JP5391220B2

JP5391220B2 - Manufacturing method of glass substrate for information recording medium

Info

Publication number: JP5391220B2
Application number: JP2011062840A
Authority: JP
Inventors: 靖弘斉藤; 敏昭橋本; 由里子工藤
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 2011-03-22
Filing date: 2011-03-22
Publication date: 2014-01-15
Anticipated expiration: 2022-10-23
Also published as: JP2011187155A

Description

本発明は、例えばハードディスク等のような情報記録装置の磁気記録媒体である磁気ディスク、光磁気ディスク、光ディスク等の情報記録媒体に用いられる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に関するものである。より詳しくは、その表面に円周方向へ同心円を描きながら延びるテクスチャーが形成された情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に関するものである。 The present invention is, for example, relates to a magnetic disk, a magneto-optical disk, the information recording medium information recording preparation how a glass substrate for media used for such as an optical disk, such a magnetic recording medium of the information recording apparatus as a hard disk or the like . More particularly, it relates to the production how the glass substrate for an information recording medium in which texture is formed that extends drawing a concentric circumferentially on the surface thereof.

従来、上記のような情報記録媒体の１つとして、ハードディスク装置に内装された磁気ディスクが知られている。この磁気ディスクは、その中心に円孔を有する円盤状の情報記録媒体用ガラス基板（以下、略して「ガラス基板」ともいう）の表面に磁性膜等を積層することによって作製される。同磁気ディスクは、円孔に支持軸であるスピンドルが嵌挿されることによってハードディスク装置の内部に装着され、同スピンドルを中心に回転可能に支持されて使用される。そして、磁気ディスクに記録された磁気記録情報を読み取るための磁気ヘッド（（以下、単にヘッドともいう）は、主として磁気ディスクの表面から一定距離だけ浮上した状態で磁気ディスク上を移動するように構成されている。 Conventionally, as one of the information recording media as described above, a magnetic disk built in a hard disk device is known. This magnetic disk is manufactured by laminating a magnetic film or the like on the surface of a disk-shaped information recording medium glass substrate (hereinafter also referred to as “glass substrate” for short) having a circular hole in the center. The magnetic disk is mounted in a hard disk device by inserting a spindle as a support shaft into a circular hole, and is used while being supported rotatably around the spindle. A magnetic head for reading the magnetic recording information recorded on the magnetic disk (hereinafter also simply referred to as a head) is configured to move on the magnetic disk in a state where it mainly floats a certain distance from the surface of the magnetic disk. Has been.

一方、磁気ディスクは、その記録容量を増大させるため、高記録密度化が図られている。この磁気ディスクの高記録密度化を図る方法の一つとして、ガラス基板の表面を平滑なものとすることにより、磁気ディスク表面とヘッドとの距離を狭める方法が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。すなわち、該ガラス基板は、まず、酸化セリウム等のガラス材料に対して化学的に影響を与える研磨剤を使用してその表面を研磨することにより、同表面が平滑面とされる。その後、洗浄液として酸性水溶液及びアルカリ性水溶液を使用し、表面に固着した鉄粉、研磨粉等を除去するように洗浄処理が施されることにより、清浄度の高いガラス基板が形成される。同洗浄処理においては、酸性水溶液中にガラス中の一部の成分が溶出し、ガラス基板の表面はガラスの骨格成分である珪素酸化物（ＳｉＯ2）に富む状態となる。このＳｉＯ2に富む状態となったガラス基板の表面がアルカリ性水溶液でエッチングされることにより、表面に固着した鉄粉、研磨粉等が除去される。そして、ガラス基板の表面でエッチングされる部分の厚みは、１０ｎｍ程度とされる。 On the other hand, in order to increase the recording capacity of the magnetic disk, the recording density is increased. As one of methods for increasing the recording density of this magnetic disk, a method of narrowing the distance between the surface of the magnetic disk and the head by smoothing the surface of the glass substrate has been proposed (for example, patent document). 1). That is, the surface of the glass substrate is first smoothed by polishing the surface using an abrasive that chemically affects the glass material such as cerium oxide. Thereafter, an acidic aqueous solution and an alkaline aqueous solution are used as the cleaning liquid, and a cleaning process is performed so as to remove iron powder, polishing powder, and the like adhering to the surface, thereby forming a highly clean glass substrate. In the cleaning treatment, some components in the glass are eluted in the acidic aqueous solution, and the surface of the glass substrate is in a state rich in silicon oxide (SiO2) which is a skeleton component of the glass. By etching the surface of the glass substrate rich in SiO 2 with an alkaline aqueous solution, iron powder, polishing powder and the like adhered to the surface are removed. And the thickness of the part etched on the surface of a glass substrate shall be about 10 nm.

特開２００２−１５０５４７号公報JP 2002-150547 A

ところが、近年は磁気ディスクのさらなる高記録密度化が要請されており、磁気ディスク表面とヘッドとの距離はより狭まる傾向にあるため、上記従来のガラス基板ではこれに対応できないという問題があった。つまり、洗浄処理でエッチングされる部分の厚みを１０ｎｍ程度とした場合、形成されたガラス基板のなかには、不均一なエッチングによって異常な高さの凸部、凹凸の粗さのばらつき等のような欠点が発生する可能性がある。このような欠点を有するガラス基板から形成された磁気ディスクは、高記録密度化を図るために表面とヘッドとの距離を特に狭めた場合、移動中のヘッドが凸部に衝突したり、引っ掛かったり等する不具合（グライドエラー）を発生させやすくなる。 However, in recent years, there has been a demand for further higher recording density of the magnetic disk, and the distance between the magnetic disk surface and the head tends to be narrower, so that the conventional glass substrate cannot cope with this. In other words, when the thickness of the portion to be etched by the cleaning process is about 10 nm, the formed glass substrate has defects such as irregularly raised protrusions and uneven roughness unevenness due to uneven etching. May occur. A magnetic disk formed from a glass substrate having such a defect may cause the moving head to collide with or get caught by a convex portion when the distance between the surface and the head is particularly narrowed in order to increase the recording density. Etc. (glide error) is likely to occur.

一方、この問題を解決する方法として、洗浄液として弱酸性水溶液及び弱アルカリ性水溶液を使用し、ガラス基板の表面に影響を与えることなく、表面に固着した鉄粉、研磨粉等を除去することが考えられた。しかし、これら鉄粉、研磨粉等は、ガラス基板の表面に化学的に強く固着しているものが多く、中にはガラス基板の表面中に食い込むものも存在し、該洗浄液でこれら鉄粉、研磨粉等を取り除くことができず、却って清浄度の低下を招くこととなった。他に、ＳｉＯ_２に富む状態となったガラス基板の表面部分を、研磨剤で研磨して除去する方法も考えられたが、この場合、研磨粉等がガラス基板の表面に固着するのみならず、同研磨後に行われる洗浄でガラス基板の表面が変質してしまうという問題が発生した。 On the other hand, as a method for solving this problem, it is considered to use a weakly acidic aqueous solution and a weakly alkaline aqueous solution as a cleaning liquid, and remove iron powder, polishing powder, etc. adhering to the surface without affecting the surface of the glass substrate It was. However, many of these iron powders, polishing powders and the like are chemically strongly adhered to the surface of the glass substrate, and some of these iron powders bite into the surface of the glass substrate. The polishing powder and the like could not be removed, leading to a decrease in cleanliness. In addition, a method of removing the surface portion of the glass substrate rich in SiO ₂ by polishing with an abrasive was also considered, but in this case, not only the polishing powder or the like is fixed to the surface of the glass substrate. There was a problem that the surface of the glass substrate was altered by the cleaning performed after the polishing.

この発明は、上記のような従来技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的とするところは、表面の清浄度を高く維持しつつ、平滑性を優れたものとすることができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することにある。 The present invention has been made paying attention to the problems existing in the prior art as described above. It is an object, while maintaining high cleanliness of the surface, is to provide a method of manufacturing a glass base plate for an information recording medium which can be provided with excellent smoothness.

上記の目的を達成するために、請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の発明は、原子間力顕微鏡を使用して、表面粗さ（Ｒａ）を１０μｍ四方の視野で１０視野以上測定した測定結果より算出される表面粗さ（Ｒａ）のばらつき率は、３％以下である情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、ガラス組成中に少なくとも珪素酸化物を含む多成分系のガラス材料よりなる円盤状に形成されたガラス素板の表面に研磨加工を施す工程と、洗浄液として酸性水溶液を使用し、円盤状に形成されたガラス素板の表面を洗浄することにより、ガラス素板の表面にガラス組成中における珪素酸化物の含有率がガラス素板の内部のガラス組成中における珪素酸化物の含有率と異なる異質層を形成し、その後、洗浄液としてアルカリ性水溶液を使用し、ガラス素板の表面に形成された異質層の一部を除去する研削前洗浄処理を施す工程と、砥粒を使用し、前記研削前洗浄処理時にガラス素板の表面に形成された異質層の一部を研削して除去する研削加工を施す工程と、アルカリ性の洗浄液を使用し、研削加工後のガラス素板の表面を洗浄して前記異質層を除去する研削後洗浄処理を施す工程とを行うことを特徴とする。（但し、表面粗さ（Ｒａ）のばらつき率は、全視野での表面粗さ（Ｒａ）の全体平均値と、各視野毎の表面粗さ（Ｒａ）の個別平均値とをそれぞれ比較し、個別平均値が全体平均値から０．１ｎｍ以上異なる視野数が全視野数に対して占める割合を示す。） In order to achieve the above object, the invention of the method for producing a glass substrate for an information recording medium according to claim 1 uses an atomic force microscope and has a surface roughness (Ra) of 10 μm in a visual field of 10 μm square. The variation rate of the surface roughness (Ra) calculated from the measurement result measured over the visual field is a method for producing a glass substrate for an information recording medium of 3% or less, and the glass composition contains at least silicon oxide. By polishing the surface of the glass base plate formed of a component glass material and cleaning the surface of the glass base plate formed using an acidic aqueous solution as a cleaning liquid , A heterogeneous layer in which the silicon oxide content in the glass composition differs from the silicon oxide content in the glass composition inside the glass composition is formed on the surface of the glass base, and then alkaline as a cleaning liquid Using a solution, removing the part of the heterogeneous layer formed on the surface of the glass base plate, performing a pre-grinding cleaning process, and using abrasive grains, forming on the surface of the glass base plate during the pre-grinding cleaning process A grinding process for grinding and removing a part of the heterogeneous layer, and a post-grinding cleaning process for removing the extraneous layer by cleaning the surface of the glass base plate after grinding using an alkaline cleaning liquid and performing the step of applying. (However, the variation rate of the surface roughness (Ra) is compared with the overall average value of the surface roughness (Ra) in the entire visual field and the individual average value of the surface roughness (Ra) for each visual field, Shows the ratio of the number of fields of view whose individual average value differs by 0.1 nm or more from the overall average value to the total number of fields.)

請求項２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の発明は、請求項１に記載の発明において、前記研削加工を施す工程は、厚みが３ｎｍ以下の異質層が残留するように前記異質層の一部を研削することを特徴とする。
請求項３に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の発明は、請求項１に記載の発明において、研削加工後に形成される突条の高さを異質層の厚み未満とし、研削後洗浄処理では異質層を選択的にエッチングするアルカリ性の洗浄液で残留する異質層を除去することを特徴とする。 An invention of a method for producing a glass substrate for an information recording medium according to claim 2 is the invention according to claim 1, wherein the step of performing the grinding is performed so that a heterogeneous layer having a thickness of 3 nm or less remains. It is characterized in that a part of the layer is ground.
The invention of the method for producing a glass substrate for an information recording medium according to claim 3 is the invention according to claim 1, wherein the height of the protrusion formed after grinding is less than the thickness of the heterogeneous layer, and cleaning after grinding The treatment is characterized in that the extraneous layer remaining is removed with an alkaline cleaning solution that selectively etches the extraneous layer.

本発明は、以上のように構成されているため、次のような効果を奏する。
請求項１〜３に記載の発明によれば、異質層の厚みを制御することができ、表面の清浄度を高く維持しつつ、平滑性を優れたものとすることができる。 Since this invention is comprised as mentioned above, there exist the following effects.
According to the invention described in claims 1 to 3 , the thickness of the heterogeneous layer can be controlled, and the smoothness can be made excellent while maintaining the cleanliness of the surface high.

実施形態のガラス基板を示す平面図。The top view which shows the glass substrate of embodiment. （ａ）は研削加工が施されたガラス素板の表面の一部を示す断面図、（ｂ）は実施形態のガラス基板の表面の一部を示す断面図。(A) is sectional drawing which shows a part of surface of the glass base plate in which the grinding process was given, (b) is sectional drawing which shows a part of surface of the glass substrate of embodiment. ガラス基板の製造工程を示す工程図。Process drawing which shows the manufacturing process of a glass substrate. ガラス素板の表面に研削加工を施す状態を示す斜視図。The perspective view which shows the state which grinds the surface of a glass base plate. （ａ）はガラス素板の表面に異質層が形成された状態を示す断面図、（ｂ）はガラス基板の深さと組成との関係を示すグラフ。(A) is sectional drawing which shows the state in which the heterogeneous layer was formed in the surface of a glass base plate, (b) is a graph which shows the relationship between the depth of a glass substrate, and a composition.

以下、この発明を具体化した一実施形態を、図面に基づいて説明する。
図１に示すように、情報記録媒体用ガラス基板２１（以下、略して「ガラス基板２１」とも記載する）は、シート状のガラス板から円盤状に切り出されたガラス素板の表面を研磨等することにより、中心に円孔２１ｂを有する円盤状に形成されている。そして、当該ガラス素板は、そのガラス組成中に少なくとも珪素酸化物を含み、同珪素酸化物の他に、アルミニウム酸化物及びアルカリ土類金属酸化物のうちの少なくとも１種を含む多成分系のガラス材料より形成されている。この多成分系のガラス材料としては、フロート法、ダウンドロー法、リドロー法又はプレス法で製造されたソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等が挙げられる。 Hereinafter, an embodiment embodying the present invention will be described with reference to the drawings.
As shown in FIG. 1, a glass substrate 21 for information recording medium (hereinafter also referred to as “glass substrate 21” for short) polishes the surface of a glass base plate cut out from a sheet-like glass plate into a disk shape, etc. By doing so, it is formed in a disk shape having a circular hole 21b in the center. The glass base plate contains at least silicon oxide in the glass composition, and is a multicomponent system containing at least one of aluminum oxide and alkaline earth metal oxide in addition to the silicon oxide. It is formed from a glass material. Examples of the multicomponent glass material include soda lime glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, and crystallized glass produced by a float method, a downdraw method, a redraw method, or a press method.

前記ソーダライムガラスは、そのガラス組成中に珪素酸化物としての二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）と、酸化ナトリウム（Ｎａ_２Ｏ）と、アルカリ土類金属酸化物としての酸化カルシウム（ＣａＯ）とを主成分として含むガラス材料である。アルミノシリケートガラスは、そのガラス組成中にＳｉＯ_２と、アルミニウム酸化物としての酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）と、アルカリ金属酸化物であるＲ_２Ｏ（Ｒ＝カリウム（Ｋ）、ナトリウム（Ｎａ）、リチウム（Ｌｉ））とを主成分として含むガラス材料である。結晶化ガラスとしては、酸化リチウム（Ｌｉ_２Ｏ）−ＳｉＯ_２系ガラス、Ｌｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラス、ＲＯ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラス等が挙げられる。なお、ＲＯはアルカリ土類金属酸化物を示し、そのＲとしてマグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）等が挙げられる。また、ガラス素板に使用する多成分系のガラス材料として、ソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等のガラス組成中に酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）や酸化チタン（ＴｉＯ_２）等を含ませた化学強化用ガラスを使用してもよい。 The soda-lime glass contains silicon dioxide (SiO ₂ ) as a silicon oxide, sodium oxide (Na ₂ O), and calcium oxide (CaO) as an alkaline earth metal oxide as main components in the glass composition. As a glass material to include. The aluminosilicate glass is composed of SiO ₂ , aluminum oxide (Al ₂ O ₃ ) as an aluminum oxide, and R ₂ O (R = potassium (K), sodium (Na) as an alkali metal oxide in the glass composition. , Lithium (Li)) as a main component. Examples of the crystallized glass include lithium oxide (Li ₂ O) —SiO ₂ glass, Li ₂ O—Al ₂ O ₃ —SiO ₂ glass, and RO—Al ₂ O ₃ —SiO ₂ glass. RO represents an alkaline earth metal oxide, and examples of R include magnesium (Mg), calcium (Ca), strontium (Sr), and barium (Ba). In addition, as a multi-component glass material used for the glass base plate, zirconium oxide (ZrO ₂ ) or titanium oxide (TiO ₂ ) in glass compositions such as soda lime glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, crystallized glass, etc. You may use the glass for chemical strengthening which included etc.

当該ガラス基板２１の表面２２に、例えばコバルト（Ｃｏ）、クロム（Ｃｒ）、鉄（Ｆｅ）等の金属又は合金よりなる磁性膜、保護膜等を形成することにより、磁気ディスク、光磁気ディスク、光ディスク等の情報記録媒体が構成される。当該情報記録媒体は、ハードディスク装置等の情報記録装置に回転可能に内装されて使用される。また、該情報記録装置には、情報記録媒体に記録情報を記録したり、その記録された記録情報を読み取ったり等するためのヘッドが内装されている。 By forming a magnetic film, a protective film, or the like made of a metal or alloy such as cobalt (Co), chromium (Cr), or iron (Fe) on the surface 22 of the glass substrate 21, a magnetic disk, a magneto-optical disk, An information recording medium such as an optical disk is configured. The information recording medium is used by being rotatably mounted in an information recording device such as a hard disk device. In addition, the information recording apparatus includes a head for recording the recording information on the information recording medium, reading the recorded recording information, and the like.

前記ヘッドは、回転する情報記録媒体の表面上を所望の記録情報が記録された位置まで移動するシーク動作を行う。このシーク動作は、ノイズの発生、情報記録媒体の傷つき等の不具合が起こることを抑制するため、ヘッドが情報記録媒体の表面から浮上した状態で行われることが理想とされる。従って、ガラス基板２１には高い平滑性が要求される。しかし、実際には近年の高記録密度化の要請により、情報記録媒体の表面からのヘッドの浮上高さ（タッチダウンハイト、以下略してＴＤＨとも記載する）は、５ｎｍ未満に設定されており、シーク動作中のヘッドは、瞬間的に情報記録媒体の表面に接触するようになっている。 The head performs a seek operation to move to the position where desired recording information is recorded on the surface of the rotating information recording medium. This seek operation is ideally performed in a state where the head is lifted from the surface of the information recording medium in order to suppress the occurrence of problems such as generation of noise and scratches on the information recording medium. Therefore, the glass substrate 21 is required to have high smoothness. However, in actuality, due to the recent demand for higher recording density, the flying height of the head from the surface of the information recording medium (touch down height, hereinafter also referred to as TDH for short) is set to less than 5 nm. The head during the seek operation instantaneously comes into contact with the surface of the information recording medium.

当該ガラス基板２１は、ＪＩＳＢ０６０１に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）が、好ましくは０．１〜１．５ｎｍであり、より好ましくは０．１〜１．０ｎｍであり、さらに好ましくは０．１〜０．６ｎｍである。なお、同Ｒａは、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡：デジタルインスツルメント社製）を使用して測定されたものである。Ｒａが大きくなるに従い、ガラス基板２１の表面２２が荒れ、平滑性が低下し、シーク動作中のヘッドが表面２２に発生した凹凸に横方向から衝突したり、引っ掛かったり等する不具合（グライドエラー）が発生しやすくなる。Ｒａを０．１ｎｍ未満とする場合、ガラス素板の研磨時間が長くなり、歩留まりも減少することから、却って製造コストが嵩む。 The glass substrate 21 preferably has an arithmetic average roughness (Ra) defined in JIS B 0601 of 0.1 to 1.5 nm, more preferably 0.1 to 1.0 nm, and still more preferably. 0.1 to 0.6 nm. The Ra was measured using an AFM (Atomic Force Microscope: manufactured by Digital Instruments). As Ra becomes larger, the surface 22 of the glass substrate 21 becomes rough, the smoothness is lowered, and the head during the seek operation collides with the unevenness generated on the surface 22 from the lateral direction or gets caught (glide error). Is likely to occur. When Ra is less than 0.1 nm, the polishing time of the glass base plate becomes long, and the yield also decreases, so that the manufacturing cost increases.

さらに、ガラス基板２１は、ＪＩＳＢ０６０１に規定され、ＡＦＭで測定された最大山高さ（Ｒｐ）が、好ましくは１０ｎｍ以下である。Ｒｐが１０ｎｍを超えると、ガラス基板２１の表面２２に異常な高さの突起（アスペリティ）が存在し、グライドエラーが発生しやすくなる。そして、前記Ｒａに対するＲｐの比（Ｒｐ／Ｒａ）は、好ましくは１０以下である。Ｒｐ／Ｒａが１０を超えると、表面２２に粗さのばらつきが発生し、ヘッドが凸部あるいはアスペリティを飛び越えにくくなり、グライドエラーが発生しやすくなる。 Furthermore, the glass substrate 21 is specified in JIS B 0601, and the maximum peak height (Rp) measured by AFM is preferably 10 nm or less. When Rp exceeds 10 nm, projections (asperity) having an abnormal height are present on the surface 22 of the glass substrate 21, and a glide error is likely to occur. The ratio of Rp to Ra (Rp / Ra) is preferably 10 or less. When Rp / Ra exceeds 10, variations in roughness occur on the surface 22, and the head becomes difficult to jump over the convex portion or asperity, and a glide error is likely to occur.

図２（ｂ）に示すように、ガラス基板２１の表面２２には、複数の突条２４からなるテクスチャー２３が形成されている。各突条２４は、頂部が平坦な尾根状又は頂部が尖った尾根状をなし、それぞれの頂部が図中に二点鎖線で示した基準線２５を超えないように形成されている。このため、当該ガラス基板２１に優れた平滑性が付与され、シーク動作中のヘッドが突条２４に横方向から衝突したり、引っ掛かったり等してグライドエラーが発生することを抑制されている。 As shown in FIG. 2B, a texture 23 including a plurality of protrusions 24 is formed on the surface 22 of the glass substrate 21. Each ridge 24 has a flat ridge shape at the top or a ridge shape with a pointed top, and is formed so that each top does not exceed the reference line 25 indicated by a two-dot chain line in the drawing. For this reason, excellent smoothness is imparted to the glass substrate 21, and the occurrence of a glide error due to the head in the seek operation colliding with the protrusion 24 from the lateral direction or being caught is suppressed.

また、図１に示すように、各突条２４は、全体で同心円を描きながら、それぞれがガラス基板２１の円周方向、つまり情報記録媒体に対するヘッドの移動方向へ延びるように形成されている。当該ガラス基板２１は、表面にテクスチャー２３が形成されない平滑又は超平滑なガラス基板と比較し、ヘッド接触時の接触面積が低減されている。このため、情報記録媒体の表面に塗布された潤滑油等にヘッドが粘着されたり等して発生する情報記録媒体の表面へのヘッドの固着（スティッキング）が抑制されている。従って、スティッキング及びグライドエラーの発生が抑制されていることから、該ガラス基板２１はヘッドの浮上特性が向上しており、情報記録媒体とされたときにその表面とヘッドとの距離を狭め、高記録密度化を図ることが可能となる。 Further, as shown in FIG. 1, each protrusion 24 is formed so as to extend in the circumferential direction of the glass substrate 21, that is, the moving direction of the head relative to the information recording medium, while drawing concentric circles as a whole. The glass substrate 21 has a reduced contact area at the time of head contact as compared with a smooth or ultra-smooth glass substrate in which the texture 23 is not formed on the surface. For this reason, the sticking (sticking) of the head to the surface of the information recording medium, which occurs when the head adheres to the lubricating oil or the like applied to the surface of the information recording medium, is suppressed. Therefore, since the occurrence of sticking and glide errors is suppressed, the glass substrate 21 has improved flying characteristics of the head, and when it is used as an information recording medium, the distance between the surface and the head is reduced. Recording density can be increased.

次に、上記ガラス基板２１の製造方法について説明する。
図３は、このガラス基板２１の製造工程を示す工程図である。同図に示すように、ガラス基板２１は、円盤加工工程１１、端面面取り工程１２、研磨工程１３、研削前洗浄処理工程１４、研削加工工程１５及び研削後洗浄処理工程１６を経て製造される。 Next, a method for manufacturing the glass substrate 21 will be described.
FIG. 3 is a process diagram showing the manufacturing process of the glass substrate 21. As shown in FIG. As shown in the figure, the glass substrate 21 is manufactured through a disk processing step 11, an end face chamfering step 12, a polishing step 13, a pre-grinding cleaning step 14, a grinding step 15 and a post-grinding cleaning step 16.

前記円盤加工工程１１においては、シート状のガラス板を超硬合金又はダイヤモンド製のカッターを用いて切断することにより、その中心に円孔を有する円盤状のガラス素板が形成される。前記端面面取り工程１２においては、ガラス素板の内外周端面が研削され、外径及び内径寸法が所定長さとされるとともに、内外周端面の角部が研磨されて面取り加工される。 In the disk processing step 11, a disk-shaped glass base plate having a circular hole at the center thereof is formed by cutting the sheet-shaped glass plate using a cemented carbide or diamond cutter. In the end face chamfering step 12, the inner and outer peripheral end faces of the glass base plate are ground, the outer diameter and the inner diameter dimension are set to predetermined lengths, and the corner portions of the inner and outer peripheral end faces are polished and chamfered.

前記研磨工程１３においては、ガラス素板の表面に研磨加工が施されることにより、同表面が平滑面とされる。同研磨加工は、前段研磨加工と、後段研磨加工との２段階に大きく分けられる。これらのうち、前段研磨加工は、ガラス素板の厚みを所定値とし、反りやうねりと、凹凸やクラック等の大きな欠陥とを取除いて表面を平坦面とする目的で行われる。従って、同前段研磨加工では、その研磨剤は比較的粒径の粗いものが使用され、研磨パッドは使用しないか、あるいは硬質で目の粗いものが使用される。 In the polishing step 13, the surface of the glass base plate is polished to make the surface smooth. The polishing process can be broadly divided into two stages: a front stage polishing process and a rear stage polishing process. Among these, the pre-polishing process is performed for the purpose of setting the thickness of the glass base plate to a predetermined value, and removing the warp and undulation and large defects such as irregularities and cracks to make the surface flat. Therefore, in the former stage polishing process, a polishing agent having a relatively coarse particle diameter is used, and a polishing pad is not used, or a hard and rough one is used.

後段研磨加工は、情報記録媒体として要求される平滑性を満たすために行われ、同後段研磨加工でガラス素板は、ガラス基板２１相当の表面粗さ、つまりＲａが好ましくは１．５ｎｍ以下となるまで研磨される。従って、研磨剤は、比較的粒径が細かく、ガラス材料に対する親和力が高い、例えば酸化セリウムや酸化ランタン等の希土類酸化物、コロイダルシリカ等が使用される。また、研磨パッドには合成樹脂発泡体、スウェード等を材料とした軟質で目の細かいものが使用される。なお、前段研磨加工及び後段研磨加工は、ガラス素板の研磨効率、表面の平滑性等の向上を図るため、さらに複数段階に分けて施してもよい。 The post-polishing process is performed to satisfy the smoothness required for the information recording medium. In the post-polishing process, the glass base plate has a surface roughness equivalent to the glass substrate 21, that is, Ra is preferably 1.5 nm or less. It is polished until Therefore, as the abrasive, for example, a rare earth oxide such as cerium oxide or lanthanum oxide, colloidal silica, or the like having a relatively small particle diameter and high affinity for the glass material is used. The polishing pad is made of soft and fine material made of synthetic resin foam, suede or the like. The first-stage polishing process and the second-stage polishing process may be further divided into a plurality of stages in order to improve the polishing efficiency and surface smoothness of the glass base plate.

前記研削前洗浄処理工程１４においては、研磨されたガラス素板の表面に研削前洗浄処理が施される。この研削前洗浄処理とは、洗浄液を使用して研磨加工後のガラス素板の表面を洗浄する処理をいい、特には同表面に化学的に強く固着した酸化セリウム、コロイダルシリカ等の研磨剤、表面に食い込んだ鉄粉等の付着物を除去する処理をいう。そして、研削前洗浄処理は、まずガラス素板２１ａを洗浄液である強酸性水溶液に浸漬した後、同ガラス素板２１ａを洗浄液である強アルカリ性水溶液に浸漬することによって行われる。 In the pre-grinding cleaning processing step 14, a pre-grinding cleaning process is performed on the surface of the polished glass base plate. This pre-grinding cleaning process refers to a process of cleaning the surface of the glass base plate after the polishing process using a cleaning liquid, and in particular, an abrasive such as cerium oxide or colloidal silica that is chemically strongly fixed to the surface, A process that removes deposits such as iron powder that has digged into the surface. The pre-grinding cleaning process is performed by first immersing the glass base plate 21a in a strong acidic aqueous solution that is a cleaning liquid, and then immersing the glass base plate 21a in a strong alkaline aqueous solution that is a cleaning liquid.

すなわち、研削前洗浄処理において、強酸性水溶液に浸漬されたガラス素板２１ａは、前に挙げた研磨剤、鉄粉等の付着物のみが、あるいは同付着物がガラス素板２１ａの表面部分とともに強酸性水溶液に溶解することにより、その表面に付着した大半の付着物を除去される。この後に、強アルカリ性水溶液に浸漬されたガラス素板２１ａは、同ガラス素板２１ａ及び付着物が互いに同極性に帯電し、静電気的に反発することにより、強酸性水溶液への浸漬後に残留する付着物を除去される。この研削前洗浄処理時に強酸性水溶液に浸漬されたガラス素板は、その表面のガラス組成が変質し、同ガラス素板の内部のガラス組成と異なるものとなってしまう。そして、図５（ａ）に示すように、研削前洗浄処理が施されたガラス素板２１ａの表面には、その内部２６よりも耐薬品性の低い異質層２７が形成されることとなる。 That is, in the pre-grinding cleaning process, the glass base plate 21a immersed in the strongly acidic aqueous solution is only the deposits such as the abrasive and iron powder mentioned above, or the deposits together with the surface portion of the glass base plate 21a. By dissolving in a strongly acidic aqueous solution, most of the deposits adhered to the surface are removed. After that, the glass base plate 21a immersed in the strong alkaline aqueous solution is attached to the glass base plate 21a and the attached matter after being immersed in the strong acidic aqueous solution by charging the same polarity with each other and repelling electrostatically. Kimono is removed. The glass base plate immersed in the strongly acidic aqueous solution at the time of the pre-grinding cleaning process changes the glass composition on the surface thereof, and is different from the glass composition inside the glass base plate. Then, as shown in FIG. 5A, a heterogeneous layer 27 having a chemical resistance lower than that of the interior 26 is formed on the surface of the glass base plate 21a subjected to the pre-grinding cleaning process.

ここで、異質層２７が形成される理由について説明する。強酸性水溶液に接触したガラス素板２１ａの表面からは、そのガラス組成中に含まれるアルカリ土類金属酸化物及びアルミニウム酸化物がアルカリ土類金属イオン及びアルミニウムイオンとなって強酸性水溶液中に溶出する。これらアルカリ土類金属イオン及びアルミニウムイオンはイオン半径が大きなものであり、アルカリ土類金属イオン及びアルミニウムイオンを取り除かれたガラス素板２１ａの表面の分子中には、大きな隙間が形成されている。このように分子中に隙間が形成された状態でガラス素板２１ａの表面に、例えば酸性水溶液、アルカリ性水溶液等の薬品を接触させた場合、同隙間にこれら薬品から発生した他のイオンが入り込み、ガラスの分子中のＳｉ−Ｏ結合に影響を与える。従って、ガラス素板２１ａの表面からアルカリ土類金属イオン及びアルミニウムイオンを取り除いて形成された異質層２７は、耐酸性、耐アルカリ性等といった耐薬品性が低下することとなる。 Here, the reason why the heterogeneous layer 27 is formed will be described. From the surface of the glass base plate 21a in contact with the strongly acidic aqueous solution, alkaline earth metal oxide and aluminum oxide contained in the glass composition are eluted as alkaline earth metal ions and aluminum ions into the strongly acidic aqueous solution. To do. These alkaline earth metal ions and aluminum ions have a large ion radius, and a large gap is formed in the molecules on the surface of the glass base plate 21a from which the alkaline earth metal ions and aluminum ions have been removed. When a chemical such as an acidic aqueous solution or an alkaline aqueous solution is brought into contact with the surface of the glass base plate 21a in a state where a gap is formed in the molecule in this way, other ions generated from these chemicals enter the gap, Affects Si-O bonds in glass molecules. Therefore, the heterogeneous layer 27 formed by removing alkaline earth metal ions and aluminum ions from the surface of the glass base plate 21a has reduced chemical resistance such as acid resistance and alkali resistance.

同洗浄処理においては、酸性の洗浄液を使用した後、アルカリ性の洗浄液を使用することにより、異質層２７の厚み、変質の程度等を制御し、該異質層２７が過剰な厚みで形成されることを抑制可能としている。これは、強アルカリ性水溶液にガラス素板２１ａの表面を接触させることにより、耐薬品性の低い異質層２７が均質にエッチングされ、同異質層２７の過剰に変質した部分、所望する厚みを超える部分等が除去されることによる。また、ガラス素板の洗浄液への浸漬時間の制御により、強酸性及び強アルカリ性水溶液の表面への浸透の度合いを調整し、異質層２７の厚み、変質の程度等を制御することも可能である。 In this cleaning process, after using an acidic cleaning liquid, an alkaline cleaning liquid is used to control the thickness of the heterogeneous layer 27, the degree of alteration, etc., and the heterogeneous layer 27 is formed with an excessive thickness. Can be suppressed. This is because when the surface of the glass base plate 21a is brought into contact with a strong alkaline aqueous solution, the heterogeneous layer 27 having low chemical resistance is uniformly etched, and the excessively altered portion of the heterogeneous layer 27, a portion exceeding the desired thickness And so on. It is also possible to control the thickness of the heterogeneous layer 27, the degree of alteration, and the like by adjusting the degree of penetration of the strongly acidic and strongly alkaline aqueous solution into the surface by controlling the immersion time of the glass base plate in the cleaning liquid. .

前記強酸性水溶液としては、ｐＨが３．０以下のものを使用することが好ましい。ｐＨが３．０を超える場合、ガラス素板２１ａの表面に付着した研磨剤、鉄粉等の付着物を十分に除去することができず、得られるガラス基板２１の清浄度が低下することとなる。具体的には、強酸性水溶液として、フッ化水素酸、ケイフッ化水素酸、硫酸、硝酸、塩酸、スルファミン酸、酢酸、酒石酸、クエン酸、グルコン酸、マロン酸、シュウ酸等が挙げられる。そして、これらの中から少なくとも１種が選択され、使用される。 As the strongly acidic aqueous solution, it is preferable to use one having a pH of 3.0 or less. When the pH exceeds 3.0, deposits such as abrasives and iron powder adhering to the surface of the glass base plate 21a cannot be sufficiently removed, and the cleanliness of the resulting glass substrate 21 is reduced. Become. Specific examples of the strongly acidic aqueous solution include hydrofluoric acid, hydrosilicofluoric acid, sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, sulfamic acid, acetic acid, tartaric acid, citric acid, gluconic acid, malonic acid, oxalic acid, and the like. At least one of these is selected and used.

前記強アルカリ性水溶液としては、ｐＨが１０．５以上のものを使用することが好ましい。ｐＨが１０．５未満の場合、ガラス素板２１ａの表面に付着した付着物を十分に除去することができず、異質層２７を均質にエッチングすることも難しくなる。具体的には、強アルカリ性水溶液として、水酸化カリウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、アンモニア水等の無機アルカリ水溶液、テトラアンモニウムハイドライド等の有機アルカリ水溶液等が挙げられる。そして、これらの中から少なくとも１種が選択され、使用される。 As the strong alkaline aqueous solution, one having a pH of 10.5 or more is preferably used. If the pH is less than 10.5, the deposits adhering to the surface of the glass base plate 21a cannot be sufficiently removed, and it becomes difficult to etch the heterogeneous layer 27 uniformly. Specifically, examples of the strong alkaline aqueous solution include an aqueous potassium alkali solution, an aqueous sodium hydroxide solution, an inorganic alkaline aqueous solution such as ammonia water, and an organic alkaline aqueous solution such as tetraammonium hydride. At least one of these is selected and used.

図５（ｂ）は、研削前洗浄処理が施されたガラス素板２１ａにおいて、その表面から所定深さにおけるガラス組成中に含まれるイオン数を二次イオン質量分析計（ＳＩＭＳ）を使用して測定した結果を示すグラフである。なお、測定したガラス素板２１ａのガラス材料にはアルミノシリケートガラスを使用している。 FIG. 5B shows the number of ions contained in the glass composition at a predetermined depth from the surface of the glass base plate 21a subjected to the pre-grinding cleaning process using a secondary ion mass spectrometer (SIMS). It is a graph which shows the measurement result. In addition, the aluminosilicate glass is used for the glass material of the measured glass base plate 21a.

この結果より、アルカリ土類金属イオンであるカルシウムイオン（Ｃａ^２＋）及びマグネシウムイオン（Ｍｇ^２＋）と、アルミニウムイオン（Ａｌ^３＋）のイオン数は、ガラス素板２１ａの表面からの深さが深い箇所（内部２６）と比較して、深さが浅い箇所（異質層２７）では減少している。一方、珪素酸化物のケイ素イオン（Ｓｉ^４＋）のイオン数は、内部２６と異質層２７とで変化はない。従って、異質層２７は内部２６と比較し、Ｃａ^２＋、Ｍｇ^２＋及びＡｌ^３＋の減少によってガラス組成中のＳｉ^４＋、つまり珪素酸化物の含有量が相対的に高められている。 As a result, the number of ions of calcium ions (Ca ²⁺ ) and magnesium ions (Mg ²⁺ ) and aluminum ions (Al ³⁺ ), which are alkaline earth metal ions, is deeper from the surface of the glass base plate 21a. Compared with (inside 26), the depth is reduced at a shallow portion (heterogeneous layer 27). On the other hand, the number of silicon ions (Si ⁴⁺ ) in the silicon oxide does not change between the inside 26 and the heterogeneous layer 27. Therefore, the heterogeneous layer 27 has a relatively high content of Si ⁴⁺ , that is, silicon oxide in the glass composition due to a decrease in Ca ²⁺ , Mg ^2+, and Al ³⁺ as compared with the inside 26.

具体的に、異質層２７のガラス組成中における珪素酸化物の含有率は、内部２６のガラス組成中における珪素酸化物の含有率に対し、１．０倍を超え、かつ１．２倍以下であることが好ましい。異質層２７の珪素酸化物の含有率が内部２６の含有率の１．２倍を超えると、耐薬品性が過剰に低下し、ガラス素板２１ａを強アルカリ性水溶液に浸漬したときに、その表面が均質にエッチングされず、荒れることによって平滑性が低下してしまうおそれがある。 Specifically, the content of silicon oxide in the glass composition of the heterogeneous layer 27 is more than 1.0 times and less than 1.2 times the content of silicon oxide in the glass composition of the interior 26. Preferably there is. When the silicon oxide content of the heterogeneous layer 27 exceeds 1.2 times the content of the interior 26, the chemical resistance is excessively reduced, and the surface of the glass substrate 21a when immersed in a strong alkaline aqueous solution is reduced. However, it is not uniformly etched, and there is a possibility that smoothness may deteriorate due to roughening.

前記研削加工工程１５においては、洗浄処理時にガラス素板２１ａの表面に形成された異質層２７を研削し、除去するための研削加工が施される。また、前記テクスチャー２３は、この研削加工時に形成される。当該研削加工は、アルミニウム基板のテクスチャー処理などで一般的に使用される、所謂テクスチャーマシンを使用して行われる。 In the grinding process 15, a grinding process for grinding and removing the heterogeneous layer 27 formed on the surface of the glass base plate 21 a during the cleaning process is performed. The texture 23 is formed during this grinding process. The grinding process is performed by using a so-called texture machine that is generally used for texture processing of an aluminum substrate.

ここで、前記テクスチャーマシンについて説明する。
図４に示すように、当該テクスチャーマシンは、ガラス素板２１ａの直上位置に回動自在に支持されたローラ３１を備えている。同ローラ３１は、その長さがガラス素板２１ａの半径にほぼ等しく、ガラス素板２１ａの半径方向に延びるように配設されている。該ローラ３１とガラス素板２１ａの表面との間には、研磨用摺接部材としてのテープ部材３２がローラ３１の一側方からこれらの間を通って他側方へ移動するように配設されている。このテープ部材３２は、ガラス素板２１ａとローラ３１との間を通る際、ローラ３１からの圧力によってガラス素板２１ａの表面に押圧されて摺接される。また、ガラス素板２１ａの表面には、研磨剤３３が滴下される。 Here, the texture machine will be described.
As shown in FIG. 4, the texture machine includes a roller 31 that is rotatably supported at a position immediately above the glass base plate 21a. The roller 31 is arranged so that its length is substantially equal to the radius of the glass base plate 21a and extends in the radial direction of the glass base plate 21a. Between the roller 31 and the surface of the glass base plate 21a, a tape member 32 as a sliding contact member for polishing is disposed so as to move from one side of the roller 31 to the other side through the roller 31. Has been. When the tape member 32 passes between the glass base plate 21 a and the roller 31, the tape member 32 is pressed against the surface of the glass base plate 21 a by the pressure from the roller 31 and is brought into sliding contact. Moreover, the abrasive | polishing agent 33 is dripped at the surface of the glass base plate 21a.

前記テープ部材３２は、織物、不織布、植毛品などをテープ状に形成したものであり、その材質は特に制限されず、例えばポリエチレン繊維等のように、この種のテクスチャーマシンで使用されるものであればいかなるものも用いることができる。研磨剤３３は、研磨粉を水等の液中に分散させて得られるものである。この研磨粉としては、前に挙げた希土類酸化物、コロイダルシリカの他に、ダイヤモンド砥粒が挙げられる。該研削加工では、ガラス素板２１ａの表面に付着しにくく、化学的に影響を与えることのないダイヤモンド砥粒を使用することが好ましい。 The tape member 32 is formed by forming a woven fabric, a non-woven fabric, a flocked product or the like into a tape shape, and the material thereof is not particularly limited. For example, the tape member 32 is used in this type of texture machine such as polyethylene fiber. Anything can be used. The abrasive 33 is obtained by dispersing abrasive powder in a liquid such as water. Examples of the polishing powder include diamond abrasive grains in addition to the rare earth oxides and colloidal silica mentioned above. In the grinding process, it is preferable to use diamond abrasive grains that do not easily adhere to the surface of the glass base plate 21a and do not affect chemically.

ダイヤモンド砥粒は、要求される研削量に応じてその粒径、形状が適宜選択される。この実施形態では、平均粒径（Ｄ_５０）で好ましくは０．０５〜０．３μｍ、より好ましくは０．０８〜０．２５μｍのダイヤモンド砥粒が使用される。Ｄ_５０が０．０５μｍ未満の場合、ガラス素板２１ａに対する研削能力の低下を招き、歩留まりの低下、加工コストの高騰を招くおそれがある。一方、０．３μｍを越えると、高低差の大きな突条２４が形成され、ガラス素板２１ａの表面が荒れてしまうおそれがある。 The grain size and shape of the diamond abrasive grains are appropriately selected according to the required grinding amount. In this embodiment, diamond abrasive grains having an average particle diameter (D ₅₀ ) of preferably 0.05 to 0.3 μm, more preferably 0.08 to 0.25 μm are used. If D ₅₀ is less than 0.05 .mu.m, it causes a decrease in grinding capability for glass workpieces 21a, decrease in yield, can lead to rise in processing cost. On the other hand, if it exceeds 0.3 μm, a large protrusion 24 with a high difference in height is formed, and the surface of the glass base plate 21a may be roughened.

上記テクスチャーマシンを使用した研削加工において、ガラス素板２１ａは、図４中の矢印方向に回転されながら、その表面にテープ部材３２が摺接されることにより、同表面を研削される。研削加工後のガラス素板２１ａは、図２（ａ）に示すように、異質層２７の大半を除去されるとともに、その表面に複数の突条２４からなるテクスチャー２３が形成される。また、同研削加工で除去することのできなかった異質層２７は、一部の突条２４の上部に残留することとなる。 In the grinding process using the texture machine, the glass base plate 21a is ground in such a manner that the tape member 32 is brought into sliding contact with the surface of the glass base plate 21a while rotating in the direction of the arrow in FIG. As shown in FIG. 2A, the glass substrate 21a after the grinding process is formed by removing most of the heterogeneous layer 27 and forming a texture 23 including a plurality of protrusions 24 on the surface thereof. Further, the heterogeneous layer 27 that could not be removed by the grinding process remains on top of some of the protrusions 24.

研削加工後の状態で、ガラス素板２１ａの表面に残留する異質層２７の厚みは、好ましくは３ｎｍ以下である。残留する異質層２７の厚みが増すに従い、当該研削加工工程１５よりも後に施される前記研削後洗浄処理工程１６で異質層２７が不均一にエッチングされたり等するため、得られるガラス基板２１の表面２２が荒れてしまう。なお、残留する異質層２７の厚みの下限は、０ｎｍである。 The thickness of the heterogeneous layer 27 remaining on the surface of the glass base plate 21a in the state after grinding is preferably 3 nm or less. As the thickness of the remaining heterogeneous layer 27 increases, the heterogeneous layer 27 is etched non-uniformly in the post-grinding cleaning processing step 16 performed after the grinding step 15, so that the glass substrate 21 obtained is obtained. The surface 22 becomes rough. Note that the lower limit of the thickness of the remaining heterogeneous layer 27 is 0 nm.

研削加工工程１５において、その研削量は、好ましくは０．５ｎｍ以上である。研削量が０．５ｎｍ未満の場合、研削加工後のガラス素板２１ａの表面に厚さ３ｎｍよりも多くの異質層２７が残留し、前述のように得られるガラス基板２１の表面２２が荒れてしまう。なお、この研削量とは、テクスチャー２３の有無に係わらず、研削加工を施す前のガラス素板２１ａの厚みから、研削加工を施した後のガラス素板２１ａの厚みを引くことによって算出された量を示す。つまり、ここでいう研削量は、テクスチャー２３を構成する各突条２４の平均高さを示す量ではない。また、研削量の上限は、前記研削前洗浄処理が施された直後の異質層２７の厚みと同値である。研削量が異質層２７の厚みを超える場合、異質層２７を除去するための研削加工でガラス素板２１ａの表面を却って傷つけることとなり、得られるガラス基板２１の平滑性が低下してしまうおそれがある。 In the grinding step 15, the grinding amount is preferably 0.5 nm or more. When the grinding amount is less than 0.5 nm, a heterogeneous layer 27 having a thickness of more than 3 nm remains on the surface of the glass base plate 21a after grinding, and the surface 22 of the glass substrate 21 obtained as described above becomes rough. End up. The grinding amount was calculated by subtracting the thickness of the glass base plate 21a after the grinding process from the thickness of the glass base plate 21a before the grinding process regardless of the presence or absence of the texture 23. Indicates the amount. That is, the amount of grinding here is not an amount indicating the average height of each protrusion 24 constituting the texture 23. The upper limit of the grinding amount is the same value as the thickness of the heterogeneous layer 27 immediately after the pre-grinding cleaning process is performed. When the amount of grinding exceeds the thickness of the heterogeneous layer 27, the surface of the glass base plate 21a is damaged by the grinding process for removing the heterogeneous layer 27, and the smoothness of the glass substrate 21 obtained may be reduced. is there.

前記研削後洗浄処理工程１６においては、研削加工後のガラス素板２１ａの表面からダイヤモンド砥粒等の研磨粉、塵埃等を除去するために研削後洗浄処理が施される。この研削後洗浄処理は、洗浄液にガラス素板２１ａを浸漬することによって行われる。ガラス素板２１ａが洗浄液に浸漬された状態で、研磨粉、塵埃等がガラス素板２１ａの表面から洗い流され、洗浄液中に分散されて除去されることにより、得られるガラス基板２１の清浄度が高められる。 In the cleaning process step 16 after grinding, a cleaning process after grinding is performed in order to remove polishing powder such as diamond abrasive grains, dust, and the like from the surface of the glass base plate 21a after grinding. This post-grinding cleaning process is performed by immersing the glass base plate 21a in the cleaning liquid. In the state where the glass base plate 21a is immersed in the cleaning liquid, polishing powder, dust, etc. are washed away from the surface of the glass base plate 21a and dispersed and removed in the cleaning liquid, whereby the cleanliness of the glass substrate 21 obtained is improved. Enhanced.

前記洗浄液には、同洗浄液によるガラス素板２１ａへの化学的な影響を抑えるため、中性又はアルカリ性のものが使用される。アルカリ性の洗浄液としては、前記研削前洗浄処理で挙げたアルカリ性水溶液が挙げられる。中性の洗浄液としては、水、純水、イソプロピルアルコール等のアルコール、塩化ナトリウム等のアルカリ金属塩等といった無機塩の水溶液を電気分解することにより得られた電解水又はガスが溶解されたガス溶解水等の機能水等の中性水溶液が挙げられる。なお、電解水には、電気分解時に陽極側で得られるものと陰極側で得られるものの二種類があり、洗浄液にはいずれを使用してもよい。 In order to suppress the chemical influence on the glass base plate 21a by the cleaning liquid, a neutral or alkaline liquid is used as the cleaning liquid. Examples of the alkaline cleaning liquid include the alkaline aqueous solutions mentioned in the cleaning process before grinding. As a neutral cleaning solution, electrolysis water obtained by electrolyzing an aqueous solution of an inorganic salt such as water, pure water, alcohol such as isopropyl alcohol, alkali metal salt such as sodium chloride, or the like is dissolved in gas dissolved in gas. A neutral aqueous solution such as functional water such as water can be used. There are two types of electrolyzed water, one obtained on the anode side during electrolysis and the other obtained on the cathode side, and any of them may be used as the cleaning liquid.

一方、前記研削加工で述べたように、ガラス基板２１の表面２２が荒れることを抑制するため、研削加工後のガラス素板２１ａの表面には、３ｎｍ以下の厚みの異質層２７が残留している。同異質層２７をほぼ完全に除去することを目的とする場合、当該研削後洗浄処理で使用する洗浄液には、異質層２７のみをエッチングし、内部２６には影響を与えないようにするため、アルカリ性のものを使用することが好ましい。具体的には、洗浄液としてｐＨが１１．０〜１３．０のアルカリ性水溶液を使用することが好ましい。ｐＨが１１．０未満の場合、異質層２７を十分にエッチングして除去することが可能な程度のエッチング能を有していないおそれがある。ｐＨが１３．０を超えると、異質層２７のみならず、内部２６までエッチングされるおそれがあるとともに、異質層２７が均一にエッチングされず、得られたガラス基板２１の表面２２が却って荒れるおそれがある。さらに、この研削後洗浄処理工程１６での洗浄効果を高めるため、洗浄液に、界面活性剤、キレート剤、有機溶剤等の助剤（ビルダー）を添加してもよい。 On the other hand, as described in the grinding process, in order to prevent the surface 22 of the glass substrate 21 from being roughened, the heterogeneous layer 27 having a thickness of 3 nm or less remains on the surface of the glass base plate 21a after the grinding process. Yes. When the purpose is to remove the heterogeneous layer 27 almost completely, the cleaning liquid used in the post-grinding cleaning process only etches the heterogeneous layer 27 and does not affect the interior 26. It is preferable to use an alkaline one. Specifically, it is preferable to use an alkaline aqueous solution having a pH of 11.0 to 13.0 as the cleaning liquid. When the pH is less than 11.0, there is a possibility that the heterogeneous layer 27 does not have an etching ability enough to remove the heterogeneous layer 27 by etching. If the pH exceeds 13.0, not only the heterogeneous layer 27 but also the inside 26 may be etched, and the heterogeneous layer 27 may not be uniformly etched, and the surface 22 of the obtained glass substrate 21 may be roughened. There is. Furthermore, in order to enhance the cleaning effect in the post-grinding cleaning processing step 16, an auxiliary agent (builder) such as a surfactant, a chelating agent, or an organic solvent may be added to the cleaning liquid.

上記のように、研削後洗浄処理工程１６で洗浄液にアルカリ性のものを使用した場合、異質層２７が耐薬品性の低いものであることから、同異質層２７は、洗浄液によって選択的に溶解され、除去される。このとき、図２（ａ），（ｂ）に示すように、異質層２７が各突条２４の上部に残留していることから、各突条２４の高さを、異質層２７と内部２６との境界である基準線２５でそれぞれ均一に揃えることが可能となる。また、当該異質層２７中に食い込んだ、あるいは異質層２７の表面に固着した研磨剤、鉄粉、研磨粉等を、この研削後洗浄処理を施すことによってほぼ完全に除去することが可能となる。そして、研削後洗浄処理が施され、ガラス素板２１ａから得られたガラス基板２１は、その表面の清浄度を高く維持しつつ、平滑性の優れたものとなる。 As described above, when an alkaline cleaning solution is used in the cleaning process step 16 after grinding, the heterogeneous layer 27 is selectively dissolved by the cleaning solution because the heterogeneous layer 27 has low chemical resistance. Removed. At this time, as shown in FIGS. 2A and 2B, since the heterogeneous layer 27 remains on the top of each ridge 24, the height of each ridge 24 is set to the height between the heterogeneous layer 27 and the inside 26. It is possible to evenly align them at the reference line 25, which is the boundary between them. Moreover, it becomes possible to remove the abrasive, iron powder, abrasive powder, etc. that have digged into the heterogeneous layer 27 or adhered to the surface of the heterogeneous layer 27 by performing the post-grinding cleaning process. . And the washing | cleaning process after grinding is performed and the glass substrate 21 obtained from the glass base plate 21a becomes the thing excellent in smoothness, maintaining the cleanliness of the surface high.

前記実施形態によって発揮される効果について、以下に記載する。
・本実施形態のガラス基板２１は、ガラス素板２１ａに円盤加工、端面面取り、研磨、研削前洗浄処理、研削加工及び研削後洗浄処理を順番に施して製造される。これらのうち、研削前洗浄処理では、ガラス素板２１ａの表面に固着等した付着物を除去するため、その洗浄液に強酸性水溶液が使用され、同強酸性水溶液が使用されることにより、その表面に耐薬品性の低い異質層２７が形成されてしまう。これに対し、研削加工では、ガラス素板２１ａの表面を研削し、異質層２７を除去することにより、当該異質層２７の厚みが所定値以下とされる。このため、研削加工後のガラス素板２１ａの表面を洗浄する際に、洗浄液の影響により異質層２７が不均一にエッチングされる等といった不具合の発生を抑制することができる。従って、当該ガラス素板２１ａから得られたガラス基板２１を、その表面の清浄度を高く維持しつつ、平滑性の優れたものとすることができる。 The effects exhibited by the embodiment will be described below.
The glass substrate 21 of the present embodiment is manufactured by sequentially performing disk processing, end chamfering, polishing, pre-grinding cleaning processing, grinding processing, and post-grinding cleaning processing on the glass base plate 21a. Among these, in the pre-grinding cleaning treatment, a strong acidic aqueous solution is used as the cleaning liquid in order to remove deposits and the like adhered to the surface of the glass base plate 21a. In other words, the heterogeneous layer 27 having low chemical resistance is formed. On the other hand, in the grinding process, the surface of the glass base plate 21a is ground and the extraneous layer 27 is removed, whereby the thickness of the extraneous layer 27 is set to a predetermined value or less. For this reason, when the surface of the glass base plate 21a after the grinding process is cleaned, it is possible to suppress the occurrence of problems such as the heterogeneous layer 27 being etched unevenly due to the influence of the cleaning liquid. Therefore, it is possible to make the glass substrate 21 obtained from the glass base plate 21a excellent in smoothness while maintaining high cleanliness of the surface.

・また、研削加工では、ガラス素板２１ａの表面の研削量を０．５ｎｍ以上とし、研削後の異質層２７の厚みを３ｎｍ以下としている。このように、研削量及び異質層２７の厚みを設定することにより、異質層２７が研削後のガラス素板２１ａの表面に必要以上に残留することを抑えることができる。従って、洗浄液の影響により、研削加工後のガラス素板２１ａの表面で異質層２７が不均一にエッチングされる等の不具合の発生が効果的に抑制され、得られるガラス基板２１の平滑性をさらに優れたものとすることができる。 In the grinding process, the grinding amount of the surface of the glass base plate 21a is 0.5 nm or more, and the thickness of the heterogeneous layer 27 after grinding is 3 nm or less. Thus, by setting the grinding amount and the thickness of the heterogeneous layer 27, it is possible to suppress the extraneous layer 27 from remaining on the surface of the glass base plate 21a after grinding more than necessary. Therefore, the occurrence of defects such as uneven etching of the heterogeneous layer 27 on the surface of the glass base plate 21a after grinding is effectively suppressed by the influence of the cleaning liquid, and the smoothness of the glass substrate 21 obtained is further increased. It can be excellent.

・また、異質層２７のガラス組成中における珪素酸化物の含有率は、内部２６のガラス組成中における珪素酸化物の含有率に対し、１．０倍を超え、１．２倍以下とされている。このため、異質層２７の耐薬品性が過剰に低下することを抑制し、洗浄等によるガラス素板の表面の荒れを防止することができる。 In addition, the silicon oxide content in the glass composition of the heterogeneous layer 27 is more than 1.0 times and 1.2 times or less than the silicon oxide content in the glass composition of the interior 26. Yes. For this reason, it can suppress that the chemical resistance of the heterogeneous layer 27 falls excessively, and can prevent the surface roughness of the glass base plate by washing | cleaning etc.

・また、研削前洗浄処理では、洗浄液に強酸性水溶液を使用することにより、アルカリ土類金属イオン又はアルミニウムイオンが選択的に溶出し、珪素酸化物の含有量が内部２６よりも相対的に高められる。このため、異質層２７の耐薬品性を簡易に調整しつつ、ガラス素板２１ａの表面を洗浄することができる。 In addition, in the pre-grinding cleaning treatment, alkaline earth metal ions or aluminum ions are selectively eluted by using a strongly acidic aqueous solution as the cleaning liquid, and the content of silicon oxide is relatively higher than the interior 26. It is done. For this reason, the surface of the glass base plate 21a can be washed while easily adjusting the chemical resistance of the heterogeneous layer 27.

・また、研削加工は、テクスチャーマシンを使用し、テープ部材３２をガラス素板２１ａの円周方向へ摺接させることによって施される。従って、テクスチャー２３を構成する各突条２４を円周方向へ延びるように確実に形成することができ、ヘッドの浮上特性が向上されたガラス基板を歩留まりよく製造することができる。 The grinding process is performed by using a texture machine and sliding the tape member 32 in the circumferential direction of the glass base plate 21a. Therefore, each protrusion 24 constituting the texture 23 can be reliably formed to extend in the circumferential direction, and a glass substrate with improved head flying characteristics can be manufactured with a high yield.

以下、前記実施形態をさらに具体化した実施例について説明する。
（実施例１）
アルミノシリケートガラスよりなるガラス素板を、そのサイズが厚み０．６ｍｍ、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍとなるように形成した。アルミノシリケートガラスのガラス組成は、ＳｉＯ_２６３モル％、Ａｌ_２Ｏ_３１６モル％、Ｎａ_２Ｏ１１モル％、Ｌｉ_２Ｏ４モル％、ＭｇＯ２モル％、ＣａＯ４モル％であった。次に、同ガラス素板に研削前洗浄処理を施した。この研削前洗浄処理は、ガラス素板を濃度が０．０１％のフッ化水素酸に温度３５℃で３分間浸漬した後、濃度０．０１％の水酸化カリウム水溶液（ＫＯＨ）に温度３５℃で３分間浸漬することによって行った。 Examples that further embody the above-described embodiment will be described below.
Example 1
A glass base plate made of aluminosilicate glass was formed such that its size was 0.6 mm thick, outer diameter 65 mm, and inner diameter 20 mm. Glass composition of aluminosilicate glass, _SiO 2 63 _mol%, Al _{2 O} 3 16 mol%, _Na 2 O 11 mol%, _Li 2 O 4 mol%, MgO 2 mol% and CaO 4 mol%. Next, the glass base plate was subjected to a pre-grinding cleaning process. In this pre-grinding cleaning treatment, a glass base plate is immersed in hydrofluoric acid having a concentration of 0.01% for 3 minutes at a temperature of 35 ° C., and then immersed in an aqueous solution of potassium hydroxide (KOH) having a concentration of 0.01% at a temperature of 35 ° C. For 3 minutes.

その後、ガラス素板に研削加工を施し、その両面を研削した。この研削加工では、研磨剤の研磨粉にはダイヤモンド砥粒を使用し、テクスチャーを形成することなくガラス素板を研削するとともに、その研削量を２ｎｍとした。また、研削加工後、ガラス素板の表面に存在する異質層の厚みは２ｎｍであった。この後、ガラス素板に研削後洗浄処理を施した。この研削後洗浄処理は、ガラス素板を濃度１％の水酸化カリウム水溶液に温度３５℃で３分間浸漬することによって行った。そして、実施例１のガラス基板を得た。 Then, the glass base plate was ground and both surfaces thereof were ground. In this grinding process, diamond abrasive grains were used as the polishing powder of the abrasive, the glass base plate was ground without forming a texture, and the amount of grinding was 2 nm. Moreover, the thickness of the heterogeneous layer which exists in the surface of a glass base plate after grinding was 2 nm. Thereafter, the glass base plate was subjected to a cleaning treatment after grinding. This post-grinding cleaning treatment was performed by immersing the glass base plate in a 1% strength potassium hydroxide aqueous solution at a temperature of 35 ° C. for 3 minutes. And the glass substrate of Example 1 was obtained.

実施例１のガラス基板の表面をＡＦＭを使用し、Ｒａを１０μｍ四方の視野で１０視野以上測定した。この測定結果からＲａのばらつき率を算出した。なお、同Ｒａのばらつき率は、全視野でのＲａの全体平均値と、各視野毎のＲａの個別平均値とをそれぞれ比較した場合、個別平均値が全体平均値から０．１ｎｍ以上異なる視野数が全視野数に対して占める割合を示す。例えば、１０視野を測定し、そのうち３視野の個別平均値が全体平均値から０．１ｎｍ以上異なっている場合、Ｒａのばらつき率は３０％となる。つまり、同Ｒａのばらつき率は、高ければガラス基板の表面が荒れていることを示し、低ければガラス基板の表面が平滑であることを示す。この実施例１のＲａのばらつき率は、３％以下であった。また、ＴＤＨは、４ｎｍであった。これらの結果より、平滑性及び浮上特性の良好なガラス基板が得られた。
（実施例２）
研削加工において、研削量を４ｎｍとし、異質層の厚みを１ｎｍとした以外は、実施例１と同様にしてガラス素板を加工し、実施例２のガラス基板を得た。実施例２のガラス基板のＲａのばらつき率は、２％以下であり、ＴＤＨは、３．５ｎｍであった。この結果から、平滑性及び浮上特性の良好なガラス基板が得られた。
（実施例３）
研削前洗浄処理においては、濃度０．０２％の水酸化カリウム水溶液を使用し、研削加工においては、ガラス素板にテクスチャーを形成し、研削後洗浄処理においては、濃度２％の水酸化カリウム水溶液を使用した。これら以外は、実施例１と同様にしてガラス素板を加工し、実施例３のガラス基板を得た。 The surface of the glass substrate of Example 1 was measured using AFM, and Ra was measured in 10 fields or more in a 10 μm square field. From this measurement result, the variation rate of Ra was calculated. It should be noted that the variation rate of the same Ra is a field of view in which the individual average value is different from the overall average value by 0.1 nm or more when the overall average value of Ra in the entire visual field is compared with the individual average value of Ra for each visual field The ratio of the number to the total number of fields is shown. For example, when 10 fields of view are measured and the individual average value of 3 fields of view differs from the overall average value by 0.1 nm or more, the variation rate of Ra is 30%. That is, if the variation rate of Ra is high, it indicates that the surface of the glass substrate is rough, and if it is low, it indicates that the surface of the glass substrate is smooth. The variation rate of Ra in Example 1 was 3% or less. Moreover, TDH was 4 nm. From these results, a glass substrate having good smoothness and flying characteristics was obtained.
(Example 2)
In the grinding process, the glass base plate was processed in the same manner as in Example 1 except that the grinding amount was 4 nm and the thickness of the heterogeneous layer was 1 nm, whereby a glass substrate of Example 2 was obtained. The variation rate of Ra of the glass substrate of Example 2 was 2% or less, and the TDH was 3.5 nm. From this result, a glass substrate having good smoothness and flying characteristics was obtained.
(Example 3)
In the cleaning process before grinding, a potassium hydroxide aqueous solution having a concentration of 0.02% is used. In the grinding process, a texture is formed on the glass base plate. In the cleaning process after grinding, a potassium hydroxide aqueous solution having a concentration of 2% is used. It was used. Except for these, the glass base plate was processed in the same manner as in Example 1 to obtain the glass substrate of Example 3.

このとき、テクスチャー形成のための研削加工の加工条件は、テープ部材の張力：２２．１（Ｎ）、テープ部材の速度：７．６（ｃｍ／ｍｉｎ）、ローラの押圧力：３０．９（Ｎ）、ガラス素板の回転数：３００（ｒｐｍ）、ダイヤモンドスラリーの供給量：２０（ｍｌ／ｍｉｎ）とした。また、テープ部材にはポリエステル製のものを、ダイヤモンド砥粒には粒子径が０．２（μｍ）のものを使用した。 At this time, the grinding processing conditions for texture formation were as follows: tape member tension: 22.1 (N), tape member speed: 7.6 (cm / min), roller pressing force: 30.9 ( N), the rotation speed of the glass base plate: 300 (rpm), and the supply amount of the diamond slurry: 20 (ml / min). The tape member was made of polyester, and the diamond abrasive grains were 0.2 (μm) in particle size.

実施例３のガラス基板のＲａのばらつき率は、３％以下であり、ＴＤＨは、２．５ｎｍであった。これを実施例１の結果と比較検討した結果、Ｒａのばらつき率に変化がなくとも、ＴＤＨが向上したことから、テクスチャーを形成することによって浮上特性が向上することが示された。
（比較例１）
研削加工を施さなかった以外は、実施例１と同様にしてガラス素板を加工し、比較例１のガラス基板を得た。このとき、異質層の厚みは５ｎｍであった。比較例１のガラス基板のＲａのばらつき率は、１５％以上であり、ＴＤＨは、５ｎｍであった。これを実施例１の結果と比較検討した結果、Ｒａのばらつき率が上がり、ＴＤＨも低下したことから、研削加工を施さない場合、異質層が不均一にエッチングされ、平滑性が低下するとともに、これに伴って浮上特性も低下することが示された。 The variation rate of Ra of the glass substrate of Example 3 was 3% or less, and the TDH was 2.5 nm. As a result of comparing this with the result of Example 1, it was shown that even if the variation rate of Ra did not change, the TDH was improved, so that the floating characteristics were improved by forming the texture.
(Comparative Example 1)
A glass base plate was processed in the same manner as in Example 1 except that the grinding process was not performed, and a glass substrate of Comparative Example 1 was obtained. At this time, the thickness of the heterogeneous layer was 5 nm. The variation rate of Ra of the glass substrate of Comparative Example 1 was 15% or more, and the TDH was 5 nm. As a result of comparing and examining the result of Example 1, the variation rate of Ra was increased and TDH was also decreased, so that when the grinding process was not performed, the heterogeneous layer was etched unevenly, and the smoothness decreased. Along with this, it was shown that the floating characteristics also deteriorated.

なお、前記実施形態又は実施例を次のように変更して構成してもよい。
・実施形態では研削加工時にテクスチャー２３を形成したが、これに限らず実施例で示したように、テクスチャー２３を形成することなく、異質層２７の一部を研削し、除去するためにのみ研削加工を施してもよい。なお、研削加工でテクスチャー２３を形成しない場合には、ダイヤモンド砥粒の粒径、形状を適宜選択することにより、同研削加工で形成される突条２４の高さを異質層２７の厚み未満とすればよい。このように構成した場合、製造を簡易なものとすることができ、生産量の向上を図ることができる。 The above embodiment or example may be modified as follows.
In the embodiment, the texture 23 is formed at the time of grinding. However, the present invention is not limited to this, and as shown in the embodiment, the texture 23 is not formed, and grinding is performed only for grinding and removing a part of the heterogeneous layer 27. Processing may be performed. In addition, when the texture 23 is not formed by grinding, the height of the protrusion 24 formed by the grinding is less than the thickness of the heterogeneous layer 27 by appropriately selecting the grain size and shape of the diamond abrasive grains. do it. When configured in this way, the manufacturing can be simplified, and the production amount can be improved.

・円盤加工工程１１、端面面取り工程１２、研磨工程１３、研削前洗浄処理工程１４、研削加工工程１５及び研削後洗浄処理工程１６のうち、少なくともいずれか１つの工程後、必要に応じてガラス素板２１ａを洗浄するための洗浄工程を設けてもよい。なお、同洗浄工程の洗浄には、ガラス素板２１ａの表面に付着した研磨粉、鉄粉、研磨剤、塵埃等の付着物を除去するための洗浄の他、ガラス素板２１ａの表面に残留する洗浄液を除去するための洗浄も含むものとする。この洗浄工程で使用する洗浄液としては、前に挙げた酸性水溶液、アルカリ性水溶液、中性水溶液が使用される。 -After at least one of the disk processing step 11, the end chamfering step 12, the polishing step 13, the pre-grinding cleaning processing step 14, the grinding processing step 15 and the post-grinding cleaning processing step 16, and if necessary, glass A cleaning process for cleaning the plate 21a may be provided. In addition, in the cleaning in the cleaning step, in addition to cleaning for removing deposits such as abrasive powder, iron powder, abrasives, and dust adhered to the surface of the glass base plate 21a, the glass substrate 21a remains on the surface. It also includes cleaning for removing the cleaning liquid. As the cleaning solution used in this cleaning step, the acidic aqueous solution, alkaline aqueous solution and neutral aqueous solution mentioned above are used.

・円盤加工工程１１、端面面取り工程１２、研磨工程１３、研削前洗浄処理工程１４、研削加工工程１５及び研削後洗浄処理工程１６のいずれかの工程の間に化学強化工程を設けてもよい。この化学強化工程では、情報記録媒体として要求される耐衝撃性、耐振動性、耐熱性等を向上させるため、ガラス素板２１ａの表面に化学強化処理が施される。この化学強化処理とは、ガラス組成中に含まれるリチウムイオンやナトリウムイオン等の一価の金属イオンを、それよりイオン半径が大きいナトリウムイオンやカリウムイオン等の一価の金属イオンにイオン交換することをいう。そして、同化学強化処理により、ガラス素板２１ａの表面には圧縮応力層が形成され、その表面が化学強化される。化学強化処理は、硝酸カリウム（ＫＮＯ_３）、硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ_３）、硝酸銀（ＡｇＮＯ_３）等が加熱溶融された化学強化処理液にガラス素板２１ａを浸漬して行われる。同化学強化処理時の温度は、使用したガラス材料の歪点よりも好ましくは５０〜１５０℃程度低い温度であり、より好ましくは化学強化処理液自体の温度が３５０〜４００℃程度である。 A chemical strengthening step may be provided between any of the disk processing step 11, the end chamfering step 12, the polishing step 13, the pre-grinding cleaning step 14, the grinding step 15 and the post-grinding cleaning step 16. In this chemical strengthening step, a chemical strengthening process is performed on the surface of the glass base plate 21a in order to improve the impact resistance, vibration resistance, heat resistance, etc. required for the information recording medium. This chemical strengthening treatment refers to ion exchange of monovalent metal ions such as lithium ions and sodium ions contained in the glass composition to monovalent metal ions such as sodium ions and potassium ions having a larger ion radius. Say. And the compressive-stress layer is formed in the surface of the glass base plate 21a by the same chemical strengthening process, and the surface is chemically strengthened. The chemical strengthening treatment is performed by immersing the glass base plate 21a in a chemical strengthening treatment liquid in which potassium nitrate (KNO ₃ ), sodium nitrate (NaNO ₃ ), silver nitrate (AgNO ₃ ), etc. are heated and melted. The temperature during the chemical strengthening treatment is preferably about 50 to 150 ° C. lower than the strain point of the used glass material, and more preferably the temperature of the chemical strengthening treatment liquid itself is about 350 to 400 ° C.

・実施例ではガラス基板のガラス材料として、ガラス組成中にアルカリ土類金属酸化物及びアルミニウム酸化物を含むアルミノシリケートガラスを使用したが、これに限らず、前に挙げたようなソーダライムガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等を使用してもよい。これらソーダライムガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等は、そのガラス組成中にアルミニウム酸化物を全く含まないか、あるいは極僅かに含むガラス材料である。そして、これらガラス材料を使用した場合、異質層はガラス組成中からアルカリ土類金属酸化物のアルカリ土類金属イオンが溶出されることによって形成される。 In the examples, as the glass material of the glass substrate, an aluminosilicate glass containing an alkaline earth metal oxide and an aluminum oxide was used in the glass composition, but not limited thereto, soda lime glass as mentioned above, Borosilicate glass, crystallized glass, etc. may be used. These soda lime glass, borosilicate glass, crystallized glass, and the like are glass materials that contain no or very little aluminum oxide in the glass composition. When these glass materials are used, the heterogeneous layer is formed by elution of alkaline earth metal ions of alkaline earth metal oxide from the glass composition.

・前記異質層は、ガラス組成中からアルカリ土類金属イオン又はアルミニウムイオンが取り除かれて形成されることに限らず、カリウムイオン、ナトリウムイオン、リチウムイオン等のアルカリ金属イオンが取り除かれて形成されるものであってもよい。 The heterogeneous layer is not limited to being formed by removing alkaline earth metal ions or aluminum ions from the glass composition, but formed by removing alkali metal ions such as potassium ions, sodium ions, lithium ions, etc. It may be a thing.

・前記研削加工では、実施形態で示したテクスチャーマシンを使用することに限らず、ガラス素板２１ａの表面を擦り、異質層２７を研削して除去することが可能であれば、いずれの装置を使用してもよい。また、このように異質層２７を研削して除去する場合、ヘッドの移動方向となる周方向にガラス素板２１ａの表面を擦ることが可能な装置を使用することが好ましい。これは、前述のようにガラス素板２１ａの表面を周方向に研削することにより、ヘッドの浮上特性を向上させることができることによる。このような装置としては、例えばスクラブマシン等が挙げられる。このスクラブマシンとは、回転可能に支持された合成樹脂、発泡体等よりなる研磨用摺接部材としての円板状のスクラブ材を有し、同スクラブ材を回転させながら、ガラス素板２１ａの表面をその周方向に擦ることができるように構成された装置をいう。 In the grinding process, not only the texture machine shown in the embodiment is used, but any apparatus can be used as long as the surface of the glass base plate 21a can be rubbed and the extraneous layer 27 can be removed by grinding. May be used. In addition, when the extraneous layer 27 is removed by grinding in this way, it is preferable to use an apparatus capable of rubbing the surface of the glass base plate 21a in the circumferential direction which is the moving direction of the head. This is because the flying characteristics of the head can be improved by grinding the surface of the glass base plate 21a in the circumferential direction as described above. An example of such an apparatus is a scrub machine. This scrub machine has a disc-like scrubbing material as a polishing sliding contact member made of synthetic resin, foam or the like that is rotatably supported, and the glass base plate 21a is rotated while the scrubbing material is rotated. An apparatus configured to rub the surface in the circumferential direction.

２１…情報記録媒体用ガラス基板、２１ａ…ガラス素板、２２…表面、２４…突条、２６…内部、２７…異質層。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 21 ... Glass substrate for information recording media, 21a ... Glass base plate, 22 ... Surface, 24 ... Projection, 26 ... Inside, 27 ... Different layer.

Claims

An information record in which the variation rate of the surface roughness (Ra) calculated from the measurement result obtained by measuring the surface roughness (Ra) of 10 fields or more in a 10 μm square field using an atomic force microscope is 3% or less. A method for producing a glass substrate for a medium, comprising:
A step of polishing the surface of a glass base plate formed in a disk shape made of a multi-component glass material containing at least silicon oxide in the glass composition;
By using an acidic aqueous solution as the cleaning liquid and cleaning the surface of the glass base plate formed in a disk shape, the silicon oxide content in the glass composition on the surface of the glass base plate is the glass composition inside the glass base plate. Forming a heterogeneous layer different from the content of silicon oxide in the interior, and then performing a pre-grinding cleaning process using an alkaline aqueous solution as the cleaning liquid and removing a part of the heterogeneous layer formed on the surface of the glass base plate When,
Using abrasive grains, and performing a grinding process for grinding and removing a part of the heterogeneous layer formed on the surface of the glass base plate during the pre-grinding cleaning process;
A method for producing a glass substrate for an information recording medium, comprising: using an alkaline cleaning liquid, and performing a post-grinding cleaning process for cleaning the surface of the glass base plate after grinding to remove the extraneous layer .
(However, the variation rate of the surface roughness (Ra) is compared with the overall average value of the surface roughness (Ra) in the entire visual field and the individual average value of the surface roughness (Ra) for each visual field, Shows the ratio of the number of fields of view whose individual average value differs by 0.1 nm or more from the overall average value to the total number of fields.)

2. The method for manufacturing a glass substrate for an information recording medium according to claim 1, wherein the step of grinding includes grinding a part of the heterogeneous layer so that the heterogeneous layer having a thickness of 3 nm or less remains.

The height of the ridge formed after grinding is less than the thickness of the foreign layer, and the foreign layer remaining in the post-grinding cleaning process is removed with an alkaline cleaning solution that selectively etches the foreign layer. The manufacturing method of the glass substrate for information recording media of 1.