JP3061194B2 - Electronic article comprising a fluorinated poly (arylene ether) dielectric - Google Patents

Electronic article comprising a fluorinated poly (arylene ether) dielectric

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Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 本発明はフッ素化ポリ(アリーレンエーテル)誘電体
を含んでなる電子物品に関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to electronic articles comprising a fluorinated poly (arylene ether) dielectric.

高分子フィルムおよびコーティングはしばしば電子工
業において絶縁材料およびパッシベーション層として、
特にマルチチップモジュールなどの集積回路装置におい
て用いられる。低い誘電率εを有するポリマーは、これ
によって絶縁された要素は回路密度が高くなるようにデ
ザインでき、高速で、シグナルブロードニングがほとん
どなく操作できるので、好ましい。εの多層集積回路物
品に及ぼす影響は、「マイクロエレクトロニクス・パッ
ケージング・ハンドブック(Microelectronics Packagi
ng Handbook)」、チュマラ(Tummala)ら編、687〜692
頁、ファン・ノーストランド・ラインホルト(van Nost
rand Reinhold);ワタリ(Watari)ら、アメリカ合衆
国特許第4,744,007号(1988);およびブッデ(Budde)
ら、アメリカ合衆国特許第4,732,843号(1988)に記載
されている。
Polymer films and coatings are often used as insulating materials and passivation layers in the electronics industry.
Particularly, it is used in an integrated circuit device such as a multichip module. Polymers with a low dielectric constant ε are preferred because the insulated elements can be designed for high circuit density, operate at high speed, and with little signal broadening. The effect of ε on multilayer integrated circuit articles is described in the Microelectronics Packaging Handbook.
ng Handbook), edited by Tummala et al., 687-692
Page, van Nost Reinhold
rand Reinhold; Watari et al., U.S. Patent No. 4,744,007 (1988); and Budde.
No. 4,732,843 (1988).

ポリイミドはその優れた機械的および熱的性質、およ
び薄膜およびコーティングへの加工適性のために、多く
の電子的用途に用いられる絶縁体である。しかし、ポリ
イミドは比較的高いεを有し、これはポリイミドの湿潤
な環境中で水分を吸収しやすい傾向(最高3〜4%ま
で)により示される制限である。吸水によりεは上昇
し、性能が低下する。ある市販のポリイミドは相対湿度
0%(%RH)でεが約3.2であり、これは60%RHで約3.8
まで上昇する。デントン(Denton)ら、「ジェイ・エレ
クトリック・マテル(J.Electronic Mater.)」14
(2)、119(1985)に示されるように、ポリイミドの
吸湿は、絶縁体の導電率の増加、接着性の損失、または
腐食により性能に悪影響を与える。更に、ある種のポリ
イミドは加水分解および/または溶媒により攻撃されや
すい(溶媒にさらされて起こるひびわれまたは亀裂によ
り示される)。
Polyimide is an insulator used in many electronic applications because of its excellent mechanical and thermal properties, and its suitability for processing thin films and coatings. However, polyimide has a relatively high ε, which is a limitation exhibited by the polyimide's tendency to absorb moisture in humid environments (up to 3-4%). Ε rises due to water absorption, and the performance decreases. One commercially available polyimide has an ε of about 3.2 at 0% relative humidity (% RH), which is about 3.8 at 60% RH.
To rise. Denton et al., "J. Electronic Mater." 14
As shown in (2), 119 (1985), moisture absorption of polyimide adversely affects performance due to an increase in the conductivity of the insulator, loss of adhesion, or corrosion. In addition, some polyimides are susceptible to hydrolysis and / or solvent attack (indicated by cracks or cracks that occur upon exposure to the solvent).

マーサー(mercer)、アメリカ合衆国特許第4,835,19
7号(1989)においてアセチレン、マレイミド、または
ビニル末端を有する硬化剤で硬化させることにより、ポ
リイミドの耐溶媒性を改善することが提案されている。
しかし、そのように硬化されたポリイミドは、かなり高
い誘電率および吸湿する傾向を有する。
Mercer, United States Patent No. 4,835,19
No. 7 (1989) proposes to improve the solvent resistance of polyimide by curing with an acetylene, maleimide, or vinyl-terminated curing agent.
However, such cured polyimides have a significantly higher dielectric constant and a tendency to absorb moisture.

本発明者は誘導体材料としてビナフチル基を有するフ
ッ素化ポリマーを用いることを提案した。
The present inventors have proposed using a fluorinated polymer having a binaphthyl group as the derivative material.

ポリキノキサリン、ポリキノザロン、ポリベンゾオキ
サゾール、およびそれとのポリイミドとのコポリマー
も、ラバディー(Labadie)ら「サンペ・ジェイ(SAMPE
J.)」、25巻、18〜22頁(1989年、11月/12月)により
超小型電子用途のポリマーとして提案されている。
Polyquinoxaline, polyquinozalone, polybenzoxazole, and copolymers thereof with polyimides have also been described by Labadie et al., "SAMPE J.
J.) ", Vol. 25, pp. 18-22 (1989, November / December) as a polymer for microelectronics.

ケルマン(Kellman)ら、「エーシーエス・シンプ・
シリ(ACS Symp.Ser.)326、「フェーズ・トランスファ
ー・キャタリシス(Phase Transfer Catalysis)」、12
8頁(1987)には、ジフェノールおよびヘキサフルオロ
ベンゼンおよびデカフルオロビフェニルからのポリエー
テルの調製法が開示されているが、このようにして調製
されたポリマーに関しての実用性は開示されていない。
同様のことが、ケルマン(Kellman)ら、「ポリム・プ
レプ(Polym.Prepr.)、22(2)、383(1981)および
ゲルビ(Gerbi)ら、「ジェイ・ポリム・サイ・ポリム
・レターズ・エド(J.Polym.Sci.Polym.Letters E
d.)」、23,551(1985)に開示されている。
Kellman et al., "AS Simp
Siri (ACS Symp. Ser.) 326, "Phase Transfer Catalysis", 12
Page 8 (1987) discloses a method for preparing polyethers from diphenols and hexafluorobenzene and decafluorobiphenyl, but does not disclose the utility of the polymers thus prepared.
The same is true of Kellman et al., "Polym. Prepr., 22 (2), 383 (1981) and Gerbi et al.," J-Polym Poli Letters Ed. (J.Polym.Sci.Polym.Letters E
d.) ", 23,551 (1985).

本発明は、フッ素化ポリ(アリーレンエーテル)誘導
体材料を含んでなる電子物品を提供する。この誘導体材
料は低い誘電率を有し、誘電率は周囲湿度の増加により
ほとんど影響を受けず、耐溶媒性にすることができ、そ
れ自身および他の被着体に対して優れた付着性を示す。
The present invention provides an electronic article comprising a fluorinated poly (arylene ether) derivative material. This derivative material has a low dielectric constant, which is largely unaffected by increasing ambient humidity, can be made solvent resistant, and has good adhesion to itself and other adherends. Show.

発明の要旨 本発明は、式: [式中、−W−は、 [但し、各−Aは独立して、−F、−Cl、−Br、−C
F3、−CH3、−CH2CH=CH2または−C6H5;pは0、1また
は2;Zは直接結合、−C(CH3−、−C(CF3
−、−O−、−S−、−SO2−、−CO−、−P(C
6H5)−、−C(CH3)(C6H5)−、−C(C6H5−、
−(CF21〜6−、または (ここで、−Y−は−O−または直接結合である) およびmは0、1または2である]; 各−Xは独立して−H、−Cl、−Br、−CF3、−CH3、−
CH2CH=CH2または−C6H5;qは0、1または2;nは1また
は2である] で示される構造の繰り返し単位を有するフッ素化ポリ
(アリーレンエーテル)を含んでなる誘電体材料を含ん
でなる電子物品を提供する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a compound of the formula: [Wherein -W- is [However, each -A is independently -F, -Cl, -Br, -C
F 3, -CH 3, -CH 2 CH = CH 2 or -C 6 H 5; p is 0, 1 or 2; Z is a direct bond, -C (CH 3) 2 - , - C (CF 3)
2 -, - O -, - S -, - SO 2 -, - CO -, - P (C
6 H 5) -, - C (CH 3) (C 6 H 5) -, - C (C 6 H 5) 2 -,
- (CF 2) 1~6 -, or (Here, -Y- is -O- or a direct bond) and m is 0, 1 or 2]; each -X is independently -H, -Cl, -Br, -CF 3 , - CH 3 , −
CH 2 CH = CH 2 or -C 6 H 5; q is 0, 1 or 2; comprising fluorinated poly (arylene ether) having n repeating units of the structure represented by 1 or 2] dielectric An electronic article comprising a body material is provided.

好ましくは、−W−は、 であって、 (式中、−A、p、−Z−、m、−X、qおよびnは前
記定義のとおりである) の繰り返し単位を有するフッ素化ポリ(アリーレンエー
テル)に相当する。更に、−Z−基は好ましくはベンゼ
ン環の各エーテル性酸素に対してパラ位に結合する。
Preferably, -W- is And (Wherein -A, p, -Z-, m, -X, q and n are as defined above), corresponding to a fluorinated poly (arylene ether). Further, the -Z- group is preferably attached para to each etheric oxygen of the benzene ring.

一態様において、電子物品は基板、該基板上の複数の
半導体チップおよび該半導体チップを接続する多層相互
接続を有してなるマルチチップモジュールであり、該多
層相互起接続は、複数の導電性材料層および前記フッ素
化ポリ(アリーレンエーテル)からできている複数の誘
電体材料層を有してなる。
In one aspect, an electronic article is a multi-chip module comprising a substrate, a plurality of semiconductor chips on the substrate and a multilayer interconnect connecting the semiconductor chips, wherein the multilayer interconnect comprises a plurality of conductive materials. And a plurality of dielectric material layers made of said fluorinated poly (arylene ether).

別の態様において、電子物品は、複数の導電性材料層
および前記フッ素化ポリ(アリーレンエーテル)からで
きている複数の誘電体材料層を有してなる多層相互接続
をその上に有する集積回路チップである。
In another aspect, an electronic article has an integrated circuit chip having thereon a multilayer interconnect comprising a plurality of conductive material layers and a plurality of dielectric material layers made of the fluorinated poly (arylene ether). It is.

更に別の態様において、電子物品は、前記フッ素化ポ
リ(アリーレンエーテル)を含んでなる保護層をその上
に有する集積回路チップである。更にもう一つの態様に
おいて、電子物品は基板がフッ素化ポリ(アリーレンエ
ーテル)である回路板である。
In yet another aspect, the electronic article is an integrated circuit chip having thereon a protective layer comprising the fluorinated poly (arylene ether). In yet another embodiment, the electronic article is a circuit board wherein the substrate is a fluorinated poly (arylene ether).

図面の簡単な説明 第1a図は、中間層誘電体が本発明のフッ素化ポリ(ア
リーレンエーテル)である多層相互接続を有するマルチ
チップモジュールを示す。第1b図は、多層相互接続の断
面図を示す。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1a shows a multi-chip module having a multilayer interconnect where the interlayer dielectric is a fluorinated poly (arylene ether) of the present invention. FIG. 1b shows a cross-sectional view of the multilayer interconnect.

第2図は、中間層誘電体が本発明のフッ素化ポリ(ア
リーレンエーテル)である多層相互接続を有する集積回
路チップの断面図を示す。
FIG. 2 shows a cross-sectional view of an integrated circuit chip having a multilayer interconnect where the interlayer dielectric is the fluorinated poly (arylene ether) of the present invention.

第3図は、本発明のフッ素化ポリ(アリーレンエーテ
ル)のコーティングで保護された集積回路チップの断面
図を示す。
FIG. 3 shows a cross-sectional view of an integrated circuit chip protected with a fluorinated poly (arylene ether) coating of the present invention.

第3a図は、基板がフッ素化ポリ(アリーレンエーテ
ル)からできている回路板の断面図を示す。
FIG. 3a shows a cross-sectional view of a circuit board whose substrate is made of fluorinated poly (arylene ether).

第4図は、本発明のポリマーの誘電率と、本発明によ
らない対照ポリマーの誘電率とを比較するものである。
FIG. 4 compares the dielectric constant of the polymer of the present invention with that of a control polymer not according to the present invention.

第5図は、中間層誘電体として、本発明の架橋フッ素
化ポリ(アリーレンエーテル)を有する複数の多層装置
を有する基板を示す。
FIG. 5 shows a substrate having a plurality of multilayer devices having the crosslinked fluorinated poly (arylene ether) of the present invention as an interlayer dielectric.

好ましい態様の説明 本発明のフッ素化ポリ(アリーレンエーテル)はジフ
ェノール(I)とフッ素化モノマー(II)との縮合重合
により調製できる: 前式中、−W−、−X、qおよびnは前記定義と同じ
意味を有する。適したジフェノール(I)としては、4,
4′−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフェノー
ル、4,4′−(イソプロピリデン)−ジ(2,6−ジメチル
フェノール)、4,4′−(1−フェニルエチリデン)ビ
スフェノール、4,4′−イソプロピリデンジフェノー
ル、9,9′−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレ
ン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシ
ナフタレン、レゾルシノールおよび4,6−ジクロロレゾ
ルシノールが挙げられ、−W−が、 であるフッ素化ポリ(アリーレンエーテル)繰り返し単
位に相当する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The fluorinated poly (arylene ether) of the present invention can be prepared by condensation polymerization of diphenol (I) and fluorinated monomer (II): In the above formula, -W-, -X, q and n have the same meaning as defined above. Suitable diphenols (I) include
4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphenol, 4,4'-(isopropylidene) -di (2,6-dimethylphenol), 4,4 '-(1-phenylethylidene) bisphenol, 4,4'- Isopropylidene diphenol, 9,9′-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, resorcinol and 4,6-dichlororesorcinol; Corresponds to a fluorinated poly (arylene ether) repeating unit.

好ましいジフェノール(I)としては、4,4′−(ヘ
キサフルオロイソプロピリデン)ジフェノール、9,9′
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、および
1,5−ジヒドロキシナフタレンが挙げられる。
Preferred diphenols (I) include 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphenol and 9,9'
-Bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, and
1,5-dihydroxynaphthalene is mentioned.

適したフッ素化モノマー(II)としては、ヘキサフル
オロベンゼン、デカフルオロビフェニル、ペンタフルオ
ロベンゼン、オクタフルオロトルエン、1,4−ジブロモ
テトラフルオロベンゼン、クロロペンタフルオロベンゼ
ン、アリルペンタフルオロベンゼン、および2,2′,3,
3′,5,5′,6,6′−オクタフルオロビフェニルが挙げら
れ、 であるフッ素化ポリ(アリーレンエーテル)繰り返し単
位に相当する。好ましいフッ素化モノマーとしては、ヘ
キサフルオロベンゼンおよびデカフルオロビフェニルが
挙げられる。
Suitable fluorinated monomers (II) include hexafluorobenzene, decafluorobiphenyl, pentafluorobenzene, octafluorotoluene, 1,4-dibromotetrafluorobenzene, chloropentafluorobenzene, allylpentafluorobenzene, and 2,2 ′, 3,
3 ', 5,5', 6,6'-octafluorobiphenyl, Corresponds to a fluorinated poly (arylene ether) repeating unit. Preferred fluorinated monomers include hexafluorobenzene and decafluorobiphenyl.

当技術での通例に反して、モノマー(II)中の芳香環
の完全なフッ素置換は充分な重合に必要ではなく、ペン
タフルオロベンゼン、オクタフルオロトルエン、1,4−
ジブロモテトラフルオロベンゼンおよびクロロペンタフ
ルオロベンゼンのようなモノマーが適していることが見
いだされた。
Contrary to the customary in the art, complete fluorination of the aromatic ring in the monomer (II) is not necessary for a sufficient polymerization, but rather requires pentafluorobenzene, octafluorotoluene, 1,4-
Monomers such as dibromotetrafluorobenzene and chloropentafluorobenzene have been found to be suitable.

高分子量ポリマーが望ましい場合には実質的に理論量
で2種のモノマーを用いる。あるいは、低分子量物質が
望ましい場合には、例えばスピンまたは他の溶媒コーテ
ィング操作のための溶液の調製を容易にするために、若
干理論量より過剰のいずれかのモノマーを用いて分子量
を調整することができる。
If a high molecular weight polymer is desired, two monomers are used in substantially stoichiometric amounts. Alternatively, if a low molecular weight material is desired, adjust the molecular weight with a slight excess of stoichiometric excess of either monomer, for example, to facilitate preparation of the solution for spin or other solvent coating operations. Can be.

アルカリ金属の炭酸塩、炭酸水素塩、または水酸化物
を重合混合物に添加してフェノキシ基を対応フェノキシ
ドに転換する。炭酸ナトリウムまたはカリウムが好まし
い。N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルム
アミド、または1−メチル−2−ピロリジノン等の極性
非プロトン性溶媒を用いる。このような溶媒の使用は、
より有害で水に溶解しないため重合混合物を水ではなく
有機溶媒中での仕上げ処理する必要があるニトロベンゼ
ンなどの他の溶媒に比べて有利である。反応は、高温下
で行うが、この温度は、高すぎてはならない。約50℃〜
約125℃の温度が通常適しており、約60〜約90℃の温度
が特に好ましい。反応時間は典型的には約10〜約72時間
である。
An alkali metal carbonate, bicarbonate, or hydroxide is added to the polymerization mixture to convert the phenoxy group to the corresponding phenoxide. Sodium or potassium carbonate is preferred. A polar aprotic solvent such as N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, or 1-methyl-2-pyrrolidinone is used. The use of such solvents,
This is an advantage over other solvents such as nitrobenzene, which are more harmful and do not dissolve in water and require that the polymerization mixture be worked up in an organic solvent rather than water. The reaction is carried out at an elevated temperature, which must not be too high. About 50 ° C ~
Temperatures of about 125 ° C are usually suitable, with temperatures of about 60 to about 90 ° C being particularly preferred. Reaction times are typically from about 10 to about 72 hours.

以下に示す繰り返し単位が好ましい: ポリマーは、前記のうちの1種のような単一の繰り返し
単位から本質的になるホモポリマーであってよい。ある
いは、本発明の繰り返し単位と、本発明の他の繰り返し
単位または異なる種類の繰り返し単位との組み合わせか
らなるコポリマーであってもよい。フッ素化ポリ(アリ
ーレンエーテル)コポリマーは、例えばコモノマーとし
て2種の異なるジフェノール(I)、またはコモノマー
として2種の異なるフッ素化モノマー(II)を用いて製
造することができる。好ましいコポリマーは繰り返し単
位(A)および(N)を有する: 他の好ましいコポリマーは繰り返し単位(A)および
(D)を有する。更に別の好ましいコポリマーは繰り返
し単位(A)および(O)を有する: 更に他の好ましいコポリマーは繰り返し単位(A)およ
び繰り返し単位(P)または(Q)のいずれかあるいは
繰り返し単位(D)および(Q)を有する: 本発明の繰り返し単位が他の種類のポリマーの繰り返し
単位と結合しているコポリマーにおいて、最低60モル
%、より好ましくは最低80モル%の繰り返し単位が本発
明のフッ素化芳香族エーテル繰り返し単位であるのが好
ましい。コポリマーは交互、ランダム、またはブロック
コポリマーであってよい。
The following repeating units are preferred: The polymer may be a homopolymer consisting essentially of a single repeating unit, such as one of the foregoing. Alternatively, a copolymer composed of a combination of the repeating unit of the present invention and another repeating unit of the present invention or a different type of repeating unit may be used. Fluorinated poly (arylene ether) copolymers can be prepared, for example, using two different diphenols (I) as comonomers or two different fluorinated monomers (II) as comonomers. Preferred copolymers have repeating units (A) and (N): Other preferred copolymers have repeating units (A) and (D). Yet another preferred copolymer has repeating units (A) and (O): Still other preferred copolymers have repeating units (A) and either repeating units (P) or (Q) or repeating units (D) and (Q): In copolymers wherein repeat units of the present invention are combined with repeat units of other types of polymers, at least 60 mole%, more preferably at least 80 mole% of the repeat units are fluorinated aromatic ether repeat units of the present invention. Is preferred. The copolymer may be an alternating, random, or block copolymer.

第1a図は、本発明のマルチチップモジュール1を示
す。基板2は、典型的にはシリコン、硝子またはセラミ
ックからできており、種々の層間に絶縁を与える誘電体
材料がフッ素化ポリ(アリーレンエーテル)である高密
度多層相互接続3を支持する。相互接続3上には半導体
チップ4a〜dが配置され、該チップは相互接続3中の導
体により互いに接続されている。基板1も例えば電力お
よび接地用導体を含んでもよい。リードフレーム5(簡
単のために番号は1つだけにつけてある)は外部の回路
との接続を与える。
FIG. 1a shows a multichip module 1 according to the invention. Substrate 2 is typically made of silicon, glass or ceramic and supports a high density multilayer interconnect 3 in which the dielectric material providing insulation between the various layers is fluorinated poly (arylene ether). On the interconnect 3 are arranged semiconductor chips 4a to 4d, which are connected to one another by conductors in the interconnect 3. Substrate 1 may also include, for example, power and ground conductors. The lead frame 5 (numbered only one for simplicity) provides connection to external circuitry.

第1b図は、基板2上に支持されている多層相互接続3
の部分的な断面図を示す。電気接続層10a〜cはフッ素
化ポリ(アリーレンエーテル)誘電体12により互いに分
離されている。バイア(via)11は必要に応じて種々の
層間の接続を与える。相互接続3はボンドパッド13によ
り集積回路チップ(図示せず)に接続されている。バイ
ア11はこの図においてはスタックトピラー型で示してあ
るが、階段状またはネスト状型などの当業界で通常の他
の型も用いてよい。本発明のフッ素化ポリ(アリーレン
エーテル)が中間層誘電体として用いられる他のデザイ
ンのマルチチップモジュールはブレイド(Blade),
「オーバービュー・オブ・マルチチップ・テクノロジー
(Overview of Multichip Technology)」,エレクトロ
ニック・マテリアルズ・ハンドブック(Electronic Mat
erials Handbook),vol.1,パッケージング・エーエスエ
ム・インターナショナル(Packaging ASM Internationa
l),297−312頁(1989)に開示されている。
FIG. 1b shows a multilayer interconnect 3 supported on a substrate 2.
2 shows a partial sectional view of FIG. The electrical connection layers 10a-c are separated from one another by a fluorinated poly (arylene ether) dielectric 12. Vias 11 provide connections between the various layers as needed. Interconnect 3 is connected to an integrated circuit chip (not shown) by bond pads 13. The vias 11 are shown in this figure as stacked pillars, but other types common in the art, such as stepped or nested, may be used. Other designs of multi-chip modules in which the fluorinated poly (arylene ether) of the present invention is used as an interlayer dielectric include Blade,
"Overview of Multichip Technology", Electronic Materials Handbook (Electronic Mat)
erials Handbook), vol.1, Packaging ASM International
l), pages 297-312 (1989).

フッ素化ポリ(アリーレンエーテル)は単一の集積回
路チップと組み合わせた相互接続中、中間層誘電体とし
て用いることもできる。第2図は、この態様の断面図で
ある。集積回路チップ15はその表面に複数のフッ素化ポ
リ(アリーレンエーテル)誘電体層16および複数の金属
導体層17を有する。
Fluorinated poly (arylene ether) can also be used as an interlayer dielectric during interconnection in combination with a single integrated circuit chip. FIG. 2 is a sectional view of this embodiment. The integrated circuit chip 15 has a plurality of fluorinated poly (arylene ether) dielectric layers 16 and a plurality of metal conductor layers 17 on its surface.

本発明のフッ素化ポリ(アリーレンエーテル)は更に
アルファー粒子からの保護のためび集積回路チップ上の
保護層としても用いることができる。半導体装置はパッ
ケージング中の微量の放射性異物からアルファー粒子が
放出された場合、または他の付近の物質が活性表面を刺
激した場合にソフトエラーを起こしやすい。第3図はフ
ッ素化ポリ(アリーレンエーテル)の保護層を有する集
積回路の概略図である。集積回路チップ25が基板26上に
配置され、接着剤27によりその位置に固定されている。
フッ素化ポリ(アリーレンエーテル)のコーティング28
はチップ25の活性表面のアルファー粒子保護層となる。
必要ならば、例えばエポキシまたはシリコーンでできた
エンキャプストラント29によりさらに保護してもよい。
導体30は基板26上のチップ25と導体(図示せず)の間な
らびに外部回路と接続する。
The fluorinated poly (arylene ether) of the present invention can further be used for protection from alpha particles and as a protective layer on integrated circuit chips. Semiconductor devices are prone to soft errors when alpha particles are released from a small amount of radioactive foreign material in packaging, or when other nearby materials stimulate the active surface. FIG. 3 is a schematic diagram of an integrated circuit having a protective layer of fluorinated poly (arylene ether). An integrated circuit chip 25 is disposed on a substrate 26 and is fixed at that position by an adhesive 27.
Fluorinated poly (arylene ether) coating 28
Becomes the alpha particle protective layer on the active surface of chip 25.
If necessary, it may be further protected by an encapsulant 29, for example made of epoxy or silicone.
The conductor 30 is connected between the chip 25 on the substrate 26 and a conductor (not shown) and to an external circuit.

フッ素化ポリ(アリーレンエーテル)は、回路板(プ
リント相互接続板またはPWBとも言う)中の基板(誘電
体材料)として用いることもできる。第3a図はその表面
に導体37のパターンを有する基板36からできた回路板35
の断面図を示す。基板36は本発明のフッ素化ポリ(アリ
ーレンエーテル)からできている。基板36は硝子布等の
非導電性繊維織物で強化されてもよい。第3a図におい
て、回路板は片面だけを表示しているが、当業者には理
解できるように、フッ素化ポリ(アリーレンエーテル)
基板において両面型または多層等の他の構造にしてもよ
い。
Fluorinated poly (arylene ether) can also be used as a substrate (dielectric material) in circuit boards (also called printed interconnect boards or PWBs). FIG. 3a shows a circuit board 35 made of a substrate 36 having a pattern of conductors 37 on its surface.
FIG. Substrate 36 is made of the fluorinated poly (arylene ether) of the present invention. Substrate 36 may be reinforced with a non-conductive fiber fabric such as glass cloth. In FIG. 3a, the circuit board is shown on only one side, but as will be understood by those skilled in the art, fluorinated poly (arylene ether)
The substrate may have another structure such as a double-sided or multilayer structure.

フッ素化ポリ(アリーレンエーテル)のフィルムまた
はコーティングは、スプレー法、スピンコーティング
法、またはキャスティング法などの溶液法により形成す
ることができるが、スピンコーティング法が好ましい。
好ましい溶媒は、2−エトキシエチルエーテル、シクロ
ヘキサノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチ
ルアセトアミド、メチルイソブチルケトン、2−メトキ
シエチルエーテル、5−メチル−2−ヘキサノン、γ−
ブチロラクトン、およびそれらの混合物である。典型的
には、コーティングの厚さは、約3〜約15μである。
The fluorinated poly (arylene ether) film or coating can be formed by a solution method such as a spray method, a spin coating method, or a casting method, but the spin coating method is preferable.
Preferred solvents are 2-ethoxyethyl ether, cyclohexanone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, methyl isobutyl ketone, 2-methoxyethyl ether, 5-methyl-2-hexanone, γ-
Butyrolactone, and mixtures thereof. Typically, the thickness of the coating is from about 3 to about 15μ.

ポリマー技術で公知のごとく、安定剤、難燃剤、顔
料、可塑剤、界面活性剤などのような添加物を用いて特
定の目的とする特性を向上したり付与したりすることが
できる。相溶性または非相溶ポリマーを混合して所望の
性質を得ることができる。
As is known in the polymer arts, additives such as stabilizers, flame retardants, pigments, plasticizers, surfactants and the like can be used to enhance or impart specific desired properties. Compatible or incompatible polymers can be mixed to achieve the desired properties.

電子的用途に用いられるポリマーは望ましくは低レベ
ル(一般に20ppm未満)のイオン性不純物を含有する。
ポリマーが遷移金属試薬または触媒を必要とする合成経
路で製造される場合、充分な遷移金属残留物の除去は困
難である。本ポリマーの利点は、遷移金属種を要しない
経路で製造でき、炭酸カリウム(またはナトリウム)試
薬およびフッ素化カリウム(またはナトリウム)副生物
が容易に除去できることである。
Polymers used in electronic applications desirably contain low levels (typically less than 20 ppm) of ionic impurities.
If the polymer is prepared by a synthetic route that requires a transition metal reagent or catalyst, it is difficult to remove sufficient transition metal residues. An advantage of the present polymers is that they can be prepared in a route that does not require transition metal species, and potassium (or sodium) carbonate reagents and potassium (or sodium) fluoride by-products can be easily removed.

フッ素化ポリ(アリーレンエーテル)は良好な高温安
定性を示す。例えば、ポリマー(A)はTGAにより500℃
の空気中で初期重量損失を示す。しかし、大量のゲル化
物質の形成によって示されるように、空気中で300℃よ
り高い温度で加熱した場合は、予想外に架橋する。好ま
しくは、架橋温度は約300〜約425℃である。酸素の存在
は架橋反応を行うのに必要で、窒素中での同様の加熱サ
イクルによりゲルは形成されない。フッ素化ポリ(アリ
ーレンエーテル)は溶液から容易に適用でき、次いで空
気中で加熱することにより耐溶媒コーティングに転換さ
れるので、この特性により、フッ素化ポリ(アリーレン
エーテル)は、本明細書中に記載する電子用途において
特に有用である。
Fluorinated poly (arylene ether) exhibits good high temperature stability. For example, polymer (A) is 500 ℃ by TGA
Indicate initial weight loss in air. However, when heated above 300 ° C. in air, as indicated by the formation of large amounts of gelling material, it crosslinks unexpectedly. Preferably, the crosslinking temperature is from about 300 to about 425C. The presence of oxygen is necessary to carry out the crosslinking reaction, and a similar heating cycle in nitrogen will not form a gel. Due to this property, the fluorinated poly (arylene ether) can be readily applied from solution and then converted to a solvent resistant coating by heating in air, so that the fluorinated poly (arylene ether) It is particularly useful in the electronic applications described.

フッ素化ポリ(アリーレンエーテル)は式: [式中、−R1、−R2、−R3および−R4は、独立して−
H、−C6H5、−C6H4Y′、またはC1〜C4のアルキル;−R
5−は、−O−、−SO2−、 −Bは−F、−Cl、−Br、−CH3、または−CF3;rは0、
1、2、3、または4;−Y′はハロゲン、−NO2、−C6H
5、またはC1〜C4のアルキルである] で示されるビストリアゼン化合物により架橋することも
できる。
The fluorinated poly (arylene ether) has the formula: [Wherein -R 1 , -R 2 , -R 3 and -R 4 are independently-
H, alkyl of -C 6 H 5, -C 6 H 4 Y ', or C 1 ~C 4; -R
5 -is -O-, -SO 2- , -B is -F, -Cl, -Br, -CH 3 or -CF 3,; r is 0,
1, 2, 3 or 4,; -Y 'is halogen, -NO 2, -C 6 H
5 or C 1 -C 4 alkyl].

好ましくは、−R1、−R2、−R3および−R4の各々は、
メチルであり、rは0である。好ましくは、−R5−は、 である。また、ビストリアゼン基は−R5−基に対してパ
ラ位にあるのが好ましい。
Preferably, -R 1, -R 2, each of -R 3 and -R 4 are,
Methyl and r is 0. Preferably, -R 5 - is, It is. Further, Bisutoriazen group -R 5 - preferably in the para position relative to the base.

特に好ましいビストリアゼン架橋剤は、 である。Particularly preferred bistriazene crosslinkers are It is.

ビストリアゼン架橋剤は、式: [式中、−R5−、−Bおよびrは前記定義のとおり] で示されるジアミンの(テトラヒドロフランまたはメタ
ノールなどの溶媒中)溶液を塩酸(徐々に添加、攪拌
下)で処理することにより調製できる。次に亜硝酸ナト
リウム溶液を冷却しながら徐々に添加する。約1時間の
反応後、減圧下溶媒を除去する。残渣をpH6〜7に中和
し、ジメチルアミンなどのジアミンのジヒドロクロリド
で処理する。
The bistriazene crosslinker has the formula: [Wherein -R 5- , -B and r are as defined above], prepared by treating a diamine solution (in a solvent such as tetrahydrofuran or methanol) with hydrochloric acid (slowly added, with stirring). it can. Next, the sodium nitrite solution is gradually added while cooling. After about 1 hour of reaction, the solvent is removed under reduced pressure. The residue is neutralized to pH 6-7 and treated with dihydrochloride of a diamine such as dimethylamine.

ビストリアゼン架橋剤をフッ素化ポリマーを架橋する
のに充分な量、ポリマーおよびビストリアゼン化合物の
合計重量に基づき好ましくは約10〜約40重量%、より好
ましくは約15〜約30重量%で用いる。フッ素化ポリ(ア
リーレンエーテル)およびビストリアゼン化合物を、好
ましくは溶液混合により均質に混合する。混合物のフィ
ルムを、例えばスピンコーティングにより形成し、溶媒
を除去する。架橋は、ビストリアゼン化合物の分解温度
より高い温度、典型的には300〜400℃に加熱し、適宜典
型的には合計時間が約15〜90分間で段階的加熱を行うこ
により行う。
The bistriazene crosslinker is used in an amount sufficient to crosslink the fluorinated polymer, preferably about 10 to about 40% by weight, more preferably about 15 to about 30% by weight, based on the total weight of the polymer and the bistriazene compound. The fluorinated poly (arylene ether) and bistriazene compound are mixed homogeneously, preferably by solution mixing. A film of the mixture is formed, for example, by spin coating, and the solvent is removed. Crosslinking is performed by heating to a temperature above the decomposition temperature of the bistriazene compound, typically 300-400 ° C., and optionally stepwise heating, typically for a total time of about 15-90 minutes.

限界温度以上に加熱した場合、トリアゼン基は分解し
てフェニルラジカルを形成すると考えられる。これらを
次にフッ素化ポリ(アリーレンエーテル)中の芳香族基
に挿入して、次式に示すようにアリール−アリール架橋
を形成する: 簡便のために、式中、トリアゼン基は分解して同時にジ
ラジカルが得られるように図示した。分解は完全に同時
でない場合もあり得、モノラジカルも形成されるが、こ
れは、同様に反応するが逐次的である。注目すべき点
は、架橋がアリール−アリール結合を介していることで
ある。脂肪族のものと比較して、これらは熱酸化または
他の化学的攻撃を受けにくく、従ってより安定である。
When heated above the critical temperature, the triazene group is considered to decompose to form a phenyl radical. These are then inserted into aromatic groups in the fluorinated poly (arylene ether) to form an aryl-aryl bridge as shown in the following formula: For the sake of simplicity, in the formula, the triazene group is shown to be decomposed to obtain a diradical at the same time. The decomposition may not be completely simultaneous and monoradicals are also formed, which react similarly but are sequential. Of note is that the bridge is through an aryl-aryl bond. Compared to aliphatic ones, they are less susceptible to thermal oxidation or other chemical attack and are therefore more stable.

フッ素化ポリ(アリーレンエーテル)を架橋する別の
方法は、過酸化ジクミル、クメンヒドロペルオキシド、
またはベンゾイルペルオキシドなどの過酸化化合物を用
いることである。ポリマーおよび過酸化化合物の均質混
合物を窒素雰囲気下で約350℃〜約425℃、好ましくは約
400℃の温度に加熱する。典型的には、過酸化化合物
は、ポリマーおよび過酸化化合物の合計重量に基づいて
約5〜約20重量%の量で用い、約10重量%が好ましい。
ある種のフッ素化ポリ(アリーレンエーテル)において
は、過酸化物架橋はその反応性側鎖、例えばポリマー
(J)中のアリル基により促進されるが、このような官
能基の存在は、有効な過酸化物架橋に不可欠ではない。
Another method of crosslinking fluorinated poly (arylene ether) is dicumyl peroxide, cumene hydroperoxide,
Alternatively, a peroxide compound such as benzoyl peroxide is used. The homogenous mixture of the polymer and the peroxide compound is treated at about 350 ° C. to about 425 ° C., preferably about
Heat to a temperature of 400 ° C. Typically, the peroxide compound is used in an amount of about 5 to about 20% by weight based on the total weight of the polymer and the peroxide compound, with about 10% being preferred.
In some fluorinated poly (arylene ethers), peroxide crosslinking is promoted by its reactive side chain, for example, an allyl group in polymer (J), but the presence of such a functional group is effective. Not essential for peroxide crosslinking.

フッ素化ポリ(アリーレンエーテル)は、複合材用途
での接着剤およびマトリックス樹脂としても有用であ
る。更に、種々の用途、例えば巻き付け絶縁を有するワ
イヤーなどの特に架橋後の耐溶媒性架橋フィルムとして
も有用である。
Fluorinated poly (arylene ethers) are also useful as adhesives and matrix resins in composite applications. Further, it is also useful as a solvent-resistant crosslinked film for various applications, for example, a crosslinked wire such as a wire having winding insulation.

本発明の実施を更に以下に実施例を挙げて説明する
が、この実施例は例示のためであって、これに制限され
るものではない。
The practice of the present invention will be further described by way of the following examples, which are intended to be illustrative and not limiting.

実施例1 この実施例では、繰り返し単位(A)を有するポリマ
ーの調製について記載する:500mlの丸底フラスコに、1
5.01g(0.0447モル)の4.4′−(ヘキサフルオロイソプ
ロピリデン)ジフェノール(6F−ジフェノール)、15.2
9g(0.0458モル)のデカフルオロビフェニル、240gのジ
メチルアセトアミド(DMAc)および16.85g(0.125モ
ル)の炭酸カリウムを添加した。混合物を攪拌しながら
窒素雰囲気下に約80℃で23時間加熱した。混合物を熱時
濾過し、未反応炭酸カリウムおよびフッ素化カリウム副
生物を除去した。約75mlのDMAcをロータリーエバポレー
ションにより除去した。溶液を室温に冷却し、水中に注
ぎ、ポリマーを沈殿させた。ポリマーを濾過し、水で3
回洗浄し、200mlのエタノールに2時間懸濁し、濾過
し、100℃にて2時間乾燥して白色粉末を得た。ポリマ
ー(2g)の2−エトキシエチルエーテルおよびシクロヘ
キサノン混合物(50/50、8g)中溶液をセラミック基板
上でスピンコートし、100℃にて15分間、180℃にて20分
間、400℃にて45分間乾燥した。得られたポリマーフィ
ルムは強靭で、柔軟性があり、2−エトキシエチルエー
テルに溶解せず、DSCによるTgは189℃であった(TMAで
は192℃)。
Example 1 This example describes the preparation of a polymer having repeating units (A): In a 500 ml round bottom flask, 1
5.01 g (0.0447 mol) of 4.4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphenol (6F-diphenol), 15.2 g
9 g (0.0458 mol) of decafluorobiphenyl, 240 g of dimethylacetamide (DMAc) and 16.85 g (0.125 mol) of potassium carbonate were added. The mixture was heated with stirring at about 80 ° C. for 23 hours under a nitrogen atmosphere. The mixture was filtered hot to remove unreacted potassium carbonate and potassium fluoride by-products. About 75 ml of DMAc was removed by rotary evaporation. The solution was cooled to room temperature and poured into water to precipitate the polymer. Filter the polymer and add 3 with water
Washed twice, suspended in 200 ml of ethanol for 2 hours, filtered and dried at 100 ° C. for 2 hours to obtain a white powder. A solution of the polymer (2 g) in a mixture of 2-ethoxyethyl ether and cyclohexanone (50/50, 8 g) was spin-coated on a ceramic substrate, and the mixture was spin-coated at 100 ° C. for 15 minutes, 180 ° C. for 20 minutes, and 400 ° C. for 45 minutes. Dried for minutes. The resulting polymer film was tough, flexible, did not dissolve in 2-ethoxyethyl ether, and had a Tg by DSC of 189 ° C (192 ° C for TMA).

実施例2 この実施例では、繰り返し単位(B)を有するポリマ
ーの調製について記載する:100mlの丸底フラスコに、2.
20g(0.0118モル)のヘキサフルオロベンゼン、3.90g
(0.0116モル)の6F−ジフェノール、4.0g(0.030モ
ル)の炭酸カリウム、および50gのDMAcを添加した。混
合物を攪拌しながら窒素雰囲気下に約70℃で48時間加熱
した。混合物を次に実施例1に記載したのと同様にして
仕上げ処理して白色粉末を得た。得られたポリマーフィ
ルムは強靭で、柔軟性があり、2−エトキシエチルエー
テルに溶解せず、DSCによるTgは約185℃であった。
Example 2 This example describes the preparation of a polymer having repeating units (B): In a 100 ml round bottom flask, 2.
20 g (0.0118 mol) of hexafluorobenzene, 3.90 g
(0.0116 mol) of 6F-diphenol, 4.0 g (0.030 mol) of potassium carbonate, and 50 g of DMAc were added. The mixture was heated with stirring at about 70 ° C. under a nitrogen atmosphere for 48 hours. The mixture was then worked up as described in Example 1 to give a white powder. The resulting polymer film was tough, flexible, did not dissolve in 2-ethoxyethyl ether, and had a Tg by DSC of about 185 ° C.

実施例3 この実施例では、繰り返し単位(C)を有するポリマ
ーの調製について記載する:6F−ジフェノールのかわり
に12.7gの4,4−イソプロピリデンビス(2,6−ジメチル
フェノール)(「テトラメチルビスフェノールA」)を
用い、反応物を80℃で72時間加熱する以外は実施例1の
反応と同様にした。22.3gのポリマーを得た。得られた
ポリマーフィルムの50℃の水に16時間浸漬した後の吸湿
率は0.15%であった。
Example 3 This example describes the preparation of a polymer having repeating units (C): 12.7 g of 4,4-isopropylidenebis (2,6-dimethylphenol) ("tetra Methyl bisphenol A ") and the reaction was carried out as in Example 1 except that the reaction was heated at 80 ° C. for 72 hours. 22.3 g of polymer were obtained. The moisture absorption of the obtained polymer film after immersion in water at 50 ° C. for 16 hours was 0.15%.

実施例4 この実施例では、繰り返し単位(A)および(N)を
有するコポリマーの調製について記載する:6F−ジフェ
ノールのかわりに7.51gの6F−ジフェノールおよび2.458
gのレゾルシノールの混合物を用いる以外は実施例1の
反応と同様にした。19.8gのポリマーを得た。得られた
ポリマーフィルムの50℃の水に16時間浸漬した後の吸湿
率は0.10%であった。
Example 4 This example describes the preparation of a copolymer having repeating units (A) and (N): 7.51 g of 6F-diphenol and 2.458 instead of 6F-diphenol
The reaction was the same as in Example 1 except that a mixture of g of resorcinol was used. 19.8 g of polymer were obtained. The moisture absorption of the obtained polymer film after immersion in water at 50 ° C. for 16 hours was 0.10%.

実施例5 この実施例では、繰り返し単位(D)を有するポリマ
ーの調製について記載する:250mlの丸底フラスコに、1
0.15g(0.029モル)の9,9−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)フルオレン、9.97g(0.0298モル)のデカフルオ
ロビフェニル、115gのDMAcおよび10.0g(0.074モル)の
炭酸カリウムを添加した。混合物を攪拌しながら窒素雰
囲気下に75℃で16時間加熱した。混合物を室温に冷却
し、激しく攪拌している水中に注ぎ、ポリマーを沈殿さ
せ、濾過し、水で2回洗浄し、濾過し、乾燥した。白色
の綿毛状粉末を得た。白色ポリマー粉末(2g)をシクロ
ヘキサノンおよび2−エトキシエチルエーテル混合物
(50/50、8g)中に溶解した。約1.5mlのポリマー溶液を
ガラス基板上にスピンコートし、100℃にて10分間、200
℃にて15分間、および400℃にて30分間乾燥した。得ら
れたポリマーフィルムを水中に浸漬することによりガラ
ス基板からはがして、強靭で、柔軟な透明のフィルムを
得た。このフィルムは0%RHで誘電率2.62、58%RHで誘
電率2.68を有した。ポリマーのDSCによるTgは約258℃で
あった。
Example 5 This example describes the preparation of a polymer having repeating units (D): In a 250 ml round bottom flask, 1
0.15 g (0.029 mol) of 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 9.97 g (0.0298 mol) of decafluorobiphenyl, 115 g of DMAc and 10.0 g (0.074 mol) of potassium carbonate were added. The mixture was heated with stirring at 75 ° C. under a nitrogen atmosphere for 16 hours. The mixture was cooled to room temperature and poured into vigorously stirred water to precipitate the polymer, filtered, washed twice with water, filtered and dried. A white fluffy powder was obtained. The white polymer powder (2 g) was dissolved in a mixture of cyclohexanone and 2-ethoxyethyl ether (50/50, 8 g). Approximately 1.5 ml of the polymer solution was spin-coated on a glass substrate,
Dry for 15 minutes at 400C and 30 minutes at 400C. The obtained polymer film was peeled off from the glass substrate by immersing it in water to obtain a tough, flexible and transparent film. The film had a dielectric constant of 2.62 at 0% RH and a dielectric constant of 2.68 at 58% RH. The Tg of the polymer by DSC was about 258 ° C.

実施例6 この実施例では、繰り返し単位(E)を有するポリマ
ーの調製について記載する:デカフルオロビフェニルの
かわりに5.54g(0.0298モル)のヘキサフルオロベンゼ
ンを用い、反応を42時間行う以外は実施例5の操作を繰
り返した。得られたポリマーフィルムの誘電率は0%RH
で2.65、58%RHで2.73であった。
Example 6 This example describes the preparation of a polymer having the repeating unit (E): Example 5 except that 5.54 g (0.0298 mol) of hexafluorobenzene was used instead of decafluorobiphenyl and the reaction was carried out for 42 hours. Operation 5 was repeated. The dielectric constant of the obtained polymer film is 0% RH
Was 2.65 and 58% RH was 2.73.

実施例7 この実施例では、繰り返し単位(A)および(D)を
有するコポリマーの調製について記載する:250mlの丸底
フラスコに、5.07g(0.0145モル)の9,9−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)フルオレン、4.87g(0.0145モル)
の6F−ジフェノール、9.97g(0.0298モル)のデカフル
オロビフェニル、115gのDMAcおよび10.0g(0.074モル)
の炭酸カリウムを添加した。混合物を攪拌しながら窒素
雰囲気下に約75℃で16時間加熱した。混合物を室温に冷
却し、激しく攪拌した水中に注ぎ、ポリマーを沈殿さ
せ、濾過し、300mlの水中で2回洗浄し、濾過し、乾燥
した。白色綿毛状粉末を得た。白色ポリマー粉末(2g)
をシクロヘキサノンおよび2−エトキシエチルエーテル
混合物(50/50、8g)中に溶解させた。約1.5mlのポリマ
ー溶液をガラス基板上にスピンコートし、100℃にて10
分間、200℃にて15分間、400℃にて30分間乾燥した。得
られたポリマーフィルムを水中に浸漬することによりガ
ラス基板からはがして、強靭で、柔軟な、透明のフィル
ムを得た。このフィルムの誘電率は0%RHで2.60、58%
RHで2.66であった。
Example 7 This example describes the preparation of a copolymer having repeating units (A) and (D): In a 250 ml round bottom flask, 5.07 g (0.0145 mol) of 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) ) Fluorene, 4.87 g (0.0145 mol)
6F-diphenol, 9.97 g (0.0298 mol) of decafluorobiphenyl, 115 g of DMAc and 10.0 g (0.074 mol)
Of potassium carbonate was added. The mixture was heated with stirring at about 75 ° C. under a nitrogen atmosphere for 16 hours. The mixture was cooled to room temperature and poured into vigorously stirred water to precipitate the polymer, filtered, washed twice with 300 ml of water, filtered and dried. A white fluffy powder was obtained. White polymer powder (2g)
Was dissolved in a mixture of cyclohexanone and 2-ethoxyethyl ether (50/50, 8 g). About 1.5 ml of the polymer solution is spin-coated on a glass substrate,
Dried at 200 ° C. for 15 minutes and 400 ° C. for 30 minutes. The obtained polymer film was peeled from the glass substrate by immersion in water to obtain a tough, flexible, transparent film. The dielectric constant of this film is 2.60 and 58% at 0% RH
RH was 2.66.

実施例8 この実施例では、繰り返し単位(F)を有するポリマ
ーの調製について記載する:100mlの丸底フラスコに、3.
50g(0.0208モル)のペンタフルオロベンゼン、7.00g
(0.0208モル)の6F−ジフェノール、4.2gの炭酸カリウ
ム、および50gのDMAcを添加した。混合物を攪拌しなが
ら窒素雰囲気下に約80℃で24時間加熱し、120℃で更に3
6時間加熱した。混合物を室温に冷却し、水中に注ぐ
と、若干着色した粉末のポリマーが沈殿した。ポリマー
を水で3回洗浄し、室温で18時間、100℃で4時間乾燥
した。ポリマー(1g)をDMAc、2−エトキシエチルエー
テルおよびシクロヘキサノンの1:1:1混合物(4g)中に
溶解させた。混合物をガラス基板上にスピンコートし、
100℃で15分、200℃で15分、400℃で15分硬化させて琥
珀色フィルムを得た。ポリマーの吸湿率は0.15%であっ
た。更に詳しくは後に記載する同様のフッ素化ベンゼン
でのモデル実験および予想される重合反応の機構に基づ
くと、ペンタフルオロベンゼン中2個のフッ素が置換さ
れ、水素は残存すると考えられる。ポリマー(F)のDS
CによるTgは120℃であった。
Example 8 This example describes the preparation of a polymer having repeating units (F): In a 100 ml round bottom flask, 3.
50 g (0.0208 mol) of pentafluorobenzene, 7.00 g
(0.0208 mol) of 6F-diphenol, 4.2 g of potassium carbonate, and 50 g of DMAc were added. The mixture is heated with stirring at about 80 ° C. for 24 hours under a nitrogen atmosphere and at 120 ° C. for a further 3 hours.
Heated for 6 hours. The mixture was cooled to room temperature and poured into water, whereupon a slightly colored powdery polymer precipitated. The polymer was washed three times with water and dried at room temperature for 18 hours and at 100 ° C. for 4 hours. The polymer (1 g) was dissolved in a 1: 1: 1 mixture of DMAc, 2-ethoxyethyl ether and cyclohexanone (4 g). The mixture is spin-coated on a glass substrate,
After curing at 100 ° C. for 15 minutes, 200 ° C. for 15 minutes and 400 ° C. for 15 minutes, an amber film was obtained. The moisture absorption of the polymer was 0.15%. More specifically, based on a model experiment with a similar fluorinated benzene described later and the mechanism of the expected polymerization reaction, it is considered that two fluorines in pentafluorobenzene are substituted and hydrogen remains. DS of polymer (F)
The Tg by C was 120 ° C.

実施例9 この実施例では、繰り返し単位(G)を有するポリマ
ーの調製について記載する:ペンタフルオロベンゼンの
かわりに4.99g(0.0211モル)のオクタフルオロトルエ
ンを用い、6F−ジフェノールのかわりに7.38g(0.0211
モル)の9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオ
レンを用いる以外は実施例8の方法と同様にした。反応
は80℃にて24時間、次に120℃にて更に24時間行った。
白色粉末が得られた。ここでも2個の環のフッ素が置換
され、トリフルオロメチル基はそのまま残っていると考
えられる。得られたポリマーのDSCによるTgは260℃であ
った。
Example 9 This example describes the preparation of a polymer having repeating units (G): using 4.99 g (0.0211 mol) of octafluorotoluene instead of pentafluorobenzene and 7.38 g instead of 6F-diphenol. (0.0211
Mol) of 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene. The reaction was carried out at 80 ° C. for 24 hours and then at 120 ° C. for another 24 hours.
A white powder was obtained. Here too, it is considered that the fluorine of the two rings is substituted and the trifluoromethyl group remains. The Tg of the obtained polymer determined by DSC was 260 ° C.

実施例10 この実施例では、繰り返し単位(H)を有するポリマ
ーの調製について記載する:オクタフルオロトルエンの
かわりに6.40g(0.0208モル)の1,4−ジブロモテトラフ
ルオロベンゼンを用いる以外は実施例9の方法と同様に
した。白色粉末が得られた。1gの粉末を4gのDMAcに溶解
し、ガラス基板上にスピンコートし、実施例8と同様に
して硬化させ、琥珀色フィルムを得た。ポリマーの誘電
率は2.6、吸湿率は0.15%であった。DSCにより測定する
と、Tgは199℃であった。
Example 10 This example describes the preparation of a polymer having repeating units (H): Example 9 except that 6.40 g (0.0208 mol) of 1,4-dibromotetrafluorobenzene was used instead of octafluorotoluene. The method was the same. A white powder was obtained. 1 g of the powder was dissolved in 4 g of DMAc, spin-coated on a glass substrate, and cured in the same manner as in Example 8 to obtain an amber film. The dielectric constant of the polymer was 2.6 and the moisture absorption was 0.15%. Tg was 199 ° C. as measured by DSC.

フェノール(2当量)と1,4−ジブロモテトラフルオ
ロベンゼンとの間のモデル反応から得られた生成物のGC
−MS分析によると、2個のフッ素が置換され、2個の臭
素は残存し、異性体生成物の混合物が得られることがわ
かった。したがって、ポリマー(H)においても2個の
臭素が残存すると考えられる。
GC of the product obtained from the model reaction between phenol (2 equivalents) and 1,4-dibromotetrafluorobenzene
-MS analysis showed that two fluorines were substituted, two bromines remained and a mixture of isomer products was obtained. Therefore, it is considered that two bromines remain in the polymer (H).

実施例11 この実施例では、繰り返し単位(I)を有するポリマ
ーの調製について記載する:100mlの丸底フラスコに、5.
05g(0.0249モル)のクロロペンタフルオロベンゼン、
9.10g(0.026モル)の9,9−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)フルオレン、65gのDMAcおよび11.5gの炭酸カリウ
ムを添加した。混合物を攪拌しながら窒素雰囲気下に約
100℃で27時間加熱した。混合物を室温に冷却し、攪拌
しながら水中に注ぎ、ポリマーを沈殿させた。ポリマー
を水で3回洗浄し、室温で18時間、100℃で5時間乾燥
させて白色粉末を得た。ポリマー(2g)を2−エトキシ
エチルエーテルおよびシクロヘキサノン混合物(1:1、8
ml)中に溶解し、ガラス基板上にスピンコートし、実施
例8と同様にして乾燥した。琥珀色フィルムを得た。ポ
リマーの吸湿率は0.1%であった。
Example 11 This example describes the preparation of a polymer having repeating units (I): In a 100 ml round bottom flask, 5.
05 g (0.0249 mol) of chloropentafluorobenzene,
9.10 g (0.026 mol) of 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 65 g of DMAc and 11.5 g of potassium carbonate were added. While stirring the mixture under a nitrogen atmosphere,
Heated at 100 ° C. for 27 hours. The mixture was cooled to room temperature and poured into water with stirring to precipitate the polymer. The polymer was washed three times with water and dried at room temperature for 18 hours and at 100 ° C. for 5 hours to obtain a white powder. The polymer (2 g) was mixed with a mixture of 2-ethoxyethyl ether and cyclohexanone (1: 1, 8
ml), spin-coated on a glass substrate, and dried as in Example 8. An amber film was obtained. The moisture absorption of the polymer was 0.1%.

フェノール(2当量)とクロロペンタフルオロベンゼ
ンとの間のモデル反応から得られた生成物のGC−MS分析
によると、2個のフッ素が置換され、塩素は残存し、異
性体生成物の混合物が得られることがわかった。したが
って、ポリマー(I)においても塩素が残存すると考え
られる。
According to GC-MS analysis of the product obtained from the model reaction between phenol (2 equivalents) and chloropentafluorobenzene, two fluorines have been replaced, chlorine has remained and the mixture of isomer products It turned out to be obtained. Therefore, it is considered that chlorine remains in the polymer (I).

実施例12 この実施例では、繰り返し単位(J)を有するポリマ
ーの調製について記載する:100mlの丸底フラスコに、4.
20g(0.0202モル)のアリルペンタフルオロベンゼン、
6.85g(0.0204モル)の6F−ジフェノール、45mlのDMAc
および8.0gの炭酸カリウムを添加した。混合物を攪拌し
ながら窒素雰囲気下に約110℃に72時間加熱した。混合
物を室温に冷却し、水中に注ぎ、ポリマーを沈殿させ
た。ポリマーを100mlの脱イオン水および100mlの変性エ
タノールで洗浄し、空気中で3日間乾燥させて淡黄色粉
末を得た。粉末(3g)および0.15gの過安息香酸t−ブ
チルを8.5mlのDMAc中に溶解し、ガラス基板上にスピン
コートし、110℃で10分間、200℃で20分間乾燥して、、
DMAc中に溶解しない琥珀色フィルムを得た。
Example 12 This example describes the preparation of a polymer having repeating units (J): In a 100 ml round bottom flask, 4.
20 g (0.0202 mol) of allylpentafluorobenzene,
6.85 g (0.0204 mol) of 6F-diphenol, 45 ml of DMAc
And 8.0 g of potassium carbonate were added. The mixture was heated with stirring to about 110 ° C. under a nitrogen atmosphere for 72 hours. The mixture was cooled to room temperature and poured into water to precipitate the polymer. The polymer was washed with 100 ml of deionized water and 100 ml of denatured ethanol and dried in air for 3 days to obtain a pale yellow powder. Powder (3 g) and 0.15 g of t-butyl perbenzoate were dissolved in 8.5 ml of DMAc, spin-coated on a glass substrate, dried at 110 ° C. for 10 minutes, and dried at 200 ° C. for 20 minutes,
An amber film that did not dissolve in DMAc was obtained.

フェノール(2当量)とアリルペンタフルオロベンゼ
ンとの間の反応から得られた生成物のGC−MS分析による
と、2個のフッ素が置換され、アリル基は残存し、異性
体生成物の混合物が得られることがわかった。したがっ
て、前記ポリマーにおいてもアリル基が残存すると考え
られる。
According to GC-MS analysis of the product obtained from the reaction between phenol (2 equivalents) and allylpentafluorobenzene, two fluorines were substituted, the allyl group remained, and the mixture of isomer products was obtained. It turned out to be obtained. Therefore, it is considered that allyl groups remain in the polymer.

実施例13 この実施例では、繰り返し単位(K)を有するポリマ
ーの調製について記載する:100mlの丸底フラスコに、1.
25g(0.0042モル)の2,2′,3,3′,5,5′,6,6′−オクタ
フルオロビフェニル(OFB)、1.41g(0.0042モル)の6F
−ジフェノール、19gのDMAcおよび2gの炭酸カリウムを
添加した。混合物を攪拌しながら窒素雰囲気下に120℃
に72時間加熱した。混合物を室温に冷却し、水中に注
ぎ、ポリマーを沈殿させた。ポリマーをろ取し、エタノ
ールおよび水の50/50混合物(75ml)で洗浄し、室温で
一夜、次に100℃で1時間乾燥させて白色粉末を得た。
ポリマーのDSCによるTgは147℃であった。
Example 13 This example describes the preparation of a polymer having repeating units (K): 1. In a 100 ml round bottom flask, 1.
25 g (0.0042 mol) of 2,2 ', 3,3', 5,5 ', 6,6'-octafluorobiphenyl (OFB), 1.41 g (0.0042 mol) of 6F
-Diphenol, 19 g of DMAc and 2 g of potassium carbonate were added. 120 ° C under a nitrogen atmosphere while stirring the mixture
For 72 hours. The mixture was cooled to room temperature and poured into water to precipitate the polymer. The polymer was collected by filtration, washed with a 50/50 mixture of ethanol and water (75 ml) and dried overnight at room temperature and then at 100 ° C. for 1 hour to give a white powder.
The Tg of the polymer determined by DSC was 147 ° C.

4−メトキシフェノール(2当量)とOFBとの間の反
応から得られた生成物のGC/MS分析によると、2個のフ
ッ素が置換され、2個の水素は残存し、異性体生成物の
混合物が得られることがわかった。従って、前記ポリマ
ーにおいても2個の水素が残存すると考えられる。
According to GC / MS analysis of the product obtained from the reaction between 4-methoxyphenol (2 equivalents) and OFB, two fluorines were substituted, two hydrogens remained and the isomer product It was found that a mixture was obtained. Therefore, it is considered that two hydrogens remain in the polymer.

実施例14 この実施例では、繰り返し単位(L)を有するポリマ
ーの調製について記載する:6.22g(0.0202モル)の1,4
−ジブロモテトラフルオロベンゼン、7.07g(0.0202モ
ル)の9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレ
ン、10gの炭酸カリウムおよび55mlのDMAcを用いる以外
は実施例12の方法と同様にした。白色粉末のポリマーを
得た。DSCによるTgは291℃であった。
Example 14 This example describes the preparation of a polymer having repeating units (L): 6.22 g (0.0202 mol) of 1,4
The procedure was as in Example 12, except that -dibromotetrafluorobenzene, 7.07 g (0.0202 mol) of 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 10 g of potassium carbonate and 55 ml of DMAc were used. A white powder polymer was obtained. Tg by DSC was 291 ° C.

実施例15 この実施例では、繰り返し単位(M)を有するポリマ
ーの調製について記載する:250mlの丸底フラスコに、1
0.2g(0.0354モル)の4,4′−(1−フェニルエチリデ
ン)ビスフェノール、11.6g(0.0347モル)のデカフル
オロビフェニル、12gの炭酸カリウム、および135gのDMA
cを添加した。混合物を撹拌しながら窒素雰囲気下80℃
に16時間加熱した。混合物を室温に冷却し、水中に注ぐ
と、ポリマーが沈殿した。ポリマーを濾過し、水で洗浄
し、乾燥した。ポリマー(2g)を2−エトキシエチルエ
ーテルおよびシクロヘキサノンの8:2混合物(8g)中に
溶解させ、ガラス基板上にスピンコートし、100℃で15
分、200℃で15分、400℃で15分乾燥させて柔軟で透明な
フィルムを得た。ポリマーのDSCによるTgは208℃で、0
%RHでの誘電率は2.64あった。
Example 15 This example describes the preparation of a polymer having repeating units (M): 1 in a 250 ml round bottom flask
0.2 g (0.0354 mol) of 4,4 '-(1-phenylethylidene) bisphenol, 11.6 g (0.0347 mol) of decafluorobiphenyl, 12 g of potassium carbonate and 135 g of DMA
c was added. 80 ° C under a nitrogen atmosphere while stirring the mixture
For 16 hours. The mixture was cooled to room temperature and poured into water, causing the polymer to precipitate. The polymer was filtered, washed with water and dried. The polymer (2 g) was dissolved in an 8: 2 mixture of 2-ethoxyethyl ether and cyclohexanone (8 g), spin-coated on a glass substrate,
After drying at 200 ° C. for 15 minutes and at 400 ° C. for 15 minutes, a flexible and transparent film was obtained. The Tg of the polymer at 208 ° C. by DSC was 0
The dielectric constant at% RH was 2.64.

実施例16 この実施例では、繰り返し単位(A)および(O)を
1:4のモル比で有するコポリマーの調製について記載す
る:100mlの丸底フラスコに、3.75g(0.021モル)の4,6
−ジクロロレゾルシノール、1.76g(0.0053モル)の6F
−ジフェノール、8.80g(0.026モル)のデカフルオロビ
フェニル、62gのDMAcおよび10gの炭酸カリウムを添加し
た。混合物を窒素雰囲気下110℃に8時間加熱した。混
合物を冷却せずに水中に注ぎ、ポリマーを沈殿させた。
ポリマーをろ取し、水で洗浄し、乾燥して、淡いピンク
色の粉末を得た。ポリマーのDSCによるTgは149℃であっ
た。
Example 16 In this example, the repeating units (A) and (O)
The preparation of a copolymer having a molar ratio of 1: 4 is described: In a 100 ml round bottom flask, 3.75 g (0.021 mol) of 4,6
-Dichlororesorcinol, 1.76 g (0.0053 mol) of 6F
-Diphenol, 8.80 g (0.026 mol) of decafluorobiphenyl, 62 g of DMAc and 10 g of potassium carbonate were added. The mixture was heated to 110 ° C. under a nitrogen atmosphere for 8 hours. The mixture was poured into water without cooling to precipitate the polymer.
The polymer was collected by filtration, washed with water, and dried to give a pale pink powder. The Tg of the polymer determined by DSC was 149 ° C.

実施例17 この実施例では、4,4′−イソプロピリデンジフェノ
ールおよびデカフルオロビフェニルから得られたポリマ
ー(以下BPA−DFBと記載する)の調製について記載す
る:6F−ジフェノールのかわりに10.20gの4,4′−イソプ
ロピリデンジフェノール(ビスフェノールA)を用いる
以外は実施例1の方法と同様にした。反応から21.5gの
ポリマーが得られた。ポリマーフィルムの50℃の水中に
16時間浸漬した後の吸湿率は0.2%であった。
Example 17 This example describes the preparation of a polymer obtained from 4,4'-isopropylidene diphenol and decafluorobiphenyl (hereinafter BPA-DFB): 10.20 g instead of 6F-diphenol The procedure of Example 1 was repeated except that 4,4'-isopropylidene diphenol (bisphenol A) was used. The reaction yielded 21.5 g of polymer. Polymer water in 50 ° C water
The moisture absorption after immersion for 16 hours was 0.2%.

実施例18 この実施例は比較例であって、繰り返し単位: を有する本発明によらないポリマーを調製し、本発明の
ポリマーと比較する。
Example 18 This example is a comparative example, wherein the repeating unit is: A non-inventive polymer having the formula is prepared and compared with the inventive polymer.

100mlの丸底フラスコに、1.80g(0.009モル)の4,4′
−オキシジアニリン(ODA)および30mlの乾燥1−メチ
ル−2−ピオリジノン(NMP)を添加した。溶液を氷浴
中で冷却し、窒素雰囲気下で攪拌しながら2.006g(0.00
92モル)のピロメリット酸無水物(PMDA)を添加した。
粘稠な琥珀色溶液が得られた。ポリマー溶液を約10x10c
m(4x4インチ)のガラス基板上にスピンコートし、100
℃で10分間、200℃で15分間、350℃で30分間乾燥して琥
珀色フィルムを得た。フィルムを50℃の水中に16時間浸
漬した後の吸湿率は2.55%であった。
In a 100 ml round bottom flask, 1.80 g (0.009 mol) of 4,4 '
-Oxydianiline (ODA) and 30 ml of dry 1-methyl-2-pioridinone (NMP) were added. The solution was cooled in an ice bath and stirred under a nitrogen atmosphere with 2.006 g (0.00
(92 mol) pyromellitic anhydride (PMDA) was added.
A viscous amber solution was obtained. About 10x10c of polymer solution
spin-coated on a 4x4 inch glass substrate,
Drying at 10 ° C. for 10 minutes, 200 ° C. for 15 minutes, and 350 ° C. for 30 minutes gave an amber film. The moisture absorption after immersing the film in water at 50 ° C. for 16 hours was 2.55%.

実施例19 この実施例は、別の比較例であって、本明細書におい
てP17と称する先行技術の他のポリイミドを調製し、本
発明のポリマーと比較する: 100mlの丸底フラスコに、3.35g(0.009モル)の4,4′
−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニルおよび17g
のNMPを添加した。室温にて窒素雰囲気下45分間撹拌し
た後、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサ
フルオロプロパン二無水物(6FDA)(4.00g、0.009モ
ル)のNMP(14g)溶液を撹拌しながら10分間かけて滴下
した。更に24時間室温にて撹拌すると、粘稠溶液(2650
cps)が得られた。溶液を約10x10cm(4x4インチ)のガ
ラス基板上にスピンコートし、100℃で30分間、200℃で
20分間、350℃で30分間乾燥して琥珀色フィルムを得
た。このポリイミドフィルムを50℃の水中16時間浸漬し
た後のバルク吸湿率は0.85%であった。第I表において
p17の性質を本発明のポリマーの性質と比較する。
Example 19 This example is another comparative example, in which another polyimide of the prior art, referred to herein as P17, is prepared and compared to the polymer of the present invention: In a 100 ml round bottom flask, add 3.35 g (0.009 mol) of 4,4 '
-Bis (4-aminophenoxy) biphenyl and 17 g
Of NMP was added. After stirring at room temperature under a nitrogen atmosphere for 45 minutes, a solution of 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride (6FDA) (4.00 g, 0.009 mol) in NMP (14 g) was stirred. While dropping over 10 minutes. After stirring at room temperature for another 24 hours, a viscous solution (2650
cps). Spin-coat the solution on a 4x4 inch glass substrate, 100xC for 30 minutes, 200xC
After drying for 20 minutes at 350 ° C. for 30 minutes, an amber film was obtained. The bulk moisture absorption after immersing this polyimide film in water at 50 ° C. for 16 hours was 0.85%. In Table I
The properties of p17 are compared with those of the polymer of the invention.

第I表で本発明のポリマーの誘電特性と比較例のポリ
マーの誘電特性を比較する。誘電率は25℃、10KHzにて
係属中のアメリカ特許出願第07/447,771号(マーサー)
に記載した方法により測定した。第I表からわかるよう
に、対照ポリマーのεが2.80以上、最高3.16のεである
のに対して、本発明のポリマーは著しく低い、即ち0%
RHで2.80未満、最低2.50の誘電率(ε)を有する。更
に、本発明のポリマーのεは周囲湿度の変化に感受性で
ない。約60%RHで、εは10と30の間の小さい傾きに見ら
れるように少しだけ上昇し、一方、対照ポリマーは約60
と約100の間の傾きである。電子物品において、誘電体
材料が低いε、好ましくは乾燥および湿潤の両環境にお
いて3未満のεを有することが重要である。本発明のポ
リマーおよび対照ポリマー間の違いを第4図にグラフ化
する。
Table I compares the dielectric properties of the polymers of the present invention with those of the comparative examples. US Patent Application No. 07 / 447,771 pending at 25 ° C, 10KHz (Mercer)
The measurement was carried out according to the method described in 1. As can be seen from Table I, the ε of the control polymer is greater than 2.80 and up to 3.16, whereas the polymers of the invention are significantly lower, ie 0%
It has a dielectric constant (ε) of less than 2.80 at RH and at least 2.50. Further, the ε of the polymers of the present invention is not sensitive to changes in ambient humidity. At about 60% RH, ε rises slightly as seen in the small slope between 10 and 30, while the control polymer has about 60
And a slope between about 100. In electronic articles, it is important that the dielectric material have a low ε, preferably less than 3 in both dry and wet environments. The differences between the inventive polymer and the control polymer are graphed in FIG.

実施例20 この実施例では、マルチチップモジュールにおいて用
いるのにまたは単一集積回路チップと共に用いるのに適
した多層高密度相互接続物品の製造を記載する。
Example 20 This example describes the fabrication of a multilayer high density interconnect article suitable for use in a multi-chip module or with a single integrated circuit chip.

ポリマー(A)(22.5g)の2−エトキシエチルエー
テルおよびシクロヘキサノンの50/50混合物(77.5g)中
溶液を調製した。ポリマー絶縁層を以下の方法でセラミ
ック基板上に適用した:(1)ポリマー溶液(5ml)を
清浄な直径125mmのセラミック基板上にスピンコートし
た。(2)コーティングを100℃にて15分間、200℃にて
15分間乾燥した。(3)更に溶液5mlを適用し、400℃に
て60分間硬化させることを加えて前記のように硬化させ
た。200Åのクロム、続いて5ミクロンの銅、最後に更
に500Åのクロムをブランケットスパッタリングにより
導電性材料を形成した。金属をフォトリソグラフィー的
にパターン化した。
A solution of polymer (A) (22.5 g) in a 50/50 mixture (77.5 g) of 2-ethoxyethyl ether and cyclohexanone was prepared. The polymer insulation layer was applied on the ceramic substrate in the following manner: (1) The polymer solution (5 ml) was spin coated on a clean 125 mm diameter ceramic substrate. (2) Coating at 200 ° C for 15 minutes at 100 ° C
Dried for 15 minutes. (3) Further, 5 ml of the solution was applied and cured at 400 ° C. for 60 minutes, followed by curing as described above. A conductive material was formed by blanket sputtering 200 ° chromium, followed by 5 micron copper, and finally another 500 ° chromium. The metal was photolithographically patterned.

第2ポリマー絶縁性層を、前記のような3段階法によ
ってパターン化金属層上に適用した。アルミニウム金属
層を誘電体上にブランケットスパッタリングにより形成
し、フォトリソグラフィー的にパターン化し、第2誘電
体層中にバイアを形成し、第1金属層と電気接続を行わ
せた。アルミニウム層を除去した。クロム/銅/クロム
の第2金属層を前記のように適用し、バイアによって第
1層と電気接続を形成した。次いで、第2金属層をフォ
トリソグラフィー的にパターン化した。
A second polymer insulating layer was applied over the patterned metal layer by the three-step method as described above. An aluminum metal layer was formed by blanket sputtering on the dielectric, photolithographically patterned, formed vias in the second dielectric layer, and made electrical connections to the first metal layer. The aluminum layer was removed. A second metal layer of chromium / copper / chromium was applied as described above and vias made electrical connections with the first layer. Next, the second metal layer was patterned photolithographically.

装置中のすべての金属層はフルオロポリマーに対して
優れた付着性を示し、金属/ポリマー間またはポリマー
同志間で剥離は見られなかった。
All metal layers in the device exhibited excellent adhesion to the fluoropolymer, with no delamination between metal / polymer or between polymers.

実施例21 サンプルポリマー(A)を、以下の第II表に示す時間
および温度で空気中で硬化することにより架橋し、表示
のゲル含量を得た(DMAcで24時間ソックスレー抽出する
ことより測定)。
Example 21 The sample polymer (A) was crosslinked by curing in air at the times and temperatures shown in Table II below to give the indicated gel content (determined by Soxhlet extraction with DMAc for 24 hours). .

しかし、ポリマー(A)を窒素中で300℃で13分間、
次に400℃で27分間硬化させた場合にはゲルは検出され
なかった。
However, the polymer (A) was placed in nitrogen at 300 ° C. for 13 minutes,
Next, when cured at 400 ° C. for 27 minutes, no gel was detected.

実施例22 この例は熱安定性が向上したフッ素化(アリーレンエ
ーテル)の調製に関するビスフェノール基におけるフッ
素化の好ましさを示すものである。ポリマー(A)(6F
−ジフェノール由来で、2個の−CF3基を有する)の熱
安定性を、空気中の恒温条件下での熱重量分析(TGA)
によりポリマーBPA−DFB(ビスフェノール−A由来で、
従って対応する位置に2個の−CH3基を有する)と比較
した。結果を第III表に示す。
Example 22 This example illustrates the preference of fluorination at the bisphenol group for the preparation of fluorinated (arylene ether) with improved thermal stability. Polymer (A) (6F
-Derived from diphenol and having two -CF 3 groups) by thermogravimetric analysis under isothermal conditions in air (TGA)
The polymer BPA-DFB (derived from bisphenol-A,
Therefore, two --CH 3 groups are present at the corresponding positions). The results are shown in Table III.

実施例23 この実施例ではビストリアゼン架橋剤で架橋したポリ
マー(D)層の付着を記載する。ポリマー(D)のビス
(2−エトキシエチル)エーテル、DMAcおよび5−メチ
ル−2−ヘキサノン(1:1:1(W/W/W))の溶媒系中の溶
液(固形分約23重量%)を調製した。これに16.7重量%
ビストリアゼン(1): を添加した。この溶液を次にスピンコーティングにより
基板(セラミックまたはシリコン)上にコートした。コ
ートした基板を、窒素置換したオーブン中で加熱した。
このオーブンはコンベアベルトを有し、これにより基板
はオーブン中を温度分布が300℃で6.5分、400℃で13.5
分、次に20分かけて室温に冷却されるように運ばれる。
この方法により、架橋ポリマー(D)の透明なコーティ
ングが得られ、これはその後の加工(例えば別のポリマ
ー層の付着中)によりひび割れることがなく、その上の
金属導体の酸化を起こさなかった。
Example 23 This example describes the deposition of a polymer (D) layer crosslinked with a bistriazene crosslinker. Solution of polymer (D) in a solvent system of bis (2-ethoxyethyl) ether, DMAc and 5-methyl-2-hexanone (1: 1: 1 (W / W / W)) (solids content about 23% by weight) ) Was prepared. 16.7% by weight
Bistriazene (1): Was added. This solution was then coated on a substrate (ceramic or silicon) by spin coating. The coated substrate was heated in an oven purged with nitrogen.
This oven has a conveyor belt, which allows the substrate to move in the oven at a temperature distribution of 300 ° C for 6.5 minutes and 400 ° C for 13.5 minutes.
Minutes, then 20 minutes to cool to room temperature.
In this way, a transparent coating of the crosslinked polymer (D) was obtained, which did not crack by further processing (for example during the deposition of another polymer layer) and did not cause oxidation of the metal conductor thereon.

架橋ポリマー(D)の基板に対する付着性を向上させ
るためには、アセチレン末端を有するポリイミド(サー
ミド(Thermid)IP−615)およびγ−アミノプロピルト
リメトキシシランカップリング剤を含有してなる薄層
(厚さ約1μ)を付着促進中間層としてポリマー(D)
と基板との間に用いることが望ましい。ポリイミド/カ
ップリング剤層を基板上に付着し、150℃で10分、次に2
00℃で15分硬化させた。ポリマー(D)層を次に最上面
にコートし、前記のように硬化させた。
In order to improve the adhesion of the crosslinked polymer (D) to the substrate, a thin layer containing a polyimide having an acetylene terminal (Thermid IP-615) and a γ-aminopropyltrimethoxysilane coupling agent ( Polymer (D) having a thickness of about 1μ) as an adhesion promoting intermediate layer
It is desirable to use it between the substrate and the substrate. A polyimide / coupling agent layer is deposited on the substrate, at 150 ° C. for 10 minutes, and then
Cured at 00 ° C. for 15 minutes. A layer of polymer (D) was then coated on top and cured as described above.

実施例24 この実施例では前記実施例に記載したポリマー(D)
でコートした基板上の金属化、パターン化、エッチング
およびバイア形成を記載する。
Example 24 In this example, the polymer (D) described in the previous example was used.
Describes metallization, patterning, etching and via formation on substrates coated with.

微量の金属導体をスパッタリングにより硬化ポリマー
(D)コーティング上に付着した。導体は、クロム−銅
−クロムサンドウィッチ型の構造で、厚さ200Åのクロ
ム層が銅(厚さ5μ)のタイダウン層の役割をした。こ
の導体構造は架橋ポリマー(D)にそれほど付着しない
より一般的なアルミニウムより好ましい。
A trace amount of metal conductor was deposited on the cured polymer (D) coating by sputtering. The conductor had a chromium-copper-chromium sandwich structure in which a 200 mm thick chromium layer served as a tie-down layer of copper (5 μm thick). This conductor structure is preferred over the more common aluminum which does not adhere much to the crosslinked polymer (D).

金属をフォトレジストで被覆し、次にこれをマスクで
被覆し、紫外線にさらした。フォトレジストのさらされ
た部分を水酸化ナトリウム溶液で洗浄することにより除
去し、金属部分が露出した。CRE−473(塩酸エッチング
剤の商標、トランセン(Transene)より入手可能)およ
び塩化第二鉄でエッチングすることにより頂部のクロム
層および銅層をそれぞれ除去することにより、露出した
金属を除去した。底部のクロム層をCE8001−N(硝酸ア
ンモニウムセリウム−硝酸エッチング剤の商標、ケムテ
ック・インダストリーズ(Chemtech Industries)より
入手可能)でエッチングすることにより除去した。底部
クロム層を除去するのにレーザー融触も使用できるが、
CE8001−Nは迅速に作用し、ポリマーにざらつきが少な
いので好ましい。
The metal was coated with a photoresist, which was then coated with a mask and exposed to UV light. The exposed portions of the photoresist were removed by washing with a sodium hydroxide solution, exposing the metal portions. The exposed metal was removed by removing the top chromium and copper layers, respectively, by etching with CRE-473 (trademark of hydrochloric acid etchant, available from Transene) and ferric chloride. The bottom chromium layer was removed by etching with CE8001-N (trademark of cerium ammonium nitrate-nitric acid etchant, available from Chemtech Industries). Laser ablation can also be used to remove the bottom chrome layer,
CE8001-N is preferred because it acts quickly and gives less roughness to the polymer.

金属のエッチング後、全基板ウェファーを紫外線にさ
らし、残存するフォトレジストを水酸化ナトリウムで現
象させて除去することによりさらされていないフォトレ
ジストを除去した。別法として、未現像フォトレジスト
をNMP、脱イオンおよびメタノールの(7:3:1(V/V/
V))混合物で除去することができる。
After etching the metal, the entire substrate wafer was exposed to ultraviolet light, and the remaining photoresist was removed by developing it with sodium hydroxide. Alternatively, undeveloped photoresist may be treated with NMP, deionized and methanol (7: 3: 1 (V / V /
V)) can be removed with the mixture.

パターン化された金属を更に架橋ポリマー(D)で上
塗りした。金属層またはバイアマスク(厚さ3μ)をポ
リマーコーティング上にスパッタリングし、前述のごと
くフォトリソグラフィー的にパターン化し、バイアが望
ましいところに金属中に穴を形成した。全ウェファーを
308nmのレーザーで融触し、底部の金属に届くまで金属
中に穴があるところのポリマーを除去した。マスクを次
にエッチングにより除去した(バイアマスクと共に金属
導体のエッチングを避けるためには、バイアマスクは異
なる、選択的にエッチング可能な金属、例えばアルミニ
ウムで作られていなければならない)。
The patterned metal was further overcoated with a crosslinked polymer (D). A metal layer or via mask (3μ thick) was sputtered onto the polymer coating and photolithographically patterned as described above to form holes in the metal where vias were desired. All wafers
Fusion was performed with a 308 nm laser to remove the polymer with holes in the metal until it reached the metal at the bottom. The mask was then etched away (the via mask must be made of a different, selectively etchable metal, such as aluminum, to avoid etching the metal conductors with the via mask).

前記の方法を用いて、複数の多層ユニットを有する基
板ウェファーを調製した。この基板およびその上のユニ
ットの概略図を第5図に示す(数字は要素を示す)。基
板40はその上に複数の多層ユニット41(拡大上面および
断面図で示す)を有する。各ユニット41は架橋ポリマー
(D)の誘電体42によりへだてられた金属導体層43aお
よび43bを有する。バイア44aおよび44bにより層間が接
続される。各ユニット21は平行板コンデンサーとみなす
とができる。20個のユニット41をそのキャパシタンスを
測定することによりテストした。各々は式: C=DεoA/L [式中、Cはキャパシタンス、Dはポリマー中間層の誘
電率、εoは自由空間の誘電率、Aはコンデンサー板の
面積、Lはコンデンサー板間の距離である] により予想される値と一致するキャパシタンスを有し
た。(コンデンサー板(即ち導体層)間の距離を走査電
子顕微鏡で測定すると35μであった。) 実施例25 この実施例では実施例23の方法でビストリアゼンで架
橋したポリマー(D)の誘電特性を、電子パッケージン
グ用誘電体として提案されているベンゾシクロブテン
(BCB)樹脂(XU 13005.02L、ダウ・ケミカル・カンパ
ニー(Dow Chemical Company)より入手可能)の誘電特
性と比較する。コンデンサーを架橋ポリマー(D)およ
びBCB樹脂より実施例24の方法にしたがって製造した。
各ポリマーから作られた5個のコンデンサー片のキャパ
シタンスをエージングの前後で%RHの関数として測定し
た。結果を第IV表に示す。
A substrate wafer having a plurality of multilayer units was prepared using the method described above. A schematic diagram of this substrate and the units thereon is shown in FIG. 5 (numbers indicate elements). The substrate 40 has a plurality of multilayer units 41 (shown in an enlarged top view and a sectional view) thereon. Each unit 41 has metal conductor layers 43a and 43b exposed by a dielectric 42 of a crosslinked polymer (D). Vias 44a and 44b connect the layers. Each unit 21 can be considered as a parallel plate condenser. Twenty units 41 were tested by measuring their capacitance. Each has the formula: C = D εo A / L [where C is the capacitance, D is the dielectric constant of the polymer interlayer, εo is the dielectric constant of free space, A is the area of the capacitor plate, and L is the distance between the capacitor plates. Which had a capacitance consistent with the value expected by (The distance between the capacitor plates (i.e., the conductor layers) was measured with a scanning electron microscope to be 35 μm.) Example 25 In this example, the dielectric properties of the polymer (D) crosslinked with bistriazene in the method of Example 23 were determined by Compare the dielectric properties of a benzocyclobutene (BCB) resin (XU 13005.02L, available from Dow Chemical Company) proposed as a dielectric for electronic packaging. Capacitors were prepared according to the method of Example 24 from crosslinked polymer (D) and BCB resin.
The capacitance of five capacitor pieces made from each polymer was measured as a function of% RH before and after aging. The results are shown in Table IV.

これらの結果から、架橋ポリマー(D)の誘電特性
は、BCB樹脂に優るとも劣らないことがわかる。BCB樹脂
の初期誘電率は低いが、電子物品の通常の実用寿命中に
経験するような高温にさらされることにより、BCB樹脂
の誘電率はかなり急激に増加し、高い%RHにおいて特に
著しく増加した。これに対して、ポリマー(D)の誘電
率は低いままで、全てのエージング時間−相対湿度の組
み合わせで2.8より低かった。
From these results, it is understood that the dielectric properties of the crosslinked polymer (D) are not inferior to those of the BCB resin. Although the initial dielectric constant of the BCB resin is low, the dielectric constant of the BCB resin increased considerably sharply, especially at high% RH, due to the high temperatures experienced during the normal service life of electronic articles. . In contrast, the dielectric constant of polymer (D) remained lower than 2.8 for all aging time-relative humidity combinations.

実施例26 この実施例において、種々のフッ素化ポリ(アリーレ
ンエーテル)の種々のビストリアゼン架橋剤による架橋
を説明する。
Example 26 This example illustrates the crosslinking of various fluorinated poly (arylene ethers) with various bistriazene crosslinkers.

フッ素化ポリ(アリーレンエーテル)のサンプル(2
g)を30mlのバイアル中でシクロヘキサノン(4g)、γ
−ブチロラクトン(4g)、ビストリアゼン化合物(約0.
4g)および界面活性剤(フルオラド(Fluorad)FC−43
1、3Mより入手、2滴)と合した。固形物がすべて溶解
するまで混合物を撹拌した。撹拌によってできた泡がす
べて消散するまで溶液を静置した。溶液の大部分をセラ
ミック基板上に付着し、250rpmでスピンコートして、厚
いコーティングを形成した。サンプルを100℃にて15
分、次に200℃にて更に15分ソフトベークした。次にサ
ンプルを以下のようなサイクルにしたがって、窒素パー
ジした炉で焼き付けて、約1.5gのサンプルを得た:300℃
で6.5分、400℃で13.5分、室温で20分。
Fluorinated poly (arylene ether) sample (2
g) in a 30 ml vial, cyclohexanone (4 g), γ
-Butyrolactone (4 g), a bistriazene compound (approx.
4g) and a surfactant (Fluorad FC-43)
1, 2M). The mixture was stirred until all solids were dissolved. The solution was allowed to settle until all the foam created by the stirring had dissipated. Most of the solution was deposited on a ceramic substrate and spin coated at 250 rpm to form a thick coating. Sample at 100 ° C for 15
And then soft baked at 200 ° C. for another 15 minutes. The sample was then baked in a nitrogen purged furnace according to the following cycle to yield about 1.5 g sample: 300 ° C
6.5 minutes, 400 ° C for 13.5 minutes, room temperature for 20 minutes.

この硬化サンプルをセラミック基板から取り出し、3
つの等しい部分に分割した。各部分を小さく切断し、あ
らかじめ秤量した目盛り付き試験管中に入れた。目盛り
付き試験管を密封し、再び秤量した。3個の部分をすべ
てソックスレー抽出装置に仕込み、DMAcで24時間抽出し
た。100℃の真空炉中で一夜乾燥後、サンプルを冷却
し、再び秤量してゲル含量を測定した。第V表に示した
結果より、ビストリアゼン化合物は一般にフッ素化ポリ
(アリーレンエーテル)用架橋剤として有効であること
がわかる。
Remove the cured sample from the ceramic substrate
Divided into two equal parts. Each part was cut into small pieces and placed in pre-weighed graduated test tubes. The graduated test tube was sealed and weighed again. All three parts were charged into a Soxhlet extractor and extracted with DMAc for 24 hours. After drying in a vacuum oven at 100 ° C. overnight, the samples were cooled and weighed again to determine the gel content. From the results shown in Table V, it is understood that the bistriazene compound is generally effective as a crosslinking agent for fluorinated poly (arylene ether).

実施例27 この実施例では、フッ素化ポリ(アリーレンエーテ
ル)Dを過酸化化合物で架橋する。10%の過酸化ジクミ
ルまたはクメンヒドロペルオキシドを含有するポリマー
Dのサンプルを窒素雰囲気下に赤外線加熱炉中で300℃
にて6.5分、次に400℃にて13.5分間加熱して、ゲル含量
がそれぞれ94.0%および81.4%である架橋ポリマーを得
た。比較例において、過酸化物の非存在下で同様に加熱
したポリマーDサンプルのゲル含量はわずか3.3%であ
った。
Example 27 In this example, fluorinated poly (arylene ether) D is cross-linked with a peroxide compound. A sample of Polymer D containing 10% dicumyl peroxide or cumene hydroperoxide was placed in an infrared oven at 300 ° C. under a nitrogen atmosphere.
For 6.5 minutes and then at 400 ° C. for 13.5 minutes to obtain a crosslinked polymer having a gel content of 94.0% and 81.4%, respectively. In the comparative example, the gel content of the polymer D sample similarly heated in the absence of peroxide was only 3.3%.

架橋ポリマーはその低い吸湿率および誘電率特性を保
持した。過酸化ジクミルで架橋したサンプルの吸湿率は
0.2%、誘電率は0%RHで2.6であった。
The crosslinked polymer retained its low moisture absorption and dielectric properties. The moisture absorption of the sample crosslinked with dicumyl peroxide is
0.2% and a dielectric constant of 2.6 at 0% RH.

別の過酸化物架橋実験において、ポリマー(A)およ
び(D)をそれぞれ10重量%の過酸化ベンゾイルで架橋
して、ゲル含量がそれぞれ約51および49%の架橋ポリマ
ーを得た。ポリマー(A)を10重量%の過酸化ジクミル
で架橋すると、ゲル含量が69%になった。比較のため
に、過酸化物の非存在下で同様に加熱したポリマー
(A)の対照サンプルのゲル含量は約0.8%であった。
In another peroxide cross-linking experiment, polymers (A) and (D) were cross-linked with 10% by weight of benzoyl peroxide, respectively, to give cross-linked polymers with gel contents of about 51 and 49%, respectively. Crosslinking of polymer (A) with 10% by weight of dicumyl peroxide resulted in a gel content of 69%. For comparison, the gel content of a control sample of polymer (A), also heated in the absence of peroxide, was about 0.8%.

実施例28 この実施例では繰り返し単位(M′)を有するポリマ
ーの調製を記載する:100mlの丸底フラスコに、3.21g
(0.0093モル)のビスフェノールP、3.12g(0.00934モ
ル)のデカフルオロビフェニル、4.2gの炭酸カリウムお
よび22gのDMAcを添加した。反応混合物を窒素雰囲気下
に撹拌しながら100℃にて6時間加熱した。ポリマーを
実施例5に記載したようにして単離して白色粉末を得
た。ポリマーのDSCによるTgは162℃であった。ポリマー
のフィルムの誘電率は0%RHで2.58、66.45%RHで2.71
であった。
Example 28 This example describes the preparation of a polymer having repeating units (M '): 3.21 g in a 100 ml round bottom flask
(0.0093 mol) of bisphenol P, 3.12 g (0.00934 mol) of decafluorobiphenyl, 4.2 g of potassium carbonate and 22 g of DMAc were added. The reaction mixture was heated at 100 ° C. for 6 hours with stirring under a nitrogen atmosphere. The polymer was isolated as described in Example 5 to give a white powder. The Tg of the polymer determined by DSC was 162 ° C. The dielectric constant of the polymer film is 2.58 at 0% RH and 2.71 at 66.45% RH
Met.

実施例29 この実施例では繰り返し単位(A)および(O)を有
するコポリマーの調製を記載する:100mlの丸底フラスコ
に、3.75g(0.026モル)の4,6−ジクロロレゾルシノー
ル、1.76g(0.0052モル)の6F−ジフェノール、10.45g
(0.031モル)のデカフルオロビフェニル、12gの炭酸カ
リウムおよび39gのDMAcを添加した。反応混合物を窒素
雰囲気下に撹拌しながら110℃にて8時間加熱した。ゲ
ル化反応混合物を室温に冷却し、水に添加し、ブレンダ
ー中で温浸してオフホワイトの粉末を単離した。粉末を
水で洗浄し、乾燥した。ポリマーのDSCによるTgは149℃
であった。
Example 29 This example describes the preparation of a copolymer having repeating units (A) and (O): In a 100 ml round bottom flask, 3.75 g (0.026 mol) of 4,6-dichlororesorcinol, 1.76 g (0.0052 Mol) 6F-diphenol, 10.45 g
(0.031 mol) of decafluorobiphenyl, 12 g of potassium carbonate and 39 g of DMAc were added. The reaction mixture was heated at 110 ° C. for 8 hours with stirring under a nitrogen atmosphere. The gelation reaction mixture was cooled to room temperature, added to water and digested in a blender to isolate an off-white powder. The powder was washed with water and dried. Tg of polymer at 149 ° C by DSC
Met.

実施例30 この実施例では繰り返し単位(A)および(P)を有
するコポリマーの調製を記載する:100mlの丸底フラスコ
に、5.70g(0.017モル)のデカフルオロビフェニル、1.
34g(0.0083モル)の2,7−ジヒドロキシナフタレン、2.
82g(0.0083モル)の6F−ジフェノールを添加した。反
応混合物を窒素雰囲気下に撹拌しながら90℃に18時間加
熱し、室温に冷却した。ポリマーを実施例5に記載した
ようにして単離して白色粉末を得た。ポリマーのDSCに
よるTgは190℃であった。ポリマーのフィルムの誘電率
は0%RHで2.54、65.4%RHで2.64であった。
Example 30 This example describes the preparation of a copolymer having repeating units (A) and (P): In a 100 ml round bottom flask, 5.70 g (0.017 mol) of decafluorobiphenyl, 1.
34 g (0.0083 mol) of 2,7-dihydroxynaphthalene, 2.
82 g (0.0083 mol) of 6F-diphenol were added. The reaction mixture was heated to 90 ° C. with stirring under a nitrogen atmosphere for 18 hours and cooled to room temperature. The polymer was isolated as described in Example 5 to give a white powder. The Tg of the polymer determined by DSC was 190 ° C. The dielectric constant of the polymer film was 2.54 at 0% RH and 2.64 at 65.4% RH.

実施例31 この実施例では繰り返し単位(A)および(Q)を有
するコポリマーの調製を記載する:1.34g(0.0083モル)
の1,5−ジヒドロキシナフタレンを2,7−ジヒドロキシナ
フタレンの代わりに用いる以外は、実施例30と同様にし
た。オフホワイトの粉末を得た。ポリマーのDSCによるT
gは203℃であった。
Example 31 This example describes the preparation of a copolymer having repeating units (A) and (Q): 1.34 g (0.0083 mol)
Example 30 was repeated except that 1,5-dihydroxynaphthalene was used instead of 2,7-dihydroxynaphthalene. An off-white powder was obtained. T of polymer by DSC
g was 203 ° C.

実施例32 この実施例では繰り返し単位(D)および(Q)を有
するコポリマーの調製およびそれに続く過酸化物による
架橋を記載する:250mlの丸底フラスコに、3.32g(0.020
7モル)の1,5−ジヒドロキシナフタレン、7.26g(0.020
7モル)の9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオ
レン、14.22g(0.0427モル)のデカフルオロビフェニ
ル、17gの炭酸カリウムおよび127gのDMAcを添加した。
反応混合物を窒素雰囲気下に撹拌しながら85℃にて16時
間加熱し、次に熱いまま300mlの水を入れたブレンダー
中に注いでポリマーを沈殿させた。ポリマーを濾取し、
300mlの水で2回洗浄し乾燥した。2gのポリマーおよび
0.22gの過酸化ジクミルを8.5gのγ−ブチロラクトンお
よびシクロヘキサノンの1:1混合物中に溶解させた。溶
液をセラミック基板上にスピンコートし、以下のように
して硬化させた:130℃にて30分、5℃/分の速度で400
℃に加熱、400℃にて15分間保持、3℃/分の速度で室
温に冷却した。琥珀色フィルムを得、これは前記のγ−
ブチロラクトン−シクロヘキサノン混合物にさらした場
合、応力亀裂を生じたり溶解しなかった。過酸化ジクミ
ルを添加しないで同様に窒素雰囲気下で加熱した対照の
コポリマーフィルムでは同様の溶媒混合物にさらされた
場合、溶媒により誘発された応力亀裂が見られた。
Example 32 This example describes the preparation of a copolymer having repeating units (D) and (Q) and subsequent crosslinking with peroxide: In a 250 ml round bottom flask, 3.32 g (0.020
7 mol) of 1,5-dihydroxynaphthalene, 7.26 g (0.020
7 mol) of 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 14.22 g (0.0427 mol) of decafluorobiphenyl, 17 g of potassium carbonate and 127 g of DMAc were added.
The reaction mixture was heated at 85 ° C. with stirring under a nitrogen atmosphere for 16 hours, then poured hot into a blender containing 300 ml of water to precipitate the polymer. Filter the polymer,
Washed twice with 300 ml of water and dried. 2g of polymer and
0.22 g of dicumyl peroxide was dissolved in 8.5 g of a 1: 1 mixture of gamma-butyrolactone and cyclohexanone. The solution was spin coated on a ceramic substrate and cured as follows: 30 minutes at 130 ° C., 400 at a rate of 5 ° C./min.
C., kept at 400.degree. C. for 15 minutes and cooled to room temperature at a rate of 3.degree. C./min. An amber film was obtained, which was γ-
When exposed to a butyrolactone-cyclohexanone mixture, it did not stress crack or dissolve. A control copolymer film, also heated under a nitrogen atmosphere without the addition of dicumyl peroxide, exhibited solvent-induced stress cracking when exposed to a similar solvent mixture.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01L 21/768 H01L 21/90 S 23/12 23/30 R 23/29 23/12 N 23/31 (31)優先権主張番号 583,900 (32)優先日 平成2年9月17日(1990.9.17) (33)優先権主張国 米国(US) (72)発明者 グッドマン、ティモシー・ディー アメリカ合衆国 94062 カリフォルニ ア、レッドウッド・シティ、オーク・ノ ル 3627番 (72)発明者 ロー、アルドリッチ・エヌ・ケー アメリカ合衆国 94303 カリフォルニ ア、パロ・アルト、アマリーロ・アベニ ュー 1067番 (72)発明者 ヴォー、ランチー・ピー アメリカ合衆国 95148 カリフォルニ ア、サン・ホセ、ディアウッド・ドライ ブ 2831番 (72)発明者 ソヴィッシュ、リチャード・シー アメリカ合衆国 94133 カリフォルニ ア、ロス・アルトス、ロックハート・レ イン 125番 (56)参考文献 特開 平2−281031(JP,A) 特開 平2−153930(JP,A) 特開 平2−4829(JP,A) 特開 昭61−47710(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08L 1/00 - 101/16 C08G 65/00 - 65/48 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI H01L 21/768 H01L 21/90 S 23/12 23/30 R 23/29 23/12 N 23/31 (31) Claiming priority No. 583,900 (32) Priority date September 17, 1990 (September 17, 1990) (33) Priority country United States (US) (72) Inventor Goodman, Timothy Dee United States 94062 California, Red Wood City, Oak Nor 3627 (72) Inventor Rho, Aldrich N.K.USA 94303 California, Palo Alto, Amarillo Avenue 1067 (72) Inventor Vaud, Ranchi P United States 95148 California A, San Jose, Deerwood Drive 2831 (72) Inventor Sovish, Li Chard Sea United States 94133 California, Los Altos, Lockhart Lane 125 No. (56) Reference JP-A-2-281031 (JP, A) JP-A-2-153930 (JP, A) JP-A-2 -4829 (JP, A) JP-A-61-47710 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C08L 1/00-101/16 C08G 65/00-65/48

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】式: [式中、−W−は、 [但し、各−Aは独立して、−F、−Cl、−Br、−C
F3、−CH3、−CH2CH=CH2または−C6H5であり;pは0、
1または2であり;−Z−は直接結合、−C(CH3
−、−C(CF3−、−O−、−S−、−SO2−、−CO
−、−P(C6H5)−、−C(CH3)(C6H5)−、−C(C
6H5−、−(CF21〜6−または (ここで、−Y−は−O−または直接結合である)であ
り; およびmは0、1または2であるが、mが0である場合
は、−Z−は直接結合である]を表わし; 各−Xは独立して、−H、−Cl、−Br、−CF3、−CH3
−CH2CH=CH2または−C6H5を表わし;qは0、1または2
であり;nは1または2である] で示される構造の繰り返し単位を有するフッ素化ポリ
(アリーレンエーテル)を誘電体材料として含んでなる
電子物品。
1. The formula: [Wherein -W- is [However, each -A is independently -F, -Cl, -Br, -C
F 3, -CH 3, be -CH 2 CH = CH 2 or -C 6 H 5; p is 0,
1 or 2; -Z- is a direct bond, -C (CH 3 ) 2
-, - C (CF 3) 2 -, - O -, - S -, - SO 2 -, - CO
-, - P (C 6 H 5) -, - C (CH 3) (C 6 H 5) -, - C (C
6 H 5) 2 -, - (CF 2) 1~6 - or (Where -Y- is -O- or a direct bond); and m is 0, 1 or 2, but when m is 0, -Z- is a direct bond. It represents; each -X is independently, -H, -Cl, -Br, -CF 3, -CH 3,
Represents -CH 2 CH = CH 2 or -C 6 H 5; q is 0, 1 or 2
And n is 1 or 2.] An electronic article comprising, as a dielectric material, a fluorinated poly (arylene ether) having a repeating unit having the structure represented by the following formula:
【請求項2】基板、該基板上の複数の半導体チップ、お
よび半導体チップを接続する多層相互接続を有してなる
マルチチップモジュールであって、該多層相互接続が請
求項1で定義されるフッ素化ポリ(アリーレンエーテ
ル)からできている複数の誘電体材料層および複数の導
電性材料層を有してなる請求項1記載の電子物品。
2. A multi-chip module comprising a substrate, a plurality of semiconductor chips on the substrate, and a multi-layer interconnect connecting the semiconductor chips, wherein the multi-layer interconnection is a fluorine as defined in claim 1. The electronic article according to claim 1, comprising a plurality of dielectric material layers made of functionalized poly (arylene ether) and a plurality of conductive material layers.
【請求項3】集積回路チップおよび該チップ上の多層相
互接続を有してなり、該多層相互接続が請求項1で定義
されるフッ素化ポリ(アリーレンエーテル)を含んでな
る複数の誘電体材料層および複数の導電性材料層を有し
てなる請求項1記載の電子物品。
3. A plurality of dielectric materials comprising an integrated circuit chip and a multilayer interconnect on said chip, said multilayer interconnect comprising a fluorinated poly (arylene ether) as defined in claim 1. The electronic article according to claim 1, comprising a layer and a plurality of conductive material layers.
【請求項4】その上に保護層を有する集積回路チップで
あり、該保護層が請求項1で定義されるフッ素化ポリ
(アリーレンエーテル)を含んでなる請求項1記載の電
子物品。
4. An electronic article according to claim 1, which is an integrated circuit chip having a protective layer thereon, said protective layer comprising a fluorinated poly (arylene ether) as defined in claim 1.
【請求項5】その表面上に導体パターンを有する基板を
有する回路板であり、該基板が請求項1で定義されるフ
ッ素化ポリ(アリーレンエーテル)を含んでなる請求項
1記載の電子物品。
5. An electronic article according to claim 1, which is a circuit board having a substrate having a conductor pattern on its surface, said substrate comprising a fluorinated poly (arylene ether) as defined in claim 1.
【請求項6】フッ素化ポリ(アリーレンエーテル)にお
いて、−W−が である請求項1〜5のいずれかに記載の電子物品。
6. In a fluorinated poly (arylene ether), -W- is The electronic article according to any one of claims 1 to 5, wherein
【請求項7】フッ素化ポリ(アリーレンエーテル)にお
いて、 である請求項1〜5のいずれかに記載の電子物品。
7. The fluorinated poly (arylene ether) The electronic article according to any one of claims 1 to 5, wherein
【請求項8】誘電体材料が の構造の繰り返し単位を有するフッ素化ポリ(アリーレ
ンエーテル)を含んでなる請求項1〜5のいずれかに記
載の電子物品。
8. The method according to claim 1, wherein the dielectric material is The electronic article according to any one of claims 1 to 5, comprising a fluorinated poly (arylene ether) having a repeating unit having the following structure:
【請求項9】フッ素化ポリ(アリーレンエーテル)が、
式: [式中、−R1、−R2、−R3および−R4は独立して、−
H、−C6H5、−C6H4Y′またはC1〜4のアルキルであ
り;−R5−は−O−、−SO2−、 −Bは−F、−Cl、−Br、−CH3または−CF3であり;rは
0、1、2、3または4であり;−Y′はハロゲン、−
NO2、−C6H5またはC1〜C4アルキルである] で示されるビストリアゼン化合物で架橋されている請求
項1〜5のいずれかに記載の電子物品。
9. The fluorinated poly (arylene ether)
formula: [Wherein -R 1 , -R 2 , -R 3 and -R 4 are independently-
H, -C 6 H 5, an alkyl of -C 6 H 4 Y 'or C 1~4; -R 5 - is -O -, - SO 2 -, -B is -F, -Cl, -Br, be -CH 3 or -CF 3; r is 0, 1, 2, 3 or 4; -Y 'is halogen, -
NO 2, -C 6 H 5 or C 1 -C 4 electronic article according to claim 1 in Bisutoriazen compound represented by alkyl as] is crosslinked.
【請求項10】フッ素化ポリ(アリーレンエーテル)
が、空気中で300〜400℃の温度で加熱することによって
架橋されている請求項1〜5のいずれかに記載の電子物
品。
10. A fluorinated poly (arylene ether)
The electronic article according to any one of claims 1 to 5, which has been crosslinked by heating at a temperature of 300 to 400C in air.
【請求項11】フッ素化ポリ(アリーレンエーテル)
が、空気中で過酸化化合物との均質混合物を加熱するこ
とによって架橋されている請求項1〜5のいずれかに記
載の電子物品。
11. A fluorinated poly (arylene ether)
The electronic article according to any one of claims 1 to 5, wherein the is crosslinked by heating a homogeneous mixture with a peroxide compound in air.
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