JP5371315B2 - 光干渉断層撮像方法および光干渉断層撮像装置 - Google Patents
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Description
測定光が照射された被検査物からの戻り光と、該測定光に対応する参照光とが干渉した干渉光を用いて、前記被検査物の断層を撮像する光干渉断層撮像方法であって、
前記干渉光の波長スペクトルを取得する波長スペクトル取得工程と、
前記取得された波長スペクトルを補間して、該取得された波長スペクトルの要素数を増やす工程と、
前記補間された波長スペクトルを波数スペクトルに変換し、要素数を減らして、該変換された波数スペクトルから略等間隔の波数スペクトルを取得する波数スペクトル取得工程と、
前記略等間隔の波数スペクトルから前記被検査物の断層の情報を取得する断層情報取得工程と、
を含むことを特徴とする。
測定光が照射された被検査物からの戻り光と、該測定光に対応する参照光とが干渉した干渉光を用いて、前記被検査物の断層を撮像する光干渉断層撮像装置であって、
前記干渉光の波長スペクトルを取得する波長スペクトル取得手段と、
前記取得された波長スペクトルを補間して、該取得された波長スペクトルの要素数を増やす手段と、
前記補間された波長スペクトルを波数スペクトルに変換し、要素数を減らして、該変換された波数スペクトルから略等間隔の波数スペクトルを取得する波数スペクトル取得手段と、
前記略等間隔の波数スペクトルから前記被検査物の断層の情報を取得する断層情報取得手段と、
を有することを特徴とする。
また、本発明に係るコンピュータプログラムは、
測定光が照射された被検査物からの戻り光と、該測定光に対応する参照光とが干渉した干渉光を用いて、前記被検査物の断層を撮像するためのコンピュータプログラムであって、
コンピュータに、
前記干渉光の波長スペクトルを取得する波長スペクトル取得工程と、
前記取得された波長スペクトルを補間して、該取得された波長スペクトルの要素数を増やす工程と、
前記補間された波長スペクトルを波数スペクトルに変換し、要素数を減らして、該変換された波数スペクトルから略等間隔の波数スペクトルを取得する波数スペクトル取得工程と、
前記略等間隔の波数スペクトルから前記被検査物の断層の情報を取得する断層情報取得工程と、
を実行させることを特徴とする。
第1の実施形態においては、本発明を適用した光干渉断層撮像装置について図面を用いて説明する。
最初に、図1を参照して、OCT装置の構成を大まかに説明する。光源101から出射した光はレンズ102を介し、ビームスプリッタ103によって測定光112と参照光114とに分割される。測定光112は、XYスキャナ104、対物レンズ105を介して被検査物106に到達する。被検査物には透過性の膜が設けられており、それらの表面および界面で散乱および反射された戻り光113は、対物レンズ105、XYスキャナ104、ビームスプリッタ103の順で戻る。さらに、結像レンズ107を介して、検出位置に配置された分光器108に到達する。一方、参照光114は参照ミラー115によって反射される。なお、参照ミラー115は位置調整機構116によって光路長を調整することができる。また、参照光114はビームスプリッタ103によって、戻り光113と合波される。
本発明の信号処理工程について図2を用いて説明する。
長に対して等間隔でない場合もある。そのような場合には適宜補間した要素を用いてもよい。
第2の実施形態においては、本発明を適用した眼科用のOCT装置の光学系について図4を用いて詳しく説明する。
図4は、全体としてマッハツェンダー干渉系を構成している。光源401から出射された光はシングルモードファイバー410−1を通して、レンズ411−1に導かれる。さらに、ビームスプリッタ403−1によって参照光405と測定光406とに分割される。測定光406は、被検査物である眼407によって反射や散乱により戻り光408となって戻された後、ビームスプリッタ403−2によって、参照光405と合波され、分光器421に入射する。なお、光源401は代表的な低コヒーレント光源であるSLD(Super Luminescent Diode)である。波長は眼を測定することを鑑みると、近赤外光が適する。
信号処理方法においては、第1の実施形態との差異について、図5,6を参照して説明する。この方式では、先にデータを取得する点、範囲を拡張する方法が第1の実施形態と
の主な違いとなる。なお、図5は本実施形態における信号処理の流れを示すフローチャートであり、図6は信号処理における信号の様子を説明する図である。
102:レンズ
103:ビームスプリッタ
104:XYスキャナ
105:対物レンズ
106:被検査物
107:結像レンズ
108:分光器
109:プリズム
110:撮像素子
111:コンピューター
112:測定光
113:戻り光
114:参照光
115:参照ミラー
116:位置調整機構
401:光源
403:ビームスプリッタ
405:参照光
406:測定光
407:眼
408:戻り光
410:シングルモードファイバー
411:レンズ
414:ミラー
415:分散補償用ガラス
417:電動ステージ
419:XYスキャナ
420:レンズ
421:分光器
422:角膜
423:網膜
424:検出器
425:コンピューター
Claims (20)
- 測定光が照射された被検査物からの戻り光と、該測定光に対応する参照光とが干渉した干渉光を用いて、前記被検査物の断層を撮像する光干渉断層撮像方法であって、
前記干渉光の波長スペクトルを取得する波長スペクトル取得工程と、
前記取得された波長スペクトルを補間して、該取得された波長スペクトルの要素数を増やす工程と、
前記補間された波長スペクトルを波数スペクトルに変換し、要素数を減らして、該変換された波数スペクトルから略等間隔の波数スペクトルを取得する波数スペクトル取得工程と、
前記略等間隔の波数スペクトルから前記被検査物の断層の情報を取得する断層情報取得工程と、
を含むことを特徴とする光干渉断層撮像方法。 - 前記波長スペクトル取得工程において取得される波長スペクトルは、略等間隔の波長スペクトルであり、
前記波長スペクトルの要素数を増やす工程では、前記取得された波長スペクトルの要素数を整数倍にして前記補間を行うことで、前記取得された波長スペクトルの要素数を増やす、
ことを特徴とする請求項1に記載の光干渉断層撮像方法。 - 前記波数スペクトル取得工程では、波数の間隔が略等間隔となるようにサンプリング点を決定し、各サンプリング点における強度は、波長スペクトルから変換された波数スペクトルにおいて該サンプリング点の波数に最も近い波数での強度として求める
ことを特徴とする請求項1または2に記載の光干渉断層撮像方法。 - 前記波数スペクトル取得工程では、波数の間隔が略等間隔となるようにサンプリング点を決定し、各サンプリング点における強度は、波長スペクトルから変換された波数スペクトルにおいて該サンプリング点の波数に最も近い2つの波数での強度から補間によって求める
ことを特徴とする請求項1または2に記載の光干渉断層撮像方法。 - 前記波長スペクトル取得工程と前記波数スペクトル取得工程との少なくともいずれかにおいて、取得されるスペクトルの要素数が2のべき乗である
ことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の光干渉断層撮像方法。 - 前記波長スペクトル取得工程と前記波数スペクトル取得工程と前記波長スペクトルの要素数を増やす工程の少なくともいずれかにおいて、取得または生成されるスペクトルの要素数が2のべき乗である
ことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の光干渉断層撮像方法。 - 前記波長スペクトル取得工程におけるスペクトルの要素数よりも、前記波数スペクトル取得工程におけるスペクトルの要素数の方が少ない
ことを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像方法。 - 前記波長スペクトル取得工程において、被検査物の検査領域の各位置から波長スペクトルを取得してから、取得した波長スペクトルの各々について、前記波数スペクトル取得工程および断層情報取得工程を実施する
ことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像方法。 - 前記取得された断層の情報を用いて、前記被検査物の断層画像を画面に表示させる工程を含むことを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像方法。
- 前記被検査物の検査領域の各位置で前記被検査物の断層の情報が取得されたかどうかを判断する工程を含むことを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像方法。
- 前記被検査物の検査領域の各位置で前記波長スペクトルが取得されたかどうかを判断する工程を含むことを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像方法。
- 前記被検査物は眼であることを特徴とする請求項1〜12のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像方法。
- 測定光が照射された被検査物からの戻り光と、該測定光に対応する参照光とが干渉した干渉光を用いて、前記被検査物の断層を撮像する光干渉断層撮像装置であって、
前記干渉光の波長スペクトルを取得する波長スペクトル取得手段と、
前記取得された波長スペクトルを補間して、該取得された波長スペクトルの要素数を増やす手段と、
前記補間された波長スペクトルを波数スペクトルに変換し、要素数を減らして、該変換された波数スペクトルから略等間隔の波数スペクトルを取得する波数スペクトル取得手段と、
前記略等間隔の波数スペクトルから前記被検査物の断層の情報を取得する断層情報取得手段と、
を有することを特徴とする光干渉断層撮像装置。 - 前記波長スペクトル取得手段が取得する波長スペクトルは、略等間隔の波長スペクトルであり、
前記要素数を増やす手段は、前記波長スペクトル取得手段によって取得された波長スペクトルの要素数を整数倍にして前記補間を行うことで、前記波長スペクトル取得手段によって取得された波長スペクトルの要素数を増やす、
ことを特徴とする請求項14に記載の光干渉断層撮像装置。 - 前記波長スペクトル取得手段が取得するスペクトルの要素数よりも、前記波数スペクトル取得手段が取得するスペクトルの要素数の方が少ない、
ことを特徴とする請求項14または15に記載の光干渉断層撮像装置。 - 前記波長スペクトル取得手段が、被検査物の検査領域の各位置から波長スペクトルを取得してから、取得した波長スペクトルの各々について、前記波数スペクトル取得手段による前記波数スペクトルの取得および前記断層情報取得手段による前記断層の情報の取得を実施する、
ことを特徴とする請求項14〜16のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像装置。 - 前記取得された断層の情報を用いて、前記被検査物の断層画像を画面に表示させる表示手段を備える、
ことを特徴とする請求項14〜17のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像装置。 - 前記被検査物は眼であることを特徴とする請求項14〜18のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像装置。
- 測定光が照射された被検査物からの戻り光と、該測定光に対応する参照光とが干渉した干渉光を用いて、前記被検査物の断層を撮像するためのコンピュータプログラムであって、
コンピュータに、
前記干渉光の波長スペクトルを取得する波長スペクトル取得工程と、
前記取得された波長スペクトルを補間して、該取得された波長スペクトルの要素数を増やす工程と、
前記補間された波長スペクトルを波数スペクトルに変換し、要素数を減らして、該変換された波数スペクトルから略等間隔の波数スペクトルを取得する波数スペクトル取得工程と、
前記略等間隔の波数スペクトルから前記被検査物の断層の情報を取得する断層情報取得工程と、
を実行させることを特徴とするコンピュータプログラム。
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