JP4279102B2 - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Description
以下、図面を参照しつつ本実施の形態について詳細に説明する。
図1は、本実施の形態に係る基板処理装置100の平面図である。ここでは、基板に反射防止膜やフォトレジスト膜を塗布形成するとともに、露光された基板に現像処理などの薬液処理を施す基板処理装置を例にとって説明する。なお、図1および以降の各図には、それらの方向関係を明確にすべく必要に応じて適宜、Z軸方向を鉛直方向とし、XY平面を水平面とするXYZ直交座標系を付している。
図6は、基板処理装置100の各ブロック1〜5の配置を示す平面図である。図7は、基板処理装置100のセル配置を示す平面図である。また、図8は、基板処理装置100の制御系を示すブロック図である。ここでは、本実施の形態における基板処理装置100の制御系について説明する。
ここでは、基板処理装置100に含まれるインデクサセルC1、反射防止膜用処理セルC2、レジスト膜用処理セルC3、現像処理セルC4、露光後熱処理セルC5、およびインターフェイスセルC6のそれぞれの動作について説明する。
本実施の形態に係る基板処理装置100においては、タクトタイムに基づかずに複数の基板を可能な限り連続して順次搬送する制御を行う連続搬送制御方式が採用される。そして、基板処理装置100は、所定の処理ユニットの処理環境を調整する場合に、インデクサではなく、処理ユニットにより近い箇所にて基板を待機させ、処理環境の調整完了後に、待機中の基板を処理ユニットへと搬送する。
本実施の形態は、実施の形態1の変形例であり、基板に対して液状物塗布処理を行う処理ユニットが処理環境の調整として洗浄処理による塗布環境の調整を行う場合に、実施の形態1と同様の基板の搬送停止・再開処理を行うものである。なお、本実施の形態においても、基板処理装置100において図12の基板搬送経路が採用される場合を例に採る。
2 反射防止膜処理ブロック
3 レジスト膜処理ブロック
4 現像処理ブロック
5 インターフェイスブロック
6 カセット載置台
7 インデクサ用搬送機構
8 塗布処理部
10(10A〜10D) 主搬送機構
10a、10b 保持アーム
10c ピン
10d 基台
11 スピンチャック
12 ノズル
13 隔壁
15 塗布処理部
15a〜15c 塗布処理ユニット
16 熱処理部
17 スピンチャック
18 ノズル
19 基板仮置部
30 現像処理部
30a〜30e 現像処理ユニット
31 熱処理部
32 スピンチャック
33 ノズル
35 インターフェイス用搬送機構
36 スピンチャック
37 光照射器
100 基板処理装置
35a 可動台
35b 保持アーム
7a 可動台
7b 保持アーム
8a 塗布処理ユニット
8b 塗布処理ユニット
8c 塗布処理ユニット
AHL アドヒージョン処理ユニット
C カセット
EEW エッジ露光ユニット
HP 加熱プレート
PASS(PASS1〜PASS10) 基板載置部
SBF 送り用バッファ
RBF 戻し用バッファ
STP 露光装置
TP 熱処理部
W,Wa〜Wi 基板
Claims (6)
- タクトタイムに基づかずに複数の基板を連続して順次搬送する制御を行う連続搬送制御方式の基板処理装置であって、
前記基板に対して所定の処理を行い、前記所定の処理を行うための処理環境を調整可能な処理ユニットを含む複数の処理ブロックと、
未処理の前記基板を受け入れて前記複数の処理ブロック側に送り出すインデクサブロックと、
前記インデクサブロックと前記インデクサブロックに隣接する処理ブロックとの間に、および各処理ブロックの間に、それぞれ設けられており、前記基板の受け渡しを行う基板載置部と、
を備え、
前記インデクサブロックは、対応する前記基板載置部と、前記基板を収納可能なカセットとの間で基板の受け渡しを行うインデクサ用搬送手段、
を有し、
前記複数の処理ブロックのそれぞれは、対応する前記基板載置部および前記処理ユニットとの間で、前記基板の受け渡しを行う主搬送手段、
を有し、
前記複数の処理ブロックのうちある任意の処理ブロック内の処理ユニットで処理環境が調整される場合、前記インデクサ用搬送手段および各主搬送手段は、
i) 前記基板のうち前記ある任意の処理ブロックに未達で最先のものが、前記複数の基板載置部のうち前記ある任意の処理ブロックの直前に位置する第1基板載置部に載置されるまで、前記最先およびそれ以降の基板の搬送処理を継続させ、
ii) 前記最先のものが前記第1基板載置部まで搬送されると、前記搬送処理を停止し、
iii) 調整完了の通知を受けた後に、前記搬送処理を再開することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記所定の処理とは、加熱処理であり、
前記処理環境の調整とは、前記加熱処理における処理温度の変更のための温度調整であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記所定の処理とは、液状物塗布処理であり、
前記処理環境の調整とは、前記処理ユニット内の洗浄処理による塗布環境の調整であることを特徴とする基板処理装置。 - 基板処理装置において実行され、タクトタイムに基づかずに基板を連続して順次搬送する制御を行う連続搬送制御方式の基板処理方法であって、
前記基板処理装置は、
前記基板に対して所定の処理を行い、前記所定の処理を行うための処理環境を調整可能な処理ユニットと、主搬送手段と、を含む複数の処理ブロックと、
インデクサ用搬送手段を含み、未処理の前記基板を受け入れて前記複数の処理ブロック側に送り出すインデクサブロックと、
前記インデクサブロックと前記インデクサブロックに隣接する処理ブロックとの間に、および各処理ブロックの間に、それぞれ設けられており、前記基板の受け渡しを行う基板載置部と、
を有し
(a) 前記インデクサ用搬送手段および各主搬送手段によって、未処理の前記基板を前記インデクサブロックから前記複数の処理ブロックのそれぞれに送り出す工程と、
(b) 前記複数の処理ブロックのうちある任意の処理ブロック内の処理ユニットについて、基板処理に応じた処理環境に調整する工程と、
を備え、
前記工程(a)は、
(a-1) 前記工程(b)が開始された後において、前記基板のうち前記ある任意の処理ブロックの処理ユニットに未達で最先のものが、前記複数の基板載置部のうち前記ある任意の処理ブロックの直前に位置する第1基板載置部に載置されるまで、前記最先およびそれ以降の基板について搬送処理を継続させる工程と、
(a-2) 前記最先のものが前記第1基板載置部まで搬送されると、前記搬送処理を停止させる工程と、
(a-3) 前記処理環境の調整完了に応じて、前記搬送処理を再開させる工程と、
を有することを特徴とする基板処理方法。 - 請求項4に記載の基板処理方法であって、
前記所定の処理とは、加熱処理であり、
前記処理環境の調整とは、前記加熱処理における処理温度の変更のための温度調整であることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項4に記載の基板処理方法であって、
前記所定の処理とは、液状物塗布処理であり、
前記処理環境の調整とは、前記処理ユニット内の洗浄処理による塗布環境の調整であることを特徴とする基板処理方法。
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