JP4076623B2 - Tunable light source - Google Patents

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JP4076623B2 JP15527098A JP15527098A JP4076623B2 JP 4076623 B2 JP4076623 B2 JP 4076623B2 JP 15527098 A JP15527098 A JP 15527098A JP 15527098 A JP15527098 A JP 15527098A JP 4076623 B2 JP4076623 B2 JP 4076623B2
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体レーザから出射された光を回折格子に入射し、回折格子の回折光をミラーによって回折格子へ反射するように構成するとともに、半導体レーザからの光に対する回折格子の角度と半導体レーザの外部共振器長とを可変することによって、波長を連続可変する光を出力する波長可変光源に関する。
【0002】
【従来の技術】
光部品の各種の波長依存特性を測定するための光源として、従来より外部共振型の波長可変光源が用いられている。
【0003】
リトマン型の外部共振型の波長可変光源は、半導体レーザの出射光を回折格子に入射し、その回折光をミラーによって回折格子側へ反射して半導体レーザ側へ戻すように構成されている。
【0004】
この構成においては、ミラーと半導体レーザの一方の端面との間で外部共振器を構成しており、この外部共振器長を変化させると半導体レーザから出射される共振波長が連続的に変化する。さらに、回折格子への半導体レーザからの光の入射を可変すると、外部共振器の選択波長が変化する。
【0005】
したがって、この外部共振型の半導体レーザで出射波長を連続的に変化させるためには、外部共振器長を可変することで共振波長が変化する光のうち、特定の共振モードの光の波長の変化に追従させて回折格子の角度を可変する必要がある。
【0006】
このように、外部共振器長の変化に対して回折格子の角度が追従変化させるために、従来の波長可変光源10は図5に示すように構成されている。
【0007】
この波長可変光源10は、上面が平坦なベース11上に形成されている。ベース11上の所定位置には、光をベース上面に沿って一定方向に出射する半導体レーザ12が設けられている。半導体レーザ12から出射された光は、コリメータ13によって平行光に変換される。
【0008】
コリメータ13をはさんで半導体レーザ12の反対側には、直進ステージ14が配置されている。直進ステージ14の上面14aはベース11の上面11aと平行に形成されており、図示しないガイド部材によってコリメータ13の光軸に沿ってベース11上を直線的に移動可能になっており、モータ等からなる駆動装置15によって駆動される。
【0009】
直進ステージ14の上には、回転ステージ16が設けられている。回転ステージ16は、直進ステージ14の上面14aに直交し且つコリメータ13の光軸と交わる回転軸Jを中心として直進ステージ14に回転自在に支持されている。
【0010】
回転ステージ16の上には、回折格子17とミラー18が固定されている。回折格子17は、光を回折するための刻線が設けられた回折面17a上を回転ステージ16の回転軸Jが通り且つ刻線が回転ステージ16の回転軸Jと平行となるように、回転ステージ16上に固定されている。
【0011】
ミラー18は、その反射面18aを回折格子17の回折面17aに対向させた状態で、回転ステージ16の周縁上に固定されている。
【0012】
また、回転ステージ16にはスライドバー20の一端側20aが固定されている。スライドバー20は、回転ステージ16の回転軸Jに直交し且つ回折格子17の回折面17aと同一平面内で回転ステージ16の径方向に延びている。
【0013】
スライドバー20の他端20b側は、ベース11上に立設されたスライドガイド21の台部21aによって下方から支持されており、その先端は、スライドガイド21のガイド面21bに当接している。スライドガイド21のガイド面21bは、回転ステージ16の回転軸Jに平行で且つ直進ステージ14の移動方向と直交する方向に延びており、このガイド面21bによってスライドバー20の先端を、直進ステージ14の移動方向と直交する方向に摺動案内する。
【0014】
なお、回転ステージ16とベース11との間には、回転ステージ16に取り付けられたスライドバー20の先端がスライドガイド21のガイド面21bに常に当接する方向に回転付勢するためのバネ22が取り付けられている。
【0015】
このように構成された波長可変光源10では、駆動装置15によって例えば図6に示すように、直進ステージ14が半導体レーザ12に近づく方向に所定距離移動すると、スライドバー20の先端とスライドガイド21のガイド面21bとの当接位置Aが半導体レーザ12から遠ざかる方向に移動して、回転ステージ16がバネ22の力に抗して時計回りに所定角度回転する。逆に直進ステージ14が半導体レーザ12から離間する方向に移動すると、バネ22の力によってスライドバー20の先端とスライドガイド21のガイド面21bとの当接位置Aが半導体レーザ12に近づく方向に移動して、回転ステージ16が反時計回りに回転する。
【0016】
ここで、直進ステージ14を移動することは、半導体レーザ12の外部共振器長を可変していることになるので、外部共振器長に追従して回折格子17の角度を可変することができる。
【0017】
そして、回転ステージ16の回転軸Jからスライドバー20の先端までの距離、回転軸Jからスライドガイド21のガイド面21bまでの距離、回転軸Jから半導体レーザ12までの距離および回転軸Jからミラー18の反射面18aまでの距離等が所定の関係を満たすように予め設定しておくことで、1つの共振モードの光をその波長が連続的に可変できる状態で出射することができる。
【0018】
なお、波長可変された光は、例えば図5、図6に破線で示しているように、半導体レーザ12の回折格子側とは逆の端面から出射される。
【0019】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記したように回転ステージ16上に回折格子17とミラー18とを配置した従来の波長可変光源では、回転ステージ16の径が大きくなるという問題があった。
【0020】
また、回転ステージ16上の周縁部にミラー18が配置されるので、このミラー18によって回転ステージ16の重心位置が回転中心から離れた位置となり、回転ステージ16の中心部を回転自在に支持する支持機構の僅かにガタによって、回転ステージ16が大きな軸ぶれを起こし、この軸ぶれによって半導体レーザ12の光軸に対する回折格子17の回折面17の刻線の角度が変化してしまい、共振器長の変化に選択波長の変化が追従せず、直進ステージの位置に対する出射光の波長の再現性が低いという問題があった。
【0021】
本発明は、この問題を解決した波長可変光源を提供することを目的としている。
【0022】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、本発明の請求項1の波長可変光源は、
ベース(31)と、
前記ベース上に設けられ、前記ベース面に沿った方向に光を出射する半導体レーザ(32)と、
前記半導体レーザから出射された光を平行光に変換するコリメータ(33)と、
前記コリメータの光軸に沿って前記ベース上を移動可能に形成された直進ステージ(34)と、
前記直進ステージを移動させる駆動手段(35)と、
前記直進ステージのステージ面の垂線であって、且つそれと前記コリメータの光軸と交わる回転軸を中心として前記直進ステージ上に回転自在に支持された回転ステージ(36)と、
前記コリメータからの光を回折するための刻線が設けられた回折面を有し、該回折面上を前記回転ステージの回転軸が通り、且つ前記刻線が前記回転ステージの回転軸と平行となるように、前記回転ステージ上に固定された回折格子(37)と、
前記回折格子の回折面に対向するように前記直進ステージ上に設けられ、前記回折格子の回折面からの回折光を該回折面へ反射するミラー(38)と、
前記回転ステージの回転軸に垂直な平面内にあり且つ前記回折格子の回折面に対して前記回転ステージの回転軸に交わる前記ミラーの反射面の法線と前記コリメータの光軸とがなす角の1/2の角度をなすようにして前記回転ステージの径方向に延び、一端側が前記回転ステージに固定された所定長さのスライドバー(40)と、
前記スライドバーの他端を当接した状態で前記直進ステージの移動方向と直交する方向に摺動案内するスライドガイド(41)とを備え、
前記回転ステージの回転軸から前記スライドバーの摺動方向の面を含む平面と前記コリメータの光軸との交点までの距離が、前記半導体レーザの一方の端面と前記ミラーとの間の光路で構成される実効外部共振器長と等しくなるように構成したことを特徴としている。
【0023】
また、本発明の請求項2の波長可変光源は、請求項1の波長可変光源において、
前記ミラーをその反射面の法線方向に移動させるミラー移動手段(51)を前記直進ステージ上に設けている。
【0024】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて本発明の実施形態を説明する。図1は、本発明の実施形態の波長可変光源30の構成を示している。
【0025】
この波長可変光源30は、上面が平坦なベース31上に形成されており、ベース31上の所定位置には、光をベース上面に沿って一定方向に出射する半導体レーザ32が設けられ、半導体レーザ32から出射された光は、コリメータ33によって平行光に変換される。
【0026】
コリメータ33をはさんで半導体レーザ32の反対側には、直進ステージ34が配置されており、直進ステージ34の上面34aはベース31の上面31aと平行に形成されている。この直進ステージ34は、図示しないガイド部材によってコリメータ33の光軸に沿ってベース31上を直線的に移動可能になっており、モータ等からなる駆動装置35によって駆動される。
【0027】
直進ステージ34の上には回転ステージ36が設けられている。回転ステージ36は、直進ステージ34の上面34aに垂直で且つコリメータ33の光軸と交わる回転軸Jを中心として直進ステージ34に回転自在に支持されている。
【0028】
回転ステージ36の上には回折格子37が固定されている。回折格子37は、光を回折するための刻線が設けられた回折面37a上を回転ステージ36の回転軸Jが通り且つ刻線が回転ステージ36の回転軸Jと平行となるように、回転ステージ36上に固定されている。
【0029】
一方、回折格子37からの回折光を回折面へ反射するためのミラー38は、その反射面38aの中心を通る法線が回転軸Jと直交する向きで回折格子37の回折面37aに対向している。このミラー38には平面ミラーまたはコーナーミラーが用いられる。
【0030】
また、回転ステージ36にはスライドバー40の一端40a側が固定されている。スライドバー40は、回転ステージ36の回転軸Jに直交し且つ回折格子37の回折面37aに対して回転ステージ36の回転軸Jに交わるミラー38の反射面の法線とコリメータ33の光軸とがなす角2γの1/2の角度γをなすようにして回転ステージ36の径方向に延びている。
【0031】
スライドバー40の他端40b側は、ベース31上に立設されたスライドガイド41の台部41aに下方から支持されており、その先端は、スライドガイド41のガイド部41bに当接している。スライドガイド41のガイド部41bは、ベース31に平行で且つ直進ステージ34の移動方向と直交する方向に延びており、このガイド部41bの延長線とコリメータ33の光軸との交点から回転ステージ36の回転軸Jまでの距離は、この外部共振器の実効外部共振器長と等しくなるように設定されている。スライドバー40の先端は、このガイド部41bによって直進ステージ34の移動方向と直交する方向に摺動案内される。
【0032】
なお、回転ステージ36とベース31との間には、回転ステージ36に取り付けられたスライドバー40の先端がスライドガイド41のガイド部41bに常に当接する方向に回転付勢するためのバネ42が取り付けられている。
【0033】
また、波長可変された光は、半導体レーザ32の回折格子とは反対側の端面から取り出される。
【0034】
このように構成された波長可変光源30では、駆動装置35によって例えば図2の(a)に示すように、直進ステージ34が半導体レーザ32に近づく方向に所定距離移動すると、スライドバー40の他端40bとスライドガイド41のガイド部41bとの当接位置が半導体レーザ32から遠ざかる方向に移動して、回転ステージ36がバネ42の力に抗して時計回りに所定角度回転し、回折格子37も回転ステージ36と同一方向に同一角度回転する。
【0035】
また、図2の(b)のように、直進ステージ34が半導体レーザ32から離間する方向に移動すると、バネ42の力によってスライドバー40の他端40bとスライドガイド41のガイド部41bとの当接位置が半導体レーザ32に近づく方向に移動して、回転ステージ36が反時計回りに回転し、回折格子37も回転ステージ36と同一方向に同一角度回転する。
【0036】
したがって、回転ステージ36上の回折格子37は、直進ステージ34の移動に追従して回転することになり、直進ステージ34を移動することは、半導体レーザ32の外部共振器長を可変していることになるので、外部共振器長に追従して回折格子37の角度を可変することができる。
【0037】
次に、この波長可変光源30が波長を連続的に可変できるための条件について説明する。
【0038】
図3に示しているように、この波長可変光源30では、回折格子37とミラー38との間の光路長Laは、直進ステージ34の移動や回転ステージ36の回転にかかわらず一定であり、この光路長Laと半導体レーザ32と回折格子37との間の光路長Lbとの合計が外部共振器長となる。
【0039】
なお、半導体レーザ37内の屈折率は外部より大きいので、実際の光路長Lbは、図3に示しているように、回折格子37からみて半導体レーザ32より反射面側より遠い位置C′にあり、この位置C′と、スライドガイド41のガイド部41bの延長線と半導体レーザ32の光軸の延長線との交点位置Cとの間の距離が、回折格子37とミラー38との間の光路長Laと等しくなるように予め設定されている。
【0040】
また、前記したように、半導体レーザ32から回折格子37への光の入射光軸と回折光軸のなす角は、回折格子37の回折面37aとスライドバー40とのなす角γの2倍の2γに設定されている。
【0041】
この状態で、発振波長λ0 の光が半導体レーザから出射されたとすると、回折格子37で波長λ0 の光が回折される条件は、次式(1)、(2)のように表される。
【0042】
λ0 =X・sinθ0 ……(1)
ただし、X=(2・d・cosγ)/mであり、mは回折次数、dは回折格子37の格子定数、θ0 は図3の(b)に示すように回折格子37の入射光軸と回折光軸のなす角の2等分線Iと回折格子37の法線Hとのなす角であり、回折格子37の回折角をβ、回折格子37への入射角をiとしたとき、θ0 =(β+i)/2となり、γは(β−i)/2で表される定数である。
【0043】
0 ・λ0 =2L0 ……(2)
ただし、q0 は外部共振モード次数、L0 は外部共振器の実効共振器長である。
【0044】
ここで、外部共振器の実効共振器長L0 は、次式(3)で表される。
0 =Ls・sin(ζ0 ) ……(3)
ただし、Lsは回転軸Jからスライドバー40の先端とスライドガイド41の当接位置Aまでの距離、ζ0 はスライドバー40とスライドガイド41のガイド部41bとのなす角である。
【0045】
つぎに、波長(λ)、ζ=ζ0 +Δζ、θ=θ0 +Δθの場合を考える。
ζ=ζ0 +Δζとθ=θ0 +Δθとは、次の関係から等しい。
(ζ0 +Δζ)+α=90°、(θ0 +Δθ)+α=90°
ただし、αは、スライドバー40と半導体レーザ32の光軸とのなす角である。
【0046】
したがって、回折格子37の角度(θ0 +Δθ)によって選択される波長(λ)は、
λ=X・sin (θ0 +Δθ)
となり、このときの外部共振器長(L)は、
L=Ls・sin(ζ0 +Δζ)=Ls・λ/X
となる。
【0047】
よって、共振モード次数qは、
q=2・L/λ=2・Ls/X
となり、LsおよびXは定数であるからqも一定であり、1つの共振モード次数を維持した状態で波長を連続的に可変することができる。
【0048】
実際の数値例を上げると、回折格子37の刻線数を1000本/mm、回折格子37の回折面とスライドバー40のなす角γを22.5°、回折格子37の入射角と出射角のなす角2γを45°とした場合、波長1.55μmでθ=ζ=57°、回折格子への入射角i=79.5°となる。
【0049】
以上のように、この波長可変光源30では、回転ステージ36で回折格子37のみをそのほぼ中央部に支持し、直進ステージ34上にミラー38を設けているため、回転ステージ36を回折格子37を支持するのに必要最小限の大きさまで小さくすることができる。また、ミラー38による回転ステージの軸ぶれが発生しないため、共振器長と選択波長とが常に同調し、直進ステージの位置の変化に対して出射光の波長を高い再現性をもって変化させることができる。
【0050】
なお、前記実施形態では、ミラー38を直進ステージ34上に固定していたが、図4に示す波長可変光源50のように、ミラー38を圧電素子等によるミラー移動手段51によって、反射面38aの法線方向に移動できるように構成してもよい。このように構成した場合には、ミラー移動手段51によるミラー38の移動によって共振器長と回折格子37の回転角のずれを補正することができる。
【0051】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の波長可変光源は、直進ステージ上の回転ステージに回折格子のみを配置し、ミラーを直進ステージ上に設けているため、回転ステージを小さくすることができ、ミラーによる回転ステージの軸ぶれが発生しないため、共振器長と選択波長とが常に同調し、直進ステージの位置の変化に対して出射光の波長を高い再現性をもって変化させることができる。
【0052】
また、ミラーに移動手段を設けた波長可変光源は、ミラー移動手段によるミラーの移動によって共振器長と回折格子の回転角のずれを補正することができ、さらに高い安定度で波長を連続可変することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態の構成を示す図
【図2】実施形態の動作を説明するための図
【図3】波長を連続可変させるための条件を検討するための図
【図4】本発明の他の実施形態の構成を示す図
【図5】従来の光源の構成を示す図
【図6】従来の光源の動作を説明するための図
【符号の説明】
30 波長可変光源
31 ベース
32 半導体レーザ
33 コリメータ
34 直進ステージ
35 駆動手段
36 回転ステージ
37 回折格子
38 ミラー
40 スライドバー
41 スライドガイド
42 バネ
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention is configured so that light emitted from a semiconductor laser is incident on a diffraction grating, and the diffracted light of the diffraction grating is reflected to the diffraction grating by a mirror, and the angle of the diffraction grating with respect to the light from the semiconductor laser and the semiconductor laser The present invention relates to a wavelength tunable light source that outputs light having a continuously variable wavelength by varying the external resonator length of the laser.
[0002]
[Prior art]
As a light source for measuring various wavelength-dependent characteristics of optical components, an external resonance type tunable light source has been used conventionally.
[0003]
The Litman-type external resonance type tunable light source is configured so that light emitted from a semiconductor laser is incident on a diffraction grating, and the diffracted light is reflected by a mirror toward the diffraction grating and returned to the semiconductor laser.
[0004]
In this configuration, an external resonator is formed between the mirror and one end face of the semiconductor laser, and when the length of the external resonator is changed, the resonance wavelength emitted from the semiconductor laser is continuously changed. Furthermore, when the incidence of light from the semiconductor laser to the diffraction grating is varied, the selected wavelength of the external resonator changes.
[0005]
Therefore, in order to continuously change the emission wavelength with this external resonance type semiconductor laser, the change in the wavelength of light in a specific resonance mode among the light whose resonance wavelength is changed by changing the external resonator length. It is necessary to vary the angle of the diffraction grating by following the above.
[0006]
Thus, in order to change the angle of the diffraction grating following the change in the external resonator length, the conventional wavelength tunable light source 10 is configured as shown in FIG.
[0007]
The wavelength variable light source 10 is formed on a base 11 having a flat upper surface. A semiconductor laser 12 that emits light in a certain direction along the upper surface of the base is provided at a predetermined position on the base 11. Light emitted from the semiconductor laser 12 is converted into parallel light by the collimator 13.
[0008]
A rectilinear stage 14 is disposed on the opposite side of the semiconductor laser 12 across the collimator 13. The upper surface 14a of the rectilinear stage 14 is formed in parallel with the upper surface 11a of the base 11, and can be moved linearly on the base 11 along the optical axis of the collimator 13 by a guide member (not shown). It is driven by the driving device 15.
[0009]
A rotary stage 16 is provided on the straight stage 14. The rotary stage 16 is supported by the linear stage 14 so as to be rotatable about a rotational axis J that is orthogonal to the upper surface 14 a of the linear stage 14 and intersects the optical axis of the collimator 13.
[0010]
A diffraction grating 17 and a mirror 18 are fixed on the rotary stage 16. The diffraction grating 17 is rotated so that the rotation axis J of the rotary stage 16 passes through the diffraction surface 17 a provided with the score line for diffracting light, and the score line is parallel to the rotation axis J of the rotation stage 16. It is fixed on the stage 16.
[0011]
The mirror 18 is fixed on the periphery of the rotary stage 16 with the reflecting surface 18 a facing the diffraction surface 17 a of the diffraction grating 17.
[0012]
Further, one end side 20 a of the slide bar 20 is fixed to the rotary stage 16. The slide bar 20 is orthogonal to the rotation axis J of the rotary stage 16 and extends in the radial direction of the rotary stage 16 in the same plane as the diffraction surface 17 a of the diffraction grating 17.
[0013]
The other end 20 b side of the slide bar 20 is supported from below by a base portion 21 a of a slide guide 21 erected on the base 11, and the tip thereof is in contact with the guide surface 21 b of the slide guide 21. The guide surface 21b of the slide guide 21 extends in a direction parallel to the rotation axis J of the rotary stage 16 and perpendicular to the moving direction of the linear stage 14, and the guide surface 21b allows the tip of the slide bar 20 to move to the linear stage 14. The sliding guide is in a direction perpendicular to the moving direction.
[0014]
A spring 22 is attached between the rotary stage 16 and the base 11 so as to rotate and urge the slide bar 20 attached to the rotary stage 16 so that the tip of the slide bar 20 is always in contact with the guide surface 21b of the slide guide 21. It has been.
[0015]
In the wavelength tunable light source 10 configured in this way, as shown in FIG. 6, for example, as shown in FIG. 6, when the linear stage 14 moves a predetermined distance in the direction approaching the semiconductor laser 12, the tip of the slide bar 20 and the slide guide 21 are moved. The contact position A with the guide surface 21b moves away from the semiconductor laser 12, and the rotary stage 16 rotates clockwise by a predetermined angle against the force of the spring 22. Conversely, when the linear stage 14 moves away from the semiconductor laser 12, the contact position A between the tip of the slide bar 20 and the guide surface 21 b of the slide guide 21 moves in a direction approaching the semiconductor laser 12 by the force of the spring 22. Then, the rotary stage 16 rotates counterclockwise.
[0016]
Here, moving the rectilinear stage 14 changes the external resonator length of the semiconductor laser 12, and therefore the angle of the diffraction grating 17 can be changed following the external resonator length.
[0017]
The distance from the rotation axis J of the rotation stage 16 to the tip of the slide bar 20, the distance from the rotation axis J to the guide surface 21b of the slide guide 21, the distance from the rotation axis J to the semiconductor laser 12, and the rotation axis J to the mirror By setting in advance such that the distance to the 18 reflecting surfaces 18a satisfies a predetermined relationship, light in one resonance mode can be emitted in a state in which the wavelength can be continuously varied.
[0018]
The wavelength-variable light is emitted from the end face opposite to the diffraction grating side of the semiconductor laser 12, as indicated by a broken line in FIGS.
[0019]
[Problems to be solved by the invention]
However, as described above, the conventional wavelength tunable light source in which the diffraction grating 17 and the mirror 18 are arranged on the rotary stage 16 has a problem that the diameter of the rotary stage 16 is increased.
[0020]
In addition, since the mirror 18 is disposed at the peripheral edge on the rotary stage 16, the center of gravity of the rotary stage 16 is separated from the center of rotation by the mirror 18, and the support for supporting the central part of the rotary stage 16 is rotatably supported. Due to the slight backlash of the mechanism, the rotary stage 16 is greatly shaken, and the angle of the engraving of the diffraction surface 17 of the diffraction grating 17 with respect to the optical axis of the semiconductor laser 12 changes due to this shake. There is a problem that the change of the selected wavelength does not follow the change, and the reproducibility of the wavelength of the emitted light with respect to the position of the straight stage is low.
[0021]
An object of the present invention is to provide a wavelength tunable light source that solves this problem.
[0022]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a wavelength tunable light source according to claim 1 of the present invention comprises
A base (31);
A semiconductor laser (32) provided on the base and emitting light in a direction along the base surface;
A collimator (33) for converting light emitted from the semiconductor laser into parallel light;
A rectilinear stage (34) formed to be movable on the base along the optical axis of the collimator;
Drive means (35) for moving the linear stage;
A rotary stage (36) that is perpendicular to the stage surface of the linear stage and is rotatably supported on the linear stage around a rotational axis that intersects the optical axis of the collimator;
A diffraction surface provided with a score line for diffracting light from the collimator, the rotation axis of the rotary stage passes through the diffraction surface, and the score line is parallel to the rotation axis of the rotation stage. A diffraction grating (37) fixed on the rotary stage,
A mirror (38) provided on the rectilinear stage so as to face the diffraction surface of the diffraction grating and reflecting diffracted light from the diffraction surface of the diffraction grating to the diffraction surface;
The angle formed by the normal line of the reflecting surface of the mirror and the optical axis of the collimator that is in a plane perpendicular to the rotation axis of the rotation stage and intersects the rotation axis of the rotation stage with respect to the diffraction surface of the diffraction grating. A slide bar (40) of a predetermined length extending in the radial direction of the rotary stage so as to form an angle of 1/2 and having one end fixed to the rotary stage;
A slide guide (41) that slides and guides in a direction perpendicular to the moving direction of the linear stage while the other end of the slide bar is in contact with the slide bar;
The distance from the rotation axis of the rotary stage to the intersection of the plane including the surface in the sliding direction of the slide bar and the optical axis of the collimator is constituted by the optical path between one end face of the semiconductor laser and the mirror It is characterized by being configured to be equal to the effective external resonator length.
[0023]
The tunable light source according to claim 2 of the present invention is the tunable light source according to claim 1,
Mirror moving means (51) for moving the mirror in the normal direction of the reflecting surface is provided on the rectilinear stage.
[0024]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a configuration of a wavelength tunable light source 30 according to an embodiment of the present invention.
[0025]
The wavelength tunable light source 30 is formed on a base 31 having a flat upper surface, and a semiconductor laser 32 that emits light in a fixed direction along the upper surface of the base is provided at a predetermined position on the base 31. The light emitted from 32 is converted into parallel light by the collimator 33.
[0026]
A rectilinear stage 34 is disposed on the opposite side of the semiconductor laser 32 across the collimator 33, and the upper surface 34 a of the rectilinear stage 34 is formed in parallel with the upper surface 31 a of the base 31. The linear stage 34 is linearly movable on the base 31 along the optical axis of the collimator 33 by a guide member (not shown), and is driven by a driving device 35 such as a motor.
[0027]
A rotation stage 36 is provided on the rectilinear stage 34. The rotary stage 36 is supported by the linear stage 34 so as to be rotatable about a rotational axis J perpendicular to the upper surface 34 a of the linear stage 34 and intersecting the optical axis of the collimator 33.
[0028]
A diffraction grating 37 is fixed on the rotary stage 36. The diffraction grating 37 is rotated so that the rotation axis J of the rotary stage 36 passes through the diffraction surface 37 a provided with the score line for diffracting light, and the score line is parallel to the rotation axis J of the rotation stage 36. It is fixed on the stage 36.
[0029]
On the other hand, the mirror 38 for reflecting the diffracted light from the diffraction grating 37 to the diffraction surface faces the diffraction surface 37a of the diffraction grating 37 with the normal passing through the center of the reflection surface 38a orthogonal to the rotation axis J. ing. The mirror 38 is a plane mirror or a corner mirror.
[0030]
In addition, one end 40 a side of the slide bar 40 is fixed to the rotary stage 36. The slide bar 40 is perpendicular to the rotation axis J of the rotation stage 36 and intersects the rotation surface J of the rotation stage 36 with respect to the diffraction surface 37 a of the diffraction grating 37, and the optical axis of the collimator 33. Is extended in the radial direction of the rotary stage 36 so as to form an angle γ that is ½ of the angle 2γ formed by.
[0031]
The other end 40 b side of the slide bar 40 is supported from below by a base portion 41 a of a slide guide 41 erected on the base 31, and its tip abuts against the guide portion 41 b of the slide guide 41. The guide part 41 b of the slide guide 41 extends in a direction parallel to the base 31 and perpendicular to the moving direction of the rectilinear stage 34, and the rotary stage 36 from the intersection of the extension line of the guide part 41 b and the optical axis of the collimator 33. Is set to be equal to the effective external resonator length of the external resonator. The leading end of the slide bar 40 is slidably guided in a direction orthogonal to the moving direction of the linear stage 34 by the guide portion 41b.
[0032]
A spring 42 is attached between the rotary stage 36 and the base 31 so as to rotate and urge the slide bar 40 attached to the rotary stage 36 so that the tip of the slide bar 40 is always in contact with the guide portion 41b of the slide guide 41. It has been.
[0033]
The light whose wavelength has been varied is extracted from the end surface of the semiconductor laser 32 opposite to the diffraction grating.
[0034]
In the wavelength tunable light source 30 configured in this way, the other end of the slide bar 40 is moved by the drive device 35 when the rectilinear stage 34 moves a predetermined distance in the direction approaching the semiconductor laser 32 as shown in FIG. The contact position between 40b and the guide portion 41b of the slide guide 41 moves away from the semiconductor laser 32, the rotation stage 36 rotates clockwise by a predetermined angle against the force of the spring 42, and the diffraction grating 37 also It rotates at the same angle in the same direction as the rotary stage 36.
[0035]
As shown in FIG. 2B, when the linear stage 34 moves away from the semiconductor laser 32, the force of the spring 42 causes the other end 40b of the slide bar 40 and the guide portion 41b of the slide guide 41 to contact each other. The contact position moves in a direction approaching the semiconductor laser 32, the rotation stage 36 rotates counterclockwise, and the diffraction grating 37 also rotates in the same direction as the rotation stage 36 by the same angle.
[0036]
Therefore, the diffraction grating 37 on the rotary stage 36 rotates following the movement of the linear stage 34, and moving the linear stage 34 changes the external resonator length of the semiconductor laser 32. Therefore, the angle of the diffraction grating 37 can be varied following the external resonator length.
[0037]
Next, conditions for enabling the wavelength variable light source 30 to continuously change the wavelength will be described.
[0038]
As shown in FIG. 3, in this wavelength tunable light source 30, the optical path length La between the diffraction grating 37 and the mirror 38 is constant regardless of the movement of the linear stage 34 or the rotation of the rotary stage 36. The sum of the optical path length La and the optical path length Lb between the semiconductor laser 32 and the diffraction grating 37 is the external resonator length.
[0039]
Since the refractive index in the semiconductor laser 37 is larger than the outside, the actual optical path length Lb is at a position C ′ farther from the reflecting surface side than the semiconductor laser 32 as viewed from the diffraction grating 37, as shown in FIG. The distance between this position C ′ and the intersection position C between the extension line of the guide portion 41 b of the slide guide 41 and the extension line of the optical axis of the semiconductor laser 32 is the optical path between the diffraction grating 37 and the mirror 38. It is preset to be equal to the length La.
[0040]
Further, as described above, the angle formed by the incident optical axis of the light from the semiconductor laser 32 to the diffraction grating 37 and the diffraction optical axis is twice the angle γ formed by the diffraction surface 37 a of the diffraction grating 37 and the slide bar 40. It is set to 2γ.
[0041]
Assuming that light with an oscillation wavelength λ 0 is emitted from the semiconductor laser in this state, the conditions under which the light with the wavelength λ 0 is diffracted by the diffraction grating 37 are expressed by the following equations (1) and (2). .
[0042]
λ 0 = X · sin θ 0 (1)
However, X = (2 · d · cos γ) / m, where m is the diffraction order, d is the grating constant of the diffraction grating 37, and θ 0 is the incident optical axis of the diffraction grating 37 as shown in FIG. And the bisector I of the angle formed by the diffraction optical axis and the normal H of the diffraction grating 37, where β is the diffraction angle of the diffraction grating 37 and i is the angle of incidence on the diffraction grating 37. θ 0 = (β + i) / 2, and γ is a constant represented by (β−i) / 2.
[0043]
q 0 · λ 0 = 2L 0 (2)
However, q 0 is the external resonance mode order, and L 0 is the effective resonator length of the external resonator.
[0044]
Here, the effective resonator length L 0 of the external resonator is expressed by the following equation (3).
L 0 = Ls · sin (ζ 0 ) (3)
However, Ls is a distance from the rotation axis J to the tip of the slide bar 40 and the contact position A of the slide guide 41, and ζ 0 is an angle formed by the slide bar 40 and the guide portion 41b of the slide guide 41.
[0045]
Next, consider the case of wavelength (λ), ζ = ζ 0 + Δζ, and θ = θ 0 + Δθ.
ζ = ζ 0 + Δζ and θ = θ 0 + Δθ are equal from the following relationship.
0 + Δζ) + α = 90 °, (θ 0 + Δθ) + α = 90 °
Here, α is an angle formed by the slide bar 40 and the optical axis of the semiconductor laser 32.
[0046]
Therefore, the wavelength (λ) selected by the angle (θ 0 + Δθ) of the diffraction grating 37 is
λ = X · sin (θ 0 + Δθ)
The external resonator length (L) at this time is
L = Ls · sin (ζ 0 + Δζ) = Ls · λ / X
It becomes.
[0047]
Therefore, the resonance mode order q is
q = 2 · L / λ = 2 · Ls / X
Thus, since Ls and X are constants, q is also constant, and the wavelength can be continuously varied while maintaining one resonance mode order.
[0048]
As an actual numerical example, the number of engravings of the diffraction grating 37 is 1000 / mm, the angle γ formed by the diffraction surface of the diffraction grating 37 and the slide bar 40 is 22.5 °, and the incident angle and the emission angle of the diffraction grating 37. Is 45 °, θ = ζ = 57 ° at a wavelength of 1.55 μm, and the incident angle i = 79.5 ° to the diffraction grating.
[0049]
As described above, in this wavelength tunable light source 30, only the diffraction grating 37 is supported by the rotary stage 36 at the substantially central portion, and the mirror 38 is provided on the linear stage 34. It can be made as small as necessary to support it. In addition, since the axis of the rotary stage due to the mirror 38 does not occur, the resonator length and the selected wavelength are always tuned, and the wavelength of the emitted light can be changed with high reproducibility with respect to the change of the position of the straight stage. .
[0050]
In the above embodiment, the mirror 38 is fixed on the rectilinear stage 34. However, like the variable wavelength light source 50 shown in FIG. 4, the mirror 38 is formed on the reflecting surface 38a by the mirror moving means 51 such as a piezoelectric element. You may comprise so that it can move to a normal line direction. In such a configuration, the shift of the resonator length and the rotation angle of the diffraction grating 37 can be corrected by the movement of the mirror 38 by the mirror moving means 51.
[0051]
【The invention's effect】
As described above, the wavelength tunable light source of the present invention has only the diffraction grating disposed on the rotary stage on the straight stage, and the mirror is provided on the straight stage. Since the rotation stage does not shake, the resonator length and the selected wavelength are always tuned, and the wavelength of the emitted light can be changed with high reproducibility with respect to the change in the position of the straight stage.
[0052]
In addition, the wavelength tunable light source provided with the moving means in the mirror can correct the deviation of the resonator length and the rotation angle of the diffraction grating by moving the mirror by the mirror moving means, and continuously tunes the wavelength with higher stability. be able to.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing the configuration of an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a diagram for explaining the operation of the embodiment. FIG. 3 is a diagram for examining conditions for continuously changing the wavelength. FIG. 5 is a diagram showing the configuration of another embodiment of the present invention. FIG. 5 is a diagram showing the configuration of a conventional light source. FIG. 6 is a diagram for explaining the operation of the conventional light source.
30 Wavelength variable light source 31 Base 32 Semiconductor laser 33 Collimator 34 Linear stage 35 Driving means 36 Rotating stage 37 Diffraction grating 38 Mirror 40 Slide bar 41 Slide guide 42 Spring

Claims (2)

ベース(31)と、
前記ベース上に設けられ、前記ベース面に沿った方向に光を出射する半導体レーザ(32)と、
前記半導体レーザから出射された光を平行光に変換するコリメータ(33)と、
前記コリメータの光軸に沿って前記ベース上を移動可能に形成された直進ステージ(34)と、
前記直進ステージを移動させる駆動手段(35)と、
前記直進ステージのステージ面の垂線であって、且つそれと前記コリメータの光軸と交わる回転軸を中心として前記直進ステージ上に回転自在に支持された回転ステージ(36)と、
前記コリメータからの光を回折するための刻線が設けられた回折面を有し、該回折面上を前記回転ステージの回転軸が通り、且つ前記刻線が前記回転ステージの回転軸と平行となるように、前記回転ステージ上に固定された回折格子(37)と、
前記回折格子の回折面に対向するように前記直進ステージ上に設けられ、前記回折格子の回折面からの回折光を該回折面へ反射するミラー(38)と、
前記回転ステージの回転軸に垂直な平面内にあり且つ前記回折格子の回折面に対して前記回転ステージの回転軸に交わる前記ミラーの反射面の法線と前記コリメータの光軸とがなす角の1/2の角度をなすようにして前記回転ステージの径方向に延び、一端側が前記回転ステージに固定された所定長さのスライドバー(40)と、
前記スライドバーの他端を当接した状態で前記直進ステージの移動方向と直交する方向に摺動案内するスライドガイド(41)とを備え、
前記回転ステージの回転軸から前記スライドバーの摺動方向の面を含む平面と前記コリメータの光軸との交点までの距離が、前記半導体レーザの一方の端面と前記ミラーとの間の光路で構成される実効外部共振器長と等しくなるように構成したことを特徴とする波長可変光源。
A base (31);
A semiconductor laser (32) provided on the base and emitting light in a direction along the base surface;
A collimator (33) for converting light emitted from the semiconductor laser into parallel light;
A rectilinear stage (34) formed to be movable on the base along the optical axis of the collimator;
Drive means (35) for moving the linear stage;
A rotary stage (36) that is perpendicular to the stage surface of the linear stage and is rotatably supported on the linear stage around a rotational axis that intersects the optical axis of the collimator;
A diffraction surface provided with a score line for diffracting light from the collimator, the rotation axis of the rotary stage passes through the diffraction surface, and the score line is parallel to the rotation axis of the rotation stage. A diffraction grating (37) fixed on the rotary stage,
A mirror (38) provided on the rectilinear stage so as to face the diffraction surface of the diffraction grating and reflecting diffracted light from the diffraction surface of the diffraction grating to the diffraction surface;
The angle formed by the normal line of the reflecting surface of the mirror and the optical axis of the collimator that is in a plane perpendicular to the rotation axis of the rotation stage and intersects the rotation axis of the rotation stage with respect to the diffraction surface of the diffraction grating. A slide bar (40) of a predetermined length extending in the radial direction of the rotary stage so as to form an angle of 1/2 and having one end fixed to the rotary stage;
A slide guide (41) that slides and guides in a direction perpendicular to the moving direction of the linear stage while the other end of the slide bar is in contact with the slide bar;
The distance from the rotation axis of the rotary stage to the intersection of the plane including the sliding direction surface of the slide bar and the optical axis of the collimator is constituted by the optical path between one end surface of the semiconductor laser and the mirror The wavelength tunable light source is configured to be equal to the effective external resonator length.
前記ミラーをその反射面の法線方向に移動させるミラー移動手段(51)を前記直進ステージ上に設けたことを特徴とする請求項1記載の波長可変光源。The wavelength tunable light source according to claim 1, wherein mirror moving means (51) for moving the mirror in the normal direction of the reflecting surface is provided on the rectilinear stage.
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