JP3899879B2 - Color filter manufacturing method and manufacturing apparatus, liquid crystal device manufacturing method and manufacturing apparatus, EL device manufacturing method and manufacturing apparatus, inkjet head control apparatus, material discharging method and material discharging apparatus, and electronic apparatus - Google Patents

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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶装置等といった光学装置に用いられるカラーフィルタを製造する製造方法及び製造装置に関する。また、本発明は、カラーフィルタを有する液晶装置の製造方法及び製造装置に関する。また、本発明は、ＥＬ発光層を用いて表示を行うＥＬ装置の製造方法及び製造装置に関する。また、対象物に材料を吐出する材料の吐出方法、及び材料の吐出装置に関する。更には、これら製造方法を用いて製造された液晶装置、又はEL装置を搭載した電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、携帯電話機、携帯型コンピュータ等といった電子機器の表示部に液晶装置、ＥＬ装置等といった表示装置が広く用いられている。また最近では、表示装置によってフルカラー表示を行うことが多くなっている。液晶装置によるフルカラー表示は、例えば、液晶層によって変調される光をカラーフィルタに通すことによって行われる。そして、カラーフィルタは、ガラス、プラスチック等によって形成された基板の表面に、例えば、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）のドット状の各色フィルタエレメントをストライプ配列、デルタ配列又はモザイク配列等といった所定の配列で並べることによって形成される。
【０００３】
また、ＥＬ装置によってフルカラー表示を行う場合には、例えば、ガラス、プラスチック等によって形成された基板の表面に、例えば、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）のドット状の各色ＥＬ発光層をストライプ配列、デルタ配列又はモザイク配列等といった所定の配列で並べ、これらのＥＬ発光層を一対の電極で挟持して絵素ピクセルを形成し、これらの電極に印加する電圧を絵素ピクセルごとに制御することによって当該絵素ピクセルを希望の色で発光させ、これにより、フルカラーの表示を行う。
【０００４】
従来、カラーフィルタのＲ，Ｇ，Ｂ等の各色フィルタエレメントをパターニングする場合や、ＥＬ装置のＲ，Ｇ，Ｂ等の各色絵素ピクセルをパターニングする場合に、フォトリソグラフィー法を用いることは知られている。しかしながらこのフォトリソグラフィー法を用いる場合には、工程が複雑であることや、各色材料やフォトレジスト等を多量に消費するのでコストが高くなる等といった問題があった。
【０００５】
この問題を解消するため、インクジェット法によってフィルタ材料やＥＬ発光材料等をドット状に吐出することによりドット状配列のフィラメントやＥＬ発光層等を形成する方法が提案された。
【０００６】
今、図２２（ａ）において、ガラス、プラスチック等によって形成された大面積の基板、いわゆるマザーボード３０１の表面に設定される複数のパネル領域３０２の内部領域に、図２２（ｂ）に示すように、ドット状に配列された複数のフィルタエレメント３０３をインクジェット法に基づいて形成する場合を考える。この場合には、例えば図２２（ｃ）に示すように、複数のノズル３０４を列状に配列して成るノズル列３０５を有するインクジェットヘッド３０６を、図２２（ｂ）に矢印Ａ１及び矢印Ａ２で示すように、１個のパネル領域３０２に関して複数回（図２２では２回）主走査させながら、それらの主走査の間に複数のノズルから選択的にインクすなわちフィルタ材料を吐出することによって希望位置にフィルタエレメント３０３を形成する。
【０００７】
フィルタエレメント３０３はＲ，Ｇ，Ｂ等の各色をストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列等といった適宜の配列形態で配列することによって形成されるものであるので、図２２（ｂ）に示すインクジェットヘッド３０６によるインク吐出処理は、Ｒ，Ｇ，Ｂの単色を吐出するインクジェットヘッド３０６をＲ，Ｇ，Ｂ等の３色分だけ予め設けておいて、それらのインクジェットヘッド３０６を順々に用いて１つのマザーボード３０１上にＲ，Ｇ，Ｂ等の３色配列を形成する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、インクジェットヘッド３０６に関しては、一般に、ノズル列３０５を構成する複数のノズル３０４のインク吐出量にバラツキがあり、例えば図２３（ａ）に示すように、ノズル列３０５の両端部に対応する位置の吐出量が多く、その中央部がその次に多く、それらの中間部の吐出量が少ないというようなインク吐出特性Ｑを有する。
【０００９】
従って、図２２（ｂ）に示すようにしてインクジェットヘッド３０６によってフィルタエレメント３０３を形成したとき、図２３（ｂ）に示すように、インクジェットヘッド３０６の端部に対応する位置Ｐ1又は中央部Ｐ2、或いはＰ1及びＰ2の両方に濃度の濃いスジが形成されてしまい、カラーフィルタの平面的な光透過特性が不均一になるという問題があった。
【００１０】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、カラーフィルタの光透過特性、液晶装置のカラー表示特性、ＥＬ発光面の発光特性等といった光学部材の光学特性を平面的に均一にできる各光学部材の製造方法及び製造装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
（１）上記の目的を達成するため、本発明に係るカラーフィルタの製造方法は、基板上に複数のフィルタエレメントを配列して成るカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法であって、
複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該ノズル列がｎ個のグループに分割されてなるインクジェットヘッド、及び前記基板のうちの一方を他方に対して主走査方向に移動させつつ、前記複数のノズルから選択的にフィルタ材料を吐出して前記基板上に前記フィルタエレメントを形成する工程Ａと、前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副走査させる工程Ｂと、を具備しており、各前記フィルタエレメントの形成は、ｎ回の前記工程Ａによりなされ、各前記フィルタエレメントの形成において、各回の前記工程Ａで吐出を行う前記ノズルは、互いに異なる前記グループに属していることを特徴とする。
【００１２】
この構成のカラーフィルタの製造方法によれば、カラーフィルタ内の個々のフィルタエレメントは、インクジェットヘッドの１回の走査によって形成されるのではなくて、異なるノズルグループに属する複数のノズルによって重ねてインク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成されるので、仮に複数のノズル間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数のフィルタエレメント間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、カラーフィルタの光透過特性を平面的に均一にすることができる。
【００１３】
もちろん、本発明のカラーフィルタの製造方法はインクジェットヘッドを用いる方法であるので、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要も無く、また、材料を浪費することも無い。
【００１４】
上記構成のカラーフィルタの製造方法において、前記インクジェットヘッド及び基板のうちの一方を前記ノズルグループの副走査方向の長さの整数倍の長さで他方に対して副走査移動させることができる。こうすれば、複数のノズルグループが前記基板の同じ部分を重ねて走査することになり、各ノズルグループ内のノズルによって個々のフィルタエレメント領域にインクが重ねて供給される。
【００１５】
また、上記構成のカラーフィルタの製造方法において、前記ノズル列は前記副走査方向に対して傾斜して配置することができる。ノズル列は複数のノズルを列状に配列することによって形成される。この場合、ノズル列の配置状態がインクジェットヘッドの副走査方向に対して平行であるとすると、ノズルから吐出されたフィルタエレメント材料によって形成されるフィルタエレメントの隣り合うものの間の間隔、すなわちエレメント間ピッチは、ノズル列を形成する複数のノズルのノズル間ピッチに等しくなる。
【００１６】
エレメント間ピッチがノズル間ピッチに等しくて良い場合には上記のままで良いのであるが、このような場合はどちらかといえば稀なケースであり、通常は、エレメント間ピッチとノズル間ピッチとが異なっている場合の方が多いのが現状である。このようにエレメント間ピッチとノズル間ピッチとが異なる場合には、上記構成のように、ノズル列をインクジェットヘッドの副走査方向に対して傾斜させることにより、ノズル間ピッチの副走査方向に沿った長さをエレメント間ピッチに合わせることができる。なお、この場合には、ノズル列を構成する各ノズルの位置が主走査方向に関して前後にずれることになるが、これに対しては各ノズルからのフィルタエレメント材料の吐出タイミングをずらせることにより、各ノズルからのインク滴を希望の位置に供給できる。
【００１７】
また、上記構成のカラーフィルタの製造方法において、前記ノズル列の長さをＬ、前記ノズル列が前記副走査方向と成す角度をθとするとき、前記工程Ｂに係る副走査移動量δについて、δ≒（Ｌ／ｎ）ｃｏｓθとすることができる。
この構成によれば、インクジェットヘッドは複数のノズルを副走査方向へノズルグループごとに移動させることができる。この結果、例えば、ノズル列が４個のノズルグループに分割される場合を考えれば、基板上の各部は４個のノズルグループによって重ねて主走査される。
【００１８】
次に、上記構成のカラーフィルタの製造方法において、前記ノズル列の両端部分の数個のノズルからはフィルタエレメント材料を吐出させないという制御方法を採用できる。一般のインクジェットヘッドにおいてインク吐出分布がノズル列の両端部分において他の部分に比べて変化することは図２３（ａ）に関連して説明した通りである。このようなインク吐出分布特性を有するインクジェットヘッドに関しては、変化の大きいノズル列両端部分の数個のノズルを除いた、インク吐出分布が一様な複数のノズルを使うことにすれば、フィルタエレメントの膜厚を平面的に均一にすることができる。
【００１９】
また、上記構成のカラーフィルタの製造方法のうち、前記ノズル列の両端部分の数個のノズルからはインクを吐出させない場合において、前記ノズル列の長さをＬ、前記ノズル列が前記副走査方向と成す角度をθとするとき、前記工程Ｂに係る副走査移動量δについて、δ≒（Ｌ／ｎ）ｃｏｓθとすることができる。
【００２０】
次に、上記構成のカラーフィルタの製造方法によって製造されるカラーフィルタは、Ｒ（レッド），Ｇ（グリーン），Ｂ（ブルー）、或いはＣ（シアン）,Ｙ（イエロー）,Ｍ（マゼンダ）等の複数色フィルタエレメントを平面的に適宜のパターンに配列することによって形成されると考えられる。このようなカラーフィルタを製造する場合には、複数色のうちの１種類のフィルタ材料をノズル列から吐出するインクジェットヘッドを色数分それぞれ個々に独立して設け、「前記ノズル列内の各ノズルグループが前記基板の同じ部分を重ねて走査するように前記インクジェットヘッドを副走査させながら前記主走査を複数回繰り返して行う」という工程は、前記１個の基板に対して各色毎のインクジェットヘッドを別々に用いて順次に行うことによって実現できる。
【００２１】
また、上記のようなＲ，Ｇ，Ｂ，或いはＣ，Ｙ，Ｍ等の複数色フィルタエレメントを有するカラーフィルタを製造する場合、各色を吐出する複数種類のノズル列を１つのヘッドの内部に形成することによって前記インクジェットヘッドを形成し、「前記ノズル列内の各ノズルグループが前記基板の同じ部分を重ねて走査するように前記インクジェットヘッドを副走査させながら前記主走査を複数回繰り返して行う」という工程は、前記インクジェットヘッドによって複数色に対して同時に行うこともできる。
【００２２】
（２）次に、本発明に係るカラーフィルタの製造装置は、基板上に複数のフィルタエレメントを配列して成るカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造装置であって、複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該ノズル列が複数のグループに分割されてなるインクジェットヘッドと、該インクジェットヘッドへフィルタ材料を供給するインク供給手段と、前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して主走査方向に移動させる主走査駆動手段と、前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副走査方向に移動させる副走査駆動手段と、前記複数のノズルからのインクの吐出を制御するノズル吐出制御手段と、前記主走査駆動手段の動作を制御する主走査制御手段と、前記副走査駆動手段の動作を制御する副走査制御手段とを有し、各前記グループの少なくとも一部が前記基板の同じ部分を前記主走査方向に走査できるように、前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副走査させることを特徴とする。
【００２３】
（３）次に、本発明に係る液晶装置の製造方法は、液晶を挟持する一対の基板と、少なくとも一方の基板上に複数のフィルタエレメントを配列して成るカラーフィルタとを有する液晶装置の製造方法であって、複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該ノズル列が複数のグループに分割されてなるインクジェットヘッド、及び前記基板のうちの一方を他方に対して主走査方向に移動させる工程と、前記複数のノズルから選択的にフィルタ材料を吐出して前記基板上に前記フィルタエレメントを形成する工程と、各前記グループの少なくとも一部が前記基板の同じ部分を前記主走査方向に走査できるように、前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副走査させる工程と、を具備することを特徴とする。
。
【００２４】
（４）次に、本発明に係る液晶装置の製造装置は、液晶を挟持する一対の基板と、少なくとも一方の基板上に複数のフィルタエレメントを配列して成るカラーフィルタとを有する液晶装置の製造装置において、複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該ノズル列が複数のグループに分割されてなるインクジェットヘッドと、該インクジェットヘッドへフィルタ材料を供給するインク供給手段と、前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して主走査方向に移動させる主走査駆動手段と、前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副走査方向に移動させる副走査駆動手段と、前記複数のノズルからのインクの吐出を制御するノズル吐出制御手段と、前記主走査駆動手段の動作を制御する主走査制御手段と、前記副走査駆動手段の動作を制御する副走査制御手段とを有し、各前記グループの少なくとも一部が前記基板の同じ部分を前記主走査方向に走査できるように、前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副走査させることを特徴とする。ことを特徴とする液晶装置の製造装置。
【００２５】
（５）次に、本発明に係るＥＬ装置の製造方法は、それぞれがＥＬ発光層を含む複数の絵素ピクセルを基板上に配列して成るＥＬ装置の製造方法において、複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該ノズル列がｎ個のグループに分割されてなるインクジェットヘッド、及び前記基板のうちの一方を他方に対して主走査方向に移動させつつ、前記複数のノズルから選択的にＥＬ発光材料を吐出して前記基板上に前記ＥＬ発光層を形成する工程Ａと、前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副走査させる工程Ｂと、を具備しており、各前記絵素ピクセルの形成は、ｎ回の前記工程Ａによりなされ、各前記絵素ピクセルの形成において、各回の前記工程Ａで吐出を行う前記ノズルは、互いに異なる前記グループに属していることを特徴とする。
【００２６】
（６）次に、本発明に係るＥＬ装置の製造装置は、 それぞれがＥＬ発光層を含む複数の絵素ピクセルを基板上に配列して成るＥＬ装置の製造装置において、複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該ノズル列が複数のグループに分割されてなるインクジェットヘッドと、該インクジェットヘッドへＥＬ発光材料を供給するインク供給手段と、複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該ノズル列が複数のグループに分割されてなるインクジェットヘッドと、該インクジェットヘッドへ前記ＥＬ発光材料を供給するインク供給手段と、前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して主走査方向に移動させる主走査駆動手段と、前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副走査方向に移動させる副走査駆動手段と、前記複数のノズルからのインクの吐出を制御するノズル吐出制御手段と、前記主走査駆動手段の動作を制御する主走査制御手段と、前記副走査駆動手段の動作を制御する副走査制御手段と、を有し、各前記グループの少なくとも一部が前記基板の同じ部分を前記主走査方向に走査できるように、前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副走査させることを特徴とする。
【００２７】
（７）次に、本発明に係るインクジェットヘッドの制御装置は、基板上に複数の色パターンを配列して成る光学部材を製造する際に用いられるインクジェットヘッドの制御装置において、複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該ノズル列が複数のグループに分割されてなるインクジェットヘッドと、該インクジェットヘッドへフィルタ材料を供給するインク供給手段と、前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して主走査方向に移動させる主走査駆動手段と、前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副走査方向に移動させる副走査駆動手段と、前記複数のノズルからのインクの吐出を制御するノズル吐出制御手段と、前記主走査駆動手段の動作を制御する主走査制御手段と、前記副走査駆動手段の動作を制御する副走査制御手段とを有し、各前記グループの少なくとも一部が前記基板の同じ部分を前記主走査方向に走査できるように、前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副走査させることを特徴とする。
【００２８】
上記構成のインクジェットヘッドの制御装置において、「光学部材」としてはカラーフィルタ、ＥＬ装置等が考えられる。また、光学部材としてカラーフィルタを考える場合には、「色パターン」としてはＲ，Ｇ，Ｂの各フィルタエレメントが該当する。また、光学部材としてＥＬ装置を考える場合には、「色パターン」としてはＲ，Ｇ，Ｂの各色発光層や正孔注入層等が該当する。
【００２９】
【発明の実施の形態】
（第１実施形態）
以下、カラーフィルタの製造方法及びその製造装置の一実施形態について説明する。まず、それらの製造方法及び製造装置を説明するのに先立って、それらの製造方法等を用いて製造されるカラーフィルタについて説明する。図５（ａ）はカラーフィルタの一実施形態の平面構造を模式的に示している。また、図６（ｄ）は図５（ａ）のＶＩ−ＶＩ線に従った断面構造を示している。
【００３０】
本実施形態のカラーフィルタ１は、ガラス、プラスチック等によって形成された方形状の基板２の表面に複数のフィルタエレメント３をドットパターン状、本実施形態ではドットマトリクス状に形成し、さらに図６（ｄ）に示すように、その上に保護膜４を積層することによって形成されている。なお、図５（ａ）は保護膜４を取り除いた状態のカラーフィルタ１を平面的に示している。
【００３１】
フィルタエレメント３は、透光性のない樹脂材料によって格子状のパターンに形成された隔壁６によって区画されてドットマトリクス状に並んだ複数の方形状の領域を色材で埋めることによって形成される。また、これらのフィルタエレメント３は、それぞれが、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のうちのいずれか１色の色材によって形成され、それらの各色フィルタエレメント３が所定の配列に並べられている。この配列としては、例えば、図７（ａ）に示すストライプ配列、図７（ｂ）に示すモザイク配列、図７（ｃ）に示すデルタ配列等が知られている。
【００３２】
ストライプ配列は、マトリクスの縦列が全て同色になる配色である。モザイク配列は、縦横の直線上に並んだ任意の３つのフィルタエレメントがＲ，Ｇ，Ｂの３色となる配色である。そして、デルタ配列は、フィルタエレメントの配置を段違いにし、任意の隣接する３つのフィルタエレメントがＲ，Ｇ，Ｂの３色となる配色である。
【００３３】
カラーフィルタ１の大きさは、例えば、１．８インチである。また、１個のフィルタエレメント３の大きさは、例えば、３０μｍ×１００μｍである。また、各フィルタエレメント３の間の間隔、いわゆるエレメント間ピッチは、例えば、７５μｍである。
【００３４】
本実施形態のカラーフィルタ１をフルカラー表示のための光学要素として用いる場合には、Ｒ，Ｇ，Ｂ３個のフィルタエレメント３を１つのユニットとして１つの画素を形成し、１画素内のＲ，Ｇ，Ｂのいずれか１つ又はそれらの組み合わせに光を選択的に通過させることにより、フルカラー表示を行う。このとき、透光性のない樹脂材料によって形成された隔壁６はブラックマトリクスとして作用する。
【００３５】
上記のカラーフィルタ１は、例えば、図５（ｂ）に示すような大面積のマザー基板１２から切り出される。具体的には、まず、マザー基板１２内に設定された複数のカラーフィルタ形成領域１１のそれぞれの表面にカラーフィルタ１の１個分のパターンを形成し、さらにそれらのカラーフィルタ形成領域１１の周りに切断用の溝を形成し、さらにそれらの溝に沿ってマザー基板１２を切断することにより、個々のカラーフィルタ１が形成される。
【００３６】
以下、図５（ａ）に示すカラーフィルタ１を製造する製造方法及びその製造装置について説明する。
【００３７】
図６はカラーフィルタ１の製造方法を工程順に模式的に示している。まず、マザー基板１２の表面に透光性のない樹脂材料によって隔壁６を矢印Ｂ方向から見て格子状パターンに形成する。格子状パターンの格子穴の部分７はフィルタエレメント３が形成される領域、すなわちフィルタエレメント領域である。この隔壁６によって形成される個々のフィルタエレメント領域７の矢印Ｂ方向から見た場合の平面寸法は、例えば３０μｍ×１００μｍ程度に形成される。
【００３８】
隔壁６は、フィルタエレメント領域７に供給されるフィルタエレメント材料の流動を阻止する機能及びブラックマトリクスの機能を併せて有する。また、隔壁６は任意のパターニング手法、例えばフォトリソグラフィー法によって形成され、さらに必要に応じてヒータによって加熱されて焼成される。
【００３９】
隔壁６の形成後、図６（ｂ）に示すように、フィルタエレメント材料の液滴８を各フィルタエレメント領域７に供給することにより、各フィルタエレメント領域７をフィルタエレメント材料１３で埋める。図６（ｂ）において、符号１３ＲはＲ（赤）の色を有するフィルタエレメント材料を示し、符号１３ＧはＧ（緑）の色を有するフィルタエレメント材料を示し、そして符号１３ＢはＢ（青）の色を有するフィルタエレメント材料を示している。
【００４０】
各フィルタエレメント領域７に所定量のフィルタエレメント材料が充填されると、ヒータによってマザー基板１２を例えば７０℃程度に加熱して、フィルタエレメント材料の溶媒を蒸発させる。この蒸発により、図６（ｃ）に示すようにフィルタエレメント材料１３の体積が減少し、平坦化する。体積の減少が激しい場合には、カラーフィルタとして十分な膜厚が得られるまで、フィルタエレメント材料の液滴の供給とその液滴の加熱とを繰り返して実行する。以上の処理により、最終的にフィルタエレメント材料の固形分のみが残留して膜化し、これにより、希望する各色フィルタエレメント３が形成される。
【００４１】
以上によりフィルタエレメント３が形成された後、それらのフィラメント３を完全に乾燥させるために、所定の温度で所定時間の加熱処理を実行する。その後、例えば、スピンコート法、ロールコート法、リッピング法、又はインクジェット法等といった適宜の手法を用いて保護膜４を形成する。この保護膜４は、フィルタエレメント３等の保護及びカラーフィルタ１の表面の平坦化のために形成される。
【００４２】
図８は、図６（ｂ）に示したフィルタエレメント材料の供給処理を行うためのインクジェット装置の一実施形態を示している。このインクジェット装置１６はＲ，Ｇ，Ｂのうちの１色、例えばＲ色のフィルタエレメント材料をインクの液滴として、マザー基板１２（図５（ｂ）参照）内の各カラーフィルタ形成領域１１内の所定位置に吐出して付着させるための装置である。Ｇ色のフィルタエレメント材料及びＢ色のフィルタエレメント材料のためのインクジェット装置もそれぞれに用意されるが、それらの構造は図８のものと同じにすることができるので、それらについての説明は省略する。
【００４３】
図８において、インクジェット装置１６は、インクジェットヘッド２２を備えたヘッドユニット２６と、インクジェットヘッド２２の位置を制御するヘッド位置制御装置１７と、マザー基板１２の位置を制御する基板位置制御装置１８と、インクジェットヘッド２２をマザー基板１２に対して主走査移動させる主走査駆動装置１９と、インクジェットヘッド２２をマザー基板１２に対して副走査移動させる副走査駆動装置２１と、マザー基板１２をインクジェット装置１６内の所定の作業位置へ供給する基板供給装置２３と、そしてインクジェット装置１６の全般の制御を司るコントロール装置２４とを有する。
【００４４】
ヘッド位置制御装置１７、基板位置制御装置１８、インクジェットヘッド２２をマザー基板１２に対して主走査移動させる主走査駆動装置１９、そして副走査駆動装置２１の各装置はベース９の上に設置される。また、それらの各装置は必要に応じてカバー１４によって覆われる。
【００４５】
インクジェットヘッド２２は、例えば図１０に示すように、複数のノズル２７を列状に並べることによって形成されたノズル列２８を有する。ノズル２７の数は例えば１８０個であり、ノズル２７の孔径は例えば２８μｍであり、ノズル２７間のノズルピッチは例えば１４１μｍである。図５（ａ）及び図５（ｂ）においてカラーフィルタ１及びマザー基板１２に対する主走査方向×及びそれに直交する副走査方向Ｙは図１０において図示の通りに設定される。
【００４６】
インクジェットヘッド２２は、そのノズル列２８が主走査方向×と交差する方向へ延びるように位置設定され、この主走査方向×へ平行移動する間に、インクとしてのフィルタエレメント材料を複数のノズル２７から選択的に吐出することにより、マザー基板１２（図５（ｂ）参照）内の所定位置にフィルタエレメント材料を付着させる。また、インクジェットヘッド２２は副走査方向Ｙへ所定距離だけ平行移動することにより、インクジェットヘッド２２による主走査位置を所定の間隔でずらせることができる。
【００４７】
インクジェットヘッド２２は、例えば、図１２（ａ）及び図１２（ｂ）に示す内部構造を有する。具体的には、インクジェットヘッド２２は、例えばステンレス製のノズルプレート２９と、それに対向する振動板３１と、それらを互いに接合する複数の仕切部材３２とを有する。ノズルプレート２９と振動板３１との間には、仕切部材３２によって複数のインク室３３と液溜り３４とが形成される。複数のインク室３３と液溜り３４とは通路３８を介して互いに連通している。
【００４８】
振動板３１の適所にはインク供給孔３６が形成され、このインク供給孔３６にインク供給装置３７が接続される。このインク供給装置３７はＲ，Ｇ，Ｂのうちの１色、例えばＲ色のフィルタエレメント材料Ｍをインク供給孔３６へ供給する。供給されたフィルタエレメント材料Ｍは液溜り３４に充満し、さらに通路３８を通ってインク室３３に充満する。
【００４９】
ノズルプレート２９には、インク室３３からフィルタエレメント材料Ｍをジェット状に噴射するためのノズル２７が設けられている。また、振動板３１のインク室３３を形成する面の裏面には、該インク室３３に対応させてインク加圧体３９が取り付けられている。このインク加圧体３９は、図１２（ｂ）に示すように、圧電素子４１並びにこれを挟持する一対の電極４２ａ及び４２ｂを有する。圧電素子４１は電極４２ａ及び４２ｂへの通電によって矢印Ｃで示す外側へ突出するように撓み変形し、これによりインク室３３の容積が増大する。すると、増大した容積分に相当するフィルタエレメント材料Ｍが液溜り３４から通路３８を通ってインク室３３へ流入する。
【００５０】
次に、圧電素子４１への通電を解除すると、該圧電素子４１と振動板３１は共に元の形状へ戻る。これにより、インク室３３も元の容積に戻るためインク室３３の内部にあるフィルタエレメント材料Ｍの圧力が上昇し、ノズル２７からマザー基板１２（図５（ｂ）参照）へ向けてフィルタエレメント材料Ｍが液滴８となって噴出する。なお、ノズル２７の周辺部には、液滴８の飛行曲がりやノズル２７の孔詰まり等を防止するために、例えばＮｉ−テトラフルオロエチレン共析メッキ層から成る撥インク層４３が設けられる。
【００５１】
図９において、ヘッド位置制御装置１７は、インクジェットヘッド２２を面内回転させるαモータ４４と、インクジェットヘッド２２を副走査方向Ｙと平行な軸線回りに揺動回転させるβモータ４６と、インクジェットヘッド２２を主走査方向と平行な軸線回りに揺動回転させるγモータ４７と、そしてインクジェットヘッド２２を上下方向へ平行移動させるＺモータ４８を有する。
【００５２】
図８に示した基板位置制御装置１８は、図９において、マザー基板１２を載せるテーブル４９と、そのテーブル４９を矢印θのように面内回転させるθモータ５１とを有する。また、図８に示した主走査駆動装置１９は、図９に示すように、主走査方向×へ延びるガイドレール５２と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵したスライダ５３とを有する。スライダ５３は内蔵するリニアモータが作動するときにガイドレール５２に沿って主走査方向へ平行移動する。
【００５３】
また、図８に示した副走査駆動装置２１は、図９に示すように、副走査方向Ｙへ延びるガイドレール５４と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵したスライダ５６とを有する。スライダ５６は内蔵するリニアモータが作動するときにガイドレール５４に沿って副走査方向Ｙへ平行移動する。
【００５４】
スライダ５３やスライダ５６内においてパルス駆動されるリニアモータは、該モータに供給するパルス信号によって出力軸の回転角度制御を精細に行うことができ、従って、スライダ５３に支持されたインクジェットヘッド２２の主走査方向×上の位置やテーブル４９の副走査方向Ｙ上の位置等を高精細に制御できる。なお、インクジェットヘッド２２やテーブル４９の位置制御はパルスモータを用いた位置制御に限られず、サーボモータを用いたフィードバック制御や、その他任意の制御方法によって実現することもできる。
【００５５】
図８に示した基板供給装置２３は、マザー基板１２を収容する基板収容部５７と、マザー基板１２を搬送するロボット５８とを有する。ロボット５８は、床、地面等といった設置面に置かれる基台５９と、基台５９に対して昇降移動する昇降軸６１と、昇降軸６１を中心として回転する第１アーム６２と、第１アーム６２に対して回転する第２アーム６３と、第２アーム６３の先端下面に設けられた吸着パッド６４とを有する。吸着パッド６４は空気吸引等によってマザー基板１２を吸着できる。
【００５６】
図８において、主走査駆動装置１９によって駆動されて主走査移動するインクジェットヘッド２２の軌跡下であって副走査駆動装置２１の一方の脇位置に、キャッピング装置７６及びクリーニング装置７７が配設される。また、他方の脇位置に電子天秤７８が配設される。クリーニング装置７７はインクジェットヘッド２２を洗浄するための装置である。電子天秤７８はインクジェットヘッド２２内の個々のノズル２７（図１０参照）から吐出されるインクの液滴の重量をノズルごとに測定する機器である。そして、キャッピング装置７６はインクジェットヘッド２２が待機状態にあるときにノズル２７（図１０参照）の乾燥を防止するための装置である。
【００５７】
インクジェットヘッド２２の近傍には、そのインクジェットヘッド２２と一体に移動する関係でヘッド用カメラ８１が配設される。また、ベース９上に設けた支持装置（図示せず）に支持された基板用カメラ８２がマザー基板１２を撮影できる位置に配置される。
【００５８】
図８に示したコントロール装置２４は、プロセッサを収容したコンピュータ本体部６６と、入力装置としてのキーボード６７と、表示装置としてのＣＲＴ（Cathode Ray Tube）ディスプレイ６８とを有する。上記プロセッサは、図１４に示すように、演算処理を行うＣＰＵ（Central Processing Unit）６９と、各種情報を記憶するメモリすなわち情報記憶媒体７１とを有する。
【００５９】
図８に示したヘッド位置制御装置１７、基板位置制御装置１８、主走査駆動装置１９、副走査駆動装置２１、そして、インクジェットヘッド２２内の圧電素子４１（図１２（ｂ）参照）を駆動するヘッド駆動回路７２の各機器は、図１４において、入出力インターフェース７３及びバス７４を介してＣＰＵ６９に接続される。また、基板供給装置２３、入力装置６７、ディスプレイ６８、電子天秤７８、クリーニング装置７７及びキャッピング装置７６の各機器も入出力インターフェース７３及びバス７４を介してＣＰＵ６９に接続される。
【００６０】
メモリ７１は、ＲＡＭ（Random Access Memory）、ＲＯＭ（Read Only Memory）等といった半導体メモリや、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ読取り装置、ディスク型記憶媒体等といった外部記憶装置等を含む概念であり、機能的には、インクジェット装置１６の動作の制御手順が記述されたプログラムソフトを記憶する記憶領域や、図７に示す各種のＲ，Ｇ，Ｂ配列を実現するためのＲ，Ｇ，Ｂのうちの１色のマザー基板１２（図５参照）内における吐出位置を座標データとして記憶するための記憶領域や、図９における副走査方向Ｙへのマザー基板１２の副走査移動量を記憶するための記憶領域や、ＣＰＵ６９のためのワークエリアやテンポラリファイル等として機能する領域や、その他各種の記憶領域が設定される。
【００６１】
ＣＰＵ６９は、メモリ７１内に記憶されたプログラムソフトに従って、マザー基板１２に表面の所定位置にインク、すなわちフィルタエレメント材料を吐出するための制御を行うものであり、具体的な機能実現部として、クリーニング処理を実現するための演算を行うクリーニング演算部と、キャッピング処理を実現するためのキャッピング演算部と、電子天秤７８（図８参照）を用いた重量測定を実現するための演算を行う重量測定演算部と、インクジェットによってフィルタエレメント材料を描画するための演算を行う描画演算部とを有する。
【００６２】
描画演算部を詳しく分割すれば、インクジェットヘッド２２を描画のための初期位置へセットするための描画開始位置演算部と、インクジェットヘッド２２を主走査方向×へ所定の速度で走査移動させるための制御を演算する主走査制御演算部と、マザー基板１２を副走査方向Ｙへ所定の副走査量だけずらせるための制御を演算する副走査制御演算部と、そして、インクジェットヘッド２２内の複数のノズル２７のうちのいずれを作動させてインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出するかを制御するための演算を行うノズル吐出制御演算部等といった各種の機能演算部を有する。
【００６３】
なお、本実施形態では、上記の各機能をＣＰＵ６９を用いてソフト的に実現することにしたが、上記の各機能がＣＰＵを用いない単独の電子回路によって実現できる場合には、そのような電子回路を用いることも可能である。
【００６４】
以下、上記構成から成るインクジェット装置１６の動作を図１５に示すフローチャートに基づいて説明する。
【００６５】
オペレータによる電源投入によってインクジェット装置１６が作動すると、まず、ステップＳ１において初期設定が実行される。具体的には、ヘッドユニット２６や基板供給装置２３やコントロール装置２４等が予め決められた初期状態にセットされる。
【００６６】
次に、重量測定タイミングが到来すれば（ステップＳ２でＹＥＳ）、図９のヘッドユニット２６を主走査駆動装置１９によって図８の電子天秤７８の所まで移動させて（ステップＳ３）、ノズル２７から吐出されるインクの量を電子天秤７８を用いて測定する（ステップＳ４）。そして、ノズル２７のインク吐出
特性に合わせて、各ノズル２７に対応する圧電素子４１に印加する電圧を調節する（ステップＳ５）。
【００６７】
次に、クリーニングタイミングが到来すれば（ステップＳ６でＹＥＳ）、ヘッドユニット２６を主走査駆動装置１９によってクリーニング装置７７の所まで移動させて（ステップＳ７）、そのクリーニング装置７７によってインクジェットヘッド２２をクリーニングする（ステップＳ８）。
【００６８】
重量測定タイミングやクリーニングタイミングが到来しない場合（ステップＳ２及びＳ６でＮＯ）、あるいはそれらの処理が終了した場合には、ステップＳ９において、図８の基板供給装置２３を作動させてマザー基板１２をテーブル４９へ供給する。具体的には、基板収容部５７内のマザー基板１２を吸着パッド６４によって吸引保持し、次に、昇降軸６１、第１アーム６２及び第２アーム６３を移動させてマザー基板１２をテーブル４９まで搬送し、さらにテーブル４９の適所に予め設けてある位置決めピン５０（図９）に押し付ける。なお、テーブル４９上におけるマザー基板１２の位置ズレを防止するため、空気吸引等の手段によってマザー基板１２をテーブル４９に固定することが望ましい。
【００６９】
次に、図８の基板用カメラ８２によってマザー基板１２を観察しながら、図９のθモータ５１の出力軸を微小角度単位で回転させることによりテーブル４９を微小角度単位で面内回転させてマザー基板１２を位置決めする（ステップＳ１０）。次に、図８のヘッド用カメラ８１によってマザー基板１２を観察しながらインクジェットヘッド２２によって描画を開始する位置を演算によって決定し（ステップＳ１１）、そして、主走査駆動装置１９及び副走査駆動装置２１を適宜に作動させてインクジェットヘッド２２を描画開始位置へ移動する（ステップＳ１２）。
【００７０】
このとき、インクジェットヘッド２２は、図１の（ａ）位置に示すように、ノズル列２８がインクジェットヘッド２２の副走査方向Ｙに対して角度θで傾斜するように配設される。これは、通常のインクジェット装置の場合には、隣り合うノズル２７の間の間隔であるノズル間ピッチと、隣り合うフィルタエレメント３すなわちフィルタエレメント形成領域７の間の間隔であるエレメントピッチとが異なることが多く、インクジェットヘッド２２を主走査方向×へ移動させるときに、ノズル間ピッチの副走査方向Ｙの寸法成分がエレメントピッチと幾何学的に等しくなるようにするための措置である。
【００７１】
図１５のステップＳ１２でインクジェットヘッド２２が描画開始位置に置かれると、図１においてインクジェットヘッド２２は（ａ）位置に置かれる。その後、図１５のステップＳ１３で主走査方向×への主走査が開始され、同時にインクの吐出が開始される。具体的には、図９の主走査駆動装置１９が作動してインクジェットヘッド２２が図１の主走査方向×へ一定の速度で直線的に走査移動し、その移動中、インクを供給すべきフィルタエレメント領域７に対応するノズル２７が到達したときにそのノズル２７からインクすなわちフィルタエレメント材料が吐出される。
【００７２】
なお、このときのインク吐出量は、フィルタエレメント領域７の容積全部を埋める量ではなく、その全量の数分の１、本実施形態では全量の１／４の量である。これは、後述するように、各フィルタエレメント領域７はノズル２７からの１回のインク吐出によって埋められるのではなくて、数回のインク吐出の重ね吐出によって、本実施形態では４回の重ね吐出によって容積全部を埋めることになっているからである。
【００７３】
インクジェットヘッド２２は、マザー基板１２に対する１ライン分の主走査が終了すると（ステップＳ１４でＹＥＳ）、反転移動して初期位置（ａ）へ復帰する（ステップＳ１５）。そしてさらに、インクジェットヘッド２２は、副走査駆動装置２１によって駆動されて副走査方向Ｙへ予め決められた副走査量δだけ移動する（ステップＳ１６）。
【００７４】
本実施形態では、ＣＰＵ６９は、図１においてインクジェットヘッド２２のノズル列２８を形成する複数のノズル２７を複数のグループｎに概念的に分割する。本実施形態ではｎ＝４、すなわち１８０個のノズル２７から成る長さＬのノズル列２８を４つのグループに分割して考える。これにより、１つのノズルグループはノズル２７を１８０／４＝４５個含む長さＬ／ｎすなわちＬ／４に決められる。上記の副走査量δは上記のノズルグループ長さＬ／４の副走査方向の長さ、すなわち（Ｌ／４）ｃｏｓθに設定される。
【００７５】
従って、１ライン分の主走査が終了して初期位置（ａ）へ復帰したインクジェットヘッド２２は図１において副走査方向Ｙへ距離δだけ平行移動して位置（ｂ）へ移動する。なお、図１では位置（ａ）と位置（ｂ）とが主走査方向×に関して少しずれて描かれているが、これは説明を分かり易くするための措置であり、実際には、位置（ａ）と位置（ｂ）は主走査方向×に関しては同じ位置である。
【００７６】
位置（ｂ）へ副走査移動したインクジェットヘッド２２は、ステップＳ１３で主走査移動及びインク吐出を繰り返して実行する。この主走査移動時には、マザー基板１２上におけるカラーフィルタ形成領域１１内の２列目のラインが先頭のノズルグループによって初めてインク吐出を受けると共に、１列目のラインは先頭から２番目のノズルグループによって２回目のインク吐出を受ける。
【００７７】
これ以降、インクジェットヘッド２２は、位置（ｃ）〜位置（ｋ）のように副走査移動を繰り返しながら主走査移動及びインク吐出を繰り返し（ステップＳ１３〜ステップＳ１６）、これにより、マザー基板１２のカラーフィルタ形成領域１１の１列分のインク付着処理が完了する。本実施形態では、ノズル列２８を４つのグループに分割して副走査量δを決定したので、上記のカラーフィルタ形成領域１１の１列分の主走査及び副走査が終了すると、各フィルタエレメント領域７は４個のノズルグループによってそれぞれ１回ずつ、合計で４回のインク吐出処理を受けて、その全容積内に所定量のインクすなわちフィルタエレメント材料が全量供給される。
【００７８】
こうしてカラーフィルタ形成領域１１の１列分のインク吐出が完了すると、インクジェットヘッド２２は副走査駆動手段２１によって駆動されて次列のカラーフィルタ形成領域１１の初期位置へ搬送され（ステップＳ１９）、そして当該列のカラーフィルタ形成領域１１に対して主走査、副走査及びインク吐出を繰り返してフィルタエレメント形成領域７内にフィルタエレメントを形成する（ステップＳ１３〜Ｓ１６）。
【００７９】
その後、マザー基板１２内の全てのカラーフィルタ形成領域１１に関してＲ，Ｇ，Ｂの１色、例えばＲ１色のフィルタエレメント３が形成されると（ステップＳ１８でＹＥＳ）、ステップＳ２０でマザー基板１２を基板供給装置２３によって、又は別の搬送機器によって、処理後のマザー基板１２が外部へ排出される。その後、オペレータによって処理終了の指示がなされない限り（ステップＳ２１でＮＯ）、ステップＳ２へ戻って別のマザー基板１２に対するＲ１色に関するインク吐着作業を繰り返して行う。
【００８０】
オペレータから作業終了の指示があると（ステップＳ２１でＹＥＳ）、ＣＰＵ６９は図８においてインクジェットヘッド２２をキャッピング装置７６の所まで搬送して、そのキャッピング装置７６によってインクジェットヘッド２２に対してキャッピング処理を施す（ステップＳ２２）。
【００８１】
以上により、カラーフィルタを構成するＲ，Ｇ，Ｂ３色のうちの第１色、例えばＲ色についてのパターニングが終了し、その後、マザー基板１２をＲ，Ｇ，Ｂの第２色、例えばＧ色をフィルタエレメント材料とするインクジェット装置１６へ搬送してＧ色のパターニングを行い、さらに最終的にＲ，Ｇ，Ｂの第３色、例えばＢ色をフィルタエレメント材料とするインクジェット装置１６へ搬送してＢ色のパターニングを行う。これにより、ストライプ配列等といった希望のＲ，Ｇ，Ｂのドット配列を有するカラーフィルタ１（図５（ａ））が複数個形成されたマザー基板１２が製造される。このマザー基板１２をカラーフィルタ領域１１ごとに切断することにより、１個のカラーフィルタ１が複数個切り出される。
【００８２】
なお、本カラーフィルタ１を液晶装置のカラー表示のために用いるものとすれば、本カラーフィルタ１の表面にはさらに電極や配向膜等が積層されることになる。そのような場合、電極や配向膜等を積層する前にマザー基板１２を切断して個々のカラーフィルタ１を切り出してしまうと、その後の電極等の形成工程が非常に面倒になる。よって、そのような場合には、マザー基板１２上でカラーフィルタ１が完成した後に、直ぐにマザー基板１２を切断してしまうのではなく、電極形成や配向膜形成等といった必要な付加工程が終了した後にマザー基板１２を切断することが望ましい。
【００８３】
以上のように、本実施形態に係るカラーフィルタの製造方法及び製造装置によれば、図５（ａ）に示すカラーフィルタ１内の個々のフィルタエレメント３はインクジェットヘッド２２（図１参照）の１回の主走査×によって形成されるのではなくて、各１個のフィルタエレメント３は異なるノズルグループに属する複数のノズル２７によってｎ回、本実施形態では４回、重ねてインク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成される。このため、仮に複数のノズル２７間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数のフィルタエレメント３間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、カラーフィルタの光透過特性を平面的に均一にすることができる。
【００８４】
もちろん、本実施形態の製造方法では、インクジェットヘッド２２を用いたインク吐出によってフィルタエレメント３を形成するので、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要も無く、また、材料を浪費することも無い。
【００８５】
ところで、インクジェットヘッド２２のノズル列２８を形成する複数のノズル２７のインク吐出量の分布が不均一になることは図２３（ａ）に関連して説明した通りである。また、特にノズル列２８の両端部に存在する数個、例えば片端側１０個ずつ、のノズル２７が特にインク吐出量が大きくなることも記述の通りである。このようにインク吐出量が他のノズルに比べて特に多いノズルを使用することは、インク吐膜すなわちフィルタエレメントの膜厚を均一にすることに関して好ましくない。
【００８６】
従って、望ましくは、図１３に示すように、ノズル列２８を形成する複数のノズル２７のうちノズル列２８の両端部Ｅに存在する数個、例えば１０個程度は予めインクを吐出しないものと設定しておき、残りの部分Ｆに存在するノズル２７を複数、例えば４個のグループに分割して、そのノズルグループ単位で副走査移動を行うことが良い。
【００８７】
本第１実施形態においては、隔壁６として透光性のない樹脂材料を用いたが、透隔壁６として透光性の樹脂材料を用いることももちろん可能である。その場合にあっては、フィルタエレメント間に対応する位置、例えば隔壁６の上、隔壁６の下等に別途遮光性の金属膜或いは樹脂材料を設けてブラックマスクとしてもよい。また、透光性の樹脂材料で隔壁６を形成し、ブラックマスクを設けない構成としてもよい。
【００８８】
また本第１実施形態においては、フィルタエレメントとしてＲ，Ｇ、Ｂを用いたがもちろん、Ｒ，Ｇ．Ｂに限定されることはなく、例えばＣ（シアン），Ｍ（マゼンダ），Ｙ（イエロー）を採用してもかまわない。その場合にあっては、Ｒ，Ｇ，Ｂのフィルタエレメント材料、に変えて、Ｃ，Ｍ、Ｙの色を有するフィルタエレメント材料を用いればよい。
【００８９】
また、本第１実施形態においては、隔壁６をフォトリソグラフィーによって形成したが、カラーフィルタ同様にインクジェット法により隔壁６を形成することも可能である。
【００９０】
（第２実施形態）
図２は、本発明に係るカラーフィルタの製造方法及び製造装置の他の実施形態によってインクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレメント形成領域７へインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出によって供給する場合を模式的に示している。
【００９１】
本実施形態によって実施される概略の工程は図６に示した工程と同じであり、インク吐着のために用いるインクジェット装置も図８に示した装置と機構的には同じである。また、図１４のＣＰＵ６９がノズル列２８を形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個、例えば４つにグループ分けして、各ノズルグループの長さＬ／ｎ又はＬ／４に対応させて副走査量δを決定することも図１の場合と同じである。
【００９２】
本実施形態が図１に示した先の実施形態と異なる点は、図１４においてメモリ７１内に格納したプログラムソフトに改変を加えたことであり、具体的にはＣＰＵ６９によって行う主走査制御演算と副走査制御演算に改変を加えたことである。
【００９３】
より具体的に説明すれば、図２において、インクジェットヘッド２２は主走査方向×への走査移動の終了後に初期位置へ復帰移動することなく、１方向への主走査移動の終了後に直ぐに副走査方向へノズルグループ１個分に相当する移動量δだけ移動して位置（ｂ）へ移動した後、主走査方向×の上記１方向の反対方向へ走査移動を行って初期位置（ａ）から副走査方向へ距離δだけずれた位置（ｂ'）へ戻るように制御される。なお、位置（ａ）から位置（ｂ）までの主走査の間及び位置（ｂ）から位置（ｂ'）への主走査移動の間の両方の期間において複数のノズル２７から選択的にインクが吐出されることはもちろんである。
【００９４】
つまり、本実施形態ではインクジェットヘッド２２の主走査及び副走査が復帰動作を挟むことなく連続して交互に行われるものであり、これにより、復帰動作のために費やされた時間を省略して作業時間を短縮化できる。
【００９５】
（第３実施形態）
図３は、本発明に係るカラーフィルタの製造方法及び製造装置の他の実施形態によってインクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレメント形成領域７へインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出によって供給する場合を模式的に示している。
【００９６】
本実施形態によって実施される概略の工程は図６に示した工程と同じであり、インク吐着のために用いるインクジェット装置も図８に示した装置と機構的には同じである。また、図１４のＣＰＵ６９がノズル列２８を形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個、例えば４つにグループ分けすることも図１の場合と同じである。
【００９７】
本実施形態が図１に示した先の実施形態と異なる点は、図１５のステップＳ１２でインクジェットヘッド２２をマザー基板１２の描画開始位置にセットしたとき、そのインクジェットヘッド２２は図３の（ａ）位置に示すように、ノズル列２８の延びる方向が副走査方向Ｙと平行である点である。このようなノズルの配列構造は、インクジェットヘッド２２に関するノズル間ピッチとマザー基板１２に関するエレメント間ピッチとが等しい場合に有利な構造である。
【００９８】
この実施形態においても、インクジェットヘッド２２は初期位置（ａ）から終端位置（ｋ）に至るまで、主走査方向×への走査移動、初期位置への復帰移動及び副走査方向Ｙへの移動量δでの副走査移動を繰り返しながら、主走査移動の期間中に複数のノズル２７から選択的にインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出し、これにより、マザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１内のフィルタエレメント形成領域７内へフィルタエレメント材料を付着させる。
【００９９】
なお、本実施形態では、ノズル列２８が副走査方向Ｙに対して平行に位置設定されるので、副走査移動量δは分割されたノズルグループの長さＬ／ｎすなわちＬ／４と等しく設定される。
【０１００】
（第４実施形態）
図４は、本発明に係るカラーフィルタの製造方法及び製造装置の他の実施形態によってインクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレメント形成領域７へインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出によって供給する場合を模式的に示している。
【０１０１】
本実施形態によって実施される概略の工程は図６に示した工程と同じであり、インク吐着のために用いるインクジェット装置も図８に示した装置と機構的には同じである。また、図１４のＣＰＵ６９がノズル列２８を形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個，例えば４つにグループ分けすることも図１の場合と同じである。
【０１０２】
本実施形態が図１に示した先の実施形態と異なる点は、図１５のステップＳ１２でインクジェットヘッド２２をマザー基板１２の描画開始位置にセットしたとき、そのインクジェットヘッド２２は図４（ａ）に示すように、ノズル列２８の延びる方向が副走査方向Ｙと平行である点と、図２の実施形態の場合と同様にインクジェットヘッド２２の主走査及び副走査が復帰動作を挟むことなく連続して交互に行われる点である。
【０１０３】
なお、図４に示す本実施形態及び図３に示す先の実施形態では、主走査方向×がノズル列２８に対して直角の方向となるので、ノズル列２８を図１１に示すように主走査方向×に沿って２列設けることにより、同じ主走査ラインに載った２つのノズル２７によって１つのフィルタエレメント領域７にフィルタエレメント材料を供給することができる。
【０１０４】
（第５実施形態）
図１６は、本発明に係るカラーフィルタの製造方法及び製造装置のさらに他の実施形態に用いられるインクジェットヘッド２２Ａを示している。このインクジェットヘッド２２Ａが図１０に示すインクジェットヘッド２２と異なる点は、Ｒ色インクを吐出するノズル列２８Ｒと、Ｇ色インクを吐出するノズル列２８Ｇと、Ｂ色インクを吐出するノズル列２８Ｂといった３種類のノズル列を１個のインクジェットヘッド２２Ａに形成し、それら３種類のそれぞれに図１２（ａ）及び図１２（ｂ）に示したインク吐出系を設け、Ｒ色ノズル列２８Ｒに対応するインク吐出系にはＲインク供給装置３７Ｒを接続し、Ｇ色ノズル列２８Ｇに対応するインク吐出系にはＧインク供給装置３７Ｇを接続し、そしてＢ色ノズル列２８Ｂに対応するインク吐出系にはＢインク供給装置３７Ｂを接続したことである。
【０１０５】
本実施形態によって実施される概略の工程は図６に示した工程と同じであり、インク吐着のために用いるインクジェット装置も基本的には図８に示した装置と同じである。また、図１４のＣＰＵ６９がノズル列２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂを形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個、例えば４つにグループ分けして、それらのノズルグループごとにインクジェットヘッド２２Ａを副走査移動量δで副走査移動させることも図１の場合と同じである。
【０１０６】
図１に示した実施形態では、インクジェットヘッド２２に１種類のノズル列２８が設けられるだけであったので、Ｒ，Ｇ，Ｂ３色によってカラーフィルタを形成する際には図８に示したインクジェットヘッド２２がＲ，Ｇ，Ｂの３色それぞれについて準備されていなければならなかった。これに対し、図１６に示す構造のインクジェットヘッド２２Ａを使用する場合には、インクジェットヘッド２２Ａの主走査方向×への１回の主走査によってＲ，Ｇ，Ｂの３色を同時にマザー基板１２へ付着させることができるので、インクジェットヘッド２２は１つだけ準備しておけば足りる。また、各色のノズル列間隔をマザー基板のフィルタエレメント領域のピッチに合わせることにより、ＲＧＢ３色の同時打ちが可能となる。
【０１０７】
（第６実施形態）
図１７は、本発明に係る液晶装置の製造方法の一実施形態を示している。また、図１８はその製造方法によって製造される液晶装置の一実施形態を示している。また、図１９は図１８におけるＩ×−Ｉ×線に従った液晶装置の断面構造を示している。液晶装置の製造方法及び製造装置の説明に先立って、まず、その製造方法によって製造される液晶装置をその一例を挙げて説明する。なお、本実施形態の液晶装置は、単純マトリクス方式でフルカラー表示を行う半透過反射方式の液晶装置である。
【０１０８】
図１８において、液晶装置１０１は、液晶パネル１０２に半導体チップとしての液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂを実装し、配線接続要素としてのＦＰＣ（Fleｘible Printed Circuit）１０４を液晶パネル１０２に接続し、さらに液晶
パネル１０２の裏面側に照明装置１０６をバックライトとして設けることによって形成される。
【０１０９】
液晶パネル１０２は、第１基板１０７ａと第２基板１０７ｂとをシール材１０８によって貼り合わせることによって形成される。シール材１０８は、例えば、スクリーン印刷等によってエポキシ系樹脂を第１基板１０７ａ又は第２基板１０７ｂの内側表面に環状に付着させることによって形成される。また、シール材１０８の内部には図１９に示すように、導電性材料によって球状又は円筒状に形成された導通材１０９が分散状態で含まれる。
【０１１０】
図１９において、第１基板１０７ａは透明なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された板状の基材１１１ａを有する。この基材１１１ａの内側表面（図１９の上側表面）には反射膜１１２が形成され、その上に絶縁膜１１３が積層され、その上に第１電極１１４ａが矢印Ｄ方向から見てストライプ状（図１８参照）に形成され、さらにその上に配向膜１１６ａが形成される。また、基材１１１ａの外側表面（図１９の下側表面）には偏光板１１７ａが貼着等によって装着される。
【０１１１】
図１８では第１電極１１４ａの配列を分かり易く示すために、それらのストライプ間隔を実際よりも大幅に広く描いており、よって、第１電極１１４ａの本数が少なく描かれているが、実際には、第１電極１１４ａはより多数本が基材１１１ａ上に形成される。
【０１１２】
図１９において、第２基板１０７ｂは透明なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された板状の基材１１１ｂを有する。この基材１１１ｂの内側表面（図１９の下側表面）にはカラーフィルタ１１８が形成され、その上に第２電極１１４ｂが上記第１電極１１４ａと直交する方向へ矢印Ｄ方向から見てストライプ状（図１８参照）に形成され、さらにその上に配向膜１１６ｂが形成される。また、基材１１１ｂの外側表面（図１９の上側表面）には偏光板１１７ｂが貼着等によって装着される。
【０１１３】
図１８では、第２電極１１４ｂの配列を分かりやすく示すために、第１電極１１４ａの場合と同様に、それらのストライプ間隔を実際よりも大幅に広く描いており、よって、第２電極１１４ｂの本数が少なく描かれているが、実際には、第２電極１１４ｂはより多数本が基材１１１ｂ上に形成される。
【０１１４】
図１９において、第１基板１０７ａ、第２基板１０７ｂ及びシール材１０８によって囲まれる間隙、いわゆるセルギャップ内には液晶、例えばＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶Ｌが封入されている。第１基板１０７ａ又は第２基板１０７ｂの内側表面には微小で球形のスペーサ１１９が多数分散され、これらのスペーサ１１９がセルギャップ内に存在することによりそのセルギャップの厚さが均一に維持される。
【０１１５】
第１電極１１４ａと第２電極１１４ｂは互いに直交関係に配置され、それらの交差点は図１９の矢印Ｄ方向から見てドット・マトリクス状に配列する。そして、そのドット・マトリクス状の各交差点が１つの絵素ピクセルを構成する。カラーフィルタ１１８は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色要素を矢印Ｄ方向から見て所定のパターン、例えば、ストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列等のパターンで配列させることによって形成されている。上記の１つの絵素ピクセルはそれらＲ，Ｇ，Ｂの各１つずつに対応しており、そしてＲ，Ｇ，Ｂの３色絵素ピクセルが１つのユニットになって１画素が構成される。
【０１１６】
ドット・マトリクス状に配列される複数の絵素ピクセル、従って画素、を選択的に発光させることにより、液晶パネル１０２の第２基板１０７ｂの外側に文字、数字等といった像が表示される。このようにして像が表示される領域が有効画素領域であり、図１８及び図１９において矢印Ｖによって示される平面的な矩形領域が有効表示領域となっている。
【０１１７】
図１９において、反射膜１１２はＡＰＣ合金、Ａｌ（アルミニウム）等といった光反射性材料によって形成され、第１電極１１４ａと第２電極１１４ｂとの交差点である各絵素ピクセルに対応する位置に開口１２１が形成されている。結果的に、開口１２１は図１９の矢印Ｄ方向から見て、絵素ピクセルと同じドット・マトリクス状に配列されている。
【０１１８】
第１電極１１４ａ及び第２電極１１４ｂは、例えば、透明導電材であるＩＴＯによって形成される。また、配向膜１１６ａ及び１１６ｂは、ポリイミド系樹脂を一様な厚さの膜状に付着させることによって形成される。これらの配向膜１１６ａ及び１１６ｂがラビング処理を受けることにより、第１基板１０７ａ及び第２基板１０７ｂの表面上における液晶分子の初期配向が決定される。
【０１１９】
図１８において、第１基板１０７ａは第２基板１０７ｂよりも広い面積に形成されており、これらの基板をシール材１０８によって貼り合わせたとき、第１基板１０７ａは第２基板１０７ｂの外側へ張り出す基板張出し部１０７ｃを有する。そして、この基板張出し部１０７ｃには、第１電極１１４ａから延び出る引出し配線１１４ｃ、シール材１０８の内部に存在する導通材１０９（図１９参照）を介して第２基板１０７ｂ上の第２電極１１４ｂと導通する引出し配線１１４ｄ、液晶駆動用ＩＣ１０３ａの入力用バンプ、すなわち入力用端子に接続される金属配線１１４ｅ、そして液晶駆動用ＩＣ１０３ｂの入力用バンプに接続される金属配線１１４ｆ等といった各種の配線が適切なパターンで形成される。
【０１２０】
本実施形態では、第１電極１１４ａから延びる引出し配線１１４ｃ及び第２電極１１４ｂに導通する引出し配線１１４ｄはそれらの電極と同じ材料であるＩＴＯ、すなわち導電性酸化物によって形成される。また、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの入力側の配線である金属配線１１４ｅ及び１１４ｆは電気抵抗値の低い金属材料、例えばＡＰＣ合金によって形成される。ＡＰＣ合金は、主としてＡｇを含み、付随してＰｄ及びＣｕを含む合金、例えば、Ａｇ９８％、Ｐｄ１％、Ｃｕ１％から成る合金である。
【０１２１】
液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び液晶駆動用ＩＣ１０３ｂは、ＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film：異方性導電膜）１２２によって基板張出し部１０７ｃの表面に接着されて実装される。すなわち、本実施形態では基板上に半導体チップが直接に実装される構造の、いわゆるＣＯＧ（Chip On Glass）方式の液晶パネルとして形成されている。このＣＯＧ方式の実装構造においては、ＡＣＦ１２２の内部に含まれる導電粒子によって、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの入力側バンプと金属配線１１４ｅ及び１１４ｆとが導電接続され、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの出力側バンプと引出し配線１１４ｃ及び１１４ｄとが導電接続される。
【０１２２】
図１８において、ＦＰＣ１０４は、可撓性の樹脂フィルム１２３と、チップ部品１２４を含んで構成された回路１２６と、金属配線端子１２７とを有する。回路１２６は樹脂フィルム１２３の表面に半田付けその他の導電接続手法によって直接に搭載される。また、金属配線端子１２７はＡＰＣ合金、Ｃｒ、Ｃｕその他の導電材料によって形成される。ＦＰＣ１０４のうち金属配線端子１２７が形成された部分は、第１基板１０７ａのうち金属配線１１４ｅ及び金属配線１１４ｆが形成された部分にＡＣＦ１２２によって接続される。そして、ＡＣＦ１２２の内部に含まれる導電粒子の働きにより、基板側の金属配線１１４ｅ及び１１４ｆとＦＰＣ側の金属配線端子１２７とが導通する。
【０１２３】
ＦＰＣ１０４の反対側の辺端部には外部接続端子１３１が形成され、この外部接続端子１３１が図示しない外部回路に接続される。そして、この外部回路から伝送される信号に基づいて液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂが駆動され、第１電極１１４ａ及び第２電極１１４ｂの一方に走査信号が供給され、他方にデータ信号が供給される。これにより、有効表示領域Ｖ内に配列されたドット・マトリクス状の絵素ピクセルが個々のピクセルごとに電圧制御され、その結果、液晶Ｌの配向が個々の絵素ピクセルごとに制御される。
【０１２４】
図１８において、いわゆるバックライトとして機能する照明装置１０６は、図１９に示すように、アクリル樹脂等によって構成された導光体１３２と、その導光体１３２の光出射面１３２ｂに設けられた拡散シート１３３と、導光体１３２の光出射面１３２ｂの反対面に設けられた反射シート１３４と、発光源としてのＬＥＤ（Light Emitting Diode）１３６とを有する。
【０１２５】
ＬＥＤ１３６はＬＥＤ基板１３７に支持され、そのＬＥＤ基板１３７は、例えば導光体１３２と一体に形成された支持部（図示せず）に装着される。ＬＥＤ基板１３７が支持部の所定位置に装着されることにより、ＬＥＤ１３６が導光体１３２の側辺端面である光取込み面１３２ａに対向する位置に置かれる。なお、符号１３８は液晶パネル１０２に加わる衝撃を緩衝するための緩衝材を示している。
【０１２６】
ＬＥＤ１３６が発光すると、その光は光取込み面１３２ａから取り込まれて導光体１３２の内部へ導かれ、反射シート１３４や導光体１３２の壁面で反射しながら伝播する間に光出射面１３２ｂから拡散シート１３３を通して外部へ平面光として出射する。
【０１２７】
本実施形態の液晶装置１０１は以上のように構成されているので、太陽光、室内光等といった外部光が十分に明るい場合には、図１９において、第２基板１０７ｂ側から外部光が液晶パネル１０２の内部へ取り込まれ、その光が液晶Ｌを通過した後に反射膜１１２で反射して再び液晶Ｌへ供給される。液晶Ｌはこれを挟持する電極１１４ａ及び１１４ｂによってＲ，Ｇ，Ｂの絵素ピクセルごとに配向制御されており、よって、液晶Ｌへ供給された光は絵素ピクセルごとに変調され、その変調によって偏光板１１７ｂを通過する光と、通過できない光とによって液晶パネル１０２の外部に文字、数字等といった像が表示される。これにより、反射型の表示が行われる。
【０１２８】
他方、外部光の光量が十分に得られない場合には、ＬＥＤ１３６が発光して導光体１３２の光出射面１３２ｂから平面光が出射され、その光が反射膜１１２に形成された開口１２１を通して液晶Ｌへ供給される。このとき、反射型の表示と同様にして、供給された光が配向制御される液晶Ｌによって絵素ピクセルごとに変調され、これにより、外部へ像が表示される。これにより、透過型の表示が行われる。
【０１２９】
上記構成の液晶装置１０１は、例えば、図１７に示す製造方法によって製造される。この製造方法において、工程Ｐ１〜工程Ｐ６の一連の工程が第１基板１０７ａを形成する工程であり、工程Ｐ１１〜工程Ｐ１４の一連の工程が第２基板１０７ｂを形成する工程である。第１基板形成工程と第２基板形成工程は、通常、それぞれが独自に行われる。
【０１３０】
まず、第１基板形成工程について説明すれば、透光性ガラス、透光性プラスチック等によって形成された大面積のマザー原料基材の表面に液晶パネル１０２の複数個分の反射膜１１２をフォトリソグラフィー法等を用いて形成し、さらにその上に絶縁膜１１３を周知の成膜法を用いて形成し（工程Ｐ１）、次に、フォトリソグラフィー法等を用いて第１電極１１４ａ及び配線１１４ｃ，１１４ｄ，１１４ｅ，１１４ｆを形成する（工程Ｐ２）。
【０１３１】
次に、第１電極１１４ａの上に塗布、印刷等によって配向膜１１６ａを形成し（工程Ｐ３）、さらにその配向膜１１６ａに対してラビング処理を施すことにより液晶の初期配向を決定する（工程Ｐ４）。次に、例えばスクリーン印刷等によってシール材１０８を環状に形成し（工程Ｐ５）、さらにその上に球状のスペーサ１１９を分散する（工程Ｐ６）。以上により、液晶パネル１０２の第１基板１０７ａ上のパネルパターンを複数個分有する大面積のマザー第１基板が形成される。
【０１３２】
以上の第１基板形成工程とは別に、第２基板形成工程（図１７の工程Ｐ１１〜工程Ｐ１４）を実施する。まず、透光性ガラス、透光性プラスチック等によって形成された大面積のマザー原料基材を用意し、その表面に液晶パネル１０２の複数個分のカラーフィルタ１１８を形成する（工程Ｐ１１）。このカラーフィルタの形成工程は図６に示した製造方法を用いて行われ、その製造方法中のＲ，Ｇ，Ｂの各色フィルタエレメントの形成は図８のインクジェット装置１６を用いて図１、図２、図３、図４等に示したインクジェットヘッドの制御方法に従って実行される。これらカラーフィルタの製造方法及びインクジェットヘッドの制御方法は既に説明した内容と同じであるので、それらの説明は省略する。
【０１３３】
図６（ｄ）に示すようにマザー基板１２すなわちマザー原料基材の上にカラーフィルタ１すなわちカラーフィルタ１１８が形成されると、次に、フォトリソグラフィー法によって第２電極１１４ｂが形成され（工程Ｐ１２）、さらに塗布、印刷等によって配向膜１１６ｂが形成され（工程Ｐ１３）、さらにその配向膜１１６ｂに対してラビング処理が施されて液晶の初期配向が決められる（工程Ｐ１４）。以上により、液晶パネル１０２の第２基板１０７ｂ上のパネルパターンを複数個分有する大面積のマザー第２基板が形成される。
【０１３４】
以上により大面積のマザー第１基板及びマザー第２基板が形成された後、それらのマザー基板をシール材１０８を間に挟んでアライメント、すなわち位置合わせした上で互いに貼り合わせる（工程Ｐ２１）。これにより、液晶パネル複数個分のパネル部分を含んでいて未だ液晶が封入されていない状態の空のパネル構造体が形成される。
【０１３５】
次に、完成した空のパネル構造体の所定位置にスクライブ溝、すなわち切断用溝を形成し、さらにそのスクライブ溝を基準にしてパネル構造体をブレイク、すなわち切断する（工程Ｐ２２）。これにより、各液晶パネル部分のシール材１０８の液晶注入用開口１１０（図１８参照）が外部へ露出する状態の、いわゆる短冊状の空のパネル構造体が形成される。
【０１３６】
その後、露出した液晶注入用開口１１０を通して各液晶パネル部分の内部に液晶Ｌを注入し、さらに各液晶注入口１１０を樹脂等によって封止する（工程Ｐ２３）。通常の液晶注入処理は、例えば、貯留容器の中に液晶を貯留し、その液晶が貯留された貯留容器と短冊状の空パネルをチャンバー等に入れ、そのチャンバー等を真空状態にしてからそのチャンバーの内部において液晶の中に短冊状の空パネルを浸漬し、その後、チャンバーを大気圧に開放することによって行われる。このとき、空パネルの内部は真空状態なので、大気圧によって加圧される液晶が液晶注入用開口を通してパネルの内部へ導入される。液晶注入後の液晶パネル構造体のまわりには液晶が付着するので、液晶注入処理後の短冊状パネルは工程２４において洗浄処理を受ける。
【０１３７】
その後、液晶注入及び洗浄が終わった後の短冊状のマザーパネルに対して再び所定位置にスクライブ溝を形成し、さらにそのスクライブ溝を基準にして短冊状パネルを切断することにより、複数個の液晶パネルが個々に切り出される（工程Ｐ２５）。こうして作製された個々の液晶パネル１０２に対して図１８に示すように、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ，１０３ｂを実装し、照明装置１０６をバックライトとして装着し、さらにＦＰＣ１０４を接続することにより、目標とする液晶装置１０１が完成する（工程Ｐ２６）。
【０１３８】
以上に説明した液晶装置の製造方法及び製造装置は、特にカラーフィルタを製造する段階において次のような特徴を有する。すなわち、図５（ａ）に示すカラーフィルタ１すなわち図１９のカラーフィルタ１１８内の個々のフィルタエレメント３はインクジェットヘッド２２（図１参照）の１回の主走査×によって形成されるのではなくて、各１個のフィルタエレメント３は異なるノズルグループに属する複数のノズル２７によってｎ回、例えば４回、重ねてインク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成される。このため、仮に複数のノズル２７間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数のフィルタエレメント３間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、カラーフィルタの光透過特性を平面的に均一にすることができる。このことは、図１９の液晶装置１０１において、色むらのない鮮明なカラー表示が得られるということである。
【０１３９】
また、本実施形態の液晶装置の製造方法及び製造装置では、図８に示すインクジェット装置１６を用いることによりインクジェットヘッド２２を用いたインク吐出によってフィルタエレメント３を形成するので、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要も無く、また、材料を浪費することも無い。
【０１４０】
（第７実施形態）
図２０は、本発明に係るＥＬ装置の製造方法の一実施形態を示している。また、図２１はその製造方法の主要工程及び最終的に得られるＥＬ装置の主要断面構造を示している。図２１（ｄ）に示すように、ＥＬ装置２０１は、透明基板２０４上に画素電極２０２を形成し、各画素電極２０２間にバンク２０５を矢印Ｇ方向から見て格子状に形成し、それらの格子状凹部の中に正孔注入層２２０を形成し、矢印Ｇ方向から見てストライプ配列等といった所定配列となるようにＲ色発光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３Ｇ及びＢ色発光層２０３Ｂを各格子状凹部の中に形成し、さらにそれらの上に対向電極２１３を形成することによって形成される。
【０１４１】
上記画素電極２０２をＴＦＤ（Thin Film Diode：薄膜ダイオード）素子等といった２端子型のアクティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極２１３は矢印Ｇ方向から見てストライプ状に形成される。また、画素電極２０２をＴＦＴ（Thin Film Transistor：薄膜トランジスタ）等といった３端子型のアクティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極２１３は単一な面電極として形成される。
【０１４２】
各画素電極２０２と各対向電極２１３とによって挟まれる領域が１つの絵素ピクセルとなり、Ｒ，Ｇ，Ｂ３色の絵素ピクセルが１つのユニットとなって１つの画素を形成する。各絵素ピクセルを流れる電流を制御することにより、複数の絵素ピクセルのうちの希望するものを選択的に発光させ、これにより、矢印Ｈ方向に希望するフルカラー像を表示することができる。
【０１４３】
上記ＥＬ装置２０１は、例えば、図２０に示す製造方法によって製造される。すなわち、工程Ｐ５１及び図２１（a）のように、透明基板２０４の表面にＴＦＤ素子やＴＦＴ素子等といった能動素子を形成し、さらに画素電極２０２を形成する。形成方法としては、例えば、フォトリソグラフィー法、真空状着法、スパッタリング法、パイロゾル法等を用いることができる。画素電極の材料としてはＩＴＯ（Indium Tin Oｘide）、酸化スズ、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸
化物等を用いることができる。
【０１４４】
次に、工程Ｐ５２及び図２１（a）に示すように、隔壁すなわちバンク２０５を周知のパターニング手法、例えばフォトリソグラフィー法を用いて形成し、このバンク２０５によって各透明電極２０２の間を埋めた。これにより、コントラストの向上、発光材料の混色の防止、画素と画素との間からの光漏れ等を防止することができる。バンク２０５の材料としては、ＥＬ材料の溶媒に対して耐久性を有するものであれば特に限定されないが、フロロカーボンガスプラズマ処理によりフッ素処理できること、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、感光性ポリイミド等といった有機材料が好ましい。
【０１４５】
次に、正孔注入層用インクを塗布する直前に、基板２０４に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プラズマ処理を行った（工程Ｐ５３）。これにより、ポリイミド表面は撥水化され、ＩＴＯ表面は親水化され、インクジェット液滴を微細にパターニングするための基板側の濡れ性の制御ができる。プラズマを発生する装置としては、真空中でプラズマを発生する装置でも、大気中でプラズマを発生する装置でも同様に用いることができる。
【０１４６】
次に、工程Ｐ５４及び図２１（ａ）に示すように、正孔注入層用インクを図８のインクジェット装置１６のインクジェットヘッド２２から吐出し、各画素電極２０２の上にパターニング塗布を行った。具体的なインクジェットヘッドの制御方法は図１、図２、図３又は図４に示した方法を用いた。その塗布後、真空（１ｔｏｒｒ）中、室温、２０分という条件で溶媒を除去し（工程Ｐ５５）、その後、大気中、２０℃（ホットプレート上）、１０分の熱処理により、発光層用インクと相溶しない正孔注入層２２０を形成した（工程Ｐ５６）。膜厚は４０ｎｍであった。
【０１４７】
次に、工程Ｐ５７及び図２１（ｂ）に示すように、各フィルタエレメント領域内の正孔注入層２２０の上にインクジェット手法を用いてＲ発光層用インク及びＧ発光層用インクを塗布した。ここでも、各発光層用インクは、図８のインクジェット装置１６のインクジェットヘッド２２から吐出し、さらにインクジェットヘッドの制御方法は図１、図２、図３又は図４に示した方法に従った。インクジェット方式によれば、微細なパターニングを簡便に且つ短時間に行うことができる。また、インク組成物の固形分濃度及び吐出量を変えることにより膜厚を変えることが可能である。
【０１４８】
発光層用インクの塗布後、真空（１ｔｏｒｒ）中、室温、２０分等という条件で溶媒を除去し（工程Ｐ５８）、続けて窒素雰囲気中、１５０℃、４時間の熱処理により共役化させてＲ色発光層２０３Ｒ及びＧ色発光層２０３Ｇを形成した（工程Ｐ５９）。膜厚は５０ｎｍであった。熱処理により共役化した発光層は溶媒に不溶である。
【０１４９】
なお、発光層を形成する前に正孔注入層２２０に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プラズマ処理を行っても良い。これにより、正孔注入層２２０上にフッ素化物層が形成され、イオン化ポテンシャルが高くなることにより正孔注入効率が増し、発光効率の高い有機ＥＬ装置を提供できる。
【０１５０】
次に、工程Ｐ６０及び図２１（ｃ）に示すように、Ｂ色発光層２０３Ｂを各絵素ピクセル内のＲ色発光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３Ｇ及び正孔注入層２２０の上に重ねて形成した。これにより、Ｒ，Ｇ，Ｂの３原色を形成するのみならず、Ｒ色発光層２０３Ｒ及びＧ色発光層２０３Ｇとバンク２０５との段差を埋めて平坦化することができる。これにより、上下電極間のショートを確実に防ぐことができる。Ｂ色発光層２０３Ｂの膜厚を調整することで、Ｂ色発光層２０３ＢはＲ色発光層２０３Ｒ及びＧ色発光層２０３Ｇとの積層構造において、電子注入輸送層として作用してＢ色には発光しない。
【０１５１】
以上のようなＢ色発光層２０３Ｂの形成方法としては、例えば湿式法として一般的なスピンコート法を採用することもできるし、あるいは、Ｒ色発光層２０３Ｒ及びＧ色発光層２０３Ｇの形成法と同様のインクジェット法を採用することもできる。
【０１５２】
その後、工程Ｐ６１及び図２１（ｄ）に示すように、対向電極２１３を形成することにより、目標とするＥＬ装置２０１を製造した。対向電極２１３はそれが面電極である場合には、例えば、Ｍｇ，Ａｇ，Ａｌ，Ｌｉ等を材料として、蒸着法、スパッタ法等といった成膜法を用いて形成できる。また、対向電極２１３がストライプ状電極である場合には、成膜された電極層をフォトリソグラフィー法等といったパターニング手法を用いて形成できる。
【０１５３】
以上に説明したＥＬ装置の製造方法及び製造装置によれば、インクジェットヘッドの制御方法として図１、図２、図３又は図４等に示した制御方法を採用したので、図２１における各絵素ピクセル内の正孔注入層２２０及びＲ，Ｇ，Ｂ各色発光層２０３Ｒ，２０３Ｇ，２０３Ｂは、インクジェットヘッド２２（図１参照）の１回の主走査×によって形成されるのではなくて、１個の絵素ピクセル内の正孔注入層及び／又は各色発光層は異なるノズルグループに属する複数のノズル２７によってｎ回、例えば４回、重ねてインク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成される。このため、仮に複数のノズル２７間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数の絵素ピクセル間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、ＥＬ装置の発光面の発光分布特性を平面的に均一にすることができる。このことは、図２１（ｄ）のＥＬ装置２０１において、色むらのない鮮明なカラー表示が得られるということである。
【０１５４】
また、本実施形態のＥＬ装置の製造方法及び製造装置では、図８に示すインクジェット装置１６を用いることによりインクジェットヘッド２２を用いたインク吐出によってＲ，Ｇ，Ｂの各色絵素ピクセルを形成するので、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要も無く、また、材料を浪費することも無い。
【０１５５】
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
【０１５６】
例えば、図８及び図９に示したカラーフィルタの製造装置では、インクジェットヘッド２２を主走査方向×へ移動させて基板１２を主走査し、基板１２を副走査駆動装置２１によって移動させることによりインクジェットヘッド２２によって基板１２を副走査することにしたが、これとは逆に、基板１２の移動によって主走査を実行し、インクジェットヘッド２２の移動によって副走査を実行することもできる。
【０１５７】
また、上記実施形態では、圧電素子の撓み変形を利用してインクを吐出する構造のインクジェットヘッドを用いたが、他の任意の構造のインクジェットヘッドを用いることもできる。
また、上記実施形態では、主走査方向と副走査方向とが直交する最も一般的な構成についてのみ例示したが、主走査方向と副走査方向との関係は直交関係には限られず、任意の角度で交差していればよい。
吐出させる材料としては、基板等の対象物上に形成する要素に応じて種々選択可能であり、例えば上述してきたインク、ＥＬ発光材料の他にも、シリカガラス前駆体、金属化合物等の導電材料、誘電体材料、又は半導体材料がその一例として挙げられる。
また、上記実施形態では、カラーフィルタの製造方法及び製造装置、液晶装置の製造方法及び製造装置、ＥＬ装置の製造方法及び製造装置、を例として説明してきたが、本発明はこれらに限定されることなく、対象物上に微細パターニングを施す工業技術全般に用いることが可能である。
例えば、各種半導体素子（薄膜トランジスタ、薄膜ダイオード等）、各種配線パターン、及び絶縁膜の形成等がその利用範囲の一例として挙げられる。
ヘッドから吐出させる材料としては、基板等の対象物上に形成する要素に応じて種々選択可能であり、例えば上述してきたインク、ＥＬ発光材料の他にも、シリカガラス前駆体、金属化合物等の導電材料、誘電体材料、又は半導体材料がその一例として挙げられる。
また、上記実施形態では、簡便のため「インクジェットヘッド」と呼称してきたが、このインクジェットヘッドから吐出される吐出物はインクには限定されず、例えば、前述のＥＬ発光材料、シリカガラス前駆体、金属化合物等の導電性材料、誘電体材料、又は半導体材料等様々であることはいうまでもない。上記実施形態の製造方法により製造された液晶装置、ＥＬ装置は、例えば携帯電話機、携帯型コンピュータ等といった電子機器の表示部に搭載することができる。
【０１５８】
【発明の効果】
本発明に係るカラーフィルタの製造方法及び製造装置によれば、カラーフィルタ内の個々のフィルタエレメントはインクジェットヘッドの１回の走査によって形成されるのではなくて、各１個のフィルタエレメントは異なるノズルグループに属する複数のノズルによって重ねてインク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成されるので、仮に複数のノズル間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数のフィルタエレメント間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、カラーフィルタの光透過特性を平面的に均一にすることができる。
【０１５９】
また、本発明はインクジェットヘッドを用いる方法であるので、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要も無く、また、材料を浪費することも無い。
【０１６０】
また、本発明に係る液晶装置の製造方法及び製造装置によれば、カラーフィルタを製造する段階において、カラーフィルタ内の個々のフィルタエレメントはインクジェットヘッドの１回の走査によって形成されるのではなくて、各１個のフィルタエレメントは異なるノズルグループに属する複数のノズルによって重ねてインク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成されるので、仮に複数のノズル間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数のフィルタエレメント間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、カラーフィルタの光透過特性を平面的に均一にすることができる。この結果、色むらの無い鮮明なカラー像を表示することができる。
【０１６１】
また、本発明に係るＥＬ装置の製造方法及び製造装置によれば、各絵素ピクセル内のＲ，Ｇ，Ｂの各色発光層はインクジェットヘッドの１回の主走査によって形成されるのではなくて、それらの各色発光層は異なるノズルグループに属する複数のノズルによって重ねてインク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成される。このため、仮に複数のノズル間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数の絵素ピクセル間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、ＥＬ装置の発光面の発光分布特性を平面的に均一にすることができ、この結果、色むらのない鮮明なカラー表示を得ることができる。
【０１６２】
また、本発明のＥＬ装置の製造方法及び製造装置では、インクジェットヘッドを用いたインク吐出によってＲ，Ｇ，Ｂの各色絵素ピクセルを形成するので、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要も無く、また、材料を浪費することも無い。
【０１６３】
また、本発明に係るインクジェットヘッドの制御装置によれば、個々の色パターンはインクジェットヘッドの１回の走査によって形成されるのではなくて、各１個の色パターンは異なるノズルグループに属する複数のノズルによって重ねてインク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成されるので、仮に複数のノズル間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数の色パターン間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、色パターンの光学特性を光学部材の平面内で均一に揃えることができる。
【０１６４】
これにより、光学部材としてのカラーフィルタにおける色パターンとしてのＲ，Ｇ，Ｂ各色フィルタエレメントを平面的に均一な膜厚で形成することができる。また、光学部材としてのＥＬ素子における色パターンとしてのＲ，Ｇ，Ｂ発光層や正孔注入層を平面的に均一な膜厚で形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るカラーフィルタの製造方法の一実施形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
【図２】本発明に係るカラーフィルタの製造方法の他の実施形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
【図３】本発明に係るカラーフィルタの製造方法のさらに他の実施形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
【図４】本発明に係るカラーフィルタの製造方法のさらに他の実施形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
【図５】本発明に係るカラーフィルタの一実施形態及びその基礎となるマザー基板の一実施形態を示す平面図である。
【図６】図５（ａ）のＶＩ−ＶＩ線に従った断面部分を用いてカラーフィルタの製造工程を模式的に示す図である。
【図７】カラーフィルタにおけるＲ，Ｇ，Ｂ３色の絵素ピクセルの配列例を示す図である。
【図８】本発明に係るカラーフィルタの製造装置、本発明に係る液晶装置の製造装置及び本発明に係るＥＬ装置の製造装置といった各製造装置の主要部分であるインクジェット装置の一実施形態を示す斜視図である。
【図９】図８の装置の主要部を拡大して示す斜視図である。
【図１０】図９の装置の主要部であるインクジェットヘッドを拡大して示す斜視図である。
【図１１】インクジェットヘッドの改変例を示す斜視図である。
【図１２】インクジェットヘッドの内部構造を示す図であって、（ａ）は一部破断斜視図を示し、（ｂ）は（ａ）のＪ−Ｊ線に従った断面構造を示す。
【図１３】インクジェットヘッドの他の改変例を示す平面図である。
【図１４】図８のインクジェットヘッド装置に用いられる電気制御系を示すブロック図である。
【図１５】図１４の制御系によって実行される制御の流れを示すフローチャートである。
【図１６】インクジェットヘッドのさらに他の改変例を示す斜視面図である。
【図１７】本発明に係る液晶装置の製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【図１８】本発明に係る液晶装置の製造方法によって製造される液晶装置の一例を分解状態で示す斜視図である。
【図１９】図１８におけるＩ×−Ｉ×線に従って液晶装置の断面構造を示す断面図である。
【図２０】本発明に係るＥＬ装置の製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【図２１】図２０に示す工程図に対応するＥＬ装置の断面図である。
【図２２】従来のカラーフィルタの製造方法の一例を示す図である。
【図２３】従来のカラーフィルタの特性を説明するための図である。
【符号の説明】
１ カラーフィルタ
２ 基板
３ フィルタエレメント
４ 保護膜
６ 隔壁
７ フィルタエレメント形成領域
１１ カラーフィルタ形成領域
１２ マザー基板
１３ フィルタエレメント材料
１６ インクジェット装置
１７ ヘッド位置制御装置
１８ 基板位置制御装置
１９ 主走査駆動装置
２１ 副走査駆動装置
２２ インクジェットヘッド
２６ ヘッドユニット
２７ ノズル
２８ ノズル列
３９ インク加圧体
４１ 圧電素子
４９ テーブル
７６ キャッピング装置
７７ クリーニング装置
７８ 電子天秤
８１ ヘッド用カメラ
８２ 基板用カメラ
１０１ 液晶装置
１０２ 液晶パネル
１０７ａ，１０７ｂ 基板
１１１ａ，１１１ｂ 基材
１１４ａ，１１４ｂ 電極
１１８ カラーフィルタ
２０１ ＥＬ装置
２０２ 画素電極
２０３Ｒ，２０３Ｇ，２０３Ｂ 発光層
２０４ 基板
２０５ バンク
２１３ 対向電極
２２０ 正孔注入層
Ｌ 液晶
Ｍ フィルタエレメント材料
× 主走査方向
Ｙ 副走査方向[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a manufacturing method and a manufacturing apparatus for manufacturing a color filter used in an optical device such as a liquid crystal device. The present invention also relates to a method and apparatus for manufacturing a liquid crystal device having a color filter. The present invention also relates to a manufacturing method and a manufacturing apparatus of an EL device that performs display using an EL light emitting layer. The present invention also relates to a material discharging method and a material discharging apparatus for discharging a material to an object. Furthermore, the present invention relates to a liquid crystal device manufactured by using these manufacturing methods or an electronic apparatus equipped with an EL device.
[0002]
[Prior art]
In recent years, display devices such as liquid crystal devices and EL devices have been widely used in display units of electronic devices such as mobile phones and portable computers. Recently, full-color display is often performed by a display device. Full color display by the liquid crystal device is performed, for example, by passing light modulated by a liquid crystal layer through a color filter. The color filter has, for example, R (red), G (green), and B (blue) dot color filter elements on the surface of a substrate formed of glass, plastic, or the like in a stripe arrangement, delta arrangement, or mosaic. It is formed by arranging in a predetermined arrangement such as an arrangement.
[0003]
In addition, when full-color display is performed by an EL device, for example, R (red), G (green), and B (blue) dot-like colors EL are formed on the surface of a substrate formed of glass, plastic, or the like. The light emitting layers are arranged in a predetermined arrangement such as a stripe arrangement, a delta arrangement, or a mosaic arrangement, and these EL emission layers are sandwiched between a pair of electrodes to form pixel pixels, and the voltage applied to these electrodes is set to the pixel pixels. Each pixel pixel is caused to emit light in a desired color by controlling each time, thereby performing a full color display.
[0004]
Conventionally, it is known to use a photolithography method when patterning each color filter element such as R, G, B, etc. of a color filter, or when patterning each color pixel element, such as R, G, B, etc., of an EL device. ing. However, when this photolithography method is used, there are problems that the process is complicated and that each color material, photoresist and the like are consumed in a large amount, so that the cost is increased.
[0005]
In order to solve this problem, there has been proposed a method of forming a dot-shaped array of filaments, EL light-emitting layers, and the like by ejecting filter materials, EL light-emitting materials, and the like in the form of dots by an inkjet method.
[0006]
Now, in FIG. 22A, a large area substrate formed of glass, plastic, or the like, that is, an inner region of a plurality of panel regions 302 set on the surface of the so-called motherboard 301, as shown in FIG. Consider a case where a plurality of filter elements 303 arranged in a dot shape are formed based on an ink jet method. In this case, for example, as shown in FIG. 22C, an inkjet head 306 having a nozzle row 305 formed by arranging a plurality of nozzles 304 in a row is shown by arrows A1 and A2 in FIG. As shown, while the main scanning is performed a plurality of times (two times in FIG. 22) with respect to one panel region 302, the ink or filter material is selectively ejected from a plurality of nozzles during the main scanning. A filter element 303 is formed on the substrate.
[0007]
Since the filter element 303 is formed by arranging each color such as R, G, B, etc. in an appropriate arrangement form such as a stripe arrangement, a delta arrangement, a mosaic arrangement, etc., the ink jet head 306 shown in FIG. In the ink ejection process by the above, ink jet heads 306 for ejecting single colors of R, G, and B are provided in advance for three colors such as R, G, and B, and one of these ink jet heads 306 is used in sequence. A three-color array of R, G, B, etc. is formed on the motherboard 301.
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
Incidentally, with respect to the inkjet head 306, generally, there are variations in the ink discharge amounts of the plurality of nozzles 304 constituting the nozzle row 305. For example, positions corresponding to both ends of the nozzle row 305 as shown in FIG. The ink discharge characteristic Q is such that the discharge amount is large, the central portion is the second largest, and the middle portion has a small discharge amount.
[0009]
Therefore, when the filter element 303 is formed by the inkjet head 306 as shown in FIG. 22B, as shown in FIG. 23B, the position P1 or the central portion P2 corresponding to the end of the inkjet head 306, Alternatively, there is a problem that streaks with high density are formed in both P1 and P2, and the planar light transmission characteristics of the color filter become non-uniform.
[0010]
The present invention has been made in view of the above-described problems. The optical characteristics of an optical member such as the light transmission characteristics of a color filter, the color display characteristics of a liquid crystal device, and the light emission characteristics of an EL light emitting surface are planarly obtained. It aims at providing the manufacturing method and manufacturing apparatus of each optical member which can be made uniform.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
(1) In order to achieve the above object, a color filter manufacturing method according to the present invention is a color filter manufacturing method for manufacturing a color filter formed by arranging a plurality of filter elements on a substrate,
An ink jet head having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged in a row, the nozzle row being divided into n groups, and one of the substrates is moved in the main scanning direction with respect to the other Forming a filter element on the substrate by selectively discharging a filter material from the plurality of nozzles, and sub-scanning one of the inkjet head and the substrate with respect to the other. B, and each of the filter elements is formed by n times of the process A, and in the formation of each of the filter elements, the nozzles that discharge in each time of the process A are different from each other. It belongs to a group.
[0012]
According to the color filter manufacturing method of this configuration, the individual filter elements in the color filter are not formed by a single scan of the ink jet head, but are overlapped by a plurality of nozzles belonging to different nozzle groups. Since a predetermined film thickness is formed by receiving the discharge, even if there is a variation in the ink discharge amount between a plurality of nozzles, it is possible to prevent a variation in the film thickness between a plurality of filter elements. Therefore, the light transmission characteristics of the color filter can be made uniform in a plane.
[0013]
Of course, since the method for producing a color filter of the present invention is a method using an inkjet head, there is no need to go through complicated steps as in the method using a photolithography method, and no material is wasted.
[0014]
In the color filter manufacturing method having the above-described configuration, one of the inkjet head and the substrate can be sub-scanned with respect to the other at a length that is an integral multiple of the length of the nozzle group in the sub-scanning direction. In this way, a plurality of nozzle groups scan the same portion of the substrate in an overlapping manner, and ink is supplied to the individual filter element regions by the nozzles in each nozzle group.
[0015]
Further, in the color filter manufacturing method having the above-described configuration, the nozzle row can be arranged to be inclined with respect to the sub-scanning direction. The nozzle row is formed by arranging a plurality of nozzles in a row. In this case, assuming that the arrangement state of the nozzle rows is parallel to the sub-scanning direction of the inkjet head, the interval between adjacent filter elements formed by the filter element material discharged from the nozzles, that is, the inter-element pitch. Is equal to the inter-nozzle pitch of the plurality of nozzles forming the nozzle row.
[0016]
If the inter-element pitch may be equal to the inter-nozzle pitch, the above can be left as it is.However, in such a case, it is a rare case. Usually, the inter-element pitch and the inter-nozzle pitch are There are many cases where they are different. When the inter-element pitch and the inter-nozzle pitch are different from each other, the nozzle row is inclined with respect to the sub-scanning direction of the ink jet head as in the above configuration, so that the inter-nozzle pitch is aligned with the sub-scanning direction. The length can be adjusted to the pitch between elements. In this case, the position of each nozzle constituting the nozzle row is shifted back and forth in the main scanning direction, but for this, by shifting the discharge timing of the filter element material from each nozzle, Ink droplets from each nozzle can be supplied to a desired position.
[0017]
Further, in the method for manufacturing a color filter having the above-described configuration, when the length of the nozzle row is L and the angle formed by the nozzle row and the sub-scanning direction is θ, δ≈ (L / n) cos θ can be set.
According to this configuration, the inkjet head can move a plurality of nozzles for each nozzle group in the sub-scanning direction. As a result, for example, when considering a case where the nozzle row is divided into four nozzle groups, each part on the substrate is subjected to main scanning by being overlapped by the four nozzle groups.
[0018]
Next, in the manufacturing method of the color filter having the above configuration, a control method can be adopted in which the filter element material is not ejected from several nozzles at both end portions of the nozzle row. As described with reference to FIG. 23A, the ink discharge distribution in a general ink jet head changes in both end portions of the nozzle row as compared with other portions. For an ink jet head having such an ink discharge distribution characteristic, if a plurality of nozzles having a uniform ink discharge distribution are used except for several nozzles at both ends of a nozzle row having a large change, the filter element The film thickness can be made uniform in a plane.
[0019]
In the color filter manufacturing method having the above configuration, when ink is not ejected from several nozzles at both ends of the nozzle row, the length of the nozzle row is L, and the nozzle row is in the sub-scanning direction. Is θ, the sub-scanning movement amount δ related to the process B can be set to δ≈ (L / n) cos θ.
[0020]
Next, the color filter manufactured by the method for manufacturing a color filter having the above configuration is R (red), G (green), B (blue), C (cyan), Y (yellow), M (magenta), or the like. It is considered that the multi-color filter elements are formed by arranging them in an appropriate pattern on a plane. When manufacturing such a color filter, an inkjet head that discharges one type of filter material of a plurality of colors from the nozzle row is provided independently for each number of colors, and “each nozzle in the nozzle row” is provided. The process of repeatedly performing the main scanning a plurality of times while sub-scanning the inkjet head so that the group scans the same portion of the substrate in an overlapping manner is performed on the one substrate with an inkjet head for each color. It can be realized by using them separately and sequentially.
[0021]
Further, when manufacturing a color filter having a plurality of color filter elements such as R, G, B, or C, Y, M as described above, a plurality of types of nozzle rows for discharging each color are formed in one head. The ink jet head is formed, and “the main scanning is repeated a plurality of times while the ink jet head is sub-scanned so that each nozzle group in the nozzle row overlaps and scans the same portion of the substrate.” This process can be performed simultaneously on a plurality of colors by the inkjet head.
[0022]
(2) Next, a color filter manufacturing apparatus according to the present invention is a color filter manufacturing apparatus for manufacturing a color filter formed by arranging a plurality of filter elements on a substrate, and a plurality of nozzles are arranged in a row. An inkjet head having an array of nozzle rows and divided into a plurality of groups, an ink supply means for supplying a filter material to the inkjet head, and one of the inkjet head and the substrate Main scanning driving means for moving the ink jet head in the main scanning direction, sub scanning driving means for moving one of the inkjet head and the substrate in the sub scanning direction with respect to the other, and the plurality of nozzles Nozzle ejection control means for controlling ink ejection, main scanning control means for controlling the operation of the main scanning drive means, and the sub-scanning One of the ink jet head and the substrate so that at least a part of each group can scan the same portion of the substrate in the main scanning direction. Is sub-scanned with respect to the other.
[0023]
(3) Next, a method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention is a method for manufacturing a liquid crystal device having a pair of substrates that sandwich a liquid crystal and a color filter in which a plurality of filter elements are arranged on at least one substrate. An inkjet head having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged in a row, the nozzle row being divided into a plurality of groups, and one of the substrates with respect to the other A step of moving in a scanning direction, a step of selectively discharging a filter material from the plurality of nozzles to form the filter element on the substrate, and at least a part of each of the groups includes the same portion of the substrate. And a step of sub-scanning one of the inkjet head and the substrate with respect to the other so as to be able to scan in the main scanning direction.
.
[0024]
(4) Next, an apparatus for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention manufactures a liquid crystal device having a pair of substrates that sandwich liquid crystal and a color filter in which a plurality of filter elements are arranged on at least one substrate. In the apparatus, an ink jet head having a nozzle array in which a plurality of nozzles are arranged in a line, the nozzle array being divided into a plurality of groups, and an ink supply means for supplying a filter material to the ink jet head; Main scanning driving means for moving one of the ink jet head and the substrate in the main scanning direction with respect to the other, and sub scanning for moving one of the ink jet head and the substrate in the sub scanning direction with respect to the other. Control of the operation of the driving means, the nozzle ejection control means for controlling the ejection of ink from the plurality of nozzles, and the main scanning driving means Main scanning control means and sub-scanning control means for controlling the operation of the sub-scan driving means, so that at least a part of each group can scan the same part of the substrate in the main scanning direction. One of the inkjet head and the substrate is sub-scanned with respect to the other. An apparatus for manufacturing a liquid crystal device.
[0025]
(5) Next, an EL device manufacturing method according to the present invention is an EL device manufacturing method in which a plurality of pixel pixels each including an EL light emitting layer are arranged on a substrate. An inkjet head in which the nozzle row is divided into n groups, and one of the substrates is moved in the main scanning direction with respect to the other while the plurality of the plurality of nozzle rows are arranged in the main scanning direction. A step A of selectively discharging an EL light emitting material from a nozzle to form the EL light emitting layer on the substrate; and a step B of sub-scanning one of the inkjet head and the substrate with respect to the other. Each of the pixel pixels is formed in n times of the process A, and in the formation of each of the pixel pixels, the nozzles that discharge in each of the processes A are different from each other. Characterized in that it belongs to the flop.
[0026]
(6) Next, an EL device manufacturing apparatus according to the present invention is an EL device manufacturing apparatus in which a plurality of pixel pixels each including an EL light emitting layer are arranged on a substrate. An ink jet head in which the nozzle row is divided into a plurality of groups, an ink supply means for supplying an EL light emitting material to the ink jet head, and a plurality of nozzles arranged in a row An inkjet head in which the nozzle array is divided into a plurality of groups, ink supply means for supplying the EL light emitting material to the inkjet head, and the inkjet head and the substrate. A main scanning driving means for moving one of the ink jet head in the main scanning direction, and one of the ink jet head and the substrate with respect to the other; Sub-scanning driving means for moving in the scanning direction, nozzle ejection control means for controlling ejection of ink from the plurality of nozzles, main scanning control means for controlling the operation of the main scanning driving means, and the sub-scanning driving means Sub-scanning control means for controlling the operation of the inkjet head and one of the inkjet head and the substrate so that at least a part of each group can scan the same portion of the substrate in the main scanning direction. Sub-scanning is performed on the other side.
[0027]
(7) Next, an ink jet head control apparatus according to the present invention includes a plurality of nozzles arranged in a line in the ink jet head control apparatus used in manufacturing an optical member formed by arranging a plurality of color patterns on a substrate. An ink jet head having a nozzle array arranged in a shape and divided into a plurality of groups, an ink supply means for supplying a filter material to the ink jet head, and the ink jet head and the substrate Main scanning driving means for moving one of the ink jet head in the main scanning direction, sub scanning driving means for moving one of the inkjet head and the substrate in the sub scanning direction, and the plurality of nozzles Nozzle ejection control means for controlling ink ejection from the main scanning control means, main scanning control means for controlling the operation of the main scanning driving means, Sub-scanning control means for controlling the operation of the sub-scanning driving means, and at least a part of each of the groups can scan the same part of the substrate in the main scanning direction of the inkjet head and the substrate. One of them is sub-scanned with respect to the other.
[0028]
In the ink jet head control apparatus having the above-described configuration, the “optical member” may be a color filter, an EL device or the like. When a color filter is considered as an optical member, R, G, and B filter elements correspond to the “color pattern”. When an EL device is considered as an optical member, R, G, and B light emitting layers, hole injection layers, and the like correspond to “color patterns”.
[0029]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
(First embodiment)
A color filter manufacturing method and an embodiment of the manufacturing apparatus will be described below. First, prior to explaining these production methods and production apparatuses, color filters produced using those production methods and the like will be explained. FIG. 5A schematically shows a planar structure of an embodiment of the color filter. FIG. 6D shows a cross-sectional structure according to the VI-VI line of FIG.
[0030]
The color filter 1 of the present embodiment has a plurality of filter elements 3 formed in a dot pattern, in the present embodiment in the form of a dot matrix, on the surface of a rectangular substrate 2 formed of glass, plastic, or the like. As shown to d), it forms by laminating | stacking the protective film 4 on it. FIG. 5A shows the color filter 1 in a state where the protective film 4 is removed in a plan view.
[0031]
The filter element 3 is formed by filling a plurality of rectangular regions, which are partitioned by partition walls 6 formed in a lattice pattern with a resin material having no translucency and arranged in a dot matrix, with a color material. Each of these filter elements 3 is formed of a color material of any one color of R (red), G (green), and B (blue), and each color filter element 3 is arranged in a predetermined arrangement. Are listed. As this arrangement, for example, a stripe arrangement shown in FIG. 7A, a mosaic arrangement shown in FIG. 7B, a delta arrangement shown in FIG. 7C, and the like are known.
[0032]
The stripe arrangement is a color scheme in which all columns of the matrix are the same color. The mosaic arrangement is a color scheme in which any three filter elements arranged on a vertical and horizontal straight line have three colors of R, G, and B. The delta arrangement is a color arrangement in which the filter elements are arranged in different stages, and any three adjacent filter elements are R, G, and B colors.
[0033]
The size of the color filter 1 is, for example, 1.8 inches. The size of one filter element 3 is, for example, 30 μm × 100 μm. Moreover, the space | interval between each filter element 3, so-called element pitch is 75 micrometers, for example.
[0034]
When the color filter 1 of the present embodiment is used as an optical element for full-color display, one pixel is formed by using R, G, B3 filter elements 3 as one unit, and R, G in one pixel is formed. , B, or a combination thereof, by selectively passing light, a full color display is performed. At this time, the partition 6 formed of a resin material having no translucency functions as a black matrix.
[0035]
For example, the color filter 1 is cut out from a mother substrate 12 having a large area as shown in FIG. Specifically, first, a pattern for one color filter 1 is formed on the surface of each of the plurality of color filter forming regions 11 set in the mother substrate 12, and the surroundings of these color filter forming regions 11 are further formed. By forming grooves for cutting, and further cutting the mother substrate 12 along these grooves, individual color filters 1 are formed.
[0036]
Hereinafter, a manufacturing method and a manufacturing apparatus for manufacturing the color filter 1 shown in FIG.
[0037]
FIG. 6 schematically shows a method for manufacturing the color filter 1 in the order of steps. First, the partition walls 6 are formed on the surface of the mother substrate 12 in a lattice pattern as viewed from the direction of the arrow B with a resin material having no translucency. The lattice hole portion 7 of the lattice pattern is a region where the filter element 3 is formed, that is, a filter element region. The planar dimensions of the individual filter element regions 7 formed by the partition walls 6 when viewed from the direction of the arrow B are, for example, about 30 μm × 100 μm.
[0038]
The partition wall 6 has a function of blocking the flow of the filter element material supplied to the filter element region 7 and a function of a black matrix. Moreover, the partition 6 is formed by arbitrary patterning methods, for example, a photolithography method, and is further heated and baked with a heater as needed.
[0039]
After the partition wall 6 is formed, each filter element region 7 is filled with the filter element material 13 by supplying droplets 8 of the filter element material to each filter element region 7 as shown in FIG. In FIG. 6B, reference numeral 13R indicates a filter element material having a color of R (red), reference numeral 13G indicates a filter element material having a color of G (green), and reference numeral 13B indicates a filter element material of B (blue). A filter element material having a color is shown.
[0040]
When each filter element region 7 is filled with a predetermined amount of filter element material, the mother substrate 12 is heated to, for example, about 70 ° C. by a heater to evaporate the solvent of the filter element material. By this evaporation, the volume of the filter element material 13 is reduced and flattened as shown in FIG. When the volume is drastically reduced, the supply of droplets of the filter element material and the heating of the droplets are repeated until a sufficient film thickness is obtained for the color filter. As a result of the above processing, only the solid content of the filter element material remains to form a film, whereby the desired color filter elements 3 are formed.
[0041]
After the filter element 3 is formed as described above, a heat treatment is performed at a predetermined temperature for a predetermined time in order to completely dry the filaments 3. Thereafter, the protective film 4 is formed using an appropriate method such as a spin coating method, a roll coating method, a ripping method, or an ink jet method. The protective film 4 is formed for protecting the filter element 3 and the like and for flattening the surface of the color filter 1.
[0042]
FIG. 8 shows an embodiment of an ink jet apparatus for performing the supply process of the filter element material shown in FIG. The ink jet device 16 uses one of R, G, and B, for example, R color filter element material as ink droplets in each color filter forming region 11 in the mother substrate 12 (see FIG. 5B). It is an apparatus for discharging and adhering to a predetermined position. Ink jet apparatuses for the G color filter element material and the B color filter element material are also prepared for each. However, since the structures thereof can be the same as those in FIG. 8, description thereof will be omitted. .
[0043]
In FIG. 8, the inkjet device 16 includes a head unit 26 including an inkjet head 22, a head position control device 17 that controls the position of the inkjet head 22, a substrate position control device 18 that controls the position of the mother substrate 12, and A main scanning drive device 19 that moves the ink jet head 22 relative to the mother substrate 12, a sub scanning drive device 21 that moves the ink jet head 22 relative to the mother substrate 12, and the mother substrate 12 within the ink jet device 16. A substrate supply device 23 that supplies the substrate to a predetermined work position, and a control device 24 that controls the entire inkjet device 16.
[0044]
The head position control device 17, the substrate position control device 18, the main scanning drive device 19 that moves the inkjet head 22 relative to the mother substrate 12 in the main scanning, and the sub scanning drive device 21 are installed on the base 9. . Each of these devices is covered with a cover 14 as necessary.
[0045]
As shown in FIG. 10, for example, the inkjet head 22 has a nozzle row 28 formed by arranging a plurality of nozzles 27 in a row. The number of nozzles 27 is, for example, 180, the hole diameter of the nozzles 27 is, for example, 28 μm, and the nozzle pitch between the nozzles 27 is, for example, 141 μm. 5A and 5B, the main scanning direction x and the sub-scanning direction Y perpendicular to the color filter 1 and the mother substrate 12 are set as shown in FIG.
[0046]
The inkjet head 22 is positioned so that the nozzle row 28 extends in a direction crossing the main scanning direction x, and filter element material as ink is ejected from the plurality of nozzles 27 while moving in parallel in the main scanning direction x. By selectively discharging, the filter element material is adhered to a predetermined position in the mother substrate 12 (see FIG. 5B). Further, the ink jet head 22 can move the main scanning position by the ink jet head 22 at a predetermined interval by moving in parallel in the sub-scanning direction Y by a predetermined distance.
[0047]
The inkjet head 22 has, for example, an internal structure shown in FIGS. 12 (a) and 12 (b). Specifically, the inkjet head 22 includes, for example, a stainless steel nozzle plate 29, a diaphragm 31 facing the nozzle plate 29, and a plurality of partition members 32 that join them together. A plurality of ink chambers 33 and liquid reservoirs 34 are formed between the nozzle plate 29 and the vibration plate 31 by the partition member 32. The plurality of ink chambers 33 and the liquid reservoir 34 communicate with each other through a passage 38.
[0048]
An ink supply hole 36 is formed at an appropriate position of the vibration plate 31, and an ink supply device 37 is connected to the ink supply hole 36. The ink supply device 37 supplies one of R, G, and B, for example, R color filter element material M to the ink supply hole 36. The supplied filter element material M fills the liquid reservoir 34, and further fills the ink chamber 33 through the passage 38.
[0049]
The nozzle plate 29 is provided with a nozzle 27 for ejecting the filter element material M from the ink chamber 33 in the form of a jet. An ink pressurizing member 39 is attached to the back surface of the vibration plate 31 on which the ink chamber 33 is formed so as to correspond to the ink chamber 33. As shown in FIG. 12B, the ink pressurizing body 39 includes a piezoelectric element 41 and a pair of electrodes 42a and 42b that sandwich the piezoelectric element 41. The piezoelectric element 41 is bent and deformed so as to protrude outwardly as indicated by an arrow C by energization of the electrodes 42a and 42b, thereby increasing the volume of the ink chamber 33. Then, the filter element material M corresponding to the increased volume flows from the liquid reservoir 34 through the passage 38 into the ink chamber 33.
[0050]
Next, when energization to the piezoelectric element 41 is released, both the piezoelectric element 41 and the diaphragm 31 return to their original shapes. As a result, the ink chamber 33 also returns to its original volume, so that the pressure of the filter element material M inside the ink chamber 33 rises, and the filter element material is directed from the nozzle 27 toward the mother substrate 12 (see FIG. 5B). M is ejected as droplets 8. In addition, an ink repellent layer 43 made of, for example, a Ni-tetrafluoroethylene eutectoid plating layer is provided in the peripheral portion of the nozzle 27 in order to prevent the flight of the droplet 8 and the clogging of the nozzle 27.
[0051]
In FIG. 9, the head position control device 17 includes an α motor 44 that rotates the inkjet head 22 in-plane, a β motor 46 that swings and rotates the inkjet head 22 about an axis parallel to the sub-scanning direction Y, and the inkjet head 22. Has a γ motor 47 that swings and rotates around an axis parallel to the main scanning direction, and a Z motor 48 that translates the inkjet head 22 in the vertical direction.
[0052]
The substrate position control device 18 shown in FIG. 8 includes a table 49 on which the mother substrate 12 is placed and a θ motor 51 that rotates the table 49 in-plane as indicated by an arrow θ in FIG. Further, as shown in FIG. 9, the main scanning drive device 19 shown in FIG. 8 includes a guide rail 52 extending in the main scanning direction x and a slider 53 incorporating a pulse-driven linear motor. The slider 53 translates in the main scanning direction along the guide rail 52 when the built-in linear motor operates.
[0053]
Further, as shown in FIG. 9, the sub-scanning drive device 21 shown in FIG. 8 has a guide rail 54 extending in the sub-scanning direction Y and a slider 56 incorporating a pulse-driven linear motor. The slider 56 translates in the sub-scanning direction Y along the guide rail 54 when the built-in linear motor operates.
[0054]
The linear motor that is pulse-driven in the slider 53 and the slider 56 can finely control the rotation angle of the output shaft by the pulse signal supplied to the motor. Therefore, the main part of the ink jet head 22 supported by the slider 53 can be controlled. The position in the scanning direction x and the position in the sub-scanning direction Y of the table 49 can be controlled with high definition. The position control of the inkjet head 22 and the table 49 is not limited to the position control using the pulse motor, and can be realized by feedback control using a servo motor or any other control method.
[0055]
The substrate supply device 23 illustrated in FIG. 8 includes a substrate storage unit 57 that stores the mother substrate 12 and a robot 58 that transports the mother substrate 12. The robot 58 includes a base 59 placed on an installation surface such as a floor and the ground, a lift shaft 61 that moves up and down relative to the base 59, a first arm 62 that rotates about the lift shaft 61, and a first arm. The second arm 63 rotates with respect to 62, and the suction pad 64 provided on the lower surface of the tip of the second arm 63. The suction pad 64 can suck the mother substrate 12 by air suction or the like.
[0056]
In FIG. 8, a capping device 76 and a cleaning device 77 are disposed under the trajectory of the inkjet head 22 that is driven by the main scanning driving device 19 and moves in the main scanning direction, at one side position of the sub-scanning driving device 21. . An electronic balance 78 is disposed at the other side position. The cleaning device 77 is a device for cleaning the inkjet head 22. The electronic balance 78 is a device that measures the weight of ink droplets discharged from the individual nozzles 27 (see FIG. 10) in the inkjet head 22 for each nozzle. The capping device 76 is a device for preventing the nozzle 27 (see FIG. 10) from drying when the inkjet head 22 is in a standby state.
[0057]
A head camera 81 is disposed in the vicinity of the inkjet head 22 so as to move together with the inkjet head 22. A substrate camera 82 supported by a support device (not shown) provided on the base 9 is disposed at a position where the mother substrate 12 can be photographed.
[0058]
The control device 24 shown in FIG. 8 has a computer main body 66 containing a processor, a keyboard 67 as an input device, and a CRT (Cathode Ray Tube) display 68 as a display device. As shown in FIG. 14, the processor includes a CPU (Central Processing Unit) 69 that performs arithmetic processing, and a memory that stores various types of information, that is, an information storage medium 71.
[0059]
The head position control device 17, the substrate position control device 18, the main scanning drive device 19, the sub-scanning drive device 21, and the piezoelectric element 41 (see FIG. 12B) in the inkjet head 22 shown in FIG. 8 are driven. Each device of the head drive circuit 72 is connected to the CPU 69 via the input / output interface 73 and the bus 74 in FIG. The substrate supply device 23, the input device 67, the display 68, the electronic balance 78, the cleaning device 77, and the capping device 76 are also connected to the CPU 69 through the input / output interface 73 and the bus 74.
[0060]
The memory 71 is a concept including a semiconductor memory such as a RAM (Random Access Memory) and a ROM (Read Only Memory), an external storage device such as a hard disk, a CD-ROM reader, a disk-type storage medium, and the like. Is a storage area for storing program software in which the control procedure of the operation of the inkjet device 16 is described, or one of R, G, and B for realizing the various R, G, and B arrangements shown in FIG. A storage area for storing the ejection position in the mother substrate 12 (see FIG. 5) as coordinate data, a storage area for storing the sub-scanning movement amount of the mother substrate 12 in the sub-scanning direction Y in FIG. A work area for the CPU 69, an area functioning as a temporary file, and other various storage areas are set.
[0061]
The CPU 69 performs control for discharging ink, that is, a filter element material, to a predetermined position on the surface of the mother substrate 12 in accordance with the program software stored in the memory 71. A weight calculation operation for performing a weight measurement using the electronic balance 78 (see FIG. 8), a cleaning calculation unit for performing a calculation for realizing the processing, a capping calculation unit for realizing the capping process And a drawing calculation unit that performs calculation for drawing the filter element material by inkjet.
[0062]
If the drawing calculation unit is divided in detail, a drawing start position calculation unit for setting the inkjet head 22 to an initial position for drawing, and a control for scanning and moving the inkjet head 22 in the main scanning direction x at a predetermined speed. A main scanning control calculating unit that calculates the control, a sub-scanning control calculating unit that calculates control for shifting the mother substrate 12 in the sub-scanning direction Y by a predetermined sub-scanning amount, and a plurality of nozzles in the inkjet head 22 27 includes various function calculation units such as a nozzle discharge control calculation unit that performs calculation for controlling which of the nozzles 27 is operated to discharge ink, that is, the filter element material.
[0063]
In the present embodiment, each of the above functions is realized by software using the CPU 69. However, when each of the above functions can be realized by a single electronic circuit not using the CPU, such electronic It is also possible to use a circuit.
[0064]
Hereinafter, the operation of the ink jet apparatus 16 having the above-described configuration will be described with reference to the flowchart shown in FIG.
[0065]
When the ink jet device 16 is activated by power-on by the operator, first, initial setting is executed in step S1. Specifically, the head unit 26, the substrate supply device 23, the control device 24, and the like are set in a predetermined initial state.
[0066]
Next, when the weight measurement timing arrives (YES in step S2), the head unit 26 in FIG. 9 is moved to the electronic balance 78 in FIG. 8 by the main scanning drive device 19 (step S3). The amount of ink ejected is measured using the electronic balance 78 (step S4). Then, ink ejection from the nozzle 27
In accordance with the characteristics, the voltage applied to the piezoelectric element 41 corresponding to each nozzle 27 is adjusted (step S5).
[0067]
Next, when the cleaning timing comes (YES in step S6), the head unit 26 is moved to the cleaning device 77 by the main scanning drive device 19 (step S7), and the inkjet head 22 is cleaned by the cleaning device 77. (Step S8).
[0068]
When the weight measurement timing and the cleaning timing do not arrive (NO in steps S2 and S6), or when these processes are completed, in step S9, the substrate supply device 23 of FIG. 49. Specifically, the mother substrate 12 in the substrate housing portion 57 is sucked and held by the suction pad 64, and then the lifting shaft 61, the first arm 62, and the second arm 63 are moved to move the mother substrate 12 to the table 49. Then, it is pressed against a positioning pin 50 (FIG. 9) provided in advance at an appropriate position of the table 49. In order to prevent displacement of the mother substrate 12 on the table 49, it is desirable to fix the mother substrate 12 to the table 49 by means such as air suction.
[0069]
Next, while observing the mother board 12 with the board camera 82 in FIG. 8, the output shaft of the θ motor 51 in FIG. 9 is rotated in minute angle units to rotate the table 49 in-plane in minute angle units, thereby the mother. The substrate 12 is positioned (step S10). Next, the position at which drawing is started by the inkjet head 22 is determined by calculation while observing the mother substrate 12 by the head camera 81 of FIG. 8 (step S11), and the main scanning driving device 19 and the sub scanning driving device 21 are then determined. Is appropriately operated to move the inkjet head 22 to the drawing start position (step S12).
[0070]
At this time, the inkjet head 22 is disposed such that the nozzle row 28 is inclined at an angle θ with respect to the sub-scanning direction Y of the inkjet head 22, as shown in the position (a) of FIG. This is because, in the case of a normal ink jet apparatus, an inter-nozzle pitch that is an interval between adjacent nozzles 27 and an element pitch that is an interval between adjacent filter elements 3, that is, filter element forming regions 7, are different. This is a measure for making the dimensional component in the sub-scanning direction Y of the inter-nozzle pitch geometrically equal to the element pitch when the inkjet head 22 is moved in the main scanning direction x.
[0071]
When the inkjet head 22 is placed at the drawing start position in step S12 of FIG. 15, the inkjet head 22 is placed at the position (a) in FIG. Thereafter, main scanning in the main scanning direction x is started in step S13 in FIG. 15, and ink ejection is simultaneously started. Specifically, the main scanning drive device 19 of FIG. 9 operates to cause the inkjet head 22 to linearly scan and move at a constant speed in the main scanning direction x of FIG. When the nozzle 27 corresponding to the element region 7 arrives, ink, that is, the filter element material is discharged from the nozzle 27.
[0072]
The ink discharge amount at this time is not an amount that fills the entire volume of the filter element region 7, but is a fraction of the total amount, that is, a quarter of the total amount in this embodiment. This is because, as will be described later, each filter element region 7 is not filled by one ink discharge from the nozzle 27, but by four times of ink discharge multiple discharge, in this embodiment four times of overlap discharge. This is because the entire volume is to be filled by the above.
[0073]
When the main scanning for one line with respect to the mother substrate 12 is completed (YES in step S14), the inkjet head 22 is reversed and returned to the initial position (a) (step S15). Further, the inkjet head 22 is driven by the sub-scanning drive device 21 and moves in the sub-scanning direction Y by a predetermined sub-scanning amount δ (step S16).
[0074]
In the present embodiment, the CPU 69 conceptually divides the plurality of nozzles 27 forming the nozzle row 28 of the inkjet head 22 into a plurality of groups n in FIG. In the present embodiment, n = 4, that is, a nozzle row 28 having a length L composed of 180 nozzles 27 is divided into four groups. Accordingly, one nozzle group is determined to have a length L / n including 180/4 = 45 nozzles 27, that is, L / 4. The sub-scanning amount δ is set to the length in the sub-scanning direction of the nozzle group length L / 4, that is, (L / 4) cos θ.
[0075]
Accordingly, the inkjet head 22 that has returned to the initial position (a) after completion of the main scanning for one line moves in parallel in the sub-scanning direction Y by the distance δ in FIG. 1 and moves to the position (b). In FIG. 1, the position (a) and the position (b) are drawn with a slight shift with respect to the main scanning direction x, but this is a measure for making the explanation easy to understand. ) And position (b) are the same position in the main scanning direction x.
[0076]
The inkjet head 22 that has been sub-scanned to the position (b) repeats the main scanning movement and the ink ejection in step S13. During this main scanning movement, the second line in the color filter formation region 11 on the mother substrate 12 is first ejected by the first nozzle group, and the first line is formed by the second nozzle group from the top. A second ink discharge is received.
[0077]
Thereafter, the inkjet head 22 repeats the main scanning movement and the ink ejection while repeating the sub-scanning movement from the position (c) to the position (k) (step S13 to step S16), thereby the color of the mother substrate 12 is changed. The ink adhesion process for one row in the filter formation region 11 is completed. In this embodiment, since the nozzle row 28 is divided into four groups and the sub-scanning amount δ is determined, when the main scanning and the sub-scanning for one column of the color filter forming region 11 are finished, each filter element region 7 receives a total of four ink ejection processes, one by each of the four nozzle groups, so that a predetermined amount of ink, that is, the filter element material is supplied in its entire volume.
[0078]
When the ink ejection for one column in the color filter forming region 11 is completed in this way, the ink jet head 22 is driven by the sub-scan driving means 21 and conveyed to the initial position of the color filter forming region 11 in the next column (step S19). Filter elements are formed in the filter element formation region 7 by repeating main scanning, sub-scanning, and ink ejection with respect to the color filter formation region 11 of the row (steps S13 to S16).
[0079]
Thereafter, when filter elements 3 of one color of R, G, and B, for example, R1 color, are formed for all the color filter forming regions 11 in the mother substrate 12 (YES in step S18), the mother substrate 12 is changed in step S20. The processed mother substrate 12 is discharged to the outside by the substrate supply device 23 or by another transport device. After that, unless the operator gives an instruction to end the processing (NO in step S21), the process returns to step S2 to repeat the ink ejection operation for the R1 color on another mother board 12.
[0080]
When the operator gives an instruction to end the operation (YES in step S21), the CPU 69 conveys the inkjet head 22 to the capping device 76 in FIG. 8, and performs capping processing on the inkjet head 22 by the capping device 76. (Step S22).
[0081]
Thus, the patterning for the first color, for example, R color, of the R, G, B colors constituting the color filter is completed, and then the mother substrate 12 is moved to the second color for R, G, B, for example, G color. To the ink jet device 16 using the filter element material to perform G color patterning, and finally to the ink jet device 16 using the R, G, B third color, for example, B color, as the filter element material. B color patterning is performed. Thus, the mother substrate 12 on which a plurality of color filters 1 (FIG. 5A) having a desired R, G, B dot arrangement such as a stripe arrangement is formed is manufactured. By cutting this mother substrate 12 for each color filter region 11, a plurality of one color filter 1 are cut out.
[0082]
If the color filter 1 is used for color display of a liquid crystal device, an electrode, an alignment film, and the like are further laminated on the surface of the color filter 1. In such a case, if the mother substrate 12 is cut and the individual color filters 1 are cut out before laminating the electrodes, alignment films, and the like, the subsequent formation process of the electrodes and the like becomes very troublesome. Therefore, in such a case, the mother substrate 12 is not cut immediately after the color filter 1 is completed on the mother substrate 12, but necessary additional steps such as electrode formation and alignment film formation are completed. It is desirable to cut the mother substrate 12 later.
[0083]
As described above, according to the method and apparatus for manufacturing a color filter according to this embodiment, each filter element 3 in the color filter 1 shown in FIG. 5A is one of the inkjet head 22 (see FIG. 1). Rather than being formed by the main scanning x times, each one filter element 3 is subjected to ink ejection n times by a plurality of nozzles 27 belonging to different nozzle groups, four times in this embodiment. A predetermined film thickness is formed. For this reason, even if there is a variation in the amount of ink ejected between the plurality of nozzles 27, it is possible to prevent the variation in film thickness between the plurality of filter elements 3, and therefore, the light transmission characteristics of the color filter can be reduced. Can be made uniform.
[0084]
Of course, in the manufacturing method of the present embodiment, the filter element 3 is formed by ink ejection using the inkjet head 22, so that it is not necessary to go through complicated steps as in the method using the photolithography method, and the material is wasted. There is nothing to do.
[0085]
By the way, as described with reference to FIG. 23A, the distribution of the ink discharge amount of the plurality of nozzles 27 forming the nozzle row 28 of the inkjet head 22 becomes non-uniform. In addition, as described above, the number of nozzles 27 present at both ends of the nozzle row 28, for example, ten nozzles on one end side, particularly increases the ink discharge amount. Thus, it is not preferable to use a nozzle having a particularly large amount of ink ejection compared to other nozzles in terms of making the ink discharge film, that is, the filter element, uniform in film thickness.
[0086]
Therefore, desirably, as shown in FIG. 13, among a plurality of nozzles 27 forming the nozzle row 28, several, for example, about 10 existing at both ends E of the nozzle row 28 are set not to eject ink in advance. In addition, it is preferable to divide the nozzles 27 existing in the remaining portion F into a plurality of, for example, four groups and perform sub-scanning movement in units of the nozzle groups.
[0087]
In the first embodiment, a resin material that does not transmit light is used as the partition wall 6, but a light-transmitting resin material may be used as the partition wall 6. In that case, a black mask may be provided by separately providing a light-shielding metal film or a resin material at a position corresponding to the space between the filter elements, for example, above the partition wall 6 or below the partition wall 6. Alternatively, the partition wall 6 may be formed using a light-transmitting resin material and the black mask may not be provided.
[0088]
In the first embodiment, R, G, and B are used as filter elements. For example, C (cyan), M (magenta), or Y (yellow) may be adopted. In that case, instead of R, G, and B filter element materials, filter element materials having colors of C, M, and Y may be used.
[0089]
In the first embodiment, the partition walls 6 are formed by photolithography. However, the partition walls 6 can also be formed by an inkjet method in the same manner as the color filter.
[0090]
(Second Embodiment)
FIG. 2 shows an ink or filter for each filter element forming region 7 in the color filter forming region 11 in the mother substrate 12 using the ink jet head 22 according to another embodiment of the color filter manufacturing method and manufacturing apparatus according to the present invention. The case where an element material is supplied by discharge is schematically shown.
[0091]
The schematic steps performed by this embodiment are the same as those shown in FIG. 6, and the ink jet apparatus used for ink ejection is mechanically the same as the apparatus shown in FIG. Further, the CPU 69 in FIG. 14 conceptually groups the plurality of nozzles 27 forming the nozzle row 28 into n, for example, four groups, and corresponds to the length L / n or L / 4 of each nozzle group. The determination of the sub-scanning amount δ is the same as in the case of FIG.
[0092]
The difference between the present embodiment and the previous embodiment shown in FIG. 1 is that the program software stored in the memory 71 in FIG. 14 is modified. This is a modification of the sub-scanning control calculation.
[0093]
More specifically, in FIG. 2, the inkjet head 22 does not return to the initial position after the end of the scanning movement in the main scanning direction x, but immediately after the end of the main scanning movement in one direction. After moving to a position (b) by moving by a movement amount δ corresponding to one nozzle group, the sub-scan from the initial position (a) is performed by scanning in the direction opposite to the main scanning direction × 1 direction. Control is performed so as to return to the position (b ′) shifted by the distance δ in the direction. Ink is selectively discharged from the plurality of nozzles 27 in both periods during the main scanning from the position (a) to the position (b) and during the main scanning movement from the position (b) to the position (b ′). Of course, it is discharged.
[0094]
In other words, in the present embodiment, the main scanning and the sub scanning of the inkjet head 22 are alternately performed continuously without interposing the return operation, thereby omitting the time spent for the return operation. Work time can be shortened.
[0095]
(Third embodiment)
FIG. 3 shows an ink or filter for each filter element formation region 7 in the color filter formation region 11 in the mother substrate 12 using the inkjet head 22 according to another embodiment of the color filter manufacturing method and manufacturing apparatus according to the present invention. The case where an element material is supplied by discharge is schematically shown.
[0096]
The schematic steps performed by this embodiment are the same as those shown in FIG. 6, and the ink jet apparatus used for ink ejection is mechanically the same as the apparatus shown in FIG. In addition, the CPU 69 in FIG. 14 conceptually groups the plurality of nozzles 27 forming the nozzle row 28 into n, for example, four, as in the case of FIG.
[0097]
This embodiment differs from the previous embodiment shown in FIG. 1 in that when the inkjet head 22 is set at the drawing start position of the mother substrate 12 in step S12 of FIG. ) As shown in the position, the extending direction of the nozzle row 28 is parallel to the sub-scanning direction Y. Such an arrangement structure of nozzles is an advantageous structure when the pitch between nozzles related to the inkjet head 22 is equal to the pitch between elements related to the mother substrate 12.
[0098]
Also in this embodiment, the inkjet head 22 moves from the initial position (a) to the terminal position (k) in the scanning movement in the main scanning direction x, the return movement to the initial position, and the movement amount δ in the sub-scanning direction Y. The ink, that is, the filter element material is selectively ejected from the plurality of nozzles 27 during the main scanning movement period while repeating the sub-scanning movement in this manner, and thereby the filter elements in the color filter forming region 11 in the mother substrate 12 A filter element material is deposited in the forming area 7.
[0099]
In this embodiment, since the nozzle row 28 is set parallel to the sub-scanning direction Y, the sub-scan movement amount δ is set equal to the length L / n of the divided nozzle groups, that is, L / 4. Is done.
[0100]
(Fourth embodiment)
FIG. 4 shows an ink or filter for each filter element forming region 7 in the color filter forming region 11 in the mother substrate 12 using the inkjet head 22 according to another embodiment of the color filter manufacturing method and manufacturing apparatus according to the present invention. The case where an element material is supplied by discharge is schematically shown.
[0101]
The schematic steps performed by this embodiment are the same as those shown in FIG. 6, and the ink jet apparatus used for ink ejection is mechanically the same as the apparatus shown in FIG. Further, the CPU 69 in FIG. 14 conceptually groups the plurality of nozzles 27 forming the nozzle row 28 into n groups, for example, four groups, as in FIG.
[0102]
This embodiment differs from the previous embodiment shown in FIG. 1 in that when the ink jet head 22 is set at the drawing start position of the mother substrate 12 in step S12 of FIG. 15, the ink jet head 22 is shown in FIG. As shown in FIG. 2, the direction in which the nozzle row 28 extends is parallel to the sub-scanning direction Y, and the main scanning and sub-scanning of the inkjet head 22 are continuous without interposing the return operation, as in the embodiment of FIG. The points are alternately performed.
[0103]
In the present embodiment shown in FIG. 4 and the previous embodiment shown in FIG. 3, the main scanning direction x is a direction perpendicular to the nozzle row 28, so that the nozzle row 28 is main-scanned as shown in FIG. By providing two rows along the direction x, the filter element material can be supplied to one filter element region 7 by the two nozzles 27 mounted on the same main scanning line.
[0104]
(Fifth embodiment)
FIG. 16 shows an inkjet head 22A used in still another embodiment of the color filter manufacturing method and manufacturing apparatus according to the present invention. The ink jet head 22A differs from the ink jet head 22 shown in FIG. 10 in that there are three nozzle rows 28R for discharging R color ink, nozzle row 28G for discharging G color ink, and nozzle row 28B for discharging B color ink. Various types of nozzle rows are formed on one inkjet head 22A, and each of these three types is provided with the ink ejection system shown in FIGS. 12A and 12B, and ink corresponding to the R color nozzle row 28R. The R ink supply device 37R is connected to the discharge system, the G ink supply device 37G is connected to the ink discharge system corresponding to the G color nozzle row 28G, and the B ink is supplied to the ink discharge system corresponding to the B color nozzle row 28B. That is, the ink supply device 37B is connected.
[0105]
The schematic steps performed by this embodiment are the same as those shown in FIG. 6, and the ink jet apparatus used for ink ejection is basically the same as the apparatus shown in FIG. Further, the CPU 69 in FIG. 14 conceptually groups the plurality of nozzles 27 forming the nozzle rows 28R, 28G, and 28B into n groups, for example, four groups, and moves the inkjet head 22A by sub-scanning for each nozzle group. The sub-scanning movement by the amount δ is the same as in the case of FIG.
[0106]
In the embodiment shown in FIG. 1, since only one type of nozzle row 28 is provided in the inkjet head 22, when forming a color filter with R, G, B3 colors, the inkjet head shown in FIG. 22 had to be prepared for each of the three colors R, G and B. On the other hand, when the inkjet head 22A having the structure shown in FIG. 16 is used, the three colors R, G, and B are simultaneously applied to the mother substrate 12 by one main scanning in the main scanning direction x of the inkjet head 22A. Since only one inkjet head 22 can be prepared, it is sufficient. In addition, by matching the nozzle row spacing of each color with the pitch of the filter element region of the mother substrate, it is possible to simultaneously strike three colors of RGB.
[0107]
(Sixth embodiment)
FIG. 17 shows an embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention. FIG. 18 shows an embodiment of a liquid crystal device manufactured by the manufacturing method. FIG. 19 shows a cross-sectional structure of the liquid crystal device according to the line I × −I × in FIG. Prior to the description of the manufacturing method and the manufacturing apparatus of the liquid crystal device, first, an example of the liquid crystal device manufactured by the manufacturing method will be described. Note that the liquid crystal device of this embodiment is a transflective liquid crystal device that performs full-color display using a simple matrix method.
[0108]
In FIG. 18, a liquid crystal device 101 is mounted with liquid crystal driving ICs 103a and 103b as semiconductor chips on a liquid crystal panel 102, an FPC (Flexible Printed Circuit) 104 as a wiring connecting element is connected to the liquid crystal panel 102, and a liquid crystal
It is formed by providing a lighting device 106 as a backlight on the back side of the panel 102.
[0109]
The liquid crystal panel 102 is formed by bonding the first substrate 107 a and the second substrate 107 b with the sealant 108. The sealing material 108 is formed, for example, by attaching an epoxy resin to the inner surface of the first substrate 107a or the second substrate 107b in an annular manner by screen printing or the like. Further, as shown in FIG. 19, a conductive material 109 formed in a spherical shape or a cylindrical shape by a conductive material is included in the seal material 108 in a dispersed state.
[0110]
In FIG. 19, the first substrate 107a has a plate-like base material 111a formed of transparent glass, transparent plastic, or the like. A reflective film 112 is formed on the inner surface (upper surface in FIG. 19) of the substrate 111a, an insulating film 113 is laminated thereon, and the first electrode 114a is striped when viewed from the direction of arrow D (see FIG. 19). 18), and an alignment film 116a is further formed thereon. Further, a polarizing plate 117a is attached to the outer surface (the lower surface in FIG. 19) of the substrate 111a by sticking or the like.
[0111]
In FIG. 18, in order to show the arrangement of the first electrodes 114a in an easy-to-understand manner, the stripe interval is drawn so as to be much wider than the actual, and thus the number of the first electrodes 114a is shown to be small. A larger number of first electrodes 114a are formed on the substrate 111a.
[0112]
In FIG. 19, the second substrate 107b has a plate-like base material 111b formed of transparent glass, transparent plastic, or the like. A color filter 118 is formed on the inner surface (the lower surface in FIG. 19) of the base material 111b, and the second electrode 114b is formed in a stripe shape in the direction perpendicular to the first electrode 114a when viewed from the direction of the arrow D. (See FIG. 18), and an alignment film 116b is further formed thereon. A polarizing plate 117b is attached to the outer surface (upper surface in FIG. 19) of the substrate 111b by sticking or the like.
[0113]
In FIG. 18, in order to show the arrangement of the second electrodes 114b in an easy-to-understand manner, as in the case of the first electrodes 114a, their stripe intervals are drawn much wider than actual, and accordingly, the number of the second electrodes 114b However, in reality, a larger number of second electrodes 114b are formed on the substrate 111b.
[0114]
In FIG. 19, liquid crystal, for example, STN (Super Twisted Nematic) liquid crystal L is sealed in a gap surrounded by the first substrate 107a, the second substrate 107b, and the sealing material 108, so-called cell gap. A large number of minute and spherical spacers 119 are dispersed on the inner surface of the first substrate 107a or the second substrate 107b, and the presence of these spacers 119 in the cell gap keeps the thickness of the cell gap uniform. .
[0115]
The first electrode 114a and the second electrode 114b are arranged in an orthogonal relationship with each other, and their intersections are arranged in a dot matrix as seen from the direction of arrow D in FIG. Each intersection in the dot matrix form one pixel pixel. The color filter 118 arranges each color element of R (red), G (green), and B (blue) in a predetermined pattern when viewed from the direction of the arrow D, for example, a pattern such as a stripe arrangement, a delta arrangement, or a mosaic arrangement. Is formed by. The one picture element pixel corresponds to each one of R, G, and B, and the three color picture element pixels of R, G, and B constitute one unit to constitute one pixel.
[0116]
By selectively emitting light from a plurality of picture element pixels arranged in a dot matrix, and thus pixels, an image such as letters and numbers is displayed outside the second substrate 107b of the liquid crystal panel 102. The area where the image is displayed in this way is the effective pixel area, and the planar rectangular area indicated by the arrow V in FIGS. 18 and 19 is the effective display area.
[0117]
In FIG. 19, the reflective film 112 is formed of a light reflective material such as an APC alloy or Al (aluminum), and has an opening 121 at a position corresponding to each pixel pixel that is an intersection of the first electrode 114a and the second electrode 114b. Is formed. As a result, the openings 121 are arranged in the same dot matrix as the pixel pixels when viewed from the direction of arrow D in FIG.
[0118]
The first electrode 114a and the second electrode 114b are made of, for example, ITO which is a transparent conductive material. The alignment films 116a and 116b are formed by depositing a polyimide resin in a uniform thickness. When these alignment films 116a and 116b are subjected to a rubbing process, the initial alignment of liquid crystal molecules on the surfaces of the first substrate 107a and the second substrate 107b is determined.
[0119]
In FIG. 18, the first substrate 107a is formed to have a larger area than the second substrate 107b, and when these substrates are bonded together with the sealant 108, the first substrate 107a projects to the outside of the second substrate 107b. A substrate overhang 107c is provided. The substrate overhanging portion 107c is connected to the second electrode 114b on the second substrate 107b via a lead wire 114c extending from the first electrode 114a and a conductive material 109 (see FIG. 19) existing inside the sealing material 108. There are various wirings such as a lead wiring 114d that conducts to the liquid crystal, an input bump of the liquid crystal driving IC 103a, that is, a metal wiring 114e connected to the input terminal, and a metal wiring 114f connected to the input bump of the liquid crystal driving IC 103b. It is formed with an appropriate pattern.
[0120]
In the present embodiment, the lead-out wiring 114c extending from the first electrode 114a and the lead-out wiring 114d conducting to the second electrode 114b are formed of ITO which is the same material as those electrodes, that is, a conductive oxide. Further, the metal wirings 114e and 114f, which are wirings on the input side of the liquid crystal driving ICs 103a and 103b, are formed of a metal material having a low electric resistance value, for example, an APC alloy. The APC alloy is an alloy mainly containing Ag and accompanyingly containing Pd and Cu, for example, an alloy composed of Ag 98%, Pd 1%, Cu 1%.
[0121]
The liquid crystal driving IC 103a and the liquid crystal driving IC 103b are mounted by being adhered to the surface of the substrate extension portion 107c by an ACF (Anisotropic Conductive Film) 122. That is, in the present embodiment, a so-called COG (Chip On Glass) liquid crystal panel having a structure in which a semiconductor chip is directly mounted on a substrate is formed. In this COG mounting structure, the input side bumps of the liquid crystal driving ICs 103a and 103b and the metal wirings 114e and 114f are conductively connected by the conductive particles contained in the ACF 122, and the output side of the liquid crystal driving ICs 103a and 103b. The bumps and the lead wires 114c and 114d are conductively connected.
[0122]
In FIG. 18, the FPC 104 includes a flexible resin film 123, a circuit 126 including a chip component 124, and a metal wiring terminal 127. The circuit 126 is directly mounted on the surface of the resin film 123 by soldering or other conductive connection method. The metal wiring terminal 127 is formed of an APC alloy, Cr, Cu or other conductive material. The portion of the FPC 104 where the metal wiring terminal 127 is formed is connected to the portion of the first substrate 107a where the metal wiring 114e and the metal wiring 114f are formed by the ACF 122. Then, the metal wires 114e and 114f on the substrate side and the metal wire terminal 127 on the FPC side are electrically connected to each other by the action of the conductive particles contained in the ACF 122.
[0123]
An external connection terminal 131 is formed at the opposite end of the FPC 104, and the external connection terminal 131 is connected to an external circuit (not shown). Then, the liquid crystal driving ICs 103a and 103b are driven based on a signal transmitted from the external circuit, a scanning signal is supplied to one of the first electrode 114a and the second electrode 114b, and a data signal is supplied to the other. As a result, the voltage of the pixel pixels in the dot matrix array arranged in the effective display area V is controlled for each pixel, and as a result, the orientation of the liquid crystal L is controlled for each pixel pixel.
[0124]
In FIG. 18, the illuminating device 106 functioning as a so-called backlight includes, as shown in FIG. 19, a light guide 132 made of acrylic resin or the like and a diffusion provided on the light emitting surface 132b of the light guide 132. A sheet 133, a reflection sheet 134 provided on the opposite surface of the light guide 132 to the light emitting surface 132b, and an LED (Light Emitting Diode) 136 as a light source.
[0125]
The LED 136 is supported by an LED substrate 137, and the LED substrate 137 is attached to a support portion (not shown) formed integrally with the light guide 132, for example. When the LED substrate 137 is mounted at a predetermined position of the support portion, the LED 136 is placed at a position facing the light capturing surface 132a which is the side end surface of the light guide 132. Reference numeral 138 indicates a buffer material for buffering an impact applied to the liquid crystal panel 102.
[0126]
When the LED 136 emits light, the light is taken in from the light taking-in surface 132a, guided to the inside of the light guide 132, and diffused from the light emitting surface 132b while propagating while reflecting on the reflection sheet 134 or the wall surface of the light guide 132. The light is emitted through the sheet 133 as planar light.
[0127]
Since the liquid crystal device 101 of the present embodiment is configured as described above, when external light such as sunlight or room light is sufficiently bright, in FIG. 19, external light is transmitted from the second substrate 107b side to the liquid crystal panel. The light is taken into the inside of the liquid crystal 102, the light passes through the liquid crystal L, is reflected by the reflective film 112, and is supplied to the liquid crystal L again. The orientation of the liquid crystal L is controlled for each of the R, G, and B pixel pixels by the electrodes 114a and 114b sandwiching the liquid crystal L. Therefore, the light supplied to the liquid crystal L is modulated for each pixel pixel. Images such as letters and numbers are displayed outside the liquid crystal panel 102 by the light that passes through the polarizing plate 117b and the light that cannot pass. Thereby, a reflective display is performed.
[0128]
On the other hand, when a sufficient amount of external light cannot be obtained, the LED 136 emits light, and planar light is emitted from the light emitting surface 132 b of the light guide 132, and the light passes through the opening 121 formed in the reflective film 112. Supplied to the liquid crystal L. At this time, similarly to the reflective display, the supplied light is modulated for each pixel by the liquid crystal L whose orientation is controlled, and an image is displayed to the outside. Thereby, a transmissive display is performed.
[0129]
The liquid crystal device 101 having the above configuration is manufactured by, for example, a manufacturing method shown in FIG. In this manufacturing method, a series of steps P1 to P6 is a step for forming the first substrate 107a, and a series of steps P11 to P14 is a step for forming the second substrate 107b. The first substrate forming step and the second substrate forming step are usually performed independently.
[0130]
First, the first substrate forming process will be described. A plurality of reflective films 112 of the liquid crystal panel 102 are formed on the surface of a large-area mother material substrate formed of translucent glass, translucent plastic, or the like by photolithography. Then, an insulating film 113 is formed thereon using a known film formation method (step P1), and then the first electrode 114a and the wirings 114c and 114d are formed using a photolithography method or the like. , 114e, 114f are formed (process P2).
[0131]
Next, an alignment film 116a is formed on the first electrode 114a by coating, printing, or the like (process P3), and the alignment film 116a is rubbed to determine the initial alignment of the liquid crystal (process P4). ). Next, the sealing material 108 is formed in an annular shape by, for example, screen printing (process P5), and spherical spacers 119 are further dispersed thereon (process P6). As a result, a large-area mother first substrate having a plurality of panel patterns on the first substrate 107a of the liquid crystal panel 102 is formed.
[0132]
Separately from the first substrate forming process described above, the second substrate forming process (process P11 to process P14 in FIG. 17) is performed. First, a large-area mother material substrate formed of translucent glass, translucent plastic, or the like is prepared, and a plurality of color filters 118 for the liquid crystal panel 102 are formed on the surface (process P11). The color filter forming process is performed using the manufacturing method shown in FIG. 6, and the R, G, and B color filter elements in the manufacturing method are formed using the inkjet device 16 shown in FIG. This is executed according to the inkjet head control method shown in FIGS. Since the manufacturing method of these color filters and the control method of the ink jet head are the same as those already described, their description is omitted.
[0133]
When the color filter 1, that is, the color filter 118 is formed on the mother substrate 12, that is, the mother raw material base, as shown in FIG. 6D, the second electrode 114b is then formed by photolithography (process P12). Further, an alignment film 116b is formed by coating, printing, or the like (process P13), and the alignment film 116b is further rubbed to determine the initial alignment of the liquid crystal (process P14). As described above, a large mother second substrate having a plurality of panel patterns on the second substrate 107b of the liquid crystal panel 102 is formed.
[0134]
After the mother first substrate and the mother second substrate having a large area are formed as described above, the mother substrates are aligned with each other with the sealing material 108 interposed therebetween, that is, aligned, and then bonded to each other (process P21). As a result, an empty panel structure including a plurality of liquid crystal panel portions and not yet filled with liquid crystal is formed.
[0135]
Next, a scribe groove, that is, a cutting groove is formed at a predetermined position of the completed empty panel structure, and the panel structure is broken, that is, cut, with reference to the scribe groove (step P22). As a result, a so-called strip-shaped empty panel structure in which the liquid crystal injection opening 110 (see FIG. 18) of the sealing material 108 of each liquid crystal panel portion is exposed to the outside is formed.
[0136]
Thereafter, liquid crystal L is injected into each liquid crystal panel portion through the exposed liquid crystal injection opening 110, and each liquid crystal injection port 110 is sealed with a resin or the like (process P23). In the normal liquid crystal injection process, for example, liquid crystal is stored in a storage container, the storage container storing the liquid crystal and a strip-shaped empty panel are put into a chamber or the like, and the chamber or the like is evacuated and then the chamber This is performed by immersing a strip-shaped empty panel in the liquid crystal inside the chamber, and then opening the chamber to atmospheric pressure. At this time, since the interior of the empty panel is in a vacuum state, the liquid crystal pressurized by the atmospheric pressure is introduced into the panel through the liquid crystal injection opening. Since the liquid crystal adheres around the liquid crystal panel structure after the liquid crystal is injected, the strip-shaped panel after the liquid crystal injection process is subjected to a cleaning process in step 24.
[0137]
Thereafter, a scribe groove is formed again at a predetermined position on the strip-shaped mother panel after the liquid crystal injection and cleaning is completed, and the strip-shaped panel is cut with reference to the scribe groove, thereby a plurality of liquid crystals. Panels are cut out individually (step P25). As shown in FIG. 18, the liquid crystal driving ICs 103 a and 103 b are mounted on the individual liquid crystal panels 102 manufactured in this way, the lighting device 106 is mounted as a backlight, and the FPC 104 is connected to achieve the target. The liquid crystal device 101 is completed (process P26).
[0138]
The above-described method and apparatus for manufacturing a liquid crystal device have the following characteristics particularly at the stage of manufacturing a color filter. That is, the color filter 1 shown in FIG. 5A, that is, the individual filter elements 3 in the color filter 118 shown in FIG. 19, are not formed by one main scan × of the inkjet head 22 (see FIG. 1). Each of the filter elements 3 is formed to have a predetermined film thickness by receiving ink ejection n times, for example, four times, by a plurality of nozzles 27 belonging to different nozzle groups. For this reason, even if there is a variation in the amount of ink ejected between the plurality of nozzles 27, it is possible to prevent the variation in film thickness between the plurality of filter elements 3, and therefore, the light transmission characteristics of the color filter can be reduced. Can be made uniform. This means that a clear color display with no color unevenness can be obtained in the liquid crystal device 101 of FIG.
[0139]
Further, in the manufacturing method and manufacturing apparatus of the liquid crystal device of the present embodiment, the filter element 3 is formed by ink ejection using the ink jet head 22 by using the ink jet device 16 shown in FIG. There is no need to go through complicated processes such as the above, and no material is wasted.
[0140]
(Seventh embodiment)
FIG. 20 shows an embodiment of a method for manufacturing an EL device according to the present invention. FIG. 21 shows the main steps of the manufacturing method and the main cross-sectional structure of the EL device finally obtained. As shown in FIG. 21D, the EL device 201 forms pixel electrodes 202 on a transparent substrate 204, and banks 205 are formed between the pixel electrodes 202 in a lattice shape when viewed from the direction of the arrow G. A hole injection layer 220 is formed in the lattice-shaped recess, and the R-color light-emitting layer 203R, the G-color light-emitting layer 203G, and the B-color light-emitting layer 203B are arranged in a predetermined arrangement such as a stripe arrangement as viewed from the arrow G direction. It is formed by forming in the grid-like recesses and further forming the counter electrode 213 thereon.
[0141]
When the pixel electrode 202 is driven by a two-terminal active element such as a TFD (Thin Film Diode) element, the counter electrode 213 is formed in a stripe shape when viewed from the arrow G direction. When the pixel electrode 202 is driven by a three-terminal active element such as a TFT (Thin Film Transistor), the counter electrode 213 is formed as a single surface electrode.
[0142]
A region sandwiched between each pixel electrode 202 and each counter electrode 213 becomes one picture element pixel, and R, G, and B three-color picture element pixels form one unit to form one pixel. By controlling the current flowing through each picture element pixel, a desired one of the plurality of picture element pixels can be selectively emitted, whereby a desired full color image can be displayed in the direction of arrow H.
[0143]
The EL device 201 is manufactured by, for example, a manufacturing method shown in FIG. That is, as shown in step P51 and FIG. 21A, an active element such as a TFD element or a TFT element is formed on the surface of the transparent substrate 204, and a pixel electrode 202 is further formed. As a formation method, for example, a photolithography method, a vacuum deposition method, a sputtering method, a pyrosol method, or the like can be used. Pixel electrode materials include ITO (Indium Tin Oxide), tin oxide, and complex acid of indium oxide and zinc oxide.
A compound or the like can be used.
[0144]
Next, as shown in Step P52 and FIG. 21A, a partition wall, that is, a bank 205 was formed by using a well-known patterning method, for example, a photolithography method, and the space between the transparent electrodes 202 was filled with the bank 205. Thereby, it is possible to improve contrast, prevent color mixing of the light emitting material, and prevent light leakage from between the pixels. The material of the bank 205 is not particularly limited as long as it has durability against the solvent of the EL material, but can be treated with fluorine by fluorocarbon gas plasma treatment, for example, organic materials such as acrylic resin, epoxy resin, and photosensitive polyimide. Material is preferred.
[0145]
Next, immediately before applying the hole injection layer ink, the substrate 204 was subjected to continuous plasma treatment with oxygen gas and fluorocarbon gas plasma (process P53). Thereby, the polyimide surface is water-repellent, the ITO surface is hydrophilized, and the wettability on the substrate side for finely patterning ink jet droplets can be controlled. As an apparatus for generating plasma, an apparatus for generating plasma in a vacuum or an apparatus for generating plasma in the atmosphere can be used similarly.
[0146]
Next, as shown in Step P54 and FIG. 21A, the hole injection layer ink was ejected from the ink jet head 22 of the ink jet apparatus 16 of FIG. 8, and patterning coating was performed on each pixel electrode 202. As a specific control method of the ink jet head, the method shown in FIG. 1, FIG. 2, FIG. 3 or FIG. 4 was used. After the application, the solvent is removed under conditions of room temperature and 20 minutes in vacuum (1 torr) (step P55), and then heat treatment in the atmosphere at 20 ° C. (on a hot plate) for 10 minutes. An incompatible hole injection layer 220 was formed (process P56). The film thickness was 40 nm.
[0147]
Next, as shown in Step P57 and FIG. 21B, the ink for the R light emitting layer and the ink for the G light emitting layer were applied onto the hole injection layer 220 in each filter element region by using an ink jet method. Again, each light emitting layer ink was ejected from the inkjet head 22 of the inkjet device 16 of FIG. 8, and the control method of the inkjet head was in accordance with the method shown in FIG. 1, FIG. 2, FIG. According to the ink jet system, fine patterning can be performed easily and in a short time. Further, it is possible to change the film thickness by changing the solid content concentration and the ejection amount of the ink composition.
[0148]
After application of the light emitting layer ink, the solvent is removed under conditions of vacuum (1 torr), room temperature, 20 minutes, etc. (step P58), followed by conjugation by a heat treatment at 150 ° C. for 4 hours in a nitrogen atmosphere. The color light emitting layer 203R and the G color light emitting layer 203G were formed (process P59). The film thickness was 50 nm. The light-emitting layer conjugated by heat treatment is insoluble in the solvent.
[0149]
Note that, before forming the light emitting layer, the hole injection layer 220 may be subjected to continuous plasma treatment with oxygen gas and fluorocarbon gas plasma. As a result, a fluoride layer is formed on the hole injection layer 220 and the ionization potential is increased, whereby the hole injection efficiency is increased, and an organic EL device with high light emission efficiency can be provided.
[0150]
Next, as shown in Step P60 and FIG. 21C, the B-color light emitting layer 203B is overlaid on the R-color light-emitting layer 203R, the G-color light-emitting layer 203G, and the hole injection layer 220 in each pixel pixel. Formed. Accordingly, not only the three primary colors of R, G, and B can be formed, but also the steps of the R light emitting layer 203R and the G light emitting layer 203G and the bank 205 can be filled and flattened. Thereby, a short circuit between the upper and lower electrodes can be reliably prevented. By adjusting the film thickness of the B-color light emitting layer 203B, the B-color light-emitting layer 203B functions as an electron injecting and transporting layer in the stacked structure of the R-color light-emitting layer 203R and the G-color light-emitting layer 203G and emits light to the B color. do not do.
[0151]
As a method for forming the B-color light-emitting layer 203B as described above, for example, a general spin coating method can be adopted as a wet method, or a method for forming the R-color light-emitting layer 203R and the G-color light-emitting layer 203G. A similar ink jet method can also be employed.
[0152]
Then, as shown in process P61 and FIG.21 (d), the target EL apparatus 201 was manufactured by forming the counter electrode 213. FIG. When the counter electrode 213 is a surface electrode, for example, Mg, Ag, Al, Li or the like can be used as a material and can be formed using a film forming method such as a vapor deposition method or a sputtering method. In the case where the counter electrode 213 is a striped electrode, the formed electrode layer can be formed using a patterning method such as a photolithography method.
[0153]
According to the EL device manufacturing method and the manufacturing apparatus described above, the control method shown in FIG. 1, 2, 3, 4 or the like is adopted as the control method of the inkjet head. The hole injection layer 220 and the R, G, and B color light emitting layers 203R, 203G, and 203B in the pixel are not formed by one main scanning x of the inkjet head 22 (see FIG. 1), but one. The hole injection layer and / or each color light emitting layer in each pixel pixel is formed to have a predetermined film thickness by receiving ink ejection n times, for example, four times by a plurality of nozzles 27 belonging to different nozzle groups. . For this reason, even if there is a variation in the ink discharge amount between the plurality of nozzles 27, it is possible to prevent the variation in the film thickness between the plurality of pixel pixels, and therefore, the light emission distribution on the light emitting surface of the EL device. The characteristics can be made uniform in a plane. This means that a clear color display without color unevenness can be obtained in the EL device 201 of FIG.
[0154]
Further, in the EL device manufacturing method and manufacturing apparatus according to this embodiment, R, G, and B color pixel pixels are formed by ink discharge using the ink jet head 22 by using the ink jet device 16 shown in FIG. Further, it is not necessary to go through complicated steps as in the method using the photolithography method, and the material is not wasted.
[0155]
(Other embodiments)
The present invention has been described with reference to the preferred embodiments. However, the present invention is not limited to the embodiments, and various modifications can be made within the scope of the invention described in the claims.
[0156]
For example, in the color filter manufacturing apparatus shown in FIGS. 8 and 9, the inkjet head 22 is moved in the main scanning direction x to perform main scanning of the substrate 12, and the substrate 12 is moved by the sub-scanning driving device 21. Although the substrate 12 is sub-scanned by the head 22, on the contrary, the main scan can be executed by the movement of the substrate 12 and the sub-scan can be executed by the movement of the inkjet head 22.
[0157]
In the above-described embodiment, an ink jet head having a structure for ejecting ink using the bending deformation of the piezoelectric element is used. However, an ink jet head having any other structure may be used.
In the above embodiment, only the most general configuration in which the main scanning direction and the sub-scanning direction are orthogonal to each other is illustrated, but the relationship between the main scanning direction and the sub-scanning direction is not limited to the orthogonal relationship, and an arbitrary angle. If you cross at.
The material to be ejected can be variously selected according to the elements formed on the object such as the substrate. For example, in addition to the ink and EL light emitting material described above, a conductive material such as a silica glass precursor and a metal compound. Examples thereof include dielectric materials or semiconductor materials.
Moreover, although the said embodiment demonstrated as an example the manufacturing method and manufacturing apparatus of a color filter, the manufacturing method and manufacturing apparatus of a liquid crystal device, and the manufacturing method and manufacturing apparatus of an EL apparatus, this invention is limited to these. Without any problem, it can be used for all industrial techniques for performing fine patterning on an object.
For example, various semiconductor elements (thin film transistors, thin film diodes, etc.), various wiring patterns, formation of insulating films, and the like can be cited as examples of the range of use.
The material to be ejected from the head can be variously selected according to the elements to be formed on the object such as the substrate. For example, in addition to the ink and EL light emitting material described above, a silica glass precursor, a metal compound, etc. Examples thereof include a conductive material, a dielectric material, or a semiconductor material.
Moreover, in the said embodiment, although called the "inkjet head" for simplicity, the discharge material discharged from this inkjet head is not limited to an ink, For example, the above-mentioned EL luminescent material, a silica glass precursor, Needless to say, there are various conductive materials such as metal compounds, dielectric materials, and semiconductor materials. The liquid crystal device and the EL device manufactured by the manufacturing method of the above embodiment can be mounted on a display unit of an electronic device such as a mobile phone or a portable computer.
[0158]
【The invention's effect】
According to the color filter manufacturing method and the manufacturing apparatus of the present invention, the individual filter elements in the color filter are not formed by one scan of the inkjet head, but each one filter element is a different nozzle. Since a predetermined film thickness is formed by receiving ink discharge by overlapping a plurality of nozzles belonging to a group, even if there is a variation in the ink discharge amount between the plurality of nozzles, the film thickness between the plurality of filter elements Variation can be prevented, and therefore, the light transmission characteristics of the color filter can be made uniform in a plane.
[0159]
Further, since the present invention is a method using an ink jet head, there is no need to go through complicated steps as in a method using a photolithography method, and no material is wasted.
[0160]
Also, according to the method and apparatus for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, in the stage of manufacturing a color filter, the individual filter elements in the color filter are not formed by a single scan of the inkjet head. Each filter element is formed to have a predetermined film thickness by being subjected to ink discharge by being overlapped by a plurality of nozzles belonging to different nozzle groups, so that there is a variation in the ink discharge amount between the plurality of nozzles. However, it is possible to prevent the film thickness from being varied between the plurality of filter elements, and therefore, the light transmission characteristics of the color filter can be made uniform in a plane. As a result, a clear color image without color unevenness can be displayed.
[0161]
In addition, according to the EL device manufacturing method and apparatus according to the present invention, the R, G, and B light emitting layers in each pixel pixel are not formed by one main scan of the ink jet head. Each of the color light emitting layers is formed to have a predetermined film thickness by being subjected to ink ejection by being overlapped by a plurality of nozzles belonging to different nozzle groups. For this reason, even if there is a variation in the amount of ink discharged between a plurality of nozzles, it is possible to prevent a variation in film thickness between a plurality of pixel pixels, and hence the light emission distribution characteristics of the light emitting surface of the EL device. Can be made planar in a uniform manner, and as a result, a clear color display without color unevenness can be obtained.
[0162]
Further, in the EL device manufacturing method and manufacturing apparatus according to the present invention, R, G, and B color pixel elements are formed by ink ejection using an ink jet head, so that complicated steps such as a method using a photolithography method are performed. There is no need to go through, and no material is wasted.
[0163]
In addition, according to the control device for an ink jet head according to the present invention, each color pattern is not formed by one scan of the ink jet head, but each one color pattern has a plurality of nozzle groups belonging to different nozzle groups. Since a predetermined film thickness is formed by receiving ink discharge by overlapping nozzles, even if there is a variation in the amount of ink discharge between a plurality of nozzles, the film thickness varies among a plurality of color patterns. Therefore, the optical characteristics of the color pattern can be made uniform in the plane of the optical member.
[0164]
Thereby, R, G, B each color filter element as a color pattern in the color filter as an optical member can be formed with a uniform film thickness in a plane. In addition, R, G, B light emitting layers and hole injection layers as color patterns in an EL element as an optical member can be formed with a uniform thickness in a plane.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view schematically showing main steps of an embodiment of a color filter manufacturing method according to the present invention.
FIG. 2 is a plan view schematically showing main steps of another embodiment of the color filter manufacturing method according to the present invention.
FIG. 3 is a plan view schematically showing main steps of still another embodiment of the color filter manufacturing method according to the present invention.
FIG. 4 is a plan view schematically showing main steps of still another embodiment of the color filter manufacturing method according to the present invention.
FIG. 5 is a plan view showing an embodiment of a color filter according to the present invention and an embodiment of a mother substrate serving as the basis thereof.
6 is a diagram schematically showing a manufacturing process of a color filter using a cross-sectional portion according to line VI-VI in FIG.
FIG. 7 is a diagram illustrating an arrangement example of R, G, and B three-color pixel pixels in a color filter.
FIG. 8 shows an embodiment of an ink jet apparatus which is a main part of each manufacturing apparatus such as a color filter manufacturing apparatus according to the present invention, a liquid crystal device manufacturing apparatus according to the present invention, and an EL apparatus manufacturing apparatus according to the present invention. It is a perspective view.
9 is an enlarged perspective view showing a main part of the apparatus shown in FIG.
10 is an enlarged perspective view showing an ink jet head which is a main part of the apparatus shown in FIG. 9;
FIG. 11 is a perspective view showing a modified example of the inkjet head.
12A and 12B are diagrams illustrating an internal structure of an inkjet head, in which FIG. 12A is a partially broken perspective view, and FIG. 12B is a cross-sectional structure taken along line JJ of FIG.
FIG. 13 is a plan view showing another modified example of the inkjet head.
14 is a block diagram showing an electric control system used in the ink jet head device of FIG. 8. FIG.
15 is a flowchart showing a flow of control executed by the control system of FIG.
FIG. 16 is a perspective view showing still another modified example of the ink jet head.
17 is a process chart showing one embodiment of a method for producing a liquid crystal device according to the present invention. FIG.
FIG. 18 is a perspective view showing an example of a liquid crystal device manufactured by the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention in an exploded state.
19 is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure of the liquid crystal device according to the line I × -I × in FIG.
FIG. 20 is a process diagram showing one embodiment of a method for manufacturing an EL device according to the present invention.
21 is a cross-sectional view of an EL device corresponding to the process drawing shown in FIG. 20. FIG.
FIG. 22 is a diagram illustrating an example of a conventional color filter manufacturing method.
FIG. 23 is a diagram for explaining the characteristics of a conventional color filter.
[Explanation of symbols]
1 Color filter
2 Substrate
3 Filter elements
4 Protective film
6 Bulkhead
7 Filter element formation area
11 Color filter formation area
12 Mother board
13 Filter element material
16 Inkjet device
17 Head position control device
18 Substrate position control device
19 Main scanning drive
21 Sub-scanning drive device
22 Inkjet head
26 head unit
27 nozzles
28 nozzle rows
39 Ink pressurizer
41 Piezoelectric element
49 tables
76 Capping device
77 Cleaning device
78 Electronic Balance
81 head camera
82 Board camera
101 Liquid crystal device
102 LCD panel
107a, 107b substrate
111a, 111b base material
114a, 114b electrode
118 Color filter
201 EL device
202 Pixel electrode
203R, 203G, 203B Light emitting layer
204 substrates
205 banks
213 Counter electrode
220 hole injection layer
L liquid crystal
M Filter element material
× Main scan direction
Y Sub-scanning direction

Claims (4)

基板上に複数のフィルタエレメントを配列して成るカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法であって、
複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該ノズル列がｎ個のグループに分割されてなるインクジェットヘッド、及び前記基板のうちの一方を他方に対して主走査方向に移動させつつ、前記複数のノズルから選択的にフィルタ材料を吐出して前記基板上に前記フィルタエレメントを形成する工程Ａと、
前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副走査させる工程Ｂと、を具備しており、
各前記フィルタエレメントの形成は、ｎ回の前記工程Ａによりなされ、
各前記フィルタエレメントの形成において、各回の前記工程Ａで吐出を行う前記ノズルは、互いに異なる前記グループに属していることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。A color filter manufacturing method for manufacturing a color filter comprising a plurality of filter elements arranged on a substrate,
An ink-jet head having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged in a row, the nozzle row being divided into n groups, and one of the substrates is moved in the main scanning direction with respect to the other Process A selectively forming a filter element on the substrate by discharging a filter material from the plurality of nozzles;
And sub-scanning one of the inkjet head and the substrate with respect to the other, and
Each of the filter elements is formed by n times of the step A,
In the formation of each filter element, the nozzles that discharge in each step A belong to the different groups from each other. 前記ノズル列の長さをＬ、前記ノズル列が前記副走査方向と成す角度をθとするとき、前記工程Ｂに係る副走査移動量δについて、
δ≒（Ｌ／ｎ）ｃｏｓθ
であることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。When the length of the nozzle row is L and the angle formed by the nozzle row and the sub-scanning direction is θ, the sub-scanning movement amount δ according to the step B
δ ≒ (L / n) cosθ
The method for producing a color filter according to claim 1, wherein: 前記ノズル列の両端部分の数個のノズルからはインクを吐出させない場合において、前記ノズル列の長さをＬ、前記ノズル列が前記副走査方向と成す角度をθとするとき、前記工程Ｂに係る副走査移動量δについて、
δ≒（Ｌ／ｎ）ｃｏｓθ
であることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。In the case where ink is not ejected from several nozzles at both ends of the nozzle row, when the length of the nozzle row is L and the angle formed by the nozzle row with the sub-scanning direction is θ, Regarding the sub-scanning movement amount δ,
δ ≒ (L / n) cosθ
The method for producing a color filter according to claim 1, wherein: それぞれがＥＬ発光層を含む複数の絵素ピクセルを基板上に配列して成るＥＬ装置の製造方法において、
複数のノズルを列状に配列して成るノズル列を有し、該ノズル列がｎ個のグループに分割されてなるインクジェットヘッド、及び前記基板のうちの一方を他方に対して主走査方向に移動させつつ、前記複数のノズルから選択的にＥＬ発光材料を吐出して前記基板上に前記ＥＬ発光層を形成する工程Ａと、
前記インクジェットヘッド及び前記基板のうちの一方を他方に対して副走査させる工程Ｂと、を具備しており、
各前記絵素ピクセルの形成は、ｎ回の前記工程Ａによりなされ、
各前記絵素ピクセルの形成において、各回の前記工程Ａで吐出を行う前記ノズルは、互いに異なる前記グループに属していることを特徴とするＥＬ装置の製造方法。In a method of manufacturing an EL device in which a plurality of pixel pixels each including an EL light emitting layer are arranged on a substrate,
An ink jet head having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged in a row, the nozzle row being divided into n groups, and one of the substrates is moved in the main scanning direction with respect to the other Forming an EL light emitting layer on the substrate by selectively discharging an EL light emitting material from the plurality of nozzles,
And sub-scanning one of the inkjet head and the substrate with respect to the other, and
Each pixel pixel is formed by n times of the process A,
The method of manufacturing an EL device according to claim 1, wherein in forming each pixel pixel, the nozzles that discharge in each step A belong to different groups.
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