JP5166108B2 - Abnormal factor analysis program, recording medium therefor, and abnormal factor analyzer - Google Patents

Abnormal factor analysis program, recording medium therefor, and abnormal factor analyzer Download PDF

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Description

本発明は、例えば半導体等の製造工程で生ずる歩留まり低下等の異常要因を高精度に分析するための異常要因分析プログラム、その異常要因分析プログラムを記録した記録媒体及びその異常要因分析プログラムに基づき異常要因の分析処理を行う異常要因分析装置に関する。   The present invention relates to an abnormality factor analysis program for analyzing, for example, an abnormality factor such as a decrease in yield occurring in a manufacturing process of a semiconductor or the like with high accuracy, a recording medium recording the abnormality factor analysis program, and an abnormality based on the abnormality factor analysis program. The present invention relates to an abnormality factor analyzer that performs factor analysis processing.

例えば、特許文献1及び2等に示されているように、半導体等の製造工程においては、製品の品質向上又は生産効率の向上等の目的から、製品の欠陥や欠け、クラック等の不良要因あるいは歩留まりを低下させている要因を、製造工程で使用された装置の履歴、試験結果、設計情報及び各種計測データ等に基づいて、できるだけ速やかに見つけ出す異常要因の分析作業を行っている。   For example, as shown in Patent Documents 1 and 2, etc., in the manufacturing process of a semiconductor or the like, for the purpose of improving the quality of the product or improving the production efficiency, a defect factor such as a defect, a chip, a crack or the like Analyzing abnormal factors as quickly as possible based on the history of devices used in the manufacturing process, test results, design information, various measurement data, etc.

従来、半導体製造工程等では、品質管理ないし工程管理において、異常要因分析の手法として、特許文献1に示されているように、回帰木分析等が行われている。この種の品質管理ないし工程管理においては種々の管理データを収集して行われる。 Conventionally, in a semiconductor manufacturing process or the like, a regression tree analysis or the like is performed as a method of anomaly factor analysis in quality control or process control as disclosed in Patent Document 1. In this type of quality control or process control, various management data are collected.

例えば、半導体製造工程で収集されるデータの主なものを大別すると以下のようになる。
・ 製造条件(圧力、温度、ガス流量等の製造プロセス条件)
・ 特性値(抵抗値、容量値、導電率等の半導体デバイス特性及び品質特性に関わる製品特性値)
・ 検査項目(製品特性値、不良内容、不良品個数、歩留まり等の品質管理ないし工程管理項目データ)
For example, the main data collected in the semiconductor manufacturing process is roughly classified as follows.
・ Manufacturing conditions (manufacturing process conditions such as pressure, temperature, gas flow rate)
・ Characteristic values (Product characteristic values related to semiconductor device characteristics and quality characteristics such as resistance, capacitance, and conductivity)
・ Inspection items (product characteristic values, defect contents, number of defective products, yield, etc. quality control or process control item data)

これらのデータを収集した結果、例えば、歩留まりが著しく低下したり、ある特性値に規格外のものが多発したりしたとき、その異常要因を突き詰めるべく、上記の品質管理ないし工程管理手法を用いて異常要因分析が行われる。   As a result of collecting these data, for example, when the yield is significantly reduced, or there are many non-standard values in certain characteristic values, the above quality control or process control method is used to determine the cause of the abnormality. Anomaly factor analysis is performed.

従来の一般的な異常要因分析の手順を説明する。まず、製品に異常が発生したとき、その製品と同時期(期間の範囲は、例えば、数週間から数ケ月)に製造された製品群につき、当該異常を示した検査項目データ(以下、検査データ1と称する。)と、それらの製品群がもつ特性値の特性データとの相関を調べる。
図10(A)〜図10(C)は、検査データ1に対する各特性データ1〜mの相関例を示すグラフである。これらの相関グラフに基づいて、検査データ1と各特性データ間の相関係数を計算して、当該異常に関して、検査データ1に対する相関が他と比べて強い特性データを割り出す。ここでは、このようにして割り出した特性データが特性データ1であったとする。
A conventional general anomaly factor analysis procedure will be described. First, when an abnormality occurs in a product, the inspection item data (hereinafter referred to as inspection data) indicating the abnormality of the product group manufactured in the same period as the product (the range of the period is, for example, several weeks to several months). 1) and the characteristic data of the characteristic values of these product groups.
FIGS. 10A to 10C are graphs showing correlation examples of the characteristic data 1 to m with respect to the inspection data 1. Based on these correlation graphs, a correlation coefficient between the inspection data 1 and each characteristic data is calculated, and characteristic data having a stronger correlation with respect to the inspection data 1 than the other is determined for the abnormality. Here, it is assumed that the characteristic data calculated in this way is characteristic data 1.

図10(D)〜図10(F)は、特性データ1に対する、製造条件(処理条件)1〜kの相関例を示すグラフである。これらの相関グラフに基づいて、特性データ1と各処理条件間の相関係数を計算して、当該異常に関して、検査データ1に対する相関が他と比べて強い処理条件を割り出す。このようにして割り出された処理条件を、従来の異常要因分析においては当該異常要因因子と推定している。
特開2006−318263号公報 特開2001−306999号公報
FIG. 10D to FIG. 10F are graphs showing correlation examples of manufacturing conditions (processing conditions) 1 to k with respect to the characteristic data 1. Based on these correlation graphs, a correlation coefficient between the characteristic data 1 and each processing condition is calculated, and a processing condition having a stronger correlation with the inspection data 1 than the other is determined for the abnormality. The processing conditions thus determined are estimated as the abnormal factor in the conventional abnormal factor analysis.
JP 2006-318263 A JP 2001-306999 A

上記従来の異常要因分析手法においては、各特性データと各処理条件につき検査データとの相関を調べて、特性データから処理条件に順に絞り込んでいき、最終的に相関の強い処理条件を異常要因と推定するため、推定精度が低いといった問題が生じていた。例えば、特性データとして「抵抗値」、処理条件1、2として夫々、「温度」、「ガス流量」とした半導体工程管理例により、かかる問題点を具体的に示すと次のようになる。一般に知られているように、半導体の物性上、高い温度で処理されるとデバイスの抵抗値は下がり、逆に低い温度で処理されるとデバイスの抵抗値は上がる。また、一般にガス流量が多い環境下で処理されると抵抗値は低くなり、少ないガス流量下では抵抗値は高くなる。このように、抵抗値ひとつをとってみても、処理温度や使用ガス流量に依存して変動する。そこで、仮に不良原因が温度であったとした場合、ガス流量値に応じて抵抗値が影響を受けるため、抵抗値と温度の相関自体が不明瞭ないし不正確になるおそれを生ずる。従って、従来の推定方式による異常要因分析は各処理条件による影響を考慮していない分、その精度が低いものであった。   In the conventional abnormality factor analysis method described above, the correlation between each characteristic data and the inspection data for each processing condition is examined, and the characteristic data is narrowed down to the processing conditions in order. In order to estimate, the problem that the estimation precision was low had arisen. For example, a specific example of such a problem is as follows by a semiconductor process management example in which “resistance value” is set as characteristic data and “temperature” and “gas flow rate” are set as processing conditions 1 and 2, respectively. As is generally known, due to the physical properties of semiconductors, the resistance value of a device decreases when it is processed at a high temperature, and conversely, the resistance value of a device increases when it is processed at a low temperature. In general, when the treatment is performed in an environment where the gas flow rate is high, the resistance value becomes low, and the resistance value becomes high when the gas flow rate is low. Thus, even if one resistance value is taken, it fluctuates depending on the processing temperature and the used gas flow rate. Therefore, if the cause of the failure is temperature, the resistance value is affected according to the gas flow rate value, so that the correlation between the resistance value and the temperature itself may be unclear or inaccurate. Therefore, the abnormality factor analysis by the conventional estimation method has a low accuracy because it does not consider the influence of each processing condition.

しかも、一般の半導体製造工程においては、一般的に、製造条件データは100〜200個のパラメータ群からなり、特性値データは20〜40個のパラメータ群からなる。検査データも20〜80個もある。従って、1つの特性データに影響を与える処理条件パラメータが多数ある状況下においては、従来の異常要因分析手法では、それらがどのように関連し合っているかが事前に把握できない限り、異常要因パラメータを特定するのは実際上、不可能であった。たとえ、3次元的にデータマップを作成したとしても、人による相関認識ないし識別の解析作業は到底、不可能なものであった。   Moreover, in a general semiconductor manufacturing process, the manufacturing condition data is generally composed of 100 to 200 parameter groups, and the characteristic value data is composed of 20 to 40 parameter groups. There are 20 to 80 inspection data. Therefore, in the situation where there are many processing condition parameters that affect one characteristic data, unless the conventional abnormality factor analysis method is able to grasp in advance how they relate to each other, It was practically impossible to identify. Even if a data map is created three-dimensionally, correlation analysis or identification analysis work by humans has been impossible.

従って、本発明の目的は、従来の異常要因分析手法の課題に鑑み、多数個の処理パラメータ等の原因パラメータとして相関し合う検査状況下であっても、簡易かつ高精度に異常要因を抽出することのできる異常要因分析プログラム、その異常要因分析プログラムを記録した異常要因分析プログラム記録媒体及びその異常要因分析プログラムに基づき高精度の異常要因分析を行える異常要因分析装置を提供することである。   Therefore, in view of the problem of the conventional abnormality factor analysis technique, the object of the present invention is to extract anomaly factors easily and accurately even under an inspection situation that correlates as a cause parameter such as a large number of processing parameters. The present invention provides an abnormality factor analysis program that can perform the above, an abnormality factor analysis program recording medium that records the abnormality factor analysis program, and an abnormality factor analysis device that can perform highly accurate abnormality factor analysis based on the abnormality factor analysis program.

本発明の第1の形態は、少なくともn個の原因ラメータP(1≦k≦n)を有して製造される製品群を特定の分析パラメータDにより検査して、前記分析パラメータDが異常を示すときに、前記異常を生起する異常要因を前記原因パラメータP(1≦k≦n)から抽出する異常要因分析プログラムにおいて、前記原因パラメータP(1≦k≦n)から選択される異なった2個の原因パラメータP、Pを夫々X軸、Y軸とし、前記分析パラメータDをZ軸としてN個の3次元データ群を構成するステップと、前記N個の3次元データ群から前記分析パラメータDが正常範囲にある正常3次元データ群を抽出してX−Y面に投影したN個の正常2次元データ群を構成するステップと、前記N個の3次元データ群から前記分析パラメータDが異常範囲にある異常3次元データ群を抽出して前記X−Y面に投影したN個の異常2次元データ群を構成するステップと、前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群の重なり度Sijを導出するステップと、複数個の前記重なり度Sijを利用して、前記原因パラメータP、Pを結線したネットワーク図を作成するステップと、前記ネットワーク図から集中度の高い原因ハブパラメータを導出して前記異常を生起する前記原因パラメータPを抽出するステップを有する異常要因分析プログラムである。 In the first aspect of the present invention, a product group manufactured with at least n cause parameters P k (1 ≦ k ≦ n) is inspected with a specific analysis parameter D, and the analysis parameter D is abnormal. Is selected from the cause parameter P k (1 ≦ k ≦ n) in an abnormality factor analysis program for extracting the cause of the abnormality from the cause parameter P k (1 ≦ k ≦ n). Forming two three-dimensional data groups with two different cause parameters P i and P j as the X-axis and Y-axis, and the analysis parameter D as the Z-axis, and the N three-dimensional data groups a step of configuring said analysis parameter D is N 1 pieces of normal two-dimensional data set projected onto the X-Y plane by extracting normal three-dimensional data set in the normal range, from the N 3D data set The analysis parameter Extracting an abnormal three-dimensional data group in which the parameter D is in an abnormal range and projecting it onto the XY plane to form N two abnormal two-dimensional data groups; the normal two-dimensional data group and the abnormal two-dimensional data A step of deriving an overlapping degree S ij of the data group, a step of creating a network diagram in which the cause parameters P i and P j are connected using a plurality of the overlapping degrees S ij , and concentration from the network diagram An abnormality factor analysis program including a step of deriving a cause hub parameter having a high degree and extracting the cause parameter Pk causing the abnormality.

本発明の第2の形態は、前記第1の形態において、1≦i≦n−1且つi<j≦nの範囲に亘る、n(n−1)/2個の前記重なり度Sijを導出するステップと、前記重なり度Sijを昇順又は降順に分類するステップと、前記重なり度Sijを最小値から所望順位値まで利用して、前記重なり度Sijに対応する原因パラメータP、Pを結線してネットワーク図を作成するステップを含む異常要因分析プログラムである。 According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, n (n−1) / 2 overlapping degrees S ij over a range of 1 ≦ i ≦ n−1 and i <j ≦ n are set. A step of deriving, a step of classifying the overlapping degree S ij in ascending or descending order, and a cause parameter P i corresponding to the overlapping degree S ij by using the overlapping degree S ij from a minimum value to a desired rank value. by connecting the P j is abnormal factor analysis program including a step of creating a network diagram.

本発明の第3の形態は、前記第1又は第2の形態において、前記X軸及び前記Y軸をN1/2を整数化処理した整数個に等分分割して前記X−Y面を格子化し、前記格子マス内に3次元データ群を投影して前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群を構成するステップと、前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群が同一格子マス内に存在する場合にデータの共通個数を全格子マスについて総和した重なり数N∩Nを導出するステップと、総数Nに対する前記重なり数N∩Nの割合(N∩N)/N(以下、コサイン測度と称する)を前記重なり度Sijとして導出するステップを含む異常要因分析プログラムである。 According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, the X-axis and the Y-axis are equally divided into integers obtained by converting N1 / 2 into integers, and the XY plane is divided. Forming a lattice, projecting a three-dimensional data group into the lattice mass to form the normal two-dimensional data group and the abnormal two-dimensional data group, and the normal two-dimensional data group and the abnormal two-dimensional data group are the same common number proportion of deriving a number of overlapping N 1 ∩N 2 that the sum for all the grid squares, the number of overlapping N 1 ∩N to the total number N 2 of the data if present in the lattice squares (N 1 ∩N 2 ) An abnormality factor analysis program including a step of deriving / N (hereinafter referred to as cosine measure) as the overlap degree Sij .

本発明の第4の形態は、前記第1、第2又は第3の形態において、前記分析パラメータDが検査パラメータであり、かつ前記原因パラメータPが製品の処理条件パラメータ又は前記処理条件を評価するための品質評価パラメータである異常要因分析プログラムである。 According to a fourth aspect of the present invention, in the first, second, or third aspect, the analysis parameter D is an inspection parameter, and the cause parameter Pk evaluates a processing condition parameter of the product or the processing condition. This is an abnormality factor analysis program that is a quality evaluation parameter for the purpose of

本発明の第5の形態は、前記第1、第2又は第3の形態において、前記分析パラメータDが製品の処理条件を評価するための品質評価パラメータであり、前記原因パラメータPが前記処理条件パラメータである異常要因分析プログラムである。 According to a fifth aspect of the present invention, in the first, second or third aspect, the analysis parameter D is a quality evaluation parameter for evaluating a processing condition of a product, and the cause parameter P k is the processing This is an abnormal factor analysis program that is a condition parameter.

本発明の第6の形態は、少なくともn個の原因パラメータP(1≦k≦n)を有して製造される製品群を特定の分析パラメータDにより検査して、前記分析パラメータDが異常を示すときに、前記異常を生起する異常要因を前記原因パラメータP(1≦k≦n)から抽出する異常要因分析プログラムを記憶した記録媒体において、前記原因パラメータP(1≦k≦n)から選択される異なった2個の原因件パラメータP、Pを夫々X軸、Y軸とし、前記分析パラメータDをZ軸としてN個の3次元データ群を構成するステップと、前記N個の3次元データ群から前記分析パラメータDが正常範囲にある正常3次元データ群を抽出してX−Y面に投影したN個の正常2次元データ群を構成するステップと、前記N個の3次元データ群から前記分析パラメータDが異常範囲にある異常3次元データ群を抽出して前記X−Y面に投影したN個の異常2次元データ群を構成するステップと、前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群の重なり度Sijを導出するステップと、複数個の前記重なり度Sijを利用して、前記原因パラメータP、Pを結線したネットワーク図を作成するステップと、前記ネットワーク図から集中度の高い原因ハブパラメータを導出して前記異常を生起する前記原因パラメータPを抽出するステップを有する異常要因分析プログラムを記録媒体に保存した異常要因分析プログラム記録媒体である。 According to the sixth aspect of the present invention, a product group manufactured with at least n cause parameters P k (1 ≦ k ≦ n) is inspected with a specific analysis parameter D, and the analysis parameter D is abnormal. , The cause parameter P k (1 ≦ k ≦ n) is stored in a recording medium storing an abnormality factor analysis program for extracting the cause of the abnormality from the cause parameter P k (1 ≦ k ≦ n). 2) forming two three-dimensional data groups with two different cause parameter parameters P i and P j selected from X and Y as the analysis parameter D and the Z axis, respectively, a step of configuring said analysis parameter D is N 1 pieces of normal two-dimensional data set projected onto the X-Y plane by extracting normal three-dimensional data set in the normal range of pieces of three-dimensional data set, the N 3D Extracting an abnormal three-dimensional data group in which the analysis parameter D is in an abnormal range from the data group and forming N 2 abnormal two-dimensional data groups projected on the XY plane; and the normal two-dimensional data group Deriving an overlapping degree S ij of the abnormal two-dimensional data group, and creating a network diagram connecting the cause parameters P i , P j using a plurality of the overlapping degrees S ij ; An abnormality factor analysis program recording medium storing an abnormality factor analysis program having a step of deriving a cause hub parameter having a high degree of concentration from the network diagram and extracting the cause parameter Pk causing the abnormality.

本発明の第7の形態は、前記第6の形態において、1≦i≦n−1且つi<j≦nの範囲に亘る、n(n−1)/2個の前記重なり度Sijを導出するステップと、前記重なり度Sijを昇順又は降順に分類するステップと、前記重なり度Sijを最小値から所望順位値まで利用して、前記重なり度Sijに対応する原因パラメータP、Pを結線してネットワーク図を作成するステップを含む異常要因分析プログラム記録媒体である。 According to a seventh aspect of the present invention, in the sixth aspect, n (n−1) / 2 overlapping degrees S ij over a range of 1 ≦ i ≦ n−1 and i <j ≦ n are set. A step of deriving, a step of classifying the overlapping degree S ij in ascending or descending order, and a cause parameter P i corresponding to the overlapping degree S ij by using the overlapping degree S ij from a minimum value to a desired rank value. by connecting the P j is abnormal factor analysis program storage medium comprising the step of creating a network diagram.

本発明の第8の形態は、前記第6又は第7の形態において、前記X軸及び前記Y軸をN1/2を整数化処理した整数個に等分分割して前記X−Y面を格子化し、前記格子マス内に3次元データ群を投影して前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群を構成するステップと、前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群が同一格子マス内に存在する場合にデータの共通個数を全格子マスについて総和した重なり数N∩Nを導出するステップと、総数Nに対する前記重なり数N∩Nの割合(N∩N)/N(以下、コサイン測度と称する)を前記重なり度Sijとして導出するステップを含む異常要因分析プログラム記録媒体である。 According to an eighth aspect of the present invention, in the sixth or seventh aspect, the X axis and the Y axis are equally divided into an integer number obtained by converting N 1/2 into an integer, and the XY plane is divided. Forming a lattice, projecting a three-dimensional data group into the lattice mass to form the normal two-dimensional data group and the abnormal two-dimensional data group, and the normal two-dimensional data group and the abnormal two-dimensional data group are the same common number proportion of deriving a number of overlapping N 1 ∩N 2 that the sum for all the grid squares, the number of overlapping N 1 ∩N to the total number N 2 of the data if present in the lattice squares (N 1 ∩N 2 ) An abnormality factor analysis program recording medium including a step of deriving / N (hereinafter referred to as cosine measure) as the overlapping degree Sij .

本発明の第9の形態は、前記第6、第7又は第8の形態において、前記分析パラメータDが検査パラメータであり、かつ前記原因パラメータPが製品の処理条件パラメータ又は前記処理条件を評価するための品質評価パラメータである異常要因分析プログラム記録媒体である。 According to a ninth aspect of the present invention, in the sixth, seventh, or eighth aspect, the analysis parameter D is an inspection parameter, and the cause parameter Pk evaluates a processing condition parameter of the product or the processing condition. It is an abnormality factor analysis program recording medium that is a quality evaluation parameter for the purpose.

本発明の第10の形態は、前記第6、第7又は第8の形態において、前記分析パラメータDが製品の処理条件を評価するための品質評価パラメータであり、前記原因パラメータPが前記処理条件パラメータである異常要因分析プログラム記録媒体である。 According to a tenth aspect of the present invention, in the sixth, seventh or eighth aspect, the analysis parameter D is a quality evaluation parameter for evaluating a processing condition of a product, and the cause parameter P k is the processing parameter. It is an abnormality factor analysis program recording medium that is a condition parameter.

本発明の第11の形態は、少なくともn個の原因パラメータP(1≦k≦n)を有して製造される製品群を特定の分析パラメータDにより検査して、前記分析パラメータDが異常を示すときに、前記異常を生起する異常要因を前記原因パラメータP(1≦k≦n)から抽出して分析結果を出力する異常要因分析装置において、前記原因P(1≦k≦n)から選択される異なった2個の原因パラメータP、Pを夫々X軸、Y軸とし、前記分析パラメータDをZ軸としてN個の3次元データ群を構成する手段と、前記N個の3次元データ群から前記分析パラメータDが正常範囲にある正常3次元データ群を抽出してX−Y面に投影したN個の正常2次元データ群を構成する手段と、前記N個の3次元データ群から前記検査パラメータDが異常範囲にある異常3次元データ群を抽出して前記X−Y面に投影したN個の異常2次元データ群を構成する手段と、前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群の重なり度Sijを導出する手段と、複数個の前記重なり度Sijを利用して、前記原因パラメータP、Pを結線したネットワーク図を作成する手段と、前記ネットワーク図から集中度の高い原因ハブパラメータを導出して前記異常を生起する前記原因パラメータPを抽出する手段を有する異常要因分析装置である。 In an eleventh aspect of the present invention, a product group manufactured with at least n cause parameters P k (1 ≦ k ≦ n) is inspected with a specific analysis parameter D, and the analysis parameter D is abnormal. In the abnormality factor analyzer that extracts an abnormality factor causing the abnormality from the cause parameter P k (1 ≦ k ≦ n) and outputs an analysis result, the cause P k (1 ≦ k ≦ n) 2) means for configuring N three-dimensional data groups with two different cause parameters P i and P j selected from X and Y as the analysis parameters D and Z as the axes, respectively, from the three-dimensional data set and means for configuring said analysis parameter D is N 1 pieces of normal two-dimensional data set projected onto the X-Y plane by extracting normal three-dimensional data set in the normal range, the N of From the 3D data group, Means for extracting an abnormal three-dimensional data group in which the meter D is in an abnormal range and projecting it onto the XY plane to form N two abnormal two-dimensional data groups, the normal two-dimensional data group and the abnormal two-dimensional data Means for deriving the degree of overlap S ij of the data group, means for creating a network diagram connecting the cause parameters P i , P j using a plurality of the degree of overlap S ij , and concentration from the network diagram It is an abnormality factor analyzer having means for deriving a cause hub parameter having a high degree and extracting the cause parameter Pk causing the abnormality.

本発明の第12の形態は、前記第11の形態において、1≦i≦n−1且つi<j≦nの範囲に亘る、n(n−1)/2個の前記重なり度Sijを導出する手段と、前記重なり度Sijを昇順又は降順に分類する手段と、前記重なり度Sijを最小値から所望順位値まで利用して、前記重なり度Sijに対応する原因パラメータP、Pを結線してネットワーク図を作成する手段を含む異常要因分析装置である。 In a twelfth aspect of the present invention, in the eleventh aspect, n (n−1) / 2 overlapping degrees S ij over a range of 1 ≦ i ≦ n−1 and i <j ≦ n are set. Means for deriving; means for classifying the overlapping degree S ij in ascending or descending order; and using the overlapping degree S ij from a minimum value to a desired rank value, cause parameters P i corresponding to the overlapping degree S ij , This is an abnormality factor analyzing apparatus including means for connecting P j and creating a network diagram.

本発明の第13の形態は、前記第11又は第12の形態において、前記X軸及び前記Y軸をN1/2を整数化処理した整数個に等分分割して前記X−Y面を格子化し、前記格子マス内に3次元データ群を投影して前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群を構成する手段と、前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群が同一格子マス内に存在する場合にデータの共通個数を全格子マスについて総和した重なり数N∩Nを導出する手段と、総数Nに対する前記重なり数N∩Nの割合(N∩N)/N(以下、コサイン測度と称する)を前記重なり度Sijとして導出する手段を含む異常要因分析装置である。 According to a thirteenth aspect of the present invention, in the eleventh or twelfth aspect, the X-Y plane is divided by dividing the X axis and the Y axis into integer numbers obtained by integerizing N 1/2. Means for forming a normal two-dimensional data group and the abnormal two-dimensional data group by projecting a three-dimensional data group into the lattice mass, and the normal two-dimensional data group and the abnormal two-dimensional data group are the same wherein the number of overlapping N 1 ratio of ∩N 2 common number and means for deriving the overlap number N 1 ∩N 2 summation on all the grid squares, to the total number N of data when present in the lattice squares (N 1 ∩N 2 ) An abnormality factor analyzer including means for deriving / N (hereinafter referred to as a cosine measure) as the degree of overlap Sij .

本発明の第14の形態は、前記第11、第12又は第13の形態において、前記分析パラメータDが検査パラメータであり、かつ前記原因パラメータPが製品の処理条件パラメータ又は前記処理条件を評価するための品質評価パラメータである異常要因分析装置である。 According to a fourteenth aspect of the present invention, in the eleventh, twelfth or thirteenth aspect, the analysis parameter D is an inspection parameter, and the cause parameter Pk is an evaluation of a processing condition parameter of the product or the processing condition. This is an abnormality factor analysis device that is a quality evaluation parameter for the purpose.

本発明の第15の形態は、前記第11、第12又は第13の形態において、前記分析パラメータDが製品の処理条件を評価するための品質評価パラメータであり、前記原因パラメータPが前記処理条件パラメータである異常要因分析装置である。 In a fifteenth aspect of the present invention, in the eleventh, twelfth or thirteenth aspect, the analysis parameter D is a quality evaluation parameter for evaluating a processing condition of a product, and the cause parameter Pk is the process It is an abnormality factor analyzer which is a condition parameter.

本発明の第1の形態に係る異常要因分析プログラムの処理手順によれば、前記N個の3次元データ群から前記分析パラメータDが正常範囲にある正常3次元データ群を抽出してX−Y面に投影したN個の正常2次元データ群を構成し、また前記N個の3次元データ群から前記検査パラメータDが異常範囲にある異常3次元データ群を抽出して前記X−Y面に投影したN個の異常2次元データ群を構成し、前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群の重なり度Sijを導出し、前記原因パラメータP、Pを結線したネットワーク図を作成して、前記ネットワーク図から集中度の高い原因ハブパラメータを導出して前記異常を生起する前記原因パラメータPを抽出するので、複数個の原因パラメータP間における相関を網羅して、前記異常要因に関する原因パラメータの特定化を行うことができる。従って、本形態においては、従来の要因分析手法では取捨選択されてしまう複合パラメータの影響を排除することなく高精度に異常要因を抽出して、品質管理ないし工程管理における異常要因分析の精度向上を図ることができる。 According to the processing procedure of the abnormality factor analysis program according to the first aspect of the present invention, a normal three-dimensional data group in which the analysis parameter D is in a normal range is extracted from the N three-dimensional data groups, and XY N 1 normal two-dimensional data groups projected onto a plane are formed, and an abnormal three-dimensional data group in which the inspection parameter D is in an abnormal range is extracted from the N three-dimensional data groups, and the XY plane is extracted. A network in which N two abnormal two-dimensional data groups projected on the network are formed, the degree of overlap S ij between the normal two-dimensional data group and the abnormal two-dimensional data group is derived, and the cause parameters P i and P j are connected. creating a figure so derive the higher cause hub parameters of concentration level from said network diagram extracting the cause parameter P k to rise to the abnormal, correlations between the plurality of cause parameter P k Exhaustive, it is possible to perform certain of the cause parameter relating to the abnormal factor. Therefore, in this embodiment, the abnormal factor is extracted with high accuracy without eliminating the influence of the composite parameter that is selected by the conventional factor analysis method, and the accuracy of the abnormal factor analysis in quality control or process management is improved. Can be planned.

前記分析パラメータDには、集団特性と最終製品の製品特性に関する検査パラメータを使用することができる。集団特性には歩留まり、製品個数、製品外形、不良カテゴリ数等がある。製品特性には、例えば最終製品がダイオードであればダイオード特性(電流や電圧)、抵抗体であれば、抵抗値、トランジスタであればトランジスタ特性、ICならばIC特性である。前記原因パラメータPは、半導体製造工程の場合には、上述の製造条件(1)や特性値(2)等である。
また、前記分析パラメータD及び前記原因パラメータPには、製品の処理条件を評価するための品質評価パラメータを使用することができる。品質評価パラメータの代表的なものには、半導体等で使用されるTEGパラメータ(Test Element Group Data)がある。TEGパラメータは、製造工程の途中に、抵抗(R)、コンデンサ(C)、トランジスタ(Tr)、配線パターン等の評価素子をデバイスに配置して、いわば中間段階の製品(中間製品)と回路を組んで電流や電気容量やトランジスタ特性(電圧増幅率や電流増幅率など)あるいは断線状態等を測定するために使用される。これらの評価素子の測定値は製品特性ではないが製品特性に異常があれば異常ないし不良状態を示し、工程等の評価の指標になる。TEGパラメータを前記分析パラメータDに使用するだけでなく、検査パラメータを前記分析パラメータDに使用するとき、TEGパラメータを前記原因パラメータPに用いて、異常要因を割り出すこともできる。
As the analysis parameter D, it is possible to use inspection parameters relating to the group characteristics and the product characteristics of the final product. Group characteristics include yield, number of products, product outline, number of defective categories, and the like. Product characteristics include, for example, diode characteristics (current and voltage) if the final product is a diode, resistance values if a resistor, transistor characteristics if a transistor, and IC characteristics if an IC. The cause parameter P k is the above-described manufacturing condition (1), characteristic value (2), or the like in the case of a semiconductor manufacturing process.
Further, as the analysis parameter D and the cause parameter P k , a quality evaluation parameter for evaluating a processing condition of a product can be used. A typical quality evaluation parameter is a TEG parameter (Test Element Group Data) used in a semiconductor or the like. TEG parameters are determined by placing evaluation elements such as resistors (R), capacitors (C), transistors (Tr), wiring patterns, etc. in the device during the manufacturing process. It is used to measure current, electric capacity, transistor characteristics (voltage amplification factor, current amplification factor, etc.) or disconnection state. The measured values of these evaluation elements are not product characteristics, but if the product characteristics are abnormal, they indicate an abnormal or defective state, and serve as an index for evaluation of processes and the like. In addition to using the TEG parameter as the analysis parameter D, when the inspection parameter is used as the analysis parameter D, the TEG parameter can be used as the cause parameter P k to determine an abnormal factor.

前記重なり度Sijの導出は、前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群の前記X−Y面における共通領域(区画)に存在する個数から判別する共通領域判別処理によって行うことができる。あるいは、その導出を、前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群の各データを前記X−Y面における所定の基点から、その傾きと大きさを定めたベクトルデータ化して、ベクトルの傾き及び大きさを同じくするベクトルデータを判別するベクトル判別処理によって行うことができる。 The degree of overlap S ij can be derived by a common area discrimination process for discriminating from the number of the normal two-dimensional data group and the abnormal two-dimensional data group existing in the common area (section) on the XY plane. . Alternatively, the derivation is performed by converting each data of the normal two-dimensional data group and the abnormal two-dimensional data group from a predetermined base point on the XY plane into vector data in which the inclination and size are determined, and the vector inclination And vector discrimination processing for discriminating vector data having the same size.

本発明の第2の形態によれば、1≦i≦n−1且つi<j≦nの範囲に亘る、n(n−1)/2個の前記重なり度Sijを導出し、前記重なり度Sijを昇順又は降順に分類して、前記重なり度Sijを最小値から所望順位値まで利用して、前記重なり度Sijに対応する原因パラメータP、Pを結線してネットワーク図を作成するので、2個の前記原因パラメータP、Pすべての組み合わせから前記ネットワーク図を作成して集中度の高い原因ハブパラメータを高精度に導出でき、異常要因分析の精度向上を図ることができる。 According to the second aspect of the present invention, n (n−1) / 2 overlapping degrees S ij are derived over a range of 1 ≦ i ≦ n−1 and i <j ≦ n, and the overlapping The degree S ij is classified in ascending order or descending order, the overlapping degree S ij is used from the minimum value to the desired rank value, and the cause parameters P i and P j corresponding to the overlapping degree S ij are connected to form a network diagram. Since the network diagram is created from the combination of all the two cause parameters P i and P j , the cause hub parameters having a high degree of concentration can be derived with high accuracy, thereby improving the accuracy of the abnormal cause analysis. Can do.

前記第3の形態によれば、前記X軸及び前記Y軸をN1/2を整数化処理した整数個に等分分割して前記X−Y面を格子化し、前記格子マス内に3次元データ群を投影して前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群をマトリックスデータ配列で構成して、前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群が同一格子マス内に存在する場合にデータの共通個数を全格子マスについて総和した重なり数N∩Nを導出して、総数Nに対する前記重なり数N∩Nの割合(N∩N)/N(コサイン測度)を前記重なり度Sijとして導出するので、データ群のマトリックス配列処理とコサイン測度算出処理だけで、高精度に異常要因を抽出できる異常要因分析プログラムを簡易に実現することができる。なお、コサイン測度を使用する利点は、全原因パラメータのうち、正常データと異常データの分布の重なりが小さいほどコサイン測度は小さくなるので、コサイン測度の小さい原因パラメータP、Pの組み合わせほど、正常、異常の分布の差異が大きくなり、正常と異常の識別能力が高くなることにある。この利点から、原因パラメータP、Pの組み合わせに対応する2次元データ化Pijにつき求めたコサイン測度を小さい順に並べることにより、異常要因となる原因パラメータを簡単かつ確実に判別することができる。 According to the third aspect, the X-axis and the Y-axis are equally divided into integers obtained by converting N1 / 2 into integers, and the XY plane is latticed, and the three-dimensional pattern is formed in the lattice mass. When the normal two-dimensional data group and the abnormal two-dimensional data group are configured in a matrix data array by projecting a data group, and the normal two-dimensional data group and the abnormal two-dimensional data group exist in the same lattice mass the common number of data to derive a number of overlapping N 1 ∩N 2 that the sum for all the grid squares in the overlap ratio of the number N 1 ∩N 2 to the total number N (N 1 ∩N 2) / N ( cosine measure) Is derived as the degree of overlap S ij , it is possible to easily realize an abnormality factor analysis program capable of extracting an abnormality factor with high accuracy only by matrix arrangement processing of data groups and cosine measure calculation processing. The advantage of using the cosine measure is that the cosine measure is smaller as the overlap between the distribution of normal data and abnormal data is smaller among all the cause parameters, so the combination of the cause parameters P i and P j having a smaller cosine measure is The difference between normal and abnormal distribution is large, and the ability to discriminate between normal and abnormal is increased. From this advantage, by arranging the cosine measures obtained for the two-dimensional data P ij corresponding to the combination of the cause parameters P i and P j in ascending order, the cause parameter that causes the abnormality can be easily and reliably determined. .

本発明の第4の形態によれば、前記分析パラメータDが前記検査パラメータであり、かつ前記原因パラメータPが製品の処理条件パラメータ又は前記品質評価パラメータであるので、前記検査パラメータに基づき、異常要因の処理条件パラメータを直接的に導くことができ、あるいは前記品質評価パラメータから間接的に異常な処理条件を導くことができる。
前記処理条件パラメータは、例えば半導体工場において、ガス圧力(P)、ガス流量(Q)、温度(T)として得るために、製造設備の配管等に、圧力センサ、マスフローメータ、温度計等を設置して測定するが、これらのパラメータ検出に設備費用が嵩む。本形態によれば、前記品質評価パラメータとしてのTEGパラメータを前記原因パラメータPに用いることにより、TEGパラメータと処理条件パラメータの関係性から、異常な処理条件パラメータを抽出することが出来るので、TEGパラメータと処理条件パラメータの関係を予め把握しておくことにより、上記センサ等による測定を常時、行わなくても、異常な処理条件パラメータの抽出が可能となり、センサ等の設備コストの低減に寄与する。
According to the fourth aspect of the present invention, the analysis parameter D is the inspection parameter, and the cause parameter Pk is a product processing condition parameter or the quality evaluation parameter. The processing condition parameter of the factor can be directly derived, or abnormal processing conditions can be indirectly derived from the quality evaluation parameter.
In order to obtain the processing condition parameters as gas pressure (P), gas flow rate (Q), temperature (T), for example, in a semiconductor factory, a pressure sensor, a mass flow meter, a thermometer, etc. are installed in the piping of a manufacturing facility. However, the equipment cost increases to detect these parameters. According to the present embodiment, by using the TEG parameter as the quality evaluation parameter as the cause parameter P k , an abnormal processing condition parameter can be extracted from the relationship between the TEG parameter and the processing condition parameter. By grasping the relationship between parameters and processing condition parameters in advance, it is possible to extract abnormal processing condition parameters without always performing measurement using the above sensors, etc., which contributes to reducing the cost of equipment such as sensors. .

本発明の第5の形態は、前記分析パラメータDが前記品質評価パラメータであり、前記原因パラメータPが前記処理条件パラメータであるので、前記品質評価パラメータとしてのTEGパラメータを前記分析パラメータDに用いることにより、TEGパラメータと処理条件パラメータの関係性から、異常な処理条件パラメータを抽出することができる。 In the fifth aspect of the present invention, since the analysis parameter D is the quality evaluation parameter and the cause parameter P k is the processing condition parameter, the TEG parameter as the quality evaluation parameter is used for the analysis parameter D. Accordingly, an abnormal processing condition parameter can be extracted from the relationship between the TEG parameter and the processing condition parameter.

本発明の第6の形態によれば、前記第1の形態に係る異常要因分析プログラムを保存した記録媒体が提供される。従って、本形態に係る記録媒体は、前記第1形態で説明した全てのプログラム上の効果を有する。
本発明における記録媒体としては、フレキシブルディスク、磁気ディスク、光ディスク、CD、MO、DVD、ハードディスク等、コンピュータにより読み取り可能な記録媒体が選択される。本形態に係る記録媒体をコンピュータにインストールすることにより、コンピュータを異常要因の分析動作させることができ、多数の個人、家庭、業務において異常要因分析プログラムを実行させることができる。
According to the sixth aspect of the present invention, there is provided a recording medium storing the abnormality factor analysis program according to the first aspect. Therefore, the recording medium according to the present embodiment has all the program effects described in the first embodiment.
As a recording medium in the present invention, a computer-readable recording medium such as a flexible disk, a magnetic disk, an optical disk, a CD, an MO, a DVD, and a hard disk is selected. By installing the recording medium according to this embodiment in a computer, the computer can be operated to analyze an abnormal factor, and an abnormal factor analyzing program can be executed in many individuals, homes, and businesses.

本発明の第7の形態によれば、前記第2の形態に係る異常要因分析プログラムを保存した記録媒体が提供される。従って、本形態に係る記録媒体は、前記第2形態で説明した全てのプログラム上の効果を有する。本形態に係る記録媒体をコンピュータにインストールすることにより、コンピュータを異常要因の分析動作させることができ、多数の個人、家庭、業務において異常要因分析プログラムを実行させることができる。   According to the seventh aspect of the present invention, there is provided a recording medium storing the abnormality factor analysis program according to the second aspect. Therefore, the recording medium according to the present embodiment has all the program effects described in the second embodiment. By installing the recording medium according to this embodiment in a computer, the computer can be operated to analyze an abnormal factor, and an abnormal factor analyzing program can be executed in many individuals, homes, and businesses.

本発明の第8の形態によれば、前記第3の形態に係る異常要因分析プログラムを保存した記録媒体が提供される。従って、本形態に係る記録媒体は、前記第3形態で説明した全てのプログラム上の効果を有する。本形態に係る記録媒体をコンピュータにインストールすることにより、コンピュータを異常要因の分析動作させることができ、多数の個人、家庭、業務において異常要因分析プログラムを実行させることができる。   According to the eighth aspect of the present invention, there is provided a recording medium storing the abnormality factor analysis program according to the third aspect. Therefore, the recording medium according to the present embodiment has all the program effects described in the third embodiment. By installing the recording medium according to this embodiment in a computer, the computer can be operated to analyze an abnormal factor, and an abnormal factor analyzing program can be executed in many individuals, homes, and businesses.

本発明の第9の形態によれば、前記第4の形態に係る異常要因分析プログラムを保存した記録媒体が提供される。従って、本形態に係る記録媒体は、前記第4形態で説明した全てのプログラム上の効果を有する。   According to the ninth aspect of the present invention, there is provided a recording medium storing the abnormality factor analysis program according to the fourth aspect. Therefore, the recording medium according to the present embodiment has all the program effects described in the fourth embodiment.

本発明の第10の形態によれば、前記第5の形態に係る異常要因分析プログラムを保存した記録媒体が提供される。従って、本形態に係る記録媒体は、前記第5形態で説明した全てのプログラム上の効果を有する。   According to the tenth aspect of the present invention, there is provided a recording medium storing the abnormality factor analysis program according to the fifth aspect. Therefore, the recording medium according to the present embodiment has all the program effects described in the fifth embodiment.

本発明の第11の形態に係る異常要因分析装置には、前記第1の形態に係る異常要因分析プログラムを外部よりインストールしたコンピュータだけでなく、このコンピュータ機能を内蔵した電子装置の全てが包含される。従って、本形態に係る異常要因分析装置は、前記第1形態で説明した全てのプログラム上の効果を有する。   The abnormality factor analysis device according to the eleventh aspect of the present invention includes not only a computer in which the abnormality factor analysis program according to the first aspect is installed from the outside, but also all electronic devices incorporating this computer function. The Therefore, the abnormality factor analysis device according to the present embodiment has all the program effects described in the first embodiment.

本発明の第12の形態に係る異常要因分析装置には、前記第2の形態に係る異常要因分析プログラムを外部よりインストールしたコンピュータだけでなく、このコンピュータ機能を内蔵した電子装置の全てが包含される。従って、本形態に係る異常要因分析装置は、前記第2形態で説明した全てのプログラム上の効果を有する。   The abnormality factor analysis device according to the twelfth aspect of the present invention includes not only a computer in which the abnormality factor analysis program according to the second aspect is installed from the outside, but also all electronic devices incorporating this computer function. The Therefore, the abnormality factor analysis apparatus according to the present embodiment has all the program effects described in the second embodiment.

本発明の第13の形態に係る異常要因分析装置には、前記第3の形態に係る異常要因分析プログラムを外部よりインストールしたコンピュータだけでなく、このコンピュータ機能を内蔵した電子装置の全てが包含される。従って、本形態に係る異常要因分析装置は、前記第3形態で説明した全てのプログラム上の効果を有する。   The abnormality factor analysis apparatus according to the thirteenth aspect of the present invention includes not only a computer in which the abnormality factor analysis program according to the third aspect is installed from the outside, but also all electronic devices incorporating this computer function. The Therefore, the abnormality factor analysis device according to the present embodiment has all the program effects described in the third embodiment.

本発明の第14の形態に係る異常要因分析装置には、前記第4の形態に係る異常要因分析プログラムを外部よりインストールしたコンピュータだけでなく、このコンピュータ機能を内蔵した電子装置の全てが包含される。従って、本形態に係る異常要因分析装置は、前記第4形態で説明した全てのプログラム上の効果を有する。   The abnormality factor analysis device according to the fourteenth aspect of the present invention includes not only a computer in which the abnormality factor analysis program according to the fourth aspect is installed from the outside, but also all electronic devices incorporating this computer function. The Therefore, the abnormality factor analysis device according to the present embodiment has all the program effects described in the fourth embodiment.

本発明の第15の形態に係る異常要因分析装置には、前記第5の形態に係る異常要因分析プログラムを外部よりインストールしたコンピュータだけでなく、このコンピュータ機能を内蔵した電子装置の全てが包含される。従って、本形態に係る異常要因分析装置は、前記第5形態で説明した全てのプログラム上の効果を有する。   The abnormality factor analysis apparatus according to the fifteenth aspect of the present invention includes not only a computer in which the abnormality factor analysis program according to the fifth aspect is installed from the outside, but also all electronic devices incorporating this computer function. The Therefore, the abnormality factor analyzer according to this embodiment has all the program effects described in the fifth embodiment.

本発明の実施形態に係る異常要因分析装置を図面を参照して以下に説明する。   An abnormality factor analyzer according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1は本実施形態の異常要因分析装置の概略構成を示す。この異常要因分析装置は、少なくともn個の原因パラメータP(1≦k≦n)により製造される製品群(半導体製品群)を特定の分析パラメータDにより検査して、分析パラメータDが異常を示した異常要因を原因パラメータPから割り出して抽出し、その分析結果を印字装置(プリンタ14)及び表示装置(ディスプレイ12)に出力する。 FIG. 1 shows a schematic configuration of an abnormality factor analyzer of the present embodiment. This abnormality factor analysis apparatus inspects a product group (semiconductor product group) manufactured by at least n cause parameters P k (1 ≦ k ≦ n) with a specific analysis parameter D, and the analysis parameter D is abnormal. The indicated abnormal factor is calculated and extracted from the cause parameter Pk , and the analysis result is output to the printing device (printer 14) and the display device (display 12).

本実施形態の異常要因分析装置は、本発明に係る異常要因分析プログラムに基づき異常要因分析を行う制御部1を有する。制御部1は、マイクロプロセッサからなるCPU2と、CPU2の制御下で、内蔵の異常要因分析プログラムを実行するプログラム実行部を有する。制御部1は、生産管理システムの管理装置や各種半導体製造装置及び製品検査装置等の外部管理機器15A〜15Nとデータ通信可能に接続されている。制御部1には、外部管理機器15A〜15Nから転送されるデータをファイル又はデータベースとして登録、格納するためのインターフェース部10、インターフェース部10の登録データを当該プログラム検索用ファイルに格納するファイル格納部11が接続されている。また、制御部1には、分析パラメータD、検査対象パラメータ等の、要因分析のためのデータ検索条件を入力するキー入力装置からなる検索条件入力部13、分析結果を印字するプリンタ14及び分析情報を表示するディスプレイ12が接続されている。   The abnormality factor analysis apparatus according to the present embodiment includes a control unit 1 that performs an abnormality factor analysis based on the abnormality factor analysis program according to the present invention. The control unit 1 includes a CPU 2 composed of a microprocessor, and a program execution unit that executes a built-in abnormality factor analysis program under the control of the CPU 2. The control unit 1 is connected to external management devices 15A to 15N such as a production management system management device, various semiconductor manufacturing devices, and product inspection devices so that data communication is possible. The control unit 1 includes an interface unit 10 for registering and storing data transferred from the external management devices 15A to 15N as a file or a database, and a file storage unit for storing registration data of the interface unit 10 in the program search file. 11 is connected. The control unit 1 includes a search condition input unit 13 including a key input device for inputting data search conditions for factor analysis, such as analysis parameters D and inspection target parameters, a printer 14 for printing analysis results, and analysis information. Is connected to the display 12.

前記プログラム実行部は、検索条件入力部13により入力された検索条件に基づき、検索条件に合致したデータをファイル格納部11から取り出すデータ検索部3と、検索されたデータからパラメータの全ての組み合わせごとにデータをまとめて、全データ数NのN1/2整数分割し、各マス毎のデータ数を計算するデータ処理部4と、データ処理部4において処理されたデータを用いて、各組み合わせ毎のコサイン測度を計算し、値の小さい順に配列するコサイン測度計算部5を有する。制御部1には、プリンタ14及びディスプレイ12等の外部にデータ出力する外部出力部6が接続されている。外部出力部6には、検索条件入力部13によりデータ検索条件を入力するときに使用するディスプレイ12の画面設定用検索条件設定部7と、要因分析処理の検索結果をスプレッドシート形式あるいはグラフ形式により表示するための検索結果処理部8と、コサイン測度計算部5により、値の小さい順に、つまり昇順配列された各パラメータをネットワーク図にして配置位置を計算し、所望のパラメータ数のネットワーク図を作成するネットワーク処理部9が含まれている。 The program execution unit includes a data search unit 3 that retrieves data matching the search condition from the file storage unit 11 based on the search condition input by the search condition input unit 13, and every combination of parameters from the searched data. The data is divided into N 1/2 integers of the total number of data N and the number of data for each cell is calculated, and the data processed in the data processing unit 4 is used for each combination. The cosine measure calculation unit 5 is arranged to calculate the cosine measure and arrange them in ascending order of the values. The control unit 1 is connected to an external output unit 6 that outputs data to the outside such as the printer 14 and the display 12. The external output unit 6 includes a screen setting search condition setting unit 7 of the display 12 that is used when data search conditions are input by the search condition input unit 13, and the search result of the factor analysis process in a spreadsheet format or a graph format. The search result processing unit 8 for display and the cosine measure calculation unit 5 calculate the arrangement position by using each parameter arranged in ascending order, that is, in ascending order, as a network diagram, and create a network diagram with the desired number of parameters A network processing unit 9 is included.

本実施形態の異常要因分析プログラムの処理手順は、原因パラメータP(1≦k≦n)から選択される異なった2個の原因パラメータP、Pを夫々X軸、Y軸とし、分析パラメータDをZ軸としてN個の3次元データ群を構成するステップAと、N個の3次元データ群から分析パラメータDが正常範囲にある正常3次元データ群を抽出してX−Y面に投影したN個の正常2次元データ群を構成するステップBと、N個の3次元データ群から分析パラメータDが異常範囲にある異常3次元データ群を抽出してX−Y面に投影したN個の異常2次元データ群を構成するステップCと、正常2次元データ群と異常2次元データ群の重なり度Sijを導出するステップDと、複数個の重なり度Sijを利用して、処理条件パラメータP、Pを結線したネットワーク図を作成するステップEと、ネットワーク図から集中度の高い原因ハブパラメータを導出して異常を生起する原因パラメータPを抽出するステップFからなる。 The processing procedure of the abnormality factor analysis program of this embodiment is performed by analyzing two different cause parameters P i and P j selected from the cause parameters P k (1 ≦ k ≦ n), respectively, as the X axis and the Y axis. Step A forming N three-dimensional data groups with the parameter D as the Z axis, and extracting a normal three-dimensional data group in which the analysis parameter D is in the normal range from the N three-dimensional data groups on the XY plane Step B constituting the projected N 1 normal 2D data group, and an abnormal 3D data group in which the analysis parameter D is in the abnormal range are extracted from the N 3D data groups and projected onto the XY plane. step D to derive a step C that constitutes the N 2 pieces of abnormality two-dimensional data set, the overlapping degree S ij of the normal two dimensional data set and abnormal 2D data set, by using a plurality of overlapping degree S ij , Processing condition parameters i, comprises the step F of extracting the steps E to create a network diagram and connect the P j, the cause parameter P k which derives high causes hub parameter of the degree of concentration from a network diagram occurring abnormality.

図2及び図3は制御部1に内蔵された異常要因分析プログラムに基づく要因分析処理の詳細を示す。
まず、初期設定作業として、処理条件パラメータP及び検査パラメータDの設定が検索条件入力部13によりキー入力される(ステップS1)。
図11は、検索条件入力処理の詳細を示す。本実施形態においては、分析パラメータDには、検査パラメータ又はTEGパラメータを使用でき、いずれか入力された分析パラメータDが設定、記憶される(ステップS40〜S43)。また、原因パラメータPとして、製品の処理条件パラメータ又はTEGパラメータを使用でき、いずれか入力された原因パラメータPが設定、記憶される(ステップS44〜S47)。TEGパラメータは、製造工程の途中に、抵抗(R)、コンデンサ(C)、トランジスタ(Tr)、配線パターン等の評価素子をデバイスに配置して、いわば中間段階の製品(中間製品)と回路を組んで電流や電気容量やトランジスタ特性(電圧増幅率や電流増幅率など)あるいは断線状態等を測定するために使用されるパラメータである。
2 and 3 show details of the factor analysis processing based on the abnormal factor analysis program built in the control unit 1. FIG.
First, as an initial setting operation, the setting of the processing condition parameter P k and the inspection parameter D is key-input by the search condition input unit 13 (step S1).
FIG. 11 shows details of the search condition input process. In the present embodiment, an inspection parameter or a TEG parameter can be used as the analysis parameter D, and any input analysis parameter D is set and stored (steps S40 to S43). Further, as the cause parameter P k , a product processing condition parameter or a TEG parameter can be used, and any one of the input cause parameters P k is set and stored (steps S44 to S47). TEG parameters are determined by placing evaluation elements such as resistors (R), capacitors (C), transistors (Tr), wiring patterns, etc. in the device during the manufacturing process. It is a parameter that is used to measure current, electric capacity, transistor characteristics (voltage amplification factor, current amplification factor, etc.), disconnection state, etc. in combination.

本実施形態では、検査パラメータを分析パラメータDに、かつ処理条件パラメータを原因パラメータPに選択した実施例により説明する。
処理条件パラメータP及び検査パラメータDは、前掲のデータ群と同様である。例えば、処理条件パラメータPは、製造条件(圧力、温度、ガス流量等の製造プロセス条件)データ及び特性値(抵抗値、容量値、導電率等の半導体デバイス特性及び品質特性に関わる製品特性値)データからなる。また、検査パラメータDは、検査項目(製品特性値、不良内容、不良品個数、歩留まり等の品質管理ないし工程管理項目データ)データからなる。
In the present embodiment, a description will be given of an example in which the inspection parameter is selected as the analysis parameter D and the processing condition parameter is selected as the cause parameter Pk .
The processing condition parameter Pk and the inspection parameter D are the same as those in the data group described above. For example, the processing condition parameter P k includes manufacturing condition (manufacturing process conditions such as pressure, temperature, gas flow rate, etc.) data and characteristic values (resistance, capacitance, product characteristics related to quality characteristics such as semiconductor device characteristics such as conductivity). ) Consists of data. The inspection parameter D includes inspection item (product characteristic value, defect content, number of defective products, yield management and other quality control or process management item data) data.

検索条件入力部13の開始キー(図示せず)のキー操作により、要因分析の開始がキー入力されると、検索条件入力部13により設定されたデータが格納されているか否か確認する(ステップS2、S3)。設定データが格納されていないときはデータ登録を行う(ステップS5)。データ登録は、外部管理機器15A〜15Nと通信して外部管理機器15A〜15Nからデータ転送を受け、インターフェース部10に格納して行われる。   When the start of factor analysis is keyed by a key operation of a start key (not shown) of the search condition input unit 13, it is confirmed whether or not the data set by the search condition input unit 13 is stored (step) S2, S3). When the setting data is not stored, data registration is performed (step S5). The data registration is performed by communicating with the external management devices 15A to 15N, receiving data transfer from the external management devices 15A to 15N, and storing the data in the interface unit 10.

検索データが格納済みであれば、インターフェース部10の登録データが設定条件に応じて、検索データ集合のファイルDtが作成され、ファイル格納部11に格納される(ステップS4)。ついで、このファイルF(P,P)に対してデータの3次元プロット処理(ステップS6)が行われる。3次元プロット処理においては、処理条件パラメータ(原因パラメータ)P(1≦k≦n)から選択される異なった2個の処理条件パラメータP、Pを夫々X軸、Y軸とし、検査パラメータ(分析パラメータ)DをZ軸としたN個の3次元データ群からなるファイルデータが作成される。図4は3次元データ群の一例を模式的に示す。図4において、検査パラメータDに対して、2個の処理条件パラメータP、Pに応じたデータ群を丸印で示している。 If the search data has already been stored, the registration data of the interface unit 10 is created according to the set condition, and a search data set file Dt is created and stored in the file storage unit 11 (step S4). Next, a three-dimensional plot process of data (step S6) is performed on the file F D (P i , P j ). In the three-dimensional plot processing, two different processing condition parameters P i and P j selected from the processing condition parameters (cause parameters) P k (1 ≦ k ≦ n) are set as the X axis and the Y axis, respectively. File data composed of N three-dimensional data groups having the parameter (analysis parameter) D as the Z axis is created. FIG. 4 schematically shows an example of a three-dimensional data group. In FIG. 4, the data group corresponding to the two processing condition parameters P i and P j with respect to the inspection parameter D is indicated by a circle.

3次元データ群の作成後、検査パラメータDに基づき正常又は異常データ群の分離、抽出が行われる(ステップS7)。正常又は異常データ群の分離は、例えば、図4に示すように、N個の3次元データ群から検査パラメータDが異常範囲Dsにある異常3次元データ群を抽出して行われる。図4において、異常3次元データ群を黒丸印で示し、正常3次元データ群を白丸印で示している。   After the creation of the three-dimensional data group, the normal or abnormal data group is separated and extracted based on the inspection parameter D (step S7). Separation of the normal or abnormal data group is performed, for example, by extracting an abnormal three-dimensional data group having the inspection parameter D in the abnormal range Ds from N three-dimensional data groups as shown in FIG. In FIG. 4, the abnormal three-dimensional data group is indicated by black circles, and the normal three-dimensional data group is indicated by white circles.

ステップS7で抽出された正常・異常3次元データ群は、夫々、X−Y面に投影したN個の正常2次元データ群、N個の異常2次元データ群を構成する投影処理が行われる(ステップS8)。図5は2次元データ化される処理条件パラメータの組み合わせを示す。Pijは、処理条件パラメータP、Pの組み合わせを表す。異常要因の分析目的から、処理条件P(1≦k≦n)の2個の組み合わせ全てについて2次元データ化する必要はなく、またPij=Pjiであり、処理条件パラメータP、Pの組み合わせのうち、P11、P22等のi=jの組み合わせを除いた、処理条件パラメータの全組み合わせの半分について2次元データ化が行われる。即ち、1≦i≦n−1且つi<j≦nの範囲に亘る、n(n−1)/2個の2次元化データ群が作成される。 The normal / abnormal three-dimensional data group extracted in step S7 is subjected to projection processing that constitutes N 1 normal two-dimensional data groups and N 2 abnormal two-dimensional data groups projected onto the XY plane, respectively. (Step S8). FIG. 5 shows combinations of processing condition parameters that are converted into two-dimensional data. P ij represents a combination of the processing condition parameters P i and P j . For the purpose of analyzing abnormal factors, it is not necessary to convert all the two combinations of processing conditions P k (1 ≦ k ≦ n) into two-dimensional data, and P ij = P ji , and processing condition parameters P i , P j among the combinations of j, excluding the combination of i = j such P 11, P 22, 2-dimensional data of the half of the total combination of the processing condition parameters is performed. In other words, n (n−1) / 2 two-dimensional data groups are created over the range of 1 ≦ i ≦ n−1 and i <j ≦ n.

図6は投影処理された2次元化データを模式的に示す。図6において、図4と同様に、異常データ群を黒丸印で示し、正常データ群を白丸印で示している。例えば、処理条件Pと処理条件Pの2次元化データ群P13は、処理条件Pと処理条件Pの2次元化データ群P1nと比較して中央部に異常データが集まっている分布状態を示す。 FIG. 6 schematically shows the two-dimensional data subjected to the projection processing. In FIG. 6, as in FIG. 4, the abnormal data group is indicated by a black circle, and the normal data group is indicated by a white circle. For example, 2-dimensional data group P 13 of the processing conditions P 1 and the processing conditions P 3 are abnormal data in the central portion as compared to the 2-dimensional data group P 1n treatment conditions P 1 and the processing condition P n is gathered Distribution state.

上記2次元化データ処理を検索データ全てに関して終了すると、2次元データ群に対する正規化を行うデータ群処理が行われる(ステップS9、S10)。このデータ群処理においては、前記X軸及び前記Y軸をN1/2を整数化処理した整数個に等分分割して前記X−Y面を格子化して、データ総数Nに対する正規化が行われる。 When the two-dimensional data processing is completed for all search data, data group processing for normalizing the two-dimensional data group is performed (steps S9 and S10). In this data group processing, the X-axis and the Y-axis are equally divided into integers obtained by converting N1 / 2 into integers, and the XY plane is gridded to normalize the total number N of data. Is called.

図7は、上記整数化処理を施したX軸及びY軸の単位区画幅でデータを配列し直したマトリックス配列例を示す。図7の(7A)は異常2次元データ群の配列例を、(7B)は正常2次元データ群の配列例を示す。図7において、横軸又は縦軸の各区画幅(R1、R2、・・・、Rα−1、Rα)の大きさは、N1/2を四捨五入した整数等分分割値である。 FIG. 7 shows an example of a matrix arrangement in which data is rearranged with the unit partition widths of the X-axis and Y-axis subjected to the integer processing. (7A) in FIG. 7 shows an example of an array of abnormal two-dimensional data groups, and (7B) shows an example of an array of normal two-dimensional data groups. In FIG. 7, the size of each partition width (R1, R2,..., Rα-1, Rα) on the horizontal axis or the vertical axis is an integer equal division value obtained by rounding off N 1/2 .

上記マトリックス配列された正常2次元データ群と異常2次元データ群について、同一格子マス内に存在する場合にデータの共通個数を全格子マスについて総和した重なり数N∩Nを導出する(ステップS11)。図7において、例えば、1個のマス(R2,R3)には、正常データが1個あり(7B参照)、異常データが5個ある(7A参照)ので、マス(R2,R3)に関しての重なり数N∩Nは6となる。重なり数N∩Nを用いて、正常2次元データ群と異常2次元データ群の重なり度Sijを全データにつき導出する(ステップS12、S13)。 With respect to the normal two-dimensional data group and the abnormal two-dimensional data group arranged in the matrix, an overlapping number N 1 ∩N 2 is derived by summing up the common number of data for all lattice masses when they exist in the same lattice mass (step S11). In FIG. 7, for example, one square (R2, R3) has one normal data (see 7B) and five abnormal data (see 7A). The number N 1 ∩N 2 is 6. Using the number of overlaps N 1 ∩N 2 , the degree of overlap S ij between the normal two-dimensional data group and the abnormal two-dimensional data group is derived for all data (steps S12 and S13).

図8は、重なり度Sijの導出処理を示す。図8の(8A)は重なり数N∩Nの割合から(N∩N)/N(コサイン測度)を求める場合を示す。この場合、総数Nに対する重なり数N∩Nの割合(N∩N)/N(コサイン測度)を重なり度Sijとして導出する(ステップS20)ことにより、データ群のマトリックス配列処理とコサイン測度算出処理だけで、高精度に異常要因を抽出することができる。
コサイン測度の計算した後、各測度を昇順に分類して(ステップS21)、最小値から所望順位値まで利用して、コサイン測度に対応する処理条件P、Pを結線してネットワーク図を作成して、異常要因因子となる処理条件パラメータ評価を行う(ステップS14)。
FIG. 8 shows a process for deriving the overlapping degree Sij . (8A) of FIG. 8 shows a case where (N 1 ∩N 2 ) / N (cosine measure) is obtained from the ratio of the number of overlaps N 1 ∩N 2 . In this case, the ratio (N 1 ∩N 2 ) / N (cosine measure) of the overlap number N 1 1N 2 with respect to the total number N is derived as the overlap degree S ij (step S20). Anomalous factors can be extracted with high accuracy only by the cosine measure calculation process.
After calculating the cosine measure, the measures are classified in ascending order (step S21), and the processing conditions P i and P j corresponding to the cosine measure are connected using the minimum value to the desired rank value, and the network diagram is obtained. A process condition parameter that is created and becomes an abnormal factor is evaluated (step S14).

全パラメータのうち、正常データと異常データの分布の重なりが小さいほどコサイン測度は小さくなる。言い換えると、コサイン測度の小さい処理条件パラメータP、Pの組み合わせほど、正常、異常の分布の差異が大きくなり、正常と異常の識別能力が高くなる。従って、処理条件パラメータP、Pの組み合わせに対応する2次元データ化Pijにつき求めたコサイン測度を小さい順に並べることにより、異常要因となる処理条件パラメータを判別することができる。この判別処理には、ネットワーク図を作成するのが好適であり、結線数から集中度の高い処理条件パラメータを明確に割り出すことができる。 Of all the parameters, the smaller the overlap between the distribution of normal data and abnormal data, the smaller the cosine measure. In other words, the combination of the processing condition parameters P i and P j having a smaller cosine measure increases the difference between normal and abnormal distributions, and increases the ability to discriminate between normal and abnormal. Therefore, by arranging the cosine measures obtained for the two-dimensional data P ij corresponding to the combination of the processing condition parameters P i and P j in ascending order, it is possible to determine the processing condition parameter that causes an abnormality. For this discrimination process, it is preferable to create a network diagram, and a processing condition parameter having a high degree of concentration can be clearly determined from the number of connections.

重なり度Sijの導出は、前記コサイン測度のように、正常2次元データ群と異常2次元データ群のX−Y面における共通領域(区画)に存在する個数から判別する共通領域判別処理によって行うことができるが、X−Y面における所定の基点から、その傾きと大きさを定めたベクトルデータ化して、ベクトルの傾き及び大きさを同じくするベクトルデータを判別するベクトル判別処理によって行うこともできる。
図8の(8B)はベクトル判別処理による重なり度Sijの導出処理を示す。正常2次元データ群と異常2次元データ群に対するデータ処理(ステップS10)の後、又はその際に、各データにつきX−Y面における所定の基点から、その傾きと大きさを定めたベクトルデータ化を行う(ステップS30)。このベクトル値(ベクトルの傾き及び大きさ)がマトリックス格子の同一及び許容近傍範囲内の格子に存在するベクトルデータを判別し、その共通個数の総和Nvを導出する(ステップS30)。ネットワーク図作成のために、総和Nvデータを昇順に配列して(ステップS30)、ネットワーク図の作成処理(ステップS14)に移行する。
Derivation of the overlapping degree S ij is performed by a common area discriminating process that discriminates from the number of normal two-dimensional data group and abnormal two-dimensional data group existing in the common area (section) in the XY plane as in the cosine measure. However, it is also possible to perform vector discrimination processing by determining vector data having the same inclination and size from the predetermined base point on the XY plane, and determining vector data having the same vector inclination and size. .
(8B) of FIG. 8 shows the derivation process of the overlapping degree Sij by the vector discrimination process. After data processing (step S10) for the normal two-dimensional data group and the abnormal two-dimensional data group, or at that time, vector data is formed by determining the inclination and size of each data from a predetermined base point on the XY plane. Is performed (step S30). This vector value (vector inclination and magnitude) discriminates the vector data existing in the same lattice of the matrix lattice and the lattice within the allowable neighborhood range, and derives the sum Nv of the common number (step S30). In order to create a network diagram, the total Nv data is arranged in ascending order (step S30), and the process proceeds to a network diagram creation process (step S14).

図9は、コサイン測度の小さい順に並べたときの、ネットワーク図の作成手順例を示す。図9の(9A)は、コサイン測度が最も小さい処理条件パラメータの組み合わせである、処理条件F1(ガス流量条件1)と処理条件T2(温度条件2)の結線状態を示す。次にコサイン測度が小さい処理条件パラメータの組み合わせが、処理条件F1(ガス流量条件1)と処理条件W1(重量条件1)のとき、(9B)に示すように、処理条件F1に連結した結線状態に移行する。以下、コサイン測度が小さい順に現れるパラメータ相関により結線を続けていく。(9C)は、任意の順位まで結線を続けて得られたネットワーク図を示す。(9C)のネットワーク図の結線数から集中度の高い処理条件パラメータF1及び処理条件T1(温度条件1)を処理条件ハブパラメータとして明確に検索して割り出すことができる。いずれの段階までネットワーク図を作成するか否かは、予め任意に昇順順位を決めてもよいが、集中度の高い結線数を所定値に決めて、それが出現する段階までネットワーク図を作成するようにしてもよい。   FIG. 9 shows an example of a procedure for creating a network diagram when arranged in ascending order of cosine measure. (9A) of FIG. 9 shows a connection state of the processing condition F1 (gas flow rate condition 1) and the processing condition T2 (temperature condition 2), which is a combination of the processing condition parameters having the smallest cosine measure. Next, when the combination of the processing condition parameters with the smallest cosine measure is the processing condition F1 (gas flow condition 1) and the processing condition W1 (weight condition 1), as shown in (9B), the connection state connected to the processing condition F1 Migrate to Hereinafter, the connection is continued by the parameter correlation that appears in ascending order of the cosine measure. (9C) shows a network diagram obtained by continuing the connection up to an arbitrary rank. The processing condition parameter F1 and the processing condition T1 (temperature condition 1) having a high degree of concentration can be clearly searched and determined as processing condition hub parameters from the number of connections in the network diagram of (9C). Whether to create a network diagram up to which stage may be arbitrarily determined in ascending order in advance, but the number of connections with a high degree of concentration is determined to a predetermined value, and the network diagram is created until it appears You may do it.

本実施形態に係る異常要因分析装置においては、N個の正常2次元データ群とN個の異常2次元データ群の重なり度Sij(コサイン測度)を導出し、処理条件パラメータP、Pを結線したネットワーク図を作成して、ネットワーク図から集中度の高い処理条件ハブパラメータを導出するので、その導出過程で複数個の処理条件パラメータP間における相関を網羅して、前記異常要因に関する処理条件パラメータの特定化を行うことができ、従来の要因分析手法では取捨選択されてしまう複合パラメータの影響を排除することなく高精度に異常要因を抽出して、品質管理ないし工程管理における異常要因分析の精度向上を図ることができる。 In the abnormality factor analyzer according to the present embodiment, the degree of overlap S ij (cosine measure) between N 1 normal 2D data groups and N 2 abnormal 2D data groups is derived, and the processing condition parameters P i , A network diagram in which P j is connected is created, and a processing condition hub parameter having a high degree of concentration is derived from the network diagram. Thus, the correlation among a plurality of processing condition parameters P k is covered in the derivation process, and the abnormality Process condition parameters related to factors can be specified, and abnormal factors can be extracted with high accuracy without excluding the influence of complex parameters that would be selected by conventional factor analysis methods. The accuracy of abnormality factor analysis can be improved.

処理条件ハブパラメータを検索したとき、プリンタ14及びディスプレイ12にデータ出力される。ネットワーク図も適宜、その結線状態がディスプレイ12に出力され、目視判断可能にモニタ出力される。ネットワーク図の形成形態は、平面的に自由に拡散させて表現する形態の他に、多線度を頂点として配置して中心渦巻き状に結線する形態、円球面上に結線する形態、多線度を頂点として配置して中心円形状に結線する形態、多線度を頂点として配置して中心格子状に結線する形態等を使用して、作業者の視認判断の便宜を図ることができる。   When the processing condition hub parameter is retrieved, data is output to the printer 14 and the display 12. The network diagram is also output to the display 12 as appropriate, and the monitor diagram is output so that it can be visually judged. The network diagram can be formed in a form that is freely diffused in a plane, a multi-linearity placed at the top and connected in a central spiral, a connection on a spherical surface, a multi-linearity Can be used for the convenience of visual recognition by the operator, using a form in which the vertices are arranged as vertices and connected in a central circular shape, a form in which multiplicity is arranged as the vertices and connected in a central grid.

尚、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲における種々変形例、設計変更などをその技術的範囲内に包含するものであることは云うまでもない。   It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications, design changes and the like within the scope not departing from the technical idea of the present invention are included in the technical scope. Nor.

本発明によれば、半導体、電子機器、食料品等の広範囲に亘る産業分野において、生産される製品等における異常要因の分析精度を向上させ、生産効率、生産管理能力、製品品質等の向上に寄与することができる。   According to the present invention, in a wide range of industrial fields such as semiconductors, electronic devices, foodstuffs, etc., it is possible to improve the analysis accuracy of abnormal factors in manufactured products, etc., and to improve production efficiency, production management capability, product quality, etc. Can contribute.

本発明の一実施形態である異常要因分析装置の概略ブロック図である。It is a schematic block diagram of the abnormality factor analyzer which is one Embodiment of this invention. 前記実施形態の異常要因分析処理のフローチャートである。It is a flowchart of the abnormal factor analysis process of the embodiment. 図2の異常要因分析処理の後続のフローチャートである。3 is a flowchart subsequent to the abnormality factor analysis processing of FIG. 2. 前記異常要因分析処理に用いる3次元データ群の一例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically an example of the three-dimensional data group used for the said abnormality factor analysis process. 前記3次元データ群から2次元データ化される処理条件パラメータの組み合わせ表を示す図である。It is a figure which shows the combination table | surface of the process condition parameter converted into two-dimensional data from the said three-dimensional data group. 投影処理された2次元化データを模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the two-dimensional data by which the projection process was carried out. 整数化処理を施したX軸及びY軸の単位区画幅でデータを配列し直したマトリックス配列例を示す図である。It is a figure which shows the example of a matrix arrangement | sequence which rearranged data by the unit division width | variety of the X-axis and Y-axis which performed the integer-ized process. 重なり度Sijの導出処理を示す図である。It is a figure which shows the derivation | leading-out process of overlap degree Sij . ネットワーク図の作成処理を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the creation process of a network diagram. 検査データ1に対する各特性データ1〜m又は製造条件1〜kの相関例を示すグラフである。It is a graph which shows the example of a correlation of each characteristic data 1-m with respect to the test | inspection data 1, or manufacturing conditions 1-k. 検索条件入力処理の詳細を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the detail of a search condition input process.

符号の説明Explanation of symbols

1 制御部
2 CPU
3 データ検索部
4 データ処理部
5 コサイン測度計算部
6 外部出力部
7 検索条件設定部
8 検索結果処理部
9 ネットワーク処理部
10 インターフェース部
11 ファイル格納部
12 ディスプレイ
13 検索条件入力部
14 プリンタ
15A〜15N 外部管理機器
1 Control unit 2 CPU
3 Data search unit 4 Data processing unit 5 Cosine measure calculation unit 6 External output unit 7 Search condition setting unit 8 Search result processing unit 9 Network processing unit 10 Interface unit 11 File storage unit 12 Display 13 Search condition input unit 14 Printers 15A to 15N External management device

Claims (15)

少なくともn個の原因パラメータP(1≦k≦n)を有して製造される製品群を特定の分析パラメータDにより検査して、前記分析パラメータDが異常を示すときに、前記異常を生起する異常要因を前記原因パラメータP(1≦k≦n)から抽出する異常要因分析をコンピュータに実行させる異常要因分析プログラムにおいて、前記コンピュータを、前記原因パラメータP と前記分析パラメータDを格納するファイル格納手段と、前記ファイル格納手段から取り出された前記原因パラメータ(1≦k≦n)から選択される異なった2個の原因パラメータP、Pを夫々X軸、Y軸とし、前記ファイル格納手段から取り出された前記分析パラメータDをZ軸としてN個の3次元データ群を構成する手段と、前記N個の3次元データ群から前記分析パラメータDが正常範囲にある正常3次元データ群を抽出してX−Y面に投影したN個の正常2次元データ群を構成する手段と、前記N個の3次元データ群から前記分析パラメータDが異常範囲にある異常3次元データ群を抽出して前記X−Y面に投影したN個の異常2次元データ群を構成する手段と、前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群の重なり度Sijを導出する手段と、複数個の前記重なり度Sijを利用して、前記原因パラメータP、Pを結線したネットワーク図を作成する手段と、前記ネットワーク図から集中度の高い原因ハブパラメータを導出して前記異常を生起する前記原因パラメータPを抽出する手段と、前記異常を生起する前記原因パラメータP を出力する手段として機能させることを特徴とする異常要因分析プログラム。 When a group of products manufactured with at least n cause parameters P k (1 ≦ k ≦ n) is inspected with a specific analysis parameter D, the abnormality occurs when the analysis parameter D indicates an abnormality. In an abnormality factor analysis program for causing a computer to execute an abnormality factor analysis for extracting an abnormality factor to be extracted from the cause parameter P k (1 ≦ k ≦ n), the computer stores the cause parameter P k and the analysis parameter D. Two different cause parameters P i and P j selected from the file storage means and the cause parameters P k (1 ≦ k ≦ n) extracted from the file storage means are set as the X axis and the Y axis, respectively. the analysis parameter D retrieved from said file storage means and means for configuring the N pieces of three-dimensional data set as a Z axis, the N 3D Means for configuring the analysis parameter D is N 1 pieces of normal two-dimensional data group to extract the normal three-dimensional data set projected onto the X-Y plane in the normal range of the data group, the N 3D data means for configuring the analysis parameter D is abnormal three-dimensional data set extracted by the two N projected onto the X-Y plane abnormal two-dimensional data set in the abnormal range of the group, and the normal two-dimensional data set Means for deriving the degree of overlap S ij of the abnormal two-dimensional data group, means for creating a network diagram connecting the cause parameters P i , P j using a plurality of the degree of overlap S ij , and means for deriving a high cause hub parameter of the degree of concentration from a network diagram extracting the cause parameter P k to rise to the abnormality, and means for outputting the cause parameter P k to rise to the abnormal Fault factor analysis program for causing a function Te. 前記重なり度S ij を導出する手段が、1≦i≦n−1且つi<j≦nの範囲に亘る、n(n−1)/2個の前記重なり度Sijを導出する手段からなり前記ネットワーク図を作成する手段が、前記重なり度Sijを昇順又は降順に分類する手段と、分類された前記重なり度Sijを最小値から所望順位値まで利用して、前記重なり度Sijに対応する前記原因パラメータP、Pを結線して前記ネットワーク図を作成する手段からなる請求項1に記載の異常要因分析プログラム。 Means for deriving the overlapping degree S ij is ranging 1 ≦ i ≦ n-1 and i <j ≦ n, n ( n-1) / 2 pieces of it from the means for deriving the overlapping degree S ij It said means for creating a network diagram, by utilizing a means for classifying the degree of overlap S ij in ascending or descending order, the classified the overlapping degree S ij from the minimum value to the desired rank values, the overlapping degree S ij the cause parameter P i, fault factor analysis program according to claim 1 comprising a means for creating the network view by connecting a P j corresponding to. 前記正常2次元データ群を構成する手段と、前記異常2次元データ群を構成する手段が、前記X軸及び前記Y軸をN1/2を整数化処理した整数個に等分分割して前記X−Y面を格子化し、格子マス内に前記3次元データ群を投影して前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群を構成する手段からなり前記重なり度S ij を導出する手段が、前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群が同一格子マス内に存在する場合にデータの共通個数を全格子マスについて総和した重なり数N∩Nを導出する手段と、総数Nに対する前記重なり数N∩Nの割合(N∩N)/N(以下、コサイン測度と称する)を前記重なり度Sijとして導出する手段からなる請求項1又は2に記載の異常要因分析プログラム。 The means for configuring the normal two-dimensional data group and the means for configuring the abnormal two-dimensional data group are divided into an integer number obtained by dividing the X axis and the Y axis into integers by N1 / 2, and the X-Y plane lattice reduction, by projecting the three-dimensional data set into the lattice mass consists means constituting the abnormality two-dimensional data group and the normal two-dimensional data set to derive the overlapping degree S ij means, means for deriving a number of overlapping N 1 ∩N 2 to a common number and total for all grid squares of the data when the abnormality two-dimensional data group and the normal two-dimensional data set are in the same grid in the mass, The ratio (N 1 ∩N 2 ) / N (hereinafter referred to as cosine measure) of the number of overlaps N 1 ∩N 2 with respect to the total number N is derived from means for deriving the degree of overlap S ij . Abnormal cause analysis program. 前記分析パラメータDが検査パラメータであり、かつ前記原因パラメータPが製品の処理条件パラメータ又は前記製品の処理条件を評価するための品質評価パラメータである請求項1、2又は3に記載の異常要因分析プログラム。 The abnormality factor according to claim 1, 2 or 3, wherein the analysis parameter D is an inspection parameter, and the cause parameter Pk is a product processing condition parameter or a quality evaluation parameter for evaluating the processing condition of the product. Analysis program. 前記分析パラメータDが製品の処理条件を評価するための品質評価パラメータであり、前記原因パラメータPが前記製品の処理条件パラメータである請求項1、2又は3に記載の異常要因分析プログラム。 4. The abnormality factor analysis program according to claim 1, wherein the analysis parameter D is a quality evaluation parameter for evaluating a processing condition of a product, and the cause parameter Pk is a processing condition parameter of the product . 少なくともn個の原因パラメータP(1≦k≦n)を有して製造される製品群を特定の分析パラメータDにより検査して、前記分析パラメータDが異常を示すときに、前記異常を生起する異常要因を前記原因パラメータP(1≦k≦n)から抽出する異常要因分析をコンピュータに実行させる異常要因分析プログラムにおいて前記コンピュータを、前記原因パラメータP と前記分析パラメータDを格納するファイル格納手段と、前記ファイル格納手段から取り出された前記原因パラメータP(1≦k≦n)から選択される異なった2個の原因パラメータP、Pを夫々X軸、Y軸とし、前記ファイル格納手段から取り出された前記分析パラメータDをZ軸としてN個の3次元データ群を構成する手段と、前記N個の3次元データ群から前記分析パラメータDが正常範囲にある正常3次元データ群を抽出してX−Y面に投影したN個の正常2次元データ群を構成する手段と、前記N個の3次元データ群から前記検査パラメータDが異常範囲にある異常3次元データ群を抽出して前記X−Y面に投影したN個の異常2次元データ群を構成する手段と、前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群の重なり度Sijを導出する手段と、複数個の前記重なり度Sijを利用して、前記原因パラメータP、Pを結線したネットワーク図を作成する手段と、前記ネットワーク図から集中度の高い原因ハブパラメータを導出して前記異常を生起する前記原因パラメータPを抽出する手段と、前記異常を生起する前記原因パラメータP を出力する手段として機能させる異常要因分析プログラムであって、前記異常要因分析プログラムが記録媒体に保存され、前記コンピュータにより読み取り可能であることを特徴とする異常要因分析プログラム記録媒体。 When a group of products manufactured with at least n cause parameters P k (1 ≦ k ≦ n) is inspected with a specific analysis parameter D, the abnormality occurs when the analysis parameter D indicates an abnormality. In an abnormality factor analysis program for causing a computer to execute an abnormality factor analysis for extracting an abnormality factor to be extracted from the cause parameter P k (1 ≦ k ≦ n) , the computer stores the cause parameter P k and the analysis parameter D. Two different cause parameters P i and P j selected from the file storage means and the cause parameters P k (1 ≦ k ≦ n) extracted from the file storage means are set as the X axis and the Y axis, respectively. the analysis parameter D retrieved from said file storage means and means for configuring the N pieces of three-dimensional data set as a Z axis, the N 3D Means for configuring the analysis parameter D is N 1 pieces of normal two-dimensional data group to extract the normal three-dimensional data set projected onto the X-Y plane in the normal range of the data group, the N 3D data means for configuring the test parameter D is abnormal three-dimensional data set extracted by the two N projected onto the X-Y plane abnormal two-dimensional data set in the abnormal range of the group, and the normal two-dimensional data set Means for deriving the degree of overlap S ij of the abnormal two-dimensional data group, means for creating a network diagram connecting the cause parameters P i , P j using a plurality of the degree of overlap S ij , and means for deriving a high cause hub parameter of the degree of concentration from a network diagram extracting the cause parameter P k to rise to the abnormality, and means for outputting the cause parameter P k to rise to the abnormal A fault factor analysis program to function Te by the abnormal factor analysis program stored in the recording medium, fault factor analysis program recording medium which is a readable by the computer. 前記重なり度S ij を導出する手段が、1≦i≦n−1且つi<j≦nの範囲に亘る、n(n−1)/2個の前記重なり度Sijを導出する手段からなり前記ネットワーク図を作成する手段が、前記重なり度Sijを昇順又は降順に分類する手段と、分類された前記重なり度Sijを最小値から所望順位値まで利用して、前記重なり度Sijに対応する前記原因パラメータP、Pを結線して前記ネットワーク図を作成する手段からなる請求項6に記載の異常要因分析プログラム記録媒体。 Means for deriving the overlapping degree S ij is ranging 1 ≦ i ≦ n-1 and i <j ≦ n, n ( n-1) / 2 pieces of it from the means for deriving the overlapping degree S ij It said means for creating a network diagram, by utilizing a means for classifying the degree of overlap S ij in ascending or descending order, the classified the overlapping degree S ij from the minimum value to the desired rank values, the overlapping degree S ij the cause parameter P i, fault factor analysis program recording medium of claim 6 comprising a means for creating the network view by connecting a P j corresponding to. 前記正常2次元データ群を構成する手段と、前記異常2次元データ群を構成する手段が、前記X軸及び前記Y軸をN1/2を整数化処理した整数個に等分分割して前記X−Y面を格子化し、格子マス内に前記3次元データ群を投影して前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群を構成する手段からなり前記重なり度S ij を導出する手段が、前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群が同一格子マス内に存在する場合にデータの共通個数を全格子マスについて総和した重なり数N∩Nを導出する手段と、総数Nに対する前記重なり数N∩Nの割合(N∩N)/N(以下、コサイン測度と称する)を前記重なり度Sijとして導出する手段からなる請求項6又は7に記載の異常要因分析プログラム記録媒体。 The means for configuring the normal two-dimensional data group and the means for configuring the abnormal two-dimensional data group are divided into an integer number obtained by dividing the X axis and the Y axis into integers by N1 / 2, and the X-Y plane lattice reduction, by projecting the three-dimensional data set into the lattice mass consists means constituting the abnormality two-dimensional data group and the normal two-dimensional data set to derive the overlapping degree S ij means, means for deriving a number of overlapping N 1 ∩N 2 to a common number and total for all grid squares of the data when the abnormality two-dimensional data group and the normal two-dimensional data set are in the same grid in the mass, 8. The method according to claim 6, further comprising means for deriving a ratio (N 1 ∩N 2 ) / N (hereinafter referred to as a cosine measure) of the overlap number N 1 ∩N 2 with respect to the total number N as the overlap degree S ij . Abnormal cause analysis program record Medium. 前記分析パラメータDが検査パラメータであり、かつ前記原因パラメータPが製品の処理条件パラメータ又は前記製品の処理条件を評価するための品質評価パラメータである請求項6、7又は8に記載の異常要因分析プログラム記録媒体。 The abnormal factor according to claim 6, 7 or 8, wherein the analysis parameter D is an inspection parameter and the cause parameter Pk is a product processing condition parameter or a quality evaluation parameter for evaluating the product processing condition. Analysis program recording medium. 前記分析パラメータDが製品の処理条件を評価するための品質評価パラメータであり、前記原因パラメータPが前記製品の処理条件パラメータである請求項6、7又は8に記載の異常要因分析プログラム記録媒体。 9. The abnormality factor analysis program recording medium according to claim 6, 7 or 8, wherein the analysis parameter D is a quality evaluation parameter for evaluating a processing condition of a product, and the cause parameter Pk is a processing condition parameter of the product. . 少なくともn個の原因パラメータP(1≦k≦n)を有して製造される製品群を特定の分析パラメータDにより検査して、前記分析パラメータDが異常を示すときに、前記異常を生起する異常要因を前記原因パラメータP(1≦k≦n)から抽出して分析結果を出力する異常要因分析装置において、前記原因パラメータP と前記分析パラメータDを格納するファイル格納手段と、前記ファイル格納手段から取り出された前記原因パラメータP(1≦k≦n)から選択される異なった2個の処理条件パラメータP、Pを夫々X軸、Y軸とし、前記ファイル格納手段から取り出された前記検査パラメータDをZ軸としてN個の3次元データ群を構成する手段と、前記N個の3次元データ群から前記分析パラメータDが正常範囲にある正常3次元データ群を抽出してX−Y面に投影したN個の正常2次元データ群を構成する手段と、前記N個の3次元データ群から前記検査パラメータDが異常範囲にある異常3次元データ群を抽出して前記X−Y面に投影したN個の異常2次元データ群を構成する手段と、前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群の重なり度Sijを導出する手段と、複数個の前記重なり度Sijを利用して、前記原因パラメータP、Pを結線したネットワーク図を作成する手段と、前記ネットワーク図から集中度の高い処理条件ハブパラメータを導出して前記異常を生起する前記原因パラメータPを抽出する手段と、前記異常を生起する前記原因パラメータP を出力する手段を有することを特徴とする異常要因分析装置。 When a group of products manufactured with at least n cause parameters P k (1 ≦ k ≦ n) is inspected with a specific analysis parameter D, the abnormality occurs when the analysis parameter D indicates an abnormality. In the abnormality factor analyzer that extracts an abnormal factor to be extracted from the cause parameter P k (1 ≦ k ≦ n) and outputs an analysis result, file storage means for storing the cause parameter P k and the analysis parameter D; Two different processing condition parameters P i and P j selected from the cause parameter P k (1 ≦ k ≦ n) taken out from the file storage means are set as the X axis and the Y axis, respectively, and from the file storage means. Means for configuring N three-dimensional data groups with the extracted inspection parameter D as a Z axis, and the analysis parameter D is within a normal range from the N three-dimensional data groups The means and the inspection parameter D is abnormal range of the N three-dimensional data group constituting the N 1 pieces of normal two-dimensional data set projected onto the X-Y plane by extracting normal three-dimensional data set in A means for extracting N 2 abnormal 2D data groups extracted from an abnormal 3D data group and projected onto the XY plane, and a degree of overlap S between the normal 2D data group and the abnormal 2D data group means for deriving ij , means for creating a network diagram in which the cause parameters P i and P j are connected using a plurality of the overlapping degrees S ij , and a processing condition hub having a high degree of concentration from the network diagram means for extracting the cause parameter P k which derive the parameters arising the abnormal, the occurring abnormality the cause parameter fault factor analysis apparatus characterized by comprising means for outputting the P k 前記重なり度S ij を導出する手段が、1≦i≦n−1且つi<j≦nの範囲に亘る、n(n−1)/2個の前記重なり度Sijを導出する手段からなり前記ネットワーク図を作成する手段が、前記重なり度Sijを昇順又は降順に分類する手段と、分類された前記重なり度Sijを最小値から所望順位値まで利用して、前記重なり度Sijに対応する前記原因パラメータP、Pを結線して前記ネットワーク図を作成する手段からなる請求項11に記載の異常要因分析装置。 Means for deriving the overlapping degree S ij is ranging 1 ≦ i ≦ n-1 and i <j ≦ n, n ( n-1) / 2 pieces of it from the means for deriving the overlapping degree S ij The means for creating the network diagram classifies the overlapping degree S ij in ascending or descending order, and uses the classified overlapping degree S ij from a minimum value to a desired rank value, and the overlapping degree S ij corresponding to the cause parameter P i, fault factor analysis apparatus according to claim 11 comprising a means for creating the network view by connecting a P j. 前記正常2次元データ群を構成する手段と、前記異常2次元データ群を構成する手段が、前記X軸及び前記Y軸をN1/2を整数化処理した整数個に等分分割して前記X−Y面を格子化し、格子マス内に前記3次元データ群を投影して前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群を構成する手段からなり前記重なり度S ij を導出する手段が、前記正常2次元データ群と前記異常2次元データ群が同一格子マス内に存在する場合にデータの共通個数を全格子マスについて総和した重なり数N∩Nを導出する手段と、総数Nに対する前記重なり数N∩Nの割合(N∩N)/N(以下、コサイン測度と称する)を前記重なり度Sijとして導出する手段からなる請求項11又は12に記載の異常要因分析装置。 The means for configuring the normal two-dimensional data group and the means for configuring the abnormal two-dimensional data group are divided into an integer number obtained by dividing the X axis and the Y axis into integers by N1 / 2, and the X-Y plane lattice reduction, by projecting the three-dimensional data set into the lattice mass consists means constituting the abnormality two-dimensional data group and the normal two-dimensional data set to derive the overlapping degree S ij Means for deriving an overlapping number N 1 ∩N 2 obtained by summing up the common number of data for all lattice masses when the normal two-dimensional data group and the abnormal two-dimensional data group exist in the same lattice mass; 13. The method according to claim 11, comprising means for deriving a ratio (N 1 ∩N 2 ) / N (hereinafter referred to as a cosine measure) of the number of overlaps N 1 ∩N 2 with respect to the total number N as the degree of overlap S ij . Anomaly factor analyzer. 前記分析パラメータDが検査パラメータであり、かつ前記原因パラメータPが製品の処理条件パラメータ又は前記製品の処理条件を評価するための品質評価パラメータである請求項11、12又は13に記載の異常要因分析装置。 14. The abnormality factor according to claim 11, wherein the analysis parameter D is an inspection parameter, and the cause parameter Pk is a product processing condition parameter or a quality evaluation parameter for evaluating the product processing condition. Analysis equipment. 前記分析パラメータDが製品の処理条件を評価するための品質評価パラメータであり、前記原因パラメータPが前記製品の処理条件パラメータである請求項11、12又は13に記載の異常要因分析装置。 The abnormality factor analysis device according to claim 11, wherein the analysis parameter D is a quality evaluation parameter for evaluating a processing condition of a product, and the cause parameter P k is a processing condition parameter of the product .
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