JP5108675B2 - Composite film - Google Patents

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Description

本発明は複合フィルムに関し、さらに詳しくは、ガスバリア性、屈曲性、耐熱性および破壊強度に優れるフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板に適した複合フィルムに関する。   The present invention relates to a composite film, and more particularly to a composite film suitable for a flexible electronic device substrate having excellent gas barrier properties, flexibility, heat resistance and breaking strength.

ポリエステルフィルム、特にポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートの二軸延伸フィルムは、優れた機械的性質、耐熱性、耐薬品性を有するため、磁気テープ、強磁性薄膜テープ、写真フィルム、包装用フィルム、電子部品用フィルム、電気絶縁フィルム、金属ラミネート用フィルム、ガラスディスプレイ等の表面に貼るフィルム、各種部材の保護用フィルム等の素材として広く用いられている。   Polyester films, especially biaxially stretched films of polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, have excellent mechanical properties, heat resistance, and chemical resistance. Therefore, magnetic tape, ferromagnetic thin film tape, photographic film, packaging film, electronic parts It is widely used as a material such as a film for electrical use, an electrical insulation film, a film for metal lamination, a film attached to the surface of a glass display, and a protective film for various members.

液晶ディスプレイに代表される画像表示装置には、従来ガラス基板が用いられてきた。しかし、近年、画像表示装置は薄型、軽量化、大画面化、形状の自由度、曲面表示という要求から、重くて割れやすいガラス基板から高透明高分子フィルム基板への検討が行われてきている。
特に近年では有機ELに代表される自発光素子の開発が進み、液晶ディスプレイのようにバックライトを採用せざるを得ないがために多くの部材を必要とする画像表示装置にとって変わろうとしており、このような用途でもガラスの欠点のひとつである割れ易さや重さを改良したいという要求が年々高まってきている。
Conventionally, a glass substrate has been used for an image display device represented by a liquid crystal display. In recent years, however, image display devices have been studied from heavy and fragile glass substrates to highly transparent polymer film substrates because of demands for thinness, weight reduction, large screen, freedom of shape, and curved surface display. .
In recent years, development of self-luminous elements typified by organic EL has progressed in recent years, and it has been necessary to adopt a backlight like a liquid crystal display, so it is going to change for an image display device that requires many members. Even in such applications, demands for improving the ease of breaking and weight, which are one of the drawbacks of glass, are increasing year by year.

そこで、高分子フィルム基板としてポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート、ポリカーボネートを含む様々な熱可塑性樹脂が検討されているが、これら高分子フィルム基板はガラス基板に較べて一般にガスや水蒸気を透過しやすい。そのため、非常に高いガスバリア性が必要とされる有機ELに代表されるフレキシブルエレクトロニクス分野にこのような高分子フィルム基板を適用するために、基板上にさらにガスバリア層を積層することが検討されている。具体的にはガスバリア層の種類や膜厚、積層構成などが種々検討されており、例えば特許文献1において特定のケイ素系化合物とポリビニルアルコール系ポリマーからなる硬化ポリマー層が提案されているものの、有機ELの基板に用いるためにはさらに高いガスバリア性が必要とされている。   Accordingly, various thermoplastic resins including polypropylene, polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, and polycarbonate have been studied as the polymer film substrate. These polymer film substrates are generally more gas or water vapor than glass substrates. Easy to penetrate. Therefore, in order to apply such a polymer film substrate to the flexible electronics field typified by organic EL, which requires a very high gas barrier property, it is considered to further stack a gas barrier layer on the substrate. . Specifically, various kinds of gas barrier layers, film thicknesses, laminated structures, and the like have been studied. For example, Patent Document 1 proposes a cured polymer layer composed of a specific silicon compound and a polyvinyl alcohol polymer, but is organic. In order to use it for an EL substrate, a higher gas barrier property is required.

一方、薄いガラスに樹脂をコートする技術が検討されており、例えば特許文献2には、薄いガラスに金属酸化物ポリマーを主成分とする樹脂をコートすることにより、フレキシブルなガラスを実現している。しかしながら、バリア性、寸法安定性には優れるものの、耐衝撃性が低く、樹脂被覆層に対してより高い耐久性が求められている。   On the other hand, a technique for coating a thin glass with a resin has been studied. For example, in Patent Document 2, a flexible glass is realized by coating a thin glass with a resin mainly composed of a metal oxide polymer. . However, although excellent in barrier properties and dimensional stability, impact resistance is low, and higher durability is required for the resin coating layer.

このように、有機ELなどのフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板に求められる高いガスバリア性、屈曲性を有し、しかも耐衝撃性にも優れ、基板加工に耐えうる耐熱性を有するフィルム材料が求められているのが現状である。   As described above, there is a demand for a film material having high gas barrier properties and flexibility required for flexible electronic device substrates such as organic EL, excellent impact resistance, and heat resistance that can withstand substrate processing. Is the current situation.

特開平10−111500号公報JP-A-10-111500 特開2004−50565号公報JP 2004-50565 A

本発明の目的は、かかる従来技術の課題を解消し、高いガスバリア性、屈曲性を有し、しかも耐衝撃性などといった破壊強度にも優れ、基板加工に耐えうる耐熱性を有する、フレキシブルエレクトロニクスデバイス基板に適したフィルムを提供することにある。   An object of the present invention is to solve the problems of the prior art, have a high gas barrier property, bendability, excellent fracture strength such as impact resistance, and heat resistance that can withstand substrate processing. The object is to provide a film suitable for a substrate.

本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討した結果、ポリエステルフィルムを用い、薄膜ガラスと積層させることにより、ガスバリア性、屈曲性にすぐれ、しかも耐衝撃性などといった破壊強度および加工耐熱性にも優れたフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板に適した複合フィルムが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have used a polyester film and laminated it with a thin film glass, thereby having excellent gas barrier properties, flexibility, impact strength, and other fracture strength and processing heat resistance. The present inventors have found that a composite film suitable for a flexible electronic device substrate having excellent properties can be obtained, and completed the present invention.

すなわち本発明によれば、本発明の目的は、25μm以上300μm以下の厚みの無機ガラス層(A)およびその少なくとも片面に5μm以上250μm以下の厚みの二軸配向ポリエステルフィルム(B)が積層されてなり、二軸配向ポリエステルフィルム(B)を構成するポリエステルがポリエチレンナフタレンジカルボキシレートであり、二軸配向ポリエステルフィルム(B)の150℃で30分間熱処理した後の長手方向および幅方向の平均熱収縮率が0.05%以上0.10%以下である複合フィルムによって達成される。 That is, according to the present invention, an object of the present invention is to laminate an inorganic glass layer (A) having a thickness of 25 μm to 300 μm and a biaxially oriented polyester film (B) having a thickness of 5 μm to 250 μm on at least one surface thereof. Do Ri, biaxial polyester constituting the oriented polyester film (B) is polyethylene naphthalene dicarboxylate, biaxially oriented polyester film (B) longitudinal direction and the width direction of the average thermal after heat treatment at the 0.99 ° C. 30 minutes shrinkage is achieved by the composite film Ru der 0.10% to 0.05%.

また本発明の複合フィルムは、その好ましい態様として、複合フィルムの50%破壊エネルギーが0.03J以上であること、無機ガラス層(A)と二軸配向ポリエステルフィルム(B)との間に接着層を有すること、のいずれか少なくとも1つを具備する。 The composite film of the present invention, as a preferred embodiment, it is 50% breaking energy of the double coupling film is at least 0.03 J, adhesion between the inorganic glass layer (A) and biaxially oriented polyester film (B) At least one of having a layer.

また本発明は、上記の複合フィルムからなるフレキシブルエレクトロニクスデバイス用基板フィルムを包含する。
さらに本発明は、上記の複合フィルムを含むフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板を包含するものであり、フレキシブルエレクトロニクスデバイスがフレキシブル有機ELディスプレイ、電子ペーパー、太陽電池からなる群から選ばれる少なくとも1つであるものをその好ましい態様として含むものである。
Moreover, this invention includes the board | substrate film for flexible electronic devices which consists of said composite film.
Furthermore, the present invention includes a flexible electronic device substrate including the above composite film, wherein the flexible electronic device is at least one selected from the group consisting of a flexible organic EL display, electronic paper, and a solar cell. It is included as a preferred embodiment.

本発明の複合フィルムは、薄膜ガラス自体が有する高いガスバリア性、屈曲性を阻害せずに、しかも高い破壊強度を有し、基板加工に耐えうる耐熱性を有することから、有機EL、電子ペーパー、太陽電池などのフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板に好適に用いることができる。   The composite film of the present invention has high gas barrier properties and flexibility that the thin glass itself has, and has high fracture strength and heat resistance that can withstand substrate processing. Therefore, organic EL, electronic paper, It can be suitably used for flexible electronic device substrates such as solar cells.

以下、本発明を詳しく説明する。
<無機ガラス層(A)>
本発明の無機ガラス層(A)を構成する無機ガラス層(A)は厚み25μm以上300μm以下の薄膜無機ガラスで構成される。本発明の無機ガラス層(A)は通常のガラス板に較べて非常に薄いことが特徴であり、ガラスでありながら曲げることが可能であり屈曲性を有している。一方、厚みが上限を超えると屈曲性が失われてしまう。また厚みが下限に満たない場合、薄すぎて屈曲性が失われてしまい脆くなる。
The present invention will be described in detail below.
<Inorganic glass layer (A)>
The inorganic glass layer (A) constituting the inorganic glass layer (A) of the present invention is composed of a thin film inorganic glass having a thickness of 25 μm or more and 300 μm or less. The inorganic glass layer (A) of the present invention is characterized by being very thin as compared with a normal glass plate, and can be bent while being glass and has flexibility. On the other hand, if the thickness exceeds the upper limit, the flexibility is lost. On the other hand, if the thickness is less than the lower limit, the film is too thin and the flexibility is lost, which makes it brittle.

無機ガラス層(A)の厚みの下限は、好ましくは50μm、さらに好ましくは75μm、特に好ましくは100μmである。また無機ガラス層(A)の厚みの上限は、好ましくは200μm、さらに好ましくは150μm、特に好ましくは125μmである。
無機ガラスの種類は特に限定されず、通常使用される種類の無機ガラスを使用することができる。
The lower limit of the thickness of the inorganic glass layer (A) is preferably 50 μm, more preferably 75 μm, and particularly preferably 100 μm. The upper limit of the thickness of the inorganic glass layer (A) is preferably 200 μm, more preferably 150 μm, and particularly preferably 125 μm.
The kind of inorganic glass is not particularly limited, and a commonly used kind of inorganic glass can be used.

<二軸配向ポリエステルフィルム>
本発明の二軸配向ポリエステルフィルム(B)を構成するポリエステルは、芳香族二塩基酸またはそのエステル形成性誘導体とジオールまたはそのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルである。
複合フィルムの樹脂補強層を構成する樹脂としてポリエステルを用いることにより、基板として使用する場合に必要な強度、特に衝撃などに対する破壊強度を大幅に向上させることができ、一方、ガスバリア性を低下させる樹脂由来のガスの発生が少なく、屈曲性、耐熱性を阻害することがない。
<Biaxially oriented polyester film>
The polyester constituting the biaxially oriented polyester film (B) of the present invention is a linear saturated polyester synthesized from an aromatic dibasic acid or an ester-forming derivative thereof and a diol or an ester-forming derivative thereof.
By using polyester as the resin constituting the resin reinforcing layer of the composite film, the strength required when used as a substrate, particularly the breaking strength against impacts, etc. can be significantly improved, while the gas barrier property is lowered. There is little generation of gas derived from it, and it does not hinder flexibility and heat resistance.

かかるポリエステルの具体例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ(1,4−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート)、ポリエチレンナフタレンジカルボキシレートを例示することができる。これらのポリエステルのうち、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレンジカルボキシレートが熱的特性、力学的物性や光学物性等のバランスが良いので好ましい。特に、耐熱性が高く、高い機械的強度を有し、またガスバリア性に優れる、などの点でポリエチレンナフタレンジカルボキシレートが好ましい。   Specific examples of the polyester include polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polyethylene isophthalate, polybutylene terephthalate, poly (1,4-cyclohexylenedimethylene terephthalate), and polyethylene naphthalene dicarboxylate. Among these polyesters, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalene dicarboxylate are preferable because they have a good balance of thermal characteristics, mechanical properties, optical properties, and the like. In particular, polyethylene naphthalene dicarboxylate is preferable because it has high heat resistance, high mechanical strength, and excellent gas barrier properties.

ポリエステルは、ホモポリマー、第三成分を共重合した共重合体、他の樹脂とのブレンドのいずれでもよいが、ホモポリマーが好ましい。
ポリエステルが共重合体である場合、共重合成分として、例えば、蓚酸、アジピン酸、フタル酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、テトラリンジカルボン酸、デカリンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸等の如きジカルボン酸成分、p−オキシ安息香酸、p−オキシエトキシ安息香酸の如きオキシカルボン酸、或いはプロピレングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、シクロヘキサンメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ビスフェノールスルホンのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物、ジエチレングリコール、ポリエチレンオキシドグリコールの如きジオール成分を好ましく用いることができる。
The polyester may be a homopolymer, a copolymer obtained by copolymerizing the third component, or a blend with another resin, but a homopolymer is preferred.
When the polyester is a copolymer, examples of copolymer components include oxalic acid, adipic acid, phthalic acid, sebacic acid, dodecanedicarboxylic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 4,4′- Dicarboxylic acid components such as diphenyldicarboxylic acid, phenylindanedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, tetralindicarboxylic acid, decalindicarboxylic acid, diphenyletherdicarboxylic acid, p-oxybenzoic acid, p -Oxycarboxylic acids such as oxyethoxybenzoic acid, or propylene glycol, trimethylene glycol, tetramethylene glycol, hexamethylene glycol, cyclohexanemethylene glycol, neopentyl glycol, bisphenol sulfone A diol component such as ethylene oxide adduct of bisphenol A, ethylene oxide adduct of bisphenol A, diethylene glycol or polyethylene oxide glycol can be preferably used.

これらの共重合成分において、好ましい酸成分として、イソフタル酸、テレフタル酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、p−オキシ安息香酸が例示され、ジオール成分としてはトリメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ビスフェノールスルホンのエチレンオキサイド付加物が例示される。これらの共重合成分は、単独または二種以上を使用することができる。   In these copolymer components, preferred examples of the acid component include isophthalic acid, terephthalic acid, 4,4′-diphenyldicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, and p-oxybenzoic acid. Examples of the diol component include trimethylene glycol, hexamethylene glycol, neopentyl glycol, and ethylene oxide adducts of bisphenol sulfone. These copolymerization components can be used alone or in combination of two or more.

二軸配向ポリエステルフィルムを構成するポリエステルの全酸成分又は全ジオール成分を基準として、主たる成分が95mol%以上であり、共重合成分が5mol%以下であることが好ましい。共重合成分は、3モル%以下の範囲であることがさらに好ましい。   Based on the total acid component or total diol component of the polyester constituting the biaxially oriented polyester film, the main component is preferably 95 mol% or more and the copolymer component is preferably 5 mol% or less. The copolymer component is more preferably in the range of 3 mol% or less.

ポリエステルが共重合体の場合、フィルム製造時の原料は、共重合体、ポリマーブレンドのいずれの形態であってもよい。例えば、ホモポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレートとそれ以外の他のポリエステルとを用意し、これらを溶融混練時にエステル交換させたものであってもよい。   When the polyester is a copolymer, the raw material at the time of film production may be either a copolymer or a polymer blend. For example, homopolyethylene-2,6-naphthalene dicarboxylate and other polyesters other than that may be prepared, and these may be transesterified during melt kneading.

本発明のポリエステルは、従来公知の方法、例えばジカルボン酸とジオールとの反応で直接低重合度ポリエステルを得、続いて重合触媒の存在下で重合反応を行う方法で得ることができる。また、他の従来公知の方法として、ジカルボン酸の低級アルキルエステルとジオールとをエステル交換触媒を用いて反応させた後、続いて重合触媒の存在下で重合反応を行う方法で得ることができる。
重合触媒としては、三酸化アンチモン、五酸化アンチモンのようなアンチモン化合物、二酸化ゲルマニウムで代表されるようなゲルマニウム化合物、テトラエチルチタネート、テトラプロピルチタネート、テトラフェニルチタネートまたはこれらの部分加水分解物、蓚酸チタニルアンモニウム、蓚酸チタニルカリウム、チタントリスアセチルアセトネートのようなチタン化合物を用いることができる。
なお、ポリエステルは、溶融重合後これをチップ化し、加熱減圧下または窒素などの不活性気流中において更に固相重合を施してもよい。
The polyester of the present invention can be obtained by a conventionally known method, for example, a method in which a polyester having a low polymerization degree is directly obtained by a reaction between a dicarboxylic acid and a diol, followed by a polymerization reaction in the presence of a polymerization catalyst. Further, as another conventionally known method, it can be obtained by a method in which a lower alkyl ester of a dicarboxylic acid and a diol are reacted using an ester exchange catalyst, and then a polymerization reaction is performed in the presence of a polymerization catalyst.
Polymerization catalysts include antimony compounds such as antimony trioxide and antimony pentoxide, germanium compounds represented by germanium dioxide, tetraethyl titanate, tetrapropyl titanate, tetraphenyl titanate or partial hydrolysates thereof, and titanyl ammonium oxalate. , Titanium compounds such as potassium titanyl oxalate and titanium trisacetylacetonate can be used.
The polyester may be converted into chips after melt polymerization, and further subjected to solid phase polymerization under heating under reduced pressure or in an inert gas stream such as nitrogen.

ポリエステルの固有粘度は0.40dl/g以上であることが好ましく、上限は高々0.90dl/gであることが更に好ましい。固有粘度が0.40dl/g未満では工程切断が多発することがある。また0.9dl/gより高いと溶融粘度が高いため溶融押出しが困難であるうえ、重合時間が長く不経済である。
また二軸配向フィルムに製膜した後のポリエステルの固有粘度は0.45dl/g以上0.85dl/g以下であることが好ましく、0.47dl/g以上0.80g/dl以下であることがさらに好ましい。
なお、固有粘度はo−クロロフェノールを溶媒として用いて、35℃で測定した値(単位:dl/g)である。
The intrinsic viscosity of the polyester is preferably 0.40 dl / g or more, and the upper limit is more preferably at most 0.90 dl / g. If the intrinsic viscosity is less than 0.40 dl / g, process cutting may occur frequently. On the other hand, if it is higher than 0.9 dl / g, melt extrusion is difficult because of high melt viscosity, and the polymerization time is long and uneconomical.
Further, the intrinsic viscosity of the polyester after being formed on the biaxially oriented film is preferably 0.45 dl / g or more and 0.85 dl / g or less, and preferably 0.47 dl / g or more and 0.80 g / dl or less. Further preferred.
The intrinsic viscosity is a value (unit: dl / g) measured at 35 ° C. using o-chlorophenol as a solvent.

本発明の二軸配向ポリエステルフィルム(B)は、滑剤を含有しないか、含有しても本発明の透明性および接着性の課題に影響を与えないような小粒径、少量であることが好ましい。
滑剤を含有する場合、フィルム(B)の重量を基準として1重量%以下で含有することが好ましい。また滑剤の平均粒径は特に限定されないが、0.001〜1μmであることが好ましい。
また滑剤の種類は特に特定されず、例えば炭酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、シリカ、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、架橋シリコーン樹脂粒子が挙げられる。
The biaxially oriented polyester film (B) of the present invention preferably does not contain a lubricant or has a small particle size and a small amount so as not to affect the transparency and adhesiveness problems of the present invention even if contained. .
When a lubricant is contained, it is preferably contained at 1% by weight or less based on the weight of the film (B). The average particle size of the lubricant is not particularly limited, but is preferably 0.001 to 1 μm.
The type of lubricant is not particularly specified, and examples thereof include calcium carbonate, calcium oxide, aluminum oxide, kaolin, silica, crosslinked acrylic resin particles, crosslinked polystyrene resin particles, melamine resin particles, and crosslinked silicone resin particles.

本発明の二軸配向ポリエステルフィルム(B)は、二軸方向に延伸された配向フィルムであることが必要である。未延伸または一軸ポリエステルフィルムの場合、基板加工温度下で、未延伸方向の温度膨張が大きく、無機ガラス層(A)との貼り合せが剥離する。   The biaxially oriented polyester film (B) of the present invention needs to be an oriented film stretched in the biaxial direction. In the case of an unstretched or uniaxial polyester film, the temperature expansion in the unstretched direction is large at the substrate processing temperature, and the bonding with the inorganic glass layer (A) is peeled off.

本発明における二軸配向ポリエステルフィルム(B)の厚みは、5μm以上250μm以下である。フィルム厚みがかかる範囲内にあることにより、フレキシブルエレクトロニクスデバイスの基板として使用する場合に必要な強度と屈曲性を具備する。該フィルム(B)の厚みが下限に満たない場合は基板に使用したときに十分な強度を発現できない。また該フィルム(B)の厚みが上限をこえる場合は基板に使用したときに自由な屈曲性を得られなくなる。
二軸配向ポリエステルフィルム(B)の厚みは、12μm以上500μm以下であることが好ましく、25μm以上350μm以下であることがさらに好ましく、50μm以上250μm以下であることが特に好ましく、75μm以上125μm以下の範囲が最も好ましい。
The thickness of the biaxially oriented polyester film (B) in the present invention is 5 μm or more and 250 μm or less. When the film thickness is within such a range, the film has the strength and flexibility necessary for use as a substrate for a flexible electronic device. When the thickness of the film (B) is less than the lower limit, sufficient strength cannot be exhibited when used for a substrate. Further, when the thickness of the film (B) exceeds the upper limit, free flexibility cannot be obtained when used for a substrate.
The thickness of the biaxially oriented polyester film (B) is preferably 12 μm or more and 500 μm or less, more preferably 25 μm or more and 350 μm or less, particularly preferably 50 μm or more and 250 μm or less, and in the range of 75 μm or more and 125 μm or less. Is most preferred.

二軸配向ポリエステルフィルム(B)は、150℃で30分間熱処理した後の長手方向および幅方向の平均熱収縮率が0.0%以上1.0%以下であることが好ましく、0.01%以上0.60%以下の範囲であることがさらに好ましく、0.05%以上0.10%未満であることが特に好ましい。フィルム(B)の該熱収縮率がかかる範囲にあることにより、複合フィルムを用いて基板加工を行った際にフィルムの熱収縮に起因するフィルム剥がれやそりが生じにくくなる。
<複合フィルム>
本発明の複合フィルムは、無機ガラス層(A)およびその少なくとも片面に二軸配向ポリエステルフィルム(B)が積層されてなる複合フィルムであり、該ガラス層(A)の厚みが25μm以上300μm以下であり、該フィルム(B)の厚みが5μm以上250μm以下である。
The biaxially oriented polyester film (B) preferably has an average heat shrinkage of 0.0% or more and 1.0% or less in the longitudinal direction and width direction after heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes, 0.01% The range is more preferably 0.60% or less and particularly preferably 0.05% or more and less than 0.10%. When the thermal contraction rate of the film (B) is within such a range, when the substrate processing is performed using the composite film, film peeling or warping due to the thermal contraction of the film is less likely to occur.
<Composite film>
The composite film of the present invention is a composite film formed by laminating an inorganic glass layer (A) and a biaxially oriented polyester film (B) on at least one surface thereof, and the thickness of the glass layer (A) is 25 μm or more and 300 μm or less. And the thickness of the film (B) is 5 μm or more and 250 μm or less.

複合フィルムが無機ガラス層(A)を有することで、高いガスバリア性、屈曲性、基板加工に耐えうる耐熱性が発現し、二軸配向ポリエステルフィルム(B)を有することで、基板として使用する場合に必要な強度、特に衝撃などに対する破壊強度を大幅に向上させることができ、一方、ガスバリア性を低下させる樹脂由来のガスの発生が少なく、屈曲性、耐熱性を阻害することがない。   When the composite film has an inorganic glass layer (A), high gas barrier properties, flexibility, and heat resistance that can withstand substrate processing are expressed, and when it has a biaxially oriented polyester film (B), it is used as a substrate In addition, the strength required for heat treatment, particularly the breaking strength against impact, etc., can be greatly improved. On the other hand, there is little generation of resin-derived gas that lowers the gas barrier property, and the flexibility and heat resistance are not hindered.

また該フィルム(B)を構成するポリエステルがポリエチレンナフタレンジカルボキシレートである場合、さらに破壊強度が向上し、一方で、さらにガスバリア性、屈曲性を高め、加工温度を高めることができる。   Moreover, when polyester which comprises this film (B) is a polyethylene naphthalene dicarboxylate, fracture strength improves further, on the other hand, gas barrier property and flexibility can be improved further, and processing temperature can be raised.

(破壊強度)
複合フィルムの50%破壊エネルギーは、0.03J以上であることが好ましい。複合フィルムの50%破壊エネルギーは、0.04J以上であることがより好ましく、0.05J以上であることがさらに好ましく、0.10J以上であることが特に好ましい。また、複合フィルムの50%破壊エネルギーは、上限は特に限定されないが、二軸配向ポリエステルフィルムの特性上、高々0.6Jである。
(destruction strength)
The 50% breaking energy of the composite film is preferably 0.03 J or more. The 50% breaking energy of the composite film is more preferably 0.04 J or more, further preferably 0.05 J or more, and particularly preferably 0.10 J or more. The upper limit of the 50% fracture energy of the composite film is not particularly limited, but is at most 0.6 J due to the characteristics of the biaxially oriented polyester film.

複合フィルムの50%破壊エネルギーが下限に満たない場合は、基板として使用する場合に十分な強度、特に衝撃などに対する破壊強度が発現し、基板性能を高めることができないことがある。一方、複合フィルムの50%破壊エネルギーは、本発明の複合フィルムを構成する材料の特性上、その上限は自ずと定まるものである。   When the 50% breaking energy of the composite film is less than the lower limit, sufficient strength when used as a substrate, in particular, breaking strength against impact, etc. may be exhibited, and the substrate performance may not be improved. On the other hand, the upper limit of the 50% fracture energy of the composite film is naturally determined due to the characteristics of the material constituting the composite film of the present invention.

本発明の50%破壊エネルギーはJIS規格K7211に基いて求められる。
かかる50%破壊エネルギーを有するフィルムは、無機ガラス層を保護する樹脂層として5μm以上250μm以下の厚みの二軸配向ポリエステルフィルムを用いることによって達成することができる。
The 50% fracture energy of the present invention is determined based on JIS standard K7211.
Such a film having 50% fracture energy can be achieved by using a biaxially oriented polyester film having a thickness of 5 μm or more and 250 μm or less as a resin layer for protecting the inorganic glass layer.

<接着層>
本発明の複合フィルムは、無機ガラス層(A)と二軸配向ポリエステルフィルム(B)との間に接着層を有することが好ましい。接着層を有することにより、無機ガラス層(A)と二軸配向ポリエステルフィルム(B)を積層する際、容易に両層を接着することができ、接着工程において厚みの薄い無機ガラス層(A)に無理な負荷がかかりにくいため、破壊を防ぎやすくなる。また該接着層を有することにより、複合フィルムの破壊強度を高めることができる。
<Adhesive layer>
The composite film of the present invention preferably has an adhesive layer between the inorganic glass layer (A) and the biaxially oriented polyester film (B). By having the adhesive layer, when laminating the inorganic glass layer (A) and the biaxially oriented polyester film (B), both layers can be easily adhered, and the thin inorganic glass layer (A) in the adhesion process. Because it is difficult to apply an excessive load to the battery, it is easy to prevent destruction. Further, by having the adhesive layer, the breaking strength of the composite film can be increased.

接着層の具体例として、二軸配向ポリエステルフィルム(B)の製膜工程内において塗布により設けられた塗布層、無機ガラス層(A)と二軸配向ポリエステルフィルム(B)を積層させる際に新たに挿入する接着剤層が挙げられる。   As a specific example of the adhesive layer, a coating layer provided by coating in the process of forming the biaxially oriented polyester film (B), an inorganic glass layer (A), and a new biaxially oriented polyester film (B) are laminated. And an adhesive layer to be inserted into.

(塗布層)
塗布層は、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ビニル系樹脂から選ばれる少なくとも1種の水溶性または水分散性高分子樹脂からなることが好ましく、特にポリエステル樹脂とアクリル樹脂の両方を含むのが好ましい。塗布層のポリエステル樹脂は、ガラス転移点(Tg)が0〜100℃、更に好ましくは10〜90℃のものである。該ポリエステル樹脂は、水に可溶性または分散性のポリエステルが好ましい。
(Coating layer)
The coating layer is preferably made of at least one water-soluble or water-dispersible polymer resin selected from polyester resins, urethane resins, acrylic resins, and vinyl resins, and particularly includes both polyester resins and acrylic resins. preferable. The polyester resin of the coating layer has a glass transition point (Tg) of 0 to 100 ° C, more preferably 10 to 90 ° C. The polyester resin is preferably water-soluble or dispersible polyester.

かかるポリエステル樹脂としては、以下のような多塩基酸またはそのエステル形成誘導体と、ポリオールまたはそのエステル形成誘導体から成る。
多塩基酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、2、6ーナフタレンジカルボン酸、1、4ーシクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸等が挙げられる。これら酸成分を2種以上用いて共重合ポリエステル樹脂を合成する。
Such a polyester resin is composed of the following polybasic acid or its ester-forming derivative and polyol or its ester-forming derivative.
Polybasic acid components include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, phthalic anhydride, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, Examples include dimer acid and 5-sodium sulfoisophthalic acid. A copolymer polyester resin is synthesized using two or more of these acid components.

また、ポリオール成分としては、エチレングリコール、1、4ーブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、1、6ーヘキサンジオール、1、4ーシクロヘキサンジメタノール、キシレングリコール、ジメチロールプロパン、ポリ(エチレンオキシド)グリコール、ポリ(テトラメチレンオキシド)グリコール、ビスフェノールA、ビスフェノールAのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド付加体等が挙げられる。また、これらモノマーが挙げられるがこれらに限定されるものではない。   The polyol component includes ethylene glycol, 1,4-butanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, xylene glycol, dimethylolpropane, poly (ethylene oxide) glycol, poly Examples include (tetramethylene oxide) glycol, bisphenol A, ethylene oxide or propylene oxide adducts of bisphenol A, and the like. Moreover, although these monomers are mentioned, it is not limited to these.

本発明で用いる塗布層のアクリル樹脂は、ガラス転移点(Tg)が−50〜50℃、更に好ましくは−50〜25℃のものである。該アクリル樹脂は、水に可溶性または分散性のアクリルが好ましい。   The acrylic resin of the coating layer used in the present invention has a glass transition point (Tg) of -50 to 50 ° C, more preferably -50 to 25 ° C. The acrylic resin is preferably water-soluble or dispersible acrylic.

このアクリルモノマーとしては、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート(アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、2ーエチルヘキシル基、シクロヘキシル基等);2ーヒドロキシエチルアクリレート、2ーヒドロキシエチルメタクリレート、2ーヒドロキシプロピルアクリレート、2ーヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシ含有モノマー;グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有モノマー;アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩(ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等)等のカルボキシ基またはその塩を含有するモノマー;アクリルアミド、メタクリルアミド、N−アルキルアクリルアミド、N−アルキルメタクリルアミド、N、N−ジアルキルアクリルアミド、N、N−ジアルキルメタクリレート(アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等)、Nーアルコキシアクリルアミド、N−アルコキシメタクリルアミド、N、N−ジアルコキシアクリルアミド、N、N−ジアルコキシメタクリルアミド(アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基等)、アクリロイルモルホリン、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、 N−フェニルメタクリルアミド等のアミド基を含有するモノマー;無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物のモノマー;ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、スチレン、αーメチルスチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマール酸モノエステル、アルキルイタコン酸モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニリデン、エチレン、プロピレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ブタジエン等のモノマーが挙げられる。   Examples of the acrylic monomer include alkyl acrylate, alkyl methacrylate (alkyl groups include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, t-butyl, 2-ethylhexyl, and cyclohexyl. Groups); hydroxy-containing monomers such as 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, and 2-hydroxypropyl methacrylate; epoxy group-containing monomers such as glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, and allyl glycidyl ether; Acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, styrenesulfonic acid and its salts (sodium salt, potassium salt, ammonium salt, tertiary amine salt) ) Or other carboxy group or a salt thereof; acrylamide, methacrylamide, N-alkylacrylamide, N-alkylmethacrylamide, N, N-dialkylacrylamide, N, N-dialkylmethacrylate (the alkyl group is a methyl group) , Ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, 2-ethylhexyl group, cyclohexyl group, etc.), N-alkoxyacrylamide, N-alkoxymethacrylamide, N, N- Dialkoxyacrylamide, N, N-dialkoxymethacrylamide (alkoxy groups include methoxy, ethoxy, butoxy, isobutoxy, etc.), acryloylmorpholine, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide Monomers containing amide groups such as N-phenylacrylamide and N-phenylmethacrylamide; monomers of acid anhydrides such as maleic anhydride and itaconic anhydride; vinyl isocyanate, allyl isocyanate, styrene, α-methyl styrene, vinyl methyl ether, Monomers such as vinyl ethyl ether, vinyl trialkoxysilane, alkylmaleic acid monoester, alkyl fumaric acid monoester, alkylitaconic acid monoester, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinylidene chloride, ethylene, propylene, vinyl chloride, vinyl acetate, butadiene Is mentioned.

本発明で用いられる上記組成物は、塗膜を形成させるために、水溶液、水分散液或いは乳化液等の水性塗液の形態で使用されるのが好ましい。塗膜を形成するために、必要に応じて、前記組成物以外の他の樹脂、例えばオキサゾリン基を有する重合体、メラミン、エポキシ、アジリジン等の架橋剤、帯電防止剤、着色剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、滑剤(フィラー、ワックス)などを添加することができる。特に、滑剤を添加することで滑性、耐ブロッキング性が更に良化することができる。   The composition used in the present invention is preferably used in the form of an aqueous coating solution such as an aqueous solution, an aqueous dispersion or an emulsion to form a coating film. In order to form a coating film, if necessary, other resins than the above composition, for example, a polymer having an oxazoline group, a cross-linking agent such as melamine, epoxy, aziridine, an antistatic agent, a colorant, a surfactant. UV absorbers, lubricants (fillers, waxes) and the like can be added. In particular, the lubricity and blocking resistance can be further improved by adding a lubricant.

水性塗液の固形分濃度は、通常20重量%以下であり、更には1重量%以上10重量%以下であることが好ましい。この割合が下限に満たないと、塗布層が均一に形成されないことがり、一方、上限を越えると塗剤の安定性や塗布外観が悪化することがある。
かかる塗布層は、後述するように二軸配向ポリエステルフィルム(B)の製膜工程において設けることができる。その後、塗布層を介して無機ガラス層(A)と二軸配向ポリエステルフィルム(B)を積層し、複合フィルムにすることができる。
The solid content concentration of the aqueous coating liquid is usually 20% by weight or less, and more preferably 1% by weight or more and 10% by weight or less. If this ratio is less than the lower limit, the coating layer may not be formed uniformly. On the other hand, if the ratio exceeds the upper limit, the stability of the coating material and the coating appearance may be deteriorated.
Such a coating layer can be provided in the film-forming step of the biaxially oriented polyester film (B) as will be described later. Then, an inorganic glass layer (A) and a biaxially oriented polyester film (B) can be laminated | stacked through a coating layer, and it can be set as a composite film.

(接着剤層)
本発明の接着剤層は、ガラス及びポリエステルと接着力を有する接着剤を用いた層であれば特に限定されないが、例えば熱圧着させるタイプの接着剤、熱または紫外線で硬化させるタイプの接着剤を用いた層が挙げられる。
(Adhesive layer)
The adhesive layer of the present invention is not particularly limited as long as it is a layer using an adhesive having an adhesive force with glass and polyester. For example, an adhesive that is thermocompression-bonded, or an adhesive that is cured by heat or ultraviolet rays is used. The layer used is mentioned.

硬化タイプの接着剤として、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイソシアネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリフェニルエーテル樹脂、脂環式オレフィン重合体などが挙げられる。これらの中で、好ましくは、接着層がアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂及びポリアミド樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種を主たる成分とする接着剤で構成されることが好ましい。
接着剤層の厚みは特に限定されないが、好ましくは3μm以上50μm以下の範囲である。
Examples of the curable adhesive include epoxy resin, phenol resin, acrylic resin, polyimide resin, polyamide resin, polyisocyanate resin, polyester resin, polyphenyl ether resin, and alicyclic olefin polymer. Among these, it is preferable that the adhesive layer is preferably composed of an adhesive mainly containing at least one selected from the group consisting of an acrylic resin, an epoxy resin, a polyimide resin, and a polyamide resin.
Although the thickness of an adhesive bond layer is not specifically limited, Preferably it is the range of 3 micrometers or more and 50 micrometers or less.

接着剤層は、無機ガラス層(A)と二軸配向ポリエステルフィルム(B)を積層する際、接着剤層を介して積層し、複合フィルムにすることができる。   When laminating the inorganic glass layer (A) and the biaxially oriented polyester film (B), the adhesive layer can be laminated via the adhesive layer to form a composite film.

<フィルム(B)の製膜方法>
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは下記の方法により製造することができる。
二軸配向ポリエステルフィルムは、例えば前出のポリエステルをフィルム状に溶融押出し、キャスティングドラムで冷却固化させて未延伸フィルムとし、この未延伸フィルムをTg〜(Tg+60)℃で縦方向、横方向に倍率2.0〜5.0倍で2軸方向に延伸し、(Tm−100)〜(Tm―5)℃の温度で1〜100秒間熱固定することで所望のフィルムを得ることができる。ここでTgはポリエステルのガラス転移温度、Tmはポリエステルの融点をそれぞれ表す。
延伸は一般に用いられる方法、例えばロールによる方法やステンターを用いる方法で行うことができ、縦方向、横方向を同時に延伸してもよく、また縦方向、横方向に逐次延伸してもよい。
<Film (B) film forming method>
The biaxially oriented polyester film of the present invention can be produced by the following method.
The biaxially oriented polyester film is obtained by, for example, melt-extruding the above polyester into a film shape and cooling and solidifying it with a casting drum to form an unstretched film. This unstretched film is stretched in the vertical and horizontal directions from Tg to (Tg + 60) ° C. A desired film can be obtained by stretching in the biaxial direction at 2.0 to 5.0 times and heat-setting at a temperature of (Tm-100) to (Tm-5) ° C. for 1 to 100 seconds. Here, Tg represents the glass transition temperature of the polyester, and Tm represents the melting point of the polyester.
Stretching can be performed by a generally used method, for example, a method using a roll or a method using a stenter. The stretching may be performed simultaneously in the longitudinal direction and the transverse direction, or may be sequentially performed in the longitudinal direction and the transverse direction.

さらに弛緩処理を行う場合は、加熱処理をフィルムの(X−80)〜X℃の温度において行うことができる。ここでXは熱固定温度を表す。
弛緩処理の方法としては、テンターにより両エッジを保持し、オーブン内で長手方向にはクリップ間隔を狭めて、幅方向にはレール幅を狭めて弛緩処理する方法を用いることが好ましい。かかる方法を用いることにより、幅方向の耐熱寸法安定性も容易にコントロールすることができる。
その他、以下のような弛緩処理方法を用いてもよい。
i)熱固定後、ロールに巻き取るまでの間で、熱固定ゾーンの途中において、フィルムの両端部を切り離し、フィルムの供給速度に対して引き取り速度を減速させる方法。
ii)2つの速度の異なる搬送ロールの間においてIRヒーターで加熱する方法。
iii)加熱搬送ロール上にフィルムを搬送させ、加熱搬送ロール後の搬送ロールの速度を減速させる方法。
iv)熱固定後、熱風を吹き出すノズルの上にフィルムを搬送させながら、供給の速度よりも引き取りの速度を減速する方法。
v)製膜機で巻き取った後、加熱搬送ロール上にフィルムを搬送させ、搬送ロールの速度を減速する方法。
vi)加熱オーブン内やIRヒーターによる加熱ゾーンを搬送させながら、加熱ゾーン後のロール速度を加熱ゾーン前のロール速度より減速する方法。
Furthermore, when performing a relaxation | loosening process, heat processing can be performed in the temperature of (X-80)-X degreeC of a film. Here, X represents a heat setting temperature.
As a method for the relaxation treatment, it is preferable to use a method in which both edges are held by a tenter, and the clip interval is narrowed in the longitudinal direction in the oven and the rail width is narrowed in the width direction to perform the relaxation treatment. By using this method, the heat-resistant dimensional stability in the width direction can be easily controlled.
In addition, the following relaxation treatment method may be used.
i) A method in which both ends of the film are cut off in the middle of the heat setting zone until the film is wound on a roll after heat setting, and the take-up speed is reduced with respect to the film supply speed.
ii) A method of heating with an IR heater between two conveying rolls having different speeds.
iii) A method of transporting the film onto the heated transport roll and decelerating the speed of the transport roll after the heated transport roll.
iv) A method of lowering the take-up speed than the supply speed while transporting the film on a nozzle that blows hot air after heat setting.
v) A method in which the film is transported on a heated transport roll after being wound up by a film forming machine, and the speed of the transport roll is reduced.
vi) A method in which the roll speed after the heating zone is decelerated from the roll speed before the heating zone while conveying the heating zone in the heating oven or by the IR heater.

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの熱収縮率は、上述の延伸倍率でフィルムを延伸し、熱固定処理を施すことにより達成され、さらに弛緩処理を施すことによって熱収縮率を低減することができる。   The heat shrinkage rate of the biaxially oriented polyester film of the present invention is achieved by stretching the film at the above-mentioned draw ratio and applying a heat setting treatment, and further reducing the heat shrinkage rate by applying a relaxation treatment. .

接着層として塗布層を設ける場合、以下の方法で塗設することができる。
逐次延伸の場合、一方向に延伸した一軸配向フィルムに水性塗液を塗布し、そのままもう一方向に延伸し、熱固定する方法により塗布層を設けることができる。
塗布方法としては、公知の任意の塗布法が適用できる。例えばロールコート法、グラビアコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法及びカーテンコート法などを単独または組み合わせて用いることができる。塗布量は、走行しているフイルム1m2あたり0.5〜20g、更に1〜10gが好ましい。水性液は水分散液又は乳化液として用いるのが好ましい。
When providing an application layer as an adhesive layer, it can be applied by the following method.
In the case of sequential stretching, the coating layer can be provided by a method in which an aqueous coating liquid is applied to a uniaxially oriented film stretched in one direction, stretched in another direction as it is, and heat-set.
As the coating method, any known coating method can be applied. For example, a roll coating method, a gravure coating method, a roll brush method, a spray coating method, an air knife coating method, an impregnation method, and a curtain coating method can be used alone or in combination. The coating amount is preferably 0.5 to 20 g, more preferably 1 to 10 g per 1 m 2 of the running film. The aqueous liquid is preferably used as an aqueous dispersion or emulsion.

<複合フィルムの製造方法>
本発明の複合フィルムは下記の方法により製造することができる。
複合フィルムは、無機ガラス層(A)と二軸配向ポリエステルフィルム(B)とを別々に製造し、それらをさらに別の工程で積層させることにより製造することができる。
両層を積層するに際し、接着層を介して積層することが好ましい。
<Production method of composite film>
The composite film of the present invention can be produced by the following method.
The composite film can be produced by separately producing the inorganic glass layer (A) and the biaxially oriented polyester film (B) and laminating them in a further step.
When laminating both layers, it is preferable to laminate via an adhesive layer.

塗布層を有する二軸配向ポリエステルフィルム(B)と無機ガラス層(A)とを積層する場合は、該塗布層を介して両層を積層し、加熱したラミネータで熱圧着し、積層体にする方法が好ましい。
その他、接着剤層を用い、接着剤層を介して無機ガラス層(A)と二軸配向ポリエステルフィルム(B)とを積層し、接着剤の種類に応じて熱圧着、熱硬化、UV硬化させて積層体を得る方法が挙げられる。
When laminating the biaxially oriented polyester film (B) having an application layer and the inorganic glass layer (A), both layers are laminated via the application layer, and thermocompression bonded with a heated laminator to form a laminate. The method is preferred.
In addition, using an adhesive layer, the inorganic glass layer (A) and the biaxially oriented polyester film (B) are laminated via the adhesive layer, and thermocompression bonding, thermosetting, and UV curing are performed according to the type of adhesive. To obtain a laminate.

<用途>
本発明の複合フィルムは、フレキシブルエレクトロニクスデバイスの基板フィルムに好適に用いることができる。フレキシブルエレクトロニクスデバイスの種類として、フレキシブル有機ELディスプレイ、電子ペーパー、太陽電池、反射型液晶、有機TFT、フレキシブルプリント回路などが例示され、これらの中でも特にフレキシブル有機ELディスプレイ、電子ペーパー及び太陽電池からなる群から選ばれる少なくとも1種が好ましく例示される。
<Application>
The composite film of this invention can be used suitably for the substrate film of a flexible electronic device. Examples of flexible electronic devices include flexible organic EL displays, electronic paper, solar cells, reflective liquid crystals, organic TFTs, flexible printed circuits, etc. Among these, the group consisting of flexible organic EL displays, electronic paper, and solar cells, among others. At least one selected from the group is preferably exemplified.

また本発明は、本発明の複合フィルムを含むフレキシブルエレクトロニクスデバイス用基板を包含するものである。
本発明の複合フィルムをフレキシブルエレクトロニクスデバイス用基板に用いた場合、従来の樹脂フィルムでは得られなかった、高いガスバリア性を有しつつ、フレキシブルエレクトロニクデバイス基板に求められる柔軟性、基板加工に耐えられる耐熱性を備え、しかもガラスに樹脂をコートした従来の複合体では得られなかった破壊強度をも備えるものである。
Moreover, this invention includes the board | substrate for flexible electronic devices containing the composite film of this invention.
When the composite film of the present invention is used for a substrate for a flexible electronic device, it has a high gas barrier property that cannot be obtained with a conventional resin film, and can withstand flexibility and substrate processing required for a flexible electronic device substrate. It has heat resistance and also has a breaking strength that could not be obtained with conventional composites in which glass is coated with a resin.

以下、実施例により本発明を詳述するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、各特性値は以下の方法で測定した。また、実施例中の部および%は、特に断らない限り、それぞれ重量部および重量%を意味する。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited only to these Examples. Each characteristic value was measured by the following method. Moreover, unless otherwise indicated, the part and% in an Example mean a weight part and weight%, respectively.

(1)フィルム厚み
電子マイクロメータ(アンリツ(株)製の商品名「K−312A型」)を用いて針圧30gにてフィルム厚みを測定した。
(1) Film thickness Film thickness was measured at 30 g of needle pressure using an electronic micrometer (trade name “K-312A type” manufactured by Anritsu Corporation).

(2)熱収縮率
フィルムサンプルに30cm間隔で標点をつけ、荷重をかけずに150℃に設定したオーブンで30分間熱処理を行い、熱処理後の標点間隔を測定して、フィルム連続製膜方向(MD方向)と、製膜方向に垂直な方向(TD方向)において、それぞれ下記式にて熱収縮率を算出し、それらの平均値を求めた。
熱収縮率(%)={(熱処理前標点間距離−熱処理後標点間距離)/熱処理前標点間距離}×100
(2) Thermal shrinkage rate Film samples were marked at intervals of 30 cm, heat-treated for 30 minutes in an oven set at 150 ° C. without applying a load, and the distance between the marks after heat treatment was measured. In each of the direction (MD direction) and the direction perpendicular to the film forming direction (TD direction), the thermal contraction rate was calculated by the following formula, and the average value thereof was obtained.
Thermal contraction rate (%) = {(distance between the pre-heat treatment gauge points−distance between the heat treatment gauge points) / distance between the heat treatment gauge points} × 100

(3)ガスバリア性
MOCON社製のパーマトランW1Aを用いて40℃90RH%雰囲気下における水蒸気透過率を測定し、下記基準にて評価した。
〇: 水蒸気透過率≦0.05g/m/day ・・・・バリア性極めて良好
×: 0.05g/m/day<水蒸気透過率 ・・・・バリア性不良
(3) Gas barrier property Permetran W1A manufactured by MOCON was used to measure the water vapor transmission rate in an atmosphere of 40 ° C and 90 RH% and evaluated according to the following criteria.
◯: Water vapor transmission rate ≦ 0.05 g / m 2 / day... Very good barrier property. X: 0.05 g / m 2 / day <water vapor transmission rate.

(4)屈曲性
複合フィルムを50cm長のシートに切り出し、シートの両端部が重なるようシートを丸めて、下記の基準で判断した。
○: 割れることなくシートを丸めることができ、十分な柔軟性を有している
×: 途中でシートが割れてしまい、十分な柔軟性を有していない
(4) Flexibility The composite film was cut into a sheet having a length of 50 cm, the sheets were rounded so that both ends of the sheet overlapped, and judged according to the following criteria.
○: The sheet can be rolled without cracking and has sufficient flexibility. ×: The sheet is broken on the way and does not have sufficient flexibility.

(5)耐熱性
150℃×30分熱処理した際の複合フィルムの状態を以下のような基準にて観察した。
○:ガラス/フィルム間での剥がれ、反りなし (耐熱性良好)
×:ガラス/フィルム間での剥がれ、反り発生 (耐熱性不良)
(5) Heat resistance The state of the composite film when heat-treated at 150 ° C. for 30 minutes was observed according to the following criteria.
○: No peeling or warping between glass / film (good heat resistance)
×: Peeling between glass / film, warping (heat resistance failure)

(6)50%破壊エネルギー
フィルムの50%破壊エネルギーE(J)を、図1の装置にて測定し、JIS規格 K7211に基づき算出した。なお、図1中の1はおもり(質量300gまたは500g)、2はU型ポンチ(先端部直径4mm、質量142g)、3はフィルム固定治具、4は試料フィルムである。
(6) 50% fracture energy The 50% fracture energy E (J) of the film was measured with the apparatus of FIG. 1 and calculated based on JIS standard K7211. In FIG. 1, 1 is a weight (mass 300 g or 500 g), 2 is a U-type punch (tip diameter 4 mm, mass 142 g), 3 is a film fixing jig, and 4 is a sample film.

[実施例1]
ナフタレン−2,6−ジカルボン酸ジメチルおよびエチレングリコールをモノマー原料として用い、エステル交換後、重縮合反応を行って得られた、粒子を含有しないポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート(固有粘度0.61dl/g)を(B)層のポリエステルとして用いた。エステル交換触媒として酢酸マンガン四水塩、重縮合触媒として三酸化アンチモンを用いた。
[Example 1]
Polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate containing no particles (obtained with 0 intrinsic viscosity) obtained by conducting polycondensation reaction after transesterification using dimethyl naphthalene-2,6-dicarboxylate and ethylene glycol as monomer raw materials .61 dl / g) was used as the polyester for layer (B). Manganese acetate tetrahydrate was used as the transesterification catalyst, and antimony trioxide was used as the polycondensation catalyst.

得られたポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレートのペレットを170℃で6時間乾燥後、押出機ホッパーに供給し、溶融温度305℃で溶融し、平均目開きが17μmのステンレス鋼細線フィルターで濾過し、3mmのスリット状ダイを通して表面温度60℃の回転冷却ドラム上で押出し、急冷して未延伸フィルムを得た。このようにして得られた未延伸フィルムを120℃にて予熱し、さらに低速、高速のロール間で15mm上方より900℃のIRヒーターで加熱して縦方向に3.1倍に延伸した。続いてテンターに供給し、145℃にて横方向に3.3倍に延伸した。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを240℃の温度で40秒間熱固定し厚み100μmのポリエステルフィルムを得た。   The obtained polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate pellets were dried at 170 ° C. for 6 hours, then fed to an extruder hopper, melted at a melting temperature of 305 ° C., and a stainless steel fine wire filter having an average opening of 17 μm. The solution was filtered, extruded through a 3 mm slit die on a rotary cooling drum having a surface temperature of 60 ° C., and rapidly cooled to obtain an unstretched film. The unstretched film thus obtained was preheated at 120 ° C., and further heated by a 900 ° C. IR heater 15 mm above between low-speed and high-speed rolls and stretched 3.1 times in the longitudinal direction. Subsequently, it was supplied to a tenter and stretched 3.3 times in the transverse direction at 145 ° C. The obtained biaxially oriented polyester film was heat-fixed at a temperature of 240 ° C. for 40 seconds to obtain a polyester film having a thickness of 100 μm.

続いて、フィルムの両エッジをクリップで保持出来るテンター式のオーブンにおいて、得られたフィルムの両エッジを保持させながら、処理温度200℃、長手方向(MD方向)弛緩率1.0%、幅方向(TD方向)弛緩率1.0%で弛緩処理(アニール処理と称することがある)を行った。   Subsequently, in a tenter type oven that can hold both edges of the film with clips, while holding both edges of the obtained film, the processing temperature is 200 ° C., the longitudinal direction (MD direction) relaxation rate is 1.0%, and the width direction. (TD direction) Relaxation treatment (sometimes referred to as annealing treatment) was performed at a relaxation rate of 1.0%.

得られた二軸配向ポリエステルフィルムを100μm厚みの極薄ガラス板に、粘着剤として、綜研化学株式会社製の「SKダイン1499M」(アクリル酸エステル樹脂・酢酸エチルの二液架橋型アクリル系粘着剤)および硬化剤「D−90」(綜研化学株式会社製)を100:1の割合で混合して用い、ラミネータを用いて貼り合せた。
得られた複合フィルムの特性を表1に示す。本実施例の複合フィルムは、ガスバリア性、耐熱性、破壊強度、及び柔軟性に優れていた。
The obtained biaxially oriented polyester film was applied to an ultra-thin glass plate having a thickness of 100 μm as an adhesive with “SK Dyne 1499M” (acrylic ester resin / ethyl acetate two-component cross-linking acrylic adhesive) ) And a curing agent “D-90” (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) were mixed at a ratio of 100: 1 and bonded together using a laminator.
The properties of the obtained composite film are shown in Table 1. The composite film of this example was excellent in gas barrier properties, heat resistance, breaking strength, and flexibility.

[実施例2,4,6,7、比較例5,6
二軸配向ポリエステルフィルムの延伸条件、熱固定温度、アニール処理(弛緩処理)、ポリエステルの種類および複合フィルムの層構成を表1に示すように変更した以外は実施例1と同様の操作を行った。得られたフィルムの特性を表1に示す。なお、比較例6はポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレートの代わりにポリエチレンテレフタレートを用いた。
[Examples 2 , 4, 6, 7 and Comparative Examples 5, 6 ]
The same operation as in Example 1 was carried out except that the stretching conditions, heat setting temperature, annealing treatment (relaxation treatment), polyester type and layer structure of the composite film were changed as shown in Table 1. . The properties of the obtained film are shown in Table 1. In Comparative Example 6 , polyethylene terephthalate was used instead of polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate.

[比較例1]
無機ガラス層、接着層を用いず、二軸配向ポリエステルフィルムの厚みを変更した以外は実施例1と同様の操作を行った。その結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
The same operation as in Example 1 was performed except that the thickness of the biaxially oriented polyester film was changed without using the inorganic glass layer and the adhesive layer. The results are shown in Table 1.

[比較例2]
実施例1と同様に作成した二軸配向ポリエステルフィルムに、スパッタリング法を用いて厚さ30nmのSiO膜からなるガスバリア層を片面に形成した。その結果を表1に示す。
[Comparative Example 2]
A gas barrier layer made of a SiO 2 film having a thickness of 30 nm was formed on one side of the biaxially oriented polyester film prepared in the same manner as in Example 1 by using a sputtering method. The results are shown in Table 1.

[比較例3]
比較例2のフィルムの反対面にも同様なガスバリア層を形成した。その結果を表1に示す。
[Comparative Example 3]
A similar gas barrier layer was also formed on the opposite surface of the film of Comparative Example 2. The results are shown in Table 1.

[比較例4]
100μmの極薄ガラス単体の評価を行った。その結果を表1に示す。
[Comparative Example 4]
Evaluation of a 100 μm ultrathin glass simple substance was performed. The results are shown in Table 1.

Figure 0005108675
Figure 0005108675

本発明の複合フィルムは、薄膜ガラス自体が有する高いガスバリア性、屈曲性を阻害せずに、しかも薄膜ガラスよりも高い破壊強度を有し、基板加工に耐えうる耐熱性を有することから、有機EL、電子ペーパー、太陽電池などのフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板に好適に用いることができる。   The composite film of the present invention does not impair the high gas barrier properties and bendability of the thin film glass itself, has a higher breaking strength than the thin film glass, and has heat resistance that can withstand substrate processing. It can be suitably used for flexible electronic device substrates such as electronic paper and solar cells.

耐衝撃性試験装置Impact resistance test equipment

符号の説明Explanation of symbols

1 おもり
2 ポンチ
3 フィルム固定治具
4 試料フィルム
1 Weight 2 Punch 3 Film Fixing Jig 4 Sample Film

Claims (6)

25μm以上300μm以下の厚みの無機ガラス層(A)およびその少なくとも片面に5μm以上250μm以下の厚みの二軸配向ポリエステルフィルム(B)が積層されてなり、
二軸配向ポリエステルフィルム(B)を構成するポリエステルがポリエチレンナフタレンジカルボキシレートであり、
二軸配向ポリエステルフィルム(B)の150℃で30分間熱処理した後の長手方向および幅方向の平均熱収縮率が0.05%以上0.10%以下であ
ことを特徴とする複合フィルム。
Ri 25μm or 300μm of a thickness less than the inorganic glass layer (A) and biaxially oriented polyester film of the at least one surface 5μm or 250μm or less in thickness (B) the name are laminated,
The polyester constituting the biaxially oriented polyester film (B) is polyethylene naphthalene dicarboxylate,
Composite film longitudinal direction and the width direction of the average heat shrinkage, characterized in der Rukoto 0.10% to 0.05% after heat treatment for 30 minutes at 0.99 ° C. of the biaxially oriented polyester film (B).
複合フィルムの50%破壊エネルギーが0.03J以上である請求項1に記載の複合フィルム。 The composite film according to claim 1, wherein the composite film has a 50% breaking energy of 0.03 J or more. 無機ガラス層(A)と二軸配向ポリエステルフィルム(B)との間に接着層を有する請求項1または2に記載の複合フィルム。 The composite film according to claim 1 or 2 , further comprising an adhesive layer between the inorganic glass layer (A) and the biaxially oriented polyester film (B). フレキシブルエレクトロニクスデバイス基板用に用いられる請求項1〜のいずれかに記載の複合フィルム。 A composite film according to any one of claims 1 to 3 used for the flexible electronics device substrate. 請求項1〜のいずれかに記載の複合フィルムを含むフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板。 The flexible electronics device board | substrate containing the composite film in any one of Claims 1-4 . フレキシブルエレクトロニクスデバイスがフレキシブル有機ELディスプレイ、電子ペーパー、太陽電池からなる群から選ばれる少なくとも1つである請求項に記載のフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板。 The flexible electronic device substrate according to claim 5 , wherein the flexible electronic device is at least one selected from the group consisting of a flexible organic EL display, electronic paper, and a solar cell.
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