JP3196836B2 - Integrated circuit device - Google Patents

Integrated circuit device

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JP3196836B2
JP3196836B2 JP23886698A JP23886698A JP3196836B2 JP 3196836 B2 JP3196836 B2 JP 3196836B2 JP 23886698 A JP23886698 A JP 23886698A JP 23886698 A JP23886698 A JP 23886698A JP 3196836 B2 JP3196836 B2 JP 3196836B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、マイクロプロセッ
サなどが矩形の回路セルで形成されている集積回路装置
に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an integrated circuit device in which a microprocessor or the like is formed by rectangular circuit cells.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、各種の電子機器に各種の集積回路
装置が利用されており、例えば、複雑なデータ処理を実
行する集積回路装置としてはマイクロプロセッサなどと
呼称されるものがある。マイクロプロセッサの集積回路
装置は、データ処理を実行するときに外部に配置された
メインメモリから各種データを読み取るが、同一データ
を繰り返し読み取ることは効率が悪い。
2. Description of the Related Art At present, various types of integrated circuit devices are used in various types of electronic equipment. For example, an integrated circuit device that executes complicated data processing is known as a microprocessor or the like. When an integrated circuit device of a microprocessor reads data from an externally arranged main memory when executing data processing, it is inefficient to repeatedly read the same data.

【0003】そこで、このようなデータを一時保持する
キャッシュメモリをマイクロプロセッサに接続して処理
速度を向上させることが一般的となりつつあり、このよ
うなマイクロプロセッサとキャッシュメモリとを一個の
パッケージに内蔵した回路モジュールもある。
Therefore, it is becoming common to connect such a cache memory for temporarily storing data to a microprocessor to improve the processing speed. Such a microprocessor and the cache memory are incorporated in one package. Some circuit modules have been implemented.

【0004】ここで、このような回路モジュールを一従
来例として図11および図12を参照して以下に説明す
る。なお、図11は回路モジュールの内部構造を示す模
式的な平面図、図12は集積回路装置であるマイクロプ
ロセッサの接続端子の配置を示す模式的な平面図、であ
る。
Here, such a circuit module will be described below as a conventional example with reference to FIGS. 11 and 12. FIG. FIG. 11 is a schematic plan view showing the internal structure of the circuit module, and FIG. 12 is a schematic plan view showing the arrangement of connection terminals of a microprocessor which is an integrated circuit device.

【0005】ここで例示する回路モジュール1は、図1
1に示すように、集積回路装置である一個のマイクロプ
ロセッサ2と、集積回路装置である八個のキャッシュメ
モリ3と、集積回路装置である二個のタグメモリ4と、
を具備しており、これらが一個の本体基板5上に配置さ
れている。
[0005] A circuit module 1 exemplified here is a circuit module shown in FIG.
As shown in FIG. 1, one microprocessor 2 as an integrated circuit device, eight cache memories 3 as an integrated circuit device, two tag memories 4 as an integrated circuit device,
And these are arranged on one main body substrate 5.

【0006】マイクロプロセッサ2は、図12に示すよ
うに、略正方形の回路基板6を具備しており、この回路
基板6の外周部に多数の接続端子7が形成されている。
回路基板6の中央部に半導体回路(図示せず)が集積さ
れており、この半導体回路が接続端子7に適宜接続され
ている。
[0006] As shown in FIG. 12, the microprocessor 2 has a substantially square circuit board 6, and a large number of connection terminals 7 are formed on the outer periphery of the circuit board 6.
A semiconductor circuit (not shown) is integrated at the center of the circuit board 6, and this semiconductor circuit is appropriately connected to the connection terminal 7.

【0007】このような構造のマイクロプロセッサ2が
本体基板5の略中央部に搭載されており、その周囲にキ
ャッシュメモリ3とタグメモリ4とが配列されている。
これらのメモリ3,4はマイクロプロセッサ2の多数の
接続端子7の一部(図面で点線により包囲したもの)に適
宜接続されており、その配線が最短となるように各メモ
リ3,4は配置されている。
[0007] The microprocessor 2 having such a structure is mounted at a substantially central portion of the main body substrate 5, and a cache memory 3 and a tag memory 4 are arranged around the microprocessor 2.
These memories 3 and 4 are appropriately connected to a part of a large number of connection terminals 7 of the microprocessor 2 (surrounded by dotted lines in the drawing), and the memories 3 and 4 are arranged so that the wiring is shortest. Have been.

【0008】なお、各メモリ3,4は、ここでは記憶容
量が4MビットのSRAM(StaticRandom Access Memor
y)からなり、マイクロプロセッサ2と同様に矩形の回路
基板に集積回路で形成されている。また、本体基板5の
外周部にも多数の接続端子(図示せず)が形成されてお
り、この多数の接続端子にマイクロプロセッサ2やキャ
ッシュメモリ3が接続されている。
Each of the memories 3 and 4 has an SRAM (Static Random Access Memory) having a storage capacity of 4 Mbits.
y), and is formed of an integrated circuit on a rectangular circuit board like the microprocessor 2. Further, a large number of connection terminals (not shown) are also formed on the outer peripheral portion of the main body substrate 5, and the microprocessor 2 and the cache memory 3 are connected to the large number of connection terminals.

【0009】なお、マイクロプロセッサ2には、一次キ
ャッシュのキャッシュメモリとタグメモリとが内蔵され
ているので(図示せず)、キャッシュメモリ3とタグメ
モリ4とは二次キャッシュ用に形成されている。このキ
ャッシュメモリ3に一時記憶されたキャッシュデータを
ヒットしたかを判定するため、そのアドレスデータに対
応したタグデータをタグメモリ4は一時記憶する。
Since the microprocessor 2 has a cache memory for the primary cache and a tag memory (not shown), the cache memory 3 and the tag memory 4 are formed for the secondary cache. . To determine whether the cache data temporarily stored in the cache memory 3 has been hit, the tag memory 4 temporarily stores the tag data corresponding to the address data.

【0010】上述のような構造の回路モジュール1は、
電子機器(図示せず)の一部として各種のデータ処理に
利用される。その場合、回路モジュール1には外部のメ
インメモリ(図示せず)が接続され、このメインメモリ
から各種データを読み出してマイクロプロセッサ2によ
り各種処理を実行する。
[0010] The circuit module 1 having the above-described structure includes:
It is used for various data processing as part of an electronic device (not shown). In that case, an external main memory (not shown) is connected to the circuit module 1, various data are read from the main memory, and various processes are executed by the microprocessor 2.

【0011】このとき、マイクロプロセッサ2が同一デ
ータをメインメモリから繰り返し読み出すことは無駄な
ので、マイクロプロセッサ2はメインメモリから読み出
した各種データをキャッシュメモリ3に一時記憶させる
とともに、そのアドレスデータに対応したタグデータを
タグメモリ3に一時記憶させる。
At this time, since it is useless for the microprocessor 2 to repeatedly read the same data from the main memory, the microprocessor 2 temporarily stores various data read from the main memory in the cache memory 3 and stores the data corresponding to the address data. Tag data is temporarily stored in the tag memory 3.

【0012】そして、マイクロプロセッサ2は所定デー
タを読み出す場合にはタグメモリ3のタグデータとキャ
ッシュメモリ3のアドレスデータとを照合し、これが一
致するとキャッシュヒットとしてキャッシュメモリ3か
ら記憶データを読み出す。このため、上述の回路モジュ
ール1では、マイクロプロセッサ2が同一データを外部
のメインメモリから読み出す回数を削減することがで
き、各種のデータ処理を良好な効率で実行することがで
きる。
When reading the predetermined data, the microprocessor 2 checks the tag data in the tag memory 3 against the address data in the cache memory 3 and, if they match, reads the stored data from the cache memory 3 as a cache hit. For this reason, in the circuit module 1 described above, the number of times that the microprocessor 2 reads the same data from the external main memory can be reduced, and various data processing can be executed with good efficiency.

【0013】なお、上述したマイクロプロセッサ2のよ
うな集積回路装置の製造方法としては各種形態が存在す
るが、現在では標準セルと呼称される各種の回路セルを
事前に設計しておき、この回路セルを所望により組み合
わせて集積回路装置を簡易に設計することが実施されて
いる。
Although there are various forms of a method of manufacturing an integrated circuit device such as the microprocessor 2 described above, various circuit cells, which are now called standard cells, are designed in advance and this circuit cell is manufactured. It has been practiced to easily design an integrated circuit device by combining cells as desired.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】上述した回路モジュー
ル1は、マイクロプロセッサ2が外部のメインメモリか
ら読み出して繰り返し使用する各種データをキャッシュ
メモリ3で一時記憶できるので、各種のデータ処理を良
好な効率で実行することができる。
In the circuit module 1 described above, the microprocessor 2 can temporarily store various data read from an external main memory and used repeatedly in the cache memory 3, so that various data processing can be performed with good efficiency. Can be run with

【0015】しかし、上述した回路モジュール1は、別
個の集積回路装置であるマイクロプロセッサ2とキャッ
シュメモリ3とタグメモリ4とを本体基板5に搭載して
いるので、全体的に大型で生産性も良好でない。これを
小型化するとともに生産性を向上させるためには、上述
したマイクロプロセッサ2とキャッシュメモリ3とタグ
メモリ4とを一個の集積回路装置として形成すれば良
い。
However, since the above-described circuit module 1 has the microprocessor 2, cache memory 3, and tag memory 4, which are separate integrated circuit devices, mounted on the main body substrate 5, the circuit module 1 is entirely large and the productivity is low. Not good. In order to reduce the size and improve the productivity, the above-described microprocessor 2, cache memory 3, and tag memory 4 may be formed as one integrated circuit device.

【0016】そこで、本発明者はキャッシュメモリやタ
グメモリをDRAMで小型に形成して標準セルに相当す
る回路セルとし、マイクロプロセッサの回路セルと組み
合わせて一個の集積回路装置を形成することを創案し
た。その場合、上述のマイクロプロセッサ2から接続端
子7を省略したものを回路セルとして利用すれば、標準
セルによる回路設計と同様に良好な効率で集積回路装置
を設計することができる。
The inventor of the present invention has proposed that a cache memory and a tag memory are formed in a small size using a DRAM to form a circuit cell corresponding to a standard cell, and combined with a circuit cell of a microprocessor to form one integrated circuit device. did. In this case, if a circuit cell in which the connection terminal 7 is omitted from the above-described microprocessor 2 is used as a circuit cell, an integrated circuit device can be designed with good efficiency similarly to the circuit design using a standard cell.

【0017】上述したマイクロプロセッサ2の場合、キ
ャッシュメモリ3に接続される接続端子7は図面での上
縁部と下縁部との周辺に集中しているので、図13に例
示する集積回路装置10のように、本発明者は回路セル
からなるマイクロプロセッサ11の上側と下側とに回路
セルからなる二個のキャッシュメモリ12,13を個々
に配置することを創案した。
In the case of the microprocessor 2 described above, the connection terminals 7 connected to the cache memory 3 are concentrated around the upper edge and the lower edge in the drawing, so that the integrated circuit device illustrated in FIG. As in 10, the inventor of the present invention devised that two cache memories 12 and 13 each composed of a circuit cell are individually arranged above and below a microprocessor 11 composed of circuit cells.

【0018】しかし、データ処理を高速に実行するマイ
クロプロセッサ11はノイズを多分に発生するが、DR
AMからなるキャッシュメモリ12,13はノイズに対
する耐性が低いため、上述のようにマイクロプロセッサ
11にキャッシュメモリ12,13を隣接させるとノイ
ズ干渉が問題となる。これを解決するため、本出願人は
マイクロプロセッサ11とキャッシュメモリ12とを離
反させて拡散層で分離することも提案したが、これでは
集積回路装置10が大型化することになって好ましくな
い。
However, the microprocessor 11, which executes data processing at high speed, generates a lot of noise.
Since the cache memories 12 and 13 made of AM have low resistance to noise, if the cache memories 12 and 13 are adjacent to the microprocessor 11 as described above, noise interference becomes a problem. In order to solve this, the present applicant has proposed that the microprocessor 11 and the cache memory 12 are separated from each other and separated by a diffusion layer, but this is not preferable because the size of the integrated circuit device 10 is increased.

【0019】本発明は上述のような課題に鑑みてなされ
たものであり、全体が小型でありながらもマイクロプロ
セッサとDRAMとのノイズ干渉が解決されている集積
回路装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and has as its object to provide an integrated circuit device which is small in size and in which noise interference between a microprocessor and a DRAM is solved. I do.

【0020】[0020]

【0021】[0021]

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】本発明の集積回路装置
は、矩形の回路基板と、該回路基板の外周部に形成され
ている多数の外部接続端子と、矩形の回路セルからなり
前記回路基板の端部に形成されている第一のDRAM
と、矩形の回路セルからなり前記回路基板の前記第一の
DRAMとは反対の端部に形成されている第二のDRA
Mと、矩形の回路セルからなり前記第一のDRAMと前
記第二のDRAMとの間隙で前記回路基板の端部に形成
されているマイクロプロセッサと、矩形の回路セルから
なり前記第一のDRAMと前記第二のDRAMとの間隙
で前記回路基板の前記マイクロプロセッサとは反対の端
部に形成されている第三のDRAMと、前記マイクロプ
ロセッサの外周部の位置で前記回路基板に形成されて前
記マイクロプロセッサに各々接続されている複数のプロ
セッサ保護回路と、前記第一から第三のDRAMの少な
くとも一部の表面を通過する位置に配置されて多数の前
記外部接続端子の一部と複数の前記プロセッサ保護回路
とを個々に接続している複数のプロセッサ接続配線と、
前記第一のDRAMと前記第二のDRAMと前記第三の
DRAMと前記プロセッサ保護回路との間隙の位置で前
記回路基板に形成されて前記第一から第三のDRAMに
接続されている複数のメモリ保護回路と、前記第一から
第三のDRAMの少なくとも一部の表面を通過する位置
に配置されて多数の前記外部接続端子の一部と複数の前
記メモリ保護回路とを個々に接続している複数のメモリ
接続配線と、を具備している。
An integrated circuit device according to the present invention comprises a rectangular circuit board, a large number of external connection terminals formed on an outer peripheral portion of the circuit board, and a rectangular circuit cell. DRAM formed at the end of the
And a second DRA formed of a rectangular circuit cell and formed at an end of the circuit board opposite to the first DRAM.
M, a microprocessor formed of a rectangular circuit cell and formed at an end of the circuit board in a gap between the first DRAM and the second DRAM, and the first DRAM formed of a rectangular circuit cell And a third DRAM formed at an end of the circuit board opposite to the microprocessor in a gap between the second DRAM and a third DRAM formed on the circuit board at a position of an outer peripheral portion of the microprocessor. A plurality of processor protection circuits respectively connected to the microprocessor, a part of the plurality of external connection terminals arranged at a position passing at least a part of a surface of the first to third DRAMs, and a plurality of A plurality of processor connection wires individually connecting the processor protection circuit,
A plurality of DRAMs formed on the circuit board at positions of gaps between the first DRAM, the second DRAM, the third DRAM, and the processor protection circuit and connected to the first to third DRAMs A memory protection circuit, which is arranged at a position passing at least a part of the surface of the first to third DRAMs, and individually connects a part of a large number of the external connection terminals and a plurality of the memory protection circuits; And a plurality of memory connection wirings.

【0023】従って、本発明の集積回路装置は、多数の
外部接続端子にマイクロプロセッサがプロセッサ保護回
路を介して適宜接続されるとともにDRAMがメモリ保
護回路を介して接続されているので、外部の静電気によ
る異常な高電圧などが外部接続端子に流入しても、マイ
クロプロセッサやDRAMが破壊されることがない。上
述のようなプロセッサ保護回路とメモリ保護回路とは集
積回路装置の必須要素であるが、これがマイクロプロセ
ッサとDRAMとの間隙に配置されているので、マイク
ロプロセッサとDRAMとはプロセッサ保護回路とメモ
リ保護回路との幅分だけ離反されている。
[0023] Thus, the integrated circuit device of the present invention, since the DRAM with many external connection microprocessor terminal is connected appropriately via a processor protection circuit are connected through a memory protection circuit, external static electricity Even if an abnormally high voltage or the like flows into the external connection terminal, the microprocessor and the DRAM are not destroyed. Although the processor protection circuit and the memory protection circuit as described above are essential elements of the integrated circuit device, since the processor protection circuit and the memory protection circuit are arranged in the gap between the microprocessor and the DRAM, the microprocessor and the DRAM are connected to the processor protection circuit and the memory protection circuit. It is separated by the width of the circuit.

【0024】また、上述のような集積回路装置におい
て、前記回路基板が接地されており、前記プロセッサ保
護回路と前記メモリ保護回路とが相互に分離された接地
端子を各々具備しており、前記プロセッサ保護回路の接
地端子と前記メモリ保護回路の接地端子との間に寄生抵
抗として介在する拡散層が前記回路基板に形成されてい
ることも可能である。
In the above integrated circuit device, the circuit board is grounded, and the processor protection circuit and the memory protection circuit are provided with ground terminals separated from each other. A diffusion layer interposed as a parasitic resistance between the ground terminal of the protection circuit and the ground terminal of the memory protection circuit may be formed on the circuit board.

【0025】この場合、プロセッサ保護回路とメモリ保
護回路とは、外部から流入する異常な高圧の電流を相互
に分離された各々の接地端子から回路基板に個々に放電
する。プロセッサ保護回路とメモリ保護回路とは隣接さ
れているが、各々の接地端子が分離されているのでノイ
ズの相互干渉が軽減されている。ただし、回路基板も接
地されているので、プロセッサ保護回路とメモリ保護回
路との接地端子を別個に形成しても電気的に分離に分離
することはできない。しかし、プロセッサ保護回路とメ
モリ保護回路との接地端子に拡散層が寄生抵抗として介
在しているので、これでプロセッサ保護回路とメモリ保
護回路とのノイズの相互干渉が軽減されている。
In this case, the processor protection circuit and the memory protection circuit individually discharge an abnormally high voltage current flowing from the outside to the circuit board from each of the separated ground terminals. Although the processor protection circuit and the memory protection circuit are adjacent to each other, since the ground terminals are separated, mutual interference of noise is reduced. However, since the circuit board is also grounded, even if the ground terminals of the processor protection circuit and the memory protection circuit are formed separately, they cannot be electrically separated. However, since the diffusion layer is interposed as a parasitic resistance at the ground terminal between the processor protection circuit and the memory protection circuit, mutual interference of noise between the processor protection circuit and the memory protection circuit is reduced.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】本発明の実施の一形態を図1ない
し図10を参照して以下に説明する。ただし、本実施の
形態に関して前述した一従来例と同一の部分は、同一の
名称を使用して詳細な説明は省略する。また、本実施の
形態では上下左右などの方向を云うが、これは説明を簡
略化するために便宜的に使用するものであり、実際の装
置の製造時や使用時の方向を限定するものではない。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. However, the same portions as those in the conventional example described above with reference to the present embodiment are denoted by the same names, and detailed description is omitted. Also, in the present embodiment, directions such as up, down, left, and right are used, but this is used for convenience for simplifying the description, and does not limit the direction at the time of manufacturing or using the actual device. Absent.

【0027】なお、図1および図2は本実施の形態の集
積回路装置の内部構造を示す模式的な平面図、図3はキ
ャッシュメモリの内部構造を示す模式的な平面図、図4
はタグメモリの形状を変化させる過程を示す模式的な工
程図、図5はキャッシュメモリとタグメモリとの関係を
示す等価的なブロック図、図6は集積回路装置の回路構
造を示すブロック図、図7はプロセッサ保護回路とメモ
リ保護回路との等価回路を示す回路図、図8はメモリ保
護回路の内部構造を示し、(a)は要部の模式的な縦断側
面図、(b)は回路基板の平面図、図9はプロセッサ保護
回路の内部構造を示し、(a)は要部の模式的な縦断側面
図、(b)は回路基板の平面図、図10はプロセッサ保護
回路とメモリ保護回路との等価回路を示す回路図、であ
る。
1 and 2 are schematic plan views showing the internal structure of the integrated circuit device according to the present embodiment, FIG. 3 is a schematic plan view showing the internal structure of the cache memory, and FIG.
Is a schematic process diagram showing a process of changing the shape of the tag memory, FIG. 5 is an equivalent block diagram showing a relationship between the cache memory and the tag memory, FIG. 6 is a block diagram showing a circuit structure of the integrated circuit device, 7 is a circuit diagram showing an equivalent circuit of the processor protection circuit and the memory protection circuit, FIG. 8 shows the internal structure of the memory protection circuit, (a) is a schematic vertical sectional side view of a main part, and (b) is a circuit. FIG. 9 shows the internal structure of the processor protection circuit, FIG. 9A is a schematic vertical sectional side view of a main part, FIG. 9B is a plan view of the circuit board, and FIG. 10 is a processor protection circuit and memory protection. FIG. 3 is a circuit diagram illustrating an equivalent circuit to a circuit.

【0028】本実施の形態の集積回路装置100は、図
1および図2に示すように、一個の回路基板101を具
備しており、この回路基板101に回路セルとしてマイ
クロプロセッサ102が形成されている。より詳細に
は、回路基板101の上端および下端の位置には、標準
セルに相当するDRAMの回路セルで第一キャッシュメ
モリ103および第二キャッシュメモリ104が一個ず
つ形成されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the integrated circuit device 100 of this embodiment includes a single circuit board 101, on which a microprocessor 102 is formed as a circuit cell. I have. More specifically, at the positions of the upper end and the lower end of the circuit board 101, one first cache memory 103 and one second cache memory 104 are formed of DRAM circuit cells corresponding to standard cells.

【0029】これら第一第二キャッシュメモリ103,
104の間隙の位置で回路基板101の左方の端部に
は、回路セルからなるマイクロプロセッサ102が形成
されており、第一第二キャッシュメモリ103,104
の間隙の位置で回路基板101の右方の端部には回路セ
ルからなるタグメモリ105が形成されている。
The first and second cache memories 103,
At the left end of the circuit board 101 at the position of the gap 104, a microprocessor 102 composed of circuit cells is formed, and the first and second cache memories 103 and 104 are formed.
A tag memory 105 including circuit cells is formed at the right end of the circuit board 101 at the position of the gap.

【0030】本実施の形態の集積回路装置100は、上
述した四個の回路セルの各々が矩形に形成されている
が、そのx方向である左右方向の全長とy方向である上
下方向の全長とが“a=14(mm),b=1.5(mm),c=13
(mm),d=6(mm)”なる四つの数値の組み合わせで表現
される。
In the integrated circuit device 100 according to the present embodiment, each of the four circuit cells described above is formed in a rectangular shape, and the total length in the left-right direction as the x direction and the total length in the vertical direction as the y direction. And “a = 14 (mm), b = 1.5 (mm), c = 13
(mm), d = 6 (mm) ".

【0031】マイクロプロセッサ102は、前述のよう
に既存のマイクロプロセッサ2と略同一構造の回路セル
からなるため、その外形は事前に固定的に決定されてお
り、例えば、x方向である左右方向の全長は略aである
“14,11(mm)”で、y方向である上下方向の全長は略c
である“13.05(mm)”である。
Since the microprocessor 102 is composed of circuit cells having substantially the same structure as the existing microprocessor 2 as described above, its outer shape is fixedly determined in advance. The total length is "14,11 (mm)", which is approximately a, and the total length in the vertical direction, which is the y direction, is approximately c.
"13.05 (mm)".

【0032】第一第二キャッシュメモリ103,104
は、図2(b)および図3に示すように、ロウアドレスと
カラムアドレスとに対応した外形に固定的に形成されて
おり、左右方向の全長はカラムアドレスに対応した略
(a+b)である“15.80(mm)”で、上下方向の全長はロ
ウアドレスに対応した略dである“5.50(mm)”である。
First and second cache memories 103 and 104
Is fixedly formed in an outer shape corresponding to a row address and a column address, as shown in FIGS. 2B and 3, and the total length in the left-right direction is substantially equal to the column address.
(a + b) = “15.80 (mm)”, and the total length in the vertical direction is “5.50 (mm)” which is substantially d corresponding to the row address.

【0033】より詳細には、第一第二キャッシュメモリ
103,104は、記憶容量が“5.75Mb”の六個のメ
モリセルアレイ111、三個のXデコーダ112、六個
のYデコーダ113、アドレスバッファ等の周辺回路1
14、からなり、メモリセルアレイ111は、多数のメ
モリセル115、センスアンプ116、ワードドライバ
117、からなる。
More specifically, the first and second cache memories 103 and 104 include six memory cell arrays 111 having a storage capacity of “5.75 Mb”, three X decoders 112, six Y decoders 113, and an address buffer. Peripheral circuit 1
The memory cell array 111 includes a number of memory cells 115, a sense amplifier 116, and a word driver 117.

【0034】上述のような形状の第一第二キャッシュメ
モリ103,104がマイクロプロセッサ102の上下
に配置されているので、回路基板101は、x方向であ
る左右方向の全長が略(a+b)である“16.48(mm)”
で、y方向である上下方向の全長が略(c+2d)である
“24.90(mm)”の、縦長の矩形に形成されている。
Since the first and second cache memories 103 and 104 having the above-described shape are arranged above and below the microprocessor 102, the circuit board 101 has a total length of approximately (a + b) in the left-right direction which is the x direction. A certain “16.48 (mm)”
The vertical length of the y-direction is approximately 24.90 (mm), which is approximately (c + 2d).

【0035】従って、必然的にマイクロプロセッサ10
2の側方には“b×c”のスペースが発生するが、ここ
に矩形の回路セルとして配置されているタグメモリ10
5は、図2(c)および図4(c)に示すように、左右方向
の全長がロウアドレスに対応した略bである“1.40(m
m)”で、上下方向の全長がカラムアドレスに対応した略
cである“12.80(mm)”である。
Therefore, it is inevitable that the microprocessor 10
2, a “b × c” space is generated on the side of the tag memory 10 arranged as a rectangular circuit cell.
5, as shown in FIGS. 2C and 4C, the total length in the left-right direction is substantially b corresponding to the row address “1.40 (m
m) ”, the total length in the vertical direction is“ 12.80 (mm) ”, which is approximately c corresponding to the column address.

【0036】タグメモリ105も、前述した第一第二キ
ャッシュメモリ103,104と同様に、メモリセルア
レイ111、Xデコーダ112、Yデコーダ113、ア
ドレスバッファ等の周辺回路114、からなり、図4
(a)に示すように、本来はキャッシュメモリ103,1
04と同一のロウアドレスと一つのカラムアドレスとに
対応した極端な長方形に形成される。
The tag memory 105, like the first and second cache memories 103 and 104 described above, comprises a memory cell array 111, an X decoder 112, a Y decoder 113, and peripheral circuits 114 such as an address buffer.
As shown in (a), originally, the cache memories 103, 1
It is formed into an extreme rectangle corresponding to the same row address and one column address.

【0037】しかし、本実施の形態では上述のような縦
長の矩形に形成されているので、図5に示すように、そ
のロウアドレスの一部をカラムアドレスとするように内
部配線(図示せず)が形成されている。このようにロウ
アドレスの一部をカラムアドレスとすることにより、図
4(b)に示すように、ロウアドレスに対応した上下方向
の全長が短縮されてカラムアドレスに対応した左右方向
の全長が伸張するので、これを左右方向に四個に分割し
て上下方向に配列することにより、同図(c)に示すよう
に、タグメモリ105は左右方向が短小で上下方向が長
大な矩形に形成されている。
However, in the present embodiment, since it is formed in a vertically long rectangle as described above, as shown in FIG. 5, internal wiring (not shown) is used so that a part of the row address becomes a column address. ) Is formed. By using a part of the row address as a column address in this way, as shown in FIG. 4B, the total length in the vertical direction corresponding to the row address is reduced, and the total length in the horizontal direction corresponding to the column address is extended. Therefore, the tag memory 105 is divided into four in the left-right direction and arranged in the up-down direction. ing.

【0038】また、本実施の形態の集積回路装置100
は、回路基板101の外周部である上下縁部と第一第二
キャッシュメモリ103,104の間隙の左右縁部との
位置に多数の外部接続端子106が形成されており、こ
の多数の外部接続端子106がマイクロプロセッサ10
2と第一第二キャッシュメモリ103,104とに適宜
接続されている。
Further, the integrated circuit device 100 of the present embodiment
Has a large number of external connection terminals 106 formed at the positions of the upper and lower edges, which are the outer peripheral portions of the circuit board 101, and the left and right edges of the gap between the first and second cache memories 103 and 104. Terminal 106 is the microprocessor 10
2 and the first and second cache memories 103 and 104 as appropriate.

【0039】ただし、図1に示すように、マイクロプロ
セッサ102の外周部の位置には複数のプロセッサ保護
回路107が形成されており、これら複数のプロセッサ
保護回路107は、図6に示すように、マイクロプロセ
ッサ102の複数の接続端子(図示せず)に個々に配線
108で直結されるとともに、各種メモリ103〜10
5の表面を通過した複数のプロセッサ接続配線109に
より多数の外部接続端子106の一部に接続されてい
る。
However, as shown in FIG. 1, a plurality of processor protection circuits 107 are formed on the outer peripheral portion of the microprocessor 102. As shown in FIG. Each of the microprocessors 102 is directly connected to a plurality of connection terminals (not shown) by a wiring 108 and various memories 103 to 10.
5 are connected to a part of many external connection terminals 106 by a plurality of processor connection wirings 109 passing through the surface.

【0040】また、第一キャッシュメモリ103と第二
キャッシュメモリ104とタグメモリ105とプロセッ
サ保護回路107との間隙の位置には、各種メモリ10
3〜105に接続されている複数のメモリ保護回路11
0が形成されており、これら複数のメモリ保護回路11
0は、各種メモリ103〜105の複数の接続端子(図
示せず)に個々に配線111で直結されるとともに、各
種メモリ103〜105の表面を通過した複数のメモリ
接続配線112により多数の外部接続端子106の一部
に接続されている。
Further, at the position of the gap between the first cache memory 103, the second cache memory 104, the tag memory 105, and the processor protection circuit 107, various memories 10
A plurality of memory protection circuits 11 connected to 3 to 105
0 is formed, and the plurality of memory protection circuits 11
0 is directly connected to a plurality of connection terminals (not shown) of the various memories 103 to 105 by wires 111, and is connected to a plurality of external connection lines by a plurality of memory connection wires 112 passing through the surfaces of the memories 103 to 105. It is connected to a part of the terminal 106.

【0041】なお、プロセッサ保護回路107を等価回
路で表現すると、図7(a)に示すように、通常オフの一
対のトランジスタ120,121で配線108,109
を電源端子122と接地端子123とに接続した構造と
なり、これらのトランジスタ120,121は、過剰な
電圧をパンチスルーで電源端子122や接地端子123
に放電する。
When the processor protection circuit 107 is expressed by an equivalent circuit, as shown in FIG. 7A, the wirings 108 and 109 are formed by a pair of normally-off transistors 120 and 121.
Are connected to the power supply terminal 122 and the ground terminal 123, and these transistors 120 and 121 perform the punch-through of the excessive voltage by the power supply terminal 122 and the ground terminal 123.
To discharge.

【0042】同様に、メモリ保護回路110を等価回路
で表現すると、同図(b)に示すように、オフセットが過
大な一対の寄生ダイオード124,125で配線11
1,112を電源端子126と接地端子127とに接続
した構造となり、これらの寄生ダイオード124,12
5は、過剰な電圧を電源端子126や接地端子127に
放電する。
Similarly, when the memory protection circuit 110 is expressed by an equivalent circuit, as shown in FIG. 4B, the wiring 11 is formed by a pair of parasitic diodes 124 and 125 having an excessively large offset.
1 and 112 are connected to the power supply terminal 126 and the ground terminal 127, and these parasitic diodes 124 and 12 are connected.
5 discharges an excessive voltage to the power supply terminal 126 and the ground terminal 127.

【0043】プロセッサ保護回路107のトランジスタ
120,121は、ソース領域130,131やドレイ
ン領域132,133やゲート電極134,135を具
備しており、図8に示すように、これらの各部は実際に
は回路基板101の拡散層や積層膜で形成されてメモリ
保護回路110に隣接されている。
The transistors 120 and 121 of the processor protection circuit 107 include source regions 130 and 131, drain regions 132 and 133, and gate electrodes 134 and 135. As shown in FIG. Is formed of a diffusion layer or a laminated film of the circuit board 101 and is adjacent to the memory protection circuit 110.

【0044】このメモリ保護回路110の寄生ダイオー
ド124,125として機能する部分は、図9に示すよ
うに、実際にはp型の回路基板101に形成されている
各種の拡散層141〜144からなり、プロセッサ保護
回路107に隣接されている。
The portion of the memory protection circuit 110 which functions as the parasitic diodes 124 and 125 is actually composed of various diffusion layers 141 to 144 formed on the p-type circuit board 101 as shown in FIG. , And the processor protection circuit 107.

【0045】上述のような構成において、本実施の形態
の集積回路装置100は、マイクロプロセッサ102に
より各種のデータ処理を実行することができる。その場
合、マイクロプロセッサ102は外部メモリ(図示せ
ず)から各種データを読み込んでデータ処理に利用する
が、繰り返し利用する処理データをキャッシュメモリ1
03,104に一時記憶させるとともにタグメモリ10
5にタグデータを一時記憶させることができる。
In the configuration described above, the integrated circuit device 100 of the present embodiment can execute various data processing by the microprocessor 102. In this case, the microprocessor 102 reads various data from an external memory (not shown) and uses the data for data processing.
03, 104 and the tag memory 10
5 can temporarily store tag data.

【0046】マイクロプロセッサ102は、上述のよう
にキャッシュメモリ103,104に一時記憶させたキ
ャッシュデータをタグメモリ105に一時記憶させたタ
グデータに基づいて読み出すことができるので、同一の
処理データを外部メモリから繰り返し読み出す頻度を低
減することができ、各種のデータ処理を高効率に実行す
ることができる。
Since the microprocessor 102 can read the cache data temporarily stored in the cache memories 103 and 104 based on the tag data temporarily stored in the tag memory 105 as described above, the same processing data can be externally read. The frequency of repeatedly reading data from the memory can be reduced, and various data processing can be executed with high efficiency.

【0047】また、マイクロプロセッサ102と外部接
続端子106とがプロセッサ保護回路107を介して接
続されており、キャッシュメモリ103,104と外部
接続端子106とがメモリ保護回路110を介して接続
されているので、外部の静電気による異常な高電圧など
が外部接続端子106に流入しても、マイクロプロセッ
サ102やキャッシュメモリ103,104が破壊され
ることがない。
The microprocessor 102 and the external connection terminal 106 are connected via a processor protection circuit 107, and the cache memories 103 and 104 and the external connection terminal 106 are connected via a memory protection circuit 110. Therefore, even if an abnormal high voltage due to external static electricity flows into the external connection terminal 106, the microprocessor 102 and the cache memories 103 and 104 are not destroyed.

【0048】そして、本実施の形態の集積回路装置10
0では、マイクロプロセッサ102と二個のキャッシュ
メモリ103,104とタグメモリ105との各々が標
準セルに相当する矩形の回路セルとして形成されている
が、これらがデッドスペースを略発生させることなく矩
形の回路基板101上に配列されている。このように矩
形の領域にデッドスペースを発生させることなく複数の
矩形の回路セルを配列するため、本実施の形態の集積回
路装置100では、タグメモリ105の形状を工夫して
いる。
The integrated circuit device 10 according to the present embodiment
At 0, each of the microprocessor 102, the two cache memories 103 and 104, and the tag memory 105 is formed as a rectangular circuit cell corresponding to a standard cell. Are arranged on the circuit board 101. As described above, in order to arrange a plurality of rectangular circuit cells without generating a dead space in the rectangular area, in the integrated circuit device 100 of the present embodiment, the shape of the tag memory 105 is devised.

【0049】つまり、前述のように既存のマイクロプロ
セッサ2と略同一構造の回路セルからなるマイクロプロ
セッサ102は、図2(a)に示すように、左右方向の全
長が略aである“14,11(mm)”でy方向である上下方向
の全長が略cである“13.05(mm)”の矩形に形成されて
いる。
That is, as described above, as shown in FIG. 2A, the microprocessor 102 composed of circuit cells having substantially the same structure as the existing microprocessor 2 has a total length in the left-right direction of "14, 11 (mm) ", and is formed in a rectangular shape of" 13.05 (mm) "in which the total length in the vertical direction of the y direction is substantially c.

【0050】ロウアドレスとカラムアドレスとに対応し
た外形となる第一第二キャッシュメモリ103,104
は、同図(b)および図3に示すように、左右方向の全長
がカラムアドレスに対応した略(a+b)である“15.80
(mm)”で、上下方向の全長がロウアドレスに対応した略
dである“5.50(mm)”の矩形に形成されている。
First and second cache memories 103 and 104 having an outer shape corresponding to a row address and a column address.
Is "15.80", as shown in FIG. 3B and FIG. 3, where the total length in the left-right direction is substantially (a + b) corresponding to the column address.
(mm) ", and the overall length in the vertical direction is a rectangle of" 5.50 (mm) "which is substantially d corresponding to the row address.

【0051】上述のような形状の第一第二キャッシュメ
モリ103,104がマイクロプロセッサ102の上下
に配置されているので、回路基板101は、x方向であ
る左右方向の全長が略(a+b)である“16.48(mm)”
で、y方向である上下方向の全長が略(c+2d)である
“24.90(mm)”の、縦長の矩形に形成されており、必然
的にマイクロプロセッサ102の側方には“b×c”で
ある“1.5×13(mm)”のスペースが発生している。
Since the first and second cache memories 103 and 104 having the above-described shapes are arranged above and below the microprocessor 102, the circuit board 101 has a total length of approximately (a + b) in the left-right direction which is the x direction. A certain “16.48 (mm)”
It is formed in a vertically long rectangle of "24.90 (mm)" whose overall length in the vertical direction which is the y-direction is substantially (c + 2d). A space of “1.5 × 13 (mm)” is generated.

【0052】しかし、単純にキャッシュメモリ103,
104のロウアドレスに対応してタグメモリ105を矩
形の回路セルとして形成すると、図4(a)に示すよう
に、上下方向の全長がキャッシュメモリ103,104
と同一で左右方向の全長は一つのカラムアドレスに対応
した“4.2×5.5(mm)”の矩形となる。
However, the cache memory 103,
When the tag memory 105 is formed as a rectangular circuit cell corresponding to the row address of the cache memory 104, the total length in the vertical direction is reduced as shown in FIG.
The total length in the left-right direction is the same as a rectangle of “4.2 × 5.5 (mm)” corresponding to one column address.

【0053】しかし、このような形状のタグメモリ10
5は上述した“1.5×13(mm)”のスペースに配置できな
いので、同図(b)に示すように、タグメモリ105のロ
ウアドレスの一部をカラムアドレスとして上下方向の全
長を短縮するとともに左右方向の全長を伸張させてか
ら、同図(c)に示すように、このタグメモリ105を左
右方向に複数に分割して上下方向に配列している。
However, the tag memory 10 having such a shape is used.
5 cannot be arranged in the above-mentioned “1.5 × 13 (mm)” space, and as shown in FIG. 4B, a part of the row address of the tag memory 105 is used as a column address to shorten the overall length in the vertical direction. After extending the entire length in the left-right direction, the tag memory 105 is divided into a plurality of pieces in the left-right direction and arranged in the up-down direction as shown in FIG.

【0054】このため、本実施の形態の集積回路装置1
00では、左右方向が“1.4(mm)”と短小で上下方向が
“12.8(mm)”と長大な矩形にタグメモリ105が形成さ
れており、このタグメモリ105がマイクロプロセッサ
102の側方の“1.5×13(mm)”のスペースに無駄なく
配置されているので、デッドスペースを発生させること
なく全体を矩形に形成している。
Therefore, the integrated circuit device 1 according to the present embodiment
In FIG. 00, the tag memory 105 is formed in a long rectangular shape with a short side of “1.4 (mm)” in the horizontal direction and “12.8 (mm)” in the vertical direction. Since it is arranged without waste in the space of “1.5 × 13 (mm)”, the whole is formed in a rectangular shape without generating a dead space.

【0055】しかも、本実施の形態の集積回路装置10
0では、第一キャッシュメモリ103と第二キャッシュ
メモリ104とタグメモリ105との各々がDRAMか
らなるので、これらのメモリ103〜メモリ105の占
有面積が縮小されており、全体が良好に小型化されてい
る。
In addition, the integrated circuit device 10 of the present embodiment
In the case of 0, since each of the first cache memory 103, the second cache memory 104, and the tag memory 105 is composed of a DRAM, the area occupied by these memories 103 to 105 is reduced, and the whole is favorably miniaturized. ing.

【0056】上述のようにDRAMからなる各メモリ1
03〜メモリ105はノイズに対する耐性が低く、高速
にデータ処理を実行するマイクロプロセッサ102はノ
イズを発生しやすい。しかし、本実施の形態の集積回路
装置100では、マイクロプロセッサ102と各メモリ
103〜105とがプロセッサ/メモリ保護回路10
7,110を介して隣接しているので、デッドスペース
を発生させることなくマイクロプロセッサ102と各メ
モリ103〜105とが離反してノイズの相互干渉が軽
減されている。
As described above, each memory 1 composed of a DRAM
03 to the memory 105 have low resistance to noise, and the microprocessor 102 that executes high-speed data processing tends to generate noise. However, in the integrated circuit device 100 of the present embodiment, the microprocessor 102 and each of the memories 103 to 105 include the processor / memory protection circuit 10
7, the microprocessor 102 and the memories 103 to 105 are separated from each other without generating a dead space, thereby reducing noise mutual interference.

【0057】さらに、上述のようにプロセッサ保護回路
107とメモリ保護回路110とは隣接されているの
で、ノイズの相互干渉を防止するために各々の接地端子
123,127が分離されている。ただし、シリコン製
のp型の回路基板101も接地されているので、接地端
子123,127を別個に形成しても電気的に分離に分
離することはできない。
Furthermore, since the processor protection circuit 107 and the memory protection circuit 110 are adjacent to each other as described above, the ground terminals 123 and 127 are separated to prevent mutual interference of noise. However, since the p-type circuit board 101 made of silicon is also grounded, even if the grounding terminals 123 and 127 are formed separately, they cannot be electrically separated.

【0058】そこで、本実施の形態の集積回路装置10
0では、図9に示すように、メモリ保護回路110の位
置にディープnウェルの拡散層144を形成することに
より、図10に示すように、プロセッサ保護回路107
とメモリ保護回路110との接地端子123,127に
寄生抵抗を介在させてノイズの相互干渉を軽減してい
る。
Therefore, the integrated circuit device 10 of the present embodiment
In FIG. 10, a deep n-well diffusion layer 144 is formed at the position of the memory protection circuit 110 as shown in FIG.
A parasitic resistance is interposed between the ground terminals 123 and 127 of the memory protection circuit 110 to reduce mutual interference of noise.

【0059】なお、本発明は上記形態に限定されるもの
ではなく、その要旨を逸脱しない範囲で各種の変形を許
容する。例えば、上記形態では本発明者が開発している
製品を参考に各種数値を具体的に例示したが、これは本
発明の集積回路装置の寸法や比率を限定するものではな
い。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, but allows various modifications without departing from the scope of the invention. For example, in the above-described embodiment, various numerical values have been specifically illustrated with reference to a product developed by the inventor, but this does not limit the dimensions and ratio of the integrated circuit device of the present invention.

【0060】[0060]

【発明の効果】本発明は以上説明したように構成されて
いるので、以下に記載するような効果を奏する。
Since the present invention is configured as described above, it has the following effects.

【0061】本発明の集積回路装置は、多数の外部接続
端子にマイクロプロセッサがプロセッサ保護回路を介し
て適宜接続されるとともにDRAMがメモリ保護回路を
介して接続されており、プロセッサ保護回路とメモリ保
護回路とがマイクロプロセッサとDRAMとの間隙に配
置されていることにより、外部の静電気による異常な高
電圧などが外部接続端子に流入しても、マイクロプロセ
ッサやDRAMが破壊されることがなく、必須要素の配
置の変更によりマイクロプロセッサとDRAMとが離反
されているので、全体を大型化することなくマイクロプ
ロセッサとDRAMとのノイズの相互干渉が防止されて
いる。
In the integrated circuit device of the present invention, a microprocessor is appropriately connected to a number of external connection terminals via a processor protection circuit and a DRAM is connected via a memory protection circuit. The circuit is located in the gap between the microprocessor and the DRAM, so that even if an abnormally high voltage due to external static electricity flows into the external connection terminal, the microprocessor or the DRAM is not destroyed. Since the microprocessor and the DRAM are separated from each other by changing the arrangement of elements, mutual interference of noise between the microprocessor and the DRAM is prevented without increasing the overall size.

【0062】また、上述のような集積回路装置におい
て、プロセッサ保護回路とメモリ保護回路とは隣接され
ているが各々の接地端子が分離されており、回路基板も
接地されているが、プロセッサ保護回路とメモリ保護回
路との接地端子に拡散層が寄生抵抗として介在している
ことにより、電気的に分離に分離することはできないプ
ロセッサ保護回路とメモリ保護回路とのノイズの相互干
渉が良好に軽減されている。
In the above-described integrated circuit device, the processor protection circuit and the memory protection circuit are adjacent but the ground terminals are separated, and the circuit board is grounded. Interference of noise between the processor protection circuit and the memory protection circuit, which cannot be separated electrically, can be reduced satisfactorily because the diffusion layer intervenes as a parasitic resistance at the ground terminal of the memory protection circuit and the memory protection circuit. ing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本実施の形態の集積回路装置の内部構造を示す
模式的な平面図である。
FIG. 1 is a schematic plan view showing the internal structure of an integrated circuit device according to the present embodiment.

【図2】本実施の形態の集積回路装置の内部構造を示す
模式的な平面図である。
FIG. 2 is a schematic plan view showing the internal structure of the integrated circuit device according to the present embodiment.

【図3】キャッシュメモリの内部構造を示す模式的な平
面図である。
FIG. 3 is a schematic plan view showing the internal structure of the cache memory.

【図4】タグメモリの形状を変化させる過程を示す模式
的な工程図である。
FIG. 4 is a schematic process diagram showing a process of changing the shape of the tag memory.

【図5】キャッシュメモリとタグメモリとの関係を示す
等価的なブロック図である。
FIG. 5 is an equivalent block diagram showing a relationship between a cache memory and a tag memory.

【図6】集積回路装置の回路構造を示すブロック図であ
る。
FIG. 6 is a block diagram showing a circuit structure of the integrated circuit device.

【図7】プロセッサ保護回路とメモリ保護回路との等価
回路を示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing an equivalent circuit of a processor protection circuit and a memory protection circuit.

【図8】メモリ保護回路の内部構造を示し、(a)は要部
の模式的な縦断側面図、(b)は回路基板の平面図であ
る。
8A and 8B show an internal structure of the memory protection circuit, FIG. 8A is a schematic vertical sectional side view of a main part, and FIG. 8B is a plan view of a circuit board.

【図9】プロセッサ保護回路の内部構造を示し、(a)は
要部の模式的な縦断側面図、(b)は回路基板の平面図で
ある。
9A and 9B show an internal structure of a processor protection circuit, wherein FIG. 9A is a schematic vertical sectional side view of a main part, and FIG. 9B is a plan view of a circuit board.

【図10】プロセッサ保護回路とメモリ保護回路との等
価回路を示す回路図である。
FIG. 10 is a circuit diagram showing an equivalent circuit of a processor protection circuit and a memory protection circuit.

【図11】回路モジュールの内部構造を示す模式的な平
面図である。
FIG. 11 is a schematic plan view showing the internal structure of the circuit module.

【図12】集積回路装置であるマイクロプロセッサの接
続端子の配置を示す模式的な平面図である。
FIG. 12 is a schematic plan view showing an arrangement of connection terminals of a microprocessor which is an integrated circuit device.

【図13】本発明者が創案した公知でない先行技術の集
積回路装置の内部構造を示す模式的な平面図である。
FIG. 13 is a schematic plan view showing the internal structure of an unknown prior art integrated circuit device created by the present inventors.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 集積回路装置 101 回路基板 102 マイクロプロセッサ 103 第一キャッシュメモリ 104 第二キャッシュメモリ 105 タグメモリ 106 外部接続端子 107 プロセッサ保護回路 110 メモリ保護回路 REFERENCE SIGNS LIST 100 Integrated circuit device 101 Circuit board 102 Microprocessor 103 First cache memory 104 Second cache memory 105 Tag memory 106 External connection terminal 107 Processor protection circuit 110 Memory protection circuit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01L 27/108 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 27/10 H01L 21/822 H01L 21/8242 H01L 27/04 H01L 27/108 G06F 15/78 510 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 identification code FI H01L 27/108 (58) Investigation field (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 27/10 H01L 21/822 H01L 21/8242 H01L 27/04 H01L 27/108 G06F 15/78 510

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 矩形の回路基板と、 該回路基板の外周部に形成されている多数の外部接続端
子と、 矩形の回路セルからなり前記回路基板の端部に形成され
ている第一のDRAM(Dynamic Random Access Memory)
と、 矩形の回路セルからなり前記回路基板の前記第一のDR
AMとは反対の端部に形成されている第二のDRAM
と、 矩形の回路セルからなり前記第一のDRAMと前記第二
のDRAMとの間隙で前記回路基板の端部に形成されて
いるマイクロプロセッサと、 矩形の回路セルからなり前記第一のDRAMと前記第二
のDRAMとの間隙で前記回路基板の前記マイクロプロ
セッサとは反対の端部に形成されている第三のDRAM
と、 前記マイクロプロセッサの外周部の位置で前記回路基板
に形成されて前記マイクロプロセッサに各々接続されて
いる複数のプロセッサ保護回路と、 前記第一から第三のDRAMの少なくとも一部の表面を
通過する位置に配置されて多数の前記外部接続端子の一
部と複数の前記プロセッサ保護回路とを個々に接続して
いる複数のプロセッサ接続配線と、 前記第一のDRAMと前記第二のDRAMと前記第三の
DRAMと前記プロセッサ保護回路との間隙の位置で前
記回路基板に形成されて前記第一から第三のDRAMに
接続されている複数のメモリ保護回路と、 前記第一から第三のDRAMの少なくとも一部の表面を
通過する位置に配置されて多数の前記外部接続端子の一
部と複数の前記メモリ保護回路とを個々に接続している
複数のメモリ接続配線と、 を具備している集積回路装置。
1. A rectangular circuit board, a number of external connection terminals formed on an outer peripheral portion of the circuit board, and a first DRAM formed of a rectangular circuit cell and formed at an end of the circuit board (Dynamic Random Access Memory)
And the first DR of the circuit board, comprising a rectangular circuit cell
A second DRAM formed at the end opposite to the AM
A microprocessor formed of a rectangular circuit cell and formed at an end of the circuit board in a gap between the first DRAM and the second DRAM; and a first DRAM formed of a rectangular circuit cell. A third DRAM formed at an end of the circuit board opposite to the microprocessor in a gap with the second DRAM;
A plurality of processor protection circuits formed on the circuit board at a position of an outer peripheral portion of the microprocessor and connected to the microprocessor, respectively, and passing at least a part of a surface of the first to third DRAMs A plurality of processor connection wirings which are arranged at positions that individually connect a part of the plurality of external connection terminals and a plurality of the processor protection circuits, respectively, the first DRAM, the second DRAM, A plurality of memory protection circuits formed on the circuit board at a position between the third DRAM and the processor protection circuit and connected to the first to third DRAMs; and the first to third DRAMs. A plurality of external connection terminals and a plurality of memory protection circuits individually connected to a plurality of the memory protection circuits. An integrated circuit device comprising: a memory connection wiring.
【請求項2】 前記回路基板が接地されており、 前記プロセッサ保護回路と前記メモリ保護回路とが相互
に分離された接地端子を各々具備しており、 前記プロセッサ保護回路の接地端子と前記メモリ保護回
路の接地端子との間に寄生抵抗として介在する拡散層が
前記回路基板に形成されている請求項1に記載の集積回
路装置。
2. The circuit board is grounded, the processor protection circuit and the memory protection circuit are provided with ground terminals separated from each other, and the ground terminal of the processor protection circuit and the memory protection are provided. 2. The integrated circuit device according to claim 1, wherein a diffusion layer interposed as a parasitic resistance between the circuit board and a ground terminal is formed on the circuit board.
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