JP3198546B2 - Semiconductor device having redundant memory cells - Google Patents

Semiconductor device having redundant memory cells

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JP3198546B2
JP3198546B2 JP21587791A JP21587791A JP3198546B2 JP 3198546 B2 JP3198546 B2 JP 3198546B2 JP 21587791 A JP21587791 A JP 21587791A JP 21587791 A JP21587791 A JP 21587791A JP 3198546 B2 JP3198546 B2 JP 3198546B2
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redundant memory
memory cell
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test
input
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は冗長用メモリセル(以
下、リダンダンシセルという)を有する半導体装置に関
し、特にDRAMのリダンダンシセルテスト回路の改善
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device having a redundant memory cell (hereinafter referred to as a "redundant cell"), and more particularly to an improvement in a redundancy cell test circuit of a DRAM.

【0002】[0002]

【従来の技術】図4は従来のリダンダンシセルテスト回
路を示す。入力X1Tは、A1ピンに入力されたXアド
レスが1であったときに1となり、Xアドレスが0であ
ったときに0となる信号で、入力X1NはA1ピンに入
力されたXアドレスが0であったときに1となり、Xア
ドレスが1であったときに0となる信号である。入力X
2T,X2N,X3T,X3N,…,X7T,X7Nも
同様にA2ピン乃至A7ピンに入力されたXアドレスに
対応して0又は1となる信号である。また、入力X8
T,X9Tは、A8及びA9ピンに入力されたXアドレ
スがいずれも1であったときに1となり、それ以外のと
きは0となる信号である。入力Eはアドレスが決定され
る前は0であり、アドレス決定の前後に1となる信号で
ある。
2. Description of the Related Art FIG. 4 shows a conventional redundancy cell test circuit. The input X1T is a signal that becomes 1 when the X address input to the A1 pin is 1, and becomes 0 when the X address is 0. The input X1N is a signal that the X address input to the A1 pin is 0. The signal becomes 1 when the X address is 1, and becomes 0 when the X address is 1. Input X
Similarly, 2T, X2N, X3T, X3N,..., X7T, X7N are signals that become 0 or 1 corresponding to the X addresses input to the A2 to A7 pins. Also, input X8
T and X9T are signals that become 1 when the X address input to the A8 and A9 pins are both 1, and become 0 otherwise. The input E is a signal that is 0 before the address is determined and becomes 1 before and after the address is determined.

【0003】この例は、X0〜X7=256のXアドレ
スのうち、2アドレスが、別々に置き換え可能となる。
また、メモリセルの構成上XOで選択する隣接WORD
線は2本単位でリダンダンシワード線に置き換えられる
ものである。従って、X8及びX9アドレスによって選
択された1プレート上で4本(2組)のリダンダンシワ
ード線が存在する。
In this example, two addresses among X addresses X0 to X7 = 256 can be separately replaced.
In addition, the adjacent WORD selected by XO due to the configuration of the memory cell
The lines are replaced by redundancy word lines in units of two. Therefore, there are four (two sets) of redundancy word lines on one plate selected by the X8 and X9 addresses.

【0004】破線で囲まれた部分はレーザートリミング
用のヒューズ群1,2であり、F1〜F14,F21〜
F34で示されている14個のヒューズが夫々存在す
る。今、テストの結果、あるヒューズプログラミングが
されると、14個のヒューズのうち7個がカットされ、
非導通状態となる。
The portions surrounded by broken lines are fuse trimming groups 1 and 2 for laser trimming, and include F1 to F14 and F21 to F21.
There are 14 fuses, each indicated by F34. Now, as a result of the test, if a certain fuse programming is performed, 7 out of 14 fuses are cut,
It becomes non-conductive.

【0005】入力EによりA点はハイの状態となるが、
ヒューズプログラミングされたリダンダンシアドレスと
異なるアドレスが入力されたときは、A点はロー状態と
なる。逆に、プログラミングれたアドレスと同一のアド
レスが入力されたときは、A点はハイのままとなり、出
力XRDSOが1、XREDが1となり、リダンダンシ
ワード線が選択される。
Although the point A is set to a high state by the input E,
When an address different from the redundancy-programmed redundancy address is input, the point A is in a low state. Conversely, when the same address as the programmed address is input, point A remains high, the outputs XRDSO and XRED become 1, and the redundancy word line is selected.

【0006】この例はXアドレスに関するリダンダンシ
ワード線の選択方法であるが、Xアドレスに関するリダ
ンダンシディジット線の選択方法についても同様であ
る。
Although this example is a method of selecting a redundancy word line related to an X address, the same applies to a method of selecting a redundancy digit line related to an X address.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来のリダンダンシアドレス選択回路では、レーザトリミ
ングによりヒューズがカットされて初めて、リダンダン
シセルが選択されるため、置き換えられるリダンダンシ
セルの良、不良のテストを前もって行うことが不可能で
ある。このため、置き換えた先での不良による歩留り低
下、又は置き換えた先での特性悪化などが発生しうると
いう問題点があった。
However, in this conventional redundancy address selection circuit, the redundancy cell is selected only after the fuse is cut by laser trimming, so that the redundancy cell to be replaced is tested for good or defective in advance. It is impossible to do. For this reason, there has been a problem that the yield may be reduced due to a defect at the replacement location, or the characteristics may be deteriorated at the replacement location.

【0008】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、通常セルをリダンダンシセルに置き換える
前に、リダンダンシセルの良及び不良並びに特性を知る
ことができ、置き換えによる歩留まり低下及び特性の悪
化を防止できる冗長メモリセルを有する半導体装置を提
供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is possible to know good and bad and characteristics of a redundancy cell before replacing a normal cell with a redundancy cell. It is an object of the present invention to provide a semiconductor device having a redundant memory cell that can prevent deterioration.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明に係る冗長用メモ
リセルを有する半導体装置は、冗長用メモリセルと、前
記冗長用メモリセル選択用のヒューズ群と、を有し、テ
ストの際にアドレスの選択に不要となる入力ピンと、前
記冗長用メモリセルに対しアドレスを入力するアドレス
入力ピンと、をテストの際に前記冗長用メモリセルに対
する選択信号の入力ピンとして使用し、前記選択信号に
より前記冗長用メモリセルを選択して、前記ヒューズ群
のヒューズを切断することなく前記冗長用メモリセルの
テストを行い、前記テスト後、前記テストの際にアドレ
スの選択に不要となる入力ピンは、レーザートリミング
により前記冗長用メモリセルから切り離されるようにし
たことを特徴とする。
A semiconductor device having a redundant memory cell according to the present invention has a redundant memory cell and a fuse group for selecting the redundant memory cell. And an address input pin for inputting an address to the redundant memory cell are used as input pins for a select signal for the redundant memory cell during a test, and the select signal is used to input the redundant memory cell. select use memory cells, have row tests the redundant memory cell without cutting the fuse group of fuses, after the test, address during the test
Laser trimming of input pins that are not necessary for
It characterized in that so as to be separated from the redundant memory cell by.

【0010】[0010]

【作用】本発明においては、レーザトリミングによるヒ
ューズの切断の前に、選択手段により冗長用メモリセル
を選択することができ、置き換えんとする冗長用メモリ
せるの良及び不良並びにその特性をテストすることがで
きる。このため、このテストの結果、良と判定された場
合にのみ、その冗長用メモリセルを置き換えに使用する
ことができる。従って、置き換えによる歩留まりの低下
及び特性の悪化を防止することができる。
In the present invention, before the fuse is cut by laser trimming, the redundant memory cell can be selected by the selecting means, and the redundancy memory cell to be replaced is tested for good and bad and its characteristics. be able to. Therefore, only when it is determined as good as a result of this test, the redundant memory cell can be used for replacement. Therefore, it is possible to prevent a reduction in yield and a deterioration in characteristics due to replacement.

【0011】[0011]

【実施例】次に、本発明の実施例について、添付の図面
を参照して説明する。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

【0012】図1は本発明の実施例の回路図である。こ
の例は、4Mビット×1構成と、1Mビット×4構成と
をボンディグオプションによって切り換える機能を有す
るDRAMの場合である。通常、DRAMはウェハ状態
で、まず選別テストを行い、良品と不良品を分けるが、
ボンディングオプションにより4Mビット×1構成品と
なるチップも、1Mビット×4構成品としてテストを行
うことができる。
FIG. 1 is a circuit diagram of an embodiment of the present invention. This example is for a DRAM having a function of switching between a 4 Mbit × 1 configuration and a 1 Mbit × 4 configuration by a bonding option. Normally, in the case of DRAM, a screening test is first performed in the wafer state, and good products and defective products are separated.
A chip that becomes a 4M bit × 1 component due to the bonding option can be tested as a 1M bit × 4 component.

【0013】図で、X10TはA10ピンに入力される
Xアドレスが1のとき0となり、Xアドレスが0のとき
1となる信号である。また、ヒューズF15,F16,
F35,F36は本テスト回路を非活性にするために設
けられたものであり、更に、トランジスタ3とトランジ
スタ4は能力が十分に小さいNチャネル型トランジスタ
である。
In the figure, X10T is a signal which becomes 0 when the X address inputted to the A10 pin is 1, and becomes 1 when the X address is 0. Further, fuses F15, F16,
F35 and F36 are provided to deactivate the present test circuit, and the transistors 3 and 4 are N-channel transistors having sufficiently small abilities.

【0014】次に、本実施例の動作について説明する。
上述したように、4Mビット×1構成品も1Mビット×
4構成品としてテストできる。今、全てのチップを1M
ビット×4構成品としてテストすると、A10ピンが不
必要となる。つまり、A10ピンはアドレスの選択に関
係がなくなるわけである。そこで、このA10ピンをリ
ダンダンシセルの選択に利用する。ヒューズカット前は
B,D点は必ずローであるので、XRDSO,XRDS
1,XREDはX7T,X7N,X10Tの入力値によ
って決まる。入力X7N,X10Tがいずれも1のとき
は、C点は1となる。ここで、トランジスタ3の能力は
十分に小さいため、C点の電位は簡単に引き抜かれな
い。C点が1となったことにより、XRDS0,XRE
Dはいずれも1となり、リダンダンシワード線が選択さ
れる。同様に、X7T,X10Tがいずれも1のときに
は、XRDS1,XREDが共に1となり、もう一組の
リダンダンシワード線が選択される。
Next, the operation of this embodiment will be described.
As mentioned above, 4Mbit x 1 component is also 1Mbit x
Can be tested as four components. Now all chips are 1M
When tested as a bit × 4 component, the A10 pin is not required. That is, the A10 pin has no relation to the address selection. Therefore, the A10 pin is used for selecting a redundancy cell. Since the points B and D are always low before fuse cut, XRDSO, XRDS
1, XRED is determined by the input values of X7T, X7N, X10T. When the inputs X7N and X10T are both 1, the point C is 1. Here, since the capability of the transistor 3 is sufficiently small, the potential at the point C is not easily extracted. As the point C becomes 1, XRDS0, XRE
D becomes 1 in each case, and the redundancy word line is selected. Similarly, when X7T and X10T are both 1, XRDS1 and XRED are both 1, and another set of redundancy word lines is selected.

【0015】テスト終了後、ヒューズF1〜F14,F
21〜F34をカットする工程において、同時にヒュー
ズF15,F16,F35,F36をカットする。これ
により、本テスト回路は非活性となり、A10ピンも従
来と同様に使用できる。なお、トランジスタ3とトラン
ジスタ4はこのとき、C点及びE点のフローティングを
防止するために設けたものである。また、電流削減の対
策としては、ヒューズカットにより切り離されたNAN
Dインバータ内の電源を同じくヒューズカットにより切
りはなすと良い。
After the test is completed, fuses F1 to F14, F
In the step of cutting 21 to F34, the fuses F15, F16, F35, and F36 are cut at the same time. As a result, the test circuit becomes inactive, and the A10 pin can be used in the same manner as in the related art. At this time, the transistor 3 and the transistor 4 are provided in order to prevent floating at points C and E. As a measure to reduce the current, NAN separated by fuse cut
It is preferable to cut off the power supply in the D inverter by fuse cutting.

【0016】本実施例は、リダンダンシワード線を選択
するXアドレスに関するものであるが、Yアドレスにつ
いても同様に実施すれば、リダンダンシディジット線の
選択を行えることはいうまでもない。
Although the present embodiment relates to an X address for selecting a redundancy word line, it goes without saying that a redundancy digit line can be selected if the same is applied to a Y address.

【0017】[0017]

【0018】図2は本発明の第2の実施例を示す回路図
である。入力MORは図3に示すタイミングにより1と
なるテストモード活性化信号である。つまり、特定のア
ドレスピンに一定電圧以上の高電圧をかけ、同時にWC
BRといわれる図3のタイミングにより、リダンダンシ
セルのテストモードとなる。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a second embodiment of the present invention. The input MOR is a test mode activation signal which becomes 1 at the timing shown in FIG. That is, a high voltage of a certain voltage or more is applied to a specific address pin,
At the timing of FIG. 3 called BR, the redundancy cell test mode is set.

【0019】次に、図2に示す実施例の動作について説
明する。テストモード時は入力MORが1であるので、
図中の2つのトランスファゲート5,6はオフする。従
って、出力XRDSOは入力X7Nによって決まる。X
7Nが0ならばXRDS0及びXREDはいずれも1と
なり、リダンダンシワード線が選択される。
Next, the operation of the embodiment shown in FIG. 2 will be described. In test mode, input MOR is 1, so
The two transfer gates 5 and 6 in the figure are turned off. Therefore, the output XRDSO is determined by the input X7N. X
If 7N is 0, XRDS0 and XRED both become 1, and the redundancy word line is selected.

【0020】また、X7Nの逆相であるX7Tが0とな
るときは、XRDS1及びXREDが1となる。
When X7T, which is the opposite phase of X7N, becomes 0, XRDS1 and XRED become 1.

【0021】通常の使用時はMORが0であるため、従
来と同様の方法で使用できる。
Since MOR is 0 during normal use, it can be used in the same manner as in the prior art.

【0022】この例では、テスト回路をヒューズカット
で切り離さなくても非活性にでき、後工程でもテストで
きるという効果がある。
In this example, there is an effect that the test circuit can be made inactive without being cut off by a fuse cut, and the test can be performed in a subsequent process.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上説明したように本発明はリダンダン
シセル選択用のヒューズをカットすることなくリダンダ
ンシセルを選択することを可能としたので、通常セルを
リダンダンシセルに置き換える前に、予めリダンダンシ
セルの良及び不良並びに特性を知ることが可能で、置き
換えによる歩留り低下及び特性の悪化を防止できるとい
う効果を奏する。
As described above, according to the present invention, the redundancy cell can be selected without cutting the fuse for selecting the redundancy cell. Therefore, before replacing the normal cell with the redundancy cell, the redundancy cell can be selected in advance. It is possible to know good and bad and characteristics, and it is possible to prevent a reduction in yield and deterioration in characteristics due to replacement.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例に係る半導体装置の冗長
セルを示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a redundant cell of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施例に係る半導体装置の冗長
セルを示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a redundant cell of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第2の実施例においてテストモードに
入るタイミングを示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a timing to enter a test mode in a second embodiment of the present invention.

【図4】従来の半導体装置の冗長セルを示す回路図であ
る。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a redundant cell of a conventional semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2;ヒューズ群 3,4;能力が十分に小さいNチャネル型トランジスタ F1〜F16,F21〜F36;レーザートリミング用
ヒューズ
1, 2; fuse group 3, 4; N-channel type transistor having sufficiently small capacity F1 to F16, F21 to F36; fuse for laser trimming

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 冗長用メモリセルと、前記冗長用メモリ
セル選択用のヒューズ群と、を有し、テストの際にアド
レスの選択に不要となる入力ピンと、前記冗長用メモリ
セルに対しアドレスを入力するアドレス入力ピンと、を
テストの際に前記冗長用メモリセルに対する選択信号の
入力ピンとして使用し、前記選択信号により前記冗長用
メモリセルを選択して、前記ヒューズ群のヒューズを切
断することなく前記冗長用メモリセルのテストを行い、
前記テスト後、前記テストの際にアドレスの選択に不要
となる入力ピンは、レーザートリミングにより前記冗長
用メモリセルから切り離されるようにしたことを特徴と
する冗長用メモリセルを有する半導体装置。
An input pin having a redundant memory cell and a fuse group for selecting the redundant memory cell, which is unnecessary for selecting an address in a test; An address input pin to be input is used as an input pin of a selection signal for the redundant memory cell at the time of a test, and the redundant memory cell is selected by the selection signal without cutting the fuse of the fuse group. There line test of the redundant memory cell,
After the test, no need to select addresses during the test
Input pins are redundant by laser trimming.
A semiconductor device having a redundant memory cell, which is separated from a redundant memory cell.
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