JP3709632B2

JP3709632B2 - Antireflection filter, method of manufacturing the same, and display device using the antireflection filter

Info

Publication number: JP3709632B2
Application number: JP30956496A
Authority: JP
Inventors: 洋文近藤; 英章花岡
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1996-11-20
Filing date: 1996-11-20
Publication date: 2005-10-26
Anticipated expiration: 2016-11-20
Also published as: JPH10148701A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は反射防止フィルタおよびその製造方法ならびにこれを用いた表示装置に関し、さらに詳しくは、陰極線管等のディスプレイ装置の前面に設けた反射防止フィルタの耐汚染性、耐擦傷性等を向上した反射防止フィルタおよびその製造方法ならびにこれを用いた表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
透明基材を介して対象物を見る際に、この透明基材表面での反射光が強い場合、あるいは反射像が明瞭に視認される場合等は、対象物が見難く、また煩わしいものである。身近な例として、眼鏡レンズではゴースト、フレアと呼ばれる反射像を生じ、着用者に不快感を与える。またショウウィンドウや陳列ガラスケースでは、ガラス表面での反射光や反射像のため内容物が判然としない。このような例は、陰極線管や液晶パネル、あるいはプラズマディスプレイのような画像表示装置のパネルガラスでも発生する。
【０００３】
従来より反射防止のために、透明基材の屈折率と異なる屈折率を有する光学材料を、透明基材上に薄層状に形成する方法が採られてきた。この場合、反射防止層の層厚の選択が重要である。例えば単層の反射防止層では、透明基材より低屈折率の物質を、その光学的層厚が対象とする光波長の１／４ないしその奇数倍に選択することにより、極小の反射率と極大の透過率を与えることが知られている。光学的層厚とは、反射防止層の屈折率と層厚との積である。反射防止層の材料は、主として無機化合物からなる誘電体材料、例えば無機酸化物や無機ハロゲン化物が採用される。
【０００４】
また複数種の誘電体材料を多層に形成する場合もあり、各層の層厚の選択については、例えば「光学技術コンタクト」誌Ｖｏｌ．９，Ｎｏ．８，ｐ．１７（１９７１）にいくつかの提案がなされている。またこれら誘導体多層膜を、液状組成物を用いて形成する方法は、例えば特開昭５８−４６３０１号、特開昭５９−４９５０１号、特開昭５９−５０４０１号の各公報に開示されている。
近年においては、軽量、安全性、取り扱いの簡易性の点から、透明プラスチックス基材上に反射防止層を有する光学部品も実用に供されており、それらの多くは反射防止層として酸化珪素を含む層が採用され、これらは蒸着やスパッタリング等の真空薄膜形成技術を用いて成膜される。
【０００５】
これら真空薄膜形成技術を用いて成膜される反射防止層は、無機化合物を主体としており、高い表面硬度を有する反面、指紋、手垢、汗、整髪料等の汚れが付着して目立ちやすく、また除去し難い。また表面の親水性が大きいため雨滴や水の飛沫に対する濡れ性に富み、眼鏡レンズ等においては大面積にわたって物体は歪んで見える難点がある。
【０００６】
反射防止層に高い表面硬度を付与するため、最表層にシリカ微粒子等の無機微粒子を３０重量％以上含有させる構成が、先に例示した特開昭５８−４６３０１号、特開昭５９−４９５０１号、特開昭５９−５０４０１号の各公報に開示されている。かかる微粒子分散型の反射防止層は表面の滑り性が悪く、布などとの摩擦によっても容易に傷がつく可能性を有する。
【０００７】
これらの問題点を改良するため、各種の表面処理剤が提案され市販されている。これらの表面処理剤は、いずれも水や各種溶剤に可溶性であるので被膜が剥離し易く、その機能は一時的で耐久性に乏しい。また、例えば特開平３−２６６８０１号公報には、反射防止層に撥水性を付与するため、フッ素系樹脂被膜を形成する技術が開示されている。この場合は溶剤可溶性はないが、摩擦あるいは磨耗に対する満足な結果は得られない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者らは先に、表示装置の反射防止層表面をパーフルオロポリエーテル化合物により処理することにより、耐磨耗性および耐汚染性を高める方法を特願平７−２２４０６３号明細書として提案した。これらの化合物による表面処理は一定の効果が得られるが、溶剤処理等によりその効果が低減する場合も見られた。これは、反射防止層材料のＳｉＯ₂とパーフルオロポリエーテル化合物との相互作用が充分でないためと考えられる。
【０００９】
そこで本発明者らはさらに、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物の被膜を反射防止層表面に形成する方法を、特願平８−６４０８９号明細書において提案した。すなわち、反射防止層材料のＳｉＯ₂との強固な相互作用を持たせるため、アルコキシシラノ基を分子構造中に取り込み、耐溶剤性を向上したものである。この被膜形成により、耐磨耗性、耐溶剤性の大幅な向上がみられたが、撥水性の面では必ずしも充分ない場合があった。
【００１０】
本発明は上述した従来技術に鑑み、その問題点を解決するために提案するものである。
すなわち本発明の課題は、耐汚染性、耐磨耗性等に優れた反射防止フィルタおよびその製造方法を提供することである。
また本発明の別の課題は、かかる反射防止フィルタを用いることにより、視覚特性の向上した表示装置を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の反射防止フィルタは上述した課題を解決するために提案するものであり、
透明基材の表面に少なくとも１層の誘電体薄膜からなる反射防止層を有する反射防止フィルタにおいて、
この反射防止層表面に、
下記一般式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物と、
下記一般式（２）で示される長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物と、を含む被膜を有することを特徴とする。
Ｒｆ（ＣＯ−Ｘ−Ｒ₁−Ｓｉ（ＯＲ₂）₃）_n（１）
Ｒ₃−Ｓｉ（ＯＲ₂）₃ （２）
（但し、Ｒｆはパーフルオロポリエーテル基を、Ｒ₁はアルキレン基を、Ｒ₂はアルキル基を、Ｒ₃は炭素数１０以上の長鎖炭化水素基を、そしてＸは−Ｏ−、−ＮＨ−および−Ｓ−から選ばれる基を、ｎは２以下の自然数をそれぞれ表す。）
【００１２】
また本発明の反射防止フィルタの製造方法は、
透明基材の表面に少なくとも１層の誘電体薄膜からなる反射防止層を有する反射防止フィルタの製造方法において、
この反射防止層表面に、
下記一般式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物と、
下記一般式（２）で示される長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物と、を含む組成物を塗布して被膜を形成することを特徴とする。
Ｒｆ（ＣＯ−Ｘ−Ｒ₁−Ｓｉ（ＯＲ₂）₃）_n（１）
Ｒ₃−Ｓｉ（ＯＲ₂）₃ （２）
（但し、Ｒｆはパーフルオロポリエーテル基を、Ｒ₁はアルキレン基を、Ｒ₂はアルキル基を、Ｒ₃は炭素数１０以上の長鎖炭化水素基を、そしてＸは−Ｏ−、−ＮＨ−および−Ｓ−から選ばれる基を、ｎは２以下の自然数をそれぞれ表す。）
【００１３】
一般式（１）中のパーフルオロポリエーテル基Ｒｆのうち、一価のものとしては、例えば下記一般式（３）、（４）あるいは（５）等が例示されるが、これら構造式に限定されることはない。また二価のものであってもよい。この場合にはＲｆ基の両末端にアルコキシシラン化合物が結合する。パーフルオロポリエーテル基の分子量はこれも特に限定はないが、安定性や取り扱い易さの観点からは数平均分子量で５００〜１０，０００、さらに好ましくは５００〜２，０００のものが使用される。
Ｆ（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_j− （３）
ＣＦ₃（ＯＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂）_m（ＯＣＦ₂）_l−（４）
Ｆ（ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂Ｏ）_k− （５）
ここで上記一般式（３）、（４）あるいは（５）中のｊ、ｋ、ｌおよびｍは、１以上の自然数を表す。
【００１４】
本発明において、フッ素化合物基としてトライボロジ効果に優れた一般式（１）に示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を採用することが重要であり、同じフッ素化合物であっても、パーフルオロアルキル基を有するアルコキシシラン化合物では耐磨耗性や撥水性の満足すべき効果が得られない。この理由は必ずしも明らかではないが、フッ素化合物基同士の相互作用が低減すること、あるいは極性基であるアルコキシシラン化合物基と下地の反射防止層との相互作用が変化すること等が考えられる。
分子末端のアルコキシシラノ基は、ＳｉＯ₂等の反射防止層表面との相互作用力に優れ、強固に結合する。パーフルオロポリエーテル基の両末端にアルコキシシラノ基を有する場合にはこの相互作用力も倍加する。
【００１５】
一方、一般式（２）中の長鎖炭化水素基Ｒ₃は、その構成炭素数が１０以上のものが好まく、直鎖、分岐の別は問わない。また不飽和結合や、芳香環等の環状構造を含んでいても良い。しかしながら、好ましくは、炭素数１２〜２０の範囲で直鎖状のものが選ばれる。かかる分子設計により、一般式（２）のアルコキシシラノ基部分は反射防止層のＳｉＯ₂等との相互作用が得られるとともに、長鎖炭化水素基Ｒ₃部分の疏水性が大きくなり、疏水基同士の分子間相互作用すなわちファンデルワールス力が高まる。これを一般式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物と併用することにより、これらの効果が相乗され、従来不足であった耐溶剤性、撥水性、耐磨耗性等の問題が解決される。
【００１６】
いずれの発明においても、一般式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物１００重量部に対する、一般式（２）で示される長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物の比率は、１重量部以上１５０重量部以下であることが望ましい。１重量部未満では耐磨耗性が不足し、１５０重量部を超えると耐汚染性が低下する。
【００１７】
一般式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物と、一般式（２）で示される長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物による被膜の厚さは特に限定されるものではないが、反射防止層の表面硬度、水に対する静止接触角および反射防止性のバランスから、その平均的な膜厚が０．１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが望ましく、０．５ｎｍ以上５ｎｍ以下がより望ましい。
【００１８】
さらに一般式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物と、一般式（２）で示される長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物との組成物中に、酸、アルカリ、およびこれらのエステル化合物の少なくともいずれか１種を含有することが望ましい。またアセチルアセトンのごときカルボニル化合物を含有することも望ましい。酸としては無機酸、すなわち塩酸、硫酸、硝酸等の鉱酸が望ましく、アルカリとしては無機アルカリ、すなわち水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の水酸化物、あるいはアンモニア等が望ましく、エステルとしては例えば燐酸エステル等が例示される。これらはいずれも触媒作用を示し、一般式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物と、一般式（２）で示される長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物による被膜中の網状構造を発達させ、その強度と耐久性を高める。この架橋反応は例えば５０℃以下の室温で進行し、加熱を必要としない。
【００１９】
一般的に、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物の溶液調整時に、触媒として酸あるいはアルカリを添加する方法は知られているが、長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物との組成物中に触媒として酸あるいはアルカリを添加する方法は未知である。まして燐酸エステルのようなエステル化合物やアセチルアセトンのようなカルボニル化合物の触媒としての使用もまた知られていない。
【００２０】
さらに、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物の被膜は、本発明のように１０ｎｍ程度以下の超薄膜での潤滑膜や耐磨耗膜としての効果は殆ど前例がない。また長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物との併用も前例がない。したがって、本発明によって得られるＳｉＯ₂等の反射防止層上での各種効果は容易に類推されるものではない。
【００２１】
さて一般式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物と、一般式（２）で示される長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物との組成物を、反射防止層上に塗布する方法としては、特に限定はないが、１０ｎｍ程度の超薄膜の膜厚の均一性や、これによる反射防止効果の均一性、反射干渉色の制御の観点からはスピン塗布、浸漬塗布あるいはカーテンフロー塗布等が好ましい。作業性からは紙、布、刷毛、ローラ等に組成物を含浸して塗布流延する方法も好ましい。組成物は通常揮発性溶媒で希釈して塗布される。溶媒は特に限定されないが、選択にあたっては組成物に対する安定性、ＳｉＯ₂等の反射防止層に対する濡れ性、揮発性等を考慮して決定される。これらの条件を満足する溶媒として、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒が例示される。
【００２２】
塗布に際しては、反射防止層表面が清浄化されていることが望ましく、清浄化にあたっては界面活性剤を含む洗浄液による脱脂、有機溶媒蒸気による蒸気洗浄等が適用される。また密着性、耐久性を高めるために各種の前処理が有効であり、例えば酸、アルカリによる薬品処理、不活性ガス処理、あるいはプラズマ処理、コロナ放電処理等がこれに相当する。
【００２３】
つぎに本発明で採用する反射防止層は単層、多層いずれでもよいが、その最表面はＳｉＯ₂あるいは不純物を含むＳｉＯ₂、すなわちガラスが望ましい。最表面がＳｉＯ₂系材料の場合には、表面硬度、耐汚染性、耐擦傷性およびこれら特性の耐久性が顕著に現れる。反射防止層の最表層の膜厚は、反射防止効果以外の特性も勘案されるべきであるが、反射防止効果を最大限に発揮するためには、対象とする光波長の１／４ないしその奇数倍の光学的膜厚を決定すればよい。
多層反射防止層の場合、最表面の下層を構成する層の材料や膜厚は、反射防止層として要求される各種性能、例えば反射防止性、反射光色、表面硬度、耐熱性あるいは耐久性等を考慮して決定されるべき設計事項である。反射防止効果を高めるためには、最表層の屈折率と透明基材の屈折率との中間の屈折率の材料の被膜を１層以上形成することが有効である。多層反射防止層の設計に関しては、先述した文献を参照すればよい。
【００２４】
反射防止層の材料としては、ＳｉＯ₂やガラス以外にも、ＳｉＯ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、ＺｒＯ、ＴｉＯ₂、Ｔｉ₂Ｏ₃、ＴｉＯ、Ｔａ₂Ｏ₅、ＨｆＯ₂、Ｉｎ₂Ｏ₃／ＳｎＯ₂、Ｙ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＭｇＯあるいはＣｅＯ₂等の無機酸化物や、ＭｇＦ₂等のハロゲン化物等が好ましく採用される。
【００２５】
反射防止層を形成する方法は真空蒸着法、スパッタリング法あるいはイオンプレーテイング法等、各種のＰＶＤ（ＰｈｙｓｉｃａｌＶａｐｏｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法が採用される。透明基材の耐熱性が許すならば、プラズマＣＶＤ法等の各種ＣＶＤ（ＣｈｅｍｉｃａｌＶａｐｏｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法や、金属塩溶液を塗布乾燥して熱酸化するバーニング法等も採用できるが、これらの方法に限定されるものではない。
【００２６】
一方、透明基材としては特に限定はないが、ソーダガラス、鉛ガラス、硬質ガラス、石英ガラス、液晶化ガラス等が例示される。陰極線管の場合にはストロンチウムやバリウム等のアルカリ土類を含む珪酸ガラスが好ましく用いられる。また液晶表示素子の場合には不純物の少ない無アルカリガラスが用いられる。
また透明基材としてはこれらガラス材料の他に、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂あるいはポリスチレン樹脂等の高分子材料であってもよい。高分子材料パネル表面に周知のハードコート層等を形成し、この表面に反射防止層を形成することにより、表面硬度、密着性、耐薬品性、耐久性あるいは染色性等を向上することができる。
透明基材は表示素子、すなわち陰極線管や液晶素子のパネル面そのものであってもよいし、表示素子とは別体に設けたガラス板、プラスチックス板であってもよい。
【００２７】
本発明の表示装置は、かかる構成および製造方法による反射防止フィルタを用いたことをその特徴とする。
【００２８】
【実施例】
以下、本発明の反射防止フィルタおよびその製造方法につき、カラーブラウン管すなわち陰極線管を例にとり詳細に説明する。
【００２９】
実施例１
反射防止層の作製
陰極線管のパネルガラス表面に直接、スパッタリングによりＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ）を１３０ｎｍの厚さに形成した。さらにこのＩＴＯ膜の上に、ＳｉＯ₂を８０ｎｍの厚さに蒸着し反射防止層を形成した。
【００３０】
パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物と、長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物とを含む組成物の作製
【００３１】
一般式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物として、〔表１〕に示す化合物１１を用いた。
【００３２】
【表１】

【００３３】
また一般式（２）で示される長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物として、〔表２〕に示す化合物２１を用いた。
【００３４】
【表２】

【００３５】
これら一般式（１）で示される化合物１１と、一般式（２）で示される化合物２１とを重量部で４／１の割合で混合し、〔表３〕に示される組成物３１を作製した。
【００３６】
【表３】

【００３７】
塗布および乾燥
組成物３１を４重量部とり、これをエチルアルコール２００重量部に溶解し、さらにアセチルアセトン１重量部と濃塩酸０．０１重量部を添加して均一な溶液とした後、さらにメンブランフィルタで濾過して塗布組成物を得た。
先に作製した反射防止層上に、この塗布組成物をディップコーティングし、常温で乾燥して反射防止フィルタを完成した。ディップコーティングにおける引き上げ速度は５ｃｍ／ｍｉｎとした。乾燥後の被膜の厚さは２ｎｍであった。
【００３８】
このようにして陰極線管上に作製した実施例１の反射防止フィルタについて、各種特性を評価した。なお各評価項目および評価方法は以下の通りである。
【００３９】
耐汚染性評価
水道水５ｍｌを反射防止フィルタ表面に滴らせ、室温雰囲気で４８時間放置して乾燥したものと、この後表面を布で拭いたものの水垢の残存状態を観察した。払拭前の評価は、水垢の付着がないものを○、付着があるものを×とした。また払拭後の評価は、水垢の付着がもともとないもの、および容易に除去されたものを○、水垢が容易には除去できないものを×とした。
【００４０】
表面すべり性の評価
鉛筆の芯（硬度３Ｈ）で反射防止フィルタの表面を引っ掻いたときの引っ掛かり具合を評価した。判定方法は、全く引っ掛からないものを○、強く引っ掻くと引っ掛かるものを△、弱く引っ掻いても引っ掛かるものを×とした。
【００４１】
耐磨耗性評価
反射防止フィルタ表面を、スチールウール＃００００を用い、２００ｇ荷重下で３０回擦った後に傷が残るか否かで評価し、全く無傷のものを○、細かい傷がつくものを△、傷が著しいものを×で表した。
【００４２】
手垢の付き難さの評価
指紋跡の付き難さにつき、目視で評価した。
ついても目立たないものを○、付くが簡単に除去できるものを△、付いた跡が簡単には除去できず目立つものを×で表した。
【００４３】
接触角の評価
反射防止フィルタ表面における水およびヨウ化メチレンの接触角を測定した。この接触角の大きさは、水あるいは油に対する耐汚染性の目安とすることができる。
さらに、反射防止フィルタの耐溶剤性を調べるため、反射防止フィルタ表面をエタノールで洗浄後、同じく水およびヨウ化メチレンの接触角を測定した。
【００４４】
実施例２〜４
一般式（２）で示される長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物として、〔表２〕に示す化合物２２〜２４を用い、〔表３〕に示される組成物３２〜３４を採用した以外は、前実施例１に準拠して反射防止フィルタを作製し、各評価項目を評価した。
【００４５】
実施例５〜６
一般式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物として、〔表１〕に示す化合物１２を用いた。また、一般式（２）で示される長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物として、〔表２〕に示す化合物２５および２３を用い、〔表３〕に示される組成物３５および３６を採用した以外は前実施例１に準じて反射防止フィルタを作製し、各評価項目を評価した。
【００４６】
実施例７〜１１
一般式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物として、〔表１〕に示す化合物１１を用いた。また、一般式（２）で示される長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物として、〔表２〕に示す化合物２１を用いた。両者の混合比を変え、〔表３〕に示される組成物３７〜４１を作製した以外は前実施例１に準じて反射防止フィルタを作製し、各評価項目を評価した。
【００４７】
比較例１
塗布組成物の被膜を形成することなく、反射防止層のみの反射防止フィルタを作製し、各評価項目を評価した。反射防止層の構成は実施例１と同じである。
【００４８】
比較例２
〔表１〕に示すパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物１１を用いず、〔表２〕に示す長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物２１のみを用いて塗布組成物を調整した他は前実施例１に準拠して反射防止フィルタを作製し、各評価項目を評価した。
【００４９】
比較例３〜４
一般式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物として、〔表１〕に示す化合物１１を用いた。また、一般式（２）で示される長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物として、〔表２〕に示す化合物２１を用いた。両者の混合比を変え、〔表３〕に示される組成物４２および４３を作製した以外は前実施例１に準拠して反射防止フィルタを作製し、各評価項目を評価した。これら組成物４２および４３の混合比は、好ましい混合比の範囲からは逸脱したものである。
【００５０】
以上作製した実施例１〜１１および比較例１〜４の反射防止フィルタの各評価結果を〔表４〕にまとめて示す。
【００５１】
【表４】

【００５２】
〔表４〕の評価結果から、実施例の反射防止フィルタはいずれの評価項目においても優れた特性が得られることが明らかであり、視覚特性と信頼性に優れた陰極線管を提供することが可能である。
なお実施例中で採用したパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物や、長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物の構造や、塗布組成物の組成等は単なる例示であり、各種変更が可能である。また反射防止層の構成についても同様に実施例に限定されるものではない。
本実施例は表示装置として陰極線管の前面に直接反射防止フィルタを形成する例を示したが、液晶表示装置やプラズマディスプレイのガラスパネルに直接形成してもよい。また表示装置とは別体のガラス板やプラスチックス板、プラスチックスフィルムを反射防止フィルタとする場合にも好適に適用することが可能である。
【００５３】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明の反射防止フィルタおよびその製造方法によれば、下記に列挙した各種効果が得られる。
（１）指紋、手垢等による汚れが付着し難く、また目立ち難い。またこれらの効果が永続的に保持される。
（２）水垢等が付着、乾燥しても容易に除去することができる。
（３）ほこり等の汚れが付きにくい。
（４）表面すべり性が良好で、傷が付き難い。
（５）磨耗に対する耐久性がある。
（６）耐溶剤性に優れる。
（７）塗布後の乾燥に加熱を必要とせず、室温で強固な被膜を形成できるので、製造工程におけるスループットがよい。
したがって、この反射防止フィルタを採用することにより、視覚特性の向上した信頼性の高い表示装置を提供することが可能である。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an antireflection filter, a manufacturing method thereof, and a display device using the same, and more particularly, a reflection with improved antifouling resistance, scratch resistance, etc. of an antireflection filter provided on the front surface of a display device such as a cathode ray tube. The present invention relates to a prevention filter, a manufacturing method thereof, and a display device using the same.
[0002]
[Prior art]
When the object is viewed through the transparent substrate, if the reflected light on the surface of the transparent substrate is strong or the reflected image is clearly visible, the object is difficult to see and is troublesome. . As a familiar example, spectacle lenses produce reflected images called ghosts and flares, giving the wearer discomfort. Moreover, in the show window and the display glass case, the contents are unclear due to the reflected light and the reflected image on the glass surface. Such an example also occurs in a panel glass of an image display device such as a cathode ray tube, a liquid crystal panel, or a plasma display.
[0003]
Conventionally, in order to prevent reflection, a method of forming an optical material having a refractive index different from the refractive index of the transparent substrate in a thin layer on the transparent substrate has been adopted. In this case, selection of the thickness of the antireflection layer is important. For example, in the case of a single-layer antireflection layer, a material having a lower refractive index than that of a transparent substrate is selected so that its optical layer thickness is ¼ or an odd multiple of the target light wavelength. It is known to give maximum transmission. The optical layer thickness is the product of the refractive index and the layer thickness of the antireflection layer. As the material of the antireflection layer, a dielectric material mainly composed of an inorganic compound, for example, an inorganic oxide or an inorganic halide is employed.
[0004]
Also, a plurality of types of dielectric materials may be formed in multiple layers. For the selection of the layer thickness of each layer, see, for example, “Optical Technology Contact” magazine Vol. 9, no. 8, p. 17 (1971), several proposals have been made. A method for forming these derivative multilayer films using a liquid composition is disclosed in, for example, JP-A Nos. 58-46301, 59-49501, and 59-50401. .
In recent years, optical components having an antireflection layer on a transparent plastic substrate have been put to practical use from the viewpoint of light weight, safety, and ease of handling, and most of them are made of silicon oxide as an antireflection layer. Including layers are employed, and these are formed using a vacuum thin film forming technique such as vapor deposition or sputtering.
[0005]
The antireflection layer formed by using these vacuum thin film formation technologies is mainly composed of inorganic compounds, and has a high surface hardness, but it is easily noticeable due to adhesion of dirt such as fingerprints, dirt, sweat, hairdressing, etc. It is difficult to remove. In addition, since the hydrophilicity of the surface is large, the wettability to raindrops and water splashes is high, and in an eyeglass lens or the like, there is a difficulty that an object looks distorted over a large area.
[0006]
In order to give a high surface hardness to the antireflection layer, the constitution in which the outermost layer contains inorganic fine particles such as silica fine particles of 30% by weight or more is disclosed in JP-A-58-46301 and JP-A-59-49501. And JP-A-59-50401. Such a fine particle-dispersed antireflection layer has poor surface slipperiness and can easily be damaged by friction with a cloth or the like.
[0007]
In order to improve these problems, various surface treatment agents have been proposed and are commercially available. Since these surface treatment agents are all soluble in water and various solvents, the coating is easy to peel off, and their functions are temporary and poor in durability. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 3-266801 discloses a technique for forming a fluorine-based resin film in order to impart water repellency to the antireflection layer. In this case, the solvent is not soluble, but satisfactory results for friction or wear are not obtained.
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
The present inventors previously proposed as Japanese Patent Application No. 7-224063 a method for improving the abrasion resistance and contamination resistance by treating the surface of the antireflection layer of a display device with a perfluoropolyether compound. did. Although a certain effect can be obtained by the surface treatment with these compounds, there are cases where the effect is reduced by a solvent treatment or the like. This is presumably because the interaction between SiO _{2 of the} antireflection layer material and the perfluoropolyether compound is not sufficient.
[0009]
Therefore, the present inventors have further proposed a method for forming a coating of an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group on the surface of the antireflection layer in Japanese Patent Application No. 8-64089. That is, in order to have a strong interaction with SiO _{2 of the} antireflection layer material, an alkoxysilano group is incorporated into the molecular structure to improve the solvent resistance. The formation of this film showed a significant improvement in wear resistance and solvent resistance, but it was not always sufficient in terms of water repellency.
[0010]
The present invention is proposed in order to solve the problems in view of the above-described prior art.
That is, an object of the present invention is to provide an antireflection filter excellent in contamination resistance, wear resistance, and the like, and a method for manufacturing the same.
Another object of the present invention is to provide a display device with improved visual characteristics by using such an antireflection filter.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
The antireflection filter of the present invention is proposed to solve the above-described problems,
In the antireflection filter having an antireflection layer composed of at least one dielectric thin film on the surface of the transparent substrate,
On the surface of this antireflection layer,
An alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the following general formula (1):
And an alkoxysilane compound having a long-chain hydrocarbon group represented by the following general formula (2).
Rf (CO—X—R ₁ —Si (OR ₂ ) ₃ ) _n (1)
R ₃ —Si (OR ₂ ) ₃ (2)
(Where Rf is a perfluoropolyether group, R ₁ is an alkylene group, R ₂ is an alkyl group, R ₃ is a long-chain hydrocarbon group having 10 or more carbon atoms, and X is —O—, —NH. In the group selected from-and -S-, n represents a natural number of 2 or less.)
[0012]
In addition, the manufacturing method of the antireflection filter of the present invention includes:
In the method for producing an antireflection filter having an antireflection layer comprising at least one dielectric thin film on the surface of a transparent substrate,
On the surface of this antireflection layer,
An alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the following general formula (1):
A film is formed by applying a composition containing an alkoxysilane compound having a long-chain hydrocarbon group represented by the following general formula (2).
Rf (CO—X—R ₁ —Si (OR ₂ ) ₃ ) _n (1)
R ₃ —Si (OR ₂ ) ₃ (2)
(Where Rf is a perfluoropolyether group, R ₁ is an alkylene group, R ₂ is an alkyl group, R ₃ is a long-chain hydrocarbon group having 10 or more carbon atoms, and X is —O—, —NH. In the group selected from-and -S-, n represents a natural number of 2 or less.)
[0013]
Among the perfluoropolyether groups Rf in the general formula (1), examples of the monovalent group include the following general formulas (3), (4), and (5), but are limited to these structural formulas. It will never be done. Moreover, a bivalent thing may be sufficient. In this case, an alkoxysilane compound is bonded to both ends of the Rf group. The molecular weight of the perfluoropolyether group is not particularly limited, but from the viewpoint of stability and ease of handling, a number average molecular weight of 500 to 10,000, more preferably 500 to 2,000 is used. .
F (CF ₂ CF ₂ CF ₂ O) _j − (3)
CF ₃ (OCF (CF ₃ ) CF ₂ ) _m (OCF ₂ ) _l- (4)
F (CF (CF ₃ ) CF ₂ O) _k − (5)
Here, j, k, l and m in the general formula (3), (4) or (5) represent a natural number of 1 or more.
[0014]
In the present invention, it is important to employ an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the general formula (1) having an excellent tribological effect as the fluorine compound group. An alkoxysilane compound having an alkyl group cannot provide satisfactory effects of wear resistance and water repellency. The reason for this is not necessarily clear, but it is conceivable that the interaction between the fluorine compound groups is reduced, or the interaction between the polar alkoxysilane compound group and the underlying antireflection layer is changed.
The alkoxysilano group at the molecular end is excellent in the interaction force with the surface of the antireflection layer such as SiO ₂ and is firmly bonded. When there are alkoxysilano groups at both ends of the perfluoropolyether group, this interaction force is also doubled.
[0015]
On the other hand, the long-chain hydrocarbon group R ₃ in the general formula (2) preferably has 10 or more carbon atoms, regardless of whether it is linear or branched. Further, it may contain an unsaturated bond or a cyclic structure such as an aromatic ring. However, a straight chain is preferably selected in the range of 12 to 20 carbon atoms. By such molecular design, the alkoxysilano group portion of the general formula (2) can interact with SiO ₂ and the like of the antireflection layer, and the hydrophobicity of the long-chain hydrocarbon group R ₃ portion is increased. Intermolecular interaction, that is, van der Waals force increases. By using this together with an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the general formula (1), these effects are synergized, and solvent resistance, water repellency, abrasion resistance, etc., which have been insufficient in the past, etc. The problem is solved.
[0016]
In any of the inventions, the ratio of the alkoxysilane compound having a long-chain hydrocarbon group represented by the general formula (2) to 100 parts by weight of the alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the general formula (1) is 1 to 150 parts by weight is desirable. If it is less than 1 part by weight, the abrasion resistance is insufficient, and if it exceeds 150 parts by weight, the stain resistance is lowered.
[0017]
The film thickness of the alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the general formula (1) and the alkoxysilane compound having a long chain hydrocarbon group represented by the general formula (2) is not particularly limited. However, the average film thickness is desirably 0.1 nm or more and 100 nm or less, more preferably 0.5 nm or more and 5 nm or less from the balance of the surface hardness of the antireflection layer, the static contact angle with respect to water, and the antireflection property. desirable.
[0018]
Furthermore, in the composition of the alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the general formula (1) and the alkoxysilane compound having a long chain hydrocarbon group represented by the general formula (2), an acid, an alkali, And at least one of these ester compounds is desirable. It is also desirable to contain a carbonyl compound such as acetylacetone. The acid is preferably an inorganic acid, ie, a mineral acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, and the alkali is an inorganic alkali, ie, an alkali metal or alkaline earth metal such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, or calcium hydroxide. Preferred examples of the ester include phosphoric acid esters. These all show a catalytic action, and are in a film of an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the general formula (1) and an alkoxysilane compound having a long-chain hydrocarbon group represented by the general formula (2). Develop a net-like structure and increase its strength and durability. This crosslinking reaction proceeds at a room temperature of, for example, 50 ° C. or less and does not require heating.
[0019]
In general, a method of adding an acid or an alkali as a catalyst when preparing a solution of an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group is known, but in a composition with an alkoxysilane compound having a long-chain hydrocarbon group, The method of adding an acid or alkali as a catalyst is unknown. Furthermore, the use of ester compounds such as phosphate esters and carbonyl compounds such as acetylacetone as catalysts is also not known.
[0020]
Further, the coating of an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group has almost no precedent effect as a lubricating film or an abrasion resistant film with an ultrathin film of about 10 nm or less as in the present invention. Also, there is no precedent for the combined use with an alkoxysilane compound having a long-chain hydrocarbon group. Therefore, various effects on the antireflection layer such as SiO ₂ obtained by the present invention are not easily inferred.
[0021]
Now, a composition of an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the general formula (1) and an alkoxysilane compound having a long chain hydrocarbon group represented by the general formula (2) is formed on the antireflection layer. The coating method is not particularly limited, but spin coating, dip coating or curtains are used from the viewpoints of uniformity of the film thickness of an ultrathin film of about 10 nm, uniformity of the antireflection effect thereby, and reflection interference color control. Flow coating or the like is preferable. From the viewpoint of workability, a method in which paper, cloth, brush, roller or the like is impregnated with the composition and cast is also preferred. The composition is usually applied diluted with a volatile solvent. The solvent is not particularly limited, but is selected in consideration of stability to the composition, wettability to the antireflection layer such as SiO ₂ , volatility, and the like. Examples of the solvent that satisfies these conditions include alcohol solvents such as methanol, ethanol, and isopropanol.
[0022]
At the time of application, it is desirable that the surface of the antireflection layer is cleaned. For cleaning, degreasing with a cleaning liquid containing a surfactant, vapor cleaning with an organic solvent vapor, or the like is applied. Various pretreatments are effective for improving adhesion and durability. For example, chemical treatment with acid or alkali, inert gas treatment, plasma treatment, corona discharge treatment, or the like corresponds to this.
[0023]
Next, the antireflection layer employed in the present invention may be either a single layer or multiple layers, but the outermost surface is preferably SiO ₂ or SiO ₂ containing impurities, that is, glass. When the outermost surface is a SiO ₂ -based material, the surface hardness, stain resistance, scratch resistance, and durability of these characteristics remarkably appear. The film thickness of the outermost layer of the antireflection layer should take into consideration characteristics other than the antireflection effect, but in order to maximize the antireflection effect, it is 1/4 of the target light wavelength or its thickness. What is necessary is just to determine the optical film thickness of odd number times.
In the case of a multilayer antireflection layer, the material and film thickness of the layer constituting the outermost layer are various performances required for the antireflection layer, such as antireflection, reflected light color, surface hardness, heat resistance or durability. This is a design item that should be determined in consideration of In order to enhance the antireflection effect, it is effective to form one or more layers of a material having a refractive index intermediate between the refractive index of the outermost layer and the refractive index of the transparent substrate. Regarding the design of the multilayer antireflection layer, the above-mentioned literature may be referred to.
[0024]
In addition to SiO ₂ and glass, materials for the antireflection layer include SiO, Al ₂ O ₃ , ZrO ₂ , ZrO, TiO ₂ , Ti ₂ O ₃ , TiO, Ta ₂ O ₅ , HfO ₂ , In ₂ O _3. _{_{_{/ SnO 2, Y 2 O 3}}} , Sb 2 O 3, MgO or an inorganic oxide such as CeO ₂ or halides of MgF ₂ or the like is preferably employed.
[0025]
Various PVD (Physical Vapor Deposition) methods such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method are employed as a method for forming the antireflection layer. If the heat resistance of the transparent substrate permits, various CVD (Chemical Vapor Deposition) methods such as a plasma CVD method, and a burning method in which a metal salt solution is applied and dried to thermally oxidize can be used, but these methods are limited. Is not to be done.
[0026]
On the other hand, the transparent substrate is not particularly limited, but examples include soda glass, lead glass, hard glass, quartz glass, and liquid crystal glass. In the case of a cathode ray tube, a silicate glass containing an alkaline earth such as strontium or barium is preferably used. In the case of a liquid crystal display element, alkali-free glass with few impurities is used.
In addition to these glass materials, the transparent substrate may be a polymer material such as an acrylic resin, a polycarbonate resin, or a polystyrene resin. By forming a known hard coat layer or the like on the surface of the polymer material panel and forming an antireflection layer on this surface, the surface hardness, adhesion, chemical resistance, durability or dyeability can be improved. .
The transparent substrate may be a display element, that is, a panel surface itself of a cathode ray tube or a liquid crystal element, or may be a glass plate or a plastics plate provided separately from the display element.
[0027]
The display device of the present invention is characterized by using an antireflection filter according to such a configuration and manufacturing method.
[0028]
【Example】
Hereinafter, the antireflection filter of the present invention and the manufacturing method thereof will be described in detail by taking a color cathode ray tube, that is, a cathode ray tube as an example.
[0029]
Example 1
Production of antireflection layer ITO (Indium Tin Oxide) was formed to a thickness of 130 nm directly on the surface of the cathode ray tube panel glass by sputtering. Further, an antireflection layer was formed on the ITO film by depositing SiO ₂ to a thickness of 80 nm.
[0030]
Preparation of a composition comprising an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group and an alkoxysilane compound having a long-chain hydrocarbon group
As the alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the general formula (1), the compound 11 shown in [Table 1] was used.
[0032]
[Table 1]

[0033]
Moreover, the compound 21 shown in [Table 2] was used as an alkoxysilane compound which has a long-chain hydrocarbon group shown by General formula (2).
[0034]
[Table 2]

[0035]
The compound 11 represented by the general formula (1) and the compound 21 represented by the general formula (2) were mixed at a ratio of 4/1 by weight to prepare a composition 31 shown in [Table 3]. .
[0036]
[Table 3]

[0037]
Coating and drying After taking 4 parts by weight of the composition 31 and dissolving it in 200 parts by weight of ethyl alcohol, 1 part by weight of acetylacetone and 0.01 parts by weight of concentrated hydrochloric acid were added to obtain a uniform solution. Further, it was filtered through a membrane filter to obtain a coating composition.
This coating composition was dip-coated on the antireflection layer prepared earlier, and dried at room temperature to complete an antireflection filter. The pulling speed in dip coating was 5 cm / min. The thickness of the coating after drying was 2 nm.
[0038]
Various characteristics of the antireflection filter of Example 1 thus fabricated on the cathode ray tube were evaluated. Each evaluation item and evaluation method are as follows.
[0039]
Contamination resistance evaluation 5 ml of tap water was dropped on the surface of the antireflection filter, and the remaining state of scale was observed after drying for 48 hours at room temperature and after wiping the surface with a cloth. . In the evaluation before wiping, the case where the scale did not adhere was rated as ◯, and the case where the scale was adhered was rated as x. In addition, the evaluation after wiping was evaluated as “◯” when the scale did not adhere to the scale and when it was easily removed, and “X” when the scale could not be easily removed.
[0040]
Evaluation of surface slipperiness The degree of hooking when the surface of the antireflection filter was scratched with a pencil core (hardness 3H) was evaluated. The judgment method was ◯ for those that did not catch at all, △ for those that caught when strongly scratched, and × for those that caught even when weakly scratched.
[0041]
Evaluation of abrasion resistance The surface of the antireflection filter was evaluated by using steel wool # 0000 and rubbed 30 times under a load of 200 g. Those with a mark are indicated with Δ, and those with significant scratches are indicated with ×.
[0042]
Evaluation of difficulty of hand marking The difficulty of fingerprint marks was evaluated visually.
Even if it is not noticeable, it is indicated by ◯, if it is attached but easily removed, Δ is indicated, and if the attached mark cannot be easily removed, it is indicated by ×.
[0043]
Evaluation of contact angle The contact angles of water and methylene iodide on the antireflection filter surface were measured. The magnitude of this contact angle can be used as a measure of contamination resistance against water or oil.
Further, in order to investigate the solvent resistance of the antireflection filter, the contact angle of water and methylene iodide was measured after washing the surface of the antireflection filter with ethanol.
[0044]
Examples 2-4
As the alkoxysilane compound having a long chain hydrocarbon group represented by the general formula (2), compounds 22 to 24 shown in [Table 2] were used, and compositions 32 to 34 shown in [Table 3] were adopted. Then, an antireflection filter was prepared in accordance with the previous Example 1, and each evaluation item was evaluated.
[0045]
Examples 5-6
As the alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the general formula (1), the compound 12 shown in [Table 1] was used. Further, as the alkoxysilane compound having a long-chain hydrocarbon group represented by the general formula (2), the compounds 25 and 23 shown in [Table 2] were used, and the compositions 35 and 36 shown in [Table 3] were adopted. Except for the above, an antireflection filter was prepared according to the previous Example 1, and each evaluation item was evaluated.
[0046]
Examples 7-11
As the alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the general formula (1), the compound 11 shown in [Table 1] was used. Moreover, the compound 21 shown in [Table 2] was used as an alkoxysilane compound which has a long-chain hydrocarbon group shown by General formula (2). An antireflection filter was prepared in accordance with Example 1 except that the mixing ratio of the two was changed and the compositions 37 to 41 shown in [Table 3] were prepared, and each evaluation item was evaluated.
[0047]
Comparative Example 1
Without forming a coating film of the coating composition, an antireflection filter having only an antireflection layer was produced, and each evaluation item was evaluated. The configuration of the antireflection layer is the same as that of Example 1.
[0048]
Comparative Example 2
The coating composition was prepared using only the alkoxysilane compound 21 having a long-chain hydrocarbon group shown in [Table 2] without using the alkoxysilane compound 11 having a perfluoropolyether group shown in [Table 1]. An antireflection filter was produced according to the previous Example 1, and each evaluation item was evaluated.
[0049]
Comparative Examples 3-4
As the alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the general formula (1), the compound 11 shown in [Table 1] was used. Moreover, the compound 21 shown in [Table 2] was used as an alkoxysilane compound which has a long-chain hydrocarbon group shown by General formula (2). An antireflection filter was produced in accordance with Example 1 except that the mixing ratio of the two was changed and the compositions 42 and 43 shown in [Table 3] were produced, and each evaluation item was evaluated. The mixing ratio of these compositions 42 and 43 deviates from the preferred mixing ratio range.
[0050]
The evaluation results of the antireflection filters of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 4 produced above are summarized in [Table 4].
[0051]
[Table 4]

[0052]
From the evaluation results in [Table 4], it is clear that the antireflection filter of the example can obtain excellent characteristics in any evaluation item, and can provide a cathode ray tube excellent in visual characteristics and reliability. It is.
The structure of the alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group and the alkoxysilane compound having a long-chain hydrocarbon group employed in the examples, the composition of the coating composition, etc. are merely examples, and various modifications are possible. is there. Similarly, the structure of the antireflection layer is not limited to the embodiment.
In this embodiment, an example in which an antireflection filter is directly formed on the front surface of a cathode ray tube as a display device has been shown. However, it may be formed directly on a glass panel of a liquid crystal display device or a plasma display. Further, the present invention can be suitably applied to a case where a glass plate, a plastic plate, or a plastic film that is separate from the display device is used as an antireflection filter.
[0053]
【The invention's effect】
As is clear from the above description, according to the antireflection filter and the manufacturing method thereof of the present invention, various effects listed below can be obtained.
(1) Dirt due to fingerprints, hand stains, etc. is difficult to adhere and hardly noticeable. These effects are retained permanently.
(2) Even if scales adhere and are dried, they can be easily removed.
(3) It is difficult to get dirt and other dirt.
(4) Surface slipperiness is good and scratches are difficult to be scratched.
(5) Durable against wear.
(6) Excellent solvent resistance.
(7) Heating is not required for drying after coating, and a strong film can be formed at room temperature, so that the throughput in the manufacturing process is good.
Therefore, by employing this antireflection filter, it is possible to provide a highly reliable display device with improved visual characteristics.

Claims

In the antireflection filter having an antireflection layer composed of at least one dielectric thin film on the surface of the transparent substrate,
On the antireflection layer surface,
An alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the following general formula (1):
An antireflection filter comprising a coating containing an alkoxysilane compound having a long-chain hydrocarbon group represented by the following general formula (2).
Rf (CO—X—R ₁ —Si (OR ₂ ) ₃ ) _n (1)
R ₃ —Si (OR ₂ ) ₃ (2)
(Where Rf is a perfluoropolyether group, R ₁ is an alkylene group, R ₂ is an alkyl group, R ₃ is a long-chain hydrocarbon group having 10 or more carbon atoms, and X is —O— or —NH. In the group selected from-and -S-, n represents a natural number of 2 or less.)

The ratio of the alkoxysilane compound having a long-chain hydrocarbon group represented by the general formula (2) to 100 parts by weight of the alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the general formula (1) is 1 part by weight. The antireflection filter according to claim 1, wherein the content is 150 parts by weight or less.

The antireflection filter according to claim 1, wherein the thickness of the coating is 0.1 nm or more and 100 nm or less.

A display device comprising the antireflection filter according to claim 1.

In the method for producing an antireflection filter having an antireflection layer comprising at least one dielectric thin film on the surface of a transparent substrate,
On the antireflection layer surface,
An alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the following general formula (1):
The manufacturing method of the antireflection filter characterized by apply | coating the composition containing the alkoxysilane compound which has a long-chain hydrocarbon group shown by following General formula (2), and forming a film.
Rf (CO—X—R ₁ —Si (OR ₂ ) ₃ ) _n (1)
R ₃ —Si (OR ₂ ) ₃ (2)
(Where Rf is a perfluoropolyether group, R ₁ is an alkylene group, R ₂ is an alkyl group, R ₃ is a long-chain hydrocarbon group having 10 or more carbon atoms, and X is —O— or —NH. In the group selected from-and -S-, n represents a natural number of 2 or less.)

The ratio of the alkoxysilane compound having a long-chain hydrocarbon group represented by the general formula (2) to 100 parts by weight of the alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the general formula (1) is 1 part by weight. The method for producing an antireflection filter according to claim 5, wherein the amount is 150 parts by weight or less.

6. The method for producing an antireflection filter according to claim 5, wherein the thickness of the coating is 0.1 nm or more and 100 nm or less.

The method for producing an antireflection filter according to claim 5, wherein the composition further contains at least one of acid, alkali, and ester compounds thereof.

The method for producing an antireflection filter according to claim 5, further comprising acetylacetone in the composition.

10. A display device using an antireflection filter produced by the method for producing an antireflection filter according to claim 5.