JP5571558B2 - ショート・コヒーレンス干渉計 - Google Patents
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Description
この装置によって、例えば、SS OCDRでは掃引された放射源のスペクトルの線幅により、TD OCDRでは干渉計の参照アームの調整経路により、また、SD OCDRでは検出のスペクトル分解能により、あらかじめ決められた許容測定範囲より、軸方向にさらに遠く離間された領域で供試体を検出することが可能になる。したがって、個別の測定ビームの軸方向のオフセットが、干渉計装置の掃引範囲ならびにスペクトルの分割および検出によってそれぞれ与えられた測定範囲より大きいことが好ましい。
図1は、SS OCDR向けの干渉計を概略的に示す。ビーム源Qからの放射は掃引され、その線幅は、例えば30pm未満であり、好ましくは26pm以下、あるいは別の実施形態では、好ましくは15pm未満、または13pm以下でさえある。そのようなビーム源は従来技術で知られており、例えば冒頭で既に示された米国特許出願第2006/0109477A1号に説明されている。したがって、この点に関して、この文献を参照する。例示的実施形態における眼Aである供試体P上の別々の部分領域T1およびT2を検出する目的で、干渉計Iが使用される。干渉計Iは、部分領域T1およびT2にある散乱中心の位置および散乱強度を全体的に検出するので、もちろん、眼の代わりに干渉計Iを使用して、何らかの任意の非生体の技術的構造も検出することができる。このように本説明が眼Aに対する適用に言及する限りでは、これは単に例示であって、限定するものと理解するべきではない。
図1の干渉計Iは、このように高い割合で測定ビーム経路からの放射を使用するが、レーザ・ビーム源Qが光ファイバ1に供給する強度の20%しか使用しない。大きな測定信号損失を補償するより、高パワーのレーザ・ビーム源Qを使用する方がはるかに簡単であるため、これは全く問題にならない。カプラKの構成により、比較的大きな強度超過の放射が参照ビーム経路Rに供給されるので、この放射は、さらに別のやり方で、例えば、レーザ・ビーム源Qのスペクトルの較正のために、あるいは信号記録を起動するために使用することができる。
この時点まで、掃引される光源を有するSS OCDR向けの例示的実施形態が説明されてきた。しかし、放射源Qとして超発光ダイオード(SLD)などの広帯域の光源が使用され、検出器Dが分光計として実施されると、ショート・コヒーレンス干渉計装置のSD OCDR変形形態が得られ、これは、説明された利点を同様に有する。直交成分測定用に複数の分光計を有する干渉計装置は、米国特許出願第2004/0239943号から知られている。広帯域の光源Qが維持され、また、その光路長を迅速に変化させることができるように参照アームRが実施される場合、干渉計装置のTD OCDR変形形態が実施される。参照アームの光路長を迅速に変化させるのに適当な装置(高速走査光遅延線、RSOD)は、例えば米国特許第6654127号に説明されている。
端子IIは、端子Iへ60%、端子VおよびVIへ20%、また、端子IIIおよびIVへ20%結合される。
図10から図12は、ファイバ・カプラKの概略図を示す。図10には3×3のカプラが示されており、これは端子I〜VIを有して、一方の側にI、IIIおよびIVがあり、反対側のII、IVおよびVIとの対応する結合をもたらす。
図13の構成では、破線を用いて描かれたボックスによって一方に示されており、光ファイバ4が、様々に実施されて位置している適用モジュール25に非常に広く入力することができ、適用モジュール25は、光ファイバ4から始まる測定ビーム経路から個別の測定ビーム経路を分割する。図13の上のボックスに示された変形形態では、この目的のために第3のカプラK3が使用されており、これは個別の測定ビーム経路の分割および結合を実行する。下側のボックスに示された図13の適用モジュール25の構成は、図9aのビーム・スプリッタを使用するが、既に説明された変形形態には、8の部分の上に光学面がない。カプラK1およびK2は連帯でカプラKを実施し、カプラKは、基本的に図1のものに相当する。カプラK2は、50−50のカプラまたはスプリッタとして実施され、それによって光ファイバ5および3の混合光が対称に構成され、すなわち、それぞれが参照ビーム経路との重ね合わせに関して180°の相対位相シフトを有する等しい部分で、測定ビーム経路M1およびM2からの放射を含む。
Claims (17)
- 供試体(P)の、軸方向に離間する複数の領域(T1、T2)を測定するためのショート・コヒーレンス干渉計装置であって、
複数の個別の測定ビームが通って該供試体上に入射する少なくとも1つの測定ビーム経路と、
該個別の測定ビーム(M1、M2)に重ねられて該個別の測定ビームと干渉状態になる参照放射が通って導かれる、光学ビーム経路の距離を有する1つの参照ビーム経路(R)とを備え、
該個別の測定ビーム(M1、M2)が、該供試体(P)上に入射するとき、軸方向の間隔(d)に適合された量だけ軸方向に互いにオフセットされ、
該干渉計装置(I)が、該供試体から戻るそれぞれの個別の測定ビーム(M1、M2)を、該参照放射と重ねて干渉を引き起こし、かつ、それぞれが検出器(D1、D2)に入力する複数の出力(III、V)を有する重ね合わせデバイス(K、K1、K2)を有し、
前記参照ビーム経路が単一の光学ビーム経路の距離のみを有し、
該重ね合わせデバイス(K、K1、K2)が、すべての個別の測定ビーム(M1、M2)と重ね合わせるための同一の参照放射を受け取り、個別の測定ビーム(M1、M2)を該同一の参照放射と干渉させ、各出力(III、V)に、該参照放射と重ねられた該複数の個別の測定ビーム(M1、M2)の混合光を出力し、
各混合光が、異なる位相調整で該同一の参照放射と重ねられた該個別の測定ビーム(M1、M2)の小部分を含む、ショート・コヒーレンス干渉計装置。 - 測定放射を供給する放射源(Q)が設けられ、該放射源(Q)が、光源ビームを出力し、該光源ビームの一定強度の小部分を前記測定ビーム経路(M)と前記参照ビーム経路(R)とに分割する前記重ね合わせデバイス(K、K1、K2)に対して該光源ビームを供給する、請求項1に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
- 前記個別の測定ビーム(M1、M2)が、各混合光中に基本的に等しい成分を有する、請求項1に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
- 供試体(P)の、軸方向に離間された複数の領域(T1、T2)の相対的な軸方向の間隔(d)を測定するためのショート・コヒーレンス干渉計装置であって、複数の個別の測定ビームが通って該供試体上に入射する少なくとも1つの測定ビーム経路であって、該個別の測定ビーム(M1、M2)が、該供試体(P)上に入射するとき、相対的な軸方向の間隔(d)に合わせた量だけ軸方向に互いにオフセットされる測定ビーム経路を有し、該干渉計装置(I)が、該個別の測定ビーム(M1、M2)のうちの少なくとも2つを互いに重ねて干渉を引き起こす重ね合わせデバイス(K、K1、K2)を有し、
該重ね合わせデバイス(K、K1、K2)が、該2つの個別の測定ビームのそれぞれを、該特定の他の個別の測定ビームに重ねて干渉を引き起こし、かつ2つの重ねられたビームを取得し、次いで、これら2つのビームを関連する検出器(D1、D2)へ伝導する、ショート・コヒーレンス干渉計装置。 - レンズ・デバイス(8)が、前記測定ビーム経路(M)に設けられ、該レンズ・デバイス(8)が前記測定放射を前記個別の測定ビーム(M1、M2)へ分割し、かつ前記個別の測定ビーム(M1、M2)を前記供試体(P)へ別々の焦点距離で合焦する、請求項1乃至4のいずれか1項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
- レンズ・デバイス(8)が、前記測定ビーム経路(M)に設けられ、該レンズ・デバイス(8)が前記測定放射を前記個別の測定ビーム(M1、M2)へ分割し、かつ前記個別の測定ビーム(M1、M2)を前記供試体(P)へ別々の焦点距離で合焦し、前記レンズ・デバイス(8)が、瞳分割によって前記個別の測定ビーム(M1、M2)を分割し、前記レンズ・デバイス(8)の分離した瞳領域が、光学距離の結像特性の少なくとも1つを有して、それぞれの個別の測定ビーム(M1、M2)に関連付けられ、該瞳領域および該瞳領域の拡散が互いに異なる、請求項1乃至4のいずれか1項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
- レンズ・デバイス(8)が、前記測定ビーム経路(M)に設けられ、該レンズ・デバイス(8)が前記測定放射を前記個別の測定ビーム(M1、M2)へ分割し、かつ前記個別の測定ビーム(M1、M2)を前記供試体(P)へ別々の焦点距離で合焦し、前記レンズ・デバイス(8)が、瞳分割によって前記個別の測定ビーム(M1、M2)を分割し、前記レンズ・デバイス(8)の分離した瞳領域が、光学距離の結像特性の少なくとも1つを有して、それぞれの個別の測定ビーム(M1、M2)に関連付けられ、該瞳領域および該瞳領域の拡散が互いに異なり、前記レンズ・デバイス(8)が、ガラス体(17)であって、2つのレンズ表面(L1、L2)と、一方のレンズ面上に穴または別々の屈折率を有する材料を用いる充填とを有し、この穴/充填が、光学軸に沿って該ガラス体(17)の中へ伸びる前記ガラス体(17)を含む、請求項1乃至4のいずれか1項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
- 前記重ね合わせデバイス(K、K1、K2)が、対の個別の測定ビーム経路当り、1つの3×3のファイバ・スプリッタ(K)または2つの結合された2×2のファイバ・スプリッタ(K1、K2)を有する、請求項1乃至7のいずれか1項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
- 前記重ね合わせデバイス(K、K1、K2)が、元のビームの強度の50%未満を前記測定ビーム経路(M)へ伝導し、前記個別の測定ビーム(M1、M2)を重ねてそれらを前記検出器(D1、D2)へ通過させる際に、前記個別の測定ビームについて50%未満の強度損失を実現する、請求項1乃至8のいずれか1項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
- 前記検出器(D1、D2)のうち少なくとも2つが差分解析で読み取られる、請求項1乃至9のいずれか1項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
- 前記個別の測定ビーム(M1、M2)の前記重ね合わせの前に、前記個別の測定ビーム(M1、M2)の偏光状態を互いに等しくするために、すべての個別の測定ビーム(M1、M2)に対して活動状態である偏光制御器(7、7.1、7.2)が前記測定ビーム経路に設けられるか、あるいは、偏光制御器(7.1、7.2)がそれぞれの個別の測定ビーム経路に設けられる、請求項1乃至10のいずれか1項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
- 前記ショート・コヒーレンス干渉計装置が掃引される放射源を使用して、SS OCDR向けに実施される、請求項1乃至11のいずれか1項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
- 前記個別の測定ビーム(D1、D2)の軸方向のオフセットが、前記掃引される放射源によって定義された測定範囲より大きい、請求項1乃至12のいずれか1項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
- 前記供試体(P)と前記個別の測定ビーム(M1、M2)の少なくとも1つとの横方向の相対変位によって前記供試体(P)をスキャンするために、少なくとも1つのスキャン・デバイスが設けられる、請求項1乃至13のいずれか1項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
- 前記ショート・コヒーレンス干渉計装置が広帯域の放射源およびスペクトル的に分解する検出器を使用して、SD OCDRに適合される、請求項1乃至11のいずれか1項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
- 前記ショート・コヒーレンス干渉計装置が広帯域の放射源および迅速に変化する光学距離を有する参照アームを使用して、TD OCDRに適合される、請求項1乃至3のいずれか1項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
- 前記供試体(P)は、眼(A)である、請求項1又は4に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
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