JP4863168B2 - Glass substrate for flat panel display and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板に関し、特に液晶ディスプレイ(以下、LCDと称する)用ガラス基板に関する。   The present invention relates to a glass substrate for a flat panel display, and more particularly to a glass substrate for a liquid crystal display (hereinafter referred to as LCD).

LCD等のフラットパネルディスプレイは、基板材質としてガラスが使用されている。一般的に、ガラス基板は、オーバーフローダウンドロー法やフロート法等でガラス原板を作製した後に、所定寸法に分割することで製造される。   Flat panel displays such as LCDs use glass as a substrate material. Generally, a glass substrate is manufactured by producing a glass original plate by an overflow downdraw method, a float method, or the like and then dividing the glass substrate into predetermined dimensions.

従来、ガラス原板の分割は、ダイヤモンドカッター等を用いて、ガラス原板の表面にスクライブ(罫書き)を入れ、このスクライブ痕を起点に引張応力が集中するようにガラスを折り曲げて分割する手法が採用されていた。   Conventionally, the original glass plate is divided by using a diamond cutter or the like to place a scribe (crease) on the surface of the original glass plate and then fold the glass so that the tensile stress is concentrated at the scribe marks. It had been.

この方法により作製されたガラス基板は、その表裏面と端面(分割面)が交差する端縁近傍に、微小なクラックやガラス粉が不可避的に発生する。つまり、ダイヤモンドカッター等でガラス原板の表面にスクライブを入れると、ガラス原板の表面の微小領域が破壊され、ガラス原板の表面から板厚方向に微小なクラック(メディアンクラックと称される)が生じる。   In the glass substrate produced by this method, minute cracks and glass powder are inevitably generated in the vicinity of the edge where the front and back surfaces and the end surface (divided surface) intersect. That is, when a scribing is made on the surface of the glass original plate with a diamond cutter or the like, a minute region on the surface of the glass original plate is broken, and a minute crack (referred to as a median crack) is generated in the thickness direction from the surface of the glass original plate.

また、ダイヤモンドカッター等でガラス原板の表面にスクライブを入れると、板厚方向のみならず、ガラス原板の表面に水平な方向にもガラスを破壊する力が作用し、約100〜150μmの微小なクラックが生じる。この微小なクラックは、ラテラルクラックと称されている。ラテラルクラックは、ガラス原板の表面から微小のガラス片を剥離させるために、微小なガラス粉がガラス基板の表裏面に付着する原因となる。微小なガラス粉がガラス基板の表裏面に付着すると、フラットパネルディスプレイの製造工程で電極や配線を断線させる一因となり、結果として、フラットパネルディスプレイの製造効率や製品特性が損なわれる。また、微小なガラス粉は、一旦、ガラス基板の表裏面に付着すると、洗浄等で除去することが困難である。   In addition, when a scribe is put on the surface of the glass original plate with a diamond cutter or the like, a force that breaks the glass acts not only in the thickness direction but also in the horizontal direction on the surface of the glass original plate, and a minute crack of about 100 to 150 μm Occurs. This minute crack is called a lateral crack. Lateral cracks cause fine glass powder to adhere to the front and back surfaces of the glass substrate because fine glass pieces are peeled off from the surface of the glass original plate. When the minute glass powder adheres to the front and back surfaces of the glass substrate, it becomes a cause of disconnecting electrodes and wiring in the manufacturing process of the flat panel display, and as a result, the manufacturing efficiency and product characteristics of the flat panel display are impaired. Further, once the fine glass powder is attached to the front and back surfaces of the glass substrate, it is difficult to remove by fine cleaning or the like.

このような状況の下、従来のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、微小なクラックを除去するために、ガラス基板の表裏面や端面、特に端縁領域を研磨することで面取り処理を行っていた。   Under such circumstances, the conventional glass substrate for flat panel display has been chamfered by polishing the front and back surfaces and end surfaces, particularly the edge region, of the glass substrate in order to remove minute cracks.

具体的には、特許文献1には、ガラス基板端部に配設された電極端子にコネクトピンを当接するように配置し、モールディング剤を形成してなる液晶表示装置において、前記コネクトピンが当接される電極端子のガラス基板の稜線部につき、少なくとも一稜線に面取りを施したことを特徴とする液晶表示装置が開示されており、板厚1.1mmのガラス基板の面取り量を300μmとすることが記載されている。   Specifically, Patent Document 1 discloses a liquid crystal display device in which a connect pin is disposed in contact with an electrode terminal disposed at an end portion of a glass substrate and a molding agent is formed. There is disclosed a liquid crystal display device characterized in that at least one ridge line is chamfered with respect to a ridge line portion of a glass substrate of an electrode terminal to be contacted, and a chamfering amount of a glass substrate having a plate thickness of 1.1 mm is set to 300 μm. It is described.

また、特許文献2の明細書段落[0017]には、微小なガラス粉を除去するために、ガラス基板の端縁領域を研磨処理し、凸状の曲面に面取り(所謂、R面取り)するとともに、ガラス基板の表裏面も研磨処理することが記載されている。   In addition, in paragraph [0017] of the specification of Patent Document 2, in order to remove minute glass powder, the edge region of the glass substrate is polished and chamfered into a convex curved surface (so-called R chamfering). Further, it is described that the front and back surfaces of the glass substrate are also polished.

さらに、特許文献3の明細書段落[0008]、[0009]および図4には、微小なガラス粉がガラス基板の表示面に付着する事態を防止するために、ガラス基板の端面全体をR状に粗研磨して、半円状に面取りした後に、回転砥石を面取りした角部に所定の角度で圧接して、仕上げ研磨を行うことが記載されている。   Further, in the paragraphs [0008], [0009] and FIG. 4 of Patent Document 3, the entire end surface of the glass substrate is formed in an R shape in order to prevent a situation where minute glass powder adheres to the display surface of the glass substrate. After rough polishing and chamfering in a semicircular shape, finish polishing is performed by press-contacting a corner portion of the rotating grindstone at a predetermined angle.

しかしながら、上記の方法でガラス基板の端縁領域を面取りし、ラテラルクラックを完全に取り除いたとしても、研磨処理により微小なガラス粉が多量に発生し、微小なガラス粉がガラス基板の表裏面に付着し得ることから、結局のところ、微小なガラス粉に起因する上記問題を解決することができない。
特開平5−2182号公報 特開平7−140450号公報 特開2002−59346号公報
However, even if the edge region of the glass substrate is chamfered by the above method and the lateral cracks are completely removed, a large amount of fine glass powder is generated by the polishing process, and the fine glass powder is formed on the front and back surfaces of the glass substrate. Since it can adhere, after all, the above-mentioned problem caused by fine glass powder cannot be solved.
JP-A-5-2182 JP-A-7-140450 JP 2002-59346 A

近年、上記問題を解決すべく、ガラス原板の分割方法として、ガラス原板の表面にスクライブを入れる際に、ガラス基板の表裏面に微小なクラックが発生し難い方法が開発されてきた。すなわち、この方法は、レーザー光をガラス原板の表面に照射し、ガラス原板の微小領域を加熱膨張させ、次いでその微小領域を冷却材で冷却収縮させて、ガラス原板の表面にスクライブを入れる方法であり、ガラスの熱膨張により発生した応力を利用して、ガラス原板にスクライブを入れて、ガラス原板を分割し、ガラス基板を採取する方法(以下、レーザースクライブと称する)である。レーザースクライブは、ダイヤモンドカッター等でスクライブを入れる方法と異なり、ガラス基板の端面および端縁近傍で微小なクラック、特にラテラルクラックが発生し難く、得られる端面も滑らかである。   In recent years, in order to solve the above problems, as a method for dividing a glass original plate, a method in which minute cracks are hardly generated on the front and back surfaces of a glass substrate when a scribe is put on the surface of the glass original plate has been developed. That is, this method is a method in which a laser beam is irradiated on the surface of the glass original plate, a minute region of the glass original plate is heated and expanded, and then the minute region is cooled and contracted with a coolant, and a scribe is put on the surface of the glass original plate. There is a method (hereinafter referred to as “laser scribing”) in which a glass substrate is divided by using a stress generated by thermal expansion of the glass, and then the glass substrate is divided. Unlike the method of scribing with a diamond cutter or the like, laser scribing is unlikely to generate minute cracks, particularly lateral cracks, near the end face and the edge of the glass substrate, and the obtained end face is smooth.

しかし、レーザースクライブにより分割されたガラス基板は、ガラス基板の表裏面と端面が交差する角度が略直角になり、ガラス基板の端縁領域が非常に脆い状態となる。端縁領域が鋭利なガラス基板は、フラットパネルディスプレイの製造工程で位置決め装置等に接触すると、その接触部位が欠損したり、これにより微小なクラックが発生しやすくなる。   However, in the glass substrate divided by laser scribing, the angle at which the front and back surfaces of the glass substrate intersect with the end surface is substantially perpendicular, and the edge region of the glass substrate is in a very fragile state. When a glass substrate having a sharp edge region is brought into contact with a positioning device or the like in the manufacturing process of a flat panel display, the contact portion is lost or a minute crack is likely to occur.

一方、ガラス基板の端縁領域に従来通りに数百μm程度の面取りを施すと、ガラス基板の端縁領域が欠損する問題は生じないが、ガラス基板の面取り量が多いことから、面取り時に微小なガラス粉が発生し、ガラス基板の表裏面に付着し得ることになり、結局のところ、従来の問題点が生じることになる。   On the other hand, if the chamfering of about several hundred μm is conventionally applied to the edge region of the glass substrate, there is no problem that the edge region of the glass substrate is lost, but since the amount of chamfering of the glass substrate is large, Glass powder is generated and can adhere to the front and back surfaces of the glass substrate, and as a result, conventional problems arise.

そこで、本発明は、微小なクラックや微小なガラス粉が発生し難いフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の端縁構造、つまり面取り形状を提示し、フラットパネルディスプレイの製造効率や製品特性の向上に資することを技術的課題とする。   Therefore, the present invention presents an edge structure of a glass substrate for a flat panel display, that is, a chamfered shape, in which minute cracks and minute glass powder are hardly generated, and contributes to improvement of manufacturing efficiency and product characteristics of the flat panel display. Is a technical issue.

本発明者等は、鋭意努力の結果、ガラス原板をレーザースクライブした後に分割することで作製されてなるガラス基板に対して、ガラス基板の表裏面と端面が交差する端縁の一部または全部に面取り面を形成し、且つ面取り面の寸法をガラス基板の板厚方向において18〜75μm、且つ面取り面の算術平均粗さRaが0.2μm以下に規制することにより、上記技術的課題を解決できることを見出し、本発明として提案するものである。すなわち、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、ガラス基板の表裏面と端面が交差する端縁の一部または全部に面取り面が形成されており、且つ面取り面の寸法が、ガラス基板の板厚方向において18〜75μmであり、面取り面の算術平均粗さRaが0.2μm以下であると共に、ガラス原板をレーザースクライブした後に分割することで作製されてなることを特徴とする。 As a result of diligent efforts, the inventors have made a glass substrate formed by dividing the glass original plate after laser scribing, to a part or all of the edge where the front and back surfaces and the end surface of the glass substrate intersect. The above technical problem can be solved by forming a chamfered surface and limiting the dimension of the chamfered surface to 18 to 75 μm in the thickness direction of the glass substrate and the arithmetic average roughness Ra of the chamfered surface to 0.2 μm or less. Are proposed as the present invention. That is, in the glass substrate for flat panel display of the present invention, a chamfered surface is formed on part or all of the edge where the front and back surfaces of the glass substrate intersect with the end surface, and the dimension of the chamfered surface is the plate of the glass substrate. The thickness is 18 to 75 μm in the thickness direction, the arithmetic average roughness Ra of the chamfered surface is 0.2 μm or less, and the glass original plate is divided by laser scribing and then manufactured.

本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、ガラス基板の表裏面と端面が交差する端縁の一部または全部に面取り面を形成する。既述の通り、ガラス基板の表裏面と端面が交差する端縁領域は、非常に脆い状態になっており、この領域を面取りすれば、フラットパネルディスプレイの製造工程でガラス基板が欠損する確率を低減することができる。また、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板において、ガラス基板の表裏面と端面が交差する端縁の一部を面取りすれば、ガラス基板が欠損する確率をある程度低減することができ、ガラス基板の表裏面と端面が交差する端縁の全部を面取りすれば、ガラス基板が欠損する確率を確実に低減することができる。   The glass substrate for flat panel displays of the present invention forms a chamfered surface on part or all of the edge where the front and back surfaces of the glass substrate intersect with the end surface. As described above, the edge region where the front and back surfaces of the glass substrate intersect with the end surface is in a very fragile state, and if this region is chamfered, the probability that the glass substrate will be lost in the flat panel display manufacturing process. Can be reduced. Further, in the glass substrate for a flat panel display of the present invention, if a part of the edge where the front and back surfaces of the glass substrate intersect with each other is chamfered, the probability of the glass substrate being lost can be reduced to some extent, By chamfering all the edges where the front and back surfaces and the end surfaces intersect, the probability that the glass substrate is lost can be reliably reduced.

面取り面の寸法をガラス基板の板厚方向において18μm以上に規制すれば、フラットパネルディスプレイの製造工程でガラス基板が欠損する事態が生じ難くなる。一方、面取り面の寸法をガラス基板の板厚方向において75μm以下に規制すれば、ガラス基板の面取り量が少ないことから、面取り時に微小なガラス粉が発生しにくくなり、微小なガラス粉がガラス基板の表裏面に付着しにくくなるとともに、ガラス基板の面取りを短時間で行うことができる。   If the dimension of the chamfered surface is regulated to 18 μm or more in the thickness direction of the glass substrate, it is difficult for the glass substrate to be lost in the flat panel display manufacturing process. On the other hand, if the dimension of the chamfered surface is regulated to 75 μm or less in the thickness direction of the glass substrate, the amount of chamfering of the glass substrate is small, so that it is difficult for fine glass powder to be generated during chamfering. It becomes difficult to adhere to the front and back surfaces of the glass substrate, and the chamfering of the glass substrate can be performed in a short time.

また、フラットパネルディスプレイの製造工程では、製造工程中にガラス基板が加熱される熱処理工程が存在する。ガラス基板は、この熱処理工程で均一に熱処理されることはなく、通常、ガラス基板の表面からガラス基板の内部に向かって温度勾配が生じている。ガラス基板に温度勾配が生じると、ガラス基板の表裏面、端面および面取り面に引張応力が作用する。このような場合、ガラス基板に微小なクラックが存在していると、ガラス基板が破損する確率が高くなる。その点、本発明によれば、ガラス基板の微小なクラックを可及的に低減できるため、このような事態を的確に防止することができる。   Moreover, in the manufacturing process of a flat panel display, there exists a heat treatment process in which the glass substrate is heated during the manufacturing process. The glass substrate is not uniformly heat-treated in this heat treatment step, and usually a temperature gradient is generated from the surface of the glass substrate toward the inside of the glass substrate. When a temperature gradient occurs in the glass substrate, tensile stress acts on the front and back surfaces, the end surface, and the chamfered surface of the glass substrate. In such a case, if there are minute cracks in the glass substrate, the probability of the glass substrate being damaged increases. In that respect, according to the present invention, since minute cracks of the glass substrate can be reduced as much as possible, such a situation can be accurately prevented.

図1は、面取り処理が行われる前のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を示す断面概略図であり、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板1の表裏面2と端面3が交差する部分が端縁4となる。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a flat panel display glass substrate before the chamfering process is performed, and a portion where the front and back surfaces 2 and the end surface 3 of the flat panel display glass substrate 1 intersect becomes an edge 4.

図2は、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を示す断面概略図である。フラットパネルディスプレイ用ガラス基板1の表裏面2と端面3が交差する端縁に面取り面5が形成されている。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the glass substrate for flat panel display of the present invention. A chamfered surface 5 is formed at the edge where the front and back surfaces 2 and the end surface 3 of the glass substrate 1 for flat panel display intersect.

図3(a)は、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を示す断面概略図であり、本発明の用語の意義を説明するための断面概略図である。ここで、「ガラス基板の板厚方向における面取り面の寸法」とは、図3(a)におけるcの長さを指す。   FIG. 3A is a schematic cross-sectional view showing the glass substrate for flat panel display of the present invention, and is a schematic cross-sectional view for explaining the meaning of the terms of the present invention. Here, “the dimension of the chamfered surface in the thickness direction of the glass substrate” refers to the length of c in FIG.

図4(a)は、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の応用例を示す断面概略図であり、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板1の表裏面2と端面3が交差する端縁に面取り面5が形成されており、面取り面5は凸状の曲面になっている。図4(b)は、本発明の用語の意義を説明するための断面概略図であり、この場合、「ガラス基板の板厚方向における面取り面の寸法」は、図4(b)におけるcの長さを指す。   FIG. 4A is a schematic cross-sectional view showing an application example of the glass substrate for flat panel display of the present invention, and a chamfered surface 5 at the edge where the front and back surfaces 2 and the end surface 3 of the glass substrate 1 for flat panel display intersect. And the chamfered surface 5 is a convex curved surface. FIG. 4B is a schematic cross-sectional view for explaining the meaning of the terminology of the present invention. In this case, “the dimension of the chamfered surface in the thickness direction of the glass substrate” is c in FIG. Refers to the length.

第二に、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、ガラス原板をレーザースクライブした後に分割することで作製されていることに特徴付けられる。このようにすれば、ガラス基板に微小なクラック、特にラテラルクラックが発生しなくなり、ガラス基板の表裏面に微小なガラス粉が付着し難くなるとともに、ガラス基板の端面が滑らかになるため、ガラス基板の端面を研磨処理する必要がなくなり、ガラス基板の製造効率が向上する。   2ndly, the glass substrate for flat panel displays of this invention is characterized by being produced by dividing | segmenting, after laser-scribing a glass original plate. In this way, micro cracks, particularly lateral cracks, do not occur in the glass substrate, and it becomes difficult for the fine glass powder to adhere to the front and back surfaces of the glass substrate, and the end surface of the glass substrate becomes smooth. It is not necessary to polish the end face of the glass substrate, and the glass substrate manufacturing efficiency is improved.

第三に、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、面取り面の算術平均粗さRaが0.2μm以下であることに特徴付けられる。ここで、「算術平均粗さRa」は、JIS B0601:2001(以下、単にJIS B0601と称する)に準拠した方法により測定した値を指し、評価長さ8mm、カットオフ値λc=0.8mm、カットオフ比λc/λs=100の条件で測定した値を指す。このようにすれば、ガラス基板の面取り面を起点としたクラックが発生し難くなる。面取り面の算術平均粗さRaを0.2μm以下にするためには、例えば、#1000〜#3000のタイヤモンドフィルムで面取り面を形成、或いは研磨すればよい。   Third, the glass substrate for flat panel displays of the present invention is characterized in that the arithmetic average roughness Ra of the chamfered surface is 0.2 μm or less. Here, “arithmetic mean roughness Ra” refers to a value measured by a method according to JIS B0601: 2001 (hereinafter simply referred to as JIS B0601), evaluation length 8 mm, cutoff value λc = 0.8 mm, The value measured under the condition of the cutoff ratio λc / λs = 100. In this way, cracks starting from the chamfered surface of the glass substrate are less likely to occur. In order to reduce the arithmetic average roughness Ra of the chamfered surface to 0.2 μm or less, for example, the chamfered surface may be formed or polished with a tiremond film of # 1000 to # 3000.

第四に、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、ガラス基板の端面が未研磨面であることが好ましい。ガラス基板の端面を未研磨にすれば、研磨工程が簡素化され、ガラス基板の製造効率が向上する。 Fourthly, in the glass substrate for flat panel display of the present invention, the end surface of the glass substrate is preferably an unpolished surface. If the end surface of the glass substrate is not polished, the polishing process is simplified and the manufacturing efficiency of the glass substrate is improved.

ダイヤモンドカッター等でガラス原板にスクライブを入れた場合、得られるガラス基板の端面は粗面になるため、ガラス基板の端面を研磨しないと、ガラス基板の端面を起点として、ガラス基板にクラックが発生しやすくなる。一方、レーザースクライブの場合、得られるガラス基板の端面は平滑な面となり、ガラス基板の端面を研磨しなくても、ガラス基板の端面を起点としたクラックが発生し難い。   If the glass substrate is scribed using a diamond cutter, etc., the end surface of the resulting glass substrate will be rough, so if the end surface of the glass substrate is not polished, cracks will occur in the glass substrate starting from the end surface of the glass substrate. It becomes easy. On the other hand, in the case of laser scribing, the end surface of the obtained glass substrate is a smooth surface, and cracks starting from the end surface of the glass substrate are unlikely to occur without polishing the end surface of the glass substrate.

第五に、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、ガラス基板の表裏面が未研磨面であることが好ましい。ガラス基板の表裏面を未研磨にすれば、研磨工程が簡素化され、ガラス基板の製造効率が向上するとともに、微小なガラス粉の発生確率が低下する。なお、オーバーフローダウンドロー法でガラス原板を成形すれば、ガラス原板の算術平均粗さRaが5nm以下となり、ガラス基板の表裏面を研磨しなくても、平滑なガラス基板を得ることができる。 Fifth, in the glass substrate for flat panel display of the present invention, the front and back surfaces of the glass substrate are preferably unpolished surfaces. If the front and back surfaces of the glass substrate are not polished, the polishing process is simplified, the production efficiency of the glass substrate is improved, and the probability of generation of minute glass powder is reduced. In addition, if a glass original plate is shape | molded by the overflow downdraw method, arithmetic average roughness Ra of a glass original plate will be 5 nm or less, and even if it does not grind | polish the front and back of a glass substrate, a smooth glass substrate can be obtained.

第六に、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、ガラス基板の表裏面と面取り面の交差角が120〜150°および/またはガラス基板の端面と面取り面の交差角が120〜150°であることが好ましい。このようにすれば、フラットパネルディスプレイの製造工程でガラス基板が破損する確立を大幅に低減することができる。ガラス基板の表裏面と面取り面の交差角およびガラス基板の端面と面取り面の交差角を調整するためには、ガラス基板の面取りに際し、ダイヤモンド砥粒を分散させた回転砥石等の接触角度を調整すればよい。なお、ガラス基板の表裏面と面取り面の交差角およびガラス基板の端面と面取り面の交差角のすべてを120〜150°にすれば、フラットパネルディスプレイの製造工程でガラス基板が破損する確率を確実に低減することができる。 Sixth, in the glass substrate for flat panel display of the present invention, the intersection angle between the front and back surfaces of the glass substrate and the chamfered surface is 120 to 150 ° and / or the intersection angle between the end surface of the glass substrate and the chamfered surface is 120 to 150 °. Preferably there is . If it does in this way, the establishment that a glass substrate breaks in the manufacturing process of a flat panel display can be reduced significantly. To adjust the crossing angle between the front and back surfaces of the glass substrate and the chamfered surface, and the crossing angle between the end surface of the glass substrate and the chamfered surface, adjust the contact angle of the rotating grindstone with diamond abrasive grains dispersed when chamfering the glass substrate. do it. In addition, if the crossing angle between the front and back surfaces of the glass substrate and the chamfered surface and the crossing angle between the end surface of the glass substrate and the chamfered surface are all set to 120 to 150 °, the probability that the glass substrate is damaged in the manufacturing process of the flat panel display is ensured Can be reduced.

図3(b)は、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を示す断面概略図であり、本発明の用語の意義を説明するための断面概略図である。ここで、「ガラス基板の表裏面と面取り面の交差角」とは、図3(b)におけるθ1の角度を指す。また、「ガラス基板の端面と面取り面の交差角」とは、図3(b)におけるθ2の角度を指す。   FIG. 3B is a schematic cross-sectional view showing the glass substrate for flat panel display of the present invention, and is a schematic cross-sectional view for explaining the meaning of the terms of the present invention. Here, the “intersection angle between the front and back surfaces of the glass substrate and the chamfered surface” refers to the angle θ1 in FIG. Further, the “intersection angle between the end surface of the glass substrate and the chamfered surface” refers to the angle θ2 in FIG.

第七に、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、ガラス基板の板厚が0.2mm以上であることが好ましい。このようにすれば、ガラス基板の端縁を確実に面取りすることができる。 Seventh, it is preferable that the glass substrate for flat panel displays of the present invention has a glass substrate thickness of 0.2 mm or more. If it does in this way, the edge of a glass substrate can be chamfered reliably.

第八に、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、ガラス基板が、ガラス組成として、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、且つ質量百分率でSiO 50〜70%、Al 10〜25%、B 3〜20%、MgO 0〜10%、CaO 3〜15%、BaO 0〜10%、SrO 0〜10%、ZnO 0〜10%、TiO 0〜5%、P 0〜5%含有することが好ましい。ここで、「実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず」とは、ガラス組成中のアルカリ金属酸化物の含有量が0.1質量%以下の場合を指す。フラットパネルディスプレイ用ガラス基板のガラス組成をこのように規制すれば、LCDに好適に使用可能となる。 Eighth, in the glass substrate for flat panel display of the present invention, the glass substrate contains substantially no alkali metal oxide as a glass composition, and is SiO 2 50 to 70% by mass percentage, Al 2 O 3. 10~25%, B 2 O 3 3~20 %, 0~10% MgO, CaO 3~15%, BaO 0~10%, SrO 0~10%, 0~10% ZnO, TiO 2 0~5% , P 2 O 5 0 to 5% is preferable . Here, “substantially no alkali metal oxide” refers to the case where the content of the alkali metal oxide in the glass composition is 0.1% by mass or less. If the glass composition of the glass substrate for flat panel displays is regulated in this way, it can be suitably used for LCDs.

第九に、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、フラットパネルディスプレイがLCDであることが好ましいNinthly, in the glass substrate for flat panel display of the present invention, the flat panel display is preferably an LCD.

第十に、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法は、(1)ガラス原板にレーザースクライブした後にガラス原板を分割して、ガラス基板を採取し、(2)ガラス基板の表裏面と端面が交差する端縁の一部または全部を面取りすることで面取り面を形成し、且つ面取り面の寸法が、ガラス基板の板厚方向において18〜75μm、面取り面の算術平均粗さRaが0.2μm以下になるように面取りすることに特徴付けられる。 10thly, the manufacturing method of the glass substrate for flat panel displays of this invention is (1) dividing | segmenting a glass original plate after carrying out laser scribing to the glass original plate, extract | collecting a glass substrate, (2) front and back of a glass substrate, A chamfered surface is formed by chamfering a part or all of the edge where the end surfaces intersect, and the dimension of the chamfered surface is 18 to 75 μm in the thickness direction of the glass substrate, and the arithmetic average roughness Ra of the chamfered surface is 0. Characterized by chamfering to be 2 μm or less .

本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板において、ガラス基板の表裏面と端面が交差する端縁に形成される面取り面は、特に形状が限定されるものではないが、平坦な状態(均一な斜面状、糸面取りとも称される)であることが好ましい。このようにすれば、面取り面の形成が簡便になり、ガラス基板の面取り効率を向上させることができる。また、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板において、面取り面は、凸状の曲面形状であってもよい。このようにすれば、面取り効率は低下するが、ガラス基板の面取り面が、フラットパネルディスプレイの製造工程で製造装置等と接触しても、ガラス基板の面取り面を起点としたクラックが発生し難くなる。   In the glass substrate for a flat panel display of the present invention, the chamfered surface formed at the edge where the front and back surfaces of the glass substrate intersect with each other is not particularly limited in shape, but is in a flat state (uniform slope shape) , Also referred to as thread chamfering). If it does in this way, formation of a chamfered surface will become simple and it can improve the chamfering efficiency of a glass substrate. In the glass substrate for flat panel display of the present invention, the chamfered surface may be a convex curved surface. In this way, the chamfering efficiency is reduced, but even if the chamfered surface of the glass substrate comes into contact with a manufacturing apparatus or the like in the manufacturing process of the flat panel display, cracks starting from the chamfered surface of the glass substrate are unlikely to occur. Become.

本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板において、面取り面の算術平均粗さRaは、0.2μm以下であり、0.1μm以下が好ましく、0.08μm以下が更に好ましく、0.05μm以下が特に好ましく、0.03μm以下が最も好ましい。面取り面の算術平均粗さRaが0.2μmより大きいと、ガラス基板の面取り面が粗くなり、ガラス基板がフラットパネルディスプレイの製造装置に接触したときに、面取り面を起点として、ガラス基板にクラックが発生しやすくなる。 In the flat panel glass substrate for a display of the present invention, the arithmetic average roughness Ra of the chamfer is at 0.2μm or less, 0.1 [mu] m or less favorable preferred, more preferably less 0.08 .mu.m, is 0.05μm or less Particularly preferred is 0.03 μm or less. When the arithmetic average roughness Ra of the chamfered surface is larger than 0.2 μm, the chamfered surface of the glass substrate becomes rough, and when the glass substrate comes into contact with the flat panel display manufacturing apparatus, the glass substrate cracks from the chamfered surface as a starting point. Is likely to occur.

本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板において、面取り部の十点平均粗さRzは、1μm以下が好ましく、0.7μm以下がより好ましく、0.4μm以下が更に好ましく、0.25μm以下が特に好ましく、0.15μm以下が最も好ましい。ここで、「十点平均粗さRz」は、JIS B0601に準拠した方法により測定した値を指す。このようにすれば、ガラス基板の面取り面を起点としたクラックが発生し難くなる。面取り面の十点平均粗さRzを1μm以下にするためには、例えば、#1000〜#3000のタイヤモンドフィルムで面取り面を均一に研磨すればよい。   In the glass substrate for flat panel display of the present invention, the 10-point average roughness Rz of the chamfered portion is preferably 1 μm or less, more preferably 0.7 μm or less, further preferably 0.4 μm or less, and particularly preferably 0.25 μm or less. 0.15 μm or less is most preferable. Here, “ten-point average roughness Rz” refers to a value measured by a method based on JIS B0601. In this way, cracks starting from the chamfered surface of the glass substrate are less likely to occur. In order to set the 10-point average roughness Rz of the chamfered surface to 1 μm or less, for example, the chamfered surface may be uniformly polished with a tire diamond film of # 1000 to # 3000.

本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板において、ガラス基板の表裏面と面取り面の交差角が120〜150°であることが好ましく、130〜140°がより好ましく、132〜138°が更に好ましい。ガラス基板の表裏面と面取り面の交差角が120°より小さいと、ガラス基板の表裏面と面取り面の交差角が小さくなり、ガラス基板の表裏面と面取り面の交差する領域に欠けやクラックが発生しやすくなる。一方、ガラス基板の表裏面と面取り面の交差角が150°より大きいと、ガラス基板の端面と面取り面の交差角小さくなりやすく、ガラス基板の端面と面取り面の交差する領域に欠けやクラックが発生しやすくなる。   In the glass substrate for flat panel display of the present invention, the crossing angle between the front and back surfaces of the glass substrate and the chamfered surface is preferably 120 to 150 °, more preferably 130 to 140 °, and still more preferably 132 to 138 °. If the crossing angle between the front and back surfaces of the glass substrate and the chamfered surface is less than 120 °, the crossing angle between the front and back surfaces of the glass substrate and the chamfered surface will be small, and there will be chipping and cracks in the area where the front and back surfaces of the glass substrate and the chamfered surface intersect. It tends to occur. On the other hand, if the crossing angle between the front and back surfaces of the glass substrate and the chamfered surface is larger than 150 °, the crossing angle between the end surface of the glass substrate and the chamfered surface tends to be small, and there is a chip or crack in the region where the end surface of the glass substrate and the chamfered surface intersect. It tends to occur.

本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板において、ガラス基板の端面と面取り面の交差角が120〜150°であることが好ましく、130〜140°がより好ましく、132〜138°が更に好ましい。ガラス基板の端面と面取り面の交差角が120°より小さいと、ガラス基板の端面と面取り面の交差角が小さくなり、ガラス基板の端面と面取り面の交差する領域に欠けやクラックが発生しやすくなる。一方、ガラス基板の端面と面取り面の交差角が150°より大きいと、ガラス基板の表裏面と面取り面の交差角が小さくなりやすく、ガラス基板の表裏面と面取り面の交差する領域に欠けやクラックが発生しやすくなる。   In the glass substrate for flat panel display of the present invention, the crossing angle between the end surface and the chamfered surface of the glass substrate is preferably 120 to 150 °, more preferably 130 to 140 °, and still more preferably 132 to 138 °. If the crossing angle between the end surface of the glass substrate and the chamfered surface is smaller than 120 °, the crossing angle between the end surface of the glass substrate and the chamfered surface becomes small, and chipping and cracking are likely to occur in the region where the end surface of the glass substrate and the chamfered surface intersect. Become. On the other hand, if the crossing angle between the end surface of the glass substrate and the chamfered surface is larger than 150 °, the crossing angle between the front and back surfaces of the glass substrate and the chamfered surface tends to be small, Cracks are likely to occur.

本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板において、ガラス基板の板厚は、0.2mm以上が好ましく、0.2〜2.0mmがより好ましく、0.3〜1.5mmが更に好ましく、0.4〜1.0mmが特に好ましい。ガラス基板の板厚が0.2mmより小さいと、ガラス基板の板厚に対して、面取り面の寸法が大きくなりすぎ、フラットパネルディスプレイの製造工程でガラス基板の位置決めを正確に行えないおそれが生じる。一方、ガラス基板の板厚が2.0mmより大きいと、ガラス原板を分割し難くなり、ガラス基板の生産効率が低下する。   In the glass substrate for flat panel display of the present invention, the thickness of the glass substrate is preferably 0.2 mm or more, more preferably 0.2 to 2.0 mm, still more preferably 0.3 to 1.5 mm, 0.4 -1.0 mm is particularly preferred. If the thickness of the glass substrate is smaller than 0.2 mm, the dimension of the chamfered surface becomes too large with respect to the thickness of the glass substrate, and there is a possibility that the glass substrate cannot be accurately positioned in the manufacturing process of the flat panel display. . On the other hand, when the plate thickness of the glass substrate is larger than 2.0 mm, it becomes difficult to divide the glass original plate, and the production efficiency of the glass substrate decreases.

本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、種々の寸法のガラス基板に適用可能であり、例えば、寸法が0.1m2以上(具体的には、320mm×420mm以上)、0.5m2以上(具体的には、630mm×830mm以上)、1.0m2以上(具体的には、950mm×1150mm以上)、更には2.3m2以上(具体的には、1400mm×1700mm以上)、3.5m2以上(具体的には、1750mm×2050mm以上)、4.8m2以上(具体的には、2100mm×2300mm以上)のガラス基板に適用可能である。ガラス基板の寸法が大きい程、ガラス基板の端縁領域が大きくなるため、ガラス基板の破損確率が上昇し、或いはガラス粉が付着しやすくなるが、本発明によれば、このような場合であっても、微小なクラックや微小なガラス粉の発生を的確に抑制することができる。 The glass substrate for flat panel displays of the present invention can be applied to glass substrates having various dimensions. For example, the dimensions are 0.1 m 2 or more (specifically, 320 mm × 420 mm or more), 0.5 m 2 or more ( Specifically, 630 mm × 830 mm or more), 1.0 m 2 or more (specifically, 950 mm × 1150 mm or more), further 2.3 m 2 or more (specifically, 1400 mm × 1700 mm or more), 3.5 m It can be applied to a glass substrate of 2 or more (specifically, 1750 mm × 2050 mm or more), 4.8 m 2 or more (specifically, 2100 mm × 2300 mm or more). The larger the size of the glass substrate is, the larger the edge region of the glass substrate is, so that the probability of breakage of the glass substrate is increased or the glass powder is liable to adhere, but according to the present invention, this is the case. However, generation | occurrence | production of a micro crack and micro glass powder can be suppressed exactly.

本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板において、ガラス基板は、ガラス組成として、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、且つ質量百分率でSiO2 50〜70%、Al23 10〜25%、B23 3〜20%、MgO 0〜10%、CaO 3〜15%、BaO 0〜10%、SrO 0〜10%、ZnO 0〜10%、TiO2 0〜5%、P25 0〜5%含有することが好ましい。ガラス組成をこのように規制すれば、LCD用ガラス基板に好適に使用することができる。以下にガラス組成範囲を限定した理由を説明する。 In the glass substrate for flat panel display of the present invention, the glass substrate contains substantially no alkali metal oxide as a glass composition, and is 50 to 70% SiO 2 and 10 to 25% Al 2 O 3 by mass percentage. , B 2 O 3 3-20%, MgO 0-10%, CaO 3-15%, BaO 0-10%, SrO 0-10%, ZnO 0-10%, TiO 2 0-5%, P 2 O It is preferable to contain 5 to 5%. If the glass composition is regulated in this way, it can be suitably used for a glass substrate for LCD. The reason for limiting the glass composition range will be described below.

ガラス組成中にアルカリ金属酸化物を実質的に含有していないと、熱処理中にアルカリイオンが成膜された半導体物質中に拡散し、膜特性が劣化する事態を防止することができる。   When the glass composition does not substantially contain an alkali metal oxide, it is possible to prevent a situation where alkali ions are diffused into the semiconductor material on which the film is formed during the heat treatment and the film characteristics are deteriorated.

SiO2は、ガラスネットワークを形成する成分であり、その含有量は50〜70%、好ましくは55〜70%、より好ましくは58〜68%、更に好ましくは59〜66%である。SiO2の含有量が50%より少ないと、耐薬品性、特に耐酸性が悪化し、また低密度化を図ることが困難となる。一方、SiO2の含有量が70%より多いと、高温粘度が高くなり、溶融性が悪くなるとともに、ガラス中に失透異物(クリストバライト)の欠陥が生じやすくなる。 SiO 2 is a component that forms a glass network, and its content is 50 to 70%, preferably 55 to 70%, more preferably 58 to 68%, and still more preferably 59 to 66%. When the content of SiO 2 is less than 50%, chemical resistance, particularly acid resistance is deteriorated, and it is difficult to reduce the density. On the other hand, when the content of SiO 2 is more than 70%, the high-temperature viscosity becomes high, the meltability becomes poor, and defects of devitrified foreign matter (cristobalite) are likely to occur in the glass.

Al23は、ガラスの歪点を高める効果がある成分であり、その含有量は10〜25%、好ましくは12〜19%、より好ましくは14.5〜17%である。Al23の含有量が10%より少ないと、歪点を600℃以上にすることが困難となる。また、Al23には、ガラスのヤング率を向上し、比ヤング率を高める働きがあるが、Al23の含有量が10%より少ないと、ヤング率が低下しやすくなり、比ヤング率も低下しやすくなる。一方、Al23の含有量が25%より多いと、液相温度が高くなり、耐失透性が低下しやすくなる。 Al 2 O 3 is a component having an effect of increasing the strain point of glass, and its content is 10 to 25%, preferably 12 to 19%, more preferably 14.5 to 17%. If the content of Al 2 O 3 is less than 10%, it becomes difficult to make the strain point 600 ° C. or higher. In addition, Al 2 O 3 has a function of improving the Young's modulus of glass and increasing the specific Young's modulus. However, if the content of Al 2 O 3 is less than 10%, the Young's modulus tends to decrease, and the ratio The Young's modulus also tends to decrease. On the other hand, when the content of Al 2 O 3 is more than 25%, the liquidus temperature becomes high and the devitrification resistance tends to decrease.

23は、融剤として働き、粘性を下げ、溶融性を改善する成分である。一方、LCDに使用されるガラス基板には高い耐酸性が要求されるが、B23の含有量が多くなる程、耐酸性が低下する傾向にある。以上の点を考慮すると、B23の含有量は3〜20%、好ましくは5〜15%、より好ましくは8.6〜14%、更に好ましくは9.5〜12%である。B23の含有量が3%より少ないと、融剤としての働きが不十分になることに加えて、耐バッファードフッ酸性が悪化しやすくなる。一方、B23の含有量が20%より多いと、ガラスの歪点が低下し、耐熱性が低下しやすくなることに加えて、耐酸性が悪化しやすくなる。更には、B23の含有量が20%より多いと、ヤング率が低下し、比ヤング率が低下しやすくなる。 B 2 O 3 is a component that acts as a flux, lowers viscosity, and improves meltability. On the other hand, glass substrates used in LCDs are required to have high acid resistance, but the acid resistance tends to decrease as the content of B 2 O 3 increases. Considering the above points, the content of B 2 O 3 is 3 to 20%, preferably 5 to 15%, more preferably 8.6 to 14%, and further preferably 9.5 to 12%. When the content of B 2 O 3 is less than 3%, the function as a flux becomes insufficient, and the buffered hydrofluoric acid resistance tends to deteriorate. On the other hand, when the content of B 2 O 3 is more than 20%, the strain point of the glass is lowered and the heat resistance is easily lowered, and the acid resistance is easily deteriorated. Furthermore, if the content of B 2 O 3 is more than 20%, the Young's modulus decreases and the specific Young's modulus tends to decrease.

MgOは、歪点を低下させることなく、高温粘性を下げ、ガラスの溶融性を改善する成分である。また、MgOは、アルカリ土類金属酸化物の中では最も密度を下げる効果がある成分である。しかし、MgOを多量に含有させると、液相温度が上昇し、耐失透性が低下しやすくなる。さらに、MgOは、バッファードフッ酸と反応して生成物を形成し、ガラス基板表面の素子上に固着したり、ガラス基板に付着してこれを白濁させるおそれがあるため、その含有量には制限がある。以上の点を考慮すると、MgOの含有量は0〜10%、好ましくは0〜2%、より好ましくは0〜1%、更に好ましくは0〜0.5%である。   MgO is a component that lowers the viscosity at high temperature and improves the meltability of glass without lowering the strain point. MgO is a component having the effect of reducing the density most among the alkaline earth metal oxides. However, when MgO is contained in a large amount, the liquidus temperature rises and the devitrification resistance tends to decrease. Furthermore, MgO reacts with buffered hydrofluoric acid to form a product, which may adhere to the element on the surface of the glass substrate or adhere to the glass substrate and cause it to become cloudy. There is a limit. Considering the above points, the content of MgO is 0 to 10%, preferably 0 to 2%, more preferably 0 to 1%, and still more preferably 0 to 0.5%.

CaOも、MgOと同様に歪点を低下させることなく、高温粘性を下げ、ガラスの溶融性を顕著に改善する成分であり、その含有量は3〜15%、好ましくは4〜12%、より好ましくは5〜10%、更に好ましくは6〜9%である。この種の無アルカリガラス基板は、一般的に溶融し難く、安価に高品質のガラス基板を大量に供給するためには、その溶融性を高めることが重要である。上記のガラス組成系ではSiO2の含有量を減少させることが、溶融性を高めるために最も効果的であるが、SiO2の含有量を減らすと、耐酸性が極端に低下することに加えて、ガラスの密度、熱膨張係数が増大しやすくなる。このような事情から、CaOの含有量が3%より少ないと、ガラスの溶融性を高めにくくなる。一方、CaOの含有量が15%より多いと、ガラスの耐バッファードフッ酸性が悪化し、ガラス基板表面が浸食されやすくなることに加えて、反応生成物がガラス基板表面に付着してガラス基板を白濁させ、さらに熱膨張係数が高くなりすぎる。 CaO is also a component that lowers the high-temperature viscosity and significantly improves the meltability of the glass without lowering the strain point, as in MgO, and its content is 3 to 15%, preferably 4 to 12%. Preferably it is 5 to 10%, more preferably 6 to 9%. This kind of alkali-free glass substrate is generally difficult to melt, and in order to supply a large amount of a high-quality glass substrate at a low cost, it is important to increase its meltability. In the above glass composition system can reduce the content of SiO 2, but is most effective for enhancing meltability, reducing the content of SiO 2, in addition to acid resistance is extremely lowered Further, the density and thermal expansion coefficient of the glass are likely to increase. From such a situation, when the content of CaO is less than 3%, it becomes difficult to improve the meltability of the glass. On the other hand, if the content of CaO is more than 15%, the buffered hydrofluoric acid resistance of the glass deteriorates and the surface of the glass substrate is easily eroded, and the reaction product adheres to the surface of the glass substrate. And the thermal expansion coefficient becomes too high.

BaOは、ガラスの耐薬品性、耐失透性を向上させる成分である。一方、BaOは、ガラスの密度や熱膨張係数を大きく上昇させる成分であり、ガラス基板の低密度化、低膨張化を図る場合には極力含有させないことが好ましい。また、BaOは、環境面からも多量の含有は好ましくない。以上の点を考慮すると、BaOの含有量は0〜10%、好ましくは0〜5%、より好ましくは0〜2%、更に好ましくは0〜1%、特に好ましくは0〜0.5%である。   BaO is a component that improves the chemical resistance and devitrification resistance of glass. On the other hand, BaO is a component that greatly increases the density and thermal expansion coefficient of glass, and is preferably not contained as much as possible when reducing the density and expansion of the glass substrate. Further, BaO is not preferably contained in a large amount from the viewpoint of the environment. Considering the above points, the content of BaO is 0 to 10%, preferably 0 to 5%, more preferably 0 to 2%, still more preferably 0 to 1%, and particularly preferably 0 to 0.5%. is there.

SrOは、ガラスの耐薬品性、耐失透性を向上させる成分であり、その含有量は0〜10%、好ましくは0〜6%、より好ましくは0〜4.5%、更に好ましくは0〜1.5%である。SrOの含有量が10%より多いと、ガラスの密度や熱膨張係数が上昇しやすくなる。   SrO is a component that improves the chemical resistance and devitrification resistance of glass, and its content is 0 to 10%, preferably 0 to 6%, more preferably 0 to 4.5%, and still more preferably 0. ~ 1.5%. When the SrO content is more than 10%, the density and the thermal expansion coefficient of the glass tend to increase.

BaOおよびSrOは、特に耐バッファードフッ酸性を高める性質を持つ成分であり、耐バッファードフッ酸性を向上させるためには、これらの成分を合量で0.1%以上(好ましくは0.3%以上、より好ましくは0.5%以上)含有させることが好ましい。しかし、既述のように、BaOおよびSrOを多量に含有させると、ガラスの密度や熱膨張係数が上昇するため、これらの成分は合量で6%以下に抑えることが望ましい。その範囲内で、これらの合量は、耐バッファードフッ酸性および耐失透性を高めるという観点に立てば、できるだけ多く含有することが望ましく、一方、密度や熱膨張係数の低下、或いは環境面への配慮という観点に立てば、できるだけ少なくすることが望ましい。   BaO and SrO are components having a property of particularly increasing the resistance to buffered hydrofluoric acid, and in order to improve the resistance to buffered hydrofluoric acid, the total amount of these components is 0.1% or more (preferably 0.3%). % Or more, more preferably 0.5% or more). However, as described above, when a large amount of BaO and SrO is contained, the density and the thermal expansion coefficient of the glass increase. Therefore, it is desirable to keep these components at 6% or less in total. Within that range, it is desirable to contain these total amounts as much as possible from the viewpoint of improving buffered hydrofluoric acid resistance and devitrification resistance, while reducing the density and thermal expansion coefficient, or environmental aspects. From the viewpoint of consideration, it is desirable to reduce as much as possible.

ZnOは、ガラス基板の耐バッファードフッ酸性を改善するとともに、溶融性を改善する成分であるが、多量に含有させると、ガラスが失透しやすくなり、歪点も低下する上、密度が上昇しやすくなる。よって、ZnOの含有量は0〜10%、好ましくは0〜7%、より好ましくは0〜5%、更に好ましくは0〜3%、特に好ましくは0〜0.9%、最も好ましくは0〜0.5%である。   ZnO is a component that improves the buffered hydrofluoric acid resistance of the glass substrate and improves the meltability. However, when it is contained in a large amount, the glass tends to devitrify, the strain point is lowered, and the density is increased. It becomes easy to do. Therefore, the content of ZnO is 0 to 10%, preferably 0 to 7%, more preferably 0 to 5%, still more preferably 0 to 3%, particularly preferably 0 to 0.9%, and most preferably 0 to 0%. 0.5%.

MgO、CaO、BaO、SrO、ZnOの各成分は混合して含有させることによりガラスの液相温度を著しく下げ、ガラス中に結晶異物を生じさせ難くすることができ、結果として、ガラスの溶融性、成形性を改善することができる。しかし、これらの成分の合量が少なすぎると、融剤としての働きが充分に発揮されず、ガラスの溶融性が悪化することに加えて、熱膨張係数が低くなりすぎ、TFT材料と熱膨張係数が整合し難くなる。一方、これらの成分の合量が多すぎると、密度が上昇し、ガラス基板の軽量化が図れなくなる上、比ヤング率が低下しやすくなる。よって、これらの成分の合量は6〜20%、好ましくは6〜15%、より好ましくは6〜14%である。   By mixing MgO, CaO, BaO, SrO, and ZnO components, the liquidus temperature of the glass can be remarkably lowered, making it difficult to produce crystalline foreign matters in the glass. As a result, the melting property of the glass The moldability can be improved. However, if the total amount of these components is too small, the function as a flux is not sufficiently exhibited, and in addition to the deterioration of the meltability of the glass, the thermal expansion coefficient becomes too low, and the thermal expansion of the TFT material Coefficients are difficult to match. On the other hand, when the total amount of these components is too large, the density increases, the weight of the glass substrate cannot be reduced, and the specific Young's modulus tends to decrease. Therefore, the total amount of these components is 6 to 20%, preferably 6 to 15%, more preferably 6 to 14%.

TiO2は、ガラスの耐薬品性、特に耐酸性を改善し、且つ高温粘性を下げて溶融性を向上する成分であるが、多量に含有させると、ガラスが着色し、その透過率を損なわれるため、LCD用ガラス基板としては好ましくない。よって、TiO2の含有量は0〜5%、好ましくは0〜3%、より好ましくは0〜1%である。 TiO 2 is a component that improves the chemical resistance of glass, particularly acid resistance, and lowers the viscosity at high temperature to improve the meltability. However, when it is contained in a large amount, the glass is colored and its transmittance is impaired. Therefore, it is not preferable as a glass substrate for LCD. Therefore, the content of TiO 2 is 0 to 5%, preferably 0 to 3%, more preferably 0 to 1%.

25は、ガラスの耐失透性を向上する成分であるが、多量に含有させると、ガラス中に分相、乳白が生じることに加えて、耐酸性が著しく悪化する傾向がある。よって、P25の含有量は0〜5%、好ましくは0〜3%、より好ましくは0〜1%である。 P 2 O 5 is a component that improves the devitrification resistance of the glass, but if it is contained in a large amount, in addition to the occurrence of phase separation and milky white in the glass, the acid resistance tends to be remarkably deteriorated. Therefore, the content of P 2 O 5 is 0 to 5%, preferably 0 to 3%, more preferably 0 to 1%.

また、上記成分以外にも、ガラス組成中に、Y23、Nb25、La23を合量で5%程度まで含有させてもよい。これらの成分は、歪点、ヤング率等を高める働きがあるが、多量に含有させると、密度が増大してしまう。更にガラス特性が損なわれない範囲で、As23、Sb23、Sb25、F2、Cl2、SO3、C、あるいはAl、Siなどの金属粉末等の清澄剤を合量で5%まで含有させることができる。また、CeO2、Fe23等も清澄剤として合量で5%まで含有させることができる。なお、As23、Sb23および/またはSb25は、環境面から実質的に使用しないことが望ましい。 In addition to the above components, the glass composition may contain Y 2 O 3 , Nb 2 O 5 , La 2 O 3 in a total amount of up to about 5%. These components have a function of increasing the strain point, Young's modulus, etc., but if they are contained in a large amount, the density increases. Furthermore, as long as the glass properties are not impaired, a refining agent such as metal powder such as As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , Sb 2 O 5 , F 2 , Cl 2 , SO 3 , C, or Al, Si is combined. The amount can be contained up to 5%. Further, CeO 2 , Fe 2 O 3 and the like can be contained as a fining agent in a total amount of up to 5%. It is desirable that As 2 O 3 , Sb 2 O 3 and / or Sb 2 O 5 are not substantially used from the environmental viewpoint.

本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法は、(1)ガラス原板にレーザースクライブした後にガラス原板を分割して、ガラス基板を採取し、(2)ガラス基板の表裏面と端面が交差する端縁の一部または全部を面取りすることで面取り面を形成し、且つ面取り面の寸法が、ガラス基板の板厚方向において18〜75μm、面取り面の算術平均粗さRaが0.2μm以下になるように面取りすることに特徴付けられる。なお、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法において、好ましい態様および作用効果は、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の説明の欄に記載されているため、ここでは、便宜上、その記載を省略する。 The manufacturing method of the glass substrate for flat panel displays of this invention is (1) dividing | segmenting a glass original plate after carrying out laser scribing to the glass original plate, extract | collecting a glass substrate, (2) The front and back of a glass substrate and an end surface cross | intersect. A chamfered surface is formed by chamfering part or all of the edge, and the dimension of the chamfered surface is 18 to 75 μm in the thickness direction of the glass substrate, and the arithmetic average roughness Ra of the chamfered surface is 0.2 μm or less . It is characterized by chamfering. In addition, in the manufacturing method of the glass substrate for flat panel displays of this invention, since a preferable aspect and an effect are described in the column of description of the glass substrate for flat panel displays of this invention, it is the description here for convenience. Is omitted.

ガラス原板は、所望のガラス組成となるように調合したガラス原料を連続溶融炉に投入し、ガラス原料を加熱溶融し、脱泡した後、成形装置に供給した上で溶融ガラスを板状に成形し、徐冷することにより製造することができる。   Glass raw material is prepared by putting glass raw material prepared to have a desired glass composition into a continuous melting furnace, heating and melting the glass raw material, defoaming it, and then supplying it to a molding device to form the molten glass into a plate shape. However, it can be manufactured by slow cooling.

ガラス原板の成形方法として、種々の方法を採用することができ、例えば、オーバーフローダウンドロー法、フロート法、スロットダウンドロー法、リドロー法、ロールアウト法等の様々な成形方法を採用することができる。本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法において、表面品位が良好なガラス基板を製造する観点から、ダウンドロー法、特にオーバーフローダウンドロー法で板状に成形することが好ましい。その理由は、オーバーフローダウンドロー法の場合、ガラス基板の表面となるべき面は樋状耐火物に接触せず、自由表面の状態で成形されることにより、無研磨で表面品位が良好なガラス原板を成形できるからである。ここで、オーバーフローダウンドロー法は、溶融状態のガラスを耐熱性の樋状構造物の両側から溢れさせて、溢れた溶融ガラスを樋状構造物の下端で合流させながら、下方に延伸成形して板状のガラスを製造する方法である。樋状構造物の構造や材質は、ガラス基板の寸法や表面精度を所望の状態とし、TFT−LCD用ガラス基板等に使用できる品位を実現できるものであれば、特に限定されない。また、下方への延伸成形を行うためにガラス原板に対してどのような方法で力を印加するものであってもよい。例えば、充分に大きい幅を有する耐熱性ロールをガラス原板に接触させた状態で回転させて延伸する方法を採用してもよいし、複数の対になった耐熱性ロールをガラス原板の端面近傍のみに接触させて延伸する方法を採用してもよい。   Various methods can be adopted as a method for forming the glass original plate. For example, various forming methods such as an overflow down draw method, a float method, a slot down draw method, a redraw method, and a roll out method can be adopted. . In the method for producing a glass substrate for a flat panel display of the present invention, it is preferable to form into a plate shape by a downdraw method, particularly an overflow downdraw method, from the viewpoint of producing a glass substrate having a good surface quality. The reason for this is that, in the case of the overflow downdraw method, the surface to be the surface of the glass substrate does not come into contact with the bowl-shaped refractory, and is molded in a free surface state, so that the glass original plate has good surface quality without polishing. This is because it can be molded. Here, the overflow down draw method is to melt the molten glass from both sides of the heat-resistant bowl-like structure and draw the overflowed molten glass downward while joining at the lower end of the bowl-like structure. This is a method for producing plate-like glass. The structure and material of the bowl-shaped structure are not particularly limited as long as the dimensions and surface accuracy of the glass substrate can be set to a desired state and a quality that can be used for a TFT-LCD glass substrate or the like can be realized. Moreover, in order to perform the downward extending | stretching shaping | molding, you may apply force with what kind of method with respect to a glass original plate. For example, a method may be adopted in which a heat-resistant roll having a sufficiently large width is rotated and stretched in contact with the glass original plate, or a plurality of pairs of heat-resistant rolls are only near the end face of the glass original plate. You may employ | adopt the method of making it contact and extending | stretching.

レーザースクライブに際し、照射するレーザー光は、CO2レーザー、COレーザー、YAGレーザー等が使用可能である。 For laser scribing, a laser beam to be irradiated can be a CO 2 laser, a CO laser, a YAG laser, or the like.

面取りに際し、微小なガラス粉がガラス基板の表裏面に極力付着しないように、ガラス基板の表面中央部から面取り面に向かって、高圧の水流を噴射しながら、ガラス基板の端縁を面取りすることが好ましい。このようにすれば、面取りに際し、ガラス基板の表裏面に微小なガラス粉が付着する確率を更に低下させることができる。   When chamfering, chamfer the edges of the glass substrate while spraying a high-pressure water stream from the center of the surface of the glass substrate toward the chamfered surface so that minute glass powder does not adhere to the front and back surfaces of the glass substrate. Is preferred. If it does in this way, in the case of chamfering, the probability that minute glass powder will adhere to the front and back of a glass substrate can further be reduced.

以下、実施例に基づいて本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail based on examples.

表1に記載の試料No.1〜10は、次のようにして調製した。   Sample No. described in Table 1 1-10 were prepared as follows.

まず、ガラス原板を用意し、ガラス原板の表面にレーザースクライブ線を入れた。ガラス原板は、オーバーフローダウンドロー法で成形されたものを使用し、ガラス基板は、日本電気硝子株式会社製OA−10を用いた。なお、ガラス基板の表裏面および端面は、未研磨とした。   First, a glass original plate was prepared, and a laser scribe line was put on the surface of the glass original plate. The glass original plate used what was shape | molded by the overflow downdraw method, and the glass substrate used OA-10 by Nippon Electric Glass Co., Ltd. The front and back surfaces and end surfaces of the glass substrate were not polished.

次に、レーザースクライブ線に沿って、ガラス原板を分割し、550mm×650mm×0.7mm厚のガラス基板を得た。その後、表1に示した面取り寸法となるように、ガラス基板の端縁すべてに略平坦な面取り面を形成した。面取りに際し、#3000のダイヤモンド研磨盤(樹脂基材にダイヤモンド砥粒を分散させたもの)を用いた。ガラス基板の表裏面と面取り面の交差角が135°、ガラス基板の端面と面取り面の交差角が135°となるように、ダイヤモンド研磨盤の接触角度を調節した。   Next, the glass original plate was divided along the laser scribe line to obtain a glass substrate having a thickness of 550 mm × 650 mm × 0.7 mm. Thereafter, a substantially flat chamfered surface was formed on all the edges of the glass substrate so as to have the chamfered dimensions shown in Table 1. When chamfering, a # 3000 diamond polishing machine (resin base material with diamond abrasive grains dispersed) was used. The contact angle of the diamond polishing machine was adjusted so that the crossing angle between the front and back surfaces of the glass substrate and the chamfered surface was 135 °, and the crossing angle between the end surface of the glass substrate and the chamfered surface was 135 °.

以上の試料を用いて、面取り寸法、面取り時間、クラック特性およびガラス粉の付着を評価した。その結果を表1に示す。面取り時間およびクラック特性は、同様の面取り寸法を有するガラス基板を10枚作製した上で、各10回測定し、その平均値を算出することで評価した。   Using the above samples, chamfer dimensions, chamfering time, crack characteristics, and adhesion of glass powder were evaluated. The results are shown in Table 1. The chamfering time and crack characteristics were evaluated by preparing 10 glass substrates having similar chamfering dimensions, measuring 10 times each, and calculating the average value.

「面取り時間」は、面取り開始から面取り終了までの時間を測定することで評価した。   “Chamfering time” was evaluated by measuring the time from chamfering start to chamfering end.

「クラック特性」は、ガラス基板を載置し、ガラス基板の板厚方向からガラス基板の面取り面に3.0gの球状の金属塊を落下させて、欠けやクラックが発生する時の高さを測定することで評価した。なお、4.5cmの高さで金属塊を落下させた時、ガラス基板の面取り面にクラックや欠けが発生しなければ、フラットパネルディスプレイの製造工程で面取り面に起因したクラックや欠けが発生し難いと判断できる。   “Crack characteristics” refers to the height at which a glass substrate is placed and 3.0 g of a spherical metal lump is dropped on the chamfered surface of the glass substrate from the thickness direction of the glass substrate to cause chipping or cracking. It evaluated by measuring. If the chamfered surface of the glass substrate is not cracked or chipped when the metal lump is dropped at a height of 4.5 cm, the crack or chipped due to the chamfered surface will occur in the flat panel display manufacturing process. It can be judged difficult.

「ガラス粉の付着」の評価は、ガラス基板の表裏面に10μm以上のガラス粉が付着していなかったものを「○」、ガラス基板の表裏面に10μm以上のガラス粉が付着していたものを「×」で評価した。   Evaluation of “adhesion of glass powder” is “◯” when glass powder of 10 μm or more is not adhered to the front and back surfaces of the glass substrate, and glass powder of 10 μm or more is adhered to the front and back surfaces of the glass substrate. Was evaluated with “×”.

表1から明らかなように、実施例に係る試料No.1〜8は、板厚方向における面取り面の寸法が20〜70μmに規制されていることから、面取り時間が1.6秒以下であり、短時間で面取りすることができた。また、試料No.1〜8は、クラック特性の評価が5cm以上であり、フラットパネルディスプレイの製造工程でガラス基板にクラックや欠けが発生し難いと判断することができる。さらに、試料No.1〜8は、面取り量が少なかったため、ガラス基板の表裏面にガラス粉の付着していなかった。   As is clear from Table 1, sample No. In Nos. 1 to 8, since the dimension of the chamfered surface in the thickness direction is regulated to 20 to 70 μm, the chamfering time is 1.6 seconds or less, and the chamfering can be performed in a short time. Sample No. In Nos. 1 to 8, the evaluation of the crack characteristics is 5 cm or more, and it can be determined that cracks and chips are hardly generated in the glass substrate in the production process of the flat panel display. Furthermore, sample no. In Nos. 1 to 8, since the amount of chamfering was small, glass powder was not attached to the front and back surfaces of the glass substrate.

一方、表1から明らかなように、比較例に係る試料No.9は、板厚方向における面取り面の寸法が10μmであるため、クラック特性が不良であった。また、比較例に係る試料No.10は、板厚方向における面取り面の寸法が80μmであるため、面取り時間が不当に長くなったことに加えて、ガラス基板の表裏面にガラス粉の付着が認められた。   On the other hand, as apparent from Table 1, the sample No. Since No. 9 had a chamfered surface dimension of 10 μm in the thickness direction, the crack characteristics were poor. In addition, Sample No. In No. 10, since the dimension of the chamfered surface in the plate thickness direction was 80 μm, in addition to the chamfering time being unduly lengthened, adhesion of glass powder was observed on the front and back surfaces of the glass substrate.

以上の説明から明らかなように、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、種々のフラットパネルディスプレイに適用可能であり、例えばLCD、プラズマディスプレイパネル(PDP)、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ、無機エレクトロルミネッセンスディスプレイ、各種電子放出素子を有する各種形式のフィールドエミッションディスプレイ(FED)、蛍光表示管(VFD)等に適用可能である。   As is clear from the above description, the glass substrate for flat panel display of the present invention can be applied to various flat panel displays, such as LCD, plasma display panel (PDP), organic electroluminescence display, inorganic electroluminescence display. The present invention can be applied to various types of field emission displays (FED), fluorescent display tubes (VFD), and the like having various electron-emitting devices.

面取り処理が行われる前のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を示す断面概略図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the glass substrate for flat panel displays before a chamfering process is performed. 本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を示す断面概略図である。It is a section schematic diagram showing the glass substrate for flat panel displays of the present invention. 本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を示す断面概略図であり、本発明の用語の意義を説明するための断面概略図である。It is a section schematic diagram showing the glass substrate for flat panel displays of the present invention, and is a section schematic diagram for explaining the meaning of the term of the present invention. (a)本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の応用例を示す断面概略図である。(b)本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の応用例を示す断面概略図であり、本発明の用語の意義を説明するための断面概略図である。(A) It is a cross-sectional schematic diagram which shows the application example of the glass substrate for flat panel displays of this invention. (B) It is sectional schematic which shows the application example of the glass substrate for flat panel displays of this invention, and is sectional schematic for demonstrating the meaning of the term of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 フラットパネルディスプレイ用ガラス基板
2 ガラス基板の表裏面
3 ガラス基板の端面
4 ガラス基板の表裏面と端面が交差する端縁
5 面取り面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate for flat panel displays 2 Front and back surfaces of glass substrate 3 End surface of glass substrate 4 Edge 5 where front and back surfaces of glass substrate intersect each other

Claims (8)

ガラス基板の表裏面と端面が交差する端縁の一部または全部に面取り面が形成されており、且つ面取り面の寸法が、ガラス基板の板厚方向において18〜75μmであり、面取り面の算術平均粗さRaが0.2μm以下であると共に、ガラス原板をレーザースクライブした後に分割することで作製されてなることを特徴とするフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。 Chamfer part or all of the edges the front and back surfaces and the end surface of the glass substrate intersect is formed, and the dimensions of the chamfered surface, Ri 18~75μm der in the thickness direction of the glass substrate, the chamfered surface A glass substrate for a flat panel display, which has an arithmetic average roughness Ra of 0.2 μm or less and is manufactured by dividing a glass original plate after laser scribing . ガラス基板の端面が未研磨面であることを特徴とする請求項1に記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。 The glass substrate for a flat panel display according to claim 1, wherein an end surface of the glass substrate is an unpolished surface. ガラス基板の表裏面が未研磨面であることを特徴とする請求項1又は2に記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。 The glass substrate for a flat panel display according to claim 1 or 2 , wherein the front and back surfaces of the glass substrate are unpolished surfaces. ガラス基板の表裏面と面取り面の交差角が120〜150°および/またはガラス基板の端面と面取り面の交差角が120〜150°であることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。 To any one of claims 1 to 3, wherein the crossing angle of the end surface and the chamfered surface of the crossing angle of the front and back surfaces and the chamfered surface of the glass substrate is 120 to 150 ° and / or the glass substrate is 120 to 150 ° The glass substrate for flat panel displays as described. ガラス基板の板厚が0.2mm以上であることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。 The plate | board thickness of a glass substrate is 0.2 mm or more, The glass substrate for flat panel displays in any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. ガラス基板が、ガラス組成として、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、且つ質量百分率でSiO 50〜70%、Al 10〜25%、B 3〜20%、MgO 0〜10%、CaO 3〜15%、BaO 0〜10%、SrO 0〜10%、ZnO 0〜10%、TiO 0〜5%、P 0〜5%含有することを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載のフラットパネルディスプレイ基板。 The glass substrate substantially does not contain an alkali metal oxide as a glass composition, and is SiO 2 50 to 70%, Al 2 O 3 10 to 25%, B 2 O 3 3 to 20%, MgO in mass percentage. 0~10%, CaO 3~15%, BaO 0~10%, SrO 0~10%, 0~10% ZnO, TiO 2 0~5%, and characterized in that it contains P 2 O 5 0~5% The flat panel display substrate according to any one of claims 1 to 5 . フラットパネルディスプレイが液晶ディスプレイであることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。 A flat panel display is a liquid crystal display, The glass substrate for flat panel displays in any one of Claims 1-6 characterized by the above-mentioned. (1)ガラス原板にレーザースクライブした後にガラス原板を分割して、ガラス基板を採取し、
(2)ガラス基板の表裏面と端面が交差する端縁の一部または全部を面取りすることで面取り面を形成し、且つ面取り面の寸法が、ガラス基板の板厚方向において18〜75μm、面取り面の算術平均粗さRaが0.2μm以下になるように面取りすることを特徴とするフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
(1) After laser scribing to the glass original plate, the glass original plate is divided, and the glass substrate is collected.
(2) front and back surfaces and the end surface of the glass substrate to form a chamfered surface by chamfering a portion or all of the edges that intersect, and the dimensions of the chamfered surface, 18~75Myuemu in the thickness direction of the glass substrate, chamfering A method for producing a glass substrate for a flat panel display, comprising chamfering so that an arithmetic average roughness Ra of the surface is 0.2 μm or less .
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