JP3406322B2

JP3406322B2 - ECR type plasma processing equipment

Info

Publication number: JP3406322B2
Application number: JP22936291A
Authority: JP
Inventors: 利昭長谷川
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1991-09-10
Filing date: 1991-09-10
Publication date: 2003-05-12
Anticipated expiration: 2018-05-12
Also published as: JPH0565655A

Description

Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の製造プロ
セスにおいて用いられる、ＥＣＲ型プラズマＣＶＤ装
置，ＥＣＲ型プラズマエッチング装置等のＥＣＲ型プラ
ズマ処理装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ECR type plasma processing apparatus such as an ECR type plasma CVD apparatus and an ECR type plasma etching apparatus used in a semiconductor device manufacturing process.

【０００２】[0002]

【従来の技術】次世代以降のＵＬＳＩのプロセス技術に
おいて、基板に対してダメージを与えずに絶縁膜を形成
する技術や、０．３５ミクロンルール以下の微細パター
ンを埋め込み平坦化する技術が要求されている。それに
応える技術としてＥＣＲ−ＣＶＤ技術は注目されてい
る。2. Description of the Related Art In the ULSI process technology of the next generation or later, a technology for forming an insulating film without damaging a substrate and a technology for burying and flattening a fine pattern of 0.35 micron rule or less are required. ing. The ECR-CVD technology has been attracting attention as a technology to meet the demand.

【０００３】ＥＣＲ−ＣＶＤ法によるＣＶＤ技術は原料
ガスをＥＣＲ法によって励起し、プラズマ状態にして発
生活性にすることによって、基板を加熱することなく、
しかも、従来の平行平板の電極に高周波の高電圧（Ｒ
Ｆ）をかけてプラズマを発生させＣＶＤを行なう方法と
比べて、基板にダメージを与えずにＣＶＤ膜を形成する
ことが可能である。In the CVD technique by the ECR-CVD method, a source gas is excited by the ECR method to generate a plasma state and activate the generated gas, without heating the substrate.
Moreover, high frequency high voltage (R
It is possible to form a CVD film without damaging the substrate, as compared with a method of performing plasma by generating plasma by applying F).

【０００４】また、サセプターにＲＦを印加することに
よって、基板のイオンの入射エネルギー（運動エネルギ
ー）を分子の解離（ＥＣＲ法によって解離する）とは独
立にコントロールが可能である。（従来の平行板による
ものでは、プラズマを発生させることと、イオンの入射
エネルギーとは、独立にコントロールできない）この特
徴を活かしてイオンによるスパッタエッチングとＣＶＤ
とを競合させることで、従来のＣＶＤ法では埋め込めな
いようなトレンチにも埋め込みができるという方法であ
る。By applying RF to the susceptor, the incident energy (kinetic energy) of ions on the substrate can be controlled independently of the molecular dissociation (dissociation by the ECR method). (With the conventional parallel plate, the generation of plasma and the incident energy of ions cannot be controlled independently.) By utilizing this feature, sputter etching by ions and CVD
By competing with, it is possible to fill a trench that cannot be filled by the conventional CVD method.

【０００５】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、ＥＣＲ法によ
ってイオン化、あるいは、活性化した原料ガスを、発散
磁界によって広げて引出し基板表面に到達させるため、
原理的にそのガスの密度の分布が悪い（中央部分の密度
は高く、周辺部分の密度は低くなる）。したがって、Ｃ
ＶＤ膜の膜厚分布もよいものではない。そのため、将来
のウェーハの大口径化に対して深刻な問題になってい
る。However, since the raw material gas ionized or activated by the ECR method is spread by the divergent magnetic field and reaches the extraction substrate surface,
In principle, the density distribution of the gas is poor (the central part has a high density and the peripheral part has a low density). Therefore, C
The thickness distribution of the VD film is not good either. Therefore, it is a serious problem for the future increase in the diameter of wafers.

【０００６】従来の装置においては、その対策として、
図５に示すように、ウェーハサセプタ１の下部に（プラ
ズマ発生室２の反射側）にミラー磁場を作る補助コイル
４を設置し、発散したプラズマ流５を収束させ、分布を
改善しようとしている。In the conventional device, as a countermeasure,
As shown in FIG. 5, an auxiliary coil 4 that creates a mirror magnetic field is installed below the wafer susceptor 1 (on the reflection side of the plasma generation chamber 2) to converge the diverged plasma flow 5 to improve the distribution.

【０００７】さらに、カスプ磁場を作るコイル３（メイ
ンの補助コイル４と電流を流す方向と逆方向に電流を流
したもの）を設置し、中央付近の磁場の収束力を弱め、
中央部分のプラズマの密度を減少させることによって、
分布を改善しようとしている。なお、図中６はウェーハ
を示している。しかし、将来のウェーハの大口径化に対
応した装置にするには、さらに、きめ細かい磁場のコン
トロールが必要になることは確実である。この要求に応
えるには、コイルの数を増加させる必要があるが、補助
コイルの数が増加するため、機構が複雑になり、現実的
でない。Further, a coil 3 (having a current flow in a direction opposite to the direction of current flow with the main auxiliary coil 4) for creating a cusp magnetic field is installed to weaken the magnetic field convergence force near the center,
By reducing the density of the plasma in the central part,
Trying to improve distribution. In the figure, 6 indicates a wafer. However, it is certain that fine-grained control of the magnetic field is required to make the device compatible with the future increase in the diameter of wafers. In order to meet this demand, it is necessary to increase the number of coils, but since the number of auxiliary coils increases, the mechanism becomes complicated, which is not realistic.

【０００８】本発明は、このような従来の問題点に着目
して創案されたものであって、プラズマ密度がウェーハ
面で均一になり、成膜の場合は膜厚分布が向上し、エッ
チングを行なう場合はエッチングの分布が向上するＥＣ
Ｒ型プラズマ処理装置を得んとするものである。The present invention was devised in view of such conventional problems. The plasma density becomes uniform on the wafer surface, the film thickness distribution is improved in the case of film formation, and etching is performed. EC that improves etching distribution when performed
The purpose is to obtain an R type plasma processing apparatus.

【０００９】[0009]

【課題を解決するための手段】そこで、請求項１に係る
発明は、ＥＣＲプラズマ発生源である主コイルと、試料
台周辺に設置され、前記主コイルから発生する発散磁界
を補正する補助コイルとを有するＥＣＲ型プラズマ処理
装置において、前記補助コイルの内部に、試料台と同程
度の面積を有する円板形状の強磁性板と該円板形状の強
磁性板の下面に同心的に重ねられた外径寸法が同一で中
央部に孔を有する環状の第２の強磁性体および該環状の
強磁性板の孔より大きい穴を有する環状の強磁性体とか
らなる高透磁率部材が配置したことを解決手段としてい
る。また、請求項２に係る発明は、ＥＣＲプラズマ発生
源である主コイルと、試料台周辺に設置され、前記主コ
イルから発生する発散磁界を補正する補助コイルとを有
するＥＣＲ型プラズマ処理装置において、前記補助コイ
ルの内部に、透磁率の異なる強磁性体を同心円状に配置
し、主コイルの発散磁界を補正することを、その解決手
段としている。０１０】Means for Solving the Problems] Therefore, <br/> invention according to claim 1 includes a main coil is a ECR plasma source, is installed around the sample stage, corrects the divergent magnetic field generated from the main coil in ECR plasma processing apparatus having an auxiliary coil, the interior of the auxiliary coils, the extent and the sample base
Of a disk-shaped ferromagnetic plate having an area of
Centered on the bottom surface of the magnetic plate
An annular second ferromagnet having a hole in the center and the annular second ferromagnet
An annular ferromagnet with a hole larger than the hole of a ferromagnetic plate
The solution is to dispose a high magnetic permeability member . Further, the invention according to claim 2 is an ECR type plasma processing apparatus comprising: a main coil which is an ECR plasma generation source; and an auxiliary coil which is installed around a sample stage and corrects a divergent magnetic field generated from the main coil. The auxiliary carp
Ferromagnetic materials with different magnetic permeability are concentrically arranged inside the package
However, correcting the divergent magnetic field of the main coil is the solution. 010

【作用】補助コイルの内部の透磁率を、強磁性体の形状
を変化させることや、透磁率の違う強磁性体を複数組み
合わせることにより、同心円状に変えることにより、主
コイルによってプラズマ密度が同心円状に異なる分布と
なるのを是正する作用がある。このため、成膜用ガス又
はエッチャントの供給量がウェーハのどの部分において
も、同じになり、膜厚分布又はエッチレートの分布が均
一化する。[Function] The magnetic permeability inside the auxiliary coil is changed into a concentric circle by changing the shape of the ferromagnetic body or combining a plurality of ferromagnetic bodies with different magnetic permeability, so that the plasma density is changed by the main coil. It has the effect of correcting the different distribution of the shapes. Therefore, the supply amount of the film forming gas or the etchant becomes the same in any part of the wafer, and the film thickness distribution or the etch rate distribution becomes uniform.

【００１１】[0011]

【実施例】以下、本発明に係るＥＣＲ型プラズマ処理装
置の詳細を図面に示す実施例に基づいて説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The details of the ECR type plasma processing apparatus according to the present invention will be described below with reference to the embodiments shown in the drawings.

【００１２】（参考例）図１は、本発明の参考例にかかるＥＣＲ型プラズマＣＶ
Ｄ装置を示している。参考例は、図１に示すように、反
応室１０内に試料台１１を配設し、この試料台１１の下
部に補助コイル１２を設けると共に、反応室１０の上部
に主コイル１３を配設し、この主コイル１３で囲繞され
るプラズマ生成室１４にマイクロ波導波管１５からマイ
クロ波を導入するようになっている。 Reference Example FIG. 1 shows an ECR type plasma CV according to a reference example of the present invention.
D device is shown. In the reference example , as shown in FIG. 1, a sample table 11 is provided in a reaction chamber 10, an auxiliary coil 12 is provided below the sample table 11, and a main coil 13 is provided above the reaction chamber 10. Then, the microwave is introduced into the plasma generation chamber 14 surrounded by the main coil 13 from the microwave waveguide 15.

【００１３】そして、補助コイル１２の中には、図示す
るように円板状の強磁性体１６を配置させている。この
強磁性体１６は、パーマロイで形成されたものであっ
て、中央が薄く、外側に向けて序々に厚くなるように形
成されている。参考例では、中央の厚さを５ｃｍ、最外
側の厚さを１０ｃｍに設定している、なお、強磁性板体
の中央部３と外側部の厚さは、装置の形状、プロセス条
件等によって適宜変える必要があることは言うまでもな
い。In the auxiliary coil 12, a disc-shaped ferromagnetic body 16 is arranged as shown in the figure. The ferromagnetic body 16 is made of permalloy and is formed so that the center is thin and the thickness gradually increases toward the outside. In the reference example , the thickness of the center is set to 5 cm and the thickness of the outermost side is set to 10 cm. The thicknesses of the central portion 3 and the outer portion of the ferromagnetic plate body depend on the shape of the apparatus, process conditions, etc. It goes without saying that it needs to be changed appropriately.

【００１４】このようにな形状に、補助コイル１２内の
強磁性体１６を形成したことによって、補助コイル１２
によって励磁される強磁性体１６の周辺部分の磁束密度
は大きくなり、中央に近づくほど磁束密度が小さくなる
作用がある（周辺部の磁束密度な中央部の略２倍大きく
なる）。これにより、主コイル１３の発散磁界によっ
て、試料台１１の周辺外側方向に広がってしまうプラズ
マ１８を強く集束させ、試料台１１の中心に近づくほど
その集束力を弱めることができる。即ち、これは、従来
装置の課題である、周辺のプラズマ密度が薄く、中央に
行くほどプラズマ１８の密度が濃いという問題を改善し
ている。このようにして、試料台１１上にウェーハ１７
が載置されて、ＣＶＤを行なった場合、ウェーハ１７上
において原料ガスの供給密度を均一にすることによっ
て、均一な成膜を行なうことが可能となる。By forming the ferromagnetic material 16 in the auxiliary coil 12 in such a shape, the auxiliary coil 12 is formed.
The magnetic flux density of the peripheral portion of the ferromagnetic body 16 excited by is increased, and the magnetic flux density decreases as it approaches the center (the magnetic flux density of the peripheral portion is approximately twice as large as that of the central portion). As a result, the divergent magnetic field of the main coil 13 strongly focuses the plasma 18 that spreads outward in the peripheral direction of the sample table 11, and weakens the focusing force as it approaches the center of the sample table 11. That is, this solves the problem of the plasma density of the periphery being thin and the density of the plasma 18 being denser toward the center, which is a problem of the conventional device. In this way, the wafer 17 is placed on the sample table 11.
When the wafer is placed and the CVD is performed, uniform film formation can be performed by making the supply density of the source gas uniform on the wafer 17.

【００１５】なお、参考例においては、強磁性体１６を
パーマロイで形成したが、他の強磁性材料で形成しても
勿論よい。In the reference example , the ferromagnetic material 16 is made of permalloy, but it may be made of other ferromagnetic material.

【００１６】（第１実施例）図２及び図３は、第１実施例で用いる強磁性体１６を示
している。 First Embodiment FIGS. 2 and 3 show a ferromagnetic body 16 used in the first embodiment.

【００１７】本実施例においては、参考例における強磁
性体１６の構成を変えたものであり、他の構成は、参考
例と同様である。In this embodiment, the structure of the ferromagnetic material 16 in the reference example is changed, and other structures are shown in the reference example.
Similar to the example .

【００１８】本実施例においては、図示するように、補
助コイル内の強磁性体１６を３枚の強磁性板１６ａ，１
６ｂ，１６ｃを重ねることにより構成している。これら
のうち強磁性板１６ａは、試料台と同程度の面積を有す
る円板形状であり、強磁性板１６ｂ，１６ｃは、前記強
磁性板１６ａと外径寸法が同一で、夫々中央に内径を異
にする孔が形成されたドーナツ板形状をしている。そし
て、強磁性板１６ｃの孔の内径は強磁性板１６ｂの孔内
径より大きく設定されている。このため、強磁性板１６
ａに、順次強磁性板１６ｂ，強磁性板１６ｃを重ねる
と、図２に示すように、構成された強磁性体１６は、中
央から周辺に向けて漸次厚さが増す形状になる。なお、
本実施例においては、強磁性板１６ａ，１６ｂ，１６ｃ
の厚さを夫々３ｃｍに設定した。このため、強磁性体１
６の中央ではその厚さが３ｃｍであり、周辺部では９ｃ
ｍとなり、その中間部では６ｃｍの厚さとなっている。
In the present embodiment, as shown in the drawing, the ferromagnetic material 16 in the auxiliary coil is replaced by three ferromagnetic plates 16a, 16a.
It is configured by stacking 6b and 16c. Of these, the ferromagnetic plate 16a has a disk shape having an area equivalent to that of the sample table, and the ferromagnetic plates 16b and 16c have the same outer diameter dimension as the ferromagnetic plate 16a, and each has an inner diameter in the center. It has a donut plate shape with different holes. The inner diameter of the hole of the ferromagnetic plate 16c is set larger than the inner diameter of the hole of the ferromagnetic plate 16b. Therefore, the ferromagnetic plate 16
When a ferromagnetic plate 16b and a ferromagnetic plate 16c are sequentially stacked on a, the constructed ferromagnetic body 16 has a shape in which the thickness gradually increases from the center to the periphery, as shown in FIG. In addition,
In this embodiment, the ferromagnetic plates 16a, 16b, 16c
The thickness of each was set to 3 cm. Therefore, the ferromagnetic material 1
6 has a thickness of 3 cm at the center and 9c at the periphery.
The thickness is 6 cm in the middle part.

【００１９】本実施例においても、参考例と同様に、補
助コイルで周辺に広がったプラズマを強く集束させ、中
心に近づくほどその集束力を弱くすることができる。即
ち、設置されたウェーハに対して原料ガスの供給密度を
均一にでき、ＣＶＤによって成膜された膜厚を均一にす
ることができる。Also in this embodiment, similarly to the reference example , the plasma expanded to the periphery can be strongly focused by the auxiliary coil, and the focusing power can be weakened toward the center. That is, the supply density of the source gas can be made uniform with respect to the installed wafer, and the film thickness formed by CVD can be made uniform.

【００２０】なお、本実施例においては、３板の強磁性
板１６ａ，１６ｂ，１６ｃを重ねる構成としたが、３枚
に限定されるものではなく、例えば、更に細かい磁場の
制御が必要なときは、薄い強磁性板を多数重ねる構成と
しても勿論よい。また、強磁性板に開口する孔の径寸法
の組合せも、装置の構造，プロセス条件等により、適宜
変更するものである。In this embodiment, three ferromagnetic plates 16a, 16b and 16c are stacked, but the number is not limited to three. For example, when finer magnetic field control is required. Of course, a structure in which a large number of thin ferromagnetic plates are stacked may be used. Also, the combination of the diameters of the holes opened in the ferromagnetic plate may be appropriately changed depending on the structure of the apparatus, the process conditions and the like.

【００２１】また、本実施例は、強磁性板を簡単に重ね
合せ，取り外しができるため、条件出しが必要な実験装
置において、特に有効である。即ち、強磁性板を複数用
意して、磁場分布を強磁性板を取り替えることによって
変化させ、それによって最適の条件を見つけることが可
能となる。Further, this embodiment is particularly effective in an experimental apparatus that requires condition setting because the ferromagnetic plates can be easily stacked and removed. That is, it becomes possible to find the optimum condition by preparing a plurality of ferromagnetic plates and changing the magnetic field distribution by replacing the ferromagnetic plates.

【００２２】（第２実施例）図４（Ａ）及び（Ｂ）は、本発明の第２実施例に用いる
強磁性体１６を示している。なお、本実施例も、参考例
における強磁性体１６の構成を変えたものであり、他の
構成は参考例と同様である。( Second Embodiment) FIGS. 4A and 4B show a ferromagnetic body 16 used in the second embodiment of the present invention. In addition, this embodiment also has a different structure of the ferromagnetic body 16 in the reference example , and the other structures are the same as those of the reference example .

【００２３】本実施例で用いる強磁性体１６は、透磁率
の違う材料で成る強磁性部材１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ，
１６Ｄを同心円状に配設されたものであり、補助コイル
の磁束密度の分布を同心円状に漸次変化させ得るように
して、上記第１及び第２実施例と同様の効果を奏するも
のである。The ferromagnetic material 16 used in this embodiment is composed of ferromagnetic members 16A, 16B, 16C, made of materials having different magnetic permeability.
16D are arranged concentrically, and the distribution of the magnetic flux density of the auxiliary coil can be gradually changed concentrically, and the same effects as those of the first and second embodiments are obtained.

【００２４】まず、本実施例の強磁性体１６を構成する
強磁性部材１６Ａは、試料台の外径と略同等の外径を有
し、内側の孔に強磁性部材１６Ｂを嵌め込み、次に、強
磁性部材１６Ｂの内側孔に強磁性部材１６Ｃを嵌め込
み、この強磁性部材１６Ｃの内側孔内に円柱状の強磁性
部材１６Ｄを嵌め込んで、一枚の円板形状に形成してい
る。First, the ferromagnetic member 16A constituting the ferromagnetic body 16 of this embodiment has an outer diameter substantially equal to the outer diameter of the sample table, and the ferromagnetic member 16B is fitted into the inner hole, The ferromagnetic member 16C is fitted into the inner hole of the ferromagnetic member 16B, and the cylindrical ferromagnetic member 16D is fitted into the inner hole of the ferromagnetic member 16C to form a single disc shape.

【００２５】そして、これら強磁性部材は、鉄（Ｆｅ）
とケイ素（Ｓｉ）の合金で形成されており、透磁率の違
いは、その組成を変化させて得られるものである。その
組成は外側に位置する強磁性部材ほど、Ｓｉの濃度を濃
く（〜４％）し、内側ではほとんど純鉄に近いものとす
る。これによって、透磁率はμ₀＝５００〜２００まで
同心円状に変化させることができる。The ferromagnetic members are made of iron (Fe).
And an alloy of silicon (Si), and the difference in magnetic permeability is obtained by changing the composition. The composition is such that the outermost ferromagnetic member has a higher Si concentration (up to 4%), and the innermost portion is closer to pure iron. Thereby, the magnetic permeability can be changed concentrically from μ ₀ = 500 to 200.

【００２６】本実施例においては、強磁性部材の組成を
以下に示すように変えた。In this embodiment, the composition of the ferromagnetic member was changed as shown below.

【００２７】強磁性部材１６Ａ…Ｆｅ９６％、Ｓｉ４％強磁性部材１６Ｂ…Ｆｅ９７％、Ｓｉ３％強磁性部材１６Ｃ…Ｆｅ９８％、Ｓｉ２％強磁性部材１６Ｄ…Ｆｅ１００％、Ｓｉ０％なお、本実施例においては、強磁性部材をＦｅとＳｉの
組成を変えることにより、透磁率を変化させたが、他の
組成の強磁性材を用いて構成しても勿論よい。Ferromagnetic member 16A ... Fe 96%, Si 4% Ferromagnetic member 16B ... Fe 97%, Si 3% Ferromagnetic member 16C ... Fe 98%, Si 2% Ferromagnetic member 16D ... Fe 100%, Si 0% In this embodiment, Although the magnetic permeability was changed by changing the composition of Fe and Si in the ferromagnetic member, it is of course possible to use a ferromagnetic material having another composition.

【００２８】以上、各実施例について説明したが、本発
明は、実質的に、補助コイルの磁束密度の分布を同心円
状に漸次変えればよいものであり、このような構成の要
旨に付随する各種の設計変更が可能である。Although the respective embodiments have been described above, the present invention can substantially gradually change the distribution of the magnetic flux density of the auxiliary coil in a concentric manner, and various kinds of the gist of such a structure are provided. It is possible to change the design.

【００２９】また、上記各実施例は、本発明をＥＣＲ型
プラズマＣＶＤ装置に適用したが、ＥＣＲ型プラズマエ
ッチング装置に適用すれば、ウェーハに対して均一な処
理が可能となり、磁場分布を同心円状にかえる点では全
く同様の作用を有するものである。Further, in each of the above embodiments, the present invention is applied to the ECR type plasma CVD apparatus. However, if the present invention is applied to the ECR type plasma etching apparatus, uniform processing can be performed on the wafer, and the magnetic field distribution is concentric. In terms of change, it has exactly the same action.

【００３０】[0030]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、装置の中のウェーハに対してプラズマ密度を
均一にすることが可能となり、成膜による膜厚分布又は
エッチングレートを均一にできる効果がある。As is apparent from the above description, according to the present invention, it is possible to make the plasma density uniform with respect to the wafer in the apparatus, and to make the film thickness distribution by film formation or the etching rate uniform. There is an effect that can be.

【００３１】また、機構が簡単であるため、従来装置を
容易に改善させる効果がある。Further, since the mechanism is simple, there is an effect that the conventional device can be easily improved.

【００３２】さらに、本発明によれば、細かい磁場の制
御が可能となり、例えば大口径サイズ（８インチ以上）
のウェーハを処理する装置にも対応できる効果がある。Further, according to the present invention, it is possible to control a fine magnetic field, for example, a large diameter size (8 inches or more).
There is an effect that it can be applied to an apparatus for processing wafers.

【００３３】また、従来のように補助コイルを複数設け
る必要がないため、それに伴う電源システムの設置や、
コイルの冷却システムを別途備える必要がなく、従来装
置のガス流量，排気速度等のシステムを変更しないでよ
い。Since it is not necessary to provide a plurality of auxiliary coils as in the conventional case, the installation of a power supply system associated therewith,
It is not necessary to separately provide a coil cooling system, and it is not necessary to change the system such as the gas flow rate and exhaust speed of the conventional device.

[Brief description of drawings]

【図１】本発明の参考例の断面説明図。FIG. 1 is a cross-sectional explanatory view of a reference example of the present invention.

【図２】本発明の第１実施例で用いた強磁性体の断面
図。FIG. 2 is a sectional view of a ferromagnetic body used in the first embodiment of the present invention.

【図３】本発明の第１実施例で用いた強磁性体の底面
図。FIG. 3 is a bottom view of the ferromagnetic body used in the first embodiment of the present invention.

【図４】（Ａ）は第２実施例で用いた強磁性体の平面
図、（Ｂ）はその断面図。4A is a plan view of a ferromagnetic material used in the second embodiment, and FIG. 4B is a sectional view thereof.

【図５】従来例の断面説明図。FIG. 5 is a cross-sectional explanatory view of a conventional example.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩＨ０１Ｌ 21/31 Ｈ０１Ｌ 21/302 Ｂ (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C23C 14/00 - 14/58 C23C 16/00 - 16/56 C23F 1/00 - 4/04 H01L 21/205 H01L 21/3065 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. ⁷ Identification code FI H01L 21/31 H01L 21/302 B (58) Fields investigated (Int.Cl. ⁷ , DB name) C23C 14/00-14 / 58 C23C 16/00-16/56 C23F 1/00-4/04 H01L 21/205 H01L 21/3065

Claims

(57) [Claims]

A main coil is 1. A ECR plasma source, is installed around the sample stage, the ECR plasma processing apparatus having an auxiliary coil for correcting a divergent magnetic field generated from the main coils, the inside of the auxiliary coil And a disk-shaped ferromagnetic plate having an area similar to that of the sample table and
Outer diameter dimension concentrically stacked on the underside of a disk-shaped ferromagnetic plate
An annular ferromagnet having the same method and having a hole in the center, and
Annular ferromagnet with holes larger than the holes of an annular ferromagnetic plate
An ECR type plasma processing apparatus characterized in that a high magnetic permeability member composed of a body is arranged .

2. A main coil which is an ECR plasma generation source.
And it is installed around the sample table and generated from the main coil.
ECR type plastic having auxiliary coil for correcting divergent magnetic field
In the Zuma processing device, the magnetic permeability of the concentric circles arranged concentrically below the sample table.
An ECR-type plasma processing apparatus, in which a high-permeability member composed of a plurality of different members is installed .