JP6097026B2 - Structure and manufacturing method of structure - Google Patents
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Description
本発明は、導電パターンが設けられた構造体および当該構造体の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a structure provided with a conductive pattern and a method for manufacturing the structure.
貫通孔を有する成形物上に、該貫通孔を通るような導電パターンを形成する技術として、例えば、光(レーザ)照射を利用するLDS(Laser Direct Structuring)法がある(非特許文献1)。 As a technique for forming a conductive pattern that passes through a through-hole on a molded product having a through-hole, for example, there is an LDS (Laser Direct Structure) method using light (laser) irradiation (Non-patent Document 1).
LDS法では、樹脂表面にレーザを照射することにより、樹脂を部分的に活性化して、活性化した部分をメッキして導電パターンを形成する。ここで、樹脂に対するレーザの有効な入射角には限界があり、有効入射角以下でレーザを照射する必要がある(有効入射角は樹脂材料やレーザ出力にも起因するが、一般に70°程度、量産品質を考慮すれば60°程度)。そのため、貫通孔内にレーザを首尾よく照射するためには、貫通孔の内壁が、少なくとも一方の開口部に向けて広がるように傾斜している必要がある。例えば、非特許文献1には、図8(a)に示すような錐形(コーン型)の貫通孔、および図8(b)に示すような二つの錐体の頂部同士が結合された形状(ダブルコーン型)の貫通孔が記載されている。
In the LDS method, the resin surface is partially activated by irradiating the resin surface with a laser, and the activated portion is plated to form a conductive pattern. Here, there is a limit to the effective incident angle of the laser with respect to the resin, and it is necessary to irradiate the laser below the effective incident angle (the effective incident angle is caused by the resin material and the laser output, but is generally about 70 °, (If mass production quality is taken into consideration, it is about 60 °). Therefore, in order to successfully irradiate the laser into the through hole, the inner wall of the through hole needs to be inclined so as to spread toward at least one opening. For example,
また、特許文献1には、LDS法ではなく、露光により貫通孔内に導電パターンを形成する技術が記載されている。特許文献1に記載の技術でも、貫通孔の内壁は、内部の最狭部から開口部に向けて広がるように傾斜している。
導電パターンを形成した成形物の厚さは、位置規制等のために他の構造物に当接させることや、回路基板等に配線を接続することを目的として、厚くする必要が生じる場合がある。ここで、導電パターンを光照射により形成する場合、貫通孔の奥部まで光を照射するためには、貫通孔の内壁が傾斜を有する必要があるため、成形物が厚くなるとそれに伴って開口部の孔径も大きくなってしまう(図8(c)および(d))。開口部の孔径が大きくなると、導電パターンを形成するための領域が狭められるため、パターン設計の自由度が低下してしまう。 The thickness of the molded product on which the conductive pattern is formed may need to be increased for the purpose of abutting on another structure for position regulation or the like, or for connecting the wiring to a circuit board or the like. . Here, in the case where the conductive pattern is formed by light irradiation, in order to irradiate light up to the inner part of the through hole, the inner wall of the through hole needs to have an inclination. Will also increase in diameter (FIGS. 8C and 8D). When the hole diameter of the opening is increased, the area for forming the conductive pattern is narrowed, and the degree of freedom in pattern design is reduced.
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、光照射によって導電パターンを成形物に形成するときに、導電パターンの設計の自由度を向上するための技術を提供することを主たる目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and has as its main object to provide a technique for improving the degree of freedom in designing a conductive pattern when a conductive pattern is formed on a molded article by light irradiation. To do.
本発明に係る構造体は、上記課題を解決するために、貫通孔を有する成形物と、光照射によって該成形物上に設けられ、該貫通孔を通る導電パターンと、を備えており、該貫通孔の内壁上の該導電パターンが設けられているパターン形成領域において、傾斜を有しており、当該傾斜は、該貫通孔の最狭部から少なくとも一方の開口部に向かって段階的または連続的に急峻になっていることを特徴としている。 In order to solve the above problems, a structure according to the present invention includes a molded article having a through hole, and a conductive pattern provided on the molded article by light irradiation and passing through the through hole. The pattern forming region on the inner wall of the through hole has a slope, and the slope is stepwise or continuous from the narrowest portion of the through hole toward at least one opening. It is characterized by being steep.
上記の構成によれば、貫通孔の奥部(最狭部付近)における傾斜角を緩やかにすることで、貫通孔の奥部についても有効に光照射を行うことができると共に、上記一方の開口部付近における傾斜角を奥部よりも急峻にすることにより、当該一方の開口部の孔径を小さくして、導電パターンの設計の自由度を向上させることができる。また、上記一方の開口部の孔径が小さくなることにより、導電パターンのパターン長を短くすることも可能となる。 According to the above configuration, it is possible to effectively irradiate light to the inner part of the through hole by making the inclination angle in the inner part (near the narrowest part) of the through hole gentle, and the one opening described above. By making the inclination angle in the vicinity of the part steeper than that in the back part, the hole diameter of the one opening part can be reduced, and the degree of freedom in designing the conductive pattern can be improved. In addition, since the hole diameter of the one opening is reduced, the pattern length of the conductive pattern can be shortened.
本発明に係る構造体は、上記貫通孔内壁のパターン形成領域全域において、上記貫通孔の何れかの開口部を介したときの最低入射角が上記光照射の有効入射角以下となるように、上記傾斜が設定されていることが好ましい。 In the structure according to the present invention, in the entire pattern formation region of the inner wall of the through hole, the minimum incident angle when passing through any opening of the through hole is equal to or less than the effective incident angle of the light irradiation. It is preferable that the inclination is set.
上記の構成によれば、貫通孔内壁のパターン形成領域4全域に対し、首尾よく有効入射角以下で光照射することができるため、光照射によって導電パターン3を好適に形成することができる。
According to the above configuration, the entire
本発明に係る構造体は、貫通孔を有する成形物と、光照射によって該成形物上に設けられ、該貫通孔を通る導電パターンと、を備えており、該貫通孔の内壁上の該導電パターンが設けられているパターン形成領域には、該貫通孔の最狭部から少なくとも一方の開口部に向かって、第一傾斜部、平坦部および第二傾斜部がこの順に設けられており、第二傾斜部の傾斜の方が、第一傾斜部の傾斜よりも急峻になっているものであってもよい。 The structure according to the present invention includes a molded product having a through hole and a conductive pattern provided on the molded product by light irradiation and passing through the through hole, and the conductive material on the inner wall of the through hole. In the pattern formation region where the pattern is provided, a first inclined portion, a flat portion, and a second inclined portion are provided in this order from the narrowest portion of the through hole toward at least one opening portion. The two inclined portions may be steeper than the first inclined portion.
上記の構成によれば、貫通孔の奥部(最狭部付近)における第一傾斜部の傾斜角を緩やかにすることで、貫通孔の奥部についても有効に光照射を行うことができると共に、上記一方の開口部付近における第二傾斜部の傾斜角を奥部よりも急峻にすることにより、第一傾斜部と第二傾斜部との間に平坦部が設けられていたとしても、当該一方の開口部の孔径を小さくして、導電パターンの設計の自由度を向上させることができる。 According to said structure, while making the inclination | tilt angle of the 1st inclination part in the back part (nearest narrow part) of a through-hole gentle, light irradiation can be effectively performed also about the back part of a through-hole. Even if a flat part is provided between the first inclined part and the second inclined part by making the inclination angle of the second inclined part in the vicinity of the one opening part steeper than the back part, By reducing the hole diameter of one of the openings, the degree of freedom in designing the conductive pattern can be improved.
本発明に係る構造体の製造方法は、本発明に係る構造体の製造方法であって、上記成形物に光照射を行う光照射工程を包含することを特徴としている。 The structure manufacturing method according to the present invention is a structure manufacturing method according to the present invention, and includes a light irradiation step of irradiating the molded product with light.
上記の方法によれば、光照射を行うことによって、導電パターンを好適に形成することができるため、本発明に係る構造体を製造することができる。 According to said method, since a conductive pattern can be formed suitably by performing light irradiation, the structure which concerns on this invention can be manufactured.
本発明に係る構造体の製造方法は、上記光照射工程では、上記貫通孔の開口部に対する入射角が異なる光を照射することが好ましい。 In the structure manufacturing method according to the present invention, it is preferable that the light irradiation step irradiates light having different incident angles with respect to the openings of the through holes.
上記の方法によれば、貫通孔の各部の傾斜に合わせた光照射を行うことにより、パターン形成領域4全域に対し、首尾よく有効入射角以下で光照射することができる。
According to the above method, by performing light irradiation in accordance with the inclination of each part of the through hole, it is possible to successfully irradiate the entire
本発明によれば、開口部の孔径を小さくして、導電パターンの設計の自由度を向上することができる。 According to the present invention, the hole diameter of the opening can be reduced and the degree of freedom in designing the conductive pattern can be improved.
〔実施形態1〕
図1は、本発明の一実施形態(実施形態1)に係る構造体の例を示す側方断面図である。本実施形態に係る構造体10は、図1に示すように、貫通孔1を有する成形物2と、光照射によって成形物2上に設けられ、貫通孔1を通る導電パターン3と、を備えており、貫通孔1の内壁上において導電パターン3が設けられているパターン形成領域4が、傾斜を有しており、当該傾斜は、貫通孔1の開口部(最狭部)5から開口部6に向かって段階的(図1(a))または連続的(図1(b))に急峻になっている(傾斜がより垂直に近づいている)。
FIG. 1 is a side sectional view showing an example of a structure according to an embodiment (Embodiment 1) of the present invention. As shown in FIG. 1, the
(成形物)
本明細書において、成形物とは、金型等を用いて任意の形状に成形された絶縁性の樹脂構造物を意味する。成形物2の形状は特に限定されないが、加工上、成形物2の片方側の表面の形状をオフセットすることで厚さが略一定となる平板状または曲板状の形状を有し得る。但し、成形物2は、他の構造物の位置規制のために厚さが他の部分よりも大きい(厚い)部分を有していてもよく、その場合、当該部分において成形物2の厚みを周囲と略一定にするために部分的に成形物形状が凹んでいてもよい(金型用語ではこの手法を肉盗みと呼称する)。
(Molded product)
In the present specification, the molded product means an insulating resin structure molded into an arbitrary shape using a mold or the like. Although the shape of the
成形物2には成形物2を厚さ方向に貫通する貫通孔1が設けられている。説明の便宜上、成形物2における貫通孔1が開口する面を、表面7および裏面8と称する。
The molded
(導電パターン)
本明細書において、導電パターンとは、任意の形状に形成された膜状または板状の導電体を意味する。導電パターン3は、後述する光照射を伴う加工法によって成形物2上に設けられており、貫通孔1を通って、成形物2の表面7から裏面8まで延伸している。導電パターン3を構成する物質は特に限定されず、導電性を有する物質(例えば、金属)を用いればよい。
(Conductive pattern)
In this specification, the conductive pattern means a film-like or plate-like conductor formed in an arbitrary shape. The
一つの局面において、導電パターン3は、非特許文献1に記載されているようなLDS法を用いて形成することができる。すなわち、成形物2を構成する樹脂に有機金属を混合しておき、成形物2上の導電パターン3を形成する領域にレーザ照射することによって、レーザ照射部にメッキを析出させたり、レーザ照射部が微細に荒れることによって、メッキがそのレーザ照射部に結合し、導電パターン3を形成することができる。
In one aspect, the
また、他の局面において、導電パターン3は、特許文献1に記載されているような露光法を用いて形成することができる。すなわち、成形物2上に公知の手法により導電膜を形成した後、光硬化型のレジストを積層し、マスクを用いて露光(光照射)し、現像およびエッチングを行うことにより、導電パターン3を形成することができる。
In another aspect, the
以上のように、成形物2に対して光照射(レーザ照射を含む)を行うことによって所望の形状に導電パターン3を形成することができる。
As described above, the
なお、光照射(レーザ照射を含む)は、有効入射角以下で行う照射する必要がある。図9は、有効入射角を説明する模式図である。 Note that light irradiation (including laser irradiation) needs to be performed at an effective incident angle or less. FIG. 9 is a schematic diagram for explaining an effective incident angle.
図9(a)は、平坦面に対して光照射する場合を示す。図9(a)に示すように、平坦面に対しては、反射が少ない垂直方向から光照射するのが最も効果的であり、または、斜め方向であっても、垂直線から被照射体である成形物により異なる有効入射角までの方向からであれば、有効な光照射を行うことができる。 FIG. 9A shows a case where light is irradiated on a flat surface. As shown in FIG. 9A, it is most effective to irradiate light on the flat surface from the vertical direction with little reflection, or even in the oblique direction, the object is irradiated from the vertical line. Effective light irradiation can be performed from a direction up to a different effective incident angle depending on a certain molding.
また、図9(b)は、傾斜面に対して光照射する場合を示す。前記のように傾斜面に垂直方向からの光照射が最も効果的だが、図9(b)に示すように、傾斜面に対しては、傾斜角度が有効入射角以下であれば、図の上方からでも有効な光照射を行うことができる。但し、傾斜角度が有効入射角以上であったとしても、照射銃自体の角度を変えて斜めから光照射したり、傾斜面部のみ別の照射銃にて光照射することにより、有効な光照射を行うことができる。 Moreover, FIG.9 (b) shows the case where light is irradiated with respect to an inclined surface. As described above, light irradiation from the direction perpendicular to the inclined surface is most effective. However, as shown in FIG. 9B, if the inclined angle is less than the effective incident angle with respect to the inclined surface, Effective light irradiation can be performed even from the outside. However, even if the tilt angle is equal to or greater than the effective incident angle, the irradiation gun itself is changed to irradiate light from an oblique angle, or only the inclined surface portion is irradiated with light by another irradiation gun. It can be carried out.
(貫通孔)
本明細書において、貫通孔とは、成形物を厚さ方向に貫通する孔を意味する。図2は、成形物2における貫通孔1の範囲および各開口部の孔径の例を示す模式図である。図中、斜線部が貫通孔1を示し、孔径Xは、表面7側の開口部5の孔径を示し、孔径Yは、裏面8側の開口部6の孔径を示す。また、角AおよびBは、孔径Yを規定する両端を示す。
(Through hole)
In the present specification, the through hole means a hole that penetrates the molded product in the thickness direction. FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of the range of the through
図2(a)および(b)は、成形物2の平板状の部分に貫通孔1が設けられている場合を示す。なお、図2(b)は、開口部6側において貫通孔1の一方の角Bが丸められている場合を示す。この場合、図2(b)に示すように、貫通孔1の内壁から延長された仮想点B’と角Aとの間を孔径Yとする。なお、便宜上角B側を丸めているが、角A側も丸められていても同様に孔径Yを定義する。図2(c)は、成形物2の曲板(円弧)状の部分に貫通孔1が設けられている場合を示す。図2(c)に示すように、貫通孔1の範囲は、成形物2の厚さが略一定になるように片方側の表面の形状をオフセットした面と、そのオフセット元の面が挟む領域と規定される。
2A and 2B show a case where the through
貫通孔1の各開口部の形状は限定されず、円形の他、例えば、楕円形、多角形(三角形および四角形を含む)、円または楕円と多角形とが複合した形状等が挙げられる。
The shape of each opening of the through
また、前述したように、貫通孔1の内壁上において導電パターン3が設けられているパターン形成領域4は、傾斜を有しており、当該傾斜は、貫通孔1の開口部(最狭部)5から開口部6に向かって段階的(図1(a))または連続的(図1(b))に急峻になっている。
Further, as described above, the
なお、貫通孔1の内壁上におけるパターン形成領域4以外の部分の傾斜は、特に限定されないが、パターン形成領域4と同様の傾斜を有していれば貫通孔全周に渡ってパターン配置できるため好ましい。
In addition, although the inclination of parts other than the
貫通孔1の内壁上においてパターン形成領域4が設けられる領域は、開口部5から開口部6まで連続するように設けられていれば特に限定されず、図1および図3(a)に示すように、貫通孔1の片側だけに設けられているものでもよいし、図3(b)に示すように、貫通孔1の全体に設けられるものであってもよい。また、図3(c)に示すように、最狭部(開口部5)の近傍のみ、全周にパターン形成領域4が設けられていてもよい。
The region where the
ここで、パターン形成領域4の傾斜が、上記のように設定されていることにより、以下の効果を得ることができる。なお、以下の説明に用いる各数値は、単なる説明のための例示であり、本発明の範囲を限定する意図ではないことを本明細書に接した当業者は容易に理解する。
Here, since the inclination of the
図4は、パターン形成領域4の傾斜の一例を説明する模式図である。ここでは、一例として、光照射における有効入射角を60°(LDS法における量産品質を考慮した有効入射角)、成形物2の厚さを2mm、孔径Xを0.3mmとして説明を行うが、本発明はこれに限定されない。
FIG. 4 is a schematic diagram for explaining an example of the inclination of the
まず、図4(a)に示すように、パターン形成領域4の傾斜を75°とすれば、貫通孔1の奥部(開口部5付近)に対しても有効な光照射を行うことができる。なぜなら、貫通孔1の奥部の角Cに対する最低入射角は、角B方向から光を照射したときの59°となるため、有効入射角以下で光Iを照射することができるからである。なお、最低入射角とは、開口部6を介し、様々な方向から光照射を行ったときに、最も入射角が低くなる場合の入射角を指す。
First, as shown in FIG. 4A, if the inclination of the
これに対し、図4(b)に示すように、パターン形成領域4の傾斜を80°とした場合、図4(a)の場合よりも開口部6の孔径Yを小さくすることができるが、貫通孔1の奥部(開口部5付近)に対して有効な光照射を行うことができない。なぜなら、貫通孔1の奥部の角Cに対する最低入射角は、角B方向から光を照射したときの61°となるため、有効入射角以下で光Iを照射することができないからである。
On the other hand, as shown in FIG. 4B, when the inclination of the
ここで、図4(c)に示すように、貫通孔の奥部(最狭部、開口部5)付近の傾斜を75°とし、分岐点Dにおいて傾斜をより急峻に80°とした場合、図4(a)の場合よりも開口部6の孔径Yを小さくすることができるとともに、貫通孔1の奥部(開口部5付近)に対して有効な光照射を行うことができる。なぜなら、なぜなら、貫通孔1の奥部の角Cに対する最低入射角は、角B方向から光を照射したときの59°となるため、有効入射角以下で光I0を照射することができ、また、貫通孔1の角Dより上部に対しては、より角度を寝かせて光照射することにより、有効入射角以下で光I1を照射することができるからである。
Here, as shown in FIG. 4 (c), when the inclination near the deep part (narrowest part, opening 5) of the through hole is 75 °, and the inclination is 80 ° steeper at the branch point D, The hole diameter Y of the
また、図1(b)に示すように、傾斜角を連続的に変化させた場合も、同様の効果を得ることができる。 Further, as shown in FIG. 1B, the same effect can be obtained even when the inclination angle is continuously changed.
このように、パターン形成領域4全域において、開口部6を介したときの最低入射角が有効入射角以下となるように、パターン形成領域4における傾斜を設定することにより、パターン形成領域4全域に対し、首尾よく有効入射角以下で光照射することができる。これにより、導電パターン3を好適に形成することができる。特に、貫通孔1の途中で傾斜を変化させたときに、当該傾斜の変化に適合するように、貫通孔1の開口部6に対する入射角が異なる光を照射することにより、貫通孔1の各部の傾斜に合わせた光照射を行い、パターン形成領域4全域に対し、首尾よく有効入射角以下で光照射することができる。
Thus, by setting the inclination in the
なお、開口部6に対する入射角が異なる光を照射する手法は特に限定されず、例えば、光照射の角度を途中で機械的または光学的に変更するように設定された照射銃を用いて光照射を行ってもよいし、被照射物である成形物2を回転させることにより上記入射角を変更して光照射を行ってもよいし、光照射の角度が互いに異なる複数の照射銃を配備した装置を用いて光照射を行ってもよい。
The method of irradiating light with different incident angles with respect to the
そして、パターン形成領域4の傾斜を途中で変化させ、貫通孔の奥部(最狭部、開口部5)から開口部6に向かって傾斜が急峻となるようにすることにより、貫通孔1の奥部(開口部5付近)における傾斜角を緩やかにして、貫通孔1の奥部についても有効に光照射を行うことができると共に、開口部6付近における傾斜角を奥部よりも急峻にして、開口部6の孔径Yを小さくして、導電パターン3の設計の自由度を向上させることができる。
Then, by changing the inclination of the
また、孔径Yが小さくなることにより、導電パターン3のパターン長を短くすることも可能となる。特に、導電パターン3が表面抵抗値を有している場合、導電パターン3のパターン長を短くすることにより、導電パターン3における電気損失を軽減することができる。
Further, since the hole diameter Y is reduced, the pattern length of the
(導電パターンの用途)
本実施形態において導電パターン3は、様々な用途に用いることができる。
(Use of conductive pattern)
In the present embodiment, the
例えば、一つの局面において、導電パターン3は、アンテナとして使用することができる。すなわち、表面7側または裏面8側において、導電パターン3に給電部を設けることにより、導電パターン3をアンテナとして使用することができる。
For example, in one aspect, the
また、他の局面において、導電パターン3は、成形物2の表面7と裏面8とを導電接続するために使用することができる。例えば、表面7側に板金等のグランドを配置し、裏面8側に回路基板を配置して、両者を導電パターン3を介して接続することができる。
In another aspect, the
また、さらに他の局面において、導電パターン3を静電気対策のために使用してもよい。
In still another aspect, the
〔実施形態2〕
図5は、本発明の他の実施形態(実施形態2)に係る構造体の例を示す側方断面図である。実施形態1に係る構造体10では、貫通孔1は、一方の開口部から他方の開口部に向けて先細となる形状であったが、本実施形態に係る構造体20では、貫通孔1は、両方の開口部から貫通孔1の内部にある最狭部に向けて先細となる形状である。本実施形態は、この点のみが実施形態1と異なっているため、以下では相違点についてのみ説明を行い、同様の部材については同じ部材番号を付して説明を省略する。
[Embodiment 2]
FIG. 5 is a side sectional view showing an example of a structure according to another embodiment (Embodiment 2) of the present invention. In the
図5に示すように、本実施形態では、貫通孔1は、貫通孔1の内部に最狭部9を有している。なお、本明細書において、最狭部とは、貫通孔を成形物の厚さ方向に垂直な平面で切断したときに最も断面積が狭くなる位置を意味する。貫通孔1がこのような形状を有している場合であっても、実施形態1のように裏面8側から光照射を行うだけでなく、表面7側からも光照射を行うことにより、首尾よくパターン形成領域4の全域に光照射を行うことができる。
As shown in FIG. 5, in the present embodiment, the through
図6は、貫通孔1が、両方の開口部から貫通孔1の内部にある最狭部9に向けて先細となる形状である場合の成形物2における貫通孔1の範囲および各開口部の孔径の例を示す模式図である。図2と同じく、図中、斜線部が貫通孔1を示し、孔径Xは、表面7側の開口部5の孔径を示し、孔径Yは、裏面8側の開口部6の孔径を示す。また、角AおよびBは、孔径Yを規定する両端を示す。図6(a)は、成形物2の平板状の部分に貫通孔1が設けられている場合を示し、図6(b)は、成形物2の曲板(円弧)状の部分に貫通孔1が設けられている場合を示す。
FIG. 6 shows the range of the through-
なお、図5では、貫通孔1の裏面8側のパターン形成領域4の傾斜のみが変化しており、表面7側のパターン形成領域4の傾斜は変化していないが、表面7側のパターン形成領域4の傾斜も、裏面8側と同様に変化させてもよい。これにより、表面7側の開口部5の孔径Xについても小さくすることができる。
In FIG. 5, only the inclination of the
〔実施形態3〕
図7は、本発明のさらに他の実施形態(実施形態3)に係る構造体の例を示す側方断面図である。本実施形態に係る構造体30では、パターン形成領域4の途中に、表面7および裏面8に対して傾斜を有さない平坦部4bが設けられており、傾斜を有する傾斜部(第一傾斜部)4aおよび傾斜部(第二傾斜部)4cがこれを挟んでいる。本実施形態は、この点のみが実施形態1と異なっているため、以下では相違点についてのみ説明を行い、同様の部材については同じ部材番号を付して説明を省略する。
[Embodiment 3]
FIG. 7 is a side sectional view showing an example of a structure according to still another embodiment (Embodiment 3) of the present invention. In the
ここで、開口部(最狭部)5に近い傾斜部4aの傾斜角θ1よりも、開口部6に近い傾斜部4cの傾斜角θ2の方が急峻となっている。そのため、このように、パターン形成領域4の途中に平坦部4bが設けられていたとしても、傾斜部4cの傾斜角θ2を急峻なものとすることにより、開口部6の孔径Yを小さくすることができる。これにより、実施形態1と同様の効果を得ることができる。但し、平坦部4bが存在しない実施形態1の方が、孔径Yをより小さくすることができるため好ましい。
Here, the inclination angle θ2 of the
本発明は、電子機器の製造分野において利用可能である。 The present invention can be used in the field of manufacturing electronic devices.
1 貫通孔
2 成形物
3 導電パターン
4 パターン形成領域
4a 傾斜部(第一傾斜部)
4b 平坦部
4c 傾斜部(第二傾斜部)
5 開口部(最狭部)
6 開口部
7 表面
8 裏面
9 最狭部
10、20、30 構造体
DESCRIPTION OF
4b
5 opening (narrowest part)
6
Claims (4)
光照射によって該成形物上に設けられ、該貫通孔を通る導電パターンと、を備えており、
該貫通孔の内壁上の該導電パターンが設けられているパターン形成領域において、傾斜を有しており、
該パターン形成領域には、該貫通孔の最狭部と該貫通孔の一方の開口部との間に、第一領域と、第一領域よりも当該一方の開口部に近い第二領域と、が含まれており、
第一の領域における該傾斜よりも第二の領域における該傾斜の方が急峻であり、
第一領域に対して該光照射の有効入射角以下で入射する光は、第二領域に対して該有効入射角を超えて入射し、第二領域に対して該有効入射角以下で入射する光は、当該一方の開口部の周縁の上記成形物に遮られて第一領域の少なくとも一部に入射しないように、該傾斜が設定されていることを特徴とする構造体。 A molded article having a through hole;
A conductive pattern provided on the molding by light irradiation and passing through the through-hole, and
In the pattern formation region provided with the conductive pattern on the inner wall of the through hole, it has an inclination,
In the pattern formation region, between the narrowest portion of the through hole and one opening of the through hole, a first region, a second region closer to the one opening than the first region, Is included,
The slope in the second region is steeper than the slope in the first region;
Light incident on the first region at an effective incident angle equal to or smaller than the effective incident angle is incident on the second region beyond the effective incident angle, and incident on the second region at the effective incident angle or less. The structure is characterized in that the inclination is set so that light is blocked by the molded product at the periphery of the one opening and does not enter at least a part of the first region .
上記成形物に光照射を行う光照射工程を包含することを特徴とする構造体の製造方法。 It is a manufacturing method of the structure according to claim 1 or 2 ,
The manufacturing method of the structure characterized by including the light irradiation process of irradiating the said molded object with light.
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