JP4908085B2 - ウエーハの処理装置 - Google Patents
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Description
したがって、本発明は、薄化したウェーハを損傷することなく保持することができるとともに、リング状の補強部を残したウェーハであっても搬送することができるウェーハの保持機構を備えたウエーハの処理装置を提供することを目的としている。
[1]半導体ウエーハ
図1の符号1は、一実施形態によって処理される円盤状の半導体ウエーハ(以下ウエーハと略称)を示している。このウエーハ1はシリコンウエーハ等であって、図1(a)に示すように、その表面には格子状の分割予定ライン2によって複数の矩形状の半導体チップ(デバイス)3が区画されている。これら半導体チップ3の表面には、ICやLSI等の図示せぬ電子回路が形成されている。複数の半導体チップ3は、ウエーハ1と同心の概ね円形状のデバイス領域4に形成されており、このデバイス領域4の周囲は、半導体チップ3が形成されない環状の外周余剰領域5となっている。
図2〜図9を参照して、ウエーハ1の外周補強部5aの環状凸部6を除去し、次いでそのウエーハ1を次工程に搬送させるための処理を行う本発明の一実施形態に係るウエーハ処理装置を説明する。なお、本発明に係るウェーハハンドおよび保持機構の実施形態は、ウエーハ処理装置のウェーハ供給部100に用いられている。
図2はウエーハ処理装置の処理装置10の斜視図、図3は平面図である。処理装置10は基台11を有し、この基台11上のY方向手前側(図3において下側)には、図3でX方向右側から左側にわたってウエーハ供給部100、ダイシングテープ貼着部(保持テープ貼着手段)200、ダイシングテープ搬送部400がこの順に配設され、また、ダイシングテープ貼着部200のY方向奥側(図3において上側)には、ウエーハ研削部300が配設されている。ウエーハ1は、ウエーハ供給部100から一旦ダイシングテープ貼着部200に移された後にウエーハ研削部300に送られ、このウエーハ研削部300で外周補強部5aの少なくとも環状凸部6が研削されてからダイシングテープ貼着部200に戻され、このダイシングテープ貼着部200で、ダイシングテープ搬送部400から送られてくるダイシングテープがウエーハ1に貼着される。以下、これら各部を説明していく。
ウエーハ供給部100は、基台11上のY方向手前側に設置されたウエーハキャリア101と、このウエーハキャリア101からY方向奥側に向かって延びる一対の搬送ベルト102と、搬送ベルト102間の下流端部(図3で上端部)に設けられたストッパ111と、ウエーハ1をピックアップしてダイシングテープ貼着部200に搬送するウエーハハンド120と、このウエーハハンド120をX・Z方向に移動させるウエーハハンド駆動機構140とを備えている。
搬送ベルト102で搬送されストッパ111で停止させられたウエーハ1の、図3でY方向左隣りに相当する位置が、ウエーハ着脱位置として設定されている。ダイシングテープ貼着部200は、その着脱位置に配される円盤状のチャックテーブル(保持テーブル)201と、ウエーハ着脱位置にあるチャックテーブル201上をY方向に横断するように移動することにより、図8に示すダイシングテープ(保持テープ)31をウエーハ1の裏面に押し付けて貼着する押し付けローラ210と、この押し付けローラ210をY・Z方向に移動させるローラ駆動機構220とを備えている。
ウエーハ研削部300は、着脱位置にあるチャックテーブル201がテーブルベース202によってY方向奥側に移動させられた先の基台11上に立設されたコラム301と、このコラム301の手前側の側面に装着された研削ユニット(外周補強部除去手段)310とから構成されている。研削ユニット310は、コラム301の側面に、スライドプレート302およびガイドレール303を介してZ方向に昇降自在に取り付けられており、昇降駆動機構304によって昇降させられる。
ダイシングテープ搬送部400は、図8に示すダイシングテープ31を上記ダイシングテープ貼着部200に搬送する機能を有する。ダイシングテープ31は、例えば、厚さ100μm程度のポリ塩化ビニルを基材とし、その片面に厚さ5μm程度でアクリル樹脂系の粘着剤が塗布されたものが用いられる。ダイシングテープ31の粘着面には、ウエーハ1の直径よりも大きな内径を有する環状のダイシングフレーム32が貼り付けられる。ダイシングフレーム32は剛性を有する金属板等からなるもので、ウエーハ1はダイシングテープ31に貼着され、ダイシングフレーム32を保持することによって運搬等の取扱いがなされる。
次に、上記構成のウエーハ処理装置10の動作例を説明する。
ウエーハ供給部100のウエーハキャリア101から、搬送ベルト102によって1枚のウエーハ1が引き出される。そのウエーハ1は、凹部4a側、すなわち裏面側が上を向いている。ウエーハ1が搬送ベルト102によってストッパ111に当たる停止位置まで搬送されたら、搬送ベルト102が停止する。次いで、ウエーハ1がウエーハハンド120でピックアップされる。
図10および図11はウエーハハンド520の第2実施形態を示すものである。なお、以下の説明においては、図4および図5に示すウェーハハンド120と異なる構成についてのみ説明し、同等の構成については説明を省略する。図10に示すように、ウエーハハンド520は、円盤状のベース(支持手段)521と、このベース521に設けられた複数のハンドピック(保持部材)522と、ベース521の上方に配された円盤状のギヤプレート523と、このギヤプレート523の中心に固定された上方に延びるハンドシャフト524とを備えている。ベース521の外周部には、複数(この場合3つ)の孔527が円周方向に等間隔に形成され、孔527には、Z方向(鉛直方向)に延びるピックシャフト525が、回転自在な状態に貫通して装着されている。ピックシャフト525の上端部にはフランジ525bが形成され、ベース521の直下の箇所にはストッパ526が固定されている。これにより、ピックシャフト525は、上下方向へ移動不能な状態となっている。
図12はウェーハハンドの第3実施形態を示す図である。この実施形態は、図5に示すストッパ126に代えて抑え部材127を取り付けた点のみが図5に示すものと異なっている。抑え部材127は、ハンドピック122とほぼ同形同大のもので、両者が上下に背中合わせとなるようにピックシャフト125に固定されている。ここで、ウェーハ1がハンドピック122の先端部122aと接触する位置と、ウェーハ1が抑え部材127の先端部127aと接触する位置との距離は、少なくともウェーハ1の厚みより厚く設定されている。すなわち、ウェーハ1がハンドピック122および抑え部材127との間で押圧されないようになっている。
3…半導体チップ(デバイス)
4…デバイス領域
5a…外周補強部
121…ベース(支持手段)
122…ハンドピック(保持部材)
Claims (5)
- ウェーハを、ウェーハ保持機構を有するウェーハハンドによって、ウェーハ供給部から、ダイシングテープ貼着部に位置付けられたチャックテーブルに移し、該チャックテーブルにウェーハを保持した後、該チャックテーブルごとウェーハをウェーハ研削部に送り、該ウェーハ研削部でウェーハを研削加工してから、ウェーハを前記チャックテーブルごと前記ダイシングテープ貼着部に戻し、該ダイシングテープ貼着部で、ダイシングテープ搬送部から送られてくるダイシングテープをウェーハに貼着するウェーハの処理装置であって、 前記ウェーハ保持機構は、前記ウェーハの外周縁を保持する少なくとも3個の保持部材と、これら保持部材を回転可能に支持する支持手段とを備え、前記保持部材は、回転軸と該回転軸の端部に設けられ前記ウェーハの外周縁の内側へ進退自在な保持部を有することを特徴とするウェーハの処理装置。
- 前記保持部は、前記保持部材の回転方向に向けて下り傾斜となるすくい面を有することを特徴とする請求項1に記載のウェーハの処理装置。
- 前記保持部の上側に、前記保持部材の回転方向に向けて登り傾斜となる抑え部を設けたことを特徴とする請求項2に記載のウェーハの処理装置。
- 前記保持部がウェーハの外周縁と接触する位置と、前記抑え部がウェーハの外周縁と接触する位置との距離が、少なくともウェーハ外周縁の厚みより長いことを特徴とする請求項3に記載のウェーハの処理装置。
- 前記ウェーハの表面に半導体素子を形成し該半導体素子形成面に対応するウェーハの裏面が他の面よりも薄く加工されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のウェーハの処理装置。
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