JP5014774B2 - Addition reaction curable silicone composition and semiconductor device - Google Patents
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Description
本発明は、付加反応硬化型シリコーン組成物と半導体装置に係わり、特に、プラスチック、金属、ガラスなどの各種基材に対して自己接着性を有する1成分系の付加反応硬化型シリコーン組成物と、この組成物によりリッド(蓋体あるいはキャップ)の接着がなされた半導体装置に関する。 The present invention relates to an addition reaction curable silicone composition and a semiconductor device, and in particular, a one-component addition reaction curable silicone composition having self-adhesiveness to various substrates such as plastic, metal, and glass, and The present invention relates to a semiconductor device to which a lid (a lid or a cap) is bonded with this composition.
従来から、半導体装置などの電子機器において、エポキシ樹脂などを主体とする基板とNi,Cuなどの金属基材とを接着するために、エポキシ樹脂系などの各種の接着剤が使用されている。 Conventionally, in an electronic device such as a semiconductor device, various types of adhesives such as an epoxy resin are used to bond a substrate mainly made of an epoxy resin and a metal base material such as Ni or Cu.
近年、電気・電子部品の分野では小サイズ化の進行が著しく、部材の接着面積も狭小化の一途をたどっているため、単位面積当たりの接着強度の増大が望まれている。特に、半導体装置において、半導体素子を覆う金属製のリッドを基板に接着するための接着剤として、接着強度(せん断接着強さ)および破壊モードの改善という接着性の向上と、低粘度化の両立が求められているが、従来の接着性組成物では、これらの両方を満足させることが困難であった。 In recent years, in the field of electrical / electronic parts, the progress of downsizing has been remarkable, and the bonding area of members has been steadily decreasing. Therefore, it is desired to increase the bonding strength per unit area. In particular, in semiconductor devices, as an adhesive for bonding a metal lid that covers a semiconductor element to a substrate, both adhesive strength (shear bond strength) and improved fracture mode and lower viscosity are compatible. However, it has been difficult to satisfy both of them with the conventional adhesive composition.
すなわち、せん断接着強さを向上させ、接着性の破壊モードを改善するために、重合度の高いシリコーンオイルを配合した付加反応硬化型シリコーン組成物が提案されている。 That is, an addition reaction curable silicone composition containing a silicone oil having a high degree of polymerization has been proposed in order to improve the shear bond strength and improve the adhesive failure mode.
しかし、この組成物では、粘度が高くなりすぎるという欠点があり、実際には補強性の充填剤が配合されるため、粘度がさらに高くなってしまい、小口径のシリンジなどから吐出させることが難しいという問題があった。 However, this composition has a disadvantage that the viscosity becomes too high, and in fact, a reinforcing filler is blended, so that the viscosity becomes even higher and it is difficult to discharge from a small-bore syringe or the like. There was a problem.
粘度を上昇させにくい充填剤としては、炭酸カルシウムや粉砕シリカが一般に知られているが、これらの充填剤を配合すると、せん断接着強さや引張り接着強さ、および接着の破壊モードにおける凝集破壊率(CF)が低下してしまうという問題があった。 Calcium carbonate and pulverized silica are generally known as fillers that do not easily increase the viscosity, but when these fillers are added, shear bond strength, tensile bond strength, and cohesive failure rate in bond failure mode ( There was a problem that CF) would decrease.
また、接着性の向上には各種の接着プロモーターの使用が考えられ、接着プロモーターを配合した組成物も提案されている(例えば、特許文献1、特許文献2、特許文献3、特許文献4、特許文献5、特許文献6参照)。 In addition, various adhesion promoters can be used to improve adhesion, and compositions containing adhesion promoters have also been proposed (for example, Patent Document 1, Patent Document 2, Patent Document 3, Patent Document 4, Patents). Reference 5 and Patent Document 6).
しかし、このような組成物においては、内添剤としての接着プロモーターの効果が十分でなく、経済的に好ましくない。また、接着プロモーターに含まれる高活性基が、貯蔵安定性や架橋特性などに対して次第に不利に作用するため、接着プロモーターによる接着性向上は制限的にのみ可能であるにすぎず、むしろ接着プロモーターの含有量をできるだけ低く抑えることが考慮されている。 However, in such a composition, the effect of the adhesion promoter as an internal additive is not sufficient, which is economically undesirable. In addition, since the highly active group contained in the adhesion promoter gradually has an adverse effect on storage stability and cross-linking properties, the adhesion promoter can only be improved in a limited manner, but rather the adhesion promoter. It is considered that the content of is kept as low as possible.
そして、このような接着プロモーターが配合された組成物で、保存安定性を向上させるためには反応遅延剤を添加することが一般的であるが、反応遅延剤を添加した場合は硬化が遅くなるという問題があった。 In addition, in a composition containing such an adhesion promoter, it is common to add a reaction retarding agent in order to improve storage stability, but when a reaction retarding agent is added, curing is delayed. There was a problem.
さらに最近、半導体素子のリッドと基板とを接着するための接着剤には、より低い温度での硬化が求められている。この要求は、硬化反応の温度を低く抑えることによって、加熱による部品のダメージを最小限に抑えるためであり、連続的な製造を考慮すると、硬化時間を長くしても硬化温度を下げることが求められている。
本発明は、これらの点に鑑みてなされたもので、適度な粘度(吐出性)と良好なチクソトロピー性(非流動性)を兼ね備えており、プライマーを必要とせず優れた自己接着性を有する付加反応硬化型シリコーン組成物を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of these points, and has an appropriate viscosity (dischargeability) and good thixotropy (non-fluidity), and does not require a primer and has excellent self-adhesiveness. An object is to provide a reaction-curable silicone composition.
本発明の付加反応硬化型シリコーン組成物は、(A)1分子中にケイ素原子に結合するアルケニル基を少なくとも2個有し、23℃における粘度が10〜20Pa・sであるジオルガノポリシロキサンと、(B)SiO4/2単位(Q単位)、ViR 1 SiO 2/2 単位(D Vi 単位)およびR 1 3 SiO 1/2 単位(M単位)(式中、Viはビニル基を表し、R1は脂肪族不飽和結合を含まない置換または非置換の1価の炭化水素基を表す。)から成るレジン構造を有するポリオルガノシロキサンを、前記(A)成分と(B)成分との合計に対して30〜40重量%と、(C)1分子中にケイ素原子に結合する水素原子を少なくとも2個有し、23℃における動粘度が10〜25cSt(センチストークス)であるオルガノハイドロジェンポリシロキサンを、ケイ素原子に結合する水素原子が、前記(A)成分中のケイ素原子に結合するアルケニル基と前記(B)成分中のケイ素原子に結合するビニル基との合計1モル当たり1.0〜1.4モルになる量と、(D)白金系触媒を、白金分に換算して組成物全体の重量の0.01〜100ppmになる量と、(E)煙霧質シリカを、前記(A)成分と前記(B)成分との合計に対し2〜20重量%をそれぞれ含有することを特徴とする。 Addition reaction-curable silicone composition of the present invention, the diorganopolysiloxane is (A) an alkenyl group bonded to a silicon atom and at least two chromatic per molecule, a viscosity at 23 ° C. is 10~20Pa · s , (B) SiO 4/2 unit (Q unit), ViR 1 SiO 2/2 unit (D Vi unit) and R 1 3 SiO 1/2 unit (M unit) (wherein Vi represents a vinyl group, R 1 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group not containing an aliphatic unsaturated bond.) A polyorganosiloxane having a resin structure is added to the sum of the components (A) and (B). at least two possess a 30 to 40 wt%, the hydrogen atoms bonded to silicon atoms in a molecule (C) with respect to, organo Hyde kinematic viscosity at 23 ° C. is 10~25CSt (centistokes) The hydrogen atom bonded to the silicon atom of Genpolysiloxane is 1 per mole in total of the alkenyl group bonded to the silicon atom in the component (A) and the vinyl group bonded to the silicon atom in the component (B). An amount of 0.0 to 1.4 mol, an amount of (D) a platinum-based catalyst in an amount of 0.01 to 100 ppm of the total weight of the composition in terms of platinum, and (E) fumed silica, It contains 2 to 20% by weight with respect to the total of the component (A) and the component (B).
本発明の半導体装置は、基板と、該基板上に実装された半導体素子と、前記半導体素子を覆うリッドを有し、前記リッドが、前記本発明の付加反応硬化型シリコーン組成物により基板上に接着されてなることを特徴とする。 The semiconductor device of the present invention has a substrate, a semiconductor element mounted on the substrate, and a lid that covers the semiconductor element, and the lid is formed on the substrate by the addition reaction curable silicone composition of the present invention. It is characterized by being bonded.
本発明の付加反応硬化型シリコーン組成物においては、(A)アルケニル基含有のジオルガノポリシロキサンとともに、(B)SiO4/2単位(Q単位)、ViR1SiO2/2単位(DVi単位)およびR1 3SiO1/2単位(M単位)からなるレジン構造を有するポリオルガノシロキサンが配合され、さらに(E)補強性充填剤として煙霧質シリカが配合されているので、細径のノズル(例えばφ2mm)から吐出可能な低い粘度を有するうえに、良好なチクソトロピー性を有し、吐出されたビードは十分に形状を保持することができる。また、プライマーを必要とすることなく、各種金属の被着体に対する良好な接着性(せん断接着強さおよび引張り接着強さ)を持ち、かつ破壊モードにおいて薄層破壊(TCF)を含まず凝集破壊(CF)率100%という良好な接着性を有する。さらに、保存安定性に優れ、また加熱により速やかに硬化するので、半導体装置におけるリッドの接着固定などを短時間で確実に行うことができる。 In the addition reaction curable silicone composition of the present invention, (B) SiO 4/2 unit (Q unit), ViR 1 SiO 2/2 unit (D Vi unit) together with (A) alkenyl group-containing diorganopolysiloxane. ) And R 1 3 SiO 1/2 units (M units) and a polyorganosiloxane having a resin structure, and (E) fumed silica as a reinforcing filler. In addition to having a low viscosity that can be discharged from (for example, φ2 mm), it has good thixotropy, and the discharged bead can sufficiently retain its shape. In addition, it has good adhesion to various metal substrates (shear bond strength and tensile bond strength) without the need for a primer, and does not include thin layer fracture (TCF) in the fracture mode. (CF) It has a good adhesiveness of 100%. Furthermore, since it is excellent in storage stability and is quickly cured by heating, it is possible to reliably perform bonding and fixing of the lid in the semiconductor device in a short time.
以下、本発明の実施の形態について記載する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
本発明の実施形態の付加反応硬化型シリコーン組成物は、(A)アルケニル基含有ジオルガノポリシロキサンと、(B)SiO4/2単位(Q単位)、ViR1SiO2/2単位(DVi単位)およびR1 3SiO1/2単位(M単位)からなるレジン構造を有するポリオルガノシロキサンと、(C)オルガノハイドロジェンポリシロキサンと、(D)白金系触媒と、(E)煙霧質シリカをそれぞれ含有する。 The addition reaction curable silicone composition of the embodiment of the present invention comprises (A) an alkenyl group-containing diorganopolysiloxane, (B) SiO 4/2 units (Q units), ViR 1 SiO 2/2 units (D Vi Unit ) and R 1 3 SiO 1/2 unit (M unit), polyorganosiloxane having a resin structure, (C) organohydrogenpolysiloxane, (D) platinum-based catalyst, and (E) fumed silica Each containing.
(A)成分であるアルケニル基含有ジオルガノポリシロキサンは、1分子中にケイ素原子に結合するアルケニル基を少なくとも2個有するものであり、実施形態のシリコーン組成物のベースポリマーとして使用される。このアルケニル基含有ジオルガノポリシロキサンは、基本的に主鎖部分がジオルガノシロキサン単位の繰り返しからなり、分子鎖両末端がトリオルガノシロキシ基で封鎖された直鎖状のものであるが、分子構造の一部に分岐状の構造を含んでいてもよく、また全体が環状であってもよい。硬化物の機械的強度などの点から、直鎖状のジオルガノポリシロキサンが好ましい。さらに、通常ポリオルガノシロキサン中に少量存在する、沸点が250℃に満たない低分子量成分が除去されていることが好ましい。 The alkenyl group-containing diorganopolysiloxane as component (A) has at least two alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule, and is used as the base polymer of the silicone composition of the embodiment. This alkenyl group-containing diorganopolysiloxane is basically a straight chain in which the main chain portion is composed of repeating diorganosiloxane units and both ends of the molecular chain are blocked with triorganosiloxy groups. May include a branched structure, or the whole may be annular. From the viewpoint of the mechanical strength of the cured product, linear diorganopolysiloxane is preferred. Further, it is preferable that low molecular weight components having a boiling point of less than 250 ° C. usually present in a small amount in the polyorganosiloxane are removed.
アルケニル基は、分子鎖の両末端にのみ存在していても、分子鎖の中間にのみ存在していても、分子鎖の両末端および中間の両方に存在していてもよい。このようなアルケニル基含有ジオルガノポリシロキサンとしては、例えば、一般式:
前記一般式(1)において、R2としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ヘキシル基のようなアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基のようなシクロアルキル基;フェニル基、トリル基のようなアリール基;ベンジル基、フェニルエチル基のようなアラルキル基;およびこれらの基の水素原子の少なくとも一部がフッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子やシアノ基などで置換された基、例えばクロロメチル基、ブロモメチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、シアノエチル基のようなハロゲン置換アルキル基やシアノ置換アルキル基などが挙げられる。特に、メチル基やフェニル基が好適する。 In the general formula (1), R 2 is an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group or a hexyl group; a cyclopentyl group or a cyclohexyl group. An aryl group such as a phenyl group or a tolyl group; an aralkyl group such as a benzyl group or a phenylethyl group; and a halogen atom such as fluorine, chlorine or bromine in which at least some of the hydrogen atoms of these groups are And a group substituted with cyano group, for example, a halogen-substituted alkyl group such as chloromethyl group, bromomethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, cyanoethyl group, cyano-substituted alkyl group, and the like. In particular, a methyl group and a phenyl group are preferable.
Xのアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基などが挙げられる。特に、ビニル基、アリル基など炭素原子数2〜4の低級アルケニル基が好ましい。 Examples of the alkenyl group for X include a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, a butenyl group, and an isobutenyl group. In particular, a lower alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms such as vinyl group and allyl group is preferable.
Yは、アルケニル基または前記したR2である。アルケニル基の具体例としては、前記Xで例示したものと同じものが挙げられる。分子鎖両末端のケイ素原子に結合する置換基としての2つのYは、同一でも異なっていてもよいが、いずれもアルケニル基であることが好ましい。 Y is an alkenyl group or R 2 described above. Specific examples of the alkenyl group include the same ones as exemplified for X above. Two Ys as substituents bonded to silicon atoms at both ends of the molecular chain may be the same or different, but both are preferably alkenyl groups.
nは、好ましくは10〜10,000、より好ましくは50〜2,000の整数であり、mは、好ましくは0〜100の整数である。 n is preferably an integer of 10 to 10,000, more preferably 50 to 2,000, and m is preferably an integer of 0 to 100.
本発明の実施形態において、(A)成分であるアルケニル基含有ジオルガノポリシロキサンとして、粘度(23℃)が60〜100Pa・s(より好ましくは70〜90Pa・s)の長鎖の両末端ビニル基含有ジオルガノポリシロキサンと、粘度(23℃)が1.0〜5.0Pa・s(より好ましくは2.5〜3.5Pa・s)の短鎖の両末端ビニル基含有ジオルガノポリシロキサンとを組合せて使用することが好ましい。そして、これらの混合物である(A)成分の粘度(23℃)は10〜20Pa・sとすることが好ましい。 In the embodiment of the present invention, as the alkenyl group-containing diorganopolysiloxane as component (A), a long-chain both-end vinyl having a viscosity (23 ° C.) of 60 to 100 Pa · s (more preferably 70 to 90 Pa · s). Group-containing diorganopolysiloxane and short-chain both-end vinyl group-containing diorganopolysiloxane having a viscosity (23 ° C.) of 1.0 to 5.0 Pa · s (more preferably 2.5 to 3.5 Pa · s) Are preferably used in combination. And it is preferable that the viscosity (23 degreeC) of (A) component which is these mixtures shall be 10-20 Pa.s.
(B)成分であるレジン構造を有するポリオルガノシロキサンは、SiO4/2単位(Q単位)、ViR1SiO2/2単位(DVi単位)およびR1 3SiO1/2単位(M単位)(式中、Viはビニル基を表し、R1は脂肪族不飽和結合を含まない置換または非置換の1価の炭化水素基を表す。)から成り、三次元網状構造を有する。 The polyorganosiloxane having a resin structure as component (B) is composed of SiO 4/2 units (Q units), ViR 1 SiO 2/2 units (D Vi units ), and R 1 3 SiO 1/2 units (M units). (Wherein Vi represents a vinyl group, and R 1 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group not containing an aliphatic unsaturated bond), and has a three-dimensional network structure.
R1としては、前記一般式(1)におけるR2として例示したものと同じものを例示することができ、好ましくはメチル基である。 The R 1, Formula in (1) can be exemplified the same as those exemplified as R 2, preferably a methyl group.
(B)成分のレジン構造を有するポリオルガノシロキサンは、1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。このようなレジン構造を有するポリオルガノシロキサンは、各単位源となる化合物を、上記モル比となる割合で組み合わせたものを、例えば酸の存在下で共加水分解することによって容易に合成することができる。 (B) The polyorganosiloxane which has the resin structure of a component can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Such a polyorganosiloxane having a resin structure can be easily synthesized by, for example, cohydrolyzing, in the presence of an acid, a combination of compounds serving as unit sources in the above molar ratio. it can.
(B)成分の配合割合は、前記(A)成分と(B)成分との合計量に対して30〜40重量%、より好ましくは32〜38重量%とし、特に34〜36重量%の範囲とすることが好ましい。このような割合で(B)成分を配合することにより、接着強さ、特に接着の破壊モードを向上させることができるとともに、低粘度化を実現することができる。 The blending ratio of the component (B) is 30 to 40% by weight, more preferably 32 to 38% by weight, particularly 34 to 36% by weight, based on the total amount of the component (A) and the component (B). It is preferable that By blending the component (B) at such a ratio, it is possible to improve the bond strength, particularly the breakage mode of the bond, and to realize a low viscosity.
(C)成分であるオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、1分子中にケイ素原子に結合する水素原子(すなわち、SiH基)を少なくとも2個、好ましくは3個以上含有するもので、前記した(A)成分および(B)成分の架橋成分として作用する。このオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、直鎖状、分岐状、環状、あるいは三次元網目構造のいずれでもよい。 The organohydrogenpolysiloxane as component (C) contains at least 2, preferably 3 or more hydrogen atoms (ie, SiH groups) bonded to silicon atoms in one molecule. It acts as a crosslinking component of the component and the component (B). The organohydrogenpolysiloxane may be linear, branched, cyclic, or three-dimensional network structure.
このようなオルガノハイドロジェンポリシロキサンの代表例としては、以下の平均組成式:HaR3 bSiO(4−a−b)/2………(2)
で表わされるオルガノハイドロジェンポリシロキサンが挙げられる。ここで、R3は、脂肪族不飽和結合を含まない置換または非置換の1価の炭化水素基であり、一般式(1)におけるR2として例示したものと同じものを例示することができる。好ましくはメチル基のような炭素原子数1〜3の低級アルキル基、またはフェニル基である。aおよびbは、0<a<2で0.7≦b≦2、かつ0.8≦a+b≦3であり、好ましくは、0.001≦a≦1.2で0.8≦b≦2、かつ1≦a+b≦2.7を満足する数である。)
As a typical example of such an organohydrogenpolysiloxane, the following average composition formula: H a R 3 b SiO (4-ab) / 2 (2)
The organohydrogen polysiloxane represented by these is mentioned. Here, R 3 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group that does not contain an aliphatic unsaturated bond, and examples thereof are the same as those exemplified as R 2 in the general formula (1). . Preferably, it is a lower alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as a methyl group, or a phenyl group. a and b are 0 ≦ a <2, 0.7 ≦ b ≦ 2, and 0.8 ≦ a + b ≦ 3, preferably 0.001 ≦ a ≦ 1.2 and 0.8 ≦ b ≦ 2. And 1 ≦ a + b ≦ 2.7. )
(C)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。23℃における粘度(動粘度)は、10〜25cSt(センチストークス)であり、特に15〜20cStの範囲が好ましい。 The organohydrogenpolysiloxane of component (C) can be used alone or in combination of two or more. The viscosity at 23 ° C. (kinematic viscosity) is 10 to 25 cSt (centistokes), particularly preferably in the range of 15 to 20 cSt.
(C)成分の配合量は、ケイ素原子に結合する水素原子(SiH基)が、前記(A)成分中のケイ素原子に結合するアルケニル基と前記(B)成分中のケイ素原子に結合するビニル基との合計1モル当たり1.0〜1.4モルになる量、より好ましくは1.15〜1.25モルになる量である。この割合が1.0モル未満では、架橋反応が不十分となるおそれがあり、ゴム強度の低下が懸念される。また1.4モルを超えると、接着性の破壊モードにおいてTCFが生じるため好ましくない。 Component (C) is blended in such a way that a hydrogen atom (SiH group) bonded to a silicon atom is bonded to an alkenyl group bonded to a silicon atom in component (A) and a silicon atom bonded to a silicon atom in component (B). The amount is 1.0 to 1.4 mol, more preferably 1.15 to 1.25 mol per mol of the total with the group. If this ratio is less than 1.0 mol, the crosslinking reaction may be insufficient, and there is a concern about a decrease in rubber strength. On the other hand, if it exceeds 1.4 mol, TCF is generated in the adhesive fracture mode, which is not preferable.
(D)成分である白金系触媒は、前記(A)成分のアルケニル基および(B)成分のビニル基と(C)成分のSiH基との付加反応(ヒドロシリル化反応)を促進するための触媒である。このような白金系触媒としては、従来公知のものを使用することができ、具体的には、白金(白金黒を含む。)、塩化第2白金、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコール、アルデヒドあるいはケトン等との錯体、白金・オレフィン錯体、白金・ジケトン錯体、白金・アセチルアセテート錯体、白金・ビニルシロキサン錯体等の白金系化合物が挙げられる。また、白金系化合物以外にも、ロジウムのトリフェニルホスフィン錯体等のロジウム系化合物、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム等のパラジウム系化合物、ルテニウム、イリジウム、鉄、コバルト、マンガン、亜鉛、鉛、アルミニウム、ニッケル等の化合物、アゾ化合物等のラジカル開始剤が挙げられる。これらの中でも特に白金系化合物は、反応活性に優れているので、好適に使用される。また、これらの触媒は、必要に応じて単独であるいは2種以上を併用してもよい。 The platinum catalyst as component (D) is a catalyst for promoting the addition reaction (hydrosilylation reaction) of the alkenyl group of component (A) and the vinyl group of component (B) with the SiH group of component (C). It is. As such a platinum-based catalyst, conventionally known catalysts can be used. Specifically, platinum (including platinum black), platinous chloride, chloroplatinic acid, chloroplatinic acid and alcohol, aldehyde Alternatively, platinum compounds such as complexes with ketones, platinum / olefin complexes, platinum / diketone complexes, platinum / acetyl acetate complexes, platinum / vinylsiloxane complexes, and the like can be given. In addition to platinum compounds, rhodium compounds such as rhodium triphenylphosphine complex, palladium compounds such as tetrakis (triphenylphosphine) palladium, ruthenium, iridium, iron, cobalt, manganese, zinc, lead, aluminum, Examples thereof include compounds such as nickel and radical initiators such as azo compounds. Among these, platinum compounds are particularly preferably used because of their excellent reaction activity. Moreover, these catalysts may be used alone or in combination of two or more as required.
(D)成分の配合量は、硬化に必要な量であれば特に限定されず、前記(A)成分と(B)成分および(C)成分の種類や所望の硬化速度などに応じて、適宜増減することができる。通常、白金分に換算して、組成物全体(合計重量)の0.01〜100ppmとすればよく、特に1〜50ppmの範囲が硬化性とコストの面から好ましい。 The blending amount of the component (D) is not particularly limited as long as it is an amount necessary for curing, and is appropriately determined depending on the types of the component (A), the component (B) and the component (C), the desired curing rate, and the like. It can be increased or decreased. Usually, it may be 0.01 to 100 ppm of the whole composition (total weight) in terms of platinum content, and a range of 1 to 50 ppm is particularly preferable from the viewpoint of curability and cost.
(E)成分である煙霧質シリカは補強性充填剤である。本発明の実施形態において、補強性充填剤としては、煙霧質シリカのみを使用することができ、粉砕シリカのような他の補強性充填剤の使用は、接着性の破壊モードでTCFが生じるため好ましくない。本発明の実施形態では、少なくとも200m2/gの表面積を持つ煙霧質シリカの使用が好ましい。 The (E) component fumed silica is a reinforcing filler. In embodiments of the present invention, only fumed silica can be used as the reinforcing filler, and the use of other reinforcing fillers such as ground silica results in TCF in adhesive failure mode. It is not preferable. In embodiments of the present invention, it is preferred to use fumed silica with a surface area of at least 200 m 2 / g.
(E)成分である煙霧質シリカの配合量は、前記(A)成分と(B)成分との合計に対し2〜20重量%、より好ましくは5〜17重量%とし、特に10〜12重量%とすることが好ましい。このような含有割合で煙霧質シリカを配合することにより、組成物のチクソトロピー性を向上させ、破壊モードにおいてCFを保持することができる。 (E) The amount of the fumed silica that is the component is 2 to 20% by weight, more preferably 5 to 17% by weight, particularly 10 to 12% by weight based on the total of the component (A) and the component (B). % Is preferable. By blending the fumed silica in such a content ratio, the thixotropy of the composition can be improved and CF can be maintained in the fracture mode.
本発明の実施形態の組成物には、前記(A)成分〜(E)成分の他に、(F)接着性付与剤を配合することができる。(F)接着性付与剤としては、分子中にケイ素原子に結合したアルコキシ基および/またはアルケニルオキシ基と、Si−H基、アルケニル基、アクリル基、メタクリル基、エポキシ基、メルカプト基、エステル基、無水カルボキシル基、アミノ基およびアミド基から選ばれる少なくとも1個の反応性官能基をそれぞれ1個以上含有する、オルガノシランあるいはケイ素原子数2〜50好ましくは4〜20のオルガノシロキサンオリゴマーなどの有機ケイ素化合物が好適に用いられる。この有機ケイ素化合物は、シリコーン組成物に半導体素子、取り付け部、リードフレームなどへの接着性を付与するためのものであり、公知のものを使用することができ、シリコーン組成物の付加反応を阻害しないものであればよい。 In addition to the components (A) to (E), (F) an adhesion-imparting agent can be blended in the composition of the embodiment of the present invention. (F) Adhesion imparting agents include alkoxy groups and / or alkenyloxy groups bonded to silicon atoms in the molecule, Si-H groups, alkenyl groups, acrylic groups, methacrylic groups, epoxy groups, mercapto groups, ester groups. An organosilane or an organosiloxane oligomer having 2 to 50 silicon atoms, preferably 4 to 20 silicon atoms, each containing at least one reactive functional group selected from an anhydrous carboxyl group, amino group and amide group. A silicon compound is preferably used. This organosilicon compound is intended to give the silicone composition adhesiveness to semiconductor elements, mounting parts, lead frames, etc., and can be used as a known one, inhibiting the addition reaction of the silicone composition. Anything that does not.
このような有機ケイ素化合物としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン等のエポキシ官能性基含有アルコキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ(メトキシエトキシ)シラン等のアミノ基含有アルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト基含有アルコキシシラン等のアルコキシシランが挙げられるほか、オルガノシロキサンオリゴマーとして以下のような化合物が挙げられる。 Examples of such organosilicon compounds include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, epoxy-functional group-containing alkoxysilanes such as β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, Amino group-containing alkoxysilane such as vinyltriethoxysilane, vinyltri (methoxyethoxy) silane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane Alkoxysilanes such as mercapto group-containing alkoxysilanes such as N-β (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, and γ-acryloxypropyltrimethoxysilane. All Is addition, the following compounds as the organosiloxane oligomer can be exemplified.
(F)接着性向上剤の配合量は、通常(A)〜(E)成分の合計量100重量部当たり、5.0重量部以下とすることが好ましく、3.5重量部以下とすることがさらに好ましい。 (F) The compounding amount of the adhesion improver is preferably 5.0 parts by weight or less, and preferably 3.5 parts by weight or less per 100 parts by weight of the total amount of the components (A) to (E). Is more preferable.
実施形態の組成物には、必要に応じて各種の添加剤をさらに添加することができる。特に、組成物を1液型で使用する場合には、貯蔵安定性向上のために、ヒドロシリル化反応抑制剤を配合することができる。反応抑制剤としては、従来から公知のものを使用することができ、例えばアセチレン系化合物、アルケニル基を2個以上含有する化合物、アルキニル基を含有する化合物、マレイン酸誘導体などが挙げられる。これらの中でも、アルケニル基またはアルキニル基を有する化合物の使用が望ましい。特に1分子中にアルキニル基を2個以上有する化合物、1分子中にアルキニル基とアルコール性水酸基を有する化合物で示されるジシロキサン、マレイン酸ジエステルなどが好適に使用される。これらの反応抑制剤の添加量は、少なすぎるとヒドロシリル化反応の遅延効果が得られず、逆に多すぎると硬化そのものが阻害されてしまうため、(A)〜(E)成分の合計量100重量部に対して0.00001〜10重量部の範囲であることが望ましい。 Various additives can be further added to the composition of the embodiment as necessary. In particular, when the composition is used in a one-pack type, a hydrosilylation reaction inhibitor can be blended to improve storage stability. As the reaction inhibitor, conventionally known ones can be used, and examples thereof include acetylene compounds, compounds containing two or more alkenyl groups, compounds containing alkynyl groups, and maleic acid derivatives. Among these, it is desirable to use a compound having an alkenyl group or an alkynyl group. In particular, a compound having two or more alkynyl groups in one molecule, a disiloxane or a maleic acid diester represented by a compound having an alkynyl group and an alcoholic hydroxyl group in one molecule is preferably used. If the addition amount of these reaction inhibitors is too small, the effect of retarding the hydrosilylation reaction cannot be obtained. Conversely, if too large, the curing itself is inhibited, so the total amount of components (A) to (E) is 100. The range of 0.00001 to 10 parts by weight is desirable with respect to parts by weight.
本発明の実施形態の付加反応硬化型シリコーン組成物は、(A)〜(E)の各成分、および必要に応じて(F)接着性向上剤や反応抑制剤のような他の任意成分を混合することにより調製される。こうして得られる組成物は、適度な粘度で良好な吐出性を有し、かつチクソ比(1rpm/4rpm粘度比)が2.5以上であり、チクソトロピー性に優れている。そして、この組成物を室温でまたは加熱して硬化させることにより得られる硬化物は、せん断接着強さが5.0MPa以上でかつ破壊モードにおいてCF100%でTCFを含まず、各種金属、特にNiやNi合金の被着体に対して良好な接着性を有している。 The addition reaction curable silicone composition of the embodiment of the present invention comprises (A) to (E) components, and (F) other optional components such as adhesion improvers and reaction inhibitors as required. Prepared by mixing. The composition thus obtained has an excellent viscosity with an appropriate viscosity and a thixotropy (1 rpm / 4 rpm viscosity ratio) of 2.5 or more, and is excellent in thixotropy. The cured product obtained by curing the composition at room temperature or by heating is a shear bond strength of 5.0 MPa or more and 100% CF in the fracture mode and does not contain TCF. Good adhesion to Ni alloy adherends.
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。実施例および比較例中、粘度は23℃で測定した値である。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to a following example. In the examples and comparative examples, the viscosity is a value measured at 23 ° C.
実施例
分子鎖両末端がビニルジメチルシロキシ基で封鎖された粘度100Pa・sのジメチルポリシロキサン(MViD933MVi)(以下、A−1成分と示す。)18重量部(ビニル基含有シロキサン成分全体に対して24.3重量%)と、分子鎖両末端がビニルジメチルシロキシ基で封鎖された粘度3Pa・sのジメチルポリシロキサン(MViD339MVi)(以下、A−2成分と示す。)30重量部(ビニル基含有シロキサン成分全体に対して40.6重量%)と、(B)ビニル基を含有するレジン構造のポリシロキサン(Q単位の割合が27.4モル%、DVi単位の割合が39.3モル%、M単位の割合が33.3モル%)26重量部(ビニル基含有シロキサン成分全体に対して35.1重量%)とから成るビニル基含有シロキサン成分に、(C)オルガノハイドロジェンポリシロキサン(MDH 23D16M)を、SiH基量が前記ビニル基含有シロキサン成分のビニル基の全量に対して1.25モル倍、すなわちH/Vi比が1.25になる量、(E)煙霧質シリカ9.8重量部、(F)前記[化3]で表される接着向上剤(接着向上剤-1と示す。)を2.5重量部とγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(接着向上剤-2と示す。)を0.4重量部、反応抑制剤であるトリアリルイソシアネート(反応抑制剤-1と示す。)を0.8重量部と3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール(反応抑制剤-2と示す。)を0.12重量部、白金系触媒(白金含有量3.4重量%の錯体化合物)0.07重量部、およびカラーマスター(カーボンブラックとビニル基含有シリコーンオイルとの混合物)0.5重量部をそれぞれ均一に撹拌・混合し、付加反応硬化型シリコーン組成物を調製した。
EXAMPLE Dimethylpolysiloxane (M Vi D 933 M Vi ) having a viscosity of 100 Pa · s blocked at both ends of the molecular chain with vinyldimethylsiloxy groups (hereinafter referred to as component A-1) 18 parts by weight (vinyl group-containing siloxane 24.3% by weight based on the whole component) and dimethylpolysiloxane (M Vi D 339 M Vi ) having a viscosity of 3 Pa · s blocked at both ends of the molecular chain with vinyldimethylsiloxy groups (hereinafter referred to as A-2 component) 30 parts by weight (40.6% by weight with respect to the entire vinyl group-containing siloxane component) and (B) a resin-structured polysiloxane containing vinyl groups (the ratio of Q units is 27.4 mol%, D percentage of Vi units 39.3 mol%, the proportion of M units 33.3 mol%) vinyl consisting 26 parts by weight (35.1 wt% based on the total vinyl-containing siloxane component) group-containing The siloxane component, (C) organohydrogenpolysiloxane (MD H 23 D 16 M) , 1.25 times by mole the amount of SiH groups relative to the total amount of vinyl groups of the vinyl group-containing siloxane component, i.e. H / Vi An amount that gives a ratio of 1.25, (E) 9.8 parts by weight of fumed silica, and (F) an adhesion improver represented by [Chemical Formula 3] (shown as Adhesion improver-1) is 2.5. 0.4 parts by weight and 0.4 parts by weight of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (adhesion improver-2), and triallyl isocyanate (represented as reaction inhibitor-1) as a reaction inhibitor are 0. 8 parts by weight and 0.12-parts by weight of 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol (represented as reaction inhibitor-2), platinum-based catalyst (complex compound having a platinum content of 3.4% by weight) 0.07 parts by weight, and color master (carbon black and 0.5 parts by weight of a mixture with a nyl group-containing silicone oil) were uniformly stirred and mixed to prepare an addition reaction curable silicone composition.
なお、シロキサンを表す組成式において、
Mは、式:Me3SiO1/2で表される1官能型シロキシ単位、
MViは、式:Me2ViSiO1/2で表される1官能型シロキシ単位、
Dは、式:Me2SiO2/2で表される2官能型シロキシ単位、
DHは、式:HMeSiO2/2で表される2官能型シロキシ単位、
Qは、式:SiO4/2で表される4官能型シロキシ単位をそれぞれ表す。Meはメチル基、Viはビニル基である。実施例における各成分の組成(全体に対する重量%)を表1に示す。
In the composition formula representing siloxane,
M is a monofunctional siloxy unit represented by the formula: Me 3 SiO 1/2
M Vi is a monofunctional siloxy unit represented by the formula: Me 2 ViSiO 1/2
D is a bifunctional siloxy unit represented by the formula: Me 2 SiO 2/2 ,
DH is a bifunctional siloxy unit represented by the formula: HMeSiO 2/2 ,
Q represents a tetrafunctional siloxy unit represented by the formula: SiO 4/2 . Me is a methyl group and Vi is a vinyl group. Table 1 shows the composition (% by weight relative to the whole) of each component in the examples.
また、比較例1〜3として、表1に示す各成分を同表に示す組成(全体に対する重量%)で配合して撹拌・混合し、それぞれ付加反応硬化型シリコーン組成物を調製した。なお、表1中、A−3成分は、分子鎖両末端がビニルジメチルシロキシ基で封鎖された粘度10Pa・sのジメチルポリシロキサンを示す。 Moreover, as Comparative Examples 1-3, each component shown in Table 1 was mix | blended with the composition (weight% with respect to the whole) shown in the same table, and it stirred and mixed, and prepared the addition reaction hardening type silicone composition, respectively. In Table 1, component A-3 indicates dimethylpolysiloxane having a viscosity of 10 Pa · s in which both ends of the molecular chain are blocked with vinyldimethylsiloxy groups.
次いで、実施例および比較例1〜3で得られた組成物について、以下に示す測定方法にしたがって、せん断接着強さ、破壊モードの接着性(凝集破壊率)、吐出性(粘度)およびチクソトロピー性をそれぞれ測定した。これらの結果を表2に示す。 Next, with respect to the compositions obtained in Examples and Comparative Examples 1 to 3, according to the measurement methods shown below, shear adhesive strength, fracture mode adhesiveness (cohesive failure rate), dischargeability (viscosity), and thixotropy Was measured respectively. These results are shown in Table 2.
<せん断接着強さ>
JIS K 6249の引用規格であるJIS K 6850に規定される方法に準じて、以下に示すようにしてせん断接着強さの試験を行なった。すなわち、80×25×2mmの2枚のニッケルメッキ板を、長辺を10mmだけ重ねて平行に置き、その重ねた部分の対向する2面に接するように0.2mmの厚さのシリコーン組成物の層を形成し、125℃で90分間加熱した後放冷して試験体を作製した。また、アルミ板についても同様にして試験体を作製した。このようにして得られた試験体を引張試験機に装着し、10mm/min.の引張速度で接着性の試験を行い、破断面が凝集破壊(CF)であるか、接着破壊(AF)であるかを確認した。
<Shear bond strength>
In accordance with a method defined in JIS K 6850, which is a citation standard of JIS K 6249, a shear bond strength test was performed as follows. That is, two nickel-plated plates of 80 × 25 × 2 mm are placed in parallel with the long sides overlapped by 10 mm, and the silicone composition has a thickness of 0.2 mm so as to contact two opposing surfaces of the overlapped portions. The layer was formed, heated at 125 ° C. for 90 minutes, and then allowed to cool to prepare a test specimen. Moreover, the test body was produced similarly about the aluminum plate. The test specimen thus obtained was mounted on a tensile tester and 10 mm / min. An adhesion test was conducted at a tensile speed of 5 to confirm whether the fracture surface was cohesive failure (CF) or adhesive failure (AF).
<破壊モードの接着性(凝集破壊率)>
引張せん断接着試験において、シリコーン組成物層と基材との間の接合部で破壊が生じる場合の凝集破壊率を測定した。なお、シリコーン組成物層と基材との接着強さがシリコーン組成物の強度より大きい場合に、接合部が破壊される前にシリコーン組成物層または基材が破壊される凝集破壊が生じる。引張せん断接着強さが大きく、かつ破壊状況が凝集破壊である場合に接着性が良好であるといえる。
<Destruction mode adhesiveness (cohesive failure rate)>
In the tensile shear adhesion test, the cohesive failure rate was measured when breakage occurred at the joint between the silicone composition layer and the substrate. In addition, when the adhesive strength between the silicone composition layer and the base material is greater than the strength of the silicone composition, cohesive failure occurs in which the silicone composition layer or the base material is destroyed before the joint is destroyed. It can be said that the adhesiveness is good when the tensile shear bond strength is large and the fracture state is cohesive failure.
<吐出性(粘度)>
JIS K 6249に規定される方法に準じ、以下に示すようにして硬化前の組成物の粘度を測定した。すなわち、回転粘度計(芝浦システム社製)のNo.7rotorにより、20rpm(1分間)、および4rpm(2分間)の条件で粘度をそれぞれ測定した。20rpm(1分間)で測定した粘度が80〜180Pa・sの範囲にあり、かつ4rpm(2分間)で測定した粘度が250〜550Pa・sのとき、吐出性が良好であるといえる。粘度がこの範囲にあるか否かを調べた。なお、比較例2では、20rpm(1分間)の粘度がオーバーレンジになり、測定不能であった。
<Dischargeability (viscosity)>
According to the method defined in JIS K 6249, the viscosity of the composition before curing was measured as shown below. That is, the viscosity was measured under the conditions of 20 rpm (1 minute) and 4 rpm (2 minutes) with a No. 7 rotor of a rotational viscometer (manufactured by Shibaura System Co., Ltd.). When the viscosity measured at 20 rpm (1 minute) is in the range of 80 to 180 Pa · s and the viscosity measured at 4 rpm (2 minutes) is 250 to 550 Pa · s, it can be said that the discharge property is good. It was examined whether the viscosity was within this range. In Comparative Example 2, the viscosity at 20 rpm (1 minute) was overranged, and measurement was impossible.
<チクソトロピー性(チクソ比)>
回転粘度計(芝浦システム製)のNo.7rotorにより、1rpm、4rpmおよび20rpmの条件で粘度をそれぞれ測定した。そして、1rpm/4rpm粘度比が2.5以上であり、1rpm/20rpm粘度比が7以上であるものをチクソトロピー性が良好である(○)とした。また、1rpm/20rpm粘度比が6.0〜7.0であるものを△、6.0以下であるものを×とした。
<Thixotropic properties (thixotropic ratio)>
Viscosity was measured under conditions of 1 rpm, 4 rpm, and 20 rpm with a No. 7 rotor of a rotational viscometer (manufactured by Shibaura System). Then, a sample having a 1 rpm / 4 rpm viscosity ratio of 2.5 or more and a 1 rpm / 20 rpm viscosity ratio of 7 or more was defined as having good thixotropy (◯). In addition, a sample having a 1 rpm / 20 rpm viscosity ratio of 6.0 to 7.0 was evaluated as Δ, and a sample having a viscosity ratio of 6.0 or less as ×.
<ビード形状保持性>、
実施例および比較例1〜3のシリコーン組成物をビード状に吐出させ、5時間後の形状保持性を調べた。吐出された状態のビード形状をほぼ保っているものを○、型が崩れているがビード状を保っているものを△、流れて形状が保たれていないものを×と判定した。
<Bead shape retention>
The silicone compositions of Examples and Comparative Examples 1 to 3 were discharged in a bead shape, and the shape retention after 5 hours was examined. A case in which the bead shape in the discharged state was substantially maintained was evaluated as ◯, a case in which the mold was broken but the bead shape was maintained in Δ, and a case in which the shape was not maintained by flowing was determined as ×.
表2から以下に示すことがわかる。すなわち、実施例で得られたシリコーン組成物は、せん断接着強さが5MPa以上と極めて大きいうえに、破壊モードの接着性がCF100%と良好であり、吐出性に優れかつチクソトロピー性も良好である。 Table 2 shows the following. That is, the silicone compositions obtained in the examples have an extremely high shear bond strength of 5 MPa or more, a good fracture mode adhesion of 100% CF, an excellent ejection property, and a good thixotropy. .
これに対して、比較例1で得られたシリコーン組成物は、せん断接着強さが低いばかりでなく、チクソトロピー性が不良であった。また、比較例2で得られたシリコーン組成物は、せん断接着強さは大きいが、粘度が高すぎて吐出性が不良であった。さらに、比較例3で得られたシリコーン組成物は、せん断接着強さが大きく吐出性も良好であるが、せん断接着試験の破壊モードがCF100%でなく、AFが生じていた。また、チクソ比が低く、チクソトロピー性も十分に良好ではなかった。 In contrast, the silicone composition obtained in Comparative Example 1 had not only low shear bond strength but also poor thixotropy. Moreover, although the silicone composition obtained in Comparative Example 2 had a high shear bond strength, the viscosity was too high and the dischargeability was poor. Furthermore, although the silicone composition obtained in Comparative Example 3 had a high shear bond strength and good dischargeability, the failure mode of the shear bond test was not 100% CF and AF occurred. Further, the thixo ratio was low and the thixotropy was not sufficiently good.
本発明の付加反応硬化型シリコーン組成物は、細径のノズルから吐出可能な低い粘度を有するうえに、良好なチクソトロピー性を有する。また、保存安定性に優れ、例えば加熱することにより速やかに硬化する。さらに、硬化物は、各種金属の被着体に対する良好な接着性を持ち、TCFを含まずCF100%という良好な破壊モードを有する。したがって、本発明の付加反応硬化型シリコーン組成物は、半導体装置の接着用材料として有用であり、特に半導体素子を覆うNi,Ni合金など金属製のリッドと基板との接着用材料として好適している。 The addition reaction curable silicone composition of the present invention has a low viscosity that can be discharged from a small-diameter nozzle and also has good thixotropy. Moreover, it is excellent in storage stability and hardens rapidly by heating, for example. Furthermore, the cured product has good adhesion to various metal adherends and has a good fracture mode of 100% CF without TCF. Therefore, the addition reaction curable silicone composition of the present invention is useful as a material for bonding a semiconductor device, and particularly suitable as a material for bonding a metal lid such as Ni or Ni alloy covering a semiconductor element to a substrate. Yes.
Claims (6)
(B)SiO4/2単位(Q単位)、ViR 1 SiO 2/2 単位(D Vi 単位)およびR 1 3 SiO 1/2 単位(M単位)(式中、Viはビニル基を表し、R1は脂肪族不飽和結合を含まない置換または非置換の1価の炭化水素基を表す。)から成るレジン構造を有するポリオルガノシロキサンを、前記(A)成分と(B)成分との合計に対して30〜40重量%と、
(C)1分子中にケイ素原子に結合する水素原子を少なくとも2個有し、23℃における動粘度が10〜25cSt(センチストークス)であるオルガノハイドロジェンポリシロキサンを、ケイ素原子に結合する水素原子が、前記(A)成分中のケイ素原子に結合するアルケニル基と前記(B)成分中のケイ素原子に結合するビニル基との合計1モル当たり1.0〜1.4モルになる量と、
(D)白金系触媒を、白金分に換算して組成物全体の重量の0.01〜100ppmになる量と、
(E)煙霧質シリカを、前記(A)成分と前記(B)成分との合計に対し2〜20重量%をそれぞれ含有することを特徴とする付加反応硬化型シリコーン組成物。 (A) an alkenyl group bonded to a silicon atom and at least two chromatic per molecule, and the diorganopolysiloxane a viscosity at 23 ° C. is 10~20Pa · s,
(B) SiO 4/2 units (Q units), ViR 1 SiO 2/2 units (D Vi units) and R 1 3 SiO 1/2 units (M units) (wherein Vi represents a vinyl group, R 1 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group that does not contain an aliphatic unsaturated bond.) A polyorganosiloxane having a resin structure is added to the sum of the component (A) and the component (B). 30-40% by weight,
(C) 1 a hydrogen atom bonded to a silicon atom and at least two chromatic in the molecule, a hydrogen atom kinematic viscosity at 23 ° C. is the organohydrogenpolysiloxane is 10~25CSt (centistokes), bonded to the silicon atom Is an amount of 1.0 to 1.4 mol per mol of the total of the alkenyl group bonded to the silicon atom in the component (A) and the vinyl group bonded to the silicon atom in the component (B),
(D) a platinum-based catalyst in an amount of 0.01 to 100 ppm of the weight of the whole composition in terms of platinum content;
(E) a fumed silica, wherein the component (A) and (B) the addition reaction curing silicone composition characterized in that it contains 2 to 20% by weight relative to the total of the components, respectively.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006350265A JP5014774B2 (en) | 2006-12-26 | 2006-12-26 | Addition reaction curable silicone composition and semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006350265A JP5014774B2 (en) | 2006-12-26 | 2006-12-26 | Addition reaction curable silicone composition and semiconductor device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008156578A JP2008156578A (en) | 2008-07-10 |
JP5014774B2 true JP5014774B2 (en) | 2012-08-29 |
Family
ID=39657858
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006350265A Active JP5014774B2 (en) | 2006-12-26 | 2006-12-26 | Addition reaction curable silicone composition and semiconductor device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5014774B2 (en) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008222828A (en) * | 2007-03-12 | 2008-09-25 | Momentive Performance Materials Japan Kk | Silicone rubber composition for forming convex lens, and optical semiconductor apparatus obtained using the same |
JP5115300B2 (en) * | 2008-04-21 | 2013-01-09 | 信越化学工業株式会社 | Silicone adhesive composition and silicone adhesive tape with good substrate adhesion |
JP2010285571A (en) * | 2009-06-15 | 2010-12-24 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | Silicone resin composition for die bonding |
JP2012222202A (en) * | 2011-04-11 | 2012-11-12 | Sekisui Chem Co Ltd | Die-bonding material for optical semiconductor device, and optical semiconductor device using the same |
US9373730B2 (en) * | 2011-04-26 | 2016-06-21 | Sanyu Rec Co., Ltd. | Method and apparatus for manufacturing optical device |
JP2013004905A (en) * | 2011-06-21 | 2013-01-07 | Mitsubishi Chemicals Corp | Semiconductor light-emitting device package and semiconductor light-emitting device |
JP5819787B2 (en) | 2012-07-19 | 2015-11-24 | 信越化学工業株式会社 | Curable silicone resin composition |
JP5631964B2 (en) * | 2012-12-06 | 2014-11-26 | モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 | Self-adhesive polyorganosiloxane composition |
JP6678388B2 (en) * | 2014-12-25 | 2020-04-08 | 信越化学工業株式会社 | Curable silicone resin composition |
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JP6463663B2 (en) * | 2015-11-02 | 2019-02-06 | 信越化学工業株式会社 | Adhesion promoter, addition-curable organopolysiloxane resin composition, and semiconductor device |
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TWI744361B (en) | 2016-07-22 | 2021-11-01 | 日商邁圖高新材料日本合同公司 | Thermal conductive polysiloxane composition |
TWI797085B (en) | 2016-07-22 | 2023-04-01 | 日商邁圖高新材料日本合同公司 | Surface treating agent for thermal conductive polyorganosiloxane composition |
CN110719939B (en) | 2017-05-31 | 2022-02-18 | 迈图高新材料日本合同公司 | Thermally conductive silicone composition |
JP7176180B2 (en) * | 2017-11-10 | 2022-11-22 | 信越化学工業株式会社 | Addition-curable liquid silicone rubber composition |
JP2020007537A (en) | 2018-06-29 | 2020-01-16 | 信越化学工業株式会社 | Curable organosilicon resin composition, and semiconductor device |
CN113950511B (en) | 2019-06-21 | 2024-01-16 | 美国陶氏有机硅公司 | Method for preparing thixotropic curable silicone compositions |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2008150438A (en) * | 2006-12-14 | 2008-07-03 | Momentive Performance Materials Japan Kk | Silicone composition for sealing semiconductor and semiconductor apparatus using the same |
-
2006
- 2006-12-26 JP JP2006350265A patent/JP5014774B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008156578A (en) | 2008-07-10 |
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