JP4127688B2 - スタンパ並びにスタンパ及び磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Description
第1の実施の形態に係わるスタンパの製造方法について図1及び図2を参照して説明する。
変形例1.1に係わるスタンパの製造方法について図3を参照して説明する。
変形例1.2に係わるスタンパの製造方法について、図3を参照して説明する。
第2の実施の形態に係わる磁気記録媒体の製造方法について図4を参照して説明する。
11 原盤基板
12 レジスト層
30 犠牲層
32 第2の犠牲層
33 第3の犠牲層
50 スタンパ
51 親スタンパ
52 子スタンパ
53 孫スタンパ
70 磁気記録媒体
71 磁気記録媒体基板
72 磁性層
73 レジスト層
90 金属酸化層
a 原盤凹部幅
b スタンパ凸部幅
c インプリント後レジスト凹部幅
d レジスト残渣除去後レジスト凹部幅
e 磁性体加工後レジスト凹部幅
Claims (9)
- 表面に凹凸形状を有する原盤を作製する工程と、
前記原盤の凹凸形成面をTa、Ti、W及びMoのいずれかからなる犠牲層で被膜する工程と、
その後、電気鋳造を用いて、前記原盤から前記凹凸形状を転写したスタンパを作製する工程と、
前記スタンパ及び前記犠牲層を前記原盤から剥離する工程と、
フッ素系ガスによるエッチング法を用いて、前記スタンパを被膜する前記犠牲層を除去する工程と、
を備えることを特徴とするスタンパの製造方法。 - 表面に凹凸形状を有する原盤を作製する工程と、
前記原盤の凹凸形成面をTa、Ti、W及びMoのいずれかからなる第1の犠牲層で被膜する工程と、
その後、電気鋳造を用いて、前記原盤から前記凹凸形状を転写した親スタンパを作製する工程と、
前記親スタンパ及び前記第1の犠牲層を前記原盤から剥離する工程と、
フッ素系ガスによるエッチング法を用いて、前記親スタンパを被膜する前記第1の犠牲層を除去する工程と、
前記親スタンパの凹凸形成面を酸化させる工程と、
前記親スタンパの凹凸形成面をTa、Ti、W及びMoのいずれかからなる第2の犠牲層で被膜する工程と、
その後、電気鋳造を用いて、前記親スタンパから前記凹凸形状を転写した子スタンパを作製する工程と、
前記子スタンパ及び前記第2の犠牲層を前記親スタンパから剥離する工程と、
フッ素系ガスによるエッチング法を用いて、前記子スタンパを被膜する前記第2の犠牲層を除去する工程と、
前記子スタンパの凹凸形成面を酸化させる工程と、
前記子スタンパの凹凸形成面をTa、Ti、W及びMoのいずれかからなる第3の犠牲層で被膜する工程と、
その後、電気鋳造を用いて、前記子スタンパから前記凹凸形状を転写した孫スタンパを作製する工程と、
前記孫スタンパ及び前記第3の犠牲層を前記子スタンパから剥離する工程と、
フッ素系ガスによるエッチング法を用いて、前記孫スタンパを被膜する前記第3の犠牲層を除去する工程と、
を備えることを特徴とするスタンパの製造方法。 - 表面に凹凸形状を有する原盤を作製する工程と、
前記原盤の凹凸形成面をTa、Ti、W及びMoのいずれかからなる第1の犠牲層で被膜する工程と、
その後、電気鋳造を用いて、前記原盤から前記凹凸形状を転写した親スタンパを作製する工程と、
前記親スタンパ及び前記第1の犠牲層を前記原盤から剥離する工程と、
フッ素系ガスによるエッチング法を用いて、前記親スタンパを被膜する前記第1の犠牲層を除去する工程と、
前記親スタンパの凹凸形成面を酸化させる工程と、
その後、電気鋳造を用いて、前記親スタンパから前記凹凸形状を転写した子スタンパを作製する工程と、
前記子スタンパを前記親スタンパから剥離する工程と、
前記子スタンパの凹凸形成面を酸化させる工程と、
前記子スタンパの凹凸形成面をTa、Ti、W及びMoのいずれかからなる第3の犠牲層で被膜する工程と、
その後、電気鋳造を用いて、前記子スタンパから前記凹凸形状を転写した孫スタンパを作製する工程と、
前記孫スタンパ及び前記第3の犠牲層を前記子スタンパから剥離する工程と、
フッ素系ガスによるエッチング法を用いて、前記孫スタンパを被膜する前記第3の犠牲層を除去する工程と、
を備えることを特徴とするスタンパの製造方法。 - 前記フッ素系ガスは、SF6ガスからなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のスタンパの製造方法。
- 前記原盤凹部側面における前記犠牲層の膜厚を5nm以上50nm以下にすることにより、製造するスタンパの凸部幅を減少させることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のスタンパの製造方法。
- 表面に凹凸形状を有する原盤を作製する工程と、
前記原盤の凹凸形成面をTa、Ti、W及びMoのいずれかからなる犠牲層で被膜する工程と、
その後、電気鋳造を用いて、前記原盤から前記凹凸形状を転写したスタンパを作製する工程と、
前記スタンパ及び前記犠牲層を前記原盤から剥離する工程と、
フッ素系ガスによるエッチング法を用いて、前記スタンパを被膜する前記犠牲層を除去する工程と、
媒体基板上に磁性層、レジスト層を順次積層させる工程と、
前記レジスト層に対し前記スタンパの凹凸形状を転写する工程と、
リアクティブイオンエッチングを用いて、前記レジスト層凹部底のレジスト残渣を除去する工程と、
イオンミリングを用いて、前記凹部底方向に磁性層を切削する工程と、
その後、前記レジスト層を除去する工程と、を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 前記フッ素系ガスは、SF6からなることを特徴とする請求項5に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 請求項1〜4のいずれかの1項に記載の製造方法によって製造され、Co、Ni、Cu、Pd、Ag、Pt及びAuの何れか、或いはこれらの中にBもしくはPを含む金属からなり、凹凸形成面領域にフッ素を含有することを特徴とするスタンパ。
- 前記フッ素は、10ppm以上2000ppm以下前記凹凸形成面領域に含有されることを特徴とする請求項7に記載のスタンパ。
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