JP3640153B2 - Illumination light source - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体発光素子を用いた照明光源に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体発光素子により構成される光源が種々提案され、例えば、特開平5−152609号公報には、ステム上に載置される発光素子が、一般式GaXAl1-XN(但し0≦X≦1である)で表される窒化ガリウム系化合物半導体よりなり、さらに樹脂モールド中に、窒化ガリウム系化合物半導体の発光により励起されて蛍光を発する蛍光染料、または蛍光顔料が添加されてなり、発光ピークが430nm付近、および370nm付近にある窒化ガリウム系化合物半導体材料よりなる発光素子を有するLEDの視感度を良くし、またその輝度を向上させることができる発光ダイオードが開示されている。
【0003】
また、特開平7−99345号公報には、発光チップの発光を発光観測面側に反射するカップの底部に発光チップが載置された発光素子全体を、カップ内部を充填する第一の樹脂と、その第一の樹脂を包囲する第二の樹脂とからなる樹脂で封止し、第一の樹脂には発光チップの発光波長を他の波長に変換する蛍光物質、または発光チップの発光波長を一部吸収するフィルター物質が含有され、変換された発光の集光をよくしてLEDの輝度を高め、また蛍光顔料を使用した際、波長の異なるLEDを近接して設置しても混色の起こらない発光ダイオードが開示されている。
【0004】
さらに、特許第2927279号公報には、マウント・リードのカップ内に配置させた発光層が窒化ガリウム系化合物半導体であるLEDチップと、LEDチップと導電性ワイヤーを用いて電気的に接続させたインナー・リードと、LEDチップが発光した光によって励起され発光する蛍光体を含有する透明樹脂をカップ内に充填させたコーティング部材と、コーティング部材、LEDチップ、導電性ワイヤー及びマウント・リードとインナーリードの先端を被覆するモールド部材とを有し、LEDチップは、発光スペクトルが400nmから530nmの単色性ピーク波長を発光し、蛍光体は(RE1-x Smx3(AlyGa1-y512:Ceであり(ただし、0≦x≦1、0≦y≦1、REは、Y、Gdから選択される少なくとも1種である)、且つLEDチップからの光及び蛍光体からの光はモールド部材を透過することによって白色系が発光可能な発光ダイオードが記載されている。
【0005】
上記文献には、LEDチップの発光色を蛍光体で色変換させた発光ダイオードによって、1種類のLEDチップを用いて白色系など他の発光色を発光させることができるとの記載がある。具体的には、LEDチップからの発光を波長変換した発光ダイオードとして、青色系の発光ダイオードの発光と、その発光を吸収し黄色系を発光する蛍光体からの発光との混色により白色系が発光可能であると記載されている。つまり、蛍光体からの黄色系の発光と、蛍光体に吸収されなかった発光ダイオードからの青色系の発光との混色によって、白色系の発光が得られる。
【0006】
ここで、特許第2927279号公報に記載の発光ダイオードの具体構造を説明すると、従来と同様に樹脂部が砲弾形となる発光ダイオードは、図15に示すように、リードフレームであるマウント・リード1のカップ内にLEDチップ2をマウントし、ワイヤボンディングにより電性ワイヤー3でLEDチップ2の両電極をそれぞれマウント・リード1およびインナー・リード4に接続し、マウント・リード1のカップ内にコーティング部5を設け、そしてLEDチップ2側を砲弾形のモールド部材6で覆う構造になっている。
【0007】
また、チップ型の発光ダイオードは、図16に示すように、電極11を有する筐体12にLEDチップ13をマウントし、ワイヤボンディングにより電性ワイヤー14でLEDチップ13の各電極を筐体12の各電極11に接続し、筐体12内にモールド部材15を設ける構造になっている。
【0008】
また、面状発光光源は、図17に示すように、線状光源を面状光源に変換するための導光板21などを用い、コの字形状の金属基板22にLEDチップ23を積載し、その中にフォトルミネセンスが含有されたコーティング部24を設ける構造になっている。
【0009】
さらに、LED表示器は、図18に示すように、筐体31、発光ダイオード32および充填材33などにより構成されている。現在、照明用として使用されているユニットも、これと同様に、LEDを印刷配線基板に複数個実装して構成される。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図15および図16に示す発光ダイオードでは、LEDチップがマウント・リードや筐体に実装されるので、発光ダイオードを基板上に実装する場合、2回実装しなければならず、コスト増の課題が生じる。
【0011】
また、マウント・リードのカップ内に、LEDチップの発光を変換するフォトルミネセンス蛍光体を含有するコーティング部を設ける場合、蛍光体の量の制御が困難になり、色のバラツキが生じやすくなる。例えば所望する発光色が白色である場合に蛍光体の量にバラツキが生じると、蛍光体から発せられる黄色系の光にバラツキが生じ、得られる発光色が高温度の青白い色調に変化したり、逆に低温度の黄色みがかった色調に変化したりする。このような色調のバラツキは、特に複数の光源を面状に設けた場合に、色むらとして容易に判別されてしまう。
【0012】
なお、カップ内に蛍光体(物質)を配置するためには、蛍光体を樹脂に含有させる必要がある。しかし、蛍光体を含有する樹脂は高エネルギーの青色光と素子近傍の高温に同時に晒されると劣化するので、光源としての寿命が短くなる。
【0013】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、コスト低減および色のバラツキ防止が可能になる照明光源を提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために請求項1〜3のいずれかに記載の発明の照明光源は、板状のベース部材を有し、このベース部材の一の面側に導体層が積層され、この導体層の一の面側に蛍光体層が積層されて成る実装基板と、前記実装基板の一の面上に実装される複数の半導体発光素子とを備えるのである。
【0015】
この構成では、実装の回数が1回で済むので、コストの低減が可能になる。特に、実装基板に設けられる半導体発光素子が増加するにつれてコストダウンの効果はより一層大きくなる。また、蛍光体層が分散保持する蛍光体の濃度を一定にすれば、蛍光体層の膜厚を制御するだけで、蛍光体の量的制御を非常に容易に行える。これにより、蛍光体の量を実装基板全体で均一にすることができるとともに、蛍光体の量を所定の一定値に調整することができるので、色のバラツキ防止が可能になる。
【0018】
また、前記複数の半導体発光素子の各上方に位置し、前記複数の半導体発光素子から各上方に放射された光を遮断するとともに、前記複数の半導体発光素子から放射され前記蛍光体層で予め決められた色に変換された光の光路外に設けられる遮光板を備える構成でもよい(請求項)。この構成によれば、各半導体発光素子から放射された光が蛍光体層を通らずにそのまま外部に向かう割合が低くなるので、色むらのない均質な光を得ることができる。
【0019】
また、前記複数の半導体発光素子の各上方に位置し、前記複数の半導体発光素子から各上方に放射された光を反射するとともに、前記複数の半導体発光素子から放射され前記蛍光体層で予め決められた色に変換された光の光路外に設けられる反射板を備える構成でもよい(請求項)。この構成によれば、各半導体発光素子から放射された光が蛍光体層を通らずにそのまま外部に向かう割合が低くなるので、色むらのない均質な光を得ることができる。
【0020】
また、前記複数の半導体発光素子の各上方に位置し、前記複数の半導体発光素子から各上方に放射された光を予め決められた色に変換するとともに、前記複数の半導体発光素子から放射され前記蛍光体層で予め決められた色に変換された光の光路外に設けられる蛍光板を備える構成でもよい(請求項)。この構成によれば、各半導体発光素子から放射された光が蛍光板を通るようになり、蛍光体を含有する領域を通らずにそのまま外部に向かう割合が低くなるので、色むらのない均質な光を得ることができる。
【0021】
なお、請求項1〜3のいずれかに記載の照明光源において、前記実装基板の一の面上における前記複数の半導体発光素子の各実装領域には窪みが形成されている構造でもよい(請求項4)。この構造では、例えば窪みの側面にも蛍光体層を積層すれば、半導体発光素子から放射された光のうち、実装基板側への光に加えて実装基板の一の面に沿った方向の光が窪み側面の蛍光体層により所定の色の光に変換されるので、その所定の色の光の割合を高くすることができる。そして、半導体発光素子毎の蛍光体層の面積が大きくなるので、窪みを形成しない構造の照明光源と発光色を同じ色調にする場合、蛍光体層に含有すべき蛍光体の濃度を、窪みを形成しない構造の照明光源のそれよりも低くすることができる。これにより、蛍光体間の多重散乱によって蛍光体層に光が滞在する時間が短くなるので、光化学反応による蛍光体およびこれを含有する樹脂の劣化を好適に抑制することが可能となる。
また、請求項1〜のいずれかに記載の照明光源において、前記ベース部材は金属により成り、前記ベース部材と前記導体層との間には絶縁層が積層されている構造でもよい(請求項)。この構造では、各半導体発光素子がベース部材を通じて放熱することにより、各半導体発光素子近傍の温度が低くなり、蛍光体層がエネルギーを持つ光と半導体発光素子近傍の高温に同時に晒されることによる劣化が抑制される。この結果、光源としての寿命を延ばすことが可能になる。
【0022】
さらに、請求項1〜のいずれかに記載の照明光源において、前記半導体発光素子は青色系のLED素子であり、前記蛍光体層には前記LED素子からの光で励起されると黄色系の光を発する蛍光体が含有されている構成でもよい(請求項)。この構成では、白色光の照明光源を得ることができる。
【0023】
【発明の実施の形態】
図1は本発明の第1実施形態に係る照明光源の断面構造を示す模式図、図2〜図6は図1に示す照明光源の製造手順の説明図で、これらの図を用いて以下に第1実施形態の説明を行う。ただし、図1は照明光源の断面構造の一部を示す。
【0024】
図1の照明光源は、複数の光源が例えば線状またはマトリクス状に配置されて成り、基板100(実装基板)と、この基板100に実装される複数(図1では1つのみ図示)の半導体発光素子200と、各半導体発光素子200の領域に設けられる凸レンズ状で透光性の樹脂300とにより構成されている。
【0025】
基板100は、例えば最小内径2mm程度、最大内径3mm程度のすり鉢型で窪みを形成する孔H1が複数穿設された反射枠100eが上面に一体に取着されて成る印刷配線基板により構成されている。この印刷配線基板自体は、熱伝導の良いアルミや銅などにより板状に形成される金属ベース100aを有し、この金属ベース100aの上面(一の面)に絶縁層100bが一面に積層され、この絶縁層100bの上面の必要箇所に配線パターン導体100cが積層され、この配線パターン導体100cの一部領域に蛍光体層100dが積層されて成り、所望の回路が設けられる。蛍光体層100dは、半導体発光素子200からの光で励起されると黄色系の光を発する蛍光体を分散保持するエポキシ樹脂により成り、各半導体発光素子200が実装される周辺領域、図1の例では、各孔H1により形成される窪み底面のほぼ全域に形成されている。また、反射枠100eの各孔H1の周壁は鏡面仕上げになっている。
【0026】
半導体発光素子200は、窒化ガリウム系化合物半導体より成る青色系のLED素子であり、ワイヤボンディングによるリード線Wで、対応する配線パターン導体100dにそれぞれ接続されるP,N電極を同一面(図では上面)に有するチップ状に形成されている。
【0027】
次に、上記構成の照明光源の製造手順を説明する。まず、金属ベース100aを用意して、図2に示すように、金属ベース100aの上面に絶縁層100bを積層し、この絶縁層100bの上面に配線パターン導体100cとなる導体層を積層し、続いてこの導体層の上面に蛍光体層100dを積層する。ここで、絶縁層100bを介した金属ベース100aの上面側への導体層の積層は、張り合わせにより行う方法を採ることができる。蛍光体層100dの積層は、蛍光体を含有する透光性の樹脂を導体層上に塗布することにより行う方法を採ることができる。あるいは、蛍光体を含有した透光性の樹脂をシート状に予め形成しておき、これを金属ベース100aの導体層の上面に張り合わせる方法、またはスパッタにより蒸着する方法を採り得る。
【0028】
この後、図3に示すように、所望の回路を設けるために導体層を除去すべき部分の上方にある蛍光体層100dの除去を行う。この除去方法には、種々の方法があり、例えば、少量生産の場合には、エンドミルなどで蛍光体層100dの一部を切削する方法を採り得る。これに対し、大量生産の場合には、レジスト材でマスクを行い、例えばウレソルブ(商標)などの溶剤を用いて蛍光体層100dの一部を溶解する方法、またはサンドブラストなどで蛍光体層100dの一部を剥離する方法などを採り得る。さらに、蛍光体層100dの樹脂がフォトレジストのような光反応性のものであれば、所望の部分を残すようにマスクを用いて露光を行い、この後、熱処理をしてエッチングを実行すればよい。第1実施形態では、レジスト材でマスクを行い、溶剤を用いて蛍光体層100dの一部を溶解する方法を採るが、図ではそのレジスト層の図示は省略してある。
【0029】
この後、除去せずに残した蛍光体層100dおよびその上のレジスト層をマスクにして、図4に示すように、所望の回路を設けるために除去すべき導体層の一部をエッチングにより除去する。
【0030】
この後、図5に示すように、ボンディングパッドを形成すべき領域および各半導体発光素子200が実装される周辺領域外の領域(図1参照)にある蛍光体層100dを上記と同様の方法で除去する。続いて、ボンディングに必要なニッケルおよび金の層をメッキなどの方法で形成する。これにより、基板100を構成する印刷配線基板が得られる。
【0031】
この後、基板100の各窪み内の底面中央に対応する印刷配線基板の蛍光体層100d上に(図1参照)、図6に示すように、半導体発光素子200を例えば透明樹脂で接着固定(マウント)する。このとき、必要あれば他の素子も実装されるのは言うまでもない。続いて、ワイヤボンディングによりリード線Wで、半導体発光素子200の各電極を対応する配線パターン導体100cのボンディングパッドに接続する。
【0032】
この後、上記印刷配線基板の上面に反射枠100eを接着剤などで取着し、これにより構成される基板100における各窪みに樹脂300を充填する。このとき、樹脂300は、図1に示すように、基板100の上方に向けて盛り上がる凸レンズ状に形成される。
【0033】
このように構成される照明光源では、半導体発光素子200が発光すると、青色系の光が蛍光体に吸収されて得られる黄色系の光と、蛍光体に吸収されなかった青色系の光との混色によって、白色系の発光が得られる。
【0034】
以上、第1実施形態によれば、実装の回数が1回で済むので、コストの低減が可能になる。特に、基板100に設けられる半導体発光素子200が増加するにつれてコストダウンの効果はより一層大きくなる。
【0035】
また、蛍光体層100dは薄膜形成的手法を用いて設けられるので、蛍光体層100dが分散保持する蛍光体の濃度を一定にすれば、蛍光体層100dの膜厚を制御するだけで、蛍光体の量的制御を非常に容易に行える。これにより、蛍光体の量を基板100全体で均一にすることができるとともに、蛍光体の量を所定の一定値に調整することができるので、色のバラツキ防止が可能になる。
【0036】
また、基板100は金属ベース100aを有するので、各半導体発光素子200が金属ベース100aを通じて放熱することにより、各半導体発光素子200近傍の温度が低くなり、蛍光体層100dが高エネルギーの青色光と半導体発光素子200近傍の高温に同時に晒されることによる劣化が抑制される。これにより、光源としての寿命を延ばすことが可能になる。
【0037】
さらに、基板100に蛍光体層100dを積層したので、樹脂300に蛍光体を含有する必要がなく、バインダーと混合し、焼成してバインダーを除去するなどの方法で固着させることが可能になる。
【0038】
なお、第1実施形態では、基板100のベース部材は、金属ベース100aが使用される構成になっているが、これに限らず、ガラスエポキシや紙フェノールなどにより成るベース部材が使用される構成でもよい。この場合、絶縁層100bを設ける必要がないのは言うまでもない。
【0039】
また、第1実施形態では、基板100は、反射枠100eが上面に一体に取着されて成る印刷配線基板により構成されるが、反射枠100eを使用しない構成でもよい。この構成の場合、上記製造手順において、ワイヤボンディングによりリード線Wで、半導体発光素子200の各電極を対応する配線パターン導体100cのボンディングパッドに接続した後、各半導体発光素子200に樹脂300を凸レンズ状(例えば半球状)に形成すればよい。
【0040】
さらに、第1実施形態では、半導体発光素子は、ワイヤボンディングによるリード線で、対応する配線パターン導体にそれぞれ接続されるP,N電極を同一面に有するチップ状に形成される構造になっているが、これに限らず、ダイスボンディングによる搭載接合およびワイヤボンディングによるリード線で、対応する配線パターン導体に接続されるP,N電極をそれぞれ互いに反対方向を向く両面に有するチップ状に形成される構造でもよい。あるいは、ダイスボンディングによる搭載接合で、対応する配線パターン導体にそれぞれ接続されるP,N電極を両側に有するチップ状に形成される構造でもよい。これらいずれの構造でも基板に実装可能であり、上記効果を奏することができるのは言うまでもない。
【0041】
図7は本発明の第2実施形態に係る照明光源の断面構造を示す模式図で、この図を用いて以下に第2実施形態の説明を行う。ただし、図7は照明光源の断面構造の一部を示す。
【0042】
図7の照明光源は、複数の半導体発光素子200および樹脂300などを第1実施形態と同様に備えているほか、第1実施形態との相違点として基板101を備えている。
【0043】
この基板101は、例えば最小内径3mm程度、最大内径5〜10mm程度のすり鉢型の孔H2が複数穿設された反射枠101eが上面に一体に取着されて成る印刷配線基板により構成されている。この印刷配線基板自体は、例えば最小内径2mm程度、最大内径3mm程度の逆円錐台形状の窪みCavが複数上面側に形成された金属ベース101aを有し、この金属ベース101aの上面に絶縁層101bが一面に積層され、この絶縁層101bの上面の必要箇所に配線パターン導体101cが積層され、この配線パターン導体101cの一部領域に蛍光体層101dが積層されて成り、所望の回路が設けられる。蛍光体層101dは、半導体発光素子200からの光で励起されると黄色系の光を発する蛍光体を分散保持するエポキシ樹脂により成り、各半導体発光素子200が実装される周辺領域、図7の例では、上記印刷配線基板の各窪みCavのほぼ全域に形成されている。また、反射枠101eの各孔H2の周壁は鏡面仕上げになっている。
【0044】
この構成では、半導体発光素子200から放射された光のうち、下方向への光に加えて横方向の光が蛍光体層101dにより黄色系の光に変換されるので、黄色系の光の割合が高くなる。
【0045】
以上、第2実施形態によれば、第1実施形態と同様の効果を奏することが可能になるほか、黄色系の光の割合が高くなるので、色温度を低く設定する必要がある用途に好適な照明光源を得ることができる。
【0046】
また、黄色系の光の割合が高くなるとともに、半導体発光素子200毎に、第1実施形態のように蛍光体層の全てを平面に積層するのではなく、蛍光体層の一部を窪みCavの斜面に積層することにより、半導体発光素子200毎の蛍光体層の面積が大きくなるので、発光色を第1実施形態と同じ色調にする場合、蛍光体層101dに含有すべき蛍光体の濃度を第1実施形態のそれよりも低くすることができる。これにより、蛍光体間の多重散乱によって蛍光体層101dに光が滞在する時間が短くなるので、光化学反応による蛍光体およびこれを含有する樹脂の劣化を第1実施形態よりも好適に抑制することが可能となる。
【0047】
さらに、蛍光体を含有する樹脂が半導体発光素子200から離れたところまで位置するので、半導体発光素子200の温度の影響を受け、光化学反応が促進されて劣化する割合が低くなる。
【0048】
図8は本発明の第3実施形態に係る照明光源の断面構造を示す模式図で、この図を用いて以下に第3実施形態の説明を行う。ただし、図8は照明光源の断面構造の一部を示す。
【0049】
図8の照明光源は、複数の半導体発光素子200および樹脂300などを第2実施形態と同様に備えているほか、第2実施形態との相違点として基板102を備えている。
【0050】
この基板102は、所望の回路が設けられる印刷配線基板であって、逆円錐台形状の窪みCavが複数上面側に形成された金属ベース102aを有し、この金属ベース102aの上面に絶縁層102bが一面に積層され、この絶縁層102bの上面の必要箇所に配線パターン導体102cが積層され、この配線パターン導体102cの一部領域に蛍光体層102dが積層されて成る。
【0051】
次に、上記照明光源の製造手順の一例を説明する。まず、金属ベース102aを用意して、第1実施形態と同様に、金属ベース102aの上面に絶縁層102bを積層し、この絶縁層102bの上面に導体層を積層し、続いてこの導体層の上面に蛍光体層102dを積層する。
【0052】
この後、所望の回路を設けるために導体層を除去すべき部分の上方にある蛍光体層102dを除去し、続いて所望の回路を設けるために除去すべき導体層の一部をエッチングにより除去する。これにより、配線パターン導体102cが形成される。
【0053】
この後、ボンディングパッドを形成すべき領域および各半導体発光素子200が実装される周辺領域外の領域(図8参照)にある蛍光体層102dを除去し、続いてボンディングに必要なニッケルおよび金の層をメッキなどの方法で形成する。これにより、基板102が得られる。
【0054】
この後、基板102の各窪みCav内の底面中央に位置する蛍光体層102d上に(図8参照)、半導体発光素子200をマウントし、続いてワイヤボンディングによりリード線Wで、半導体発光素子200の各電極を対応する配線パターン導体102cのボンディングパッドに接続する。
【0055】
この後、基板102の各窪みCavに樹脂300を充填する。このとき、樹脂300は、図8に示すように、基板102の上方に向けて盛り上がる凸レンズ状に形成される。
【0056】
以上、第3実施形態によれば、第2実施形態と同様の効果を奏することが可能になる。また、各窪みCavに反射板の機能を持たせれば、反射枠を具備した場合と同様の配光が可能になる。
【0057】
なお、第3実施形態では、図8に示すように、各窪みCavが金属ベース102aに形成されるが、各窪みCavをプレスなどで形成してもよい。このプレス成形の場合には、図9に示すように、金属ベースの下面に突部102fが形成される。また、プレス成形は、基板102の製作前に実行される手順でもよく、あるいは基板102の製作後に実行される手順でもよい。このようなプレス成形については、第3実施形態に限らず、第2実施形態の金属ベース101aにも適用可能である。
【0058】
また、第3実施形態では、基板102のベース部材は、金属ベース102aになっているが、これに限らず、図10に示すように、ガラスエポキシや紙フェノールなどにより成る基板(樹脂基板)に配線をメッキなどで設けたベース部材MIDでもよい。この場合、図10に示すように、絶縁層102bは不要になる。このようなベース部材も、第2実施形態の金属ベース101aに代えて適用可能である。
【0059】
図11は本発明の第4実施形態に係る照明光源の断面構造を示す模式図で、この図を用いて以下に第4実施形態の説明を行う。ただし、図11は照明光源の断面構造の一部を示す。
【0060】
図11の照明光源は、基板102および樹脂300などを第3実施形態と同様に備えているほか、第3実施形態との相違点として基板102に実装される複数の半導体発光素子201を備えている。
【0061】
半導体発光素子201は、窒化ガリウム系化合物半導体より成る青色系のLED素子201aを有し、ワイヤボンディングによるリード線Wで、対応する配線パターン導体102cにそれぞれ接続されるP,N電極を同一面に有するチップ状に形成され、LED素子201aの光で励起されると黄色系の光を発する蛍光体層201bがLED素子201aの上面にコーティングされて成る。
【0062】
ここで、仮に、各LED素子201aの上面に蛍光体層201bをコーティングするだけでは、各半導体発光素子201から下方および横方向に放射された光が蛍光体層201bを通らずにそのまま外部に放射する割合が大きく、青色系の光と波長変換された黄色系の光との比率によって色調が決定されることから、レンズによる集光後の色調にむらが生じることになる。また、仮に、基板102の上面に蛍光体層102dを積層するだけでは、各半導体発光素子201から上方に放射された光が蛍光体層102dを通らずにそのまま外部に放射することになるので、レンズによる集光後の色調にむらが生じることになる。これらに対し、第4実施形態では、各半導体発光素子201から放射されたほぼ全方向の光が均等に蛍光体を含有する領域を通るので、色むらのない均質な白色光を得ることができる。
【0063】
以上、第4実施形態によれば、第3実施形態と同様の効果を奏することが可能になるほか、半導体発光素子201に蛍光体層201bを設けることで、色むらのない均質な白色光を得ることができる。
【0064】
図12は本発明の第5実施形態に係る照明光源の断面構造を示す模式図で、この図を用いて以下に第5実施形態の説明を行う。ただし、図12は照明光源の断面構造の一部を示す。
【0065】
図12の照明光源は、基板102、複数の半導体発光素子200、および樹脂300などを第3実施形態と同様に備えているほか、第3実施形態との相違点として、各半導体発光素子200上方(前方)の樹脂300内に設けられ、半導体発光素子200の直接光を遮断するための遮光板400を備えている。
【0066】
ここで、遮光板400の大きさは、半導体発光素子200からの距離、必要な光量および光の均質度に応じて設定される。例えば、半導体発光素子200から離れるほど、半導体発光素子200の直接光を遮断するために、遮光板400は大きくなるが、この遮光板400の大きさは、必要な光量および光の均質度に応じて制限される。
【0067】
次に、上記照明光源の製造手順の一例を説明する。まず、基板102を用意して、基板102の各窪みCav内の底面中央に位置する蛍光体層102d上に、半導体発光素子200をマウントし、続いてワイヤボンディングによりリード線Wで、半導体発光素子200の各電極を対応する配線パターン導体102cのボンディングパッドに接続する。
【0068】
この後、基板102の各窪みCavに樹脂300を途中まで充填し、若干硬化した後に遮光板400を半導体発光素子200の上方に載置し、続いてその上に樹脂300を充填する。このとき、樹脂300は、図12に示すように、基板102の上方に向けて盛り上がる凸レンズ状に形成される。
【0069】
以上、第5実施形態によれば、各半導体発光素子200から放射された光が蛍光体層102dを通らずにそのまま外部に向かう割合が低くなるので、第4実施形態と同様の効果を奏することが可能になる。
【0070】
図13は本発明の第6実施形態に係る照明光源の断面構造を示す模式図で、この図を用いて以下に第6実施形態の説明を行う。ただし、図13は照明光源の断面構造の一部を示す。
【0071】
図13の照明光源は、基板102、複数の半導体発光素子200、および樹脂300などを第3実施形態と同様に備えているほか、第3実施形態との相違点として、各半導体発光素子200上方の樹脂300内に設けられ、半導体発光素子200の直接光を下側に反射するための反射板401を備えている。
【0072】
この反射板401は、第5実施形態の遮光板400と同様にして設けられ、図13の例では、下に凸の凸面鏡になっている。反射板401は、平板状でもよいが下に凸の凸面形状に形成されることで、半導体発光素子200からの光を基板102上の蛍光体層102d全体に均等に反射することができる。
【0073】
以上、第6実施形態によれば、各半導体発光素子200から放射された光が蛍光体層102dを通らずにそのまま外部に向かう割合が低くなるので、第4実施形態と同様の効果を奏することが可能になる。
【0074】
図14は本発明の第7実施形態に係る照明光源の断面構造を示す模式図で、この図を用いて以下に第7実施形態の説明を行う。ただし、図14は照明光源の断面構造の一部を示す。
【0075】
図14の照明光源は、基板102、複数の半導体発光素子200、および樹脂300などを第3実施形態と同様に備えているほか、第3実施形態との相違点として複数の樹脂板402を備えている。
【0076】
樹脂板402は、半導体発光素子200からの光で励起されると黄色系の光を発する蛍光体を分散保持する板状で透光性の樹脂により成り、各半導体発光素子200上方の樹脂300内に設けられている。また、樹脂板402は、第5実施形態の遮光板400と同様の大きさに形成される構成でもよいが、半導体発光素子200から上方に放射される光が樹脂板402で遮断されないので、樹脂板402を遮光板400より大きくしても構わない。
【0077】
以上、第7実施形態によれば、各半導体発光素子200から放射された光が樹脂板402を通ることになり、蛍光体を含有する領域を通らずにそのまま外部に向かう割合が低くなるので、第4実施形態と同様の効果を奏することが可能になる。
【0078】
【発明の効果】
以上のことから明らかなように、請求項1〜3のいずれかに記載の発明によれば、板状のベース部材を有し、このベース部材の一の面側に導体層が積層され、この導体層の一の面側に蛍光体層が積層されて成る実装基板と、前記実装基板の一の面上に実装される複数の半導体発光素子とを備えるので、コストの低減および色のバラツキ防止が可能になる。
【0081】
請求項記載の発明によれば、前記複数の半導体発光素子の各上方に位置し、前記複数の半導体発光素子から各上方に放射された光を遮断するとともに、前記複数の半導体発光素子から放射され前記蛍光体層で予め決められた色に変換された光の光路外に設けられる遮光板を備えるので、色むらのない均質な光を得ることができる。
【0082】
請求項記載の発明によれば、前記複数の半導体発光素子の各上方に位置し、前記複数の半導体発光素子から各上方に放射された光を反射するとともに、前記複数の半導体発光素子から放射され前記蛍光体層で予め決められた色に変換された光の光路外に設けられる反射板を備えるので、色むらのない均質な光を得ることができる。
【0083】
請求項記載の発明によれば、前記複数の半導体発光素子の各上方に位置し、前記複数の半導体発光素子から各上方に放射された光を予め決められた色に変換するとともに、前記複数の半導体発光素子から放射され前記蛍光体層で予め決められた色に変換された光の光路外に設けられる蛍光板を備えるので、色むらのない均質な光を得ることができる。
【0084】
請求項4記載の発明によれば、請求項1〜3のいずれかに記載の照明光源において、前記実装基板の一の面上における前記複数の半導体発光素子の各実装領域には窪みが形成されているので、例えば窪みの側面にも蛍光体層を積層すれば、蛍光体層により変換される所定の色の光の割合を高くすることができるとともに、蛍光体層に含有すべき蛍光体の濃度を、窪みを形成しない構造の照明光源のそれよりも低くすることができ、この結果、光化学反応による蛍光体およびこれを含有する樹脂の劣化を好適に抑制することが可能となる。
請求項記載の発明によれば、請求項1〜のいずれかに記載の照明光源において、前記ベース部材は金属により成り、前記ベース部材と前記導体層との間には絶縁層が積層されているので、光源としての寿命を延ばすことが可能になる。
【0085】
請求項記載の発明によれば、請求項1〜のいずれかに記載の照明光源において、前記半導体発光素子は青色系のLED素子であり、前記蛍光体層には前記LED素子からの光で励起されると黄色系の光を発する蛍光体が含有されているので、白色光の照明光源を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態に係る照明光源の断面構造を示す模式図である。
【図2】図1に示す照明光源の製造手順の説明図である。
【図3】図1に示す照明光源の製造手順の説明図である。
【図4】図1に示す照明光源の製造手順の説明図である。
【図5】図1に示す照明光源の製造手順の説明図である。
【図6】図1に示す照明光源の製造手順の説明図である。
【図7】本発明の第2実施形態に係る照明光源の断面構造を示す模式図である。
【図8】本発明の第3実施形態に係る照明光源の断面構造を示す模式図である。
【図9】プレス成形で形成された窪みを有する金属ベースの断面構造を示す模式図である。
【図10】金属ベースに代わる別のベース部材の断面構造を示す模式図である。
【図11】本発明の第4実施形態に係る照明光源の断面構造を示す模式図である。
【図12】本発明の第5実施形態に係る照明光源の断面構造を示す模式図である。
【図13】本発明の第6実施形態に係る照明光源の断面構造を示す模式図である。
【図14】本発明の第7実施形態に係る照明光源の断面構造を示す模式図である。
【図15】従来の発光ダイオードの断面構造を示す模式図である。
【図16】従来の発光ダイオードの断面構造を示す模式図である。
【図17】従来の面状発光光源の断面構造を示す模式図である。
【図18】従来のLED表示器を示す模式図である。
【符号の説明】
100,101,102 基板
100a,101a,102a 金属ベース
100b,101b,102b 絶縁層
100c,101c,102c 配線パターン導体
100d,101d,102d 蛍光体層
100e,101e 反射枠
200,201 半導体発光素子
300 樹脂
400 遮光板
401 反射板
402 樹脂板
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an illumination light source using a semiconductor light emitting element.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, various light sources composed of semiconductor light emitting elements have been proposed. For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-152609, a light emitting element placed on a stem is represented by a general formula Ga.XAl1-XA fluorescent dye or a fluorescent pigment which is made of a gallium nitride compound semiconductor represented by N (where 0 ≦ X ≦ 1) and emits fluorescence when excited by light emission of the gallium nitride compound semiconductor in a resin mold. A light-emitting diode that can improve the luminance and improve the luminance of an LED having a light-emitting element made of a gallium nitride-based compound semiconductor material having an emission peak near 430 nm and 370 nm is disclosed. ing.
[0003]
Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-99345 discloses a light emitting device in which the light emitting chip is mounted on the bottom of the cup that reflects the light emitted from the light emitting chip to the light emission observation surface side. The first resin is sealed with a resin made of a second resin surrounding the first resin, and the first resin has a fluorescent substance that converts the emission wavelength of the light-emitting chip to another wavelength, or the emission wavelength of the light-emitting chip. It contains a filter material that absorbs part of the light, improves the concentration of the converted light emission to increase the brightness of the LED, and when fluorescent pigments are used, even if LEDs with different wavelengths are placed close together, color mixing will not occur. No light emitting diode is disclosed.
[0004]
Further, Japanese Patent No. 2927279 discloses an LED chip in which a light emitting layer disposed in a cup of a mount lead is a gallium nitride compound semiconductor, and an inner connected electrically using an LED chip and a conductive wire. A coating member in which a transparent resin containing a lead and a phosphor that emits light emitted by light emitted from the LED chip is filled in the cup, a coating member, an LED chip, a conductive wire, and a mount lead and an inner lead The LED chip emits a monochromatic peak wavelength with an emission spectrum of 400 nm to 530 nm, and the phosphor is (RE1-x  Smx)Three(AlyGa1-y)FiveO12: Ce (where 0 ≦ x ≦ 1, 0 ≦ y ≦ 1, RE is at least one selected from Y and Gd), and the light from the LED chip and the light from the phosphor are molds A light-emitting diode capable of emitting white light by passing through a member is described.
[0005]
In the above document, there is a description that a light emitting diode in which the light emission color of an LED chip is color-converted with a phosphor can emit other light emission colors such as a white color using one type of LED chip. Specifically, as a light emitting diode whose wavelength is converted from the light emitted from the LED chip, a white light is emitted by a mixture of light emitted from a blue light emitting diode and light emitted from a phosphor that absorbs the light emitted and emits yellow light. It is stated that it is possible. In other words, white light emission is obtained by a color mixture of yellow light emission from the phosphor and blue light emission from the light emitting diode that is not absorbed by the phosphor.
[0006]
Here, the specific structure of the light emitting diode described in Japanese Patent No. 2927279 will be described. As shown in FIG. 15, the light emitting diode having a bullet-shaped resin portion is mounted on a mount lead 1 as a lead frame. The LED chip 2 is mounted in the cup, and both electrodes of the LED chip 2 are connected to the mount lead 1 and the inner lead 4 by the electric wire 3 by wire bonding, respectively, and the coating portion is mounted in the cup of the mount lead 1 5, and the LED chip 2 side is covered with a bullet-shaped mold member 6.
[0007]
Further, as shown in FIG. 16, in the chip-type light emitting diode, an LED chip 13 is mounted on a housing 12 having an electrode 11, and each electrode of the LED chip 13 is connected to the housing 12 by an electric wire 14 by wire bonding. The mold member 15 is provided in the housing 12 so as to be connected to each electrode 11.
[0008]
In addition, as shown in FIG. 17, the planar light source uses a light guide plate 21 or the like for converting a linear light source into a planar light source, and the LED chip 23 is mounted on a U-shaped metal substrate 22. It has a structure in which a coating portion 24 containing photoluminescence is provided.
[0009]
Furthermore, as shown in FIG. 18, the LED display is composed of a casing 31, a light emitting diode 32, a filler 33, and the like. The unit currently used for illumination is similarly configured by mounting a plurality of LEDs on a printed wiring board.
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the light emitting diode shown in FIGS. 15 and 16, since the LED chip is mounted on the mount lead or the housing, when the light emitting diode is mounted on the substrate, it must be mounted twice, which increases the cost. Challenges arise.
[0011]
Further, when a coating portion containing a photoluminescent phosphor that converts the light emission of the LED chip is provided in the cup of the mount lead, it becomes difficult to control the amount of the phosphor, and color variation tends to occur. For example, when the desired emission color is white and the amount of phosphor varies, the yellow light emitted from the phosphor varies, and the resulting emission color changes to a high-temperature pale color tone, Conversely, it changes to a yellowish hue at low temperature. Such color variation is easily determined as color unevenness, particularly when a plurality of light sources are provided in a planar shape.
[0012]
In addition, in order to arrange | position a fluorescent substance (substance) in a cup, it is necessary to make fluorescent substance contain in resin. However, since the resin containing the phosphor deteriorates when exposed to high-energy blue light and a high temperature in the vicinity of the device at the same time, the lifetime as a light source is shortened.
[0013]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an illumination light source capable of reducing cost and preventing color variation.
[0014]
[Means for Solving the Problems]
  In order to solve the above problem, claim 1 is provided.To any of ~ 3The illumination light source according to the invention has a plate-like base member, a conductor layer is laminated on one surface side of the base member, and a phosphor layer is laminated on one surface side of the conductor layer. A substrate and a plurality of semiconductor light emitting elements mounted on one surface of the mounting substrate are provided.
[0015]
In this configuration, since the number of times of mounting is one, the cost can be reduced. In particular, as the number of semiconductor light emitting elements provided on the mounting substrate increases, the cost reduction effect becomes even greater. Further, if the concentration of the phosphor held in a dispersed manner by the phosphor layer is made constant, it is very easy to quantitatively control the phosphor simply by controlling the thickness of the phosphor layer. As a result, the amount of the phosphor can be made uniform over the entire mounting substrate, and the amount of the phosphor can be adjusted to a predetermined constant value, thereby preventing color variation.
[0018]
  Also,in frontAbove each of the plurality of semiconductor light emitting devicesPositioned and blocks light emitted upward from each of the plurality of semiconductor light emitting elements and out of an optical path of light emitted from the plurality of semiconductor light emitting elements and converted into a predetermined color by the phosphor layer.A structure provided with a light-shielding plate may be provided.1). According to this configuration, since the ratio of the light emitted from each semiconductor light emitting element to the outside without passing through the phosphor layer is reduced, uniform light without color unevenness can be obtained.
[0019]
  Also,in frontAbove each of the plurality of semiconductor light emitting devicesPositioned and reflects light emitted upward from each of the plurality of semiconductor light emitting elements and out of an optical path of light emitted from the plurality of semiconductor light emitting elements and converted into a predetermined color by the phosphor layer.A structure provided with a reflecting plate may be provided.2). According to this configuration, since the ratio of the light emitted from each semiconductor light emitting element to the outside without passing through the phosphor layer is reduced, uniform light without color unevenness can be obtained.
[0020]
  Also,in frontAbove each of the plurality of semiconductor light emitting devicesPositioned and converts light emitted upward from each of the plurality of semiconductor light emitting elements into a predetermined color and emitted from the plurality of semiconductor light emitting elements to be converted into a predetermined color by the phosphor layer. Outside the light pathA configuration including a fluorescent plate may be provided.3). According to this configuration, the light emitted from each semiconductor light-emitting element passes through the fluorescent plate, and the rate of going directly to the outside without passing through the phosphor-containing region is reduced. Can be obtained.
[0021]
  The illumination light source according to any one of claims 1 to 3 may have a structure in which a depression is formed in each mounting region of the plurality of semiconductor light emitting elements on one surface of the mounting substrate. 4). In this structure, for example, if a phosphor layer is also laminated on the side surface of the recess, light emitted from the semiconductor light emitting element is emitted in a direction along one surface of the mounting substrate in addition to the light toward the mounting substrate. Is converted into light of a predetermined color by the phosphor layer on the side surface of the depression, so that the ratio of the light of the predetermined color can be increased. And since the area of the phosphor layer for each semiconductor light-emitting element becomes large, when making the emission color the same color as the illumination light source having a structure that does not form the depression, the concentration of the phosphor to be contained in the phosphor layer is changed to the depression. It can be made lower than that of an illumination light source having a structure not formed. As a result, the time during which the light stays in the phosphor layer due to multiple scattering between the phosphors is shortened, so that it is possible to suitably suppress deterioration of the phosphor and the resin containing the phosphor due to the photochemical reaction.
  Claims 1 to4In the illumination light source according to any one of the above, the base member may be made of metal, and an insulating layer may be laminated between the base member and the conductor layer.5). In this structure, each semiconductor light emitting element dissipates heat through the base member, so that the temperature near each semiconductor light emitting element is lowered, and the phosphor layer is deteriorated due to simultaneous exposure to energetic light and high temperature near the semiconductor light emitting element. Is suppressed. As a result, the lifetime as a light source can be extended.
[0022]
  Furthermore, claims 1 to5In the illumination light source according to any one of the above, the semiconductor light emitting element is a blue LED element, and the phosphor layer contains a phosphor that emits yellow light when excited by light from the LED element. May be configured (claims)6). With this configuration, an illumination light source of white light can be obtained.
[0023]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
FIG. 1 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of an illumination light source according to the first embodiment of the present invention, and FIGS. 2 to 6 are explanatory diagrams of the manufacturing procedure of the illumination light source shown in FIG. The first embodiment will be described. However, FIG. 1 shows a part of the sectional structure of the illumination light source.
[0024]
The illumination light source of FIG. 1 is formed by arranging a plurality of light sources in, for example, a linear shape or a matrix shape, and a substrate 100 (mounting substrate) and a plurality of (only one is shown in FIG. 1) semiconductors mounted on the substrate 100. The light-emitting element 200 and a convex lens-shaped and translucent resin 300 provided in the region of each semiconductor light-emitting element 200 are configured.
[0025]
The substrate 100 is constituted by a printed wiring board in which, for example, a reflective frame 100e having a plurality of holes H1 formed with a mortar shape having a minimum inner diameter of about 2 mm and a maximum inner diameter of about 3 mm is integrally attached to the upper surface. Yes. The printed wiring board itself has a metal base 100a formed in a plate shape from aluminum, copper, or the like having good thermal conductivity, and an insulating layer 100b is laminated on the upper surface (one surface) of the metal base 100a, A wiring pattern conductor 100c is laminated on a necessary portion of the upper surface of the insulating layer 100b, and a phosphor layer 100d is laminated on a partial region of the wiring pattern conductor 100c, thereby providing a desired circuit. The phosphor layer 100d is made of an epoxy resin that disperses and holds a phosphor that emits yellow light when excited by light from the semiconductor light emitting device 200, and is a peripheral region in which each semiconductor light emitting device 200 is mounted, as shown in FIG. In the example, it is formed over almost the entire bottom surface of the recess formed by each hole H1. Further, the peripheral wall of each hole H1 of the reflection frame 100e has a mirror finish.
[0026]
The semiconductor light emitting device 200 is a blue LED device made of a gallium nitride compound semiconductor, and P and N electrodes respectively connected to the corresponding wiring pattern conductor 100d by the lead wire W by wire bonding (on the drawing). It is formed in a chip shape on the upper surface.
[0027]
Next, a manufacturing procedure of the illumination light source having the above configuration will be described. First, a metal base 100a is prepared, and as shown in FIG. 2, an insulating layer 100b is laminated on the upper surface of the metal base 100a, and a conductor layer that becomes the wiring pattern conductor 100c is laminated on the upper surface of the insulating layer 100b. A phosphor layer 100d is laminated on the upper surface of the lever conductor layer. Here, lamination of the conductor layer on the upper surface side of the metal base 100a through the insulating layer 100b can be performed by bonding. The lamination of the phosphor layer 100d can be performed by applying a translucent resin containing a phosphor on the conductor layer. Alternatively, it is possible to adopt a method in which a translucent resin containing a phosphor is formed in advance in a sheet shape, and this is attached to the upper surface of the conductor layer of the metal base 100a, or a method of vapor deposition by sputtering.
[0028]
Thereafter, as shown in FIG. 3, in order to provide a desired circuit, the phosphor layer 100d above the portion where the conductor layer is to be removed is removed. There are various removal methods. For example, in the case of small-scale production, a method of cutting a part of the phosphor layer 100d with an end mill or the like can be employed. On the other hand, in the case of mass production, a mask is formed with a resist material, and for example, a method of dissolving a part of the phosphor layer 100d using a solvent such as Uresolve (trademark), or sand blasting is used to form the phosphor layer 100d. A method of peeling a part or the like may be employed. Further, if the resin of the phosphor layer 100d is photoreactive such as a photoresist, exposure is performed using a mask so as to leave a desired portion, and then etching is performed by heat treatment. Good. In the first embodiment, a method of masking with a resist material and dissolving a part of the phosphor layer 100d using a solvent is employed, but the illustration of the resist layer is omitted in the drawing.
[0029]
Thereafter, using the phosphor layer 100d left without being removed and the resist layer thereon as a mask, as shown in FIG. 4, a part of the conductor layer to be removed to provide a desired circuit is removed by etching. To do.
[0030]
Thereafter, as shown in FIG. 5, the phosphor layer 100d in the region where the bonding pad is to be formed and the region outside the peripheral region where each semiconductor light emitting element 200 is mounted (see FIG. 1) is formed by the same method as described above. Remove. Subsequently, nickel and gold layers necessary for bonding are formed by a method such as plating. Thereby, the printed wiring board which comprises the board | substrate 100 is obtained.
[0031]
Thereafter, on the phosphor layer 100d of the printed wiring board corresponding to the center of the bottom surface in each recess of the substrate 100 (see FIG. 1), as shown in FIG. Mount). At this time, it goes without saying that other elements are mounted if necessary. Subsequently, each electrode of the semiconductor light emitting element 200 is connected to the bonding pad of the corresponding wiring pattern conductor 100c by the lead wire W by wire bonding.
[0032]
Thereafter, the reflective frame 100e is attached to the upper surface of the printed wiring board with an adhesive or the like, and the resin 300 is filled in each recess in the substrate 100 constituted by the reflective frame 100e. At this time, as shown in FIG. 1, the resin 300 is formed in a convex lens shape that rises upward from the substrate 100.
[0033]
In the illumination light source configured as described above, when the semiconductor light emitting element 200 emits light, the yellow light obtained by absorbing the blue light by the phosphor and the blue light not absorbed by the phosphor. White light emission is obtained by the color mixture.
[0034]
As described above, according to the first embodiment, since the number of times of mounting is one, the cost can be reduced. In particular, as the number of semiconductor light emitting elements 200 provided on the substrate 100 increases, the cost reduction effect becomes even greater.
[0035]
In addition, since the phosphor layer 100d is provided by using a thin film formation method, if the concentration of the phosphor dispersed and held by the phosphor layer 100d is made constant, the phosphor layer 100d can be obtained by simply controlling the film thickness of the phosphor layer 100d. Quantitative control of the body is very easy. As a result, the amount of the phosphor can be made uniform throughout the substrate 100, and the amount of the phosphor can be adjusted to a predetermined constant value, thereby preventing color variation.
[0036]
In addition, since the substrate 100 has the metal base 100a, each semiconductor light emitting element 200 dissipates heat through the metal base 100a, so that the temperature in the vicinity of each semiconductor light emitting element 200 is lowered, and the phosphor layer 100d has high energy blue light. Deterioration due to simultaneous exposure to high temperatures near the semiconductor light emitting device 200 is suppressed. Thereby, it becomes possible to extend the lifetime as a light source.
[0037]
Furthermore, since the phosphor layer 100d is laminated on the substrate 100, the resin 300 does not need to contain the phosphor, and can be fixed by a method such as mixing with a binder and baking to remove the binder.
[0038]
In the first embodiment, the base member of the substrate 100 is configured to use the metal base 100a. However, the present invention is not limited to this, and the base member made of glass epoxy or paper phenol may be used. Good. In this case, needless to say, it is not necessary to provide the insulating layer 100b.
[0039]
In the first embodiment, the substrate 100 is configured by a printed wiring board in which the reflection frame 100e is integrally attached to the upper surface, but may be configured not to use the reflection frame 100e. In the case of this configuration, after connecting each electrode of the semiconductor light emitting element 200 to the bonding pad of the corresponding wiring pattern conductor 100c with the lead wire W by wire bonding in the above manufacturing procedure, the resin 300 is applied to each semiconductor light emitting element 200 with a convex lens. What is necessary is just to form in a shape (for example, hemisphere).
[0040]
Furthermore, in the first embodiment, the semiconductor light emitting element is a lead wire formed by wire bonding and has a structure formed in a chip shape having P and N electrodes respectively connected to corresponding wiring pattern conductors on the same surface. However, the structure is not limited to this, and is formed in a chip shape having P and N electrodes connected to corresponding wiring pattern conductors on both surfaces facing in opposite directions by mounting bonding by die bonding and lead wires by wire bonding, respectively. But you can. Or the structure formed in the chip | tip form which has the P and N electrode respectively connected by the mounting joining by die bonding to a corresponding wiring pattern conductor on both sides may be sufficient. Needless to say, any of these structures can be mounted on a substrate, and the above-described effects can be achieved.
[0041]
FIG. 7 is a schematic view showing a cross-sectional structure of an illumination light source according to the second embodiment of the present invention. The second embodiment will be described below with reference to this figure. However, FIG. 7 shows a part of the sectional structure of the illumination light source.
[0042]
The illumination light source of FIG. 7 includes a plurality of semiconductor light emitting elements 200, a resin 300, and the like as in the first embodiment, and also includes a substrate 101 as a difference from the first embodiment.
[0043]
The substrate 101 is formed of a printed wiring board in which a reflective frame 101e having a plurality of mortar-shaped holes H2 having a minimum inner diameter of about 3 mm and a maximum inner diameter of about 5 to 10 mm is integrally attached to the upper surface. . The printed wiring board itself has a metal base 101a in which, for example, inverted frustoconical recesses Cav having a minimum inner diameter of about 2 mm and a maximum inner diameter of about 3 mm are formed on the upper surface side, and an insulating layer 101b is formed on the upper surface of the metal base 101a. Are laminated on one surface, and a wiring pattern conductor 101c is laminated on a necessary portion of the upper surface of the insulating layer 101b, and a phosphor layer 101d is laminated on a partial region of the wiring pattern conductor 101c to provide a desired circuit. . The phosphor layer 101d is made of an epoxy resin that disperses and holds a phosphor that emits yellow light when excited by light from the semiconductor light emitting device 200, and is a peripheral region in which each semiconductor light emitting device 200 is mounted, as shown in FIG. In the example, it is formed in almost the entire area of each recess Cav of the printed wiring board. Further, the peripheral wall of each hole H2 of the reflection frame 101e has a mirror finish.
[0044]
In this configuration, in the light emitted from the semiconductor light emitting device 200, the light in the lateral direction in addition to the light in the downward direction is converted into yellow light by the phosphor layer 101d. Therefore, the ratio of the yellow light Becomes higher.
[0045]
As described above, according to the second embodiment, it is possible to achieve the same effect as that of the first embodiment, and since the ratio of yellow light is increased, it is suitable for an application where the color temperature needs to be set low. A simple illumination light source can be obtained.
[0046]
In addition, the ratio of yellow light is increased, and for each semiconductor light emitting element 200, not all of the phosphor layer is laminated on a plane as in the first embodiment, but a portion of the phosphor layer is recessed Cav. Since the area of the phosphor layer for each semiconductor light emitting element 200 is increased by stacking on the slope, the concentration of the phosphor to be contained in the phosphor layer 101d when the emission color is the same as that of the first embodiment. Can be made lower than that of the first embodiment. This shortens the time during which the light stays in the phosphor layer 101d due to multiple scattering between the phosphors, so that deterioration of the phosphor and the resin containing the phosphor due to the photochemical reaction is more preferably suppressed than in the first embodiment. Is possible.
[0047]
Further, since the resin containing the phosphor is located far from the semiconductor light emitting device 200, the rate of deterioration due to the effect of the temperature of the semiconductor light emitting device 200 is accelerated and the photochemical reaction is accelerated.
[0048]
FIG. 8 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of an illumination light source according to the third embodiment of the present invention. The third embodiment will be described below with reference to this figure. However, FIG. 8 shows a part of a sectional structure of the illumination light source.
[0049]
The illumination light source of FIG. 8 includes a plurality of semiconductor light emitting elements 200 and a resin 300 as in the second embodiment, and also includes a substrate 102 as a difference from the second embodiment.
[0050]
The substrate 102 is a printed wiring board on which a desired circuit is provided, and has a metal base 102a having a plurality of inverted truncated cone-shaped depressions Cav formed on the upper surface side, and an insulating layer 102b on the upper surface of the metal base 102a. Are laminated on one surface, a wiring pattern conductor 102c is laminated on a necessary portion of the upper surface of the insulating layer 102b, and a phosphor layer 102d is laminated on a partial region of the wiring pattern conductor 102c.
[0051]
Next, an example of the manufacturing procedure of the illumination light source will be described. First, a metal base 102a is prepared, and similarly to the first embodiment, an insulating layer 102b is laminated on the upper surface of the metal base 102a, a conductor layer is laminated on the upper surface of the insulating layer 102b, and then the conductor layer is formed. A phosphor layer 102d is laminated on the upper surface.
[0052]
Thereafter, in order to provide a desired circuit, the phosphor layer 102d above the portion where the conductor layer is to be removed is removed, and then a part of the conductor layer to be removed is removed by etching in order to provide the desired circuit. To do. Thereby, the wiring pattern conductor 102c is formed.
[0053]
Thereafter, the phosphor layer 102d in the region where the bonding pad is to be formed and the region outside the peripheral region where each semiconductor light emitting element 200 is mounted (see FIG. 8) is removed, and subsequently nickel and gold necessary for bonding are removed. The layer is formed by a method such as plating. Thereby, the substrate 102 is obtained.
[0054]
Thereafter, the semiconductor light emitting device 200 is mounted on the phosphor layer 102d located at the center of the bottom surface in each recess Cav of the substrate 102 (see FIG. 8), and then the semiconductor light emitting device 200 is connected with the lead wire W by wire bonding. Are connected to the bonding pads of the corresponding wiring pattern conductor 102c.
[0055]
Thereafter, the resin 300 is filled in each recess Cav of the substrate 102. At this time, as shown in FIG. 8, the resin 300 is formed in a convex lens shape that rises upward from the substrate 102.
[0056]
As described above, according to the third embodiment, it is possible to achieve the same effects as those of the second embodiment. Further, if each recess Cav is provided with a function of a reflecting plate, the same light distribution as when a reflecting frame is provided is possible.
[0057]
In the third embodiment, as shown in FIG. 8, each recess Cav is formed in the metal base 102a. However, each recess Cav may be formed by a press or the like. In the case of this press molding, as shown in FIG. 9, the protrusion 102f is formed on the lower surface of the metal base. Further, the press molding may be a procedure executed before manufacturing the substrate 102 or may be a procedure executed after manufacturing the substrate 102. Such press forming is not limited to the third embodiment, but can be applied to the metal base 101a of the second embodiment.
[0058]
In the third embodiment, the base member of the substrate 102 is the metal base 102a. However, the present invention is not limited to this, and as shown in FIG. 10, a substrate (resin substrate) made of glass epoxy or paper phenol is used. A base member MID in which wiring is provided by plating or the like may be used. In this case, as shown in FIG. 10, the insulating layer 102b is unnecessary. Such a base member is also applicable instead of the metal base 101a of the second embodiment.
[0059]
FIG. 11 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of an illumination light source according to the fourth embodiment of the present invention. The fourth embodiment will be described below with reference to this figure. However, FIG. 11 shows a part of the sectional structure of the illumination light source.
[0060]
The illumination light source of FIG. 11 includes a substrate 102, a resin 300, and the like as in the third embodiment, and also includes a plurality of semiconductor light emitting elements 201 mounted on the substrate 102 as a difference from the third embodiment. Yes.
[0061]
The semiconductor light emitting element 201 has a blue LED element 201a made of a gallium nitride compound semiconductor, and P and N electrodes connected to the corresponding wiring pattern conductor 102c on the same surface by lead wires W by wire bonding, respectively. A phosphor layer 201b that is formed in a chip shape and emits yellow light when excited by the light of the LED element 201a is coated on the upper surface of the LED element 201a.
[0062]
Here, if only the upper surface of each LED element 201a is coated with the phosphor layer 201b, the light emitted downward and laterally from each semiconductor light emitting element 201 is directly emitted outside without passing through the phosphor layer 201b. Since the color tone is determined by the ratio between the blue light and the wavelength-converted yellow light, the color tone after light collection by the lens becomes uneven. In addition, if the phosphor layer 102d is simply laminated on the upper surface of the substrate 102, the light emitted upward from each semiconductor light emitting element 201 is emitted as it is without passing through the phosphor layer 102d. Unevenness occurs in the color tone after being condensed by the lens. On the other hand, in the fourth embodiment, light in almost all directions emitted from each semiconductor light emitting element 201 passes through the region containing the phosphor uniformly, so that uniform white light without color unevenness can be obtained. .
[0063]
As described above, according to the fourth embodiment, the same effect as that of the third embodiment can be obtained, and by providing the phosphor layer 201b in the semiconductor light emitting device 201, uniform white light without color unevenness can be obtained. Obtainable.
[0064]
FIG. 12 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of an illumination light source according to the fifth embodiment of the present invention. The fifth embodiment will be described below with reference to this figure. However, FIG. 12 shows a part of a sectional structure of the illumination light source.
[0065]
The illumination light source of FIG. 12 includes a substrate 102, a plurality of semiconductor light emitting elements 200, a resin 300, and the like in the same manner as in the third embodiment. A light shielding plate 400 is provided in the (front) resin 300 to block direct light from the semiconductor light emitting element 200.
[0066]
Here, the size of the light shielding plate 400 is set according to the distance from the semiconductor light emitting element 200, the required light quantity, and the homogeneity of light. For example, as the distance from the semiconductor light emitting element 200 increases, the light shielding plate 400 increases in order to block direct light from the semiconductor light emitting element 200. The size of the light shielding plate 400 depends on the required light quantity and the homogeneity of light. Limited.
[0067]
Next, an example of the manufacturing procedure of the illumination light source will be described. First, the substrate 102 is prepared, and the semiconductor light emitting device 200 is mounted on the phosphor layer 102d located in the center of the bottom surface in each recess Cav of the substrate 102, and then the lead wire W is bonded by wire bonding to the semiconductor light emitting device. Each electrode of 200 is connected to the bonding pad of the corresponding wiring pattern conductor 102c.
[0068]
Thereafter, each recess Cav of the substrate 102 is filled with the resin 300 halfway, and after slightly curing, the light shielding plate 400 is placed above the semiconductor light emitting element 200, and then the resin 300 is filled thereon. At this time, as shown in FIG. 12, the resin 300 is formed in a convex lens shape that rises upward from the substrate 102.
[0069]
As described above, according to the fifth embodiment, since the ratio of the light emitted from each semiconductor light emitting element 200 to the outside without passing through the phosphor layer 102d is reduced, the same effects as in the fourth embodiment can be obtained. Is possible.
[0070]
FIG. 13 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of an illumination light source according to the sixth embodiment of the present invention. The sixth embodiment will be described below with reference to this figure. However, FIG. 13 shows a part of the sectional structure of the illumination light source.
[0071]
The illumination light source of FIG. 13 includes a substrate 102, a plurality of semiconductor light emitting elements 200, a resin 300, and the like in the same manner as in the third embodiment. And a reflection plate 401 for reflecting the direct light of the semiconductor light emitting element 200 downward.
[0072]
The reflection plate 401 is provided in the same manner as the light shielding plate 400 of the fifth embodiment, and in the example of FIG. The reflection plate 401 may be a flat plate shape, but is formed in a downwardly convex shape, so that the light from the semiconductor light emitting element 200 can be uniformly reflected on the entire phosphor layer 102 d on the substrate 102.
[0073]
As described above, according to the sixth embodiment, since the ratio of the light emitted from each semiconductor light emitting element 200 to the outside without passing through the phosphor layer 102d is reduced, the same effects as in the fourth embodiment can be obtained. Is possible.
[0074]
FIG. 14 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of an illumination light source according to the seventh embodiment of the present invention. The seventh embodiment will be described below with reference to this drawing. However, FIG. 14 shows a part of the sectional structure of the illumination light source.
[0075]
The illumination light source of FIG. 14 includes a substrate 102, a plurality of semiconductor light emitting elements 200, a resin 300, and the like as in the third embodiment, and also includes a plurality of resin plates 402 as a difference from the third embodiment. ing.
[0076]
The resin plate 402 is made of a plate-like and translucent resin that disperses and holds a phosphor that emits yellow light when excited by light from the semiconductor light emitting element 200. Is provided. In addition, the resin plate 402 may be configured to have the same size as the light shielding plate 400 of the fifth embodiment, but light emitted upward from the semiconductor light emitting element 200 is not blocked by the resin plate 402. The plate 402 may be larger than the light shielding plate 400.
[0077]
As described above, according to the seventh embodiment, the light emitted from each semiconductor light emitting element 200 passes through the resin plate 402, and the ratio of going directly to the outside without passing through the region containing the phosphor is reduced. The same effects as in the fourth embodiment can be obtained.
[0078]
【The invention's effect】
  As is clear from the above, the claim 1To any of ~ 3According to the described invention, the mounting substrate has a plate-like base member, the conductor layer is laminated on one surface side of the base member, and the phosphor layer is laminated on the one surface side of the conductor layer. And a plurality of semiconductor light emitting elements mounted on one surface of the mounting substrate, it is possible to reduce costs and prevent color variations.
[0081]
  Claim1According to the described invention,in frontAbove each of the plurality of semiconductor light emitting devicesPositioned and blocks light emitted upward from each of the plurality of semiconductor light emitting elements and out of an optical path of light emitted from the plurality of semiconductor light emitting elements and converted into a predetermined color by the phosphor layer.Since the light-shielding plate provided is provided, uniform light with no color unevenness can be obtained.
[0082]
  Claim2According to the described invention,in frontAbove each of the plurality of semiconductor light emitting devicesPositioned and reflects light emitted upward from each of the plurality of semiconductor light emitting elements and out of an optical path of light emitted from the plurality of semiconductor light emitting elements and converted into a predetermined color by the phosphor layer.Since the reflection plate provided is provided, uniform light with no color unevenness can be obtained.
[0083]
  Claim3According to the described invention,in frontAbove each of the plurality of semiconductor light emitting devicesPositioned and converts light emitted upward from each of the plurality of semiconductor light emitting elements into a predetermined color and emitted from the plurality of semiconductor light emitting elements to be converted into a predetermined color by the phosphor layer. Outside the light pathSince the provided fluorescent plate is provided, uniform light with no color unevenness can be obtained.
[0084]
  According to a fourth aspect of the present invention, in the illumination light source according to any one of the first to third aspects, a depression is formed in each mounting region of the plurality of semiconductor light emitting elements on one surface of the mounting substrate. Therefore, for example, if a phosphor layer is also laminated on the side surface of the depression, the proportion of light of a predetermined color converted by the phosphor layer can be increased, and the phosphor to be contained in the phosphor layer can be increased. The concentration can be made lower than that of an illumination light source having a structure that does not form a depression, and as a result, deterioration of the phosphor and the resin containing the phosphor due to a photochemical reaction can be suitably suppressed.
  Claim5According to the described invention,4In the illumination light source according to any one of the above, since the base member is made of metal and an insulating layer is laminated between the base member and the conductor layer, the life as a light source can be extended. .
[0085]
  Claim6According to the described invention,5In the illumination light source according to any one of the above, the semiconductor light emitting element is a blue LED element, and the phosphor layer contains a phosphor that emits yellow light when excited by light from the LED element. Therefore, an illumination light source of white light can be obtained.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of an illumination light source according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an explanatory diagram of a manufacturing procedure of the illumination light source shown in FIG.
3 is an explanatory diagram of a manufacturing procedure of the illumination light source shown in FIG. 1. FIG.
4 is an explanatory diagram of a procedure for manufacturing the illumination light source shown in FIG. 1. FIG.
5 is an explanatory diagram of a manufacturing procedure of the illumination light source shown in FIG. 1. FIG.
6 is an explanatory diagram of a manufacturing procedure of the illumination light source shown in FIG. 1. FIG.
FIG. 7 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of an illumination light source according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of an illumination light source according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a schematic view showing a cross-sectional structure of a metal base having a depression formed by press molding.
FIG. 10 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of another base member that replaces the metal base.
FIG. 11 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of an illumination light source according to a fourth embodiment of the present invention.
FIG. 12 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of an illumination light source according to a fifth embodiment of the present invention.
FIG. 13 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of an illumination light source according to a sixth embodiment of the present invention.
FIG. 14 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of an illumination light source according to a seventh embodiment of the present invention.
FIG. 15 is a schematic view showing a cross-sectional structure of a conventional light emitting diode.
FIG. 16 is a schematic view showing a cross-sectional structure of a conventional light emitting diode.
FIG. 17 is a schematic view showing a cross-sectional structure of a conventional planar light source.
FIG. 18 is a schematic view showing a conventional LED display.
[Explanation of symbols]
100, 101, 102 substrate
100a, 101a, 102a Metal base
100b, 101b, 102b Insulating layer
100c, 101c, 102c wiring pattern conductor
100d, 101d, 102d phosphor layer
100e, 101e Reflective frame
200, 201 Semiconductor light emitting device
300 resin
400 Shading plate
401 reflector
402 Resin plate

Claims (6)

板状のベース部材を有し、このベース部材の一の面側に導体層が積層され、この導体層の一の面側に蛍光体層が積層されて成る実装基板と、
前記実装基板の一の面上に実装される複数の半導体発光素子と
前記複数の半導体発光素子の各上方に位置し、前記複数の半導体発光素子から各上方に放射された光を遮断するとともに、前記複数の半導体発光素子から放射され前記蛍光体層で予め決められた色に変換された光の光路外に設けられる遮光板と
を備える照明光源。
A mounting substrate having a plate-like base member, a conductor layer laminated on one surface side of the base member, and a phosphor layer laminated on one surface side of the conductor layer;
A plurality of semiconductor light emitting elements mounted on one surface of the mounting substrate ;
Located above each of the plurality of semiconductor light emitting elements, blocks light emitted from each of the plurality of semiconductor light emitting elements, and is emitted from the plurality of semiconductor light emitting elements and predetermined by the phosphor layer. An illumination light source comprising: a light shielding plate provided outside an optical path of light converted into color .
板状のベース部材を有し、このベース部材の一の面側に導体層が積層され、この導体層の一の面側に蛍光体層が積層されて成る実装基板と、
前記実装基板の一の面上に実装される複数の半導体発光素子と、
前記複数の半導体発光素子の各上方に位置し、前記複数の半導体発光素子から各上方に放射された光を反射するとともに、前記複数の半導体発光素子から放射され前記蛍光体層で予め決められた色に変換された光の光路外に設けられる反射板と
を備える照明光源。
A mounting substrate having a plate-like base member, a conductor layer laminated on one surface side of the base member, and a phosphor layer laminated on one surface side of the conductor layer;
A plurality of semiconductor light emitting elements mounted on one surface of the mounting substrate ;
Located above each of the plurality of semiconductor light emitting elements, reflects light emitted upward from each of the plurality of semiconductor light emitting elements, and is emitted from the plurality of semiconductor light emitting elements and predetermined by the phosphor layer. A reflector provided outside the optical path of the light converted into color;
Illumination source comprising a.
板状のベース部材を有し、このベース部材の一の面側に導体層が積層され、この導体層の一の面側に蛍光体層が積層されて成る実装基板と、
前記実装基板の一の面上に実装される複数の半導体発光素子と、
前記複数の半導体発光素子の各上方に位置し、前記複数の半導体発光素子から各上方に放射された光を予め決められた色に変換するとともに、前記複数の半導体発光素子から放射され前記蛍光体層で予め決められた色に変換された光の光路外に設けられる蛍光板と
を備える照明光源。
A mounting substrate having a plate-like base member, a conductor layer laminated on one surface side of the base member, and a phosphor layer laminated on one surface side of the conductor layer;
A plurality of semiconductor light emitting elements mounted on one surface of the mounting substrate;
Located above each of the plurality of semiconductor light emitting elements, converts light emitted from each of the plurality of semiconductor light emitting elements to a predetermined color, and is emitted from the plurality of semiconductor light emitting elements to emit the phosphor. A fluorescent plate provided outside the optical path of the light converted into a predetermined color in the layer;
Illumination source comprising a.
前記実装基板の一の面上における前記複数の半導体発光素子の各実装領域には窪みが形成されている請求項1〜3のいずれかに記載の照明光源。A source as claimed in any one of claims 1 to 3 recesses that are formed in each mounting area of the plurality of semiconductor light emitting elements on one surface of the mounting substrate. 前記ベース部材は金属により成り、前記ベース部材と前記導体層との間には絶縁層が積層されている請求項1〜4のいずれかに記載の照明光源。The base member is made of a metal, an illumination light source according to any one of claims 1-4 that have been laminated insulating layer between said base member and said conductive layer. 記半導体発光素子は青色系のLED素子であり、前記蛍光体層には前記LED素子からの光で励起されると黄色系の光を発する蛍光体が含有されている請求項1〜5のいずれかに記載の照明光源 Before SL semiconductors light emitting elements are LED elements for blue, the phosphor layer when excited by the light from the LED elements to claim 1-5 phosphors that have been contained to emit yellow light The illumination light source according to any one of the above .
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