酸装置15に向けて送出される。脱炭酸装置15に送出された濃縮水W7は、封水W8として利用され、その後、封水排出ラインL71を介して装置の外に排出される。   The permeated water W2 flowing through the permeated water line L21 flows into each of the desalting chamber 161 and the concentration chamber 162. Residual ions contained in the permeated water W2 are captured by an ion exchanger (not shown) filled in the desalting chamber 161 to become desalted water W6. The desalted water W6 is sent to the demand location via the desalted water line L3 (described later). Further, residual ions captured by the ion exchanger in the desalting chamber 161 move to the concentration chamber 162 by the electric energy of the applied DC voltage. And the water containing a residual ion is sent out toward the decarbonation apparatus 15 through the EDI concentrated water line L52 (after-mentioned) as the concentrated water W7. The concentrated water W7 sent to the decarbonation device 15 is used as the sealed water W8, and is then discharged out of the device via the sealed water discharge line L71.

脱塩水ラインL3は、EDIスタック16で得られた脱塩水W6を純水として需要箇所に向けて送出するラインである。脱塩水ラインL3は、上流側脱塩水ラインL31と、下流側脱塩水ラインL32と、を有する。   The desalted water line L3 is a line for sending the desalted water W6 obtained by the EDI stack 16 to the demand point as pure water. The demineralized water line L3 includes an upstream demineralized water line L31 and a downstream demineralized water line L32.

上流側脱塩水ラインL31の上流側の端部は、EDIスタック16の二次側ポート(脱塩室161の出口側)に接続されている。上流側脱塩水ラインL31の下流側の端部は、第2流路切換弁V72を介して、下流側脱塩水ラインL32及び脱塩水リターンラインL42に接続されている。上流側脱塩水ラインL31には、上流側から順に、接続部J36、接続部J37、接続部J38、第7開閉弁V17、接続部J65、接続部J64、及び第2流路切換弁V72が設けられている。第7開閉弁V17は、上流側脱塩水ラインL31の開閉を操作可能な手動弁である。   The upstream end of the upstream demineralized water line L31 is connected to the secondary port of the EDI stack 16 (the outlet side of the demineralized chamber 161). The downstream end of the upstream demineralized water line L31 is connected to the downstream demineralized water line L32 and the demineralized water return line L42 via the second flow path switching valve V72. In the upstream demineralized water line L31, a connecting portion J36, a connecting portion J37, a connecting portion J38, a seventh on-off valve V17, a connecting portion J65, a connecting portion J64, and a second flow path switching valve V72 are provided in this order from the upstream side. It has been. The seventh on-off valve V17 is a manual valve that can be operated to open and close the upstream demineralized water line L31.

第2流路切換弁V72は、EDIスタック16の脱塩室161で得られた脱塩水W6を、下流側脱塩水ラインL32を介して需要箇所に向けて送出させる流路(採水側流路)、又は、脱塩水リターンラインL42を介してRO膜モジュール7の上流側の供給水ラインL1に向けて流通させる流路(循環側流路)に切り換え可能な自動弁である。第2流路切換弁V72は、例えば、電動式又は電磁式の三方弁により構成される。第2流路切換弁V72は、制御部30Aと電気的に接続されている。第2流路切換弁V72における流路の切り換えは、制御部30Aから送信される流路切換信号により制御される。   The second flow path switching valve V72 is a flow path (water sampling side flow path) for sending the desalted water W6 obtained in the desalination chamber 161 of the EDI stack 16 toward the demand point via the downstream side desalted water line L32. ) Or an automatic valve that can be switched to a flow path (circulation side flow path) that circulates toward the supply water line L1 upstream of the RO membrane module 7 via the desalted water return line L42. The second flow path switching valve V72 is configured by, for example, an electric or electromagnetic three-way valve. The second flow path switching valve V72 is electrically connected to the control unit 30A. The switching of the flow path in the second flow path switching valve V72 is controlled by a flow path switching signal transmitted from the control unit 30A.

第2流路切換弁V72は、制御部30により採水側流路に切り換えられることにより、EDIスタック16で得られた脱塩水W6を脱塩水ラインL3から需要箇所に供給するように送り出す処理を実行可能な送出手段として機能する。   The second flow path switching valve V72 performs a process of sending the demineralized water W6 obtained in the EDI stack 16 from the demineralized water line L3 to the demand point by being switched to the water sampling side flow path by the control unit 30. It functions as an executable sending means.

下流側脱塩水ラインL32の上流側の端部は、第2流路切換弁V72に接続されている。下流側脱塩水ラインL32の下流側の端部は、需要箇所の装置等(不図示)に接続されている。   The upstream end of the downstream demineralized water line L32 is connected to the second flow path switching valve V72. The downstream end of the downstream demineralized water line L32 is connected to an apparatus or the like (not shown) at the demand point.

脱塩水リターンラインL42は、EDIスタック16の脱塩室161で得られた脱塩水W6を、脱塩水ラインL3の途中から、RO膜モジュール7の上流側へ返送するラインである。本実施形態において、脱塩水リターンラインL42の上流側の端部は、第2流路切換弁V72に接続されている。脱塩水リターンラインL42の下流側の端部は、接続部J59に接続されている。脱塩水リターンラインL42は、EDIスタック16の脱塩室161で得られた脱塩水W6をRO膜モジュール7の上流側(供給水ラインL1)へ返送するラインである。脱塩水リターンラインL42の上流側には、第5逆止弁V65が設けられている。   The desalted water return line L42 is a line for returning the desalted water W6 obtained in the desalting chamber 161 of the EDI stack 16 to the upstream side of the RO membrane module 7 from the middle of the desalted water line L3. In the present embodiment, the upstream end of the desalted water return line L42 is connected to the second flow path switching valve V72. The downstream end of the desalted water return line L42 is connected to the connecting portion J59. The desalted water return line L42 is a line for returning the desalted water W6 obtained in the desalting chamber 161 of the EDI stack 16 to the upstream side (supply water line L1) of the RO membrane module 7. A fifth check valve V65 is provided on the upstream side of the desalted water return line L42.

EDI濃縮水ラインL52は、EDIスタック16の濃縮室162から排出された濃縮水W7を、脱炭酸装置15に送出するラインである。EDI濃縮水ラインL52の上流側の端部は、EDIスタック16の二次側ポート(濃縮室162の出口側)に接続されている。EDI濃縮水ラインL52の下流側の端部は、脱炭酸装置15に接続されている。   The EDI concentrated water line L52 is a line for sending the concentrated water W7 discharged from the concentration chamber 162 of the EDI stack 16 to the decarboxylation device 15. The upstream end of the EDI concentrated water line L52 is connected to the secondary port of the EDI stack 16 (the outlet side of the concentration chamber 162). The downstream end of the EDI concentrated water line L52 is connected to the decarboxylation device 15.

本実施形態に係る純水製造装置1Aは、第1圧力計P1〜第4圧力計P4に加えて、第5圧力計P5及び第6圧力計P6を有する。図11Cに示すように、第5圧力計P5は、接続部J35において、EDI濃縮水ラインL52に接続されている。第6圧力計P6は、接続部J36において、脱塩水ラインL3に接続されている。   The pure water manufacturing apparatus 1A according to the present embodiment includes a fifth pressure gauge P5 and a sixth pressure gauge P6 in addition to the first pressure gauge P1 to the fourth pressure gauge P4. As shown in FIG. 11C, the fifth pressure gauge P5 is connected to the EDI concentrated water line L52 at the connection portion J35. The sixth pressure gauge P6 is connected to the demineralized water line L3 at the connection portion J36.

本実施形態に係る純水製造装置1Aは、第1圧力センサPS1及び第2圧力センサPS2に加えて、第3圧力センサPS3及び第4圧力センサPS4を有する。第3圧力センサPS3は、接続部J33において、脱塩室流入ラインL213に接続されている。接続部J33は、脱塩室流入ラインL213の途中に配置されている。第4圧力センサPS4は、接続部J34において、濃縮室流入ラインL214に接続されている。接続部J34は、濃縮室流入ラインL214における第5定流量弁V55とEDIスタック16との間に配置されている。   The pure water manufacturing apparatus 1A according to the present embodiment includes a third pressure sensor PS3 and a fourth pressure sensor PS4 in addition to the first pressure sensor PS1 and the second pressure sensor PS2. The third pressure sensor PS3 is connected to the desalting chamber inflow line L213 at the connection portion J33. The connection part J33 is arrange | positioned in the middle of the desalination chamber inflow line L213. The fourth pressure sensor PS4 is connected to the concentration chamber inflow line L214 at the connection portion J34. The connection portion J34 is disposed between the fifth constant flow valve V55 and the EDI stack 16 in the concentration chamber inflow line L214.

本実施形態に係る純水製造装置1Aは、第2比抵抗センサRS2に加えて、第1比抵抗センサRS1を備える。第1比抵抗センサRS1は、接続部J37において、脱塩水ラインL3に接続されている。接続部J37は、脱塩水ラインL3におけるEDIスタック16と第2流路切換弁V72との間に配置されている。第1比抵抗センサRS1は、第2比抵抗センサRS2と同様に、測定された比抵抗値の温度補償のため、温度センサを内蔵している。そのため、第2比抵抗センサRS2は、脱塩水W6の水温を測定することができる。   The pure water manufacturing apparatus 1A according to the present embodiment includes a first specific resistance sensor RS1 in addition to the second specific resistance sensor RS2. 1st specific resistance sensor RS1 is connected to the desalted water line L3 in the connection part J37. The connection portion J37 is disposed between the EDI stack 16 and the second flow path switching valve V72 in the desalted water line L3. As with the second specific resistance sensor RS2, the first specific resistance sensor RS1 incorporates a temperature sensor for temperature compensation of the measured specific resistance value. Therefore, the second specific resistance sensor RS2 can measure the water temperature of the desalted water W6.

第1比抵抗センサRS1は、第2比抵抗センサRS2と同様に、制御部30Aと電気的に接続されている。第1比抵抗センサRS1で測定された脱塩水W6の比抵抗(及び温度)は、制御部30Aへ検出信号として送信される。   The first specific resistance sensor RS1 is electrically connected to the control unit 30A similarly to the second specific resistance sensor RS2. The specific resistance (and temperature) of the desalted water W6 measured by the first specific resistance sensor RS1 is transmitted as a detection signal to the control unit 30A.

本実施形態に係る純水製造装置1Aは、第1流量センサFM1に加えて、第2流量センサFM2を有する。第2流量センサFM2は、接続部J38において、脱塩水ラインL3に接続されている。接続部J38は、脱塩水ラインL3におけるEDIスタック16と接続部J24(後述)との間に配置されている。   The pure water manufacturing apparatus 1A according to the present embodiment includes a second flow rate sensor FM2 in addition to the first flow rate sensor FM1. The second flow rate sensor FM2 is connected to the demineralized water line L3 at the connection portion J38. The connection part J38 is arrange | positioned between the EDI stack 16 and the connection part J24 (after-mentioned) in the desalted water line L3.

第2実施形態に係る純水製造装置1Aは、第1実施形態における第1シリカ濃度センサSS1に代えて第4シリカ濃度センサSS4を備える。第4シリカ濃度センサSS4は、脱塩水ラインL3を流通する脱塩水W6のシリカ濃度を第1検出シリカ濃度値Cpとして検出する機器である。第4シリカ濃度センサSS4は、接続部J65において、脱塩水ラインL3に接続されている。接続部J65は、脱塩水ラインL3におけるEDIスタック16と第2流路切換弁V72との間に配置されている。   The pure water manufacturing apparatus 1A according to the second embodiment includes a fourth silica concentration sensor SS4 instead of the first silica concentration sensor SS1 in the first embodiment. The fourth silica concentration sensor SS4 is a device that detects the silica concentration of the desalted water W6 flowing through the desalted water line L3 as the first detected silica concentration value Cp. The fourth silica concentration sensor SS4 is connected to the demineralized water line L3 at the connection portion J65. The connection portion J65 is disposed between the EDI stack 16 and the second flow path switching valve V72 in the desalted water line L3.

第2実施形態においては、希釈装置18は、第1実施形態と同様に、第2シリカ濃度センサSS2に取り付けられている。第2実施形態の希釈装置18は、第1実施形態が希釈水として透過水W2を用いるのに対して、希釈水として脱塩水W6を用いる点において、第1実施形態の希釈装置18と異なる。希釈装置18は、RO膜モジュール7により分離された濃縮水W3と、純水製造装置1A内を流通する脱塩水W6(希釈水)とを混合して希釈濃縮水W30(第2希釈濃縮水)を製造する。これにより、希釈装置18は、EDIスタック16により得られた脱塩水W6を希釈水として用いて、RO膜モジュール7により分離された濃縮水W3を希釈する。   In the second embodiment, the diluting device 18 is attached to the second silica concentration sensor SS2 as in the first embodiment. The diluting device 18 of the second embodiment differs from the diluting device 18 of the first embodiment in that the permeated water W2 is used as the diluting water in the first embodiment, whereas the desalted water W6 is used as the diluting water. The diluting device 18 mixes the concentrated water W3 separated by the RO membrane module 7 with the desalted water W6 (diluted water) flowing through the pure water producing apparatus 1A, thereby diluting the concentrated water W30 (second diluted concentrated water). Manufacturing. Thereby, the dilution apparatus 18 dilutes the concentrated water W3 separated by the RO membrane module 7 using the demineralized water W6 obtained by the EDI stack 16 as the dilution water.

第2実施形態の希釈装置18においては、第2導入ラインL202は、脱塩水ラインL3を流通するEDIスタック16により得られた脱塩水W6を、第1実施形態の透過水導入ラインL112に代えて脱塩水導入ラインL113を介して、混合槽181に導入するラインである(図6参照)。脱塩水導入ラインL113の上流側の端部は、接続部J64(図11C参照)に接続されている。脱塩水導入ラインL113の下流側の端部は、第2導入ラインL202の上流側の端部に接続される(図6参照)。脱塩水導入ラインL113は、接続部J64(図11C参照)において、脱塩水ラインL3(上流側脱塩水ラインL31)と接続されている。接続部J64は、上流側脱塩水ラインL31におけるEDIスタック16と第2流路切換弁V72との間に配置される。   In the diluting device 18 of the second embodiment, the second introduction line L202 replaces the desalted water W6 obtained by the EDI stack 16 flowing through the desalted water line L3 with the permeated water introduction line L112 of the first embodiment. This is a line that is introduced into the mixing tank 181 via the desalted water introduction line L113 (see FIG. 6). The upstream end of the desalted water introduction line L113 is connected to a connection portion J64 (see FIG. 11C). The downstream end of the desalted water introduction line L113 is connected to the upstream end of the second introduction line L202 (see FIG. 6). The desalted water introduction line L113 is connected to the desalted water line L3 (upstream desalted water line L31) at the connection portion J64 (see FIG. 11C). The connection portion J64 is disposed between the EDI stack 16 and the second flow path switching valve V72 in the upstream demineralized water line L31.

制御部30Aは、第1実施形態で説明した流量フィードバック定流量制御と同様の制御が実行される。また、制御部Aは、第1実施形態における演算シリカ濃度値Ccが許容シリカ濃度値Caとなるように透過水W2の回収率を調整する制御を実行する。第2実施形態における第2シリカ濃度センサSS2は、第1実施形態で希釈水として透過水W2を用いたのに代えて、希釈水として脱塩水W6を用いた点が異なる。そのため、第2実施形態においては、制御部30Aは、希釈水を脱塩水W6とした場合の演算シリカ濃度値Ccを演算する。具体的には、第1実施形態における上記の式(1)において、第2実施形態においては、上記の式(1)におけるVpを脱塩水W6のサンプル水量値とし、Cpを脱塩水W6の第1検出シリカ濃度値とする。そして、制御部30Aは、脱塩水W6に係るVp,Cpを用いて上記の式(1)から演算シリカ濃度値Ccを演算し、第1実施形態と同様に、演算シリカ濃度値Ccが許容シリカ濃度値Caとなるように回収率を調整する。   The control unit 30A performs control similar to the flow rate feedback constant flow rate control described in the first embodiment. Moreover, the control part A performs control which adjusts the collection | recovery rate of the permeated water W2 so that the calculation silica density | concentration value Cc in 1st Embodiment becomes the allowable silica density | concentration value Ca. The second silica concentration sensor SS2 in the second embodiment is different from the first embodiment in that the permeated water W2 is used as the dilution water instead of the permeated water W2 as the dilution water. Therefore, in the second embodiment, the control unit 30A calculates the calculated silica concentration value Cc when the dilution water is the desalted water W6. Specifically, in the above formula (1) in the first embodiment, in the second embodiment, Vp in the above formula (1) is the sample water amount value of the demineralized water W6, and Cp is the first value of the demineralized water W6. One detection silica concentration value. Then, the control unit 30A calculates the calculated silica concentration value Cc from the above equation (1) using Vp and Cp related to the desalted water W6, and the calculated silica concentration value Cc is the allowable silica as in the first embodiment. The recovery rate is adjusted so that the concentration value Ca is obtained.

上述した第2実施形態の純水製造装置1Aにおいても、第1実施形態の純水製造装置1と同じ効果を得ることができる。すなわち、純水製造装置1A内を流通する脱塩水W6を希釈水として利用して、濃縮水W3を希釈して希釈濃縮水W30を製造することにより、濃縮水W3のシリカ濃度を演算することができる。これにより、濃度測定レンジに制限のある第2シリカ濃度センサSS2を用いて濃縮水W3のシリカ濃度を精度よく検出することができると共に、精度よく検出した濃縮水W3のシリカ濃度に基づいて、回収率を調整することができる。従って、シリカ系スケールの析出を効果的に抑制することができる。   Also in the pure water manufacturing apparatus 1A of the second embodiment described above, the same effect as the pure water manufacturing apparatus 1 of the first embodiment can be obtained. That is, the silica concentration of the concentrated water W3 can be calculated by using the desalted water W6 flowing through the pure water manufacturing apparatus 1A as dilution water and diluting the concentrated water W3 to produce the diluted concentrated water W30. it can. Accordingly, the silica concentration of the concentrated water W3 can be accurately detected using the second silica concentration sensor SS2 having a limited concentration measurement range, and the concentration is recovered based on the silica concentration of the concentrated water W3 detected with high accuracy. The rate can be adjusted. Therefore, precipitation of silica-based scale can be effectively suppressed.

以上、本発明の好ましい実施形態について説明した。しかし、本発明は、上述した実施形態に限定されることなく、種々の形態で実施することができる。   The preferred embodiments of the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be implemented in various forms.

上記実施形態においては、加圧ポンプ5の駆動周波数を、速度形PIDアルゴリズムにより演算する例について説明した。これに限らず、これら加圧ポンプの駆動周波数を位置形PIDアルゴリズムにより演算してもよい。また、PIDアルゴリズムに限らず、Pアルゴリズム又はPIアルゴリズム等により駆動周波数を演算してもよい。   In the said embodiment, the example which calculates the drive frequency of the pressurization pump 5 by the speed type PID algorithm was demonstrated. Not limited to this, the driving frequency of these pressurizing pumps may be calculated by a position type PID algorithm. Further, the drive frequency may be calculated not only by the PID algorithm but also by the P algorithm or the PI algorithm.

上記実施形態においては、制御部30,30Aからインバータ6への周波数指定信号として電流値信号を出力する例について説明した。これに限らず、制御部30,30Aからこれらインバータ6への周波数指定信号として電圧値信号(例えば、0〜10V)を出力するように構成してもよい。   In the above embodiment, the example in which the current value signal is output as the frequency designation signal from the control units 30 and 30A to the inverter 6 has been described. However, the present invention is not limited to this, and a voltage value signal (for example, 0 to 10 V) may be output from the control units 30 and 30 </ b> A as a frequency designation signal to the inverter 6.

上記実施形態においては、原水W11中に含まれる硬度成分を除去した軟水W12を供給水W1とする例について説明した。これに限らず、原水W11を除鉄除マンガン装置、砂濾過装置、精密濾過膜装置、限外濾過膜装置等により前処理した水を供給水W1としてもよい。なお、原水W11としては、例えば、地下水や水道水等を用いることができる。   In the said embodiment, the example which used the soft water W12 which removed the hardness component contained in the raw | natural water W11 as the supply water W1 was demonstrated. Not limited to this, the raw water W11 may be water pre-treated with a ferric-manganese removal device, a sand filtration device, a microfiltration membrane device, an ultrafiltration membrane device, or the like as the supply water W1. In addition, as raw | natural water W11, groundwater, a tap water, etc. can be used, for example.

また、上記第1実施形態においては、1段のRO膜モジュール7を備える純水製造装置1において、希釈水として、RO膜モジュール7により分離された透過水W2を用いた場合にについて説明した。しかし、これに限らず、直列に並べられた2段のRO膜モジュールを備える純水製造装置において、希釈水として、後段のRO膜モジュールにより分離された後段透過水を用いてもよい。具体的には、供給水を前段透過水(第1透過水)と前段濃縮水(第1濃縮水)とに分離する前段RO膜モジュール(第1逆浸透膜モジュール)と、前段RO膜モジュールで分離された前段透過水を後段透過水(第2透過水)と後段濃縮水(第2濃縮水)とに分離する後段RO膜モジュール(第2逆浸透膜モジュール)と、を備える純水製造装置において、透過水として、後段RO膜モジュールにより分離された後段透過水を用いてもよい。   Moreover, in the said 1st Embodiment, in the pure water manufacturing apparatus 1 provided with the 1 stage | paragraph RO membrane module 7, the case where the permeated water W2 isolate | separated by the RO membrane module 7 was used as dilution water was demonstrated. However, the present invention is not limited to this, and in a pure water production apparatus including a two-stage RO membrane module arranged in series, a downstream permeated water separated by a downstream RO membrane module may be used as the dilution water. Specifically, a first-stage RO membrane module (first reverse osmosis membrane module) that separates supply water into first-stage permeated water (first permeated water) and first-stage concentrated water (first concentrated water); A pure water production apparatus comprising: a post-stage RO membrane module (second reverse osmosis membrane module) that separates the separated pre-stage permeate into second-stage permeate (second permeate) and post-stage concentrate (second concentrate) In this case, as the permeated water, the rear permeate separated by the rear RO membrane module may be used.

また、上記第2実施形態においては、1段のRO膜モジュール7と、1段のRO膜モジュールの後段に設けられたEDIスタック16と、を備える純水製造装置において、希釈水として、EDIスタック16により得られた脱塩水W6を用いた場合について説明した。しかし、これに限らず、直列に並べられた2段のRO膜モジュールと、2段のRO膜モジュールの後段に設けられたEDIスタックと、を備える純水製造装置において、希釈水として、EDIスタックにより製造された脱塩水や、後段RO膜モジュールにより分離された後段透過水を用いてもよい。   Moreover, in the said 2nd Embodiment, in the pure water manufacturing apparatus provided with the 1 stage RO membrane module 7 and the EDI stack 16 provided in the back | latter stage of the 1 stage RO membrane module, EDI stack is used as dilution water. The case where the desalted water W6 obtained by No. 16 was used was demonstrated. However, the present invention is not limited to this. In a pure water production apparatus including a two-stage RO membrane module arranged in series and an EDI stack provided at the rear stage of the two-stage RO membrane module, the EDI stack is used as dilution water. You may use the desalted water manufactured by this, or the latter stage permeated water isolate | separated by the latter stage RO membrane module.

また、上記第2実施形態においては、RO膜モジュール7により分離された透過水W2からEDIスタック16により脱イオン処理して得られた脱塩水W6は、水質が良好であり、シリカ濃度が極めて低いと考えられる。そのため、希釈水としての脱塩水W6のシリカ濃度を検出するセンサを設けずに、EDIスタック16により得られた希釈水としての脱塩水W6のシリカ濃度をゼロと看做して、上記の式(1)において第1検出シリカ濃度値Cpをゼロとして、第2検出シリカ濃度値Cmから演算シリカ濃度値Ccを演算することができる。これにより、希釈水としての脱塩水W6のシリカ濃度を検出するセンサを設けずに、簡易な構成により、濃縮水W3の演算シリカ濃度値Ccを演算することができる。   In the second embodiment, the demineralized water W6 obtained by deionizing the permeated water W2 separated by the RO membrane module 7 using the EDI stack 16 has good water quality and extremely low silica concentration. it is conceivable that. Therefore, without providing a sensor for detecting the silica concentration of the demineralized water W6 as the dilution water, the silica concentration of the demineralized water W6 as the dilution water obtained by the EDI stack 16 is regarded as zero, and the above formula ( In 1), the first detected silica concentration value Cp is set to zero, and the calculated silica concentration value Cc can be calculated from the second detected silica concentration value Cm. Thereby, the calculation silica concentration value Cc of the concentrated water W3 can be calculated with a simple configuration without providing a sensor for detecting the silica concentration of the demineralized water W6 as dilution water.

また、上記第1実施形態において第1シリカ濃度センサSS1と第2シリカ濃度センサSS2とを別々のシリカ濃度センサとして構成し、上記第2実施形態において第4シリカ濃度センサSS4と第2シリカ濃度センサSS2とを別々のシリカ濃度センサとして構成することで、それぞれの検出シリカ濃度値から演算シリカ濃度値を演算したが、これに限られない。第1シリカ濃度センサSS1と第2シリカ濃度センサSS2とを(或いは、第4シリカ濃度センサSS4と第2シリカ濃度センサSS2とを)、2以上の異なる濃度測定レンジを切替可能な単一のシリカ濃度センサ(単一のシリカ濃度検出手段)により構成してもよい。   Further, in the first embodiment, the first silica concentration sensor SS1 and the second silica concentration sensor SS2 are configured as separate silica concentration sensors, and in the second embodiment, the fourth silica concentration sensor SS4 and the second silica concentration sensor. By configuring SS2 as a separate silica concentration sensor, the calculated silica concentration value is calculated from each detected silica concentration value, but is not limited thereto. The first silica concentration sensor SS1 and the second silica concentration sensor SS2 (or the fourth silica concentration sensor SS4 and the second silica concentration sensor SS2) are single silica capable of switching between two or more different concentration measurement ranges. You may comprise by a concentration sensor (single silica concentration detection means).

例えば、図12に示すような構成により、単一の第5シリカ濃度センサSS5として構成することができる。図12は、第1実施形態における第1シリカ濃度センサSS1及び第2シリカ濃度センサSS2を、単一の第5シリカ濃度センサSS5により構成した場合の図である。第5シリカ濃度センサSS5の構成は、図4で示される。図12に示すように、純水製造装置は、図6に示す構成に加えて、希釈水バイパスラインL206と、希釈水流通弁124と、を備える。希釈水バイパスラインL206は、透過水導入ラインL112を流通する透過水W2(脱塩水W6)を、直接的に第5シリカ濃度センサSS5へ導入させるラインである。希釈水バイパスラインL206は、透過水導入ラインL112と希釈濃縮水導入ラインL205とを接続する。希釈水バイパスラインL206の上流側の端部は、透過水導入ラインL112の途中に設けられる接続部J67に接続される。希釈水バイパスラインL206の上流側の端部は、希釈濃縮水導入ラインL205の途中に設けられる接続部J66に接続される。希釈水流通弁124は、希釈水バイパスラインL206の途中に設けられる。   For example, a single fifth silica concentration sensor SS5 can be configured with the configuration shown in FIG. FIG. 12 is a diagram when the first silica concentration sensor SS1 and the second silica concentration sensor SS2 in the first embodiment are configured by a single fifth silica concentration sensor SS5. The configuration of the fifth silica concentration sensor SS5 is shown in FIG. As shown in FIG. 12, the pure water production apparatus includes a dilution water bypass line L206 and a dilution water circulation valve 124 in addition to the configuration shown in FIG. The dilution water bypass line L206 is a line for directly introducing the permeated water W2 (desalted water W6) flowing through the permeated water introduction line L112 into the fifth silica concentration sensor SS5. The dilution water bypass line L206 connects the permeated water introduction line L112 and the dilution concentrated water introduction line L205. The upstream end of the dilution water bypass line L206 is connected to a connection portion J67 provided in the middle of the permeate introduction line L112. The upstream end of the dilution water bypass line L206 is connected to a connection portion J66 provided in the middle of the dilution concentrated water introduction line L205. The dilution water flow valve 124 is provided in the middle of the dilution water bypass line L206.

このような構成において、電磁弁123と希釈水流通弁124との開閉を切り替えることで、希釈濃縮水W30又は希釈水(透過水W2、脱塩水W6)の濃度センサへの導入を択一的に行うことができる。その結果、単一の第5シリカ濃度センサSS5を使用しつつ、濃縮水W3の演算シリカ濃度値Ccを演算することができる。なお、本実施形態においては2つの異なる濃度測定レンジを切替可能としたが、これに制限されず、2以上の異なる濃度測定レンジの切り替えが可能となるように適宜導入ライン及び切替弁を設けてもよい。   In such a configuration, the introduction of the diluted concentrated water W30 or the diluted water (permeated water W2, desalted water W6) into the concentration sensor is selectively performed by switching between opening and closing of the electromagnetic valve 123 and the diluted water circulation valve 124. It can be carried out. As a result, the calculated silica concentration value Cc of the concentrated water W3 can be calculated while using the single fifth silica concentration sensor SS5. In this embodiment, two different concentration measurement ranges can be switched. However, the present invention is not limited to this, and an introduction line and a switching valve are provided as appropriate so that two or more different concentration measurement ranges can be switched. Also good.

また、上記実施形態においては、濃縮水W3のシリカ溶解度Ssが決定される水温として、第1温度センサTE1により検出された供給水W1の検出温度値Tを例にして説明した。しかし、水温の検出対象は供給水W1に限らない。RO膜モジュール7の一次側入口ポートから供給される供給水W1の温度と一次側出口ポートから排出される濃縮水W3の温度とは、RO膜モジュール7おける同じ一次側を流通する水であるため、温度を一定と考えることができる。そのため、濃縮水W3のシリカ溶解度Ssが決定される水温として、RO膜モジュール7により分離された濃縮水W3の検出温度値Tを使用してもよい。   Moreover, in the said embodiment, the detected temperature value T of the supply water W1 detected by 1st temperature sensor TE1 was demonstrated to the example as water temperature by which the silica solubility Ss of the concentrated water W3 is determined. However, the detection target of the water temperature is not limited to the supply water W1. The temperature of the supply water W1 supplied from the primary side inlet port of the RO membrane module 7 and the temperature of the concentrated water W3 discharged from the primary side outlet port are water flowing through the same primary side in the RO membrane module 7. The temperature can be considered constant. Therefore, the detected temperature value T of the concentrated water W3 separated by the RO membrane module 7 may be used as the water temperature at which the silica solubility Ss of the concentrated water W3 is determined.

また、上記実施形態では、第1排水弁V32〜第3排水弁V34の開放数を選択することにより、濃縮水W3の排水流量を段階的に調節する例について説明した。これに限らず、例えば、RO濃縮水排出ラインL61を分岐させずに、当該RO濃縮水排出ラインL61に比例制御弁を設けた構成としてもよい。この場合、制御部(30,30A)から電流値信号を比例制御弁に送信して弁開度を制御することにより、濃縮水W3の排水流量を調節することができる。   Moreover, in the said embodiment, the example which adjusts the waste_water | drain flow volume of the concentrated water W3 in steps was selected by selecting the open number of the 1st drain valve V32-the 3rd drain valve V34. For example, the RO concentrated water discharge line L61 may be provided with a proportional control valve without branching the RO concentrated water discharge line L61. In this case, the flow rate of the concentrated water W3 can be adjusted by transmitting a current value signal from the control unit (30, 30A) to the proportional control valve to control the valve opening.

また、上記実施形態では、RO膜モジュール7のサブモジュールの数を3つとしたが、これに限定されず、サブモジュールの数は、2つであってもよいし、4つ以上であってもよい。   Moreover, in the said embodiment, although the number of the submodules of the RO membrane module 7 was set to three, it is not limited to this, The number of submodules may be two and may be four or more. Good.

1,1A 純水製造装置(水処理装置)
7 RO膜モジュール(第1逆浸透膜モジュール)
16 EDIスタック(電気脱イオンスタック:脱イオン部)
18 希釈装置(希釈手段)
30 制御部
60 主表示部(報知手段)
71 第1サブモジュール(サブモジュール)
72 第2サブモジュール(サブモジュール)
73 第3サブモジュール(サブモジュール)
181 混合槽
182 容積式タービン部(駆動部)
183 容積式ポンプ部(従動部)
SS1 第1シリカ濃度センサ(第1シリカ濃度検出手段)
SS2 第2シリカ濃度センサ(第2シリカ濃度検出手段、第4シリカ濃度検出手段)
SS3A 第3Aシリカ濃度センサ(第3シリカ濃度検出手段)
SS3B 第3Bシリカ濃度センサ(第3シリカ濃度検出手段)
SS4 第4シリカ濃度センサ(第1シリカ濃度検出手段)
SS5 第5シリカ濃度センサ(単一のシリカ濃度測定手段)
TE1 第1温度センサ(温度検出手段)
W1供給水
W2 透過水(第1透過水)
W3 濃縮水(第1濃縮水)
W6 脱塩水(脱イオン水)
W7 濃縮水
W30 希釈濃縮水(第1希釈濃縮水、第2希釈濃縮水)
1,1A pure water production equipment (water treatment equipment)
7 RO membrane module (first reverse osmosis membrane module)
16 EDI stack (Electrodeionization stack: Deionization part)
18 Dilution device (dilution means)
30 Control part 60 Main display part (notification means)
71 First submodule (submodule)
72 Second submodule (submodule)
73 Third submodule (submodule)
181 Mixing tank 182 Positive displacement turbine unit (drive unit)
183 Positive displacement pump unit (driven unit)
SS1 first silica concentration sensor (first silica concentration detecting means)
SS2 Second silica concentration sensor (second silica concentration detection means, fourth silica concentration detection means)
SS3A 3A silica concentration sensor (third silica concentration detecting means)
SS3B 3B silica concentration sensor (third silica concentration detecting means)
SS4 Fourth silica concentration sensor (first silica concentration detecting means)
SS5 5th silica concentration sensor (single silica concentration measuring means)
TE1 first temperature sensor (temperature detection means)
W1 supply water W2 permeate (first permeate)
W3 concentrated water (first concentrated water)
W6 Demineralized water (deionized water)
W7 concentrated water W30 diluted concentrated water (first diluted concentrated water, second diluted concentrated water)

Claims (12)

水処理装置であって、
供給水を第1透過水と第1濃縮水とに分離する第1逆浸透膜モジュールと、
前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1濃縮水に、前記水処理装置内を流通する希釈水を混合して第1希釈濃縮水を製造する希釈手段と、
前記水処理装置内を流通する希釈水のシリカ濃度を第1検出シリカ濃度値として検出する第1シリカ濃度検出手段と、
前記希釈手段により製造された第1希釈濃縮水のシリカ濃度を第2検出シリカ濃度値として検出する第2シリカ濃度検出手段と、
前記第1検出シリカ濃度値と前記第2検出シリカ濃度値とから、前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1濃縮水のシリカ濃度を演算シリカ濃度値として演算し、前記演算シリカ濃度値が許容シリカ濃度値となるように、前記第1逆浸透膜モジュールへ供給される供給水の流量に対する第1透過水の流量の比率である回収率を調整する制御部と、
を備える水処理装置。
A water treatment device,
A first reverse osmosis membrane module that separates supply water into first permeate and first concentrated water;
Dilution means for producing the first diluted concentrated water by mixing the first concentrated water separated by the first reverse osmosis membrane module with the diluted water flowing through the water treatment device,
First silica concentration detection means for detecting the silica concentration of the dilution water flowing through the water treatment device as a first detection silica concentration value;
Second silica concentration detection means for detecting the silica concentration of the first diluted concentrated water produced by the dilution means as a second detection silica concentration value;
From the first detected silica concentration value and the second detected silica concentration value, the silica concentration of the first concentrated water separated by the first reverse osmosis membrane module is calculated as the calculated silica concentration value, and the calculated silica concentration value A control unit that adjusts the recovery rate, which is the ratio of the flow rate of the first permeated water to the flow rate of the supplied water supplied to the first reverse osmosis membrane module, so that becomes an allowable silica concentration value;
A water treatment apparatus comprising:
前記水処理装置内を流通する希釈水は、前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1透過水である
請求項1に記載の水処理装置。
The water treatment device according to claim 1, wherein the dilution water flowing through the water treatment device is first permeated water separated by the first reverse osmosis membrane module.
前記第1逆浸透膜モジュールで分離された第1透過水を、第2透過水と第2濃縮水とに分離する第2逆浸透膜モジュールを更に備え、
前記水処理装置内を流通する希釈水は、前記第2逆浸透膜モジュールにより分離された第2透過水である
請求項1に記載の水処理装置。
A second reverse osmosis membrane module for separating the first permeate separated by the first reverse osmosis membrane module into a second permeate and a second concentrated water;
The water treatment device according to claim 1, wherein the dilution water flowing through the water treatment device is second permeated water separated by the second reverse osmosis membrane module.
前記第1逆浸透膜モジュールで分離された第1透過水を脱イオン処理して、脱イオン水と濃縮水とを得る脱イオン部を更に備え、
前記水処理装置内を流通する希釈水は、前記脱イオン部により得られた脱イオン水である
請求項1に記載の水処理装置。
A deionization unit for deionizing the first permeated water separated by the first reverse osmosis membrane module to obtain deionized water and concentrated water;
The water treatment device according to claim 1, wherein the dilution water flowing through the water treatment device is deionized water obtained by the deionization unit.
供給水の温度又は前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1濃縮水の温度を検出温度値として検出する温度検出手段を備え、
前記制御部は、前記許容シリカ濃度値を、前記検出温度値から決定した第1濃縮水のシリカ溶解度に安全率を乗じて算出する
請求項1から4のいずれかに記載の水処理装置。
Temperature detecting means for detecting the temperature of the feed water or the temperature of the first concentrated water separated by the first reverse osmosis membrane module as a detected temperature value;
The water treatment device according to any one of claims 1 to 4, wherein the control unit calculates the allowable silica concentration value by multiplying the silica solubility of the first concentrated water determined from the detected temperature value by a safety factor.
Vcを第1濃縮水のサンプル水量値とし、Vpを希釈水のサンプル水量値とし、Ccを第1濃縮水の演算シリカ濃度値とし、Cpを希釈水の第1検出シリカ濃度値とし、Cmを第1希釈濃縮水の第2検出シリカ濃度値とした場合に、前記制御部は、Cc=[Cm・(Vc+Vp)−Cp・Vp]/Vcの計算式より、第1濃縮水の前記演算シリカ濃度値Ccを演算する
請求項1から5のいずれかに記載の水処理装置。
Vc is the sample water amount value of the first concentrated water, Vp is the sample water amount value of the diluted water, Cc is the calculated silica concentration value of the first concentrated water, Cp is the first detected silica concentration value of the diluted water, and Cm is When the second detection silica concentration value of the first diluted concentrated water is used, the control unit calculates the calculated silica of the first concentrated water from the calculation formula of Cc = [Cm · (Vc + Vp) −Cp · Vp] / Vc. The water treatment apparatus according to claim 1, wherein the concentration value Cc is calculated.
前記制御部は、前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1透過水の流量を一定に維持すると共に、前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1濃縮水の流量を増減させて、前記演算シリカ濃度値が前記許容シリカ濃度値となるように、前記回収率を調整する
請求項1から6のいずれかに記載の水処理装置。
The control unit maintains a constant flow rate of the first permeated water separated by the first reverse osmosis membrane module and increases or decreases a flow rate of the first concentrated water separated by the first reverse osmosis membrane module. The water treatment apparatus according to any one of claims 1 to 6, wherein the recovery rate is adjusted so that the calculated silica concentration value becomes the allowable silica concentration value.
前記制御部は、前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1濃縮水の流量を一定に維持すると共に、前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1透過水の流量を増減させて、前記演算シリカ濃度値が前記許容シリカ濃度値となるように、前記回収率を調整する
請求項1から6のいずれかに記載の水処理装置。
The controller maintains a constant flow rate of the first concentrated water separated by the first reverse osmosis membrane module and increases or decreases a flow rate of the first permeated water separated by the first reverse osmosis membrane module. The water treatment apparatus according to any one of claims 1 to 6, wherein the recovery rate is adjusted so that the calculated silica concentration value becomes the allowable silica concentration value.
前記希釈手段は、前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1濃縮水と希釈水とが混合される混合槽と、前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1濃縮水の水圧により前記混合槽に導入される際に駆動される駆動部と、前記駆動部の駆動に従動して駆動される従動部であって前記混合槽へ向けて水圧を発生させて前記第1濃縮水の水圧よりも低い水圧の希釈水を前記混合槽に導入する従動部と、を有する
請求項1から8のいずれかに記載の水処理装置。
The dilution means includes a mixing tank in which the first concentrated water and the diluted water separated by the first reverse osmosis membrane module are mixed, and the water pressure of the first concentrated water separated by the first reverse osmosis membrane module. A driving unit that is driven when being introduced into the mixing tank; and a driven unit that is driven by the driving of the driving unit, and generates water pressure toward the mixing tank to generate the first concentrated water. The water treatment apparatus according to any one of claims 1 to 8, further comprising: a driven portion that introduces dilution water having a lower water pressure than the water pressure into the mixing tank.
前記第1シリカ濃度検出手段及び前記第2シリカ濃度検出手段は、2以上の異なる濃度測定レンジを切替可能な単一のシリカ濃度測定手段により構成される
請求項1から9のいずれかに記載の水処理装置。
The said 1st silica density | concentration detection means and the said 2nd silica density | concentration detection means are comprised by the single silica density | concentration measurement means which can switch a 2 or more different density | concentration measurement range, either. Water treatment equipment.
前記第1逆浸透膜モジュールは、複数のサブモジュールを備え、
前記複数のサブモジュールは、前記複数のサブモジュールそれぞれから分離された濃縮水が次のサブモジュールに供給されるように直列に接続され、
前記水処理装置は、前記複数のサブモジュールのうちの最下流側以外のサブモジュールから排出される濃縮水のシリカ濃度を第3検出シリカ濃度値として検出する第3シリカ濃度検出手段と、警報を報知する報知手段と、を備え、
前記制御部は、前記第3検出シリカ濃度値が所定閾値を上回る場合に、前記報知手段による報知を実行する
請求項1から10のいずれかに記載の水処理装置。
The first reverse osmosis membrane module comprises a plurality of submodules,
The plurality of submodules are connected in series so that the concentrated water separated from each of the plurality of submodules is supplied to the next submodule,
The water treatment device includes a third silica concentration detection means for detecting a silica concentration of concentrated water discharged from a sub-module other than the most downstream of the plurality of sub-modules as a third detection silica concentration value, and an alarm. An informing means for informing,
The water treatment apparatus according to any one of claims 1 to 10, wherein the control unit performs notification by the notification unit when the third detected silica concentration value exceeds a predetermined threshold value.
水処理装置であって、
供給水を第1透過水と第1濃縮水とに分離する第1逆浸透膜モジュールと、
前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1透過水を脱イオン処理して、脱イオン水と濃縮水とを得る脱イオン部と、
前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1濃縮水に、前記水処理装置内を流通する希釈水としての脱イオン水を混合して第2希釈濃縮水を製造する希釈手段と、
前記希釈手段により製造された第2希釈濃縮水のシリカ濃度を第4検出シリカ濃度値として検出する第4シリカ濃度検出手段と、
前記脱イオン部により得られた希釈水としての脱イオン水のシリカ濃度をゼロと看做して、前記第4検出シリカ濃度値から、前記第1逆浸透膜モジュールにより分離された第1濃縮水のシリカ濃度を演算シリカ濃度値として演算し、前記演算シリカ濃度値が許容シリカ濃度値となるように、前記第1逆浸透膜モジュールへ供給される供給水の流量に対する第1透過水の流量の比率である回収率を調整する制御部と、
を備える水処理装置。
A water treatment device,
A first reverse osmosis membrane module that separates supply water into first permeate and first concentrated water;
A deionization unit that obtains deionized water and concentrated water by deionizing the first permeated water separated by the first reverse osmosis membrane module;
Dilution means for producing second diluted concentrated water by mixing deionized water as dilution water flowing through the water treatment device with the first concentrated water separated by the first reverse osmosis membrane module,
Fourth silica concentration detection means for detecting the silica concentration of the second diluted concentrated water produced by the dilution means as a fourth detection silica concentration value;
The first concentrated water separated by the first reverse osmosis membrane module from the fourth detected silica concentration value, assuming that the silica concentration of deionized water as dilution water obtained by the deionization unit is zero. Of the first permeated water with respect to the flow rate of the supplied water supplied to the first reverse osmosis membrane module so that the calculated silica concentration value becomes an allowable silica concentration value. A control unit that adjusts the recovery rate as a ratio;
A water treatment apparatus comprising:
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