JP3950731B2 - 照明光学系、当該照明光学系を有する露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
照明光学系、当該照明光学系を有する露光装置及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般には、照明光学系に関し、特に、半導体ウェハ用の単結晶基板、液晶ディスプレイ(LCD)用のガラス基板などのデバイスを製造するのに使用される照明光学系に関する。本発明は、例えば、フォトリソグラフィー工程において、被処理体にコンタクトホール列のパターン、あるいは孤立コンタクトホールとコンタクトホール列とが混在するパターンを投影露光する照明光学系に好適である。
【0002】
【従来の技術】
近年の電子機器の小型化及び薄型化の要請から、電子機器に搭載される半導体素子の微細化への要求はますます高くなっている。例えば、デザインルールは、100nm以下の回路パターン形成を量産工程で達成しようとし、今後は更に80nm以下の回路パターン形成に移行することが予想される。その主流となる加工技術はフォトリソグラフィーであり、マスク又はレチクル(本明細書ではこれらの用語を交換可能に使用する)に描画されたマスクパターンを投影光学系によってウェハに投影してパターンを転写する投影露光装置が従来から使用されている。
【0003】
投影露光装置の解像度Rは、光源の波長λと投影光学系の開口数(NA)を用いて以下のレーリーの式で与えられる。
【0004】
【数1】
一方、一定の結像性能を維持できる焦点範囲を焦点深度といい、焦点深度DOFは次式で与えられる。
【0005】
【数2】
なお、焦点深度DOFは小さくなるとフォーカス合わせが難しくなり、基板のフラットネス(平坦度)やフォーカス精度を上げることが要求されるため、基本的に大きい方が好ましい。
【0006】
マスクパターンは、近接した周期的なラインアンドスペース(L&S)パターン、近接及び周期的な(即ち、ホール径と同レベルの間隔で並べた)コンタクトホール列、近接せずに孤立した孤立コンタクトホール、その他の孤立パターン等を含むが、高解像度でパターンを転写するためには、パターンの種類に応じて最適な照明条件を選択する必要がある。
【0007】
また、近年の半導体産業は、より高付加価値な、多種多様なパターンが混在するシステムチップに生産が移行しつつあり、マスクにも複数種類のコンタクトパターンを混在させる必要が生じてきた。しかし、コンタクトホール列と孤立コンタクトホールが混在したコンタクトホールパターンを同時に解像度よく露光することができなかった。
【0008】
そこで、コンタクトホール列や縦横の繰り返し配線パターンのみに限定して、その解像限界を高め、焦点深度を増加する方式が種々提案されている。かかる方式として、例えば、2枚のマスクを用いて異なる種類のパターンを別々に露光する二重露光(又は多重露光)方式や後述する1枚のマスクを特殊な照明条件下で露光を行う方式がある。それ以外にも、マスクパターンに種々の補助パターンを設けて正規パターンの解像力を強化する方式などがある。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上述した方式に共通して要求される照明光学系の機能としては、マスクパターンの寸法及び配列がプロセス毎に変化する場合において、照明条件(具体的には、照明光学系の有効光源分布)を自由に変更することができないために、最適な照明条件で露光を行うことができず高解像度を得られないという問題がある。
【0010】
従来の技術においては、通常の円形状の有効光源から輪帯状の有効光源への変換機能、又は、四重極有効光源への切り換え機構の開示はされている。しかしながら、今後のパターンの微細化に対応するためには、同じタイプの有効光源であってもそれを変化させて解像性能を高めることが必要である。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明の一側面としての照明光学系は、光源からの光束で被照明面を照明する照明光学系であって、前記被照明面に対して実質的にフーリエ変換の関係となる面における光量分布を生成する照明光生成手段を有し、当該照明光生成手段は、前記光源側に配置された第1の光学透過部材と、前記被照明面側に配置された第2の光学透過部材を有し、前記第1の光学透過部材と前記第2の光学透過部材の少なくともいずれか一方は、光軸に関して回動可能であり、前記第1の光学透過部材の入射面又は射出面は、第1多角錐面であり、前記第2の光学透過部材の入射面又は射出面は、第2多角錐面であり、前記第1多角錐面の稜線と光軸のなす角度と、前記第2多角錐面の稜線と光軸のなす角度とが異なることを特徴とする。
【0012】
本発明の別の側面としての照明光学系は、光源からの光束で被照明面を照明する照明光学系であって、前記被照明面に対して実質的にフーリエ変換の関係となる面における光量分布を生成する照明光生成手段を有し、当該照明光生成手段は、前記光源側に配置された第1の光学透過部材と、前記被照射面側に配置された第2の光学透過部材を有し、前記第1の光学透過部材の入射面又は射出面は、第1多角錐面であり、前記第2の光学透過部材の入射面又は射出面は、第2多角錐面であり、前記第1多角錐面と前記第2多角錐面とは光軸周りにずれていることを特徴とする。
【0013】
本発明の別の側面としての照明光学系は、光源からの光束で被照明面を照明する照明光学系であって、前記被照明面に対して実質的にフーリエ変換の関係となる面における光量分布を生成する照明光生成手段を有し、当該照明光生成手段は、前記光源側に配置された第1の光学透過部材と、前記被照明面側に配置された第2の光学透過部材を有し、前記第1の光学透過部材と前記第2の光学透過部材の少なくともいずれか一方は、光軸に関して回動可能であり、前記第1の光学透過部材又は前記第2の光学透過部材のうち、一方の入射面又は射出面は多角錐面であり、他方の入射面又は射出面は円錐面であり、前記光量分布は、前記多角錐面の作用と前記円錐面の作用とを組み合わせて、前記光源からの光束を分割して重ね合わせることにより生成されることを特徴とする。
【0014】
本発明の別の側面としての照明光学系は、光源からの光束で被照明面を照明する照明光学系において、前記被照明面に対して実質的にフーリエ変換の関係となる面における光量分布を生成する照明光生成手段を有し、当該照明光生成手段は、前記光束の入射面が第1多角錐面であり、前記光束の射出面が第2多角錐面であるプリズムを有し、前記第1多角錐面の稜線と光軸のなす角度と、前記第2多角錐面の稜線と光軸のなす角度が異なることを特徴とする。
【0015】
本発明の別の側面としての照明光学系は、光源からの光束で被照明面を照明する照明光学系において、前記被照明面に対して実質的にフーリエ変換の関係となる面における光量分布を生成する照明光生成手段を有し、当該照明光生成手段は、前記光束の入射面が第1多角錐面であり、前記光束の射出面が第2多角錐面であるプリズムを有し、前記第1多角錐面と前記第2多角錐面とは光軸周りにずれていることを特徴とする。
【0016】
本発明の別の側面としての照明光学系は、光源からの光束で被照明面を照明する照明光学系において、前記被照明面に対して実質的にフーリエ変換の関係となる面における光量分布を生成する照明光生成手段を有し、当該照明光生成手段は、前記光束の入射面が多角錐面であり、前記光束の射出面が円錐面であるプリズムを有することを特徴とする。
【0017】
本発明の別の側面としての露光装置は、上述の照明光学系によりレチクルを照明し、当該レチクル経た光を投影光学系を介して被処理体に照射して当該被処理体を露光することを特徴とする。
【0018】
本発明の別の側面としてのデバイス製造方法は、上述の露光装置を用いて被処理体を投影露光するステップと、前記投影露光された前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とする。
【0024】
本発明の更なる目的又はその他の特徴は、以下添付図面を参照して説明される好ましい実施例によって明らかにされるであろう。
【0025】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して本発明の例示的一態様である露光装置について説明する。但し、本発明は、これらの実施例に限定するものではなく、本発明の目的が達成される範囲において、各構成要素が代替的に置換されてもよい。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【0026】
図1は、本発明の一側面としての露光装置100の例示的一形態を示す概略構成図である。露光装置100は、図1によく示されるように、照明装置200と、マスク300と、投影光学系400と、プレート500とを有する。
【0027】
露光装置100は、例えば、ステップアンドリピート方式やステップ・アンド・スキャン方式でマスク300に形成された回路パターンをプレート500に露光する投影露光装置である。かかる露光装置は、サブミクロンやクオーターミクロン以下のリソグラフィー工程に好適であり、以下、本実施形態ではステップ・アンド・スキャン方式の露光装置(「スキャナー」とも呼ばれる)を例に説明する。ここで、「ステップ・アンド・スキャン方式」は、マスクに対してウェハを連続的にスキャンしてマスクパターンをウェハに露光すると共に、1ショットの露光終了後ウェハをステップ移動して、次のショットの露光領域に移動する露光方法である。また、「ステップアンドリピート方式」は、ウェハのショットの一括露光ごとにウェハをステップ移動して次のショットを露光領域に移動する露光方法である。
【0028】
照明装置200は、転写用の回路パターンが形成されたマスク300を照明し、光源部210と照明光学系220とを有する。
【0029】
光源部210は、例えば、光源としてレーザーを使用する。レーザーは、波長約193nmのArFエキシマレーザー、波長約248nmのKrFエキシマレーザー、波長約157nmのF2レーザーなどを使用することができるが、レーザーの種類はエキシマレーザーに限定されず、そのレーザーの個数も限定されない。また、光源部210に使用可能な光源はレーザーに限定されるものではなく、一又は複数の水銀ランプなどのランプも使用可能である。
【0030】
照明光学系220は、光源部210から射出した光束を用いて所望のパターンを有する被照射面(例えば、マスク300)を照明する光学系であり、本実施形態では、光束整形光学系221と、集光光学系222と、オプティカルパイプ(光束混合手段)223と、集光ズームレンズ224と、ハエの目レンズ225と、絞り部材226と、照射レンズ227と、視野絞り228と、結像レンズ229a及び229bと、偏向ミラー230と、照明光生成手段240とを有する。
【0031】
光源部210から発せられた光束は、光束整形光学系221により所望の光束形状に変換され、集光光学系222にて、オプティカルパイプ223の入射面223a近傍に集光されている。集光光学系222は、後段の集光ズームレンズ224が変倍しても、ハエの目レンズ225へ入射する光束の角度を適正にするために、射出角度の異なる集光光学系222aと交換可能な構成となっている。
【0032】
なお、オプティカルパイプ223がガラス棒で構成されている場合には、ガラス棒の耐久性を高めるために、集光光学系222(又は222a)による集光点Pはオプティカルパイプ223の入射面223aより光源部210側にデフォーカスされている。
【0033】
集光ズームレンズ224は、オプティカルパイプ223からの光束をハエの目レンズ(多光束発生手段)225の入射面225aに集光している。
【0034】
集光ズームレンズ224は、オプティカルパイプ223の射出面223bをハエの目レンズ225の入射面225aに所定の倍率で結像させており、双方が互いに略共役関係となっている。また、集光ズームレンズ224を倍率可変のズームレンズとすることで、ハエの目レンズ225へ入射する光束領域を調整することが可能となっており、複数の照明条件を形成させることができる。
【0035】
ハエの目レンズ225の射出面225b近傍は2次光源(有効光源)となっており、そこには不要光を遮光して所望の有効光源を形成するため、絞り部材226が配置されている。絞り部材226は、図示しない絞り駆動機構により、開口の大きさ及び形状が可変となっている。
【0036】
照射レンズ227は、ハエの目レンズ225の射出面225b近傍で形成された2次光源を、視野絞り228上に重畳照明している。視野絞り228は、複数の可動な遮光板から成り、任意の開口形状が形成されるようにして、被照射面であるマスク300面上の照明領域を規定している。
【0037】
結像レンズ229a及び229bは、偏向ミラー230を介して視野絞り228の開口形状を被照射面であるマスク300上に転写している。
【0038】
照明光生成手段240は、照明条件(輪帯照明、四重極照明など)に応じて、オプティカルパイプ223からの光束を輪帯状や四重極状に変換するための素子を含んでいる。
【0039】
ここで、照明光生成手段240について詳細に説明する。図2に示すように、従来からよく知られている輪帯状の輪帯発光部Aを有する有効光源分布を形成させる場合、照明光生成手段240は、図3に示すような、入射側(即ち、入射面)に凹の円錐面(もしくは、平面)250aを設け、射出側(即ち、射出面)に凸の円錐面250bを設けたプリズム250とすればよい。図2は、輪帯形状の有効光源分布を示す概略図、図3は、図2に示す有効光源分布を形成するためのプリズム250を示す概略図である。
【0040】
また、図4に示すように、四重極発光部Bを有する四重極有効光源分布を形成させるためには、照明光生成手段240を、図5に示すような、入射側(即ち、入射面)に凹四角錐面(もしくは、平面)260aを設け、射出側(即ち、射出面)に凸四角錐面260bを設けたプリズム260とすればよい。このとき、入射面と射出面における四角錐の稜線260c及び260dと光軸とが成す角θ1及びθ2は等しくてもよいし、照明効率を向上もしくは四重極状に発光する領域(図4の部分B)を変化させるために、入射側の角度θ1と射出側の角度θ2を異ならせてもよい。これは、図3に示した円錐状のプリズム250でも同様である。図4は、四重極形状の有効光源分布を示す概略図、図5は、図4に示す有効光源分布を形成するためのプリズム260を示す概略図である。なお、このプリズム260の頂点を所定量だけ平らにすることで4つの部分有効光源の真中にも部分有効光源を持つ五重極有効光源分布を形成することも可能である。
【0041】
図6に示すような、第1の照明領域Cと、第2の照明領域Dを有する有効光源分布を形成させるには、照明光生成手段240を、図7に示すような、入射側(即ち、入射面)に凹四角錐面270aを設け、射出側(即ち、射出面)に凸の円錐面270bを設けたプリズム270とすればよい。このように、光束を分割する作用を持たせる多面体と、分割光束を適度に重ね合わせる作用の円錐面とを組み合わせることで、これまで形成が困難であった図6に示すような有効光源分布の形成が可能となる。
【0042】
なお、この第1の照明領域Cと、第2の照明領域Dを有する有効光源分布を形成する照明光学系により、所望のパターンと補助パターンを有する所定のマスクを照明すると、コンタクトホール列や縦横の繰り返し配線パターンの解像限界を高め、焦点深度を増加することができる。以下その詳細について述べる。
【0043】
図1のマスク300として、図15に示すマスク300aのような所望のコンタクトホールパターンが所定の周期で配置され、その周辺に補助パターン(ダミーのコンタクトホールパターン)が配置されたものを使う。ここで、図15は所望のコンタクトホールパターン及び補助パターンを形成したバイナリマスクの概略図である。図15のマスクは、透光部である所望のコンタクトホールパターン31及び補助パターン32と、遮光部33とから構成されている。なお、各光透過部の位相は等しい。コンタクトホールパターン31及び補助パターン32は、ホール径をPとすると縦横方向にピッチP0=2Pで整列して、コンタクトホール列を2次元的に形成する。
【0044】
このマスク300aに対して、コンタクトホールを解像するための十字斜入射照明と、その十字斜入射照明によって生じる偽解像を抑制する(即ち、偽解像パターンに対応する露光量は抑え(露光量の増加小)、所望のコンタクトホールパターンの露光量を強調する(露光量の増加大))ような照明を行うことで、所望のコンタクトホールパターンをプレート500に解像力良く露光することができる。以下、その詳細について述べる。
【0045】
コンタクトホールのピッチが小さいと図15のマスク300aを用いて少σ照明をした場合には、投影光学系400の瞳面における回折光は、0次回折光を除き他の回折光は瞳外へ外れてしまう。図16に示すように、0次回折光10が生じ、他の回折次数の回折光は瞳面上において、回折光11乃至18のようになる。よって、0次以外の回折光は投影レンズの瞳の外へ出てしまい、このような条件のもとではパターンが形成されない。ここで、図16は、図15に示すマスク300aに小σ照明したときの投影光学系400の瞳面上の回折光の位置と、斜入射照明をしたときの回折光の移動する位置を示した模式図である。
【0046】
そこで、これらの回折光11乃至18が瞳に入るような照明をする必要がある。例えば、2つの回折光10及び15を例にとって、かかる回折光が図16に示す投影光学系400の瞳面の斜線領域に来るようにするには、図17で示される有効光源面において、暗い矩形の領域aで示されるように斜入射照明を設定する。10’及び15’で示される回折光はクロス及び斜線で示す矩形領域b1及びb2にそれぞれ移動し、投影光学系400の瞳両端に入射することになる。一つの矩形で示される有効光源で2つの回折光が瞳に入射し、両者の干渉によりプレート500に等ピッチの直線状の干渉縞が形成される。同様に、2つの回折光10及び17においても10及び15で説明した斜入射照明を設定することができる。このような矩形の有効光源領域を図18に示すように4つ組み合わせることにより、プレート500には縦と横の等ピッチ直線状の干渉縞が形成され、光強度の重なった交点に強度が大きい部分と小さい部分が2次元周期的に現れる。このときの有効光源形状を図19(a)に示すように、十字に配置された瞳の半径方向に直交する方向に長手を有する4つの矩形となる。
【0047】
図15に示すマスク300aでは、所望のコンタクトホールパターンのホール径の大きさが、補助パターンより大きくしてあるので、その部分のみ周辺より強度が大きく、所望のコンタクトホールパターンがプレート500に形成されることになる。しかしながら、単に十字型の斜入射照明をしただけでは、プレート500には、図20(a)及び(b)に示すように偽解像パターンが生じてしまい、所望のコンタクトホールパターン以外にも不必要なパターンが生まれてしまう(ここで、図20は右側の開口絞りの開口形状に対応したプレート500での解像パターンのシミュレーションを示した図である)。
【0048】
つまり、露光量で考えると、図21に示す細い実線で描かれた波線のようになり、所望径露光量レベル(レジストの閾値)においては、所望パターンP1の間に偽解像パターンP2が生じてしまっているのである(ここで、図21は十字斜入射照明及び本発明の変形照明における露光量及び当該露光量に対応するプレート500での像を示した図である)。
【0049】
そこで、図16に示すように、瞳面上で2つの回折光位置を直線的に結んで表される領域cを除き、少なくとも1つの回折光のみ瞳面に入射する有効光源分布を加える。この場合は一つの回折光としては0次光とするのが斜入射角を小さくできるので都合が良い。図22に有効光源分布の一例を示す。このような照明を行うためには、例えば、1つの回折光10’が瞳面において暗い扇型の領域aとして示されるように照明を設定すればよい。これにより、10’で示される回折光は明るい扇型として示される領域bにそれぞれ移動し、回折光が瞳面320に入射することになる。このような条件に相当するものは合計4つ存在し、結局図19(b)に示すような形の有効光源となる。
【0050】
このように、照明系は、2つの回折光が瞳に入射する有効光源分布(図19(a)参照)と、1つの回折光が瞳に入射する有効光源分布(図19(b)参照)を足し合わせた、図19(c)に示されるような中央が十字状に抜けた有効光源を持つ変形照明を行うことができる。このような有効光源分布を有する変形照明を行うことで、プレート500面上では、図20(c)に示すように偽解像が消滅して所望のパターンのみを得られることが理解される。
【0051】
つまり、プレート500での露光量は図21に示す太い実線で描かれた波線のようになり、所望径露光量レベル(レジストの閾値)において、マスクの所望のパターンに相当する部分の露光量のみが増加され、偽解像パターンが消失した所望パターンP3のみを得ることができるのである。
【0052】
以上より、図15のマスク300aに対して、図19(c)ような有効光源分布を有する変形照明を行うことで、コンタクトホールパターンの解像力が良くなることがわかる。
【0053】
また、図19(c)の有効光源分布のうち、コンタクトホールを解像するための照明を行うための部分が第1の照明領域Dに対応し、その照明によって生じる偽解像を抑制する(所望のコンタクトホールパターンと補助パターンのコントラストをよくする)照明を行うための部分が第2の照明領域Cに対応することもわかる(参照:図6)。
【0054】
図5に示したプリズム260の凹四角錐面260aと凸四角錐面260bとを光軸周りに45°ずらして形成することで、図6に示す有効光源分布を形成することもできる。ここで、図6は、本発明で提案する八重極形状の有効光源分布を示す概略図、図7は、図6に示す有効光源分布を形成するためのプリズム270を示す概略図である。
【0055】
照明光生成手段240にプリズム270を使用すれば、ハエの目レンズ射出面225b近傍に配置される絞り部材226で必要以上に光を切り出す必要がなく、高い照明効率で有効光源分布の形成が可能であるという効果がある。
【0056】
更に、照明光生成手段240を、図8及び図9に示すような、一対のプリズム280(多面体282aを有するプリズム282と円錐面284aを有するプリズム284)で構成し、光軸方向に相対移動可能とすれば、より多様な有効光源分布の形成が可能となる。図8及び図9は、図6に示す有効光源分布を形成するための一対のプリズム280を示す概略図であって、図8は、一対のプリズム280の間隔Lが小さい場合、図9は、一対のプリズム280の間隔Lが大きい場合を示している。
【0057】
図8を参照するに、一対のプリズム280の間隔Lが小さいとき、図10で示すように、第1の照明領域Cの長さC1が大きく、第2の照明領域Dの幅D1が小さい有効光源分布が形成される。図10は、図8に示す一対のプリズム280のプリズム間隔Lと形成される有効光源形状の関係を示す概略図である。
【0058】
一方、図9を参照するに、一対のプリズム280の間隔Lが大きいときは、図11で示すように、第1の照明領域Cの長さC1が小さく、第2の照明領域Dの幅D1が大きい有効光源分布が形成される。図11は、図9に示す一対のプリズム280のプリズム間隔Lと形成される有効光源形状の関係を示す概略図である。
【0059】
従って、形成させたいパターンに応じて、補助パターンによるアシスト効果が最適となるように、第1の照明領域Cと第2の照明領域Dの相対比(光量比もしくは面積比)を調節することが可能となる。
【0060】
更に、後段の集光ズームレンズ224と組み合わせれば、第1の照明領域Cと第2の照明領域Dの相対比を維持したまま、有効光源分布の大きさ(σ値)を調整することが可能となる。
【0061】
図8及び図9では、光源部210側のプリズム282の入射側を凹の多面体、射出側を平面とし、マスク300側のプリズム284の入射面を平面、射出側を凸の円錐としたが、光源部210側のプリズム282の入射面を平面、射出側を凹の多面体とし、マスク300側のプリズム284の入射面を凸の円錐、射出側を平面とすることももちろん可能である。更に、円錐と多面体を有する面をそれぞれ逆に配置することも可能である。但し、異なる形状を一対のプリズムとして接近させる場合は、図8及び図9に示す構成の方が好ましい。
【0062】
なお、以上では、異なる形状の面を持つ一対のプリズムとして、円錐と多面体の組み合わせのものについて述べたが、多面体と多面体との組み合わせ(例えば4角錐面と4角錐面)を用いてもよいのは言うまでも無い。
【0063】
また、光源部210側のプリズムとマスク300のプリズムの少なくともいずれか一方を光軸に関して回動可能とすることで、有効光源分布を可変としても良い(例えばどちらも4角錐面を有する場合には、図4のような四重極照明と図6のような八重極照明との切り替えが可能となる)
さらに、以上では、複数のプリズムの一部を光軸方向に移動可能とすることで、多様な有効光源分布の形成を可能としたが、前述したプリズム250、260、270のように、それぞれ異なる性質を持つプリズムをターレットに載せて切り替えることでも、多様な有効光源分布の形成は可能である。
【0064】
次に、図12を参照して、照明光生成手段240の変形例である照明光生成手段290について説明する。図12は、照明光生成手段240の変形例である照明光生成手段290を含む投影露光装置100Aを示す概略構成図である。照明光生成手段290は、図1に示す照明光生成手段240と比べて、ハエの目レンズ入射面225aとほぼフーリエ変換の関係(本明細書において、フーリエ変換の関係とは、光学的に瞳面と物体面(又は像面)、物体面(又は像面)と瞳面となる関係を意味する)となる位置に回折光学素子295(例えば、BO(Bainary Optics)やCGH(Computer Generated Hologram)等)を配置している点が異なる。
【0065】
回折光学素子295は、平行光を入射すると、フーリエ変換の関係となる面に所望の分布を形成するよう設計されている。従って、図6に示す有効光源分布を形成させたければ、それに対応した回折光学素子を設計、製作すれば良い。なお、回折光学素子295の設計及び製作については、特開平11−054426号公報や回折光学素子入門(監修:応用物理学会、発行:オプトニクス社)等に記載の方法を用いることができるので、ここでの詳細な説明は省略する。
【0066】
また、回折光学素子295への入射光が平行ではなく、角度を持つとフーリエ変換面で形成される像がぼけるので、集光光学系222で規定されるNAを可変となるように構成する集光光学系222aとすれば、図6で示す第1の照明領域C及び第2の照明領域Dの幅を可変とすることが可能となる。なお、集光光学系222aは、異なるNAを射出する光学系をターレットを用いて切り換える構成としてもよいし、NA可変のズーム系としてもよい。
【0067】
照明光生成手段290として、複数の光学素子295aをマスク300に形成された所望のパターンに応じてターレット状の切り替え手段等を用いて交換可能としたものを用いてもよい。
【0068】
以上の実施例では、オプティカルパイプ223とハエの目レンズ225との間に照明光束形成手段240、290を配置していたが、オプティカルパイプ223に代えてさらに第2のハエの目レンズを使用しても良く、その場合には、第2のハエの目レンズとハエの目レンズ225との間に照明光束形成手段240、290を配置すればよい。その際、その照明光束形成手段240、290はハエの目レンズ225の入射面と光学的にフーリエ変換の関係にある位置に配置するのが望ましい。
【0069】
再び、図1に戻って、マスク300は、例えば、石英製で、その上には転写されるべき回路パターン(又は像)が形成され、図示しないマスクステージに支持及び駆動される。マスク300から発せられた回折光は投影光学系400を通りプレート500上に投影される。マスク300とプレート500とは共役の関係に配置される。露光装置100は、ステップ・アンド・スキャン方式の露光装置であるため、マスク300とプレート500を走査することによりマスクパターンをプレート500上に縮小投影する。
【0070】
投影光学系400は、物体面(例えば、マスク300)からの光束を像面(例えば、プレート500などの被処理体)に結像する。投影光学系400は、複数のレンズ素子のみからなる光学系、複数のレンズ素子と少なくとも一枚の凹面鏡とを有する光学系(カタディオプトリック光学系)、複数のレンズ素子と少なくとも一枚のキノフォームなどの回折光学素子とを有する光学系、全ミラー型の光学系等を使用することができる。色収差の補正の必要な場合には、互いに分散値(アッベ値)の異なるガラス材からなる複数のレンズ素子を使用したり、回折光学素子をレンズ素子と逆方向の分散が生じるように構成したりする。
【0071】
プレート500は、本実施形態ではウェハであるが、液晶基板その他の被処理体(被露光体)を広く含む。プレート500には、フォトレジストが塗布されている。フォトレジスト塗布工程は、前処理と、密着性向上剤塗布処理と、フォトレジスト塗布処理と、プリベーク処理とを含む。前処理は、洗浄、乾燥などを含む。密着性向上剤塗布処理は、フォトレジストと下地との密着性を高めるための表面改質(即ち、界面活性剤塗布による疎水性化)処理であり、HMDS(Hexamethyl−disilazane)などの有機膜をコート又は蒸気処理する。プリベークは、ベーキング(焼成)工程であるが現像後のそれよりもソフトであり、溶剤を除去する。
【0072】
プレート500は、図示しないプレートステージに支持される。プレートステージは、当業界で周知のいかなる構成をも適用することができるので、ここでは詳しい構造及び動作の説明は省略する。例えば、プレートステージはリニアモータを利用してXY方向にプレート500を移動することができる。マスク300とプレート500は、例えば、同期走査され、図示しないプレートステージ及びマスクステージの位置は、例えば、レーザー干渉計などにより監視され、両者は一定の速度比率で駆動される。プレートステージは、例えば、ダンパを介して床等の上に支持されるステージ定盤上に設けられ、マスクステージ及び投影光学系400は、例えば、鏡筒定盤は床等に載置されたベースフレーム上にダンパ等を介して支持される図示しない鏡筒定盤上に設けられる。
【0073】
露光において、光源部210から発せられた光束は、照明光学系220によりマスク300を照明する。マスク300を通過してマスクパターンを反映する光は投影光学系400によりプレート500に結像される。
【0074】
露光装置100が使用する照明光学系200は、マスク300に形成された所望のパターンに応じて最適な照明条件でマスク300を照明することができるので、高い解像度とスループットで経済性よくデバイス(半導体素子、LCD素子、撮像素子(CCDなど)、薄膜磁気ヘッドなど)を提供することができる。
【0075】
次に、図12及び図13を参照して、上述の露光装置100を利用したデバイスの製造方法の実施例を説明する。図12は、デバイス(ICやLSIなどの半導体チップ、LCD、CCD等)の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造を例に説明する。ステップ1(回路設計)では、デバイスの回路設計を行う。ステップ2(マスク製作)では、設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。ステップ3(ウェハ製造)では、シリコンなどの材料を用いてウェハを製造する。ステップ4(ウェハプロセス)は前工程と呼ばれ、マスクとウェハを用いてリソグラフィー技術によってウェハ上に実際の回路を形成する。ステップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ4によって作成されたウェハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)、パッケージング工程(チップ封入)等の工程を含む。ステップ6(検査)では、ステップ5で作成された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テストなどの検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷(ステップ7)される。
【0076】
図13は、ステップ4のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。ステップ11(酸化)では、ウェハの表面を酸化させる。ステップ12(CVD)では、ウェハの表面に絶縁膜を形成する。ステップ13(電極形成)では、ウェハ上に電極を蒸着などによって形成する。ステップ14(イオン打ち込み)では、ウェハにイオンを打ち込む。ステップ15(レジスト処理)では、ウェハに感光剤を塗布する。ステップ16(露光)では、露光装置100によってマスクの回路パターンをウェハに露光する。ステップ17(現像)では、露光したウェハを現像する。ステップ18(エッチング)では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ19(レジスト剥離)では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによってウェハ上に多重に回路パターンが形成される。本実施形態のデバイス製造方法によれば従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
【0077】
以上、本発明の好ましい実施例を説明したが、本発明はこれらに限定されずその要旨の範囲内で様々な変形や変更が可能である。
【0078】
【発明の効果】
本発明の照明光学系によれば、マスクパターンの寸法及び配列のプロセス毎の変化に応じて所望の有効光源が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一側面としての露光装置の例示的一形態を示す概略構成図である。
【図2】 輪帯形状の有効光源分布を示す概略図である。
【図3】 図2に示す有効光源分布を形成するためのプリズムを示す概略図である。
【図4】 四重極形状の有効光源分布を示す概略図である。
【図5】 図4に示す有効光源分布を形成するためのプリズムを示す概略図である。
【図6】 本発明で提案する八重極形状の有効光源分布を示す概略図である。
【図7】 図6に示す有効光源分布を形成するためのプリズムを示す概略図である。
【図8】 図6に示す有効光源分布を形成するための一対のプリズムの一例を示す概略図である。
【図9】 図6に示す有効光源分布を形成するための一対のプリズムの一例を示す概略図である。
【図10】 図8に示す一対のプリズム280のプリズム間隔Lと形成される有効光源形状の関係を示す概略図である。
【図11】 図9に示す一対のプリズムのプリズム間隔Lと形成される有効光源形状の関係を示す概略図である。
【図12】 本発明の一側面としての露光装置の例示的一形態を示す概略構成図である。
【図13】 デバイス(ICやLSIなどの半導体チップ、LCD、CCD等)の製造を説明するためのフローチャートである。
【図14】 図13に示すステップ4のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。
【図15】 バイナリマスクの概略を示す図である。
【図16】 図15に示すバイナリマスクに小σ照明したときの瞳面上の回折光の位置と、斜入射照明をしたときの回折光の移動する位置を示した模式図である。
【図17】 有効光源分布を説明するための模式図である。
【図18】 有効光源分布を説明するための模式図である。
【図19】 有効光源分布を説明するための模式図である。
【図20】 パターン面上での解像パターンのシミュレーションを示した図である。
【図21】 変形照明における露光量及び当該露光量に対応するパターン上での像を示した図である。
【図22】 有効光源分布の一例を示す図である。
【符号の説明】
100 露光装置
200 照明装置
210 光源部
220 照明光学系
240 照明光生成手段
270 プリズム
280 一対のプリズム
300 マスク
400 投影光学系
500 プレート
Claims (10)
- 光源からの光束で被照明面を照明する照明光学系であって、
前記被照明面に対して実質的にフーリエ変換の関係となる面における光量分布を生成する照明光生成手段を有し、
当該照明光生成手段は、前記光源側に配置された第1の光学透過部材と、前記被照明面側に配置された第2の光学透過部材を有し、
前記第1の光学透過部材と前記第2の光学透過部材の少なくともいずれか一方は、光軸に関して回動可能であり、
前記第1の光学透過部材の入射面又は射出面は、第1多角錐面であり、
前記第2の光学透過部材の入射面又は射出面は、第2多角錐面であり、
前記第1多角錐面の稜線と光軸のなす角度と、前記第2多角錐面の稜線と光軸のなす角度とが異なることを特徴とする照明光学系。 - 光源からの光束で被照明面を照明する照明光学系であって、
前記被照明面に対して実質的にフーリエ変換の関係となる面における光量分布を生成する照明光生成手段を有し、
当該照明光生成手段は、前記光源側に配置された第1の光学透過部材と、前記被照射面側に配置された第2の光学透過部材を有し、
前記第1の光学透過部材の入射面又は射出面は、第1多角錐面であり、
前記第2の光学透過部材の入射面又は射出面は、第2多角錐面であり、
前記第1多角錐面と前記第2多角錐面とは光軸周りにずれていることを特徴とする照明光学系。 - 光源からの光束で被照明面を照明する照明光学系であって、
前記被照明面に対して実質的にフーリエ変換の関係となる面における光量分布を生成する照明光生成手段を有し、
当該照明光生成手段は、前記光源側に配置された第1の光学透過部材と、前記被照明面側に配置された第2の光学透過部材を有し、
前記第1の光学透過部材と前記第2の光学透過部材の少なくともいずれか一方は、光軸に関して回動可能であり、
前記第1の光学透過部材又は前記第2の光学透過部材のうち、一方の入射面又は射出面は多角錐面であり、他方の入射面又は射出面は円錐面であり、
前記光量分布は、前記多角錐面の作用と前記円錐面の作用とを組み合わせて、前記光源からの光束を分割して重ね合わせることにより生成されることを特徴とする照明光学系。 - 前記第1の光学透過部材と前記第2の光学透過部材の少なくともいずれか一方は、光軸に関して回動可能であることを特徴とする請求項2に記載の照明光学系。
- 光源からの光束で被照明面を照明する照明光学系において、
前記被照明面に対して実質的にフーリエ変換の関係となる面における光量分布を生成する照明光生成手段を有し、
当該照明光生成手段は、前記光束の入射面が第1多角錐面であり、前記光束の射出面が第2多角錐面であるプリズムを有し、
前記第1多角錐面の稜線と光軸のなす角度と、前記第2多角錐面の稜線と光軸のなす角度が異なることを特徴とする照明光学系。 - 光源からの光束で被照明面を照明する照明光学系において、
前記被照明面に対して実質的にフーリエ変換の関係となる面における光量分布を生成する照明光生成手段を有し、
当該照明光生成手段は、前記光束の入射面が第1多角錐面であり、前記光束の射出面が第2多角錐面であるプリズムを有し、
前記第1多角錐面と前記第2多角錐面とは光軸周りにずれていることを特徴とする照明光学系。 - 光源からの光束で被照明面を照明する照明光学系において、
前記被照明面に対して実質的にフーリエ変換の関係となる面における光量分布を生成する照明光生成手段を有し、
当該照明光生成手段は、前記光束の入射面が多角錐面であり、前記光束の射出面が円錐面であるプリズムを有することを特徴とする照明光学系。 - 前記多角錐面の頂点は、平らにされていることを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか一項記載の照明光学系。
- 請求項1乃至8のうちいずれか一項記載の照明光学系によりレチクルを照明し、当該レチクル経た光を投影光学系を介して被処理体に照射して当該被処理体を露光することを特徴とする露光装置。
- 請求項9記載の露光装置を用いて被処理体を投影露光するステップと、
前記投影露光された前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
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US8635350B2 (en) | 2006-06-12 | 2014-01-21 | Icontrol Networks, Inc. | IP device discovery systems and methods |
US20170118037A1 (en) | 2008-08-11 | 2017-04-27 | Icontrol Networks, Inc. | Integrated cloud system for premises automation |
US11159484B2 (en) | 2004-03-16 | 2021-10-26 | Icontrol Networks, Inc. | Forming a security network including integrated security system components and network devices |
US10721087B2 (en) | 2005-03-16 | 2020-07-21 | Icontrol Networks, Inc. | Method for networked touchscreen with integrated interfaces |
US9141276B2 (en) | 2005-03-16 | 2015-09-22 | Icontrol Networks, Inc. | Integrated interface for mobile device |
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US11615697B2 (en) | 2005-03-16 | 2023-03-28 | Icontrol Networks, Inc. | Premise management systems and methods |
US9306809B2 (en) | 2007-06-12 | 2016-04-05 | Icontrol Networks, Inc. | Security system with networked touchscreen |
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US11700142B2 (en) | 2005-03-16 | 2023-07-11 | Icontrol Networks, Inc. | Security network integrating security system and network devices |
US20170180198A1 (en) | 2008-08-11 | 2017-06-22 | Marc Baum | Forming a security network including integrated security system components |
US10999254B2 (en) | 2005-03-16 | 2021-05-04 | Icontrol Networks, Inc. | System for data routing in networks |
US20120324566A1 (en) | 2005-03-16 | 2012-12-20 | Marc Baum | Takeover Processes In Security Network Integrated With Premise Security System |
US20110128378A1 (en) | 2005-03-16 | 2011-06-02 | Reza Raji | Modular Electronic Display Platform |
US9450776B2 (en) | 2005-03-16 | 2016-09-20 | Icontrol Networks, Inc. | Forming a security network including integrated security system components |
JP4865270B2 (ja) | 2005-07-28 | 2012-02-01 | キヤノン株式会社 | 露光装置、及びそれを用いたデバイス製造方法 |
US10079839B1 (en) | 2007-06-12 | 2018-09-18 | Icontrol Networks, Inc. | Activation of gateway device |
US11706279B2 (en) | 2007-01-24 | 2023-07-18 | Icontrol Networks, Inc. | Methods and systems for data communication |
US7633385B2 (en) | 2007-02-28 | 2009-12-15 | Ucontrol, Inc. | Method and system for communicating with and controlling an alarm system from a remote server |
US8451986B2 (en) | 2007-04-23 | 2013-05-28 | Icontrol Networks, Inc. | Method and system for automatically providing alternate network access for telecommunications |
US10616075B2 (en) | 2007-06-12 | 2020-04-07 | Icontrol Networks, Inc. | Communication protocols in integrated systems |
US11237714B2 (en) | 2007-06-12 | 2022-02-01 | Control Networks, Inc. | Control system user interface |
US11601810B2 (en) | 2007-06-12 | 2023-03-07 | Icontrol Networks, Inc. | Communication protocols in integrated systems |
US10051078B2 (en) | 2007-06-12 | 2018-08-14 | Icontrol Networks, Inc. | WiFi-to-serial encapsulation in systems |
US10666523B2 (en) | 2007-06-12 | 2020-05-26 | Icontrol Networks, Inc. | Communication protocols in integrated systems |
US11423756B2 (en) | 2007-06-12 | 2022-08-23 | Icontrol Networks, Inc. | Communication protocols in integrated systems |
US10498830B2 (en) | 2007-06-12 | 2019-12-03 | Icontrol Networks, Inc. | Wi-Fi-to-serial encapsulation in systems |
US11089122B2 (en) | 2007-06-12 | 2021-08-10 | Icontrol Networks, Inc. | Controlling data routing among networks |
US11212192B2 (en) | 2007-06-12 | 2021-12-28 | Icontrol Networks, Inc. | Communication protocols in integrated systems |
US11218878B2 (en) | 2007-06-12 | 2022-01-04 | Icontrol Networks, Inc. | Communication protocols in integrated systems |
US10423309B2 (en) | 2007-06-12 | 2019-09-24 | Icontrol Networks, Inc. | Device integration framework |
US11646907B2 (en) | 2007-06-12 | 2023-05-09 | Icontrol Networks, Inc. | Communication protocols in integrated systems |
US11316753B2 (en) | 2007-06-12 | 2022-04-26 | Icontrol Networks, Inc. | Communication protocols in integrated systems |
US10389736B2 (en) | 2007-06-12 | 2019-08-20 | Icontrol Networks, Inc. | Communication protocols in integrated systems |
US10523689B2 (en) | 2007-06-12 | 2019-12-31 | Icontrol Networks, Inc. | Communication protocols over internet protocol (IP) networks |
US11831462B2 (en) | 2007-08-24 | 2023-11-28 | Icontrol Networks, Inc. | Controlling data routing in premises management systems |
US11916928B2 (en) | 2008-01-24 | 2024-02-27 | Icontrol Networks, Inc. | Communication protocols over internet protocol (IP) networks |
US20170185278A1 (en) | 2008-08-11 | 2017-06-29 | Icontrol Networks, Inc. | Automation system user interface |
US10530839B2 (en) | 2008-08-11 | 2020-01-07 | Icontrol Networks, Inc. | Integrated cloud system with lightweight gateway for premises automation |
US11729255B2 (en) | 2008-08-11 | 2023-08-15 | Icontrol Networks, Inc. | Integrated cloud system with lightweight gateway for premises automation |
US11258625B2 (en) | 2008-08-11 | 2022-02-22 | Icontrol Networks, Inc. | Mobile premises automation platform |
US11758026B2 (en) | 2008-08-11 | 2023-09-12 | Icontrol Networks, Inc. | Virtual device systems and methods |
US11792036B2 (en) | 2008-08-11 | 2023-10-17 | Icontrol Networks, Inc. | Mobile premises automation platform |
JP2010114266A (ja) | 2008-11-06 | 2010-05-20 | Canon Inc | 露光装置およびその制御方法、ならびにデバイス製造方法 |
US9628440B2 (en) | 2008-11-12 | 2017-04-18 | Icontrol Networks, Inc. | Takeover processes in security network integrated with premise security system |
US8638211B2 (en) | 2009-04-30 | 2014-01-28 | Icontrol Networks, Inc. | Configurable controller and interface for home SMA, phone and multimedia |
CN102985915B (zh) | 2010-05-10 | 2016-05-11 | 网际网路控制架构网络有限公司 | 控制系统用户接口 |
US8836467B1 (en) | 2010-09-28 | 2014-09-16 | Icontrol Networks, Inc. | Method, system and apparatus for automated reporting of account and sensor zone information to a central station |
US11750414B2 (en) | 2010-12-16 | 2023-09-05 | Icontrol Networks, Inc. | Bidirectional security sensor communication for a premises security system |
US9147337B2 (en) | 2010-12-17 | 2015-09-29 | Icontrol Networks, Inc. | Method and system for logging security event data |
WO2012132872A1 (ja) | 2011-03-25 | 2012-10-04 | ナルックス株式会社 | 照明装置 |
US9928975B1 (en) | 2013-03-14 | 2018-03-27 | Icontrol Networks, Inc. | Three-way switch |
US9287727B1 (en) | 2013-03-15 | 2016-03-15 | Icontrol Networks, Inc. | Temporal voltage adaptive lithium battery charger |
US9867143B1 (en) | 2013-03-15 | 2018-01-09 | Icontrol Networks, Inc. | Adaptive Power Modulation |
WO2015021469A2 (en) | 2013-08-09 | 2015-02-12 | Icontrol Networks Canada Ulc | System, method and apparatus for remote monitoring |
JP5644921B2 (ja) * | 2013-09-09 | 2014-12-24 | 株式会社ニコン | 照明光学装置 |
JP5761329B2 (ja) * | 2013-12-27 | 2015-08-12 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、露光装置および露光方法 |
US11405463B2 (en) | 2014-03-03 | 2022-08-02 | Icontrol Networks, Inc. | Media content management |
US11146637B2 (en) | 2014-03-03 | 2021-10-12 | Icontrol Networks, Inc. | Media content management |
JP5928632B2 (ja) * | 2015-04-03 | 2016-06-01 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、露光装置および露光方法 |
JP6330830B2 (ja) * | 2016-02-15 | 2018-05-30 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、露光装置および露光方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2995820B2 (ja) * | 1990-08-21 | 1999-12-27 | 株式会社ニコン | 露光方法及び方法,並びにデバイス製造方法 |
US7656504B1 (en) * | 1990-08-21 | 2010-02-02 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus with luminous flux distribution |
US6252647B1 (en) * | 1990-11-15 | 2001-06-26 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
US5357311A (en) * | 1991-02-25 | 1994-10-18 | Nikon Corporation | Projection type light exposure apparatus and light exposure method |
JP3278896B2 (ja) * | 1992-03-31 | 2002-04-30 | キヤノン株式会社 | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
JP2917704B2 (ja) * | 1992-10-01 | 1999-07-12 | 日本電気株式会社 | 露光装置 |
WO1994020883A1 (en) * | 1993-03-01 | 1994-09-15 | General Signal Corporation | Variable annular illuminator for photolithographic projection imager |
EP0687956B2 (de) * | 1994-06-17 | 2005-11-23 | Carl Zeiss SMT AG | Beleuchtungseinrichtung |
JP3264224B2 (ja) * | 1997-08-04 | 2002-03-11 | キヤノン株式会社 | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
KR100538362B1 (ko) * | 2001-04-24 | 2005-12-21 | 캐논 가부시끼가이샤 | 노광방법 및 장치 |
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