JP3204106B2 - measuring device - Google Patents

measuring device

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JP3204106B2
JP3204106B2 JP21941496A JP21941496A JP3204106B2 JP 3204106 B2 JP3204106 B2 JP 3204106B2 JP 21941496 A JP21941496 A JP 21941496A JP 21941496 A JP21941496 A JP 21941496A JP 3204106 B2 JP3204106 B2 JP 3204106B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ガスクロマトグラ
フ装置、質量分析装置等の分析装置或いは測定装置に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an analyzer or a measuring device such as a gas chromatograph or a mass spectrometer.

【0002】[0002]

【従来の技術】通常、ガスクロマトグラフ装置ではカラ
ムはオーブンの中に収納され、最高450℃程度までの
温度制御を受ける。このような温度制御により高温でガ
スクロマトグラフ分析を行なった後、カラムを交換しよ
うとする場合、まず、操作者がさわれる程度にまでオー
ブンの温度を下げなければならない。また、カラムを交
換する場合には、当然、キャリヤガスも止めなければな
らない。
2. Description of the Related Art Generally, in a gas chromatograph apparatus, a column is housed in an oven and subjected to temperature control up to about 450 ° C. After performing gas chromatographic analysis at a high temperature by such temperature control, if the column is to be replaced, first, the temperature of the oven must be lowered to such a degree that the operator can be touched. When the column is replaced, the carrier gas must also be stopped.

【0003】一方、ガスクロマトグラフカラムの内表面
には吸着剤が存在するが、この吸着剤は高温で空気に晒
されると急速に劣化する。そのため、カラムの温度が高
い間はカラム内には常にキャリヤガスを流していなけれ
ばならない。
On the other hand, an adsorbent exists on the inner surface of a gas chromatograph column, and this adsorbent rapidly deteriorates when exposed to air at a high temperature. Therefore, the carrier gas must always flow through the column while the temperature of the column is high.

【0004】従って、上記のようにカラムを交換しよう
とする場合、まず、カラムにキャリヤガスを流しつつカ
ラム(オーブン)の温度を下げ、吸着剤の劣化が生じな
い程度にまでカラムの温度が下がった時点ではじめてキ
ャリヤガスを止めるという順序立てた操作が必要とな
る。
Accordingly, when the column is to be replaced as described above, first, the temperature of the column (oven) is lowered while flowing a carrier gas through the column, and the temperature of the column is lowered to such an extent that the adsorbent does not deteriorate. It is necessary to perform an ordered operation to stop the carrier gas for the first time.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来、このようなカラ
ム交換操作は、ガスクロマトグラフ装置の使用者が手動
で行なっていた。すなわち、キャリヤガスをカラムに流
すようにしつつ、オーブンの制御温度を室温(又はそれ
以下の温度)に設定する。オーブン温度制御部に備えら
れている温度計でオーブンの温度が十分に下がったこと
を確認した後、キャリヤガス制御部を操作することによ
りキャリヤガスを止め、オーブンを開けてカラムを交換
する。
Conventionally, such a column exchange operation has been performed manually by a user of the gas chromatograph apparatus. That is, the control temperature of the oven is set to room temperature (or lower) while allowing the carrier gas to flow through the column. After confirming that the temperature of the oven has been sufficiently lowered by a thermometer provided in the oven temperature control unit, the carrier gas is stopped by operating the carrier gas control unit, the oven is opened, and the column is replaced.

【0006】以上のような操作者による手動操作は面倒
であり、時には操作ミスが生じる可能性がある。また、
カラム交換を急ぎたい場合には、オーブンの温度が下が
るまで操作者が装置の側に居なければならない。
The manual operation by the operator as described above is troublesome, and sometimes an operation error may occur. Also,
If you want to hurry the column change, the operator must be by the instrument until the oven cools down.

【0007】このような類のメンテナンス作業は多くの
分析装置、測定装置において必要であり、本来の分析、
測定作業がコンピュータの導入によりかなり自動化され
た現在では、操作者に残された負担部分となっている。
本発明はこのような課題を解決するために成されたもの
であり、その目的とするところは、メンテナンス作業を
自動化し、容易に行なえるようにした測定装置を提供す
ることにある。
[0007] Such maintenance work is necessary for many analyzers and measurement devices, and the original analysis,
Nowadays, the measurement task has been considerably automated by the introduction of a computer, and this is a burden on the operator.
The present invention has been made in order to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a measuring device that automates a maintenance operation so that it can be easily performed.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に成された本発明は、装置を測定可能な状態からメンテ
ナンス可能な状態に移行させる際、又はその逆の方向に
移行させる際、時間的先後関係を要する複数の状態を経
由する必要がある測定装置において、 a)装置の状態を変化させる状態変更手段と、 b)装置の状態を検出する状態検出手段と、 c)検出された状態が上記複数の状態のいずれかに該当す
るか否かを判定する状態判定手段と、 d)状態判定手段により、装置の状態が上記複数の状態の
いずれかに該当すると判定された場合、状態変更手段に
より、装置を上記時間的先後関係により定められた次の
状態に変化させる状態制御手段と、 を備えることを特徴としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a method for moving an apparatus from a measurable state to a maintainable state, or vice versa. For a measuring device that needs to go through a plurality of states requiring a point-and-go relationship, a) state changing means for changing the state of the apparatus; b) state detecting means for detecting the state of the apparatus; c) detected state State determination means for determining whether or not the state corresponds to any of the plurality of states; andd) a state change when the state of the apparatus is determined to correspond to any of the plurality of states by the state determination means. State control means for changing the apparatus to the next state determined by the temporal sequence.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態及び効果】例えば装置を測定可能な
状態からメンテナンス可能な状態に移行させる場合、状
態制御手段は次のようなメンテナンス移行処理を行な
う。なお、以下の処理は操作者によるキー操作、マウス
操作、音声入力等の指令により開始する。本測定装置で
は、上記の通り複数の状態の時間的先後関係(これを状
態変化スケジュールと呼ぶ)が予め与えられている。こ
れは不揮発性の記憶手段に保持された状態で与えられて
いてもよいし、書き換え可能な記憶手段に保持すること
により操作者による変更を許すようにしてもよい。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS For example, when the apparatus is shifted from a measurable state to a maintainable state, the state control means performs the following maintenance shift processing. The following process is started by a command such as a key operation, a mouse operation, and a voice input by the operator. In the present measurement apparatus, as described above, the temporal relationship between a plurality of states (this is called a state change schedule) is given in advance. This may be provided in a state held in a non-volatile storage means, or may be held in a rewritable storage means to allow a change by an operator.

【0010】メンテナンス移行処理に入ると、状態制御
手段はまず状態検出手段を用いて現在の装置の状態を検
出し、現在の状態が上記所定の複数の状態のいずれかに
該当するか否かを状態判定手段に判定させる。いずれか
の状態に該当すると判定された場合、装置を上記時間的
先後関係により定められた次の状態にすべく、状態変更
手段を用いて装置の状態を変化させる。こうして、装置
の状態が順次状態変化スケジュールに従って変更され、
最終的に装置はメンテナンス可能な状態にされる。この
間、操作者は何等関与する必要がなく、装置を離れるこ
ともできる。従って、メンテナンス可能な状態になった
時点で、ランプ、ブザー等により操作者にその旨を通知
することが望ましい。装置をメンテナンス可能な状態か
ら測定可能な状態に移行する場合も、手順は同様であ
る。
[0010] When the maintenance transition process is started, the state control means first detects the current state of the apparatus by using the state detection means, and determines whether the current state corresponds to any of the predetermined states. The state is determined by the state determination means. If it is determined that the state corresponds to any one of the states, the state of the apparatus is changed using the state changing means so as to set the apparatus to the next state determined by the temporal relationship. Thus, the state of the device is sequentially changed according to the state change schedule,
Eventually, the device is ready for maintenance. During this time, the operator does not need to be involved at all and can leave the apparatus. Therefore, it is desirable that the operator be notified by a lamp, a buzzer, or the like when maintenance is possible. The procedure is the same when the apparatus is shifted from a state in which maintenance can be performed to a state in which measurement can be performed.

【0011】なお、上記処理の際、装置の現在の状態が
所定の複数の状態のいずれでもないと判定された場合に
は、状態制御手段は異常信号を生成するようにしてもよ
い。
In the above processing, if it is determined that the current state of the apparatus is not any of the predetermined states, the state control means may generate an abnormal signal.

【0012】[0012]

【実施例】本発明をガスクロマトグラフ装置に適用した
例を図1〜図3により説明する。ガスクロマトグラフ装
置10は図1に示すように、オーブン11内に収納され
たカラム12、カラム12の入口に設けられた試料導入
部13、カラム12の出口に設けられた検出部14、及
びこの装置10全体を制御する制御部15から成る。試
料導入部13にはキャリヤガスボンベ20、フローコン
トローラ(FLC)21、気化室(SVP)22等が含
まれ、制御部15内にはこれらを制御する試料導入制御
回路25が含まれる。試料導入制御回路25は、気化室
22の圧力(すなわち、カラム入口圧)、気化室22の
温度、キャリヤガスの流量等を制御する。制御部15内
にはその他に、オーブン11を制御するオーブン制御回
路26、検出部14を制御し、検出部14からの信号を
処理する検出部制御回路27、及び、後述の各種動作を
行なう中央処理回路28が含まれる。これらのうち、試
料導入制御回路25、オーブン制御回路26及び検出部
制御回路27が本発明における状態変更手段を構成す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An example in which the present invention is applied to a gas chromatograph will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 1, the gas chromatograph device 10 includes a column 12 housed in an oven 11, a sample introduction unit 13 provided at an inlet of the column 12, a detection unit 14 provided at an outlet of the column 12, and a gas chromatograph. The control unit 15 controls the entire system 10. The sample introduction section 13 includes a carrier gas cylinder 20, a flow controller (FLC) 21, a vaporization chamber (SVP) 22, and the like. The control section 15 includes a sample introduction control circuit 25 for controlling these. The sample introduction control circuit 25 controls the pressure of the vaporization chamber 22 (that is, the column inlet pressure), the temperature of the vaporization chamber 22, the flow rate of the carrier gas, and the like. The control unit 15 further includes an oven control circuit 26 for controlling the oven 11, a detection unit control circuit 27 for controlling the detection unit 14 and processing a signal from the detection unit 14, and a central unit for performing various operations described below. A processing circuit 28 is included. Among them, the sample introduction control circuit 25, the oven control circuit 26, and the detection unit control circuit 27 constitute a state changing unit in the present invention.

【0013】このガスクロマトグラフ装置10でガスク
ロマトグラフ分析を行なう場合の動作の概要は次の通り
である。中央処理回路28に接続された操作パネル16
上で操作者が各種分析条件を入力或いは選択し、分析作
業の開始を指示すると、中央処理回路28は記憶装置
(図示せず)に格納されたプログラムに従って試料導入
制御回路25、オーブン制御回路26及び検出部制御回
路27に制御信号を送り、気化室22、オーブン11及
び検出部14の温度制御を開始する。これらの温度が所
定値に達した時点で、中央処理回路28は試料の注入を
操作者に促す。自動試料注入装置を用いている場合は、
制御部15が自動試料注入装置の制御部に信号を送るこ
とにより、試料を自動的に注入する。その後、中央処理
回路28はキャリヤガス流量、オーブン温度等を制御す
ることにより、与えられた条件に従ったガスクロマトグ
ラフ分析を行ない、検出部14から検出信号を取り込ん
で解析を行なう。
The outline of the operation when gas chromatograph analysis is performed by the gas chromatograph device 10 is as follows. Operation panel 16 connected to central processing circuit 28
When the operator inputs or selects various analysis conditions and instructs the start of the analysis work, the central processing circuit 28 causes the sample introduction control circuit 25 and the oven control circuit 26 according to a program stored in a storage device (not shown). Then, a control signal is sent to the detection unit control circuit 27, and the temperature control of the vaporization chamber 22, the oven 11, and the detection unit 14 is started. When these temperatures reach the predetermined values, the central processing circuit 28 prompts the operator to inject the sample. If you are using an automatic sample injector,
The control unit 15 automatically injects a sample by sending a signal to the control unit of the automatic sample injection device. Thereafter, the central processing circuit 28 controls the carrier gas flow rate, the oven temperature, and the like to perform gas chromatographic analysis in accordance with given conditions, and fetches a detection signal from the detection unit 14 to perform analysis.

【0014】このような分析が終了した後、カラム12
を交換する場合には、操作者は、操作パネル16より、
カラム交換のためのメンテナンスを行なう旨の指示を出
す。この指示が出されると、中央処理回路28は図2の
フローチャートに示すような制御を行ない、装置10を
カラム交換可能な状態に移行させる。すなわち、まずオ
ーブン制御回路26に、所定の制御目標温度TTを送信
する(ステップS1)。この制御目標温度TTは室温又
は室温よりも低い温度とする。これにより、オーブン制
御回路26はヒータへの通電を停止し、ファンによる強
制空冷を開始する。中央処理回路28は次に移行温度T
Gを設定する(S2)。移行温度TGは、カラム12がこ
の温度TG以下になったらカラム12へのキャリヤガス
の供給を停止してもよいという限界の温度である。この
移行温度TGは予め定められた値でもよいし、操作者が
カラム12に応じた値を適宜入力できるようにしてもよ
い。
After the completion of such analysis, the column 12
When exchanging, the operator operates the operation panel 16
Give instructions to perform maintenance for column replacement. When this instruction is issued, the central processing circuit 28 performs control as shown in the flowchart of FIG. 2 and shifts the apparatus 10 to a state where the column can be replaced. That is, first, a predetermined control target temperature TT is transmitted to the oven control circuit 26 (step S1). The control target temperature TT is set to room temperature or a temperature lower than room temperature. As a result, the oven control circuit 26 stops energizing the heater, and starts forced air cooling by the fan. The central processing circuit 28 then determines the transition temperature T
G is set (S2). The transition temperature TG is a limit temperature at which the supply of the carrier gas to the column 12 may be stopped when the temperature of the column 12 becomes equal to or lower than the temperature TG. The transition temperature TG may be a predetermined value, or the operator may be able to appropriately input a value corresponding to the column 12.

【0015】その後中央処理回路28は、オーブン制御
回路26からカラム12の温度(すなわち、オーブン1
1の温度)のデータT0を逐次受信し(S3)、カラム
12の温度T0が移行温度TG以下になったか否かを判定
する(S4)。T0>TGであるうちは、オーブン制御回
路26はカラム12の温度を低下させるための制御を継
続する。
Thereafter, the central processing circuit 28 sends the temperature of the column 12 (that is, the oven 1) from the oven control circuit 26.
(T1) is sequentially received (S3), and it is determined whether the temperature T0 of the column 12 has fallen below the transition temperature TG (S4). As long as T0> TG, the oven control circuit 26 continues the control for lowering the temperature of the column 12.

【0016】T0≦TGとなった時点で、中央処理回路2
8は試料導入制御回路25に、気化室22の圧力の目標
値PTを送信する(S5)。この制御目標圧力PTは、大
気圧又はそれ以下の圧力とする。これにより、試料導入
制御回路25は、キャリヤガスの流量を徐々に低下させ
てゆく。次に、中央処理回路28は終了圧力PGを設定
する(S6)。終了圧力PGは、気化室22の圧力がこ
の値以下になったらカラム12を取り外してもよいとい
う限界の圧力である。上記温度制御の場合と同様、中央
処理回路28は、気化室22の実測圧力P0が終了圧力
PGとなるまで待つ(S7、S8)。
When T0 ≦ TG, the central processing circuit 2
8 transmits the target value PT of the pressure in the vaporization chamber 22 to the sample introduction control circuit 25 (S5). The control target pressure PT is set to the atmospheric pressure or a pressure lower than the atmospheric pressure. As a result, the sample introduction control circuit 25 gradually reduces the flow rate of the carrier gas. Next, the central processing circuit 28 sets the end pressure PG (S6). The end pressure PG is a limit pressure at which the column 12 may be removed when the pressure in the vaporization chamber 22 falls below this value. As in the case of the temperature control, the central processing circuit 28 waits until the measured pressure P0 of the vaporization chamber 22 becomes the end pressure PG (S7, S8).

【0017】P0≦PGとなった時点で、中央処理回路2
8は準備完了信号を出力する(S9)。これにより操作
パネル16上のランプ又はブザー等による警報が出さ
れ、操作者に対してカラム交換が可能であることが通知
される。
When P0≤PG, the central processing circuit 2
8 outputs a preparation completion signal (S9). As a result, a warning is issued by a lamp, a buzzer, or the like on the operation panel 16 to notify the operator that the column can be replaced.

【0018】以上はカラム12を交換する場合であった
が、次に、気化室22のガラスインサートを交換する場
合の例を図3のフローチャートにより説明する。ガラス
インサートの中には、注入された液体試料が均一に気化
するように、シリカウールが挿入されている。ガラスイ
ンサートを交換する際にはこのシリカウールが飛び出さ
ないように、気化室22の圧力を大気圧近くにしておか
なければならない。気化室22の圧力を下げるためには
キャリヤガスを止めなければならないが、その時には上
記のようにカラム12の温度を下げておく必要がある。
また、当然、操作者が火傷をしないようにガラスインサ
ートの温度も十分下げておく必要がある。
The above description is about the case where the column 12 is replaced. Next, an example where the glass insert of the vaporizing chamber 22 is replaced will be described with reference to the flowchart of FIG. Silica wool is inserted into the glass insert so that the injected liquid sample is uniformly vaporized. When replacing the glass insert, the pressure in the vaporizing chamber 22 must be kept close to the atmospheric pressure so that the silica wool does not fly out. In order to reduce the pressure in the vaporization chamber 22, the carrier gas must be stopped. At that time, the temperature of the column 12 needs to be reduced as described above.
In addition, the temperature of the glass insert must be sufficiently lowered so that the operator does not get burned.

【0019】中央処理回路28は、図3のフローチャー
トに従い、これらの条件を順序正しく実行する。すなわ
ち、まず、オーブン制御回路26に制御目標温度TCT
を、試料導入制御回路25に制御目標温度TVTを、それ
ぞれ送信する(ステップS11)。両方とも、上記制御
目標温度TTと同様に、室温又はそれ以下の温度とす
る。オーブン11の温度の制御及び気化室22の圧力の
制御(ステップS12〜S18)は上記ステップS1〜
S9の処理と同じである。気化室22の温度の制御も上
記のオーブン11の温度制御と同じであり、まず終了気
化室温度TVGを設定し(S22)、中央処理回路28は
気化室22の実測温度TV0がその値TVGに達するまで待
つ(S23、S24)。
The central processing circuit 28 executes these conditions in order according to the flowchart of FIG. That is, first, the oven control circuit 26 controls the control target temperature TCT.
And the control target temperature TVT to the sample introduction control circuit 25 (step S11). In both cases, similarly to the control target temperature TT, the temperature is set to room temperature or lower. The control of the temperature of the oven 11 and the control of the pressure of the vaporization chamber 22 (steps S12 to S18) are performed in the above steps S1 to S18.
This is the same as the processing in S9. The control of the temperature of the vaporization chamber 22 is also the same as the temperature control of the oven 11 described above. First, the end vaporization chamber temperature TVG is set (S22), and the central processing circuit 28 sets the measured temperature TV0 of the vaporization chamber 22 to the value TVG. Wait until it reaches (S23, S24).

【0020】気化室22の圧力が所定の終了圧力PVG以
下となり、温度が所定の終了温度TVGとなった時点で、
中央処理回路28は準備完了信号を出力し(S19、S
20)、操作者に対してガラスインサートの交換が可能
であることを知らせる。
When the pressure in the vaporizing chamber 22 becomes equal to or lower than the predetermined end pressure PVG and the temperature reaches the predetermined end temperature TVG,
The central processing circuit 28 outputs a ready signal (S19, S19).
20) Notify the operator that the glass insert can be replaced.

【0021】以上説明した通り、本実施例のガスクロマ
トグラフ装置10ではカラム12の交換等のメンテナン
スを行なう場合、操作者は操作パネル16上から1回の
指示を行なうだけでよく、あとは装置自体がオーブン温
度、キャリヤガス圧力等を正しい順序で制御し、メンテ
ナンス可能な状態に自動的に移行させる。
As described above, when performing maintenance such as replacement of the column 12 in the gas chromatograph apparatus 10 of the present embodiment, the operator only needs to give one instruction from the operation panel 16 and then the apparatus itself. Controls the oven temperature, carrier gas pressure, etc. in the correct order and automatically transitions to a state where maintenance is possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の一実施例であるガスクロマトグラフ
装置の概略構成図。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a gas chromatograph apparatus according to one embodiment of the present invention.

【図2】 カラム交換可能な状態に移行する際に中央処
理回路が行なう処理のフローチャート。
FIG. 2 is a flowchart of a process performed by a central processing circuit when shifting to a column replaceable state.

【図3】 ガラスインサート交換可能な状態に移行する
際に中央処理回路が行なう処理のフローチャート。
FIG. 3 is a flowchart of a process performed by a central processing circuit when shifting to a state in which a glass insert can be replaced.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…ガスクロマトグラフ装置 11…オーブン 12…カラム 13…試料導入部 14…検出部 15…制御部 16…操作パネル 22…気化室 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Gas chromatograph apparatus 11 ... Oven 12 ... Column 13 ... Sample introduction part 14 ... Detection part 15 ... Control part 16 ... Operation panel 22 ... Vaporization chamber

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01N 30/02 G01N 27/62 G01N 30/12 G01N 30/54 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G01N 30/02 G01N 27/62 G01N 30/12 G01N 30/54

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ガスクロマトグラフ用カラムを収納した
オーブン、試料を気化して前記カラムへ導入するための
気化室、前記オーブンの温度を制御するための温度制御
手段及び前記カラムへのキャリヤガスの供給を制御する
ためのガス供給制御手段を有する測定装置において、 前記オーブンの温度を検出するための温度検出手段、 前記気化室の圧力を検出するための圧力検出手段、及び
装置が測定可能な状態であるときに前記オーブンのメン
テナンスの開始を指示する信号が与えられたら、前記カ
ラムに所定流量以上の流量のキャリアガスが流れるよう
に前記ガス供給制御手段を動作させつつ、前記オーブン
の温度が低下するように前記温度制御手段を動作させ、
前記オーブンが所定温度より温度の低い状態になった
ら、前記キャリアガスの流量が低下するように前記ガス
供給制御手段を動作させ、前記気化室が所定圧力より圧
力の低い状態になったら、メンテナンス準備完了を示す
信号を出力する状態制御手段を備えることを特徴とする
測定装置。
1. An oven accommodating a column for gas chromatography, a vaporization chamber for vaporizing a sample and introducing it into the column, a temperature control means for controlling the temperature of the oven, and a supply of a carrier gas to the column. A measuring device having gas supply control means for controlling the temperature of the oven; a pressure detecting means for detecting the pressure of the vaporization chamber; and At a certain time, when a signal instructing the start of maintenance of the oven is given, the temperature of the oven decreases while operating the gas supply control means so that a carrier gas having a flow rate equal to or more than a predetermined flow rate flows through the column. Operating the temperature control means as follows,
When the temperature of the oven is lower than a predetermined temperature, the gas supply control unit is operated so that the flow rate of the carrier gas is reduced. When the pressure of the vaporization chamber is lower than a predetermined pressure, maintenance preparation is performed. A measuring device comprising a state control means for outputting a signal indicating completion.
【請求項2】 ガスクロマトグラフ用カラムを収納した
オーブン、試料を気化して前記カラムへ導入するための
気化室、前記オーブンの温度を制御するためのオーブン
温度制御手段、前記気化室の温度を制御するための気化
室温度制御手段及び前記カラムへのキャリヤガスの供給
を制御するためのガス供給制御手段を有する測定装置に
おいて、 前記オーブンの温度を検出するためのオーブン温度検出
手段、 前記気化室の温度を検出するための気化室温度検出手
段、 前記気化室の圧力を検出するための圧力検出手段、及び
装置が測定可能な状態であるときに前記気化室のメンテ
ナンスの開始を指示する信号が与えられたら、前記カラ
ムに所定流量以上の流量のキャリアガスが流れるように
前記ガス供給制御手段を動作させつつ、前記オーブンの
温度及び前記気化室の温度が低下するように前記オーブ
ン温度制御手段及び前記気化室温度制御手段を動作さ
せ、前記オーブンが第一の所定温度より温度の低い状態
になったら、前記キャリアガスの流量が低下するように
前記ガス供給制御手段を動作させ、前記気化室が所定圧
力より圧力の低い状態であって第二の所定温度よりも温
度の低い状態になったら、メンテナンス準備完了を示す
信号を出力する状態制御手段を備えることを特徴とする
測定装置。
2. An oven accommodating a column for gas chromatography, a vaporization chamber for vaporizing a sample and introducing it into the column, an oven temperature control means for controlling the temperature of the oven, and controlling the temperature of the vaporization chamber. A gas supply control means for controlling the supply of the carrier gas to the column; an oven temperature detection means for detecting the temperature of the oven; A vaporization chamber temperature detecting means for detecting a temperature, a pressure detecting means for detecting a pressure of the vaporization chamber, and a signal instructing a start of maintenance of the vaporization chamber when the apparatus is in a measurable state are given. When the oven is operated, the gas supply control means is operated so that a carrier gas having a flow rate equal to or higher than a predetermined flow rate flows through the column. Operating the oven temperature control means and the vaporization chamber temperature control means so that the temperature and the temperature of the vaporization chamber decrease, and when the oven is in a state of a temperature lower than a first predetermined temperature, the flow rate of the carrier gas Operating the gas supply control means so as to decrease, when the vaporization chamber is in a state where the pressure is lower than a predetermined pressure and lower than a second predetermined temperature, a signal indicating completion of maintenance preparation is issued. A measuring device comprising a state control means for outputting.
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