JP3304741B2 - Process flow generator - Google Patents

Process flow generator

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JP3304741B2
JP3304741B2 JP3300596A JP3300596A JP3304741B2 JP 3304741 B2 JP3304741 B2 JP 3304741B2 JP 3300596 A JP3300596 A JP 3300596A JP 3300596 A JP3300596 A JP 3300596A JP 3304741 B2 JP3304741 B2 JP 3304741B2
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JP
Japan
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lot
flow
specific flow
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change
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康成 伊藤
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Denso Corp
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    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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    • Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/30—Computing systems specially adapted for manufacturing

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、製造に長時間要す
る半導体装置の自動化された製造工場において、現在、
流動中のロットに対しても、処理順序や処理内容の変更
をリアルタイムに反映させて製品品質の適正化を図った
システムに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an automated manufacturing plant for semiconductor devices requiring a long time for manufacturing,
The present invention also relates to a system that optimizes product quality by reflecting changes in the processing order and processing contents in real time even for a flowing lot.

【０００２】[0002]

【従来の技術】半導体装置の製造は、洗浄、気相成長、
拡散、フォトリソグラフ、エッチング、ダイシング等、
極めて多数の処理を必要とし、しかも、多品種且つ多量
生産が要請される。多品種、多量生産に適するように、
ロット単位で各製造装置に任意の順序で搬入搬出できる
いわゆるワークショップ方式が採用されている。このよ
うな方式を用いた完全自動化工場では、コンピュータシ
ステムにより、オーダーに従って製造計画が立てられ、
納期に間に合うように且つ装置の稼働効率、他の製品の
製造効率等を考慮して、各製造装置への最適な搬入時期
が制御される。このようなシステムにおいて、半導体装
置の微細化が進み、より高精度な製品を製造するため処
理工程数が増大し、その製造には、必然的に長時間を要
し、例えば、１〜３か月間必要となる。2. Description of the Related Art Semiconductor devices are manufactured by cleaning, vapor deposition,
Diffusion, photolithography, etching, dicing, etc.
An extremely large number of treatments are required, and a large variety and mass production are required. To be suitable for multi-product, mass production,
A so-called workshop system is adopted in which a lot can be carried in and out of each manufacturing apparatus in an arbitrary order. In a fully automated factory using such a method, a computer system makes a production plan according to orders,
The optimum timing for carrying in each manufacturing apparatus is controlled in time for the delivery date and in consideration of the operation efficiency of the apparatus, the manufacturing efficiency of other products, and the like. In such a system, the miniaturization of the semiconductor device is advanced, and the number of processing steps is increased in order to manufacture a more accurate product, and the manufacturing thereof necessarily takes a long time. Required for a month.

【０００３】一方、このようなシステムにおいては、ロ
ットを各製造装置にどのような順序で流動させ、各製造
装置においてどのような手順及び条件で処理させるかを
規定したマスタデータの作成が必要となる。ある製造装
置における処理は多数存在するが、この処理を最小作業
単位（以下、この作業単位を「工程」ともいう）に区分
して、最小作業単位毎に温度、時間、圧力等の処理条件
や処理方法（レシピ）を記述してデータベース化してい
る。そして、ある半導体装置の製造依頼があれば、その
仕様に基づいて、作業内容を新規に生成する必要があれ
ば、それを生成し、製造に必要な最小作業単位である工
程を拾い出し、その工程名を処理順に記述したプロセス
フローデータ（以下、単に、「プロセスフロー」とい
う）を生成している。[0003] On the other hand, in such a system, it is necessary to create master data that defines the order in which a lot flows to each manufacturing apparatus and the processing procedure and conditions in each manufacturing apparatus. Become. Although there are many processes in a certain manufacturing apparatus, this process is divided into minimum operation units (hereinafter, this operation unit is also referred to as “process”), and processing conditions such as temperature, time, pressure, etc. A database is created by describing the processing method (recipe). Then, if there is a request for the manufacture of a certain semiconductor device, if it is necessary to generate new work contents based on the specifications, it is generated, and the process that is the minimum work unit required for manufacturing is picked up, and Process flow data (hereinafter, simply referred to as “process flow”) in which the process names are described in the processing order is generated.

【０００４】このプロセスフローに従ってロットは規定
された順序で順次作業単位が処理されるように製造装置
に搬入搬出され、ロットが製造装置に搬入された時に、
データベースから工程名により検索された作業内容がそ
の製造装置に指令されることで、ロットの処理が順次行
われる。According to this process flow, a lot is carried into and out of a manufacturing apparatus so that work units are sequentially processed in a prescribed order, and when the lot is carried into the manufacturing apparatus,
When the contents of the work retrieved from the database by the process name are instructed to the manufacturing apparatus, lot processing is sequentially performed.

【０００５】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上述したよ
うに半導体装置の製造には長時間かかり、その間に工場
を流動しているロットも多数存在する。このような場合
に、ある品名の最先に導入されたロットの各作業単位又
は最終製品での品質を測定して、その品質を仕様通りに
するために、作業内容や工程順序を変更したい場合があ
る。又、工場内の環境の変化や処理技術の進歩等を即刻
反映させ、作業内容や工程順序を変更したい場合があ
る。However, as described above, it takes a long time to manufacture a semiconductor device, and during that time, there are many lots flowing through a factory. In such a case, if you want to measure the quality of each work unit or final product of the lot introduced first for a certain product name, and change the work content or process sequence so that the quality is as specified There is. Further, there is a case where it is desired to change the work content and the process sequence by immediately reflecting a change in the environment in the factory or a progress of the processing technology.

【０００６】このような場合には、プロセスフローのあ
る工程名の作業内容に変化があれば、その工程名をその
変化した作業内容を示す別の工程名に変更したり、工程
順序の変更も同様に工程名の並び代え変更により行って
いる。このプロセスフローの変更は、変更後に新規に工
場に投入されるロットに対しては、どの工程も未だ実行
されていないため、その反映が可能である。しかし、流
動中のロットに対しては、プロセスフローの変更後、そ
れを直ちに適用することはできない。何故ならば、半導
体製造工程においては、複数の工程における作業内容が
密接に関連しており、前工程の処理条件を変更すれば、
関連する後工程の処理条件も変更しなければならないと
いう場合が多い。この場合に、その前工程が既に実施さ
れたロットに対して、その関連ある後工程の処理条件を
変更することはできない。よって、流動中の変更対象と
なる全てのロットに関して、プロセスフローを即刻変更
することは出来ない。In such a case, if there is a change in the work content of a certain process name in the process flow, the process name may be changed to another process name indicating the changed work content, or the process sequence may be changed. Similarly, this is performed by changing the rearrangement of the process names. This change in the process flow can be reflected on a lot newly introduced into the factory after the change, because no process has been executed yet. However, for a flowing lot, it cannot be applied immediately after a change in the process flow. Because, in the semiconductor manufacturing process, the contents of work in multiple processes are closely related, and if the processing conditions of the previous process are changed,
In many cases, the processing conditions of the related post-process must also be changed. In this case, it is not possible to change the processing conditions of the related post-process for the lot for which the previous process has already been performed. Therefore, the process flow cannot be changed immediately for all the lots to be changed during the flow.

【０００７】従来のシステムでは、このような流動中の
ロットに対してプロセスフローの変更を反映させる場合
には、ロットの流動を一時停止させ、各ロット毎に、プ
ロセスフローの変更が可能か否かを作業者が判断してい
た。このような作業は多品種、多量ロットの場合におい
ては、作業が極めて複雑であり、製造効率の低下の原因
となっていた。特に、結果から処理内容をフィードバッ
クさせる場合には、プロセスフローの変更が頻繁とな
り、その場合には、製造効率の低下はさらに大きくな
る。In the conventional system, when the change of the process flow is reflected in such a flowing lot, the flow of the lot is temporarily stopped, and it is determined whether the process flow can be changed for each lot. Was determined by the operator. Such a work is extremely complicated in a case of a large number of kinds and a large number of lots, and causes a reduction in manufacturing efficiency. In particular, when the processing content is fed back from the result, the process flow is frequently changed, and in that case, the reduction in manufacturing efficiency is further increased.

【０００８】さらに、流動中の対象ロットに対して、プ
ロセスフローの反映を即刻反映させたとしても、一斉に
変更する結果、コンピュータの処理負荷が大きくなり、
変更だけで数時間程度の時間を要し、その間はロットの
処理や流動を停止させなければならないという問題があ
る。Furthermore, even if the reflection of the process flow is immediately reflected on the flowing target lot, the processing load on the computer increases as a result of simultaneous changes,
There is a problem that it takes several hours only for the change, and during that time, the lot processing and flow must be stopped.

【０００９】従って本発明の目的は、流動中のロットに
対して、処理や流動を停止させることなく、変更された
プロセスフローを適正な時期に反映させることで、不良
製品の発生を極力防止し且つ製品の品質を向上させ、し
かも、製造効率を向上させることである。Accordingly, an object of the present invention is to prevent the occurrence of defective products as much as possible by reflecting the changed process flow at an appropriate time for a flowing lot without stopping processing or flowing. In addition, it is to improve the quality of the product and to improve the production efficiency.

【００１０】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、製造すべき半
導体装置の各品名毎に最小作業単位を示す工程名を処理
順序に従って記述した品名固有フローに基づいて、ロッ
ト単位で流動させ処理を行うために、ロット毎に順次実
行すべき工程を指令するための工程名を記述したロット
固有フローを生成するプロセスフロー生成装置である。SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, a process is performed in a lot-by-lot manner based on a product name specific flow in which a process name indicating a minimum operation unit is described in accordance with a processing order for each product name of a semiconductor device to be manufactured. This is a process flow generating apparatus that generates a lot-specific flow describing a process name for instructing processes to be sequentially executed for each lot to perform.

【００１１】請求項１の構成によれば、ロット毎にロッ
ト固有フローがロット固有フロー記憶手段に記憶され、
品名固有フロー更新手段により、品名固有フローは、更
新に対して相互に同期して変更を必要とする複数の工程
名毎に更新され、ロットの流動順に関して最も最初に位
置する変更工程の位置が変更位置として設定される。こ
の変更位置を設定することで、後述するように、更新さ
れた品名固有フローを反映できるロットを選別すること
ができる。According to the configuration of the first aspect, the lot-specific flow is stored in the lot-specific flow storage means for each lot,
The product-specific flow update means updates the product-specific flow for each of a plurality of process names that need to be changed in synchronization with each other for update, and determines the position of the change process that is located first in the flow order of lots. Set as the change position. By setting this change position, it is possible to select a lot that can reflect the updated product-specific flow, as described later.

【００１２】又、更新された品名固有フロー及び変更位
置は、時間経過と共に更新される世代毎に区別して更新
履歴記憶手段に記憶され、初期値設定手段により、半導
体製造ラインに新規に導入されるロットに対して、更新
履歴記憶手段に記憶されている最新であってそのロット
に対応する品名の品名固有フローが、その初期値とし
て、ロット固有フロー記憶手段に設定される。これによ
り、製造ラインに新規に投入されるロットは、先ずは、
最新に設定された処理条件と処理手順に従って処理され
る予定となる。[0012] The updated product name specific flow and the changed position are stored in the update history storage means separately for each generation updated with the passage of time, and are newly introduced into the semiconductor manufacturing line by the initial value setting means. For the lot, the latest item name specific flow of the item name corresponding to the lot stored in the update history storage unit is set in the lot specific flow storage unit as its initial value. As a result, lots newly introduced to the production line
The processing will be performed according to the latest set processing conditions and processing procedure.

【００１３】流動中のある注目ロットに対するロット固
有フローの更新は、次のように行われる。判定手段によ
り、更新履歴記憶手段に記憶されている品名固有フロー
のうち、そのロット固有フローに未だ反映されていない
世代の品名固有フローであって、それらの世代の変更位
置と注目ロットが存在する現在位置との位置関係に基づ
いて、ロット固有フローにその世代の品名固有フローを
反映できるか否かが判定される。この位置関係により、
そのロットは変更された複数の工程の最も手前にある工
程が実施されたか否かの判定が可能となり、品名固有フ
ローの反映の可否を世代別に判定することができる。The update of the lot-specific flow for a certain target lot that is flowing is performed as follows. The determination means determines, among the product name unique flows stored in the update history storage means, product name unique flows of generations that have not yet been reflected in the lot unique flow, and the change positions and the target lots of those generations are present. Based on the positional relationship with the current position, it is determined whether the lot-specific flow can reflect the product name-specific flow of that generation. Due to this positional relationship,
For the lot, it is possible to determine whether or not the process in front of the plurality of changed processes has been performed, and it is possible to determine whether or not the reflection of the unique flow of the product name can be performed for each generation.

【００１４】反映可能と判定された場合には、ロット固
有フロー更新手段により、注目ロットに対するロット固
有フローに反映可能と判定された各世代の品名固有フロ
ーの変更可能な変更部分が反映され、そのロット固有フ
ローが更新される。これにより、未だ反映されていない
世代の品名固有フローの変更可能な工程の更新が可能と
なる。[0014] If it is determined that the reflection is possible, the lot-specific flow updating means reflects the changeable portion of the product name specific flow of each generation determined to be able to be reflected in the lot-specific flow for the target lot. The lot-specific flow is updated. As a result, it is possible to update a changeable process of a product name unique flow of a generation that has not been reflected yet.

【００１５】このようにして、流動中のロットにおい
て、現在位置と変更位置との関係で品名固有フローの変
更がロット固有フローに反映されるため、プロセスフロ
ーの論理性を保持した変更が可能となる結果、不良品の
発生を極力防止し、品質向上を図ることができる。又、
品名固有フローは、時間の経過と共に多数回更新される
が、その更新は履歴として記憶されるため、流動中のロ
ットへの反映は、更新時期と完全に同期させる必要がな
い。これにより、流動中の更新の対象となる全ロットに
対して、一斉に、ロット固有フローの更新をする必要が
ないため、負荷分散が可能となり、他の製造管理システ
ムへの影響がなく、製造効率を低下させない。尚、品名
は仕様の異なる製品の識別情報の意味で用いており、品
番やその他の識別情報を含む概念である。In this way, in the flowing lot, the change in the product-specific flow is reflected in the lot-specific flow based on the relationship between the current position and the changed position, so that it is possible to make changes while maintaining the logic of the process flow. As a result, occurrence of defective products can be prevented as much as possible, and quality can be improved. or,
The product-specific flow is updated many times with the passage of time, but since the update is stored as a history, the reflection on the flowing lot does not need to be completely synchronized with the update time. As a result, it is not necessary to update lot-specific flows all at once for all lots to be updated during the flow, so that the load can be distributed and there is no effect on other manufacturing management systems. Does not reduce efficiency. Note that the product name is used to mean identification information of products having different specifications, and is a concept including a product number and other identification information.

【００１６】請求項２の発明では、判定手段は、注目ロ
ットの現在位置が変更位置に対して流動順に見て手前に
存在する時に反映可能と判定し、変更位置が注目ロット
の現在位置に対して手前に存在する時に反映不可と判定
する。現在位置が変更位置よりも手前に存在すれば、そ
の変更位置よりも後に存在する工程は未だ実施していな
いので、その変更位置よりも後に存在する複数の変更工
程名を、そのロットのロット固有フローにおいて反映さ
せることが可能となる。この反映は、未だ反映されてい
ない世代の品名固有フローの全てに対して実施される。
これにより、流動中のロットは、以後、最新の処理条件
及び手順で処理されることになり、製造効率を低下させ
ることなく品質の向上が図れる。In the invention according to claim 2, the determination means determines that the current position of the target lot can be reflected when the current position of the target lot is present before the change position in the flow order, and the change position is determined with respect to the current position of the target lot. Is determined to be unreflective when it is present in front. If the current position is before the change position, the processes that exist after the change position have not been implemented yet. This can be reflected in the flow. This reflection is performed for all product name specific flows of the generation that have not been reflected yet.
As a result, the flowing lot is subsequently processed under the latest processing conditions and procedures, and the quality can be improved without lowering the manufacturing efficiency.

【００１７】請求項３の発明では、ロット固有フロー更
新手段は、反映可能と判定された各世代の品名固有フロ
ーの変更可能な変更部分の反映に際し、古い世代から順
に反映させている。品名固有フローの更新は、１つ前の
世代に対する変更であるので、ロット固有フローが変更
工程に対応する１つ前の変更前工程を有していないと、
変更の対象とはならない。このような場合は、ロット固
有フローに反映できなかった世代の品名固有フローが存
在する場合に発生し得る。この結果、古い世代から順に
反映させれば、更新不可能な工程が少なくなり、ロット
固有フローの更新に際して、反映可能な工程を多くする
ことができ、流動中のロットに対する品質の向上をより
実現することができる。According to the third aspect of the invention, the lot-specific flow updating means reflects the changeable portion of the product-name-specific flow of each generation determined to be reflectable, in order from the oldest generation. Since the update of the product name specific flow is a change for the previous generation, if the lot specific flow does not have the previous previous change process corresponding to the change process,
Not subject to change. Such a case may occur when there is a product name unique flow of a generation that could not be reflected in the lot unique flow. As a result, if the process is reflected in order from the oldest generation, the number of processes that cannot be updated is reduced, and the number of processes that can be reflected when updating the lot-specific flow can be increased, thereby further improving the quality of the flowing lot. can do.

【００１８】請求項４の発明では、ロット固有フロー更
新手段は、品名固有フローの反映が可能と判定された世
代の変更位置のうち、流動順の最も手前にある最前変更
位置に注目ロットが達するまでの任意時刻においてロッ
ト固有フローを更新するようにしている。この結果、流
動中の更新の対象となる全ロットに対するロット固有フ
ローの更新時期を分散させることで負荷分散が可能とな
り、他の製造管理システムへの影響がなく、製造効率を
低下させない。In the invention according to claim 4, the lot-specific flow update means, among the change positions of the generations determined to be able to reflect the item-specific flow, the target lot reaches the foremost change position at the forefront of the flow order. The lot-specific flow is updated at any time up to. As a result, it is possible to distribute the load by dispersing the update timing of the lot-specific flow for all the lots to be updated during the flow, so that there is no influence on other production management systems and the production efficiency is not reduced.

【００１９】請求項５の発明では、ロット固有フロー更
新手段は、最前変更位置に注目ロットが達するまでの余
裕時間に基づいて、そのロット固有フローの更新時期を
決定している。即ち、ロット固有フローの更新を行う時
点での最前変更位置にロットが到達するまでに更新が行
えれば、最新の処理条件等の変更を反映させることがで
きる。余裕時間が短いロットを優先して更新し、余裕時
間が長いロットは、更新時期を後に繰り下げる等の操作
が可能となる。これにより、更新の適正な負荷分散が可
能となり、他の製造管理システムへの影響がなく製造効
率を低下させずに、流動中のロットから製品の品質を向
上させることができる。According to the fifth aspect of the present invention, the lot-specific flow updating means determines the update time of the lot-specific flow based on a margin time until the target lot reaches the foremost change position. In other words, if the update can be performed before the lot reaches the foremost change position at the time of updating the lot-specific flow, the latest change in the processing conditions and the like can be reflected. A lot with a short margin time is preferentially updated, and a lot with a long margin time can be operated to postpone the renewal timing later. As a result, it is possible to appropriately distribute the load of updating, and it is possible to improve the quality of a product from a flowing lot without affecting other manufacturing management systems and reducing the manufacturing efficiency.

【００２０】請求項６の発明では、ロット固有フロー更
新手段は、最前変更位置に注目ロットが達するまでの余
裕時間及び更新手段にかかる負荷に応じて、そのロット
固有フローの更新時期を決定している。よって、請求項
５と同様な効果を奏する。In the invention according to claim 6, the lot-specific flow updating means determines an update time of the lot-specific flow according to a margin time until the noticed lot reaches the foremost change position and a load on the updating means. I have. Therefore, an effect similar to that of the fifth aspect is obtained.

【００２１】請求項７の発明では、判定手段は、流動中
のロットが各工程の処理が終了した時刻で、判定演算を
実行している。ロットがある工程の処理を実施されてい
る時には、その工程の処理条件の変更はできないので、
工程の終了時期で判定すれば、最新の処理条件を反映す
ることが可能となる。工場を流動するロットの各工程の
終了時期は不均一である。よって、判定要求はランダム
に発生することになるので、判定更新演算の負荷分散が
可能となり、他の製造管理システムへの影響がなく製造
効率を低下させずに、流動中のロットから製品の品質を
向上させることができる。In the invention according to claim 7, the judgment means executes the judgment calculation at the time when the process of each step is completed for the flowing lot. When a lot is being processed for a certain process, the processing conditions for that process cannot be changed.
If the determination is made based on the end time of the process, the latest processing conditions can be reflected. The end time of each process of the lot flowing through the factory is not uniform. Therefore, since the judgment request is generated at random, the load of the judgment update operation can be distributed, and the quality of the product from the flowing lot can be reduced without affecting the other production management systems and reducing the production efficiency. Can be improved.

【００２２】[0022]

【発明の実施の形態】以下、本発明を具体的な実施例に
基づいて説明する。1.全体構成 図１は、本発明の具体的な実施例にかかるプロセスフロ
ー生成装置５０を含む完全自動半導体製造システムの構
成を示したブロック図である。本システムはコンピュー
タシステムで構成されており、図１は、ソフトウエア上
の処理単位別にブロック化した図である。本システム
は、工場内に半導体製造装置を複数配設し、ロットを指
令された工程順にそれらの半導体製造装置に順次搬入し
て加工処理することで、完全自動による多品種、大量生
産を可能とするシステムである。本製造システムでは、
ワークショップ方式により、多数のロットが各ロット毎
に独自の工程順及び処理手順に従って処理されて行く。
このようなシステムでは製品が完成するまでに長時間要
し、その間に、ロットの各作業単位又は最終製品での品
質を測定して、その品質を仕様通りにするために、作業
内容や工程順序が変更される。又、工場内の環境の変化
や処理技術の進歩等を即刻反映させて、作業内容や工程
順序を変更する。これらの変更に伴いプロセスフローが
変更され、流動中のロットに対して、効率良くその変更
が反映される。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described based on specific embodiments. 1. Overall Configuration FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a fully automatic semiconductor manufacturing system including a process flow generating device 50 according to a specific embodiment of the present invention. This system is constituted by a computer system, and FIG. 1 is a block diagram for each processing unit on software. This system enables multiple types and mass production by fully automatic operation by arranging a plurality of semiconductor manufacturing equipment in a factory, sequentially loading lots into these semiconductor manufacturing equipments in the order of the ordered process, and processing them. System. In this manufacturing system,
According to the workshop method, a lot of lots are processed for each lot according to a unique process sequence and processing procedure.
In such a system, it takes a long time to complete the product, during which time the quality of each work unit of the lot or the final product is measured, and the work content and process sequence are set in order to achieve the quality as specified. Is changed. Further, the work content and the process sequence are changed by immediately reflecting the change in the environment in the factory, the progress of the processing technology, and the like. The process flow is changed in accordance with these changes, and the change is efficiently reflected in the flowing lot.

【００２３】図１において、原単位管理システム３１
は、品名毎のプロセスフロー、プロセスフローの各工程
名に対応した各作業単位の作業内容、及び、設備制御・
工程管理・生産管理・品質管理等の自動化に必要な他の
情報（以下、自動製造において基礎となるこれらの情報
を全て総称して、「マスタデータ」という）を作成する
システムである。生産管理システム３２は、製品の受注
量に応じて製造ラインに新規に投入するロット数を日単
位で決定する等の工場生産計画を作成するシステムであ
る。スケジューリングシステム３３は、工場生産計画及
びマスタデータ等に基づいて、個々の半導体製造装置に
いつどのロットを仕掛けるべきかを規定した計画を最適
化し、その計画に従って指示を出すシステムである。こ
のスケジューリングシステム３３により、工場全体の設
備の稼働効率を向上させるように、各製造装置における
ロットの仕掛かり時期が制御されている。In FIG. 1, a basic unit management system 31
Is the process flow for each product name, the work content of each work unit corresponding to each process name of the process flow,
This is a system for creating other information necessary for automation of process management, production management, quality control, etc. (hereinafter, all of these basic information in automatic manufacturing are collectively referred to as “master data”). The production management system 32 is a system for creating a factory production plan such as determining the number of new lots to be newly supplied to a production line on a daily basis according to the order quantity of products. The scheduling system 33 is a system that optimizes a plan that specifies when and what lot should be set for each semiconductor manufacturing apparatus based on a factory production plan and master data, and issues an instruction according to the plan. The scheduling system 33 controls the in-process timing of a lot in each manufacturing apparatus so as to improve the operation efficiency of the equipment in the entire factory.

【００２４】設備制御システム３５は、自動化された半
導体製造装置３７やロットの自動搬入及び搬出を行うた
めのＡＧＶ（自動搬送車）３８との間でデータ交換を行
い、それらの各装置の動作を指令するシステムである。
ロットトラッキングシステム３４は、設備制御システム
３５から入力される情報に基づいて、ロットのプロセス
フロー上における現在位置やロットの加工状態を記憶し
管理すると共に、スケジューリングシステム３３で作成
されたその時のスケジュールやロットのプロセスフロー
に従って設備制御システム３５に指令を出し、ロットの
搬入、搬出、工程の処理開始等を制御するシステムであ
る。The equipment control system 35 exchanges data with an automated semiconductor manufacturing apparatus 37 and an AGV (automatic carrier) 38 for automatically loading and unloading lots, and controls the operation of each of these apparatuses. It is a system to instruct.
The lot tracking system 34 stores and manages the current position of the lot on the process flow and the processing state of the lot based on the information input from the equipment control system 35, and also manages the current schedule created by the scheduling system 33. This is a system that issues a command to the equipment control system 35 according to the lot process flow, and controls the loading and unloading of the lot, the start of the process, and the like.

【００２５】履歴管理システム３６は、スケジューリン
グシステム３３、ロットトラッキングシステム３４、設
備制御システム３５から出力される実行結果を示す実績
データを履歴データとして格納し、それらの実績データ
を個々の各システム３１〜３５へフィードバックする装
置である。これにより、各システム３１〜３５における
各種のデータは、現実の製造状態が反映された最適なも
のとなる。例えば、ある製品のロットの工程の消化が遅
延していれば、その遅延を補償するように計画が立てら
れる。又、ある工程を終了したロットの品質結果によ
り、その工程の処理条件を変更して、後のロットにその
変更を反映した処理が可能なように、原単位管理システ
ム３１で生成されるプロセスフロー、各工程の作業内容
の記述が変更される。The history management system 36 stores, as history data, performance data indicating execution results output from the scheduling system 33, the lot tracking system 34, and the equipment control system 35, and stores the performance data in each of the systems 31 to 31. It is a device that feeds back to 35. As a result, various data in each of the systems 31 to 35 becomes optimal data reflecting the actual manufacturing state. For example, if the digestion of a process in a lot of a product is delayed, a plan is made to compensate for the delay. The process flow generated by the basic unit management system 31 is changed according to the quality result of the lot that has completed a certain process so that the processing conditions of the process can be changed and the subsequent lot can be processed with the change reflected. The description of the work content of each process is changed.

【００２６】本発明にかかるプロセスフロー生成装置５
０は、製品の仕様により品名毎に決定されるプロセスフ
ロー（以下、「品名固有フロー」という）の更新に対し
て、流動中のロット毎のプロセスフロー（以下、「ロッ
ト固有フロー」という）に変更を加えて、ロット固有フ
ローを更新する装置である。この装置により、流動中の
ロットから、各工程の処理内容の変更を反映させること
ができる。プロセスフロー生成装置５０は、最新のロッ
ト固有フローをロットトラッキングシステム３４に出力
する。ロットトラッキングシステム３４はそのロット固
有フローの工程名によりそのロットを搬入すべき製造装
置を決定し、その製造装置へ搬入し、その製造装置にそ
の工程名での処理を行うことを設備制御システム３５を
介して指令する。このプロセスフロー生成装置５０は、
原単位管理システム３１の一構成要素である。The process flow generator 5 according to the present invention
0 indicates a process flow for each flowing lot (hereinafter, referred to as a “lot-specific flow”) in response to an update of a process flow (hereinafter, referred to as a “product-specific flow”) determined for each product name according to product specifications. This device updates the lot-specific flow by making changes. With this apparatus, it is possible to reflect the change in the processing content of each process from the flowing lot. The process flow generation device 50 outputs the latest lot-specific flow to the lot tracking system 34. The lot tracking system 34 determines a manufacturing apparatus to which the lot is to be carried in according to the process name of the lot-specific flow, carries the lot into the manufacturing apparatus, and performs processing with the process name in the manufacturing apparatus. Command via. This process flow generation device 50
This is one component of the basic unit management system 31.

【００２７】2.品名固有フローの生成及び変更 品名固有フローを生成するために、原単位管理システム
３１が設けられており、そのシステム３１の詳細な構成
は図２に示されている。図２において、プロセスフロー
編集装置４１は品名固有フローを編集するための装置で
あり、工場外の工程設計者が利用できる多数の箇所に設
けられている。品名固有フローは、品名毎の最小作業単
位である工程の流れを記述したものである。ここでは、
品名固有フローはこの工程名の羅列により記述されてい
る。プロセスパーツ編集装置４２は、各最小作業単位の
内容、即ち、レシピをパーツ群毎に記述し変更する装置
である。工程の処理条件等を変更する場合であって、他
の工程名では対応できない場合は、プロセスパーツ編集
装置４２を用いて、その条件で処理される作業内容を新
規に記述し、新しい工程名が定義される。データベース
（ＤＢ）コンパイラー４３は、品名固有フローや作業内
容をプロセスフロー生成装置５０や他のステム３２〜３
５で解読可能なようなデータ形式に変換する装置であ
る。又、マスターデータ展開装置４４は、工場内に分散
している複数のプロセスフロー生成装置５０に対して、
全く同一に、データベースから読み出し、品名固有フロ
ーを展開する装置である。 2. Generation and Change of Product Name Specific Flow In order to generate a product name specific flow, a basic unit management system 31 is provided, and the detailed configuration of the system 31 is shown in FIG. In FIG. 2, a process flow editing device 41 is a device for editing a product name-specific flow, and is provided at a number of locations outside the factory that can be used by a process designer. The product name specific flow describes the flow of a process that is the minimum work unit for each product name. here,
The product name specific flow is described by the list of process names. The process parts editing device 42 is a device that describes and changes the content of each minimum work unit, that is, a recipe for each part group. When the process conditions of the process are changed and other process names cannot be used, the work contents processed under the conditions are newly described using the process parts editing device 42, and the new process name is changed. Defined. The database (DB) compiler 43 converts the product name-specific flow and work content into the process flow generation device 50 and other stems 32 to 3.
5 is a device that converts the data into a data format that can be decoded. Further, the master data development device 44 sends a plurality of process flow generation devices 50 dispersed in the factory to
This is exactly the same device that reads from the database and develops the product name specific flow.

【００２８】ある品名固有フローを生成して、その品名
固有フローに従って製造が開始された後、上述したよう
に、各種の要因により工程順序や工程の処理内容に変更
を加えたい場合がある。その場合にも、プロセスフロー
編集装置４１により、品名固有フローの変更が加えられ
る。その変更は、マスターデータ展開装置４４を介し
て、プロセスフロー生成装置５０に出力され、その装置
５０によって、ロット固有フローに変更が加えられる。After a specific product name flow is generated and manufacturing is started in accordance with the specific product name flow, as described above, there may be a case where it is desired to change the process sequence or the processing content of the process due to various factors. Also in this case, the process flow editing device 41 changes the product name specific flow. The change is output to the process flow generation device 50 via the master data development device 44, and the device 50 changes the lot-specific flow.

【００２９】図２において、プロセスフロー編集装置４
１は、半導体装置製造プロセスの基本フローを設計・変
更したりする編集を行う基本フロー編集装置１、及び、
品名毎のオプション部分のみを設計・変更する品名フロ
ー変更編集装置２を有している。各装置１、２で独立に
編集されたそれぞれのプロセスフローは品名固有フロー
生成装置４に出力され、ＤＢコンパイラ４３によって、
各設備に対する指令コード群からなる品名固有フローに
変換され、品名固有フロー生成装置４に記憶される。In FIG. 2, the process flow editing device 4
1 is a basic flow editing apparatus 1 for performing editing for designing and changing a basic flow of a semiconductor device manufacturing process, and
It has a product name flow change editing device 2 that designs and changes only the optional part for each product name. Each process flow independently edited in each of the devices 1 and 2 is output to the product name unique flow generating device 4 and is processed by the DB compiler 43.
The flow is converted into a product-specific flow composed of a command code group for each facility, and stored in the product-specific flow generator 4.

【００３０】１つの品名固有フローは数千工程程度を含
み、製品の品名毎に異なるものであるが、これらを品名
毎に最初から生成したのでは、多くの労力を必要とす
る。又、同様な変更を全ての品名固有フローに対して行
う必要がある場合に、個別的に変更していたのでは効率
が悪い。そこで、半導体製造工場で一般的に共通に使用
される工程をまとめて、予め、基本フローを生成してお
く。そして、各品名固有フローは、基本フローに対して
異なった部分だけからなる品名フロー変更を作成して、
それらの合成により生成することで、その生成が容易に
なる。One product name-specific flow includes about several thousands of steps and differs for each product name. However, if these are generated from the beginning for each product name, much labor is required. Further, when similar changes need to be made for all product name-specific flows, it is inefficient to change them individually. Therefore, a process generally used in common in a semiconductor manufacturing factory is put together and a basic flow is generated in advance. Then, each product name unique flow creates a product name flow change consisting only of different parts from the basic flow,
Generation by their synthesis facilitates their generation.

【００３１】この基本フローは工場におけるプロセスフ
ローの基幹部であり、最も規模の大きなデータ構成とな
る。又、個々の品名ごとに調整する工程部分は、基本フ
ローとは別に品名フロー編集装置２で編集され、その変
更部を記述した品名フロー変更は一つの品名に対して、
一つのデータファイルとして取り扱われる。ただし編集
する場合、図４に示すように、品名フロー変更７のデー
タのみでは意味を成さないので、元となる基本フロー６
と共に表示される。しかし、実際に作成される部分は品
名フロー変更７に含まれるオプション部分のみである。This basic flow is the backbone of the process flow in a factory, and has the largest data structure. In addition, the process part to be adjusted for each individual product name is edited by the product name flow editing device 2 separately from the basic flow, and the product name flow change describing the changed part is performed for one product name.
Handled as one data file. However, in the case of editing, as shown in FIG. 4, since the data of the product name flow change 7 alone does not make sense,
Displayed with However, the part actually created is only the optional part included in the product name flow change 7.

【００３２】このように品名固有フローを基本フローと
品名フロー変更とに完全に分離して構成できるのは次の
理由があるからである。 (1) 品名固有フローは、工程の集合であり、その工程の
順序からなる情報の集合体である。従って、品名固有フ
ローは、自由に分割構成することが可能である。 (2) 個々の工程の作業を実施するのに必要な製造装置が
あり、その製造装置を実際に稼働する際に、その製造装
置を稼働するための指令情報が必要となる。 (3) 製造装置に属する情報、例えば、加工条件、温度条
件、可動部分の駆動指示等の詳細な条件は品名固有フロ
ーの記述とは独立したものである。 (4) 品名毎に使用される製造装置とその装置での処理条
件が異なる。 (5) 従って、仕様が類似した製品は、共通の基本フロー
が使用でき、その基本フローに対する変更部分を、品名
フロー変更として付加することによって個々の製品の品
名固有フローが生成できる。The reason why the product name specific flow can be completely separated into the basic flow and the product name flow is as follows. (1) The product name specific flow is a set of processes, and is an aggregate of information including the order of the processes. Therefore, the product name specific flow can be freely divided and configured. (2) There is a manufacturing device necessary to carry out the work of each process, and when the manufacturing device is actually operated, command information for operating the manufacturing device is required. (3) Information pertaining to the manufacturing apparatus, for example, detailed conditions such as processing conditions, temperature conditions, and instructions for driving the movable parts are independent of the description of the product name specific flow. (4) The manufacturing equipment used for each product name and the processing conditions in that equipment are different. (5) Therefore, products having similar specifications can use a common basic flow, and by adding a change to the basic flow as a change in the product name flow, a product name specific flow of each product can be generated.

【００３３】図４は、基本フローと品名フロー変更との
関係を示す説明図である。図４(a)は品名固有フローの
構成を示した概念図で、基本フロー６をベースとして品
名フロー変更７がオーバーラップしたイメージとなって
いる。従って、全体として変更部分が基本フローをマス
クしている形となり、基本フロー６の変更前の工程名は
そのまま残されている。言い換えれば、基本フロー６を
ベースにして品名フロー変更７というオプションが付け
加えられているので、このオプション部分をいろいろ変
更すれば、別の製品のための品名固有フローを容易に構
築することができる。FIG. 4 is an explanatory diagram showing the relationship between the basic flow and the change in the product name flow. FIG. 4A is a conceptual diagram showing the configuration of the product name unique flow, which is an image in which the product name flow change 7 is overlapped based on the basic flow 6. Therefore, the changed part masks the basic flow as a whole, and the step name of the basic flow 6 before the change is left as it is. In other words, since the option of changing the product name flow 7 based on the basic flow 6 is added, if this option part is variously changed, a product name specific flow for another product can be easily constructed.

【００３４】図４(a) の(1) では一つの基本フロー６に
品名フロー変更７を設けているが、図４(a) の(2) では
複数用意されている基本フローI,II,IIIのそれぞれ必要
部分を寄せ合わせて一つの基本フロー６’として構成し
た場合のイメージを示している。品名フロー変更は、特
定の基本フローだけでなく複数の異なる基本フローに対
しても関連付けることができるので、基本フローをパー
ツのように扱うことができる。例えば、半導体装置が同
一構造であればＭＯＳ系とバイポーラ系とで同一工程を
適用できる可能性があるため、共通の工程を利用でき
る。In (1) of FIG. 4 (a), a product flow change 7 is provided in one basic flow 6, but in (2) of FIG. 4 (a), a plurality of prepared basic flows I, II, 3 shows an image in the case where necessary parts of III are combined to form one basic flow 6 ′. Since the item name flow change can be associated not only with a specific basic flow but also with a plurality of different basic flows, the basic flow can be treated like a part. For example, if the semiconductor device has the same structure, there is a possibility that the same process can be applied to the MOS system and the bipolar system, so that a common process can be used.

【００３５】品名フロー変更７は基本フロー６に含まれ
る工程名を持つ必要がなく、各製品にとって必要な基本
フローからの変更部分であるオプション部分のみを有し
て記憶しておけば良いので、編集における負担も発生せ
ず、取扱いが容易である。このように構成することで膨
大なデータ量となる基本フロー６をそのつど作成する必
要がなくなり、複数の基本フローをパーツのように管理
することができて扱いが容易になる利点がある。The product name flow change 7 does not need to have a process name included in the basic flow 6 and only has to store the option part which is a change from the basic flow necessary for each product. There is no burden on editing and handling is easy. With this configuration, it is not necessary to create the basic flow 6 having an enormous amount of data each time, and there is an advantage that a plurality of basic flows can be managed like parts and handling is easy.

【００３６】品名フロー変更７に含まれる工程は、個々
の製品のガラスマスク指定等のためのデータ、個々の製
品特有のオプション工程、その設備固有のレシピ（条
件）、測定作業等の指示、等々で構成される。図４(b)
で、基本フロー６の構成が作業単位である工程Ａ〜Ｋま
でであるとする。品名フロー変更(1) として工程Ｄ、
Ｇ、Ｈを工程ｄ',ｇ',ｈ' に変更するとき、品名フロー
変更７の構成は、品名フロー変更(1) に示されたその三
つの工程に関する変更データのみで良い。従ってデータ
量が基本フロー６に比べて十分少なく、取扱いが容易で
ある。そして、その品名に対しては、品名フロー変更７
と基本フロー６の合成により、品名固有フロー(1) が生
成される。The processes included in the product name flow change 7 include data for designating a glass mask for each product, optional processes specific to each product, recipes (conditions) specific to the equipment, instructions for measurement work, and the like. It consists of. Fig. 4 (b)
Here, it is assumed that the configuration of the basic flow 6 includes steps A to K, which are work units. Process D, as product name flow change (1)
When G and H are changed to steps d ', g', and h ', the configuration of the product name flow change 7 need only be the change data for the three processes shown in the product name flow change (1). Therefore, the data amount is sufficiently smaller than that of the basic flow 6, and the handling is easy. Then, for the product name, change product name flow 7
The product name specific flow (1) is generated by synthesizing the basic flow 6 with the product name.

【００３７】そして別の製品を構成する品名フロー変更
(2) として、工程ｂ',ｅ',ｇ”が指定されているとする
と、この品名に対して基本フロー６とともにまた別の品
名固有フロー(2) が形成される。このようにして、各製
品ごとに品名フロー変更７が形成され、そのデータは基
本フロー６に比べて十分小さく、多数準備することが可
能となる。従ってこの製造工場で製造される製品におい
ては、このような基本フロー６を柱として品名フロー変
更７で細かく規定される単位毎に、製品のグループ化が
成されることにもなる。Then, the flow of the product name constituting another product is changed.
Assuming that the process b ', e', g "is specified as (2), another product name specific flow (2) is formed for this product name along with the basic flow 6. In this way, A product name flow change 7 is formed for each product, the data of which is sufficiently smaller than the basic flow 6, and a large number of products can be prepared. Product grouping is also performed for each unit defined in detail by the product name flow change 7 with 6 as a pillar.

【００３８】次に、基本フロー６が、基本フロー編集装
置１で修正されて、図４(b) の基本フロー変更[1] のよ
うに変更されたとする。この変更は工程ＤとＪが削除さ
れ、工程Ｘが工程ＥとＦの間に挿入される基本フロー変
更の場合を示している。このような基本フローの変更は
すべての品名フロー変更(1),(2) に反映する。反映させ
たフローが品名固有フロー(1)'および(2)'である。基本
フロー変更[1] では工程Ｄが削除されているので、それ
に対して変更を加えている品名フロー変更(1)の工程ｄ'
はマスクするべき元の工程がないため変更することが
できずに削除される。なお、工程Ｘが追加されているの
で工程Ｆ以降の表示位置が品名固有フロー(1) とずれて
いる。Next, it is assumed that the basic flow 6 has been modified by the basic flow editing apparatus 1 and changed as shown in the basic flow change [1] in FIG. 4B. This change shows a case where steps D and J are deleted, and step X is a basic flow change inserted between steps E and F. Such a change in the basic flow is reflected in all product name flow changes (1) and (2). The reflected flows are the product name specific flows (1) 'and (2)'. Since the process D is deleted in the basic flow change [1], the process d 'of the product name flow change (1) is changed.
Are deleted because they cannot be changed because there is no original process to mask. Since the process X is added, the display position after the process F is shifted from the product name specific flow (1).

【００３９】品名固有フロー(2)'では、工程ＤおよびＪ
が削除されていることは品名固有フロー(1)'と同様であ
るが、品名フロー変更(2) で工程Ｅを工程ｅ' に変更し
ているために、新たに挿入された工程Ｘの入るべき位置
を示す工程Ｅがないため、工程Ｘの挿入が反映されない
ようになっている。In the product name specific flow (2) ', steps D and J
Is the same as the product name specific flow (1) ', but since the process E is changed to the process e' in the product name change (2), the newly inserted process X enters. Since there is no step E indicating the position to be performed, the insertion of the step X is not reflected.

【００４０】ところで、製品を製造するラインは通常長
く、複数の製品ロットが常時流れており、それぞれのロ
ットに対してロット固有フローが決められている。それ
は、製造途中で、変更があった場合などで、同じ製品で
も製造工程が異なる場合が存在し得るからである。従っ
て、自動化工場等におけるロット管理はそれぞれのロッ
ト毎のプロセスフローをも考慮しなければならない。こ
のため、それらのロット毎のプロセスフローに対しても
編集結果がかかわることから、品名フロー変更のデータ
量が少ないとは言え、変更のための編集時に、このプロ
セスフロー編集装置４１の負担が大きくなる。しかし、
本実施例システムでは、編集装置４１とは、別に、独立
して、ロット固有フローを更新するためのプロセスフロ
ー生成装置５０が設けられているために、編集装置４１
での負荷増大はない。即ち、編集とロット固有フローの
更新は並行して実行されるので、編集装置４１はロット
固有フローの変更まで関与する必要はなく、品名固有フ
ローの変更だけを行えば良い。A product manufacturing line is usually long, and a plurality of product lots always flow, and a lot-specific flow is determined for each lot. This is because the same product may have different manufacturing processes, for example, when there is a change during the manufacturing. Therefore, lot management in an automated factory or the like must also consider the process flow of each lot. For this reason, since the editing result is involved in the process flow for each lot, it can be said that the data amount of the change in the product name flow is small, and the load of the process flow editing device 41 is large at the time of editing for the change. Become. But,
In the system of this embodiment, a process flow generating device 50 for updating a lot-specific flow is provided separately and independently from the editing device 41.
There is no increase in the load. That is, since the editing and the update of the lot-specific flow are executed in parallel, the editing device 41 does not need to be involved in the change of the lot-specific flow, but only the change of the product name-specific flow.

【００４１】品名固有フローと基本フローとのさらに詳
しい関係が図５に示されている。図５において、基本フ
ローが図５(a) に示すように、工程群Ａ〜工程群Ｋで構
成され、各工程群は作業単位である作業A1〜A4、作業B1
〜B4、〜作業K1〜K4で構成されている。工程群は単に複
数の作業を管理し易くするために群別化したに過ぎな
い。又、作業は、最小作業単位であり、今までに述べた
工程の意味である。FIG. 5 shows a more detailed relationship between the product name specific flow and the basic flow. In FIG. 5, the basic flow includes, as shown in FIG. 5A, a process group A to a process group K, and each process group includes work A1 to A4 and work B1 as work units.
~ B4, ~ Work K1 ~ K4. The process groups are merely grouped to make it easier to manage multiple operations. The operation is the minimum operation unit, and has the meaning of the steps described above.

【００４２】この基本フローを用いて、図５(b) に示す
ように、品名固有フロー(1) を形成する場合、品名フロ
ー変更(1) は、図５(c) のような構成として表すことが
できる。即ち、品名フロー編集装置２で編集されるデー
タは基本フロー（図５(a))と異なる部分を記述して行く
ことで構成される。When the product name unique flow (1) is formed by using this basic flow as shown in FIG. 5B, the product name flow change (1) is expressed as a configuration as shown in FIG. 5C. be able to. That is, the data edited by the article name flow editing device 2 is configured by describing portions different from the basic flow (FIG. 5A).

【００４３】品名フロー変更(1) は、図５(c) と図５
(b) と比較して判るように、例えば、工程群Ａでは作業
A2が削除されているが、その削除を指示するために、ス
キップA2という命令語を有し、又、作業A3と作業A4とに
対しては、処理条件等の異なる作業A5と作業A6に変更す
る命令語を有している。又、工程群Ｂの作業は全て基本
フローと同一であるので工程群Ｂに関する指令は不要で
あり、工程群Ｃでは全ての作業が省略されるので工程群
Ｃ全体を削除するスキップＣの命令語が与えられてい
る。工程群Ｋでは、作業K2がスキップされ、さらに作業
K5が作業K3と作業K4との間に挿入される指示（インサー
トK5）が与えられている。FIG. 5 (c) and FIG.
As can be seen from comparison with (b), for example, in the process group A,
A2 has been deleted, but has a command of skip A2 to instruct the deletion, and for work A3 and work A4, changed to work A5 and work A6 with different processing conditions etc. Command. In addition, since all the operations of the process group B are the same as the basic flow, no command regarding the process group B is required, and since all the operations are omitted in the process group C, the instruction of the skip C for deleting the entire process group C is omitted. Is given. In process group K, operation K2 is skipped, and
An instruction to insert K5 between work K3 and work K4 (insert K5) is given.

【００４４】このように、品名フロー編集装置２での編
集は、図５(c) の例で言えば、各工程群に含まれる作業
単位の工程を決定していくことである。このような工程
の処理内容は、工程名が付されてデータベース化されて
おり、編集が容易に実施できるようになっている。品名
フロー変更(1) に記述されていない工程名は、基本フロ
ーの工程名がそのまま反映されるので、基本フローに関
する情報を持つ必要がなく、品名フローの編集は品名固
有フロー全体を作成するよりも遙に簡単である。そし
て、実際に必要となる品名固有フローは、品名固有フロ
ー生成装置４により、図５(a) の基本フローの上に図５
(c) の品名フロー変更が重畳されて生成される。その生
成された品名固有フローは、ＤＢコンパイラー４３によ
り他のシスムテで解読可能な形式に変換される。As described above, the editing by the product name flow editing apparatus 2 is to determine the process of the work unit included in each process group in the example of FIG. 5C. The processing contents of such a process are stored in a database with the process name attached, so that editing can be easily performed. For the process names not described in the item name change (1), the process name of the basic flow is reflected as it is, so there is no need to have information on the basic flow, and editing the item name flow is more effective than creating the entire item name specific flow. Is much easier. Then, the product name unique flow actually required is added by the product name unique flow generation device 4 onto the basic flow of FIG.
The item name flow change of (c) is superimposed and generated. The generated product name unique flow is converted by the DB compiler 43 into a format that can be interpreted by another system.

【００４５】3.プロセスフロー生成装置 図３は、図２におけるプロセスフロー生成装置５０の詳
細な構成を示したブロック図である。図３において、プ
ロセスフロー変更履歴管理手段５１は、品名固有フロー
の更新に対して、各世代毎に品名固有フローを更新履歴
記憶手段５６に記憶するための品名固有フロー更新手段
５２、製造ラインに新規に投入されるロットに対してロ
ット固有フローの初期値を設定する初期値設定手段５４
を有している。又、プロセスフロー反映管理手段７１
は、各世代の品名固有フローの変更工程がロット固有フ
ローに反映できるか否かを判定する判定手段７２、その
判定手段７２の判定結果に基づいて、実際に、反映可能
な世代の品名固有フローの変更工程をロット固有フロー
に反映させるロット固有フロー更新手段７４を有してい
る。さらに、プロセスフロー生成装置５０には、時間の
経過に伴って更新される各世代の品名固有フロー、各世
代の変更位置を記憶する更新履歴記憶手段５６、多数の
流動中のロットに関して、それぞれのロット固有フロー
を記憶するロット固有フロー記憶手段５８が設けられて
いる。 3. Process Flow Generating Device FIG. 3 is a block diagram showing a detailed configuration of the process flow generating device 50 in FIG. In FIG. 3, a process flow change history management unit 51 includes a product name unique flow update unit 52 for storing a product name unique flow in an update history storage unit 56 for each generation in response to an update of a product name unique flow. Initial value setting means 54 for setting an initial value of a lot-specific flow for a newly input lot
have. Also, the process flow reflection management means 71
The determination means 72 determines whether or not the process of changing the product-specific flow of each generation can be reflected on the lot-specific flow. Based on the determination result of the determination means 72, the product name-specific flow of the generation that can be actually reflected is determined. And a lot-specific flow updating means 74 for reflecting the change process in the lot-specific flow. Further, the process flow generation device 50 includes a product name unique flow of each generation that is updated with the passage of time, an update history storage unit 56 that stores a change position of each generation, and a large number of running lots. Lot-specific flow storage means 58 for storing lot-specific flows is provided.

【００４６】4.プロセスフローのデータ構成 プロセスフローは品名固有フローとロット固有フローの
総称である。品名固有フローは図６に示すように構成さ
れている。図６では、品名を１〜ｍの番号で表してい
る。この品名ｉ毎に、図５に示す最小作業単位を示す工
程名A1,A2,…K4等を処理順に並べて品名固有フローが構
成されている。又、各品名ｉ毎に、品名固有フローの履
歴は、図８に示すように更新の古い順に形成される。そ
して、データの世代を示すために世代レベル（以下、単
に「レベル」という）が記憶されている。図８では、レ
ベル０〜現レベルZ(i)まで表示されている。現レベルZ
(i)の品名固有フローが最新に更新されたデータであ
る。 4. Data Configuration of Process Flow The process flow is a general term for the product-specific flow and the lot-specific flow. The product name specific flow is configured as shown in FIG. In FIG. 6, the product names are represented by numbers 1 to m. The process names A1, A2,... K4 and the like indicating the minimum work units shown in FIG. 5 are arranged in the order of processing for each product name i to form a product name specific flow. In addition, for each product name i, the history of the product name-specific flow is formed in the order of oldest update as shown in FIG. Then, a generation level (hereinafter, simply referred to as “level”) is stored to indicate a data generation. In FIG. 8, levels 0 to the current level Z (i) are displayed. Current level Z
The item name specific flow in (i) is the latest updated data.

【００４７】図８では、レベル０の品名固有フローに対
して、レベル１では工程A6がA7に、工程B3がB5に変更さ
れたことが示されている。そして、工程A7と工程B5とは
同期して変更する必要がある。即ち、工程B5を実施する
ためには、先行して工程A7が実施されている必要があ
る。例えば、工程A6は1000℃で成膜する工程、工程A7は
1200℃で成膜する工程、工程B3は10分間エッチングして
その膜を一部除去する工程、工程B5が20分間エッチング
してその膜を一部除去する工程とする。成膜温度が高く
なると成膜速度が大きくなり、膜が厚くなる。よって、
エッチグ工程ではその分だけエッチング時間も長くする
必要がある。このように、半導体製造システムでは関連
して工程を同時に変更する必要がある場合が多い。この
関連した同時変更を必要とする複数の工程毎に、品名固
有フローの更新を行うことになる。FIG. 8 shows that the process A6 is changed to A7 and the process B3 is changed to B5 at level 1 with respect to the product name specific flow at level 0. Then, the process A7 and the process B5 need to be changed in synchronization. That is, in order to perform the step B5, the step A7 needs to be performed in advance. For example, step A6 is a step of forming a film at 1000 ° C., step A7 is
The step of forming a film at 1200 ° C., step B3 is a step of removing part of the film by etching for 10 minutes, and step B5 is a step of removing part of the film by etching for 20 minutes. As the film forming temperature increases, the film forming rate increases, and the film becomes thicker. Therefore,
In the etching step, the etching time must be lengthened accordingly. As described above, in the semiconductor manufacturing system, it is often necessary to change the processes at the same time. The product name specific flow is updated for each of a plurality of processes requiring the related simultaneous change.

【００４８】このような、関連した変更工程のうち流動
方向に対して最前( 最も先に実施される工程) にある工
程の位置( 流動方向に工程位置を決定するｙ軸を設定)
を示すポインタP(i,k)が品名ｉ、レベルｋ毎に記憶され
る。ポインタP(i,Z)は、品名ｉ、現レベルZ(i)の品名固
有フローの変更位置を意味する。The position of the process (the y-axis for determining the process position in the flow direction) which is the frontmost (the process executed first) in the flow direction among the related change processes.
Is stored for each product name i and level k. The pointer P (i, Z) indicates the change position of the product name specific flow of the product name i and the current level Z (i).

【００４９】ロット固有フローのデータは、図７に示す
ように構成されている。図７では、ロットは（品名，ロ
ット番号）で特定され、品名１のロット番号は１〜n1、
品名ｍのロット番号は１〜nmを使用している。任意のロ
ットは(i,j) で特定される。又、各ロット固有フローに
はチェックレベルL(i,j)が設けられている。これは、各
ロット固有フローが時間の経過に伴って、品名固有フロ
ーを反映して更新されて行くが、現ロット固有フローが
品名固有フローのどのレベルまで、反映のための処理が
実施されたかを示す。例えば、チェックレベルL(i,j)が
現レベルZ(i)に等しいなら、そのロット固有フローは、
最新レベルまでの品名固有フローの反映のための操作が
行われことを意味する。但し、後述するように、ロット
固有フローの更新は、そのロットの反映操作実行時の現
在位置と各レベルのポインタP(i,k)との位置関係で決定
されるので、反映操作が実行されても、そのレベルの品
名固有フローに変更されたことを必ずしも意味しない。
又、ロットの現在位置よりも手前に記載されている工程
名は、そのロットが実際に処理された工程名であり、そ
のロットの工程履歴となる。ロットの現在位置よりも先
方( 時間的に後) に記載されている工程名は、現時点に
おけるロットがこれから処理される工程予定を示してい
る。The data of the lot-specific flow is configured as shown in FIG. In FIG. 7, the lot is specified by (product name, lot number), and the lot number of product name 1 is 1 to n 1 ,
The lot number of the product name m uses 1 to nm . An arbitrary lot is specified by (i, j). Each lot-specific flow has a check level L (i, j). This is because each lot-specific flow is updated to reflect the product name-specific flow over time, but to what level of the product-specific flow the current lot-specific flow has been reflected. Is shown. For example, if the check level L (i, j) is equal to the current level Z (i), the lot-specific flow is
This means that an operation for reflecting the product name-specific flow up to the latest level is performed. However, as will be described later, the update of the lot-specific flow is determined by the positional relationship between the current position at the time of execution of the reflection operation of the lot and the pointer P (i, k) of each level, so that the reflection operation is performed. However, this does not necessarily mean that the flow has been changed to a product name specific flow at that level.
The process name described before the current position of the lot is the name of the process in which the lot was actually processed, and is the process history of the lot. The process name described before (after the time) the current position of the lot indicates the process schedule for the current lot to be processed.

【００５０】5.ロット固有フローの初期設定 ロットトラッキングシステム３４から、製造ラインにこ
れから新規に投入されるロットの識別情報(i,j) が入力
される。即ち、これらか、品名ｉの製品をロット番号ｊ
で製造することが指令される。図１０のプログラムは、
初期設定手段５４により実行され、ロットの新規投入時
に起動される。ステップ２００で、ロットトラッキング
システム３４からロットの識別情報(i,j) を受信して、
ステップ２０２において、更新履歴記憶手段５６に記憶
されている品名ｉ、最新レベルZ(i)の品名固有フローが
ロット固有フロー記憶手段５８に転送されて、そのロッ
トに対するロット固有フローが生成される。この後、こ
のロットはこのロット固有フローに記述された工程に従
って順次処理されて行く。ロットが製造ラインを流動し
ている間にも、製造結果のフィードバックや環境の変化
等に伴い、製造条件を変更したい場合がある。この時に
は、その品名の品名固有フローが更新される。この更新
状況は、以下に述べるように、可能な限り流動中のロッ
トにも適用れる。 5. Initial Setting of Lot-Specific Flow From the lot tracking system 34, identification information (i, j) of a lot to be newly input to the production line is input. That is, the product of item name i is
It is instructed to manufacture with. The program in FIG.
This is executed by the initial setting means 54 and is started when a lot is newly input. In step 200, receiving the lot identification information (i, j) from the lot tracking system 34,
In step 202, the product name i and the product level unique flow of the latest level Z (i) stored in the update history storage means 56 are transferred to the lot specific flow storage means 58, and a lot specific flow for the lot is generated. Thereafter, the lot is sequentially processed according to the steps described in the lot-specific flow. Even while the lot is flowing through the production line, there are cases where it is desired to change the production conditions due to feedback of the production result or changes in the environment. At this time, the product name specific flow of the product name is updated. This renewal situation also applies to lots that are flowing as much as possible, as described below.

【００５１】6.ロット固有フローの更新 流動中のロットに対するロット固有フローの更新手順に
ついて、図９に基づいて説明する。図９のプログラム
は、プロセスフロー反映管理手段７１により実行され
る。ロットトラッキングシステム３４からは、各ロット
が１工程を終了する毎に、完了信号が出力される。この
タイミングでロット固有フローを更新するか否かを判定
し、更新できる場合には、更新演算を実行する。以下、
その手順を説明する。 6. Update of Lot-Specific Flow An update procedure of the lot-specific flow for a running lot will be described with reference to FIG. The program in FIG. 9 is executed by the process flow reflection management unit 71. The lot tracking system 34 outputs a completion signal each time one lot ends one process. At this timing, it is determined whether or not to update the lot-specific flow, and if it can be updated, an update operation is performed. Less than,
The procedure will be described.

【００５２】ステップ１００において、ロットトラッキ
ングシステム３４から作業完了信号が出力されたロット
の識別情報(i,j) を入力する。次に、ステップ１０２に
おいて、そのロットのチェックレベルL(i,j)がその品名
の現レベルZ(i)に等しいか否かが判定される。チェック
レベルL(i,j)がその品名の現レベルZ(i)に等しいなら、
そのロットのロット固有フローは、その現レベルZ(i)ま
での反映処理が完了していることを意味しているので、
本処理を終了する。この後、他のロットの１工程が終了
すると、そのロットに対して同様に本プログラムが起動
されることになる。このように、本反映処理は、各ロッ
トが１工程終了する毎に実施され、各ロットの工程終了
時刻は一様ではない。よって、全てのロットが一斉に反
映処理を要求することがなく、演算負荷が分散される。In step 100, the identification information (i, j) of the lot for which the work completion signal has been output from the lot tracking system 34 is input. Next, in step 102, it is determined whether or not the check level L (i, j) of the lot is equal to the current level Z (i) of the product name. If the check level L (i, j) is equal to the current level Z (i) of the item name,
Since the lot-specific flow of the lot means that the reflection processing up to the current level Z (i) has been completed,
This processing ends. Thereafter, when one process of another lot is completed, this program is similarly started for that lot. As described above, the reflection processing is performed every time one lot is completed for one process, and the process end time of each lot is not uniform. Therefore, all lots do not request the reflection processing all at once, and the calculation load is distributed.

【００５３】一方、チェックレベルL(i,j)がその品名ｉ
の現レベルZ(i)に等しくない場合には、そのロットのロ
ット固有フローは、未だ、その品名ｉの今までに更新さ
れた品名固有フローを反映していないことを意味する。
よって、以下の反映のための処理が実行される。ステッ
プ１０４において、そのロットの現在位置y(i,j)がロッ
トトラッキングシステム３４から入力される。そして、
ステップ１０６において、チェックレベルL(i,j)から現
レベルZ(i)までの各レベルのポインタP(i,k)のうち、y
(i,j)＜P(i,k)を満たし、且つ、現在位置y(i,j)に最も
近いポインタP(i,s)（以下、このポインタを「最前ポイ
ンタ」という）を決定する。On the other hand, the check level L (i, j) is the product name i
Does not equal the current level Z (i) of the lot, it means that the lot-specific flow of the lot has not yet reflected the product name specific flow of the product name i that has been updated so far.
Therefore, the following processing for reflection is executed. In step 104, the current position y (i, j) of the lot is input from the lot tracking system 34. And
In step 106, among the pointers P (i, k) of each level from the check level L (i, j) to the current level Z (i), y
Determine a pointer P (i, s) that satisfies (i, j) <P (i, k) and is closest to the current position y (i, j) (hereinafter, this pointer is referred to as “the forefront pointer”). .

【００５４】y(i,j)＜P(i,k)を満たさないレベルｋの品
名固有フローは反映させることができない。このロット
が既に、このレベルの品名固有フローで変更された関連
ある工程の最前に位置する工程を実行することなく通過
したので、関連ある後工程を実施するとことができない
ためである。例えば、図１１に示すように、そのロット
はレベル２まで反映処理が完了しており、現レベルZ(i)
はレベル５とする。そして、各レベルのポインタP(i,k)
が図示する位置にあるとする。反映の対象となる品名固
有フローは、レベル４、５となり、レベル３はy(i,j)＜
P(i,k)の位置条件（以下、この条件を単に、「位置条
件」という）を満たさないため反映の対象とはならな
い。そして、最前ポインタP(i,s)はレベル４のポインタ
P(i,4)である。A product name specific flow of level k that does not satisfy y (i, j) <P (i, k) cannot be reflected. This is because the lot has already passed without executing the process located at the front of the relevant process changed in the product name specific flow at this level, so that the relevant post-process cannot be performed. For example, as shown in FIG. 11, the lot has been subjected to the reflection processing up to level 2 and the current level Z (i)
Is level 5. Then, each level pointer P (i, k)
At the position shown in FIG. The product name specific flows to be reflected are levels 4 and 5, and level 3 is y (i, j) <
Since the position condition of P (i, k) (hereinafter, this condition is simply referred to as “position condition”) is not satisfied, the position is not reflected. The foremost pointer P (i, s) is a level 4 pointer
P (i, 4).

【００５５】次に、ステップ１０８において、最前ポイ
ンタP(i,s)−現在位置y(i,j)により、最前ポインタP(i,
s)に至るまでの時間ｈが算定される。これは、現在位置
y(i,j)から最前ポインタP(i,s)までに存在する工程名に
より推定することができる。次に、ステップ１１０でこ
の余裕時間ｈが所定値Thと比較され、余裕時間ｈが所定
値Thよりも小さいなら、ロット固有フローを更新しない
と、最前ポインタP(i,s)の変更工程を実施できないた
め、ステップ112 以下のロット固有フローの更新が実行
される。Next, in step 108, the forefront pointer P (i, s) is calculated according to the foremost pointer P (i, s) -current position y (i, j).
The time h up to s) is calculated. This is the current location
It can be estimated from the process names existing from y (i, j) to the forefront pointer P (i, s). Next, in step 110, the margin time h is compared with a predetermined value Th. If the margin time h is smaller than the predetermined value Th, unless the lot-specific flow is updated, the process of changing the forefront pointer P (i, s) is performed. Since it cannot be performed, the update of the lot-specific flow from step 112 is executed.

【００５６】一方、ステップ１１０で余裕時間ｈが所定
値Thよりも大きいなら、まだ、この時期にこのロットに
関するロット固有フローを更新しなくとも、最前ポイン
タP(i,s)に至るまでに、そのロットは多数回の工程を終
了するため、更新の機会は多数ある。このように、更新
は最前ポインタP(i,s)にある程度接近したロットから更
新されるのが、更新効率の上からも望ましい。On the other hand, if the surplus time h is larger than the predetermined value Th in step 110, even if the lot-specific flow relating to this lot is not updated at this time, it is necessary to reach the forefront pointer P (i, s). Since the lot completes many processes, there are many opportunities for renewal. As described above, it is desirable from the viewpoint of the update efficiency that the update is performed from the lot approaching the forefront pointer P (i, s) to some extent.

【００５７】例えば、あるロットが、ある工程を終了し
た時に実行される図９に示すプログラムのステップ１１
０の判定で余裕時間ｈ＞Thと判定されて、更新されなか
ったとする。即ち、現レベルZ(i)が５で、図１１に示す
関係にあって、そのロットのロット固有フローは更新さ
れなかったとする。その後、直ちに、その品名の品名固
有フローが更新され、図１１の破線で示すように、現レ
ベルのポインタP(i,Z)がそのロットに対して、最前ポイ
ンタP(i,s)になったとする。そのロットは次の工程を終
了後、図１１のプログラムが実行され、ステップ１１０
が実行されるが、この時、余裕時間ｈ≦Thが満たされる
と、チェックレベルL(i,j)から現レベルZ(i)までの品名
固有フローの変更部をロット固有フローに反映させる処
理がこの時に行われる。このようにすることで、ロット
が極めて多数存在しても、ロット固有フローの更新操作
が競合しないようにすることができる。For example, step 11 of the program shown in FIG. 9 executed when a certain lot completes a certain process
It is assumed that the spare time h> Th is determined by the determination of 0, and the time is not updated. That is, it is assumed that the current level Z (i) is 5, the relationship shown in FIG. 11 is satisfied, and the lot-specific flow of the lot is not updated. Thereafter, the item-specific flow of the item is immediately updated, and the pointer P (i, Z) at the current level becomes the foremost pointer P (i, s) for the lot as shown by the broken line in FIG. Suppose. After the next process is completed for the lot, the program of FIG.
At this time, if the spare time h ≦ Th is satisfied, the process of reflecting the change part of the product-specific flow from the check level L (i, j) to the current level Z (i) in the lot-specific flow Is performed at this time. By doing so, even if there is an extremely large number of lots, it is possible to prevent the update operation of the lot-specific flow from conflicting.

【００５８】次に、ステップ１１２におけるロット固有
フローの更新操作について説明する。y(i,j)＜P(i,k)を
満たすレベルの品名固有フローを決定し、このうち、古
いレベルから順に、品名固有フローをロット固有フロー
へ反映させる。その更新対象の工程は、レベルｋの品名
固有フローのうち、そのレベルｋで新規に変更された工
程名の部分である。あるレベルの品名固有フローの変更
は、１つ前のレベルの品名固有フローに対する変更であ
るので、その変更工程にかかる１つの前のレベルにおけ
る変更前の工程名を現在のロット固有フローが有してい
る場合に、その工程名が新規な工程名に書き換えられ
る。Next, the update operation of the lot-specific flow in step 112 will be described. The product-specific flow of the level satisfying y (i, j) <P (i, k) is determined, and the product-specific flow is reflected on the lot-specific flow in order from the oldest level. The process to be updated is the part of the process name newly changed at the level k in the product name specific flow at the level k. Since the change of the product name specific flow at a certain level is a change to the product level specific flow of the previous level, the current lot specific flow has the process name before the change at the previous level related to the change process. If so, the process name is replaced with a new process name.

【００５９】例えば、図１２に示すように、レベルｋの
変更を反映する時、変更工程B2,C1の１つ前のレベルk-1
における変更前工程はB1,C5 である。この工程B1,C5
を現在のロット固有フローは有している。よって、この
更新により、ロット固有フローは、工程B1,C5 が、それ
ぞれ、工程B2,C1 に変更され、レベルｋの品名固有フロ
ーの変更部が反映されたことになる。For example, as shown in FIG. 12, when the change of the level k is reflected, the level k-1 immediately before the change steps B2 and C1 is reflected.
The pre-change steps in are B1 and C5. This process B1, C5
Has the current lot-specific flow. Therefore, by this update, the lot-specific flow is changed from the process B1 and the process C5 to the process B2 and the process C1, respectively, and the changed part of the product name specific flow at the level k is reflected.

【００６０】一方、図１３に示すようなロット固有フロ
ーにおいては、変更工程B2に対応する変更前工程はB8で
あり、B1ではない。よって、この場合には、レベルｋの
品名固有フローの変更部はロット固有フローに反映され
ない。このようにする理由は、次の通りである。即ち、
品名固有フローにおいて、１つ前のレベルの対応工程B1
は現在のロット固有フローのチェックレベルL(i,j)より
も前のレベルで変更されたものである場合がある。しか
し、ロット固有フローにおいては、その工程B1への変更
は、ロットの位置とポインタとの位置関係で反映されず
に、工程B8となっている場合がある。この場合に、工程
B1を実施するためには、工程B1に変更したレベルにおい
て共に変更された前工程X1が実施されている必要があ
る。しかし、このロットはこのレベルの変更を反映して
いないので、その前工程X1を実施していない。このよう
な状態で、工程B8に代えて工程B2を実施することはでき
ない。何故なら、工程B2は工程B1に対する変更であるの
で、工程B2を適正に実施するためには、当然に、前工程
X1が実施されていなければならない。よって、このよう
な処理を実施している。以上のことは、品名固有フロー
のロット固有フローへの反映において、あるレベルの品
名固有フローが反映されずに飛ばされた場合に起こり得
る。On the other hand, in the lot-specific flow as shown in FIG. 13, the pre-change step corresponding to the change step B2 is B8, not B1. Therefore, in this case, the changing part of the product name unique flow at the level k is not reflected on the lot unique flow. The reason for this is as follows. That is,
In the product name specific flow, the corresponding process B1 at the previous level
May have been changed at a level earlier than the current lot-specific flow check level L (i, j). However, in the lot-specific flow, the change to the process B1 may not be reflected in the positional relationship between the lot position and the pointer, and may be the process B8. In this case, the process
In order to carry out B1, it is necessary that the pre-process X1 which has been changed at the same level as the process B1 has been performed. However, since this lot does not reflect this level change, the preceding step X1 has not been performed. In such a state, step B2 cannot be performed instead of step B8. Because the process B2 is a change to the process B1, in order to properly perform the process B2, the
X1 must be implemented. Therefore, such processing is performed. The above may occur when the product-specific flow is skipped without reflecting the product-specific flow at a certain level in the reflection on the lot-specific flow.

【００６１】以上のようにして、現レベルZ(i)とチェッ
クレベルL(i,j)との間のレベルであって、現在位置とポ
インタとの位置関係を満たす品名固有フローの変更部が
レベルの古い順にロット固有レベルに反映される。レベ
ルの古い順に反映させるのは、上記したような反映され
ない変更工程を少なくするためのである。As described above, the changing section of the product name specific flow which is a level between the current level Z (i) and the check level L (i, j) and which satisfies the positional relationship between the current position and the pointer. It is reflected in the lot-specific level in the order of the oldest level. The reason for reflecting the data in the order of the oldest level is to reduce the number of change steps that are not reflected as described above.

【００６２】ところで、あるレベルの品名固有フローに
おいて、他の変更工程と関係がなく独立して変更できる
工程名を独立であることを示す指標と共に含ませること
ができる。この場合には、y(i,j)＜P(i,k)の条件と無関
係にy(i,j)と独立指標のある工程名の位置との関係だけ
で、工程名を変更するか否かを決定することができる。
即ち、現在位置y(i,j)より後方の独立指標のある工程名
は変更が可能である。尚、あるレベルの全ての変更工程
が相互関係がないなら、流動順の手前にある変更工程か
ら順に１変更工程を含む品名固有フローに分解し、そら
れを各レベルの変更された品名固有フローとする。そし
て、ポインタの設定値は、各変更工程の位置とする。こ
れにより独立指標と同様な効果が得られる。Incidentally, in a product name specific flow at a certain level, a process name that can be changed independently without being related to another changing process can be included together with an index indicating that it is independent. In this case, regardless of the condition of y (i, j) <P (i, k), whether the process name should be changed only based on the relationship between y (i, j) and the position of the process name with an independent index Can be determined.
That is, a process name having an independent index behind the current position y (i, j) can be changed. If all the change processes at a certain level are not related to each other, the process is decomposed into a product name specific flow including one change process in order from the change process in front of the flow order, and the product name specific flow at each level is changed. And The set value of the pointer is the position of each change step. Thereby, the same effect as that of the independent index can be obtained.

【００６３】次に、ステップ１１４において、チェック
レベルL(i,j)を現レベルZ(i)に更新する。チェックレベ
ルL(i,j)の値により、このロットのロット固有フローは
現レベルZ(i)まで反映処理が実施されたことを知ること
ができる。Next, at step 114, the check level L (i, j) is updated to the current level Z (i). From the value of the check level L (i, j), it is possible to know that the lot-specific flow of this lot has been reflected up to the current level Z (i).

【００６４】尚、更新履歴として記憶されている各レベ
ルの品名固有フローにおいて、流動中のロットのチェッ
クレベルL(i,j)の最も低いレベルよりも、低いレベルの
品名固有フローは、今後、反映処理に使用されることが
ないので、保持しておく必要がない。従って、ＣＰＵ負
荷の極端に低い任意の時期に、反映漏れが工場全体にお
いて存在しないかを確認して、この消去処理を実施する
ことで、更新履歴記憶手段５６の記憶容量を節約するこ
とができる。In the product name specific flow of each level stored as the update history, the product name specific flow at a lower level than the lowest check level L (i, j) of the flowing lot will be Since it is not used for reflection processing, there is no need to keep it. Therefore, at any time when the CPU load is extremely low, it is checked whether or not there is any omission of reflection in the entire factory, and by executing this erasing process, the storage capacity of the update history storage unit 56 can be saved. .

【００６５】又、図９のステップ１１０での更新可否判
定において、演算装置にかかる負荷を計算して、その負
荷も加味した判定を行っても良い。即ち、ロットの工程
終了時に発生される更新要求を待ち行列で管理して、そ
の競合度が高ければ、変更可能とする所定値Thを小さく
して、反映を後送りさせることが考えられる。さらに、
ロット固有フローの更新に要する演算時間等を算出し、
他の処理要求等の関係で、他の処理をすることが要求さ
れている場合には、同様に、所定値Thを小さくして、反
映を後送りさせることが考えられる。又、品名毎、又
は、ロット毎に品名固有フローの変更をロット固有フロ
ーに反映させる優先度を定義しておき、その優先度を考
慮して、反映可否判定を行っても良い。In the determination as to whether or not updating can be performed at step 110 in FIG. 9, the load on the arithmetic unit may be calculated, and the determination may be made in consideration of the load. In other words, it is conceivable to manage the update request generated at the end of the lot process in a queue and, if the contention degree is high, reduce the changeable predetermined value Th to postpone the reflection. further,
Calculate the calculation time required to update the lot-specific flow,
If another processing is required to be performed due to another processing request or the like, the reflection may be postponed similarly by reducing the predetermined value Th. Alternatively, a priority may be defined for reflecting the change of the product-specific flow on the product-specific flow for each product name or each lot, and the reflection possibility may be determined in consideration of the priority.

【００６６】このようなシステムで、実際に、ロットに
対する加工処理がどのように進行して行くかを図１４に
従って説明する。図示された全てのロットは同一品名ｉ
に属するロットである。工程更新が第１レベルL(i,1)(
以下、図１４の説明において「第１世代」という、以
下、第２から第４レベルについても同じ）の場合におい
て、流れているロットは〜まであり、図１４の第１
世代の更新のような各工程位置にあるとする。図１４の
各ロットの位置は直前の工程が終了してロットが払出さ
れた状態にあるものとする。但し実際には同時に終了す
るとは限らない。第１世代における変更工程はＤ、Ｇ、
Ｈで、変更を意味するダッシュおよびハッチングが付さ
れている。ここで、ポインタP(i,1)は工程Ｄの直前に置
かれる。従ってロットは、工程Ｈが終了しているの
で、どの変更も無関係である。それでロットに対して
は、そのまま従来のロット固有フローが適用される。How the processing of a lot actually proceeds in such a system will be described with reference to FIG. All lots shown have the same product name i
It belongs to the lot. Process update is the first level L (i, 1) (
Hereinafter, in the case of “first generation” in the description of FIG. 14 (hereinafter the same applies to the second to fourth levels), there are up to lots flowing, and the first lot of FIG.
Suppose that it is at each process position such as generation update. It is assumed that the position of each lot in FIG. 14 is in a state where the last process is completed and the lot is paid out. However, it does not always end at the same time. The change process in the first generation is D, G,
In H, dashes and hatchings indicating changes are added. Here, the pointer P (i, 1) is placed immediately before the process D. Therefore, the lot is irrelevant to any changes since step H has been completed. Therefore, the conventional lot-specific flow is directly applied to the lot.

【００６７】ロットに関しては、工程Ｅが終了した状
態であるが、ポインタP(i,1)の方が手前に存在するの
で、変更は適用されない。それは既に変更前の工程Ｄを
実施しており、その工程と合わせて変更された工程Ｇ',
Ｈ' が適用されると、不具合が生じる可能性があるため
である。そのため、ポインタP(i,1)の位置を確認するこ
とで、ロットに対して適切な対応がとれることにな
る。ロットに関しては、工程Ｂが終了した段階である
ので、工程Ｄの前にあるポインタP(i,1)はロットより
後に位置するため、ロット対しては、更新したプロセ
スＤ',Ｇ',Ｈ' の全てを実施する。As for the lot, although the process E has been completed, the change is not applied since the pointer P (i, 1) is present in front. It has already performed the process D before the change, and the process G ′,
This is because if H ′ is applied, a problem may occur. Therefore, by confirming the position of the pointer P (i, 1), it is possible to appropriately deal with the lot. As for the lot, since the step B has been completed, the pointer P (i, 1) located before the step D is located after the lot, so that the updated process D ', G', H Do all of '.

【００６８】次に第２世代の更新が発生した段階を考え
る。この状態において、第１世代における各ロット〜
が移動しており、ロットは工程Ｆを完了した段階で
ある。しかしロットは、第１世代で説明したように、
第１世代の変更工程が適用されないので、工程Ｇ' は適
用されず、工程Ｇが実施される。そして第２世代におい
ても、ポインタP(i,2)がロットの現在位置より手前に
あるので、ロットに対して第２世代の変更工程である
工程Ｇ" は適用されない。Next, consider the stage at which the second generation update has occurred. In this state, each lot in the first generation
Are moved, and the lot is at the stage where the process F has been completed. But lots, as explained in the first generation,
Since the first generation change step is not applied, step G ′ is not applied, and step G is performed. Also in the second generation, since the pointer P (i, 2) is located before the current position of the lot, the process G ", which is the second generation change process, is not applied to the lot.

【００６９】仮に、工程Ｆ’の変更がなくてポインタP
(i,2)が工程Ｇ' の前（点線の矢印の位置）にあるとす
る。その場合はロットはポインタP(i,2)の手前に位置
するが、工程Ｇ" は工程Ｇ' に対する変更であるが、ロ
ットは工程Ｇ' を予定していない。よって、ロット
においては、工程Ｇ" への変更は実行されない。ロット
に対してはポインタP(i,2)の方が後にあるため、変更
工程が全てが適用される。従ってロットは、第１世代
および第２世代双方の変更工程を考慮し、以後、変更工
程Ｆ',Ｇ",Ｈ’を実施することになる。If the process F 'is not changed and the pointer P
It is assumed that (i, 2) is located before the process G ′ (the position indicated by the dotted arrow). In that case, the lot is located before the pointer P (i, 2), but the process G "is a change to the process G ', but the lot is not scheduled for the process G'. No change to G "is performed. Since the pointer P (i, 2) is behind the lot, all of the change steps are applied. Therefore, the lot takes into account both the first-generation and second-generation change processes, and thereafter performs the change processes F ′, G ″, and H ′.

【００７０】続いて第３世代の更新が発生した段階を考
える。更新されたものは工程Ｉのみであるが、この時点
で流れているロット〜のすべてがポインタP(i,3)の
手前にあるため、この変更工程Ｉは全てのロット〜
に適用される。又、第４世代の更新が実施された時点で
は、流動ロットは〜であるが、ポインタP(i,4)は工
程Ｂの前に存在するので、新しいロットのみ第４世代
の変更工程が適用される。残りのロット〜は、それ
以前までの世代の変更工程が適用される。即ちロット
、は、更新された工程Ｄ',Ｆ',Ｇ",Ｈ',Ｉ’が適用
され、工程Ｂ',Ｇ"'は適用されないことになる。Next, consider the stage where the third generation update has occurred. Only the process I is updated, but since all of the lots flowing at this time are before the pointer P (i, 3), this changing process I is
Applied to Also, when the fourth generation is updated, the current lot is 〜, but since the pointer P (i, 4) exists before the process B, the fourth generation change process is applied only to the new lot. Is done. For the remaining lots, the change process of the previous generation is applied. That is, the updated process D ', F', G ", H ', I' is applied to the lot, and the process B ', G"' is not applied.

【００７１】なお、複数ある変更工程の内容によって
は、ポインタＰの前にあっても変更工程を実施しても良
いような場合がある。例えば半導体ウエハの洗浄工程の
洗浄時間を１割長くするというような変更は、どのロッ
トに対して実施してもプロセス自体には影響しない。従
って、各ロットに対して、ポインタＰの位置に係わらず
どのロットに対しても変更を実施してよいので、独立工
程であることを示すパラメータを品名固有フローに付加
しても良い。Note that, depending on the contents of a plurality of changing steps, there may be a case where the changing step may be performed even before the pointer P. For example, a change such as increasing the cleaning time of the semiconductor wafer cleaning step by 10% does not affect the process itself even if it is performed for any lot. Therefore, since a change may be made to any lot regardless of the position of the pointer P, a parameter indicating an independent process may be added to the product name specific flow.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明の具体的な実施例にかかるプロセスフロ
ー生成装置を含む半導体製造システムの全体の構成を示
したブロック図。FIG. 1 is a block diagram showing an overall configuration of a semiconductor manufacturing system including a process flow generating device according to a specific embodiment of the present invention.

【図２】原単位管理システムの構成を示したブロック
図。FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of a basic unit management system.

【図３】プロセスフロー生成装置の構成を示したブロッ
ク図。FIG. 3 is a block diagram illustrating a configuration of a process flow generation device.

【図４】プロセスフロー編集装置で生成される基本フロ
ーと品名フロー変更との関係を示した説明図。FIG. 4 is an explanatory diagram showing a relationship between a basic flow generated by a process flow editing device and a change in a product name flow.

【図５】基本フローと品名固有フローと品名フロー変更
との相互関係を示した説明図。FIG. 5 is an explanatory diagram showing a mutual relationship among a basic flow, a product name specific flow, and a product name flow change.

【図６】品名固有フローのデータ構造を示した構成図。FIG. 6 is a configuration diagram showing a data structure of a product name specific flow.

【図７】ロット固有フローのデータ構造を示した構成
図。FIG. 7 is a configuration diagram showing a data structure of a lot-specific flow.

【図８】品名固有フローの更新履歴を説明する説明図。FIG. 8 is an explanatory diagram illustrating an update history of a product name specific flow.

【図９】ロット固有フローの更新手順を示したフローチ
ャート。FIG. 9 is a flowchart showing a procedure for updating a lot-specific flow.

【図１０】ロット固有フローの初期設定手順を示したフ
ローチャート。FIG. 10 is a flowchart showing an initial setting procedure of a lot-specific flow.

【図１１】更新された品名固有フローをロット固有フロ
ーに反映させる方法を示した説明図。FIG. 11 is an explanatory diagram showing a method of reflecting an updated product name-specific flow on a lot-specific flow.

【図１２】更新された品名固有フローをロット固有フロ
ーに反映させる方法を示した説明図。FIG. 12 is an explanatory diagram showing a method of reflecting an updated product name-specific flow on a lot-specific flow.

【図１３】更新された品名固有フローをロット固有フロ
ーに反映させる方法を示した説明図。FIG. 13 is an explanatory diagram showing a method of reflecting an updated product name-specific flow on a lot-specific flow.

【図１４】ロットの流れとロットが実行する工程との関
係を示した説明図。FIG. 14 is an explanatory diagram showing the relationship between the lot flow and the steps executed by the lot.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

３１…原単位システム ３４…ロットトラッキングシステム ５０…プロセスフロー生成装置。 ５２…品名固有フロー更新手段 ５４…初期設定手段 ５６…更新履歴記憶手段 ５８…ロット固有フロー記憶手段 ７２…判定手段 ７４…ロット固有フロー更新手段 31: Basic unit system 34: Lot tracking system 50: Process flow generator 52: Product name specific flow updating means 54 ... Initial setting means 56 ... Update history storing means 58 ... Lot specific flow storing means 72 ... Judging means 74 ... Lot specific flow updating means

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】製造すべき半導体装置の各品名毎に最小作
業単位を示す工程名を処理順序に従って記述した品名固
有フローに基づいて、ロット単位で流動させ処理を行う
ようにした半導体製造ラインに接続され、前記ロット毎
に順次実行すべき工程を指令するための工程名を記述し
たロット固有フローを生成するプロセスフロー生成装置
において、 前記ロット毎に前記ロット固有フローを記憶するロット
固有フロー記憶手段と、 前記処理順序又は前記作業単位の内容の変更に伴って必
要となる前記品名固有フローの更新に対して、相互に同
期して変更を必要とする複数の工程名毎に更新し、ロッ
トの流動順に関して最も最初に位置する変更工程の位置
を変更位置として設定する品名固有フロー更新手段と、 前記品名固有フロー更新手段により更新された品名固有
フロー及び前記変更位置を、時間経過と共に更新される
世代毎に区別して記憶する更新履歴記憶手段と、 前記半導体製造ラインに新規に導入されるロットに対し
て、前記更新履歴記憶手段に記憶されている最新であっ
てそのロットに対応する品名の品名固有フローを前記ロ
ット固有フロー記憶手段に設定する初期設定手段と、 流動中のある注目ロットに対する前記ロット固有フロー
の更新に際し、前記更新履歴記憶手段に記憶されている
品名固有フローのうち、そのロット固有フローに未だ反
映されていない世代の品名固有フローであって、それら
の世代の変更位置と前記注目ロットが存在する現在位置
との位置関係に基づいて、ロット固有フローにその世代
の品名固有フローを反映できるか否かを判定する判定手
段と、 前記判定手段により反映可能と判定された場合には、前
記注目ロットに対する前記ロット固有フローに反映可能
と判定された各世代の品名固有フローの変更可能な変更
部分を反映させてそのロット固有フローを更新するロッ
ト固有フロー更新手段とを有し、その更新された最新の
ロット固有フローに従って流動中のロットの工程を制御
するようにしたことを特徴とするプロセスフロー生成装
置。1. A semiconductor manufacturing line in which a process name indicating a minimum operation unit for each product name of a semiconductor device to be manufactured is flowed in lot units based on a product name specific flow in which the process name is described in accordance with a processing order. In a process flow generating apparatus connected to generate a lot-specific flow describing a process name for instructing a process to be sequentially executed for each lot, a lot-specific flow storage means for storing the lot-specific flow for each lot With respect to the update of the product name specific flow required due to the change of the processing order or the content of the work unit, the process name is updated for each of a plurality of process names that need to be changed in synchronization with each other. A product name specific flow updating means for setting the position of the change step located first in the flow order as a change position, and the product name specific flow updating means Update history storage means for separately storing a new product name specific flow and the change position for each generation updated with the passage of time; and for the lot newly introduced into the semiconductor manufacturing line, the update history storage. Initial setting means for setting the product name specific flow of the product name corresponding to the lot that is the latest stored in the means in the lot specific flow storage means, and at the time of updating the lot specific flow for a certain target lot in flow, Of the product name unique flows stored in the update history storage means, the product name unique flows of the generations that have not yet been reflected in the lot specific flow, the change positions of those generations and the current position where the noted lot exists. Determining means for determining whether or not the product name unique flow of the generation can be reflected in the lot unique flow based on the positional relationship with When the determination unit determines that the lot-specific flow can be reflected, the lot-specific flow is reflected by reflecting a changeable part of the product name-specific flow of each generation determined to be reflectable in the lot-specific flow for the lot of interest. A process flow generating apparatus, comprising: a lot-specific flow updating means for updating; and controlling a process of a flowing lot according to the updated latest lot-specific flow. 【請求項２】 前記判定手段は、前記注目ロットの現在
位置が前記変更位置に対して流動順に見て手前に存在す
る時に反映可能と判定し、前記変更位置が前記注目ロッ
トの現在位置に対して手前に存在する時に反映不可と判
定することを特徴とする請求項１に記載のプロセスフロ
ー生成装置。2. The method according to claim 1, wherein the determining unit determines that the current position of the lot of interest can be reflected when the current position of the lot is present before the change position in the flow order, and the change position is relative to the current position of the lot of interest. 2. The process flow generating apparatus according to claim 1, wherein when it is present in front, it is determined that reflection is not possible. 【請求項３】 前記ロット固有フロー更新手段は、反映
可能と判定された各世代の品名固有フローの変更可能な
変更部分の反映に際し、古い世代から順に反映させてそ
のロット固有フローを順次更新することを特徴とする請
求項１に記載のプロセスフロー生成装置。3. The lot-specific flow updating means updates the lot-specific flow sequentially by reflecting the changeable portion of the product-name-specific flow of each generation determined to be reflectable from the oldest generation. The process flow generation device according to claim 1, wherein: 【請求項４】 前記ロット固有フロー更新手段は、前記
品名固有フローの反映が可能と判定された世代の前記変
更位置のうち、流動順の最も手前にある最前変更位置に
前記注目ロットが達するまでの任意時刻において前記ロ
ット固有フローを更新することを特徴とする請求項１に
記載のプロセスフロー生成装置。4. The lot-specific flow update means, until the target lot reaches the foremost change position closest to the flow order among the change positions of the generation determined to be able to reflect the product name-specific flow. The process flow generating apparatus according to claim 1, wherein the lot-specific flow is updated at an arbitrary time. 【請求項５】 前記ロット固有フロー更新手段は、前記
最前変更位置に前記注目ロットが達するまでの余裕時間
に基づいて、そのロット固有フローの更新時期を決定す
ることを特徴とする請求項４に記載のプロセスフロー生
成装置。5. The method according to claim 4, wherein the lot-specific flow updating means determines an update time of the lot-specific flow based on a margin time until the noticed lot reaches the foremost change position. A process flow generator as described. 【請求項６】 前記ロット固有フロー更新手段は、前記
最前変更位置に前記注目ロットが達するまでの余裕時間
及び更新手段にかかる負荷に応じて、そのロット固有フ
ローの更新時期を決定することを特徴とする請求項４に
記載のプロセスフロー生成装置。6. The method according to claim 6, wherein the lot-specific flow updating means determines an update time of the lot-specific flow according to a margin time until the lot of interest reaches the foremost change position and a load on the updating means. The process flow generation device according to claim 4, wherein 【請求項７】 前記判定手段は、流動中のロットが各工
程の処理が終了した時刻で、判定演算を実行することを
特徴とする請求項１に記載のプロセスフロー生成装置。7. The process flow generation apparatus according to claim 1, wherein the determination unit executes the determination calculation at a time when the processing of each step of the flowing lot is completed.
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