JP5724554B2 - Light emitting device and resin composition for forming light emitting device - Google Patents

Light emitting device and resin composition for forming light emitting device Download PDF

Info

Publication number
JP5724554B2
JP5724554B2 JP2011082458A JP2011082458A JP5724554B2 JP 5724554 B2 JP5724554 B2 JP 5724554B2 JP 2011082458 A JP2011082458 A JP 2011082458A JP 2011082458 A JP2011082458 A JP 2011082458A JP 5724554 B2 JP5724554 B2 JP 5724554B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light emitting
group
resin layer
electrode
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2011082458A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2012221554A (en
Inventor
関口 正之
関口  正之
岡田 敬
敬 岡田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JSR Corp filed Critical JSR Corp
Priority to JP2011082458A priority Critical patent/JP5724554B2/en
Publication of JP2012221554A publication Critical patent/JP2012221554A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5724554B2 publication Critical patent/JP5724554B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Polyethers (AREA)

Description

本発明は、発光素子および発光素子の樹脂層を形成する材料として用いられる発光素子形成用樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a light emitting element and a resin composition for forming a light emitting element used as a material for forming a resin layer of the light emitting element.

発光素子は、透明基板の表面に、透明陽電極層、発光材料層および陰電極層がこの順に積層された基本構成を有する。例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子は、その陽電極層から正孔を、その陰電極層から電子を、有機材料からなる発光材料層の内部に注入し、発光材料層の内部で正孔と電子を再結合させることによって、励起子(エキシトン)を生成させ、この励起子が失活する際の光の放出(蛍光、燐光)により発光する発光素子である。発光材料層で発生した光は、透明基板の側から発光素子の外部に取り出される。
特許文献1には、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂などの高屈折率樹脂を用いた高屈折率層を有する発光素子が開示されている。
The light emitting element has a basic configuration in which a transparent positive electrode layer, a light emitting material layer, and a negative electrode layer are laminated in this order on the surface of a transparent substrate. For example, an organic electroluminescence device injects holes from its positive electrode layer, electrons from its negative electrode layer, into a light emitting material layer made of an organic material, and regenerates holes and electrons inside the light emitting material layer. This is a light-emitting element that emits light by emission (fluorescence or phosphorescence) when excitons (excitons) are generated by combining them, and the excitons are deactivated. Light generated in the light emitting material layer is extracted from the transparent substrate side to the outside of the light emitting element.
Patent Document 1 discloses a light-emitting element having a high refractive index layer using a high refractive index resin such as polyethersulfone resin or polyetherimide resin.

特開2004−296438号公報JP 2004-296438 A

特許文献1に記載の発光素子によれば、透明基板の側からある程度効率良く発光材料層で生じた光を取り出すことができる。しかしながら、発光材料層が発する光によって、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂などの高屈折率樹脂が劣化してしまうという問題がある。
そこで本発明は、光の取り出し効率および耐久性に優れる発光素子を提供することを目的とする。
According to the light emitting element described in Patent Document 1, light generated in the light emitting material layer can be extracted from the transparent substrate side with some efficiency. However, there is a problem that high refractive index resins such as polyethersulfone resin and polyetherimide resin are deteriorated by light emitted from the light emitting material layer.
Therefore, an object of the present invention is to provide a light-emitting element that is excellent in light extraction efficiency and durability.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のガラス転移温度を有する芳香族ポリエーテル系重合体を含んでなる樹脂層を備えた発光素子によれば、上記目的を達成しうることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、以下の[1]〜[8]を提供するものである。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventor achieved the above object according to a light emitting device comprising a resin layer comprising an aromatic polyether polymer having a specific glass transition temperature. As a result, the present invention has been completed.
That is, the present invention provides the following [1] to [8].

[1] 基板と第1電極と発光層と第2電極と樹脂層とを備える発光素子であって、
前記基板と前記第1電極と前記発光層と前記第2電極とがこの順に積層されてなり、
前記樹脂層は、
(a)前記第1電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、および、
(b)前記第2電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、
の少なくとも一方に形成されており、
前記樹脂層が、示差走査熱量測定(DSC、昇温速度20℃/分)によるガラス転移温度(Tg)が230〜350℃である芳香族ポリエーテル系重合体(以下「重合体(I)」ともいう。)を含む層であることを特徴とする発光素子。
[2] 前記発光素子が有機エレクトロルミネッセンス素子である、[1]に記載の発光素子。
[1] A light emitting device comprising a substrate, a first electrode, a light emitting layer, a second electrode, and a resin layer,
The substrate, the first electrode, the light emitting layer, and the second electrode are laminated in this order,
The resin layer is
(A) a side of the first electrode opposite to the side on which the light emitting layer is formed; and
(B) The side of the second electrode opposite to the side on which the light emitting layer is formed,
Formed on at least one of
The resin layer is an aromatic polyether polymer (hereinafter referred to as “polymer (I)”) having a glass transition temperature (Tg) of 230 to 350 ° C. as measured by differential scanning calorimetry (DSC, heating rate 20 ° C./min). A light-emitting element including the layer.
[2] The light emitting device according to [1], wherein the light emitting device is an organic electroluminescence device.

[3] 前記芳香族ポリエーテル系重合体が、下記式(1)で表わされる構造単位および下記式(2)で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位(i)を有する、[1]または[2]に記載の発光素子。   [3] The aromatic polyether polymer has at least one structural unit (i) selected from the group consisting of a structural unit represented by the following formula (1) and a structural unit represented by the following formula (2). , [1] or [2].

Figure 0005724554
(式(1)中、R1〜R4は、それぞれ独立に炭素数1〜12の1価の有機基を示し、a〜dは、それぞれ独立に0〜4の整数を示す。)
Figure 0005724554
(In Formula (1), R < 1 > -R < 4 > shows a C1-C12 monovalent organic group each independently, and ad shows the integer of 0-4 each independently.)

Figure 0005724554
(式(2)中、R1〜R4およびa〜dは、それぞれ独立に前記式(1)中のR1〜R4およびa〜dと同義であり、Yは、単結合、−SO2−または>C=Oを示し、R7およびR8は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数1〜12の1価の有機基またはニトロ基を示し、gおよびhは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、mは、0または1を示す。但し、mが0の時、R7はシアノ基ではない。)
Figure 0005724554
(In Formula (2), R < 1 > -R < 4 > and ad are respectively synonymous with R < 1 > -R < 4 > and said ad in said Formula (1), Y is a single bond, -SO 2- or> C = O, R 7 and R 8 each independently represent a halogen atom, a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms or a nitro group, and g and h each independently represent 0 to 4 represents an integer of 4 and m represents 0 or 1. However, when m is 0, R 7 is not a cyano group.

[4] 前記芳香族ポリエーテル系重合体が、さらに、下記式(3)で表わされる構造単位および下記式(4)で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位(ii)を有する、[1]〜[3]のいずれかに記載の発光素子。   [4] The aromatic polyether polymer further includes at least one structural unit (ii) selected from the group consisting of a structural unit represented by the following formula (3) and a structural unit represented by the following formula (4): The light-emitting device according to any one of [1] to [3],

Figure 0005724554
(式(3)中、R5およびR6は、それぞれ独立に炭素数1〜12の1価の有機基を示し、Zは、単結合、−O−、−S−、−SO2−、>C=O、−CONH−、−COO−または炭素数1〜12の2価の有機基を示し、eおよびfは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、nは0または1を示す。)
Figure 0005724554
(In formula (3), R 5 and R 6 each independently represent a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms, and Z represents a single bond, —O—, —S—, —SO 2 —, > C═O, —CONH—, —COO— or a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms, e and f each independently represent an integer of 0 to 4, and n represents 0 or 1 .)

Figure 0005724554
(式(4)中、R7、R8、Y、m、gおよびhは、それぞれ独立に前記式(2)中のR7、R8、Y、m、gおよびhと同義であり、R5、R6、Z、n、eおよびfは、それぞれ独立に前記式(3)中のR5、R6、Z、n、eおよびfと同義である。)
Figure 0005724554
(In the formula (4), R 7, R 8, Y, m, g and h are each R 7 in independent to the formula (2), R 8, Y , m, synonymous with g and h, R 5, R 6, Z, n, e and f are as defined each R 5 in the formula (3) independently, R 6, Z, n, e and f.)

[5] 前記芳香族ポリエーテル系重合体において、前記構造単位(i)と前記構造単位(ii)とのモル比が50:50〜100:0である、[1]〜[4]のいずれかに記載の発光素子。
[6] 前記芳香族ポリエーテル系重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算の重量平均分子量が5,000〜500,000である、[1]〜[5]のいずれかに記載の発光素子。
[7] 前記樹脂層が、さらに金属酸化物粒子を含有する、[1]〜[6]のいずれかに記載の発光素子。
[5] In the aromatic polyether polymer, any one of [1] to [4], wherein the molar ratio of the structural unit (i) to the structural unit (ii) is 50:50 to 100: 0. A light emitting device according to any one of the above.
[6] The method according to any one of [1] to [5], wherein the aromatic polyether-based polymer has a polystyrene-equivalent weight average molecular weight of 5,000 to 500,000 by gel permeation chromatography (GPC). Light emitting element.
[7] The light emitting device according to any one of [1] to [6], wherein the resin layer further contains metal oxide particles.

[8] 下記式(1)で表わされる構造単位および下記式(2)で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位(i)を有する重合体、および有機溶媒を含有する、発光素子の樹脂層を形成するための発光素子形成用樹脂組成物。   [8] A polymer having at least one structural unit (i) selected from the group consisting of a structural unit represented by the following formula (1) and a structural unit represented by the following formula (2), and an organic solvent: A resin composition for forming a light emitting device for forming a resin layer of the light emitting device.

Figure 0005724554
(式(1)中、R1〜R4は、それぞれ独立に炭素数1〜12の1価の有機基を示し、a〜dは、それぞれ独立に0〜4の整数を示す。)
Figure 0005724554
(In Formula (1), R < 1 > -R < 4 > shows a C1-C12 monovalent organic group each independently, and ad shows the integer of 0-4 each independently.)

Figure 0005724554
(式(2)中、R1〜R4およびa〜dは、それぞれ独立に前記式(1)中のR1〜R4およびa〜dと同義であり、Yは、単結合、−SO2−または>C=Oを示し、R7およびR8は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数1〜12の1価の有機基またはニトロ基を示し、gおよびhは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、mは、0または1を示す。但し、mが0の時、R7はシアノ基ではない。)
Figure 0005724554
(In Formula (2), R < 1 > -R < 4 > and ad are respectively synonymous with R < 1 > -R < 4 > and said ad in said Formula (1), Y is a single bond, -SO 2- or> C = O, R 7 and R 8 each independently represent a halogen atom, a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms or a nitro group, and g and h each independently represent 0 to 4 represents an integer of 4 and m represents 0 or 1. However, when m is 0, R 7 is not a cyano group.

本発明の発光素子は、特定のガラス転移温度を有する芳香族ポリエーテル系重合体を含む樹脂層を備えており、該樹脂層のガラス転移温度が高く、透明性に優れ、屈折率が高いため、優れた光の取り出し効率を有する。
また、本発明の発光素子は、耐久性にも優れるため、厳しい使用条件下であっても、長期に亘って性能を低下させずに用いることができる。
The light-emitting element of the present invention includes a resin layer containing an aromatic polyether polymer having a specific glass transition temperature, and the resin layer has a high glass transition temperature, excellent transparency, and a high refractive index. , Has excellent light extraction efficiency.
Further, since the light-emitting element of the present invention is excellent in durability, it can be used without degrading performance for a long time even under severe use conditions.

本発明の発光素子の実施形態例1を概念的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows notionally Embodiment 1 of the light emitting element of this invention. 本発明の発光素子の実施形態例2を概念的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows notionally Embodiment 2 of the light emitting element of this invention. 本発明の発光素子の実施形態例3を概念的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows notionally Embodiment 3 of the light emitting element of this invention.

≪発光素子≫
以下、図面を参照して、本発明の発光素子の種々の実施形態例を説明するが、基板と第1電極と発光層と第2電極と樹脂層とを備える発光素子であって、
前記基板と前記第1電極と前記発光層と前記第2電極とがこの順に積層されてなり、
前記樹脂層が、示差走査熱量測定(DSC、昇温速度20℃/分)によるガラス転移温度(Tg)が230〜350℃である芳香族ポリエーテル系重合体(以下「重合体(I)」ともいう。)を含む層であり、
前記樹脂層が、
(a)前記第1電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、および、
(b)前記第2電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、
の少なくとも一方に形成されている発光素子である限り特に制限されない。
≪Light emitting element≫
Hereinafter, various exemplary embodiments of the light-emitting device of the present invention will be described with reference to the drawings. The light-emitting device includes a substrate, a first electrode, a light-emitting layer, a second electrode, and a resin layer.
The substrate, the first electrode, the light emitting layer, and the second electrode are laminated in this order,
The resin layer is an aromatic polyether polymer (hereinafter referred to as “polymer (I)”) having a glass transition temperature (Tg) of 230 to 350 ° C. as measured by differential scanning calorimetry (DSC, heating rate 20 ° C./min). It is also a layer containing
The resin layer is
(A) a side of the first electrode opposite to the side on which the light emitting layer is formed; and
(B) The side of the second electrode opposite to the side on which the light emitting layer is formed,
There is no particular limitation as long as the light emitting element is formed on at least one of the above.

図1は、本発明の発光素子の実施形態例1である発光素子10を示す。発光素子10は、基板11、第1電極13、発光層15、第2電極17および樹脂層18がこの順に積層された構造を有する。つまり、樹脂層18は、第2電極17の、発光層15が設けられた側とは反対側の面に設けられる。第2電極17は透過型電極であることが好ましく、この場合、発光層15で生じた光は、第2電極17および樹脂層18を通過して、発光素子10の外部に取り出されうる。   FIG. 1 shows a light emitting device 10 which is Embodiment 1 of the light emitting device of the present invention. The light emitting element 10 has a structure in which a substrate 11, a first electrode 13, a light emitting layer 15, a second electrode 17, and a resin layer 18 are laminated in this order. That is, the resin layer 18 is provided on the surface of the second electrode 17 opposite to the side on which the light emitting layer 15 is provided. The second electrode 17 is preferably a transmissive electrode. In this case, the light generated in the light emitting layer 15 can be extracted outside the light emitting element 10 through the second electrode 17 and the resin layer 18.

発光素子10は、第2電極17の屈折率、樹脂層18の屈折率、空気の屈折率(約1.0)がこの順で小さくなる発光素子が好ましい。また、第2電極17と樹脂層18との屈折率の差、樹脂層18と空気との屈折率の差が小さいことが好ましい。第2電極、樹脂層および空気の屈折率がこのような関係にあると、発光層15で生じた光が発光素子10の外部に取り出される工程で、第2電極17と樹脂層18との界面および樹脂層18と空気との界面で全反射しにくくなるため、光の取り出し効率が高くなると考えられる。   The light emitting element 10 is preferably a light emitting element in which the refractive index of the second electrode 17, the refractive index of the resin layer 18, and the refractive index of air (about 1.0) decrease in this order. Moreover, it is preferable that the difference in refractive index between the second electrode 17 and the resin layer 18 and the difference in refractive index between the resin layer 18 and air are small. When the refractive indexes of the second electrode, the resin layer, and air have such a relationship, the interface between the second electrode 17 and the resin layer 18 is a process in which light generated in the light emitting layer 15 is extracted outside the light emitting element 10. Further, since it becomes difficult to totally reflect at the interface between the resin layer 18 and the air, it is considered that the light extraction efficiency is increased.

基板11としては、一般的な発光素子で使われる基板を使用することができるが、機械的強度、熱的安定性、透明性、表面平滑性、取扱容易性および防水性に優れるガラス基板または透明プラスチック基板が好ましい。   As the substrate 11, a substrate used in a general light-emitting element can be used, but a glass substrate or a transparent substrate excellent in mechanical strength, thermal stability, transparency, surface smoothness, ease of handling, and waterproofness. A plastic substrate is preferred.

第1電極13は、第1電極形成用物質を用いた、蒸着法またはスパッタリング法などにより基板11の上面に製造できる。透過型電極を形成する場合には、第1電極形成用物質として、透明であって伝導性に優れる酸化インジウムスズ(ITO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、酸化スズ(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)などを用いることができる。また、反射型電極を形成する場合には、第1電極形成用物質として、マグネシウム(Mg)、アルミニウム(Al)、アルミニウム−リチウム(Al−Li)、カルシウム(Ca)、マグネシウム−インジウム(Mg−In)、マグネシウム−銀(Mg−Ag)などを用いることができる。第1電極13の厚さは、所望の目的に応じて適宜選択すればよい。 The first electrode 13 can be manufactured on the upper surface of the substrate 11 by vapor deposition or sputtering using a first electrode forming material. When forming a transmissive electrode, the first electrode forming material is transparent and has excellent conductivity, such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), tin oxide (SnO 2 ), zinc oxide ( ZnO) or the like can be used. When a reflective electrode is formed, magnesium (Mg), aluminum (Al), aluminum-lithium (Al—Li), calcium (Ca), magnesium-indium (Mg—) are used as the first electrode forming material. In), magnesium-silver (Mg-Ag), or the like can be used. What is necessary is just to select the thickness of the 1st electrode 13 suitably according to the desired objective.

発光層15は、電界が印加されることにより発光現象を示す物質により成膜されたものである。このような物質としては、付活硫化亜鉛ZnS:X(但し、Xは、Mn、Tb、Cu,Sm等の付活元素である。)、CaS:Eu、SrS:Ce、SrGa24:Ce、CaGa24:Ce、CaS:Pb、BaAl24:Eu等の無機エレクトロルミネッセンス(EL)物質、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体、芳香族アミン類、アントラセン単結晶等の低分子色素系の有機EL物質、ポリ(p−フェニレンビニレン)、ポリ[2−メトキシ−5−(2−エチルヘキシルオキシ)−1,4−フェニレンビニレン]、ポリ(3−アルキルチオフェン)、ポリビニルカルバゾールなどの共役高分子系の有機EL物質等、従来より使用されているEL物質を用いることができきる。これらの中でも樹脂層18は重合体(I)を含むため、発光層15は有機EL物質を用いて形成される層であることが好ましい。発光層15の厚さは、通常10〜1000nm、好ましくは30〜500nm、さらに好ましくは50〜200nmである。発光層15は、蒸着やスパッタリング等の真空成膜プロセス、あるいはクロロホルム等を溶媒とする塗布プロセスにより形成することができる。 The light emitting layer 15 is formed of a material that exhibits a light emission phenomenon when an electric field is applied. Such materials include activated zinc sulfide ZnS: X (where X is an activated element such as Mn, Tb, Cu, Sm), CaS: Eu, SrS: Ce, SrGa 2 S 4 : Inorganic electroluminescent (EL) materials such as Ce, CaGa 2 S 4 : Ce, CaS: Pb, BaAl 2 S 4 : Eu, low molecular dyes such as aluminum complexes of 8-hydroxyquinoline, aromatic amines, anthracene single crystals Conjugated organic EL materials, poly (p-phenylenevinylene), poly [2-methoxy-5- (2-ethylhexyloxy) -1,4-phenylenevinylene], poly (3-alkylthiophene), polyvinylcarbazole, etc. Conventionally used EL materials such as polymer organic EL materials can be used. Among these, since the resin layer 18 contains the polymer (I), the light emitting layer 15 is preferably a layer formed using an organic EL material. The thickness of the light emitting layer 15 is 10-1000 nm normally, Preferably it is 30-500 nm, More preferably, it is 50-200 nm. The light emitting layer 15 can be formed by a vacuum film forming process such as vapor deposition or sputtering, or a coating process using chloroform or the like as a solvent.

第2電極17は、電子注入電極であるカソードであることが好ましい。第2電極17は、第2電極形成用物質を用いて、蒸着法またはスパッタリング法などにより製造できる。第2電極形成用物質としては、リチウム(Li)、マグネシウム(Mg)、アルミニウム(Al)、アルミニウム−リチウム(Al−Li)、カルシウム(Ca)、マグネシウム−インジウム(Mg−In)、マグネシウム−銀(Mg−Ag)などが挙げられる。これらの物質から薄膜を形成することによって、透過型電極を得ることができる。また、ITO、IZOを含んでなる透過型電極であってもよい。第2電極17の厚さは、所望の目的に応じて適宜選択すればよい。   The second electrode 17 is preferably a cathode that is an electron injection electrode. The second electrode 17 can be manufactured by a vapor deposition method or a sputtering method using a second electrode forming material. As the second electrode forming substance, lithium (Li), magnesium (Mg), aluminum (Al), aluminum-lithium (Al-Li), calcium (Ca), magnesium-indium (Mg-In), magnesium-silver (Mg—Ag) and the like. A transmissive electrode can be obtained by forming a thin film from these substances. Further, a transmissive electrode containing ITO or IZO may be used. What is necessary is just to select the thickness of the 2nd electrode 17 suitably according to the desired objective.

樹脂層18は下記重合体(I)および有機溶媒(以下「特定溶媒」ともいう。)を含有し、さらに必要により金属酸化物粒子等を含有する発光素子形成用組成物から形成される層であることが好ましい。   The resin layer 18 is a layer formed of a composition for forming a light emitting element, which contains the following polymer (I) and an organic solvent (hereinafter also referred to as “specific solvent”), and further contains metal oxide particles, if necessary. Preferably there is.

[重合体(I)]
前記重合体(I)は、示差走査熱量測定(DSC、昇温速度20℃/分)によるガラス転移温度(Tg)が230〜350℃である芳香族ポリエーテル系重合体であり、重合体(I)のガラス転移温度は、好ましくは240〜330℃であり、さらに好ましくは250〜300℃である。
前記重合体(I)のガラス転移温度は、例えばRigaku社製8230型DSC測定装置(昇温速度20℃/分)を用いて測定される。
[Polymer (I)]
The polymer (I) is an aromatic polyether polymer having a glass transition temperature (Tg) of 230 to 350 ° C. as measured by differential scanning calorimetry (DSC, heating rate 20 ° C./min). The glass transition temperature of I) is preferably 240 to 330 ° C, more preferably 250 to 300 ° C.
The glass transition temperature of the polymer (I) is measured, for example, using a Rigaku 8230 type DSC measuring apparatus (temperature rising rate 20 ° C./min).

このような重合体(I)を含んでなる発光素子形成用樹脂組成物から形成される樹脂層は、耐熱性、力学的強度および電気的特性等にバランスよく優れる。   A resin layer formed from such a resin composition for forming a light-emitting element comprising the polymer (I) is excellent in balance in heat resistance, mechanical strength, electrical characteristics, and the like.

前記重合体(I)は、主鎖にエーテル結合を形成する反応により得られる重合体であり、下記式(1)で表わされる構造単位(以下「構造単位(1)」ともいう。)および下記式(2)で表わされる構造単位(以下「構造単位(2)」ともいう。)からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位(i)を有する重合体(以下「重合体(II)」ともいう。)であることが好ましい。重合体が構造単位(i)を有することで、ガラス転移温度が230〜350℃である芳香族ポリエーテル系重合体となる。このような重合体(II)を含む発光素子形成用樹脂組成物から形成される樹脂層は、優れた耐熱性と電気的特性、ならびに透明性に優れ、高い屈折率を有する。また、樹脂層が重合体(II)を含むと、光の取り出し効率および耐久性に優れる発光素子を得ることができる。   The polymer (I) is a polymer obtained by a reaction that forms an ether bond in the main chain, and is a structural unit represented by the following formula (1) (hereinafter also referred to as “structural unit (1)”) and the following. A polymer having at least one structural unit (i) selected from the group consisting of structural units represented by the formula (2) (hereinafter also referred to as “structural unit (2)”) (hereinafter also referred to as “polymer (II)”) It is preferable that When the polymer has the structural unit (i), an aromatic polyether polymer having a glass transition temperature of 230 to 350 ° C. is obtained. The resin layer formed from the resin composition for forming a light emitting element containing such a polymer (II) has excellent heat resistance, electrical characteristics, transparency, and a high refractive index. Moreover, when the resin layer contains the polymer (II), a light-emitting element having excellent light extraction efficiency and durability can be obtained.

Figure 0005724554
Figure 0005724554

前記式(1)中、R1〜R4は、それぞれ独立に炭素数1〜12の1価の有機基を示す。a〜dは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、好ましくは0または1である。
炭素数1〜12の1価の有機基としては、炭素数1〜12の1価の炭化水素基、ならびに酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の1価の有機基等を挙げることができる。
In said formula (1), R < 1 > -R < 4 > shows a C1-C12 monovalent organic group each independently. a to d each independently represent an integer of 0 to 4, preferably 0 or 1.
The monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms includes a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and 1 to 1 carbon atoms containing at least one atom selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom. And 12 monovalent organic groups.

炭素数1〜12の1価の炭化水素基としては、炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖の炭化水素基、炭素数3〜12の脂環式炭化水素基および炭素数6〜12の芳香族炭化水素基等が挙げられる。   Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include a linear or branched hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and 6 to 12 carbon atoms. An aromatic hydrocarbon group etc. are mentioned.

前記炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖の炭化水素基としては、炭素数1〜8の直鎖または分岐鎖の炭化水素基が好ましく、炭素数1〜5の直鎖または分岐鎖の炭化水素基がより好ましい。   The linear or branched hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms is preferably a linear or branched hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and the linear or branched carbon group having 1 to 5 carbon atoms. A hydrogen group is more preferable.

前記直鎖または分岐鎖の炭化水素基の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基およびn−ヘプチル基等が挙げられる。   Preferable specific examples of the linear or branched hydrocarbon group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, and n-pentyl. Group, n-hexyl group, n-heptyl group and the like.

前記炭素数3〜12の脂環式炭化水素基としては、炭素数3〜8の脂環式炭化水素基が好ましく、炭素数3または4の脂環式炭化水素基がより好ましい。   As said C3-C12 alicyclic hydrocarbon group, a C3-C8 alicyclic hydrocarbon group is preferable, and a C3-C4 alicyclic hydrocarbon group is more preferable.

炭素数3〜12の脂環式炭化水素基の好適な具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基およびシクロへキシル基等のシクロアルキル基;シクロブテニル基、シクロペンテニル基およびシクロヘキセニル基等のシクロアルケニル基が挙げられる。当該脂環式炭化水素基の結合部位は、脂環上のいずれの炭素でもよい。   Preferable specific examples of the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms include cycloalkyl groups such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, and cyclohexyl group; cyclobutenyl group, cyclopentenyl group, and cyclohexenyl group. And the like. The bonding site of the alicyclic hydrocarbon group may be any carbon on the alicyclic ring.

前記炭素数6〜12の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニル基およびナフチル基等が挙げられる。当該芳香族炭化水素基の結合部位は、芳香族環上のいずれの炭素でもよい。   Examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms include a phenyl group, a biphenyl group, and a naphthyl group. The bonding site of the aromatic hydrocarbon group may be any carbon on the aromatic ring.

酸素原子を含む炭素数1〜12の有機基としては、水素原子、炭素原子および酸素原子からなる有機基が挙げられ、中でも、エーテル結合、カルボニル基またはエステル結合と炭化水素基とからなる総炭素数1〜12の有機基等を好ましく挙げることができる。   Examples of the organic group having 1 to 12 carbon atoms including an oxygen atom include an organic group consisting of a hydrogen atom, a carbon atom and an oxygen atom, and among them, a total carbon consisting of an ether bond, a carbonyl group or an ester bond and a hydrocarbon group. Preferable examples include organic groups of formulas 1 to 12.

エーテル結合を有する総炭素数1〜12の有機基としては、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数2〜12のアルケニルオキシ基、炭素数2〜12のアルキニルオキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基および炭素数1〜12のアルコキシアルキル基などを挙げることができる。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、プロペニルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基およびメトキシメチル基等が挙げられる。   Examples of the organic group having 1 to 12 carbon atoms having an ether bond include an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyloxy group having 2 to 12 carbon atoms, an alkynyloxy group having 2 to 12 carbon atoms, and 6 to 12 carbon atoms. And an aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms and the like. Specific examples include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropyloxy group, a butoxy group, a phenoxy group, a propenyloxy group, a cyclohexyloxy group, and a methoxymethyl group.

また、カルボニル基を有する総炭素数1〜12の有機基としては、炭素数2〜12のアシル基等を挙げることができる。具体的には、アセチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル基およびベンゾイル基等が挙げられる。
エステル結合を有する総炭素数1〜12の有機基としては、炭素数2〜12のアシルオキシ基等が挙げられる。具体的には、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、イソプロピオニルオキシ基およびベンゾイルオキシ基等が挙げられる。
Moreover, as a C1-C12 organic group which has a carbonyl group, a C2-C12 acyl group etc. can be mentioned. Specific examples include an acetyl group, a propionyl group, an isopropionyl group, and a benzoyl group.
As a C1-C12 organic group which has an ester bond, a C2-C12 acyloxy group etc. are mentioned. Specific examples include an acetyloxy group, a propionyloxy group, an isopropionyloxy group, and a benzoyloxy group.

窒素原子を含む炭素数1〜12の有機基としては、水素原子、炭素原子および窒素原子からなる有機基が挙げられ、具体的には、シアノ基、イミダゾール基、トリアゾール基、ベンズイミダゾール基およびベンズトリアゾール基等が挙げられる。   Examples of the organic group having 1 to 12 carbon atoms including a nitrogen atom include an organic group consisting of a hydrogen atom, a carbon atom and a nitrogen atom, and specifically, a cyano group, an imidazole group, a triazole group, a benzimidazole group and a benzine. A triazole group etc. are mentioned.

酸素原子および窒素原子を含む炭素数1〜12の有機基としては、水素原子、炭素原子、酸素原子および窒素原子からなる有機基が挙げられ、具体的には、オキサゾール基、オキサジアゾール基、ベンズオキサゾール基およびベンズオキサジアゾール基等が挙げられる。   Examples of the organic group having 1 to 12 carbon atoms including an oxygen atom and a nitrogen atom include an organic group consisting of a hydrogen atom, a carbon atom, an oxygen atom and a nitrogen atom. Specifically, an oxazole group, an oxadiazole group, Examples include a benzoxazole group and a benzoxadiazole group.

前記式(1)におけるR1〜R4としては、炭素数1〜12の1価の炭化水素基が好ましく、炭素数6〜12の芳香族炭化水素基がより好ましく、フェニル基がさらに好ましい。 As R < 1 > -R < 4 > in said Formula (1), a C1-C12 monovalent hydrocarbon group is preferable, a C6-C12 aromatic hydrocarbon group is more preferable, and a phenyl group is further more preferable.

Figure 0005724554
Figure 0005724554

前記式(2)中、R1〜R4およびa〜dは、それぞれ独立に前記式(1)中のR1〜R4およびa〜dと同義であり、Yは、単結合、−SO2−または>C=Oを示し、R7およびR8は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数1〜12の1価の有機基またはニトロ基を示し、mは、0または1を示す。但し、mが0の時、R7はシアノ基ではない。gおよびhは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、好ましくは0である。
炭素数1〜12の1価の有機基としては、前記式(1)における炭素数1〜12の1価の有機基と同様の有機基等を挙げることができる。
In the formula (2), R 1 to R 4 and a~d are the same as R 1 to R 4 and a~d each independently the formula (1), Y represents a single bond, -SO 2- or> C = O, R 7 and R 8 each independently represents a halogen atom, a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms or a nitro group, and m represents 0 or 1. However, when m is 0, R 7 is not a cyano group. g and h each independently represent an integer of 0 to 4, preferably 0.
Examples of the monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms include the same organic groups as the monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms in the formula (1).

前記重合体(II)は、上記構造単位(1)と上記構造単位(2)とのモル比(但し、両者(構造単位(1)+構造単位(2))の合計は100である。)が、光学特性、耐熱性および力学的特性の観点から構造単位(1):構造単位(2)=50:50〜100:0であることが好ましく、構造単位(1):構造単位(2)=70:30〜100:0であることがより好ましく、構造単位(1):構造単位(2)=80:20〜100:0であることがさらに好ましい。
ここで、力学的特性とは、重合体の引張強度、破断伸びおよび引張弾性率等の性質のことをいう。
The polymer (II) has a molar ratio of the structural unit (1) to the structural unit (2) (however, the sum of the structural unit (1) and the structural unit (2) is 100). However, from the viewpoint of optical properties, heat resistance and mechanical properties, it is preferable that the structural unit (1): structural unit (2) = 50: 50 to 100: 0, and the structural unit (1): structural unit (2). = 70: 30 to 100: 0 is more preferable, and structural unit (1): structural unit (2) is more preferably 80:20 to 100: 0.
Here, the mechanical properties refer to properties such as the tensile strength, breaking elongation and tensile elastic modulus of the polymer.

また、前記重合体(II)は、さらに、下記式(3)で表わされる構造単位および下記式(4)で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位(ii)を有してもよい。前記重合体(II)がこのような構造単位(ii)を有すると、該重合体(II)を有する組成物から得られる樹脂層の力学的特性が向上するため好ましい。   The polymer (II) further has at least one structural unit (ii) selected from the group consisting of a structural unit represented by the following formula (3) and a structural unit represented by the following formula (4). May be. It is preferable that the polymer (II) has such a structural unit (ii) because the mechanical properties of the resin layer obtained from the composition having the polymer (II) are improved.

Figure 0005724554
Figure 0005724554

前記式(3)中、R5およびR6は、それぞれ独立に炭素数1〜12の1価の有機基を示し、Zは、単結合、−O−、−S−、−SO2−、>C=O、−CONH−、−COO−または炭素数1〜12の2価の有機基を示し、nは、0または1を示す。eおよびfは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、好ましくは0である。
炭素数1〜12の1価の有機基としては、前記式(1)における炭素数1〜12の1価の有機基と同様の有機基等を挙げることができる。
In the formula (3), R 5 and R 6 each independently represent a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms, Z represents a single bond, —O—, —S—, —SO 2 —, > C═O, —CONH—, —COO— or a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms, and n represents 0 or 1. e and f each independently represent an integer of 0 to 4, preferably 0.
Examples of the monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms include the same organic groups as the monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms in the formula (1).

炭素数1〜12の2価の有機基としては、炭素数1〜12の2価の炭化水素基、炭素数1〜12の2価のハロゲン化炭化水素基、酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の2価の有機基、ならびに酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の2価のハロゲン化有機基等を挙げることができる。   The divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms includes a divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, a divalent halogenated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an oxygen atom, and a nitrogen atom. A divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms containing at least one atom selected from the above, and a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms containing at least one atom selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom. And halogenated organic groups.

炭素数1〜12の2価の炭化水素基としては、炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖の2価の炭化水素基、炭素数3〜12の2価の脂環式炭化水素基および炭素数6〜12の2価の芳香族炭化水素基等が挙げられる。   Examples of the divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and Examples thereof include a bivalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms.

炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖の2価の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、イソプロピリデン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基およびヘプタメチレン基等が挙げられる。   Examples of the linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, an isopropylidene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, and a heptamethylene group.

炭素数3〜12の2価の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基等のシクロアルキレン基;シクロブテニレン基、シクロペンテニレン基およびシクロヘキセニレン基等のシクロアルケニレン基などが挙げられる。   Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms include cycloalkylene groups such as cyclopropylene group, cyclobutylene group, cyclopentylene group and cyclohexylene group; cyclobutenylene group, cyclopentenylene group and And cycloalkenylene groups such as a cyclohexenylene group.

炭素数6〜12の2価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基およびビフェニレン基等が挙げられる。   Examples of the divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms include a phenylene group, a naphthylene group, and a biphenylene group.

炭素数1〜12の2価のハロゲン化炭化水素基としては、炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖の2価のハロゲン化炭化水素基、炭素数3〜12の2価のハロゲン化脂環式炭化水素基および炭素数6〜12の2価のハロゲン化芳香族炭化水素基等が挙げられる。   Examples of the divalent halogenated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include a linear or branched divalent halogenated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and a divalent halogenated fat having 3 to 12 carbon atoms. Examples thereof include a cyclic hydrocarbon group and a divalent halogenated aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms.

炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖の2価のハロゲン化炭化水素基としては、ジフロオロメチレン基、ジクロロメチレン基、テトラフルオロエチレン基、テトラクロロエチレン基、ヘキサフルオロトリメチレン基、ヘキサクロロトリメチレン基、ヘキサフルオロイソプロピリデン基およびヘキサクロロイソプロピリデン基等が挙げられる。   Examples of the linear or branched divalent halogenated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include a difluoromethylene group, a dichloromethylene group, a tetrafluoroethylene group, a tetrachloroethylene group, a hexafluorotrimethylene group, and a hexachlorotrimethylene group. Group, hexafluoroisopropylidene group, hexachloroisopropylidene group and the like.

炭素数3〜12の2価のハロゲン化脂環式炭化水素基としては、前記炭素数3〜12の2価の脂環式炭化水素基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。   As the divalent halogenated alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, at least a part of the hydrogen atoms exemplified in the divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms is a fluorine atom. And a group substituted with a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.

炭素数6〜12の2価のハロゲン化芳香族炭化水素基としては、前記炭素数6〜12の2価の芳香族炭化水素基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。   As the divalent halogenated aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms, at least a part of the hydrogen atoms exemplified in the divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms is a fluorine atom, chlorine And a group substituted with an atom, a bromine atom or an iodine atom.

酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の有機基としては、水素原子および炭素原子と、酸素原子および/または窒素原子とからなる有機基が挙げられ、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合またはアミド結合と炭化水素基とを有する総炭素数1〜12の2価の有機基等が挙げられる。   Examples of the organic group having 1 to 12 carbon atoms including at least one atom selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom include an organic group consisting of a hydrogen atom and a carbon atom and an oxygen atom and / or a nitrogen atom. And a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms and having an ether bond, a carbonyl group, an ester bond or an amide bond and a hydrocarbon group.

酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の2価のハロゲン化有機基としては、具体的には、酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の2価の有機基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。   The divalent halogenated organic group having 1 to 12 carbon atoms containing at least one kind of atom selected from the group consisting of oxygen atom and nitrogen atom is specifically selected from the group consisting of oxygen atom and nitrogen atom Examples include a group in which at least a part of the hydrogen atoms exemplified in the divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms containing at least one atom is substituted with a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom. .

前記式(3)におけるZとしては、単結合、−O−、−SO2−、>C=Oまたは炭素数1〜12の2価の有機基が好ましく、炭素数1〜12の2価の炭化水素基、炭素数1〜12の2価のハロゲン化炭化水素基または炭素数3〜12の2価の脂環式炭化水素基がより好ましい。 Z in the formula (3) is preferably a single bond, —O—, —SO 2 —,> C═O or a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms, and a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms. A hydrocarbon group, a divalent halogenated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms is more preferable.

Figure 0005724554
Figure 0005724554

前記式(4)中、R7、R8、Y、m、gおよびhは、それぞれ独立に前記式(2)中のR7、R8、Y、m、gおよびhと同義であり、R5、R6、Z、n、eおよびfは、それぞれ独立に前記式(3)中のR5、R6、Z、n、eおよびfと同義である。なお、mが0の時、R7はシアノ基ではない。 In the formula (4), R 7 , R 8 , Y, m, g and h are each independently synonymous with R 7 , R 8 , Y, m, g and h in the formula (2), R 5, R 6, Z, n, e and f are as defined each R 5 in the formula (3) independently, R 6, Z, n, e and f. When m is 0, R 7 is not a cyano group.

前記重合体(II)は、前記構造単位(i)と前記構造単位(ii)とのモル比(但し、両者((i)+(ii))の合計は100である。)が、光学特性、耐熱性および力学的特性の観点から(i):(ii)=50:50〜100:0であることが好ましく、(i):(ii)=70:30〜100:0であることがより好ましく、(i):(ii)=80:20〜100:0であることがさらに好ましい。
ここで、力学的特性とは、重合体の引張強度、破断伸びおよび引張弾性率等の性質のことをいう。
In the polymer (II), the molar ratio of the structural unit (i) to the structural unit (ii) (however, the sum of both ((i) + (ii)) is 100) is an optical property. From the viewpoint of heat resistance and mechanical properties, (i) :( ii) = 50: 50 to 100: 0 is preferable, and (i) :( ii) = 70: 30 to 100: 0. More preferably, (i) :( ii) = 80: 20 to 100: 0 is more preferable.
Here, the mechanical properties refer to properties such as the tensile strength, breaking elongation and tensile elastic modulus of the polymer.

前記重合体(II)は、光学特性、耐熱性および力学的特性の観点から前記構造単位(i)および前記構造単位(ii)を全構造単位中70モル%以上含むことが好ましく、全構造単位中95モル%以上含むことがより好ましい。   The polymer (II) preferably contains 70 mol% or more of the structural unit (i) and the structural unit (ii) in the total structural units from the viewpoint of optical properties, heat resistance and mechanical properties. It is more preferable to contain 95 mol% or more.

前記重合体(II)は、例えば、下記式(5)で表わされる化合物(以下「化合物(5)」ともいう。)および下記式(7)で表わされる化合物(以下「化合物(7)」ともいう。)からなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物を含む成分(以下「(A)成分」ともいう。)と、下記式(6)で表わされる化合物を含む成分(以下「(B)成分」ともいう。)とを、反応させることにより得ることができる。   The polymer (II) includes, for example, a compound represented by the following formula (5) (hereinafter also referred to as “compound (5)”) and a compound represented by the following formula (7) (hereinafter referred to as “compound (7)”). A component containing at least one compound selected from the group consisting of (hereinafter also referred to as “component (A)”) and a component containing a compound represented by the following formula (6) (hereinafter referred to as “component (B)”) It can also be obtained by reacting.

Figure 0005724554
Figure 0005724554

前記式(5)中、Xは独立してハロゲン原子を示し、フッ素原子が好ましい。   In said formula (5), X shows a halogen atom independently and a fluorine atom is preferable.

Figure 0005724554
Figure 0005724554

前記式(7)中、R7、R8、Y、m、gおよびhは、それぞれ独立に前記式(2)中のR7、R8、Y、m、gおよびhと同義であり、Xは、独立に前記式(5)中のXと同義である。
但し、mが0の時、R7はシアノ基ではない。
In the formula (7), R 7, R 8, Y, m, g and h are each R 7 in independent to the formula (2), R 8, Y , m, synonymous with g and h, X is independently synonymous with X in the formula (5).
However, when m is 0, R 7 is not a cyano group.

Figure 0005724554
Figure 0005724554

前記式(6)中、Raは、それぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、アセチル基、メタンスルホニル基またはトリフルオロメチルスルホニル基を示し、この中でも水素原子が好ましい。なお、式(6)中、R1〜R4およびa〜dは、それぞれ独立に前記式(1)中のR1〜R4およびa〜dと同義である。 In the formula (6), each R a independently represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an acetyl group, a methanesulfonyl group or a trifluoromethylsulfonyl group, and among them, a hydrogen atom is preferable. In the formula (6), R 1 to R 4 and a~d have the same meanings as R 1 to R 4 and a~d each independently the formula (1).

上記化合物(5)としては、具体的には、2,6−ジフルオロベンゾニトリル(DFBN)、2,5−ジフルオロベンゾニトリル、2,4−ジフルオロベンゾニトリル、2,6−ジクロロベンゾニトリル、2,5−ジクロロベンゾニトリル、2,4−ジクロロベンゾニトリルおよびこれらの反応性誘導体を挙げることができる。特に、反応性および経済性等の観点から、2,6−ジフルオロベンゾニトリルおよび2,6−ジクロロベンゾニトリルが好適に用いられる。これらの化合物は2種以上を組み合わせて用いることも可能である。   Specific examples of the compound (5) include 2,6-difluorobenzonitrile (DFBN), 2,5-difluorobenzonitrile, 2,4-difluorobenzonitrile, 2,6-dichlorobenzonitrile, 2, Mention may be made of 5-dichlorobenzonitrile, 2,4-dichlorobenzonitrile and their reactive derivatives. In particular, 2,6-difluorobenzonitrile and 2,6-dichlorobenzonitrile are preferably used from the viewpoints of reactivity and economy. These compounds can be used in combination of two or more.

上記式(6)で表わされる化合物(以下「化合物(6)」ともいう。)としては、具体的には、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン(BPFL)、9,9−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3,5−ジフェニル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−シクロヘキシルフェニル)フルオレンおよびこれらの反応性誘導体等が挙げられる。上述の化合物の中でも、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンおよび9,9−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレンが好適に用いられる。これらの化合物は2種以上を組み合わせて用いることも可能である。   Specific examples of the compound represented by the above formula (6) (hereinafter also referred to as “compound (6)”) include 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene (BPFL) and 9,9-bis. (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (3,5-diphenyl-4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene, 9, Examples include 9-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-cyclohexylphenyl) fluorene, and reactive derivatives thereof. Among the above-mentioned compounds, 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene and 9,9-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) fluorene are preferably used. These compounds can be used in combination of two or more.

上記化合物(7)としては、具体的には、4,4'−ジフルオロベンゾフェノン、4,4'−ジフルオロジフェニルスルホン(DFDS)、2,4'−ジフルオロベンゾフェノン、2,4'−ジフルオロジフェニルスルホン、2,2'−ジフルオロベンゾフェノン、2,2'−ジフルオロジフェニルスルホン、3,3'−ジニトロ−4,4'−ジフルオロベンゾフェノン、3,3'−ジニトロ−4,4'−ジフルオロジフェニルスルホン、4,4'−ジクロロベンゾフェノン、4,4'−ジクロロジフェニルスルホン、2,4'−ジクロロベンゾフェノン、2,4'−ジクロロジフェニルスルホン、2,2'−ジクロロベンゾフェノン、2,2'−ジクロロジフェニルスルホン、3,3'−ジニトロ−4,4'−ジクロロベンゾフェノンおよび3,3'−ジニトロ−4,4'−ジクロロジフェニルスルホン等を挙げることができる。これらの中でも、4,4'−ジフルオロベンゾフェノン、4,4'−ジフルオロジフェニルスルホンが好ましい。これらの化合物は2種以上を組み合わせて用いることも可能である。   Specific examples of the compound (7) include 4,4′-difluorobenzophenone, 4,4′-difluorodiphenylsulfone (DFDS), 2,4′-difluorobenzophenone, 2,4′-difluorodiphenylsulfone, 2,2′-difluorobenzophenone, 2,2′-difluorodiphenylsulfone, 3,3′-dinitro-4,4′-difluorobenzophenone, 3,3′-dinitro-4,4′-difluorodiphenylsulfone, 4, 4'-dichlorobenzophenone, 4,4'-dichlorodiphenyl sulfone, 2,4'-dichlorobenzophenone, 2,4'-dichlorodiphenyl sulfone, 2,2'-dichlorobenzophenone, 2,2'-dichlorodiphenyl sulfone, 3 , 3′-dinitro-4,4′-dichlorobenzophenone and 3,3′-dinitro-4, 4'-dichlorodiphenyl sulfone and the like can be mentioned. Among these, 4,4′-difluorobenzophenone and 4,4′-difluorodiphenyl sulfone are preferable. These compounds can be used in combination of two or more.

化合物(5)および化合物(7)からなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物は、(A)成分100モル%中に、80モル%〜100モル%含まれていることが好ましく、90モル%〜100モル%含まれていることがより好ましい。
また、(B)成分は、必要に応じて下記式(8)で表わされる化合物を含むことが好ましい。化合物(6)は、(B)成分100モル%中に、50モル%〜100モル%含まれていることが好ましく、80モル%〜100モル%含まれていることがより好ましく、90モル%〜100モル%含まれていることがさらに好ましい。
It is preferable that at least one compound selected from the group consisting of compound (5) and compound (7) is contained in 80 mol% to 100 mol% in 100 mol% of component (A), and 90 mol% to More preferably, it is contained at 100 mol%.
Moreover, it is preferable that (B) component contains the compound represented by following formula (8) as needed. Compound (6) is preferably contained in 100 mol% of component (B) in an amount of 50 mol% to 100 mol%, more preferably 80 mol% to 100 mol%, and more preferably 90 mol%. More preferably, it is contained in an amount of ˜100 mol%.

Figure 0005724554
Figure 0005724554

前記式(8)中、R5、R6、Z、n、eおよびfは、それぞれ独立に前記式(3)中のR5、R6、Z、n、eおよびfと同義であり、Raは、それぞれ独立に前記式(6)中のRaと同義である。 In the formula (8), R 5 , R 6 , Z, n, e and f are each independently synonymous with R 5 , R 6 , Z, n, e and f in the formula (3), R a has the same meaning as R a each independently in the formula (6) in.

前記式(8)で表わされる化合物としては、ヒドロキノン、レゾルシノール、2−フェニルヒドロキノン、4,4'−ビフェノール、3,3'−ビフェノール、4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン、3,3'−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4'−ジヒドロキシベンゾフェノン、3,3'−ジヒドロキシベンゾフェノン、1,1'−ビ−2−ナフトール、1,1'−ビ−4−ナフトール、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパンおよびこれらの反応性誘導体等が挙げられる。上述の化合物の中でも、レゾルシノール、4,4'−ビフェノール、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパンが好ましく、反応性および力学的特性の観点から、4,4'−ビフェノールが好適に用いられる。これらの化合物は2種以上を組み合わせて用いることも可能である。   Examples of the compound represented by the formula (8) include hydroquinone, resorcinol, 2-phenylhydroquinone, 4,4′-biphenol, 3,3′-biphenol, 4,4′-dihydroxydiphenylsulfone, and 3,3′-dihydroxy. Diphenylsulfone, 4,4′-dihydroxybenzophenone, 3,3′-dihydroxybenzophenone, 1,1′-bi-2-naphthol, 1,1′-bi-4-naphthol, 2,2-bis (4-hydroxy) Phenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane and reactive derivatives thereof Etc. Among the above-mentioned compounds, resorcinol, 4,4′-biphenol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 2,2-bis (4-hydroxy) Phenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane is preferred, and 4,4′-biphenol is suitably used from the viewpoint of reactivity and mechanical properties. These compounds can be used in combination of two or more.

前記重合体(II)は、より具体的には、以下に示す方法(I')で合成することができる。
方法(I'):
(B)成分を有機溶媒中でアルカリ金属化合物と反応させて、(B)成分(化合物(6)および/または化合物(8)等)のアルカリ金属塩を得た後に、得られたアルカリ金属塩と、(A)成分とを反応させる。なお、(B)成分とアルカリ金属化合物との反応を(A)成分の存在下で行うことで、(B)成分のアルカリ金属塩と(A)成分とを反応させることもできる。
More specifically, the polymer (II) can be synthesized by the method (I ′) shown below.
Method (I ′):
The alkali metal salt obtained after reacting the component (B) with an alkali metal compound in an organic solvent to obtain an alkali metal salt of the component (B) (compound (6) and / or compound (8), etc.) And (A) component are made to react. In addition, the alkali metal salt of (B) component and (A) component can also be made to react by performing reaction with (B) component and an alkali metal compound in presence of (A) component.

反応に使用するアルカリ金属化合物としては、リチウム、カリウムおよびナトリウム等のアルカリ金属;水素化リチウム、水素化カリウムおよび水素化ナトリウム等の水素化アルカリ金属;水酸化リチウム、水酸化カリウムおよび水酸化ナトリウム等の水酸化アルカリ金属;炭酸水素リチウム、炭酸水素カリウムおよび炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩などを挙げることができる。これらは、1種または2種以上を組み合わせて用いることも可能である。   Examples of the alkali metal compound used in the reaction include alkali metals such as lithium, potassium and sodium; alkali hydrides such as lithium hydride, potassium hydride and sodium hydride; lithium hydroxide, potassium hydroxide and sodium hydroxide And alkali metal carbonates such as lithium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate and sodium hydrogen carbonate. These can be used alone or in combination of two or more.

アルカリ金属化合物は、前記(B)成分中の全ての−O−Raに対し、アルカリ金属化合物中の金属原子の量が通常1〜3倍当量、好ましくは1.1〜2倍当量、さらに好ましくは1.2〜1.5倍当量となる量で使用される。 In the alkali metal compound, the amount of metal atoms in the alkali metal compound is usually 1 to 3 times equivalent, preferably 1.1 to 2 times equivalent to all —O—R a in the component (B). Preferably it is used in an amount of 1.2 to 1.5 times equivalent.

また、反応に使用する有機溶媒としては、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、γ−ブチルラクトン、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、ジメチルスルホン、ジエチルスルホン、ジイソプロピルスルホン、ジフェニルスルホン、ジフェニルエーテル、ベンゾフェノン、ジアルコキシベンゼン(アルコキシ基の炭素数1〜4)およびトリアルコキシベンゼン(アルコキシ基の炭素数1〜4)などを使用することができる。これらの溶媒の中でも、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、スルホラン、ジフェニルスルホンおよびジメチルスルホキシド等の誘電率の高い極性有機溶媒が特に好適に用いられる。   Examples of the organic solvent used in the reaction include N, N-dimethylacetamide (DMAc), N, N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, γ- Butyllactone, sulfolane, dimethyl sulfoxide, diethyl sulfoxide, dimethyl sulfone, diethyl sulfone, diisopropyl sulfone, diphenyl sulfone, diphenyl ether, benzophenone, dialkoxybenzene (1 to 4 carbon atoms of alkoxy group) and trialkoxybenzene (carbon number of alkoxy group) 1-4) etc. can be used. Among these solvents, polar organic solvents having a high dielectric constant such as N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, sulfolane, diphenylsulfone, and dimethylsulfoxide are particularly preferably used.

さらに、前記反応の際には、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、クロロベンゼン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールなどの水と共沸する溶媒をさらに用いることもできる。   Further, in the reaction, a solvent azeotropic with water such as benzene, toluene, xylene, hexane, cyclohexane, octane, chlorobenzene, dioxane, tetrahydrofuran, anisole and phenetole can be further used.

(A)成分と(B)成分の使用割合は、(A)成分と(B)成分との合計を100モル%とした場合に、(A)成分が好ましくは45モル%以上55モル%以下、より好ましくは50モル%以上52モル%以下、さらに好ましくは50モル%を超えて52モル%以下であり、(B)成分が好ましくは45モル%以上55モル%以下、より好ましくは48モル%以上50モル%以下であり、さらに好ましくは48モル%以上50モル%未満である。   The proportion of component (A) and component (B) used is preferably 45 mol% or more and 55 mol% or less when component (A) is 100 mol% in total of component (A) and component (B). More preferably, it is 50 mol% or more and 52 mol% or less, more preferably more than 50 mol% and 52 mol% or less, and the component (B) is preferably 45 mol% or more and 55 mol% or less, more preferably 48 mol%. % Or more and 50 mol% or less, more preferably 48 mol% or more and less than 50 mol%.

また、反応温度は、好ましくは60〜250℃、より好ましくは80〜200℃の範囲である。反応時間は、好ましくは15分〜100時間、より好ましくは1時間〜24時間の範囲である。   Moreover, reaction temperature becomes like this. Preferably it is 60-250 degreeC, More preferably, it is the range of 80-200 degreeC. The reaction time is preferably in the range of 15 minutes to 100 hours, more preferably 1 hour to 24 hours.

前記重合体(I)は、TOSOH製HLC−8220型GPC装置(カラム:TSKgelα―M、展開溶剤:テトラヒドロフラン(以下「THF」ともいう。))で測定した、ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)が、好ましくは5,000〜500,000、より好ましくは15,000〜400,000、さらに好ましくは30,000〜300,000である。   The polymer (I) is a polystyrene-reduced weight average molecular weight (Mw) measured by a TOSOH HLC-8220 GPC apparatus (column: TSKgel α-M, developing solvent: tetrahydrofuran (hereinafter also referred to as “THF”)). However, Preferably it is 5,000-500,000, More preferably, it is 15,000-400,000, More preferably, it is 30,000-300,000.

前記重合体(I)は、熱重量分析法(TGA)で測定した熱分解温度が、好ましくは450℃以上、より好ましくは475℃以上、さらに好ましくは490℃以上である。   The polymer (I) has a thermal decomposition temperature measured by thermogravimetric analysis (TGA) of preferably 450 ° C. or higher, more preferably 475 ° C. or higher, and further preferably 490 ° C. or higher.

前記発光素子形成用樹脂組成物としては、前記の方法(I')で得られた重合体(II)と有機溶媒との混合物をそのまま使用することができる。この場合、前記反応に使用された有機溶媒は特定溶媒である。
また、前記組成物は、前記の方法で得られた重合体(II)と有機溶媒との混合物から、重合体(II)を固体分として単離(精製)した後、特定溶媒に再溶解して調製することもできる。
As the resin composition for forming a light emitting element, a mixture of the polymer (II) obtained by the method (I ′) and an organic solvent can be used as it is. In this case, the organic solvent used for the reaction is a specific solvent.
The composition is prepared by isolating (purifying) the polymer (II) as a solid component from the mixture of the polymer (II) obtained by the above method and an organic solvent, and then re-dissolving it in a specific solvent. It can also be prepared.

前記重合体(II)を固体分として単離(精製)する方法は、例えば、メタノール等の重合体の貧溶媒に重合体を再沈殿させ、その後ろ過し、次いでろ物を減圧乾燥すること等により行うことができる。   The method of isolating (purifying) the polymer (II) as a solid component is, for example, reprecipitation of the polymer in a poor solvent of the polymer such as methanol, and then filtering, and then drying the filtrate under reduced pressure. Can be performed.

前記重合体(II)を再溶解させる特定溶媒としては、前記重合体(II)を容易に溶解するものが好適に選ばれる。例えば、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンおよびγ−ブチロラクトンが好適に用いられ、塗工性、経済性の観点から、好ましくは、塩化メチレン、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチルピロリドンが好適に使用される。これらの溶媒は、1種単独であるいは2種以上を併用することができる。   As the specific solvent for redissolving the polymer (II), a solvent that easily dissolves the polymer (II) is preferably selected. For example, methylene chloride, tetrahydrofuran, cyclohexanone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and γ-butyrolactone are preferably used, and from the viewpoint of coating properties and economy, Methylene chloride, cyclohexanone, N, N-dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone are preferably used. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

また、塗工時の乾燥性や均一性、表面平滑性などの向上を狙い、その他の特定溶媒、例えば、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、炭化水素系有機溶媒、アルコール系有機溶媒から選ばれる1種、あるいは2種以上の溶媒を適宜組み合わせて使用することができる。この場合、大気圧下(1,013hPa)での沸点が40〜250℃、さらには50〜150℃の範囲内にある有機溶媒が好適であり、重合体(II)を均一に溶解、分散させることのできる範囲で用いられることが好ましい。   In addition, other specific solvents such as ether organic solvents, ester organic solvents, ketone organic solvents, hydrocarbon organic solvents, alcohols, aiming to improve drying properties, uniformity and surface smoothness during coating. One kind selected from organic organic solvents, or two or more kinds of solvents can be used in appropriate combination. In this case, an organic solvent having a boiling point in the range of 40 to 250 ° C., more preferably 50 to 150 ° C. under atmospheric pressure (1,013 hPa) is preferable, and the polymer (II) is uniformly dissolved and dispersed. It is preferable to be used within the range where it can be used.

これらのその他の特定溶媒の好ましい例としては、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類;エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類;乳酸エチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチルなどのエステル類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルなどのジエチレングリコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトンなどのケトン類;γ−ブチロラクトンが挙げられる。   Preferred examples of these other specific solvents include glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether and propylene glycol monomethyl ether; ethylene glycol alkyl ether acetates such as ethyl cellosolve acetate, propylene glycol methyl ether acetate and propylene glycol ethyl ether acetate. Esters such as ethyl lactate and ethyl 2-hydroxypropionate; diethylene glycols such as diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol ethyl methyl ether; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, cyclohexanone and methyl amyl ketone Class: γ-butyrolactone It is.

なお、前記特定溶媒は、重合体(I)を含む発光素子形成用樹脂組成物にも好適に用いられる。   In addition, the said specific solvent is used suitably also for the resin composition for light emitting element formation containing polymer (I).

前記発光素子形成用樹脂組成物中の重合体(I)の濃度は、重合体の分子量にもよるが、通常、1〜40質量%、好ましくは5〜25質量%である。組成物中の重合体(I)の濃度が前記範囲にあると、厚膜化可能で、ピンホールが生じにくく、表面平滑性に優れる樹脂層を形成することができる。   The concentration of the polymer (I) in the resin composition for light emitting element formation is usually 1 to 40% by mass, preferably 5 to 25% by mass, although it depends on the molecular weight of the polymer. When the concentration of the polymer (I) in the composition is in the above range, it is possible to form a resin layer that can be thickened, hardly causes pinholes, and has excellent surface smoothness.

なお、前記発光素子形成用樹脂組成物の粘度は、重合体の分子量や濃度にもよるが、好ましくは50〜100,000mPa・s、より好ましくは500〜50,000mPa・s、さらに好ましくは1000〜20,000mPa・sである。組成物の粘度が前記範囲にあると、層形成中の組成物の滞留性に優れ、厚みの調整が容易であるため、樹脂層の成形が容易である。   The viscosity of the resin composition for forming a light emitting element is preferably 50 to 100,000 mPa · s, more preferably 500 to 50,000 mPa · s, and still more preferably 1000, although it depends on the molecular weight and concentration of the polymer. ˜20,000 mPa · s. When the viscosity of the composition is in the above range, the composition is easily retained during formation of the layer, and the thickness can be easily adjusted. Therefore, the resin layer can be easily molded.

また、前記発光素子形成用樹脂組成物にはさらに老化防止剤を含有させることができ、老化防止剤を含有することで、得られる樹脂層の耐久性をより向上させることができる。
老化防止剤としては、好ましくはヒンダードフェノール系化合物を挙げることができる。
Moreover, an anti-aging agent can be further contained in the resin composition for forming a light emitting element, and the durability of the resulting resin layer can be further improved by containing the anti-aging agent.
Preferred examples of the antiaging agent include hindered phenol compounds.

本発明で使用することのできるヒンダードフェノール系化合物としては、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロオネート]、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルアニリノ)−3,5−トリアジン、ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,1,3−トリス[2−メチル−4−[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]−5−tert−ブチルフェニル]ブタン、2,2−チオ−ジエチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)、N,N−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレイト、および、3,9−ビス[2−〔3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ〕−1,1−ジメチルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカンなどを挙げることができる。   Examples of hindered phenol compounds that can be used in the present invention include triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) proonate], 1,6-hexanediol- Bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-tert- Butylanilino) -3,5-triazine, pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,1,3-tris [2-methyl-4- [3- ( 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] -5-tert-butylphenyl] butane 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) Propionate), N, N-hexamethylenebis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide), 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5 -Di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tris- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -isocyanurate and 3,9-bis [2- [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] -1,1-dimethylethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro 5.5] undecane, and the like.

本発明において、老化防止剤は、前記重合体(I)100重量部に対して、0.01〜10重量部の量で使用することが好ましい。   In this invention, it is preferable to use an anti-aging agent in the quantity of 0.01-10 weight part with respect to 100 weight part of said polymers (I).

[金属酸化物粒子]
前記発光素子形成用樹脂組成物には、さらに高屈折率を有する樹脂層を得るために、高屈折率を有する金属酸化物粒子を配合することもできる。このような金属酸化物粒子は、25℃における波長400nmの光の屈折率が好ましくは1.55以上、より好ましくは1.60以上、特に好ましくは1.70以上の微粒子である。前記金属酸化物粒子としては、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化タンタル、酸化インジウム、酸化ハフニウム、酸化スズ、酸化ニオブおよびこれらの複合体などの金属酸化物粒子が挙げられる。中でも、酸化ジルコニウム(ZrO2)の微粒子が好ましい。
上記酸化チタンは、TiO2構造を有するものであれば特に限定されず、例えばアナターゼ型、ルチル型、ブルッカイト型などが挙げられる。
これらの金属酸化物粒子は、1種を単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。
[Metal oxide particles]
In order to obtain a resin layer having a higher refractive index, metal oxide particles having a higher refractive index can be blended with the resin composition for forming a light emitting element. Such metal oxide particles are fine particles having a refractive index of light having a wavelength of 400 nm at 25 ° C. of preferably 1.55 or more, more preferably 1.60 or more, and particularly preferably 1.70 or more. Examples of the metal oxide particles include metal oxide particles such as zirconium oxide, titanium oxide, zinc oxide, tantalum oxide, indium oxide, hafnium oxide, tin oxide, niobium oxide, and composites thereof. Among these, fine particles of zirconium oxide (ZrO 2 ) are preferable.
The titanium oxide is not particularly limited as long as it has a TiO 2 structure, and examples thereof include anatase type, rutile type and brookite type.
These metal oxide particles can be used alone or in combination of two or more.

前記金属酸化物粒子の数平均1次粒子径は、好ましくは1〜100nm、より好ましくは3〜70nm、特に好ましくは5〜50nmである。数平均1次粒子径が上記範囲内であると、透明性に優れた樹脂層を得ることができる。
前記金属酸化物粒子は、粉体状であってもよいし、溶媒分散ゾルであってもよい。溶媒分散ゾルには、溶媒として、例えば、2−ブタノール、メタノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、N−メチル−2−ピロリドン、プロピレングレコールモノメチルエーテルが含まれる。
The number average primary particle diameter of the metal oxide particles is preferably 1 to 100 nm, more preferably 3 to 70 nm, and particularly preferably 5 to 50 nm. When the number average primary particle diameter is within the above range, a resin layer having excellent transparency can be obtained.
The metal oxide particles may be in the form of a powder or a solvent-dispersed sol. The solvent-dispersed sol includes, for example, 2-butanol, methanol, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, N-methyl-2-pyrrolidone, and propylene glycol monomethyl ether as a solvent.

前記金属酸化物粒子の配合量は、得られる樹脂層の透明性を損なわない限り特に制限されないが、前記樹脂組成物中の重合体(I)の濃度や樹脂組成物の粘度が前記範囲となるような量であることが好ましく、具体的には、重合体(I)100質量部に対して0〜2,000、好ましくは10〜1,500質量部、より好ましくは30〜1,000質量部、さらに好ましくは50〜500質量部である。金属酸化物粒子の配合量が前記範囲にあると、透明性やクラック耐性等を維持したまま樹脂層の屈折率所望の値に調整することができる。
なお、用いる金属酸化物粒子が溶媒分散ゾルである場合、前記金属酸化物粒子の配合量は、溶媒を含まない質量を意味し、該ゾルに含まれる溶媒の量は、前記特定溶媒の量としてカウントする。
The blending amount of the metal oxide particles is not particularly limited as long as the transparency of the resulting resin layer is not impaired, but the concentration of the polymer (I) in the resin composition and the viscosity of the resin composition are within the above ranges. The amount is preferably such that specifically, 0 to 2,000, preferably 10 to 1,500 parts by mass, and more preferably 30 to 1,000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer (I). Part, more preferably 50 to 500 parts by mass. When the blending amount of the metal oxide particles is in the above range, the refractive index of the resin layer can be adjusted to a desired value while maintaining transparency and crack resistance.
When the metal oxide particles to be used are a solvent-dispersed sol, the compounding amount of the metal oxide particles means a mass not including a solvent, and the amount of the solvent contained in the sol is the amount of the specific solvent. Count.

前記発光素子形成用樹脂組成物に前記金属酸化物粒子を配合する場合、該組成物中の体積平均粒径は、好ましくは1〜400nm、より好ましくは3〜200nm、さらに好ましくは5〜100nm、特に好ましくは5〜50nmである。体積平均粒径が上記範囲内であると、透明性に優れた樹脂層を得ることができる。   When the metal oxide particles are blended in the light emitting element forming resin composition, the volume average particle size in the composition is preferably 1 to 400 nm, more preferably 3 to 200 nm, and still more preferably 5 to 100 nm. Most preferably, it is 5-50 nm. When the volume average particle size is within the above range, a resin layer having excellent transparency can be obtained.

[分散剤]
前記発光素子形成用樹脂組成物は、前記金属酸化物粒子を配合する場合、金属酸化物粒子の分散性を向上させるために、各種の分散剤を含むことが好ましい。
前記分散剤としては、例えば、アルミニウム化合物を用いることができる。アルミニウム化合物の例としては、アルミニウムアルコキシド、アルミニウムβ−ジケトナート錯体などを挙げることができる。具体的には、トリエトキシアルミニウム、トリ(n−プロポキシ)アルミニウム、トリ(i−プロポキシ)アルミニウム、トリ(n−ブトキシ)アルミニウム、トリ(sec−ブトキシ)アルミニウムなどのアルコキシド化合物、アルミニウムトリス(メチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、トリス(アセトアセトナト)アルミニウム、アルミニウムモノアセチルアセトナトビス(メチルアセテート)、アルミニウムモノアセチルアセトナトビス(エチルアセテート)などのβ−ジケトナート錯体などを挙げることができる。
[Dispersant]
When the said metal oxide particle is mix | blended, it is preferable that the said resin composition for light emitting element formation contains various dispersing agents, in order to improve the dispersibility of a metal oxide particle.
As the dispersant, for example, an aluminum compound can be used. Examples of the aluminum compound include aluminum alkoxide and aluminum β-diketonate complex. Specifically, alkoxide compounds such as triethoxyaluminum, tri (n-propoxy) aluminum, tri (i-propoxy) aluminum, tri (n-butoxy) aluminum, tri (sec-butoxy) aluminum, aluminum tris (methylacetate) Acetate), aluminum tris (ethyl acetoacetate), tris (acetoacetonato) aluminum, aluminum monoacetylacetonatobis (methyl acetate), aluminum monoacetylacetonatobis (ethyl acetate) and other β-diketonate complexes .

アルミニウム化合物の市販品としては、AIPD、PADM、AMD、ASBD、アルミニウムエトキサイド、ALCH、ALCH−50F、ALCH−75、ALCH−TR、ALCH−TR−20、アルミキレートM、アルミキレートD、アルミキレートA(W)、表面処理剤OL−1000、アルゴマー、アルゴマー800AF、アルゴマー1000SF(以上、川研ファインケミカル社製)などが挙げられる。   Commercial products of aluminum compounds include AIPD, PADM, AMD, ASBD, aluminum ethoxide, ALCH, ALCH-50F, ALCH-75, ALCH-TR, ALCH-TR-20, aluminum chelate M, aluminum chelate D, aluminum chelate A (W), surface treatment agent OL-1000, algomer, algomer 800AF, algomer 1000SF (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) and the like.

前記分散剤としては、ノニオン型分散剤を用いることもできる。ノニオン型分散剤を用いることによって、金属酸化物粒子の分散性を高めることができる。前記ノニオン型分散剤の好ましい例は、ポリオキシエチレンアルキル構造を有するリン酸エステル系ノニオン型分散剤である。
前記分散剤の配合量は、本発明の効果を損なわない限り特に限定されないが、分散剤を含む場合には、前記特定溶媒を除く組成物の成分全量100質量%に対して、例えば0.1〜5質量%である。
A nonionic dispersant can also be used as the dispersant. By using a nonionic dispersant, the dispersibility of the metal oxide particles can be enhanced. A preferred example of the nonionic dispersant is a phosphoric ester nonionic dispersant having a polyoxyethylene alkyl structure.
The blending amount of the dispersant is not particularly limited as long as the effects of the present invention are not impaired. However, when the dispersant is included, for example, 0.1% with respect to 100% by mass of the total component of the composition excluding the specific solvent. ˜5 mass%.

[分散助剤]
前記発光素子形成用組成物は、金属酸化物粒子の分散性を高めるために、さらに分散助剤を含むことが好ましい。分散助剤としては、アセチルアセトン、N,N−ジメチルアセトアセトアミドなどから選択される1種以上を好適に使用することができる。
前記分散助剤の配合量は、本発明の効果を損なわない限り特に限定されないが、分散助剤を含む場合には、特定溶媒を除く組成物の成分全量100質量%に対して、例えば0.1〜5質量%である。
[Dispersion aid]
The composition for forming a light emitting element preferably further contains a dispersion aid in order to enhance the dispersibility of the metal oxide particles. As the dispersion aid, one or more selected from acetylacetone, N, N-dimethylacetoacetamide and the like can be suitably used.
The blending amount of the dispersion aid is not particularly limited as long as the effects of the present invention are not impaired. However, when the dispersion aid is included, the amount of the dispersion aid is, for example, 0. 1 to 5% by mass.

[界面活性剤]
前記発光素子形成用樹脂組成物には、金属酸化物粒子を配合する場合、均一な厚さを有する樹脂層を得る観点から、界面活性剤を配合することが好ましい。前記界面活性剤としては、シリコーン系の界面活性剤、フッ素系の界面活性剤などが挙げられる。中でも、シリコーン系の界面活性剤が好ましい。
[Surfactant]
When the metal oxide particles are blended in the light emitting element forming resin composition, it is preferable to blend a surfactant from the viewpoint of obtaining a resin layer having a uniform thickness. Examples of the surfactant include a silicone-based surfactant and a fluorine-based surfactant. Of these, silicone surfactants are preferred.

シリコーン系の界面活性剤の例としては、例えば、SH28PA(東レダウコーニング社製、ジメチルポリシロキサンポリオキシアルキレン共重合体)、ペインタッド19、ペインタッド54(東レダウコーニング社製、ジメチルポリシロキサンポリオキシアルキレン共重合体)、FM0411(サイラプレーン、チッソ社製)、SF8428(東レダウコーニング社製、ジメチルポリシロキサンポリオキシアルキレン共重合体(側鎖にOH基含有))、BYKUV3510(ビックケミー・ジャパン社製、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体)、DC57(東レ・ダウコーニング・シリコーン社製、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体)、DC190(東レ・ダウコーニング・シリコーン社製、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体)、サイラプレーンFM−4411、FM−4421、FM−4425、FM−7711、FM−7721、FM−7725、FM−0411、FM−0421、FM−0425、FM−DA11、FM−DA21、FM−DA26、FM0711、FM0721、FM−0725、TM−0701、TM−0701T(チッソ社製)、UV3500、UV3510、UV3530(ビックケミー・ジャパン社製)、BY16−004、SF8428(東レ・ダウコーニング・シリコーン社製)、VPS−1001(和光純薬製)などが挙げられる。特に好ましい例としては、サイラプレーンFM−7711、FM−7721、FM−7725、FM−0411、FM−0421、FM−0425、FM0711、FM0721、FM−0725、VPS−1001などが挙げられる。また、エチレン性不飽和基を有するシリコーン化合物の市販品としては、例えば、TegoRad2300、2200N(テゴ・ケミー社製)などが挙げられる。   Examples of silicone surfactants include, for example, SH28PA (Toray Dow Corning, dimethylpolysiloxane polyoxyalkylene copolymer), Paintad 19, Paintad 54 (Toray Dow Corning, dimethylpolysiloxane polyoxyalkylene). Copolymer), FM0411 (Silaplane, manufactured by Chisso), SF8428 (manufactured by Toray Dow Corning, dimethylpolysiloxane polyoxyalkylene copolymer (containing OH group in side chain)), BYKUV3510 (manufactured by BYK Chemie Japan, Dimethylpolysiloxane-polyoxyalkylene copolymer), DC57 (manufactured by Toray Dow Corning Silicone, dimethylpolysiloxane-polyoxyalkylene copolymer), DC190 (manufactured by Toray Dow Corning Silicone, Methylpolysiloxane-polyoxyalkylene copolymer), Silaplane FM-4411, FM-4421, FM-4425, FM-7711, FM-7721, FM-7725, FM-0411, FM-0421, FM-0425, FM-DA11, FM-DA21, FM-DA26, FM0711, FM0721, FM-0725, TM-0701, TM-0701T (manufactured by Chisso), UV3500, UV3510, UV3530 (manufactured by Big Chemie Japan), BY16-004, SF8428 (made by Toray Dow Corning Silicone), VPS-1001 (made by Wako Pure Chemical Industries), etc. are mentioned. Particularly preferred examples include Silaplane FM-7711, FM-7721, FM-7725, FM-0411, FM-0421, FM-0425, FM0711, FM0721, FM-0725, VPS-1001, and the like. Moreover, as a commercial item of the silicone compound which has an ethylenically unsaturated group, TegoRad2300, 2200N (made by Tego Chemie) etc. are mentioned, for example.

フッ素系の界面活性剤の例として、例えば、メガファックF−114、F410、F411、F450、F493、F494、F443、F444、F445、F446、F470、F471、F472SF、F474、F475、R30、F477、F478、F479、F480SF、F482、F483、F484、F486、F487、F172D、F178K、F178RM、ESM−1、MCF350SF、BL20、R08、R61、R90(DIC社製)が挙げられる。   Examples of the fluorosurfactant include, for example, MegaFuck F-114, F410, F411, F450, F493, F494, F443, F444, F445, F446, F470, F471, F472SF, F474, F475, R30, F477, F478, F479, F480SF, F482, F483, F484, F486, F487, F172D, F178K, F178RM, ESM-1, MCF350SF, BL20, R08, R61, R90 (manufactured by DIC) can be mentioned.

前記界面活性剤の配合割合は、特定溶媒を除く組成物の成分全量100質量%に対して、好ましくは0〜10質量%、より好ましくは0.1〜5質量%、特に好ましくは0.5〜3質量%である。界面活性剤の配合量が特定溶媒を除く組成物の成分全量100質量%に対して10質量%を超えると、得られる樹脂層の屈折率が低下するおそれがある。   The blending ratio of the surfactant is preferably 0 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass, and particularly preferably 0.5% with respect to 100% by mass of the total amount of components of the composition excluding the specific solvent. ˜3 mass%. When the compounding amount of the surfactant exceeds 10% by mass with respect to 100% by mass of the total component of the composition excluding the specific solvent, the refractive index of the resulting resin layer may be lowered.

[その他の添加剤]
前記発光素子形成用樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲内で、上記以外の各種の添加剤を含むことができる。このような添加剤としては、例えば、上記成分以外の硬化性化合物、紫外線吸収剤などが挙げられる。
[Other additives]
The said resin composition for light emitting element formation can contain various additives other than the above in the range which does not impair the effect of this invention. Examples of such additives include curable compounds other than the above components and ultraviolet absorbers.

[発光素子形成用樹脂組成物の製造方法]
前記発光素子形成用樹脂組成物は、前記重合体(I)および必要に応じて配合される他の任意成分を混合することによって調製される。通常、重合体(I)、特定溶媒および任意で添加されるその他の成分を、所定の割合で混合することによって調製することができる。
[Method for Producing Light-Emitting Element Forming Resin Composition]
The resin composition for forming a light emitting element is prepared by mixing the polymer (I) and other optional components blended as necessary. Usually, it can be prepared by mixing the polymer (I), a specific solvent, and other components optionally added in a predetermined ratio.

<樹脂層>
本発明の発光素子を形成する樹脂層の製造方法としては、特に制限されないが、前記発光素子形成用樹脂組成物を第2電極17等に直接塗布して塗膜を形成し、次いで必要に応じて該塗膜から特定溶媒を除去する方法、発光素子形成用樹脂組成物をポリエチレンテレフタラート(PET)等からなる支持体上に塗布して塗膜を形成し、次いで該塗膜を支持体から剥離し、第2電極17上等に積層する方法などが挙げられる。
<Resin layer>
The method for producing the resin layer for forming the light emitting device of the present invention is not particularly limited, and the resin composition for forming a light emitting device is directly applied to the second electrode 17 or the like to form a coating film, and then as necessary. The method of removing the specific solvent from the coating film, the resin composition for forming a light emitting element is applied on a support made of polyethylene terephthalate (PET) or the like to form a coating film, and then the coating film is removed from the support. Examples include a method of peeling and laminating on the second electrode 17 or the like.

前記樹脂層は、重合体(I)、好ましくは重合体(II)を含むため、屈折率が高い。このため、例えば第2電極17として、ITOからなる電極(屈折率約2.12)を用いる場合、第2電極17、樹脂層18および空気の屈折率はこの順で小さくなる。また、第2電極17と樹脂層18との屈折率の差、樹脂層18と空気との屈折率の差は小さい。このため、高い光の取り出し効率を有する発光素子が得られる。   Since the resin layer contains the polymer (I), preferably the polymer (II), the refractive index is high. For this reason, for example, when an electrode made of ITO (refractive index of about 2.12) is used as the second electrode 17, the refractive index of the second electrode 17, the resin layer 18, and air decreases in this order. Further, the difference in refractive index between the second electrode 17 and the resin layer 18 and the difference in refractive index between the resin layer 18 and air are small. For this reason, a light emitting element having high light extraction efficiency can be obtained.

前記樹脂組成物を塗布して塗膜を形成する方法としては、ロールコート法、グラビアコート法、スピンコート法、スリットコート法およびドクターブレードを用いる方法等が挙げられる。   Examples of the method for forming the coating film by applying the resin composition include a roll coating method, a gravure coating method, a spin coating method, a slit coating method, and a method using a doctor blade.

前記樹脂組成物を塗布して塗膜を形成する時の厚さは、特に限定されないが、例えば1〜250μmであり、好ましくは2〜150μmであり、より好ましくは5〜125μmである。   Although the thickness when apply | coating the said resin composition and forming a coating film is not specifically limited, For example, it is 1-250 micrometers, Preferably it is 2-150 micrometers, More preferably, it is 5-125 micrometers.

また、塗膜から前記特定溶媒を除去する方法としては、特に制限されないが、例えば、塗膜を加熱する方法が挙げられる。塗膜を加熱することにより、該塗膜中の有機溶媒を蒸発させて除去することができる。前記加熱の条件は、有機溶媒が蒸発すればよく、熱変形や熱による各種材料の変性等が発生しないよう適宜決めればよいが、例えば加熱温度は30℃〜300℃であることが好ましく、40℃〜250℃であることがより好ましく、50℃〜230℃であることがさらに好ましい。   Further, the method for removing the specific solvent from the coating film is not particularly limited, and examples thereof include a method of heating the coating film. By heating the coating film, the organic solvent in the coating film can be evaporated and removed. The heating conditions may be determined as appropriate so long as the organic solvent evaporates, and thermal deformation or modification of various materials due to heat does not occur. For example, the heating temperature is preferably 30 ° C to 300 ° C. It is more preferable that the temperature is from 250C to 250C, and it is more preferable that the temperature is from 50C to 230C.

また、加熱時間としては、10分〜5時間であることが好ましい。なお、加熱は二段階以上で行ってもよい。具体的には、30〜80℃の温度で10分〜2時間乾燥後、100℃〜250℃でさらに10分〜2時間加熱するなどである。また、必要に応じて、窒素雰囲気下もしくは減圧下にて乾燥を行ってもよい。   Further, the heating time is preferably 10 minutes to 5 hours. Note that heating may be performed in two or more stages. Specifically, after drying at a temperature of 30 to 80 ° C. for 10 minutes to 2 hours, heating is further performed at 100 to 250 ° C. for 10 minutes to 2 hours. Moreover, you may dry in nitrogen atmosphere or pressure reduction as needed.

前記樹脂層の厚みは、所望の用途に応じて適宜選択されるが、好ましくは20nm〜100μm、より好ましくは80nm〜50μmである。   The thickness of the resin layer is appropriately selected according to the desired application, but is preferably 20 nm to 100 μm, more preferably 80 nm to 50 μm.

また、前記樹脂層は、Rigaku社製8230型DSC測定装置(昇温速度20℃/分)によるガラス転移温度(Tg)が、230〜350℃であることが好ましく、240〜330℃であることがより好ましく、250〜300℃であることがさらに好ましい。
前記樹脂層が、このようなガラス転移温度を有すると、該層上に電極等を形成する際の加熱や熱処理を高温で行うことができるため、低抵抗で高透過率となり、光の取り出し効率および耐久性に優れた発光素子を容易に製造することができる。
Further, the resin layer preferably has a glass transition temperature (Tg) of 230-350 ° C., preferably 240-330 ° C., measured by Rigaku 8230 DSC measuring device (temperature rising rate 20 ° C./min). Is more preferable, and it is more preferable that it is 250-300 degreeC.
When the resin layer has such a glass transition temperature, heating and heat treatment when forming an electrode or the like on the layer can be performed at a high temperature, so that it has low resistance and high transmittance, and light extraction efficiency. In addition, a light-emitting element having excellent durability can be easily manufactured.

前記樹脂層は、引張強度が、50〜200MPaであることが好ましく、80〜150MPaであることがより好ましい。引張強度は、引張試験機5543(INSTRON社製)を用いて測定することができる。   The resin layer preferably has a tensile strength of 50 to 200 MPa, and more preferably 80 to 150 MPa. The tensile strength can be measured using a tensile tester 5543 (manufactured by INSTRON).

前記樹脂層は、破断伸びが、5〜100%であることが好ましく、15〜100%であることがより好ましい。破断伸びは、引張試験機5543(INSTRON社製)を用いて測定することができる。   The resin layer preferably has an elongation at break of 5 to 100%, more preferably 15 to 100%. The elongation at break can be measured using a tensile tester 5543 (manufactured by INSTRON).

前記樹脂層は、引張弾性率が、2.5〜4.0GPaであることが好ましく、2.7〜3.7GPaであることがより好ましい。引張弾性率は、引張試験機5543(INSTRON社製)を用いて測定することができる。   The resin layer preferably has a tensile modulus of 2.5 to 4.0 GPa, and more preferably 2.7 to 3.7 GPa. The tensile elastic modulus can be measured using a tensile tester 5543 (manufactured by INSTRON).

前記樹脂層は、Seiko Instruments社製SSC−5200型TMA測定装置を用いて測定した線膨張係数が、好ましくは80ppm/K以下、より好ましくは75ppm/K以下である。   The resin layer preferably has a linear expansion coefficient of 80 ppm / K or less, more preferably 75 ppm / K or less, measured using an SSC-5200 type TMA measuring device manufactured by Seiko Instruments.

前記樹脂層は、湿度膨張係数が、15ppm/%RH以下であることが好ましく、12ppm/%RH以下であることがより好ましい。湿度膨張係数は、MA(SIIナノテクノロジー社製、TMA−SS6100)湿度制御オプションを用いて測定することができる。樹脂層の膨張係数が前記範囲にあると、寸法安定性(環境信頼性)が高いことを示すため、発光素子により好適に用いることができる。   The resin layer preferably has a humidity expansion coefficient of 15 ppm /% RH or less, and more preferably 12 ppm /% RH or less. The humidity expansion coefficient can be measured using MA (SII Nanotechnology, TMA-SS6100) humidity control option. When the expansion coefficient of the resin layer is within the above range, it indicates that the dimensional stability (environmental reliability) is high, and thus it can be suitably used for a light emitting element.

前記樹脂層は、比誘電率が2.0〜4.0であることが好ましく、2.3〜3.5であることがより好ましく、2.5〜3.2であることがさらに好ましい。比誘電率は、HP(株)製の4284A型LCRメーターを用いて測定することができる。比誘電率が前記範囲にあると、前記樹脂層を含む発光素子は、安定した発光状態を示す傾向が高い。   The resin layer preferably has a relative dielectric constant of 2.0 to 4.0, more preferably 2.3 to 3.5, and still more preferably 2.5 to 3.2. The relative dielectric constant can be measured using a 4284A type LCR meter manufactured by HP. When the relative dielectric constant is in the above range, the light emitting element including the resin layer tends to exhibit a stable light emitting state.

前記樹脂層は、厚みが30μmである場合に、JIS K7105透明度試験法における全光線透過率が、85%以上であることが好ましく、88%以上であることがより好ましい。全光線透過率は高いほど好ましいが、95%以下、さらに限定すれば90%以下であっても十分な光取り出し効率が得られる。全光線透過率は、ヘイズメーターSC−3H(スガ試験機社製)を用いて測定することができる。   When the thickness of the resin layer is 30 μm, the total light transmittance in the JIS K7105 transparency test method is preferably 85% or more, and more preferably 88% or more. Higher total light transmittance is preferable, but sufficient light extraction efficiency can be obtained even if it is 95% or less, and more specifically 90% or less. The total light transmittance can be measured using a haze meter SC-3H (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.).

前記樹脂層は、厚みが30μmである場合に、波長400nmにおける光線透過率が、好ましくは70%以上であり、より好ましくは75%以上であり、さらに好ましくは80%以上である。波長400nmにおける光線透過率は、紫外・可視分光光度計V−570(JASCO社製)を用いて測定することができる。   When the thickness of the resin layer is 30 μm, the light transmittance at a wavelength of 400 nm is preferably 70% or more, more preferably 75% or more, and further preferably 80% or more. The light transmittance at a wavelength of 400 nm can be measured using an ultraviolet / visible spectrophotometer V-570 (manufactured by JASCO).

前記樹脂層は、厚みが30μmである場合に、YI値(イエローインデックス)が、3.0以下であることが好ましく、2.5以下であることがより好ましく、2.0以下であることがさらに好ましい。YI値は、スガ試験機社製SM−T型色彩測定器を用いて測定することができる。   When the thickness of the resin layer is 30 μm, the YI value (yellow index) is preferably 3.0 or less, more preferably 2.5 or less, and 2.0 or less. Further preferred. The YI value can be measured using an SM-T color measuring device manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.

前記樹脂層は、厚みが30μmである場合に、熱風乾燥機にて大気中230℃で1時間の加熱を行った後のYI値が3.0以下であることが好ましく、2.5以下であることがより好ましく、2.0以下であることがさらに好ましい。   When the resin layer has a thickness of 30 μm, the YI value after heating for 1 hour at 230 ° C. in the air with a hot air dryer is preferably 3.0 or less, and 2.5 or less. More preferably, it is 2.0 or less.

前記樹脂層の波長633nmの光に対する屈折率は、好ましくは1.60以上、さらに好ましくは1.65以上、特に好ましくは1.70以上である。前記樹脂層の屈折率が1.60以上であると、得られる発光素子の光の取り出し効率が高くなる。屈折率は、プリズムカプラ モデル2010(Metricon社製)を用いて測定することができる。   The refractive index of the resin layer with respect to light having a wavelength of 633 nm is preferably 1.60 or more, more preferably 1.65 or more, and particularly preferably 1.70 or more. When the refractive index of the resin layer is 1.60 or more, the light extraction efficiency of the obtained light-emitting element is increased. The refractive index can be measured using a prism coupler model 2010 (manufactured by Metricon).

本発明の発光素子は、樹脂層18を備えているので、発光層15で生じた光が第2電極17を通過して空気中に進入する時に、光の屈折によって、発光素子の外部に取り出される効率を高めることができる。   Since the light-emitting element of the present invention includes the resin layer 18, when light generated in the light-emitting layer 15 passes through the second electrode 17 and enters the air, it is extracted outside the light-emitting element due to light refraction. Efficiency can be increased.

図1中、樹脂層18は、第2電極17の一面に接触して形成されたものとして図示されているが、樹脂層18と第2電極17の間には、必要によって多様な層がさらに設けられていてもよく、基板11の第1電極13が形成された側とは反対側、基板11と第1電極13との間、第1電極13と発光層15との間、発光層15と第2電極17との間、樹脂層18の第2電極17が形成された側とは反対側にも、必要に応じて多様な層が設けられていてもよい。また、図1には図示されていないが、樹脂層18の上部には、発光素子10の密封のための公知の密封層がさらに設けられてもよく、多様な変形例が可能である。   In FIG. 1, the resin layer 18 is illustrated as being formed in contact with one surface of the second electrode 17, but various layers are further provided between the resin layer 18 and the second electrode 17 as necessary. The side of the substrate 11 opposite to the side where the first electrode 13 is formed, between the substrate 11 and the first electrode 13, between the first electrode 13 and the light emitting layer 15, and between the light emitting layer 15 Various layers may be provided between the first electrode 17 and the second electrode 17 on the opposite side of the resin layer 18 from the side where the second electrode 17 is formed, as necessary. Although not illustrated in FIG. 1, a known sealing layer for sealing the light emitting element 10 may be further provided on the resin layer 18, and various modifications are possible.

図2は、本発明の発光素子の実施形態例2である発光素子20を示す。
発光素子20は、基板21、樹脂層28、第1電極23、発光層25および第2電極27このが順に積層された構造を有する。つまり、樹脂層28は、第1電極23の、発光層が設けられた面とは反対側の面に設けられる。第1電極23は透過型電極であることが好ましく、この場合、発光層25で生じた光は、第1電極23、樹脂層28および基板21を通過して、発光素子20の外部に取り出されうる。発光素子20を構成する各層についての詳細な説明および発光素子の変形例は、前述と同様である。なお、発光素子20の光の取り出し効率を考慮すると前記基板21としては、屈折率が樹脂層28より小さい透明プラスチック基板であることが好ましい。樹脂層28は高い屈折率を有し、発光層25で生じた光は、光の屈折によって効果的に外部に取り出されうるので、光の取り出し効率の高い発光素子となる。
FIG. 2 shows a light emitting device 20 which is a second embodiment of the light emitting device of the present invention.
The light emitting element 20 has a structure in which a substrate 21, a resin layer 28, a first electrode 23, a light emitting layer 25, and a second electrode 27 are laminated in this order. That is, the resin layer 28 is provided on the surface of the first electrode 23 opposite to the surface on which the light emitting layer is provided. The first electrode 23 is preferably a transmissive electrode. In this case, light generated in the light emitting layer 25 passes through the first electrode 23, the resin layer 28, and the substrate 21 and is extracted outside the light emitting element 20. sell. The detailed description of each layer constituting the light emitting element 20 and the modification of the light emitting element are the same as described above. In consideration of the light extraction efficiency of the light emitting element 20, the substrate 21 is preferably a transparent plastic substrate having a refractive index smaller than that of the resin layer 28. The resin layer 28 has a high refractive index, and light generated in the light emitting layer 25 can be effectively extracted to the outside by light refraction, so that a light emitting element with high light extraction efficiency is obtained.

図3は、本発明の発光素子の実施形態例3である発光素子30を示す。
発光素子30は、基板31、樹脂層38、第1電極33、発光層35、第2電極37および樹脂層39がこの順に積層された構造を有する。つまり、樹脂層38は、第1電極33の、発光層が設けられた面とは反対側の面に設けられており、樹脂層39は、第2電極37の、発光層が設けられた面とは反対側の面に設けられる。第1電極33および第2電極37は透過型電極であることが好ましく、この場合、発光層35で生じた光は、第1電極33および第2電極37を通過した後、それぞれ、樹脂層38および樹脂層39を通過して、発光素子30の外部に取り出されうる。発光素子30を構成する各層についての詳細な説明および発光素子の変形例は、前述と同様である。なお、発光素子30の光の取り出し効率を考慮すると前記基板31としては、屈折率が樹脂層38より小さい透明プラスチック基板であることが好ましい。樹脂層38および樹脂層39は高い屈折率を有し、発光層35で生じた光は、光の屈折によって効果的に外部に取り出されうるので、光の取り出し効率の高い発光素子となる。
FIG. 3 shows a light emitting device 30 which is Embodiment 3 of the light emitting device of the present invention.
The light emitting element 30 has a structure in which a substrate 31, a resin layer 38, a first electrode 33, a light emitting layer 35, a second electrode 37, and a resin layer 39 are laminated in this order. That is, the resin layer 38 is provided on the surface of the first electrode 33 opposite to the surface on which the light emitting layer is provided, and the resin layer 39 is the surface of the second electrode 37 on which the light emitting layer is provided. It is provided on the opposite surface. The first electrode 33 and the second electrode 37 are preferably transmissive electrodes. In this case, the light generated in the light emitting layer 35 passes through the first electrode 33 and the second electrode 37, and then the resin layer 38, respectively. In addition, the light passes through the resin layer 39 and can be taken out of the light emitting element 30. The detailed description of each layer constituting the light emitting element 30 and the modification of the light emitting element are the same as described above. In consideration of the light extraction efficiency of the light emitting element 30, the substrate 31 is preferably a transparent plastic substrate having a refractive index smaller than that of the resin layer 38. The resin layer 38 and the resin layer 39 have a high refractive index, and light generated in the light emitting layer 35 can be effectively extracted to the outside by light refraction, so that a light emitting element with high light extraction efficiency is obtained.

以下、本発明を実施例によってさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
(1)構造分析
下記実施例および比較例で得られた重合体の構造分析は、IR(ATR法、FT−IR,6700(NICOLET社製))およびNMR(ADVANCE500型,BRUKAR社製)により行った。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
(1) Structural analysis The structural analysis of the polymers obtained in the following examples and comparative examples was performed by IR (ATR method, FT-IR, 6700 (manufactured by NICOLET)) and NMR (ADVANCE500 type, manufactured by BRUKAAR). It was.

(2)重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mw)および分子量分布(Mw/Mn)
下記実施例および比較例で得られた重合体の重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mw)および分子量分布(Mw/Mn)は、TOSOH製HLC−8220型GPC装置(カラム:TSKgelα―M、展開溶剤:THF)を用いて測定した。
(2) Weight average molecular weight (Mw), number average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn)
The weight average molecular weight (Mw), number average molecular weight (Mw), and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the polymers obtained in the following Examples and Comparative Examples were measured by a TLCOH HLC-8220 GPC apparatus (column: TSKgelα-M). , Developing solvent: THF).

(3)ガラス転移温度(Tg)
下記実施例および比較例で得られた重合体または評価用樹脂層のガラス転移温度は、Rigaku社製8230型DSC測定装置を用いて、昇温速度20℃/minとして測定した。
(3) Glass transition temperature (Tg)
The glass transition temperature of the polymer obtained in the following Examples and Comparative Examples or the resin layer for evaluation was measured using a Rigaku 8230 type DSC measuring apparatus at a heating rate of 20 ° C./min.

(3')熱分解温度
下記実施例および比較例で得られた重合体の熱分解温度を熱重量分析法(TGA:窒素雰囲気下、昇温速度10℃/分、5%重量減少温度)により測定した。
(3 ') Thermal decomposition temperature The thermal decomposition temperature of the polymers obtained in the following examples and comparative examples was determined by thermogravimetric analysis (TGA: temperature increase rate of 10 ° C / min under nitrogen atmosphere, 5% weight loss temperature). It was measured.

(4)機械的強度
下記実施例および比較例で得られた評価用樹脂層の室温における引張強度、破断伸び、引張弾性率を、引張試験機5543(INSTRON社製)を用いて、JIS K7127に準じて測定した。
(4) Mechanical strength The tensile strength, breaking elongation, and tensile elastic modulus at room temperature of the evaluation resin layers obtained in the following examples and comparative examples were measured with JIS K7127 using a tensile tester 5543 (manufactured by INSTRON). Measured accordingly.

(5)環境安定性
下記実施例および比較例で得られた評価用樹脂層の線膨張係数をSeiko Instruments社製SSC−5200型TMA測定装置を用いて測定した。得られた評価用樹脂層を一度Tgマイナス20℃まで昇温した後、3℃/minで降温した際の200〜100℃でのTMA曲線の勾配から線膨張係数を算出した。
下記実施例および比較例で得られた評価用樹脂層の湿度膨張係数をMA(SIIナノテクノロジー社製、TMA−SS6100)湿度制御オプションを用いて下記条件にて測定した。
湿度条件:40%RHから70%RHに加湿した(引張法:加重5g) 温度:23℃
(5) Environmental stability The linear expansion coefficient of the resin layer for evaluation obtained in the following examples and comparative examples was measured using an SSC-5200 type TMA measuring apparatus manufactured by Seiko Instruments. After the temperature of the obtained evaluation resin layer was raised to Tg minus 20 ° C. once, the linear expansion coefficient was calculated from the gradient of the TMA curve at 200 to 100 ° C. when the temperature was lowered at 3 ° C./min.
The humidity expansion coefficient of the evaluation resin layers obtained in the following examples and comparative examples was measured under the following conditions using MA (SII Nanotechnology, TMA-SS6100) humidity control option.
Humidity condition: humidified from 40% RH to 70% RH (tensile method: weight 5 g) Temperature: 23 ° C.

(6)比誘電率
HP(株)製の4284A型LCRメーターを用い、下記実施例および比較例で得られた評価用樹脂層の比誘電率を測定した。なお、測定条件は、以下のとおりである。周波数:100MHz、雰囲気:大気下室温、電極:直径5mmのアルミが蒸着された電極(ガード電極付き)
(6) Relative permittivity Using a 4284A type LCR meter manufactured by HP, the relative permittivity of the evaluation resin layers obtained in the following examples and comparative examples was measured. Measurement conditions are as follows. Frequency: 100 MHz, atmosphere: room temperature in the atmosphere, electrode: electrode on which aluminum with a diameter of 5 mm is deposited (with guard electrode)

(7)吸水性
下記実施例および比較例で得られた評価用樹脂層を、3cm×4cmの大きさに3枚切り出し、減圧乾燥下180℃で8時間乾燥させた。乾燥後の樹脂層の質量を測定した後、蒸留水に25℃で24時間浸漬させた。浸漬後樹脂層表面の水滴をふき取り、浸漬前後の質量変化から吸水率を算出し、3枚の平均値を算出した。
(7) Water Absorption Three evaluation resin layers obtained in the following Examples and Comparative Examples were cut out to a size of 3 cm × 4 cm and dried at 180 ° C. under reduced pressure for 8 hours. After measuring the mass of the resin layer after drying, it was immersed in distilled water at 25 ° C. for 24 hours. After immersion, water droplets on the surface of the resin layer were wiped off, the water absorption was calculated from the mass change before and after immersion, and the average value of the three sheets was calculated.

(8)光学特性
下記実施例および比較例で得られた評価用樹脂層について、全光線透過率およびイエローインデックス(YI値)をJIS K7105透明度試験法に準じて測定した。具体的には、全光線透過率を、スガ試験機社製ヘイズメーターSC−3Hを用いて測定し、YI値を、スガ試験機社製SM−T型色彩測定器を用いて測定した(加熱前YI)。
また、下記実施例および比較例で得られた評価用樹脂層を熱風乾燥機にて大気中230℃で1時間の加熱を行った後、YI値をスガ試験機社製SM−T型色彩測定器を用いて測定した(加熱後YI)。なお、測定は、JIS K7105条件に準じて行った。
(8) Optical properties With respect to the resin layers for evaluation obtained in the following examples and comparative examples, the total light transmittance and the yellow index (YI value) were measured according to the JIS K7105 transparency test method. Specifically, the total light transmittance was measured using a haze meter SC-3H manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., and the YI value was measured using a SM-T color meter manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. (heating) Previous YI).
In addition, after the evaluation resin layers obtained in the following Examples and Comparative Examples were heated in the air at 230 ° C. for 1 hour in a hot air dryer, the YI value was measured by SM-T type color measurement manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. Measured using a vessel (YI after heating). The measurement was performed according to JIS K7105 conditions.

実施例および比較例で得られた評価用樹脂層の波長400nmにおける光線透過率は、紫外・可視分光光度計V−570(JASCO社製)を用いて測定し、得られた評価用樹脂層の屈折率は、プリズムカプラ モデル2010(Metricon社製)を用いて測定した。なお、屈折率は、波長633nmを用いて測定した。   The light transmittance at a wavelength of 400 nm of the evaluation resin layers obtained in Examples and Comparative Examples was measured using an ultraviolet / visible spectrophotometer V-570 (manufactured by JASCO), and the evaluation resin layers thus obtained were used. The refractive index was measured using a prism coupler model 2010 (manufactured by Metricon). The refractive index was measured using a wavelength of 633 nm.

(9)発光素子用樹脂層の成膜性
4インチ径の溶融石英またはシリコン基板上に、実施例および比較例で得られた樹脂組成物をディスペンスし、厚さ約1μmになるようにスピンコートを用いて塗布し、70℃で30分間乾燥させ、ついで150℃で10分間加熱し、さらに230℃で2時間乾燥して、発光素子用樹脂層(膜厚:1μm)を作製した。この樹脂層について、はじきや発泡(表面凹凸)、変色の有無を目視により調べた。はじきや発泡、変色のないものを「○」、これらが一部見られるもの「△」、これらが全面に発生しているものを「×」とした。なお、「はじき」は、外観として樹脂層表面の干渉ムラの有無を目視により観察することで評価した。
(9) Film-formability of resin layer for light-emitting element A resin composition obtained in Examples and Comparative Examples is dispensed on a 4-inch diameter fused quartz or silicon substrate and spin-coated so as to have a thickness of about 1 μm. And then dried at 70 ° C. for 30 minutes, then heated at 150 ° C. for 10 minutes, and further dried at 230 ° C. for 2 hours to produce a resin layer for light emitting element (film thickness: 1 μm). The resin layer was visually examined for the presence of repellency, foaming (surface irregularities), and discoloration. Those with no repellency, foaming, or discoloration were marked with “◯”, those with a partial appearance of “△”, and those with the entire surface appearing with “X”. The “repellency” was evaluated by visually observing the presence or absence of interference unevenness on the surface of the resin layer as an appearance.

[実施例1]
<重合体の合成>
3Lの4つ口フラスコに(A)成分:2,6−ジフルオロベンゾニトリル(以下「DFBN」ともいう。)35.12g(0.253mol)、(B)成分:9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン(以下「BPFL」ともいう。)70.08g(0.200mol)およびレゾルシノール(以下「RES」ともいう。)5.51g(0.050mol)、炭酸カリウム41.46g(0.300mol)、N,N−ジメチルアセトアミド(以下「DMAc」ともいう。)443gならびにトルエン111gを添加した。続いて、4つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、Dean−Stark管および冷却管を取り付けた。
[Example 1]
<Synthesis of polymer>
In a 3 L four-necked flask, component (A): 35.12 g (0.253 mol) of 2,6-difluorobenzonitrile (hereinafter also referred to as “DFBN”), component (B): 9,9-bis (4- Hydroxyphenyl) fluorene (hereinafter also referred to as “BPFL”) 70.08 g (0.200 mol), resorcinol (hereinafter also referred to as “RES”) 5.51 g (0.050 mol), potassium carbonate 41.46 g (0.300 mol) ), 443 g of N, N-dimethylacetamide (hereinafter also referred to as “DMAc”) and 111 g of toluene were added. Subsequently, a thermometer, a stirrer, a three-way cock with a nitrogen introduction tube, a Dean-Stark tube and a cooling tube were attached to the four-necked flask.

次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を140℃で3時間反応させ、生成する水をDean−Stark管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなったところで、徐々に温度を160℃まで上昇させ、そのままの温度で6時間反応させた。
室温(25℃)まで冷却後、生成した塩をろ紙で除去し、ろ液をメタノールに投じて再沈殿させ、ろ別によりろ物(残渣)を単離した。得られたろ物を60℃で一晩真空乾燥し、白色粉末(重合体)を得た(収量95.67g、収率95%)。
Next, after the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen, the obtained solution was reacted at 140 ° C. for 3 hours, and water produced was removed from the Dean-Stark tube as needed. When no more water was observed, the temperature was gradually raised to 160 ° C. and reacted at that temperature for 6 hours.
After cooling to room temperature (25 ° C.), the produced salt was removed with a filter paper, the filtrate was poured into methanol for reprecipitation, and the filtrate (residue) was isolated by filtration. The obtained filtrate was vacuum dried at 60 ° C. overnight to obtain a white powder (polymer) (yield 95.67 g, yield 95%).

得られた重合体の物性を表1に示す。得られた重合体の構造分析および重量平均分子量の測定を行った。結果は、赤外吸収スペクトルの特性吸収が、3035cm-1(C−H伸縮)、2229cm-1(CN)、1574cm-1、1499cm-1(芳香環骨格吸収)、1240cm-1(−O−)であり、重量平均分子量が130,000であった。得られた重合体は前記構造単位(1)および(3)を有していた。 Table 1 shows the physical properties of the obtained polymer. The obtained polymer was subjected to structural analysis and measurement of the weight average molecular weight. The results show that the characteristic absorption of the infrared absorption spectrum is 3035 cm −1 (C—H stretching), 2229 cm −1 (CN), 1574 cm −1 , 1499 cm −1 (aromatic ring skeleton absorption), 1240 cm −1 (—O—). And the weight average molecular weight was 130,000. The obtained polymer had the structural units (1) and (3).

次いで、得られた重合体をDMAcに再溶解させることで重合体濃度20質量%の樹脂組成物を得た。該樹脂組成物を、ポリエチレンテレフタラート(PET)からなる支持体上にドクターブレードを用いて塗布し、70℃で30分乾燥させ、ついで100℃で30分乾燥して塗膜を得た後、PET支持体より剥離した。その後、塗膜を金枠に固定し、さらに230℃、2時間乾燥して、膜厚30μmの評価用樹脂層を得た。得られた重合体、評価用樹脂層および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
得られた樹脂層(発光素子用樹脂層)は、屈折率が高く、耐熱性(高いTg)、成膜性および環境安定性等に優れるため、この樹脂層を含む発光素子は、光の取り出し効率および耐久性に優れる。
Next, the obtained polymer was redissolved in DMAc to obtain a resin composition having a polymer concentration of 20% by mass. The resin composition was applied onto a support made of polyethylene terephthalate (PET) using a doctor blade, dried at 70 ° C. for 30 minutes, and then dried at 100 ° C. for 30 minutes to obtain a coating film. It peeled from the PET support. Thereafter, the coating film was fixed to a metal frame and further dried at 230 ° C. for 2 hours to obtain an evaluation resin layer having a thickness of 30 μm. Table 1 shows the results of film formability of the obtained polymer, the evaluation resin layer, and the light-emitting element resin layer.
The obtained resin layer (resin layer for light-emitting element) has a high refractive index and is excellent in heat resistance (high Tg), film formability, environmental stability, and the like. Excellent efficiency and durability.

[実施例2]
RESの代わりに2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン11.41g(0.050mol)を使用した以外は、実施例1と同様に行った。得られた重合体、評価用樹脂層および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
得られた樹脂層(発光素子用樹脂層)は、屈折率が高く、耐熱性(高いTg)、成膜性および環境安定性等に優れるため、この樹脂層を含む発光素子は、光の取り出し効率および耐久性に優れる。
[Example 2]
The same procedure as in Example 1 was performed except that 11.41 g (0.050 mol) of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane was used instead of RES. Table 1 shows the results of film formability of the obtained polymer, the evaluation resin layer, and the light-emitting element resin layer.
The obtained resin layer (resin layer for light-emitting element) has a high refractive index and is excellent in heat resistance (high Tg), film formability, environmental stability, and the like. Excellent efficiency and durability.

[実施例3]
(B)成分として、BPFL70.08gおよびRES5.51gの代わりに、BPFL78.84g(0.225mol)および2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン8.41g(0.025mol)を使用した以外は実施例1と同様に行った。得られた重合体、評価用樹脂層および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
得られた樹脂層(発光素子用樹脂層)は、屈折率が高く、耐熱性(高いTg)、成膜性および環境安定性等に優れるため、この樹脂層を含む発光素子は、光の取り出し効率および耐久性に優れる。
[Example 3]
As component (B), instead of 70.08 g of BPFL and 5.51 g of RES, 78.84 g (0.225 mol) of BPFL and 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1,1,3,3,3- The same operation as in Example 1 was carried out except that 8.41 g (0.025 mol) of hexafluoropropane was used. Table 1 shows the results of film formability of the obtained polymer, the evaluation resin layer, and the light-emitting element resin layer.
The obtained resin layer (resin layer for light-emitting element) has a high refractive index and is excellent in heat resistance (high Tg), film formability, environmental stability, and the like. Excellent efficiency and durability.

[実施例4]
(B)成分として、BPFL70.08gおよびRES5.51gの代わりに、9,9−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン125.65g(0.250mol)を使用した以外は実施例1と同様に行った。得られた重合体、評価用樹脂層および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
得られた樹脂層(発光素子用樹脂層)は、屈折率が高く、耐熱性(高いTg)、成膜性および環境安定性等に優れるため、この樹脂層を含む発光素子は、光の取り出し効率および耐久性に優れる。
[Example 4]
Example 1 except that 125.65 g (0.250 mol) of 9,9-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) fluorene was used as the component (B) instead of 70.08 g of BPFL and 5.51 g of RES. The same was done. Table 1 shows the results of film formability of the obtained polymer, the evaluation resin layer, and the light-emitting element resin layer.
The obtained resin layer (resin layer for light-emitting element) has a high refractive index and is excellent in heat resistance (high Tg), film formability, environmental stability, and the like. Excellent efficiency and durability.

[実施例5]
(B)成分として、BPFL70.08gおよびRES5.51gの代わりに、BPFL87.60g(0.250mol)を使用した以外は実施例1と同様に行った。得られた重合体、評価用樹脂層および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
得られた樹脂層(発光素子用樹脂層)は、屈折率が高く、耐熱性(高いTg)、成膜性および環境安定性等に優れるため、この樹脂層を含む発光素子は、光の取り出し効率および耐久性に優れる。
[Example 5]
(B) It carried out similarly to Example 1 except having used BPFL87.60g (0.250mol) instead of BPFL70.08g and RES5.51g. Table 1 shows the results of film formability of the obtained polymer, the evaluation resin layer, and the light-emitting element resin layer.
The obtained resin layer (resin layer for light-emitting element) has a high refractive index and is excellent in heat resistance (high Tg), film formability, environmental stability, and the like. Excellent efficiency and durability.

[実施例6]
(B)成分として、BPFL70.08gおよびRES5.51gの代わりに、BPFL78.84g(0.225mol)および1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン6.71g(0.025mol)を使用した以外は実施例1と同様に行った。得られた重合体、評価用樹脂層および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
得られた樹脂層(発光素子用樹脂層)は、屈折率が高く、耐熱性(高いTg)、成膜性および環境安定性等に優れるため、この樹脂層を含む発光素子は、光の取り出し効率および耐久性に優れる。
[Example 6]
(B) Instead of using 70.08 g of BPFL and 5.51 g of RES, 78.84 g (0.225 mol) of BPFL and 6.71 g (0.025 mol) of 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane were used. Was performed in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results of film formability of the obtained polymer, the evaluation resin layer, and the light-emitting element resin layer.
The obtained resin layer (resin layer for light-emitting element) has a high refractive index and is excellent in heat resistance (high Tg), film formability, environmental stability, and the like. Excellent efficiency and durability.

[実施例7]
(A)成分として、DFBN35.12gの代わりに、DFBN28.10g(0.202mol)および4,4'−ジフルオロベンゾフェノン11.02g(0.051mol)を用いた以外は実施例5と同様に行った。得られた重合体、評価用樹脂層および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
得られた樹脂層(発光素子用樹脂層)は、屈折率が高く、耐熱性(高いTg)、成膜性および環境安定性等に優れるため、この樹脂層を含む発光素子は、光の取り出し効率および耐久性に優れる。
[Example 7]
(A) It carried out similarly to Example 5 except having used DFBN28.10g (0.202 mol) and 4,4'- difluoro benzophenone 11.02g (0.051 mol) instead of DFBN35.12g. . Table 1 shows the results of film formability of the obtained polymer, the evaluation resin layer, and the light-emitting element resin layer.
The obtained resin layer (resin layer for light-emitting element) has a high refractive index and is excellent in heat resistance (high Tg), film formability, environmental stability, and the like. Excellent efficiency and durability.

[実施例8]
(A)成分の配合量を、DFBN17.56g(0.126mol)および4,4'−ジフルオロベンゾフェノン27.55g(0.126mol)に変更した以外は実施例7と同様に行った。得られた重合体、評価用樹脂層、および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
得られた樹脂層(発光素子用樹脂層)は、屈折率が高く、耐熱性(高いTg)、成膜性および環境安定性等に優れるため、この樹脂層を含む発光素子は、光の取り出し効率および耐久性に優れる。
[Example 8]
(A) It carried out similarly to Example 7 except having changed the compounding quantity of the component into DFBN 17.56g (0.126mol) and 4,4'- difluoro benzophenone 27.55g (0.126mol). Table 1 shows the results of film formability of the obtained polymer, the evaluation resin layer, and the light emitting element resin layer.
The obtained resin layer (resin layer for light-emitting element) has a high refractive index and is excellent in heat resistance (high Tg), film formability, environmental stability, and the like. Excellent efficiency and durability.

[実施例9]
(A)成分として、DFBN35.12gの代わりに、4,4'−ジフルオロジフェニルスルホン(DFDS)78.84g(0.250mol)を使用した以外は実施例5と同様に行った。得られた重合体、評価用樹脂層および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
得られた樹脂層(発光素子用樹脂層)は、屈折率が高く、耐熱性(高いTg)、成膜性および環境安定性等に優れるため、この樹脂層を含む発光素子は、光の取り出し効率および耐久性に優れる。
[Example 9]
The same procedure as in Example 5 was performed except that 78.84 g (0.250 mol) of 4,4′-difluorodiphenylsulfone (DFDS) was used as the component (A) instead of 35.12 g of DFBN. Table 1 shows the results of film formability of the obtained polymer, the evaluation resin layer, and the light-emitting element resin layer.
The obtained resin layer (resin layer for light-emitting element) has a high refractive index and is excellent in heat resistance (high Tg), film formability, environmental stability, and the like. Excellent efficiency and durability.

[実施例10]
実施例1で得られた重合体を重合体濃度が20質量%となるようDMAcに再溶解させた溶液をビーズミル用容器に加え、次いで、得られた溶液に酸化ジルコニウム(一次平均粒子径:15nm)を該重合体100質量部に対して80質量部になるように加え、さらに粒径0.1mmのジルコニアビーズ(ニッカトー社製)350質量部を加えて、ビーズミルを用いて、1500rpm、10時間攪拌して、酸化ジルコニウムの微粒子を分散させた後、ジルコニアビーズを除去することで樹脂組成物を得た。この樹脂組成物を用いたこと以外は、実施例1と同様に行った。評価用樹脂層および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
[Example 10]
A solution obtained by re-dissolving the polymer obtained in Example 1 in DMAc to a polymer concentration of 20% by mass was added to a bead mill container, and then zirconium oxide (primary average particle diameter: 15 nm) was added to the obtained solution. ) In an amount of 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer, 350 parts by mass of zirconia beads having a particle size of 0.1 mm (manufactured by Nikkato), and 1500 rpm for 10 hours using a bead mill. After stirring, the fine particles of zirconium oxide were dispersed, and then the zirconia beads were removed to obtain a resin composition. It carried out similarly to Example 1 except having used this resin composition. Table 1 shows the results of film formability of the evaluation resin layer and the light-emitting element resin layer.

得られた樹脂組成物中の微粒子について、25℃での体積平均粒径を堀場製作所社製の動的光散乱式粒径分布測定装置により測定したところ、体積平均粒径は50nm未満であった。
得られた樹脂層(発光素子用樹脂層)は、屈折率が高く、耐熱性(高いTg)、成膜性および環境安定性等に優れるため、この樹脂層を含む発光素子は、光の取り出し効率および耐久性に優れる。
For the fine particles in the obtained resin composition, the volume average particle diameter at 25 ° C. was measured by a dynamic light scattering particle size distribution analyzer manufactured by Horiba, Ltd., and the volume average particle diameter was less than 50 nm. .
The obtained resin layer (resin layer for light-emitting element) has a high refractive index and is excellent in heat resistance (high Tg), film formability, environmental stability, and the like. Excellent efficiency and durability.

[比較例1]
(B)成分として、BPFL70.08gおよびRES5.51gの代わりに、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン84.06g(0.250mol)を使用した以外は、実施例1と同様に行った。得られた重合体、評価用樹脂層および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
As component (B), instead of 70.08 g of BPFL and 5.51 g of RES, 84.06 g of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane (0. 250 mol) was used in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results of film formability of the obtained polymer, the evaluation resin layer, and the light-emitting element resin layer.

Figure 0005724554
Figure 0005724554

10、20、30 発光素子
11、21、31 基板
13、23、33 第1電極
15、25、35 発光層
17、27、37 第2電極
18、28、38、39 樹脂層
10, 20, 30 Light emitting element 11, 21, 31 Substrate 13, 23, 33 First electrode 15, 25, 35 Light emitting layer 17, 27, 37 Second electrode 18, 28, 38, 39 Resin layer

Claims (7)

基板と第1電極と発光層と第2電極と樹脂層とを備える発光素子であって、
前記基板と前記第1電極と前記発光層と前記第2電極とがこの順に積層されてなり、
前記樹脂層は、
(a)前記第1電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、および、
(b)前記第2電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、
の少なくとも一方に形成されており、
前記樹脂層が、示差走査熱量測定(DSC、昇温速度20℃/分)によるガラス転移温度(Tg)が230〜350℃である芳香族ポリエーテル系重合体を含む層であり、湿度膨張係数が15ppm/%RH以下であることを特徴とする発光素子。
A light emitting device comprising a substrate, a first electrode, a light emitting layer, a second electrode, and a resin layer,
The substrate, the first electrode, the light emitting layer, and the second electrode are laminated in this order,
The resin layer is
(A) a side of the first electrode opposite to the side on which the light emitting layer is formed; and
(B) The side of the second electrode opposite to the side on which the light emitting layer is formed,
Formed on at least one of
The resin layer is, Ri layer der including differential scanning calorimetry (DSC, heating rate 20 ° C. / min) by the glass transition temperature (Tg) of which is the 230 to 350 ° C. aromatic polyether polymer, and the humidity expansion emitting element coefficients characterized by the following der Rukoto RH 15 ppm /%.
前記発光素子が有機エレクトロルミネッセンス素子である、請求項1に記載の発光素子。   The light emitting device according to claim 1, wherein the light emitting device is an organic electroluminescence device. 前記芳香族ポリエーテル系重合体が、下記式(1)で表わされる構造単位および下記式(2)で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位(i)を有する、請求項1または2に記載の発光素子。
Figure 0005724554
(式(1)中、R1〜R4は、それぞれ独立に炭素数1〜12の1価の有機基を示し、a〜dは、それぞれ独立に0〜4の整数を示す。)
Figure 0005724554
(式(2)中、R1〜R4およびa〜dは、それぞれ独立に前記式(1)中のR1〜R4およびa〜dと同義であり、Yは、単結合、−SO2−または>C=Oを示し、R7およびR8は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数1〜12の1価の有機基またはニトロ基を示し、gおよびhは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、mは、0または1を示す。但し、mが0の時、R7はシアノ基ではない。)
The aromatic polyether polymer has at least one structural unit (i) selected from the group consisting of a structural unit represented by the following formula (1) and a structural unit represented by the following formula (2). 3. The light emitting device according to 1 or 2.
Figure 0005724554
(In Formula (1), R < 1 > -R < 4 > shows a C1-C12 monovalent organic group each independently, and ad shows the integer of 0-4 each independently.)
Figure 0005724554
(In Formula (2), R < 1 > -R < 4 > and ad are respectively synonymous with R < 1 > -R < 4 > and said ad in said Formula (1), Y is a single bond, -SO 2- or> C = O, R 7 and R 8 each independently represent a halogen atom, a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms or a nitro group, and g and h each independently represent 0 to 4 represents an integer of 4 and m represents 0 or 1. However, when m is 0, R 7 is not a cyano group.
前記芳香族ポリエーテル系重合体が、さらに、下記式(3)で表わされる構造単位および下記式(4)で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位(ii)を有する、請求項3に記載の発光素子。
Figure 0005724554
(式(3)中、R5およびR6は、それぞれ独立に炭素数1〜12の1価の有機基を示し、Zは、単結合、−O−、−S−、−SO2−、>C=O、−CONH−、−COO−または炭素数1〜12の2価の有機基を示し、eおよびfは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、nは0または1を示す。)
Figure 0005724554
(式(4)中、R7、R8、Y、m、gおよびhは、それぞれ独立に前記式(2)中のR7、R8、Y、m、gおよびhと同義であり、R5、R6、Z、n、eおよびfは、それぞれ独立に前記式(3)中のR5、R6、Z、n、eおよびfと同義である。)
The aromatic polyether polymer further has at least one structural unit (ii) selected from the group consisting of a structural unit represented by the following formula (3) and a structural unit represented by the following formula (4). The light emitting device according to claim 3 .
Figure 0005724554
(In formula (3), R 5 and R 6 each independently represent a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms, and Z represents a single bond, —O—, —S—, —SO 2 —, > C═O, —CONH—, —COO— or a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms, e and f each independently represent an integer of 0 to 4, and n represents 0 or 1 .)
Figure 0005724554
(In the formula (4), R 7, R 8, Y, m, g and h are each R 7 in independent to the formula (2), R 8, Y , m, synonymous with g and h, R 5, R 6, Z, n, e and f are as defined each R 5 in the formula (3) independently, R 6, Z, n, e and f.)
前記芳香族ポリエーテル系重合体において、前記構造単位(i)と前記構造単位(ii)とのモル比が50:50〜100:0である、請求項4に記載の発光素子。 The light emitting element of Claim 4 whose molar ratio of the said structural unit (i) and the said structural unit (ii) is 50: 50-100: 0 in the said aromatic polyether type polymer. 前記芳香族ポリエーテル系重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算の重量平均分子量が5,000〜500,000である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の発光素子。   The light emitting device according to any one of claims 1 to 5, wherein the weight average molecular weight in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC) of the aromatic polyether polymer is 5,000 to 500,000. . 前記樹脂層が、さらに金属酸化物粒子を含有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の発光素子。   The light emitting element according to claim 1, wherein the resin layer further contains metal oxide particles.
JP2011082458A 2011-04-04 2011-04-04 Light emitting device and resin composition for forming light emitting device Active JP5724554B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011082458A JP5724554B2 (en) 2011-04-04 2011-04-04 Light emitting device and resin composition for forming light emitting device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011082458A JP5724554B2 (en) 2011-04-04 2011-04-04 Light emitting device and resin composition for forming light emitting device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012221554A JP2012221554A (en) 2012-11-12
JP5724554B2 true JP5724554B2 (en) 2015-05-27

Family

ID=47272890

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011082458A Active JP5724554B2 (en) 2011-04-04 2011-04-04 Light emitting device and resin composition for forming light emitting device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5724554B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6094353B2 (en) * 2013-04-17 2017-03-15 Jsr株式会社 Protective film forming composition, protective film forming method, protective film and protective film removing method
JP6372799B2 (en) * 2014-08-12 2018-08-15 Jsr株式会社 Resin composition and light emitting device
WO2022210932A1 (en) * 2021-04-02 2022-10-06 積水化学工業株式会社 Optical display member

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2335884A (en) * 1998-04-02 1999-10-06 Cambridge Display Tech Ltd Flexible substrates for electronic or optoelectronic devices
JP2005225997A (en) * 2004-02-13 2005-08-25 Fuji Photo Film Co Ltd Resin composition and film using the same
JP4348217B2 (en) * 2004-03-17 2009-10-21 富士フイルム株式会社 Gas barrier film and organic electroluminescence device using the film
JP2006089585A (en) * 2004-09-24 2006-04-06 Fuji Photo Film Co Ltd Polymer, resin composition, optical component, optical film, optical film with gas barrier layer, optical film with transparent conductive layer, optical film with tft and image display device
JP2006291163A (en) * 2004-09-27 2006-10-26 Fuji Photo Film Co Ltd Film, production method therefor and image display device
JP2006265383A (en) * 2005-03-24 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd Resin composition, film and image display using it
JP2007246629A (en) * 2006-03-14 2007-09-27 Jsr Corp Optical film and production method thereof
TW200827782A (en) * 2006-12-28 2008-07-01 Nippon Catalytic Chem Ind Selectively light-transmitting filter
ES2392000T3 (en) * 2007-05-24 2012-12-03 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Procedure and apparatus for producing colorless transparent resin film

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012221554A (en) 2012-11-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101578963B1 (en) Near-infrared ray cut filter and apparatus using near-infrared ray cut filter
TW201016760A (en) Cured organopolysiloxane resin film having gas barrier properties and method of producing the same
JP5910493B2 (en) Film, resin composition and polymer
KR101779640B1 (en) Optical filter and imaging device comprising same
JP5540803B2 (en) Method for producing gas barrier film
WO2013105626A1 (en) Light-emitting element and resin composition for forming light-emitting element
JP7375318B2 (en) Polyimide precursor resin compositions, polyimide resin compositions and films thereof, laminates containing the same, and flexible devices
JP5724554B2 (en) Light emitting device and resin composition for forming light emitting device
JPWO2019188835A1 (en) Polymetallosane, composition, cured film, member, electronic component, fiber, binder for ceramic molding, method for manufacturing cured film, and method for manufacturing fiber
JP6999808B2 (en) Compositions, hardcourt films, articles with hardcourt films, and image display devices.
JP5708160B2 (en) Resin substrate for high frequency circuit board and high frequency circuit board
JP6483585B2 (en) Polyarylate resin
JP2010152004A (en) Optical member substrate
JP4191626B2 (en) Gas barrier laminate film and method for producing the same
CN109641992A (en) Fluoropolymer, its manufacturing method and the article for having fluoropolymer-containing solidfied material
TWI503345B (en) A resin composition, an insulating film, a film forming method, and an electronic component
JP2012218163A (en) Transparent conductive film, laminate, touch panel, and display
WO2019142866A1 (en) Polyimide precursor resin composition
JP6372799B2 (en) Resin composition and light emitting device
JP6795920B2 (en) Polyimide precursor, resin composition, resin film containing polyimide and its manufacturing method
JP5896893B2 (en) Method for producing optical film made of halogenated polycarbonate
JPWO2012005345A1 (en) Composite and display device including the same
JP2012224763A (en) Polymer, film, resin composition, and method for manufacturing the film
JP2022014961A (en) Resin composition, scattering prevention film and cover glass
JPH11329258A (en) Plasma display panel having polymer dielectric

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140205

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20141107

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20141202

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150120

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150303

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150316

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5724554

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250