JP4441483B2 - Fingerprint sensor device - Google Patents

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Description

本発明は指紋センサ装置に係り、特に半導体素子上に形成された指紋センサ素子が表面に露出した状態でパッケージされた指紋センサ装置に関する。   The present invention relates to a fingerprint sensor device, and more particularly to a fingerprint sensor device packaged with a fingerprint sensor element formed on a semiconductor element exposed on the surface.

電子情報通信が普及するなかで、個人情報の機密性を守るために電子機器において個人認識を行うという要求が高まっている。個人認識手段として様々な技術が開発され実用化されているが、その中で、指紋を判別する技術が注目されている。   With the spread of electronic information communication, there is an increasing demand for personal recognition in electronic devices in order to protect the confidentiality of personal information. Various techniques have been developed and put into practical use as personal recognition means, and among them, techniques for discriminating fingerprints are attracting attention.

指紋センサ装置は、人間の指の指紋のパターンを認識するための装置である。小型の指紋センサ装置を開発するために、半導体チップ上に指紋センサ部を形成した指紋センサ用半導体チップが開発されている。指紋センサ部は一般的に圧力センサや静電容量センサからなり、センサ部からの情報を半導体チップにより処理して指紋の識別、判定を行う。このような指紋センサ用半導体チップは、一般の半導体チップのように樹脂封止されてパッケージングされ、指紋センサ用半導体装置として電子機器に組み込まれる。 The fingerprint sensor device is a device for recognizing a fingerprint pattern of a human finger. In order to develop a small fingerprint sensor device, a semiconductor chip for a fingerprint sensor in which a fingerprint sensor portion is formed on a semiconductor chip has been developed. The fingerprint sensor unit is generally composed of a pressure sensor and a capacitance sensor, and information from the sensor unit is processed by a semiconductor chip to identify and determine a fingerprint. Such a semiconductor chip for a fingerprint sensor is resin-sealed and packaged like a general semiconductor chip, and is incorporated into an electronic device as a semiconductor device for a fingerprint sensor.

図1は従来の指紋センサ装置の製造工程において、樹脂封止工程を示す断面図である。指紋センサ用半導体素子2は、回路形成面にセンサ部4を有しており、センサ部の周囲に電極が配置される。電極は金ワイヤ6等によりインターポーザとしての回路基板8の電極パッド8aにワイヤボンディングされる。回路基板8上で半導体チップ2と金ワイヤは封止樹脂によりモールドされて封止樹脂部10が形成される。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing a resin sealing process in a manufacturing process of a conventional fingerprint sensor device. The semiconductor element 2 for fingerprint sensor has a sensor portion 4 on a circuit forming surface, and an electrode is disposed around the sensor portion. The electrode is wire-bonded to an electrode pad 8a of a circuit board 8 as an interposer by a gold wire 6 or the like. On the circuit board 8, the semiconductor chip 2 and the gold wire are molded with a sealing resin to form the sealing resin portion 10.

センサ部4は指を直接接触させて指紋を認識する部分であり、封止樹脂部10から露出している必要がある。したがって、図1に示すように、モールド金型12により半導体チップ2をモールドする際に、モールド金型12とセンサ部4との間にスペーサ14を配置して封止樹脂がセンサ部4の表面を覆わないようにスペーサ12をセンサ部4に押し付けている。   The sensor unit 4 is a part that directly touches a finger to recognize a fingerprint, and needs to be exposed from the sealing resin unit 10. Therefore, as shown in FIG. 1, when the semiconductor chip 2 is molded with the molding die 12, the spacer 14 is disposed between the molding die 12 and the sensor unit 4 so that the sealing resin is on the surface of the sensor unit 4. The spacer 12 is pressed against the sensor unit 4 so as not to cover.

スペーサ12は例えばゴムやプラスチックのようなある程度弾性を有する材料により形成され、モールド金型12によりセンサ部4に対して押圧される。これにより、モールド時に封止樹脂がセンサ部4の表面に流れ込まないようにしている。   The spacer 12 is formed of a material having elasticity to some extent, such as rubber or plastic, and is pressed against the sensor unit 4 by the mold 12. This prevents the sealing resin from flowing into the surface of the sensor unit 4 during molding.

上述のように樹脂モールド時にスペーサ14を押し付けることによりセンサ部4を露出した状態とする方法では、スペーサ部14はある程度弾力性を有していないと、センサ部4に押し付けられたときにセンサ部4に損傷を与えるおそれがある。ところが、センサ部4が弾力性を有すると、モールド時の樹脂圧力により封止樹脂がセンサ部4とスペーサ14との間に入り込んでしまう。   In the method of exposing the sensor unit 4 by pressing the spacer 14 during resin molding as described above, if the spacer unit 14 is not elastic to some extent, the sensor unit 4 is pressed against the sensor unit 4. 4 may be damaged. However, if the sensor unit 4 has elasticity, the sealing resin enters between the sensor unit 4 and the spacer 14 due to the resin pressure at the time of molding.

図2は封止樹脂がセンサ部4とスペーサ14との間に入り込んだ状態でモールドされた指紋センサ装置の断面図である。樹脂モールド時にスペーサ14が配置されていた部位には、封止樹脂部10の開口部10aが形成されており、開口部10a内でセンサ部4が露出している。   FIG. 2 is a cross-sectional view of the fingerprint sensor device molded with the sealing resin entering between the sensor portion 4 and the spacer 14. An opening 10a of the sealing resin portion 10 is formed at a portion where the spacer 14 is disposed at the time of resin molding, and the sensor portion 4 is exposed in the opening 10a.

ところが、図2に示すように、センサ部4とスペーサ14との間に入り込んだ封止樹脂は、モールドフラッシュ16となってセンサ部4の表面に付着する。このため、センサ部4の一部表面がモールドフラッシュ16により覆われてしまい、その部分はセンサ部としての機能を失ってしまう。すなわち、センサ部4として機能する部分の面積が減少してしまう。   However, as shown in FIG. 2, the sealing resin that has entered between the sensor unit 4 and the spacer 14 becomes a mold flash 16 and adheres to the surface of the sensor unit 4. For this reason, a part of the surface of the sensor unit 4 is covered with the mold flash 16, and the part loses the function as the sensor unit. That is, the area of the portion that functions as the sensor unit 4 is reduced.

センサ部4の面積が比較的大きいいわゆるエリアタイプの指紋センサであれば、モールドフラッシュにより覆われるセンサ部の割合は小さいので、残りの部分でセンサ部の機能を維持することができる。しかし、指でセンサ部4を拭うように移動して指紋を読み取るいわゆるスウィープタイプの指紋センサの場合、センサ部4の幅Hは例えば1mmと非常に小さい。一般的にモールドフラッシュの長さLは0.3mm〜0.5mmであり、センサ部4の大部分がモールドフラッシュにより覆われてしまい、センサ部として機能しなくなってしまうおそれがある。   In the case of a so-called area type fingerprint sensor in which the area of the sensor unit 4 is relatively large, since the ratio of the sensor unit covered with the mold flash is small, the function of the sensor unit can be maintained in the remaining part. However, in the case of a so-called sweep type fingerprint sensor that moves so as to wipe the sensor unit 4 with a finger and reads a fingerprint, the width H of the sensor unit 4 is as very small as 1 mm, for example. In general, the length L of the mold flash is 0.3 mm to 0.5 mm, and most of the sensor unit 4 is covered with the mold flash and may not function as the sensor unit.

また、スウィープタイプの指紋センサの場合、センサ部4が露出した部分の周囲の樹脂の高さが高いと(すなわち、開口部10aが深いと)、センサ部4に指を接触させながら指を拭う(スウィープする)動作が難しくなるといった問題もある。   In the case of a sweep type fingerprint sensor, if the height of the resin around the exposed portion of the sensor unit 4 is high (that is, if the opening 10a is deep), the finger is wiped while the finger is in contact with the sensor unit 4 There is also a problem that it becomes difficult to move (sweep).

本発明は上述の問題点に鑑みなされたものであり、スウィープタイプの指紋センサにおいて、センサ部の周囲の樹脂部の高さを抑えて指を移動しやすくした指紋センサ装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a fingerprint sensor device that can easily move a finger by suppressing the height of the resin portion around the sensor portion in a sweep type fingerprint sensor. And

上記の課題を解決するために本発明では、次に述べる各手段を講じたことを特徴とするものである。   In order to solve the above-described problems, the present invention is characterized by the following measures.

請求項1記載の発明は、指を接触させながら移動して指紋のパターンを認識するための指紋センサ装置であって、センサ部が表面に形成された半導体チップと、該半導体チップを封止する封止樹脂部とを有し、該封止樹脂部に形成された開口部の底部において前記センサ部及び前記半導体チップの表面が露出し、且つ前記開口部を画成する前記封止樹脂部のうち指を移動する方向における部分は、前記半導体チップの露出した面と同一面上にある平面であり、前記封止樹脂部の上面は前記半導体チップの表面より高く、且つ前記開口部は前記封止樹脂部の前記上面に形成されていることを特徴とするものである。 The invention according to claim 1 is a fingerprint sensor device for recognizing a fingerprint pattern by moving while a finger is in contact with a semiconductor chip having a sensor portion formed on the surface, and sealing the semiconductor chip A sealing resin portion, wherein the sensor portion and the surface of the semiconductor chip are exposed at a bottom portion of the opening portion formed in the sealing resin portion, and the opening portion defines the opening portion. portion in a direction to move out fingers, the plane der in the same plane as the exposed surface of the semiconductor chip is, the upper surface of the sealing resin portion is higher than the surface of the semiconductor chip, the and the opening the It is formed on the upper surface of the sealing resin portion .

請求項2記載の発明は、請求項1記載の指紋センサ装置であって、前記半導体チップの露出した面と前記封止樹脂部の前記平面との境界を跨いで前記封止樹脂部の一部として該境界に沿って突起が形成されたことを特徴とするものである。   A second aspect of the present invention is the fingerprint sensor device according to the first aspect, wherein a part of the sealing resin portion straddles a boundary between the exposed surface of the semiconductor chip and the flat surface of the sealing resin portion. As described above, protrusions are formed along the boundary.

請求項3記載の発明は、指を接触させながら移動して指紋のパターンを認識するための指紋センサ装置であって、センサ部が表面に形成された半導体チップと、該半導体チップを封止する封止樹脂部とを有し、該封止樹脂部に形成された開口部の底部において前記センサ部及び前記半導体チップの表面が露出し、且つ前記開口部を画成する前記封止樹脂部のうち指を移動する方向における部分は、他の部分より低いが前記半導体チップの露出した面よりは高いことを特徴とするものである。   According to a third aspect of the present invention, there is provided a fingerprint sensor device for recognizing a fingerprint pattern by moving with a finger in contact with a semiconductor chip having a sensor portion formed on the surface, and sealing the semiconductor chip A sealing resin portion, wherein the sensor portion and the surface of the semiconductor chip are exposed at a bottom portion of the opening portion formed in the sealing resin portion, and the opening portion defines the opening portion. Of these, the portion in the direction of moving the finger is lower than the other portions but higher than the exposed surface of the semiconductor chip.

請求項1記載の発明によれば、センサ部に指を接触させながら移動(走査)する際に、移動の妨げとなるような封止樹脂部が存在しないため、円滑に指紋の認識動作を行うことができ、精度の高い認識を維持することができる。   According to the first aspect of the present invention, when there is no sealing resin portion that hinders movement when moving (scanning) while bringing a finger into contact with the sensor portion, fingerprint recognition is smoothly performed. It is possible to maintain recognition with high accuracy.

請求項2記載の発明によれば、半導体チップの端部が封止樹脂部の突起により覆われるため、欠けや割れが生じ易い半導体チップの端部を保護することができる。   According to the second aspect of the present invention, since the end portion of the semiconductor chip is covered by the protrusion of the sealing resin portion, it is possible to protect the end portion of the semiconductor chip that is likely to be chipped or broken.

請求項3記載の発明によれば、封止樹脂部のうち指を移動する方向における部分は他の部分より低く形成されるため、センサ部に指を接触させながら移動(走査)する際に、円滑に指紋の認識動作を行うことができ、精度の高い認識を維持することができる。   According to the invention of claim 3, since the portion in the direction of moving the finger in the sealing resin portion is formed lower than the other portion, when moving (scanning) while bringing the finger into contact with the sensor portion, Fingerprint recognition can be performed smoothly, and highly accurate recognition can be maintained.

次に、本発明の実施例について図面と共に説明する。   Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図3は本発明の第1実施例による指紋センサ装置の断面図である。図3において、図2示す構成部品と同等な部品には同じ符号を付し、その説明は省略する。   FIG. 3 is a cross-sectional view of the fingerprint sensor device according to the first embodiment of the present invention. 3, parts that are the same as the parts shown in FIG. 2 are given the same reference numerals, and descriptions thereof will be omitted.

本発明の第1実施例による指紋センサ装置は、図2に示す指紋センサ装置の封止樹脂部10の上面に形成された開口部10aより大きな開口部18を有する点で図2に示す指紋センサとは異なっている。   The fingerprint sensor device according to the first embodiment of the present invention has a fingerprint sensor shown in FIG. 2 in that it has an opening 18 larger than the opening 10a formed on the upper surface of the sealing resin portion 10 of the fingerprint sensor device shown in FIG. Is different.

図3に示す指紋センサ装置の基本的な構造は、図2に示す指紋センサの構造と同じであり、回路基板上にダイ付け材22を介して固定された半導体チップ2が、封止樹脂によりモールドされる。封止樹脂部10には開口部18が形成され、開口部18の底面において、半導体チップ2のセンサ部4が露出する。   The basic structure of the fingerprint sensor device shown in FIG. 3 is the same as that of the fingerprint sensor shown in FIG. 2, and the semiconductor chip 2 fixed on the circuit board via the die attachment material 22 is made of sealing resin. Molded. An opening 18 is formed in the sealing resin portion 10, and the sensor portion 4 of the semiconductor chip 2 is exposed on the bottom surface of the opening 18.

図4は図3に示す指紋センサ装置の製造工程において、半導体チップ2を樹脂封止する工程を示す断面図である。封止樹脂部10の開口部18は、モールド金型内にスペーサ20を配置することにより形成される。本実施例による指紋センサ装置は、例えば4.5mm×14mmの平面形状を有し、半導体チップ2の平面形状は、3mm×13mmである。そして、センサ部4は幅約1mmの細長い領域に形成される。図3及び図4において示されるセンサ部4は、幅方向の断面として示されている。   FIG. 4 is a cross-sectional view showing a step of resin-sealing the semiconductor chip 2 in the manufacturing process of the fingerprint sensor device shown in FIG. The opening 18 of the sealing resin portion 10 is formed by disposing the spacer 20 in the mold. The fingerprint sensor device according to the present embodiment has a planar shape of, for example, 4.5 mm × 14 mm, and the planar shape of the semiconductor chip 2 is 3 mm × 13 mm. And the sensor part 4 is formed in the elongate area | region about 1 mm in width. 3 and 4 is shown as a cross section in the width direction.

図4に示すように、半導体チップ2を樹脂封止する際に、モールド金型12にスペーサ20を取り付けて、スペーサ20をモールド金型12とセンサ部4との間に配置する。スペーサ20により封止樹脂が流れ込まない部分が、封止樹脂部10の開口部18となり、封止樹脂部をモールド金型12から取り出すと、スペーサがあった部分に開口部18が形成され、その底部にセンサ部4が露出する。   As shown in FIG. 4, when the semiconductor chip 2 is resin-sealed, a spacer 20 is attached to the mold 12 and the spacer 20 is disposed between the mold 12 and the sensor unit 4. The portion where the sealing resin does not flow in due to the spacer 20 becomes the opening portion 18 of the sealing resin portion 10. When the sealing resin portion is taken out from the mold 12, the opening portion 18 is formed in the portion where the spacer is present. The sensor unit 4 is exposed at the bottom.

スペーサ20は、例えばポリイミド等の耐熱性プラスチックやシリコンゴム等の耐熱性ゴムのように弾力性を有する材料により形成され、予めモールド金型12の所定の部分に取り付けられる。樹脂封止部10の開口18の深さは、約0.2mmであり、スペーサ20の厚みは、圧縮率を考慮して0.2mmより僅かに大きい値に設定される。   The spacer 20 is formed of an elastic material such as a heat-resistant plastic such as polyimide or a heat-resistant rubber such as silicon rubber, and is attached to a predetermined portion of the mold 12 in advance. The depth of the opening 18 of the resin sealing portion 10 is about 0.2 mm, and the thickness of the spacer 20 is set to a value slightly larger than 0.2 mm in consideration of the compressibility.

ここで、スペーサ20の幅(センサ部の幅方向と同じ方向の寸法)は、センサ部4の幅の2倍程度である。したがって、センサ部4の幅方向には、その両側にセンサ部4の周辺部分が露出することになる。具体的には、スペーサ20の幅方向の寸法は、センサ部4の幅方向の一端とスペーサの一端との間の距離Sが図4に示すように0.3mm〜1.0mmとなるように設定される。   Here, the width of the spacer 20 (the dimension in the same direction as the width direction of the sensor unit) is about twice the width of the sensor unit 4. Therefore, in the width direction of the sensor unit 4, peripheral portions of the sensor unit 4 are exposed on both sides thereof. Specifically, the dimension of the spacer 20 in the width direction is such that the distance S between one end of the sensor section 4 in the width direction and one end of the spacer is 0.3 mm to 1.0 mm as shown in FIG. Is set.

上記寸法のスペーサ20により開口部18を形成する場合であっても、図2に示すようなモールドフラッシュが発生するおそれがある。しかし、上述のようにモールドフラッシュの長さは、スペーサの端部から0.3mm〜0.5mm程度であるため、モールドフラッシュが発生しても、図3に示すようにモールドフラッシュがセンサ部4に達することは無い。したがって、モールドフラッシュ16によりセンサ部4が覆われてセンサ部としての機能が損なわれることが防止される。   Even when the opening 18 is formed by the spacer 20 having the above dimensions, mold flash as shown in FIG. 2 may occur. However, as described above, the length of the mold flash is about 0.3 mm to 0.5 mm from the end of the spacer. Therefore, even if a mold flash occurs, the mold flash is connected to the sensor unit 4 as shown in FIG. Never reach. Therefore, it is prevented that the sensor unit 4 is covered with the mold flash 16 and the function as the sensor unit is impaired.

なお、半導体チップの幅は4mm程度であるので、上述の距離Sが1mmを超えるような大きな値となると、センサ部4と同じ面に形成されている半導体チップ2の電極を樹脂封止することができなくなってしまう。このような寸法上の制約に基づいて、上記距離Sは0.3mm〜1.0mmに設定することが好ましい。   Since the width of the semiconductor chip is about 4 mm, the electrodes of the semiconductor chip 2 formed on the same surface as the sensor unit 4 are resin-sealed when the distance S is a large value exceeding 1 mm. Will not be able to. Based on such dimensional constraints, the distance S is preferably set to 0.3 mm to 1.0 mm.

ここで、距離Sの起算点は、開口部18の底部の端部は、スペーサ20の端部に対応する位置、すなわち、モールドフラッシュが発生しないときの開口部18の底部の端部として規定される。   Here, the starting point of the distance S is defined as the position of the bottom end of the opening 18 corresponding to the end of the spacer 20, that is, the end of the bottom of the opening 18 when mold flash does not occur. The

次に、本発明の第2実施例について、図5及び図6を参照しながら説明する。図5は本発明の第2実施例による指紋センサ装置の断面図であり、図6は図5に示す指紋センサ装置の製造工程において、半導体チップ2を樹脂封止する工程を示す断面図である。   Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a cross-sectional view of a fingerprint sensor device according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a cross-sectional view showing a step of resin-sealing the semiconductor chip 2 in the manufacturing process of the fingerprint sensor device shown in FIG. .

本発明の第2実施例による指紋センサ装置は、図3に示す第1実施例による指紋センサ装置と同様な構成であるが、樹脂封止部に形成された開口部の形状が異なる。本実施例では、開口部の形状は図5に示すように底部に段差が付けられており、センサ部4が露出した面の周囲に高さ70μm〜150μmの段差部18Aが形成されている。   The fingerprint sensor device according to the second embodiment of the present invention has the same configuration as the fingerprint sensor device according to the first embodiment shown in FIG. 3, but the shape of the opening formed in the resin sealing portion is different. In this embodiment, the shape of the opening has a step at the bottom as shown in FIG. 5, and a step 18A having a height of 70 μm to 150 μm is formed around the surface where the sensor unit 4 is exposed.

段差部18Aを形成するには、図6に示すように、スペーサ20Aを2段形状とすればよい。すなわち、スペーサ20Aの上側の段の面がセンサ部4に接触して押圧され、上側の段の周囲の面は、70μm〜150μm低い位置にある。このようなスペーサ20Aを用いて樹脂モールドした場合、封止樹脂は下側の段と半導体チップ2の上面との間に形成された70μm〜150μmの間隙Gに流れ込んで図5に示される段差部18Aが形成される。   In order to form the stepped portion 18A, the spacer 20A may be formed in a two-step shape as shown in FIG. That is, the surface of the upper step of the spacer 20A is pressed in contact with the sensor unit 4, and the surface around the upper step is at a position 70 μm to 150 μm lower. When resin molding is performed using such a spacer 20A, the sealing resin flows into a gap G of 70 μm to 150 μm formed between the lower step and the upper surface of the semiconductor chip 2, and the step portion shown in FIG. 18A is formed.

ここで、間隙Gに封止樹脂が流れ込む際、間隙Gが小さいため流入する圧力が急激に減少し、間隙の最深部、すなわちセンサ部4の端部付近に到達したときは、圧力が非常に弱まって、スペーサ20Aとセンサ部4との間に入り込むことはできない。したがって、モールドフラッシュが発生することを防止することができる。   Here, when the sealing resin flows into the gap G, since the gap G is small, the inflowing pressure rapidly decreases, and when reaching the deepest part of the gap, that is, near the end of the sensor part 4, the pressure is very high. It becomes weak and cannot enter between the spacer 20 </ b> A and the sensor unit 4. Therefore, occurrence of mold flash can be prevented.

間隙Gの幅、すなわちセンサ部4からの段差部18Aの高さは、あまり小さいと封止樹脂が流れ込まなくなり、また、大きすぎると圧力損失が小さくなってモールドフラッシュが発生する。通常のトランスファモールドに用いられる封止樹脂の場合、上述のように間隙Gが70μm〜150μmであれば、間隙Gに流れ込む封止樹脂の圧力を適度に弱めつつ、封止樹脂が間隙の最深部まで到達させることができる。したがって、封止樹脂部10の開口部18の底面にモールドフラッシュを生じることなく、センサ部4を残して半導体チップ2の全面を樹脂封止することができる。   If the width of the gap G, that is, the height of the stepped portion 18A from the sensor portion 4, is too small, the sealing resin does not flow in. If it is too large, the pressure loss is reduced and mold flash occurs. In the case of a sealing resin used in a normal transfer mold, if the gap G is 70 μm to 150 μm as described above, the sealing resin is the deepest part of the gap while moderately reducing the pressure of the sealing resin flowing into the gap G. Can be reached. Therefore, the entire surface of the semiconductor chip 2 can be resin-sealed while leaving the sensor portion 4 without causing mold flash on the bottom surface of the opening 18 of the sealing resin portion 10.

次に、本発明の第3実施例による指紋センサ装置について説明する。第3実施例による指紋センサ装置は特にスウィープタイプの指紋センサに関る。まず、スウィープタイプの指紋センサについて図7を参照しながら説明する。   Next, a fingerprint sensor device according to a third embodiment of the present invention is described. The fingerprint sensor device according to the third embodiment particularly relates to a sweep type fingerprint sensor. First, a sweep type fingerprint sensor will be described with reference to FIG.

スウィープタイプの指紋センサ装置は、指などの指紋がある部分をセンサ部分に接触させながら移動することにより、指紋のパターンを認識するセンサである。センサ部として静電容量センサが用いられ、指を移動したとき(指をスウィープしたとき)の指紋の凹凸部の移動による静電容量の変化データを演算処理することにより、個別の指紋パターンを認識するものである。したがって、センサ部が露出する開口部の周囲の高さが大きいと、指をセンサ部に接触させながら移動することが難しくなる。このため、開口部の周囲のうち、少なくとも指の移動方向(走査方向)の周囲部分はなるべく低くすることが好ましい。   A sweep type fingerprint sensor device is a sensor that recognizes a fingerprint pattern by moving a part with a fingerprint such as a finger in contact with the sensor part. Capacitance sensors are used as sensor units, and individual fingerprint patterns are recognized by processing the change data of capacitance due to the movement of the concave and convex portions of the fingerprint when the finger is moved (when the finger is swept). To do. Therefore, if the height around the opening from which the sensor unit is exposed is large, it becomes difficult to move the finger while contacting the sensor unit. For this reason, it is preferable that at least the peripheral portion in the finger movement direction (scanning direction) of the periphery of the opening is as low as possible.

図8は本発明の第3実施例による指紋センサ装置の断面図であり、図9は図8に示す指紋センサ装置の製造工程において、半導体チップ2を樹脂封止する工程を示す断面図である。図8及び図9において、図5及び図6に示す構成部品と同等な部品には同じ符号を付し、その説明は省略する。   FIG. 8 is a cross-sectional view of a fingerprint sensor device according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a cross-sectional view showing a step of resin-sealing the semiconductor chip 2 in the manufacturing process of the fingerprint sensor device shown in FIG. . 8 and 9, parts that are the same as the parts shown in FIGS. 5 and 6 are given the same reference numerals, and descriptions thereof will be omitted.

本発明の第3実施例によるスウィープタイプの指紋センサは、センサ部4の走査方向の下流側において、半導体チップ2の表面が露出した状態で樹脂封止されている。すなわち、センサ部4の走査方向の下流側における開口部18Bの周囲を取り除いた状態にして半導体チップ2を樹脂封止する。なお、半導体チップの上面の露出部には、予め保護膜を形成しておくことが好ましい。   The sweep type fingerprint sensor according to the third embodiment of the present invention is resin-sealed with the surface of the semiconductor chip 2 exposed on the downstream side of the sensor unit 4 in the scanning direction. That is, the semiconductor chip 2 is resin-sealed in a state where the periphery of the opening 18B on the downstream side in the scanning direction of the sensor unit 4 is removed. Note that a protective film is preferably formed in advance on the exposed portion of the upper surface of the semiconductor chip.

上述の開口部18Bは、図9に示すように、センサ部4の走査方向の下流側に延在するスペーサ24をモールド金型12に取り付けることにより形成することができる。スペーサ24は、樹脂封止される半導体チップ2の上面を覆い、更に下流側に延在するような形状である。したがって、指紋認識の際に指を走査するときに何の抵抗もなく滑らかに移動することができ、指紋認識精度が向上する。   As shown in FIG. 9, the above-described opening 18 </ b> B can be formed by attaching a spacer 24 that extends downstream in the scanning direction of the sensor unit 4 to the mold 12. The spacer 24 has a shape that covers the upper surface of the resin-sealed semiconductor chip 2 and extends further downstream. Therefore, when scanning a finger during fingerprint recognition, the finger can move smoothly without any resistance, and fingerprint recognition accuracy is improved.

図10は上述の第3実施例による指紋センサ装置の変形例を示す断面図であり、図11は図10に示す指紋センサ装置の製造工程において、半導体チップを樹脂封止する工程を示す断面図である。   FIG. 10 is a cross-sectional view showing a modification of the fingerprint sensor device according to the third embodiment, and FIG. 11 is a cross-sectional view showing a step of resin-sealing a semiconductor chip in the manufacturing process of the fingerprint sensor device shown in FIG. It is.

図10に示す指紋センサ装置は、半導体チップ2と封止樹脂部10との境界部分に僅かに封止樹脂を突出して形成した突起部26を設けたものである。突起部26は、図11に示すようにスペーサ24の一部に突出部の形状に対応した切り欠きを設けることにより容易に形成することができる。突起部26は半導体チップ2の端部を覆うような位置に設けられ、半導体チップ2の端部が欠けたり損傷したりすることを防止する機能を果たす。   The fingerprint sensor device shown in FIG. 10 is provided with a protruding portion 26 formed by slightly protruding the sealing resin at the boundary portion between the semiconductor chip 2 and the sealing resin portion 10. As shown in FIG. 11, the protrusion 26 can be easily formed by providing a cutout corresponding to the shape of the protrusion in a part of the spacer 24. The protrusion 26 is provided at a position that covers the end of the semiconductor chip 2, and functions to prevent the end of the semiconductor chip 2 from being chipped or damaged.

次に、本発明の第4実施例による指紋センサ装置について、図12乃至14を参照しながら説明する。図12は本発明の第4実施例による指紋センサ装置の断面図である。また、図13は図10に示す指紋センサ装置の製造工程において、半導体チップを樹脂封止する前の準備工程を示す断面図であり、図14は図10に示す指紋センサ装置の製造工程において、半導体チップを樹脂封止する工程を示す断面図である。   Next, a fingerprint sensor device according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 12 is a cross-sectional view of a fingerprint sensor device according to a fourth embodiment of the present invention. 13 is a cross-sectional view showing a preparation process before resin-sealing a semiconductor chip in the manufacturing process of the fingerprint sensor device shown in FIG. 10, and FIG. 14 is a manufacturing process of the fingerprint sensor device shown in FIG. It is sectional drawing which shows the process of resin-sealing a semiconductor chip.

本発明の第4実施例による指紋センサ装置は、図8に示す指紋センサ装置と同様に半導体チップ2の表面の一部が露出した構成となっており、センサ部4を指で走査しやすくなっている。ただし、本実施例では、半導体チップ2の端部を保護するために、封止樹脂部10は半導体チップ2の露出面より僅かに高く設定されている。   The fingerprint sensor device according to the fourth embodiment of the present invention has a configuration in which a part of the surface of the semiconductor chip 2 is exposed as in the fingerprint sensor device shown in FIG. 8, and the sensor unit 4 can be easily scanned with a finger. ing. However, in this embodiment, the sealing resin portion 10 is set slightly higher than the exposed surface of the semiconductor chip 2 in order to protect the end portion of the semiconductor chip 2.

封止樹脂部10の面を半導体チップ2の面より僅かに高くするには、まず、図13に示すように、樹脂封止する前の半導体チップ2の上面に保護テープ30を貼り付ける。保護テープ30の材質は、上述のスペーサと同様な材質が好ましい。そして、図14に示すように、保護テープ30がセンサ部4と半導体チップ2の露出すべき面とに渡って貼り付けられた状態で樹脂モールドを行う。モールド後に保護テープ30を剥離して取り除くことにより、図12に示す指紋センサ装置となる。したがって、封止樹脂部10の上面と半導体チップ2の上面との間に、保護テープ30の厚み分の高さの違いが生じる。これにより半導体チップ2の端部を保護することができる。   In order to make the surface of the sealing resin portion 10 slightly higher than the surface of the semiconductor chip 2, first, as shown in FIG. 13, a protective tape 30 is attached to the upper surface of the semiconductor chip 2 before resin sealing. The material of the protective tape 30 is preferably the same material as the above-mentioned spacer. Then, as shown in FIG. 14, resin molding is performed in a state in which the protective tape 30 is pasted over the sensor unit 4 and the surface to be exposed of the semiconductor chip 2. By peeling off the protective tape 30 after molding, the fingerprint sensor device shown in FIG. 12 is obtained. Therefore, a height difference corresponding to the thickness of the protective tape 30 is generated between the upper surface of the sealing resin portion 10 and the upper surface of the semiconductor chip 2. Thereby, the edge part of the semiconductor chip 2 can be protected.

また、保護テープ30の代わりに半導体チップ2の上面とセンサ部4とに渡って感光性樹脂を塗布してもよい。すなわち、図15に示すように、センサ部4と半導体チップ2の露出すべき面とに、感光性樹脂膜32を形成する。感光性樹脂膜32は、半導体チップ製造技術において用いられるような、レジストをパターン化してエッチングする技術を用いて形成することができる。   Further, a photosensitive resin may be applied over the upper surface of the semiconductor chip 2 and the sensor unit 4 instead of the protective tape 30. That is, as shown in FIG. 15, a photosensitive resin film 32 is formed on the sensor unit 4 and the surface to be exposed of the semiconductor chip 2. The photosensitive resin film 32 can be formed using a technique of patterning and etching a resist, such as that used in semiconductor chip manufacturing techniques.

そして、図16に示すように、感光性樹脂膜32がセンサ部4と半導体チップ2の露出すべき面とに渡って形成された状態で樹脂モールドを行う。モールド後に、図17に示すように、感光性樹脂膜32を露光して洗浄することにより取り除き、図12に示す指紋センサ装置となる。したがって、封止樹脂部10の上面と半導体チップ2の上面との間に、感光性樹脂膜32の厚み分の高さの違いが生じる。これにより半導体チップ2の端部を保護することができる。   Then, as shown in FIG. 16, resin molding is performed in a state where the photosensitive resin film 32 is formed over the sensor portion 4 and the surface to be exposed of the semiconductor chip 2. After the molding, as shown in FIG. 17, the photosensitive resin film 32 is removed by exposure and cleaning, and the fingerprint sensor device shown in FIG. 12 is obtained. Therefore, a difference in height corresponding to the thickness of the photosensitive resin film 32 occurs between the upper surface of the sealing resin portion 10 and the upper surface of the semiconductor chip 2. Thereby, the edge part of the semiconductor chip 2 can be protected.

指紋センサ装置の製造工程において、樹脂封止工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a resin sealing process in the manufacturing process of a fingerprint sensor apparatus. 封止樹脂がセンサ部とスペーサとの間に入り込んだ状態でモールドされた指紋センサ装置の断面図である。It is sectional drawing of the fingerprint sensor apparatus molded in the state in which sealing resin entered between the sensor part and the spacer. 本発明の第1実施例による指紋センサ装置の断面図である。1 is a cross-sectional view of a fingerprint sensor device according to a first embodiment of the present invention. 図3に示す指紋センサ装置の製造工程において、半導体チップを樹脂封止する工程を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a step of resin-sealing a semiconductor chip in the manufacturing process of the fingerprint sensor device shown in FIG. 3. 本発明の第2実施例による指紋センサ装置の断面図である。It is sectional drawing of the fingerprint sensor apparatus by 2nd Example of this invention. 図5に示す指紋センサ装置の製造工程において、半導体チップを樹脂封止する工程を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a step of resin-sealing a semiconductor chip in the manufacturing process of the fingerprint sensor device shown in FIG. 5. スウィープタイプの指紋センサ装置を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating a sweep type fingerprint sensor apparatus. 本発明の第3実施例による指紋センサ装置の断面図である。It is sectional drawing of the fingerprint sensor apparatus by 3rd Example of this invention. 図8に示す指紋センサ装置の製造工程において、半導体チップ2を樹脂封止する工程を示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing a step of resin-sealing the semiconductor chip 2 in the manufacturing process of the fingerprint sensor device shown in FIG. 8. 本発明の第3実施例による指紋センサ装置の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the fingerprint sensor apparatus by 3rd Example of this invention. 図10に示す指紋センサ装置の製造工程において、半導体チップを樹脂封止する工程を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a step of resin-sealing a semiconductor chip in the manufacturing process of the fingerprint sensor device shown in FIG. 10. 本発明の第4実施例による指紋センサ装置の断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of a fingerprint sensor device according to a fourth embodiment of the present invention. 図10に示す指紋センサ装置の製造工程において、半導体チップを樹脂封止する前に保護テープを貼り付ける工程を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a process of attaching a protective tape before resin-sealing a semiconductor chip in the manufacturing process of the fingerprint sensor device shown in FIG. 10. 図10に示す指紋センサ装置の製造工程において、半導体チップを樹脂封止する工程を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a step of resin-sealing a semiconductor chip in the manufacturing process of the fingerprint sensor device shown in FIG. 10. 図10に示す指紋センサ装置の製造工程において、半導体チップを樹脂封止する前に感光性樹脂膜を形成する工程を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a step of forming a photosensitive resin film before resin-sealing a semiconductor chip in the manufacturing process of the fingerprint sensor device shown in FIG. 10. 図10に示す指紋センサ装置の製造工程において、半導体チップを樹脂封止する工程を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a step of resin-sealing a semiconductor chip in the manufacturing process of the fingerprint sensor device shown in FIG. 10. 図10に示す指紋センサ装置の製造工程において、半導体チップを樹脂封止した後の露光工程を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing an exposure process after resin-sealing a semiconductor chip in the manufacturing process of the fingerprint sensor device shown in FIG. 10.

符号の説明Explanation of symbols

2 半導体チップ
4 センサ部
6 金ワイヤ
8 回路基板
12 モールド金型
16 モールドフラッシュ
18 開口部
18A 段差部
20,20A,24 スペーサ
22 ダイ付け材
26 突起部
30 保護テープ
32 感光性樹脂膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 2 Semiconductor chip 4 Sensor part 6 Gold wire 8 Circuit board 12 Mold die 16 Mold flash 18 Opening part 18A Step part 20, 20A, 24 Spacer 22 Die attachment material 26 Protrusion part 30 Protective tape 32 Photosensitive resin film

Claims (3)

指を接触させながら移動して指紋のパターンを認識するための指紋センサ装置であって、
センサ部が表面に形成された半導体チップと、該半導体チップを封止する封止樹脂部とを有し、
該封止樹脂部に形成された開口部の底部において前記センサ部及び前記半導体チップの表面が露出し、且つ前記開口部を画成する前記封止樹脂部のうち指を移動する方向における部分は、前記半導体チップの露出した面と同一面上にある平面であり、前記封止樹脂部の上面は前記半導体チップの表面より高く、且つ前記開口部は前記封止樹脂部の前記上面に形成されていることを特徴とする指紋センサ装置。
A fingerprint sensor device for recognizing a fingerprint pattern by moving while touching a finger,
A semiconductor chip having a sensor portion formed on the surface, and a sealing resin portion for sealing the semiconductor chip;
The surface of the sensor part and the semiconductor chip is exposed at the bottom of the opening formed in the sealing resin part, and the part of the sealing resin part that defines the opening in the direction of moving a finger is , the plane der in the same plane as the exposed surface of the semiconductor chip is, the upper surface of the sealing resin portion is higher than the surface of the semiconductor chip, the and the opening formed on the upper surface of the sealing resin portion fingerprint sensor apparatus characterized by being.
請求項1記載の指紋センサ装置であって、
前記半導体チップの露出した面と前記封止樹脂部の前記平面との境界を跨いで前記封止樹脂部の一部として該境界に沿って突起が形成されたことを特徴とする指紋センサ装置。
The fingerprint sensor device according to claim 1,
A fingerprint sensor device, wherein a protrusion is formed along the boundary as a part of the sealing resin portion across the boundary between the exposed surface of the semiconductor chip and the flat surface of the sealing resin portion.
指を接触させながら移動して指紋のパターンを認識するための指紋センサ装置であって、
センサ部が表面に形成された半導体チップと、該半導体チップを封止する封止樹脂部とを有し、
該封止樹脂部に形成された開口部の底部において前記センサ部及び前記半導体チップの表面が露出し、且つ前記開口部を画成する前記封止樹脂部のうち指を移動する方向における部分は、他の部分より低いが前記半導体チップの露出した面よりは高いことを特徴とする指紋センサ装置。
A fingerprint sensor device for recognizing a fingerprint pattern by moving while touching a finger,
A semiconductor chip having a sensor portion formed on the surface, and a sealing resin portion for sealing the semiconductor chip;
The surface of the sensor part and the semiconductor chip is exposed at the bottom of the opening formed in the sealing resin part, and the part of the sealing resin part that defines the opening in the direction of moving a finger is The fingerprint sensor device is lower than other portions but higher than the exposed surface of the semiconductor chip.
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