JP5155852B2 - Aryl-ethylene substituted aromatic compounds and their use as organic semiconductors - Google Patents

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Description

本開示は、新しい部類のアリール−エチレン置換芳香族化合物に関する。本開示はまた、電子デバイスにおけるこれらの化合物の使用、およびこれらのデバイスの製造方法にも関する。   The present disclosure relates to a new class of aryl-ethylene substituted aromatic compounds. The present disclosure also relates to the use of these compounds in electronic devices and methods for making these devices.

有機材料は、有機薄膜トランジスタ(OTFT)、有機発光ダイオード(OLED)、光電池ダイオードおよび液晶ディスプレイ等の電子デバイスに広く用いられている。OTFTは、スマートカード、電子タグ、ディスプレイおよびメモリデバイス等の用途に好適な低コストの集積回路(IC)技術に用いることに特に関心が寄せられている。OTFTにおいて、半導体層は、共役ポリマーおよびオリゴマーを含む有機半導体材料からなる。電子デバイス用途に必要な電子特性を有する多くの有機材料が合成されている。   Organic materials are widely used in electronic devices such as organic thin film transistors (OTFTs), organic light emitting diodes (OLEDs), photovoltaic diodes, and liquid crystal displays. OTFTs are of particular interest for use in low cost integrated circuit (IC) technology suitable for applications such as smart cards, electronic tags, displays and memory devices. In OTFT, the semiconductor layer is made of an organic semiconductor material containing a conjugated polymer and an oligomer. Many organic materials having the electronic properties necessary for electronic device applications have been synthesized.

半導体として用いることが研究されてきた有機化合物としては、レジオレギュラーポリ(3−アルキルチオフェン)等の共役ポリマー、ポリフルオレン−ビチオフェンのコポリマー、多環芳香族アミンおよびポリチオフェン誘導体、ペンタセン、テトラセンおよびそれら誘導体等の縮合芳香族化合物、ならびにオリゴチオフェン、フルオレン−チオフェンオリゴマーおよびフェニルチオフェンポリゴマ−等の共役オリゴマーが挙げられる。   Organic compounds that have been studied for use as semiconductors include conjugated polymers such as regioregular poly (3-alkylthiophene), polyfluorene-bithiophene copolymers, polycyclic aromatic amines and polythiophene derivatives, pentacene, tetracene and their derivatives. And conjugated oligomers such as oligothiophene, fluorene-thiophene oligomer, and phenylthiophene polysomer.

残念なことに、上述した有機半導体化合物の大半の性能は、電荷移動度が低いか(約0.1cm/Vs)、不安定かのいずれかである。例えば、ペンタセンは高移動度(約0.1〜2cm/Vs)を有するものの、比較的低いバンドギャップ(2.2eV)および高HOMO(最高被占分子軌道)エネルギーレベルを有してもいて、容易に酸化される。さらに、ペンタセン化合物は、高酸素および湿度感度を示すことが多いため、高いオン/オフ比は不活性雰囲気でしか得られない。これらの特徴の結果、デバイス安定性が乏しく、ペンタセン化合物を実際の電子回路用途には不適とさせている。一方、オリゴフルオレン、オリゴフルオレン−チオフェン、フェニレン−チオフェンおよび共役ポリフルオレン−チオフェンポリマー等の化合物は、改善された安定性を示すが、移動度が低いため、高効率の電子デバイスには用いられない。従って、高移動度および高オン/オフ比を有し、熱、光および空気に安定な有機化合物の部類が尚必要とされている。 Unfortunately, the performance of most of the organic semiconductor compounds described above is either low charge mobility (about 0.1 cm 2 / Vs) or unstable. For example, pentacene has a high mobility (about 0.1-2 cm 2 / Vs), but also has a relatively low band gap (2.2 eV) and a high HOMO (highest occupied molecular orbital) energy level. Easily oxidized. Furthermore, since pentacene compounds often exhibit high oxygen and humidity sensitivity, a high on / off ratio can only be obtained in an inert atmosphere. As a result of these features, device stability is poor, making pentacene compounds unsuitable for practical electronic circuit applications. On the other hand, compounds such as oligofluorene, oligofluorene-thiophene, phenylene-thiophene and conjugated polyfluorene-thiophene polymers show improved stability but are not used in highly efficient electronic devices due to their low mobility . Accordingly, there remains a need for a class of organic compounds that have high mobility and high on / off ratios and are stable to heat, light and air.

また、商業的に可能な製造方法を用いて、OLED等の電子デバイスに容易に組み込むことのできる有機化合物も必要とされている。OLEDの他の態様において、デバイスの寿命が短いことが、商用としての欠陥である。NPD等の有機トリアリールアミン化合物およびその誘導体は、正孔輸送材料として広く用いられている。これらトリアリールアミン化合物の低電荷移動度および正孔輸送材料の低ガラス転移温度がOLEDの安定性を制限するものと考えられる。このため、高い正孔電荷移動度および熱安定性を備えた新たな材料がOLEDに必要とされている。   There is also a need for organic compounds that can be easily incorporated into electronic devices such as OLEDs using commercially available manufacturing methods. In other aspects of the OLED, a short device lifetime is a commercial defect. Organic triarylamine compounds such as NPD and derivatives thereof are widely used as hole transport materials. The low charge mobility of these triarylamine compounds and the low glass transition temperature of the hole transport material are believed to limit the stability of the OLED. For this reason, new materials with high hole charge mobility and thermal stability are needed for OLEDs.

米国特許第6,621,098号明細書US Pat. No. 6,621,098 米国特許出願公開第2004/0254297号明細書US Patent Application Publication No. 2004/0254297 米国特許出願公開第2004/029133号明細書US Patent Application Publication No. 2004/029133 PCT公開出願国際公開第02/02714号パンフレットPCT Publication Application International Publication No. 02/02714 Pamphlet 米国特許出願公開第2001/0019782号明細書US Patent Application Publication No. 2001/0019782 欧州特許第1191612号明細書EP11991612 国際公開第02/15645号パンフレットInternational Publication No. 02/15645 Pamphlet 欧州特許第1191614号明細書EP 1191614 米国特許第6,303,238号明細書US Pat. No. 6,303,238 国際公開第00/70655号パンフレットInternational Publication No. 00/70655 Pamphlet 国際公開第01/41512号パンフレットInternational Publication No. 01/41512 Pamphlet 米国特許第6,452,207号明細書US Pat. No. 6,452,207 文献(宮浦(Miyaura),N、鈴木(Suzuki),A.、Chem.Rev.(1995)、95(7)、2457−83)Literature (Miyaura, N, Suzuki, A., Chem. Rev. (1995), 95 (7), 2457-83) スキーム5、ライトフット(Lightfoot),A.P.、モー(Maw),G.、サースク(Thirsk),C.、ツイドル(Twiddle),S.J.R.、ホワイティング(Whiting),A.、テトラヒドロン(Tetrahedron)Lett.(2003)、44(41)、7645−7648Scheme 5, Lightfoot, A.M. P. Maw, G .; Thirsk, C.I. Tiddle, S .; J. et al. R. , Whiting, A. Tetrahedron Lett. (2003), 44 (41), 7645-7648 ダルス(Darses),S.、Genet,J.P.、Eur.J.of Org.Chem.(2003)、(22)、4313−4327Darses, S .; Genet, J .; P. Eur. J. et al. of Org. Chem. (2003), (22), 4313-4327 ヘルマン(Herrmann),W.A.、ライジンガー(Reisinger),C.P.、ハーター(Haerter)P.、「C−Cカップリング反応(ヘック、スティル、鈴木等)水相有機金属触媒(C−C coupling reactions(Heck,Stille,Suzuki,etc.).Aqueous−Phase Organometallic Catalysis)」第2版(2004)、511−523Herrmann, W.H. A. Reisinger, C.I. P. Hater P. "C-C coupling reaction (Heck, Still, Suzuki, etc.), water-phase organometallic catalyst (C-C coupling reactions (Heck, Stille, Suzuki, etc.). ), 511-523 フオ(Huo),S.、根岸(Negishi),E.、パラジウム−触媒アルケニル−アリール、アリール−アルケニルおよびアルケニル−アルケニルカップリング反応Huo, S.A. Negishi, E .; , Palladium-catalyzed alkenyl-aryl, aryl-alkenyl and alkenyl-alkenyl coupling reactions 有機合成のオルガノパラジウム化学ハンドブック(Handbook of Organopalladium Chemistry for Organic Synthesis)(2002)、1、335−408Organopalladium Chemistry for Organic Synthesis (2002), 1, 335-408 of Organic Synthesis リトク(Littke),A.F.、フゥ(Fu),G.C.Angew.Chem.Int.Ed.(2002)、41(22)、4176−4211Littke, A.R. F. Fu, G. C. Angew. Chem. Int. Ed. (2002), 41 (22), 4176-4211 ファリナ(Farina),V.、最新の合成および触媒反応(Adv.Synthesis&Catalysis)(2004)、346(13−15)、1553−1582Farina, V.M. The latest synthesis and catalysis (Adv. Synthesis & Catalysis) (2004), 346 (13-15), 1553-1582. ブレース(Braese),S.、デマイヤー(De Meijere),A.、二重および多重ヘック反応(Double and multiple Heck reactions)Braese, S.M. De Meijere, A .; , Double and multiple Heck reactions 有機合成のオルガノパラジウム化学ハンドブック(Handbook of Organopalladium Chemistry for Organic Synthesis)(2002)、1:1179−1208Organopalladium Chemistry for Organic Synthesis of Organic Synthesis (2002), 1: 1179-1208 伊丹(Itami),K.、潮木(Ushiogi),Y.、野上(Nokami),T.、大橋(Ohashi),Y.、吉田(Yoshida)、J.,Org.Lett.(2004)、6(21)、3695−3698Itami, K .; Ushiogi, Y. et al. Nokami, T .; Ohashi, Y .; Yoshida, J. et al. Org. Lett. (2004), 6 (21), 3695-3698. レーツ(Reetz),M.T.、デブリーズ(de Vries),J.G.、Chem.Commun.(2004)、(14)1559−1563)Reetz, M.C. T.A. , De Vries, J.A. G. Chem. Commun. (2004), (14) 1559-1563) スキーム6およびケリンス(Kerins),F、オシェイ(O’Shea),D.F.、J.Org.Chem.2002、67、4968−4971Scheme 6 and Kerins, F. O'Shea, D.C. F. , J .; Org. Chem. 2002, 67, 4968-4971 S.M.スイ(Sze)著、半導体デバイスの物理(Physics of Semiconductor Devices)第2版、ジョンウィリー・アンド・ソンズ(John Wiley and Sons)、ニューヨーク(New York)(1981)S. M.M. By Sze, Physics of Semiconductor Devices, 2nd edition, John Wiley and Sons, New York (1981) ピーター・ヴァン・ザント(Peter Van Zant)、マイクロチップ製造(Microchip Fabrication)、第4版、マグローヒル(McGraw−Hill)、ニューヨーク(New York)(2000)Peter Van Zant, Microchip Fabrication, 4th edition, McGraw-Hill, New York (2000) S.M.スイ(Sze)著半導体デバイスの物理(Physics of Semiconductor Devices)第2版、ジョンウィリー・アンド・サンズ(John Wiley and Sons)、ニューヨーク(New York)(1981)、492ページS. M.M. Physics of Semiconductor Devices, 2nd edition by Sze, John Wiley and Sons, New York (1981), p. 492 「可溶導電性ポリマーから作製された可撓性光伝達ダイオード(Flexible light−emitting diodes made from soluble conducting polymer)」Nature、第357巻、477頁、479頁(1992年6月11日)“Flexible light-emitting diodes from solid conducting polymer” Nature, 357, 477, 479 (June 11, 1992) カーク・オスマー化学技術百科事典(Kirk Othmer Encyclopedia of Chemical Technology)第4版、第18巻、837頁、860頁、1996年、Y.ワン(Wang)Kirk Osmer Encyclopedia of Chemical Technology, 4th edition, volume 18, pages 837, 860, 1996, Y.C. Wang ブラッドリー(Bradley)ら、Synth.Met.(2001)、116(1−3)、379−383およびキャンベル(Campbell)ら、Phys.Rev.B、第65巻085210Bradley et al., Synth. Met. (2001), 116 (1-3), 379-383 and Campbell et al., Phys. Rev. B, Volume 65 085210 ホッジ(Hodge),P.、パワー(Power),G.A.、ラブジョンズ(Rabjohns),M.A.、Chem.Commun.1997、73Hodge, P.A. , Power, G.M. A. Rabjohns, M .; A. Chem. Commun. 1997, 73 フィッカー(Ficker)ら、J.Appl.Phys.94、2638(2003)Ficker et al. Appl. Phys. 94, 2638 (2003)

式1:   Formula 1:

Figure 0005155852
Figure 0005155852

により表される化合物であって、
式中、
Arはアリーレン基であり、
Ar’およびAr”は、アリール基から独立して選択され、
〜Rは、水素、アルキル、アリール、ハロゲン、ヒドロキシル、アリールオキシ、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、アミノ、アルキルチオ、ホスフィノ、シリル、−COR、−COOR、−PO、−OPOおよびCNからなる群から独立して選択され、
Rは、水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニルおよびアミノからなる群から選択され、
mおよびnは0〜5の値をそれぞれ独立して有する整数であり、m+n≠0である。
A compound represented by
Where
Ar is an arylene group,
Ar ′ and Ar ″ are independently selected from aryl groups;
R 1 to R 4 are hydrogen, alkyl, aryl, halogen, hydroxyl, aryloxy, alkoxy, alkenyl, alkynyl, amino, alkylthio, phosphino, silyl, —COR, —COOR, —PO 3 R 2 , —OPO 3 R Independently selected from the group consisting of 2 and CN;
R is selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, aryl, alkenyl, alkynyl and amino;
m and n are integers each independently having a value of 0 to 5, and m + n ≠ 0.

一実施形態において、Arは、以下の基:   In one embodiment, Ar is the following group:

Figure 0005155852
Figure 0005155852

およびこれらの組み合わせからなる群から選択され、
式中、
Qは、S、Se、Te、OおよびNRからなる群から選択され、
qおよびrは0〜5の値をそれぞれ独立して有する整数であり、
sは、1〜5の値を有する整数であり、
は、水素、アルキルおよびアリールからなる群から独立して選択され、
〜R10は、水素、アルキル、アリール、ハロゲン、ヒドロキシル、アリールオキシ、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、アミノ、アルキルチオ、ホスフィノ、シリル、−COR、−COOR、−PO、−OPOおよびCNからなる群から独立して選択され、
Rは上述した通りであり、
式中、任意の2つの近接基R〜R10は一緒になって環を形成することができる。
And selected from the group consisting of these,
Where
Q is selected from the group consisting of S, Se, Te, O and NR 0 ;
q and r are integers each independently having a value of 0 to 5,
s is an integer having a value of 1 to 5,
R 0 is independently selected from the group consisting of hydrogen, alkyl and aryl;
R 5 to R 10 are hydrogen, alkyl, aryl, halogen, hydroxyl, aryloxy, alkoxy, alkenyl, alkynyl, amino, alkylthio, phosphino, silyl, —COR, —COOR, —PO 3 R 2 , —OPO 3 R Independently selected from the group consisting of 2 and CN;
R is as described above,
In the formula, any two adjacent groups R 5 to R 10 can be combined to form a ring.

式1の化合物の製造の合成方法も提供される。   Synthetic methods for the preparation of compounds of Formula 1 are also provided.

式1で表される正孔輸送化合物およびこれらの化合物を含む正孔輸送層も提供される。   Also provided are hole transport compounds represented by Formula 1 and hole transport layers comprising these compounds.

式1で表される電子輸送化合物およびこれらの化合物を含む電子輸送層も提供される。   An electron transport compound represented by Formula 1 and an electron transport layer including these compounds are also provided.

これらの化合物を含むバッファ層も提供される。   Buffer layers containing these compounds are also provided.

式1で表される化合物を含む有機薄膜トランジスタ(OTFT)を含む電子デバイスも提供される。これらの電子デバイスを製造する方法も提供される。   An electronic device comprising an organic thin film transistor (OTFT) comprising a compound represented by Formula 1 is also provided. A method of manufacturing these electronic devices is also provided.

式1で表される化合物を含むディスプレイデバイスも提供される。   A display device comprising the compound represented by Formula 1 is also provided.

式1で表される化合物を含む有機発光ダイオード、光伝導体、メモリセル、電流制限器、電界効果ダイオード、ショットキーダイオード、光電池、光検出器、整流器、トランジスタ、サーミスタおよびp−n接合も提供される。   Also provided are organic light-emitting diodes, photoconductors, memory cells, current limiters, field effect diodes, Schottky diodes, photovoltaic cells, photodetectors, rectifiers, transistors, thermistors and pn junctions comprising the compound represented by Formula 1. Is done.

本明細書に示した概念をより良く理解するために、添付の図面に実施形態を例示してある。   For a better understanding of the concepts presented herein, embodiments are illustrated in the accompanying drawings.

当業者であれば、図面の対象が、単純化と明瞭さのために例示されていて、必ずしも縮尺があっていないことが分かる。例えば、実施形態をより良く理解するために、図面の対象物のいくつかの寸法は、他の対象物に対して誇張してある。   Those skilled in the art will appreciate that the objects of the drawings are illustrated for simplicity and clarity and are not necessarily to scale. For example, in order to better understand the embodiments, some dimensions of the objects in the drawings are exaggerated relative to other objects.

新たな部類の置換アリールエチレン芳香族化合物およびこれら化合物の合成方法が提供される。有機半導体デバイスにおいて、これらおよびその他の置換アリールエチレン芳香族化合物を用いることが開示されている。   A new class of substituted arylethylene aromatic compounds and methods for the synthesis of these compounds are provided. The use of these and other substituted arylethylene aromatic compounds in organic semiconductor devices is disclosed.

多くの態様および実施形態を上述してきたが、あくまで例に過ぎず、限定するものではない。本明細書を読むと、当業者であれば、本発明の範囲から逸脱することなく、その他態様および実施形態が分かるはずである。   Many aspects and embodiments have been described above and are merely exemplary and not limiting. After reading this specification, skilled artisans will appreciate other aspects and embodiments without departing from the scope of the invention.

1つまたは複数の実施形態のその他の特徴および利点は、以下の発明を実施するための最良の形態および特許請求の範囲から明白となろう。発明を実施するための最良の形態ではまず、用語の定義および説明に続き、アリール−エチレン芳香族化合物、一般調製法、半導体デバイスおよび最後に実施例を示す。   Other features and advantages of one or more embodiments will be apparent from the following detailed description and from the claims. In the best mode for carrying out the invention, the definitions and explanations of terms are first given, followed by aryl-ethylene aromatic compounds, general preparation methods, semiconductor devices and finally examples.

(1.用語の定義および説明)
後述の実施形態の詳細を述べる前に、いくつかの用語を定義または説明する。
(1. Definition and explanation of terms)
Before addressing details of embodiments described below, some terms are defined or explained.

本明細書で用いる「芳香族」という用語は、不飽和環式有機化合物または非局在化π電子と連続した共役を有する基のことを指す。芳香族基は、それぞれ2n+2π電子を有する、1つまたは複数の環を有していてよい。この用語には、環にπ電子を有する1つまたは複数のヘテロ原子を有する基が含まれる。一実施形態において、ヘテロ原子は、N、OおよびSからなる群から選択される。   As used herein, the term “aromatic” refers to an unsaturated cyclic organic compound or a group having a continuous conjugation with a delocalized π electron. The aromatic group may have one or more rings, each having 2n + 2π electrons. The term includes groups having one or more heteroatoms having π electrons in the ring. In one embodiment, the heteroatom is selected from the group consisting of N, O and S.

本明細書で用いる「アセン」という用語は、直鎖構成に2つ以上のオルト縮合ベンゼン環を含有する炭化水素親成分のことを指す。「アセン」には、ナフタレン(2つのオルト縮合ベンゼン環)およびアントラセン(3つのオルト縮合ベンゼン環)が含まれる。4つ以上の縮合ベンゼン環の系は、数字の接頭で命名されており、ベンゼン環の数を示した後「−アセン」で終わっている。   As used herein, the term “acene” refers to a hydrocarbon parent component that contains two or more ortho-fused benzene rings in a linear configuration. “Acene” includes naphthalene (two ortho-fused benzene rings) and anthracene (three ortho-fused benzene rings). A system of four or more fused benzene rings is named with a numeric prefix and ends with “-acene” after indicating the number of benzene rings.

他の用語の一部として、または独立して用いる「アルキル」という用語は、飽和炭化水素基を示す。アルキル基としては、n−ブチル、n−ペンチル、n−ヘプチル、イソ−ブチル、t−ブチルおよびイソ−ペンチルが例示される。この用語にはヘテロアルキルも含まれる。一実施形態において、アルキル基は1〜20個の炭素原子を有する。一実施形態において、アルキル基はフルオロアルキル基である。   The term “alkyl” used as part of another term or independently refers to a saturated hydrocarbon group. Examples of the alkyl group include n-butyl, n-pentyl, n-heptyl, iso-butyl, t-butyl and iso-pentyl. This term also includes heteroalkyl. In one embodiment, the alkyl group has 1-20 carbon atoms. In one embodiment, the alkyl group is a fluoroalkyl group.

「アルキルエーテル」という用語は、Oと置換され、酸素を介して結合した1つまたは複数の炭素原子を有するアルキル基のことを指す。   The term “alkyl ether” refers to an alkyl group substituted with O and having one or more carbon atoms attached through oxygen.

「エーテルアルキル」という用語は、Oと置換され、炭素を介して結合した1つまたは複数の炭素原子を有するアルキル基のことを指す。   The term “etheralkyl” refers to an alkyl group substituted with O and having one or more carbon atoms attached through the carbon.

他の用語の一部として、または独立して用いられる「アルケニル」という用語は、基の隣接炭素原子間に1つまたは複数の二重結合を有する炭化水素基のことを示す。アルケニル基としては、ビニル、アリル、ブテニル、ペンテニルおよびヘプテニルが例示される。この用語にはヘテロアルケニル基が含まれる。一実施形態において、アルケニル基は1〜20個の炭素原子を有する。   The term “alkenyl” used as part of another term or independently refers to a hydrocarbon group having one or more double bonds between adjacent carbon atoms of the group. Examples of alkenyl groups include vinyl, allyl, butenyl, pentenyl and heptenyl. This term includes heteroalkenyl groups. In one embodiment, the alkenyl group has 1-20 carbon atoms.

他の用語の一部として、または独立して用いられる「アルキニル」という用語は、基の隣接炭素原子間に1つまたは複数の三重結合を有する炭化水素基のことを示す。アルキニル基としては、エチニル、プロピニル、ブチニル、ヘキシニルおよびヘプチニルが例示される。この用語にはヘテロアルキル基が含まれる。一実施形態において、アルキニル基は1〜20個の炭素原子を有する。   The term “alkynyl” used as part of another term or used independently refers to a hydrocarbon group having one or more triple bonds between adjacent carbon atoms of the group. Alkynyl groups include ethynyl, propynyl, butynyl, hexynyl and heptynyl. This term includes heteroalkyl groups. In one embodiment, the alkynyl group has 1-20 carbon atoms.

他の用語の一部として、または独立して用いられる「アリール」という用語は、1つの結合点を有する芳香族基のことを指す。「アリーレン」という用語は、2つの結合点を有する芳香族基のことを指す。一実施形態において、アリール基は4〜30個の炭素原子を有する。   The term “aryl” used as part of another term or used independently refers to an aromatic group having one point of attachment. The term “arylene” refers to an aromatic group having two points of attachment. In one embodiment, the aryl group has 4 to 30 carbon atoms.

他の用語の一部として、または独立して用いられる「シリル」という用語は、基−SiRのことを指す。式中、Rは水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニルおよびアミノからなる群から選択される。 The term “silyl” as part of another term or used independently refers to the group —SiR 3 . Wherein R is selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, aryl, alkenyl, alkynyl and amino.

他の用語の一部として、または独立して用いられる「チオアルキル」という用語は、基−SRのことを指す。式中、Rは水素、アルキル、アリール、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される。   The term “thioalkyl” used as part of another term or independently refers to the group —SR. Wherein R is selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, aryl, alkenyl and alkynyl.

「ヘテロ」という接頭語は、1つまたは複数の炭素が異なる原子と置換されていることを示す。一実施形態において、ヘテロ原子は、N、OおよびSからなる群から選択される。   The prefix “hetero” indicates that one or more carbons have been replaced with a different atom. In one embodiment, the heteroatom is selected from the group consisting of N, O and S.

「フルオロ」という接頭語は、1つまたは複数の水素がフッ素と置換されていることを示す。この用語には、部分および完全フッ素化材料が含まれる。   The prefix “fluoro” indicates that one or more hydrogens have been replaced with fluorine. The term includes partially and fully fluorinated materials.

上記の基はいずれも直鎖であっても分岐鎖であってもよい。直鎖アルキル、アルケニルおよびアルキニルとしては、n−ブチル、n−ペンチル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ブテニル、n−ペンテニル、n−ヘプテニルおよびn−ヘプチニルが例示される。分岐鎖アルキル、アルケニルおよびアルキルニルとしては、イソ−ブチル、t−ブチル、イソ−ペンチル、ネオ−ペンチル、イソペンテニルおよびネオ−ペンテニルが例示される。   Any of the above groups may be linear or branched. Examples of linear alkyl, alkenyl and alkynyl include n-butyl, n-pentyl, n-heptyl, n-octyl, n-butenyl, n-pentenyl, n-heptenyl and n-heptynyl. Examples of branched alkyl, alkenyl and alkylnyl include iso-butyl, t-butyl, iso-pentyl, neo-pentyl, isopentenyl and neo-pentenyl.

上記の基はいずれも置換であっても非置換であってもよい。「置換」という用語は、同じまたは異なる置換基による一置換または多置換された基を指す。好適な置換基としては、シアノ基、ニトロ基、エステル基、エーテル基、ハロゲン、ヒドロキシ、アルキル基、アリール基およびアルコキシ基が挙げられる。一実施形態において、置換基はエーテル基およびフッ素置換基を含む。   Any of the above groups may be substituted or unsubstituted. The term “substituted” refers to a mono- or poly-substituted group with the same or different substituents. Suitable substituents include cyano group, nitro group, ester group, ether group, halogen, hydroxy, alkyl group, aryl group and alkoxy group. In one embodiment, the substituent includes an ether group and a fluorine substituent.

本明細書において用いる「電荷輸送」という用語は、層、材料、部材または構造を指すとき、かかる層、材料、部材または構造が、比較的効率良く、電荷の喪失が少なく、かかる層、材料、部材または構造の厚さを通してかかる電荷の移動を促進することを意味する。「電子輸送」とは、負電荷輸送を指し、「正孔輸送」とは正電荷輸送を指す。   As used herein, the term “charge transport” refers to a layer, material, member or structure such that the layer, material, member or structure is relatively efficient and has a low loss of charge. It means promoting the movement of such charges through the thickness of the member or structure. “Electron transport” refers to negative charge transport, and “hole transport” refers to positive charge transport.

本明細書で用いる「含む」、「含んでいる」、「含有する」、「含有している」、「有する」、「有している」またはこれらの変形は、非限定的に含めることをカバーすることが意図されている。例えば、構成要素のリストを含むプロセス、方法、物品または装置は、それら構成要素のみに必ずしも限定されず、明示されていない、またはかかるプロセス、方法、物品または装置に固有のその他構成要素も含まれる。さらに、それとは反対に、明示的に特に定めた場合を除き、「または」は、包含的な「または」を指し、排他的な「または」ではない。例えば、条件AまたはBは、次のうちいずれか1つを満たす。Aが真で(または存在する)、Bが偽である(または存在しない)、Aが偽で(または存在しない)、Bが真である(または存在する)、AとBの両方が真である(または存在する)。   As used herein, "including", "including", "containing", "containing", "having", "having" or variations thereof are meant to include, but not be limited to It is intended to cover. For example, a process, method, article or device that includes a list of components is not necessarily limited to only those components, but also includes other components that are not explicitly specified or are specific to such processes, methods, articles or devices. . Further, on the contrary, unless explicitly stated otherwise, “or” refers to an inclusive “or” and not an exclusive “or”. For example, the condition A or B satisfies any one of the following. A is true (or present), B is false (or does not exist), A is false (or does not exist), B is true (or exists), both A and B are true Is (or exists).

また、本明細書に記載された構成要素および成分を説明するのに、「1つ」、または「ある」を用いる。これはあくまで便宜上行っているに過ぎず、本発明の範囲の一般的な意味を与えている。この説明は、1つ、または少なくとも1つを含むものと理解されるものとし、単数形には、明らかに矛盾を意味しない限りは、複数も含まれる。   Also, “one” or “some” is used to describe the components and components described herein. This is done for convenience only and gives a general sense of the scope of the invention. This description should be understood to include one or at least one and the singular also includes the plural unless it is clearly meant to be inconsistent.

元素の周期表の縦列に対応する族数は、化学および物理CRCハンドブック(CRC Handbook of Chemistry and Physics)、第81版(2000−2001)にある「新表記(New Notation)」規則を用いる。   The group numbers corresponding to the columns of the periodic table of elements use the “New Notation” rule in the CRC Handbook of Chemistry and Physics, 81st Edition (2000-2001).

特に定義のない限り、本明細書で用いる技術科学用語は全て、本発明に属する当業者に共通して理解されるのと同じ意味を有している。本明細書に記載したのと同様または等価の方法および材料を、本発明の実施形態の実行または試験に用いることができるが、好適な方法および材料を後述してある。本明細書で言及した全ての出版物、特許出願、特許およびその他参考文献は、特定の節を挙げない限り、それらの全体が参照により援用される。矛盾がある場合には、定義を含む本明細書が優先される。さらに、材料、方法および実施例は例示に過ぎず、限定されるべきことを意図していない。   Unless defined otherwise, all technical and scientific terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Although methods and materials similar or equivalent to those described herein can be used in the practice or testing of embodiments of the present invention, suitable methods and materials are described below. All publications, patent applications, patents and other references mentioned herein are hereby incorporated by reference in their entirety unless otherwise specified. In case of conflict, the present specification, including definitions, will control. In addition, the materials, methods, and examples are illustrative only and not intended to be limiting.

本明細書に記載していない範囲の、特定の材料、処理動作および回路に関する多くの詳細は、従来のものであり、有機発光ダイオードディスプレイ、光検出器、光電池および半導体部材業界のテキストやその他出典にある。   Many details regarding specific materials, processing operations, and circuits, to the extent not described herein, are conventional, text and other sources of organic light emitting diode display, photodetector, photovoltaic and semiconductor component industries. It is in.

(2.アリール−エチレン芳香族化合物)
式1:
(2. Aryl-ethylene aromatic compound)
Formula 1:

Figure 0005155852
Figure 0005155852

により表される化合物であって、
式中、
Arはアリーレン基であり、
Ar’およびAr”は、アリール基から独立して選択され、
〜Rは、水素、アルキル、アリール、ハロゲン、ヒドロキシル、アリールオキシ、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、アミノ、アルキルチオ、ホスフィノ、シリル、−COR、−COOR、−PO、−OPOおよびCNからなる群から独立して選択され、
Rは、水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニルおよびアミノからなる群から選択され、
mおよびnは0〜5の値をそれぞれ独立して有する整数であり、m+n≠0である。
A compound represented by
Where
Ar is an arylene group,
Ar ′ and Ar ″ are independently selected from aryl groups;
R 1 to R 4 are hydrogen, alkyl, aryl, halogen, hydroxyl, aryloxy, alkoxy, alkenyl, alkynyl, amino, alkylthio, phosphino, silyl, —COR, —COOR, —PO 3 R 2 , —OPO 3 R Independently selected from the group consisting of 2 and CN;
R is selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, aryl, alkenyl, alkynyl and amino;
m and n are integers each independently having a value of 0 to 5, and m + n ≠ 0.

一実施形態において、Ar、Ar’およびAr”は、少なくとも2つの縮合環を有する芳香族基、および単結合により結合した少なくとも2つの環を有する芳香族基からなる群から選択される。一実施形態において、Arは、少なくとも2つの縮合環を有する芳香族基、および単結合により結合した少なくとも2つの環を有する芳香族基からなる群から選択される。一実施形態において、Arはアセン基である。   In one embodiment, Ar, Ar ′ and Ar ″ are selected from the group consisting of an aromatic group having at least two fused rings and an aromatic group having at least two rings joined by a single bond. In embodiments, Ar is selected from the group consisting of an aromatic group having at least two fused rings and an aromatic group having at least two rings joined by a single bond, hi one embodiment, Ar is an acene group is there.

一実施形態において、R〜RはHである。一実施形態において、mとnは両方ともゼロであるわけではない。一実施形態において、m=n=1である。 In one embodiment, R 1 to R 4 are H. In one embodiment, m and n are not both zero. In one embodiment, m = n = 1.

一実施形態において、Arは、   In one embodiment, Ar is

Figure 0005155852
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およびこれらの組み合わせからなる群から選択され、
式中、
Qは、S、Se、Te、OまたはNRからなる群から選択され、
qおよびrは0〜5の値をそれぞれ独立して有する整数であり、
sは、1〜5の値を有する整数であり、
は、水素、アルキルおよびアリールからなる群から選択され、
〜R10は、水素、アルキル、アリール、ハロゲン、ヒドロキシル、アリールオキシ、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、アミノ、アルキルチオ、ホスフィノ、シリル、−COR、−COOR、−PO、−OPOおよびCNからなる群から独立して選択され、
Rは、水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニルおよびアミノからなる群から選択され、
式中、任意の2つの近接基R〜R10は一緒になって環を形成することができる。
And selected from the group consisting of these,
Where
Q is selected from the group consisting of S, Se, Te, O or NR 0 ;
q and r are integers each independently having a value of 0 to 5,
s is an integer having a value of 1 to 5,
R 0 is selected from the group consisting of hydrogen, alkyl and aryl;
R 5 to R 10 are hydrogen, alkyl, aryl, halogen, hydroxyl, aryloxy, alkoxy, alkenyl, alkynyl, amino, alkylthio, phosphino, silyl, —COR, —COOR, —PO 3 R 2 , —OPO 3 R Independently selected from the group consisting of 2 and CN;
R is selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, aryl, alkenyl, alkynyl and amino;
In the formula, any two adjacent groups R 5 to R 10 can be combined to form a ring.

一実施形態において、Arは、   In one embodiment, Ar is

Figure 0005155852
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からなる群から選択され、
式中、
Q、q、r、s、R、RおよびRは前述の通りである。
Selected from the group consisting of
Where
Q, q, r, s, R 0 , R 5 and R 6 are as described above.

一実施形態において、上記Ar基のいずれかについて、rは少なくとも1であり、sは少なくとも2である。一実施形態において、qは0、1、2または3であり、rは1、2または3であり、sは2または3である。一実施形態において、Arは、テトラセンおよびペンタセンから選択される。   In one embodiment, for any of the above Ar groups, r is at least 1 and s is at least 2. In one embodiment, q is 0, 1, 2 or 3, r is 1, 2 or 3, and s is 2 or 3. In one embodiment, Ar is selected from tetracene and pentacene.

一実施形態において、Arは、ジアリールアミノ置換基がないという条件で、2,6−ナフタレン、置換2,6−ナフタレン、2,6−アントラセン、置換2,6−アントラセン、2,7−フルオレン、置換2,7−フルオレン、3,6−カルバゾール、置換3,6−カルバゾールおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも1つの基を有する。一実施形態において、置換基は、アルキル、アルコキシ、アルキルエーテル、エーテルアルキル、チオアルキル、シリルおよびこれらの組み合わせからなる群から独立して選択される。本明細書において、数字は、基の結合点を示しており、化学および物理CRCハンドブック(CRC Handbook of Chemistry and Physics)、第81版(2000−2001)にある規則に従っている。   In one embodiment, Ar is 2,6-naphthalene, substituted 2,6-naphthalene, 2,6-anthracene, substituted 2,6-anthracene, 2,7-fluorene, provided that there is no diarylamino substituent. It has at least one group selected from the group consisting of substituted 2,7-fluorene, 3,6-carbazole, substituted 3,6-carbazole, and combinations thereof. In one embodiment, the substituents are independently selected from the group consisting of alkyl, alkoxy, alkyl ether, ether alkyl, thioalkyl, silyl, and combinations thereof. In the present specification, the numbers indicate the point of attachment of the group, and follow the rules in the CRC and Handbook of Chemistry and Physics, 81st Edition (2000-2001).

一実施形態において、Ar’およびAr”は、ジアリールアミノ置換基がないという条件で、置換アリール基から独立して選択される。一実施形態において、アミノ置換基はない。一実施形態において、Ar’およびAr”は、置換アリール基より独立して選択され、置換基は、アルキル、アリール、アルキルアリール、アルコキシ、アルキルエーテル、エーテルアルキル、フルオロ、チオアルキル、シリルおよびこれらの組み合わせからなる群から独立して選択される。   In one embodiment, Ar ′ and Ar ″ are independently selected from substituted aryl groups provided that there are no diarylamino substituents. In one embodiment, there are no amino substituents. In one embodiment, Ar 'And Ar ″ are independently selected from substituted aryl groups, wherein the substituents are independent from the group consisting of alkyl, aryl, alkylaryl, alkoxy, alkyl ether, ether alkyl, fluoro, thioalkyl, silyl, and combinations thereof. Selected.

理論に拘束されることは望むところではないが、これらの化合物の特定の幾何特性が、電子デバイスにおける性能と相関しているものと考えられる。一実施形態において、平らな対称の化学構造を有している式1の化合物は、OTFTに用いられる。かかる構造は、下に示す、2,6−ビス−(2−ナフタレン−2−イル−ビニル)−アントラセンの2つの共鳴構造のような、多数の可能な伸張共鳴構造を備えた伸張した共役系を形成することができる。   While not wishing to be bound by theory, it is believed that the specific geometric properties of these compounds correlate with performance in electronic devices. In one embodiment, compounds of formula 1 having a flat symmetric chemical structure are used in OTFTs. Such a structure is an extended conjugated system with a number of possible extension resonance structures, such as the two resonance structures of 2,6-bis- (2-naphthalen-2-yl-vinyl) -anthracene shown below. Can be formed.

Figure 0005155852
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アリール−エチレンアセンの共鳴構造は、2,6−ビス−(2−ナフタレン−2−イル−ビニル)−ナフタレンについて本明細書で例示するとおり、電界に露出すると、キノイド状態に変換することができるとも考えられている。   The resonance structure of aryl-ethyleneacene can be converted to the quinoid state when exposed to an electric field, as exemplified herein for 2,6-bis- (2-naphthalen-2-yl-vinyl) -naphthalene. It is also considered.

Figure 0005155852
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これは、高移動度となることが予測される。実際、OTFTの活性半導体のように、式1の化合物を用いると、1cm/Vを超える移動度が得られている。これら半導体のバンドギャップは比較的大きい(約2.3〜3.5eV)ため、化合物はまた極めて安定な材料でもある。かかる高移動度の半導体はまた、OLEDにおいて電荷輸送材料またはホスト材料として用いることもできる。 This is expected to be high mobility. In fact, when a compound of the formula 1 is used like an active semiconductor of OTFT, a mobility exceeding 1 cm 2 / V is obtained. Since the band gap of these semiconductors is relatively large (about 2.3 to 3.5 eV), the compounds are also extremely stable materials. Such high mobility semiconductors can also be used as charge transport materials or host materials in OLEDs.

式1の化合物は、高移動度および高オン/オフ比を示し、半導体デバイスの製造に用いるのに好適である。これらの化合物は、熱安定性が高く、光または空気に影響されない。従って、半導体デバイスは、不活性雰囲気中で製造する必要がない。これらの化合物を用いるとまた、低い基板温度で電子デバイスを製造することができる。さらに、これらの化合物は良好なフィルム形成能力を有している。   The compound of Formula 1 exhibits high mobility and a high on / off ratio and is suitable for use in the manufacture of semiconductor devices. These compounds have high thermal stability and are not affected by light or air. Therefore, the semiconductor device does not need to be manufactured in an inert atmosphere. When these compounds are used, an electronic device can be produced at a low substrate temperature. Furthermore, these compounds have good film forming ability.

一実施形態において、OTFTに用いるアリール−エチレン化合物について、R〜Rは、独立して、H、FまたはCNである。OTFTに用いるアリールエチレンアセン化合物は、全二重C=C結合についてトランス構造を有していて、不飽和系の共役を最大にするのも好ましい。 In one embodiment, for the aryl-ethylene compound used in OTFT, R 1 to R 4 are independently H, F, or CN. The arylethylene acene compound used in OTFT preferably has a trans structure with respect to the full-duplex C═C bond and maximizes the conjugate of the unsaturated system.

一実施形態において、OTFTに用いることが意図されたアリールエチレンアセン化合物もまた、平らな対称の分子構造を有している。「平らな」とは、中間環とトランス−C=C二重結合接続セグメントとの間のねじれ角が0°〜10°、好ましくは0°であることを意味している。「ねじれ」分子構造は10°を超えるねじれ角を有している。アセン基のねじれは、主に、アセン環の置換基の立体相互作用により制御される。比較的嵩高い近接基、R〜R10を有する化合物は、R〜R10の全てがH、FまたはCNである化合物よりもねじれる傾向がある。「対称」分子において、アリール−エチレン置換基は同一、すなわち、Ar’=Ar”、R=RおよびR=Rである。化合物Aは、OTFTの半導体として用いるのに好適な材料である。 In one embodiment, arylethylene acene compounds intended for use in OTFTs also have a flat symmetric molecular structure. “Flat” means that the twist angle between the intermediate ring and the trans-C═C double bond connecting segment is 0 ° to 10 °, preferably 0 °. The “twisted” molecular structure has a twist angle greater than 10 °. The twist of the acene group is mainly controlled by the steric interaction of the substituents of the acene ring. Compounds having relatively bulky neighboring groups, R 6 to R 10 , tend to twist more than compounds in which all of R 6 to R 10 are H, F or CN. In the “symmetric” molecule, the aryl-ethylene substituents are identical, ie Ar ′ = Ar ″, R 1 = R 4 and R 2 = R 3. Compound A is a suitable material for use as a semiconductor in OTFT It is.

Figure 0005155852
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式1で表される化合物としては、以下のものが例示される。   Examples of the compound represented by Formula 1 include the following.

Figure 0005155852
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Figure 0005155852
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一実施形態において、式1で示される化合物を重合して、より長いオリゴマーまたはポリマーを形成してよい。一実施形態において、式1で示される化合物は、式1で示される1つまたは複数の異なる化合物および/または式1を有さない1つまたは複数の異なるモノマーと共重合してもよい。一実施形態において、式1で示される化合物は、架橋可能な基を有していてよい。これらの化合物を適用して層を形成してから、架橋して、耐久性および耐溶剤性を改善することができる。   In one embodiment, the compound of formula 1 may be polymerized to form longer oligomers or polymers. In one embodiment, the compound of formula 1 may be copolymerized with one or more different compounds of formula 1 and / or one or more different monomers that do not have formula 1. In one embodiment, the compound represented by Formula 1 may have a crosslinkable group. These compounds can be applied to form a layer and then cross-linked to improve durability and solvent resistance.

(3.式1で示される化合物の一般的な調製)
式1で表される化合物は、置換ボロン酸(またはエステル)のジハロアリーレン化合物との共役クロスカップリング反応により調製することができる。かかる反応は、一般的に、「鈴木カップリング」と呼ばれ、スキーム1に例示してある。
(3. General preparation of compounds of formula 1)
The compound represented by Formula 1 can be prepared by a conjugated cross-coupling reaction of a substituted boronic acid (or ester) with a dihaloarylene compound. Such a reaction is commonly referred to as “Suzuki coupling” and is illustrated in Scheme 1.

Figure 0005155852
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スキーム2に示すように、置換アリール−エチレンを、Pd(II)触媒およびホスフィンの存在下で、ジハロアリーレン化合物と反応させる、「ヘックカップリング反応」を用いることもできる。Hal−Ar−Halは、スキーム1で上述したとおりである。   As shown in Scheme 2, a “Heck coupling reaction” in which a substituted aryl-ethylene is reacted with a dihaloarylene compound in the presence of a Pd (II) catalyst and a phosphine can also be used. Hal-Ar-Hal is as described above in Scheme 1.

Figure 0005155852
Figure 0005155852

スキーム3および4に示すようなこれらの合成手順の変形を用いることもできる。   Variations on these synthetic procedures as shown in Schemes 3 and 4 can also be used.

Figure 0005155852
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スキーム3および4において、Ar’は上述したとおりである。   In schemes 3 and 4, Ar 'is as described above.

鈴木カップリング反応は、有機化学において周知であり、非特許文献1に記載されている。   The Suzuki coupling reaction is well known in organic chemistry and is described in Non-Patent Document 1.

文献の方法に従って、ホウ酸またはエステル試薬を合成することができる(非特許文献2を参照のこと)。   Boric acid or ester reagents can be synthesized according to literature methods (see Non-Patent Document 2).

Figure 0005155852
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試薬は、上記の置換ボロン酸またはエステルに限定されない。トリフルオロ(オルガノ)ホウ酸カリウム等の、有機ボロンカップリング試薬として用いる任意の鈴木カップリング試薬を用いることができる。(非特許文献3)。反応条件、触媒、溶剤、相間移動剤および反応媒体も変えることができる。(非特許文献4)。   The reagent is not limited to the above substituted boronic acids or esters. Any Suzuki coupling reagent used as an organic boron coupling reagent, such as potassium trifluoro (organo) borate, can be used. (Non-Patent Document 3). The reaction conditions, catalyst, solvent, phase transfer agent and reaction medium can also be varied. (Non-Patent Document 4).

ヘックカップリング反応も有機化学において定着しており、文献に記載されている(非特許文献5。非特許文献6。非特許文献7。非特許文献8。非特許文献9。非特許文献10。非特許文献11。非特許文献12)。   The Heck coupling reaction is also well established in organic chemistry and is described in the literature (Non-patent document 5, Non-patent document 6, Non-patent document 7, Non-patent document 8, Non-patent document 9, Non-patent document 10. Non-patent document 11. Non-patent document 12).

アリール−エチレンまたは置換スチレン試薬は、文献の方法に従って合成することができる(非特許文献13を参照のこと)。   Aryl-ethylene or substituted styrene reagents can be synthesized according to literature methods (see Non-Patent Document 13).

Figure 0005155852
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(4.半導体デバイス)
半導体デバイスは、非特許文献14に記載されている。かかるデバイスは、整流器、トランジスタ(p−n−p、n−p−nおよび薄膜トランジスタをはじめとする多くのタイプがある)、電流制限器、サーミスタ、p−n接合、電界効果ダイオード、ショットキーダイオード等を含む。半導体デバイスは、公知の方法により作製または製造することができる(非特許文献15)。各半導体デバイスにおいて、半導体材料は、1つまたは複数の金属または絶縁体と組み合わせて、デバイスを形成する。全ての半導体デバイスに共通しているのは、1つまたは複数の半導体材料の存在である。式1で表される化合物を、半導体デバイスにおいて半導体材料として用いることができる。
(4. Semiconductor devices)
A semiconductor device is described in Non-Patent Document 14. Such devices include rectifiers, transistors (many types including pnp, npn and thin film transistors), current limiters, thermistors, pn junctions, field effect diodes, Schottky diodes. Etc. A semiconductor device can be manufactured or manufactured by a known method (Non-patent Document 15). In each semiconductor device, the semiconductor material is combined with one or more metals or insulators to form the device. Common to all semiconductor devices is the presence of one or more semiconductor materials. The compound represented by Formula 1 can be used as a semiconductor material in a semiconductor device.

一実施形態において、半導体デバイスは、式1で表される化合物を含む少なくとも1枚の電荷輸送層を含む。   In one embodiment, the semiconductor device includes at least one charge transport layer comprising a compound represented by Formula 1.

((i)薄膜トランジスタ)
特に有用な種類のトランジスタデバイス、薄膜トランジスタ(TFT)は、一般に、ゲート電極、ゲート電極上のゲート誘電体、ゲート誘電体に近接するソース電極およびドレイン電極、ならびにゲート誘電体に近接し、かつソース電極およびドレイン電極に近接する半導体層を含む(例えば、上述の非特許文献16を参照のこと)。これらのコンポーネントは、様々な構成で組み立てることができる。具体的には、有機薄膜トランジスタ(OTFT)は有機半導体層を有する。
((I) Thin film transistor)
A particularly useful type of transistor device, a thin film transistor (TFT), generally comprises a gate electrode, a gate dielectric on the gate electrode, a source and drain electrode in proximity to the gate dielectric, and a source electrode in close proximity to the gate dielectric. And a semiconductor layer adjacent to the drain electrode (see, for example, Non-Patent Document 16 above). These components can be assembled in various configurations. Specifically, an organic thin film transistor (OTFT) has an organic semiconductor layer.

一般に、基板は、製造、試験および/または使用中に、OTFTを支持する。基板は任意でOTFTに電気的機能を与えることもできる。有用な基板材料としては、有機および無機材料が挙げられる。例えば、基板は、無機ガラス、セラミック箔、ポリマー材料(例えば、アクリル、エポキシ、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリケトン、ポリ(オキシ−1,4−フェニレンオキシ−1,4−フェニレンカルボニル−1,4−フェニレン)、ポリ(エーテルエーテルケトン)またはPEEKと呼ばれることもある)、ポリノルボルネン、ポリフェニレンオキシド、ポリ(エチレンナフタレンジカルボキシレート)(PEN)、ポリ(エチレンテレフタレート)(PET)、ポリ(硫化フェニレン)(PPS))を含むことができる。基板はまた、充填ポリマー材料(例えば、繊維強化プラスチック(FRP))または被覆金属箔を含むことができる。   In general, the substrate supports the OTFT during manufacturing, testing and / or use. The substrate can optionally provide an electrical function to the OTFT. Useful substrate materials include organic and inorganic materials. For example, the substrate may be an inorganic glass, a ceramic foil, a polymer material (for example, acrylic, epoxy, polyamide, polycarbonate, polyimide, polyketone, poly (oxy-1,4-phenyleneoxy-1,4-phenylenecarbonyl-1,4- Phenylene), poly (ether ether ketone) or PEEK), polynorbornene, polyphenylene oxide, poly (ethylene naphthalene dicarboxylate) (PEN), poly (ethylene terephthalate) (PET), poly (phenylene sulfide) (PPS)). The substrate can also include a filled polymeric material (eg, fiber reinforced plastic (FRP)) or a coated metal foil.

ゲート電極は、任意の有用な導電性材料とすることができる。例えば、ゲート電極は、ドープされたケイ素または金属(例えば、アルミニウム、クロム、金、銀、ニッケル、パラジウム、白金、タンタルまたはチタン)を含むことができる。例えば、ポリアニリンやポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(スチレンスルホネート)(PEDOT:PSS)のような導電性ポリマーを用いることもできる。さらに、これらの材料の合金、これらの組み合わせ、およびこれらの多層も用いることができる。あるOTFTにおいては、単体材料がゲート電極機能および基板として機能する。例えば、ドープされたケイ素は、ゲート電極として機能し、OTFTを支持することもできる。   The gate electrode can be any useful conductive material. For example, the gate electrode can include doped silicon or metal (eg, aluminum, chromium, gold, silver, nickel, palladium, platinum, tantalum or titanium). For example, a conductive polymer such as polyaniline or poly (3,4-ethylenedioxythiophene) / poly (styrene sulfonate) (PEDOT: PSS) can also be used. In addition, alloys of these materials, combinations thereof, and multilayers thereof can also be used. In a certain OTFT, a single material functions as a gate electrode function and a substrate. For example, doped silicon can function as a gate electrode and support an OTFT.

ゲート誘電体は、通常、ゲート電極をカバーしている。ゲート誘電体は、ゲート電極をOTFTデバイスの残り部分から電気的に絶縁している。ゲート誘電体に有用な材料としては、無機絶縁材料(例えば、ストロンチエート、タンタレート、チタネート、ジルコネート、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化タンタル、酸化チタン、窒化ケイ素、チタン酸バリウム、チタン酸バリウムストロンチウム、チタン酸ジルコン酸バリウム、セレン化亜鉛および硫化亜鉛)を含むことができる。さらに、これらの材料の合金、これらの組み合わせ、およびこれらの多層もゲート誘電体に用いることができる。   The gate dielectric typically covers the gate electrode. The gate dielectric electrically insulates the gate electrode from the rest of the OTFT device. Useful materials for the gate dielectric include inorganic insulating materials such as strontate, tantalate, titanate, zirconate, aluminum oxide, silicon oxide, tantalum oxide, titanium oxide, silicon nitride, barium titanate, barium strontium titanate, Barium zirconate titanate, zinc selenide and zinc sulfide). In addition, alloys of these materials, combinations thereof, and multilayers thereof can also be used for the gate dielectric.

ソース電極およびドレイン電極は、ゲート誘電体によりゲート電極から分離されており、有機半導体層はソース電極およびドレイン電極の上または下とすることができる。ソース電極およびドレイン電極は、十分に導電性材料(例えば、アルミニウム、バリウム、カルシウム、クロム、金、銀、ニッケル、パラジウム、白金、チタンなどの金属またはこれらの合金等の材料)とすることができる。ポリアニリン、PEDOT:PSS等の導電性ポリマー、ならびにこれらの組み合わせおよびこれらの多層は、ソース電極およびドレイン電極として用いることもできる。業界で知られているとおり、これらの材料のいくつかは、n型半導体材料およびその他と共に用いるのに適しており、その他のものは、p型半導体材料と共に用いるのに適している。   The source and drain electrodes are separated from the gate electrode by a gate dielectric, and the organic semiconductor layer can be above or below the source and drain electrodes. The source and drain electrodes can be made of a sufficiently conductive material (for example, a material such as aluminum, barium, calcium, chromium, gold, silver, nickel, palladium, platinum, titanium, or an alloy thereof). . Conductive polymers such as polyaniline, PEDOT: PSS, and combinations and multilayers thereof can also be used as source and drain electrodes. As is known in the art, some of these materials are suitable for use with n-type semiconductor materials and others, and others are suitable for use with p-type semiconductor materials.

薄膜電極(例えば、ゲート電極、ソース電極およびドレイン電極)は、物理蒸着(例えば、熱蒸発またはスパッタリング)およびインクジェット印刷をはじめとするいくつかの手段により提供することができる。これらの電極のパターン化は、シャドウマスク、アディティブ法フォトリソグラフィー、サブトラクティブ法フォトリソグラフィー、印刷、ミクロ接触印刷またはパターンコーティング等の公知の方法により実施することができる。   Thin film electrodes (eg, gate electrode, source electrode and drain electrode) can be provided by several means including physical vapor deposition (eg, thermal evaporation or sputtering) and ink jet printing. The patterning of these electrodes can be performed by a known method such as shadow mask, additive photolithography, subtractive photolithography, printing, microcontact printing, or pattern coating.

図1Aおよび1Bは、それぞれ、OTFTのボトムコンタクトモードおよびトップコンタクトモードの概略図である。OTFTは、一般的に、基板、例えば、n型ケイ素ウエハ102を含む。ウエハは、TFTデバイスのゲート電極として機能する。二酸化ケイ素の誘電体層104は、一般的に、ゲート電極上で熱成長する。   1A and 1B are schematic diagrams of a bottom contact mode and a top contact mode of an OTFT, respectively. The OTFT typically includes a substrate, such as an n-type silicon wafer 102. The wafer functions as the gate electrode of the TFT device. A silicon dioxide dielectric layer 104 is typically thermally grown on the gate electrode.

ボトム−コンタクトモードのOTFT(図1A)については、ソースおよびドレイン用チャネルを形成する電極106および108は、それぞれ、フォトリソグラフィープロセスを用いて、二酸化ケイ素上に作製することができる。半導体層110を、電極106、108および104の表面に堆積する。   For bottom-contact mode OTFTs (FIG. 1A), the electrodes 106 and 108 forming the source and drain channels can each be fabricated on silicon dioxide using a photolithographic process. A semiconductor layer 110 is deposited on the surfaces of the electrodes 106, 108 and 104.

トップ−コンタクトモードのOTFT(図1B)については、電極106および108の製造前に層110を層104に堆積する。図1Bは、OTFTの概略図であり、トップコンタクトモードでのかかるデバイスの活性層の相対位置を示している。   For top-contact mode OTFT (FIG. 1B), layer 110 is deposited on layer 104 prior to fabrication of electrodes 106 and 108. FIG. 1B is a schematic diagram of an OTFT, showing the relative position of the active layer of such a device in top contact mode.

図1Cは、OTFTの概略図であり、ゲートがトップのボトムコンタクトモードでのかかるデバイスの活性層の相対位置を示している。   FIG. 1C is a schematic diagram of an OTFT, showing the relative position of the active layer of such a device in top contact bottom contact mode.

図1Dは、OTFTの概略図であり、ゲートがトップのボトムコンタクトモードでのかかるデバイスの活性層の相対位置を示している。   FIG. 1D is a schematic diagram of an OTFT, showing the relative position of the active layer of such a device in a bottom contact mode with a top gate.

半導体層110は、式1で表される1つまたは複数の化合物を含むことができる。層110は、熱蒸発、化学蒸着、熱転写、インクジェット印刷およびスクリーン印刷等業界に公知の様々な技術により堆積してよい。堆積のための有用な分散液薄膜コーティング技術としては、スピンコーティング、ドクターブレードコーティングおよびドロップ鋳造が挙げられる。   The semiconductor layer 110 can include one or more compounds represented by Formula 1. Layer 110 may be deposited by various techniques known in the industry such as thermal evaporation, chemical vapor deposition, thermal transfer, ink jet printing, and screen printing. Useful dispersion thin film coating techniques for deposition include spin coating, doctor blade coating and drop casting.

トップコンタクトモードOTFT(図1B)については、電極106および108の製造前に、層110を層104に堆積する。   For top contact mode OTFT (FIG. 1B), layer 110 is deposited on layer 104 prior to fabrication of electrodes 106 and 108.

本明細書に記載した半導体化合物はまた、他のOTFTデバイス構造、例えば、ゲートトップデバイス構成に用いることもできる。米国特許公報(特許文献1)には、かかるデバイス構造が記載されている。   The semiconductor compounds described herein can also be used in other OTFT device structures, such as gate top device configurations. Such a device structure is described in US Patent Publication (Patent Document 1).

場合によっては、基板100は、プラスチックポリマー材料、無機絶縁体または金属基板とすることができる。ゲート電極102は、スピンコーティング、バーコーティングおよびドクターブレードコーティング等の様々なコーティング方法、または、サーマルレーザー印刷、インクジェット印刷およびスクリーン印刷等の印刷方法により基板上に被覆することができる。   In some cases, the substrate 100 can be a plastic polymer material, an inorganic insulator, or a metal substrate. The gate electrode 102 can be coated on the substrate by various coating methods such as spin coating, bar coating and doctor blade coating, or printing methods such as thermal laser printing, ink jet printing and screen printing.

本明細書に示したOTFTデバイスの特性は、次のように機能し得る。
線形領域(V<=Vsd)移動度は、式μlin=(L/WCsd)(dI/dV)(式1)に従って計算される。式中、Iはドレイン電流であり、Vはゲート電圧であり、Vsdはソース−ドレイン電圧であり、Lはチャネル長であり、Wはチャネル幅であり、Cはゲート誘電体の単位面積当たりのキャパシタンスである。Cは単位F/cmであり、式C=(εε/t)(10−4)(式2)に従って計算される。式中、εは透過率定数であり、εは誘電定数であり、tは誘電体厚さである。
The characteristics of the OTFT device shown herein can function as follows.
The linear region (V g ≦ V sd ) mobility is calculated according to the equation μ lin = (L / WC i V sd ) (dI d / dV g ) (Equation 1). Where I d is the drain current, V g is the gate voltage, V sd is the source-drain voltage, L is the channel length, W is the channel width, and C i is the gate dielectric. It is the capacitance per unit area. C i is the unit F / cm 2 and is calculated according to the formula C i = (ε 0 ε / t) (10 −4 ) (Formula 2). In the equation, ε is a transmittance constant, ε is a dielectric constant, and t is a dielectric thickness.

飽和領域(V>=Vsd)移動度は、 Saturation region (V g > = V sd ) mobility is

Figure 0005155852
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に従って計算される。 Calculated according to

スレショルド電圧Vは飽和領域で測定される。Iの平方根をVに対してプロットする。x軸への曲線の最も急な部分からの線の外挿によりVが得られる。 The threshold voltage V t is measured in the saturation region. Plot the square root of I d against V g . V t can be obtained by linear extrapolation from the steepest portion of the curve to the x-axis.

オン/オフ比は、最も高い印加ドレイン電圧VDS下、最高VGSでの電流IDS対の最低VGSでの電流IDSの比である。 The on / off ratio is the ratio of the current I DS at the lowest V GS to the current I DS at the highest V GS under the highest applied drain voltage V DS .

(b.ディスプレイデバイス)
図2は、ディスプレイデバイス200の概略図である。アノード202およびカソード204は、電源206に電気的に接続されている。電源206は、電流源であるのが好ましい。バッファ層208は、アノード202と接触して存在している。バッファ層208は、有機電子デバイスにおいて、これらに限られるものではないが、下にある層の平坦化、電荷輸送および/または電荷注入特性、酸素または金属イオン等の不純物のスカベンジング、および有機電子デバイスの性能を促進または改善するその他態様をはじめとする、1つまたは複数の機能を有していてよい。正孔輸送層210は、一方の側からバッファ層208と、他方の側で有機半導体層212と接触して存在している。正孔輸送層210は、正孔注入層208から有機半導体層212までの正孔の通過を促す。
(B. Display device)
FIG. 2 is a schematic diagram of the display device 200. The anode 202 and the cathode 204 are electrically connected to a power source 206. The power source 206 is preferably a current source. The buffer layer 208 is in contact with the anode 202. The buffer layer 208 is not limited to these in organic electronic devices, but includes planarization of underlying layers, charge transport and / or charge injection properties, scavenging of impurities such as oxygen or metal ions, and organic electrons. It may have one or more functions, including other aspects that promote or improve the performance of the device. The hole transport layer 210 is in contact with the buffer layer 208 from one side and the organic semiconductor layer 212 on the other side. The hole transport layer 210 facilitates the passage of holes from the hole injection layer 208 to the organic semiconductor layer 212.

同様に、電子注入層214は、カソード204と接触して存在している。電子注入層214は、カソード204からディスプレイデバイス200への電子の注入を促進する。電子輸送層216は、一方の側から正孔注入層214と、他方の側で有機半導体層212と接触して存在している。電子輸送層216は、電子注入層214から有機半導体層212までの電子の通過を促す。一実施形態において、有機半導体層は、光活性材料を含む。「光活性」という用語は、印加電圧により活性化するとき光を放出する(発光ダイオードまたは化学電池における等)、または放射エネルギーに応答して、バイアス電圧を印加することにより、または印加せずに信号を生成する(光検出器における等)材料のことを指す。   Similarly, the electron injection layer 214 is in contact with the cathode 204. The electron injection layer 214 facilitates injection of electrons from the cathode 204 into the display device 200. The electron transport layer 216 exists in contact with the hole injection layer 214 from one side and the organic semiconductor layer 212 on the other side. The electron transport layer 216 facilitates the passage of electrons from the electron injection layer 214 to the organic semiconductor layer 212. In one embodiment, the organic semiconductor layer includes a photoactive material. The term “photoactive” refers to emitting light when activated by an applied voltage (such as in a light emitting diode or chemical cell), or in response to radiant energy, with or without applying a bias voltage. Refers to the material that produces the signal (such as in a photodetector).

ある実施形態において、正孔注入層208および正孔輸送層210のうち一方は省く。ある実施形態において、電子注入層214および電子輸送層216のうち一方は省く。   In some embodiments, one of the hole injection layer 208 and the hole transport layer 210 is omitted. In some embodiments, one of the electron injection layer 214 and the electron transport layer 216 is omitted.

電流をアノード202およびカソード204に印加すると、電子および正孔がデバイス200に注入される。これらの電子および正孔は、有機半導体層212で結合して、有機半導体層212中に存在する化合物のエレクトロルミネッセント特性のために光量子を放出する。層212はまた、「発光層」とも呼ばれる。   When current is applied to anode 202 and cathode 204, electrons and holes are injected into device 200. These electrons and holes combine in the organic semiconductor layer 212 and emit photons due to the electroluminescent properties of the compounds present in the organic semiconductor layer 212. Layer 212 is also referred to as a “light emitting layer”.

一実施形態において、光放出層212は、式1で示される1つまたは複数の化合物を含む。一実施形態において、式1で示される化合物は、光活性材料のホストとして層212中に存在する。一実施形態において、層212に式1で示される化合物は、アミノ置換基を有していない。   In one embodiment, the light emitting layer 212 includes one or more compounds represented by Formula 1. In one embodiment, the compound of Formula 1 is present in layer 212 as a host for the photoactive material. In one embodiment, the compound of Formula 1 in layer 212 does not have an amino substituent.

一実施形態において、電子輸送層214は、式1で示される1つまたは複数の化合物を含む。一実施形態において、電子輸送層214は、その他の公知の電荷輸送材料(Alq3誘導体等)と組み合わせて、式1で示される1つまたは複数の化合物を含む。「電子輸送または電子を輸送する」という用語には、たとえ、発光または感光層、材料、部材または構造が電子輸送特性を有していても、かかる層、材料、部材または構造は含まれない。   In one embodiment, the electron transport layer 214 includes one or more compounds represented by Formula 1. In one embodiment, the electron transport layer 214 includes one or more compounds of Formula 1 in combination with other known charge transport materials (such as Alq3 derivatives). The term “electron transport or transport of electrons” does not include such layers, materials, members or structures, even if the light emitting or photosensitive layer, material, member or structure has electron transport properties.

一実施形態において、正孔輸送層210は、式1で示される1つまたは複数の化合物を含む。一実施形態において、式1で示される化合物は、層210のホスト正孔輸送材料中に存在する。ホスト材料としては、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリンおよびポリビニルカルバゾールが例示されるがこれに限られるものではない。一実施形態において、正孔輸送層210は、その他の公知の電荷輸送材料(NPD誘導体等)と組み合わせて、式1で示される1つまたは複数の化合物を含む。「正孔輸送または正孔を輸送する」という用語には、たとえ、発光または感光層、材料、部材または構造が正孔輸送特性を有していても、かかる層、材料、部材または構造は含まれない。   In one embodiment, the hole transport layer 210 includes one or more compounds represented by Formula 1. In one embodiment, the compound of formula 1 is present in the host hole transport material of layer 210. Examples of the host material include, but are not limited to, polythiophene, polypyrrole, polyaniline, and polyvinyl carbazole. In one embodiment, the hole transport layer 210 includes one or more compounds of Formula 1 in combination with other known charge transport materials (such as NPD derivatives). The term “hole transport or hole transport” includes such layers, materials, members or structures, even if the light emitting or photosensitive layer, material, member or structure has hole transport properties. I can't.

一実施形態において、バッファ層208は、式1で示される1つまたは複数の化合物を含む。一実施形態において、バッファ層208に式1で示される化合物は、アミノ置換基を有していない。   In one embodiment, the buffer layer 208 includes one or more compounds represented by Formula 1. In one embodiment, the compound of Formula 1 in the buffer layer 208 does not have an amino substituent.

一実施形態において、正孔輸送層210は、アミノ置換基のない式1で示される1つまたは複数の化合物を含む。 In one embodiment, the hole transport layer 210 includes one or more compounds of Formula 1 without an amino substituent.

一実施形態において、正孔輸送層210は、式1で示される1つまたは複数の化合物を含む。   In one embodiment, the hole transport layer 210 includes one or more compounds represented by Formula 1.

Figure 0005155852
Figure 0005155852

式中、Arは、以下の基:   Wherein Ar is the following group:

Figure 0005155852
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およびこれらの組み合わせから選択され、
式中、
Qは、S、Se、Te、OおよびNRからなる群から選択され、
qおよびrは0〜5の値をそれぞれ独立して有する整数であり、
sは、1〜5の値を有する整数であり、
は、水素、アルキルおよびアリールからなる群から選択され、
〜R10は、水素、アルキル、アリール、ハロゲン、ヒドロキシル、アリールオキシ、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、アミノ、アルキルチオ、ホスフィノ、シリル、−COR、−COOR、−PO、−OPOおよびCNからなる群から独立して選択され、
Rは、水素、アルキル、アリール、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択され、
式中、任意の2つの近接基R〜R10は一緒になって環を形成することができ、
さらに、ジアリールアミノ基がない。
And combinations thereof,
Where
Q is selected from the group consisting of S, Se, Te, O and NR 0 ;
q and r are integers each independently having a value of 0 to 5,
s is an integer having a value of 1 to 5,
R 0 is selected from the group consisting of hydrogen, alkyl and aryl;
R 5 to R 10 are hydrogen, alkyl, aryl, halogen, hydroxyl, aryloxy, alkoxy, alkenyl, alkynyl, amino, alkylthio, phosphino, silyl, —COR, —COOR, —PO 3 R 2 , —OPO 3 R Independently selected from the group consisting of 2 and CN;
R is selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, aryl, alkenyl and alkynyl;
In which any two neighboring groups R 5 to R 10 can be taken together to form a ring;
In addition, there are no diarylamino groups.

一実施形態において、置換基または置換RおよびR〜R10は、アルキル、アリール、チオアルキル、シリル、アルキルアリール、アルコキシ、アルキルエーテル、エーテルアルキル、フッ素およびこれらの組み合わせからなる群から独立して選択される。 In one embodiment, the substituents or substituents R and R 1 -R 10 are independently selected from the group consisting of alkyl, aryl, thioalkyl, silyl, alkylaryl, alkoxy, alkyl ether, ether alkyl, fluorine, and combinations thereof. Is done.

一実施形態において、m=n=1であり、R〜R10は全て、水素、フッ素、鎖状アルキル基、アリール基および鎖状アルキル基で置換されたアリール基からなる群から選択される。一実施形態において、アルキル基は1〜10個の炭素原子を有する。一実施形態において、Arはアセン基である。 In one embodiment, m = n = 1, and R 1 to R 10 are all selected from the group consisting of hydrogen, fluorine, a chain alkyl group, an aryl group, and an aryl group substituted with a chain alkyl group. . In one embodiment, the alkyl group has 1-10 carbon atoms. In one embodiment, Ar is an acene group.

一実施形態において、正孔輸送層210は、化合物1、化合物3、化合物48、化合物49および化合物50からなる群から選択される1つまたは複数の化合物を含む。   In one embodiment, the hole transport layer 210 includes one or more compounds selected from the group consisting of Compound 1, Compound 3, Compound 48, Compound 49, and Compound 50.

デバイスの他の層は、かかる層により提供されるべき機能を考慮して、かかる層に有用なことが分かっている任意の材料で作製することができる。   The other layers of the device can be made of any material that has been found useful for such layers in view of the function to be provided by such layers.

アノード202は、例えば、金属、混合金属、合金、金属酸化物または混合金属酸化物を含有または含む材料で作製することができる。アノードは、導電性ポリマー、ポリマーブレンドまたはポリマー混合物を含んでいてよい。好適な金属としては、第11族金属、第4、5および6族金属、ならびに第8〜10族遷移金属が挙げられる。アノードを光伝達とすべき場合には、通常、インジウム錫酸化物等の第12、13および14族金属の混合金属酸化物を用いる。アノードはまた、有機材料、特に、ポリアニリン等の導電性ポリマーを含んでいてもよい。例示の材料は、例えば、(非特許文献17)に記載されている。アノードとカソードのうち少なくとも1つが、少なくとも部分的に透明で、生成された光が観察できるようでなければならない。   The anode 202 can be made of a material containing or including, for example, a metal, mixed metal, alloy, metal oxide, or mixed metal oxide. The anode may comprise a conductive polymer, polymer blend or polymer mixture. Suitable metals include Group 11 metals, Group 4, 5, and 6 metals, and Group 8-10 transition metals. When the anode is to transmit light, a mixed metal oxide of Group 12, 13, and 14 metals such as indium tin oxide is usually used. The anode may also include an organic material, particularly a conductive polymer such as polyaniline. Exemplary materials are described, for example, in (Non-Patent Document 17). At least one of the anode and cathode must be at least partially transparent so that the generated light can be observed.

バッファ層は、例えば、(非特許文献18)にまとめてあるような正孔輸送材料を含んでいてよい。正孔輸送「小」分子、オリゴマーおよびポリマーのいずれを用いてもよい。正孔輸送分子としては、これらに限られるものではないが、4,4’,4”−トリス(N,N−ジフェニル−アミノ)−トリフェニルアミノ(TDATA)、4,4’,4”−トリス(N−3−メチルフェニル−N−フェニル−アミノ)−トリフェニルアミン(MTDATA)、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミノ(TPD)、1,1−ビス[(ジ−4−トリルアミノ)フェニル]シクロヘキサン(TAPC)、N,N’−ビス(4−メチルフェニル)−N,N’−ビス(4−エチルフェニル)−[1,1’−(3,3’−ジメチル)ビフェニル]−4,4’−ジアミノ(ETPD)、テトラキス−(3−メチルフェニル)−N,N,N’,N’−2,5−フェニレンジアミン(PDA)、α−フェニル−4−N,N−ジフェニルアミノスチレン(TPS)、p−(ジエチルアミノ)ベンズアルデヒドジフェニルヒドラゾン(DEH)、トリフェニルアミン(TPA)、ビス[4−(N,N−ジエチルアミノ)−2−メチルフェニル](4−メチルフェニル)メタン(MPMP)、1−フェニル−3−[p−(ジエチルアミノ)スチリル]−5−[p−(ジエチルアミノ)フェニル]ピラゾリン(PPRまたはDEASP)、1,2−トランス−ビス(9H−カルバゾール−9−イル)シクロブタン(DCZB)、N,N,N’,N’−テトラキス(4−メチルフェニル)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン(TTB)、N,N’−ビス(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ビス−(フェニル)ベンジジン(α−NPB)、4,4’−N,N’−ジカルバゾリル−ビフェニル(CBP)および銅フタロシアニン等のポルフィリン化合物が挙げられる。有用な正孔輸送ポリマーとしては、これらに限られるものではないが、ポリビニルカルバゾール、(フェニルメチル)ポリシラン、ポリチオフェン、ポリピロールおよびポリアニリンが挙げられる。正孔輸送ポリマーは、米国特許公報(特許文献2)および米国特許公報(特許文献3)に開示されているような導電性ポリマーとコロイド形成ポリマー酸の錯体とすることができる。導電性ポリマーが1つの部類として有用である。上述したとおり、正孔輸送部分を、ポリスチレンやポリカーボネート等のポリマーにドープすることにより正孔輸送ポリマーを得ることもできる。   The buffer layer may contain, for example, hole transport materials as summarized in (Non-patent Document 18). Any of the hole transporting “small” molecules, oligomers and polymers may be used. The hole transport molecule is not limited to these, but is 4,4 ′, 4 ″ -tris (N, N-diphenyl-amino) -triphenylamino (TDATA), 4,4 ′, 4 ″- Tris (N-3-methylphenyl-N-phenyl-amino) -triphenylamine (MTDATA), N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl)-[1,1′-biphenyl ] -4,4'-diamino (TPD), 1,1-bis [(di-4-tolylamino) phenyl] cyclohexane (TAPC), N, N'-bis (4-methylphenyl) -N, N'- Bis (4-ethylphenyl)-[1,1 ′-(3,3′-dimethyl) biphenyl] -4,4′-diamino (ETPD), tetrakis- (3-methylphenyl) -N, N, N ′ , N'-2,5-fe Range amine (PDA), α-phenyl-4-N, N-diphenylaminostyrene (TPS), p- (diethylamino) benzaldehyde diphenylhydrazone (DEH), triphenylamine (TPA), bis [4- (N, N -Diethylamino) -2-methylphenyl] (4-methylphenyl) methane (MPMP), 1-phenyl-3- [p- (diethylamino) styryl] -5- [p- (diethylamino) phenyl] pyrazoline (PPR or DEASP) ), 1,2-trans-bis (9H-carbazol-9-yl) cyclobutane (DCZB), N, N, N ′, N′-tetrakis (4-methylphenyl)-(1,1′-biphenyl)- 4,4′-diamine (TTB), N, N′-bis (naphthalen-1-yl) -N, N′-bis- (F Examples include porphyrin compounds such as (enyl) benzidine (α-NPB), 4,4′-N, N′-dicarbazolyl-biphenyl (CBP) and copper phthalocyanine. Useful hole transport polymers include, but are not limited to, polyvinyl carbazole, (phenylmethyl) polysilane, polythiophene, polypyrrole and polyaniline. The hole transport polymer may be a complex of a conductive polymer and a colloid-forming polymer acid as disclosed in US Patent Publication (Patent Document 2) and US Patent Publication (Patent Document 3). Conductive polymers are useful as one class. As described above, the hole transport polymer can be obtained by doping the hole transport portion into a polymer such as polystyrene or polycarbonate.

任意の有機エレクトロルミネッセント(「EL」)材料を、発光層212において光活性材料として用いることができる。かかる材料としては、これらに限られるものではないが、蛍光染料、小分子有機蛍光化合物、蛍光およびリン光金属錯体、共役ポリマーおよびこれらの混合物が挙げられる。蛍光染料としては、これらに限られるものではないが、ピレン、ペリレン、ルブレン、これらの誘導体、およびこれらの混合物が例示される。金属錯体としては、これらに限られるものではないが、金属キレート化オキシノイド化合物、例えば、トリス(8−ヒドロキシキノレート)アルミニウム(Alq3)、シクロメタレートイリジウムおよび白金エレクトロルミネッセント化合物、例えば、ペトロフ(Petrov)らの(特許文献4)に開示されているようなイリジウムとフェニルピリジン、フェニルキノリンまたはフェニルピリミジンリガンドとの錯体、および、例えば、米国特許公報(特許文献5)、(特許文献6)、(特許文献7)および(特許文献8)に記載されている有機金属錯体、ならびにこれらの混合物が例示される。電荷運搬ホスト材料と金属錯体とを含むエレクトロルミネッセント放出層は、トンプソン(Thompson)らによる米国特許公報(特許文献9)およびバロウズ(Burrows)およびトンプソン(Thompson)による(特許文献10)および(特許文献11)に記載されている。共役ポリマーとしては、これらに限られるものではないが、ポリ(フェニレンビニレン)、ポリフルオレン、ポリ(スピロビフルオレン)、ポリチオフェン、ポリ(p−フェニレン)、これらのコポリマーおよびこれらの混合物が例示される。   Any organic electroluminescent (“EL”) material can be used as the photoactive material in the emissive layer 212. Such materials include, but are not limited to, fluorescent dyes, small molecule organic fluorescent compounds, fluorescent and phosphorescent metal complexes, conjugated polymers, and mixtures thereof. Examples of fluorescent dyes include, but are not limited to, pyrene, perylene, rubrene, derivatives thereof, and mixtures thereof. Metal complexes include, but are not limited to, metal chelated oxinoid compounds such as tris (8-hydroxyquinolate) aluminum (Alq3), cyclometalate iridium and platinum electroluminescent compounds such as Petrov. (Petrov) et al. (Patent Document 4) complexes of iridium and phenylpyridine, phenylquinoline or phenylpyrimidine ligand, and, for example, US Patent Publication (Patent Document 5), (Patent Document 6). , (Patent Document 7) and (Patent Document 8), and organometallic complexes described in (Patent Document 8) and mixtures thereof. An electroluminescent emitting layer comprising a charge-carrying host material and a metal complex has been described by Thompson et al. In U.S. Pat. No. 6,057,049 and Burrows and Thompson in U.S. Pat. Patent Document 11). Examples of the conjugated polymer include, but are not limited to, poly (phenylene vinylene), polyfluorene, poly (spirobifluorene), polythiophene, poly (p-phenylene), copolymers thereof, and mixtures thereof. .

デバイスの一実施形態において、光活性材料は、有機金属錯体とすることができる。他の実施形態において、光活性材料は、イリジウムまたは白金のシクロメタレート錯体である。その他の有用な光活性材料を用いてもよい。イリジウムとフェニルピリジン、フェニルキノリンまたはフェニルピリミジンリガンドの錯体は、ペトロフ(Petrov)らの(特許文献4)にエレクトロルミネッセント化合物として開示されている。その他の有機金属錯体は、例えば、米国特許公報(特許文献5)、(特許文献6)、(特許文献7)および(特許文献8)に記載されている。イリジウムの金属錯体でドープされたポリビニルカルバゾール(PVK)の活性層を有するエレクトロルミネッセントデバイスは、バロウズ(Burrows)およびトンプソン(Thompson)による(特許文献10)および(特許文献11)に記載されている。電荷運搬ホスト材料とリン光発光白金錯体とを含むエレクトロルミネッセント放出層は、米国特許公報(特許文献9)、(非特許文献19)に記載されている。   In one embodiment of the device, the photoactive material can be an organometallic complex. In other embodiments, the photoactive material is a cyclometallate complex of iridium or platinum. Other useful photoactive materials may be used. Complexes of iridium and phenylpyridine, phenylquinoline or phenylpyrimidine ligands are disclosed as electroluminescent compounds in Petrov et al. Other organometallic complexes are described in, for example, US Patent Publication (Patent Literature 5), (Patent Literature 6), (Patent Literature 7), and (Patent Literature 8). An electroluminescent device having an active layer of polyvinylcarbazole (PVK) doped with a metal complex of iridium is described in Burrows and Thompson (US Pat. Yes. An electroluminescent emission layer containing a charge transporting host material and a phosphorescent platinum complex is described in US Pat.

層218の電子輸送材料としては、これらに限られるものではないが、ビス(2−メチル−8−キノリノレート)(パラ−フェニル−フェノレート)アルミニウム(III)(BAIQ)およびトリス(8−ヒドロキシキノレート)アルミニウム(Alq)、アゾール化合物、例えば、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(PBD)、3−(4−ビフェニリル)−4−フェニル−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,2,4−トリアゾール(TAZ)および1,3,5−トリ(フェニル−2−ベンズイミダゾール)ベンゼン(TPBI)、キノキサリン誘導体、例えば、2,3−ビス(4−フルオロフェニル)キノキサリン、フェナントロリン誘導体、例えば、9,10−ジフェニルフェナントロリン(DPA)および2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(DDPA)ならびにこれらの混合物が例示される。 Electron transport materials for layer 218 are not limited to these, but include bis (2-methyl-8-quinolinolate) (para-phenyl-phenolate) aluminum (III) (BAIQ) and tris (8-hydroxyquino). Rate) aluminum (Alq 3 ), azole compounds such as 2- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole (PBD), 3- (4- Biphenylyl) -4-phenyl-5- (4-t-butylphenyl) -1,2,4-triazole (TAZ) and 1,3,5-tri (phenyl-2-benzimidazole) benzene (TPBI), quinoxaline Derivatives such as 2,3-bis (4-fluorophenyl) quinoxaline, phenanthroline derivatives such as 9,10-di E sulfonyl phenanthroline (DPA) and 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (DDPA), as well as mixtures of these.

カソード層204は、ラインとして、またはフィルムとして堆積してよい。カソードは、アノードより仕事関数の低い金属または非金属とすることができる。カソードについての例示の材料としては、第1族のアルカリ金属、特に、リチウム、第2族(アルカリ土類)金属、第12族金属を、希土類元素およびランタノイド、アクチノイドを含めて、挙げることができる。アルミニウム、インジウム、カルシウム、バリウム、サマリウムおよびマグネシウム、これらの組み合わせ等の材料を用いることができる。LiFおよびLiO等のLi含有およびその他化合物を、電子注入層214として、有機層とカソード層との間に堆積させて、システムの操作電圧を下げてもよい。 Cathode layer 204 may be deposited as a line or as a film. The cathode can be a metal or non-metal having a lower work function than the anode. Exemplary materials for the cathode can include Group 1 alkali metals, particularly lithium, Group 2 (alkaline earth) metals, Group 12 metals, including rare earth elements and lanthanoids, actinides. . Materials such as aluminum, indium, calcium, barium, samarium and magnesium, and combinations thereof can be used. Li containing and other compounds such as LiF and Li 2 O may be deposited between the organic layer and the cathode layer as the electron injection layer 214 to reduce the operating voltage of the system.

図示していないが、デバイス200は追加の層を含んでいてもよいものと考えられる。業界に公知のその他の層を用いてもよい。さらに、上述した層のいずれかは、2枚以上の副層を含んでいても、層状構造を形成してもよい。あるいは、アノード層202、正孔輸送層210、電子輸送層218、電子注入層214、カソード層204およびその他層のうちいくつか、または全てを処理して、特に、表面処理して、電荷運搬輸送効率またはデバイスのその他の物理特性を増大してもよい。各コンポーネント層についての材料の選択は、好ましくは、デバイス稼動寿命考慮事項、製造時間および当業者に認識される複雑な要因およびその他考慮事項を考慮に入れて、高デバイス効率のデバイスを提供する目的と釣り合いをとって決めるのが好ましい。最良のコンポーネント、コンポーネント構成および複合的な識別を判断するのは、当業者であれば、定型化されたことと考えられる。   Although not shown, it is contemplated that device 200 may include additional layers. Other layers known in the industry may be used. Further, any of the above-described layers may include two or more sublayers or form a layered structure. Alternatively, some or all of the anode layer 202, the hole transport layer 210, the electron transport layer 218, the electron injection layer 214, the cathode layer 204, and other layers may be treated, particularly surface treated to provide charge transport. Efficiency or other physical properties of the device may be increased. The choice of material for each component layer is preferably intended to provide a device with high device efficiency, taking into account device operating life considerations, manufacturing time and complex factors and other considerations recognized by those skilled in the art. It is preferable to make a balance with this. Determining the best component, component configuration, and composite identification would be stylized by those skilled in the art.

一実施形態において、異なる層は次の範囲の厚さを有している。アノード202、500〜5000Å、一実施形態においては1000〜2000Å、バッファ層208および正孔輸送層210、それぞれ50〜2000Å、一実施形態においては200〜1000Å、光活性層212、10〜2000Å、一実施形態においては100〜1000Å、層216および214、50〜2000Å、一実施形態においては100〜1000Å、カソード204、200〜10000Å、一実施形態においては300〜5000Å。デバイスにおける電子−正孔の再結合領域の位置、およびデバイスの発光スペクトルは、各層の相対厚さに影響し得る。このように、電子−輸送層の厚さは、電子−正孔の再結合領域が発光層となるように選択すべきである。層厚さの所望の比率は、用いる材料の厳密な性質に応じて異なる。異なる層は、液体堆積、蒸着および熱転写をはじめとする公知の堆積方法により形成することができる。一実施形態において、デバイスは、バッファ層、正孔輸送層および光活性層の液体堆積により、そして、電子輸送層、電子注入層およびカソードの蒸着により製造される。   In one embodiment, the different layers have a thickness in the following range. Anode 202, 500-50005, in one embodiment 1000-2000Å, buffer layer 208 and hole transport layer 210, 50-2000 そ れ ぞ れ, respectively, in one embodiment 200-1000Å, photoactive layer 212, 10-2000Å, one In embodiments, 100-1000 soot, layers 216 and 214, 50-2000 soot, in one embodiment 100-1000 soot, cathode 204, 200-10000 soot, in one embodiment 300-5000 soot. The location of the electron-hole recombination region in the device and the emission spectrum of the device can affect the relative thickness of each layer. Thus, the thickness of the electron-transport layer should be selected so that the electron-hole recombination region becomes the light-emitting layer. The desired ratio of layer thickness depends on the exact nature of the material used. The different layers can be formed by known deposition methods including liquid deposition, vapor deposition and thermal transfer. In one embodiment, the device is manufactured by liquid deposition of a buffer layer, a hole transport layer and a photoactive layer, and by evaporation of an electron transport layer, an electron injection layer and a cathode.

本発明の詳細な実施形態を例示し説明してあるが、本開示はこれらの実施形態にのみ限定されないことは明らかである。特許請求の範囲に記載した本発明の技術思想および範囲から逸脱することなく、多くの修正、変更、変形、代替および等価物は当業者に明白であろう。   While detailed embodiments of the present invention have been illustrated and described, it is clear that the present disclosure is not limited to these embodiments. Many modifications, changes, variations, substitutions and equivalents will be apparent to those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims.

本発明を以下の実施例によりさらに説明する。これらの実施例は、本発明の好ましい実施形態を示すものであるが、あくまで例示を目的とするものと考えられる。   The invention is further illustrated by the following examples. These examples illustrate preferred embodiments of the present invention, but are considered to be illustrative only.

(概要)
熱重量分析(TGA)をTAインツルメンツ(TA Instruments)Q550TGAシステム(商標)で、加熱速度10℃/分および窒素流量60cm/分で実施した。
(Overview)
Thermogravimetric analysis (TGA) was performed on a TA Instruments Q550 TGA system ™ with a heating rate of 10 ° C./min and a nitrogen flow rate of 60 cm 3 / min.

サイクリック・ボルタンメトリー(CV)を、アセトニトリル中BuNBF(0.1M)の溶液中に3電極電池を入れて、走査速度50mV/sでEG&Gパルク(Parc)型番273A(商標)ポテンシオスタット/ガルバノスタットシステムで実施した。 Cyclic voltammetry (CV), EG & G Parc model 273A (trademark) potentiostat, with 3 electrode batteries in a solution of Bu 4 NBF 4 (0.1 M) in acetonitrile at a scan rate of 50 mV / s. / Carried out with a galvanostat system.

半導体フィルムを、真空昇華によりディスクPt電極(0.050cm)に被覆した。Ptワイヤを対向電極として用い、Ag/AgNO(0.01M)電極を参照電極として用いた。それぞれの系列の測定前に、電池をアルゴンで脱酸素した。有機半導体を電解質溶液に添加した(0.2mg/mL)。Ptワイヤを対向電極として用い、Agワイヤ電極を参照電極として用いた。電極の電位を、このシステムにおいて、フェロセン/フェロセニウム対を測定することにより、飽和カロメル電極(SCE)によりキャリブレートした(0.15V対SCE)。バンドギャップを開始電位間の差から導いた。 The semiconductor film was coated on a disk Pt electrode (0.050 cm 2 ) by vacuum sublimation. A Pt wire was used as the counter electrode, and an Ag / AgNO 3 (0.01M) electrode was used as the reference electrode. Prior to each series of measurements, the cells were deoxygenated with argon. Organic semiconductor was added to the electrolyte solution (0.2 mg / mL). A Pt wire was used as the counter electrode, and an Ag wire electrode was used as the reference electrode. The electrode potential was calibrated with a saturated calomel electrode (SCE) by measuring the ferrocene / ferrocenium pair in this system (0.15 V vs. SCE). The band gap was derived from the difference between the onset potentials.

合成結果を、質量分析、nmr分析および/またはx線結晶構造により確認した。   The synthesis results were confirmed by mass spectrometry, nmr analysis and / or x-ray crystal structure.

x線データは、CAD−4回折計で、銅Kα放射線により取り、構造は一連のNRCVAX(商標)のプログラムを用いて解いた。   The x-ray data were taken with a CAD-4 diffractometer with copper Kα radiation and the structure was solved using a series of NRCVAX ™ programs.

核磁気共鳴(NMR)スペクトルを、ブルカー(Bruker)(商標)500MHz分光計で取った。全化学シフトを、特に断りのない限り、0.0ppmでテトラメチルシラン(TMS)に対して記録した。(非特許文献20)の方法に従って、2,6−ジブロモアントラセンを合成した。   Nuclear magnetic resonance (NMR) spectra were taken on a Bruker ™ 500 MHz spectrometer. All chemical shifts were recorded relative to tetramethylsilane (TMS) at 0.0 ppm unless otherwise noted. 2,6-Dibromoanthracene was synthesized according to the method of (Non-patent Document 20).

特に断りのない限り、その他試薬は、アルドリッチ(Aldrich)より購入し、精製せずに用いた。   Unless otherwise noted, other reagents were purchased from Aldrich and used without purification.

(実施例1)
(2,6−ジスチリル−アントラセン(化合物1)の合成)
Example 1
(Synthesis of 2,6-distyryl-anthracene (compound 1))

Figure 0005155852
Figure 0005155852

トルエン(200ml)中2,6−ジブロモアントラセン(5.20g、15.48ミリモル)と2−スチリル−[1,3,2]−ジオキサボリナン(8.73g、46.43ミリモル、シグマ−アルドリッチケミカル社(Sigma−Aldrich Chemical Co.)、ウィスコンシン州ミルウォーキー(Milwaukee, WI))の混合物に、水(38.7ml)に溶解した2M炭酸ナトリウム(8.20g、77.36ミリモル)を添加し、続いて、相間移動剤アリクエート(Aliquat)(登録商標)336(3.10g、7.74ミリモル、シグマ−アルドリッチケミカル社(Sigma−Aldrich Chemical Co.))を添加した。混合物を窒素で15分間発泡してから、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(358.5mg、2%モル、シグマ−アルドリッチケミカル社(Sigma−Aldrich Chemical Co.))を添加した。混合物を90℃まで3日間、窒素雰囲気下で加熱した。反応混合物を室温まで冷却して、メタノール(600ml)に注いだ。沈殿物をろ過して、水、希釈酸(5%HCl)、水、メタノールで洗い、アセトンで3回洗って、出発材料および一置換副生成物を除去した。粗生成物を、3ゾーン炉にて昇華(2回)により精製したところ、黄色の固体2.71g(46%)が得られた。   2,6-Dibromoanthracene (5.20 g, 15.48 mmol) and 2-styryl- [1,3,2] -dioxaborinane (8.73 g, 46.43 mmol, Sigma-Aldrich Chemical Company) in toluene (200 ml) To a mixture of (Sigma-Aldrich Chemical Co.), Milwaukee, WI, 2M sodium carbonate (8.20 g, 77.36 mmol) dissolved in water (38.7 ml) was added, followed by Phase Transfer Agent Aliquat® 336 (3.10 g, 7.74 mmol, Sigma-Aldrich Chemical Co.) was added. The mixture was bubbled with nitrogen for 15 minutes before tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (358.5 mg, 2% mol, Sigma-Aldrich Chemical Co.) was added. The mixture was heated to 90 ° C. for 3 days under a nitrogen atmosphere. The reaction mixture was cooled to room temperature and poured into methanol (600 ml). The precipitate was filtered and washed with water, dilute acid (5% HCl), water, methanol and 3 times with acetone to remove starting material and mono-substituted by-products. The crude product was purified by sublimation (twice) in a 3 zone furnace to give 2.71 g (46%) of a yellow solid.

(実施例2)
(2,6−ビス[2−4−ペンチル−フェニル)−ビニル]−アントラセン(化合物2)の合成)
(Example 2)
(Synthesis of 2,6-bis [2-4-pentyl-phenyl) -vinyl] -anthracene (Compound 2))

Figure 0005155852
Figure 0005155852

トルエン(120ml)中2,6−ジブロモアントラセン(2.688g、8.0ミリモル)とトランス−2−(4−フルオロ−フェニル)ビニル−ボロン酸(3.983g、24.0ミリモル、シグマ−アルドリッチケミカル社(Sigma−Aldrich Chemical Co.))の混合物に、水(20ml)に溶解した2M NaCO炭酸ナトリウム(4.24g、40ミリモル)を添加し、続いて、相間移動剤アリクエート(Aliquat)(登録商標)336(1.6g、4ミリモル、シグマ−アルドリッチケミカル社(Sigma−Aldrich Chemical Co.))を添加した。混合物を窒素で15分間発泡してから、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(185.3mg、2%モル、シグマ−アルドリッチケミカル社(Sigma−Aldrich Chemical Co.))を添加した。混合物を90℃まで3日間、窒素雰囲気下で加熱した。反応混合物を室温まで冷却して、メタノール(300ml)に注いだ。黄色の沈殿物をろ過して、水、希釈酸(5%HCl)、水、メタノールで洗い、アセトンで3回洗って、出発材料および一置換副生成物を除去した。粗生成物を、3ゾーン炉にて昇華により精製したところ、明るい黄色の固体が得られた。 2,6-Dibromoanthracene (2.688 g, 8.0 mmol) and trans-2- (4-fluoro-phenyl) vinyl-boronic acid (3.983 g, 24.0 mmol, Sigma-Aldrich) in toluene (120 ml) to a mixture of Chemical Co. (Sigma-Aldrich Chemical Co.)) , 2M Na 2 CO 3 sodium carbonate dissolved in water (20 ml) (4.24 g, was added 40 mmol), followed by phase transfer agent Arikueto (Aliquat ) (R) 336 (1.6 g, 4 mmol, Sigma-Aldrich Chemical Co.) was added. The mixture was bubbled with nitrogen for 15 minutes before tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (185.3 mg, 2% mol, Sigma-Aldrich Chemical Co.) was added. The mixture was heated to 90 ° C. for 3 days under a nitrogen atmosphere. The reaction mixture was cooled to room temperature and poured into methanol (300 ml). The yellow precipitate was filtered and washed with water, dilute acid (5% HCl), water, methanol and 3 times with acetone to remove starting material and mono-substituted by-product. The crude product was purified by sublimation in a three zone furnace to give a bright yellow solid.

(実施例3)
(2,6−ビス[2−4−ペンチル−フェニル)−ビニル]アントラセン(化合物3)の合成)
(Example 3)
(Synthesis of 2,6-bis [2-4-pentyl-phenyl) -vinyl] anthracene (Compound 3))

Figure 0005155852
Figure 0005155852

トルエン(200ml)中2,6−ジブロモアントラセン(5.20g、15.48ミリモル)と2−[2−(4−ペンチルフェニル)ビニル]−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(14.67g、46.42ミリモル、シグマ−アルドリッチケミカル社(Sigma−Aldrich Chemical Co.))の混合物に、水(38.7ml)に溶解した2M炭酸ナトリウム(8.20g、77.36ミリモル)を添加し、続いて、相間移動剤アリクエート(Aliquat)(登録商標)336(3.10g、7.74ミリモル、シグマ−アルドリッチケミカル社(Sigma−Aldrich Chemical Co.))を添加した。混合物を窒素で15分間発泡してから、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(358.5mg、2%モル、シグマ−アルドリッチケミカル社(Sigma−Aldrich Chemical Co.))を添加した。混合物を90℃まで3日間、窒素雰囲気下で加熱した。反応混合物を室温まで冷却して、メタノール(600ml)に注いだ。沈殿物をろ過して、水、希釈酸(5%HCl)、水、メタノールで洗い、アセトンで3回洗って、出発材料および一置換副生成物を除去した。粗生成物を、3ゾーン炉にて昇華により2回精製したところ、明るい黄色の固体2.00g(25%)が得られた。   2,6-Dibromoanthracene (5.20 g, 15.48 mmol) and 2- [2- (4-pentylphenyl) vinyl] -4,4,5,5-tetramethyl-1,3 in toluene (200 ml) , 2-dioxaborolane (14.67 g, 46.42 mmol, Sigma-Aldrich Chemical Co.) in 2M sodium carbonate (8.20 g, 77) dissolved in water (38.7 ml). .36 mmol) was added followed by phase transfer agent Aliquat® 336 (3.10 g, 7.74 mmol, Sigma-Aldrich Chemical Co.). . The mixture was bubbled with nitrogen for 15 minutes before tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (358.5 mg, 2% mol, Sigma-Aldrich Chemical Co.) was added. The mixture was heated to 90 ° C. for 3 days under a nitrogen atmosphere. The reaction mixture was cooled to room temperature and poured into methanol (600 ml). The precipitate was filtered and washed with water, dilute acid (5% HCl), water, methanol and 3 times with acetone to remove starting material and mono-substituted by-products. The crude product was purified twice by sublimation in a three zone furnace to give 2.00 g (25%) of a bright yellow solid.

(実施例4)
(2,6−ビス(2−ナフタレン−2−イル−ビニル)アントラセン(化合物4)の合成)
Example 4
(Synthesis of 2,6-bis (2-naphthalen-2-yl-vinyl) anthracene (Compound 4))

Figure 0005155852
Figure 0005155852

無水DMF(150ml)中2,6−ジブロモアントラセン(3.36g、10.0ミリモル)と2−ビニルナフタレン(4.63g、30.0ミリモル、シグマ−アルドリッチケミカル社(Sigma−Aldrich Chemical Co.))の混合物に、トリフェニルホスフィン(0.13g、0.50ミリモル、シグマ−アルドリッチケミカル社(Sigma−Aldrich Chemical Co.))およびトリブチルアミン(11.9ml、50.0ミリモル、シグマ−アルドリッチケミカル社(Sigma−Aldrich Chemical Co.))を添加した。混合物を窒素で15分間発泡した。次に、酢酸パラジウム(112.0mg、0.5ミリモル、シグマ−アルドリッチケミカル社(Sigma−Aldrich Chemical Co.))を添加した。混合物を130℃まで18時間、窒素雰囲気下で加熱した。反応混合物を室温まで冷却して、メタノール(500ml)に注いだ。沈殿物をろ過して、メタノール、アセトン、次にクロロホルムで洗った。粗生成物を、3ゾーン炉にて昇華により2回精製したところ、黄色の固体が得られた。   2,6-dibromoanthracene (3.36 g, 10.0 mmol) and 2-vinylnaphthalene (4.63 g, 30.0 mmol, Sigma-Aldrich Chemical Co.) in anhydrous DMF (150 ml). ), Triphenylphosphine (0.13 g, 0.50 mmol, Sigma-Aldrich Chemical Co.) and tributylamine (11.9 ml, 50.0 mmol, Sigma-Aldrich Chemical Co.). (Sigma-Aldrich Chemical Co.)) was added. The mixture was bubbled with nitrogen for 15 minutes. Next, palladium acetate (112.0 mg, 0.5 mmol, Sigma-Aldrich Chemical Co.) was added. The mixture was heated to 130 ° C. for 18 hours under a nitrogen atmosphere. The reaction mixture was cooled to room temperature and poured into methanol (500 ml). The precipitate was filtered and washed with methanol, acetone and then chloroform. The crude product was purified twice by sublimation in a 3-zone furnace to give a yellow solid.

(実施例5)
(OTFTデバイスの特徴決定)
本実施例では、W/L比(Wはチャネル幅、Lはチャネル長)が10のOTFTデバイスの特徴決定について得られた結果をまとめる。
(Example 5)
(Determination of OTFT device characteristics)
This example summarizes the results obtained for OTFT device characterization with a W / L ratio (W is channel width, L is channel length) of 10.

OTFTデバイスは、図1Bに関して記載したのと同様のやり方で製造した。その後、各OTFTデバイスの性能を、プローブステーションとインターフェースさせたアジレント(Agilent)4155C(商標)半導体パラメータアナライザー(Semiconductor Parameter Analyzer)を用いて評価した。   The OTFT device was fabricated in a similar manner as described with respect to FIG. 1B. Thereafter, the performance of each OTFT device was evaluated using an Agilent 4155C ™ semiconductor parameter analyzer interfaced with a probe station (Semiconductor Parameter Analyzer).

実施例5eにおいて、ポリアニリン(PANI)の導電性ポリマー層および分散カーボンナノチューブ(PANI/NT)を、パターン化ゲート電極として適用し、ポリアニリン−カーボンナノチューブ(PANI/NT)組成物をドナーとして、およびマイラー(Mylar)(登録商標)RS8レシーバシートを用い、CREO−トレンドセッター(CREO−Trendsetter)TMLプリンタを用いて、熱転写印刷した。ラテックスRS35の誘電体層を、パターン化ゲートにラミネートまたは熱転写印刷した。ソースおよびドレインパターンを、ポリアニリン−カーボンナノチューブ(PANI/NT)組成物をドナーとして、およびマイラー(Mylar)(登録商標)RS8レシーバシートを用い、CREO−トレンドセッター(CREO−Trendsetter)TMLプリンタを用いて印刷した。組成物1の半導体を、シャドウマスクを通して、ソース電極およびドレイン電極の上で熱蒸発した。   In Example 5e, a conductive polymer layer of polyaniline (PANI) and dispersed carbon nanotubes (PANI / NT) were applied as a patterned gate electrode, the polyaniline-carbon nanotube (PANI / NT) composition as a donor, and Mylar Thermal transfer printing was performed using a CREO-Trendsetter TML printer using a (Mylar) ® RS8 receiver sheet. A dielectric layer of latex RS35 was laminated or thermal transfer printed to the patterned gate. Source and drain patterns, using polyaniline-carbon nanotube (PANI / NT) composition as a donor, and Mylar® RS8 receiver sheet, using a CREO-Trendsetter TML printer Printed. The semiconductor of composition 1 was thermally evaporated on the source and drain electrodes through a shadow mask.

測定を周囲条件で実施した。温度を制御したり、光や空気を排除したりするのに特別な措置は講じなかった。   Measurements were performed at ambient conditions. No special measures were taken to control temperature or eliminate light or air.

OTFTデバイスの評価から得られた結果は表にまとめてある。これらの結果によれば、式1の化合物を含むOTFTデバイスは、高移動度および高オン/オフ比を有するのが分かる。   The results obtained from the evaluation of OTFT devices are summarized in the table. These results show that OTFT devices containing the compound of Formula 1 have high mobility and high on / off ratio.

他のデバイス製造において、有機薄膜電界効果型トランジスタ(OTFT)デバイスを、1.73×10−8F/cmの単位面積当たりのキャパシタンスを有する誘電体層として作用する200nmの熱酸化物を上面に、そして背面コンタクト(ゲート電極)としてエッチングされた高濃度ドープn−型Siを有する高濃度ドープn型Siウエハ上に製造した。ウエハを、続いて、アセトン、イソプロパノールおよび脱イオン水で洗うことにより清浄にし、Nガスでブロー乾燥し、酸素プラズマ中で6分間清浄にした。次に、清浄にしたウエハ基板を、トルエン中OcTSの0.1M溶液に60℃で15分間浸漬することにより、オクチルトリクロロシラン(OcTS)の自己組織化単層(SAM)で、ウエハSiO表面を処理した。トルエンで濯ぎ、Nガスによりブロー乾燥した後、基板を150℃で5分間アニールして、SAM層を架橋した(OcTS処理表面の接触角は約88°〜91°である)。半導体層を、シャドウマスクを通して、処理誘電体表面に堆積した(活性層を画定するための40のシャドウの面積はそれぞれ約1000×1000μm)。有機半導体を、約2.0×10−6トルの圧力下、1〜2Å/sのレートで、水晶振動子モニターにより求められる400Åの最終厚さまで堆積した。フィルム厚さを、触診式表面形状測定装置により補正した。堆積中の基板温度は、基板を装着した銅ブロックを加熱または冷却することにより制御した。金電極を、W/Lが約10/1のシャドウマスクを用いることにより、半導体堆積後に堆積した。マスクは、8組のソース−ドレイン対を画定し、それぞれのチャネル幅Wは400、600、800、1000μmであり、それぞれに対応する8つの異なるチャネル長Lは40、60、80および100μmであった。電気的特性は、アジレント(Agilent)4155C半導体パラメータアナライザーを用いて、空中、室温で得られた。移動度およびスレショルド電圧を、標準TFT分析から抽出した。VGS=−40Vで電流IDSからVGS=+10Vで電流IDSまででオン/オフ比を求めた。表1のデータは全て、8つの別個のTFTを無作為に測定し、平均値を求めることにより得た。標準偏差は5〜10%の範囲内であった。 In another device fabrication, an organic thin film field effect transistor (OTFT) device is topped with a 200 nm thermal oxide that acts as a dielectric layer with a capacitance per unit area of 1.73 × 10 −8 F / cm 2. And on a heavily doped n-type Si wafer with heavily doped n-type Si etched as a back contact (gate electrode). The wafer was subsequently cleaned by washing with acetone, isopropanol and deionized water, blown dry with N 2 gas, and cleaned in oxygen plasma for 6 minutes. Next, the cleaned wafer substrate is immersed in a 0.1M solution of OcTS in toluene at 60 ° C. for 15 minutes to form a self-assembled monolayer (SAM) of octyltrichlorosilane (OcTS) on the wafer SiO 2 surface. Processed. After rinsing with toluene and blow drying with N 2 gas, the substrate was annealed at 150 ° C. for 5 minutes to crosslink the SAM layer (the contact angle of the OcTS treated surface is about 88 ° to 91 °). A semiconductor layer was deposited on the processing dielectric surface through a shadow mask (the area of the 40 shadows to define the active layer was approximately 1000 × 1000 μm each). The organic semiconductor was deposited at a rate of 1-2 liters / s under a pressure of about 2.0 × 10 −6 torr to a final thickness of 400 liters as required by a quartz crystal monitor. The film thickness was corrected by a palpated surface profile measuring device. The substrate temperature during deposition was controlled by heating or cooling the copper block on which the substrate was mounted. Gold electrodes were deposited after semiconductor deposition by using a shadow mask with a W / L of about 10/1. The mask defines eight sets of source-drain pairs, each with a channel width W of 400, 600, 800, 1000 μm, and eight different channel lengths L corresponding to 40, 60, 80, and 100 μm, respectively. It was. Electrical properties were obtained at room temperature in the air using an Agilent 4155C semiconductor parameter analyzer. Mobility and threshold voltage were extracted from standard TFT analysis. The on / off ratio was obtained from the current I DS to V GS = + 10 V and the current I DS when V GS = −40V. All data in Table 1 were obtained by randomly measuring eight separate TFTs and determining the average value. The standard deviation was in the range of 5-10%.

Figure 0005155852
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Figure 0005155852
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μsat:飽和移動度、μlin:直線移動度、オン/オフsat:最大ゲート電圧印加時(−60V)の飽和領域におけるドレイン−ソース電流のオン(グレイン−ソース電圧が−60V)およびオフ(ドレイン−ソース電圧が0)電流比、オン/オフlin:最大ゲート電圧印加時(−5V)の直線領域におけるドレイン−ソース電流のオン(グレイン−ソース電圧が−60V)およびオフ(ドレイン−ソース電圧が0)電流比、V sat:飽和領域におけるスレショルド電圧、V lin:直線領域におけるスレショルド電圧、SubThrSWsat:飽和領域におけるサブスレショルド係数、SubThrSWlin:直線領域におけるサブスレショルド係数、NA=無効。 μ sat : saturation mobility, μ lin : linear mobility, on / off sat : drain-source current on (grain-source voltage is −60 V) and off in the saturation region when maximum gate voltage is applied (−60 V) Drain-source voltage is 0) current ratio, on / off lin : drain-source current on (grain-source voltage is -60 V) and off (drain-source voltage in a linear region when maximum gate voltage is applied (-5 V) 0) current ratio, V t sat : threshold voltage in saturation region, V t lin : threshold voltage in linear region, SubThrSW sat : subthreshold coefficient in saturation region, SubThrSW lin : subthreshold coefficient in linear region, NA = invalid.

(実施例6)
(化合物1、化合物36を用いて製造されたOTFTの安定性試験)
上述した手順に従って、デバイスを試験し、(非特許文献21)に記載されたとおりにしてデータを分析した。化合物36(5n)を用いたデバイスに、−40Vの一定ドレイン−ソース電圧および+40V〜−40Vの交流ゲート−ソース電圧で連続操作を行った。半導体材料はデバイスで安定であり、デバイス性能は初期の試験結果と同じであったことが分かった。デバイスは、試験中、少なくとも24時間連続操作された。これとは対照的に、ペンタセンを半導体層として用いて製造され、同様の条件下で試験したデバイスは、僅か2時間の連続運転後に、電荷移動度(0.4cm/Vsから0.1cm/Vsへ減少)およびオン/オフ比(初期I6.5×10から約10へ減少)において大幅な損失を示した。
(Example 6)
(Stability test of OTFT manufactured using Compound 1 and Compound 36)
The device was tested according to the procedure described above and the data was analyzed as described in (Non-Patent Document 21). A device using compound 36 (5n) was operated continuously with a constant drain-source voltage of -40V and an AC gate-source voltage of + 40V to -40V. It was found that the semiconductor material was stable in the device and the device performance was the same as the initial test results. The device was operated continuously for at least 24 hours during the test. In contrast, it produced using pentacene as semiconductor layers, device tested under the same conditions after the continuous operation of only 2 hours, 0.1 cm from the charge mobility (0.4 cm 2 / Vs 2 It showed a significant loss in / reduced to Vs) and on / off ratio (reduced from the initial I6.5 × 10 4 to about 10 1).

他の試験において、デバイス(5c)を、半導体層に化合物1を用いて、上述したとおりに構築し、移動度およびオン/オフ比を10ヶ月の期間にわたって周期的に測定した。性能は、その期間にわたって実質的に安定であった。移動度は0.85から1.09cm/ボルト−秒まで変化した。オン/オフ比は1.7×10から8.6×10まで変化した。移動度は、米国特許公報(特許文献12)(第9欄、55〜63行)に記載された方法により計算した。全ての場合において、デバイスは、10を超えるオン/オフ比、および化合物1デバイスについて保管中一定した有用な移動度を示し、これらのデバイスが空気中で非常に安定していることを実証している。 In other tests, device (5c) was constructed as described above using Compound 1 in the semiconductor layer, and mobility and on / off ratios were measured periodically over a period of 10 months. The performance was substantially stable over that period. The mobility varied from 0.85 to 1.09 cm 2 / volt-second. The on / off ratio varied from 1.7 × 10 6 to 8.6 × 10 6 . The mobility was calculated by the method described in US Patent Publication (Patent Document 12) (Column 9, lines 55-63). In all cases, the devices show on / off ratios greater than 10 6 and constant useful mobility during storage for Compound 1 devices, demonstrating that these devices are very stable in air. ing.

しかしながら、同様の制御条件下では、空気に露出したペンタセンデバイスは、電荷移動度において大幅な減少を示した。電荷移動度は、2ヶ月保管した後、初期値0.4cm/Vsから0.1cm/Vsまで減少し、さらに2ヶ月保管した後、0.03cm/Vsまで減少し続けた。オン/オフ比は、最初の2ヶ月で大幅に、その後さらに大幅に減少した。この基準半導体材料の酸化不安定性が確認された。 However, under similar control conditions, pentacene devices exposed to air showed a significant decrease in charge mobility. The charge mobility decreased from an initial value of 0.4 cm 2 / Vs to 0.1 cm 2 / Vs after storing for 2 months, and continued to decrease to 0.03 cm 2 / Vs after storing for another 2 months. The on / off ratio decreased significantly in the first 2 months and then further significantly. The oxidation instability of this reference semiconductor material was confirmed.

(実施例7)
(2,7−ビス[2−(4−シクロヘキシル−フェニル)−ビニル]アントラセン(化合物44)の合成)
(Example 7)
(Synthesis of 2,7-bis [2- (4-cyclohexyl-phenyl) -vinyl] anthracene (Compound 44))

Figure 0005155852
Figure 0005155852

DMF(200ml、無水)中2,6−ジブロモアントラセン(3.36g、10.00ミリモル)と4−シクロヘキシルスチレン(7.45g、40.00ミリモル)の混合物に、酢酸ナトリウム(3.73g、45.00ミリモル)を添加した。混合物を窒素で15分間発泡した。次に、トランス−ジ−m−アセタトビス[2−(ジ−o−トリルホスフィノ)ベンジル]ジパラジウム(II)(19.1mg、0.2モル%)を添加した。混合物を135℃(油浴)で2日間、窒素雰囲気下で加熱した。反応混合物を室温まで冷却して、メタノールに注いだ。沈殿物をろ過して、メタノールおよびアセトンで洗った。粗生成物を、3ゾーン炉にて昇華により精製したところ、黄色の固体0.3g(5.5%)が得られた。   To a mixture of 2,6-dibromoanthracene (3.36 g, 10.00 mmol) and 4-cyclohexylstyrene (7.45 g, 40.00 mmol) in DMF (200 ml, anhydrous) was added sodium acetate (3.73 g, 45 0.000 mmol) was added. The mixture was bubbled with nitrogen for 15 minutes. Next, trans-di-m-acetatobis [2- (di-o-tolylphosphino) benzyl] dipalladium (II) (19.1 mg, 0.2 mol%) was added. The mixture was heated at 135 ° C. (oil bath) for 2 days under a nitrogen atmosphere. The reaction mixture was cooled to room temperature and poured into methanol. The precipitate was filtered and washed with methanol and acetone. The crude product was purified by sublimation in a three-zone furnace, yielding 0.3 g (5.5%) of a yellow solid.

(実施例8)
(2,7−ビス[2−(4−メトキシ−フェニル)−ビニル]アントラセン(化合物51)の合成)
(Example 8)
(Synthesis of 2,7-bis [2- (4-methoxy-phenyl) -vinyl] anthracene (Compound 51))

Figure 0005155852
Figure 0005155852

DMF(90ml、無水)中2,6−ジブロモアントラセン(2.45g、7.29ミリモル)と4−ビニルアニソール(4.03g、29.14ミリモル)の混合物に、酢酸ナトリウム(2.69g、32.79ミリモル)を添加した。混合物を窒素で15分間発泡した。次に、トランス−ジ−m−アセタトビス[2−(ジ−o−トリルホスフィノ)ベンジル]ジパラジウム(II)(13.9mg、0.2モル%)を添加した。混合物を135℃(油浴)で2日間、窒素雰囲気下で加熱した。反応混合物を室温まで冷却して、メタノールに注いだ。沈殿物をろ過して、メタノールおよびアセトンで洗った。粗生成物を、3ゾーン炉にて昇華により精製したところ、黄色の固体0.66g(20%)が得られた。   To a mixture of 2,6-dibromoanthracene (2.45 g, 7.29 mmol) and 4-vinylanisole (4.03 g, 29.14 mmol) in DMF (90 ml, anhydrous) was added sodium acetate (2.69 g, 32 .79 mmol) was added. The mixture was bubbled with nitrogen for 15 minutes. Next, trans-di-m-acetatobis [2- (di-o-tolylphosphino) benzyl] dipalladium (II) (13.9 mg, 0.2 mol%) was added. The mixture was heated at 135 ° C. (oil bath) for 2 days under a nitrogen atmosphere. The reaction mixture was cooled to room temperature and poured into methanol. The precipitate was filtered and washed with methanol and acetone. The crude product was purified by sublimation in a 3-zone furnace, yielding 0.66 g (20%) of a yellow solid.

(実施例9)     Example 9

Figure 0005155852
Figure 0005155852

(a.4−(2−(2−エトキシエトキシ)エトキシスチレンの合成)
200mlのアセトン中4−アセトキシスチレンモノマー(22.54g、0.14モル)、2−(2−エトキシエトキシ)−臭化エチル(27.39g、0.14モル)の溶液に、NaOH(16.68g、0.42モル)および水(10ml)を添加した。混合物を2日間還流した。冷却後、反応混合物をエチルエーテルで抽出した。有機層をMgSOで乾燥し、ろ過し、濃縮した。カラム精製(ヘキサン/エチルエーテル:8/1〜2/1)により21.82g(66%)の生成物が得られた。
(A. Synthesis of 4- (2- (2-ethoxyethoxy) ethoxystyrene)
To a solution of 4-acetoxystyrene monomer (22.54 g, 0.14 mol), 2- (2-ethoxyethoxy) -ethyl bromide (27.39 g, 0.14 mol) in 200 ml of acetone, NaOH (16. 68 g, 0.42 mol) and water (10 ml) were added. The mixture was refluxed for 2 days. After cooling, the reaction mixture was extracted with ethyl ether. The organic layer was dried over MgSO 4 , filtered and concentrated. Column purification (hexane / ethyl ether: 8/1 to 2/1) gave 21.82 g (66%) of product.

(b.2,7−ビス[2−(4−(2−(2−エトキシエトキシ)エトキシ)−フェニル)−ビニル]アントラセン(化合物52)の合成)
DMF(100ml、無水)中2,6−ジブロモアントラセン(2.79g、8.30ミリモル)と4−(2−(2−エトキシエトキシ)エトキシスチレン(7.86g、33.26ミリモル)の混合物に、酢酸ナトリウム(3.07g、37.42ミリモル)を添加した。混合物を窒素で15分間発泡した。次に、トランス−ジ−m−アセタトビス[2−(ジ−o−トリルホスフィノ)ベンジル]ジパラジウム(II)(15.9mg、0.2モル%)を添加した。混合物を135℃(油浴)で2日間、窒素雰囲気下で加熱した。反応混合物を室温まで冷却して、メタノールに注いだ。沈殿物をろ過して、メタノールおよびアセトンで洗った。粗生成物を、3ゾーン炉にて昇華により精製したところ、黄色の固体が得られた。
(B. Synthesis of 2,7-bis [2- (4- (2- (2-ethoxyethoxy) ethoxy) -phenyl) -vinyl] anthracene (Compound 52))
To a mixture of 2,6-dibromoanthracene (2.79 g, 8.30 mmol) and 4- (2- (2-ethoxyethoxy) ethoxystyrene (7.86 g, 33.26 mmol) in DMF (100 ml, anhydrous) Sodium acetate (3.07 g, 37.42 mmol) was added, the mixture was bubbled with nitrogen for 15 minutes, and then trans-di-m-acetatobis [2- (di-o-tolylphosphino) benzyl] dipalladium. (II) (15.9 mg, 0.2 mol%) was added and the mixture was heated at 135 ° C. (oil bath) for 2 days under a nitrogen atmosphere The reaction mixture was cooled to room temperature and poured into methanol. The precipitate was filtered and washed with methanol and acetone The crude product was purified by sublimation in a 3-zone furnace to give a yellow solid.

(実施例10)
(化合物16の合成)
(Example 10)
(Synthesis of Compound 16)

Figure 0005155852
Figure 0005155852

DMF(100ml、無水)中2−ビニルアントラセン(4.68g、22.91ミリモル)と1,4−ジヨードベンゼン(2.55g、7.64ミリモル)の混合物に、酢酸ナトリウム(2.82g、34.37ミリモル)を添加した。混合物を窒素で15分間発泡した。次に、トランス−ジ−m−アセタトビス[2−(ジ−o−トリルホスフィノ)ベンジル]ジパラジウム(II)(14.6mg、0.2モル%)を添加した。混合物を135℃(油浴)で2日間、窒素雰囲気下で加熱した。反応混合物を室温まで冷却して、メタノールに注いだ。沈殿物をろ過して、水、メタノールおよびアセトンで洗った。粗生成物を、3ゾーン炉にて昇華により精製したところ、オレンジ色の固体1.28g(35%)が得られた。   To a mixture of 2-vinylanthracene (4.68 g, 22.91 mmol) and 1,4-diiodobenzene (2.55 g, 7.64 mmol) in DMF (100 ml, anhydrous) was added sodium acetate (2.82 g, 34.37 mmol) was added. The mixture was bubbled with nitrogen for 15 minutes. Next, trans-di-m-acetatobis [2- (di-o-tolylphosphino) benzyl] dipalladium (II) (14.6 mg, 0.2 mol%) was added. The mixture was heated at 135 ° C. (oil bath) for 2 days under a nitrogen atmosphere. The reaction mixture was cooled to room temperature and poured into methanol. The precipitate was filtered and washed with water, methanol and acetone. The crude product was purified by sublimation in a 3-zone furnace to give 1.28 g (35%) of an orange solid.

(実施例11)
(化合物53の合成)
(Example 11)
(Synthesis of Compound 53)

Figure 0005155852
Figure 0005155852

DMF(100ml、無水)中2−ビニルアントラセン(4.68g、22.91ミリモル)と2,6−ジブロモナフタレン(2.21g、7.64ミリモル)の混合物に、酢酸ナトリウム(2.82g、34.37ミリモル)を添加した。混合物を窒素で15分間発泡した。次に、トランス−ジ−m−アセタトビス[2−(ジ−o−トリルホスフィノ)ベンジル]ジパラジウム(II)(14.6mg、0.2モル%)を添加した。混合物を135℃(油浴)で2日間、窒素雰囲気下で加熱した。反応混合物を室温まで冷却して、メタノールに注いだ。沈殿物をろ過して、水、メタノールおよびアセトンで洗った。粗生成物を、3ゾーン炉にて昇華により精製したところ、オレンジ色の固体0.086g(2%)が得られた。   To a mixture of 2-vinylanthracene (4.68 g, 22.91 mmol) and 2,6-dibromonaphthalene (2.21 g, 7.64 mmol) in DMF (100 ml, anhydrous) was added sodium acetate (2.82 g, 34). .37 mmol) was added. The mixture was bubbled with nitrogen for 15 minutes. Next, trans-di-m-acetatobis [2- (di-o-tolylphosphino) benzyl] dipalladium (II) (14.6 mg, 0.2 mol%) was added. The mixture was heated at 135 ° C. (oil bath) for 2 days under a nitrogen atmosphere. The reaction mixture was cooled to room temperature and poured into methanol. The precipitate was filtered and washed with water, methanol and acetone. The crude product was purified by sublimation in a three-zone furnace, yielding 0.086 g (2%) of an orange solid.

(実施例12)
(化合物9の合成)
(Example 12)
(Synthesis of Compound 9)

Figure 0005155852
Figure 0005155852

DMF(100ml、無水)中2−ビニルアントラセン(4.48g、21.93ミリモル)と2,6−ジブロモアントラセン(2.57g、7.64ミリモル)の混合物に、酢酸ナトリウム(2.82g、34.37ミリモル)を添加した。混合物を窒素で15分間発泡した。次に、トランス−ジ−m−アセタトビス[2−(ジ−o−トリルホスフィノ)ベンジル]ジパラジウム(II)(14.6mg、0.2モル%)を添加した。混合物を135℃(油浴)で2日間、窒素雰囲気下で加熱した。反応混合物を室温まで冷却して、メタノールに注いだ。沈殿物をろ過して、水、メタノールおよびアセトンで洗った。粗生成物を、3ゾーン炉にて昇華により精製したところ、オレンジ色の固体が得られた。   To a mixture of 2-vinylanthracene (4.48 g, 21.93 mmol) and 2,6-dibromoanthracene (2.57 g, 7.64 mmol) in DMF (100 ml, anhydrous) was added sodium acetate (2.82 g, 34 .37 mmol) was added. The mixture was bubbled with nitrogen for 15 minutes. Next, trans-di-m-acetatobis [2- (di-o-tolylphosphino) benzyl] dipalladium (II) (14.6 mg, 0.2 mol%) was added. The mixture was heated at 135 ° C. (oil bath) for 2 days under a nitrogen atmosphere. The reaction mixture was cooled to room temperature and poured into methanol. The precipitate was filtered and washed with water, methanol and acetone. The crude product was purified by sublimation in a three zone furnace to give an orange solid.

(実施例13)
(2,6−ビス[2−(4−ペンチルフェニル)−ビニル]ナフタレン(化合物49)の合成)
(Example 13)
(Synthesis of 2,6-bis [2- (4-pentylphenyl) -vinyl] naphthalene (Compound 49))

Figure 0005155852
Figure 0005155852

トルエン(120ml)中2,6−ジブロモナフタレン(2.29g、8.00ミリモル)と2−[2−(4−ペンチルフェニル)ビニル]−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(7.59g、24.00ミリモル)の混合物に、2M炭酸ナトリウム(水20.0ml中に溶解した4.24g、40.00ミリモル)を添加し、続いて、相間移動剤アリクエート(Aliquat)(登録商標)336(1.60g、4.00ミリモル)を添加した。混合物を窒素で15分間発泡した。次に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(185.3mg、2モル%)を添加した。混合物を90℃(油浴)で3日間、窒素雰囲気下で加熱した。反応混合物を室温まで冷却して、メタノール(300ml)に注いだ。黄色の沈殿物をろ過して、希釈酸(5%HCl)、水、メタノール、次にアセトンで洗った。粗生成物を、3ゾーン炉にて昇華により精製したところ、淡い黄色の固体2.55g(67%)が得られた。   2,6-Dibromonaphthalene (2.29 g, 8.00 mmol) and 2- [2- (4-pentylphenyl) vinyl] -4,4,5,5-tetramethyl-1,3 in toluene (120 ml) , 2-dioxaborolane (7.59 g, 24.00 mmol) was added 2M sodium carbonate (4.24 g, 40.00 mmol dissolved in 20.0 ml water) followed by phase transfer agent aliquotate. (Aliquat) 336 (1.60 g, 4.00 mmol) was added. The mixture was bubbled with nitrogen for 15 minutes. Next, tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (185.3 mg, 2 mol%) was added. The mixture was heated at 90 ° C. (oil bath) for 3 days under a nitrogen atmosphere. The reaction mixture was cooled to room temperature and poured into methanol (300 ml). The yellow precipitate was filtered and washed with dilute acid (5% HCl), water, methanol and then acetone. The crude product was purified by sublimation in a three zone furnace to give 2.55 g (67%) of a pale yellow solid.

(実施例14)
(2,7−ビス[2−(4−ペンチル−フェニル)−ビニル]−9H−フルオレン(化合物50)の合成)
(Example 14)
(Synthesis of 2,7-bis [2- (4-pentyl-phenyl) -vinyl] -9H-fluorene (Compound 50))

Figure 0005155852
Figure 0005155852

トルエン(120ml)中2,7−ジブロモフルオレン(2.67g、8.00ミリモル)と2−[2−(4−ペンチルフェニル)ビニル]−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(7.59g、24.00ミリモル)の混合物に、2M炭酸ナトリウム(水20.0ml中に溶解した4.24g、40.00ミリモル)を添加し、続いて、相間移動剤アリクエート(Aliquat)(登録商標)336(1.60g、4.00ミリモル)を添加した。混合物を窒素で15分間発泡した。次に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(185.3mg、2モル%)を添加した。混合物を90℃(油浴)で3日間、窒素雰囲気下で加熱した。反応混合物を室温まで冷却して、メタノール(300ml)に注いだ。黄色の沈殿物をろ過して、希釈酸(5%HCl)、水、メタノール、次にアセトンで洗った。粗生成物を、3ゾーン炉にて昇華により精製したところ、黄色の固体2.59g(63%)が得られた。   2,7-Dibromofluorene (2.67 g, 8.00 mmol) and 2- [2- (4-pentylphenyl) vinyl] -4,4,5,5-tetramethyl-1,3 in toluene (120 ml) , 2-dioxaborolane (7.59 g, 24.00 mmol) was added 2M sodium carbonate (4.24 g, 40.00 mmol dissolved in 20.0 ml water) followed by phase transfer agent aliquotate. (Aliquat) 336 (1.60 g, 4.00 mmol) was added. The mixture was bubbled with nitrogen for 15 minutes. Next, tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (185.3 mg, 2 mol%) was added. The mixture was heated at 90 ° C. (oil bath) for 3 days under a nitrogen atmosphere. The reaction mixture was cooled to room temperature and poured into methanol (300 ml). The yellow precipitate was filtered and washed with dilute acid (5% HCl), water, methanol and then acetone. The crude product was purified by sublimation in a three zone furnace to give 2.59 g (63%) of a yellow solid.

(実施例15)     (Example 15)

Figure 0005155852
Figure 0005155852

(a)4−ブロモ−o−キシレン(75.00g、0.28モル)を、900mlのCClに溶解した。UV光を照射しながら、臭素(82.00ml、1.60モル)を徐々に添加した。添加後、反応混合物にさらに1時間照射した。反応混合物を、水で2回洗い、ロータリエバポレータで濃縮した。沈殿物をろ過し、ヘキサンで洗い、真空オーブン中で乾燥した(80.59g、57%)。 (A) 4-Bromo -o- xylene (75.00 g, 0.28 mol) was dissolved in CCl 4 in 900 ml. Bromine (82.00 ml, 1.60 mol) was gradually added while irradiating with UV light. After the addition, the reaction mixture was irradiated for an additional hour. The reaction mixture was washed twice with water and concentrated on a rotary evaporator. The precipitate was filtered, washed with hexane and dried in a vacuum oven (80.59 g, 57%).

Figure 0005155852
Figure 0005155852

(b)300mlのDMAc中4−ブロモ−1,2−ビス−ジブロモメチル−ベンゼン(20.00g、0.040モル)、1,4−ナフトキノン(6.31g、0.040モル)およびNal(68.81g、0.46モル)の混合物を18時間還流した。冷却後、反応混合物を水に注いだ。沈殿物をろ過し、MeOHで洗ってから、昇華により精製したところ、黄色の固体生成物(3.67g、27%)が得られた。   (B) 4-Bromo-1,2-bis-dibromomethyl-benzene (20.00 g, 0.040 mol), 1,4-naphthoquinone (6.31 g, 0.040 mol) and Nal (in 300 ml DMAc) 68.81 g, 0.46 mol) was refluxed for 18 hours. After cooling, the reaction mixture was poured into water. The precipitate was filtered, washed with MeOH and purified by sublimation to give a yellow solid product (3.67 g, 27%).

Figure 0005155852
Figure 0005155852

(c)300mlのフラスコに、Alワイヤ(8.67g、0.32モル)、HgCl(0.17g、0.64モル)、シクロヘキサノール(200ml)および触媒量のCBr(0.85g、0.0026モル)を加えた。混合物を窒素で15分間発泡した。反応を、加熱により開始し、冷却して反応を遅くしてから、4時間還流して完了させた。この溶液に、8−ブロモ−ナフタセン−5,12−ジオン(12.72g、0.032モル)を添加した。混合物を2日間還流した。やや冷却させた後、反応混合物をMeOH/HO/濃HCl溶液(1/1/1、800 ml)に注いだ。沈殿物をろ過して、MeOH/HO/濃HCl(1/1/1)、次にメタノールで洗った。粗生成物を、3ゾーン炉にて昇華により精製したところ、オレンジ色の純生成物(8.97g、77%)が得られた。 (C) A 300 ml flask was charged with Al wire (8.67 g, 0.32 mol), HgCl 2 (0.17 g, 0.64 mol), cyclohexanol (200 ml) and a catalytic amount of CBr 4 (0.85 g, 0.0026 mol) was added. The mixture was bubbled with nitrogen for 15 minutes. The reaction was initiated by heating, cooled to slow the reaction and then completed by refluxing for 4 hours. To this solution was added 8-bromo-naphthacene-5,12-dione (12.72 g, 0.032 mol). The mixture was refluxed for 2 days. After cooling slightly, the reaction mixture was poured into MeOH / H 2 O / concentrated HCl solution (1/1/1, 800 ml). The precipitate was filtered and washed with MeOH / H 2 O / conc. HCl (1/1/1) and then methanol. The crude product was purified by sublimation in a three-zone furnace to give a pure orange product (8.97 g, 77%).

Figure 0005155852
Figure 0005155852

((d)2−(4−ペンチルフェニル)−ビニル]−テトラセン(化合物36)の合成)
トルエン(150ml)中2−ブロモテトラセン(3.50g、11.39ミリモル)と2−[2−(4−ペンチルフェニル)ビニル]−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(4.32g、13.67ミリモル)の混合物に、2M炭酸ナトリウム(水28.5ml中に溶解した6.04g、56.95ミリモル)を添加し、続いて、相間移動剤アリクエート(Aliquat)(登録商標)336(2.28g、5.70ミリモル)を添加した。混合物を窒素で15分間発泡した。次に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(263.0mg、2モル%)を添加した。混合物を90℃(油浴)で3日間、窒素雰囲気下で加熱した。反応混合物を室温まで冷却して、メタノールに注いだ。沈殿物をろ過して、希釈酸(5%HCl)、水、メタノール、次にアセトンで洗った。粗生成物を、3ゾーン炉にて昇華により精製したところ、赤色の固体2.91g(64%)が得られた。
((D) Synthesis of 2- (4-pentylphenyl) -vinyl] -tetracene (Compound 36))
2-Bromotetracene (3.50 g, 11.39 mmol) and 2- [2- (4-pentylphenyl) vinyl] -4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2 in toluene (150 ml) To a mixture of dioxaborolane (4.32 g, 13.67 mmol) was added 2M sodium carbonate (6.04 g, 56.95 mmol dissolved in 28.5 ml water) followed by phase transfer agent aliquot (Aliquat ) (R) 336 (2.28 g, 5.70 mmol) was added. The mixture was bubbled with nitrogen for 15 minutes. Next, tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (263.0 mg, 2 mol%) was added. The mixture was heated at 90 ° C. (oil bath) for 3 days under a nitrogen atmosphere. The reaction mixture was cooled to room temperature and poured into methanol. The precipitate was filtered and washed with dilute acid (5% HCl), water, methanol and then acetone. The crude product was purified by sublimation in a 3-zone furnace, yielding 2.91 g (64%) of a red solid.

(実施例16)
(2−(4−ドデシルフェニル)−ビニル]−テトラセン(化合物54)の合成)
(Example 16)
(Synthesis of 2- (4-dodecylphenyl) -vinyl] -tetracene (Compound 54))

Figure 0005155852
Figure 0005155852

DMF(200ml、無水)中2−ブロモテトラセン(4.91g、15.97ミリモル)と4−ドデシルスチレン(5.22g、19.00ミリモル)の混合物に、酢酸ナトリウム(1.97g、24.00ミリモル)を添加した。混合物を窒素で15分間発泡した。次に、トランス−ジ−m−アセタトビス[2−(ジ−o−トリルホスフィノ)ベンジル]ジパラジウム(II)(15.00mg、0.2モル%)を添加した。混合物を135℃(油浴)で2日間、窒素雰囲気下で加熱した。この反応混合物を室温まで冷却した。沈殿物をろ過して、水、メタノール、クロロホルムおよびアセトンで洗った。粗生成物を、1ゾーン炉にて昇華により精製したところ、赤色の固体3.60g(45%)が得られた。   To a mixture of 2-bromotetracene (4.91 g, 15.97 mmol) and 4-dodecylstyrene (5.22 g, 19.00 mmol) in DMF (200 ml, anhydrous) was added sodium acetate (1.97 g, 24.00). Mmol) was added. The mixture was bubbled with nitrogen for 15 minutes. Next, trans-di-m-acetatobis [2- (di-o-tolylphosphino) benzyl] dipalladium (II) (15.00 mg, 0.2 mol%) was added. The mixture was heated at 135 ° C. (oil bath) for 2 days under a nitrogen atmosphere. The reaction mixture was cooled to room temperature. The precipitate was filtered and washed with water, methanol, chloroform and acetone. The crude product was purified by sublimation in a one-zone furnace, yielding 3.60 g (45%) of a red solid.

(実施例17)
(化合物42の合成)
(Example 17)
(Synthesis of Compound 42)

Figure 0005155852
Figure 0005155852

DMF(80ml、無水)中2−ブロモテトラセン(3.60g、11.72ミリモル)とp−ジビニルベンゼン(0.51g、3.91ミリモル)の混合物に、酢酸ナトリウム(1.44g、17.58ミリモル)を添加した。混合物を窒素で15分間発泡した。次に、トランス−ジ−m−アセタトビス[2−(ジ−o−トリルホスフィノ)ベンジル]ジパラジウム(II)(7.5mg、0.2モル%)を添加した。混合物を135℃(油浴)で2日間、窒素雰囲気下で加熱した。反応混合物を室温まで冷却して、メタノールに注いだ。沈殿物をろ過して、水、メタノールおよびアセトンで洗った。粗生成物を、3ゾーン炉にて昇華により精製したところ、赤色の固体が得られた。   To a mixture of 2-bromotetracene (3.60 g, 11.72 mmol) and p-divinylbenzene (0.51 g, 3.91 mmol) in DMF (80 ml, anhydrous) was added sodium acetate (1.44 g, 17.58 mmol). Mmol) was added. The mixture was bubbled with nitrogen for 15 minutes. Next, trans-di-m-acetatobis [2- (di-o-tolylphosphino) benzyl] dipalladium (II) (7.5 mg, 0.2 mol%) was added. The mixture was heated at 135 ° C. (oil bath) for 2 days under a nitrogen atmosphere. The reaction mixture was cooled to room temperature and poured into methanol. The precipitate was filtered and washed with water, methanol and acetone. The crude product was purified by sublimation in a three-zone furnace to obtain a red solid.

(実施例18)
本実施例は、正孔輸送層にアリール−ビニレン芳香族化合物を用いて作製したOLEDの製造およびデバイス特性を示すものである。
(Example 18)
This example shows the manufacture and device characteristics of an OLED fabricated using an aryl-vinylene aromatic compound for the hole transport layer.

ITOを、ガラス基板上でアノードとして用いた。パターン化ITOを備えたガラス基板を、酸素プラズマで5分間清浄にした。冷却直後、バッファ材料(バッファ−1)を、水性分散液からITO表面にスピンコートした。乾燥後、基板を真空堆積チャンバへ移し、200Åの正孔輸送材料を蒸発した。続いて、青色発光材料およびホスト材料を、同時蒸発により堆積した。蒸発により電子輸送材料を形成した。層は、300ÅのZrQまたは100ÅのBAlqおよび100ÅのZrQで作製した。薄い6Åのフッ化リチウムを、電子注入層としてZrQ層の上部で蒸発した。マスクを真空で変えて、Alの1000Å層を、熱蒸発により堆積して、カソードを形成した。チャンバをアルゴンで排気して、デバイスをガラス蓋、乾燥剤およびUV硬化性エポキシを用いてカプセル化した。用いた略称は次のとおりである。   ITO was used as the anode on the glass substrate. The glass substrate with patterned ITO was cleaned with oxygen plasma for 5 minutes. Immediately after cooling, a buffer material (Buffer-1) was spin coated from the aqueous dispersion onto the ITO surface. After drying, the substrate was transferred to a vacuum deposition chamber and 200 liters of hole transport material was evaporated. Subsequently, a blue light emitting material and a host material were deposited by co-evaporation. An electron transport material was formed by evaporation. The layers were made of 300 Z ZrQ or 100 B BAlq and 100 Z ZrQ. Thin 6Å lithium fluoride was evaporated on top of the ZrQ layer as an electron injection layer. The mask was changed in vacuum and a 1000 Å layer of Al was deposited by thermal evaporation to form the cathode. The chamber was evacuated with argon and the device was encapsulated with a glass lid, desiccant and UV curable epoxy. Abbreviations used are as follows.

バッファ−1は、ポリ(3,4−ジオキシチオフェン)とポリマーフッ化スルホン酸の水性分散液のことを指す。材料は、米国特許公報(特許文献2)の実施例3に記載されたのと同様の手順を用いて調製した。   Buffer-1 refers to an aqueous dispersion of poly (3,4-dioxythiophene) and polymeric fluorinated sulfonic acid. The material was prepared using a procedure similar to that described in Example 3 of US Patent Publication (Patent Document 2).

BAlqは、錯体ビス(2−メチル−8−ヒドロキシキノリナト)(4−フェニルフェノラト)アルミニウムのことを指す。   BAlq refers to the complex bis (2-methyl-8-hydroxyquinolinato) (4-phenylphenolato) aluminum.

ZrQは、錯体テトラキス(8−ヒドロキシキノリナト)ジルコニウムのことを指す。   ZrQ refers to the complex tetrakis (8-hydroxyquinolinato) zirconium.

下のNPBは、N,N’−ビス(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ビス−(フェニル)ベンジジンのことを指す。   The lower NPB refers to N, N'-bis (naphthalen-1-yl) -N, N'-bis- (phenyl) benzidine.

デバイスに用いた材料およびデバイス特性を下記の表2に示す。   The materials used for the devices and the device characteristics are shown in Table 2 below.

Figure 0005155852
Figure 0005155852

概要または実施例で上述した動作の全てが必要ではなく、特定の動作の一部は必要でないこともあり、1つまたは複数のさらなる動作を説明したものに加えて実施してもよいことに留意されたい。さらに、挙げた動作の順序は、必ずしも実施する順序でなくてよい。   Note that not all of the operations described above in the summary or example are required, some of the specific operations may not be necessary, and one or more additional operations may be performed in addition to those described. I want to be. Furthermore, the order of operations listed does not necessarily have to be performed.

前述の明細書において、特定の実施形態を参照して概念を記載してきた。しかしながら、当業者であれば、特許請求の範囲に規定した本発明の範囲から逸脱することなく、様々な修正および変更を行うことができるものと考えられる。従って、明細書および図面は、限定する意味でなく、例示と考えるべきであり、かかる修正は全て、本発明の範囲内に含まれるものとする。   In the foregoing specification, the concepts have been described with reference to specific embodiments. However, one of ordinary skill in the art appreciates that various modifications and changes can be made without departing from the scope of the present invention as set forth in the claims below. The specification and drawings are, accordingly, to be regarded in an illustrative rather than a restrictive sense, and all such modifications are intended to be included within the scope of the present invention.

利点、その他長所および課題の解決を、特定の実施形態に関して上述してきた。しかしながら、利点、長所、課題の解決および利点、長所または解決をもたらす、またはより明白にする特徴は、特許請求の範囲のいずれかまたは全ての不可欠、必要または必須の要件とは解釈されない。   Benefits, other advantages, and solutions to problems have been described above with regard to specific embodiments. However, advantages, advantages, problem resolutions and advantages, advantages or features that provide or make more obvious are not to be construed as essential, necessary or essential requirements of any or all of the claims.

明瞭にするために、別個の実施形態において本明細書に記載された特定の特徴は、単一の実施形態において組み合わせて提供されてもよいものと考えられる。逆に、簡潔にするために単一の実施形態に記載されている様々な特徴もまた別個、あるいは下位の組み合わせにより提供されてもよい。さらに、範囲で記されている値は、その範囲内の各値を含む。
以下、本明細書に記載の発明につき列記する。
1.
基板と、
絶縁層と、
ゲート電極と、
有機半導体層と、
ソース電極と、
ドレイン電極と
を含む有機薄膜トランジスタであって、
前記有機半導体層は、式1の化合物を含み、

Figure 0005155852
式中、Arは、以下の基:
Figure 0005155852
およびこれらの組み合わせからなる群から選択され、
式中、
Ar’およびAr”は、アリール基からなる群から独立して選択され、
mおよびnは0〜5の値をそれぞれ独立して有する整数であり、m+n≠0であり、
Qは、S、Se、Te、OおよびNR からなる群から選択され、
は、Se、Te、OおよびNR からなる群から選択され、
qおよびrは、0、1、2、3、4および5からなる群から独立して選択され、
sは、1〜5の値を有する整数であり、
tは、2〜5の値を有する整数であり、
は、水素、アルキルおよびアリールからなる群から選択され、
〜R 10 は、水素、アルキル、アリール、ハロゲン、ヒドロキシル、アリールオキシ、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、アミノ、アルキルチオ、ホスフィノ、シリル、−COR、−COOR、−PO 、−OPO およびCNからなる群から独立して選択され、
Rは、水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニルおよびアミノからなる群から選択され、
式中、任意の2つの近接基R 〜R 10 は一緒になって環を形成することができることを特徴とする有機薄膜トランジスタ。
2.
r≠0およびs≠0または1であることを特徴とする前記1.に記載のトランジスタ。
3.
Arは、
Figure 0005155852
およびこれらの組み合わせからなる群から選択され、式中、r≠0であることを特徴とする前記1.に記載のトランジスタ。
4.
前記1.に記載のトランジスタであって、
前記絶縁層、前記ゲート電極、前記半導体層、前記ソース電極および前記ドレイン電極が任意の順序で配置され、ただし、前記ゲート電極および前記半導体層の両方が前記絶縁層と接触しており、前記ソース電極および前記ドレイン電極の両方が前記半導体層と接触しており、前記電極が互いに分離されていることを特徴とするトランジスタ。
5.
前記1.に記載のトランジスタであって、
前記基板が、1つまたは複数の無機ガラス、セラミック箔、アクリル、エポキシ、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリケトン、ポリ(オキシ−1,4−フェニレンオキシ−1,4−フェニレンカルボニル−1,4−フェニレン)、ポリノルボルネン、ポリフェニレンオキシド、ポリ(エチレンナフタレンジカルボキシレート)、ポリ(エチレンテレフタレート)、ポリ(フェニレンスルフィド)、繊維強化プラスチックまたは被覆金属箔を含むことを特徴とするトランジスタ。
6.
前記1.に記載のトランジスタであって、
前記ゲート電極が、ドープされたケイ素、アルミニウム、金、クロム、インジウム錫酸化物、ポリスチレンスルホネートをドープされたポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(PSS−PEDOT)、ポリマーバインダーに分散されたカーボンブラックまたはグラファイト、およびポリマーバインダー中のコロイド銀分散液を含むことを特徴とするトランジスタ。
7.
前記1.に記載のトランジスタであって、
前記ソース電極およびドレイン電極が、アルミニウム、バリウム、カルシウム、クロム、金、銀、ニッケル、パラジウム、白金、チタンおよびこれらの合金、カーボンナノチューブ、ポリアニリン、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリ−(スチレンスルホネート)(PEDOT:PSS)、カーボンナノチューブの導電性ポリマー中の分散液、金属の導電性ポリマー中の分散液、およびこれらの多層を含むことを特徴とするトランジスタ。
8.
前記1.に記載のトランジスタであって、
前記絶縁層が、1つまたは複数の酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化タンタル、酸化チタン、窒化ケイ素、チタン酸バリウム、チタン酸バリウムストロンチウム、チタン酸ジルコン酸バリウム、セレン化亜鉛、硫化亜鉛、これらの合金、これらの組み合わせおよびこれらの多層、1つまたは複数のポリエステル、ポリカーボネート、ポリ(ビニルフェノール)、ポリイミド、ポリスチレン、ポリ(メタクリレート)、ポリ(アクリレート)、エポキシ樹脂、これらのブレンドおよびこれらの多層を含むことを特徴とするトランジスタ。
9.
前記1.に記載のトランジスタであって、
前記半導体化合物が、化合物1〜64:
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
からなる群から選択されることを特徴とするトランジスタ。
10.
式1:
Figure 0005155852
により表される化合物であって、
式中、Arは、
Figure 0005155852
からなる群から選択され、
式中、
Ar’およびAr”は、アリール基からなる群から独立して選択され、
mおよびnは0〜5の値をそれぞれ独立して有する整数であり、m+n≠0であり、
Qは、S、Se、Te、OおよびNR からなる群から選択され、
は、Se、Te、OおよびNR からなる群から選択され、
qおよびrは0〜5の値をそれぞれ独立して有する整数であり、
sは、1〜5の値を有する整数であり、
tは、2〜5の値を有する整数であり、
は、水素、アルキルおよびアリールからなる群から選択され、
〜R 10 は、水素、アルキル、アリール、ハロゲン、ヒドロキシル、アリールオキシ、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、アルキルチオ、ホスフィノ、シリル、−COR、−COOR、−PO 、−OPO およびCNからなる群から独立して選択され、
Rは、水素、アルキル、アリール、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択され、
式中、任意の2つの近接基R 〜R 10 は一緒になって環を形成することができることを特徴とする化合物。
11.
アリール−エチレンアセンを調製する方法であって、
式2:
Figure 0005155852
のジボロン化合物を、
Figure 0005155852
からなる群から選択されるジハロアリーレン化合物と、ゼロ価のPd錯体の存在下で反応させて、アリール−エチレンアセン化合物を形成する工程を含み、
式中、
mおよびnは0〜3の値をそれぞれ独立して有する整数であり、
R’およびR”は独立してHまたはアルキルであり、
Halは、Cl、BrおよびIからなる群から独立して選択され、
Ar’はアリール基であり、
Qは、S、Se、Te、OまたはNR からなる群から選択され、
、R およびR 〜R 10 は、水素、アルキル、アリール、ハロゲン、ヒドロキシル、アリールオキシ、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、アミノ、アルキルチオ、ホスフィノ、シリル、−COR、−COOR、−PO 、−OPO およびCNからなる群から独立して選択され、
Rは、水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニルおよびアミノからなる群から選択され、
は水素、アルキルまたはアリールであり、
式中、任意の2つの近接基R 〜R 10 は一緒になって環を形成することができることを特徴とするアリール−エチレンアセンを調製する方法。
12.
アリール−エチレンアセンを調製する方法であって、
式3:
Figure 0005155852
のアリール置換エチレン化合物を、
Figure 0005155852
からなる群から選択されるジハロアリーレン化合物と、ゼロ価のPd錯体の存在下で反応させて、アリール−エチレンアセン化合物を形成する工程を含み、
式中、
mおよびnは0〜3の値をそれぞれ独立して有する整数であり、
R’およびR”は独立してHまたはアルキルであり、
Halは、Cl、BrおよびIからなる群から独立して選択され、
Ar’はアリール基であり、
Qは、S、Se、Te、OおよびNR からなる群から選択され、
、R およびR 〜R 10 は、水素、アルキル、アリール、ハロゲン、ヒドロキシル、アリールオキシ、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、アミノ、アルキルチオ、ホスフィノ、シリル、−COR、−COOR、−PO 、−OPO およびCNからなる群から独立して選択され、
Rは、水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニルおよびアミノからなる群から選択され、
は水素、アルキルまたはアリールであり、
式中、任意の2つの近接基R 〜R 10 は一緒になって環を形成することができることを特徴とするアリール−エチレンアセンを調製する方法。
13.
アリール−エチレンアセンを調製する方法であって、
Figure 0005155852
からなる群から選択されるアセン誘導体を、ハロ−アリール化合物、Ar−Halと、ゼロ価のPd錯体の存在下で反応させる工程を含み、
式中、
mおよびnは0〜3の値をそれぞれ独立して有する整数であり、
R’およびR”は独立してHまたはアルキルであり、
Halは、Cl、BrおよびIからなる群から独立して選択され、
Ar’はアリール基であり、
Qは、S、Se、Te、OおよびNR からなる群から選択され、
、R およびR 〜R 10 は、水素、アルキル、アリール、ハロゲン、ヒドロキシル、アリールオキシ、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、アミノ、アルキルチオ、ホスフィノ、シリル、−COR、−COOR、−PO 、−OPO およびCNからなる群から独立して選択され、
Rは、水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニルおよびアミノからなる群から選択され、
は水素、アルキルまたはアリールであり、
式中、任意の2つの近接基R 〜R 10 は一緒になって環を形成することができることを特徴とするアリール−エチレンアセンを調製する方法。
14.
電荷輸送層を含むことを特徴とする有機電子デバイスであって、
該電荷輸送層は
式1:
Figure 0005155852
により表される少なくとも1つの化合物を含み、
Arはアリーレン基であり、
Ar’およびAr”は、アリール基からなる群から独立して選択され、
〜R は、水素、アルキル、アリール、ハロゲン、ヒドロキシル、アリールオキシ、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、アミノ、アルキルチオ、ホスフィノ、シリル、−COR、−COOR、−PO 、−OPO およびCNからなる群から独立して選択され、
Rは、水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニルおよびアミノからなる群から選択され、
mおよびnは0〜5の値をそれぞれ独立して有する整数であり、m+n≠0であり、
さらに、ジアリールアミノ基がないことを特徴とする有機電子デバイス。
15.
前記14.に記載のデバイスであって、
Arが、縮合多環式芳香族基、および単結合により結合した少なくとも2つの環を有する芳香族基からなる群から選択されることを特徴とするデバイス。
16.
前記14.に記載のデバイスであって、
Arが、
Figure 0005155852
およびこれらの組み合わせから選択され、
式中、
Qは、S、Se、Te、OまたはNR からなる群から選択され、
qおよびrは0〜5の値をそれぞれ独立して有する整数であり、
sは、1〜5の値を有する整数であり、
は、水素、アルキルおよびアリールからなる群から独立して選択され、
〜R 10 は、水素、アルキル、アリール、ハロゲン、ヒドロキシル、アリールオキシ、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、アミノ、アルキルチオ、ホスフィノ、シリル、−COR、−COOR、−PO 、−OPO およびCNからなる群から独立して選択され、
Rは、水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニルおよびアミノからなる群から選択され、
式中、任意の2つの近接基R 〜R 10 は一緒になって環を形成することができることを特徴とするデバイス。
17.
前記14.に記載のデバイスであって、
Arが、2,6−ナフタレン、置換2,6−ナフタレン、2,6−アントラセン、置換2,6−アントラセン、2,6−フルオレン、置換2,6−フルオレン、2,6−カルバゾール、置換2,6−カルバゾールおよびこれらの組み合わせからなる群のうち少なくとも1つから選択されることを特徴とするデバイス。
18.
前記14.に記載のデバイスであって、
Ar’およびAr”が、非置換アリール基および置換アリール基より独立して選択され、前記アリール基の置換基が、アルキル、アリール、チオアルキル、シリル、アルキルアリール、アルコキシ、アルキルエーテル、エーテルアルキル、フッ素およびこれらの組み合わせからなる群から独立して選択されることを特徴とするデバイス。
19.
アノード、カソードおよびその間に配置された光活性層をさらに含むことを特徴とする前記14.に記載のデバイス。
20.
前記電荷輸送層が、正孔輸送層であり、前記光活性層とアノードとの間に配置されていることを特徴とする前記19.に記載のデバイス。
21.
前記電荷輸送層が、電子輸送層であり、前記光活性層とカノードとの間に配置されていることを特徴とする前記19.に記載のデバイス。
22.
アノード、カソードおよびその間に配置された光活性層を含む有機電子デバイスであって、
前記光活性層が、
式1:
Figure 0005155852
により表される少なくとも1つの化合物を含み、
式中、
Arはアリーレン基であり、
Ar’およびAr”は、アリール基からなる群から独立して選択され、
〜R は、水素、アルキル、アリール、ハロゲン、ヒドロキシル、アリールオキシ、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、アミノ、アルキルチオ、ホスフィノ、シリル、−COR、−COOR、−PO 、−OPO およびCNからなる群から独立して選択され、
Rは、水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニルおよびアミノからなる群から選択され、
mおよびnは0〜5の値をそれぞれ独立して有する整数であり、m+n≠0であり、
さらに、ジアリールアミノ基がないことを特徴とする有機電子デバイス。
For clarity, it is contemplated that certain features described herein in separate embodiments may be provided in combination in a single embodiment. Conversely, various features that are described in a single embodiment for the sake of brevity may also be provided separately or in sub-combinations. Further, values stated in ranges include each value within that range.
The inventions described in this specification are listed below.
1.
A substrate,
An insulating layer;
A gate electrode;
An organic semiconductor layer;
A source electrode;
Drain electrode and
An organic thin film transistor comprising:
The organic semiconductor layer comprises a compound of Formula 1;
Figure 0005155852
Wherein Ar is the following group:
Figure 0005155852
And selected from the group consisting of these,
Where
Ar ′ and Ar ″ are independently selected from the group consisting of aryl groups;
m and n are integers each independently having a value of 0 to 5, m + n ≠ 0,
Q is selected from the group consisting of S, Se, Te, O and NR 0 ;
Q 1 is selected from the group consisting of Se, Te, O and NR 0 ;
q and r are independently selected from the group consisting of 0, 1, 2, 3, 4 and 5;
s is an integer having a value of 1 to 5,
t is an integer having a value of 2-5,
R 0 is selected from the group consisting of hydrogen, alkyl and aryl;
R 1 to R 10 are hydrogen, alkyl, aryl, halogen, hydroxyl, aryloxy, alkoxy, alkenyl, alkynyl, amino, alkylthio, phosphino, silyl, —COR, —COOR, —PO 3 R 2 , —OPO 3 R Independently selected from the group consisting of 2 and CN;
R is selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, aryl, alkenyl, alkynyl and amino;
In the formula, any two adjacent groups R 5 to R 10 can form a ring together to form an organic thin film transistor.
2.
1. r ≠ 0 and s ≠ 0 or 1. The transistor described in 1.
3.
Ar is
Figure 0005155852
And a combination thereof, wherein r ≠ 0, wherein 1. The transistor described in 1.
4).
1 above. The transistor according to claim 1,
The insulating layer, the gate electrode, the semiconductor layer, the source electrode and the drain electrode are arranged in any order, provided that both the gate electrode and the semiconductor layer are in contact with the insulating layer, and the source A transistor, wherein both the electrode and the drain electrode are in contact with the semiconductor layer, and the electrodes are separated from each other.
5.
1 above. The transistor according to claim 1,
The substrate is one or more inorganic glass, ceramic foil, acrylic, epoxy, polyamide, polycarbonate, polyimide, polyketone, poly (oxy-1,4-phenyleneoxy-1,4-phenylenecarbonyl-1,4-phenylene) ), Polynorbornene, polyphenylene oxide, poly (ethylene naphthalene dicarboxylate), poly (ethylene terephthalate), poly (phenylene sulfide), fiber reinforced plastic or coated metal foil.
6).
1 above. The transistor according to claim 1,
The gate electrode was dispersed in doped silicon, aluminum, gold, chromium, indium tin oxide, polystyrene sulfonate doped poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PSS-PEDOT), polymer binder A transistor comprising carbon black or graphite and a colloidal silver dispersion in a polymer binder.
7).
1 above. The transistor according to claim 1,
The source and drain electrodes are made of aluminum, barium, calcium, chromium, gold, silver, nickel, palladium, platinum, titanium, and alloys thereof, carbon nanotubes, polyaniline, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) / poly A transistor comprising: (styrenesulfonate) (PEDOT: PSS), a dispersion of carbon nanotubes in a conductive polymer, a dispersion of a metal in a conductive polymer, and multilayers thereof.
8).
1 above. The transistor according to claim 1,
The insulating layer is one or more of aluminum oxide, silicon oxide, tantalum oxide, titanium oxide, silicon nitride, barium titanate, barium strontium titanate, barium zirconate titanate, zinc selenide, zinc sulfide, alloys thereof , Combinations thereof and multilayers thereof, including one or more polyesters, polycarbonates, poly (vinylphenols), polyimides, polystyrenes, poly (methacrylates), poly (acrylates), epoxy resins, blends thereof and multilayers thereof A transistor characterized by that.
9.
1 above. The transistor according to claim 1,
The semiconductor compound is compound 1 to 64:
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
Figure 0005155852
A transistor selected from the group consisting of:
10.
Formula 1:
Figure 0005155852
A compound represented by
Where Ar is
Figure 0005155852
Selected from the group consisting of
Where
Ar ′ and Ar ″ are independently selected from the group consisting of aryl groups;
m and n are integers each independently having a value of 0 to 5, m + n ≠ 0,
Q is selected from the group consisting of S, Se, Te, O and NR 0 ;
Q 1 is selected from the group consisting of Se, Te, O and NR 0 ;
q and r are integers each independently having a value of 0 to 5,
s is an integer having a value of 1 to 5,
t is an integer having a value of 2-5,
R 0 is selected from the group consisting of hydrogen, alkyl and aryl;
R 1 to R 10 are hydrogen, alkyl, aryl, halogen, hydroxyl, aryloxy, alkoxy, alkenyl, alkynyl, alkylthio, phosphino, silyl, —COR, —COOR, —PO 3 R 2 , —OPO 3 R 2 and Selected independently from the group consisting of CN;
R is selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, aryl, alkenyl and alkynyl;
Wherein any two adjacent groups R 5 to R 10 can be combined to form a ring.
11.
A process for preparing an aryl-ethyleneacene comprising the steps of:
Formula 2:
Figure 0005155852
Diboron compound
Figure 0005155852
Reacting with a dihaloarylene compound selected from the group consisting of: in the presence of a zero-valent Pd complex to form an aryl-ethyleneacene compound;
Where
m and n are integers each independently having a value of 0 to 3,
R ′ and R ″ are independently H or alkyl;
Hal is independently selected from the group consisting of Cl, Br and I;
Ar ′ is an aryl group,
Q is selected from the group consisting of S, Se, Te, O or NR 0 ;
R 1 , R 2 and R 5 to R 10 are hydrogen, alkyl, aryl, halogen, hydroxyl, aryloxy, alkoxy, alkenyl, alkynyl, amino, alkylthio, phosphino, silyl, —COR, —COOR, —PO 3 R 2 , independently selected from the group consisting of —OPO 3 R 2 and CN;
R is selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, aryl, alkenyl, alkynyl and amino;
R 0 is hydrogen, alkyl or aryl;
A process for preparing an aryl-ethyleneacene, characterized in that any two adjacent groups R 5 to R 10 can be taken together to form a ring.
12
A process for preparing an aryl-ethyleneacene comprising the steps of:
Formula 3:
Figure 0005155852
An aryl-substituted ethylene compound
Figure 0005155852
Reacting with a dihaloarylene compound selected from the group consisting of: in the presence of a zero-valent Pd complex to form an aryl-ethyleneacene compound;
Where
m and n are integers each independently having a value of 0 to 3,
R ′ and R ″ are independently H or alkyl;
Hal is independently selected from the group consisting of Cl, Br and I;
Ar ′ is an aryl group,
Q is selected from the group consisting of S, Se, Te, O and NR 0 ;
R 1 , R 2 and R 5 to R 10 are hydrogen, alkyl, aryl, halogen, hydroxyl, aryloxy, alkoxy, alkenyl, alkynyl, amino, alkylthio, phosphino, silyl, —COR, —COOR, —PO 3 R 2 , independently selected from the group consisting of —OPO 3 R 2 and CN;
R is selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, aryl, alkenyl, alkynyl and amino;
R 0 is hydrogen, alkyl or aryl;
A process for preparing an aryl-ethyleneacene, characterized in that any two adjacent groups R 5 to R 10 can be taken together to form a ring.
13.
A process for preparing an aryl-ethyleneacene comprising the steps of:
Figure 0005155852
Reacting an acene derivative selected from the group consisting of a halo-aryl compound, Ar-Hal, in the presence of a zero-valent Pd complex,
Where
m and n are integers each independently having a value of 0 to 3,
R ′ and R ″ are independently H or alkyl;
Hal is independently selected from the group consisting of Cl, Br and I;
Ar ′ is an aryl group,
Q is selected from the group consisting of S, Se, Te, O and NR 0 ;
R 1 , R 2 and R 5 to R 10 are hydrogen, alkyl, aryl, halogen, hydroxyl, aryloxy, alkoxy, alkenyl, alkynyl, amino, alkylthio, phosphino, silyl, —COR, —COOR, —PO 3 R 2 , independently selected from the group consisting of —OPO 3 R 2 and CN;
R is selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, aryl, alkenyl, alkynyl and amino;
R 0 is hydrogen, alkyl or aryl;
A process for preparing an aryl-ethyleneacene, characterized in that any two adjacent groups R 5 to R 10 can be taken together to form a ring.
14
An organic electronic device comprising a charge transport layer,
The charge transport layer is
Formula 1:
Figure 0005155852
Comprising at least one compound represented by
Ar is an arylene group,
Ar ′ and Ar ″ are independently selected from the group consisting of aryl groups;
R 1 to R 4 are hydrogen, alkyl, aryl, halogen, hydroxyl, aryloxy, alkoxy, alkenyl, alkynyl, amino, alkylthio, phosphino, silyl, —COR, —COOR, —PO 3 R 2 , —OPO 3 R Independently selected from the group consisting of 2 and CN;
R is selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, aryl, alkenyl, alkynyl and amino;
m and n are integers each independently having a value of 0 to 5, m + n ≠ 0,
Furthermore, the organic electronic device characterized by having no diarylamino group.
15.
14. A device as described in
A device wherein Ar is selected from the group consisting of a fused polycyclic aromatic group and an aromatic group having at least two rings joined by a single bond.
16.
14. A device as described in
Ar is
Figure 0005155852
And combinations thereof,
Where
Q is selected from the group consisting of S, Se, Te, O or NR 0 ;
q and r are integers each independently having a value of 0 to 5,
s is an integer having a value of 1 to 5,
R 0 is independently selected from the group consisting of hydrogen, alkyl and aryl;
R 5 to R 10 are hydrogen, alkyl, aryl, halogen, hydroxyl, aryloxy, alkoxy, alkenyl, alkynyl, amino, alkylthio, phosphino, silyl, —COR, —COOR, —PO 3 R 2 , —OPO 3 R Independently selected from the group consisting of 2 and CN;
R is selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, aryl, alkenyl, alkynyl and amino;
Wherein any two neighboring groups R 5 to R 10 can be taken together to form a ring.
17.
14. A device as described in
Ar is 2,6-naphthalene, substituted 2,6-naphthalene, 2,6-anthracene, substituted 2,6-anthracene, 2,6-fluorene, substituted 2,6-fluorene, 2,6-carbazole, substituted 2 , 6-carbazole and a device selected from the group consisting of combinations thereof.
18.
14. A device as described in
Ar ′ and Ar ″ are independently selected from an unsubstituted aryl group and a substituted aryl group, and the substituent of the aryl group is alkyl, aryl, thioalkyl, silyl, alkylaryl, alkoxy, alkyl ether, ether alkyl, fluorine And a device independently selected from the group consisting of these and combinations thereof.
19.
15. The method according to claim 14, further comprising an anode, a cathode, and a photoactive layer disposed therebetween. Device described in.
20.
18. The charge transport layer is a hole transport layer, and is disposed between the photoactive layer and the anode. Device described in.
21.
18. The charge transport layer is an electron transport layer, and is disposed between the photoactive layer and a canode. Device described in.
22.
An organic electronic device comprising an anode, a cathode and a photoactive layer disposed therebetween,
The photoactive layer is
Formula 1:
Figure 0005155852
Comprising at least one compound represented by
Where
Ar is an arylene group,
Ar ′ and Ar ″ are independently selected from the group consisting of aryl groups;
R 1 to R 4 are hydrogen, alkyl, aryl, halogen, hydroxyl, aryloxy, alkoxy, alkenyl, alkynyl, amino, alkylthio, phosphino, silyl, —COR, —COOR, —PO 3 R 2 , —OPO 3 R Independently selected from the group consisting of 2 and CN;
R is selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, aryl, alkenyl, alkynyl and amino;
m and n are integers each independently having a value of 0 to 5, m + n ≠ 0,
Furthermore, the organic electronic device characterized by having no diarylamino group.

ボトムコンタクトモードの有機薄膜トランジスタ(OTFT)の概略図である。It is the schematic of the organic thin-film transistor (OTFT) of bottom contact mode. トップコンタクトモードのOTFTの概略図である。It is the schematic of the OTFT of a top contact mode. OTFTの他の実施形態の概略図である。FIG. 6 is a schematic diagram of another embodiment of an OTFT. OTFTの他の実施形態の概略図である。FIG. 6 is a schematic diagram of another embodiment of an OTFT. ディスプレイデバイスの概略図である。1 is a schematic view of a display device.

Claims (7)

基板と、
絶縁層と、
ゲート電極と、
有機半導体層と、
ソース電極と、
ドレイン電極と
を含む有機薄膜トランジスタであって、
前記有機半導体層は、下記の化合物1、3、36、48−50及び54:
化合物1
Figure 0005155852
化合物3
Figure 0005155852
化合物36
Figure 0005155852
化合物48
Figure 0005155852
化合物49
Figure 0005155852
化合物50
Figure 0005155852
化合物54
Figure 0005155852
からなる群から選択される少なくとも1つの化合物を含むことを特徴とする有機薄膜トランジスタ。
A substrate,
An insulating layer;
A gate electrode;
An organic semiconductor layer;
A source electrode;
An organic thin film transistor including a drain electrode,
The organic semiconductor layer has the following compounds 1, 3, 36, 48-50 and 54:
Compound 1
Figure 0005155852
Compound 3
Figure 0005155852
Compound 36
Figure 0005155852
Compound 48
Figure 0005155852
Compound 49
Figure 0005155852
Compound 50
Figure 0005155852
Compound 54
Figure 0005155852
An organic thin film transistor comprising at least one compound selected from the group consisting of:
下記の化合物1、3、36、48−50又は54:
化合物1
Figure 0005155852
化合物3
Figure 0005155852
化合物36
Figure 0005155852
化合物49
Figure 0005155852
化合物50
Figure 0005155852
化合物54
Figure 0005155852
のいずれかの化合物。
Compound 1, 3, 36, 48-50 or 54 below:
Compound 1
Figure 0005155852
Compound 3
Figure 0005155852
Compound 36
Figure 0005155852
Compound 49
Figure 0005155852
Compound 50
Figure 0005155852
Compound 54
Figure 0005155852
Any of the compounds.
アリール−エチレンアセンを調製する方法であって、
式2:
Figure 0005155852
のジボロン化合物を、
ジハロアリーレン化合物:
Figure 0005155852
と、ゼロ価のPd錯体の存在下で反応させて、アリール−エチレンアセン化合物を形成する工程を含み、
式中、
mは1であり、nは1または2であり、但し、Ar’−が
Figure 0005155852
の場合、nは2であり、
R’およびR”は独立してHまたはアルキルであり、
Halは、Cl、BrおよびIからなる群から独立して選択され、
Ar’はp−位にアルキル置換基を有してもよいフェニル基であり、
1、R2およびR5〜R10は、水素である、
ことを特徴とするアリール−エチレンアセンを調製する方法。
A process for preparing an aryl-ethyleneacene comprising the steps of:
Formula 2:
Figure 0005155852
Diboron compound
Dihaloarylene compounds:
Figure 0005155852
And reacting in the presence of a zero-valent Pd complex to form an aryl-ethyleneacene compound,
Where
m is 1 and n is 1 or 2, provided that Ar′- is
Figure 0005155852
In this case, n is 2,
R ′ and R ″ are independently H or alkyl;
Hal is independently selected from the group consisting of Cl, Br and I;
Ar ′ is a phenyl group which may have an alkyl substituent at the p-position,
R 1 , R 2 and R 5 to R 10 are hydrogen,
A process for the preparation of aryl-ethyleneacenes.
アリール−エチレンアセンを調製する方法であって、
式3:
Figure 0005155852
のアリール置換エチレン化合物を、
Figure 0005155852
からなる群から選択されるジハロアリーレン化合物と、ゼロ価のPd錯体の存在下で反応させて、アリール−エチレンアセン化合物を形成する工程を含み、
式中、
nは1または2であり、
但し、Ar−が
Figure 0005155852
の場合、nは2であり、
R’およびR”は独立してHまたはアルキルであり、
Halは、Cl、BrおよびIからなる群から独立して選択され、
Arはp−位にアルキル置換基を有してもよいフェニル基であり、
1、R2およびR5〜R10は、水素である、
ことを特徴とするアリール−エチレンアセンを調製する方法。
A process for preparing an aryl-ethyleneacene comprising the steps of:
Formula 3:
Figure 0005155852
An aryl-substituted ethylene compound
Figure 0005155852
Reacting with a dihaloarylene compound selected from the group consisting of: in the presence of a zero-valent Pd complex to form an aryl-ethyleneacene compound;
Where
n is 1 or 2,
However, Ar-
Figure 0005155852
In this case, n is 2,
R ′ and R ″ are independently H or alkyl;
Hal is independently selected from the group consisting of Cl, Br and I;
Ar is a phenyl group which may have an alkyl substituent in the p-position;
R 1 , R 2 and R 5 to R 10 are hydrogen,
A process for the preparation of aryl-ethyleneacenes.
アリール−エチレンアセンを調製する方法であって、
Figure 0005155852
または
Figure 0005155852
からなる群から選択されるアセン誘導体を、ハロ−アリール化合物、Ar−Halと、ゼロ価のPd錯体の存在下で反応させる工程を含み、
式中、
mは1であり、nは1または2であり、但し、Ar−が
Figure 0005155852
の場合、nは2であり、
R’およびR”は独立してHまたはアルキルであり、
Halは、Cl、BrおよびIからなる群から独立して選択され、
Arはp−位にアルキル置換基を有してもよいフェニル基であり、
1〜R10は、水素である、
ことを特徴とするアリール−エチレンアセンを調製する方法。
A process for preparing an aryl-ethyleneacene comprising the steps of:
Figure 0005155852
Or
Figure 0005155852
Reacting an acene derivative selected from the group consisting of a halo-aryl compound, Ar-Hal, in the presence of a zero-valent Pd complex,
Where
m is 1 and n is 1 or 2, provided that Ar- is
Figure 0005155852
In this case, n is 2,
R ′ and R ″ are independently H or alkyl;
Hal is independently selected from the group consisting of Cl, Br and I;
Ar is a phenyl group which may have an alkyl substituent in the p-position;
R 1 to R 10 are hydrogen,
A process for the preparation of aryl-ethyleneacenes.
電荷輸送層を含むことを特徴とする有機電子デバイスであって、
該電荷輸送層は
下記の化合物1、3、36、48−50及び54:
化合物1
Figure 0005155852
化合物3
Figure 0005155852
化合物36
Figure 0005155852
化合物48
Figure 0005155852
化合物49
Figure 0005155852
化合物50
Figure 0005155852
化合物54
Figure 0005155852
からなる群から選択される少なくとも1つの化合物を含むことを特徴とする有機電子デバイス。
An organic electronic device comprising a charge transport layer,
The charge transport layer comprises the following compounds 1, 3, 36, 48-50 and 54:
Compound 1
Figure 0005155852
Compound 3
Figure 0005155852
Compound 36
Figure 0005155852
Compound 48
Figure 0005155852
Compound 49
Figure 0005155852
Compound 50
Figure 0005155852
Compound 54
Figure 0005155852
An organic electronic device comprising at least one compound selected from the group consisting of:
アノード、カソードおよびその間に配置された光活性層を含む有機電子デバイスであって、
前記光活性層が、
下記の化合物1、3、36、48−50及び54:
化合物1
Figure 0005155852
化合物3
Figure 0005155852
化合物36
Figure 0005155852
化合物48
Figure 0005155852
化合物49
Figure 0005155852
化合物50
Figure 0005155852
化合物54
Figure 0005155852
からなる群から選択される少なくとも1つの化合物を含むことを特徴とする有機電子デバイス。
An organic electronic device comprising an anode, a cathode and a photoactive layer disposed therebetween,
The photoactive layer is
Compounds 1, 3, 36, 48-50 and 54 below:
Compound 1
Figure 0005155852
Compound 3
Figure 0005155852
Compound 36
Figure 0005155852
Compound 48
Figure 0005155852
Compound 49
Figure 0005155852
Compound 50
Figure 0005155852
Compound 54
Figure 0005155852
An organic electronic device comprising at least one compound selected from the group consisting of:
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