JP3445021B2 - Optical device - Google Patents
Optical deviceInfo
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- JP3445021B2 JP3445021B2 JP12745895A JP12745895A JP3445021B2 JP 3445021 B2 JP3445021 B2 JP 3445021B2 JP 12745895 A JP12745895 A JP 12745895A JP 12745895 A JP12745895 A JP 12745895A JP 3445021 B2 JP3445021 B2 JP 3445021B2
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、光学装置に関し、特に
精密光学系で発生する横倍率や、露光装置においてマス
クパターンを転写すべきウエハ、ガラスプレート等のワ
ーク（感光基板）が、工程を経ることによりまたは温度
変化により伸縮することに伴って生ずる倍率変化を線形
的に補正する手段を有する結像光学装置に関するもので
ある。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical device, and in particular, a lateral magnification generated in a precision optical system and a work (photosensitive substrate) such as a wafer or a glass plate to which a mask pattern is to be transferred in an exposure device are processed. The present invention relates to an image forming optical apparatus having means for linearly correcting a change in magnification caused by expansion or contraction due to passage of time or temperature change.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図６は、現時点で提案されている走査型
露光装置を示す図である。同図において、９はスリット
状に成形された照明先を照射する照明系、１０はマスク
１１とワーク１８のアライメントマークを検出するアラ
イメントスコープ、１２は照明系９により照明されるマ
スク１１上のパターンの像をワーク１８上に投影するミ
ラー光学系、１３はミラー光学系１２の入口側または出
口側の光路上に配置した光学薄体である。照明系９によ
って照明されるマスク１１上のパターンの像は、ミラー
光学系１２の反射ミラー１４、凹面鏡１６、凸面鏡１
７、再び凹面鏡１６、反射ミラー１５、そして光学薄体
１３を経てワーク１８に結像する。この状態において、
マスク１１とワーク１８をＹ方向に走査し、マスク１１
上のすべてのパターンを露光する。ところで、ワーク１
８上への２回目以降の露光においては、前工程で焼き付
けたパターンに対して正確に重なるように露光する必要
があるが、前工程で焼き付けたパターンと今回焼き付け
るパターンの像との間には倍率誤差が生じている。この
原因としては、工程を経ることによるワーク１８の変
形、ワーク１８自体の温度変化による変形、ミラー光学
系１２の光学部品が有する製造誤差等が挙げられる。2. Description of the Related Art FIG. 6 is a diagram showing a scanning type exposure apparatus proposed at the present time. In the figure, 9 is an illumination system that illuminates a slit-shaped illumination destination, 10 is an alignment scope that detects the alignment marks of the mask 11 and the work 18, and 12 is a pattern on the mask 11 that is illuminated by the illumination system 9. Is an optical thin body arranged on the optical path on the entrance side or the exit side of the mirror optical system 12. The image of the pattern on the mask 11 illuminated by the illumination system 9 is the reflection mirror 14, the concave mirror 16, and the convex mirror 1 of the mirror optical system 12.
7, the concave mirror 16, the reflecting mirror 15, and the optical thin body 13 again to form an image on the work 18. In this state,
The mask 11 and the work 18 are scanned in the Y direction, and the mask 11
Expose all the patterns above. By the way, work 1
In the second and subsequent exposures to 8 above, it is necessary to perform exposure so as to exactly overlap the pattern printed in the previous process, but between the pattern printed in the previous process and the image of the pattern printed this time. Magnification error has occurred. The causes include deformation of the work 18 due to a process, deformation of the work 18 itself due to temperature change, manufacturing error of the optical components of the mirror optical system 12, and the like.
【０００３】この変形や製造誤差による倍率誤差は、図
６に示すように、ワーク１８のＸ方向を例にとればＸに
対し線形的、すなわちＸの一次式で表される倍率となっ
て発生する。そこで、光学薄体１３を湾曲させることに
より倍率を変化させて倍率誤差を補正することが提案さ
れている。As shown in FIG. 6, the magnification error due to this deformation or manufacturing error occurs linearly with respect to the X direction of the work 18 as an example, that is, a magnification represented by a linear expression of X. To do. Therefore, it is proposed that the optical thin body 13 is curved to change the magnification to correct the magnification error.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、光学薄
体を湾曲させることにより倍率を線形的に変化させて、
倍率誤差を補正する具体的な手段や方法についてはいま
だ提案されていない。However, by bending the optical thin body to linearly change the magnification,
No specific means or method for correcting the magnification error has been proposed yet.
【０００５】本発明の目的は、光学薄体を湾曲させ、線
形的な倍率変化を発生させる具体的な手段を有する光学
装置を提供することにある。It is an object of the present invention to provide an optical device having a concrete means for bending an optical thin body to generate a linear change in magnification.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本発明では、結像光学系を備え、その結像位置のずれ
以外の結像性能に対し実質的に影響を与えない程度の光
学的厚さの光学薄体を結像光学系の光路中に有し、該光
学薄体は２つの菱形の梁により保持され、該２つの梁の
それぞれの中央部と端部の一方を他方に対して変位させ
ることにより該２つの梁とともに前記光学薄体を湾曲さ
せることを特徴としている。In order to achieve the above object, the present invention is provided with an image forming optical system, and an optical system which does not substantially affect the image forming performance other than the deviation of the image forming position. An optical thin body having a specific thickness in the optical path of the imaging optical system, and the optical thin body is held by two rhombic beams, one of each of the center portion and the end portion of each of the two beams being placed on the other side. The optical thin body is curved together with the two beams by displacing the optical thin body.
【０００７】また、光学薄体は、結像光学系の倍率を線
形的に補正するものであることを特徴としている。The optical thin body is characterized by linearly correcting the magnification of the image forming optical system.
【０００８】また、光学薄体の湾曲度を変化させる手段
を有することを特徴としている。Further, it is characterized in that it has means for changing the degree of curvature of the optical thin body.
【０００９】また、所定のパターンに対する結像光学系
による結像パターンの倍率誤差を検出する手段を有し、
光学薄体はこの倍率誤差を補正するものであることを特
徴としている。また、走査型露光装置の投影光学系とし
て用いられ、所定のパターンは、被露光基板上のパター
ンであることを特徴としている。Further, it has means for detecting a magnification error of an image-forming pattern by the image-forming optical system for a predetermined pattern,
The optical thin body is characterized in that it corrects this magnification error. Further, it is used as a projection optical system of a scanning type exposure apparatus, and the predetermined pattern is a pattern on a substrate to be exposed.
【００１０】さらに、倍率誤差検出手段は、倍率誤差を
被露光基板上の複数箇所において検出するものであり、
走査露光の際、その検出結果に基づいて光学薄体の曲率
を変化させる手段を有することを特徴としている。Further, the magnification error detecting means detects the magnification error at a plurality of positions on the substrate to be exposed,
It is characterized in that it has means for changing the curvature of the optical thin body based on the detection result during scanning exposure.
【００１１】[0011]
【作用】光学薄体はその曲率に応じて、結像倍率を線形
的に変化させる。したがって、例えば走査型露光装置に
おける被露光基板上のパターンに対する結像パターンの
線形的な倍率誤差が光学薄体によって補正される。The optical thin body linearly changes the image forming magnification according to its curvature. Therefore, for example, the linear magnification error of the imaging pattern with respect to the pattern on the substrate to be exposed in the scanning exposure apparatus is corrected by the optical thin body.
【００１２】[0012]
【実施例】図１は、本発明の一実施例に係る走査型露光
装置における光学薄体部分を示す斜視図である。この装
置は、光学薄体を湾曲させる機構以外は、図６のものと
同じ構成を有する。同図において、１３は湾曲すべき光
学薄体、２は光学薄体１３を真空吸着によって保持し、
自身が湾曲することにより光学薄体１３を湾曲させる
梁、３は梁２の両端を保持するピンであり、梁２が湾曲
する際のピン３のまわりにおける回転方向の自由度を有
している。したがって、梁２が湾曲した際にはピンのま
わりにおける曲げモーメントが発生しない構造となって
いる。４は梁２が湾曲した際に両端のピン３の間の距離
が変化できるよう水平方向（ＸＹ方向）に自由度を有し
てピン３を保持するガイドであり、梁２が湾曲する際に
は、両端がピン３およびガイド４により支持される構造
となる。５は梁２の中央部に湾曲すべき変位量を与える
駆動軸、６はモータ、７はモータ６の動力を駆動軸５に
伝えるタイミングベルト、８はマスク１１を通過し、マ
スク１１の情報を有した露光光の光束であり、光束１８
の中心、いわゆる光軸は２本の梁２の中心に一致するよ
う配置される。１は梁２内に設けられた空間に接続され
た管であり、管１を介して前記空間を真空吸引すること
により光学薄体１３を梁２上に真空吸着するようになっ
ている。1 is a perspective view showing an optical thin body portion in a scanning type exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. This device has the same configuration as that of FIG. 6 except for the mechanism for bending the optical thin body. In the figure, 13 is an optical thin body to be curved, 2 is an optical thin body 13 held by vacuum suction,
Beams 3 that bend the optical thin body 13 by bending themselves are pins that hold both ends of the beam 2, and have a degree of freedom in the rotation direction around the pins 3 when the beam 2 is curved. . Therefore, when the beam 2 is curved, no bending moment is generated around the pin. Reference numeral 4 is a guide that holds the pin 3 with a degree of freedom in the horizontal direction (XY direction) so that the distance between the pins 3 at both ends can be changed when the beam 2 is bent. Has a structure in which both ends are supported by the pin 3 and the guide 4. Reference numeral 5 is a drive shaft that gives a displacement amount that should be curved to the center of the beam 2, 6 is a motor, 7 is a timing belt that transmits the power of the motor 6 to the drive shaft 5, 8 is passed through the mask 11, and information of the mask 11 is transmitted. The light flux of the exposure light having
The center, that is, the so-called optical axis, is arranged so as to coincide with the centers of the two beams 2. Reference numeral 1 denotes a tube connected to a space provided in the beam 2, and the optical thin body 13 is vacuum-adsorbed on the beam 2 by vacuum suction of the space through the tube 1.
【００１３】光学薄体１３を湾曲させるためには、モー
タ６を回転させることにより２つの梁２の中央部を垂直
方向に（Ｚ方向）変位させて梁２を湾曲させる。このよ
うにして、２本の梁２が同じ変位量をその中央部に受け
て、梁２が湾曲すると、同様に、梁２に真空吸着された
光学薄体１３は梁２の湾曲形状にならって湾曲すること
になる。光束８は湾曲した光学薄体１３を通過する際
に、図３で示すようにマスクパターン情報における倍率
変化を発生させてワーク１８上にマスクパターンの像を
生じさせる。In order to bend the optical thin body 13, the motor 6 is rotated to displace the central portions of the two beams 2 in the vertical direction (Z direction) to bend the beams 2. In this way, when the two beams 2 receive the same amount of displacement at their central portions and the beams 2 bend, the optical thin body 13 vacuum-adsorbed by the beams 2 similarly follows the curved shape of the beams 2. Will be curved. When the light beam 8 passes through the curved optical thin body 13, as shown in FIG. 3, a change in magnification in the mask pattern information is generated to generate an image of the mask pattern on the work 18.
【００１４】図２は梁２の湾曲形状を説明するための斜
視図である。図２において、ピン３のＸ方向の位置をｘ
＝０とした梁２の中央部の位置をａ、梁２の中央部の
幅、すなわち三角形の底辺の長さをｂ、梁２の厚みをｔ
とすると、位置ｘにおける梁２の幅ｂ´および梁２のＸ
方向における断面２次モーメントＩx は、数１式によっ
て表わされる。FIG. 2 is a perspective view for explaining the curved shape of the beam 2. In FIG. 2, the position of the pin 3 in the X direction is x
= 0, the position of the center of the beam 2 is a, the width of the center of the beam 2, that is, the length of the base of the triangle is b, and the thickness of the beam 2 is t.
Then, the width b ′ of the beam 2 and the X of the beam 2 at the position x
The geometrical moment of inertia I x in the direction is represented by Formula 1.
【００１５】[0015]
【数１】
ここでｘ＝ａとすると、断面２次モーメントＩa は数２
式のようになる。[Equation 1] If x = a here, the second moment of area I a is
It becomes like a formula.
【００１６】[0016]
【数２】 よってＩx は数３式のようになる。[Equation 2] Therefore, I x is given by Equation 3.
【００１７】[0017]
【数３】
梁２の頂点、すなわちピン３において矢印２２で表わさ
れる集中荷重が加わった際の梁２の変位量ｚ［ｍｍ］は
数４式によって表される。[Equation 3] The displacement amount z [mm] of the beam 2 when the concentrated load represented by the arrow 22 is applied to the apex of the beam 2, that is, the pin 3, is expressed by the equation (4).
【００１８】[0018]
【数４】
数４式では変位量ｚはｘ＝０で最大、ｘ＝ａでｚ＝０と
なる。[Equation 4] In Equation 4, the displacement amount z is maximum at x = 0, and z = 0 at x = a.
【００１９】ｘ＝０の箇所はガイド４によってＺ方向に
拘束され、一方、ｘ＝ａの中央部は駆動軸５によって変
位量が与えられている。また、ピン３に与えられる集中
荷重２２は梁２の中央部において変位量ｚを与えたとき
のピン３にかかる反力と解釈できる。したがって、梁２
の中央部に変位量ｚを与えたときのその位置をＺ方向の
原点にとれば梁２の湾曲形状は同一となる。The portion of x = 0 is constrained in the Z direction by the guide 4, while the central portion of x = a is given a displacement amount by the drive shaft 5. Further, the concentrated load 22 applied to the pin 3 can be interpreted as a reaction force applied to the pin 3 when the displacement amount z is applied in the central portion of the beam 2. Therefore, the beam 2
If the displacement amount z is applied to the center of the beam, its position in the Z direction is the origin, the curved shape of the beam 2 is the same.
【００２０】図３に示すように、挿入した光学薄体１３
の厚みをｈ［ｍｍ］、屈折率をｎとし、かつワーク１８
上で焼付像を横ずれさせたい方向をＸ軸とし、これと垂
直な主光線の方向をＺ軸とすると、挿入した光学薄体１
３のＺ方向への湾曲量ｚ［ｍｍ］はｘの関数として表わ
される。As shown in FIG. 3, the inserted optical thin body 13
Has a thickness of h [mm], a refractive index of n, and the work 18
Assuming that the X-axis is the direction in which the print image is to be laterally offset and the Z-axis is the direction of the principal ray perpendicular to this, the inserted optical thin body 1
The amount of curvature z [mm] of 3 in the Z direction is expressed as a function of x.
【００２１】このとき得られるｘ方向での焼付像の横ず
れ量Δｘ［ｍｍ］は数５式で表される。The lateral deviation amount Δx [mm] of the print image in the x direction obtained at this time is expressed by the equation (5).
【００２２】[0022]
【数５】
数５式に数４式のｚを代入すると数６式のように表され
る。[Equation 5] Substituting the z of the equation 4 into the equation 5 gives the following equation 6.
【００２３】[0023]
【数６】
数６式はｘ＝ａすなわち梁２の中央部においてはΔｘ＝
０であることを示す。これにより光束８の中心では像の
横ずれが無く０＜ｘ＜ａの範囲では像の横ずれΔｘが、
距離（ｘ−ａ）に比例していることがわかる。[Equation 6] Formula 6 is x = a, that is, Δx = in the central portion of the beam 2.
Indicates 0. As a result, there is no lateral shift of the image at the center of the light beam 8 and the lateral shift Δx of the image in the range of 0 <x <a is
It can be seen that it is proportional to the distance (x-a).
【００２４】（ｘ−ａ）は、光束８の中心からの距離に
ほかならないためΔｘは光束８の中心からの距離に比例
している。Since (x-a) is nothing but the distance from the center of the light beam 8, Δx is proportional to the distance from the center of the light beam 8.
【００２５】すなわち中心部では倍率変化が発生せず中
心からの距離に比例して倍率変化が発生するため、ワー
ク１８の線形的な倍率変化あるいは精密光学系がもつ線
形的な倍率誤差を線形的に補正することが可能である。That is, since the magnification does not change in the central portion and the magnification changes in proportion to the distance from the center, the linear magnification change of the work 18 or the linear magnification error of the precision optical system is linearly changed. Can be corrected to.
【００２６】梁２の菱形形状がその中央部の線に対して
対称の場合は０＜ｘ＜ａにおいて生じた倍率変化の符号
を反転させた倍率変化がａ＜ｘ＜２ａにおいて生ずるこ
とになる。また光学薄体１３はＸ方向のみに光学薄体１
３による光学的な効果が付与され、Ｘ軸に直交するＹ方
向には光学的な効果は付与されない。したがってＹ方向
の倍率を変えることはなくＸ方向の倍率を独立に変化さ
せることが可能である。When the rhombus shape of the beam 2 is symmetric with respect to the line at the center of the beam 2, a magnification change in which the sign of the magnification change occurred in 0 <x <a is inverted occurs in a <x <2a. . Further, the optical thin body 13 is the optical thin body 1 only in the X direction.
3, the optical effect is imparted, and the optical effect is not imparted in the Y direction orthogonal to the X axis. Therefore, it is possible to change the X-direction magnification independently without changing the Y-direction magnification.
【００２７】図５は、本露光装置における走査露光方式
を示す図である。同図において、１１はマスク、１８は
マスク１１のパターンが露光されるワーク、１２はマス
ク１１のパターンをワーク１８上に投影する投影光学
系、１０はマスク１１およびワーク１８上のアライメン
トマーク２０，２１を検出する検出系、８はマスク１１
を照明する円弧形状のスリット状光束である。図４の機
構により保持された光学薄体１３は、マスク１１と投影
光学系１２の間に配置される。この構成において、露光
に先立ち、図示しない制御手段は、マスク１１とワーク
１８とのそれぞれのアライメントマーク２０，２１を検
出系１０により検出し、倍率変化を計算する。そしてこ
の誤差を補正するためにワーク１８ごとに最適な梁２の
変位量ｚが得られるようにモータ６を駆動する。なお、
倍率変化を計測するポイントを複数箇所設け、走査露光
中に露光動作と連動させて変位量ｚを変化させることも
可能である。FIG. 5 is a diagram showing a scanning exposure system in this exposure apparatus. In the figure, 11 is a mask, 18 is a work on which the pattern of the mask 11 is exposed, 12 is a projection optical system for projecting the pattern of the mask 11 onto the work 18, 10 is the alignment mark 20 on the mask 11 and the work 18, 21 is a detection system, 8 is a mask 11
It is a circular arc-shaped slit-shaped light beam for illuminating. The optical thin body 13 held by the mechanism of FIG. 4 is arranged between the mask 11 and the projection optical system 12. In this configuration, prior to exposure, the control means (not shown) detects the alignment marks 20 and 21 of the mask 11 and the work 18 by the detection system 10 and calculates the change in magnification. Then, in order to correct this error, the motor 6 is driven so that the optimum displacement amount z of the beam 2 is obtained for each work 18. In addition,
It is also possible to provide a plurality of points for measuring the change in magnification and change the displacement amount z in conjunction with the exposure operation during scanning exposure.
【００２８】また、図４のように、梁２の中央部を固定
し、梁２の端部に変位を与える構造にしてもよく、その
場合には左右の駆動軸に異なる変位量を与えればワーク
１８の左右において異なる倍率変化を各々線形的に発生
させることも可能である。Alternatively, as shown in FIG. 4, the beam 2 may be fixed at the center and the ends of the beam 2 may be displaced. In that case, different displacements may be applied to the left and right drive shafts. It is also possible to linearly generate different magnification changes on the left and right of the work 18.
【００２９】[0029]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
結像光学系を備え、その結像位置のずれ以外の結像性能
に対し実質的に影響を与えない程度の光学的厚さで、か
つ湾曲した形状の光学薄体を結像光学系の光路中に配す
ることにより、例えば走査型露光装置における被露光基
板上のパターンに対する結像パターンの線形的な倍率誤
差が光学薄体によって補正される。As described above, according to the present invention,
The optical path of the imaging optical system is provided with an imaging optical system, and an optical thin body having a curved shape with an optical thickness that does not substantially affect the imaging performance other than the deviation of the imaging position. By arranging it inside, for example, a linear magnification error of the imaging pattern with respect to the pattern on the substrate to be exposed in the scanning type exposure apparatus is corrected by the optical thin body.
【図１】 本発明の一実施例に係る光学装置の光学薄体
部分を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an optical thin body portion of an optical device according to an embodiment of the present invention.
【図２】 図１の光学装置における梁の湾曲形状を示す
図である。FIG. 2 is a diagram showing a curved shape of a beam in the optical device of FIG.
【図３】 図１の光学装置に適用される光学薄体により
倍率が変化する原理を説明する図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a principle of changing a magnification by an optical thin body applied to the optical device of FIG.
【図４】 図１の光学薄体部分の他の例を示す図であ
る。FIG. 4 is a diagram showing another example of the optical thin body portion of FIG.
【図５】 図１の光学薄体が適用される走査型露光装置
における走査露光方式を示す図である。5 is a diagram showing a scanning exposure method in a scanning type exposure apparatus to which the optical thin body of FIG. 1 is applied.
【図６】 図１の光学薄体が適用される走査露光方式に
おける光学系を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an optical system in a scanning exposure system to which the optical thin body of FIG. 1 is applied.
１：管、２：梁、３：ピン、４：ガイド、５：駆動軸、
６：モータ、７：タイミングベルト、８：光束、９：照
明系、１０：検出系、１１：マスク、１２：ミラー光学
系、１３：光学薄体、１４，１５：反射ミラー、１６：
凹面鏡、１７：凸面鏡、１８：ワーク、ｈ：光学薄体の
厚み、ｔ：梁の厚み、ｂ：梁中央部の幅、ａ：梁の頂点
より中央までの長さ、１９：梁中央の固定ブロック、２
０：マスク上のアライメントマーク、２１：ワーク上の
アライメントマーク。1: pipe, 2: beam, 3: pin, 4: guide, 5: drive shaft,
6: Motor, 7: Timing belt, 8: Light flux, 9: Illumination system, 10: Detection system, 11: Mask, 12: Mirror optical system, 13: Optical thin body, 14, 15: Reflection mirror, 16:
Concave mirror, 17: Convex mirror, 18: Work piece, h: Thickness of optical thin body, t: Thickness of beam, b: Width of beam central portion, a: Length from beam apex to center, 19: Beam central fixing Block 2
0: Alignment mark on mask, 21: Alignment mark on work.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027 G02B 27/18 G03F 7/20 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/027 G02B 27/18 G03F 7/20
Claims (6)
以外の結像性能に対し実質的に影響を与えない程度の光
学的厚さの光学薄体を前記結像光学系の光路中に有し、
該光学薄体は２つの菱形の梁により保持され、該２つの
梁のそれぞれの中央部と端部の一方を他方に対して変位
させることにより該２つの梁とともに前記光学薄体を湾
曲させることを特徴とする光学装置。1. An optical path of the image forming optical system, which comprises an image forming optical system, and an optical thin body having an optical thickness that does not substantially affect the image forming performance other than a shift of the image forming position. Have inside,
The optical thin body is held by two diamond-shaped beams, and the optical thin body is curved together with the two beams by displacing one of the center portion and the end portion of each of the two beams with respect to the other. An optical device characterized by.
を線形的に補正するものであることを特徴とする請求項
１記載の光学装置。2. The optical device according to claim 1, wherein the optical thin body linearly corrects a magnification of the imaging optical system.
を有することを特徴とする請求項１または２記載の光学
装置。3. The optical device according to claim 1, further comprising means for changing a degree of curvature of the optical thin body.
による結像パターンの倍率誤差を検出する手段を有し、
前記光学薄体はこの倍率誤差を補正するものであること
を特徴とする請求項１〜３記載の光学装置。4. A means for detecting a magnification error of an image forming pattern by the image forming optical system with respect to a predetermined pattern,
4. The optical device according to claim 1, wherein the optical thin body corrects the magnification error.
られ、前記所定のパターンは、被露光基板上のパターン
であることを特徴とする請求項４記載の光学装置。5. The optical device according to claim 4, wherein the optical device is used as a projection optical system of a scanning type exposure device, and the predetermined pattern is a pattern on a substrate to be exposed.
を被露光基板上の複数箇所において検出するものであ
り、走査露光の際、その検出結果に基づいて前記光学薄
体の曲率を変化させる手段を有することを特徴とする請
求項５記載の光学装置。6. The magnification error detecting means detects the magnification error at a plurality of locations on a substrate to be exposed, and changes the curvature of the optical thin body based on the detection result during scanning exposure. The optical device according to claim 5, further comprising means.
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