JP3773445B2 - 含フッ素脂環族ジアミンおよびこれを用いた重合体 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は低誘電率、高透明性を併せ持つ電気的絶縁体または光学部品として有用な含フッ素脂環式ジアミンおよびこれを用いたポリアミド、ポリイミド等の重合体に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に芳香族構造を含有するジアミンはポリアミドやポリイミドまたはその前駆体のポリアミド酸の原料モノマーとして使用されている。
【0003】
特にポリイミドは、無水ピロメリット酸などの芳香族テトラカルボン酸二無水物とジアミノジフェニルエーテル等の芳香族ジアミンとをジメチルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒中で等モル反応させ容易に得られる高重合度のポリイミド前駆体を、膜などに成形し加熱硬化して得られ、優れた耐熱性、耐薬品性、耐放射線性、電気絶縁性、機械的性質などの性質を併せ持つことから、フレキシブルプリント配線回路用基板、テープオートメーションボンディング用基材、半導体素子の保護膜、集積回路の層間絶縁膜等、様々な電子デバイスに現在広く利用されている。
【0004】
最近では特にマイクロプロセッサーの演算速度の高速化やクロック信号の立ち上がり時間の短縮化が情報処理・通信分野で重要な課題になってきているが、そのためには絶縁膜として使用するポリイミド膜の誘電率を下げることが必要となる。
【0005】
ポリイミドの誘電率を下げるためにはポリイミド構造中にフッ素基を導入すること(Macromolecules, 24, 5001 (1991))や、芳香族単位を脂環族単位に置き換えてd電子を減少することにより、分子内共役および電荷移動錯体形成を妨害する方法(Macromolecules, 32, 4933 (1999))が提案されている。すなわち、例えば、ピロメリット酸二無水物と剛直なフッ素基含有ジアミンである2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンなどの含フッ素芳香族ジアミンから合成されるポリイミドでは低熱膨張特性は達成できるが、誘電率はそれほど低い値が得られない(Macromolecules, 26, 419 (1993))。また芳香族から脂環族に変換したポリイミドも、未だ十分に低い誘電率は報告されていない。
【0006】
一方、ポリイミドへ脂肪族基導入も低誘電率化に有効である。しかし、現実的にはフッ素と脂環族を同一モノマー単位中に包含させた含フッ素の脂環族ジアミンの合成が比較的困難であったことから、これまで実現されていないのが現状である。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は低誘電率、耐熱性、および充分な強靭さを併せ持つ電子部品の絶縁材または光学部品として有用な新規な含フッ素脂環式ジアミンおよびこれを用いたポリアミド、ポリアミド酸、ポリイミド等の重合体を提供するものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
以上の問題を鑑み、鋭意研究を積み重ねた結果、ジアミンとして分子中に少なくとも2つのシクロヘキシル環と2つのフルオロアルキル基を含有する特定の構造を有する含フッ素脂環式ジアミンを見いだし、さらにこれを重合性単量体に使用した含フッ素脂環式重合体を見いだし、本発明を完成するに至った。
【0009】
すなわち、本発明は、分子中に少なくとも2つのシクロヘキシル環と2つのフルオロアルキル基を含有する含フッ素脂環式ジアミンである。好適には、式(1)または式(2)に示されるジアミンが例示できる。
【0010】
【化9】
【0011】
【化10】
【0012】
また、本発明は、上記式(1)または式(2)で表される2つのシクロヘキサン環と2つのフルオロアルキル基を含有する含フッ素脂環式ジアミンを少なくとも単量体の一部に使用した含フッ素脂環式ポリアミド、含フッ素ポリアミド酸、さらには、該含フッ素ポリアミド酸を環化させた含フッ素ポリイミドである。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を詳細に説明する。
【0014】
本発明は、分子中に少なくとも2つのシクロヘキサン環と2つのフルオロアルキル基を含有する特定の構造を有する含フッ素脂環式ジアミン、および該ジアミンとジカルボン酸またはその誘導体を反応させたポリアミド、当該ジアミンとテトラカルボン酸二無水物成分を反応させるポリアミド酸およびそれを環化させたポリイミドに関するものである。
【0015】
本発明の含フッ素脂環式ジアミンは分子中に少なくとも2つのシクロヘキサン環と2つのフルオロアルキル基を含有しさえすれば特にその構造に制限はないが、下記の式(1)、式(2)で表される含フッ素ジアミンが好適に採用される。
【0016】
【化11】
【0017】
【化12】
【0018】
本発明の分子中に少なくとも2つのシクロヘキサン環と2つのフルオロアルキル基を含有するジアミンの合成方法および製造方法は特に限定されないが、一例として、分子中に少なくとも2つのベンゼン環と2つのフルオロアルキル基を含有するジアミンを水素による還元反応で得る方法が提案できる。しかしながら一般的には含フッ素芳香族ジアミンの芳香族環の還元は困難とされており、従来、実現されていなかった。そこで本発明者らは、反応条件を鋭意検討した結果、溶媒、触媒、温度、圧力などの条件を最適化することで還元反応を進行させることに成功した。
【0019】
本発明では、式(1)、式(2)などの分子中に2つのシクロヘキサン環と2つのフルオロアルキル基を含有した含フッ素ジアミンを用いる必要があるが、他の一般的に報告されているジアミンであれば特に限定なく併用することができる。併用可能な好ましいジアミンを具体的に例示するならば、3,5−ジアミノベンゾトリフルオリド、2,5−ジアミノベンゾトリフルオリド、3,3’−ビストリフルオロメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ビストリフルオロメチル−5,5’−ジアミノビフェニル、ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル、ビス(フッ素化アルキル)−4,4’−ジアミノジフェニル、ジクロロ−4,4’−ジアミノジフェニル、ジブロモ−4,4’−ジアミノジフェニル、ビス(フッ素化アルコキシ)−4,4’−ジアミノジフェニル、ジフェニル−4,4’−ジアミノジフェニル、4,4’−ビス(4−アミノテトラフルオロフェノキシ)テトラフルオロベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノテトラフルオロフェノキシ)オクタフルオロビフェニル、4,4’−ビナフチルアミン、o−、m−、p−フェニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、2,5−ジアミノトルエン、2,4−ジアミノキシレン、2,4−ジアミノジュレン、ジメチル−4,4’−ジアミノジフェニル、ジアルキル−4,4’−ジアミノジフェニル、ジメトキシ−4,4’−ジアミノジフェニル、ジエトキシ−4,4’−ジアミノジフェニル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルフォン、3,3’−ジアミノジフェニルスルフォン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)スルフォン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルフォン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−(3−アミノ−5−トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−アミノ−4−メチルフェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)オクタフルオロビフェニル、4,4’−ジアミノベンズアニリド等が例示でき、る。これらを2種以上併用することもできる。
【0020】
さらに本発明では分子内にヒドロキシル基を含有したジアミンも併用可能な単量体として使用できる。具体的なビス(アミノフェノール)化合物を例示するならば、2,4−ジアミノ−1,5−ベンゼンジオール、3,3’−ジヒドロキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジヒドロキシビフェニル、ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ケトン、ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)スルホン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)プロパン、ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)メタン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ジフルオロメタン等が挙げられる。また、前記したビス(アミノフェノール)化合物に対してトリアルキルシリル基を付与したビス(アミノフェノール)化合物のトリアルキルシリル化物も重合反応性を高める目的で使用できる。これらのビス(アミノフェノール)化合物は、マクロモレキュールズ(Macromolecules)第21巻2305頁(1988年)以下に示される様な3,3′−ビス(トリメチルシロキシ)−4,4′−ビス(トリメチルシリルアミノ)ビフェニルの製造法に準拠して調整することができる。例えば、4,4′−ジアミノ−3,3′−ジヒドロキシビフェニルのテトラヒドロフラン溶液中でトリエチルアミンの存在下、トリアルキルシリルクロライドを反応させて、3,3′−ビス(トリアルキルシロキシ)−4,4′−ビス(トリアルキルシリルアミノ)ビフェニルを得ることができる。
【0021】
本発明で得られる重合体は、前述した含フッ素ジアミンを構成単位に使用したすべての重合体であり、その構造には限定がない。すなわち前述したジアミン化合物のアミンに対して反応しうる官能基を保有した単量体が重合の相手成分として使用でき、その相手の種類によって製造される重合体の種類が異なってくる。例えばジカルボン酸化合物を選択した場合、含フッ素脂環式ポリアミドが製造できる。またテトラカルボン酸の酸無水物を選択した場合、含フッ素脂環式ポリアミド酸およびポリイミドが製造できる。さらには相手成分を組み合わせることで、ポリアミドイミド、ポリエーテルアミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルアミド、ポリエステルイミド、ポリウレアなどのアミド結合、イミド結合、ウレア結合が含まれる重合体が製造できる。またその重合体の一次構造としては、線状構造であっても、また分子中に分岐構造があっても限定なく使用できる。さらには高度に分岐した高分子、例えばデンドリマーやハイパーブランチと呼ばれる構造も採用することが可能である。
【0022】
本発明で使用できる重合体の例として、ポリアミド、ポリアミド酸およびポリイミドの製造例を説明する。
【0023】
ポリアミドの製造方法は公知の方法は特に限定することなく使用できる。すなわち一例を示すならば、前述したジアミンに対して、ジカルボン酸、またはそのアミド形成性誘導体を含む酸成分であるジカルボン酸のジクロライド、ジブロマイド等の酸ハロゲン化物、該ジカルボン酸のジメチルエステル、ジエチルエステル等のジアルキルエステルなどを反応させることで、例えば、一般式(3)または(4)に示す重合体が製造できる。この場合、ポリアミドの重合にしばしば添加される高分子溶解促進剤即ちリチウムブロマイドやリチウムクロライドの如き金属塩類や、硫酸などの脱水剤を使用することも可能である。すなわち、一般式(3)の繰り返し単位を含有した含フッ素脂環式ポリアミドが製造される。
【0024】
【化13】
【0025】
【化14】
【0026】
(式中、Rは直鎖、分岐、脂環、芳香環、ヘテロ環から選ばれた一種以上の2価の基であり、部分的にフッ素、酸素、窒素を含有しても良い)。
【0027】
本発明で使用できるジカルボン酸化合物としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、3,3’−ジカルボキシルジフェニルエーテル、3,4’−ジカルボキシルジフェニルエーテル、4,4’−ジカルボキシルジフェニルエーテル、3,3’−ジカルボキシルジフェニルメタン、3,4’−ジカルボキシルジフェニルメタン、4,4’−ジカルボキシルジフェニルメタン、3,3’−ジカルボキシルジフェニルジフルオロメタン、3,4’−ジカルボキシルジフェニルジフルオロメタン、4,4’−ジカルボキシルジフェニルジフルオロメタン、3,3’−ジカルボキシルジフェニルスルホン、3,4’−ジカルボキシルジフェニルスルホン、4,4’−ジカルボキシルジフェニルスルホン、3,3’−ジカルボキシルジフェニルスルフィド、3,4’−ジカルボキシルジフェニルスルフィド、4,4’−ジカルボキシルジフェニルスルフィド、3,3’−ジカルボキシルジフェニルケトン、3,4’−ジカルボキシルジフェニルケトン、4,4’−ジカルボキシルジフェニルケトン、2,2−ビス(3−カルボキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,4’−ジカルボキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−カルボキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−カルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3,4’−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−カルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2、2’−ビス(トリフルオロメチル)−4, 4’−ビフェニルジカルボン酸、1,3−ビス(3−カルボキシフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−カルボキシフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−カルボキシフェノキシ)ベンゼン、3,3’−(1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン))ビス安息香酸、3,4’−(1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン))ビス安息香酸、4,4’−(1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン))ビス安息香酸、2,2−ビス(4−(3−カルボキシフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−カルボキシフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(3−カルボキシフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−(4−カルボキシフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−(3−カルボキシフェノキシ)フェニル)スルフィド、ビス(4−(4−カルボキシフェノキシ)フェニル)スルフィド、ビス(4−(3−カルボキシフェノキシ)フェニル)スルホン、ビス(4−(4−カルボキシフェノキシ)フェニル)スルホン、5−(パーフルオロノネニルオキシ)イソフタル酸、4−(パーフルオロノネニルオキシ)フタル酸、2−(パーフルオロノネニルオキシ)テレフタル酸、4−メトキシ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)イソフタル酸などのパーフルオロノネニルオキシ基含有のジカルボン酸、5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)イソフタル酸、4−(パーフルオロヘキセニルオキシ)フタル酸、2−(パーフルオロヘキセニルオキシ)テレフタル酸、4−メトキシ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)イソフタル酸などのパーフルオロヘキセニルオキシ基含有のジカルボン酸、等の芳香族ジカルボン酸が例示できる。また前述したジカルボン酸の芳香族環を水素にて還元した脂環式ジカルボン酸も使用することができる。
【0028】
次に、本発明によるポリアミド酸に関して説明する。ポリアミド酸の製造方法は公知の方法は特に限定することなく使用でき、溶媒中でジアミンと酸二無水物を混合し、重縮合反応させる方法が最も簡単である。重合に用いるジアミン混合物の総モル数と、テトラカルボン酸二無水物の総モル数の比は、0.5〜1.5の範囲にあることが一般的であり、更に0.8〜1.2の範囲にあることが好ましい。通常の重縮合反応と同様に、この比が1に近いほど、得られる重合体の分子量は大きくなる。
【0029】
前述したジアミンに対してテトラカルボン酸無水物を反応させることで一般式(5)、(6)に示す含フッ素脂環式ポリアミド酸またはそのエステル体が製造できる(式中、R1は直鎖、分岐、脂環、芳香環、ヘテロ環から選ばれた一種以上の4価の基であり、部分的にフッ素、酸素、窒素を含有しても良く、R2は水素、炭素数1〜20の直鎖、分岐状のアルキル基であって、部分的にフッ素、酸素、窒素、不飽和結合、環状構造を含んでも良い)。
【0030】
【化15】
【0031】
【化16】
【0032】
また、ジシリル化脂肪族ジアミンと酸二無水物を反応させてポリアミド酸のシリルエステルを合成する方法(高分子討論会予稿集, 49, 1917 (2000))などを採用することも可能である。
【0033】
本発明で使用できるテトラカルボン酸二無水物としては、その構造は特に限定されないが、例えば、ベンゼンテトラカルボン酸二無水物(ピロメリット酸ニ無水物;PMDA)、トリフルオロメチルベンゼンテトラカルボン酸二無水物、ビストリフルオロメチルベンゼンテトラカルボン酸二無水物、ジフルオロベンゼンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ターフェニルテトラカルボン酸二無水物、ヘキサフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、オキシジフタル酸ニ無水物、ビシクロ(2,2,2)オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)フェキサフルオロプロパン酸二無水物(6FDA)などが挙げられる。
【0034】
本発明のポリアミド酸は重合反応において溶媒が使用できる。かかる溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ヘキサメチルホスホルアミド、ジメチルスルホオキシド等の非プロトン性溶媒が挙げられるが、原料モノマーであるジアミンと相手成分が溶解すればその構造には特に限定されない。すなわち、具体的に例示するならば、N−メチルピロリドン、スルホラン、m−クレゾール、p−クレゾール、3−クロロフェノール、4−クロロフェノール、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、a−バレロラクトン、γ−カプロラクトン、a−カプロラクトン、α−メチル−γ−ブチロラクトン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、トリエチレングリコール、アセトフェノン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシドなどが好ましく採用される。これらは単独でも、混合して使用してもよい。
【0035】
さらに、その他の一般的な有機溶剤、即ちフェノール、o−クレゾール、酢酸ブチル、酢酸エチル、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、2−メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールメチルアセテート、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、ブタノール、エタノール、キシレン、トルエン、クロルベンゼン、ターペン、ミネラルスピリット、石油ナフサ系溶媒なども添加して使用できる。
【0036】
以上のようにして得られた本発明の重合体は有機溶媒に溶解したワニス、または溶媒を除去したフィルムや成形体、または粉末から得られた成形体などの形状や製品として応用に供与される。
【0037】
その際、得られた重合体中には必要に応じて酸化安定剤、フィラー、シランカップリング剤、感光剤、光重合開始剤および増感剤等の添加物が混合されていても差し支えない。
【0038】
前述した本発明のポリアミド酸は加熱または脱水試薬によってイミド化反応することにより含フッ素脂環式ポリイミドとすることができる。加熱イミド化を行う場合、80〜400℃の温度で処理可能であるが、特に150〜350℃の温度範囲が好ましい。イミド化温度が150℃以下の場合はイミド化率が低いためポリイミド膜の膜強度が損なわれるため好ましく、350℃以上の場合は塗膜が着色したり脆くなるので問題がある。また熱処理に代えて無水酢酸などの脱水試薬と反応させて化学的に行うこともできる。
【0039】
本発明で得られるポリイミドは、上記一般式(5)または(6)のポリアミド酸を加熱または脱水試薬によってイミド化反応することにより得られる次の一般式(7)、(8)に示す構成単位を分子内に含有する重合体である(式中、R1は直鎖、分岐、脂環、芳香環、ヘテロ環から選ばれた一種以上の4価の基であり、部分的にフッ素、酸素、窒素を含有しても良い)。
【0040】
【化17】
【0041】
【化18】
【0042】
このようにして得られる本発明のポリイミド化合物は、低誘電率、耐熱性、および充分な強靭さを併せ持つので、電子材料デバイス分野に応用でき、フレキシブルプリント配線回路用基板、テープオートメーションボンディング用基材、半導体素子の保護膜、集積回路の層間絶縁膜等、電子部品の絶縁膜または光学部品として有用である。
【0043】
【実施例】
以下、実施例において本発明を詳細に説明するが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
【0044】
「実施例1」 2,2−ビス(4−アミノシクロヘキシル)−ヘキサフルオロプロパン(ジアミン(1);式(1))の合成
【0045】
攪拌装置の付いた容量1リットルのオートクレーブ中に、2,2−ビス(4−アミノフェニル)−ヘキサフルオロプロパン100g(0.30 mol)、ヘキサフルオロイソプロピルアルコール500g、2.5%Pt−2.5%Pd/C担持触媒17gを添加した。
【0046】
撹拌停止状態で、水素により反応器内を置換した後、バス温を徐々に上げ、内温100℃前後に調節しながら水素圧1.0MPaで還元反応を行った。水素の吸収は2hrでほぼ終了したため、反応器を氷冷し、徐々に反応器内の水素をパージした。反応液はろ過により、触媒の(2.5%Pt−2.5%Pd/C)を除去した後、蒸留によって生成物を単離したところ約29gのジアミン(1)が得られた(収率28.3%)。得られた化合物のNMRデータを以下に示す。
1H−NMRデータ(ジメチルスルホキシドd6;ppm) 1.00−1.08(m,1H),1.28−1.37(m,1H),1.44−1.63(m,1.2H),1.77−1.96(m,3.5H),2.09(br,1.2H),3.11(br,0.17H)
【0047】
「実施例2」 2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4、4’−ジアミノビシクロヘキシル(ジアミン(2);式(2))の合成
【0048】
攪拌装置の付いた容量1リットルのオートクレーブ中に、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン100g(0.31mol)、ヘキサフルオロイソプロピルアルコール500g、(2.5%Pt−2.5%Pd/C)担持触媒17gを添加した。
【0049】
撹拌停止状態で、水素により反応器内を置換した後、バス温を徐々に上げ、内温100℃前後に調節しながら水素圧1.0MPaで還元反応を行った。水素の吸収は2hrでほぼ終了したため、反応器を氷冷し、徐々に反応器内の水素をパージした。反応液はろ過により、触媒の(2.5%Pt−2.5%Pd/C)を除去した後、蒸留によって生成物を単離したところ約22gのジアミン(2)が得られた(収率21.6%)。得られた化合物のNMRデータを以下に示す。
1H−NMRデータ(ジメチルスルホキシドd6;ppm) 0.76−1.27(m,1.7H),1.47−1.87(m,2.4H),2.03−2.06(m,0.5H),2.62−2.90(m,1H)
【0050】
「実施例3、4」 実施例1および2で合成したジアミン(1)および
(2)と下図に示したジカルボン酸(2,2−ビス−(4−カルボキシシクロヘキシル)−ヘキサフルオロプロパン:式(9);以下、H−BIS−B−AFという)を反応させ、ポリアミドを合成した。
【0051】
【化19】
【0052】
「実施例3」 ポリアミドの合成(ジアミン(1)/H−Bis−B−AF)系
攪拌装置、冷却管の付いた300−ml三口フラスコ中に、実施例1で合成したジアミン(1)1.00 g(2.89 mmol)、H−Bis−B−AF(2,2−ビス−(4−カルボキシシクロヘキシル)−ヘキサフルオロプロパン)1.17 g(2.89 mmol)、亜リン酸トリフェニル1.79g(5.78mmol)、ピリジン1.5ml、N−メチル−2−ピロリドン15mlを加え、窒素気流下、100℃で3時間攪拌した。得られた反応溶液を室温まで放冷後、メタノール/水(1/1vol%)に投入し、ポリマーを沈澱させた。濾別回収後、100℃で減圧乾燥し、粉体状の含フッ素脂環式ポリアミド(式(20))1.75gを得た(収率85%)。
【0053】
【化20】
【0054】
このポリアミドをジメチルアセトアミドに溶かし、200℃で1時間、300℃で1時間処理したところ、透明なフィルムが得られた。
【0055】
「実施例4」 ポリアミドの合成(ジアミン(2)/H−Bis−B−AF)系
攪拌装置、冷却管の付いた300−ml三口フラスコ中に、実施例2で合成したジアミン(2)1.00g(3.01 mmol)、H−Bis−B−AF 1.22g(3.01 mmol)、亜リン酸トリフェニル1.87g(6.02mmol)、ピリジン1.5ml、N−メチル−2−ピロリドン15 mlを加え、窒素気流下、100℃で3時間攪拌した。実施例3と同様の処理をおこない、粉体状の含フッ素脂環式ポリアミド(式(11))1.89gを得た(収率90%)。
【0056】
【化21】
【0057】
このポリアミドをジメチルアセトアミドに溶かし、200℃で1時間、300℃で1時間処理したところ、透明なフィルムが得られた。
【0058】
「実施例5〜実施例8」 ジアミン(1)または(2)を用い、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(以下、6FDAという)またはピロメリット酸二無水物(以下、PMDAという)と反応させ、ポリアミド酸を合成した。
【0059】
「実施例5」 ポリアミド酸(式(12))の合成(ジアミン(1)/6FDA)系
攪拌装置の付いた300−ml三口フラスコ中に、実施例1で合成したジアミン(1)1.12g(3.25mmol)、6FDA 1.44g(3.25mmol)、N−メチル−2−ピロリドン12.5mlを加え、窒素気流下、80℃で3時間攪拌した。得られた反応溶液を室温まで放冷後、メタノール/水(1/1 vol%)に投入し、ポリマーを沈澱させた。濾別回収後、40℃で減圧乾燥し、白色粉体の含フッ素脂環式ポリアミド酸(式(12))2.54gを得た(収率99%)。得られたポリアミド酸のIRスペクトルを図1に示した。
【0060】
【化22】
【0061】
「実施例6」 ポリアミド酸(式(13))の合成(ジアミン(2)/6FDA)系
攪拌装置の付いた300−ml三口フラスコ中に、実施例2で合成したジアミン(2)1.18g(3.54mmol)、6FDA 1.57 g(3.54 mmol)、N−メチル−2−ピロリドン13.4mlを加え、窒素気流下、80℃で3時間攪拌した。実施例5と同様の処理をおこない、白色粉体の含フッ素脂環式ポリアミド酸(式(13)) 2.67gを得た(収率は97%)。得られたポリアミド酸のIRスペクトルを図1に示した。
【0062】
【化23】
【0063】
「実施例7」 ポリアミド酸の合成(ジアミン(1)/PMDA)
攪拌装置の付いた300−ml三口フラスコ中に、実施例1で合成したジアミン(1)1.12g(3.25 mmol)、ピロメリット酸二無水物0.71g(325 mmol)、N−メチル−2−ピロリドン12.5mlを加え、窒素気流下、80℃で3時間攪拌した。実施例5と同様の処理をおこない、白色粉体の含フッ素脂環式ポリアミド酸1.65gを得た(収率90%)。
【0064】
【化24】
【0065】
「実施例8」 ポリアミド酸の合成(ジアミン(2)/PMDA)系
攪拌装置の付いた300−ml三口フラスコ中に、実施例2で合成したジアミン(2)1.18g(3.54 mmol)、PMDA 0.77g(3.54mmol)、N−メチル−2−ピロリドン13.4mlを加え、窒素気流下、80℃で3時間攪拌した。実施例5と同様の処理をおこない、白色粉体の含フッ素脂環式ポリアミド酸(式(15)) 1.82gを得た(収率93%)。
【0066】
【化25】
【0067】
「実施例9〜12」 実施例5〜8で得られたポリアミド酸から、ポリイミドを合成した。
【0068】
「実施例9」 ポリイミド(式(16))の合成
実施例5で得られたポリアミド酸(式(12))0.54gを秤取り、ジメチルアセトアミドに溶解した。次いで、清浄なガラス板上に展開した後、窒素気流下、200℃で1時間、300℃で1時間、加熱処理したところ、透明な含フッ素脂環式ポリイミドフィルム 0.47gを得た(収率92%)。得られたポリイミドフィルムのIRスペクトルを図2に示した。
【0069】
【化26】
【0070】
さらに、得られたポリイミドフィルムの熱分析の結果、5%重量が減少する温度(熱分解温度)は505℃であった。また、可視光650nm波長における光透過率は150ミクロンフィルムで94%と高い透明性を示し、1MHzでの誘電率は2.51と低誘電性フィルムであることが判明した。
【0071】
「実施例10」 ポリイミド(式(17))の合成
実施例6で得られたポリアミド酸(式(13)) 0.51gを秤取り、実施例9と同様の方法でフィルム化及び熱処理を行いポリイミドフィルムを作製したところ、透明な含フッ素脂環式ポリイミドフィルム0.45g(式(17))を得た(収率93%)。得られたフィルムのIRスペクトルを図2に示した。
【0072】
【化27】
【0073】
の構成単位からなる重合体であることがわかった。
【0074】
さらに、得られたポリイミドフィルムの熱分析の結果、5%重量が減少する温度(熱分解温度)は510℃であった。また、可視光650nm波長における光透過率は150ミクロンフィルムで95%と高い透明性を示し、1MHzでの誘電率は2.45と低誘電性フィルムであることが判明した。
【0075】
「実施例11」 ポリイミド(式(18))の合成
実施例7で得られたポリアミド酸(式(14))0.61gを秤取り、実施例9と同様の方法でフィルム化及び熱処理を行いポリイミドフィルムを作製したところ、透明な含フッ素脂環式ポリイミドフィルム(式(18))0.53gを得た(収率92%)。
【0076】
【化28】
【0077】
さらに、得られたポリイミドフィルムの熱分析の結果、5%重量が減少する温度(熱分解温度)は520℃であった。また、可視光650nm波長における光透過率は150ミクロンフィルムで88%と高い透明性を示し、1MHzでの誘電率は2.7と低誘電性フィルムであることが判明した。
【0078】
「実施例12」 ポリイミド(式(19))の合成
実施例8で得られたポリアミド酸(式(15))0.50gを秤取り、実施例9と同様の方法でフィルム化及び熱処理を行いポリイミドフィルムを作製したところ、透明な含フッ素脂環式ポリイミドフィルム(式(19))0.43gを得た(収率92%)。
【0079】
【化29】
【0080】
さらに、得られたポリイミドフィルムの熱分析の結果、5%重量が減少する温度(熱分解温度)は525℃であった。また、可視光650nm波長における光透過率は150ミクロンフィルムで91%と高い透明性を示し、1MHzでの誘電率は2.6と低誘電性フィルムであることが判明した。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施例5のポリアミド酸(式(12))および実施例6のポリアミド酸(式(13))のIRスペクトルを示す。
【図2】実施例9のポリイミド(式(16))および実施例10のポリイミド(式(17))のIRスペクトルを示す。
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