JP3183953B2 - 安定化高分子材料組成物 - Google Patents
安定化高分子材料組成物Info
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- JP3183953B2 JP3183953B2 JP18013192A JP18013192A JP3183953B2 JP 3183953 B2 JP3183953 B2 JP 3183953B2 JP 18013192 A JP18013192 A JP 18013192A JP 18013192 A JP18013192 A JP 18013192A JP 3183953 B2 JP3183953 B2 JP 3183953B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
- C07D401/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing three or more hetero rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3477—Six-membered rings
- C08K5/3492—Triazines
- C08K5/34926—Triazines also containing heterocyclic groups other than triazine groups
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- Medicinal Chemistry (AREA)
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、安定化高分子材料組成
物に関し、詳しくは、２，２，６，６−テトラメチルピ
ペリジル基を有する特定のシアヌレート誘導体を含有さ
せてなる、特に耐熱性、耐抽出性および耐光性の改善さ
れた安定化高分子材料組成物に関する。
物に関し、詳しくは、２，２，６，６−テトラメチルピ
ペリジル基を有する特定のシアヌレート誘導体を含有さ
せてなる、特に耐熱性、耐抽出性および耐光性の改善さ
れた安定化高分子材料組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等の高分子材
料は、一般に光に対して敏感であり、その作用により、
劣化、変色或いは機械的強度の低下等が引き起こされ、
長期の使用に耐えないことが知られている。
チレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等の高分子材
料は、一般に光に対して敏感であり、その作用により、
劣化、変色或いは機械的強度の低下等が引き起こされ、
長期の使用に耐えないことが知られている。
【０００３】そこで、この光による高分子材料の劣化を
防止するために、従来、種々の安定剤が用いられてきた
が、分子中に２，２，６，６−テトラメチルピペリジル
基を有する化合物も多数提案されている。
防止するために、従来、種々の安定剤が用いられてきた
が、分子中に２，２，６，６−テトラメチルピペリジル
基を有する化合物も多数提案されている。
【０００４】これらのピペリジン化合物のうち、シアヌ
レート誘導体は化合物自体の耐熱性が比較的良好である
ことから、これまでにいくつかの化合物が提案されてい
る。例えば、特開昭４９−２１３８９号公報には、ピペ
リジン化合物のシアヌレート誘導体が提案されている
が、該公報に記載の化合物は、低分子量化合物であるた
めに高分子材料の加工中に揮散しやすい、或いは水、有
機溶媒により抽出されやすい等の欠点を有していた。
レート誘導体は化合物自体の耐熱性が比較的良好である
ことから、これまでにいくつかの化合物が提案されてい
る。例えば、特開昭４９−２１３８９号公報には、ピペ
リジン化合物のシアヌレート誘導体が提案されている
が、該公報に記載の化合物は、低分子量化合物であるた
めに高分子材料の加工中に揮散しやすい、或いは水、有
機溶媒により抽出されやすい等の欠点を有していた。
【０００５】このため、特開昭５２−７３８８６号公
報、特開昭５８−４７０３０号公報、特開昭５８−４７
０３０号公報、特開昭５８−１９４９３１号公報、特開
昭５９−１２２４８７号公報および特開昭６１−８１４
４１号公報等には、高分子量の化合物が提案されてお
り、また、特開昭６１−１７６６６２号公報には、分子
中にエーテル基を有するジアミンのシアヌレート誘導体
が提案されているが、これらの化合物の安定化効果は未
だ不充分であり実用上満足しうるものではなかった。
報、特開昭５８−４７０３０号公報、特開昭５８−４７
０３０号公報、特開昭５８−１９４９３１号公報、特開
昭５９−１２２４８７号公報および特開昭６１−８１４
４１号公報等には、高分子量の化合物が提案されてお
り、また、特開昭６１−１７６６６２号公報には、分子
中にエーテル基を有するジアミンのシアヌレート誘導体
が提案されているが、これらの化合物の安定化効果は未
だ不充分であり実用上満足しうるものではなかった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者等は上記の現状
に鑑み、鋭意検討を重ねた結果、エーテル結合を有する
特定のシアヌレート誘導体を添加することにより、耐熱
性、耐抽出性および耐光性に優れた安定化高分子材料組
成物が得られることを見出し、本発明を完成した。
に鑑み、鋭意検討を重ねた結果、エーテル結合を有する
特定のシアヌレート誘導体を添加することにより、耐熱
性、耐抽出性および耐光性に優れた安定化高分子材料組
成物が得られることを見出し、本発明を完成した。
【０００７】即ち、本発明は、高分子材料１００重量部
に、次の〔化２〕（〔化１〕と同じ）の一般式（Ｉ）で
表される化合物の少なくとも一種０．００１〜５重量部
を添加してなる、安定化高分子材料組成物を提供するも
のである。
に、次の〔化２〕（〔化１〕と同じ）の一般式（Ｉ）で
表される化合物の少なくとも一種０．００１〜５重量部
を添加してなる、安定化高分子材料組成物を提供するも
のである。
【０００８】
【化２】
【０００９】以下、本発明の高分子材料組成物について
詳述する。
詳述する。
【００１０】上記一般式（Ｉ）中、Ａで示される３〜６
価の多価アルコールの残基としては、例えば、グリセリ
ン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、
トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、ペ
ンタエリスリトール、ジグリセリン、ジトリメチロール
エタン、ジトリメチロールプロパン、マンニトール、ソ
ルビトール、ジペンタエリスリトール、イノシトール等
の残基があげられる。上記一般式（Ｉ）で表される化合
物としては、特に、Ａで示される多価アルコールの残基
が次の〔化３〕で表されるネオペンチル構造を有する基
である化合物が、その効果が大きいため、好ましい。
価の多価アルコールの残基としては、例えば、グリセリ
ン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、
トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、ペ
ンタエリスリトール、ジグリセリン、ジトリメチロール
エタン、ジトリメチロールプロパン、マンニトール、ソ
ルビトール、ジペンタエリスリトール、イノシトール等
の残基があげられる。上記一般式（Ｉ）で表される化合
物としては、特に、Ａで示される多価アルコールの残基
が次の〔化３〕で表されるネオペンチル構造を有する基
である化合物が、その効果が大きいため、好ましい。
【００１１】
【化３】
【００１２】上記一般式（Ｉ）中、R1およびR2で示され
るアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、ヘキシ
ル、オクチル、２−エチルヘキシル、デシル、ドデシ
ル、トリデシル、テトラデシル、オクタデシル等の非置
換アルキル基及びベンジル、フェニルエチル、２−ヒド
ロキシエチル、２，３−エポキシプロピル、ジメチルア
ミノプロピル、メトキシエチル等の置換アルキル基があ
げられ、R1で示されるアルコキシ基としては上記アルキ
ル基から誘導されるアルコキシ基があげられる。また、
R1で示されるアシル基としては、アセチル、プロピオニ
ル、アクリロイル、メタクリロイル、ブチロイル、オク
タノイル等があげられる。
るアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、ヘキシ
ル、オクチル、２−エチルヘキシル、デシル、ドデシ
ル、トリデシル、テトラデシル、オクタデシル等の非置
換アルキル基及びベンジル、フェニルエチル、２−ヒド
ロキシエチル、２，３−エポキシプロピル、ジメチルア
ミノプロピル、メトキシエチル等の置換アルキル基があ
げられ、R1で示されるアルコキシ基としては上記アルキ
ル基から誘導されるアルコキシ基があげられる。また、
R1で示されるアシル基としては、アセチル、プロピオニ
ル、アクリロイル、メタクリロイル、ブチロイル、オク
タノイル等があげられる。
【００１３】また、上記一般式（Ｉ）中、Ｘで表される
アルキレン基としては、エチレン、プロピレン、トリメ
チレン、ブチレン、イソブチレン、テトラメチレン等が
あげられる。
アルキレン基としては、エチレン、プロピレン、トリメ
チレン、ブチレン、イソブチレン、テトラメチレン等が
あげられる。
【００１４】上記一般式（Ｉ）で表される化合物は、例
えば、塩化シアヌル、４−ピペリジルアミン化合物を反
応させて、２−クロロ−４，６−ビス（ポリアルキルピ
ペリジン−４−イル）トリアジンを合成し（必要ならば
ピペリジル基の１位をアルキル化またはアシル化し）、
次いでこれと下記〔化４〕の一般式（II）で表されるポ
リアミン化合物とを反応させることによって容易に製造
される。
えば、塩化シアヌル、４−ピペリジルアミン化合物を反
応させて、２−クロロ−４，６−ビス（ポリアルキルピ
ペリジン−４−イル）トリアジンを合成し（必要ならば
ピペリジル基の１位をアルキル化またはアシル化し）、
次いでこれと下記〔化４〕の一般式（II）で表されるポ
リアミン化合物とを反応させることによって容易に製造
される。
【００１５】
【化４】
【００１６】上記一般式（II）で表されるポリアミン化
合物は、例えば、Ａ（ＯＨ）m で表される３〜６価の多
価アルコールにアルキレンオキサイドを付加させた後末
端の水酸基をアミノ化する常法に従って製造することが
でき、通常市販されているものをそのまま用いることが
できる。また、上記一般式（II）におけるｎは、アルキ
レンオキサイドの平均付加モル数を表し、多価アルコー
ルの各々の水酸基に付加するアルキレンオキサイドのモ
ル数は同じであっても異なっていても良い。
合物は、例えば、Ａ（ＯＨ）m で表される３〜６価の多
価アルコールにアルキレンオキサイドを付加させた後末
端の水酸基をアミノ化する常法に従って製造することが
でき、通常市販されているものをそのまま用いることが
できる。また、上記一般式（II）におけるｎは、アルキ
レンオキサイドの平均付加モル数を表し、多価アルコー
ルの各々の水酸基に付加するアルキレンオキサイドのモ
ル数は同じであっても異なっていても良い。
【００１７】次に、本発明の高分子材料組成物で用いら
れる前記一般式（Ｉ）で表される化合物の代表例（〔化
６〕〜〔化１１〕の化合物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．６）を示
す。尚、下記化合物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．６、および後記実
施例中の比較化合物において、Ｂ1 〜Ｂ4 は以下の〔化
５〕に示す基を示す。尚、下記〔化６〕〜〔化１１〕で
表される化合物は、実際には上記一般式（Ｉ）中のｎの
値が異なる２種以上の化合物の混合物であり、式中の
ｐ，ｑ，ｒ及びｓは、それぞれ、混合物を構成する２種
以上の化合物それぞれのｎの値の平均値である。
れる前記一般式（Ｉ）で表される化合物の代表例（〔化
６〕〜〔化１１〕の化合物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．６）を示
す。尚、下記化合物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．６、および後記実
施例中の比較化合物において、Ｂ1 〜Ｂ4 は以下の〔化
５〕に示す基を示す。尚、下記〔化６〕〜〔化１１〕で
表される化合物は、実際には上記一般式（Ｉ）中のｎの
値が異なる２種以上の化合物の混合物であり、式中の
ｐ，ｑ，ｒ及びｓは、それぞれ、混合物を構成する２種
以上の化合物それぞれのｎの値の平均値である。
【００１８】
【化５】
【００１９】
【化６】
【００２０】
【化７】
【００２１】
【化８】
【００２２】
【化９】
【００２３】
【化１０】
【００２４】
【化１１】
【００２５】次に、本発明で用いられる前記一般式
（Ｉ）で表される化合物の合成方法を、下記（合成例）
により具体的に説明するが、本発明は下記の合成方法に
よって制限されるものではない。
（Ｉ）で表される化合物の合成方法を、下記（合成例）
により具体的に説明するが、本発明は下記の合成方法に
よって制限されるものではない。
【００２６】（合成例） 化合物No. ２（前記〔化７〕
の例示化合物）の合成 （１）２−クロロ−（４，６−ビス〔Ｎ−（２，２，
６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ−ブ
チルアミノ〕）トリアジンの製造 塩化シアヌル２８．２ｇをキシレン２３０ｇに２０〜３
０℃にて溶解し、この溶液を攪拌しながら、Ｎ−ブチル
−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）アミン６４．４ｇを６５℃以下にて１時間かけて滴
下した。さらに２５％水酸化ナトリウム５７．８ｇを３
０分かけて滴下し、滴下終了後、さらに６５℃で５時間
反応させた後に反応液を油水分離、水洗した。
の例示化合物）の合成 （１）２−クロロ−（４，６−ビス〔Ｎ−（２，２，
６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ−ブ
チルアミノ〕）トリアジンの製造 塩化シアヌル２８．２ｇをキシレン２３０ｇに２０〜３
０℃にて溶解し、この溶液を攪拌しながら、Ｎ−ブチル
−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）アミン６４．４ｇを６５℃以下にて１時間かけて滴
下した。さらに２５％水酸化ナトリウム５７．８ｇを３
０分かけて滴下し、滴下終了後、さらに６５℃で５時間
反応させた後に反応液を油水分離、水洗した。
【００２７】（２）Ｎ−メチル化 上記反応液に８７％のパラホルムアルデヒドを仕込み、
８０℃に昇温させてから８０％蟻酸水溶液２３．３ｇを
１時間かけて滴下した。さらに９０℃で５時間反応させ
た後、４０％水酸化ナトリウム水溶液３１．６ｇを仕込
み中和し、油水分離、水洗し、脱水、ろ過した。
８０℃に昇温させてから８０％蟻酸水溶液２３．３ｇを
１時間かけて滴下した。さらに９０℃で５時間反応させ
た後、４０％水酸化ナトリウム水溶液３１．６ｇを仕込
み中和し、油水分離、水洗し、脱水、ろ過した。
【００２８】（３）化合物No. ２の製造 上記ろ液にトリス〔ω−アミノポリ（プロピルオキシ）
メチル〕プロパン（三井テキサコケミカル社製ジェファ
ーミンＴ−４０３、ｐ＋ｑ＋ｒ＝５．３）２２ｇ、水酸
化ナトリウム２０ｇを仕込み、窒素雰囲気下、キシレン
還流して１８時間反応を行なった後、水洗、脱水、ろ過
を行なった。その後脱溶媒し、軟化点８５〜９５℃のガ
ラス状固体の生成物を得た。（収率９６．５％）
メチル〕プロパン（三井テキサコケミカル社製ジェファ
ーミンＴ−４０３、ｐ＋ｑ＋ｒ＝５．３）２２ｇ、水酸
化ナトリウム２０ｇを仕込み、窒素雰囲気下、キシレン
還流して１８時間反応を行なった後、水洗、脱水、ろ過
を行なった。その後脱溶媒し、軟化点８５〜９５℃のガ
ラス状固体の生成物を得た。（収率９６．５％）
【００２９】得られた生成物は、高速液体クロマトグラ
フィによる分析の結果、１ピークで、分子量が約２００
０（計算値２０２１．８）であり、また、この生成物の
元素分析の結果は下記の如くで計算値とよく一致し、上
記生成物が目的物であることを確認した。
フィによる分析の結果、１ピークで、分子量が約２００
０（計算値２０２１．８）であり、また、この生成物の
元素分析の結果は下記の如くで計算値とよく一致し、上
記生成物が目的物であることを確認した。
【００３０】 元素分析結果 Ｃ Ｈ Ｎ 実測値（％） ７２．４ １２．９ １１．０ 計算値（％） ７１．９ １２．５ １１．２
【００３１】本発明における安定性改善の対象となる高
分子材料としては、例えば、高密度、低密度または直鎖
状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−
１、ポリ−３−メチルペンテン、エチレン−プロピレン
共重合体等のα−オレフィンの単重合体または共重合
体、これらのα−オレフィンと共役ジエンまたは非共役
ジエン等の多不飽和化合物、アクリル酸、メタクリル
酸、酢酸ビニル等との共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロ
ピレン、ポリフッ化ビニリデン、塩化ゴム、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合
体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニ
ル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレイ
ン酸エステル共重合体、塩化ビニル−シクロヘキシルマ
レイミド共重合体、塩化ビニル−シクロヘキシルマレイ
ミド共重合体等の含ハロゲン樹脂、石油樹脂、クマロン
樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、
スチレン及び／又はα−メチルスチレンと他の単量体
（例えば、無水マレイン酸、フェニルマレイミド、メタ
クリル酸メチル、ブタジエン、アクリロニトリル等）と
の共重合体（例えば、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＭＢＳ樹
脂、耐熱ＡＢＳ樹脂等）、ポリメチルメタクリレート、
ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビ
ニルブチラール、ポリエチレンテレフタレート及びポリ
テトラメチレンテレフタレート等の直鎖ポリエステル、
ポリフェニレンオキサイド、ポリカプロラクタム及びポ
リヘキサメチレンアジパミド等のポリアミド、ポリカー
ボネート、ポリアセタール、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリウレタン、繊維素系樹脂等の熱可塑性合成樹
脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポ
キシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂、
更に、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニト
リル−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共
重合ゴム、エチレンとプロピレン、ブテン−１等のα−
オレフィンとの共重合体ゴム、更にエチレン−α−オレ
フィンおよびエチリデンノルボルネン、シクロペンタジ
エン等の非共役ジエン類との三元共重合体ゴム等のエラ
ストマー等があげられ、これらの樹脂および／またはエ
ラストマーをブレンドしたものであっても良い。
分子材料としては、例えば、高密度、低密度または直鎖
状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−
１、ポリ−３−メチルペンテン、エチレン−プロピレン
共重合体等のα−オレフィンの単重合体または共重合
体、これらのα−オレフィンと共役ジエンまたは非共役
ジエン等の多不飽和化合物、アクリル酸、メタクリル
酸、酢酸ビニル等との共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロ
ピレン、ポリフッ化ビニリデン、塩化ゴム、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合
体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニ
ル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレイ
ン酸エステル共重合体、塩化ビニル−シクロヘキシルマ
レイミド共重合体、塩化ビニル−シクロヘキシルマレイ
ミド共重合体等の含ハロゲン樹脂、石油樹脂、クマロン
樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、
スチレン及び／又はα−メチルスチレンと他の単量体
（例えば、無水マレイン酸、フェニルマレイミド、メタ
クリル酸メチル、ブタジエン、アクリロニトリル等）と
の共重合体（例えば、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＭＢＳ樹
脂、耐熱ＡＢＳ樹脂等）、ポリメチルメタクリレート、
ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビ
ニルブチラール、ポリエチレンテレフタレート及びポリ
テトラメチレンテレフタレート等の直鎖ポリエステル、
ポリフェニレンオキサイド、ポリカプロラクタム及びポ
リヘキサメチレンアジパミド等のポリアミド、ポリカー
ボネート、ポリアセタール、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリウレタン、繊維素系樹脂等の熱可塑性合成樹
脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポ
キシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂、
更に、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニト
リル−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共
重合ゴム、エチレンとプロピレン、ブテン−１等のα−
オレフィンとの共重合体ゴム、更にエチレン−α−オレ
フィンおよびエチリデンノルボルネン、シクロペンタジ
エン等の非共役ジエン類との三元共重合体ゴム等のエラ
ストマー等があげられ、これらの樹脂および／またはエ
ラストマーをブレンドしたものであっても良い。
【００３２】上記一般式（Ｉ）で表される化合物の添加
量は、高分子材料１００重量部に対し、０．００１〜５
重量部、好ましくは０．０１〜３重量部である。
量は、高分子材料１００重量部に対し、０．００１〜５
重量部、好ましくは０．０１〜３重量部である。
【００３３】本発明の高分子材料組成物には、前記一般
式（Ｉ）で表される化合物と共に、他の汎用の抗酸化
剤、紫外線吸収剤、前記一般式（Ｉ）で表される化合物
以外のヒンダードアミン系光安定剤、安定剤等の添加剤
を併用することができる。
式（Ｉ）で表される化合物と共に、他の汎用の抗酸化
剤、紫外線吸収剤、前記一般式（Ｉ）で表される化合物
以外のヒンダードアミン系光安定剤、安定剤等の添加剤
を併用することができる。
【００３４】上記添加剤として特に好ましいものとして
は、フェノール系、リン系、硫黄系等の抗酸化剤および
紫外線吸収剤などがあげられる。
は、フェノール系、リン系、硫黄系等の抗酸化剤および
紫外線吸収剤などがあげられる。
【００３５】上記フェノール系抗酸化剤としては、例え
ば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−
ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ステア
リル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、チオジ
エチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘ
キサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサメ
チレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４’−チオビス
（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール) 、２，２’−メチ
レンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）、
２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第三ブチル
フェノール）、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロキシ−
３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕グリコ
ールエステル、４，４’−ブチリデンビス（６−第三ブ
チル−ｍ−クレゾール）、２，２’−エチリデンビス
（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−エチ
リデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェノー
ル) 、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキ
シ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス〔２−第三
ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第三
ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタレー
ト、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒド
ロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレート、
１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ルキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリ
ス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリ
ス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、テ
トラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２−
第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオキ
シ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル) フェノー
ル、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロ
ピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロ〔５. ５〕ウンデカン、トリエチレングリ
コールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）プロピオネート〕等があげられる。
ば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−
ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ステア
リル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、チオジ
エチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘ
キサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサメ
チレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４’−チオビス
（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール) 、２，２’−メチ
レンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）、
２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第三ブチル
フェノール）、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロキシ−
３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕グリコ
ールエステル、４，４’−ブチリデンビス（６−第三ブ
チル−ｍ−クレゾール）、２，２’−エチリデンビス
（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−エチ
リデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェノー
ル) 、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキ
シ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス〔２−第三
ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第三
ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタレー
ト、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒド
ロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレート、
１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ルキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリ
ス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリ
ス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、テ
トラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２−
第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオキ
シ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル) フェノー
ル、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロ
ピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロ〔５. ５〕ウンデカン、トリエチレングリ
コールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）プロピオネート〕等があげられる。
【００３６】上記リン系抗酸化剤としては、例えば、ト
リス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（モノお
よびジ−混合ノニルフェニル）ホスファイト、トリス
（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト、トリ
ス〔２−第三ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒド
ロキシ−５−メチルフェニルチオ）−５−メチルフェニ
ル〕ホスファイト、トリ（トリデシル）ホスファイト、
オクチルジフェニルホスファイト、ジ（トリデシル）ペ
ンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペン
タエリスリトールジホスファイト、ジ（ノニルフェニ
ル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，
４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホ
スファイト、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチル
フェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス
（２，４，６−トリ第三ブチルフェニル）ペンタエリス
リトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）イソプ
ロピリデンジフェノールジホスファイト、テトラ（トリ
デシル）−４，４’−ｎ−ブチリデンビス（２−第三ブ
チル−５−メチルフェノール）ジホスファイト、ヘキサ
（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチル−４
−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタントリホ
スファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第三
ブチルフェニル）オクチルホスファイト、２，２’−メ
チレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）フルオロ
ホスファイト、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェ
ニル）ビフェニレンジホスホナイト、９−ホスファ−１
０−オキサフェナンスレン−９−オキシド等があげられ
る。
リス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（モノお
よびジ−混合ノニルフェニル）ホスファイト、トリス
（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト、トリ
ス〔２−第三ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒド
ロキシ−５−メチルフェニルチオ）−５−メチルフェニ
ル〕ホスファイト、トリ（トリデシル）ホスファイト、
オクチルジフェニルホスファイト、ジ（トリデシル）ペ
ンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペン
タエリスリトールジホスファイト、ジ（ノニルフェニ
ル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，
４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホ
スファイト、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチル
フェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス
（２，４，６−トリ第三ブチルフェニル）ペンタエリス
リトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）イソプ
ロピリデンジフェノールジホスファイト、テトラ（トリ
デシル）−４，４’−ｎ−ブチリデンビス（２−第三ブ
チル−５−メチルフェノール）ジホスファイト、ヘキサ
（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチル−４
−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタントリホ
スファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第三
ブチルフェニル）オクチルホスファイト、２，２’−メ
チレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）フルオロ
ホスファイト、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェ
ニル）ビフェニレンジホスホナイト、９−ホスファ−１
０−オキサフェナンスレン−９−オキシド等があげられ
る。
【００３７】また、上記硫黄系抗酸化剤としては、例え
ば、チオジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチル、ジ
ステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類及び
ペンタエリスリトールテトラ（β−ドデシルメルカプト
プロピオネート）等のポリオールのβ−アルキルメルカ
プトプロピオン酸エステル類があげられる。
ば、チオジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチル、ジ
ステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類及び
ペンタエリスリトールテトラ（β−ドデシルメルカプト
プロピオネート）等のポリオールのβ−アルキルメルカ
プトプロピオン酸エステル類があげられる。
【００３８】上記紫外線吸収剤としては、例えば、２，
４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４
−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オク
トキシベンゾフェノン、５，５’−メチレンビス（２−
ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）等の２−ヒ
ドロキシベンゾフェノン類；２−（２’−ヒドロキシ−
５’−メチルフェニル) ベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ第三ブチルフェニ
ル) ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−
３’，５’−ジ第三ブチルフェニル）−５−クロロベン
ゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−第三
ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−第三オク
チルフェニル)ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒド
ロキシ−３’，５’−ジクミルフェニル) ベンゾトリア
ゾール、２，２’−メチレンビス（４−第三オクチル−
６−ベンゾトリアゾリル）フェノール等の２−（２’−
ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール類；フェニル
サリシレート、レゾルシノールモノベンゾエート、２，
４−ジ第三ブチルフェニル−３’，５’−ジ第三ブチル
−４’−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，
５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のベ
ンゾエート類；２−エチル−２’−エトキシオキザニリ
ド、２−エトキシ−４’−ドデシルオキザニリド等の置
換オキザニリド類；エチル−α−シアノ−β，β−ジフ
ェニルアクリレート、メチル−２−シアノ−３−メチル
−３−（ｐ−メトキシフェニル）アクリレート等のシア
ノアクリレート類があげられる。
４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４
−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オク
トキシベンゾフェノン、５，５’−メチレンビス（２−
ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）等の２−ヒ
ドロキシベンゾフェノン類；２−（２’−ヒドロキシ−
５’−メチルフェニル) ベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ第三ブチルフェニ
ル) ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−
３’，５’−ジ第三ブチルフェニル）−５−クロロベン
ゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−第三
ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−第三オク
チルフェニル)ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒド
ロキシ−３’，５’−ジクミルフェニル) ベンゾトリア
ゾール、２，２’−メチレンビス（４−第三オクチル−
６−ベンゾトリアゾリル）フェノール等の２−（２’−
ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール類；フェニル
サリシレート、レゾルシノールモノベンゾエート、２，
４−ジ第三ブチルフェニル−３’，５’−ジ第三ブチル
−４’−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，
５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のベ
ンゾエート類；２−エチル−２’−エトキシオキザニリ
ド、２−エトキシ−４’−ドデシルオキザニリド等の置
換オキザニリド類；エチル−α−シアノ−β，β−ジフ
ェニルアクリレート、メチル−２−シアノ−３−メチル
−３−（ｐ−メトキシフェニル）アクリレート等のシア
ノアクリレート類があげられる。
【００３９】その他必要に応じて、本発明の高分子材料
組成物には、重金属不活性化剤、造核剤、金属石けん、
有機錫化合物、可塑剤、エポキシ化合物、発泡剤、帯電
防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させることが
できる。
組成物には、重金属不活性化剤、造核剤、金属石けん、
有機錫化合物、可塑剤、エポキシ化合物、発泡剤、帯電
防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させることが
できる。
【００４０】本発明の高分子材料組成物は、農業用資
材、自動車用塗料及び内外装材等の長期間に渡って高度
の耐候性が要求される用途にも好適に用いることがで
き、例えば、フィルム、繊維、テープ、シート、各種成
型材料、塗料、ラッカー用結合剤、接着剤、パテ及び写
真材料における基材等に用いることができる。
材、自動車用塗料及び内外装材等の長期間に渡って高度
の耐候性が要求される用途にも好適に用いることがで
き、例えば、フィルム、繊維、テープ、シート、各種成
型材料、塗料、ラッカー用結合剤、接着剤、パテ及び写
真材料における基材等に用いることができる。
【００４１】
【実施例】次に、実施例によって本発明の高分子材料組
成物の安定化効果を具体的に示す。しかしながら、本発
明は次にあげられた実施例によって限定されるものでは
ない。
成物の安定化効果を具体的に示す。しかしながら、本発
明は次にあげられた実施例によって限定されるものでは
ない。
【００４２】実施例１ 下記〔配合〕によって厚さ０．３ｍｍのプレスシートを
作成し、このシートについて高圧水銀ランプを用いての
耐光性試験を行なった（表中には「オリジナル」として
示す）。また、１００時間光照射後８０℃の熱水に２４
時間浸漬後のシートについても耐光性試験を行なった
（表中には「熱水浸漬後」として示す）。その結果を下
記〔表１〕に示す。
作成し、このシートについて高圧水銀ランプを用いての
耐光性試験を行なった（表中には「オリジナル」として
示す）。また、１００時間光照射後８０℃の熱水に２４
時間浸漬後のシートについても耐光性試験を行なった
（表中には「熱水浸漬後」として示す）。その結果を下
記〔表１〕に示す。
【００４３】 〔配合〕 ポリプロピレン １００重量部 ペンタエリスリトールテトラキス（３，５ −ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル プロピオネート） ０．１ カルシウムステアレート ０．０５ 試験化合物（〔表１〕参照） ０．１
【００４４】
【表１】
【００４５】表中、比較化合物は、それぞれ次の〔化１
２〕及び〔化１３〕で表される化合物であり、式中、Ｂ
1 は、前記〔化５〕に示した基を示す。
２〕及び〔化１３〕で表される化合物であり、式中、Ｂ
1 は、前記〔化５〕に示した基を示す。
【００４６】
【化１２】
【００４７】
【化１３】
【００４８】実施例２ 下記〔配合〕により、ミキサーで５分間混合した後、シ
リンダー温度２３０℃および２４０℃、ヘッドダイス温
度２５０℃、回転数２０ｒｐｍの条件で、押し出し機で
コンパウンドを作成し、次いで、シリンダー温度２４０
℃、ノズル温度２５０℃、射出圧４７５ｋｇ／ｃｍ2 の
条件で試験片を作成した。
リンダー温度２３０℃および２４０℃、ヘッドダイス温
度２５０℃、回転数２０ｒｐｍの条件で、押し出し機で
コンパウンドを作成し、次いで、シリンダー温度２４０
℃、ノズル温度２５０℃、射出圧４７５ｋｇ／ｃｍ2 の
条件で試験片を作成した。
【００４９】また、上記の押し出し操作を５回繰り返し
て行なったコンパウンドについても同様の操作により試
験片を作成した。
て行なったコンパウンドについても同様の操作により試
験片を作成した。
【００５０】得られた試験片について、高圧水銀ランプ
を用いて耐光性試験を行なった。その結果を下記〔表
２〕に示す。
を用いて耐光性試験を行なった。その結果を下記〔表
２〕に示す。
【００５１】 〔配合〕 エチレン／プロピレンブロックコポリマー １００重量部 ステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４− ヒドロキシフェニル）−プロピオネート ０．１ カルシウムステアレート ０．２ ジラウリルチオジプロピオネート ０．２ 試験化合物（〔表２〕参照） ０．１
【００５２】
【表２】
【００５３】実施例３ 下記〔配合〕の配合物を混練後プレスして厚さ０．５ｍ
ｍのシートを作成した。このシートを用いてウエザオメ
ーター中で耐光性を測定し、脆化するまでの時間を測定
した。その結果を下記〔表３〕に示す。
ｍのシートを作成した。このシートを用いてウエザオメ
ーター中で耐光性を測定し、脆化するまでの時間を測定
した。その結果を下記〔表３〕に示す。
【００５４】 〔配合〕 ポリエチレン １００重量部 ペンタエリスリトールテトラキス（３，５ −ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル プロピオネート） ０．１ カルシウムステアレート １．０ ジステアリルチオジプロピオネート ０．３ 試験化合物（〔表３〕参照） ０．１
【００５５】
【表３】
【００５６】実施例４ 下記〔配合〕によって、ロール混練し、厚さ１ｍｍのシ
ートを作成した。このシートを用いてウエザオメーター
中での耐光性試験を行なった。その結果を下記〔表４〕
に示す。
ートを作成した。このシートを用いてウエザオメーター
中での耐光性試験を行なった。その結果を下記〔表４〕
に示す。
【００５７】 〔配合〕 ポリ塩化ビニル １００重量部 ジオクチルフタレート ４８ エポキシ化大豆油 ２ トリスノニルフェニルホスファイト ０．２ カルシウムステアレート １．０ 亜鉛ステアレート ０．１ 試験化合物（〔表４〕参照） ０．１
【００５８】
【表４】
【００５９】実施例５ 下記〔配合〕によって、ロール混練後プレスして厚さ３
ｍｍのシートを作成し、このシート用いてウエザオメー
ターで８００時間光照射後の抗張力残率を測定した。そ
の結果を下記〔表５〕に示した。
ｍｍのシートを作成し、このシート用いてウエザオメー
ターで８００時間光照射後の抗張力残率を測定した。そ
の結果を下記〔表５〕に示した。
【００６０】 〔配合〕 ＡＢＳ樹脂 １００重量部 ４，４’−ブチリデンビス（２−第三ブチル− ｍ−クレゾール） ０．１ 試験化合物（〔表５〕参照） ０．２
【００６１】
【表５】
【００６２】実施例６ 分子量約１０００のポリプロピレングリコール３０００
重量部を、８０℃にて２０分間真空乾燥した後、テトラ
メチレングリコール１３５部を加え、９０℃で充分混合
し、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート１
１２５部を加え１０分間攪拌混練した。塊状反応物を取
り出し、１６０℃で１時間熟成した後、冷却してハンマ
ーで粉砕して熱可塑性ポリウレタン樹脂を製造した。
重量部を、８０℃にて２０分間真空乾燥した後、テトラ
メチレングリコール１３５部を加え、９０℃で充分混合
し、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート１
１２５部を加え１０分間攪拌混練した。塊状反応物を取
り出し、１６０℃で１時間熟成した後、冷却してハンマ
ーで粉砕して熱可塑性ポリウレタン樹脂を製造した。
【００６３】下記配合によって、３．５オンスインライ
ン式射出成形機でシリンダー温度１７０〜１９０℃で射
出成形を行ない、長さ１５０ｍｍ×巾１００ｍｍ×厚さ
２ｍｍの試験片を作成した。この試験片を用いてフェー
ドメーターにて５０時間光照射後の伸び残率を測定し
た。その結果を下記〔表６〕に示す。
ン式射出成形機でシリンダー温度１７０〜１９０℃で射
出成形を行ない、長さ１５０ｍｍ×巾１００ｍｍ×厚さ
２ｍｍの試験片を作成した。この試験片を用いてフェー
ドメーターにて５０時間光照射後の伸び残率を測定し
た。その結果を下記〔表６〕に示す。
【００６４】 〔配合〕 熱可塑性ポリウレタン樹脂（上記製造品） １００重量部 ジトリデシルペンタエリスリトールジホスファイト ０．２ ２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール ０．１ 試験化合物（〔表６〕参照） ０．３
【００６５】
【表６】
【００６６】上記〔表１〕〜〔表６〕の結果から明らか
なように、分子中にエーテル結合を持たないポリアミン
のシアヌレート誘導体を用いた場合、あるいは分子中に
エーテル基を持つジアミンのシアヌレート誘導体を用い
た場合には、高分子材料の耐光性を改善する効果が不充
分であるばかりでなく、特に、熱水抽出を行なった後あ
るいは高温加工を繰り返した後などの過酷な試験条件下
においては、その効果が著しく低下してしまい、実用上
満足できる結果を与えない。
なように、分子中にエーテル結合を持たないポリアミン
のシアヌレート誘導体を用いた場合、あるいは分子中に
エーテル基を持つジアミンのシアヌレート誘導体を用い
た場合には、高分子材料の耐光性を改善する効果が不充
分であるばかりでなく、特に、熱水抽出を行なった後あ
るいは高温加工を繰り返した後などの過酷な試験条件下
においては、その効果が著しく低下してしまい、実用上
満足できる結果を与えない。
【００６７】これに対し、高分子材料に、エーテル結合
を有する３〜６価のポリアミンから誘導される特定のシ
アヌレート化合物を添加した本発明の高分子材料組成物
は、高分子材料の耐光性の改善効果が著しく優れ、特
に、過酷な試験条件下においてもその効果がほとんど低
下しないことが明らかである。
を有する３〜６価のポリアミンから誘導される特定のシ
アヌレート化合物を添加した本発明の高分子材料組成物
は、高分子材料の耐光性の改善効果が著しく優れ、特
に、過酷な試験条件下においてもその効果がほとんど低
下しないことが明らかである。
【００６８】
【発明の効果】本発明の高分子材料組成物は、耐熱性、
耐抽出性および耐光性に優れたものである。
耐抽出性および耐光性に優れたものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−181803（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−99187（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−49273（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C08L 1/00 - 101/16 C08K 3/00 - 13/08
Claims (1)
- 【請求項１】 高分子材料１００重量部に、次の〔化
１〕の一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種
０．００１〜５重量部を添加してなる、安定化高分子材
料組成物。 【化１】
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18013192A JP3183953B2 (ja) | 1992-07-07 | 1992-07-07 | 安定化高分子材料組成物 |
| US08/154,000 US5455347A (en) | 1992-07-07 | 1993-11-18 | Piperidine compounds |
| EP93120316A EP0658556B1 (en) | 1992-07-07 | 1993-12-16 | Piperidine compound and stabilized polymeric material composition containing the same |
| TW82110766A TW253897B (ja) | 1992-07-07 | 1993-12-18 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18013192A JP3183953B2 (ja) | 1992-07-07 | 1992-07-07 | 安定化高分子材料組成物 |
| US08/154,000 US5455347A (en) | 1992-07-07 | 1993-11-18 | Piperidine compounds |
| EP93120316A EP0658556B1 (en) | 1992-07-07 | 1993-12-16 | Piperidine compound and stabilized polymeric material composition containing the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0625466A JPH0625466A (ja) | 1994-02-01 |
| JP3183953B2 true JP3183953B2 (ja) | 2001-07-09 |
Family
ID=27235257
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18013192A Expired - Lifetime JP3183953B2 (ja) | 1992-07-07 | 1992-07-07 | 安定化高分子材料組成物 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5455347A (ja) |
| EP (1) | EP0658556B1 (ja) |
| JP (1) | JP3183953B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1237126B (it) * | 1989-11-07 | 1993-05-18 | Ciba Geigy Spa | Stabilizzanti polimerici contenenti gruppi amminici impediti e gruppi idrossilamminici |
| TW509683B (en) * | 1997-05-27 | 2002-11-11 | Ciba Sc Holding Ag | Triazine derivatives containing 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl groups |
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